KR20220131691A - Compound, photosensitive resin composition comprising the same, photosensitive resin layer, color filter and display device - Google Patents

Compound, photosensitive resin composition comprising the same, photosensitive resin layer, color filter and display device Download PDF

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KR20220131691A
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Abstract

Disclosed are a compound represented by chemical formula 1, a photosensitive resin composition comprising the same, a photosensitive resin film manufactured by using the photosensitive resin composition, a color filter including the photosensitive resin film, and a display device including the color filter. In the chemical formula 1, each substituent is as defined in the specification.

Description

화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 감광성 수지막, 컬러필터 및 디스플레이 장치{COMPOUND, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION COMPRISING THE SAME, PHOTOSENSITIVE RESIN LAYER, COLOR FILTER AND DISPLAY DEVICE}A compound, a photosensitive resin composition comprising the same, a photosensitive resin film, a color filter, and a display device

본 기재는 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 감광성 수지막, 컬러필터 및 디스플레이 장치에 관한 것이다.The present disclosure relates to a compound, a photosensitive resin composition comprising the same, a photosensitive resin film, a color filter, and a display device.

디스플레이 장치 중의 하나인 액정디스플레이 장치는 경량화, 박형화, 저가, 저소비 전력 구동화 및 우수한 집적회로와의 접합성 등의 장점을 가지고 있어 노트북 컴퓨터, 모니터 및 TV화상용으로 그 사용범위가 확대되고 있다. 이와 같은 액정디스플레이 장치는 블랙매트릭스, 컬러필터 및 ITO 화소전극이 형성된 하부 기판과, 액정층, 박막트랜지스터, 축전캐패시터층으로 구성된 능동회로부와 ITO 화소전극이 형성된 상부의 기판을 포함하여 구성된다. 컬러필터는 화소 사이의 경계부를 차광하기 위해서 투명 기판 상에 정해진 패턴으로 형성된 블랙 매트릭스층 및 각각의 화소를 형성하기 위해 복수의 색(통상적으로, 적(R), 녹(G), 청(B)의 3원색을 정해진 순서로 배열한 화소부가 차례로 적층된 구조를 취하고 있다. The liquid crystal display device, which is one of the display devices, has advantages such as light weight, thinness, low cost, low power consumption, and excellent adhesion to integrated circuits, and thus its range of use is expanding for notebook computers, monitors, and TV images. Such a liquid crystal display device includes a lower substrate on which a black matrix, a color filter, and an ITO pixel electrode are formed, an active circuit portion consisting of a liquid crystal layer, a thin film transistor, and a capacitor layer, and an upper substrate on which the ITO pixel electrode is formed. The color filter includes a black matrix layer formed in a predetermined pattern on a transparent substrate to block light at the boundary between pixels, and a plurality of colors (typically, red (R), green (G), blue (B) to form each pixel. ), in which the three primary colors are arranged in a predetermined order, the pixel units are sequentially stacked.

컬러필터를 구현하는 방법 중의 하나인 안료분산법은 흑색 매트릭스가 제공된 투명한 기질 위에 착색제를 함유하는 광중합성 조성물을 코팅하고, 형성하고자 하는 형태의 패턴을 노광한 후, 비노광 부위를 용제로 제거하여 열경화시키는 일련의 과정을 반복함으로써 착색박막이 형성되는 방법이다. 안료분산법에 따른 컬러필터 제조에 사용되는 감광성 수지 조성물은 일반적으로 알칼리 가용성 수지, 광중합 단량체, 광중합 개시제, 에폭시 수지, 용제와 기타 첨가제 등으로 이루어진다. 상기의 특징을 가지는 안료분산법은 휴대폰, 노트북, 모니터, TV 등의 LCD를 제조하는 데 활발하게 응용되고 있다. 그러나, 근래에는 여러 가지 장점을 가지는 안료분산법을 이용한 컬러필터용 감광성 수지 조성물에 있어서도 우수한 패턴 특성뿐만 아니라 더욱 향상된 성능이 요구되고 있다. 특히 높은 색재현율과 함께 고휘도 및 고명암비의 특성이 요구되는 이미지 센서에 적용이 가능한 착색제에 대한 요구가 점점 높아지고 있는 실정이다.The pigment dispersion method, which is one of the methods for implementing a color filter, involves coating a photopolymerizable composition containing a colorant on a transparent substrate provided with a black matrix, exposing the pattern to be formed, and then removing the unexposed area with a solvent. This is a method in which a colored thin film is formed by repeating a series of thermal curing processes. The photosensitive resin composition used for manufacturing a color filter according to the pigment dispersion method is generally composed of an alkali-soluble resin, a photopolymerization monomer, a photoinitiator, an epoxy resin, a solvent, and other additives. The pigment dispersion method having the above characteristics is actively applied to the manufacture of LCDs such as mobile phones, notebook computers, monitors, and TVs. However, in recent years, in the photosensitive resin composition for a color filter using a pigment dispersion method having various advantages, not only excellent pattern characteristics but also improved performance is required. In particular, the demand for a colorant that can be applied to an image sensor requiring high brightness and high contrast ratio along with high color gamut is increasing.

이미지 센서는 휴대전화 카메라나 DSC(Digital Still Camera)등의 디스플레이 장치에서 영상을 생성해 내는 영상 촬상 소자 부품을 일컫는 것으로, 그 제작 공정과 응용 방식에 따라 크게 고체 촬상 소자(charge coupled device; CCD) 이미지 센서와 상보성 금속 산화물 반도체(complementary metal oxide semiconductor; CMOS) 이미지 센서로 분류할 수 있다.An image sensor refers to an image pickup device component that generates an image in a display device such as a mobile phone camera or DSC (Digital Still Camera). It can be classified into an image sensor and a complementary metal oxide semiconductor (CMOS) image sensor.

고체촬상소자에 사용되는 컬러필터용 감광성 수지막은 1.5㎛ 이하의 막두께가 요구되기 때문에, 감광성 수지 조성물 중에 다량의 색소를 첨가해야만 하고, 이에 따라 감도가 저하하여 기판과의 밀착이 불충분하게 되거나, 충분한 경화가 얻어지지 않거나, 노광부에서도 염료가 용출되어 색이 빠져버리는 등 패턴 형성성이 현저하게 저하되는 등의 문제가 있다.Since the photosensitive resin film for a color filter used in a solid-state image sensor requires a film thickness of 1.5 μm or less, a large amount of dye must be added to the photosensitive resin composition, thereby lowering the sensitivity, resulting in insufficient adhesion to the substrate, There is a problem in that sufficient curing cannot be obtained, or the pattern formability is remarkably reduced, such as dye eluting even in the exposed portion and losing color.

이에, 휘도와 내화학성 등의 신뢰성을 만족시키면서 동시에 고색 구현이 가능한, 이미지 센서에 적용 가능한 컬러필터용 감광성 수지 조성물을 개발하려는 노력이 계속되고 있다.Accordingly, efforts are being made to develop a photosensitive resin composition for a color filter applicable to an image sensor that satisfies reliability such as luminance and chemical resistance while simultaneously realizing a high color.

일 구현예는 고선명 컬러펄터를 구현할 수 있는 화합물을 제공하기 위한 것이다.One embodiment is to provide a compound capable of implementing a high-definition color pulser.

다른 일 구현예는 상기 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a photosensitive resin composition comprising the compound.

또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막을 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a photosensitive resin film prepared using the photosensitive resin composition.

또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터를 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a color filter including the photosensitive resin film.

또 다른 일 구현예는 상기 컬러필터를 포함하는 디스플레이 장치를 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a display device including the color filter.

본 발명의 일 구현예는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제공한다.One embodiment of the present invention provides a compound represented by the following formula (1).

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

R1 내지 R16은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기이고, 단 R1 내지 R4 중 하나, R5 내지 R8 중 하나 및 R9 내지 R12 중 하나로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나 이상은 하기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되고,R 1 to R 16 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryloxy group, with the proviso that one of R 1 to R 4 , R 5 At least one selected from the group consisting of one of to R 8 and one of R 9 to R 12 is represented by the following Chemical Formula 2 or Chemical Formula 3,

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00002
Figure pat00002

상기 화학식 2에서,In Formula 2,

R17은 하기 화학식 2-1로 표시되고,R 17 is represented by the following formula 2-1,

n은 1 내지 5의 정수이고,n is an integer from 1 to 5,

[화학식 2-1][Formula 2-1]

Figure pat00003
Figure pat00003

상기 화학식 2-1에서,In Formula 2-1,

L1 내지 L3은 각각 독립적으로 단일 결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기 또는 *-O(C=O)NR’-*(R’은 수소 원자 또는 C1 내지 C10 알킬기임)이고,L 1 to L 3 are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group, or *-O(C=O)NR′-* (R′ is a hydrogen atom or a C1 to C10 alkyl group);

R18은 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 18 is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

[화학식 3][Formula 3]

Figure pat00004
Figure pat00004

상기 화학식 3에서,In Formula 3,

L4는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이다.L 4 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group.

상기 화학식 1에서, R13 내지 R16은 모두 수소 원자일 수 있다.In Formula 1, R 13 to R 16 may be all hydrogen atoms.

상기 화학식 1에서, R1 내지 R4 중 적어도 하나는 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되고, 나머지 셋은 할로겐 원자일 수 있다.In Formula 1, at least one of R 1 to R 4 may be represented by Formula 2 or Formula 3, and the other three may be halogen atoms.

상기 화학식 1에서, R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되고, 나머지 셋은 할로겐 원자일 수 있다.In Formula 1, at least one of R 5 to R 8 may be represented by Formula 2 or Formula 3, and the other three may be a halogen atom.

상기 화학식 1에서, R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되고, 나머지 셋은 할로겐 원자일 수 있다.In Formula 1, at least one of R 9 to R 12 may be represented by Formula 2 or Formula 3, and the other three may be a halogen atom.

상기 화학식 1에서, R1 내지 R4 중 하나, R5 내지 R8 중 하나 및 R9 내지 R12 중 하나로 이루어진 군에서 선택된 적어도 둘 이상은 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시될 수 있다.In Formula 1, at least two or more selected from the group consisting of one of R 1 to R 4 , one of R 5 to R 8 , and one of R 9 to R 12 may be represented by Formula 2 or Formula 3.

상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-5 중 어느 하나로 표시될 수 있다.The compound represented by Formula 1 may be represented by any one of Formulas 1-1 to 1-5 below.

[화학식 1-1][Formula 1-1]

Figure pat00005
Figure pat00005

[화학식 1-2][Formula 1-2]

Figure pat00006
Figure pat00006

[화학식 1-3][Formula 1-3]

Figure pat00007
Figure pat00007

[화학식 1-4][Formula 1-4]

Figure pat00008
Figure pat00008

[화학식 1-5][Formula 1-5]

Figure pat00009
Figure pat00009

상기 화합물은 녹색 염료일 수 있다.The compound may be a green dye.

상기 화합물은 645nm 내지 647nm 파장 영역에서 최대흡수파장을 가질 수 있다.The compound may have a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 645 nm to 647 nm.

