KR101503172B1 - Apparatus for supplying liquid chemical - Google Patents

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이창규
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주식회사 엘지실트론
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Abstract

The present invention relates to an apparatus for supplying a chemical liquid. The apparatus for supplying a chemical liquid, is connected to a substrate processing device to perform a wafer process using a chemical liquid, and includes: a chemical liquid drum to receive the chemical liquid; a water supply line to selectively supply water to the chemical liquid drum; a drain line to selectively discharge a chemical liquid received in the chemical liquid drum; a chemical liquid supply line to supply the chemical liquid received in the chemical liquid drum to the substrate processing device; a water supply valve, a drain valve, and a chemical liquid supply valve provided to the water supply line, the drain line, and the chemical liquid supply line; and a controller to selectively operate the water supply valve, the drain valve, and the chemical liquid supply valve. The chemical liquid drum to receive the chemical liquid may be efficiently cleaned using a chemical liquid supply device. An environment capable of stably replacing a neuter chemical liquid drum to a worker can be provided.

Description

약액 공급 장치{Apparatus for supplying liquid chemical}[0001] Apparatus for supplying liquid chemical [0002]

본 발명은 약액을 공급하는 장치로서, 약액이 보관되는 약액 드럼의 세정을 원활히 하고, 약액 드럼의 교체시에 작업자의 안전을 향상시킬 수 있는 장치에 대한 것이다. The present invention relates to an apparatus for supplying a chemical liquid, which can smooth the cleaning of a chemical liquid drum in which a chemical liquid is stored, and improve the safety of the operator when replacing the chemical liquid drum.

반도체 제조 공정 중에는 다양한 약액들을 이용하여 세정, 식각 공정 등을 수행하며, 기판 처리 장치의 경우 이러한 공정들을 수행하기 위하여 처리조로부터 약액을 공급받는다. During the semiconductor manufacturing process, various chemical solutions are used for cleaning, etching, and the like. In the case of the substrate processing apparatus, the chemical liquid is supplied from the processing tank to perform these processes.

약액을 이용하여 기판(웨이퍼)에 대하여 다양한 공정들을 수행하기 위하여, 반도체 기판의 반출, 약액의 증발 또는 약액의 라이프 타임 경과 등 다양한 이유로로 약액이 감소하거나 약액의 농도가 변화된다. 따라서, 일반적인 기판 처리 장치는 정기적으로 약액을 보충하여 약액의 농도 및 용량을 유지할 필요가 있다. In order to perform various processes on the substrate (wafer) using the chemical liquid, the chemical liquid is decreased or the concentration of the chemical liquid is changed for various reasons such as the removal of the semiconductor substrate, the evaporation of the chemical liquid, or the lapse of the chemical life time. Therefore, a general substrate processing apparatus needs to regularly replenish the chemical liquid to maintain the concentration and the capacity of the chemical liquid.

도 1은 종래의 기판 처리 장치의 구성을 보여주는 도면이다. 1 is a view showing a configuration of a conventional substrate processing apparatus.

기판 처리 장치(10)는 복수 개의 약을들을 공급하는 약액 공급 라인(4)들과, 약액들을 받아서 혼합하고 혼합된 약액을 순환하여 약액의 온도, 농도 및 혼합 비율 등의 공정 조건을 만족하는 때에 기판(웨이퍼)을 투입하여 공정을 처리하는 처리조(2)를 포함한다. The substrate processing apparatus 10 includes a chemical liquid supply line 4 for supplying a plurality of medicines, and a chemical liquid supply line 4 for circulating the chemical liquid mixed and mixed with the chemical liquids when they satisfy the process conditions such as the temperature, And a treatment tank 2 for processing the substrate by injecting a wafer (wafer).

그리고, 기판 처리 장치(10)는 처리조(2)의 약액을 순환하여 공정 조건을 조절하는 순환 라인(8) 및, 순환 라인(8)으로부터 분기되어 약액의 농도를 측정 및 조절하는 농도 조절 라인(8a)을 포함한다. 순환 라인(8)은 처리조(2)의 하부에 연결되어 상부로 약액을 순환시키는 펌프(12)와, 펌프(12)로부터 순환되는 약액을 가열하여 약액의 온도를 조절하는 히터(14), 및 가열된 약액에 포함된 불순물을 제거하여 처리조(2)로 약액을 공급하는 필터(16)를 포함한다. The substrate processing apparatus 10 includes a circulation line 8 for circulating a chemical liquid in the treatment tank 2 to adjust process conditions and a concentration control line 8 for branching from the circulation line 8 to measure and adjust the concentration of the chemical liquid, (8a). The circulation line 8 includes a pump 12 connected to the lower portion of the treatment tank 2 and circulating the chemical liquid to the upper portion thereof, a heater 14 for controlling the temperature of the chemical liquid by heating the chemical liquid circulated from the pump 12, And a filter 16 for removing impurities contained in the heated chemical liquid and supplying the chemical liquid to the treatment tank 2.

