KR20220135440A - Glass chemical strengthening apparatus using flow of strengthening solution and method for strengthening glass - Google Patents

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Abstract

Provided are; a chemical strengthening method of ultra-thin glass using the flow or movement of a strengthening solution; a glass chemical strengthening facility therefor; and a glass chemical strengthening facility system. The glass chemical strengthening facility comprises: a process chamber in which glass is strengthened; a strengthening solution chamber configured to allow a strengthening solution for strengthening glass to be accommodated therein; a passage unit that allows the process chamber and the strengthening solution chamber to be in fluid communication with each other and provides a moving path allowing the strengthening solution to move between the process chamber and the strengthening solution chamber.

Description

강화 용액의 흐름을 이용한 글라스의 화학 강화 설비 및 글라스의 강화 방법{GLASS CHEMICAL STRENGTHENING APPARATUS USING FLOW OF STRENGTHENING SOLUTION AND METHOD FOR STRENGTHENING GLASS}Chemical strengthening equipment and method of strengthening glass using a flow of a strengthening solution

본 발명은 글라스의 화학 강화 설비 및 글라스의 화학 강화 방법에 관한 것이다. 상세하게는, 본 발명은 강화 용액의 흐름 내지는 이동을 이용한 초박형 글라스의 화학 강화 방법과 이를 위한 글라스의 화학 강화 설비 및 글라스의 화학 강화 설비 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a chemical strengthening equipment for glass and a chemical strengthening method for glass. In detail, the present invention relates to a method of chemically strengthening ultra-thin glass using the flow or movement of a strengthening solution, and a chemical strengthening equipment for glass and a chemical strengthening equipment for glass system for the same.

기술발전에 힘입어 스마트폰, 태블릿 PC 등의 전자 기기는 점차 박형화되고 있다. 뿐만 아니라 수요자들은 전자 기기의 넓은 화면 및 심미감 측면에서 높은 스크린 투 바디 비율(screen to body ratio)을 요구하고, 이에 따라 전자 기기의 전면(全面)을 글라스로 형성하는 경우가 많아지는 추세이다.Thanks to technological advances, electronic devices such as smartphones and tablet PCs are gradually becoming thinner. In addition, consumers demand a high screen-to-body ratio in terms of a wide screen and aesthetics of an electronic device, and accordingly, the entire surface of the electronic device is formed of glass.

글라스(glass) 소재는 높은 광 투과율로 인해 오랫동안 디스플레이의 전면부 커버 윈도우 소재로 적용되어 왔다. 그러나 일반적인 글라스는 외부 충격에 취약하여 쉽게 깨지거나 스크래치가 발생할 수 있기 때문에 스마트폰 등의 전자 기기 전면을 글라스로 형성하기 위해서는 기계적 강도가 향상된 강화 글라스의 적용이 필수적이다.Glass material has been applied as a front cover window material of a display for a long time due to its high light transmittance. However, since general glass is vulnerable to external impact and can be easily broken or scratched, it is essential to apply tempered glass with improved mechanical strength to form the front surface of an electronic device such as a smartphone with glass.

한편, 최근 폴더블 디스플레이(foldable display) 및/또는 롤러블 디스플레이(rollable display)에 대한 연구가 이루어지고 있으며 이러한 특수 디스플레이가 적용된 전자 기기 또한 출시되고 있다.Meanwhile, research on a foldable display and/or a rollable display has been recently conducted, and electronic devices to which such a special display is applied are also being released.

폴더블 디스플레이 등을 구현하기 위해 글라스 대신에 유연성을 갖는 소재, 예컨대 폴리이미드 필름(polyimide film) 등의 플라스틱 소재를 디스플레이의 커버 윈도우로 적용하기도 한다. 그러나 폴리이미드 필름 등은 글라스에 비해 광 투과율이 낮아 광손실이 발생할 수 있다. 뿐만 아니라 폴더블 디스플레이는 커버 윈도우의 특정 위치가 반복적으로 접어지기 때문에 폴딩 라인이 형성된 부분에 크랙이 발생하거나 영구적인 접힘 자국이 남는 문제가 있다.In order to implement a foldable display, etc., a flexible material, for example, a plastic material such as a polyimide film, is sometimes applied as a cover window of the display instead of glass. However, the polyimide film and the like have a lower light transmittance than glass, and thus light loss may occur. In addition, since a specific position of the cover window is repeatedly folded in the foldable display, there is a problem in that a crack occurs or a permanent fold mark is left in a portion where the folding line is formed.

대한민국 등록특허 제10-1995323호, 2019.06.26., 원형 배치구조를 가지는 화학강화 유리 제조장치Republic of Korea Patent No. 10-1995323, 2019.06.26., Chemically strengthened glass manufacturing apparatus having a circular arrangement structure

이러한 측면에서 높은 기계적 강도를 가지면서도 폴더블 디스플레이 또는 롤러블 디스플레이 등의 특수 디스플레이에 적용 가능한 초박형 글라스(Ultra Thin Glass, UTG)의 개발이 절실히 요구되고 있다. 초박형 글라스는 일반적으로 100㎛ 이하의 두께를 갖는 글라스 소재를 의미한다. 초박형 글라스는 플라스틱 소재에 비해 광 투과율이 높고 얇은 두께를 가져 폴딩 라인의 접힘이 잘 시인되지 않을 수 있으며, 심지어 벤딩, 롤링 내지는 폴딩이 가능할 수 있다.In this respect, the development of ultra-thin glass (UTG) that has high mechanical strength and can be applied to a special display such as a foldable display or a rollable display is urgently required. Ultra-thin glass generally refers to a glass material having a thickness of 100 μm or less. Since the ultra-thin glass has a high light transmittance and a thin thickness compared to a plastic material, the folding of the folding line may not be easily recognized, and even bending, rolling or folding may be possible.

특허문헌 1은 글라스를 강화하는 공정 및 글라스의 화학 강화 설비를 개시한다. 종래의 글라스 화학 강화 공정은 글라스를 질산칼륨 용액 등의 강화 용액에 침지시켜 글라스의 나트륨 이온과 질산칼륨의 칼륨 이온을 치환하는 방법으로 수행된다. 이러한 화학 강화 공정의 앞과 뒤에는 예열 공정과 서냉 공정이 수행되는 것이 일반적이다. 이를 위해 강화 대상인 글라스는 복수의 챔버들에 인입과 인출을 반복하며 세부 공정 단계들이 수행된다.Patent Document 1 discloses a process for strengthening glass and a chemical strengthening facility for glass. Conventional glass chemical strengthening process is performed by immersing the glass in a strengthening solution such as potassium nitrate solution to replace sodium ions of the glass and potassium ions of potassium nitrate. A preheating process and a slow cooling process are generally performed before and after this chemical strengthening process. To this end, the glass to be strengthened is repeatedly drawn in and out of the plurality of chambers, and detailed process steps are performed.

그러나 초박형 글라스는 그 두께가 매우 얇기 때문에 글라스 표면 부위에서만 이온 치환이 이루어지는 종래의 글라스 강화 공정과 메커니즘 상의 차이를 갖는다. 예컨대, 초박형 글라스는 두께 방향으로 균일하게 이온 치환이 수행되는 것이 바람직할 수 있고, 두께 방향으로의 강화 균일도는 초박형 글라스의 품질을 결정하는 주요 요인이 될 수 있다. 또한 초박형 글라스는 종래의 글라스와 달리 강화 전 내구성이 극도로 약해 가공 과정에서 상당수가 파손될 수 있다. 이로 인해 강화 글라스의 수율이 그리 높지 못하고 이는 초박형 글라스의 가격 상승을 야기한다.However, since the ultra-thin glass is very thin, it has a difference in mechanism from the conventional glass strengthening process in which ions are replaced only at the surface of the glass. For example, it may be preferable that ion substitution is uniformly performed in the thickness direction of the ultra-thin glass, and the uniformity of reinforcement in the thickness direction may be a major factor determining the quality of the ultra-thin glass. In addition, unlike conventional glass, ultra-thin glass has extremely weak durability before strengthening, and many of them may be damaged during processing. Due to this, the yield of the tempered glass is not very high, which causes an increase in the price of the ultra-thin glass.

위와 같은 초박형 글라스의 강화 불균일과 수율 저하에 영향을 미치는 요소 중 하나는 글라스의 강화 공정 중에 수행되는 빈번한 글라스의 이동과 이로 인해 외부 환경에 글라스가 노출되는 것이다. 특히 화학 강화 공정은 정밀하게 제어된 분위기(atmosphere)에서 수행되어야 함에도 다수의 챔버들 간의 글라스 이동으로 인한 급격한 온도 변화나 대기 성분의 변화, 이물질의 부착 등은 글라스 수율과 강화 품질을 저하시키는 주요 요인이 될 수 있다. One of the factors affecting the non-uniformity of strengthening of the ultra-thin glass and the decrease in yield is the frequent movement of the glass during the glass strengthening process and the exposure of the glass to the external environment. In particular, although the chemical strengthening process must be performed in a precisely controlled atmosphere (atmosphere), rapid temperature changes, changes in atmospheric components, and adhesion of foreign substances due to glass movement between multiple chambers are major factors that reduce glass yield and reinforcement quality. this can be

또한 보다 많은 양의 글라스를 한번에 강화하기 위해 강화 설비가 대형화됨에 따라 위와 같은 문제는 더욱 심화되고 있는 실정이며, 종래의 글라스 제조 방법 및 제조에 사용되는 설비는 위와 같은 요인을 인지하지 못하거나, 적어도 충분히 반영하고 있지 못한 문제가 있다.In addition, as the reinforcement equipment is enlarged to strengthen a larger amount of glass at once, the above problem is further aggravated, and the conventional glass manufacturing method and equipment used for manufacturing do not recognize the above factors, or at least There are problems that are not sufficiently reflected.

한편, 초박형 글라스는 그 두께가 매우 얇기 때문에 나트륨 이온과 칼륨 이온의 치환에 소요되는 시간이 매우 짧다. 예열 단계, 강화 단계 및 서냉 단계에 소요되는 각 시간은 기타 공정 조건 및 요구되는 글라스의 물성 등을 고려하여 제어 가능하나, 초박형 글라스의 경우 강화 단계의 시간을 예열 단계 및/또는 서냉 단계 보다 짧은 시간 동안 수행하는 것도 가능하다. On the other hand, since the ultra-thin glass has a very thin thickness, the time required for the substitution of sodium ions and potassium ions is very short. Each time required for the preheating step, strengthening step, and slow cooling step can be controlled in consideration of other process conditions and required properties of the glass. It can also be done while

예를 들어, 예열 단계에 소요되는 시간은 강화 단계에 소요되는 시간의 약 7배 이상, 또는 약 8배 이상, 또는 약 9배 이상, 또는 약 10배 이상, 또는 약 11배 이상, 또는 약 12배 이상일 수 있다. 그러나 공정 순서 상 강화 단계 보다 앞에 위치하는 예열 단계의 시간이 현저하게 오래 걸릴 경우, 공정 흐름이 적체되어 종래의 화학 강화 설비로는 공정 효율이 극도로 낮아지며 택트 타임의 증가를 야기할 수 있다.For example, the time taken for the preheating step is at least about 7 times, or at least about 8 times, or at least about 9 times, or at least about 10 times, or at least about 11 times, or about 12 times the time taken for the preheating step. It can be more than double. However, if the time of the preheating step located before the strengthening step in the process sequence is significantly longer, the process flow is accumulated and the process efficiency is extremely low with the conventional chemical strengthening equipment, which may cause an increase in the tact time.

뿐만 아니라 글라스의 예열을 기다리는 동안에도 글라스의 화학 강화를 위한 방대한 부피의 강화 용액을 일정한 온도로 유지해야 하고 이는 불필요한 에너지의 낭비와 전체 공정 비용의 증가를 야기할 수 있다.In addition, while waiting for the preheating of the glass, it is necessary to maintain a large volume of the strengthening solution for chemical strengthening of the glass at a constant temperature, which may cause unnecessary waste of energy and an increase in the overall process cost.

이에 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 초박형 글라스(ultra thin glass)의 화학 강화 공정에 대응 가능한 글라스 강화 설비를 제공하는 것이다. 특히 공정 중의 글라스의 이동과 외부 환경의 노출을 최소화할 수 있는 글라스 화학 강화 설비를 제공하는 것이다.Accordingly, the problem to be solved by the present invention is to provide a glass strengthening facility capable of responding to a chemical strengthening process of ultra thin glass. In particular, it is to provide a glass chemical strengthening facility capable of minimizing the movement of glass during the process and exposure to the external environment.

본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 글라스의 이동과 외부 환경의 노출을 최소화하여 글라스의 강화 품질과 수율을 향상시킬 수 있는 글라스 화학 강화 설비 시스템을 제공하는 것이다. 또, 전처리, 본공정 및 후처리로 이루어지는 공정에 있어서 공정 흐름의 적체와 물류 간섭을 감소시킬 수 있는 글라스 화학 강화 설비 시스템을 제공하는 것이다.Another object to be solved by the present invention is to provide a glass chemical strengthening facility system capable of improving the glass strengthening quality and yield by minimizing the movement of the glass and exposure to the external environment. In addition, it is to provide a glass chemical strengthening facility system that can reduce the accumulation of process flow and logistical interference in the process consisting of the pre-treatment, the main process and the post-treatment.

본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 과제는 글라스의 이동과 외부 환경의 노출을 최소화하는 글라스의 화학 강화 방법을 제공하는 것이다.Another problem to be solved by the present invention is to provide a method of chemically strengthening glass that minimizes movement of the glass and exposure to the external environment.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems of the present invention are not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 어느 과제를 해결하기 위한 일 실시예에 따른 글라스 강화 설비는 글라스의 강화가 이루어지는 공정 챔버, 글라스의 강화를 위한 강화 용액이 수용되도록 구성된 강화 용액 챔버, 및 상기 공정 챔버와 상기 강화 용액 챔버를 연결하며, 상기 공정 챔버와 상기 강화 용액 챔버 간의 강화 용액의 이동 경로를 제공하는 유로 유닛을 포함한다.A glass strengthening facility according to an embodiment for solving any of the above problems includes a process chamber in which glass is strengthened, a strengthening solution chamber configured to receive a strengthening solution for strengthening glass, and connecting the process chamber and the strengthening solution chamber and a flow path unit providing a movement path of the enhancement solution between the process chamber and the enhancement solution chamber.

상기 공정 챔버는 상기 강화 용액 챔버와 유체적으로 연결되어 상기 강화 용액 챔버로부터 강화 용액이 유입되거나, 또는 상기 강화 용액 챔버로 강화 용액이 유출되도록 구성될 수 있다.The process chamber may be fluidly connected to the enhancement solution chamber so that the enhancement solution flows from the enhancement solution chamber or the enhancement solution flows out into the enhancement solution chamber.

상기 공정 챔버는 강화 공정의 시작 전에 상기 강화 용액을 유입하고, 상기 강화 공정이 완료되면 상기 강화 용액을 유출하도록 구성될 수 있다.The process chamber may be configured to introduce the strengthening solution before starting the strengthening process, and to drain the strengthening solution when the strengthening process is completed.

또, 상기 공정 챔버는 상기 유로 유닛과 연결된 복수의 유체구를 가지고, 상기 복수의 유체구로부터 동시에 강화 용액이 유입되거나 유출될 수 있다.In addition, the process chamber may have a plurality of fluid ports connected to the flow path unit, and the strengthening solution may be simultaneously introduced or discharged from the plurality of fluid ports.

상기 공정 챔버는 상부 개구를 갖는 챔버 본체 및 상기 상부 개구를 폐쇄하는 공정 챔버 도어를 포함할 수 있다.The process chamber may include a chamber body having an upper opening and a process chamber door closing the upper opening.

또, 상기 공정 챔버는, 상기 공정 챔버 도어가 상기 챔버 본체를 폐쇄한 상태에서 상기 챔버 본체 내에 위치하며, 흄 가스로 인한 상기 공정 챔버 도어의 부식을 방지하는 서브 도어를 더 포함할 수 있다.The process chamber may further include a sub-door positioned in the chamber body in a state in which the process chamber door closes the chamber body and preventing corrosion of the process chamber door due to fume gas.

또한 상기 공정 챔버는 챔버 본체와 상기 공정 챔버 도어 중 적어도 하나의 내측에 배치되고 액체와 기체 중 적어도 하나를 분사하여 상기 내측벽을 세척하는 세척 노즐을 포함할 수 있다.In addition, the process chamber may include a cleaning nozzle disposed inside at least one of the chamber body and the process chamber door and cleaning the inner wall by spraying at least one of a liquid and a gas.

상기 공정 챔버는, 내부 온도를 센싱하는 온도 센서, 내부 강화 용액의 수위를 센싱하는 레벨 센서, 및 바닥부에 인접 배치된 기포 발생부 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The process chamber may include at least one of a temperature sensor sensing an internal temperature, a level sensor sensing a level of the internal strengthening solution, and a bubble generating unit disposed adjacent to the bottom.

몇몇 실시예에서, 상기 글라스 강화 설비는 상기 공정 챔버를 중력 방향으로 승강시켜 상기 공정 챔버와 상기 강화 용액 챔버 간의 레벨을 제어하는 리프팅 유닛을 더 포함할 수 있다.In some embodiments, the glass strengthening equipment may further include a lifting unit for controlling the level between the process chamber and the strengthening solution chamber by lifting the process chamber in the direction of gravity.

상기 강화 용액 챔버는 내부 온도를 센싱하는 온도 센서, 내부 강화 용액의 수위를 센싱하는 레벨 센서, 내부 강화 용액의 이온 농도를 센싱하는 이온 센서, 및 바닥부에 인접 배치된 기포 발생부 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The fortification solution chamber includes at least one of a temperature sensor for sensing an internal temperature, a level sensor for sensing the level of the internal fortification solution, an ion sensor for sensing the ion concentration of the internal fortification solution, and a bubble generator disposed adjacent to the bottom portion may include

상기 강화 용액 챔버는 내부로 칼륨 이온을 보충하도록 구성된 리필 탱크를 포함할 수 있다.The fortification solution chamber may include a refill tank configured to replenish potassium ions therein.

상기 강화 용액 챔버의 내부 공간은 상기 공정 챔버의 내부 공간 보다 클 수 있다.An internal space of the enhancement solution chamber may be larger than an internal space of the process chamber.

상기 하나의 강화 용액 챔버는 하나 이상의 유로 유닛을 통해 복수의 공정 챔버와 유체적으로 연결될 수 있다.The one enhancement solution chamber may be fluidly connected to a plurality of process chambers through one or more flow passage units.

또, 상기 복수의 공정 챔버는 서로 중력 방향으로 중첩 배치될 수 있다.Also, the plurality of process chambers may be disposed to overlap each other in a direction of gravity.

또한 상기 유로 유닛은 하나 이상의 밸브 및 하나 이상의 펌프를 포함하되, 상기 강화 용액 챔버와 상기 복수의 공정 챔버 간의 유로에 있어서, 복수의 공정 챔버들은 각각 상기 밸브를 공유하거나, 또는 펌프를 공유할 수 있다.In addition, the flow path unit may include one or more valves and one or more pumps. In the flow path between the fortification solution chamber and the plurality of process chambers, the plurality of process chambers may each share the valve or may share the pump. .

몇몇 실시예에서, 상기 글라스 강화 설비는 내부에 세정액이 수용되도록 구성된 세정 챔버를 더 포함할 수 있다.In some embodiments, the glass strengthening facility may further include a cleaning chamber configured to receive a cleaning liquid therein.

이 때 상기 세정 챔버와 상기 공정 챔버는 중력 방향으로 중첩 배치될 수 있다.In this case, the cleaning chamber and the process chamber may be disposed to overlap in a direction of gravity.

상기 다른 어느 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 글라스 강화 설비 시스템은, 적어도 하나의 강화 용액 챔버, 제1 공정 챔버와 제2 공정 챔버를 포함하고 상기 강화 용액 챔버와 유체적으로 연결된 복수의 공정 챔버, 적어도 하나의 로딩/언로딩 유닛 및 적어도 하나의 세정 챔버를 포함하는 글라스 강화 설비 시스템으로서, 상기 강화 용액 챔버와 상기 제1 공정 챔버, 및 상기 강화 용액 챔버와 상기 제2 공정 챔버 간에 강화 용액이 이동하도록 구성된다.A glass strengthening facility system according to an embodiment of the present invention for solving any of the above other problems includes at least one strengthening solution chamber, a first process chamber and a second process chamber, and is fluidly connected to the strengthening solution chamber A glass strengthening facility system comprising a plurality of process chambers, at least one loading/unloading unit and at least one cleaning chamber, wherein the strengthening solution chamber and the first process chamber, and the strengthening solution chamber and the second process chamber The fortification solution is configured to move between the liver.

또, 상기 하나의 로딩/언로딩 유닛은 복수의 공정 챔버로의 인입과 인출을 수행할 수 있다.In addition, the single loading/unloading unit may perform the inlet/outlet into and out of the plurality of process chambers.

또한 상기 세정 챔버는 상기 강화 용액 챔버를 사이에 두고 이격 배치된 제1 세정 챔버 및 제2 세정 챔버를 포함하고, 상기 로딩/언로딩 유닛은 상기 강화 용액 챔버를 사이에 두고 이격 배치된 제1 로봇 아암 및 제2 로봇 아암을 포함할 수 있다.In addition, the cleaning chamber includes a first cleaning chamber and a second cleaning chamber spaced apart from each other with the enhancement solution chamber therebetween, and the loading/unloading unit is a first robot spaced apart from the enhancement solution chamber therebetween. an arm and a second robotic arm.

상기 복수의 공정 챔버는, 상기 강화 용액 챔버를 사이에 두고 상기 제1 공정 챔버 및 상기 제2 공정 챔버와 이격 배치된 제3 공정 챔버 및 제4 공정 챔버로서, 상기 하나의 강화 용액 챔버와 유체적으로 연결된 제3 공정 챔버 및 제4 공정 챔버를 더 포함할 수 있다.The plurality of process chambers may include a third process chamber and a fourth process chamber spaced apart from the first process chamber and the second process chamber with the enhancement solution chamber interposed therebetween, and have a fluid volume with the one enhancement solution chamber. It may further include a third process chamber and a fourth process chamber connected to each other.

또, 하나의 상기 강화 용액 챔버 및 n개의 복수의 공정 챔버로서, 상기 강화 용액 챔버와 유체적으로 연결된 복수의 공정 챔버는 하나의 설비 단위를 이룰 수 있다.In addition, as one enhancement solution chamber and a plurality of n process chambers, the plurality of process chambers fluidly connected to the enhancement solution chamber may form one equipment unit.

이 때 상기 강화 용액 챔버에 수용된 강화 용액의 양은, 어느 하나의 공정 챔버에서 글라스의 화학 강화를 위해 요구되는 강화 용액의 양의 n배 보다 작을 수 있다.In this case, the amount of the strengthening solution accommodated in the strengthening solution chamber may be smaller than n times the amount of the strengthening solution required for chemical strengthening of glass in any one process chamber.

상기 또 다른 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 글라스의 강화 방법은 공정 챔버에 글라스를 인입하는 단계, 상기 공정 챔버 내에서 상기 글라스를 예열하는 단계, 상기 예열 단계 후에, 상기 공정 챔버 내에 강화 용액을 유입시켜 상기 열처리된 글라스를 강화 용액에 침지하고 화학 강화하는 단계, 및 상기 강화 단계 후에, 상기 공정 챔버로부터 강화 용액을 유출시키는 단계를 포함한다.The method for strengthening glass according to an embodiment of the present invention for solving the another problem includes the steps of introducing the glass into a process chamber, preheating the glass in the process chamber, and after the preheating step, the process chamber Including the step of immersing the heat-treated glass in the strengthening solution and chemically strengthening by introducing a strengthening solution into the strengthening solution, and after the strengthening step, the step of flowing out the strengthening solution from the process chamber.

몇몇 실시예에서 상기 방법은 상기 강화 용액을 유출시키는 단계 후에, 상기 공정 챔버 내에서 상기 강화된 글라스를 서냉하는 단계, 및 상기 공정 챔버에서 강화된 글라스를 인출하는 단계를 더 포함할 수 있다.In some embodiments, the method may further include, after discharging the tempering solution, slowly cooling the tempered glass in the process chamber, and withdrawing the tempered glass from the process chamber.

몇몇 실시예에서 상기 방법은 상기 공정 챔버의 내측벽을 세척하여 잔여 강화 용액을 제거하는 단계를 더 포함할 수 있다.In some embodiments, the method may further include cleaning the inner wall of the process chamber to remove residual fortification solution.

상기 강화 용액은 어느 강화 용액 챔버로부터 유입되고, 상기 강화 용액 챔버로 유출되며, 상기 강화 용액 챔버 내의 강화 용액의 칼륨 이온 농도를 센싱하는 단계를 더 포함할 수 있다.The method may further include the step of introducing the fortification solution from any of the fortification solution chambers and flowing out into the fortification solution chamber, and sensing a potassium ion concentration of the fortification solution in the fortification solution chamber.

상기 강화 용액을 유입시키는 단계는, 상기 공정 챔버를 하강시켜 강화 용액이 수용된 강화 용액 챔버 보다 낮은 레벨로 위치시키는 단계를 포함할 수 있다.The introducing of the fortification solution may include lowering the process chamber to position the process chamber at a level lower than that of the fortification solution chamber in which the fortification solution is accommodated.

또, 상기 강화 용액을 유출시키는 단계는, 상기 공정 챔버를 상승시켜 상기 강화 용액 챔버 보다 높은 레벨로 위치시키는 단계를 포함할 수 있다.Also, the step of discharging the fortification solution may include raising the process chamber to a higher level than the fortification solution chamber.

상기 공정 챔버에 글라스를 인입하는 단계는, 제1 공정 챔버에 제1 글라스를 인입하는 단계 및 제2 공정 챔버에 제2 글라스를 인입하는 단계를 포함할 수 있다.The step of introducing the glass into the process chamber may include introducing the first glass into the first process chamber and introducing the second glass into the second process chamber.

또, 상기 제1 공정 챔버와 상기 제2 공정 챔버는 동일한 강화 용액 챔버와 유체적으로 연결되고, 상기 제1 글라스의 예열과 상기 제2 글라스의 예열은 적어도 부분적으로 동시에 수행될 수 있다.Also, the first process chamber and the second process chamber may be fluidly connected to the same strengthening solution chamber, and the preheating of the first glass and the preheating of the second glass may be performed at least partially simultaneously.

또한 상기 제1 글라스의 강화 단계가 수행되는 동안, 상기 제2 글라스의 예열 단계가 마저 수행될 수 있다.Also, while the strengthening step of the first glass is performed, the preheating step of the second glass may even be performed.

상기 공정 챔버에 글라스를 인입하는 단계는, 제1 공정 챔버에 제1 글라스를 인입하는 단계 및 제2 공정 챔버에 제2 글라스를 인입하는 단계를 포함할 수 있다.The step of introducing the glass into the process chamber may include introducing the first glass into the first process chamber and introducing the second glass into the second process chamber.

상기 제2 공정 챔버에 강화 용액을 유입시키는 단계는, 상기 제1 공정 챔버로부터 강화 용액을 유출시키는 단계 후에 수행되거나, 적어도 동시에 수행될 수 있다.The step of introducing the enhancement solution into the second process chamber may be performed after the step of flowing out the enhancement solution from the first process chamber, or may be performed at least simultaneously.

또, 상기 제2 글라스의 강화 단계가 수행되는 동안, 상기 제1 글라스의 서냉 단계가 수행될 수 있다.In addition, while the strengthening step of the second glass is performed, the slow cooling step of the first glass may be performed.

상기 글라스를 인입하는 단계에서, 글라스의 길이 방향이 수평 방향을 향하고, 글라스의 폭 방향 또는 두께 방향이 중력 방향을 향하도록 인입될 수 있다.In the step of introducing the glass, the length direction of the glass may be in the horizontal direction, and the width direction or the thickness direction of the glass may be in the direction of gravity.