다른 일 구현예는 상기 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.Another embodiment provides a photosensitive resin composition comprising the compound.

상기 화합물은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 1 중량% 내지 40 중량%로 포함될 수 있다.The compound may be included in an amount of 1 wt% to 40 wt% based on the total amount of the photosensitive resin composition.

상기 감광성 수지 조성물은 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition may further include an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent.

상기 감광성 수지 조성물은 안료를 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition may further include a pigment.

또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조되는 감광성 수지막을 제공한다.Another embodiment provides a photosensitive resin film prepared using the photosensitive resin composition.

또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터를 제공한다.Another embodiment provides a color filter including the photosensitive resin film.

또 다른 일 구현예는 상기 컬러필터를 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.Another embodiment provides a display device including the color filter.

기타 본 발명의 측면들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.The specific details of other aspects of the invention are included in the detailed description below.

일 구현예에 따른 화합물은 우수한 녹색 분광 특성과 높은 몰흡광계수를 가지고 유기 용매에 대한 용해도가 우수하여, 녹색 컬러필터용 감광성 수지 조성물 제조 시 염료로 사용될 수 있고, 상기 염료를 포함하는 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 이를 포함하는 컬러필터는 우수한 휘도, 명암비 및 내화학성을 가질 수 있다.The compound according to one embodiment has excellent green spectral properties and a high molar extinction coefficient, and has excellent solubility in organic solvents, so it can be used as a dye when preparing a photosensitive resin composition for a green color filter, and a photosensitive resin composition comprising the dye A photosensitive resin film prepared using the , and a color filter including the same may have excellent luminance, contrast ratio, and chemical resistance.

이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다.  다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, this is provided as an example, and the present invention is not limited thereto, and the present invention is only defined by the scope of the claims to be described later.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "치환" 내지 "치환된"이란, 본 발명의 작용기 중의 하나 이상의 수소 원자가 할로겐 원자(F, Cl, Br 또는 I), 히드록시기, 니트로기, 시아노기, 아미노기(NH2, NH(R200) 또는 N(R201)(R202)이고, 여기서 R200, R201 및 R202는 동일하거나 서로 상이하며, 각각 독립적으로 C1 내지 C10 알킬기임), 아미디노기, 하이드라진기, 하이드라존기, 카르복실기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 알키닐기, 치환 또는 비치환된 지환족 유기기, 치환 또는 비치환된 아릴기 및 치환 또는 비치환된 헤테로고리기로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 치환기로 치환된 것을 의미한다.Unless otherwise specified herein, "substituted" to "substituted" means that at least one hydrogen atom in the functional group of the present invention is a halogen atom (F, Cl, Br or I), a hydroxyl group, a nitro group, a cyano group, an amino group ( NH 2 , NH(R 200 ) or N(R 201 )(R 202 ), wherein R 200 , R 201 and R 202 are the same or different from each other, and each independently a C1 to C10 alkyl group), an amidino group, A hydrazine group, a hydrazone group, a carboxyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, a substituted or unsubstituted alicyclic organic group, a substituted or unsubstituted aryl group, and It means substituted with one or more substituents selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted heterocyclic group.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "알킬기"란 C1 내지 C20 알킬기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C15 알킬기를 의미하고, "사이클로알킬기"란 C3 내지 C20 사이클로알킬기를 의미하고, 구체적으로는 C3 내지 C18 사이클로알킬기를 의미하고, "알콕시기"란 C1 내지 C20 알콕시기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C18 알콕시기를 의미하고, "아릴기"란 C6 내지 C20 아릴기를 의미하고, 구체적으로는 C6 내지 C18 아릴기를 의미하고, "알케닐기"란 C2 내지 C20 알케닐기를 의미하고, 구체적으로는 C2 내지 C18 알케닐기를 의미하고, "알킬렌기"란 C1 내지 C20 알킬렌기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C18 알킬렌기를 의미하고, "아릴렌기"란 C6 내지 C20 아릴렌기를 의미하고, 구체적으로는 C6 내지 C16 아릴렌기를 의미한다.Unless otherwise specified herein, "alkyl group" means a C1 to C20 alkyl group, specifically means a C1 to C15 alkyl group, and "cycloalkyl group" means a C3 to C20 cycloalkyl group, specifically C3 to C18 cycloalkyl group, "alkoxy group" means a C1 to C20 alkoxy group, specifically means a C1 to C18 alkoxy group, "aryl group" means a C6 to C20 aryl group, specifically C6 to refers to a C18 aryl group, “alkenyl group” refers to a C2 to C20 alkenyl group, specifically refers to a C2 to C18 alkenyl group, and “alkylene group” refers to a C1 to C20 alkylene group, specifically C1 to C18 alkylene group, and “arylene group” means C6 to C20 arylene group, specifically, C6 to C16 arylene group.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "(메타)아크릴레이트"는 "아크릴레이트"와 "메타크릴레이트" 둘 다 가능함을 의미하며, "(메타)아크릴산"은 "아크릴산"과 "메타크릴산" 둘 다 가능함을 의미한다.Unless otherwise specified herein, "(meth)acrylate" means that both "acrylate" and "methacrylate" are possible, and "(meth)acrylic acid" is "acrylic acid" and "methacrylic acid" It means both are possible.

본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, "조합"이란 혼합 또는 공중합을 의미한다. 또한 "공중합"이란 블록 공중합 내지 랜덤 공중합을 의미하고, "공중합체"란 블록 공중합체 내지 랜덤 공중합체를 의미한다.Unless otherwise defined herein, "combination" means mixing or copolymerization. Also, "copolymerization" means block copolymerization or random copolymerization, and "copolymer" means block copolymerization or random copolymerization.

본 명세서 내 화학식에서 별도의 정의가 없는 한, 화학 결합이 그려져야 하는 위치에 화학결합이 그려져 있지 않은 경우는 상기 위치에 수소 원자가 결합되어 있음을 의미한다. Unless otherwise defined in the chemical formulas in the present specification, when a chemical bond is not drawn at a position where a chemical bond is to be drawn, it means that a hydrogen atom is bonded to the position.

또한, 본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, "*"는 동일하거나 상이한 원자 또는 화학식과 연결되는 부분을 의미한다. In addition, unless otherwise defined in the present specification, "*" means a moiety connected to the same or different atoms or chemical formulas.

일 구현예는 하기 화학식 1로 표시되는 프탈로시아닌계 화합물을 제공한다.One embodiment provides a phthalocyanine-based compound represented by the following formula (1).

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00010
Figure pat00010

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

R1 내지 R16은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기이고, 단 R1 내지 R4 중 하나, R5 내지 R8 중 하나 및 R9 내지 R12 중 하나로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나 이상은 하기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되고,R 1 to R 16 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryloxy group, with the proviso that one of R 1 to R 4 , R 5 At least one selected from the group consisting of one of to R 8 and one of R 9 to R 12 is represented by the following Chemical Formula 2 or Chemical Formula 3,

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00011
Figure pat00011

상기 화학식 2에서,In Formula 2,

R17은 하기 화학식 2-1로 표시되고,R 17 is represented by the following formula 2-1,

n은 1 내지 5의 정수이고,n is an integer from 1 to 5,

[화학식 2-1][Formula 2-1]

Figure pat00012
Figure pat00012

상기 화학식 2-1에서,In Formula 2-1,

L1 내지 L3은 각각 독립적으로 단일 결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기 또는 *-O(C=O)NR’-*(R’은 수소 원자 또는 C1 내지 C10 알킬기임)이고,L 1 to L 3 are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group, or *-O(C=O)NR′-* (R′ is a hydrogen atom or a C1 to C10 alkyl group);

R18은 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 18 is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

[화학식 3][Formula 3]

Figure pat00013
Figure pat00013

상기 화학식 3에서,In Formula 3,

L4는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이다.L 4 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group.

착색제로 안료를 사용한 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러필터에서는 안료 입자 크기에서 비롯되는 휘도와 명암비의 한계가 존재하기에, 휘도와 명암비 개선에 대한 필요성이 지속적으로 제기되고 있으며, 이를 달성하고자 안료 대신 입자를 이루지 않는 염료를 도입하여 염료에 적합한 감광성 수지 조성물을 제조하여 휘도와 명암비가 개선된 컬러필터를 구현하려는 노력이 계속되고 있고, 이러한 노력에 의해 안료 대신 염료를 주요 착색제로 사용한 감광성 수지 조성물의 경우, 휘도나 명암비 개선에는 어느정도 효과를 보여 왔다. In a color filter made of a photosensitive resin composition using a pigment as a colorant, there is a limit to the luminance and contrast ratio resulting from the size of the pigment particle, so the need to improve the luminance and contrast ratio is continuously raised. Efforts to implement a color filter with improved luminance and contrast ratio by preparing a photosensitive resin composition suitable for the dye by introducing a dye that does not form , has shown some effect on improving luminance or contrast ratio.

한편, 최근에는 종래 LCD와 같은 디스플레이 장치 외에 고체촬상소자 이미지 센서나 상보성 금속 산화물 반도체 이미지 센서 등에도 적용이 가능한 감광성 수지 조성물에 대한 요구가 급증하고 있는데, 종래 염료를 주요 착색제로 사용한 감광성 수지 조성물의 경우, 상기 이미지 센서에 적용 시 고색 구현이 불가하여, 고선명 컬러필터의 제조가 매우 어렵다는 문제가 새롭게 대두되고 있다. 상기와 같이 고색 구현이 불가한 것은 고체촬상소자 이미지 센서 등에 장착되는 컬러필터의 패턴 크기가 종래 LCD용 컬러필터 패턴 크기의 1/100배 내지 1/200배 정도로 매우 작기 때문인 것으로 생각된다. Meanwhile, in recent years, the demand for a photosensitive resin composition that can be applied to a solid-state image sensor or a complementary metal oxide semiconductor image sensor in addition to a conventional display device such as an LCD is rapidly increasing. In this case, when applied to the image sensor, it is impossible to realize a high color, so a problem that it is very difficult to manufacture a high-definition color filter is newly emerging. The reason why high color cannot be realized as described above is thought to be because the pattern size of a color filter mounted on a solid-state image sensor or the like is very small, about 1/100 to 1/200 times the size of a color filter pattern for a conventional LCD.

이에 본 발명의 발명자들은 오랜 연구 끝에, 프탈로시아닌계 화합물의 구조를 상기 화학식 1과 같이변형함으로써, 종래 LCD용 컬러필터 패턴 크기보다 100배 내지 200배 작은 크기를 가지는 패턴에도 용이하게 적용이 가능하여, 해상도를 증가시키고, 잔사를 감소시켜, 종래 감광성 수지 조성물과 비교하여 현상성이 우수한 컬러필터용 감광성 수지 조성물에 사용되는 염료 화합물을 개발하기에 이르렀다.Therefore, the inventors of the present invention, after a long study, by modifying the structure of the phthalocyanine-based compound as shown in Chemical Formula 1, it can be easily applied to a pattern having a size 100 to 200 times smaller than the color filter pattern size for a conventional LCD, By increasing the resolution and reducing the residue, a dye compound used in a photosensitive resin composition for a color filter having excellent developability compared to a conventional photosensitive resin composition has been developed.