농도 조절 라인(8a)은 필터(16)로부터 공급되는 약액을 냉각시키는 냉각기(18) 및, 냉각기(18)로부터 냉각된 약액의 농도를 측정하는 농도계(22)를 포함한다. 그리고, 약액 공급 라인(4)과 순환 라인(8) 및 농도 조절 라인(8a)은 적어도 하나의 밸브(6,24,20)들이 설치되어 약액의 공급 및 순환 유량을 조절한다. The concentration adjusting line 8a includes a cooler 18 for cooling the chemical liquid supplied from the filter 16 and a concentration meter 22 for measuring the concentration of the chemical liquid cooled from the cooler 18. [ At least one valve (6, 24, 20) is provided in the chemical liquid supply line (4), the circulation line (8) and the concentration control line (8a) to control the supply and circulation flow rate of the chemical liquid.

이러한 기판 처리 장치(10)는 측정된 약액의 농도를 이용하여 공정 조건에 적합한 농도로 조절하기 위해, 약액들의 공급 유량을 조절하여 약액들을 보충하고, 공정 조건에 적합할 때까지 약액을 처리조(2)로 순환한다. In order to adjust the concentration of the measured chemical liquid to a concentration suitable for the processing conditions, the substrate processing apparatus 10 replenishes the chemical liquids by adjusting the supply flow rate of the chemical liquids, and supplies the chemical liquid to the processing tank 2).

이러한 종래의 기판 처리 장치(10)로 약액을 제공하는 약액 공급 장치에 대해서는 구체적으로 개시되어 있지 않으며, 도시되어 있지는 않지만, 이러한 기판 처리 장치(10)로 공급되는 약액이 보관되는 약액 드럼은 필요에 따라 세정을 할 필요가 있으며, 약액을 변경하는 경우에는 약액 드럼을 교환하는 경우도 있다. Although the chemical liquid supply apparatus for supplying the chemical liquid to such a conventional substrate processing apparatus 10 has not been specifically disclosed, and the chemical liquid drum for storing the chemical liquid supplied to the substrate processing apparatus 10 is not required It is necessary to carry out cleaning according to the change of the chemical solution, and the chemical solution drum may be replaced when the chemical solution is changed.

기판 처리 장치(10)로 약액들을 제공하는 약액 공급 장치의 경우에, 약액 드럼의 세정이 정확히 이루어지지 않으면, 작업자가 약액 드럼의 교체시에 사고가 발생될 수 있으며, 약액 드럼의 교체시에 약액이 드럼 내에 남아있는 경우 역시 작업자의 안전에 위험을 줄 수 있다. In the case of the chemical liquid supply apparatus for supplying the chemical liquids to the substrate processing apparatus 10, if the chemical liquid drum is not cleaned correctly, an operator may cause an accident when replacing the chemical liquid drums, If left in the drum, it may also pose a safety risk to the operator.

본 발명은 기판 처리 장치와 같이 기판 또는 웨이퍼에 대한 여러가지 공정이 이루어지는 설비로 약액을 공급하기 위한 장치를 제안하며, 특히, 약액이 보관되는 약액 드럼의 세정 시기를 정확하게 판단하고, 약액 드럼의 세정을 원활히 수행할 수 있는 약액 공급 장치를 제안하고자 한다. The present invention proposes an apparatus for supplying a chemical solution to a substrate or a facility in which various processes are performed on a wafer, such as a substrate processing apparatus, and more particularly to an apparatus for accurately determining a cleaning time of a chemical solution drum in which a chemical solution is stored, So that it can smoothly perform the chemical liquid supply.

제안되는 바와 같은 실시예의 약액 공급 장치는, 약액을 이용하여 웨이퍼 처리 공정을 수행하는 기판 처리 장치와 연결되는 장치로서, 상기 약액이 수용되는 약액 드럼; 상기 약액 드럼에 선택적으로 물을 공급하기 위한 물 공급 라인; 상기 약액 드럼에 수용된 약액을 선택적으로 배출시키기 위한 드레인 라인; 상기 약액 드럼에 수용된 약액을 상기 기판 처리 장치로 공급하기 위한 약액 공급 라인; 상기 물 공급 라인, 드레인 라인 및 약액 공급 라인들 각각에 마련되는 물 공급 밸브, 드레인 밸브 및 약액 공급 밸브; 및 상기 물 공급 밸브, 드레인 밸브 및 약액 공급 밸브를 선택적으로 동작시키는 제어부;를 포함한다. The chemical liquid supply apparatus of the embodiment as proposed is an apparatus connected to a substrate processing apparatus for performing a wafer processing process using a chemical liquid, the chemical liquid supply apparatus comprising: a chemical liquid drum for containing the chemical liquid; A water supply line for selectively supplying water to the chemical solution drum; A drain line for selectively discharging the chemical solution contained in the chemical solution drum; A chemical liquid supply line for supplying the chemical liquid accommodated in the chemical liquid drum to the substrate processing apparatus; A water supply valve, a drain valve, and a chemical liquid supply valve provided in each of the water supply line, the drain line, and the chemical liquid supply lines; And a controller selectively operating the water supply valve, the drain valve, and the chemical liquid supply valve.