상기 또 다른 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 공정 챔버는 내부에 글라스를 인입하여 예열, 강화, 및 서냉을 순차로 수행하는 내부 공간을 포함한 챔버 본체, 상기 챔버 본체를 밀폐하는 공정 챔버 도어, 및 상기 챔버 본체의 일측에 상기 강화 전에 강화 용액을 주입하거나 상기 강화 후 강화 용액을 배출하기 위한 적어도 하나의 유체구를 포함한다.The process chamber according to an embodiment of the present invention for solving the another problem is a chamber body including an internal space for sequentially performing preheating, strengthening, and slow cooling by introducing glass therein, a process of sealing the chamber body A chamber door, and at least one fluid port for injecting the strengthening solution before the strengthening or discharging the strengthening solution after the strengthening on one side of the chamber body.

상기 챔버 본체와 상기 공정 챔버 도어 중 적어도 하나는, 상기 글라스 또는 상기 강화 용액을 가열하기 위한 히터를 포함할 수 있다.At least one of the chamber body and the process chamber door may include a heater for heating the glass or the strengthening solution.

상기 공정 챔버 도어는, 중력에 수직한 방향으로 상기 챔버 본체에 결합되고, 상기 공정 챔버는, 상기 공정 챔버 도어가 결합되기 위해 상면에 개구가 형성될 수 있다.The process chamber door may be coupled to the chamber body in a direction perpendicular to gravity, and an opening may be formed in an upper surface of the process chamber to be coupled to the process chamber door.

상기 공정 챔버 도어는 중력에 수평한 방향으로 상기 챔버 본체에 결합되고, 상기 공정 챔버는, 상기 공정 챔버 도어가 결합되기 위해 측면에 개구가 형성될 수 있다.The process chamber door may be coupled to the chamber body in a direction horizontal to gravity, and an opening may be formed in a side surface of the process chamber to be coupled to the process chamber door.

상기 챔버 본체 또는 상기 공정 챔버 도어 중 적어도 하나의 내측에 부착되고, 상기 공정 챔버의 내측벽을 세척하는 액체와 기체 중 적어도 하나를 분사하는 세척 노즐을 더 포함할 수 있다.The method may further include a cleaning nozzle attached to the inside of at least one of the chamber body or the process chamber door and spraying at least one of a liquid and a gas for cleaning an inner wall of the process chamber.

또, 상기 적어도 하나의 유체구를 이용하여 상기 강화 용액을 유입 또는 배출하는 펌프를 더 포함할 수 있다.In addition, the at least one fluid port may further include a pump for introducing or discharging the strengthening solution.

몇몇 실시예에서 상기 공정 챔버는 상기 챔버 본체 중 일부에 결합되어 상기 적어도 하나의 유체구를 이용하여 상기 강화 용액이 유입되도록 상기 챔버 본체를 지면 방향으로 하강시키거나 상기 강화 용액이 배출되도록 상기 챔버 본체를 지면 반대 방향으로 상승시키는 리프트를 더 포함할 수 있다.In some embodiments, the process chamber is coupled to a part of the chamber body to lower the chamber body toward the ground so that the strengthening solution is introduced using the at least one fluid port, or the chamber body to discharge the strengthening solution. It may further include a lift that raises the surface in the opposite direction.

상기 챔버 본체와 상기 공정 챔버 도어 중 적어도 하나에 결합되는 온도 센서 및 레벨 센서로서, 상기 공정 챔버의 내부 온도를 센싱하는 온도 센서, 및 상기 공정 챔버의 내부 강화 용액의 수위를 센싱하는 레벨 센서 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.A temperature sensor and a level sensor coupled to at least one of the chamber body and the process chamber door, at least one of a temperature sensor sensing an internal temperature of the process chamber, and a level sensor sensing a level of the internal enhancement solution of the process chamber may contain one.

기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명에 포함되어 있다. Details of other embodiments are included in the detailed description.

본 발명의 실시예들에 따르면 강화 대상인 글라스를 공정 챔버에 인입한 후 강화 용액을 주입하거나 배출하도록 구성하여 글라스의 인출 없이 전처리, 본공정 및 후처리를 하나의 챔버에서 수행할 수 있다. 이를 통해 글라스의 강화 품질과 생산 수율을 높일 수 있다.According to embodiments of the present invention, the pre-treatment, the main process, and the post-treatment can be performed in one chamber without withdrawing the glass by injecting or discharging the strengthening solution after the glass to be strengthened is introduced into the process chamber. Through this, the glass reinforcement quality and production yield can be increased.

또한 강화 용액의 사용량을 감소시킬 수 있고 공정의 택트 타임을 줄일 수 있어 효율적인 글라스의 화학 강화가 가능하다.In addition, the amount of the strengthening solution can be reduced and the tact time of the process can be reduced, so that it is possible to chemically strengthen the glass efficiently.

본 발명의 실시예들에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.Effects according to the embodiments of the present invention are not limited by the contents exemplified above, and more various effects are included in the present specification.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 설비를 나타낸 모식도이다.
도 2는 도 1의 공정 챔버의 모식도이다.
도 3은 도 1의 강화 용액 챔버의 모식도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 방법을 나타낸 순서도이다.
도 5 내지 도 9는 도 1의 화학 강화 설비를 이용하여 글라스를 화학 강화하는 방법을 순서대로 나타낸 도면들이다.
도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 설비를 나타낸 모식도이다.
도 11은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 설비를 나타낸 모식도이다.
도 12 내지 도 19는 각각 본 발명의 또 다른 실시예들에 따른 글라스의 화학 강화 설비를 나타낸 모식도들이다.
도 20은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 설비를 나타낸 모식도이다.
도 21은 본 발명의 다른 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 방법을 나타낸 순서도이다.
도 22 및 도 23은 도 20의 화학 강화 설비를 이용하여 글라스를 화학 강화하는 방법을 순서대로 나타낸 도면들이다.
도 24는 본 발명의 일 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 설비 시스템을 나타낸 모식도이다.
도 25 및 도 26은 도 24의 글라스의 화학 강화 설비 시스템의 공정 흐름을 나타낸 도면이다.
도 27은 본 발명의 다른 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 설비 시스템의 공정 흐름을 나타낸 도면이다.
도 28은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 설비 시스템을 나타낸 모식도이다.
1 is a schematic diagram showing a chemical strengthening facility for glass according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic diagram of the process chamber of FIG. 1 .
FIG. 3 is a schematic view of the strengthening solution chamber of FIG. 1 .
4 is a flowchart illustrating a method for chemically strengthening glass according to an embodiment of the present invention.
5 to 9 are views sequentially illustrating a method of chemically strengthening glass using the chemical strengthening facility of FIG. 1 .
10 is a schematic view showing a chemical strengthening facility for glass according to another embodiment of the present invention.
11 is a schematic diagram showing a chemical strengthening facility for glass according to another embodiment of the present invention.
12 to 19 are schematic views showing chemical strengthening equipment for glass according to still other embodiments of the present invention, respectively.
20 is a schematic diagram showing a chemical strengthening facility for glass according to another embodiment of the present invention.
21 is a flowchart illustrating a method for chemically strengthening glass according to another embodiment of the present invention.
22 and 23 are views sequentially illustrating a method of chemically strengthening glass using the chemical strengthening facility of FIG. 20 .
24 is a schematic diagram showing a chemical strengthening facility system for glass according to an embodiment of the present invention.
25 and 26 are views showing the process flow of the chemical strengthening facility system of the glass of FIG.
27 is a view showing a process flow of a chemical strengthening facility system for glass according to another embodiment of the present invention.
28 is a schematic diagram showing a chemical strengthening facility system for glass according to another embodiment of the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 즉, 본 발명이 제시하는 실시예들에는 다양한 변경이 가해질 수 있다. 아래 설명하는 실시예들은 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 이들에 대한 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.Advantages and features of the present invention and methods of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described below in detail in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various different forms, and only the embodiments allow the disclosure of the present invention to be complete, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains. It is provided to fully inform the person of the scope of the invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims. That is, various changes may be made to the embodiments presented by the present invention. It should be understood that the embodiments described below are not intended to limit the embodiments, and include all modifications, equivalents, and substitutions thereto.

다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms (including technical and scientific terms) used herein may be used with the meaning commonly understood by those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. In addition, terms defined in a commonly used dictionary are not to be interpreted ideally or excessively unless clearly defined in particular.

본 명세서에서, '및/또는'은 언급된 아이템들의 각각 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다. 또, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 본 명세서에서 사용되는 '포함한다(comprises)' 및/또는 '포함하는(comprising)'은 언급된 구성요소 외에 하나 이상의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다. '내지'를 사용하여 나타낸 수치 범위는 그 앞과 뒤에 기재된 값을 각각 하한과 상한으로서 포함하는 수치 범위를 나타낸다. '약' 또는 '대략'은 그 뒤에 기재된 값 또는 수치 범위의 20% 이내의 값 또는 수치 범위를 의미한다.In this specification, 'and/or' includes each and every combination of one or more of the mentioned items. The singular also includes the plural, unless the phrase specifically states otherwise. As used herein, 'comprises' and/or 'comprising' does not exclude the presence or addition of one or more other components in addition to the stated components. Numerical ranges indicated using 'to' indicate numerical ranges including the values stated before and after them as the lower and upper limits, respectively. 'About' or 'approximately' means a value or numerical range within 20% of the value or numerical range recited thereafter.

도면에 도시된 구성요소의 크기, 두께, 폭, 길이 등은 설명의 편의 및 명확성을 위해 과장 또는 축소될 수 있으므로 본 발명이 도시된 형태로 제한되는 것은 아니다.The size, thickness, width, length, etc. of the components shown in the drawings may be exaggerated or reduced for convenience and clarity of description, so that the present invention is not limited to the illustrated form.

공간적으로 상대적인 용어인 '위(above)', '상부(upper)', ‘상(on)’, '아래(below)', '아래(beneath)', '하부(lower)' 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 소자 또는 구성 요소들과 다른 소자 또는 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 소자의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 소자를 뒤집을 경우, 다른 소자의 '아래(below 또는 beneath)'로 기술된 소자는 다른 소자의 '위(above)'에 놓일 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 '아래'는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다.Spatially relative terms 'above', 'upper', 'on', 'below', 'beneath', 'lower', etc. As shown, it can be used to easily describe the correlation between one element or elements and another element or elements. Spatially relative terms should be understood as terms including different orientations of the device when used in addition to the orientations shown in the drawings. For example, when an element shown in the drawing is turned over, an element described as 'below or beneath' of another element may be placed 'above' of the other element. Accordingly, the exemplary term 'below' may include both the downward and upward directions.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 대해 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 설비를 나타낸 모식도이다. 도 2는 도 1의 공정 챔버의 모식도이다. 도 3은 도 1의 강화 용액 챔버의 모식도이다.1 is a schematic diagram showing a chemical strengthening facility for glass according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a schematic diagram of the process chamber of FIG. 1 . FIG. 3 is a schematic view of the strengthening solution chamber of FIG. 1 .

도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(1)는 공정 챔버(101), 강화 용액 챔버(201) 및 유로 유닛(300)을 포함하고, 세정 챔버(400), 로딩/언로딩 유닛(500) 및 컨트롤러(600)를 더 포함할 수 있다.1 to 3 , the glass chemical strengthening facility 1 according to this embodiment includes a process chamber 101 , a strengthening solution chamber 201 , and a flow path unit 300 , and a cleaning chamber 400 , It may further include a loading/unloading unit 500 and a controller 600 .

공정 챔버(101)(예컨대, 제1 챔버)는 글라스의 화학 강화가 이루어지는 공정 공간을 제공할 수 있다. 또, 본 실시예에 따른 공정 챔버(101)는 화학 강화 공정 뿐 아니라 열처리가 이루어지는 공정 공간을 제공할 수 있다. 예시적인 실시예에서, 공정 챔버(101)는 지면 상에 놓일 수 있다.The process chamber 101 (eg, the first chamber) may provide a process space in which chemical strengthening of glass is performed. In addition, the process chamber 101 according to the present embodiment may provide a process space in which a heat treatment is performed as well as a chemical strengthening process. In an exemplary embodiment, the process chamber 101 may lie on the ground.

공정 챔버(101)는 상부 개구를 갖는 챔버 본체(120) 및 상부 개구를 폐쇄하는 공정 챔버 도어(130)를 포함할 수 있다. 챔버 본체(120)는 공정이 이루어지는 내부 공간을 제공할 수 있다. 내부 공간의 형상은 대략 사각 형상일 수 있으나 원통 형상으로 구현될 수도 있다. 다만, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니며, 공정 챔버(101)의 내부 공간은 강화 대상인 글라스(G)에 고르게 열을 전달할 수 있는 형상이면 무방하다. 예를 들어, 공정 챔버(101)의 내부 공간은 대략 삼각통, 오각통, 육각통 또는 팔각통 등의 다각형 형상일 수 있다.The process chamber 101 may include a chamber body 120 having an upper opening and a process chamber door 130 closing the upper opening. The chamber body 120 may provide an internal space in which a process is performed. The shape of the inner space may be approximately rectangular, but may also be implemented in a cylindrical shape. However, the present invention is not limited thereto, and the inner space of the process chamber 101 may have a shape capable of evenly transferring heat to the glass G, which is a strengthening object. For example, the inner space of the process chamber 101 may have a polygonal shape such as a triangular cylinder, a pentagonal cylinder, a hexagonal cylinder, or an octagonal cylinder.

챔버 본체(120)의 바닥부 상에는 카세트 거치부(150)가 배치될 수 있다. 강화 공정이 진행되는 동안 카세트 거치부(150)에는 글라스(G)가 적재 내지는 실장된 카세트(800)가 배치될 수 있다. 카세트 거치부(150)에 카세트(800)를 인입하는 방법은 특별히 제한되는 것은 아니나, 로봇 아암 등을 이용할 수 있다.A cassette holder 150 may be disposed on the bottom of the chamber body 120 . During the strengthening process, the cassette 800 on which the glass G is loaded or mounted may be disposed on the cassette holder 150 . A method of inserting the cassette 800 into the cassette holder 150 is not particularly limited, but a robot arm or the like may be used.

챔버 본체(120)의 바닥부 및 측벽은 비어있을 수 있다. 즉, 챔버 본체(120)의 측벽 등은 외측벽과 내측벽을 포함하고, 외측벽과 내측벽은 이격될 수 있다. 챔버 본체(120)의 바닥부 및 측벽 내에는 공정 챔버 히터(155)(예컨대, 제1 히터)가 임베딩될 수 있다. 공정 챔버 히터(155)는 글라스(G)의 열처리를 수행하거나, 또는 유입되는 강화 용액(SS)의 가열 내지는 보온을 수행할 수 있다. 다른 실시예에서, 공정 챔버 히터(155)는 챔버 본체(120)의 바닥부 및/또는 측벽에 내장되지 않고, 챔버 본체(120)의 바닥부 또는 내측벽 상에 설치될 수도 있다.The bottom and sidewalls of the chamber body 120 may be empty. That is, the sidewall of the chamber body 120 may include an outer wall and an inner wall, and the outer wall and the inner wall may be spaced apart from each other. A process chamber heater 155 (eg, a first heater) may be embedded in the bottom and sidewalls of the chamber body 120 . The process chamber heater 155 may perform heat treatment of the glass G, or may heat or keep the incoming strengthening solution SS. In another embodiment, the process chamber heater 155 is not built into the bottom and/or sidewalls of the chamber body 120 , but may be installed on the bottom or inner walls of the chamber body 120 .

공정 챔버(101) 상에는 공정 챔버 도어(130)가 배치될 수 있다. 공정 챔버 도어(130)는 공정 챔버(101)의 도어(door)일 수 있다. 본 실시예에 따른 공정 챔버 도어(130), 즉 도어는 중력 방향으로 이동하도록 구성되어 있으나 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다. 공정 챔버 도어(130)는 리프팅 수단(미도시) 등과 연결되어 개폐될 수 있다.A process chamber door 130 may be disposed on the process chamber 101 . The process chamber door 130 may be a door of the process chamber 101 . The process chamber door 130 according to the present embodiment, that is, the door is configured to move in the direction of gravity, but the present invention is not limited thereto. The process chamber door 130 may be opened and closed by being connected to a lifting means (not shown).

공정 챔버 도어(130)의 하부 및 공정 챔버(101)의 측벽 상단은 완전한 밀폐 등을 위해 씰링이 가능한 부재로 마감된 상태일 수 있다. 예시적인 실시예에서, 공정 챔버(101)의 측벽 상단에는 오링 등의 씰링 부재(125)가 배치될 수 있다. 공정 챔버 도어(130)의 내에도 공정 챔버 도어 히터(131)(예컨대, 제1 서브 히터)가 임베딩될 수 있다.The lower portion of the process chamber door 130 and the upper end of the side wall of the process chamber 101 may be closed with a sealing member for complete sealing. In an exemplary embodiment, a sealing member 125 such as an O-ring may be disposed on the upper end of the sidewall of the process chamber 101 . A process chamber door heater 131 (eg, a first sub-heater) may also be embedded in the process chamber door 130 .

따라서, 제1 히터는 공정 챔버(101)와 공정 챔버 도어(130) 내부(예를 들어, 외측벽과 내측벽 사이 공간)에서 각각 분리된 복수의 히터 유닛 형태로 위치할 수 있다. 예를 들어, 공정 챔버(101) 내에서 공정 챔버 히터(155)는 복수의 히터 유닛들이 분산 및 이격 배치되어 위치할 수 있으며, 공정 챔버 도어(130) 내부에서 복수의 히터 유닛들이 분산 및 이격 배치되어 위치할 수도 있다.Accordingly, the first heater may be positioned in the form of a plurality of heater units separated from each other in the process chamber 101 and the process chamber door 130 (eg, a space between the outer wall and the inner wall). For example, in the process chamber heater 155 , a plurality of heater units may be dispersed and spaced apart from each other in the process chamber 101 , and a plurality of heater units may be dispersed and spaced apart from each other in the process chamber door 130 . may be located.

몇몇 실시예에서, 공정 챔버(101)는 서브 도어(135)를 더 포함할 수 있다. 서브 도어(135)는 공정 챔버 도어(130)의 하부에 배치 내지는 고정될 수 있다. 공정 챔버 도어(130)가 챔버 본체(120)를 밀폐한 상태에서, 서브 도어(135)는 챔버 본체(120) 내부에 삽입 배치될 수 있다. 후술할 바와 같이 챔버 본체(120)의 내부 공간에는 강화 용액(SS)이 유입 내지는 주입될 수 있다. 이 때 서브 도어(135)는 강화 용액(SS)으로부터 발생한 흄 가스(fume gas)에 의해 공정 챔버 도어(130)의 하부 또는 공정 챔버 도어(130) 내부에 위치한 공정 챔버 도어 히터(131)가 부식되는 것을 방지하는 기능을 할 수 있다. 또한, 서브 도어(135)는 끝단부에서 지면 방향으로 길이를 연장한 형태로 구현된 경우, 글라스를 외부 공기로부터 밀폐시켜 글라스 품질을 향상시킬 수도 있다.In some embodiments, the process chamber 101 may further include a sub door 135 . The sub door 135 may be disposed or fixed under the process chamber door 130 . In a state in which the process chamber door 130 seals the chamber body 120 , the sub-door 135 may be inserted into the chamber body 120 . As will be described later, the strengthening solution SS may be introduced or injected into the inner space of the chamber body 120 . At this time, the sub-door 135 is corroded by the fume gas generated from the strengthening solution SS by the process chamber door heater 131 located below the process chamber door 130 or inside the process chamber door 130 . function to prevent it from happening. In addition, when the sub-door 135 is implemented in the form of extending the length in the direction of the ground from the end, the quality of the glass may be improved by sealing the glass from outside air.

서브 도어(135)는 공정 챔버 도어(130)의 하면 상에 리프팅 수단을 구비하여 배치될 수 있다. 이 경우 서브 도어(135)는 공정 챔버 도어(130)와 중력 방향으로의 이격 거리가 조절되거나, 또는 평면 방향으로 회전 가능할 수 있다.The sub-door 135 may be disposed on a lower surface of the process chamber door 130 with a lifting means. In this case, the sub-door 135 may be rotatable in a planar direction or the separation distance between the process chamber door 130 and the gravitational direction may be adjusted.

챔버 본체(120)는 공정 챔버 유체구(180)(예컨대, 제1 유체구)를 포함할 수 있다. 도 2 등은 공정 챔버 유체구(180)가 챔버 본체(120)의 측벽 하부에 배치된 경우를 예시하나, 본 발명이 이에 제한되지 않음은 물론이다. 공정 챔버 유체구(180)는 복수개로 구비될 수도 있다. 이 경우 복수의 공정 챔버 유체구(180)는 서로 중력 방향으로 중첩 배치되거나, 또는 평면 시점에서 측벽을 따라 배치되어 수평 방향으로 중첩 배치될 수 있다. 또는 공정 챔버 유체구(180)는 챔버 본체(120)의 바닥부에 배치될 수도 있다. 공정 챔버 유체구(180)는 후술할 강화 용액 챔버(201)로부터 공정 챔버(101)로 강화 용액(SS)을 유입시키거나, 또는 공정 챔버(101)로부터 강화 용액 챔버(201)로 강화 용액(SS)을 유출시킬 수 있다. 즉, 공정 챔버 유체구(180)는 후술할 유로 유닛(300)과 연결되어 강화 용액(SS)의 유로 경로를 제공할 수 있다.The chamber body 120 may include a process chamber fluid port 180 (eg, a first fluid port). 2 illustrates a case in which the process chamber fluid port 180 is disposed under the sidewall of the chamber body 120, of course, the present invention is not limited thereto. A plurality of process chamber fluid ports 180 may be provided. In this case, the plurality of process chamber fluid spheres 180 may be disposed to overlap each other in the direction of gravity, or may be disposed along the sidewall in a plan view and disposed to overlap in the horizontal direction. Alternatively, the process chamber fluid port 180 may be disposed at the bottom of the chamber body 120 . The process chamber fluid port 180 introduces the enrichment solution SS into the process chamber 101 from the enhancement solution chamber 201 to be described later, or the enhancement solution (SS) from the process chamber 101 to the enhancement solution chamber 201 . SS) can be leaked. That is, the process chamber fluid port 180 may be connected to a flow path unit 300 to be described later to provide a flow path for the strengthening solution SS.

공정 챔버 유체구(180)를 통해 유입되거나 유출되는 강화 용액(SS)이 소정 기준 만큼 충진되거나, 또는 배수되는 속도는 가급적 빠른 것이 바람직할 수 있다. 전술한 바와 같이 초박형 글라스의 강화 공정에 있어서 글라스의 강화 균일도는 강화 품질에 영향을 주는 매우 중요한 요소일 수 있다. 만일 유출(배수)되거나 유입(충진)되는 속도가 너무 느리면, 내부의 글라스(G)의 상부와 하부에서의 강화 균일도가 상이해질 수 있다.It may be preferable that the rate at which the fortification solution SS flowing in or out through the process chamber fluid port 180 is filled or discharged by a predetermined standard is as fast as possible. As described above, in the reinforcing process of ultra-thin glass, the reinforcing uniformity of the glass may be a very important factor affecting the reinforcing quality. If the rate of outflow (drainage) or inflow (filling) is too slow, the reinforcement uniformity at the upper and lower portions of the inner glass (G) may be different.

또한, 공정 챔버 유체구(180)는 강화 용액을 최단 시간 내에 주입될 수 있도록 단면적의 크기가 미리 결정된 크기(예를 들어, 공정 챔버(101) 일측면의 단면적과 거의 유사한 크기이거나 일측면의 단면적 이하의 크기(약 90%, 80%, 70%, 60%, 50%, 40%, 30%, 20% 등)로 설정될 수 있다. 이러한, 공정 챔버 유체구(180)는 챔버 본체 내로 강화 용액(SS)의 유입 완료를 위한 소요 시간 또는 유출 완료를 위한 소요 시간을 고려하여 글라스 품질의 불균일이 발생하지 않는 크기로 결정될 수 있다. 또한, 후술할 유로 유닛(300)의 단면적도 공정 챔버 유체구(180)의 크기와 유사한 크기로 설정될 수도 있다.In addition, the process chamber fluid port 180 has a predetermined cross-sectional area (eg, a size substantially similar to the cross-sectional area of one side of the process chamber 101 or a cross-sectional area of one side) so that the strengthening solution can be injected within the shortest time. It may be set to any of the following sizes (about 90%, 80%, 70%, 60%, 50%, 40%, 30%, 20%, etc.) The process chamber fluid port 180 is reinforced into the chamber body. In consideration of the time required for the completion of the inflow of the solution SS or the time required for the completion of the outflow, the size may be determined so as not to cause non-uniformity in the quality of the glass. It may be set to a size similar to the size of the sphere 180 .

몇몇 실시예에서, 공정 챔버(101)는 세척부(140), 제1 기포 발생부(143), 흄 가스 회수부(145) 및/또는 공정 센서(190)를 더 포함할 수 있다.In some embodiments, the process chamber 101 may further include a cleaning unit 140 , a first bubble generating unit 143 , a fume gas recovery unit 145 , and/or a process sensor 190 .

세척부(140)는 챔버 본체(120)의 내측벽 상에 배치될 수 있다. 세척부(140)는 챔버 본체(120)의 내측벽을 세정 내지는 세척할 수 있도록 기울어진 각도를 가지고 세정을 위한 액체 또는 기체를 분사할 수 있다. 챔버 본체(120)에는 강화 용액(SS)이 유입되거나, 또는 유출될 수 있다. 이 때 챔버 본체(120)로부터 강화 용액(SS)이 유출된 이후, 챔버 본체(120)의 내측벽에는 강화 용액이 잔존할 수 있다. 잔존하는 강화 용액(SS)은 화학 강화 공정의 전 및 후에 수행되는 열처리 공정의 품질과 신뢰성을 저하시키거나, 또는 흄 가스(fume gas)를 발생시킬 수 있다.The cleaning unit 140 may be disposed on the inner wall of the chamber body 120 . The cleaning unit 140 may spray liquid or gas for cleaning at an inclined angle to clean or wash the inner wall of the chamber body 120 . The strengthening solution SS may flow into or out of the chamber body 120 . At this time, after the strengthening solution SS flows out from the chamber body 120 , the strengthening solution may remain on the inner wall of the chamber body 120 . The remaining strengthening solution SS may deteriorate the quality and reliability of the heat treatment process performed before and after the chemical strengthening process, or may generate fume gas.

세척부(140)가 세척을 위해 분사하는 액체 또는 기체는 증류수 등의 물(water) 또는 불활성 가스 또는 공기일 수 있다. 세척부(140)가 분사하는 액체 또는 기체는 소정의 온도로 가열된 상태일 수도 있다. 이 경우 액체 또는 기체는 약 40℃ 이상, 또는 약 50℃ 이상, 또는 약 60℃ 이상으로 가열된 상태일 수 있다. 도면으로 표현하지 않았으나, 세척부(140)가 액체를 분사하는 경우, 챔버 본체(120)의 내측벽을 세척한 후의 액체를 회수하는 드레인부(141)가 추가로 구비될 수도 있다.The liquid or gas sprayed by the washing unit 140 for washing may be water such as distilled water, an inert gas, or air. The liquid or gas sprayed by the washing unit 140 may be heated to a predetermined temperature. In this case, the liquid or gas may be heated to about 40 °C or higher, or about 50 °C or higher, or about 60 °C or higher. Although not shown in the drawings, when the washing unit 140 sprays the liquid, a drain unit 141 for recovering the liquid after washing the inner wall of the chamber body 120 may be additionally provided.

세척부(140)는 노즐 형태로 구현될 수 있다. 세척부(140)는 컨트롤러(600)의 제어에 의해 분사하는 액체 또는 기체의 분사 방향, 분사 속도, 분사량 등을 조절할 수도 있다.The cleaning unit 140 may be implemented in the form of a nozzle. The washing unit 140 may adjust the injection direction, the injection speed, the injection amount, etc. of the liquid or gas to be injected under the control of the controller 600 .