예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 645nm 내지 647nm 파장 영역에서 최대흡수파장을 가질 수 있다. 동일한 계열의 프탈로시아닌계 화합물이라 하여도, 상기 화학식 1과 같은 구조를 가지지 못하는 프탈로시아닌계 화합물은 최대흡수파장이 나타나는 영역이 645nm 미만이거나 647nm 초과이기에, 상기 화학식 1로 표시되는 일 구현예에 따른 프타로시아닌계 화합물과 비교하여 유기용매에 대한 용해도가 저하될 뿐만 아니라, 이를 착색제로 포함하는 감광성 수지 조성물의 휘도 및 내화학성이 열등하다는 점에서, 큰 차이가 있다. 즉, 일 구현예에 따른 화합물은 프탈로시아닌계 화합물의 최대흡수파장 영역을 매우 미세하게 제어함으로써, 종래 프탈로시아닌계 화합물 대비 우수한 녹색 분광 특성과 높은 몰흡광계수를 가져, 휘도, 명암비 등의 색특성과 내화학성이 보다 향상된 감광성 수지 조성물을 제공할 수 있다.For example, the compound represented by Formula 1 may have a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 645 nm to 647 nm. Even if it is a phthalocyanine-based compound of the same series, the phthalocyanine-based compound that does not have the structure as in Formula 1 has a region where the maximum absorption wavelength appears is less than 645 nm or more than 647 nm, phthalocyanine according to an embodiment represented by Formula 1 Compared with the cyanine-based compound, there is a big difference in that the solubility in an organic solvent is lowered, and the luminance and chemical resistance of the photosensitive resin composition including the same as a colorant are inferior. That is, the compound according to an embodiment controls the maximum absorption wavelength region of the phthalocyanine-based compound very finely, and thus has superior green spectral properties and a high molar extinction coefficient compared to the conventional phthalocyanine-based compound, and has color characteristics such as luminance, contrast, and resistance It is possible to provide a photosensitive resin composition with more improved chemical properties.

예컨대, 상기 화학식 1에서, R13 내지 R16은 모두 수소 원자일 수 있다. 이 경우, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이 컬러필터용 감광성 수지 조성물 내 착색제로 사용하는 데 무리가 없을 뿐만 아니라, 고색 재현 이미지 센서로의 구현이 용이할 수 있다.For example, in Formula 1, R 13 to R 16 may be all hydrogen atoms. In this case, it is not difficult to use the compound represented by Chemical Formula 1 as a colorant in the photosensitive resin composition for a color filter, and it can be easily implemented as a high-color reproduction image sensor.

예컨대, 상기 화학식 2로 표시되는 치환기는 하기 화학식 2A로 표시될 수 있다.For example, the substituent represented by Formula 2 may be represented by Formula 2A below.

[화학식 2A][Formula 2A]

Figure pat00014
Figure pat00014

상기 화학식 2에서,In Formula 2,

R17은 상기 화학식 2-1로 표시된다.R 17 is represented by Formula 2-1.

상기 화학식 2A에서와 같이, R17로 표시되는 치환기가 파라(para) 위치에 치환되어 있을 경우, 휘도 및 내화학성을 더욱 향상시킬 수 있다. 예컨대, 상기 R17로 표시되는 치환기가 오르쏘(ortho) 및/또는 메타(meta) 위치에 치환될 경우, 컬러필터용 녹색화소 구현이 어려울 수 있다.As in Formula 2A, when the substituent represented by R 17 is substituted at the para position, brightness and chemical resistance may be further improved. For example, when the substituent represented by R 17 is substituted at an ortho and/or meta position, it may be difficult to implement a green pixel for a color filter.

예컨대, 상기 화학식 1에서, 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되는 치환기는 1개 내지 3개일 수 있다. 상기 화학식 1에서, 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되는 치환기가 존재하지 않을 경우 휘도나 명암비 향상 등의 색특성 향상 효과를 기대할 수 없고, 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되는 치환기가 4개 이상 존재할 경우 저장안정성이 떨어져 바람직하지 않을 수 있다. 예컨대, 상기 화학식 1에서, i) 상기 R1 내지 R4 중 하나, R5 내지 R8 중 하나 및 R9 내지 R12 중 하나로 이루어진 군에서 선택된 하나는 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되거나, ii) 상기 R1 내지 R4 중 하나, R5 내지 R8 중 하나 및 R9 내지 R12 중 하나로 이루어진 군에서 선택된 둘은 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되거나, iii) 상기 R1 내지 R4 중 하나, R5 내지 R8 중 하나 및 R9 내지 R12 중 하나로 이루어진 군에서 선택된 셋은 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시될 수 있다.For example, in Formula 1, 1 to 3 substituents represented by Formula 2 or Formula 3 may be present. In Formula 1, when the substituents represented by Formula 2 or Formula 3 do not exist, the effect of improving color characteristics such as improvement of brightness or contrast cannot be expected, and four or more substituents represented by Formula 2 or Formula 3 exist. In this case, it may be undesirable due to poor storage stability. For example, in Formula 1, i) one selected from the group consisting of one of R 1 to R 4 , one of R 5 to R 8 , and one of R 9 to R 12 is represented by Formula 2 or Formula 3, or ii ) one of R 1 to R 4 , one of R 5 to R 8 , and one of R 9 to R 12 are represented by Formula 2 or Formula 3, or iii) among R 1 to R 4 One, three selected from the group consisting of one of R 5 to R 8 and one of R 9 to R 12 may be represented by Formula 2 or Formula 3 above.

예컨대, 상기 화학식 1에서, R1 내지 R4 중 적어도 하나는 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되고, 나머지 셋은 할로겐 원자일 수 있다. 이 때, 상기 R5 내지 R8은 모두 수소 원자 또는 할로겐 원자일 수 있고, 상기 R13 내지 R16은 모두 수소 원자일 수 있다.For example, in Formula 1, at least one of R 1 to R 4 may be represented by Formula 2 or Formula 3, and the other three may be halogen atoms. In this case, R 5 to R 8 may be all hydrogen atoms or halogen atoms, and R 13 to R 16 may be all hydrogen atoms.

예컨대, 상기 화학식 1에서, R1 내지 R4 중 적어도 하나는 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되고, 나머지 셋은 할로겐 원자일 수 있고, R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되고, 나머지 셋은 할로겐 원자일 수 있다. 이 때, 상기 R9 내지 R16는 모두 수소 원자일 수 있다.For example, in Formula 1, at least one of R 1 to R 4 may be represented by Formula 2 or Formula 3, the other three may be a halogen atom, and at least one of R 5 to R 8 may be represented by Formula 2 or Formula 3 , and the remaining three may be halogen atoms. In this case, all of R 9 to R 16 may be hydrogen atoms.

예컨대, 상기 화학식 1에서, R1 내지 R4 중 적어도 하나는 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되고, 나머지 셋은 할로겐 원자일 수 있고, R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되고, 나머지 셋은 할로겐 원자일 수 있다. 이 때, 상기 R5 내지 R8 및 R13 내지 R16는 모두 수소 원자일 수 있다.For example, in Formula 1, at least one of R 1 to R 4 may be represented by Formula 2 or Formula 3, the other three may be a halogen atom, and at least one of R 9 to R 12 may be represented by Formula 2 or Formula 3 , and the remaining three may be halogen atoms. In this case, R 5 to R 8 and R 13 to R 16 may all be hydrogen atoms.

예컨대, 상기 화학식 1에서, R1 내지 R4 중 적어도 하나는 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되고, 나머지 셋은 할로겐 원자일 수 있고, R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되고, 나머지 셋은 할로겐 원자일 수 있고, R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되고, 나머지 셋은 할로겐 원자일 수 있다. 이 때, 상기 R13 내지 R16은 모두 수소 원자일 수 있다.For example, in Formula 1, at least one of R 1 to R 4 may be represented by Formula 2 or Formula 3, the other three may be a halogen atom, and at least one of R 5 to R 8 may be represented by Formula 2 or Formula 3 , the remaining three may be halogen atoms, at least one of R 9 to R 12 may be represented by Formula 2 or Formula 3, and the remaining three may be halogen atoms. In this case, all of R 13 to R 16 may be hydrogen atoms.

예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 프탈로시아닌계 화합물은 모체에 4개 이상의 수소원자 및 6개 이상의 할로겐 원자를 포함하고, 나아가 상기 할로겐 원자를 포함하는 벤젠고리에 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되는 치환기가 포함되는 구조적 특징으로 인해 유기용매에 대한 용해도를 더욱 향상시킬 수 있다. 보다 구체적으로 상기 화학식 1로 표시되는 프탈로시아닌계 화합물은 a) R1 내지 R4로 표시되는 기를 가지는 벤젠고리, b) R5 내지 R8로 표시되는 기를 가지는 벤젠고리, c) R9 내지 R12로 표시되는 기를 가지는 벤젠고리 및 d) R13 내지 R16으로 표시되는 기를 가지는 벤젠고리의 4개의 벤젠고리를 모체에 포함하는데, 상기 4개의 벤젠고리 중 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되는 치환기를 포함하는 벤젠고리는 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되는 치환기 외 나머지 3개의 기가 모두 할로겐 원자이며, 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되는 치환기를 포함하지 않는 벤젠고리의 4개의 기는 모두 수소 원자 또는 할로겐 원자일 수 있고, 이러한 구조적 특징으로 인해 최대흡수파장이 나타나는 영역을 645nm 내지 647nm로 용이하게 제어할 수 있어, 유기용매에 대한 용해도를 더욱 향상시킬 수 있으며, 휘도 향상 및 공정특성의 확보 측면에서도 유리할 수 있다.For example, the phthalocyanine-based compound represented by Formula 1 includes 4 or more hydrogen atoms and 6 or more halogen atoms in the parent, and further, a substituent represented by Formula 2 or Formula 3 on the benzene ring including the halogen atom Solubility in organic solvents can be further improved due to the structural features included. More specifically, the phthalocyanine-based compound represented by Formula 1 is a) a benzene ring having a group represented by R 1 to R 4 , b) a benzene ring having a group represented by R 5 to R 8 c) R 9 to R 12 A benzene ring having a group represented by and d) four benzene rings of a benzene ring having a group represented by R 13 to R 16 are included in the parent, and a substituent represented by Formula 2 or Formula 3 among the four benzene rings is In the benzene ring including, all other three groups other than the substituents represented by Formula 2 or Formula 3 are halogen atoms, and all four groups of the benzene ring not including the substituents represented by Formula 2 or Formula 3 are hydrogen atoms or halogens. It can be an atom, and due to this structural feature, the region where the maximum absorption wavelength appears can be easily controlled from 645 nm to 647 nm, which can further improve solubility in organic solvents, and is advantageous in terms of improving luminance and securing process characteristics. can

무엇보다도 동일 계열의 프탈로시아닌계 화합물이라 하여도, 상기 화학식 1로 표시되는 구조를 가지지 않을 경우, 645nm 내지 647nm 파장영역 내에서 최대흡수파장이 나타나지 않기에, 이러한 프탈로시아닌계 화합물을 착색제로 포함하는 감광성 수지 조성물은 휘도 및 내화학성이 크게 저하되거나 고색 구현이 불가하다. 즉, 일 구현예에 따른 프탈로시아닌계 화합물은 최대흡수파장이 나타나는 영역이 645nm 내지 647nm이면서, 동시에 상기 화학식 1로 표시되는 구조를 가진다는 점에서, 종래 프탈로시아닌계 화합물과는 구조적 및 분광학적인 측면에서 차이가 있다.Above all, even if it is a phthalocyanine-based compound of the same series, if it does not have the structure represented by Chemical Formula 1, the maximum absorption wavelength does not appear in the wavelength range of 645 nm to 647 nm. A photosensitive resin containing such a phthalocyanine-based compound as a colorant The composition has greatly reduced luminance and chemical resistance, or cannot achieve high color. That is, the phthalocyanine-based compound according to an embodiment is different from the conventional phthalocyanine-based compound in structural and spectroscopic aspects in that the region where the maximum absorption wavelength appears is 645 nm to 647 nm, and at the same time has the structure represented by Chemical Formula 1 there is

예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-5 중 어느 하나로 표시될 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the compound represented by Formula 1 may be represented by any one of Formulas 1-1 to 1-5, but is not necessarily limited thereto.