제안되는 바와 같은 약액 공급 장치를 이용하여, 약액이 수용된 약액을 효과적으로 세정시킬 수 있으며, 작업자에게는 중성화된 약액 드럼을 안정하게 교체할 수 환경을 제공할 수 있다. It is possible to effectively clean the chemical solution containing the chemical solution by using the chemical solution supply device as proposed and to provide an environment for the operator to stably replace the neutralized chemical solution drum.

도 1은 종래의 기판 처리 장치의 구성을 보여주는 도면이다.
도 2는 본 실시예의 약액 공급 장치의 구성을 보여주는 블록도이다.
도 3은 본 실시예의 약액 공급 장치의 구성을 도시한 도면이다.
도 4는 실시예의 약액 공급 장치가 기판 처리 장치로 약액을 공급하는 때의 동작을 설명하는 흐름도이다.
도 5는 실시예의 약액 공급 장치가 약액 드럼을 세정하는 때의 동작을 설며하는 흐름도이다. 1 is a view showing a configuration of a conventional substrate processing apparatus.
2 is a block diagram showing the configuration of the chemical liquid supply device of this embodiment.
Fig. 3 is a diagram showing a configuration of the chemical liquid supply apparatus of the present embodiment.
4 is a flow chart for explaining the operation when the chemical liquid supply device of the embodiment supplies the chemical liquid to the substrate processing apparatus.
5 is a flowchart for describing the operation when the chemical liquid supply device of the embodiment cleans the chemical liquid drum.

이하에서는, 본 실시예에 대하여 첨부되는 도면을 참조하여 상세하게 살펴보도록 한다. 다만, 본 실시예가 개시하는 사항으로부터 본 실시예가 갖는 발명의 사상의 범위가 정해질 수 있을 것이며, 본 실시예가 갖는 발명의 사상은 제안되는 실시예에 대하여 구성요소의 추가, 삭제, 변경 등의 실시변형을 포함한다고 할 것이다. Hereinafter, the present embodiment will be described in detail with reference to the accompanying drawings. It should be understood, however, that the scope of the inventive concept of the present embodiment can be determined from the matters disclosed in the present embodiment, and the spirit of the present invention possessed by the present embodiment is not limited to the embodiments in which addition, Variations.

도 2는 본 실시예의 약액 공급 장치의 구성을 보여주는 블록도이고, 도 3은 본 실시예의 약액 공급 장치의 구성을 도시한 도면이다. Fig. 2 is a block diagram showing the configuration of the chemical liquid supply device of the present embodiment, and Fig. 3 is a diagram showing the configuration of the chemical liquid supply device of the present embodiment.

앞서 설명한 바와 같이, 실시예의 약액 공급 장치는 웨이퍼 기판 등에 대한 세정 또는 식각 공정이 수행되는 기판 처리 장치가 필요로 하는 약액을 공급하는 역할을 수행한다. As described above, the chemical liquid supply apparatus of the embodiment serves to supply the chemical liquid required by the substrate processing apparatus in which the cleaning or etching process is performed on the wafer substrate or the like.

도 2와 도 3을 함께 참조하면, 실시예의 약액 공급 장치는 제어부(300)가 적어도 하나 이상의 센서를 포함하는 센서부(400)로부터 약액 드럼(120)에 대한 정보를 획득하고, 상기 센서부(400)에 의하여 센싱된 값에 기초하여 상기 제어부(300)는 적어도 하나 이상의 밸브를 포함하는 밸브부(500)의 동작을 제어한다. 그리고, 상기 제어부(300)는 약액의 이동경로에 따라 선택적으로 펌프부(140)의 동작을 제어한다. Referring to FIGS. 2 and 3, the chemical liquid supply apparatus of the embodiment acquires information about the chemical liquid drum 120 from the sensor unit 400 including the at least one sensor, The control unit 300 controls the operation of the valve unit 500 including at least one valve. The control unit 300 selectively controls the operation of the pump unit 140 according to the movement path of the chemical liquid.

약액 공급 장치에 포함되는 각 구성요소들을 설명하면, 약액이 보관되는 약액 드럼(120)과, 상기 약액 드럼(120)에 수용된 약액이 기판 처리 장치로 이동하는 경로를 제공하는 약액 공급 라인(110)과, 상기 약액 드럼(120)의 세정시 약액의 농도를 조절하기 위하여 약액 드럼(120)으로 물을 공급하기 위한 물 공급 라인(210)과, 상기 약액 드럼(120)에 수용된 약액 또는 수용액을 배출시키기 위한 드레인 라인(220)을 포함한다. A chemical solution supply line 110 for providing a path for transferring the chemical solution stored in the chemical solution drum 120 to the substrate processing apparatus; A water supply line 210 for supplying water to the chemical solution drum 120 in order to adjust the concentration of the chemical solution when cleaning the chemical solution drum 120 and a water supply line 210 for discharging the chemical solution or aqueous solution contained in the chemical solution drum 120 (Not shown).