제1 기포 발생부(143)는 챔버 본체(120) 내에 강화 용액(SS)이 충진되는 경우, 강화 용액(SS)의 혼합 또는 교반을 위한 수단일 수 있다. 도면으로 표현하지 않았으나, 제1 기포 발생부(143)의 단부는 외부의 기체 탱크와 연결될 수 있다. 제1 기포 발생부(143)는 적어도 부분적으로 공정 챔버(101)의 바닥부에 인접하여 배치되고, 복수의 분사 홀을 가질 수 있다. 상기 분사 홀을 통해 질소(N2) 또는 아르곤(Ar) 등의 불활성 가스, 또는 공기가 분사될 수 있다. 분사 홀은 하측 방향으로 형성되거나, 또는 상측 방향으로 형성될 수 있다. 챔버 본체(120) 내에 강화 용액(SS)이 충진된 상태에서 제1 기포 발생부(143)의 분사 홀을 통해 가스가 분사될 경우 기포가 형성되고 기포가 상승하며 강화 용액(SS)을 혼합시킬 수 있다. 다른 실시예에서, 제1 기포 발생부(143) 대신에 또는 추가적으로 교반기 등이 구비될 수도 있다.When the reinforcing solution SS is filled in the chamber body 120 , the first bubble generating unit 143 may be a means for mixing or stirring the reinforcing solution SS. Although not shown in the drawings, an end of the first bubble generating unit 143 may be connected to an external gas tank. The first bubble generating unit 143 may be disposed at least partially adjacent to the bottom of the process chamber 101 and may have a plurality of injection holes. An inert gas such as nitrogen (N 2 ) or argon (Ar), or air may be injected through the injection hole. The injection hole may be formed in a downward direction or may be formed in an upward direction. When the gas is injected through the injection hole of the first bubble generating unit 143 in a state in which the reinforcement solution SS is filled in the chamber body 120, bubbles are formed, the bubbles rise, and the reinforcement solution SS is mixed. can In another embodiment, a stirrer or the like may be provided instead of or in addition to the first bubble generating unit 143 .

흄 가스 회수부(145)는 공정 챔버(101) 내부 공간에 존재하는 흄 가스를 회수하기 위한 수단일 수 있다. 전술한 바와 같이 강화 용액(SS)으로부터 다량의 흄 가스가 배출되며, 공정 챔버(101) 내부의 흄 가스가 소정 농도 이상으로 높아지면 글라스(G)의 강화 품질에 영향을 미칠 수 있다. 또한 공정 챔버 도어(130)가 중력 방향으로 개폐되는 본 실시예에 있어서, 공정 챔버 도어(130)가 개방되는 경우 그 내부의 흄 가스가 공정 챔버(101) 외부로 배출될 수 있고 작업자에게 매우 유해할 수 있다. 따라서 흄 가스 회수부(145)를 구비하여 흄 가스를 회수하는 것이 바람직할 수 있으며, 챔버 본체(120)를 관통하는 튜브 형태 등으로 구비될 수 있다. 도면으로 표현하지 않았으나, 흄 가스 회수부(145)의 타단에는 흄 가스를 배기하기 위한 펌프 또는 흄 가스 탱크 등이 구비될 수 있다.The fume gas recovery unit 145 may be a means for recovering the fume gas existing in the inner space of the process chamber 101 . As described above, a large amount of fume gas is discharged from the strengthening solution SS, and when the fume gas inside the process chamber 101 increases to a predetermined concentration or more, the strengthening quality of the glass G may be affected. In addition, in this embodiment in which the process chamber door 130 is opened and closed in the direction of gravity, when the process chamber door 130 is opened, the fume gas therein may be discharged to the outside of the process chamber 101 and is very harmful to the operator. can do. Therefore, it may be preferable to provide the fume gas recovery unit 145 to recover the fume gas, and it may be provided in the form of a tube passing through the chamber body 120 . Although not shown in the drawings, a pump or a fume gas tank for exhausting the fume gas may be provided at the other end of the fume gas recovery unit 145 .

공정 센서(190)는 제1 온도 센서(193) 및/또는 제1 레벨 센서(191)를 포함할 수 있다.The process sensor 190 may include a first temperature sensor 193 and/or a first level sensor 191 .

제1 온도 센서(193)는 공정 챔버(101) 내부의 온도를 센싱할 수 있다. 몇몇 실시예에서, 제1 온도 센서(193)는 공정 챔버 히터(155)와 연동되어 공정 챔버 히터(155)의 온도를 제어하도록 구성될 수 있다. 제1 온도 센서(193)는 공정 챔버(101) 내부의 강화 용액(SS)의 온도를 직접적으로 측정하거나, 또는 강화 용액(SS)이 존재하지 않는 공간의 온도를 측정할 수 있다.The first temperature sensor 193 may sense a temperature inside the process chamber 101 . In some embodiments, the first temperature sensor 193 may be configured to control the temperature of the process chamber heater 155 in conjunction with the process chamber heater 155 . The first temperature sensor 193 may directly measure the temperature of the enhancement solution SS inside the process chamber 101 or measure the temperature of a space in which the enhancement solution SS does not exist.

제1 레벨 센서(191)는 공정 챔버(101) 내부에 유입되거나 외부로 유출된 강화 용액(SS)의 양, 특히 수위를 측정할 수 있다. 제1 레벨 센서(191)는 초음파식 레벨 센서, 정전용량식 레벨 센서, 진동식 레벨 센서 및/또는 플로팅 레벨 센서 등을 포함할 수 있다. 제1 레벨 센서(191)는 강화 용액(SS)의 수면 보다 높은 레벨에 위치할 수 있으나, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다.The first level sensor 191 may measure an amount, particularly a water level, of the fortification solution SS flowing into or out of the process chamber 101 . The first level sensor 191 may include an ultrasonic level sensor, a capacitive level sensor, a vibrating level sensor, and/or a floating level sensor. The first level sensor 191 may be located at a level higher than the water level of the fortification solution SS, but the present invention is not limited thereto.

한편, 세척부(140)는 공정 챔버 도어(130)에 부착되어 챔버 본체(120)의 내측벽을 세척할 수 있다. 또한 공정 센서(190)(제1 레벨 센서(191) 및 온도 센서(193))는 공정 챔버 도어(130)에 부착되어 강화 용액의 수위, 강화 용액의 온도, 공정 챔버(101) 내부의 강화 용액이 존재하지 않는 공간의 온도를 측정할 수 있다.Meanwhile, the cleaning unit 140 may be attached to the process chamber door 130 to clean the inner wall of the chamber body 120 . In addition, the process sensor 190 (the first level sensor 191 and the temperature sensor 193 ) is attached to the process chamber door 130 , so that the level of the fortification solution, the temperature of the fortification solution, and the fortification solution inside the process chamber 101 . It is possible to measure the temperature of this nonexistent space.

전술한 바와 같이 강화 용액(SS)은 유로 유닛(300)을 따라 공정 챔버(101)와 강화 용액 챔버(201) 간을 이동할 수 있다. 따라서 공정 챔버(101) 내부의 강화 용액(SS)의 양은 수시로 변할 수 있다. 이에 강화 용액(SS)의 유입량 및/또는 유출량 등을 측정하기 위해 제1 레벨 센서(191)가 구비될 수 있다. 몇몇 실시예에서, 제1 레벨 센서(191)는 유로 유닛(300)과 연동되어 공정 챔버(101) 내부로 유입되거나, 또는 공정 챔버(101)로부터 유출되는 강화 용액의 양을 제어할 수 있다. 다른 실시예에서, 제1 레벨 센서(191) 대신에 무게 센서 등을 이용해 강화 용액의 유입량 및/또는 유출량을 측정할 수도 있다.As described above, the enhancement solution SS may move between the process chamber 101 and the enhancement solution chamber 201 along the flow path unit 300 . Accordingly, the amount of the strengthening solution SS in the process chamber 101 may be changed at any time. Accordingly, a first level sensor 191 may be provided to measure the inflow and/or outflow of the fortification solution SS. In some embodiments, the first level sensor 191 may be linked with the flow path unit 300 to control the amount of the enhancement solution flowing into or flowing out of the process chamber 101 . In another embodiment, the inflow and/or outflow of the fortification solution may be measured using a weight sensor or the like instead of the first level sensor 191 .

이어서 강화 용액 챔버(201)에 대해 설명한다.Next, the strengthening solution chamber 201 will be described.

강화 용액 챔버(201)(예컨대, 제2 챔버)는 글라스의 화학 강화를 위한 강화 용액(SS)이 수용되는 공간을 제공할 수 있다. 예시적인 실시예에서, 강화 용액 챔버(201)는 지면 상에 놓일 수 있다. 예를 들어, 강화 용액 챔버(201)는 공정 챔버(101)와 유사한 레벨 상에 놓일 수 있다. 더 구체적인 예를 들어, 강화 용액 챔버(201)의 내부 공간과 공정 챔버(101)의 내부 공간은 적어도 부분적으로 수평 방향으로 중첩할 수 있다. 강화 용액 챔버(201)는 그 내부 공간을 폐쇄하는 도어를 포함하거나 불포함할 수 있다.The strengthening solution chamber 201 (eg, the second chamber) may provide a space in which the strengthening solution SS for chemical strengthening of glass is accommodated. In an exemplary embodiment, the enrichment solution chamber 201 may lie on the ground. For example, the fortification solution chamber 201 may be placed on a level similar to that of the process chamber 101 . In a more specific example, the inner space of the enhancement solution chamber 201 and the inner space of the process chamber 101 may at least partially overlap in the horizontal direction. The strengthening solution chamber 201 may or may not include a door for closing the inner space thereof.

강화 용액(SS)은 초박형 글라스를 침지시켜 글라스를 화학적으로 강화하기 위한 용액일 수 있다. 강화 용액(SS)은 실리케이트 함유 글라스의 이온 치환 내지는 이온 교환을 통해 글라스에 굽힘 강도, 내충격성, 내열성 등을 부여할 수 있다. 강화 용액(SS)의 예로는 질산칼륨(KNO3) 용액 등을 들 수 있으나 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다.The strengthening solution SS may be a solution for chemically strengthening the glass by immersing the ultra-thin glass. The strengthening solution SS may impart bending strength, impact resistance, heat resistance, and the like to the glass through ion replacement or ion exchange of the silicate-containing glass. Examples of the strengthening solution (SS) include potassium nitrate (KNO 3 ) solution, but the present invention is not limited thereto.

강화 용액 챔버(201)는 강화 용액 챔버 본체(220) 및 강화 용액 챔버 도어(230)를 포함할 수 있다. 강화 용액 챔버 본체(220) 상에는 강화 용액 챔버 도어(230)가 배치될 수 있다. 강화 용액 챔버 도어(230)는 강화 용액 챔버(201)의 도어일 수 있다. 강화 용액 챔버 도어(230)는 중력 방향으로 이동하여 개폐하거나, 수평 방향으로 이동하여 개폐하거나, 또는 힌지 구조를 통해 개폐할 수 있다. 몇몇 실시예에서, 강화 용액 챔버 도어(230) 내에는 강화 용액 챔버 도어 히터(235)(예컨대, 제2 서브 히터)가 임베딩될 수 있다.The enhancement solution chamber 201 may include an enhancement solution chamber body 220 and an enhancement solution chamber door 230 . An enhancement solution chamber door 230 may be disposed on the enhancement solution chamber body 220 . The enhancement solution chamber door 230 may be a door of the enhancement solution chamber 201 . The strengthening solution chamber door 230 may be opened and closed by moving in the direction of gravity, opened and closed by moving in a horizontal direction, or may be opened and closed through a hinge structure. In some embodiments, an enhancement solution chamber door heater 235 (eg, a second sub-heater) may be embedded within the enhancement solution chamber door 230 .

강화 용액 챔버 본체(220)의 바닥부 및 측벽은 비어있을 수 있다. 즉, 강화 용액 챔버 본체(220)의 측벽 등은 외측벽과 내측벽을 포함하고, 외측벽과 내측벽은 이격될 수 있다. 강화 용액 챔버 본체(220)의 바닥부 및 측벽 내에는 강화 용액 챔버 히터(255)(예컨대, 제2 히터)가 임베딩될 수 있다. 강화 용액 챔버 히터(255)는 챔버에 수용된 강화 용액(SS)을 소정 온도로 가열하거나 보온을 수행할 수 있다. 다른 실시예에서, 강화 용액 챔버 히터(255)는 강화 용액 챔버 본체(220)의 바닥부 및/또는 측벽에 내장되지 않고, 강화 용액 챔버 본체(220)의 바닥부 또는 내측벽 상에 설치될 수도 있다. 예를 들어, 강화 용액 챔버(201) 내에서 강화 용액 챔버 히터(255)는 복수의 히터 유닛들이 분산 및 이격 배치되어 위치할 수 있다. 강화 용액 챔버(201) 내부(예를 들어, 외측벽과 내측벽 사이)에서 복수의 히터 유닛들이 분산 배치되어 위치할 수도 있다.The bottom and sidewalls of the enrichment solution chamber body 220 may be empty. That is, the sidewall of the strengthening solution chamber body 220 may include an outer wall and an inner wall, and the outer wall and the inner wall may be spaced apart from each other. An enhancement solution chamber heater 255 (eg, a second heater) may be embedded in the bottom and sidewalls of the enhancement solution chamber body 220 . The reinforcement solution chamber heater 255 may heat the reinforcement solution SS accommodated in the chamber to a predetermined temperature or perform thermal insulation. In another embodiment, the fortification solution chamber heater 255 is not built into the bottom and/or side walls of the fortification solution chamber body 220 , but may be installed on the bottom or inner wall of the fortification solution chamber body 220 . have. For example, in the enhancement solution chamber heater 255 in the enhancement solution chamber 201 , a plurality of heater units may be dispersed and disposed to be spaced apart from each other. A plurality of heater units may be dispersedly located inside the strengthening solution chamber 201 (eg, between an outer wall and an inner wall).

강화 용액 챔버 본체(220)는 강화 용액 챔버 유체구(280)(예컨대, 제2 유체구)를 포함할 수 있다. 도 3 등은 강화 용액 챔버 유체구(280)가 강화 용액 챔버 본체(220)의 측벽 하부에 배치된 경우를 예시하나, 본 발명이 이에 제한되지 않음은 물론이다. 강화 용액 챔버 유체구(280)는 복수개로 구비될 수 있다. 이 경우 복수의 강화 용액 챔버 유체구(280)는 서로 중력 방향으로 중첩 배치되거나, 또는 측벽을 따라 배치되어 수평 방향으로 중첩 배치될 수 있다. 또는 강화 용액 챔버 유체구(280)는 강화 용액 챔버(201)의 바닥부에 배치될 수도 있다.The enrichment solution chamber body 220 may include an enrichment solution chamber fluid port 280 (eg, a second fluid port). 3 and the like illustrate a case in which the enhancement solution chamber fluid port 280 is disposed below the side wall of the enhancement solution chamber body 220, of course, the present invention is not limited thereto. The enhancement solution chamber fluid port 280 may be provided in plurality. In this case, the plurality of reinforcement solution chamber fluid spheres 280 may be disposed to overlap each other in the direction of gravity, or may be disposed along the sidewall and disposed to overlap in the horizontal direction. Alternatively, the enhancement solution chamber fluid port 280 may be disposed at the bottom of the enhancement solution chamber 201 .

강화 용액 챔버 유체구(280)는 공정 챔버(101)로부터 강화 용액 챔버(201)로 강화 용액(SS)을 유입시키거나, 또는 강화 용액 챔버(201)로부터 공정 챔버(101)로 강화 용액(SS)을 유출시킬 수 있다. 즉, 강화 용액 챔버 유체구(280)는 후술할 유로 유닛(300)과 연결되어 강화 용액(SS)의 유로 경로를 제공할 수 있다.The enhancement solution chamber fluid port 280 introduces the enhancement solution SS from the process chamber 101 to the enhancement solution chamber 201 , or the enhancement solution SS from the enhancement solution chamber 201 to the process chamber 101 . ) can be released. That is, the reinforcement solution chamber fluid port 280 may be connected to a flow path unit 300 to be described later to provide a flow path of the reinforcement solution SS.

강화 용액 챔버(201)는 리필 탱크(270)를 더 포함할 수 있다. 리필 탱크(270)는 강화 용액 챔버(201) 내부로 소정의 물질을 유입시키도록 구성될 수 있다. 도면으로 표현하지 않았으나, 리필 탱크(270)와 강화 용액 챔버(201)는 밸브(미도시) 등을 포함하여 선택적으로 유체 연결될 수 있다.The enhancement solution chamber 201 may further include a refill tank 270 . The refill tank 270 may be configured to introduce a predetermined substance into the enhancement solution chamber 201 . Although not shown in the drawings, the refill tank 270 and the enhancement solution chamber 201 may be selectively fluidly connected by including a valve (not shown).

본 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(1)는 공정 챔버(101) 내에 강화 용액(SS)이 유입되어 글라스(G)를 침지시키고 글라스(G)의 화학 강화를 수행할 수 있다. 글라스(G)의 화학 강화 과정에서 글라스(G)의 나트륨 이온은 강화 용액(SS)으로 용출되고, 강화 용액(SS) 내 칼륨 이온은 소진되어 칼륨 이온의 농도는 감소할 수 있다. 그리고 글라스(G)의 화학 강화를 수행한 강화 용액(SS)은 강화 용액 챔버(201)로 이동하고, 다시 공정 챔버(101)로 이동하여 추가적인 강화 공정을 수행할 수 있다. 즉, 공정이 지속됨에 따라 강화 용액(SS)은 나트륨 이온의 농도가 증가하고 칼륨 이온의 농도가 감소하여 강화 용액(SS)의 조성이 변화할 수 있다. 따라서 본 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(1)는 강화 용액(SS)에 칼륨 이온을 보충할 수 있는 리필 탱크(270)를 포함할 수 있다.In the glass chemical strengthening facility 1 according to the present embodiment, the strengthening solution SS is introduced into the process chamber 101 to immerse the glass G and chemically strengthen the glass G. In the chemical strengthening process of the glass G, sodium ions of the glass G are eluted into the strengthening solution SS, and the potassium ions in the strengthening solution SS are consumed, so that the concentration of potassium ions may decrease. In addition, the strengthening solution SS, which has been chemically strengthened on the glass G, may move to the strengthening solution chamber 201 , and may move back to the process chamber 101 to perform an additional strengthening process. That is, as the process continues, the concentration of sodium ions in the fortification solution SS increases and the concentration of potassium ions decreases, so that the composition of the fortification solution SS may change. Therefore, the glass chemical strengthening facility 1 according to the present embodiment may include a refill tank 270 capable of replenishing potassium ions in the strengthening solution SS.

리필 탱크(270)에는 질산칼륨(KNO3), 탄산칼륨(K2CO3), 인산삼칼륨(K3PO4), 인산수소이칼륨(K2HPO4) 또는 인산이수소칼륨(KH2PO4) 등이 수용될 수 있다. 질산칼륨 등은 분말상 또는 수용액상으로 제공될 수 있다. 리필 탱크(270) 내의 물질이 강화 용액(SS)과 혼합되어 칼륨 이온의 농도를 높일 수 있고, 글라스의 화학 강화 품질을 유지할 수 있다.In the refill tank 270, potassium nitrate (KNO 3 ), potassium carbonate (K 2 CO 3 ), tripotassium phosphate (K 3 PO 4 ), dipotassium hydrogen phosphate (K 2 HPO 4 ) or potassium dihydrogen phosphate (KH 2 PO) 4 ), etc. may be accepted. Potassium nitrate and the like may be provided in the form of a powder or an aqueous solution. The material in the refill tank 270 may be mixed with the strengthening solution SS to increase the concentration of potassium ions, and the chemical strengthening quality of the glass may be maintained.

다른 실시예에서, 리필 탱크(270)에는 강화 용액(SS) 내에 축적되는 나트륨 이온과 반응하여 석출물을 생성하는 물질이 수용될 수도 있다. 즉, 이 경우 리필 탱크(270) 내부의 물질은 강화 용액(SS)이 칼륨 이온의 농도를 높이는 것이 아니라, 나트륨의 이온을 감소시킬 수 있다. 상기 물질의 예로는 염소염 또는 아세트산염 등을 들 수 있으나, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다.In another embodiment, the refill tank 270 may contain a material that reacts with sodium ions accumulated in the fortification solution SS to generate precipitates. That is, in this case, the material inside the refill tank 270 may reduce sodium ions rather than the strengthening solution SS increasing the concentration of potassium ions. Examples of the material include chlorine salt or acetate salt, but the present invention is not limited thereto.

몇몇 실시예에서, 강화 용액 챔버(201)는 제2 기포 발생부(243) 및/또는 강화 용액 챔버 센서(290)를 더 포함할 수 있다.In some embodiments, the enhancement solution chamber 201 may further include a second bubble generator 243 and/or an enhancement solution chamber sensor 290 .

제2 기포 발생부(243)는 강화 용액 챔버(201) 내에 수용된 강화 용액(SS)의 혼합 또는 교반을 위한 수단일 수 있다. 강화 용액(SS)이 장시간 강화 용액 챔버(201) 내에 수용되는 경우, 상대적으로 무거운 칼륨 이온은 가라앉고 상대적으로 가벼운 나트륨 이온은 떠오르는 등 부분적인 조성 불균일이 발생할 수 있다. 따라서 외부의 기체 탱크(미도시)와 연결된 제2 기포 발생부(243)를 이용하여 강화 용액(SS)을 혼합할 수 있다. 제2 기포 발생부(243)는 적어도 부분적으로 강화 용액 챔버(201)의 바닥부에 인접하여 배치되고, 복수의 분사 홀을 가질 수 있다. 상기 분사 홀을 통해 질소(N2) 또는 아르곤(Ar) 등의 불활성 가스, 또는 공기가 분사될 수 있다. 분사 홀은 하측 방향으로 형성되거나, 또는 상측 방향으로 형성될 수 있다. 강화 용액 챔버(201) 내에 강화 용액(SS)이 충진된 상태에서 제2 기포 발생부(243)의 분사 홀을 통해 가스가 분사될 경우 기포가 형성되고 기포가 상승하며 강화 용액(SS)을 혼합시킬 수 있다. 다른 실시예에서, 제2 기포 발생부(243) 대신에 또는 추가적으로 교반기 등이 구비될 수도 있다.The second bubble generator 243 may be a means for mixing or stirring the strengthening solution SS accommodated in the strengthening solution chamber 201 . When the fortification solution SS is accommodated in the fortification solution chamber 201 for a long time, a partial compositional non-uniformity may occur, such as relatively heavy potassium ions sink and relatively light sodium ions rise. Therefore, the strengthening solution SS may be mixed using the second bubble generator 243 connected to an external gas tank (not shown). The second bubble generating unit 243 is at least partially disposed adjacent to the bottom of the strengthening solution chamber 201 and may have a plurality of injection holes. An inert gas such as nitrogen (N 2 ) or argon (Ar), or air may be injected through the injection hole. The injection hole may be formed in a downward direction or may be formed in an upward direction. When the gas is injected through the injection hole of the second bubble generating unit 243 in a state in which the reinforcement solution SS is filled in the reinforcement solution chamber 201, bubbles are formed, the bubbles rise, and the reinforcement solution SS is mixed. can do it In another embodiment, a stirrer or the like may be provided instead of or in addition to the second bubble generating unit 243 .

강화 용액 챔버 센서(290)는 제2 온도 센서(293), 제2 레벨 센서(291) 및/또는 이온 센서(295)를 포함할 수 있다.The enrichment solution chamber sensor 290 may include a second temperature sensor 293 , a second level sensor 291 , and/or an ion sensor 295 .

제2 온도 센서(293)는 강화 용액 챔버(201) 내부의 온도를 센싱할 수 있다. 몇몇 실시예에서, 제2 온도 센서(293)는 강화 용액 챔버 히터(255)와 연동되어 강화 용액 챔버 히터(255)의 온도를 제어하도록 구성될 수 있다. 제2 온도 센서(293)는 강화 용액 챔버(201) 내부의 강화 용액(SS)의 온도를 측정할 수 있다.The second temperature sensor 293 may sense a temperature inside the enhancement solution chamber 201 . In some embodiments, the second temperature sensor 293 may be configured to control the temperature of the fortification solution chamber heater 255 in conjunction with the fortification solution chamber heater 255 . The second temperature sensor 293 may measure the temperature of the enhancement solution SS inside the enhancement solution chamber 201 .

제2 레벨 센서(291)는 강화 용액 챔버(201) 내부에 유입되거나 외부로 유출된 강화 용액(SS)의 양, 특히 수위를 측정할 수 있다. 제2 레벨 센서(291)는 제1 레벨 센서(191)와 동일하거나, 상이하게 구성될 수 있다. 전술한 바와 같이 강화 용액(SS)은 유로 유닛(300)을 따라 공정 챔버(101)와 강화 용액 챔버(201) 간을 이동할 수 있다. 따라서 강화 용액 챔버(201) 내부의 강화 용액(SS)의 양은 수시로 변할 수 있다. 이에 강화 용액(SS)의 유입량 및/또는 유출량 등을 측정하기 위해 제2 레벨 센서(291)가 구비될 수 있다. 몇몇 실시예에서, 제2 레벨 센서(291)는 유로 유닛(300)과 연동되어 강화 용액 챔버(201) 내부로 유입되거나, 또는 강화 용액 챔버(201)로부터 유출되는 강화 용액의 양을 제어할 수 있다. 다른 실시예에서, 제2 레벨 센서(291) 대신에 무게 센서 등을 이용해 강화 용액의 유입량 및/또는 유출량을 측정할 수도 있다.The second level sensor 291 may measure an amount, particularly a water level, of the fortification solution SS flowing into or out of the fortification solution chamber 201 . The second level sensor 291 may be configured to be the same as or different from the first level sensor 191 . As described above, the enhancement solution SS may move between the process chamber 101 and the enhancement solution chamber 201 along the flow path unit 300 . Accordingly, the amount of the strengthening solution SS in the strengthening solution chamber 201 may be changed at any time. Accordingly, a second level sensor 291 may be provided to measure the inflow and/or outflow of the fortification solution SS. In some embodiments, the second level sensor 291 may be linked with the flow path unit 300 to control the amount of the fortification solution flowing into or out of the fortification solution chamber 201 . have. In another embodiment, the inflow and/or outflow of the fortification solution may be measured using a weight sensor or the like instead of the second level sensor 291 .

이온 센서(295)는 강화 용액 챔버(201)에 수용된 강화 용액(SS)의 이온 농도, 구체적으로 칼륨 이온의 농도 및/또는 나트륨 이온의 농도를 측정할 수 있다. 전술한 바와 같이 강화 용액(SS)을 반복적으로 사용함에 따라 강화 용액(SS) 내의 이온 농도는 글라스의 강화 품질에 영향을 미치는 요소일 수 있다. 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니나, 이온 센서(295)는 전술한 리필 탱크(270)와 연동되어 리필 탱크(270)로부터 강화 용액 챔버(201) 내부로 칼륨 이온의 농도를 높이거나, 나트륨 이온의 농도를 낮추는 물질이 유입되도록 제어될 수 있다.The ion sensor 295 may measure an ion concentration of the fortification solution SS accommodated in the fortification solution chamber 201 , specifically, a concentration of potassium ions and/or a concentration of sodium ions. As described above, as the strengthening solution SS is repeatedly used, the concentration of ions in the strengthening solution SS may be a factor affecting the strengthening quality of the glass. Although the present invention is not limited thereto, the ion sensor 295 is interlocked with the refill tank 270 to increase the concentration of potassium ions from the refill tank 270 into the fortification solution chamber 201, or A substance that lowers the concentration may be controlled to be introduced.