[화학식 1-1][Formula 1-1]

Figure pat00015
Figure pat00015

[화학식 1-2][Formula 1-2]

Figure pat00016
Figure pat00016

[화학식 1-3][Formula 1-3]

Figure pat00017
Figure pat00017

[화학식 1-4][Formula 1-4]

Figure pat00018
Figure pat00018

[화학식 1-5][Formula 1-5]

Figure pat00019
Figure pat00019

예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 프탈로시아닌계 화합물은 1개 내지 3개의 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되는 치환기를 포함하기 때문에 적은 양으로도 보다 선명한 색의 발현이 가능하여, 착색제로 사용 시 휘도나 명암비 등의 색특성이 우수한 디스플레이 소자의 제조가 가능하다. 예컨대, 상기 화합물은 착색제, 예컨대 염료, 예컨대 녹색 염료일 수 있다.For example, since the phthalocyanine-based compound represented by Formula 1 includes one to three substituents represented by Formula 2 or Formula 3, a clearer color can be expressed even with a small amount, so that when used as a colorant, luminance or It is possible to manufacture a display device having excellent color characteristics such as contrast ratio. For example, the compound may be a colorant, such as a dye, such as a green dye.

일반적으로, 염료는 컬러필터 내에 사용되는 구성성분 중 가장 고가의 구성성분이다. 그러므로, 원하는 효과, 예컨대 고휘도나 고명암비 등을 달성하기 위해서는 고가의 염료를 더 많이 사용해야 하기 때문에 생산 단가가 상승할 수 밖에 없었다. 그러나, 일 구현예에 따른 화합물을 컬러필터 내 염료로 사용하는 경우, 적은 양으로도 고휘도, 고명암비 등의 우수한 색특성을 달성할 수 있어 생산 단가의 절감이 가능하다.In general, the dye is the most expensive component among the components used in the color filter. Therefore, in order to achieve a desired effect, for example, high luminance or high contrast ratio, more expensive dyes must be used, which inevitably increases the production cost. However, when the compound according to one embodiment is used as a dye in a color filter, excellent color characteristics such as high brightness and high contrast ratio can be achieved even with a small amount, so that production cost can be reduced.

다른 일 구현예에 따르면, 상기 일 구현예에 따른 프탈로시아닌계 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.According to another embodiment, there is provided a photosensitive resin composition comprising the phthalocyanine-based compound according to the embodiment.

예컨대, 상기 감광성 수지 조성물은 상기 일 구현예에 따른 프탈로시아닌계 화합물, 바인더 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 포함할 수 있다.For example, the photosensitive resin composition may include a phthalocyanine-based compound, a binder resin, a photopolymerizable compound, a photoinitiator, and a solvent according to the exemplary embodiment.

일 구현예에 따른 화합물은 감광성 수지 조성물 내에서 착색제, 예컨대 염료, 예컨대 녹색 염료로서의 역할을 하여, 우수한 색특성을 발현할 수 있다.The compound according to the exemplary embodiment may serve as a colorant, such as a dye, such as a green dye, in the photosensitive resin composition, thereby exhibiting excellent color characteristics.

일 구현예에 따른 화합물은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 1 중량% 내지 40 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 40 중량%, 예컨대 20 중량% 내지 40 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 30 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위로 일 구현예에 따른 화합물이 포함될 경우 색재현율 및 명암비가 우수해진다. The compound according to one embodiment is 1% to 40% by weight, such as 10% to 40% by weight, such as 20% to 40% by weight, such as 1% to 30% by weight, such as based on the total amount of the photosensitive resin composition It may be included in an amount of 1% to 20% by weight, such as 1% to 10% by weight. When the compound according to an embodiment is included in the above range, the color gamut and contrast ratio are excellent .

상기 감광성 수지 조성물은 안료, 예컨대 황색 안료, 녹색 안료 또는 이들의 조합을 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition may further include a pigment, such as a yellow pigment, a green pigment, or a combination thereof.

상기 황색 안료는 컬러 인덱스(Color Index) 내에서 C.I. 안료 황색 138, C.I. 안료 황색 139, C.I. 안료 황색 150 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The yellow pigment has C.I. Pigment Yellow 138, C.I. Pigment Yellow 139, C.I. Pigment Yellow 150 etc. are mentioned, These can be used individually or in mixture of 2 or more types.

상기 녹색 안료는 컬러 인덱스(Color Index) 내에서 C.I. 안료 녹색 36, C.I. 안료 녹색 58, C.I. 안료 녹색 59 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The green pigment has C.I. Pigment Green 36, C.I. Pigment Green 58, C.I. Pigment Green 59 etc. are mentioned, These can be used individually or in mixture of 2 or more types.

상기 안료는 안료분산액의 형태로 상기 감광성 수지 조성물에 포함될 수 있다.The pigment may be included in the photosensitive resin composition in the form of a pigment dispersion.

상기 안료분산액은 고형분의 안료, 용제 및 상기 용제 내에 상기 안료를 균일하게 분산시키기 위한 분산제를 포함할 수 있다.The pigment dispersion may include a solid pigment, a solvent, and a dispersing agent for uniformly dispersing the pigment in the solvent.

상기 고형분의 안료는 안료분산액 총량에 대하여 1 중량%내지 20 중량%, 예컨대 8 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 8 중량% 내지 15 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 15 중량%로 포함될 수 있다.The solid content of the pigment is 1% to 20% by weight, such as 8% to 20% by weight, such as 8% to 15% by weight, such as 10% to 20% by weight, such as 10% to 20% by weight, based on the total amount of the pigment dispersion. It may be included in 15% by weight.

상기 분산제로는 비이온성 분산제, 음이온성 분산제, 양이온성 분산제 등을 사용할 수 있다.  상기 분산제의 구체적인 예로는, 폴리알킬렌글리콜 및 이의 에스테르, 폴리옥시알킬렌, 다가알코올 에스테르 알킬렌 옥사이드 부가물, 알코올알킬렌 옥사이드 부가물, 술폰산 에스테르, 술폰산 염, 카르복실산 에스테르, 카르복실산 염, 알킬아미드 알킬렌 옥사이드 부가물, 알킬 아민 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.As the dispersant, a nonionic dispersant, an anionic dispersant, a cationic dispersant, and the like may be used. Specific examples of the dispersant include polyalkylene glycol and its esters, polyoxyalkylene, polyalcohol ester alkylene oxide adduct, alcohol alkylene oxide adduct, sulfonic acid ester, sulfonic acid salt, carboxylic acid ester, carboxylic acid salts, alkylamide alkylene oxide adducts, alkyl amines, and the like, and these may be used alone or in combination of two or more.

상기 분산제의 시판되는 제품을 예로 들면, BYK社의 DISPERBYK-101, DISPERBYK-130, DISPERBYK-140, DISPERBYK-160, DISPERBYK-161, DISPERBYK-162, DISPERBYK-163, DISPERBYK-164, DISPERBYK-165, DISPERBYK-166, DISPERBYK-170, DISPERBYK-171, DISPERBYK-182, DISPERBYK-2000, DISPERBYK-2001 등; EFKA 케미칼社의EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA-48, EFKA-49, EFKA-100, EFKA-400, EFKA-450 등; Zeneka社의 Solsperse 5000,Solsperse 12000, Solsperse 13240, Solsperse 13940, Solsperse 17000, Solsperse 20000, Solsperse24000GR, Solsperse 27000, Solsperse 28000 등; 또는 Ajinomoto社의 PB711, PB821 등이 있다.Examples of commercially available products of the dispersant include BYK's DISPERBYK-101, DISPERBYK-130, DISPERBYK-140, DISPERBYK-160, DISPERBYK-161, DISPERBYK-162, DISPERBYK-163, DISPERBYK-164, DISPERBYK-165, DISPERBYK -166, DISPERBYK-170, DISPERBYK-171, DISPERBYK-182, DISPERBYK-2000, DISPERBYK-2001, etc.; EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA-48, EFKA-49, EFKA-100, EFKA-400, EFKA-450, etc. from EFKA Chemicals; Solsperse 5000, Solsperse 12000, Solsperse 13240, Solsperse 13940, Solsperse 17000, Solsperse 20000, Solsperse24000GR, Solsperse 27000, Solsperse 28000, etc. from Zeneka; or Ajinomoto's PB711 and PB821.

상기 분산제는 안료분산액 총량에 대하여 1 중량% 내지 20 중량%로 포함될 수 있다. 분산제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 적절한 점도를 유지할 수 있어 감광성 수지 조성물의 분산성이 우수하며, 이로 인해 제품 적용시 광학적, 물리적 및 화학적 품질을 유지할 수 있다.The dispersant may be included in an amount of 1 wt% to 20 wt% based on the total amount of the pigment dispersion. When the dispersant is included within the above range, it is possible to maintain an appropriate viscosity and thus the photosensitive resin composition has excellent dispersibility, thereby maintaining optical, physical and chemical quality when applying the product.

상기 안료분산액을 형성하는 용제로는 에틸렌글리콜 아세테이트, 에틸셀로솔브, 프로필렌글리콜 메틸에테르아세테이트, 에틸락테이트, 폴리에틸렌글리콜, 사이클로헥사논, 프로필렌글리콜 메틸에테르 등을 사용할 수 있다. As a solvent for forming the pigment dispersion, ethylene glycol acetate, ethyl cellosolve, propylene glycol methyl ether acetate, ethyl lactate, polyethylene glycol, cyclohexanone, propylene glycol methyl ether, etc. may be used.

상기 안료분산액은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 10 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 12 중량% 내지 18 중량%로 포함될 수 있다. 상기 안료분산액이 상기 범위 내로 포함될 경우, 공정마진 확보에 유리하고, 색재현율 및 명암비가 우수해진다.The pigment dispersion may be included in an amount of 10 wt% to 20 wt%, for example 12 wt% to 18 wt%, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the pigment dispersion is included within the above range, it is advantageous to secure a process margin, and the color reproducibility and contrast ratio are excellent.