그리고, 상기 물 공급 라인(210)에는 상기 약액 드럼(120)으로 물을 선택적으로 공급하기 위한 물 공급 밸브(211)가 구성된다. 예를 들어, 상기 물 공급 밸브(211)가 오픈되는 경우에, 물이 저장된 저장소로부터 물이 상기 약액 드럼(120) 내로 공급된다. The water supply line 210 includes a water supply valve 211 for selectively supplying water to the chemical solution drum 120. For example, when the water supply valve 211 is opened, water is supplied into the chemical solution drum 120 from a reservoir in which water is stored.

상기 드레인 라인(220)에는 상기 약액 드럼(120)내에 수용된 약액을 선택적으로 배출시키기 위한 드레인 밸브(221)가 구성된다. 예를 들어, 상기 드레인 밸브(221)가 오픈되는 경우에, 약액이 제 1 및 제 2 공급 라인(111,112)을 경유하여 상기 드레인 레인(220)을 따라 외부의 배출소로 이동된다. 드레인 밸브(221)가 오픈되는 경우에는, 상기 약액 드럼(120) 내에 약액이 원활히 배출될 수 있도록 제 2 공급 라인(112)에 구성된 펌프부(140)가 함께 구동될 수 있다. The drain line 220 is formed with a drain valve 221 for selectively discharging the chemical solution contained in the chemical solution drum 120. For example, when the drain valve 221 is opened, the chemical liquid is moved to the outside discharge port along the drain lane 220 via the first and second supply lines 111 and 112. When the drain valve 221 is opened, the pump unit 140 configured in the second supply line 112 may be driven together so that the chemical solution can be smoothly discharged into the chemical solution drum 120.

그리고, 상기 약액 드럼(120) 내에는 수용된 약액의 제 1 위치(예를 들면, 상부 수위)를 측정하기 위한 제 1 수위 센서로서, 상부 수위 센서(410)가 마련되고, 상기 약액이 제 2 위치(예를 들면, 하부 수위)를 측정하기 위한 제 2 수위 센서로서, 하부 수위 센서(420)도 마련된다. An upper water level sensor 410 is provided as a first water level sensor for measuring a first position (for example, the upper water level) of the contained chemical liquid in the chemical liquid drum 120, A lower water level sensor 420 is also provided as a second water level sensor for measuring a predetermined water level (for example, a lower water level).

또한, 상기 약액 드럼(120) 내에는 수용된 약액의 농도(예를 들면, 산성도)를 측정하기 위한 농도 측정 센서(430)가 마련되며, 상기 농도 측정 센서(430)는 약액 드럼(120)의 바닥부에 마련될 수 있다. 상기 농도 측정 센서(430)는 산성도를 측정하기 위한 pH 측정기가 될 수 있으며, 도면에는, 상기 농도 측정 센서(430)가 노즐(121)에 구성되는 것으로 도시되어 있으나, 약액 드럼(120)내에서 수위가 변동되는 약액의 농도를 측정하기 위하여, 약액 드럼(120)의 하측부에 마련되는 것도 가능하다. A concentration measuring sensor 430 for measuring the concentration (for example, acidity) of the contained chemical solution is provided in the chemical solution drum 120. The concentration measuring sensor 430 is disposed on the bottom of the chemical solution drum 120 Can be provided. The concentration measuring sensor 430 may be a pH measuring instrument for measuring the acidity and the density measuring sensor 430 is shown as being formed in the nozzle 121. However, It may be provided on the lower side of the chemical liquid drum 120 to measure the concentration of the chemical liquid whose water level varies.

그리고, 상기 약액 드럼(120) 내에는 수용된 약액을 약액 공급 라인(110)으로 이동시키기 위한 노즐(121)이 마련되며, 도면에서와 같이, 수위 센서들(410,420)이 노즐 일측에 형성되거나, 상기 수위 센서들(410,420)이 약액 드럼(120) 벽면에 형성되는 것 역시 가능하다. As shown in the drawing, the water level sensors 410 and 420 may be formed on one side of the nozzle, or the water level sensors 410 and 420 may be formed on one side of the nozzle, It is also possible that the water level sensors 410 and 420 are formed on the wall surface of the chemical liquid drum 120.

한편, 상기 약액 드럼(120) 내에 수용된 약액은 노즐(121)에 의하여 약액 공급 라인(110)으로 이동될 수 있으며, 상기 약액 공급 라인(110)은 그 위치에 따라 제 1 내지 제 3 공급 라인(111,112,113)으로 구분될 수 있다. 예를 들면, 물 공급 라인(210)과 연결되는 부위를 제 1 공급 라인(111)이라 할 수 있으며, 제어부에 의하여 선택적으로 구동되는 펌프부(140)가 형성되는 부위를 제 2 공급 라인(112)이라 할 수 있으며, 상기 드레인 라인(220)과 연결되는 부위를 제 3 공급 라인(113)이라 할 수 있다. The chemical solution contained in the chemical solution drum 120 may be transferred to the chemical solution supply line 110 by the nozzle 121. The chemical solution supply line 110 may be connected to the first to third supply lines 111, 112, 113). For example, a portion connected to the water supply line 210 may be referred to as a first supply line 111, and a portion where the pump portion 140 selectively driven by the control portion is formed may be referred to as a second supply line 112 And a portion connected to the drain line 220 may be referred to as a third supply line 113. [