한편, 유로 유닛(300)은 밸브(330) 및 펌프(310)를 포함하고, 유량 센서(350)를 더 포함할 수 있다. 유로 유닛(300)은 전술한 공정 챔버(101)와 강화 용액 챔버(201)를 유체적으로 연결하며, 강화 용액(SS)이 공정 챔버(101)와 강화 용액 챔버(201)를 따라 흐르거나, 이동하도록 할 수 있다. 밸브(330)는 볼 밸브 등으로 구현될 수 있으나, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다. 밸브(330)는 유로 유닛(300)을 따라 흐르는 강화 용액(SS)의 양이나 속도를 제어할 수 있다. 또, 펌프(310)는 강화 용액(SS)의 이동을 위한 힘을 제공하고, 유량 센서(350)는 강화 용액(SS)이 흐르는 양과 속도 등을 측정할 수 있다.Meanwhile, the flow path unit 300 includes a valve 330 and a pump 310 , and may further include a flow rate sensor 350 . The flow path unit 300 fluidly connects the above-described process chamber 101 and the enhancement solution chamber 201 , and the enhancement solution SS flows along the process chamber 101 and the enhancement solution chamber 201 , can make it move. The valve 330 may be implemented as a ball valve or the like, but the present invention is not limited thereto. The valve 330 may control the amount or speed of the strengthening solution SS flowing along the flow path unit 300 . In addition, the pump 310 may provide a force for the movement of the fortification solution SS, and the flow sensor 350 may measure the amount and speed at which the fortification solution SS flows.

세정 챔버(400)는 전술한 공정 챔버(101) 및 강화 용액 챔버(201)의 외부에, 이들과 별도로 구비될 수 있다. 세정 챔버(400)는 화학 강화 공정이 종료된 후에 글라스(G) 표면에 잔존하는 강화 용액(SS)이나 이물질 등을 제거하기 위한 세정 공정이 수행되는 챔버일 수 있다. 세정 챔버(400) 내에는 세정액, 예컨대 물 등이 수용될 수 있다.The cleaning chamber 400 may be provided separately from the process chamber 101 and the enhancement solution chamber 201 described above. The cleaning chamber 400 may be a chamber in which a cleaning process for removing the strengthening solution SS or foreign substances remaining on the surface of the glass G is performed after the chemical strengthening process is finished. A cleaning liquid, such as water, may be accommodated in the cleaning chamber 400 .

로딩/언로딩 유닛(500)은 전술한 각 챔버들, 즉 공정 챔버(101)와 세정 챔버(400), 그리고 공정 챔버(101)로의 글라스(G)의 인입이나 인출을 위한 로딩 존 및 언로딩 존 간에 글라스(G)와 카세트(800)를 이송시키기 위한 수단일 수 있다. 로딩/언로딩 유닛(500)은 로봇 아암 등일 수 있으나 본 발명이 이에 제한되지 않음은 물론이다. 다른 실시예에서, 로딩/언로딩 유닛은 오버 헤드 트랜스포트 또는 호이스트 등으로 구현될 수도 있다.The loading/unloading unit 500 includes each of the above-described chambers, that is, the process chamber 101 and the cleaning chamber 400 , and a loading zone and unloading zone for introducing or withdrawing the glass G into the process chamber 101 . It may be a means for transferring the glass (G) and the cassette 800 between the zones. The loading/unloading unit 500 may be a robot arm or the like, but the present invention is not limited thereto. In another embodiment, the loading/unloading unit may be implemented as an overhead transport or hoist or the like.

컨트롤러(600)는 프로세서 및/또는 메모리를 포함하여 구성될 수 있다. 프로세서는 CPU(Central Processing Unit), MPU(Micro Processor Unit), MCU(Micro Controller Unit), 또는 본 기술분야에서 공지된 임의의 형태의 프로세서를 포함하여 구성될 수 있다. 메모리는 RAM(Random Access Memory), ROM(Read Only Memory), EPROM(Erasable Programmable ROM), EEPROM(Electrically Erasable Programmable ROM), 플래시 메모리(Flash Memory), 또는 본 기술분야에 공지된 임의의 형태의 메모리를 포함하여 구성될 수 있다.The controller 600 may include a processor and/or memory. The processor may include a central processing unit (CPU), a micro processor unit (MPU), a micro controller unit (MCU), or any type of processor known in the art. The memory may include random access memory (RAM), read only memory (ROM), erasable programmable ROM (EPROM), electrically erasable programmable ROM (EEPROM), flash memory, or any type of memory known in the art. It may be composed of

컨트롤러(600)는 전술한 공정 챔버(101), 강화 용액 챔버(201), 유로 유닛(300), 세정 챔버(400), 로딩/언로딩 유닛(500) 등을 제어하여 공정 자동화를 수행할 수 있다. The controller 600 may perform process automation by controlling the above-described process chamber 101 , the fortification solution chamber 201 , the flow path unit 300 , the cleaning chamber 400 , the loading/unloading unit 500 , and the like. have.

예를 들어, 컨트롤러(600)는 공정 챔버(101) 및/또는 강화 용액 챔버(201) 내부의 강화 용액(SS)의 양의 센싱 결과, 예컨대 측정된 강화 용액(SS)의 수위의 센싱 결과를 기초로 유로 유닛(300)을 제어할 수 있다. 제어되는 유로 유닛(300)은 펌프(310) 및/또는 밸브(330) 등일 수 있다. 또, 컨트롤러(600)는 공정 챔버(101) 및/또는 강화 용액 챔버(201) 내부의 온도의 센싱 결과를 기초로 공정 챔버 히터(155), 공정 챔버 도어 히터(131), 강화 용액 챔버 히터(255) 및/또는 강화 용액 챔버 도어 히터(235)를 제어할 수 있다.For example, the controller 600 receives a sensing result of the amount of the fortification solution SS in the process chamber 101 and/or the fortification solution chamber 201 , for example, a sensing result of the measured water level of the fortification solution SS. Based on this, the flow path unit 300 may be controlled. The controlled flow path unit 300 may be a pump 310 and/or a valve 330 . In addition, the controller 600 may include a process chamber heater 155 , a process chamber door heater 131 , and an enhancement solution chamber heater ( 255 ) and/or the fortification solution chamber door heater 235 .

또한 컨트롤러(600)는 강화 용액 챔버(201) 내부의 강화 용액(SS) 내 나트륨 이온 및/또는 칼륨 이온의 농도를 측정하고, 측정 결과를 소정의 기준과 비교하여 리필 챔버(270)로부터 소정의 물질을 강화 용액 챔버(201) 내부로 추가할 수 있다.In addition, the controller 600 measures the concentration of sodium ions and/or potassium ions in the fortification solution SS inside the fortification solution chamber 201 , and compares the measurement results with a predetermined standard to obtain a predetermined value from the refill chamber 270 . A substance may be added into the fortification solution chamber 201 .

또는 컨트롤러(600)는 공정의 경과 시간에 따라 각 챔버를 개폐하거나, 로딩/언로딩 유닛(500)을 이용하여 글라스(G)를 이송할 수 있다. 또, 컨트롤러(600)는 위와 같은 공정을 위한 시차 제어를 수행할 수 있다.Alternatively, the controller 600 may open and close each chamber according to the elapsed time of the process or transfer the glass G using the loading/unloading unit 500 . Also, the controller 600 may perform time difference control for the above process.

이하, 본 발명에 따른 글라스의 화학 강화 방법에 대해 설명한다.Hereinafter, a method for chemically strengthening glass according to the present invention will be described.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 방법을 나타낸 순서도이다. 도 5 내지 도 9는 도 1의 화학 강화 설비를 이용하여 글라스를 화학 강화하는 방법을 순서대로 나타낸 도면들이다. 본 발명의 본질을 흐리지 않기 위해 일부 도면 부호에 대한 설명은 생략하였으며, 이는 첨부된 도면 및 전술한 실시예의 설명 내용으로부터 본 기술분야에 속하는 통상의 기술자에게 이해될 수 있을 것이다.4 is a flowchart illustrating a method for chemically strengthening glass according to an embodiment of the present invention. 5 to 9 are views sequentially illustrating a method of chemically strengthening glass using the chemical strengthening facility of FIG. 1 . In order not to obscure the essence of the present invention, descriptions of some reference numerals have been omitted, which will be understood by those skilled in the art from the accompanying drawings and the description of the foregoing embodiments.

우선 도 4를 더 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 방법은 공정 챔버에 글라스를 인입하는 단계(S110), 공정 챔버 내에서 글라스를 예열하는 단계(S210), 유로 유닛을 제어하여 공정 챔버에 강화 용액을 유입시키는 단계(S310) 및 공정 챔버 내에서 글라스를 강화 용액에 침지시키는 단계(S410)를 포함할 수 있다. 몇몇 실시예에서, 글라스의 화학 강화 방법은 유로 유닛을 제어하여 공정 챔버로부터 강화 용액을 유출시키는 단계(S510), 공정 챔버 내에서 글라스를 서냉하는 단계(S610), 공정 챔버에서 글라스를 인출하는 단계(S710) 및 세정 챔버에서 글라스를 세정하는 단계(S810)를 더 포함할 수 있다.First, referring to FIG. 4 further, the chemical strengthening method of glass according to the present embodiment includes the step of introducing the glass into the process chamber (S110), the step of preheating the glass in the process chamber (S210), and the process by controlling the flow path unit. It may include the step of introducing the strengthening solution into the chamber (S310) and the step of immersing the glass in the strengthening solution in the process chamber (S410). In some embodiments, the chemical strengthening method of glass includes controlling the flow path unit to flow the strengthening solution from the process chamber (S510), slowly cooling the glass in the process chamber (S610), and withdrawing the glass from the process chamber (S710) and cleaning the glass in the cleaning chamber (S810) may be further included.

도 5는 공정 챔버(101)에 글라스(G)를 인입하는 단계(S110)를 나타낸 도면이다. 도 5를 더 참조하면, 공정 챔버(101)의 공정 챔버 도어(130)를 중력 방향으로 상승시켜 챔버 본체(120)의 내부 공간을 개방하고, 거치부(150)에 글라스(G)가 실장된 카세트(800)를 인입한다. 예를 들어, 로봇 아암 등의 로딩/언로딩 유닛(미도시)은 글라스(G)가 실장된 카세트(800)를 공정 챔버(101)의 거치부(150) 상에 놓을 수 있다.5 is a view showing the step (S110) of introducing the glass (G) into the process chamber (101). 5 , the process chamber door 130 of the process chamber 101 is raised in the gravity direction to open the inner space of the chamber body 120 , and the glass G is mounted on the mounting part 150 . The cassette 800 is retracted. For example, a loading/unloading unit (not shown) such as a robot arm may place the cassette 800 on which the glass G is mounted on the mounting unit 150 of the process chamber 101 .

도면으로 표현하지 않았으나, 상승한 공정 챔버 도어(130)는 수평 방향으로 더 이동하여 로딩/언로딩 유닛(미도시)이 글라스(G)를 인입하기 위한 공간을 확보할 수도 있다. 본 단계(S110)에서, 공정 챔버(101)의 챔버 본체(120) 내부에는 강화 용액이 충진되지 않고 비어있는 상태일 수 있다. 한편, 강화 용액 챔버(201) 내부에 수용된 강화 용액(SS)은 제2 기포 발생부(243)에서 발생하는 기포에 의해 지속적으로 혼합 내지는 교반이 수행되고, 강화 용액 챔버 히터(255)에 의해 소정의 온도로 가열된 상태일 수 있다.Although not shown in the drawings, the elevated process chamber door 130 may further move in the horizontal direction to secure a space for the loading/unloading unit (not shown) to introduce the glass G. In this step ( S110 ), the chamber body 120 of the process chamber 101 may be in an empty state without being filled with the strengthening solution. On the other hand, the strengthening solution SS accommodated in the strengthening solution chamber 201 is continuously mixed or stirred by the bubbles generated in the second bubble generating unit 243 , and is predetermined by the strengthening solution chamber heater 255 . It may be in a state heated to a temperature of

거치부(150)는 글라스(G)가 실장된 카세트(800)의 인입 또는 인출이 용이할 수 있도록 중력 방향으로 상승하거나, 하강할 수도 있다. 거치부(150)는 복수의 카세트(800)를 거치 내지는 배치할 수 있도록 구성될 수 있다. 거치부(150)는 카세트(800)가 예열, 강화, 서냉 중에 챔버 본체(120)의 바닥면으로부터 일정 거리 이상 이격하여 위치되도록 구성될 수 있다. 도 5는 하나의 공정 챔버의 챔버 본체(120)에 오직 1개의 카세트(800)가 인입된 경우를 예시하나, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니며, 카세트(800)는 2개 이상, 또는 3개 이상, 또는 4개 이상 인입될 수도 있다. 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니나, 하나의 공정 챔버(101) 내에 복수의 카세트(800)들이 인입되는 경우, 복수의 카세트(800) 들은 서로 수평 방향으로 중첩하도록 배열되도록, 즉 실질적으로 동일한 레벨에 배치되는 것이 바람직할 수 있다. 글라스의 강화 균일도는 강화 품질에 영향을 주는 매우 중요한 요소일 수 있다. 후술할 바와 같이 강화 용액(SS)이 공정 챔버(101) 내에 유입되는 과정에서, 글라스(G)들의 중력 방향으로의 높이가 상이할 경우, 강화 용액(SS)이 바닥부터 서서히 차오르고, 또는 강화 용액(SS)이 서서히 유출되기 때문에, 서로 중력 방향으로 높이 차이를 갖는 글라스(G)들 간에 강화 균일도가 상이해질 수 있다.The mounting portion 150 may rise or fall in the direction of gravity so that the cassette 800 on which the glass G is mounted can be easily drawn in or drawn out. The mounting unit 150 may be configured to receive or arrange a plurality of cassettes 800 . The mounting unit 150 may be configured such that the cassette 800 is spaced apart from the bottom surface of the chamber body 120 by a predetermined distance or more during preheating, strengthening, and slow cooling. 5 illustrates a case in which only one cassette 800 is inserted into the chamber body 120 of one process chamber, but the present invention is not limited thereto. More than one, or four or more may be introduced. Although the present invention is not limited thereto, when a plurality of cassettes 800 are introduced into one process chamber 101 , the plurality of cassettes 800 are arranged to overlap each other in a horizontal direction, that is, at substantially the same level. It may be desirable to place The reinforcing uniformity of the glass may be a very important factor affecting the reinforcing quality. As will be described later, when the heights in the gravity direction of the glasses G are different while the strengthening solution SS is introduced into the process chamber 101, the strengthening solution SS gradually fills up from the bottom, or the strengthening solution Since (SS) flows out slowly, the reinforcement uniformity may be different between the glasses (G) having a height difference in the direction of gravity from each other.

한편, 글라스(G)는 원장 글라스가 소정의 크기로 절단되고, 모서리 등이 가공된 글라스 셀 상태일 수 있다. 글라스(G)는 칼륨 이온을 실질적으로 포함하지 않거나, 또는 칼륨 이온에 비해 나트륨 이온을 풍부하게 함유하는 글라스, 즉 화학 강화 전 글라스일 수 있다. 글라스(G)는 약 100㎛ 이하, 또는 약 90㎛ 이하, 또는 약 80㎛ 이하, 또는 약 70㎛ 이하, 또는 약 60㎛ 이하, 또는 약 50㎛ 이하의 두께를 갖는 초박형 글라스일 수 있다. 복수의 글라스(G)는 서로 접착제 등을 개재하여 글라스 라미네이트(glass laminate) 내지는 글라스 스택(glass stack)을 형성하고, 글라스 라미네이트가 카세트(800)에 탑재될 수 있다. 도 5는 하나의 카세트(800) 내에 2개의 글라스 라미네이트가 배치되어, 공정 챔버(101) 내에 총 2개의 글라스 라미네이트가 인입된 경우를 예시한다.On the other hand, the glass G may be a glass cell state in which the led glass is cut to a predetermined size and the edges are processed. The glass (G) may be a glass that does not substantially contain potassium ions, or contains an abundance of sodium ions compared to potassium ions, that is, a glass before chemical strengthening. The glass G may be an ultra-thin glass having a thickness of about 100 μm or less, or about 90 μm or less, or about 80 μm or less, or about 70 μm or less, or about 60 μm or less, or about 50 μm or less. The plurality of glasses G may form a glass laminate or a glass stack by interposing an adhesive to each other, and the glass laminate may be mounted on the cassette 800 . FIG. 5 illustrates a case in which two glass laminates are disposed in one cassette 800 and a total of two glass laminates are introduced into the process chamber 101 .

도 6은 공정 챔버(101)에서 글라스(G)를 열처리, 예컨대 제1 열처리하는 단계(S210)를 나타낸 도면이다. 도 6을 더 참조하면, 공정 챔버(101)의 공정 챔버 도어(130)를 중력 방향으로 하강시켜 챔버 본체(120)의 내부 공간을 밀폐하고, 열처리를 수행할 수 있다. 본 단계(S210)에서, 공정 챔버(101)의 챔버 본체(120) 내부에는 여전히 강화 용액이 충진되지 않고 비어있는 상태일 수 있다.FIG. 6 is a view illustrating a step ( S210 ) of heat-treating the glass G, for example, a first heat treatment in the process chamber 101 . 6 , the process chamber door 130 of the process chamber 101 may be lowered in the gravity direction to seal the internal space of the chamber body 120 and heat treatment may be performed. In this step ( S210 ), the inside of the chamber body 120 of the process chamber 101 may still be in an empty state without being filled with the strengthening solution.

본 명세서에서, 용어 '열처리'는 글라스의 화학 강화 공정에 있어서, 전처리로서의 예열 처리(pre-heating treatment, warm-up treatment), 본공정으로서의 열처리 및 후처리로서의 서냉 처리(slow cool-down treatment)를 포함하는 의미일 수 있다. 다른 측면에서, 상기 열처리는 열처리 대상의 승온(temperature rising), 정온, 강온(temperature drop) 및 이들의 조합을 수행하는 것을 포함하는 의미일 수 있다. 위와 같은 승온, 정온 및/또는 강온은 히터의 가열 온도를 상승시키거나, 히터의 가열 온도를 일정한 온도로 유지하여 열처리 대상의 온도를 주변 온도 보다 인위적으로 높게 하는 것 뿐 아니라, 히터의 가열 온도를 하강시키거나, 또는 히터의 동작을 중단함으로써 열처리 대상의 온도를 제어하는 것을 포함하는 의미로 사용된다.In the present specification, the term 'heat treatment' refers to a pre-heating treatment (warm-up treatment) as a pre-treatment in the chemical strengthening process of glass, heat treatment as the main process and slow cool-down treatment as a post-treatment may mean including In another aspect, the heat treatment may mean performing a temperature rising, a constant temperature, a temperature drop, and a combination thereof of the heat treatment target. The above temperature increase, constant temperature and/or temperature decrease increases the heating temperature of the heater or maintains the heating temperature of the heater at a constant temperature to artificially increase the temperature of the heat treatment target than the ambient temperature, as well as increase the heating temperature of the heater It is used in a sense including controlling the temperature of the heat treatment target by lowering or stopping the operation of the heater.

글라스를 예열하는 단계(S210)에서 예열 온도는 약 300℃ 이상, 또는 약 350℃ 이상, 또는 약 400℃ 이상, 또는 약 450℃ 이상, 또는 약 500℃ 이상일 수 있다. 예열 단계에서의 승온은 연속적으로 이루어지거나, 또는 정온과 승온을 반복하며 비연속적으로 이루어질 수 있다. 예열 단계의 수행 시간은 약 100분 이상, 또는 약 110분 이상, 또는 약 120분 이상, 또는 약 130분 이상일 수 있다. 예열은 공정 챔버(101)의 공정 챔버 히터(155)의 온도 제어에 의해 수행될 수 있다.In the step of preheating the glass ( S210 ), the preheating temperature may be about 300° C. or more, or about 350° C. or more, or about 400° C. or more, or about 450° C. or more, or about 500° C. or more. The temperature increase in the preheating step may be performed continuously, or may be performed discontinuously while repeating the constant temperature and the temperature increase. The duration of the preheating step may be about 100 minutes or more, or about 110 minutes or more, or about 120 minutes or more, or about 130 minutes or more. Preheating may be performed by controlling the temperature of the process chamber heater 155 of the process chamber 101 .

한편, 강화 용액 챔버(201) 내부에 수용된 강화 용액(SS)은 제2 기포 발생부(243)에서 발생하는 기포에 의해 지속적으로 혼합 내지는 교반이 수행되고, 강화 용액 챔버 히터(255)에 의해 소정의 온도로 가열된 상태일 수 있다.On the other hand, the strengthening solution SS accommodated in the strengthening solution chamber 201 is continuously mixed or stirred by the bubbles generated in the second bubble generating unit 243 , and is predetermined by the strengthening solution chamber heater 255 . It may be in a state heated to a temperature of

도 7은 유로 유닛(300)을 통해 강화 용액 챔버(201)로부터 공정 챔버(101)에 강화 용액(SS)을 유입시키는 단계(S310)를 나타낸 도면이다. 도 7을 더 참조하면, 유로 유닛(300), 즉 펌프(310)와 밸브(330)를 제어하여 강화 용액 챔버(201) 내에 수용된 강화 용액(SS) 중 적어도 일부를 공정 챔버(101)의 챔버 본체(120) 내로 충진한다. 비제한적인 예시로, 강화 용액 챔버(201) 내에는 여전히 강화 용액(SS)의 적어도 일부가 남아있는 상태일 수 있다.7 is a diagram illustrating a step S310 of introducing the enhancement solution SS into the process chamber 101 from the enhancement solution chamber 201 through the flow path unit 300 . Referring further to FIG. 7 , the flow path unit 300 , ie, the pump 310 and the valve 330 are controlled to remove at least a portion of the fortification solution SS accommodated in the fortification solution chamber 201 into the chamber of the process chamber 101 . It is filled into the body 120 . As a non-limiting example, at least a portion of the strengthening solution SS may still remain in the strengthening solution chamber 201 .

전술한 바와 같이 강화 용액(SS)은 강화 용액 챔버(201)의 강화 용액 챔버 유체구(280)를 통해 유출되며, 유로 유닛(300)을 따라 흐르고, 공정 챔버(101)의 공정 챔버 유체구(180)를 통해 유입될 수 있다.As described above, the enhancement solution SS flows out through the enhancement solution chamber fluid port 280 of the enhancement solution chamber 201 , flows along the flow path unit 300 , and the process chamber fluid port ( 180) can be introduced.

공정 챔버(101) 내에 충진된 강화 용액(SS)에 글라스(G)가 침지되어 화학 강화, 구체적으로 강화 용액(SS)과 글라스(G) 간의 이온 교환이 수행될 수 있다(S410). 화학 강화 단계(S410)에서 강화 용액(SS)의 가열 온도는 약 300℃ 이상, 또는 약 350℃ 이상, 또는 약 400℃ 이상, 또는 약 450℃ 이상, 또는 약 500℃ 이상일 수 있다. 화학 강화 단계의 수행 시간은 예열 단계의 수행 시간 보다 짧을 수 있다. 예를 들어 화학 강화 공정은 약 30분 이하, 또는 약 25분 이하, 또는 약 20분 이하, 또는 약 15분 이하, 또는 약 10분 이하의 시간 동안 수행될 수 있다.The glass G is immersed in the strengthening solution SS filled in the process chamber 101 to perform chemical strengthening, specifically, ion exchange between the strengthening solution SS and the glass G (S410). The heating temperature of the strengthening solution SS in the chemical strengthening step S410 may be about 300° C. or more, or about 350° C. or more, or about 400° C. or more, or about 450° C. or more, or about 500° C. or more. The execution time of the chemical strengthening step may be shorter than the execution time of the preheating step. For example, the chemical strengthening process may be performed for a time of about 30 minutes or less, or about 25 minutes or less, or about 20 minutes or less, or about 15 minutes or less, or about 10 minutes or less.

몇몇 실시예에서, 공정 챔버(101) 내에 강화 용액(SS)이 충진되어 글라스(G)를 화학 강화하는 동안, 공정 챔버(101) 내의 강화 용액(SS)은 제1 기포 발생부(143)에서 발생하는 기포에 의해 혼합 내지는 교반이 수행될 수 있다.In some embodiments, while the strengthening solution SS is filled in the process chamber 101 to chemically strengthen the glass G, the strengthening solution SS in the process chamber 101 is formed in the first bubble generator 143 . Mixing or stirring may be performed by the generated bubbles.

전술한 바와 같이 본 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(1)를 이용한 글라스 화학 강화 방법은, 공정 챔버(101)에 글라스(G)를 인입한 후 글라스(G)의 이동 없이 열처리와 글라스의 화학 강화를 순차적으로 수행할 수 있다. 종래의 경우 열처리 단계와 화학 강화 단계를 수행하기 위해 글라스를 이송해야하는 문제가 있었다. 이 경우 글라스의 챔버 간 이동을 위해 글라스를 이송하는 과정에서, 화학적 조성이 상이한 외부 공기에 노출되거나, 또는 급격한 온도 변화가 발생하거나, 적어도 외부 공기 중의 이물질이 글라스에 부착되는 등의 문제로 인해 글라스의 강화 품질이 저하되는 문제가 있었다. 뿐만 아니라, 특히 강화 전의 초박형 글라스는 그 내구도가 현저하게 낮아 이송 과정에서 발생하는 약간의 충격에도 일부가 파손되기도 하였다.As described above, in the glass chemical strengthening method using the glass chemical strengthening facility 1 according to the present embodiment, the glass G is introduced into the process chamber 101 and then heat treatment and the chemistry of the glass without movement of the glass G Reinforcement can be performed sequentially. In the conventional case, there was a problem in that the glass must be transferred to perform the heat treatment step and the chemical strengthening step. In this case, in the process of transferring the glass to move the glass between chambers, the glass is exposed to external air with different chemical compositions, a sudden temperature change occurs, or at least foreign substances in the external air are attached to the glass. There was a problem in that the reinforcement quality of the In addition, in particular, the ultra-thin glass before strengthening had a remarkably low durability, and some of it was damaged even by a slight impact generated during transport.

그러나 본 실시예에 따른 글라스 화학 강화 방법에 따를 경우 로딩/언로딩 유닛에 의해 한번 공정 챔버(101)로 인입된 글라스(G)는 공정 챔버(101)내에서 구분되지 않은 단일 공간 내에서 그 위치를 벗어나지 않고, 예컨대 위치가 고정된 상태에서 강화 용액의 이동을 통해 글라스 화학 강화 공정이 수행될 수 있어 위와 같은 문제가 발생할 여지가 없으며, 글라스(G)의 외부 노출 및 로딩과 언로딩을 최소화할 수 있다.However, according to the glass chemical strengthening method according to the present embodiment, the glass G, which has been introduced into the process chamber 101 once by the loading/unloading unit, is located in a single space that is not divided within the process chamber 101. Without departing from, for example, the glass chemical strengthening process can be performed through the movement of the strengthening solution in a fixed position, so there is no room for the above problems to occur, and the external exposure and loading and unloading of the glass (G) can be minimized. can

도 8은 유로 유닛(300)을 통해 공정 챔버(101)로부터 강화 용액 챔버(201)에 강화 용액(SS)을 유출시키고, 공정 챔버(101)에서 글라스(G)를 열처리, 예컨대 제2 열처리하는 단계(S610)를 나타낸 도면이다. 도 8을 더 참조하면, 유로 유닛(300), 즉 펌프(310)와 밸브(330)를 제어하여 공정 챔버(101) 내의 강화 용액(SS) 중 적어도 일부를 강화 용액 챔버(201) 내로 유출시킨다(S510). 비제한적인 예시로, 공정 챔버(101) 내에는 강화 용액(SS)이 실질적으로 잔존하지 않고, 실질적으로 전량이 유출될 수 있다. 공정 챔버(101) 내에 잔존하는 소량의 강화 용액(SS)은 공정 챔버 유체구(180)와 별도로 마련된 드레인부(미도시)에 의해 배출될 수도 있다.8 is a diagram illustrating a process in which the strengthening solution SS flows from the process chamber 101 to the strengthening solution chamber 201 through the flow path unit 300 and the glass G is heat-treated in the process chamber 101, for example, a second heat treatment process. It is a diagram showing the step (S610). Referring further to FIG. 8 , the flow path unit 300 , that is, the pump 310 and the valve 330 are controlled to flow at least a portion of the fortification solution SS in the process chamber 101 into the fortification solution chamber 201 . (S510). As a non-limiting example, substantially no reinforcement solution SS remains in the process chamber 101 , and substantially the entire amount may be discharged. A small amount of the enhancement solution SS remaining in the process chamber 101 may be discharged by a drain unit (not shown) provided separately from the process chamber fluid port 180 .