상기 바인더 수지는 아크릴계 수지일 수 있다.The binder resin may be an acrylic resin.

상기 아크릴계 수지는 제1 에틸렌성 불포화 단량체 및 이와 공중합 가능한 제2 에틸렌성 불포화 단량체의 공중합체로, 하나 이상의 아크릴계 반복단위를 포함하는 수지이다. The acrylic resin is a copolymer of a first ethylenically unsaturated monomer and a second ethylenically unsaturated monomer copolymerizable therewith, and is a resin including one or more acrylic repeating units.

상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 하나 이상의 카르복시기를 함유하는 에틸렌성 불포화 단량체이며, 이의 구체적인 예로는 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 이타콘산, 푸마르산또는 이들의 조합을 들 수 있다.The first ethylenically unsaturated monomer is an ethylenically unsaturated monomer containing at least one carboxyl group, and specific examples thereof include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, or a combination thereof.

상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 상기 아크릴계 바인더 수지 총량에 대하여 5 중량% 내지 50 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 40 중량%로 포함될 수 있다.The first ethylenically unsaturated monomer may be included in an amount of 5 wt% to 50 wt%, for example 10 wt% to 40 wt%, based on the total amount of the acrylic binder resin.

상기 제2 에틸렌성 불포화 단량체는 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 비닐벤질메틸에테르 등의 방향족 비닐 화합물; 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시 부틸(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 에스테르 화합물; 2-아미노에틸(메타)아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 아미노 알킬 에스테르 화합물; 초산비닐, 안식향산 비닐 등의 카르복시산 비닐 에스테르 화합물; 글리시딜(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 글리시딜 에스테르 화합물; (메타)아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물; (메타)아크릴아미드 등의 불포화 아미드 화합물; 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The second ethylenically unsaturated monomer may be an aromatic vinyl compound such as styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene or vinylbenzylmethyl ether; Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, unsaturated carboxylic acid ester compounds such as cyclohexyl (meth) acrylate and phenyl (meth) acrylate; unsaturated carboxylic acid amino alkyl ester compounds such as 2-aminoethyl (meth)acrylate and 2-dimethylaminoethyl (meth)acrylate; Carboxylic acid vinyl ester compounds, such as vinyl acetate and a vinyl benzoate; unsaturated carboxylic acid glycidyl ester compounds such as glycidyl (meth)acrylate; Vinyl cyanide compounds, such as (meth)acrylonitrile; unsaturated amide compounds such as (meth)acrylamide; and the like, and these may be used alone or in combination of two or more.

상기 아크릴계 수지의 구체적인 예로는 (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 이들을 단독 또는 2종 이상을 배합하여 사용할 수도 있다.Specific examples of the acrylic resin include (meth)acrylic acid/benzyl methacrylate copolymer, (meth)acrylic acid/benzyl methacrylate/styrene copolymer, (meth)acrylic acid/benzyl methacrylate/2-hydroxyethyl methacrylic Late copolymer, (meth)acrylic acid / benzyl methacrylate / styrene / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymer, etc. may be mentioned, but are not limited thereto, and these may be used alone or in combination of two or more. .

예컨대, 상기 바인더 수지는 상기 아크릴계 수지와 함께 에폭시계 수지를 더 포함할 수 있다.For example, the binder resin may further include an epoxy resin together with the acrylic resin.

상기 바인더 수지의 중량평균 분자량은 3,000 g/mol 내지 150,000 g/mol, 예컨대 5,000 g/mol 내지 50,000 g/mol, 예컨대 20,000 g/mol 내지 30,000 g/mol 일 수 있다. 상기 바인더 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위 내일 경우, 상기 감광성 수지 조성물의 물리적 및 화학적 물성이 우수하고 점도가 적절하며, 컬러필터 제조시 기판과의 밀착성이 우수하다.The weight average molecular weight of the binder resin may be 3,000 g/mol to 150,000 g/mol, such as 5,000 g/mol to 50,000 g/mol, such as 20,000 g/mol to 30,000 g/mol. When the weight average molecular weight of the binder resin is within the above range, the photosensitive resin composition has excellent physical and chemical properties, has an appropriate viscosity, and has excellent adhesion to a substrate when manufacturing a color filter.

상기 바인더 수지의 산가는 15 mgKOH/g 내지 60 mgKOH/g, 예컨대 20 mgKOH/g 내지 50 mgKOH/g 일 수 있다. 상기 바인더 수지의 산가가 상기 범위 내일 경우 픽셀 패턴의 해상도가 우수하다.The acid value of the binder resin may be 15 mgKOH/g to 60 mgKOH/g, for example, 20 mgKOH/g to 50 mgKOH/g  . When the acid value of the binder resin is within the above range, the resolution of the pixel pattern is excellent.

상기 바인더 수지는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 15 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다. 상기 바인더 수지가 상기 범위 내로 포함될 경우, 컬러필터 제조시 현상성이 우수하며 가교성이 개선되어 우수한 표면 평활도를 얻을 수 있다.The binder resin may be included in an amount of 1 wt% to 20 wt%, for example 1 wt% to 15 wt%, for example 1 wt% to 10 wt%, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the binder resin is included in the above range, excellent developability and improved crosslinking properties can be obtained during the manufacture of a color filter, thereby obtaining excellent surface smoothness.

상기 광중합성 화합물은 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 (메타)아크릴산의 일관능 또는 다관능 에스테르가 사용될 수 있다.The photopolymerizable compound may be a monofunctional or polyfunctional ester of (meth)acrylic acid having at least one ethylenically unsaturated double bond.

상기 광중합성 화합물은 상기 에틸렌성 불포화 이중결합을 가짐으로써, 패턴 형성 공정에서 노광시 충분한 중합을 일으킴으로써 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수한 패턴을 형성할 수 있다.Since the photopolymerizable compound has the ethylenically unsaturated double bond, it is possible to form a pattern having excellent heat resistance, light resistance and chemical resistance by causing sufficient polymerization during exposure in the pattern forming process.

상기 광중합성 화합물의 구체적인 예로는, 에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 프로필렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 에폭시(메타)아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 (메타)아크릴레이트, 트리메틸올 프로판 트리(메타)아크릴레이트, 트리스(메타)아크릴로일옥시에틸 포스페이트, 노볼락에폭시 (메타)아크릴레이트등을 들 수 있다. Specific examples of the photopolymerizable compound include ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, propylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol Di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, bisphenol A di(meth)acrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate , pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol di (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) Acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, bisphenol A epoxy (meth) acrylate, ethylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, trimethylol propane tri ( and meth)acrylate, tris(meth)acryloyloxyethyl phosphate, and novolac epoxy (meth)acrylate.

상기 광중합성 화합물의 시판되는 제품을 예로 들면 다음과 같다. 상기 (메타)아크릴산의 일관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-101®, 동 M-111®, 동 M-114® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD TC-110S®, 동 TC-120S® 등; 오사카 유끼 가가꾸 고교(주)社의 V-158®, V-2311® 등을 들 수 있다. 상기 (메타)아크릴산의 이관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-210®, 동 M-240®, 동 M-6200® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD HDDA®, 동 HX-220®, 동 R-604® 등; 오사카 유끼 가가꾸 고교(주)社의 V-260®, V-312®, V-335 HP® 등을 들 수 있다. 상기 (메타)아크릴산의 삼관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-309®, 동 M-400®, 동 M-405®, 동 M-450®, 동 M-710®, 동 M-8030®, 동 M-8060® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD TMPTA®, 동 DPCA-20®, 동-30®, 동-60®, 동-120® 등; 오사카 유끼 가야꾸 고교(주)社의 V-295®, 동-300®, 동-360®, 동-GPT®, 동-3PA®, 동-400® 등을 들 수 있다. 상기 제품을 단독 사용 또는 2종 이상 함께 사용할 수 있다.Examples of commercially available products of the photopolymerizable compound are as follows. Examples of the monofunctional ester of (meth)acrylic acid include Aronix M-101 ® , M-111 ® , M-114 ® by Toagosei Chemical Co., Ltd.; Nihon Kayaku Co., Ltd.'s KAYARAD TC-110S ® , Copper TC-120S ® , etc.; V-158 ® and V-2311 ® of Osaka Yuki Chemical High School Co., Ltd. are mentioned. Examples of the bifunctional ester of (meth)acrylic acid, Toagosei Chemical Co., Ltd. Aronix M-210 ® , copper M-240 ® , copper M-6200 ® and the like; Nihon Kayaku Co., Ltd.'s KAYARAD HDDA ® , Copper HX-220 ® , Copper R-604 ® , etc.; and V-260 ® , V-312 ® , V-335 HP ® of Osaka Yuki Chemical High School Co., Ltd. and the like. Examples of the trifunctional ester of (meth)acrylic acid, Toagosei Chemical Co., Ltd. Aronix M-309 ® , copper M-400 ® , copper M-405 ® , copper M-450 ® , copper M -710 ® , copper M-8030 ® , copper M-8060 ® , etc.; Nihon Kayaku Co., Ltd.'s KAYARAD TMPTA ® , Copper DPCA-20 ® , Copper-30 ® , Copper-60 ® , Copper-120 ® etc.; V-295 ® , Dong-300 ® , Dong-360 ® , Dong-GPT ® , Dong-3PA ® , Dong-400 ® etc. from Osaka Yuki Kayaku High School Co., Ltd. are mentioned. These products may be used alone or in combination of two or more.

상기 광중합성 화합물은 보다 우수한 현상성을 부여하기 위하여 산무수물로 처리하여 사용할 수도 있다.The photopolymerizable compound may be used after treatment with an acid anhydride in order to provide better developability.

상기 광중합성 화합물은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 15 중량%, 예컨대 1중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다. 상기 광중합성 화합물이 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광시 경화가 충분히 일어나 신뢰성이 우수하며, 알칼리 현상액에의 현상성이 우수하다.The photopolymerizable compound may be included in an amount of 1 wt% to 15 wt%, for example 1 wt% to 10 wt%, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the photopolymerizable compound is included within the above range, curing occurs sufficiently during exposure in the pattern forming process to provide excellent reliability and excellent developability in an alkaline developer.

상기 광중합 개시제는 감광성 수지 조성물에 일반적으로 사용되는 개시제로서, 예를 들어 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 벤조인계 화합물, 트리아진계 화합물, 옥심계 화합물, 또는 이들의 조합을 사용할 수 있다. The photopolymerization initiator is an initiator generally used in the photosensitive resin composition, for example, an acetophenone-based compound, a benzophenone-based compound, a thioxanthone-based compound, a benzoin-based compound, a triazine-based compound, an oxime-based compound, or a combination thereof can be used

상기 아세토페논계 화합물의 예로는, 2,2'-디에톡시 아세토페논, 2,2'-디부톡시 아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로피오페논, p-t-부틸트리클로로 아세토페논, p-t-부틸디클로로 아세토페논, 4-클로로 아세토페논, 2,2'-디클로로-4-페녹시 아세토페논, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-부탄-1-온 등을 들 수 있다.Examples of the acetophenone-based compound include 2,2'-diethoxy acetophenone, 2,2'-dibutoxy acetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, p-t-butyltrichloroacetophenone, p-t -Butyldichloro acetophenone, 4-chloro acetophenone, 2,2'-dichloro-4-phenoxy acetophenone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholino propane-1 -one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one, etc. are mentioned.