이와 같이 약액 공급 라인(110)을 구분할 경우에, 제 1 공급 라인(111)과 제 2 공급 라인(112) 사이에는 약액의 이동 경로를 변경시키기 위한 제 1 약액 공급 밸브(101)가 마련된다. 그리고, 상기 제 3 공급 라인(113) 상에는 제 2 약액 공급 밸브(102)가 마련되어, 상기 제 2 약액 공급 라인(102)의 오픈 또는 클로즈에 따라 약액이 기판 처리 장치로 이동되거나, 드레인 라인(220)을 따라 배출될 수 있다. A first chemical liquid supply valve 101 is provided between the first supply line 111 and the second supply line 112 to change the chemical liquid flow path. A second chemical solution supply valve 102 is provided on the third supply line 113. The chemical solution is moved to the substrate processing apparatus when the second chemical solution supply line 102 is opened or closed, ). ≪ / RTI >

상기와 같은 구성을 갖는 약액 공급 장치의 동작을 도 4 및 도 5를 함께 참조하여 설명하여 본다. 도 4는 실시예의 약액 공급 장치가 기판 처리 장치로 약액을 공급하는 때의 동작을 설명하는 흐름도이고, 도 5는 실시예의 약액 공급 장치가 약액 드럼을 세정하는 때의 동작을 설며하는 흐름도이다. The operation of the chemical liquid supply device having the above configuration will be described with reference to FIGS. 4 and 5. FIG. Fig. 4 is a flow chart for explaining the operation when the chemical liquid supply device of the embodiment supplies the chemical liquid to the substrate processing apparatus, and Fig. 5 is a flowchart for describing the operation when the chemical liquid supply device of the embodiment cleans the chemical liquid drum.

도 4를 참조하여 약액 공급 장치로부터 기판 처리 장치로 약액을 공급하는 때를 설명하면, 제어부(300)는 약액 드럼(120) 내에 수용된 약액을 약액 공급 라인(110)을 따라 이동시키기 위하여 제 1 및 제 2 약액 공급 밸브(101,102)를 오픈시킨다(S101). Referring to FIG. 4, when the chemical liquid is supplied from the chemical liquid supply unit to the substrate processing apparatus, the control unit 300 controls the first and second chemical liquid supply units 110 and 120 to move the chemical liquid accommodated in the chemical liquid supply unit 120 along the chemical liquid supply line 110. The second chemical liquid supply valves 101 and 102 are opened (S101).

그리고, 상기 제어부(300)는 상기 펌프부(140)를 구동시켜 약액의 원활한 이동을 보장하고(S102), 노즐(121) 또한 동작시켜 약액 드럼 내의 약액이 제 1 내지 제 3 공급 라인(111,112,113)을 경유하여 기판 처리 장치로 약액이 공급되도록 한다(S103). 기판 처리 장치로 약액을 공급하는 때에는, 물 공급 라인(210)을 통한 물 공급이나, 드레인 라인(220)을 통한 약액의 드레인이 이루어지지 않도록 물 공급 밸브(211) 및 드레인 밸브(221)는 클로즈된 상태를 유지한다. The control unit 300 drives the pump unit 140 to ensure smooth movement of the chemical liquid at step S102 and also operates the nozzles 121 so that the chemical liquid in the chemical liquid flows through the first to third supply lines 111, The chemical liquid is supplied to the substrate processing apparatus (S103). The water supply valve 211 and the drain valve 221 are closed so that the water supply through the water supply line 210 and the drain of the chemical solution through the drain line 220 are not performed, .

그 다음, 도 5를 참조하여 약액 드럼을 세정하는 경우를 설명하면, 먼저, 약액 드럼 내의 약액을 중성으로 변화시키기 위하여, 상기 물 공급 라인(210)을 통한 물 공급이 이루어지도록 한다. Next, referring to FIG. 5, a case will be described in which the chemical liquid drum is cleaned. First, in order to change the chemical liquid in the chemical liquid drum to neutral, water is supplied through the water supply line 210.

즉, 상기 제어부(300)는 물 공급 밸브(211)를 오픈시키고(S201), 약액 드럼(120) 내에 약액(물이 혼합된 약액)이 제 1 위치까지 채워지도록 물을 공급한다(S202). 이때, 물 공급 라인(210)을 통한 약액 드럼 내로의 물 공급은, 상부 수위 센서(410)에 의하여 측정되는 값을 모니터링하면서 수행되며, 상기 제어부(300)는 상부 수위 센서(410)에 의하여 측정되는 수위값에 따라 물 공급 밸브(211)의 클로즈시기를 결정할 수 있다. That is, the controller 300 opens the water supply valve 211 (S201), and supplies water to the chemical solution drum 120 so that the chemical solution (water mixed solution) is filled up to the first position (S202). At this time, the water supply into the chemical solution drum through the water supply line 210 is performed while monitoring the value measured by the upper water level sensor 410, and the control unit 300 measures the water level by the upper water level sensor 410 The closing timing of the water supply valve 211 can be determined according to the water level value.