전술한 바와 같이 강화 용액(SS)은 공정 챔버(101)의 공정 챔버 유체구(180)를 통해 유출되며, 유로 유닛(300)을 따라 흐르고, 강화 용액 챔버(201)의 강화 용액 챔버 유체구(280)를 통해 유입될 수 있다.As described above, the enrichment solution SS flows out through the process chamber fluid port 180 of the process chamber 101 , flows along the flow path unit 300 , and the enrichment solution chamber fluid port ( 280) can be introduced.

강화 용액(SS)을 유출시키는 단계(S510) 후에, 또는 유출시키는 단계와 동시에, 글라스(G)의 서냉을 수행할 수 있다(S610). 글라스를 서냉하는 단계(S610)에서 서냉 온도, 즉 최종 냉각 온도는 약 50℃ 이하, 또는 약 100℃ 이하, 또는 약 150℃ 이하일 수 있다. 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니나, 열처리 챔버의 강온은 연속적으로 이루어지거나, 또는 정온과 강온을 반복하며 비연속적으로 이루어질 수 있다. 또, 서냉 단계의 수행 시간은 예열 단계의 수행 시간 보다 짧을 수 있다. 예를 들어 서냉 공정은 약 30분 이하, 또는 약 25분 이하, 또는 약 20분 이하, 또는 약 15분 이하, 또는 약 10분 이하의 시간 동안 수행될 수 있다. 서냉은 공정 챔버(101)의 공정 챔버 히터(155)의 온도 제어에 의해 수행될 수 있다.After the step (S510) of flowing out the strengthening solution (SS), or at the same time as the step of flowing out, the slow cooling of the glass (G) may be performed (S610). In the step (S610) of slowly cooling the glass, the slow cooling temperature, that is, the final cooling temperature may be about 50° C. or less, or about 100° C. or less, or about 150° C. or less. Although the present invention is not limited thereto, the temperature decrease of the heat treatment chamber may be performed continuously, or may be performed discontinuously while repeating the constant temperature and temperature decrease. In addition, the execution time of the slow cooling step may be shorter than the execution time of the preheating step. For example, the slow cooling process may be performed for a time of about 30 minutes or less, or about 25 minutes or less, or about 20 minutes or less, or about 15 minutes or less, or about 10 minutes or less. The slow cooling may be performed by controlling the temperature of the process chamber heater 155 of the process chamber 101 .

한편, 강화 용액 챔버(201) 내부에 수용된 강화 용액(SS)은 제2 기포 발생부(243)에서 발생하는 기포에 의해 지속적으로 혼합 내지는 교반이 수행되고, 강화 용액 챔버 히터(255)에 의해 소정의 온도로 가열된 상태일 수 있다.On the other hand, the strengthening solution SS accommodated in the strengthening solution chamber 201 is continuously mixed or stirred by the bubbles generated in the second bubble generating unit 243 , and is predetermined by the strengthening solution chamber heater 255 . It may be in a state heated to a temperature of

몇몇 실시예에서, 강화 용액 챔버(201)의 이온 센서(295)가 강화 용액 챔버(201) 내 강화 용액(SS)의 이온 농도를 센싱하는 단계를 더 포함할 수 있다. 전술한 바와 같이 이온 농도의 센싱은 이온 센서(295)에 의해 수행될 수 있다. 이온 센서(295)는 강화 용액(SS) 중의 나트륨 이온 및/또는 칼륨 이온의 농도를 센싱할 수 있다. In some embodiments, the step of sensing the ion concentration of the enrichment solution SS in the enrichment solution chamber 201 by the ion sensor 295 of the enrichment solution chamber 201 may further include. As described above, the sensing of the ion concentration may be performed by the ion sensor 295 . The ion sensor 295 may sense a concentration of sodium ions and/or potassium ions in the fortification solution SS.

예를 들어, 칼륨 이온의 농도가 기준 농도 보다 낮은 경우, 리필 탱크(270)에 수용된 칼륨 이온 함유 화합물이 강화 용액(SS)에 투입되어 강화 용액(SS) 중의 칼륨 이온 농도를 증가시킬 수 있다. For example, when the concentration of potassium ions is lower than the reference concentration, the potassium ion-containing compound contained in the refill tank 270 may be added to the fortification solution SS to increase the potassium ion concentration in the fortification solution SS.

다른 예를 들어, 나트륨 이온의 농도가 기준 농도 보다 높은 경우, 리필 탱크(270)에 수용된 나트륨 이온과 반응하여 석출물을 생성하는 물질이 강화 용액(SS)에 투입되어 강화 용액(SS) 중의 나트륨 이온 농도를 감소시킬 수 있다.For another example, when the concentration of sodium ions is higher than the reference concentration, a material that reacts with sodium ions accommodated in the refill tank 270 to generate precipitates is added to the fortification solution SS and sodium ions in the fortification solution SS concentration can be reduced.

상기 강화 용액(SS) 중의 이온 농도를 센싱하고, 리필 탱크(270)를 이용하여 이온 농도를 보정하는 단계는, 글라스(G)의 서냉 단계 보다 먼저 시작되거나, 또는 서냉 단계와 적어도 부분적으로 동시에 수행되거나, 또는 서냉 이후에 수행되거나, 또는 글라스(G)가 공정 챔버(101)에서 인출된 이후에 수행될 수도 있다.The step of sensing the ion concentration in the strengthening solution SS and correcting the ion concentration using the refill tank 270 starts before the slow cooling step of the glass G, or is performed at least partially simultaneously with the slow cooling step. Or, it may be performed after slow cooling, or after the glass G is withdrawn from the process chamber 101 .

도 9는 공정 챔버(101)에서 글라스(G)를 인출하는 단계(S710)를 나타낸 도면이다. 도 9를 더 참조하면, 공정 챔버(101)의 공정 챔버 도어(130)를 중력 방향으로 상승시켜 챔버 본체(120)의 내부 공간을 개방하고, 글라스(G)가 실장된 카세트(800)를 거치부로부터 인출한다. 상기 인출은 로봇 아암 등의 로딩/언로딩 유닛(미도시)을 이용할 수 있다. 본 단계(S710)에서, 공정 챔버(101)의 챔버 본체(120) 내부에는 강화 용액이 충진되지 않고 비어있는 상태일 수 있다.9 is a view showing the step (S710) of taking out the glass (G) from the process chamber (101). Referring further to FIG. 9 , the process chamber door 130 of the process chamber 101 is raised in the gravity direction to open the inner space of the chamber body 120 , and the cassette 800 on which the glass G is mounted is mounted. withdraw from wealth The withdrawal may use a loading/unloading unit (not shown) such as a robot arm. In this step S710 , the enhancement solution may not be filled in the chamber body 120 of the process chamber 101 and may be in an empty state.

한편, 강화 용액 챔버(201) 내부에 수용된 강화 용액(SS)은 제2 기포 발생부(243)에서 발생하는 기포에 의해 지속적으로 혼합 내지는 교반이 수행되고, 강화 용액 챔버 히터(255)에 의해 소정의 온도로 가열된 상태일 수 있다.On the other hand, the strengthening solution SS accommodated in the strengthening solution chamber 201 is continuously mixed or stirred by the bubbles generated in the second bubble generating unit 243 , and is predetermined by the strengthening solution chamber heater 255 . It may be in a state heated to a temperature of

몇몇 실시예에서, 공정 챔버(101)의 세척부(140)는 공정 챔버(101)의 챔버 본체(120)의 내측벽을 세척할 수 있다. 세척부(140)는 액체 또는 불활성 가스나 공기 등의 기체를 분사할 수 있다. 세척부(140)가 분사하는 액체 또는 기체는 챔버 본체(120)의 내측벽에 잔존하는 강화 용액을 세척할 수 있다. 도면으로 표현된 것과 달리, 세척부(140)에 의한 공정 챔버(101)의 세척은 공정 챔버(101)가 개방되기 전, 예컨대 공정 챔버(101)로부터 강화 용액(SS)이 유출되고, 공정 챔버(101)가 개방되기 전에 수행되거나, 적어도 글라스(G)의 인입 전 또는 글라스(G)의 예열 전에 시작될 수도 있다. 또한, 세척부(140)는 소정 간격으로 이격되거나 분사 방향이 서로 상이한 복수의 노즐 등으로 구현되어 챔버 본체(120)의 내측벽을 세척할 수 있다.In some embodiments, the cleaning unit 140 of the process chamber 101 may clean the inner wall of the chamber body 120 of the process chamber 101 . The cleaning unit 140 may spray a liquid, an inert gas, or a gas such as air. The liquid or gas sprayed by the cleaning unit 140 may wash the strengthening solution remaining on the inner wall of the chamber body 120 . Unlike the drawings, in the cleaning of the process chamber 101 by the cleaning unit 140 , before the process chamber 101 is opened, for example, the strengthening solution SS is discharged from the process chamber 101 , and the process chamber 101 is cleaned. It may be performed before 101 is opened, or at least before the introduction of the glass G or before the preheating of the glass G may be started. In addition, the cleaning unit 140 may be implemented as a plurality of nozzles spaced apart from each other at predetermined intervals or having different spraying directions to clean the inner wall of the chamber body 120 .

도면으로 표현하지 않았으나, 인출된 강화 후 글라스(G)는 세정 챔버(400)로 이송되어 세정이 수행될 수 있다(S810). 즉, 글라스(G) 표면에 잔존하는 강화 용액 등을 세정하기 위한 공정이 수행될 수 있다.Although not shown in the drawings, the glass G may be transferred to the cleaning chamber 400 after being strengthened to perform cleaning ( S810 ). That is, a process for cleaning the reinforcing solution and the like remaining on the surface of the glass G may be performed.

전술한 글라스의 인입 단계(S110), 예열 단계(S210), 강화 단계(S410), 서냉 단계(S610) 및 인출 단계(S710)는 하나의 공정 단위를 구성하며, 상기 공정 단위가 하나의 글라스 화학 강화 설비(1) 내에서 반복될 수 있다. 즉, 강화된 글라스를 인출하는 단계(S710) 후에, 이어서 새로운 강화 전 글라스가 인입될 수 있다.The above-described drawing step (S110), preheating step (S210), strengthening step (S410), slow cooling step (S610) and withdrawing step (S710) of the glass constitute one process unit, and the process unit is one glass chemical. It can be repeated in the strengthening installation 1 . That is, after the step of withdrawing the strengthened glass (S710), a new pre-strengthened glass may then be introduced.

전술한 바와 같이 본 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(1)를 이용한 글라스 화학 강화 방법은 공정 챔버(101)에 글라스를 인입한 후, 글라스(G)의 이동 없이 화학 강화 및 서냉까지 일체로 수행할 수 있다. 즉, 글라스(G)의 강화 공정 중에 글라스(G)의 외부 노출 및 로딩과 언로딩을 최소화할 수 있다.As described above, in the glass chemical strengthening method using the glass chemical strengthening facility 1 according to this embodiment, after the glass is introduced into the process chamber 101, chemical strengthening and slow cooling are performed integrally without moving the glass (G). can do. That is, it is possible to minimize the external exposure and loading and unloading of the glass (G) during the strengthening process of the glass (G).

이하, 본 발명의 다른 실시예들에 대하여 설명한다. 다만 전술한 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비 및 이를 이용한 글라스의 화학 강화 방법과 동일하거나 극히 유사한 구성에 대한 설명은 생략하며, 이는 첨부된 도면으로부터 본 기술분야에 속하는 통상의 기술자에게 쉽게 이해될 수 있을 것이다.Hereinafter, other embodiments of the present invention will be described. However, the description of the same or extremely similar configuration to the chemical strengthening facility for glass and the chemical strengthening method of glass using the same according to the above embodiment will be omitted, which can be easily understood by those skilled in the art from the accompanying drawings. There will be.

도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 설비를 나타낸 모식도이다.10 is a schematic view showing a chemical strengthening facility for glass according to another embodiment of the present invention.

도 10을 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(1')의 공정 챔버(101')에는 복수의 카세트(800)들이 인입되는 점이 도 1 등의 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(1)와 상이한 점이다.Referring to FIG. 10, the point at which a plurality of cassettes 800 are introduced into the process chamber 101' of the glass chemical strengthening facility 1' according to the present embodiment is the glass chemical strengthening facility according to the embodiment of FIG. It is different from 1).

이 경우 복수의 카세트(800)들은 서로 수평 방향으로 이격 배치될 수 있다. 앞서 설명한 바와 같이 강화 용액(SS)이 공정 챔버(101') 내로 유입되거나, 공정 챔버(101')로부터 유출되는 경우에 강화 용액(SS)의 수면 레벨은 중력 방향으로 서서히 이동할 수 있다. 가급적 강화 용액(SS)의 유입과 유출을 빠른 속도로 수행하는 것이 바람직할 수 있으나, 이와 같은 경우에도 카세트(800)들에 실장된 글라스(G)들 간에 중력 방향으로의 레벨 차이가 발생하지 않는 것이 글라스의 강화 균일도 측면에서 바람직할 수 있다.In this case, the plurality of cassettes 800 may be spaced apart from each other in a horizontal direction. As described above, when the fortification solution SS flows into or out of the process chamber 101 ′, the water level of the fortification solution SS may gradually move in the direction of gravity. It may be desirable to perform the inflow and outflow of the strengthening solution (SS) at a high speed as much as possible, but even in this case, a level difference in the direction of gravity between the glasses (G) mounted on the cassettes 800 does not occur. This may be preferable in view of the uniformity of strengthening of the glass.

그 외 구성요소에 대한 설명은 생략하였으며, 첨부된 도면 및 전술한 실시예의 설명으로부터 이해될 수 있을 것이다.Descriptions of other components have been omitted, and it may be understood from the accompanying drawings and the description of the foregoing embodiments.

도 11은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 설비를 나타낸 모식도이다.11 is a schematic diagram showing a chemical strengthening facility for glass according to another embodiment of the present invention.

도 11을 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(2)의 공정 챔버(102)는 거치부(도 2의 150)를 불포함하는 점이 도 1 등의 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(1)와 상이한 점이다.Referring to FIG. 11 , the process chamber 102 of the glass chemical strengthening facility 2 according to the present embodiment does not include the mounting part ( 150 in FIG. 2 ), the glass chemical strengthening facility according to the embodiment of FIG. 1 and the like ( It is different from 1).

본 실시예에서, 글라스(G)가 실장된 카세트(800)는 지그(J)에 거치되고, 지그(J)가 공정 챔버 도어(130) 하부로부터 돌출된 고리 등의 거치부에 고정될 수 있다. 지그(J)는 평면 시점에서 대략 원형, 또는 삼각형, 사각형, 오각형, 육각형 또는 팔각형 등의 다각형 형상일 수 있다. 지그(J)의 하부는 개구된 형상일 수 있다. 지그(J)의 측면에는 카세트(800)를 거치 내지는 걸 수 있는 홀이 형성된 상태일 수 있다. 지그(J)는 공정 챔버 도어(130)의 상승 및 하강에 따라 함께 상승 및 하강될 수 있다.In this embodiment, the cassette 800 on which the glass G is mounted is mounted on the jig J, and the jig J may be fixed to a mounting portion such as a ring protruding from the lower portion of the process chamber door 130 . . The jig J may have a substantially circular shape or a polygonal shape such as a triangle, a quadrangle, a pentagon, a hexagon, or an octagon in a plan view. The lower portion of the jig J may have an open shape. The side of the jig (J) may be in a state in which a hole through which the cassette 800 can be mounted or hung is formed. The jig J may be raised and lowered together according to the raising and lowering of the process chamber door 130 .

그 외 구성요소에 대한 설명은 생략하였으며, 첨부된 도면 및 전술한 실시예의 설명으로부터 이해될 수 있을 것이다.Descriptions of other components have been omitted, and it may be understood from the accompanying drawings and the description of the foregoing embodiments.

도 12는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 설비를 나타낸 모식도이다.12 is a schematic diagram showing a chemical strengthening facility for glass according to another embodiment of the present invention.

도 12를 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(3)의 공정 챔버(103)는 카세트 거치부(137)가 챔버 본체(120)에 고정된 것이 아니라 공정 챔버 도어(130)에 고정된 점이 도 1 등의 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(1)와 상이한 점이다.Referring to FIG. 12 , in the process chamber 103 of the glass chemical strengthening facility 3 according to the present embodiment, the cassette holder 137 is fixed to the process chamber door 130 rather than to the chamber body 120 . The point made is different from the chemical glass strengthening facility 1 according to the embodiment of FIG. 1 and the like.

카세트 거치부(137)는 공정 챔버 도어(130)의 하면으로부터 돌출될 수 있다. 카세트 거치부(137)는 서브 도어(135)와 고정되거나, 또는 고정되지 않을 수 있다. 예를 들어, 카세트 거치부(137)는 공정 챔버 도어(130)의 하면 및/또는 서브 도어(135)의 하면과의 이격 거리가 조절될 수 있다. 이를 위해 카세트 거치부(137)는 중력 방향으로 이동 가능하게 구성될 수 있다. 예를 들어, 글라스(G)가 실장된 카세트(800)를 공정 챔버(103)에 인입하는 경우에는 카세트 거치부(137)가 상승하여 인입을 용이하게 할 수 있다. 반면, 글라스(G)가 실장된 카세트(800)가 공정 챔버(103)에 인입된 후에는 카세트 거치부(137)가 하강하여 챔버 본체(120)의 바닥부에 인접하게 위치할 수 있다.The cassette holder 137 may protrude from the lower surface of the process chamber door 130 . The cassette holder 137 may or may not be fixed to the sub door 135 . For example, the separation distance of the cassette holder 137 from the lower surface of the process chamber door 130 and/or the lower surface of the sub door 135 may be adjusted. To this end, the cassette holder 137 may be configured to be movable in the direction of gravity. For example, when the cassette 800 on which the glass G is mounted is introduced into the process chamber 103 , the cassette holder 137 rises to facilitate the insertion. On the other hand, after the cassette 800 on which the glass G is mounted is introduced into the process chamber 103 , the cassette holder 137 may descend and be positioned adjacent to the bottom of the chamber body 120 .

그 외 구성요소에 대한 설명은 생략하였으며, 첨부된 도면 및 전술한 실시예의 설명으로부터 이해될 수 있을 것이다.Descriptions of other components have been omitted, and it may be understood from the accompanying drawings and the description of the foregoing embodiments.

도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 설비를 나타낸 모식도이다.13 is a schematic diagram showing a chemical strengthening facility for glass according to another embodiment of the present invention.

도 13을 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(4)의 공정 챔버(104)는 제1 공정 챔버 유체구(181), 제2 공정 챔버 유체구(182) 및 제3 공정 챔버 유체구(183)를 포함하여 복수의 공정 챔버 유체구들을 포함하는 점이 도 1 등의 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(1)와 상이한 점이다.Referring to FIG. 13 , the process chamber 104 of the glass chemical strengthening facility 4 according to the present embodiment includes a first process chamber fluid port 181 , a second process chamber fluid port 182 , and a third process chamber fluid port. It is different from the glass chemical strengthening facility 1 according to the embodiment of FIG. 1 in that it includes a plurality of process chamber fluid spheres including the sphere 183 .

제1 공정 챔버 유체구(181)는 챔버 본체(120)의 바닥부에 배치될 수 있다. 또, 제2 공정 챔버 유체구(182)는 챔버 본체(120)의 측벽에 배치되고, 제3 공정 챔버 유체구(183)는 챔버 본체(120)의 측벽 하부에 배치될 수 있다. 제2 공정 챔버 유체구(182)는 제3 공정 챔버 유체구(183) 보다 상측에 위치할 수 있다. 복수의 공정 챔버 유체구들은 서로 중력 방향으로 중첩 배치되거나, 또는 평면 시점에서 측벽을 따라 배치되어 수평 방향으로 중첩 배치될 수 있다.The first process chamber fluid port 181 may be disposed at the bottom of the chamber body 120 . In addition, the second process chamber fluid port 182 may be disposed on the sidewall of the chamber body 120 , and the third process chamber fluid port 183 may be disposed below the sidewall of the chamber body 120 . The second process chamber fluid port 182 may be located above the third process chamber fluid port 183 . The plurality of process chamber fluid spheres may be disposed to overlap each other in the direction of gravity, or may be disposed along the sidewall in a plan view and disposed to overlap in the horizontal direction.

제1 공정 챔버 유체구(181) 내지 제3 공정 챔버 유체구(183)는 하나의 유로 유닛(310, 330)과 유체적으로 연결될 수 있다. 즉, 제1 공정 챔버 유체구(181) 내지 제3 공정 챔버 유체구(183)는 펌프(310)와 밸브(330)를 서로 공유하고, 어느 강화 용액 챔버 유체구(280)와 유체적으로 연결될 수 있다. 이에 따라 제1 공정 챔버 유체구(181) 내지 제3 공정 챔버 유체구(183)에서 동시에 강화 용액(SS)이 유입되거나 유출될 수 있다.The first process chamber fluid port 181 to the third process chamber fluid port 183 may be fluidly connected to one flow path unit 310 and 330 . That is, the first process chamber fluid port 181 to the third process chamber fluid port 183 share the pump 310 and the valve 330 with each other, and are fluidly connected to any of the enhancement solution chamber fluid ports 280 . can Accordingly, the strengthening solution SS may be simultaneously introduced or discharged from the first process chamber fluid port 181 to the third process chamber fluid port 183 .

상술한 공정 챔버(104)와 같이, 강화 용액 챔버(201)에서도 강화 용액 챔버 유채구(280)를 복수개를 포함할 수도 있으며, 공정 챔버(104)의 복수의 공정 챔버 유채구들과 일 대 일(1:1), 일 대 다(1:n), 다 대 일(n:1) 대응될 수도 있다.Like the above-described process chamber 104 , the enhancement solution chamber 201 may include a plurality of enhancement solution chamber oilseed spheres 280 , and may be one-to-one ( 1:1), one-to-many (1:n), and many-to-one (n:1) correspondence.

도면으로 도시된 것과 달리, 강화 용액 챔버 유체구(280) 또한 복수개 구비될 수 있다. 이 경우 복수의 공정 챔버 유체구들과 복수의 강화 용액 챔버 유체구들은 유로 유닛(310, 330)을 공유할 수 있다.Contrary to that shown in the drawings, a plurality of enhancement solution chamber fluid ports 280 may also be provided. In this case, the plurality of process chamber fluid spheres and the plurality of enhancement solution chamber fluid spheres may share the flow path units 310 and 330 .

전술한 바와 같이 글라스(G)의 화학 강화 공정에 있어서, 특히 초박형 글라스의 경우 강화 균일도가 매우 중요한 요소이다. 본 실시예에 따라 강화 용액(SS)이 공정 챔버(104) 내부로 유입되거나, 공정 챔버(104)로부터 유출되는 경우 강화 용액(SS)이 가급적 빠르게 공정 챔버(104)를 충진하는 것이 바람직할 수 있다. 즉, 공정 챔버(104)의 챔버 본체(120) 내부에서 강화 용액(SS)의 수위가 상승하거나, 하강하는 속도가 지나치게 느릴 경우, 글라스(G)의 상부와 하부가 각각 강화 용액(SS)에 침지되는 시간의 차이가 발생하고 이로 인해 글라스(G)의 상부와 하부에서의 화학 강화 정도가 상이해질 수 있다.As described above, in the chemical strengthening process of the glass (G), in particular, in the case of ultra-thin glass, the uniformity of reinforcement is a very important factor. According to the present embodiment, when the fortification solution SS flows into or out of the process chamber 104, it may be desirable to fill the process chamber 104 with the fortification solution SS as quickly as possible. have. That is, when the level of the strengthening solution SS in the chamber body 120 of the process chamber 104 rises or the rate of falling is too slow, the upper and lower portions of the glass G are in the strengthening solution SS, respectively. A difference in the immersion time occurs, and thus the degree of chemical strengthening in the upper and lower portions of the glass G may be different.

따라서 본 실시예와 같이 제1 공정 챔버 유체구(181), 제2 공정 챔버 유체구(182) 및 제3 공정 챔버 유체구(183)를 포함하는 복수의 공정 챔버 유체구를 구비하여 강화 용액(SS)의 유입 및/또는 유출 속도를 증가시킬 수 있다.Therefore, as in the present embodiment, the enhancement solution ( SS) can increase the inflow and/or outflow rate.

도면으로 표현된 것과 달리 다른 실시예에서, 본 실시예 및 전술하거나 후술할 실시예들에서, 글라스(G)는 수평 방향으로 길게 실장될 수 있다. 예를 들어, 공정 챔버(104)에 인입된 글라스(G)는 수평 방향으로 긴 길이를 가지고(즉, 글라스의 길이 방향이 수평 방향을 향하고), 중력 방향으로 작은 길이를 갖도록(즉, 글라스의 폭 방향 또는 두께 방향이 중력 방향을 향하도록) 배치될 수 있다. 이 경우 글라스(G)의 상부와 하부, 즉 폭 방향 또는 두께 방향의 일단과 타단 간의 글라스 강화 품질을 보다 균일하게 할 수 있다.In other embodiments, unlike those shown in the drawings, in this embodiment and the above or later embodiments, the glass (G) may be mounted long in the horizontal direction. For example, the glass G introduced into the process chamber 104 has a long length in the horizontal direction (that is, the longitudinal direction of the glass is in the horizontal direction), and has a small length in the gravity direction (ie, the length of the glass) It may be arranged such that the width direction or the thickness direction faces the direction of gravity). In this case, the glass reinforcement quality between the upper and lower portions of the glass G, that is, one end and the other end in the width direction or thickness direction, may be made more uniform.

도 13은 3개의 공정 챔버 유체구만을 도시하였으나, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니며, 공정 챔버(104)는 2개의 공정 챔버 유체구를 포함하거나, 4개 이상의 공정 챔버 유체구를 포함할 수도 있음은 물론이다. 또한, 강화 용액 챔버(201) 또한 공정 챔버(104)와 같이 강화 용액 챔버 유채구(280)를 적어도 두 개 이상을 포함할 수 있다.Although FIG. 13 shows only three process chamber fluid ports, the present invention is not limited thereto, and the process chamber 104 may include two process chamber fluid ports, or may include four or more process chamber fluid ports. is of course In addition, the enhancement solution chamber 201 may also include at least two or more enhancement solution chamber oil holes 280 like the process chamber 104 .

그 외 구성요소에 대한 설명은 생략하였으며, 첨부된 도면 및 전술한 실시예의 설명으로부터 이해될 수 있을 것이다.Descriptions of other components have been omitted, and it may be understood from the accompanying drawings and the description of the foregoing embodiments.

도 14는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 설비를 나타낸 모식도이다.14 is a schematic diagram showing a chemical strengthening facility for glass according to another embodiment of the present invention.

도 14를 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(5)는 공정 챔버(101), 강화 용액 챔버(201) 및 세정 챔버(400)를 포함하되, 공정 챔버(101)와 세정 챔버(400)가 중력 방향, 즉 수직 방향으로 중첩하여 배치되는 점이 도 1 등의 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(1)와 상이한 점이다. 세정 챔버(400)는 강화 용액 챔버(201)와 수평 방향으로 중첩할 수 있다.Referring to FIG. 14 , the glass chemical strengthening facility 5 according to this embodiment includes a process chamber 101 , a strengthening solution chamber 201 , and a cleaning chamber 400 , but the process chamber 101 and the cleaning chamber ( 400) is different from the glass chemical strengthening facility 1 according to the embodiment of FIG. The cleaning chamber 400 may horizontally overlap the enhancement solution chamber 201 .