상기 벤조페논계 화합물의 예로는, 벤조페논, 벤조일 안식향산, 벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 히드록시 벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디메틸-2-메톡시벤조페논 등을 들 수 있다.Examples of the benzophenone-based compound include benzophenone, benzoylbenzoic acid, methylbenzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone, acrylated benzophenone, 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone, 4,4 '-bis(diethylamino)benzophenone, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3'-dimethyl-2-methoxybenzophenone, etc. are mentioned.

상기 티오크산톤계 화합물의 예로는, 티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 이소프로필 티오크산톤, 2,4-디에틸 티오크산톤, 2,4-디이소프로필 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 등을 들 수 있다.Examples of the thioxanthone-based compound include thioxanthone, 2-methylthioxanthone, isopropyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2,4-diisopropyl thioxanthone, 2- Chlorothioxanthone etc. are mentioned.

상기 벤조인계 화합물의 예로는, 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다.Examples of the benzoin-based compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzyldimethyl ketal.

상기 트리아진계 화합물의 예로는, 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐 4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(3', 4'-디메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-톨릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-비페닐 4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 비스(트리클로로메틸)-6-스티릴-s-트리아진, 2-(나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-s-트리아진 등을 들 수 있다.Examples of the triazine-based compound include 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl 4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(3', 4'- Dimethoxystyryl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4'-methoxynaphthyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(p-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(p-tolyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-biphenyl 4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, bis(trichloromethyl)-6-styryl-s-triazine, 2-(naphtho-1-yl)-4, 6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4-methoxynaphtho-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-4-bis (trichloromethyl)-6-piperonyl-s-triazine, 2-4-bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxystyryl)-s-triazine, etc. are mentioned.

상기 옥심계 화합물의 예로는, O-아실옥심계 화합물, 2-(o-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온, 1-(o-아세틸옥심)-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄온, O-에톡시카르보닐-α-옥시아미노-1-페닐프로판-1-온 등을 사용할 수 있다. 상기 O-아실옥심계 화합물의 구체적인 예로는, 1,2-옥탄디온, 2-디메틸아미노-2-(4-메틸벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온, 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1,2-디온2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1,2-디온2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1-온옥심-O-아세테이트 및 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1-온옥심-O-아세테이트 등을 들 수 있다. Examples of the oxime-based compound include an O-acyloxime-based compound, 2-(o-benzoyloxime)-1-[4-(phenylthio)phenyl]-1,2-octanedione, and 1-(o-acetyloxime). )-1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]ethanone, O-ethoxycarbonyl-α-oxyamino-1-phenylpropan-1-one etc. can be used. Specific examples of the O-acyloxime compound include 1,2-octanedione, 2-dimethylamino-2-(4-methylbenzyl)-1-(4-morpholin-4-yl-phenyl)-butane- 1-one, 1-(4-phenylsulfanylphenyl)-butane-1,2-dione2-oxime-O-benzoate, 1-(4-phenylsulfanylphenyl)-octane-1,2-dione2 -oxime-O-benzoate, 1-(4-phenylsulfanylphenyl)-octane-1-oneoxime-O-acetate and 1-(4-phenylsulfanylphenyl)-butan-1-oneoxime-O- Acetate etc. are mentioned.

상기 광중합 개시제는 상기 화합물 이외에도 카바졸계 화합물, 디케톤류 화합물, 술포늄 보레이트계 화합물, 디아조계 화합물, 이미다졸계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 플루오렌계 화합물 등을 사용할 수 있다.As the photopolymerization initiator, a carbazole-based compound, a diketone-based compound, a sulfonium borate-based compound, a diazo-based compound, an imidazole-based compound, a biimidazole-based compound, or a fluorene-based compound may be used in addition to the above compound.

상기 광중합 개시제는 빛을 흡수하여 들뜬 상태가 된 후 그 에너지를 전달함으로써 화학반응을 일으키는 광 증감제와 함께 사용될 수도 있다.The photopolymerization initiator may be used together with a photosensitizer that causes a chemical reaction by absorbing light to enter an excited state and then transferring the energy.

상기 광 증감제의 예로는, 테트라에틸렌글리콜 비스-3-머캡토 프로피오네이트, 펜타에리트리톨 테트라키스-3-머캡토 프로피오네이트, 디펜타에리트리톨 테트라키스-3-머캡토 프로피오네이트 등을 들 수 있다.Examples of the photosensitizer include tetraethylene glycol bis-3-mercaptopropionate, pentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate, dipentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate, and the like. can be heard

상기 광중합 개시제는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.01 중량% 내지 10 중량%, 예컨대 0.1 중량% 내지 5 중량%로 포함될 수 있다. 광중합 개시제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광시 경화가 충분히 일어나 우수한 신뢰성을 얻을 수 있으며, 패턴의 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수하고, 해상도 및 밀착성 또한 우수하며, 미반응 개시제로 인한 투과율의 저하를 막을 수 있다.The photopolymerization initiator may be included in an amount of 0.01 wt% to 10 wt%, for example, 0.1 wt% to 5 wt%, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the photopolymerization initiator is included within the above range, curing occurs sufficiently during exposure in the pattern forming process to obtain excellent reliability, and the pattern has excellent heat resistance, light resistance and chemical resistance, and also has excellent resolution and adhesion. A decrease in transmittance can be prevented.

상기 용매는 일 구현예에 따른 화합물, 안료, 바인더 수지, 광중합성 화합물 및 광중합 개시제와의 상용성을 가지되 반응하지 않는 물질들이 사용될 수 있다.As the solvent, materials having compatibility with but not reacting with the compound, pigment, binder resin, photopolymerizable compound, and photoinitiator according to the embodiment may be used.

상기 용매의 예로는, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 디클로로에틸 에테르, n-부틸 에테르, 디이소아밀 에테르, 메틸페닐 에테르, 테트라히드로퓨란 등의 에테르류; 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 메틸 셀로솔브 아세테이트, 에틸 셀로솔브 아세테이트, 디에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 셀로솔브 아세테이트류; 메틸에틸 카르비톨, 디에틸 카르비톨, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디에틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 사이클로헥사논, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논, 메틸-n-프로필케톤, 메틸-n-부틸케톤, 메틸-n-아밀케톤, 2-헵타논 등의 케톤류; 초산 에틸, 초산-n-부틸, 초산 이소부틸 등의 포화 지방족 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 젖산 메틸, 젖산 에틸 등의 젖산 에스테르류; 옥시 초산 메틸, 옥시 초산 에틸, 옥시 초산 부틸 등의 옥시 초산 알킬 에스테르류; 메톡시 초산 메틸, 메톡시 초산 에틸, 메톡시 초산 부틸, 에톡시 초산 메틸, 에톡시 초산 에틸 등의 알콕시 초산 알킬 에스테르류; 3-옥시 프로피온산 메틸, 3-옥시 프로피온산 에틸 등의 3-옥시 프로피온산 알킬에스테르류; 3-메톡시 프로피온산 메틸, 3-메톡시 프로피온산 에틸, 3-에톡시 프로피온산 에틸, 3-에톡시 프로피온산 메틸 등의 3-알콕시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-옥시 프로피온산 메틸, 2-옥시 프로피온산 에틸, 2-옥시 프로피온산 프로필 등의 2-옥시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-메톡시 프로피온산 메틸, 2-메톡시 프로피온산 에틸, 2-에톡시 프로피온산 에틸, 2-에톡시 프로피온산 메틸 등의 2-알콕시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-옥시-2-메틸 프로피온산 메틸, 2-옥시-2-메틸 프로피온산 에틸 등의 2-옥시-2-메틸 프로피온산 에스테르류, 2-메톡시-2-메틸 프로피온산 메틸, 2-에톡시-2-메틸 프로피온산 에틸 등의 2-알콕시-2-메틸 프로피온산 알킬류의 모노옥시 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 2-히드록시 프로피온산 에틸, 2-히드록시-2-메틸 프로피온산 에틸, 히드록시 초산 에틸, 2-히드록시-3-메틸 부탄산 메틸 등의 에스테르류; 피루빈산 에틸 등의 케톤산 에스테르류 등이 있으며, 또한, N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸포름아닐라드, N-메틸아세트아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시드, 벤질에틸에테르, 디헥실에테르, 아세틸아세톤, 이소포론, 카프론산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 초산 벤질, 안식향산 에틸, 옥살산 디에틸, 말레인산 디에틸, γ부티로락톤, 탄산 에틸렌, 탄산 프로필렌, 페닐 셀로솔브 아세테이트 등의 고비점 용매를 들 수 있다.Examples of the solvent include alcohols such as methanol and ethanol; ethers such as dichloroethyl ether, n-butyl ether, diisoamyl ether, methylphenyl ether, and tetrahydrofuran; glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; cellosolve acetates such as methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, and diethyl cellosolve acetate; carbitols such as methylethyl carbitol, diethyl carbitol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, and diethylene glycol diethyl ether; propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, methyl-n-propyl ketone, methyl-n-butyl ketone, methyl-n-amyl ketone, and 2-heptanone ; saturated aliphatic monocarboxylic acid alkyl esters such as ethyl acetate, -n-butyl acetate, and isobutyl acetate; lactic acid esters such as methyl lactate and ethyl lactate; oxyacetic acid alkyl esters such as methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, and butyl oxyacetate; Alkoxy acetate alkyl esters, such as methoxy methyl acetate, methoxy ethyl acetate, methoxy butyl acetate, ethoxy methyl acetate, and ethoxy ethyl acetate; 3-oxypropionic acid alkyl esters, such as 3-oxy methyl propionate and 3-oxy ethyl propionate; 3-alkoxy propionic acid alkyl esters, such as 3-methoxy methyl propionate, 3-methoxy ethyl propionate, 3-ethoxy ethyl propionate, and 3-ethoxy methyl propionate; 2-oxypropionic acid alkyl esters such as methyl 2-oxypropionate, ethyl 2-oxypropionate, and propyl 2-oxypropionate; 2-alkoxy propionic acid alkyl esters, such as 2-methoxy methyl propionate, 2-methoxy ethyl propionate, 2-ethoxy ethyl propionate, and 2-ethoxy methyl propionate; 2-oxy-2-methyl propionic acid esters such as 2-oxy-2-methyl methyl propionate and 2-oxy-2-methyl ethyl propionate, 2-methoxy-2-methyl methyl propionate, and 2-ethoxy-2- monooxy monocarboxylic acid alkyl esters of 2-alkoxy-2-methyl propionate alkyls such as ethyl methyl propionate; esters such as 2-hydroxyethyl propionate, 2-hydroxy-2-methyl ethyl propionate, ethyl hydroxyacetate, and 2-hydroxy-3-methyl methyl butanoate; Ketonic acid esters such as ethyl pyruvate, and the like, and N-methylformamide, N,N-dimethylformamide, N-methylformanilad, N-methylacetamide, and N,N-dimethylacetamide. , N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, benzyl ethyl ether, dihexyl ether, acetylacetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, benzoic acid and high boiling point solvents such as ethyl, diethyl oxalate, diethyl maleate, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, and phenyl cellosolve acetate.