상기 제어부(300)가 목표 위치(제 1 위치)까지 물이 채워졌다고 판단하는 경우에, 상기 물 공급 밸브(211)를 클로즈시킴으로써, 약액 드럼으로의 물 공급을 완료시킨다(S203).When the control unit 300 determines that the water is filled up to the target position (first position), the water supply valve 211 is closed to complete the water supply to the chemical liquid drum (S203).

결국, 도면부호 S201 내지 S203의 단계는, 약액 드럼(120)내의 약액을 중성화시키기 위한 물 공급 공정이라 할 수 있다. As a result, the steps S201 to S203 may be referred to as a water supply process for neutralizing the chemical liquid in the chemical liquid drum 120. [

그 다음, 약액 드럼(120) 내에 약액과 함께 채워진 물을 드레인시키기 위한 공정이 수행된다(S303). Then, a process for draining the water filled with the chemical solution in the chemical solution drum 120 is performed (S303).

상기 제어부(300)는 제 1 약액 공급 밸브(101)와 드레인 밸브(221)를 오픈시키고(S301), 제 2 공급 라인(112)에 마련된 펌프부(140)를 구동시킨다(S302). 이때, 상기 약액 드럼(120) 내의 노즐(121) 역시 동작되며, 이러한 동작에 의하여 약액 드럼(120) 내의 약액은 제 1 및 제 2 공급 라인(111,112)과, 드레인 라인(220)을 경유하여 외부로 배출될 수 있다. The control unit 300 opens the first chemical liquid supply valve 101 and the drain valve 221 in step S301 and drives the pump unit 140 provided in the second supply line 112 in step S302. At this time, the nozzle 121 in the chemical solution drum 120 also operates. By this operation, the chemical solution in the chemical solution drum 120 flows through the first and second supply lines 111 and 112 and the drain line 220 .

이러한 드레인 과정중에는, 약액 드럼(120) 내의 약액 수위가 하강하게 되므로, 제어부(300)는 제 2 센서인 하부 수위 센서(420)를 이용하여 약액의 수위를 모니터링하면서 드레인 공정을 진행한다. 예를 들어, 상기 하부 수위 센서(420)에 의하여 약액 수위가 측정되는 때에, 즉시 드레인 공정을 완료시키는 경우에는, 상기 하부 수위 센서(420)에 의하여 수위가 감지되는 때에 상기 펌프부(140)의 구동을 중단시키고, 상기 제 1 약액 공급 밸브 및 드레인 밸브를 클로즈시킨다. During the drain process, since the level of the chemical liquid in the chemical liquid drum 120 is lowered, the controller 300 proceeds to the drain process while monitoring the level of the chemical liquid using the lower level sensor 420, which is the second sensor. For example, when the chemical liquid level is measured by the lower level sensor 420, when the drain process is completed immediately, when the level of the chemical liquid is measured by the lower level sensor 420, The driving is stopped, and the first chemical liquid supply valve and the drain valve are closed.

다른 실시예로서, 상기 제어부(300)는 상기 드레인 라인(220)의 직경과, 상기 펌프부(140) 및 노즐(121)의 동작 성능을 고려하여, 상기 하부 수위 센서(420)에 의하여 수위가 감지된 후 기설정된 시간이 경과한 다음, 드레인 공정을 중단시키는 것도 가능하다. The control unit 300 controls the water level by the lower level sensor 420 in consideration of the diameter of the drain line 220 and the operation performance of the pump unit 140 and the nozzle 121 It is also possible to stop the drain process after a predetermined time has elapsed since the detection.

한편, 이러한 드레인 공정이 수행된 다음에는, 다시 상기 약액 드럼(120) 내에 물을 공급하는 공정이 수행된다. 앞서 S201 내지 S203 단계의 물 공급 공정은, 약액 드럼(120) 내의 약액에 대하여 최초로 중성화시키는 공정이므로 1차 물 공급 공정이라 할 수 있으며, 이하의 물 공급 공정은 약액의 산성도를 측정하기 위한 2차 물 공급 공정이라 할 수 있다. On the other hand, after this drain process is performed, a process of supplying water into the chemical solution drum 120 again is performed. The water supply process in steps S201 to S203 is a first water supply process since it is the first step of neutralizing the chemical liquid in the chemical liquid drum 120. The following water supply process is a step of supplying water Water supply process.

약액 드럼(120) 내의 약액을 배출시키는 드레인 공정이 수행된 다음에는, 2차 물 공급 공정이 수행되며, 상기 제어부(300)는 상기 물 공급 밸브(211)를 오픈시키고(S401), 약액 드럼(120) 내에 물이 혼합된 약액이 제 1 위치까지 공급되는지 여부를 확인한다(S402). 그리고, 제 1 위치, 예를 들면, 상부 수위 센서에 의하여 수위가 측정되는 위치까지 물이 공급된 경우에, 상기 제어부(300)는 상기 물 고급 밸브(211)를 클로즈시켜 물 공급 공정을 완료시킨다(S403). After the drain process for discharging the chemical solution in the chemical solution drum 120 is performed, a secondary water supply process is performed, and the control unit 300 opens the water supply valve 211 (S401) 120 is supplied to the first position (S402). When the water is supplied to the first position, for example, the position where the water level is measured by the upper water level sensor, the control unit 300 closes the water high-level valve 211 to complete the water supply process (S403).