세정 챔버(400)는 지면 상에 배치될 수 있다. 세정 챔버(400) 내에는 세정액(W)이 수용된 상태일 수 있다. 세정액(W)은 물 내지는 증류수 등의 액체일 수 있으나, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다. 세정 챔버(400)는 수용된 세정액(W)을 미리 설정된 온도, 예를 들어, 50도, 60도, 70도 등으로 가열하거나, 미리 설정된 온도로 가열된 세정액을 수용할 수 있다.The cleaning chamber 400 may be disposed on the ground. The cleaning liquid W may be accommodated in the cleaning chamber 400 . The washing liquid W may be a liquid such as water or distilled water, but the present invention is not limited thereto. The cleaning chamber 400 may heat the received cleaning liquid W to a preset temperature, for example, 50 degrees, 60 degrees, 70 degrees, or the like, or accommodate the cleaning liquid heated to a preset temperature.

공정 챔버(101)는 프레임(900) 상에 놓이고, 지면으로부터 소정 거리 이격되어 배치될 수 있다. 또, 공정 챔버(101)는 세정 챔버(400)와 중력 방향으로 중첩하되, 중력 방향으로 소정 거리 이격 배치될 수 있다.The process chamber 101 may be placed on the frame 900 and may be disposed to be spaced apart from the ground by a predetermined distance. In addition, the process chamber 101 overlaps the cleaning chamber 400 in the gravitational direction, but may be spaced apart from each other by a predetermined distance in the gravitational direction.

전술한 바와 같이 본 발명에 따른 글라스 화학 강화 방법은 공정 챔버(101) 내에서 글라스(G)를 열처리, 화학 강화 및 서냉하고, 서냉된 강화 후 글라스(G)를 공정 챔버(101)로부터 인출하여 세정 챔버(400)에 인입 및 세정할 수 있다. 이 경우 공정 챔버(101)로부터 세정 챔버(400)로 이동하는 글라스(G)의 이동 경로를 최소화하고, 설비가 차지하는 공간을 효율적으로 사용하기 위해 공정 챔버(101)와 세정 챔버(400)를 중첩 배치할 수 있다. 또, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니나, 로딩/언로딩 유닛(미도시)을 이용해 글라스(G)를 이송하는 경우, 글라스(G)가 실장된 카세트를 세정 챔버(400)에 인입하기 위해 세정 챔버(400)와 공정 챔버(101), 구체적으로 프레임(900)과 세정 챔버(400)는 서로 소정 거리 이격될 수 있다.As described above, in the glass chemical strengthening method according to the present invention, the glass (G) is subjected to heat treatment, chemical strengthening, and slow cooling in the process chamber 101, and the glass (G) is drawn out from the process chamber 101 after the annealed strengthening. It may be drawn into the cleaning chamber 400 and cleaned. In this case, the process chamber 101 and the cleaning chamber 400 overlap in order to minimize the movement path of the glass G moving from the process chamber 101 to the cleaning chamber 400 and efficiently use the space occupied by the equipment. can be placed In addition, although the present invention is not limited thereto, when the glass G is transferred using a loading/unloading unit (not shown), the cassette on which the glass G is mounted is cleaned to be introduced into the cleaning chamber 400 . The chamber 400 and the process chamber 101 , specifically, the frame 900 and the cleaning chamber 400 may be spaced apart from each other by a predetermined distance.

그 외 구성요소에 대한 설명은 생략하였으며, 첨부된 도면 및 전술한 실시예의 설명으로부터 이해될 수 있을 것이다.Descriptions of other components have been omitted, and it may be understood from the accompanying drawings and the description of the foregoing embodiments.

도 15는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 설비를 나타낸 모식도이다.15 is a schematic diagram showing a chemical strengthening facility for glass according to another embodiment of the present invention.

도 15를 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(6)는 하나의 강화 용액 챔버(206)와 유체적으로 연결된 복수의 공정 챔버, 예컨대 제1 공정 챔버(106a) 및 제2 공정 챔버(106b)를 포함하는 점이 도 1 등의 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(1)와 상이한 점이다. Referring to FIG. 15 , the glass chemical strengthening facility 6 according to the present embodiment has a plurality of process chambers fluidly connected to one strengthening solution chamber 206 , for example, a first process chamber 106a and a second process chamber. The point including 106b is different from the glass chemical strengthening facility 1 according to the embodiment of FIG. 1 and the like.

이를 위해 유로 유닛 또한 제1 유로 유닛(300a) 및 제2 유로 유닛(300b)을 포함할 수 있다. 제1 유로 유닛(300a)은 강화 용액 챔버(206)와 제1 공정 챔버(106a)를 유체적으로 연결하고, 제2 유로 유닛(300b)은 강화 용액 챔버(206)와 제2 공정 챔버(106b)를 유체적으로 연결할 수 있다. 제1 유로 유닛(300a) 및 제2 유로 유닛(300b)은 각각 펌프(310a, 310b) 및 밸브(330a, 330b)를 포함하고 유량 센서(미도시)를 더 포함할 수 있다. 제1 유로 유닛(300a)과 제2 유로 유닛(300b)은 서로 간에 독립적 또는 선택적으로 작동하고, 서로 간의 유체 흐름에 아무런 영향을 주지 않을 수 있다.To this end, the flow path unit may also include a first flow path unit 300a and a second flow path unit 300b. The first flow passage unit 300a fluidly connects the enhancement solution chamber 206 and the first process chamber 106a, and the second flow passage unit 300b includes the enhancement solution chamber 206 and the second process chamber 106b. ) can be fluidly connected. The first flow path unit 300a and the second flow path unit 300b may include pumps 310a and 310b and valves 330a and 330b, respectively, and may further include a flow rate sensor (not shown). The first flow path unit 300a and the second flow path unit 300b may operate independently or selectively with each other, and may not affect the fluid flow between them.

또, 강화 용액 챔버(206)는 제1 강화 용액 챔버 유체구(280a) 및 제2 강화 용액 챔버 유체구(280b)를 포함할 수 있다. 제1 강화 용액 챔버 유체구(280a)는 제1 유로 유닛(300a)과 유체적으로 연결되고, 제2 강화 용액 챔버 유체구(280b)는 제2 유로 유닛(300b)과 유체적으로 연결될 수 있다.Also, the enhancement solution chamber 206 may include a first enhancement solution chamber fluid port 280a and a second enhancement solution chamber fluid port 280b. The first enrichment solution chamber fluid port 280a may be fluidly connected to the first flow path unit 300a , and the second enrichment solution chamber fluid port 280b may be fluidly connected to the second flow path unit 300b . .

제1 공정 챔버(106a)와 제2 공정 챔버(106b)는 실질적으로 동일한 구성을 포함할 수 있다. 제1 공정 챔버(106a)와 제2 공정 챔버(106b)는 모두 지면 상에 놓이고, 서로 수평 방향으로 중첩 배치될 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니며, 도 14의 실시예와 같이 제1 공정 챔버(106a)는 세정 챔버(미도시)와 중력 방향으로 중첩하고, 제1 공정 챔버(106a)와 제2 공정 챔버(106b)는 수평 방향으로 비중첩할 수도 있다.The first process chamber 106a and the second process chamber 106b may have substantially the same configuration. Both the first process chamber 106a and the second process chamber 106b may be placed on the ground and may be horizontally overlapped with each other. However, the present invention is not limited thereto, and as in the embodiment of FIG. 14 , the first process chamber 106a overlaps the cleaning chamber (not shown) in the gravitational direction, and the first process chamber 106a and the second process chamber 106a Chambers 106b may be non-overlapping in the horizontal direction.

예시적인 실시예에서, 어느 공정 챔버, 예컨대 제1 공정 챔버(106a)의 내부 공간은 강화 용액 챔버(206)의 내부 공간 보다 작을 수 있다. 또, 제1 공정 챔버(106a)와 제2 공정 챔버(106b)가 하나의 강화 용액 챔버(206)를 공유함으로써, 강화 용액 챔버(206) 내부의 강화 용액(SS)을 서로 공유할 수 있다. 즉, 강화 용액(SS)의 온도, 이온 농도나 잔량 등의 용이한 관리를 위해 강화 용액 챔버(206)는 하나만 구비하되, 하나의 강화 용액 챔버(206)를 복수의 공정 챔버와 유체적으로 연결하여 공정 편의를 향상시킬 수 있다.In an exemplary embodiment, an internal space of any process chamber, for example, the first process chamber 106a may be smaller than an internal space of the fortification solution chamber 206 . Also, since the first process chamber 106a and the second process chamber 106b share one enhancement solution chamber 206 , the enhancement solution SS inside the enhancement solution chamber 206 may be shared with each other. That is, only one enhancement solution chamber 206 is provided for easy management of the temperature, ion concentration, residual amount, etc. of the enhancement solution SS, but one enhancement solution chamber 206 is fluidly connected to a plurality of process chambers Thus, process convenience can be improved.

특히 초박형 글라스의 강화 공정에 있어서, 예열 공정이 강화 공정 및/또는 서냉 공정에 비해 현저하게 많은 시간이 소요되는 경우, 예를 들어 예열 공정에 소요되는 시간이 강화 공정에 소요되는 시간의 약 7배 이상, 또는 약 8배 이상, 또는 약 9배 이상, 또는 약 10배 이상, 또는 약 11배 이상, 또는 약 12배 이상인 경우, 본 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(6)는 큰 유용성을 제공할 수 있다. 이에 대해서는 도 24 등과 함께 상세하게 후술한다.In particular, in the strengthening process of ultra-thin glass, when the preheating process takes significantly more time than the strengthening process and/or the slow cooling process, for example, the time required for the preheating process is about 7 times that of the strengthening process or more, or about 8 times or more, or about 9 times or more, or about 10 times or more, or about 11 times or more, or about 12 times or more, the glass chemical strengthening facility 6 according to this embodiment provides great utility can do. This will be described later in detail together with FIG. 24 and the like.

그 외 구성요소에 대한 설명은 생략하였으며, 첨부된 도면 및 전술한 실시예의 설명으로부터 이해될 수 있을 것이다.Descriptions of other components have been omitted, and it may be understood from the accompanying drawings and the description of the foregoing embodiments.

도 16은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 설비를 나타낸 모식도이다.16 is a schematic view showing a chemical strengthening facility for glass according to another embodiment of the present invention.

도 16을 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(7)는 어느 강화 용액 챔버(207)와 유체적으로 연결된 제1 공정 챔버(107a) 및 제2 공정 챔버(107b)를 포함하되, 제1 공정 챔버(107a)와 제2 공정 챔버(107b)가 중력 방향, 즉 수직 방향으로 중첩 배치된 점이 도 15의 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(6)와 상이한 점이다.Referring to FIG. 16 , the glass chemical strengthening facility 7 according to this embodiment includes a first process chamber 107a and a second process chamber 107b that are fluidly connected to a certain strengthening solution chamber 207, The first process chamber 107a and the second process chamber 107b are different from the glass chemical strengthening facility 6 according to the embodiment of FIG. 15 in that they are overlapped in the gravitational direction, that is, in the vertical direction.

제2 공정 챔버(107b)는 지면 상에 배치되고, 제1 공정 챔버(107a)는 제2 공정 챔버(107b)의 상부에 배치될 수 있다. 제1 공정 챔버(107a)는 프레임(900) 상에 놓이고, 지면으로부터 소정 거리 이격되어 배치될 수 있다. 제1 공정 챔버(107a)와 제2 공정 챔버(107b)는 실질적으로 동일한 구성요소를 포함할 수 있다.The second process chamber 107b may be disposed on the ground, and the first process chamber 107a may be disposed above the second process chamber 107b. The first process chamber 107a may be placed on the frame 900 and spaced apart from the ground by a predetermined distance. The first process chamber 107a and the second process chamber 107b may include substantially the same components.

또, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니나, 로딩/언로딩 유닛(미도시)을 이용해 글라스(G)를 이송하는 경우, 글라스(G)가 실장된 카세트를 제2 공정 챔버(107b)에 인입하기 위해 제2 공정 챔버(107b)와 제1 공정 챔버(107a), 구체적으로 프레임(900)과 제2 공정 챔버(107b)는 서로 소정 거리 이격될 수 있다.In addition, although the present invention is not limited thereto, when the glass G is transferred using a loading/unloading unit (not shown), the cassette on which the glass G is mounted is introduced into the second process chamber 107b. To this end, the second process chamber 107b and the first process chamber 107a, specifically, the frame 900 and the second process chamber 107b may be spaced apart from each other by a predetermined distance.

본 실시예에서, 제1 공정 챔버(107a)는 제1 유로 유닛(300a)을 통해 제1 강화 용액 챔버 유체구(280a)와 연결되고, 제2 공정 챔버(107b)는 제2 유로 유닛(300b)을 통해 제2 강화 용액 챔버 유체구(280b)와 연결됨은 전술한 바와 같다.In the present embodiment, the first process chamber 107a is connected to the first enhancement solution chamber fluid port 280a through the first flow path unit 300a, and the second process chamber 107b is connected to the second flow path unit 300b. ) is connected to the second reinforcement solution chamber fluid port 280b through the same as described above.

그 외 구성요소에 대한 설명은 생략하였으며, 첨부된 도면 및 전술한 실시예의 설명으로부터 이해될 수 있을 것이다.Descriptions of other components have been omitted, and it may be understood from the accompanying drawings and the description of the foregoing embodiments.

도 17은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 설비를 나타낸 모식도이다.17 is a schematic diagram showing a chemical strengthening facility for glass according to another embodiment of the present invention.

도 17을 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(8)는 제1 공정 챔버(108a) 및 제2 공정 챔버(108b)를 포함하되, 제1 공정 챔버(108a)와 제2 공정 챔버(108b)가 각각 중력 방향으로 개폐되는 공정 챔버 도어가 아니라, 측면 도어(123)를 포함하는 점이 도 16의 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(7)와 상이한 점이다.Referring to FIG. 17 , the glass chemical strengthening facility 8 according to the present embodiment includes a first process chamber 108a and a second process chamber 108b, and includes a first process chamber 108a and a second process chamber. The point 108b is different from the glass chemical strengthening facility 7 according to the embodiment of FIG. 16 in that it includes a side door 123 rather than a process chamber door that is opened and closed in the direction of gravity, respectively.

비제한적인 예시에서, 제1 공정 챔버(108a)는 제2 공정 챔버(108b) 상에 직접 놓이거나, 또는 그 사이에 다른 구성요소를 개재하여 배치될 수 있다. 즉, 제1 공정 챔버(108a)의 하중은 제2 공정 챔버(108b)에 의해 지탱될 수 있다. 본 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(8)는 수직 방향으로의 설비 높이를 감소시킬 수 있고 공정 공간 효율화를 도모할 수 있다.In a non-limiting example, the first process chamber 108a may lie directly on the second process chamber 108b, or may be disposed with other components interposed therebetween. That is, the load of the first process chamber 108a may be supported by the second process chamber 108b. The glass chemical strengthening facility 8 according to this embodiment can reduce the facility height in the vertical direction and promote process space efficiency.

측면 도어(123)는 챔버 본체(120)와 액체의 강화 용액(SS)의 누수가 발생하지 않도록 씰링이 될 수 있다. 이를 위해, 측면 도어(123)는 밀폐를 위한 복수의 밀폐수단(오링 등)이 사용되거나, 밀폐력 향상을 위한 체결 구조(회전형 나사산 구조 등)를 가질 수 있다. 도 17은 측면 도어(123)가 제1 공정 챔버(108a) 또는 제2 공정 챔버(108b)의 측면 크기의 대부분을 차지하는 경우를 예시하고 있으나, 다른 실시예에서 측면 도어(123)는 제1 공정 챔버(108a)의 측면 중심선을 기준으로 측면 상단부에 가까이 배치 및 제2 공정 챔버(108b)의 측면 중심선을 기준으로 측면 상단부에 가까이 배치될 수 있다. 이 경우 강화 용액(SS)의 누수를 더욱 방지할 수 있다.The side door 123 may be sealed to prevent leakage of the chamber body 120 and the liquid strengthening solution SS. To this end, the side door 123 may use a plurality of sealing means (such as an O-ring) for sealing, or may have a fastening structure (rotational thread structure, etc.) for improving sealing force. 17 illustrates a case where the side door 123 occupies most of the side size of the first process chamber 108a or the second process chamber 108b, in another embodiment, the side door 123 is It may be disposed close to the upper side of the side with respect to the center line of the side of the chamber 108a and disposed close to the upper end of the side with respect to the center line of the side of the second process chamber 108b. In this case, it is possible to further prevent leakage of the strengthening solution SS.

또한, 측면 도어(123)는 적어도 일측면이 힌지 타입으로 구현되어 공정 챔버에 힌지를 기준으로 개폐될 수도 있다.In addition, at least one side of the side door 123 may be implemented as a hinge type, so that it may be opened and closed in the process chamber based on the hinge.

그 외 구성요소에 대한 설명은 생략하였으며, 첨부된 도면 및 전술한 실시예의 설명으로부터 이해될 수 있을 것이다.Descriptions of other components have been omitted, and it may be understood from the accompanying drawings and the description of the foregoing embodiments.

도 18은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 설비를 나타낸 모식도이다.18 is a schematic diagram showing a chemical strengthening facility for glass according to another embodiment of the present invention.

도 18을 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(9)는 제1 공정 챔버(109a) 및 제2 공정 챔버(109b)를 포함하되, 제1 공정 챔버(109a)와 제2 공정 챔버(109b)는 각각 하나의 강화 용액 챔버 유체구(280)와 유체적으로 연결되는 점이 도 17의 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(8)와 상이한 점이다. 즉, 강화 용액 챔버(209)는 하나의 유로 유닛을 통해 복수의 공정 챔버들과 유체적으로 연결될 수 있다.Referring to FIG. 18 , the glass chemical strengthening facility 9 according to the present embodiment includes a first process chamber 109a and a second process chamber 109b, and includes a first process chamber 109a and a second process chamber. Each of 109b is different from the glass chemical strengthening facility 8 according to the embodiment of FIG. 17 in that it is fluidly connected to one of the strengthening solution chamber fluid ports 280 . That is, the enhancement solution chamber 209 may be fluidly connected to the plurality of process chambers through one flow path unit.

유로 유닛은 하나 이상의 밸브(330) 및 하나 이상의 펌프(310, 311)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 유로 유닛은 밸브(330) 및 제1 펌프(311)와 제2 펌프(310)를 포함할 수 있다. 제1 펌프(311)는 제1 공정 챔버(109a)와 강화 용액 챔버(209)의 유체 경로 상에 위치할 수 있다. 또, 제2 펌프(310)는 제2 공정 챔버(109b)와 강화 용액 챔버(209)의 유체 경로 상에 위치할 수 있다. 반면, 제1 공정 챔버(109a)와 제2 공정 챔버(109b)는 하나의 밸브(330)를 공유할 수 있다.The flow path unit may include one or more valves 330 and one or more pumps 310 and 311 . For example, the flow path unit may include a valve 330 and a first pump 311 and a second pump 310 . The first pump 311 may be positioned on a fluid path between the first process chamber 109a and the enhancement solution chamber 209 . Also, the second pump 310 may be located on the fluid path of the second process chamber 109b and the enhancement solution chamber 209 . On the other hand, the first process chamber 109a and the second process chamber 109b may share one valve 330 .

그 외 구성요소에 대한 설명은 생략하였으며, 첨부된 도면 및 전술한 실시예의 설명으로부터 이해될 수 있을 것이다.Descriptions of other components have been omitted, and it may be understood from the accompanying drawings and the description of the foregoing embodiments.

도 19는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 설비를 나타낸 모식도이다.19 is a schematic diagram showing a chemical strengthening facility for glass according to another embodiment of the present invention.

도 19를 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(10)는 하나의 펌프(310)를 공유하는 점이 도 18의 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(9)와 상이한 점이다.Referring to FIG. 19 , the chemical glass strengthening facility 10 according to this embodiment is different from the glass chemical strengthening facility 9 according to the embodiment of FIG. 18 in that it shares one pump 310 .

강화 용액 챔버(209)는 하나의 유로 유닛을 통해 복수의 공정 챔버들과 유체적으로 연결될 수 있다. 유로 유닛은 하나 이상의 밸브(330, 331) 및 하나 이상의 펌프(310)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 유로 유닛은 펌프(310) 및 제1 밸브(331)와 제2 밸브(330)를 포함할 수 있다. 제1 밸브(331)는 제1 공정 챔버(110a)와 강화 용액 챔버(209)의 유체 경로 상에 위치할 수 있다. 또, 제2 밸브(330)는 제2 공정 챔버(110b)와 강화 용액 챔버(209)의 유체 경로 상에 위치할 수 있다. 반면, 제1 공정 챔버(110a)와 제2 공정 챔버(110b)는 하나의 펌프(310)를 공유할 수 있다.The enhancement solution chamber 209 may be fluidly connected to the plurality of process chambers through one flow path unit. The flow path unit may include one or more valves 330 , 331 and one or more pumps 310 . For example, the flow path unit may include a pump 310 and a first valve 331 and a second valve 330 . The first valve 331 may be positioned on a fluid path between the first process chamber 110a and the enhancement solution chamber 209 . Also, the second valve 330 may be positioned on the fluid path between the second process chamber 110b and the enhancement solution chamber 209 . On the other hand, the first process chamber 110a and the second process chamber 110b may share one pump 310 .

그 외 구성요소에 대한 설명은 생략하였으며, 첨부된 도면 및 전술한 실시예의 설명으로부터 이해될 수 있을 것이다.Descriptions of other components have been omitted, and it may be understood from the accompanying drawings and the description of the foregoing embodiments.

도 20은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 설비를 나타낸 모식도이다.20 is a schematic diagram showing a chemical strengthening facility for glass according to another embodiment of the present invention.

도 20을 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(11)는 공정 챔버(111) 및 강화 용액 챔버(211)를 포함하되, 공정 챔버(111)를 승강시키는 리프팅 유닛(910) 및 강화 용액 챔버(211)를 지면으로부터 소정 거리 이격시키는 프레임(920)을 더 포함하는 점이 도 1 등의 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(1)와 상이한 점이다.Referring to FIG. 20 , the glass chemical strengthening facility 11 according to the present embodiment includes a process chamber 111 and a strengthening solution chamber 211 , but a lifting unit 910 for elevating the process chamber 111 and reinforcement The point that the solution chamber 211 further includes a frame 920 spaced apart from the ground by a predetermined distance is different from the chemical glass strengthening facility 1 according to the embodiment of FIG. 1 .

공정 챔버(111)는 리프팅 유닛(910) 상에 놓일 수 있다. 리프팅 유닛(910)은 공정 챔버(111)를 중력 방향으로 승강시킬 수 있다. 반면 강화 용액 챔버(211)는 지면으로부터 소정 레벨만큼 이격된 상태를 유지할 수 있다. 즉, 프레임(920)은 강화 용액 챔버(211)의 지면으로부터의 높이를 고정할 수 있다.The process chamber 111 may rest on the lifting unit 910 . The lifting unit 910 may lift the process chamber 111 in a gravity direction. On the other hand, the enhancement solution chamber 211 may maintain a state spaced apart from the ground by a predetermined level. That is, the frame 920 may fix the height of the reinforcement solution chamber 211 from the ground.

공정 챔버(111)가 승강됨에 따라 공정 챔버(111)와 강화 용액 챔버(211) 간의 레벨(즉, 높낮이 레벨) 차이가 발생할 수 있다. 예를 들어, 리프팅 유닛(910)이 공정 챔버(111)를 소정 높이 이상으로 상승시킬 경우, 공정 챔버(111)의 레벨, 예컨대 공정 챔버(111)의 공정 챔버 유체구(180)의 레벨은 강화 용액 챔버(211)의 레벨, 예컨대 강화 용액 챔버 유체구(280)의 레벨 보다 높아질 수 있다. 다른 예를 들어, 리프팅 유닛(910)이 공정 챔버(111)를 소정 높이 이하로 하강시킬 경우, 공정 챔버(111)의 레벨, 예컨대 공정 챔버(111)의 공정 챔버 유체구(180)의 레벨은 강화 용액 챔버(211)의 레벨, 예컨대 강화 용액 챔버 유체구(280)의 레벨 보다 낮아질 수 있다. 비제한적인 실시예에서, 유로 유닛(300)은 펌프를 미포함할 수 있다.As the process chamber 111 is moved up and down, a level (ie, a height level) difference between the process chamber 111 and the enhancement solution chamber 211 may occur. For example, when the lifting unit 910 raises the process chamber 111 to a predetermined height or more, the level of the process chamber 111 , for example, the level of the process chamber fluid port 180 of the process chamber 111 is strengthened. The level of the solution chamber 211, for example, may be higher than the level of the enrichment solution chamber fluid port 280 . As another example, when the lifting unit 910 lowers the process chamber 111 to a predetermined height or less, the level of the process chamber 111 , for example, the level of the process chamber fluid port 180 of the process chamber 111 is The level of the enhancement solution chamber 211 may be lower than the level of the enhancement solution chamber fluid port 280 . In a non-limiting embodiment, the flow path unit 300 may not include a pump.

본 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(11)는 펌프 등의 유체 제어 수단 없이도 중력을 이용하여 공정 챔버(111)와 강화 용액 챔버(211) 간의 강화 용액(SS) 흐름을 제어할 수 있다. 다만 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니며, 리프팅 유닛(910)과 함께 펌프를 보조적으로 사용하거나, 또는 펌프를 통한 유체 제어와 함께 리프팅 유닛을 보조적으로 이용할 수 있음은 물론이다.The glass chemical strengthening facility 11 according to the present embodiment may control the flow of the strengthening solution (SS) between the process chamber 111 and the strengthening solution chamber 211 by using gravity without a fluid control means such as a pump. However, the present invention is not limited thereto, and it is of course that a pump may be used as an auxiliary with the lifting unit 910 , or a lifting unit may be auxiliaryly used with fluid control through the pump.

도면으로 도시된 것과 달리, 하나의 강화 용액 챔버(211)에는 복수의 공정 챔버들이 연결되고, 각각의 공정 챔버들을 개별적으로 승강시키는 리프팅 유닛이 구비될 수 있다. 이 경우, 전술한 바와 같이 강화 용액 챔버(211)는 상대적으로 큰 내부 공간을 가지고 다량의 강화 용액(SS)이 상시 수용되며, 공정 챔버(111)는 상대적으로 작은 내부 공간을 가지고 공정이 진행되는 중에만 강화 용액(SS)이 수용되어 상대적으로 무게가 가벼울 수 있다.Unlike the drawings, a plurality of process chambers are connected to one enhancement solution chamber 211 , and a lifting unit for individually raising and lowering each of the process chambers may be provided. In this case, as described above, the fortification solution chamber 211 has a relatively large internal space and a large amount of the fortification solution SS is always accommodated, and the process chamber 111 has a relatively small internal space and the process is performed. The reinforcing solution (SS) is accommodated only in the middle and may be relatively light in weight.

따라서 강화 용액 챔버(211)가 아니라 공정 챔버(111)들을 승강시켜 강화 용액(SS)의 흐름을 제어함으로써, 리프팅 유닛(910)의 구동에 필요한 동력을 감소시키고, 각 공정 챔버(111)의 강화 용액(SS)의 유입 및 유출을 서로 독립적으로 제어할 수 있다.Accordingly, by controlling the flow of the strengthening solution SS by elevating the process chambers 111 instead of the strengthening solution chamber 211 , the power required for driving the lifting unit 910 is reduced, and each process chamber 111 is strengthened. The inflow and outflow of the solution SS can be controlled independently of each other.

한편, 도면으로 도시된 것과 달리, 다른 실시예에서 공정 챔버(111)는 높이가 고정된 프레임 상에 놓이고, 강화 용액 챔버(211)가 리프팅 유닛에 의해 높이가 조절되거나, 또는 공정 챔버(111) 및 강화 용액 챔버(211) 모두 리프팅 유닛 상에 놓여 높이가 조절되도록 구성될 수 있다.Meanwhile, unlike shown in the drawings, in another embodiment, the process chamber 111 is placed on a frame having a fixed height, and the height of the strengthening solution chamber 211 is adjusted by a lifting unit, or the process chamber 111 ) and the strengthening solution chamber 211 may be configured to be placed on the lifting unit and adjusted in height.