이들 중 좋게는 상용성 및 반응성을 고려하여, 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 에틸렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 2-히드록시 프로피온산 에틸 등의 에스테르류; 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 및/또는 사이클로헥사논 등의 케톤류가 사용될 수 있다.Of these, preferably, in consideration of compatibility and reactivity, glycol ethers such as ethylene glycol monoethyl ether; ethylene glycol alkyl ether acetates such as ethyl cellosolve acetate; esters such as ethyl 2-hydroxypropionate; carbitols such as diethylene glycol monomethyl ether; propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate; and/or ketones such as cyclohexanone may be used.

상기 용매는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 잔부량, 예컨대 30 중량% 내지 80 중량%로 포함될 수 있다. 용매가 상기 범위 내로 포함될 경우 상기 감광성 수지 조성물이 적절한 점도를 가짐에 따라 컬러필터 제조시 공정성이 우수하다.The solvent may be included in a balance, for example, 30 wt% to 80 wt%, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the solvent is included within the above range, since the photosensitive resin composition has an appropriate viscosity, processability in manufacturing the color filter is excellent.

상기 감광성 수지 조성물은 하기 화학식 4로 표시되는 화합물을 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition may further include a compound represented by the following formula (4).

[화학식 4][Formula 4]

Figure pat00020
Figure pat00020

상기 화학식 3에서,In Formula 3,

R23 및 R24는 각각 독립적으로 히드록시기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 23 and R 24 are each independently a hydroxyl group or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

L5 내지 L7은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이고,L 5 To L 7 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group,

n1 및 n2는 각각 독립적으로 0 내지 5의 정수이되, 3 ≤ n1+n2 ≤ 5 이다.n1 and n2 are each independently an integer of 0 to 5, and 3 ≤ n1+n2 ≤ 5.

예컨대, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물은 산화방지제로서 기능할 수 있다.For example, the compound represented by Formula 4 may function as an antioxidant.

예컨대, 상기 화학식 4에서, R23은 알킬기로 치환된 C1 내지 C20 알킬기이고, R24는 히드록시기이고, n1은 2의 정수이고, n2는 1의 정수일 수 있다. For example, in Formula 4, R 23 may be a C1 to C20 alkyl group substituted with an alkyl group, R 24 may be a hydroxyl group, n1 may be an integer of 2, and n2 may be an integer of 1.

다른 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 기판과의 밀착성 등을 개선하기 위해 에폭시 화합물을 더 포함할 수 있다. The photosensitive resin composition according to another embodiment may further include an epoxy compound to improve adhesion with a substrate.

상기 에폭시 화합물의 예로는, 페놀 노볼락 에폭시 화합물, 테트라메틸 비페닐 에폭시 화합물, 비스페놀 A형 에폭시 화합물, 지환족 에폭시화합물 또는 이들의 조합을 들 수 있다.Examples of the epoxy compound include a phenol novolac epoxy compound, a tetramethyl biphenyl epoxy compound, a bisphenol A-type epoxy compound, an alicyclic epoxy compound, or a combination thereof.

상기 에폭시 화합물은 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 20 중량부, 예컨대 0.1 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 에폭시 화합물이 상기 범위 내로 포함될 경우 밀착성, 저장성 등이 우수하다. The epoxy compound may be included in an amount of 0.01 parts by weight to 20 parts by weight, for example, 0.1 parts by weight to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition. When the epoxy compound is included within the above range, adhesion and storage properties are excellent.

또한 상기 감광성 수지 조성물은 기판과의 접착성을 향상시키기 위해 카르복실기, 메타크릴로일기, 이소시아네이트기, 에폭시기 등의 반응성 치환기를 갖는 실란 커플링제를 더 포함할 수 있다.In addition, the photosensitive resin composition may further include a silane coupling agent having a reactive substituent such as a carboxyl group, a methacryloyl group, an isocyanate group, and an epoxy group in order to improve adhesion to the substrate.

상기 실란 커플링제의 예로는, 트리메톡시실릴 벤조산, γ메타크릴 옥시프로필 트리메톡시실란, 비닐 트리아세톡시실란, 비닐 트리메톡시실란, γ이소시아네이트 프로필 트리에톡시실란, γ글리시독시 프로필 트리메톡시실란, β에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. Examples of the silane coupling agent include trimethoxysilyl benzoic acid, γ methacryl oxypropyl trimethoxysilane, vinyl triacetoxysilane, vinyl trimethoxysilane, γ isocyanate propyl triethoxysilane, γ glycidoxy propyl tri Methoxysilane, β-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, etc. are mentioned, and these can be used individually or in mixture of 2 or more types.

상기 실란 커플링제는 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 실란 커플링제가 상기 범위 내로 포함될 경우 밀착성, 저장성 등이 우수하다. The silane coupling agent may be included in an amount of 0.01 parts by weight to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition. When the silane coupling agent is included within the above range, adhesion and storage properties are excellent.

또한 상기 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 코팅성 향상 및 결점 생성 방지 효과를 위해 계면 활성제를 더 포함할 수 있다. In addition, the photosensitive resin composition may further include a surfactant to improve coating properties and prevent the formation of defects, if necessary.

상기 계면활성제의 예로는, BM Chemie社의 BM-1000®, BM-1100® 등; 다이 닛폰 잉키 가가꾸 고교(주)社의 메카 팩 F 142D®, 동 F 172®, 동 F 173®, 동 F 183® 등; 스미토모 스리엠(주)社의 프로라드 FC-135®, 동 FC-170C®, 동 FC-430®, 동 FC-431® 등; 아사히 그라스(주)社의 사프론 S-112®, 동 S-113®, 동 S-131®, 동 S-141®, 동 S-145® 등; 도레이 실리콘(주)社의 SH-28PA®, 동-190®, 동-193®, SZ-6032®, SF-8428® 등의 명칭으로 시판된고 있는 불소계 계면 활성제를 사용할 수 있다.Examples of the surfactant include BM-1000 ® , BM-1100 ® and the like by BM Chemie; Dai Nippon Inky Chemical Co., Ltd.'s Mecha Pack F 142D ® , F 172 ® , F 173 ® , F 183 ® and the like; Sumitomo 3M Co., Ltd.'s Prorad FC-135 ® , copper FC-170C ® , copper FC-430 ® , copper FC-431 ® , etc.; Asahi Grass Co., Ltd.'s Saffron S-112 ® , Copper S-113 ® , S-131 ® , S-141 ® , S-145 ® and the like; Toray Silicone Co., Ltd. SH-28PA ® , Copper-190 ® , Copper-193 ® , SZ-6032 ® , SF-8428 ® and other commercially available fluorine-based surfactants can be used.

상기 계면 활성제는 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.001 중량부 내지 5 중량부로 사용될 수 있다. 계면 활성제가 상기 범위 내로 포함될 경우 코팅 균일성이 확보되고, 얼룩이 발생하지 않으며, 유리 기판에 대한 습윤성(wetting)이 우수하다.The surfactant may be used in an amount of 0.001 parts by weight to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition. When the surfactant is included within the above range, coating uniformity is secured, staining does not occur, and wettability to a glass substrate is excellent.

또한 상기 감광성 수지 조성물은 물성을 저해하지 않는 범위 내에서 산화방지제, 안정제 등의 기타 첨가제가 일정량 첨가될 수도 있다.In addition, a certain amount of other additives such as antioxidants and stabilizers may be added to the photosensitive resin composition within a range that does not impair physical properties.

또 다른 일 구현예에 따르면, 상기 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 컬러필터를 제공한다. According to another embodiment, there is provided a color filter manufactured using the photosensitive resin composition according to the embodiment.

상기 컬러필터 내 패턴 형성 공정은 다음과 같다.The pattern forming process in the color filter is as follows.

상기 감광성 수지 조성물을 지지 기판상에 스핀 코팅, 슬릿 코팅, 잉크젯 프린팅 등으로 도포하는 공정; 상기 도포된 감광성 수지 조성물을 건조하여 감광성 수지 조성물 막을 형성하는 공정; 상기 감광성 수지 조성물 막을 노광하는 공정; 상기 노광된 감광성 수지 조성물 막을 알칼리 수용액으로 현상하여 감광성 수지막을 제조하는 공정; 및 상기 감광성 수지막을 가열 처리하는 공정을 포함한다. 상기 공정 상의 조건 등에 대하여는 당해 분야에서 널리 알려진 사항이므로, 본 명세서에서 자세한 설명은 생략하기로 한다. applying the photosensitive resin composition onto a support substrate by spin coating, slit coating, inkjet printing, or the like; drying the applied photosensitive resin composition to form a photosensitive resin composition film; exposing the photosensitive resin composition film; developing the exposed photosensitive resin composition film with an aqueous alkali solution to prepare a photosensitive resin film; and heat-treating the photosensitive resin film. Since the process conditions and the like are well known in the art, detailed descriptions thereof will be omitted herein.

이하, 실시예를 들어 본 발명에 대해서 더욱 상세하게 설명할 것이나, 하기의 실시예는 본 발명의 바람직한 실시예일 뿐 본 발명이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the following examples are only preferred examples of the present invention, and the present invention is not limited to the following examples.

(화합물의 합성)(synthesis of compounds)

합성예 1: 화학식 1-1로 표시되는 화합물의 합성Synthesis Example 1: Synthesis of the compound represented by Formula 1-1

100ml 플라스크에 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile(10g), 4-Hydroxybenzyl Alcohol(4.8g), K2CO3(7.8g), N,N-디메틸포름아미드(N,N-dimethylformamide)(50ml)를 넣고 70℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 EA(ethyl acetate)로 추출 후 농축하여 얻어진 고체를 소량의 DCM(디클로로메탄)에 녹인 후, 헥산으로 수회 씻어 주고, 여과 후 진공 건조하여 3,4,6-Trichloro-5-(4-Hydroxymethyl-phenoxy)-phthalonitrile를 얻는다.3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (10g), 4-Hydroxybenzyl Alcohol (4.8g), K 2 CO 3 (7.8g), N,N-dimethylformamide (N,N-dimethylformamide) (50ml) in a 100ml flask ) and stirred while heating to 70 °C. After completion of the reaction, the solid obtained by extraction with EA (ethyl acetate) and concentration was dissolved in a small amount of DCM (dichloromethane), washed several times with hexane, filtered and dried under vacuum to 3,4,6-Trichloro-5-(4) -Hydroxymethyl-phenoxy)-phthalonitrile is obtained.