이러한 과정을 거쳐, 2차 물 공급 공정을 수행한 다음에는, 상기 제어부(300)는 농도 측정 센서(430)를 이용하여 약액 드럼(120)내의 약액의 pH를 측정한다(S501). 측정 결과, 약액이 아직 중성화되지 않았다고 판단하는 경우에는, 상기 제어부(300)는 전술한 드레인 공정(S301~S303)과, 2차 물 공급 공정(S401~S403)을 한번씩 더 수행하고, 약액의 pH를 다시 측정한다. After performing the second water supply process, the controller 300 measures the pH of the chemical solution in the chemical solution drum 120 using the concentration measurement sensor 430 (S501). If the result of the measurement indicates that the chemical solution has not yet been neutralized, the control unit 300 performs the drain process (S301 to S303) and the secondary water supply process (S401 to S403) Lt; / RTI >

반면, 농도 측정 센서(430)에 의하여 측정되는 약액의 농도가 중성화되었다고 판단되는 경우에는, 상기 제어부(300)는 전술한 드레인 공정(S301~303)만을 수행하여 약액 드럼(120) 내의 약액을 모두 배출시키는 것으로 마무리한다. 그 후, 작업자는 중성화된 약액 드럼을 안정하게 교체할 수 있으며, 작업자가 일일이 약액 드럼 내부표면 등에 남은 약액의 농도를 측정할 필요가 없게 된다. On the other hand, when it is determined that the concentration of the chemical solution measured by the concentration measurement sensor 430 is neutralized, the controller 300 performs only the drain process (S301 to 303) described above to completely remove the chemical solution in the chemical solution drum 120 We finish with discharge. Thereafter, the operator can stably replace the neutralized chemical liquid drum, and it becomes unnecessary for the operator to measure the concentration of the chemical liquid remaining on the inner surface of the chemical liquid drum.

약액 드럼을 교체하여야 하는 경우에, 작업자가 일일이 약액 드럼(120)에 남은 약액의 농도를 확인하는 작업이 매우 번거로울 수 있으나, 그보다 더 중요한 것은 작업자가 안정적으로 드럼 교체의 작업을 수행할 수 있게 된다는 점이다. In the case where the chemical solution drum needs to be replaced, it is very troublesome for the operator to check the concentration of the chemical solution remaining in the chemical solution drum 120, but more importantly, the operator can stably perform the drum replacement operation It is a point.

Claims (12)