그 외 구성요소에 대한 설명은 생략하였으며, 첨부된 도면 및 전술한 실시예의 설명으로부터 이해될 수 있을 것이다.Descriptions of other components have been omitted, and it may be understood from the accompanying drawings and the description of the foregoing embodiments.

이하, 본 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비(11)를 이용한 글라스의 화학 강화 방법에 대해 설명한다. 도 21은 본 발명의 다른 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 방법을 나타낸 순서도이다. 도 22 및 도 23은 도 20의 화학 강화 설비를 이용하여 글라스를 화학 강화하는 방법을 순서대로 나타낸 도면들이다.Hereinafter, a chemical strengthening method of glass using the chemical glass strengthening facility 11 according to the present embodiment will be described. 21 is a flowchart illustrating a method for chemically strengthening glass according to another embodiment of the present invention. 22 and 23 are views sequentially illustrating a method of chemically strengthening glass using the chemical strengthening facility of FIG. 20 .

도 21 내지 도 23을 더 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 방법은 공정 챔버에 글라스를 인입하는 단계(S110), 공정 챔버 내에서 글라스를 예열하는 단계(S210), 리프팅 유닛을 제어하여 공정 챔버에 강화 용액을 유입시키는 단계(S320) 및 공정 챔버 내에서 글라스를 강화 용액에 침지시키는 단계(S410)를 포함할 수 있다. 몇몇 실시예에서, 글라스의 화학 강화 방법은 리프팅 유닛을 제어하여 공정 챔버로부터 강화 용액을 유출시키는 단계(S520), 공정 챔버 내에서 글라스를 서냉하는 단계(S610), 공정 챔버에서 글라스를 인출하는 단계(S710) 및 세정 챔버에서 글라스를 세정하는 단계(S810)를 더 포함할 수 있다.21 to 23 , the chemical strengthening method of glass according to this embodiment includes the steps of introducing the glass into the process chamber (S110), preheating the glass in the process chamber (S210), and controlling the lifting unit to introduce the strengthening solution into the process chamber (S320) and immersing the glass in the strengthening solution in the process chamber (S410). In some embodiments, the chemical strengthening method of glass includes controlling the lifting unit to flow out the strengthening solution from the process chamber (S520), slowly cooling the glass in the process chamber (S610), and withdrawing the glass from the process chamber (S710) and cleaning the glass in the cleaning chamber (S810) may be further included.

상기 각 단계에 대해 전술한 바 있으므로, 중복되는 설명은 생략하며 강화 용액을 유입시키는 단계(S320) 및 유출시키는 단계(S520)에 대해 설명한다.Since each of the steps has been described above, the overlapping description will be omitted and the step of introducing the strengthening solution (S320) and the step of flowing out (S520) will be described.

우선 도 22를 더 참조하면, 리프팅 유닛(910)을 이용해 공정 챔버(111)를 하방으로 이동한다. 이 경우 공정 챔버(111)의 레벨이 강화 용액 챔버(211)의 레벨 보다 낮아지고, 구체적으로 공정 챔버 유체구(180) 또는 공정 챔버(111) 바닥부의 레벨이 강화 용액 챔버 유체구(280) 또는 강화 용액 챔버(211) 바닥부의 레벨 보다 낮아질 수 있다.First, further referring to FIG. 22 , the process chamber 111 is moved downward using the lifting unit 910 . In this case, the level of the process chamber 111 is lower than the level of the enhancement solution chamber 211 , and specifically, the level of the process chamber fluid port 180 or the bottom of the process chamber 111 is lowered than the level of the enhancement solution chamber fluid port 280 or the It may be lower than the level of the bottom portion of the strengthening solution chamber 211 .

이에 따라 강화 용액(SS)이 강화 용액 챔버(211)로부터 공정 챔버(111)로 유입될 수 있다. 몇몇 실시예에서, 밸브를 포함하는 유로 유닛(300)을 이용해 강화 용액(SS)의 흐르는 속도 및 양 등을 제어할 수 있다.Accordingly, the enhancement solution SS may be introduced into the process chamber 111 from the enhancement solution chamber 211 . In some embodiments, the flow rate and amount of the strengthening solution SS may be controlled using the flow path unit 300 including a valve.

그리고 글라스(G)가 강화 용액(SS)에 침지된 상태에서 화학 강화를 수행함은 전술한 바와 같다.And the chemical strengthening is performed in a state in which the glass (G) is immersed in the strengthening solution (SS) as described above.

이어서 도 23을 더 참조하면, 리프팅 유닛(910)을 이용해 공정 챔버(111)를 상방으로 이동한다. 이 경우 공정 챔버(111)의 레벨이 강화 용액 챔버(211)의 레벨 보다 높아지고, 구체적으로 공정 챔버 유체구(180) 또는 공정 챔버(111) 바닥부의 레벨이 강화 용액 챔버 유체구(280) 또는 강화 용액 챔버(211) 바닥부의 레벨 보다 높아질 수 있다.Then, further referring to FIG. 23 , the process chamber 111 is moved upwardly using the lifting unit 910 . In this case, the level of the process chamber 111 is higher than the level of the enhancement solution chamber 211 , and specifically, the level of the process chamber fluid port 180 or the bottom of the process chamber 111 is the enhancement solution chamber fluid port 280 or the strengthening solution chamber. It may be higher than the level of the bottom of the solution chamber 211 .

이에 따라 강화 용액(SS)이 공정 챔버(111)로부터 강화 용액 챔버(211)로 유출될 수 있다. 몇몇 실시예에서, 밸브를 포함하는 유로 유닛(300)을 이용해 강화 용액(SS)의 흐르는 속도 및 양 등을 제어할 수 있다.Accordingly, the enhancement solution SS may flow out from the process chamber 111 to the enhancement solution chamber 211 . In some embodiments, the flow rate and amount of the strengthening solution SS may be controlled using the flow path unit 300 including a valve.

그리고 공정 챔버(111) 내에 강화 용액(SS)이 실질적으로 존재하지 않은 상태에서 서냉을 수행함은 전술한 바와 같다.In addition, the slow cooling is performed in a state in which the strengthening solution SS is not substantially present in the process chamber 111 as described above.

도 24는 본 발명의 일 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 설비 시스템을 나타낸 모식도로서, 평면 시점에서 챔버들을 배열한 레이아웃을 나타낸 모식도이다.24 is a schematic diagram showing a chemical strengthening facility system for glass according to an embodiment of the present invention, and is a schematic diagram showing a layout in which chambers are arranged in a plan view.

도 24를 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스 강화 설비 시스템(12)은 적어도 하나의 강화 용액 챔버(201), 적어도 하나 이상의 공정 챔버(101a, 101b, 101c, 101d), 하나 이상의 로딩/언로딩 유닛(500a, 500b) 및 하나 이상의 세정 챔버(400a, 400b)를 포함할 수 있다. 본 명세서에서, 용어 '설비'와 '설비 시스템'은 혼용될 수 있다.Referring to FIG. 24 , the glass strengthening facility system 12 according to the present embodiment includes at least one strengthening solution chamber 201 , at least one process chamber 101a , 101b , 101c , 101d , and one or more loading/unloading It may include a unit 500a, 500b and one or more cleaning chambers 400a, 400b. In this specification, the terms 'equipment' and 'facility system' may be used interchangeably.

공정 챔버들(101a, 101b, 101c, 101d)은 서로 내부 공간이 분리된 제1 공정 챔버(101a), 제2 공정 챔버(101b), 제3 공정 챔버(101c) 및 제4 공정 챔버(101d)를 포함할 수 있다. 각 공정 챔버들은 유로 유닛(300)을 통해 하나의 강화 용액 챔버(201)와 유체적으로 연결될 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니며, 공정 챔버들(101a, 101b, 101c, 101d)과 강화 용액 챔버(201) 및 후술할 세정 챔버(400a, 400b)는 전술한 실시예들 중 어느 하나에 따른 배치 구조 및 유체 연결 구조를 가질 수도 있다.The process chambers 101a , 101b , 101c , and 101d are a first process chamber 101a , a second process chamber 101b , a third process chamber 101c , and a fourth process chamber 101d whose inner spaces are separated from each other. may include Each of the process chambers may be fluidly connected to one enhancement solution chamber 201 through the flow path unit 300 . However, the present invention is not limited thereto, and the process chambers 101a, 101b, 101c, 101d, the enhancement solution chamber 201, and the cleaning chambers 400a and 400b to be described later are in any one of the above-described embodiments. It may have an arrangement structure and a fluid connection structure according to the present invention.

평면 시점에서, 강화 용액 챔버(201)를 기준으로 제1 공정 챔버(101a)와 제2 공정 챔버(101b)는 일측에 위치하고, 제3 공정 챔버(101c)와 제4 공정 챔버(101d)는 다른 측에 위치할 수 있다. 즉, 강화 용액 챔버(201)를 사이에 두고 제1 공정 챔버(101a)와 제2 공정 챔버(101b) 및 제3 공정 챔버(101c)와 제4 공정 챔버(101d)는 이격 배치될 수 있다. 제1 공정 챔버(101a) 내제 제4 공정 챔버(101d)는 모두 하나의 강화 용액 챔버(201)와 유체적으로 연결됨은 전술한 바와 같다.In a plan view, the first process chamber 101a and the second process chamber 101b are positioned on one side with respect to the enhancement solution chamber 201 , and the third process chamber 101c and the fourth process chamber 101d are positioned on the other side. may be located on the side. That is, the first process chamber 101a , the second process chamber 101b , and the third process chamber 101c and the fourth process chamber 101d may be spaced apart from each other with the enhancement solution chamber 201 interposed therebetween. As described above, all of the first process chamber 101a and the fourth process chamber 101d are fluidly connected to one enhancement solution chamber 201 .

세정 챔버들(400a, 400b)은 제1 세정 챔버(400a) 및 제2 세정 챔버(400b)를 포함할 수 있다. 제1 세정 챔버(400a)와 제2 세정 챔버(400b)는 강화 용액 챔버(201)를 사이에 두고 이격 배치될 수 있다. 제1 세정 챔버(400a)는 제1 공정 챔버(101a)와 제2 공정 챔버(101b)에서 화학 강화된 글라스를 세정하기 위해 구비되고, 제2 세정 챔버(400b)는 제3 공정 챔버(101c)와 제4 공정 챔버(101d)에서 화학 강화된 글라스를 세정하기 위해 구비될 수 있다.The cleaning chambers 400a and 400b may include a first cleaning chamber 400a and a second cleaning chamber 400b. The first cleaning chamber 400a and the second cleaning chamber 400b may be spaced apart from each other with the enhancement solution chamber 201 interposed therebetween. The first cleaning chamber 400a is provided to clean the chemically strengthened glass in the first process chamber 101a and the second process chamber 101b, and the second cleaning chamber 400b includes the third process chamber 101c. and the fourth process chamber 101d may be provided to clean the chemically strengthened glass.

구체적으로, 제1 세정 챔버(400a)와 강화 용액 챔버(201)는 어느 공정 챔버, 예컨대 제2 공정 챔버(101b)를 사이에 두고 이격 배치되고, 제2 세정 챔버(400b)와 강화 용액 챔버(201)는 어느 공정 챔버, 예컨대 제4 공정 챔버(101d)를 사이에 두고 이격 배치될 수 있다.Specifically, the first cleaning chamber 400a and the enhancement solution chamber 201 are spaced apart from each other with a certain process chamber, for example, the second process chamber 101b therebetween, and the second cleaning chamber 400b and the enhancement solution chamber ( The 201 may be spaced apart from any process chamber, for example, the fourth process chamber 101d interposed therebetween.

로딩/언로딩 유닛들(500a, 500b)은 제1 로딩/언로딩 유닛(500a) 및 제2 로딩/언로딩 유닛(500b)을 포함할 수 있다. 제1 로딩/언로딩 유닛(500a)과 제2 로딩/언로딩 유닛(500b)은 각각 로봇 아암일 수 있으나, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다.The loading/unloading units 500a and 500b may include a first loading/unloading unit 500a and a second loading/unloading unit 500b. Each of the first loading/unloading unit 500a and the second loading/unloading unit 500b may be a robot arm, but the present invention is not limited thereto.

제1 로딩/언로딩 유닛(500a)과 제2 로딩/언로딩 유닛(500b)은 강화 용액 챔버(201)를 사이에 두고 이격 배치될 수 있다. 제1 로딩/언로딩 유닛(500a)은 제1 공정 챔버(101a), 제2 공정 챔버(101b), 제1 세정 챔버(400a) 및 후술할 제1 로딩/언로딩 존(980) 간의 글라스 내지는 글라스가 실장된 카세트를 이송하기 위해 구비될 수 있다. 또, 제2 로딩/언로딩 유닛(500b)은 제3 공정 챔버(101c), 제4 공정 챔버(101d), 제2 세정 챔버(400b) 및 후술할 제2 로딩/언로딩 존(990) 간의 글라스 내지는 글라스가 실장된 카세트를 이송하기 위해 구비될 수 있다. 즉, 하나의 로딩/언로딩 유닛(500a, 500b)은 복수의 강화 챔버들로의 인입과 인출을 수행할 수 있다.The first loading/unloading unit 500a and the second loading/unloading unit 500b may be spaced apart from each other with the strengthening solution chamber 201 interposed therebetween. The first loading/unloading unit 500a includes glass or between the first process chamber 101a , the second process chamber 101b , the first cleaning chamber 400a , and the first loading/unloading zone 980 to be described later. Glass may be provided to transport the mounted cassette. Also, the second loading/unloading unit 500b is disposed between the third process chamber 101c, the fourth process chamber 101d, the second cleaning chamber 400b, and the second loading/unloading zone 990 to be described later. Glass or glass may be provided to transport the mounted cassette. That is, one loading/unloading unit 500a and 500b may perform entry and exit into and out of the plurality of reinforcement chambers.

제1 로딩/언로딩 존(980)은 제1 공정 챔버(101a) 및 제2 공정 챔버(101b)로 글라스를 인입하기 위해 제1 로딩/언로딩 유닛(500a)의 가동 범위 내에서 강화 전의 글라스가 일시적으로 위치하거나, 제1 공정 챔버(101a) 및 제2 공정 챔버(101b)에서 글라스를 인출하여 강화 후의 글라스가 일시적으로 위치하는 공간일 수 있다. 또, 제2 로딩/언로딩 존(990)은 제3 공정 챔버(101c) 및 제4 공정 챔버(101d)로 글라스를 인입하기 위해 제2 로딩/언로딩 유닛(500b)의 가동 범위 내에서 강화 전의 글라스가 일시적으로 위치하거나, 제3 공정 챔버(101c) 및 제4 공정 챔버(101d)에서 글라스를 인출하여 강화 후의 글라스가 일시적으로 위치하는 공간일 수 있다.The first loading/unloading zone 980 is the glass before strengthening within the movable range of the first loading/unloading unit 500a to introduce the glass into the first process chamber 101a and the second process chamber 101b. may be temporarily located or may be a space in which the glass is temporarily located after being strengthened by withdrawing the glass from the first process chamber 101a and the second process chamber 101b. In addition, the second loading/unloading zone 990 is strengthened within the movable range of the second loading/unloading unit 500b to introduce the glass into the third process chamber 101c and the fourth process chamber 101d. It may be a space in which the previous glass is temporarily located, or the glass after strengthening by withdrawing the glass from the third process chamber 101c and the fourth process chamber 101d is temporarily located.

전술한 하나의 강화 용액 챔버(201)와 4개의 공정 챔버들(101a, 101b, 101c, 101d), 그리고 복수의 로딩/언로딩 유닛(500a, 500b)과 복수의 세정 챔버들(400a, 400b)은 하나의 공정 설비 단위를 형성할 수 있다. 위와 같이 배치된 글라스 화학 강화 설비 시스템(12)은 높은 공정 효율을 나타내며 차지하는 공정 공간을 최소화할 수 있다.The above-described one fortification solution chamber 201 and four process chambers 101a, 101b, 101c, 101d, a plurality of loading/unloading units 500a and 500b, and a plurality of cleaning chambers 400a and 400b. may form one process plant unit. The glass chemical strengthening facility system 12 arranged as above exhibits high process efficiency and can minimize the occupied process space.

이하, 도 24의 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비 시스템(12)을 이용한 공정 흐름에 대해 설명한다. 도 25 및 도 26은 도 24의 글라스의 화학 강화 설비 시스템의 공정 흐름을 나타낸 도면이다.Hereinafter, a process flow using the glass chemical strengthening facility system 12 according to the embodiment of FIG. 24 will be described. 25 and 26 are views showing the process flow of the chemical strengthening facility system of the glass of FIG.

도 25 및 도 26을 더 참조하면, 제1 공정 챔버(101a) 내지 제4 공정 챔버(101d)에는 각각 글라스가 인입되되, 소정의 시차를 두고 순차적으로 인입될 수 있다.25 and 26 , glass is introduced into the first process chamber 101a to the fourth process chamber 101d, respectively, and may be sequentially introduced with a predetermined time difference.

예를 들어, 제1 공정 챔버(101a)에 제1 글라스 또는 제1 글라스가 실장된 카세트를 인입하고(S111), 제1 공정 챔버(101a) 내에서 제1 글라스를 예열한다(S211). 그리고 제1 공정 챔버(101a)에 강화 용액을 유입시키고 제1 글라스를 화학 강화한 후, 제1 공정 챔버(101a)로부터 강화 용액을 유출시킨다(S411). 그 다음 제1 공정 챔버(101a) 내에서 제1 글라스를 서냉한다(S611).For example, the first glass or a cassette on which the first glass is mounted is introduced into the first process chamber 101a ( S111 ), and the first glass is preheated in the first process chamber 101a ( S211 ). Then, the strengthening solution is introduced into the first process chamber 101a and the first glass is chemically strengthened, and then the strengthening solution is discharged from the first process chamber 101a ( S411 ). Then, the first glass is slowly cooled in the first process chamber 101a ( S611 ).

마찬가지로, 제2 공정 챔버(101b)에 제2 글라스 또는 제2 글라스가 실장된 카세트를 인입하고(S112), 제2 공정 챔버(101b) 내에서 제2 글라스를 예열한다(S212). 그리고 제2 공정 챔버(101b)에 강화 용액을 유입시키고 제2 글라스를 화학 강화한 후, 제2 공정 챔버(101b)로부터 강화 용액을 유출시킨다(S412). 그 다음 제2 공정 챔버(101b) 내에서 제2 글라스를 서냉한다(S612).Similarly, the second glass or a cassette on which the second glass is mounted is introduced into the second process chamber 101b ( S112 ), and the second glass is preheated in the second process chamber 101b ( S212 ). Then, the strengthening solution is introduced into the second process chamber 101b and the second glass is chemically strengthened, and then the strengthening solution is discharged from the second process chamber 101b ( S412 ). Then, the second glass is slowly cooled in the second process chamber 101b (S612).

이 때 제2 공정 챔버(101b)에 제2 글라스를 인입하는 단계(S112)는 제1 공정 챔버(101a)에 제1 글라스를 인입하는 단계(S111) 보다 나중에 수행되고, 예를 들어 제2 공정 챔버(101b)에 제2 글라스를 인입하는 단계(S112)는 제1 글라스를 예열하는 동안(S211) 수행될 수 있다.At this time, the step of introducing the second glass into the second process chamber 101b ( S112 ) is performed later than the step of introducing the first glass into the first process chamber 101a ( S111 ), for example, the second process The step of introducing the second glass into the chamber 101b ( S112 ) may be performed while the first glass is preheated ( S211 ).

또, 제2 공정 챔버(101b)에서 예열하는 단계(S212)는 제1 공정 챔버(101a)에서 예열하는 단계(S211) 보다 늦게 수행되거나, 적어도 부분적으로 동시에 수행될 수 있다. 또, 제1 공정 챔버(101a)에서 화학 강화하는 단계(S411)가 수행되는 동안, 또는 제1 공정 챔버(101a)에서 화학 강화 단계(S411)가 시작되는 순간, 여전히 제2 공정 챔버(101b)에서는 예열이 수행될 수 있다. In addition, the preheating in the second process chamber 101b ( S212 ) may be performed later than the preheating in the first process chamber 101a ( S211 ) or may be performed at least partially simultaneously. In addition, while the chemical strengthening step S411 is performed in the first process chamber 101a or the moment the chemical strengthening step S411 is started in the first process chamber 101a, the second process chamber 101b is still preheating may be performed.

그리고 제2 공정 챔버(101b)에서 화학 강화하는 단계(S412)는 제1 공정 챔버(101a)에서 화학 강화하는 단계(S411) 보다 늦게 수행되거나, 적어도 더 늦게 시작될 수 있다. 이 경우 제1 공정 챔버(101a)에서 화학 강화하는 단계(S411)는 제2 공정 챔버(101b)에서 화학 강화하는 단계(S412)와 적어도 부분적으로 동시에 수행될 수도 있다.In addition, the chemical strengthening in the second process chamber 101b ( S412 ) may be performed later or at least later than the chemical strengthening in the first process chamber 101a ( S411 ). In this case, the chemical strengthening in the first process chamber 101a ( S411 ) may be performed at least partially simultaneously with the chemical strengthening in the second process chamber 101b ( S412 ).

예를 들어, 제1 공정 챔버(101a)에서 서냉이 수행되는 단계(S611)와 제2 공정 챔버(101b)에서 화학 강화가 수행되는 단계(S412)는 적어도 부분적으로 동시에 수행될 수 있다. For example, the step S611 in which the slow cooling is performed in the first process chamber 101a and the step S412 in which the chemical strengthening is performed in the second process chamber 101b may be performed at least partially simultaneously.

다른 예를 들어, 제2 공정 챔버(101b)에 강화 용액을 유입을 시작하는 시점 또는 강화 용액을 유입하는 단계는, 제1 공정 챔버(101a)로부터 강화 용액을 유출시키는 단계 보다 후에 수행되거나, 제1 공정 챔버(101a)로부터 강화 용액의 유출을 시작하는 시점보다 후에 수행될 수 있다. 또는, 제2 공정 챔버(101b)에 강화 용액을 유입하는 단계는 제1 공정 챔버(101a)로부터 강화 용액을 유출시키는 단계와 적어도 부분적으로 동시에 수행될 수 있다.For another example, the starting point of introducing the fortification solution into the second process chamber 101b or the step of introducing the fortification solution may be performed after or after the step of flowing out the fortification solution from the first process chamber 101a, or 1 It may be performed after the time point at which the outflow of the fortification solution from the process chamber 101a starts. Alternatively, the step of introducing the enhancement solution into the second process chamber 101b may be performed at least partially simultaneously with the step of flowing out the enhancement solution from the first process chamber 101a.

마찬가지로 제3 공정 챔버(101c)와 제4 공정 챔버(101d)에는 각각 제3 글라스와 제4 글라스 또는 제3 글라스가 실장된 카세트와 제4 글라스가 실장된 카세트를 인입한다(S113, S114). 이후 순차적으로 제3 글라스와 제4 글라스의 예열 단계(S213, S214), 화학 강화 단계(S413, S414) 및 서냉 단계(S613, S614)가 수행될 수 있다.Similarly, the third glass and the fourth glass or the cassette on which the third glass is mounted and the cassette on which the fourth glass is mounted are introduced into the third process chamber 101c and the fourth process chamber 101d, respectively (S113 and S114). Thereafter, the preheating steps (S213 and S214), the chemical strengthening steps (S413, S414) and the slow cooling steps (S613, S614) of the third glass and the fourth glass may be sequentially performed.

이 때 전술한 제1 공정 챔버(101a)와 제2 공정 챔버(101b) 간의 시차 만큼, 제2 공정 챔버(101b)와 제3 공정 챔버(101c) 간에, 및 제3 공정 챔버(101c)와 제4 공정 챔버(101d) 간에 시차가 존재할 수 있다.At this time, by the time difference between the first process chamber 101a and the second process chamber 101b described above, between the second process chamber 101b and the third process chamber 101c and between the third process chamber 101c and the third process chamber 101c There may be a time difference between the 4 process chambers 101d.

본 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비 시스템(12)은 공정 공간의 효율적 사용과 동시에 설비의 최소화, 그리고 강화 용액 사용량을 최소화하기 위해 제안된 것이다. 강화 용액의 경우 그 가격이 매우 높을 뿐 아니라 일정한 온도로 유지 관리하기 위해 막대한 에너지가 소요된다. 따라서 하나의 강화 용액 챔버(201)를 복수의 공정 챔버들과 연결하여 강화 용액을 공유함으로써 강화 용액의 소비량을 최소화할 수 있다.The glass chemical strengthening facility system 12 according to the present embodiment is proposed to efficiently use the process space, minimize the equipment, and minimize the amount of the strengthening solution. In the case of the strengthening solution, the price is very high, and it takes a lot of energy to maintain it at a constant temperature. Accordingly, by connecting one enhancement solution chamber 201 with a plurality of process chambers to share the enhancement solution, consumption of the enhancement solution may be minimized.

또한 본 발명은 선행하는 예열 단계에서 소요되는 시간이 후행하는 강화 단계에서 소요되는 시간 보다 긴 점을 이용하여 강화 용액의 보다 효율적인 사용을 달성할 수 있다.In addition, the present invention can achieve more efficient use of the strengthening solution by taking advantage of the fact that the time required for the preceding preheating step is longer than the time taken for the subsequent strengthening step.

즉, 제1 공정 챔버(101a)에서 강화 단계(S411)가 수행되는 동안 다른 공정 챔버, 즉 제2 공정 챔버(101b) 내지 제4 공정 챔버(101d) 모두, 또는 이들 중 적어도 일부에서는 강화 단계(S412, S413, S414)가 수행되지 않도록 시차를 둘 수 있다. 마찬가지로 제2 공정 챔버(101b)에서 강화 단계(S412)가 수행되는 동안, 비제한적인 예시로서, 제1 공정 챔버(101a)에서는 서냉 단계(S611)가 수행되고, 제3 공정 챔버(101c)에서는 예열 단계(S213)가 수행되도록 구성할 수 있다. That is, while the strengthening step S411 is performed in the first process chamber 101a, the strengthening step ( A time difference may be provided so that S412, S413, and S414) are not performed. Similarly, while the strengthening step S412 is performed in the second process chamber 101b, as a non-limiting example, the slow cooling step S611 is performed in the first process chamber 101a, and in the third process chamber 101c The preheating step ( S213 ) may be configured to be performed.

이 경우 실질적으로 강화 공정을 수행하는 공정 챔버는 전체 설비 시스템(12) 단위 중 어느 하나에 불과하기 때문에, 이론적으로는 하나의 공정 챔버에서 글라스 화학 강화에 요구되는 강화 용액의 양만으로 4개의 공정 챔버에서 모두 순차적으로 글라스 화학 강화를 수행할 수 있다.In this case, since the process chamber that actually performs the strengthening process is only one unit of the entire facility system 12, theoretically, only the amount of the strengthening solution required for glass chemical strengthening in one process chamber is four process chambers. In all, glass chemical strengthening can be performed sequentially.

또한 강화 용액이 복수의 공정 챔버들(101a, 101b, 101c, 101d) 사이에서 이동하며 지속적으로 강화 공정을 수행하기 때문에 강화 용액이 어느 하나의 챔버 내지는 탱크에서 머무르는 시간을 줄일 수 있고, 상기 머무르는 챔버에서 강화 용액을 일정한 온도로 가열하기 위해 소요되는 에너지를 줄일 수 있다.In addition, since the strengthening solution moves between the plurality of process chambers 101a, 101b, 101c, and 101d and continuously performs the strengthening process, it is possible to reduce the time that the strengthening solution stays in any one chamber or tank, and the staying chamber It is possible to reduce the energy required to heat the strengthening solution to a constant temperature.

전술한 바와 같이 강화 용액 챔버(201)의 내부 공간의 부피는 어느 하나의 공정 챔버의 내부 공간의 부피 보다 큰 것이 강화 용액의 여유분 확보 측면에서 바람직할 수 있다. 그러나 본 실시예와 같이 어느 하나의 강화 용액 챔버(201)와 복수의 공정 챔버들(101a, 101b, 101c, 101d), 예컨대 4개의 공정 챔버들(101a, 101b, 101c, 101d)이 하나의 설비 단위를 이루는 경우, 강화 용액 챔버(201)의 내부 공간의 부피, 더 구체적으로 강화 용액 챔버(201)에 수용되는 강화 용액의 부피, 또는 하나의 설비 단위에서 요구되는 강화 용액의 양 또는 부피는, 어느 하나의 공정 챔버의 내부 공간의 부피, 또는 어느 하나의 공정 챔버에서 글라스의 화학 강화를 요구되는 강화 용액 양의 4배 보다 작을 수 있다. 특히 이론적으로는, 심지어 하나의 설비 단위에서 요구되는 강화 용액의 양 또는 부피는 어느 하나의 공정 챔버에서 글라스의 화학 강화를 요구되는 강화 용액 양과 실질적으로 동일할 수도 있다.As described above, it may be preferable that the volume of the internal space of the fortification solution chamber 201 is greater than the volume of the internal space of any one of the process chambers in terms of securing a surplus of the fortification solution. However, as in the present embodiment, any one of the enhancement solution chamber 201 and the plurality of process chambers 101a, 101b, 101c, and 101d, for example, the four process chambers 101a, 101b, 101c, and 101d are one facility. When forming a unit, the volume of the internal space of the strengthening solution chamber 201, more specifically, the volume of the strengthening solution accommodated in the strengthening solution chamber 201, or the amount or volume of the strengthening solution required in one equipment unit is, The volume of the internal space of any one process chamber, or the amount of the strengthening solution required for chemical strengthening of the glass in any one process chamber may be less than four times. In particular, theoretically, even the amount or volume of strengthening solution required in one equipment unit may be substantially equal to the amount of strengthening solution required for chemical strengthening of glass in either process chamber.

전술한 구조의 글라스 화학 강화 설비 시스템(12)을 통해 강화 용액의 효율적 관리와 동시에 제조 비용 등을 절감하는 효과가 있다. Through the glass chemical strengthening facility system 12 having the above-described structure, there is an effect of efficiently managing the strengthening solution and reducing the manufacturing cost and the like.

도 27은 본 발명의 다른 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 설비 시스템의 공정 흐름을 나타낸 도면이다.27 is a view showing a process flow of a chemical strengthening facility system for glass according to another embodiment of the present invention.

도 27을 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 설비 시스템을 이용한 글라스의 화학 강화 방법의 공정 흐름은, 제1 공정 챔버 내지 제4 공정 챔버가 하나의 강화 용액 챔버와 유체적으로 연결되어 공정 설비 단위를 형성하되, 제1 공정 챔버와 제3 공정 챔버에서 동시에 공정 흐름이 진행되고, 제2 공정 챔버와 제4 공정 챔버에서 동시에 공정 흐름이 진행되는 점이 도 25의 실시예와 상이한 점이다.Referring to FIG. 27 , in the process flow of the method for chemical strengthening of glass using the chemical strengthening facility system for glass according to the present embodiment, the first to fourth process chambers are fluidly connected to one strengthening solution chamber. It is different from the embodiment of FIG. 25 in that a process equipment unit is formed, but the process flow proceeds simultaneously in the first process chamber and the third process chamber, and the process flow proceeds simultaneously in the second process chamber and the fourth process chamber .

제1 공정 챔버와 제2 공정 챔버는 하나의 로딩/언로딩 유닛에 의해 글라스의 인입/인출이 수행되고, 제3 공정 챔버와 제4 공정 챔버는 다른 하나의 로딩/언로딩 유닛에 의해 글라스의 인입/인출이 수행됨은 전술한 바와 같다.In the first process chamber and the second process chamber, one loading/unloading unit performs loading/unloading of glass, and the third process chamber and the fourth process chamber are loaded/unloading units of the glass by the other loading/unloading unit. In/out is performed as described above.

또, 제1 공정 챔버와 제2 공정 챔버 간, 그리고 제3 공정 챔버와 제4 공정 챔버 간에 소정의 시차가 존재함 또한 전술한 바와 같다.Also, as described above, a predetermined time difference exists between the first process chamber and the second process chamber and between the third process chamber and the fourth process chamber.

도 28은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 글라스의 화학 강화 설비 시스템을 나타낸 모식도이다.28 is a schematic diagram showing a chemical strengthening facility system for glass according to another embodiment of the present invention.

도 28을 참조하면, 본 실시예에 따른 글라스 화학 강화 설비 시스템(13)은 도 24에 따른 글라스 화학 강화 설비 시스템(12) 내지 설비 단위가 반복 배열된 점에 특징이 있다. 도 28은 도 24에 따른 글라스 화학 강화 설비 시스템(12)이 3번 반복되어 구성된 경우를 예시한다. 다만, 강화 용액 챔버는 각 설비 단위가 공유하거나, 공유하지 않을 수도 있다.Referring to FIG. 28 , the glass chemical strengthening facility system 13 according to this embodiment is characterized in that the glass chemical strengthening facility system 12 to the facility unit according to FIG. 24 are repeatedly arranged. 28 illustrates a case in which the glass chemical strengthening facility system 12 according to FIG. 24 is repeated three times. However, the enhancement solution chamber may or may not be shared by each equipment unit.

또, 글라스 화학 강화 설비 시스템(13)은 복수의 컨베이어를 더 포함할 수 있다. 컨베이어 중 적어도 일부는 강화 대상인 글라스, 즉 강화 전의 글라스가 이송되어 로딩/언로딩 유닛들이 이를 공정 챔버로 인입할 수 있다. 또, 강화 및 세정이 종료된 강화 후 글라스는 로딩/언로딩 유닛에 의해 다른 컨베이어 상에 놓이고, 이송될 수 있다.In addition, the glass chemical strengthening facility system 13 may further include a plurality of conveyors. At least some of the conveyors may transport the glass to be strengthened, that is, the glass before strengthening, so that the loading/unloading units may introduce it into the process chamber. In addition, after strengthening and cleaning is finished, the glass may be placed on another conveyor by the loading/unloading unit and transferred.

몇몇 실시예에서, 세정 챔버는 각 공정 설비 단위 내에 포함되지 않고, 공정 챔버로부터 인출된 이후 후속 공정 상에서 세정이 수행되도록 구성될 수 있다. 이를 위해 글라스 강화 공정을 위한 설비 단위 후단에 세정 챔버가 배치될 수 있다. 세정 챔버로의 글라스 인입 및 인출은 로봇 아암을 이용할 수 있음은 전술한 바와 같다.In some embodiments, the cleaning chamber is not included in each process equipment unit, but may be configured such that cleaning is performed on a subsequent process after being withdrawn from the process chamber. To this end, a cleaning chamber may be disposed at the rear end of the equipment unit for the glass strengthening process. As described above, a robot arm can be used to enter and withdraw the glass into and out of the cleaning chamber.

이와 같은 글라스 화학 강화 설비 시스템(13)을 구축하여 공정 자동화를 달성하고 턴-키 시스템을 구현할 수 있다.By building such a glass chemical strengthening facility system 13, process automation can be achieved and a turn-key system can be implemented.

이상에서 본 발명의 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. In the above, the embodiment of the present invention has been mainly described, but this is only an example and does not limit the present invention. It will be appreciated that various modifications and applications not exemplified above are possible.

따라서 본 발명의 범위는 이상에서 예시된 기술 사상의 변경물, 균등물 내지는 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, 본 발명의 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성요소는 변형하여 실시할 수 있다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Therefore, it should be understood that the scope of the present invention includes changes, equivalents or substitutes of the technical ideas exemplified above. For example, each component specifically shown in the embodiment of the present invention may be implemented by modification. And differences related to such modifications and applications should be construed as being included in the scope of the present invention defined in the appended claims.

1: 글라스 강화 설비
101: 공정 챔버
201: 강화 용액 챔버
300: 유로 유닛
400: 세정 챔버
500: 로딩/언로딩 유닛
600: 컨트롤러
1: Glass strengthening equipment
101: process chamber
201: fortified solution chamber
300: Euro unit
400: cleaning chamber
500: loading/unloading unit
600: controller

Claims (38)

글라스의 강화가 이루어지는 공정 챔버;
글라스의 강화를 위한 강화 용액이 수용되도록 구성된 강화 용액 챔버; 및
상기 공정 챔버와 상기 강화 용액 챔버를 연결하며, 상기 공정 챔버와 상기 강화 용액 챔버 간의 강화 용액의 이동 경로를 제공하는 유로 유닛을 포함하는 글라스 강화 설비.
a process chamber in which the glass is strengthened;
a strengthening solution chamber configured to receive a strengthening solution for strengthening the glass; and
and a flow path unit connecting the process chamber and the strengthening solution chamber and providing a movement path of the strengthening solution between the process chamber and the strengthening solution chamber.
제1항에 있어서,
상기 공정 챔버는 상기 강화 용액 챔버와 유체적으로 연결되어 상기 강화 용액 챔버로부터 강화 용액이 유입되거나, 또는 상기 강화 용액 챔버로 강화 용액이 유출되도록 구성된 글라스 강화 설비.
According to claim 1,
The process chamber is fluidly connected to the strengthening solution chamber so that the strengthening solution is introduced from the strengthening solution chamber or the strengthening solution is flowed out into the strengthening solution chamber.
제2항에 있어서,
상기 공정 챔버는 강화 공정의 시작 전에 상기 강화 용액을 유입하고, 상기 강화 공정이 완료되면 상기 강화 용액을 유출하도록 구성된 글라스 강화 설비.
3. The method of claim 2,
The process chamber is configured to introduce the strengthening solution before the start of the strengthening process, and to drain the strengthening solution when the strengthening process is completed.
제2항에 있어서,
상기 공정 챔버는 상기 유로 유닛과 연결된 복수의 유체구를 가지고, 상기 복수의 유체구로부터 동시에 강화 용액이 유입되거나 유출되는 글라스 강화 설비.
3. The method of claim 2,
The process chamber has a plurality of fluid ports connected to the flow path unit, and a glass strengthening facility through which a strengthening solution is simultaneously introduced or discharged from the plurality of fluid ports.
제1항에 있어서,
상기 공정 챔버는 상부 개구를 갖는 챔버 본체 및 상기 상부 개구를 폐쇄하는 공정 챔버 도어를 포함하는 글라스 강화 설비.
According to claim 1,
The process chamber includes a chamber body having an upper opening and a process chamber door closing the upper opening.
제5항에 있어서,
상기 공정 챔버는, 상기 공정 챔버 도어가 상기 챔버 본체를 폐쇄한 상태에서 상기 챔버 본체 내에 위치하며, 흄 가스로 인한 상기 공정 챔버 도어의 부식을 방지하는 서브 도어를 더 포함하는 글라스 강화 설비.
6. The method of claim 5,
The process chamber is located in the chamber body in a state in which the process chamber door closes the chamber body, and further comprises a sub-door configured to prevent corrosion of the process chamber door due to fume gas.
제1항에 있어서,
상기 공정 챔버는 챔버 본체와 상기 공정 챔버 도어 중 적어도 하나의 내측에 배치되고 액체와 기체 중 적어도 하나를 분사하여 상기 내측벽을 세척하는 세척 노즐을 포함하는 글라스 강화 설비.
According to claim 1,
The process chamber includes a cleaning nozzle disposed inside at least one of the chamber body and the process chamber door and cleaning the inner wall by spraying at least one of a liquid and a gas.
제1항에 있어서,
상기 공정 챔버는,
내부 온도를 센싱하는 온도 센서,
내부 강화 용액의 수위를 센싱하는 레벨 센서, 및
바닥부에 인접 배치된 기포 발생부 중 적어도 하나를 포함하는 글라스 강화 설비.
According to claim 1,
The process chamber,
a temperature sensor that senses the internal temperature;
a level sensor for sensing the level of the internal strengthening solution, and
Glass strengthening equipment including at least one of the bubble generating portion disposed adjacent to the bottom portion.
제1항에 있어서,
상기 공정 챔버를 중력 방향으로 승강시켜 상기 공정 챔버와 상기 강화 용액 챔버 간의 레벨을 제어하는 리프팅 유닛을 더 포함하는 글라스 강화 설비.
According to claim 1,
Glass strengthening equipment further comprising a lifting unit for controlling the level between the process chamber and the strengthening solution chamber by elevating the process chamber in the direction of gravity.
제1항에 있어서,
상기 강화 용액 챔버는
내부 온도를 센싱하는 온도 센서,
내부 강화 용액의 수위를 센싱하는 레벨 센서,
내부 강화 용액의 이온 농도를 센싱하는 이온 센서, 및
바닥부에 인접 배치된 기포 발생부 중 적어도 하나를 포함하는 글라스 강화 설비.
According to claim 1,
The strengthening solution chamber is
a temperature sensor that senses the internal temperature;
a level sensor for sensing the level of the internal strengthening solution;
an ion sensor for sensing an ion concentration of the internal enhancement solution, and
Glass strengthening equipment including at least one of the bubble generating portion disposed adjacent to the bottom portion.
제1항에 있어서,
상기 강화 용액 챔버는 내부로 칼륨 이온을 보충하도록 구성된 리필 탱크를 포함하는 글라스 강화 설비.
According to claim 1,
The strengthening solution chamber includes a refill tank configured to replenish potassium ions therein.
제1항에 있어서,
상기 강화 용액 챔버의 내부 공간은 상기 공정 챔버의 내부 공간 보다 큰 글라스 강화 설비.
According to claim 1,
The inner space of the strengthening solution chamber is larger than the inner space of the process chamber glass strengthening equipment.
제1항에 있어서,
상기 하나의 강화 용액 챔버는 하나 이상의 유로 유닛을 통해 복수의 공정 챔버와 유체적으로 연결되는 글라스 강화 설비.
According to claim 1,
The one strengthening solution chamber is fluidly connected to a plurality of process chambers through one or more flow passage units.
제13항에 있어서,
상기 복수의 공정 챔버는 서로 중력 방향으로 중첩 배치된 글라스 강화 설비.
14. The method of claim 13,
The plurality of process chambers are disposed overlapping each other in the direction of gravity.
제13항에 있어서,
상기 유로 유닛은 하나 이상의 밸브 및 하나 이상의 펌프를 포함하되,
상기 강화 용액 챔버와 상기 복수의 공정 챔버 간의 유로에 있어서, 복수의 공정 챔버들은 각각 상기 밸브를 공유하거나, 또는 펌프를 공유하는 글라스 강화 설비.
14. The method of claim 13,
The flow path unit comprises one or more valves and one or more pumps,
In the flow path between the strengthening solution chamber and the plurality of process chambers, the plurality of process chambers each share the valve or share a pump.
제1항에 있어서,
내부에 세정액이 수용되도록 구성된 세정 챔버를 더 포함하되,
상기 세정 챔버와 상기 공정 챔버는 중력 방향으로 중첩 배치된 글라스 강화 설비.
According to claim 1,
Further comprising a cleaning chamber configured to receive a cleaning liquid therein,
The cleaning chamber and the process chamber are disposed to overlap in the direction of gravity.
적어도 하나의 강화 용액 챔버, 제1 공정 챔버와 제2 공정 챔버를 포함하고 상기 강화 용액 챔버와 유체적으로 연결된 복수의 공정 챔버, 적어도 하나의 로딩/언로딩 유닛 및 적어도 하나의 세정 챔버를 포함하는 글라스 강화 설비 시스템으로서,
상기 강화 용액 챔버와 상기 제1 공정 챔버, 및 상기 강화 용액 챔버와 상기 제2 공정 챔버 간에 강화 용액이 이동하도록 구성된 글라스 강화 설비 시스템.
at least one enrichment solution chamber, a plurality of process chambers including a first process chamber and a second process chamber and fluidly connected to the enrichment solution chamber, at least one loading/unloading unit, and at least one cleaning chamber A glass strengthening facility system comprising:
A glass strengthening facility system configured to move a strengthening solution between the strengthening solution chamber and the first process chamber, and between the strengthening solution chamber and the second process chamber.
제17항에 있어서,
상기 하나의 로딩/언로딩 유닛은 복수의 공정 챔버로의 인입과 인출을 수행하는 글라스 강화 설비 시스템.
18. The method of claim 17,
The one loading/unloading unit is a glass strengthening equipment system for performing inlet and outlet into and out of a plurality of process chambers.
제17항에 있어서,
상기 세정 챔버는 상기 강화 용액 챔버를 사이에 두고 이격 배치된 제1 세정 챔버 및 제2 세정 챔버를 포함하고,
상기 로딩/언로딩 유닛은 상기 강화 용액 챔버를 사이에 두고 이격 배치된 제1 로봇 아암 및 제2 로봇 아암을 포함하는 글라스 강화 설비 시스템.
18. The method of claim 17,
The cleaning chamber includes a first cleaning chamber and a second cleaning chamber spaced apart from each other with the enhancement solution chamber therebetween,
The loading/unloading unit is a glass strengthening facility system including a first robot arm and a second robot arm spaced apart with the strengthening solution chamber interposed therebetween.
제19항에 있어서,
상기 복수의 공정 챔버는, 상기 강화 용액 챔버를 사이에 두고 상기 제1 공정 챔버 및 상기 제2 공정 챔버와 이격 배치된 제3 공정 챔버 및 제4 공정 챔버로서, 상기 하나의 강화 용액 챔버와 유체적으로 연결된 제3 공정 챔버 및 제4 공정 챔버를 더 포함하는 글라스 강화 설비 시스템.
20. The method of claim 19,
The plurality of process chambers may include a third process chamber and a fourth process chamber spaced apart from the first process chamber and the second process chamber with the enhancement solution chamber interposed therebetween, and have a fluid volume with the one enhancement solution chamber. A glass strengthening facility system further comprising a third process chamber and a fourth process chamber connected to each other.
제17항에 있어서,
하나의 상기 강화 용액 챔버 및 n개의 복수의 공정 챔버로서, 상기 강화 용액 챔버와 유체적으로 연결된 복수의 공정 챔버는 하나의 설비 단위를 이루고,
상기 강화 용액 챔버에 수용된 강화 용액의 양은,
어느 하나의 공정 챔버에서 글라스의 화학 강화를 위해 요구되는 강화 용액의 양의 n배 보다 작은, 글라스 강화 설비 시스템.
18. The method of claim 17,
One said fortification solution chamber and a plurality of n process chambers, wherein the plurality of process chambers fluidly connected to the fortification solution chamber constitute one equipment unit,
The amount of the strengthening solution accommodated in the strengthening solution chamber is,
A glass strengthening facility system, which is less than n times the amount of strengthening solution required for chemical strengthening of glass in either process chamber.
공정 챔버에 글라스를 인입하는 단계;
상기 공정 챔버 내에서 상기 글라스를 예열하는 단계;
상기 예열 단계 후에, 상기 공정 챔버 내에 강화 용액을 유입시켜 상기 열처리된 글라스를 강화 용액에 침지하고 화학 강화하는 단계; 및
상기 강화 단계 후에, 상기 공정 챔버로부터 강화 용액을 유출시키는 단계를 포함하는 글라스의 강화 방법.
introducing the glass into the process chamber;
preheating the glass in the process chamber;
after the preheating step, introducing a strengthening solution into the process chamber to immerse the heat-treated glass in the strengthening solution and chemically strengthening; and
After the strengthening step, the method of strengthening the glass comprising the step of flowing out the strengthening solution from the process chamber.
제22항에 있어서,
상기 강화 용액을 유출시키는 단계 후에, 상기 공정 챔버 내에서 상기 강화된 글라스를 서냉하는 단계; 및
상기 공정 챔버에서 강화된 글라스를 인출하는 단계를 더 포함하는 글라스의 강화 방법.
23. The method of claim 22,
after discharging the strengthening solution, slowly cooling the strengthened glass in the process chamber; and
The method of strengthening glass further comprising the step of withdrawing the strengthened glass from the process chamber.
제22항에 있어서,
상기 공정 챔버의 내측벽을 세척하여 잔여 강화 용액을 제거하는 단계를 더 포함하는 글라스의 강화 방법.
23. The method of claim 22,
The method of strengthening glass further comprising the step of removing the remaining strengthening solution by washing the inner wall of the process chamber.
제22항에 있어서,
상기 강화 용액은 어느 강화 용액 챔버로부터 유입되고, 상기 강화 용액 챔버로 유출되며,
상기 강화 용액 챔버 내의 강화 용액의 칼륨 이온 농도를 센싱하는 단계를 더 포함하는 글라스의 강화 방법.
23. The method of claim 22,
The fortification solution is introduced from a certain fortification solution chamber and flows out into the fortification solution chamber,
The method of strengthening glass further comprising the step of sensing a potassium ion concentration of the strengthening solution in the strengthening solution chamber.
제22항에 있어서,
상기 강화 용액을 유입시키는 단계는, 상기 공정 챔버를 하강시켜 강화 용액이 수용된 강화 용액 챔버 보다 낮은 레벨로 위치시키는 단계를 포함하고,
상기 강화 용액을 유출시키는 단계는, 상기 공정 챔버를 상승시켜 상기 강화 용액 챔버 보다 높은 레벨로 위치시키는 단계를 포함하는 글라스의 강화 방법.
23. The method of claim 22,
The step of introducing the fortification solution includes lowering the process chamber to position the fortification solution at a lower level than that of the fortification solution chamber in which the fortification solution is accommodated,
The step of discharging the strengthening solution includes raising the process chamber to a higher level than the strengthening solution chamber.
제22항에 있어서,
상기 공정 챔버에 글라스를 인입하는 단계는, 제1 공정 챔버에 제1 글라스를 인입하는 단계 및 제2 공정 챔버에 제2 글라스를 인입하는 단계를 포함하고,
상기 제1 공정 챔버와 상기 제2 공정 챔버는 동일한 강화 용액 챔버와 유체적으로 연결되고,
상기 제1 글라스의 예열과 상기 제2 글라스의 예열은 적어도 부분적으로 동시에 수행되고,
상기 제1 글라스의 강화 단계가 수행되는 동안, 상기 제2 글라스의 예열 단계가 마저 수행되는 글라스의 강화 방법.
23. The method of claim 22,
The step of introducing the glass into the process chamber includes introducing the first glass into the first process chamber and introducing the second glass into the second process chamber,
The first process chamber and the second process chamber are fluidly connected to the same enhancement solution chamber,
The preheating of the first glass and the preheating of the second glass are performed at least partially simultaneously,
While the strengthening step of the first glass is performed, the preheating step of the second glass is even performed.
제22항에 있어서,
상기 공정 챔버에 글라스를 인입하는 단계는, 제1 공정 챔버에 제1 글라스를 인입하는 단계 및 제2 공정 챔버에 제2 글라스를 인입하는 단계를 포함하고,
상기 제2 공정 챔버에 강화 용액을 유입시키는 단계는, 상기 제1 공정 챔버로부터 강화 용액을 유출시키는 단계 후에 수행되거나, 적어도 동시에 수행되는 글라스의 강화 방법.
23. The method of claim 22,
The step of introducing the glass into the process chamber includes introducing the first glass into the first process chamber and introducing the second glass into the second process chamber,
The step of introducing the strengthening solution into the second process chamber is performed after the step of flowing out the strengthening solution from the first process chamber, or at least simultaneously with the strengthening method of glass.
제28항에 있어서,
상기 제2 글라스의 강화 단계가 수행되는 동안, 상기 제1 글라스의 서냉 단계가 수행되는 글라스의 강화 방법.
29. The method of claim 28,
While the strengthening step of the second glass is performed, the glass strengthening method in which the slow cooling step of the first glass is performed.
제22항에 있어서,
상기 글라스를 인입하는 단계에서, 글라스의 길이 방향이 수평 방향을 향하고, 글라스의 폭 방향 또는 두께 방향이 중력 방향을 향하도록 인입되는 글라스의 화학 강화 방법.
23. The method of claim 22,
In the step of introducing the glass, the longitudinal direction of the glass is directed in the horizontal direction, and the width direction or the thickness direction of the glass is drawn in such that the direction of gravity is the chemical strengthening method of the glass.
내부에 글라스를 인입하여 예열, 강화, 및 서냉을 순차로 수행하는 내부 공간을 포함한 챔버 본체;
상기 챔버 본체를 밀폐하는 공정 챔버 도어; 및
상기 챔버 본체의 일측에 상기 강화 전에 강화 용액을 주입하거나 상기 강화 후 강화 용액을 배출하기 위한 적어도 하나의 유체구를 포함하는 공정 챔버.
a chamber body including an internal space for sequentially performing preheating, strengthening, and slow cooling by introducing glass therein;
a process chamber door sealing the chamber body; and
The process chamber including at least one fluid port for injecting the strengthening solution before the strengthening or discharging the strengthening solution after the strengthening to one side of the chamber body.
제31항에 있어서,
상기 챔버 본체와 상기 공정 챔버 도어 중 적어도 하나는,
상기 글라스 또는 상기 강화 용액을 가열하기 위한 히터를 포함하는 공정 챔버.
32. The method of claim 31,
At least one of the chamber body and the process chamber door,
and a heater for heating the glass or the strengthening solution.
제31항에 있어서,
상기 공정 챔버 도어는,
중력에 수직한 방향으로 상기 챔버 본체에 결합되고,
상기 공정 챔버는,
상기 공정 챔버 도어가 결합되기 위해 상면에 개구가 형성되는 공정 챔버.
32. The method of claim 31,
The process chamber door,
coupled to the chamber body in a direction perpendicular to gravity;
The process chamber,
A process chamber in which an opening is formed in an upper surface to which the process chamber door is coupled.
제31항에 있어서,
상기 공정 챔버 도어는
중력에 수평한 방향으로 상기 챔버 본체에 결합되고,
상기 공정 챔버는,
상기 공정 챔버 도어가 결합되기 위해 측면에 개구가 형성되는 공정 챔버.
32. The method of claim 31,
The process chamber door is
coupled to the chamber body in a direction parallel to gravity;
The process chamber,
A process chamber in which an opening is formed in a side surface to which the process chamber door is coupled.
제31항에 있어서,
상기 챔버 본체 또는 상기 공정 챔버 도어 중 적어도 하나의 내측에 부착되고, 상기 공정 챔버의 내측벽을 세척하는 액체와 기체 중 적어도 하나를 분사하는 세척 노즐을 더 포함하는 공정 챔버.
32. The method of claim 31,
and a cleaning nozzle attached to an inner side of at least one of the chamber body or the process chamber door and spraying at least one of a liquid and a gas for cleaning an inner wall of the process chamber.
제31항에 있어서,
상기 적어도 하나의 유체구를 이용하여 상기 강화 용액을 유입 또는 배출하는 펌프를 더 포함하는 공정 챔버.
32. The method of claim 31,
The process chamber further comprising a pump for introducing or discharging the strengthening solution using the at least one fluid port.
제31항에 있어서,
상기 챔버 본체 중 일부에 결합되어 상기 적어도 하나의 유체구를 이용하여 상기 강화 용액이 유입되도록 상기 챔버 본체를 지면 방향으로 하강시키거나 상기 강화 용액이 배출되도록 상기 챔버 본체를 지면 반대 방향으로 상승시키는 리프트를 더 포함하는 공정 챔버.
32. The method of claim 31,
A lift coupled to a portion of the chamber body to lower the chamber body toward the ground so that the reinforcing solution is introduced using the at least one fluid port or to raise the chamber body in the opposite direction to the ground so that the reinforcing solution is discharged Process chamber further comprising a.
제31항에 있어서,
상기 챔버 본체와 상기 공정 챔버 도어 중 적어도 하나에 결합되는 온도 센서 및 레벨 센서로서,
상기 공정 챔버의 내부 온도를 센싱하는 온도 센서, 및
상기 공정 챔버의 내부 강화 용액의 수위를 센싱하는 레벨 센서 중 적어도 하나를 포함하는 공정 챔버.
32. The method of claim 31,
A temperature sensor and a level sensor coupled to at least one of the chamber body and the process chamber door,
a temperature sensor for sensing an internal temperature of the process chamber; and
and at least one of a level sensor sensing a level of the enhancement solution inside the process chamber.
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