약액을 이용하여 웨이퍼 처리 공정을 수행하는 기판 처리 장치와 연결되는 장치로서,
상기 약액이 수용되는 약액 드럼;
상기 약액 드럼에 선택적으로 물을 공급하기 위한 물 공급 라인;
상기 약액 드럼에 수용된 약액을 선택적으로 배출시키기 위한 드레인 라인;
상기 약액 드럼에 수용된 약액을 상기 기판 처리 장치로 공급하기 위한 약액 공급 라인;
상기 물 공급 라인, 드레인 라인 및 약액 공급 라인들 각각에 마련되는 물 공급 밸브, 드레인 밸브 및 약액 공급 밸브;
상기 물 공급 밸브, 드레인 밸브 및 약액 공급 밸브를 선택적으로 동작시키는 제어부; 및
상기 약액 드럼에 마련되고, 상기 약액의 농도를 측정하기 위한 농도 측정 센서;를 포함하고,
상기 제어부는, 상기 약액 드럼을 세정하는 때에, 상기 물 공급 라인을 통하여 상기 약액 드럼 내로 물이 공급되도록 하는 물 공급 공정과, 상기 약액 드럼 내에 수용된 약액을 상기 드레인 라인을 통하여 배출되도록 하는 드레인 공정이 수행되도록 하고,
상기 제어부는 상기 농도 측정 센서에 의하여 측정되는 값을 이용하여 상기 약액의 농도가 기설정된 값에 도달할 때까지 상기 물 공급 공정과 드레인 공정이 함께 수행되도록 제어하는 약액 공급 장치. 1. An apparatus connected to a substrate processing apparatus for performing a wafer processing process using a chemical liquid,
A chemical solution drum for containing the chemical solution;
A water supply line for selectively supplying water to the chemical solution drum;
A drain line for selectively discharging the chemical solution contained in the chemical solution drum;
A chemical liquid supply line for supplying the chemical liquid accommodated in the chemical liquid drum to the substrate processing apparatus;
A water supply valve, a drain valve, and a chemical liquid supply valve provided in each of the water supply line, the drain line, and the chemical liquid supply lines;
A control unit selectively operating the water supply valve, the drain valve, and the chemical liquid supply valve; And
And a concentration measuring sensor provided on the chemical solution drum for measuring a concentration of the chemical solution,
The control unit may include a water supply step of supplying water into the chemical solution drum through the water supply line when cleaning the chemical solution drum and a drain step of discharging the chemical solution stored in the chemical solution drum through the drain line And,
Wherein the control unit controls the water supply step and the drain step to be performed together until the concentration of the chemical solution reaches a predetermined value by using a value measured by the concentration measurement sensor. 제 1 항에 있어서,
상기 약액 공급 라인은, 상기 물 공급 라인과 연결되는 제 1 공급 라인과, 상기 드레인 라인과 연결되는 제 3 공급 라인과, 상기 제 1 공급 라인과 제 3 공급 라인 사이에 배치되는 제 2 공급 라인을 포함하는 약액 공급 장치. The method according to claim 1,
The chemical liquid supply line includes a first supply line connected to the water supply line, a third supply line connected to the drain line, and a second supply line disposed between the first supply line and the third supply line Comprising a chemical liquid supply device. 제 2 항에 있어서,
상기 제 2 공급 라인에는 상기 약액 드럼에 수용된 약액의 이동을 돕기 위한 펌프부가 마련되는 약액 공급 장치. 3. The method of claim 2,
Wherein the second supply line is provided with a pump unit for assisting movement of the chemical solution contained in the chemical solution drum. 제 2 항에 있어서,
상기 약액 공급 밸브는, 상기 제 1 공급 라인과 제 2 공급 라인 사이에 배치되는 제 1 약액 공급 밸브와, 상기 제 3 공급 라인에 배치되는 제 2 약액 공급 밸브를 포함하는 약액 공급 장치. 3. The method of claim 2,
The chemical liquid supply valve includes a first chemical liquid supply valve disposed between the first supply line and the second supply line, and a second chemical liquid supply valve disposed in the third supply line. 제 4 항에 있어서,
상기 제어부는, 상기 약액 드럼 내에 수용된 약액을 상기 기판 처리 장치로 공급하는 때에, 상기 제 1 및 제 2 약액 공급 밸브를 오픈시키고, 상기 물 공급 밸브와 드레인 밸브를 클로즈시키는 약액 공급 장치. 5. The method of claim 4,
Wherein the control unit opens the first and second chemical solution supply valves and closes the water supply valve and the drain valve when supplying the chemical solution contained in the chemical solution drum to the substrate processing apparatus. 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 제어부는, 상기 약액 드럼 내에 마련된 수위 센서를 통하여 측정되는 값을 이용하여, 상기 물 공급 공정의 중단 여부를 결정하는 약액 공급 장치. The method according to claim 1,
Wherein the control unit determines whether to stop the water supply process by using a value measured through a water level sensor provided in the chemical liquid drum. 제 1 항에 있어서,
상기 제어부는, 상기 약액 드럼 내에 마련된 수위 센서를 통하여 측정되는 값을 이용하여, 상기 드레인 공정의 중단 여부를 결정하는 약액 공급 장치. The method according to claim 1,
Wherein the control unit determines whether to stop the drain process by using a value measured through a water level sensor provided in the chemical liquid drum. 제 1 항에 있어서,
상기 제어부는, 상기 물 공급 공정을 수행하는 때에는, 상기 약액 공급 밸브와 드레인 밸브를 클로즈시키고, 상기 물 공급 밸브를 오픈시키는 약액 공급 장치. The method according to claim 1,
Wherein the control unit closes the chemical liquid supply valve and the drain valve when the water supply step is performed, and opens the water supply valve. 제 1 항에 있어서,
상기 약액 공급 밸브는, 상기 제 1 공급 라인과 제 2 공급 라인 사이에 배치되는 제 1 약액 공급 밸브와, 상기 제 3 공급 라인에 배치되는 제 2 약액 공급 밸브를 포함하고,
상기 제어부는, 상기 드레인 공정을 수행하는 때에는, 상기 물 고급 밸브와 제 2 약액 공급 밸브를 클로즈시키고, 상기 드레인 밸브와 제 1 약액 공급 밸브를 오픈시키는 약액 공급 장치. The method according to claim 1,
The chemical liquid supply valve includes a first chemical liquid supply valve disposed between the first supply line and the second supply line and a second chemical liquid supply valve disposed in the third supply line,
The control section closes the water-quality valve and the second chemical liquid supply valve when the drain step is performed, and opens the drain valve and the first chemical liquid supply valve. 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 약액 드럼 내에는, 상기 약액을 상기 약액 공급 라인으로 이동시키기 위한 노즐이 구비되고,
상기 노즐에는 제 1 위치에 대한 상기 약액의 수위를 측정하기 위한 상부 수위 센서와, 제 2 위치에 대한 상기 약액의 수위를 측정하기 위한 하부 수위 센서가 마련되는 약액 공급 장치. The method according to claim 1,
A nozzle for moving the chemical liquid to the chemical liquid supply line is provided in the chemical liquid drum,
Wherein the nozzle is provided with a high water level sensor for measuring the level of the chemical liquid with respect to the first position and a low water level sensor for measuring the level of the chemical liquid with respect to the second position.
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