100ml 플라스크에 상기 3,4,6-Trichloro-5-(4-Hydroxymethyl-phenoxy)-phthalonitrile (5.0g), Triethylamine (2.15g) 및 클로로포름 25ml를 넣고 0℃로 냉각한 다음 교반하면서 Methacryloyl Chloride(1.48g)을 천천히 투입한다. 투입이 완료된 후 Ice bath를 제거하고 상온(25℃)에서 2시간 동안 교반한다. 반응 종료 후 DCM으로 추출 후 무수황산 마그네슘으로 수분을 제거한 다음, 필터한 여액을 농축하여 얻어진 고체를 소량의 DCM에 녹인 후, 헥산으로 수회 씻어 주고, 여과 후 진공 건조하여 3,4,6-Trichloro-5-(4-Methyl Methacrylate-phenoxy)-phthalonitrile를 얻는다. Put the 3,4,6-Trichloro-5-(4-Hydroxymethyl-phenoxy)-phthalonitrile (5.0g), Triethylamine (2.15g) and 25ml of chloroform in a 100ml flask, cool to 0°C, and then stir while stirring Methacryloyl Chloride (1.48) g) is added slowly. After the input is complete, remove the ice bath and stir at room temperature (25°C) for 2 hours. After completion of the reaction, extraction with DCM was performed, moisture was removed with anhydrous magnesium sulfate, and the filtered filtrate was concentrated, and the resulting solid was dissolved in a small amount of DCM, washed several times with hexane, filtered and dried under vacuum to 3,4,6-Trichloro Obtain -5-(4-Methyl Methacrylate-phenoxy)-phthalonitrile.

100mL 플라스크에 phthalonitrile(0.5g), 상기 3,4,6-Trichloro-5-(4-Methyl Methacrylate-phenoxy)-phthalonitrile (1.65g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(1.19g) 및 1-펜탄올(14g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 용해된 것을 확인 후 zinc acetate(0.36g)를 넣고 140℃로 승온 후, 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체를 적정량의 DCM에 넣어 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공 건조하여 최종적으로 하기 화학식 1-1로 표시되는 화합물을 얻는다. In a 100 mL flask, phthalonitrile (0.5 g), the above 3,4,6-Trichloro-5-(4-Methyl Methacrylate-phenoxy)-phthalonitrile (1.65 g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (1.19 g) and 1 -Pentanol (14g) was added and heated to 90°C to confirm that the solid was dissolved. Then, zinc acetate (0.36g) was added, the temperature was raised to 140°C, and stirred while heating. After completion of the reaction, precipitation is confirmed with methanol, filtered and vacuum dried. The dried solid is purified by column chromatography. The solid obtained after purification is dissolved in an appropriate amount of DCM and crystallized by adding methanol. The crystallized solid is filtered and vacuum dried to finally obtain a compound represented by the following Chemical Formula 1-1.

[화학식 1-1][Formula 1-1]

Figure pat00021
Figure pat00021

Maldi-tof MS : 1165 m/zMaldi-tof MS: 1165 m/z

합성예 2: 화학식 1-2로 표시되는 화합물의 합성Synthesis Example 2: Synthesis of a compound represented by Formula 1-2

100ml 플라스크에 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile(10g), 4-Hydroxybenzyl Alcohol(4.8g), K2CO3(7.8g), N,N-디메틸포름아미드(N,N-dimethylformamide)(50ml)를 넣고 70℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 EA(ethyl acetate)로 추출 후 농축하여 얻어진 고체를 소량의 DCM에 녹인 후, 헥산으로 수회 씻어 주고, 여과 후 진공 건조하여 3,4,6-Trichloro-5-(4-Hydroxymethyl-phenoxy)-phthalonitrile를 얻는다.Put 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (10g), 4-Hydroxybenzyl Alcohol (4.8g), K2CO3 (7.8g), N,N-dimethylformamide (N,N-dimethylformamide) (50ml) in a 100ml flask Stir while heating to 70°C. After completion of the reaction, the solid obtained by extraction with EA (ethyl acetate) and concentration was dissolved in a small amount of DCM, washed several times with hexane, filtered and dried under vacuum to 3,4,6-Trichloro-5-(4-Hydroxymethyl-phenoxy). )-phthalonitrile is obtained.

100ml 플라스크에 상기 3,4,6-Trichloro-5-(4-Hydroxymethyl-phenoxy)-phthalonitrile (5.0g), Triethylamine (2.15g) 및 클로로포름 25ml를 넣고 0℃로 냉각한 다음 교반하면서 Acryloyl Chloride(1.28g)을 천천히 투입한다. 투입이 완료된 후 Ice bath를 제거하고 상온(25℃)에서 2시간 동안 교반한다. 반응 종료 후 DCM으로 추출 후 무수황산 마그네슘으로 수분을 제거한 다음, 필터한 여액을 농축하여 얻어진 고체를 소량의 DCM에 녹인 후, 헥산으로 수회 씻어 주고, 여과 후 진공 건조하여 3,4,6-Trichloro-5-(4-Methyl acrylate-phenoxy)-phthalonitrile 를 얻는다. In a 100ml flask, put 3,4,6-Trichloro-5-(4-Hydroxymethyl-phenoxy)-phthalonitrile (5.0g), Triethylamine (2.15g) and 25ml of chloroform, cooled to 0°C, and then stirred while stirring Acryloyl Chloride (1.28) g) is added slowly. After the input is complete, remove the ice bath and stir at room temperature (25°C) for 2 hours. After completion of the reaction, extraction with DCM was performed, moisture was removed with anhydrous magnesium sulfate, and the filtered filtrate was concentrated, and the resulting solid was dissolved in a small amount of DCM, washed several times with hexane, filtered and dried under vacuum to 3,4,6-Trichloro Obtain -5-(4-Methyl acrylate-phenoxy)-phthalonitrile.

100mL 플라스크에 phthalonitrile(0.5g), 상기 3,4,6-Trichloro-5-(4-Methyl acrylate-phenoxy)-phthalonitrile (1.59g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(1.19g) 및 1-펜탄올(14g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 용해된 것을 확인 후 zinc acetate(0.36g)를 넣고 140℃로 승온 후, 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체를 적정량의 DCM에 넣어 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 최종적으로 하기 화학식 1-2로 표시되는 화합물을 얻는다. (Maldi-tof MS : 1136.94 m/z)In a 100 mL flask, phthalonitrile (0.5 g), the above 3,4,6-Trichloro-5-(4-Methyl acrylate-phenoxy)-phthalonitrile (1.59 g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (1.19 g) and 1 -Pentanol (14g) was added and heated to 90°C to confirm that the solid was dissolved. Then, zinc acetate (0.36g) was added, the temperature was raised to 140°C, and stirred while heating. After completion of the reaction, precipitation is confirmed with methanol, filtered and vacuum dried. The dried solid is purified by column chromatography. The solid obtained after purification is dissolved in an appropriate amount of DCM and crystallized by adding methanol. The crystallized solid is filtered and dried under vacuum to finally obtain a compound represented by the following Chemical Formula 1-2. (Maldi-tof MS: 1136.94 m/z)

[화학식 1-2][Formula 1-2]

Figure pat00022
Figure pat00022

Maldi-tof MS : 1136.94 m/zMaldi-tof MS: 1136.94 m/z

합성예 3: 화학식 1-3으로 표시되는 화합물의 합성Synthesis Example 3: Synthesis of a compound represented by Formula 1-3

100ml 플라스크에 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile(10g), 4-Hydroxybenzyl Alcohol(4.8g), K2CO3(7.8g), N,N-디메틸포름아미드(N,N-dimethylformamide)(50ml)를 넣고 70℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 EA(ethyl acetate)로 추출 후 농축하여 얻어진 고체를 소량의 DCM에 녹인 후, 헥산으로 수회 씻어 주고, 여과 후 진공 건조하여 3,4,6-Trichloro-5-(4-Hydroxymethyl-phenoxy)-phthalonitrile를 얻는다.Put 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (10g), 4-Hydroxybenzyl Alcohol (4.8g), K2CO3 (7.8g), N,N-dimethylformamide (N,N-dimethylformamide) (50ml) in a 100ml flask Stir while heating to 70°C. After completion of the reaction, the solid obtained by extraction with EA (ethyl acetate) and concentration was dissolved in a small amount of DCM, washed several times with hexane, filtered and dried under vacuum to 3,4,6-Trichloro-5-(4-Hydroxymethyl-phenoxy). )-phthalonitrile is obtained.

100ml 플라스크에 상기 3,4,6-Trichloro-5-(4-Hydroxymethyl-phenoxy)-phthalonitrile (5.0g), Triethylamine (2.15g) 및 클로로포름 25ml를 넣고 0℃로 냉각한 다음 교반하면서 Acryloyl Chloride(1.28g)을 천천히 투입한다. 투입이 완료된 후 Ice bath를 제거하고 상온(25℃)에서 2시간 동안 교반한다. 반응 종료 후 DCM 추출 후 무수황산 마그네슘으로 수분을 제거한 다음, 필터한 여액을 농축하여 얻어진 고체를 소량의 DCM에 녹인 후, 헥산으로 수회 씻어 주고, 여과 후 진공 건조하여 3,4,6-Trichloro-5-(4-Methylacrylate-phenoxy)-phthalonitrile 를 얻는다. In a 100ml flask, put 3,4,6-Trichloro-5-(4-Hydroxymethyl-phenoxy)-phthalonitrile (5.0g), Triethylamine (2.15g) and 25ml of chloroform, cooled to 0°C, and then stirred while stirring Acryloyl Chloride (1.28) g) is added slowly. After the input is complete, remove the ice bath and stir at room temperature (25°C) for 2 hours. After the reaction was completed, DCM was extracted, water was removed with anhydrous magnesium sulfate, and the filtered filtrate was concentrated and the solid obtained was dissolved in a small amount of DCM, washed several times with hexane, filtered and dried under vacuum to 3,4,6-Trichloro- 5-(4-Methylacrylate-phenoxy)-phthalonitrile is obtained.

100mL 플라스크에 phthalonitrile(0.5g), 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile(0.52g), 상기 3,4,6-Trichloro-5-(4-Methylacrylate-phenoxy)-phthalonitrile (0.80g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(1.19g) 및 1-펜탄올(14g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 용해된 것을 확인 후 zinc acetate(0.36g)를 넣고 140℃로 승온 후, 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체를 적정량의 DCM에 넣어 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 최종적으로 하기 화학식 1-3으로 표시되는 화합물을 얻는다. In a 100 mL flask, phthalonitrile (0.5 g), 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (0.52 g), the 3,4,6-Trichloro-5- (4-Methylacrylate-phenoxy)-phthalonitrile (0.80 g), 1, 8-Diazabicycloundec-7-ene (1.19g) and 1-pentanol (14g) were added and heated to 90°C to confirm that the solid was dissolved. Then, zinc acetate (0.36g) was added, the temperature was raised to 140°C, and stirred while heating. do. After completion of the reaction, precipitation is confirmed with methanol, filtered and vacuum dried. The dried solid is purified by column chromatography. The solid obtained after purification is dissolved in an appropriate amount of DCM and crystallized by adding methanol. The crystallized solid is filtered and dried under vacuum to finally obtain a compound represented by the following Chemical Formula 1-3.

[화학식 1-3][Formula 1-3]

Figure pat00023
Figure pat00023

Maldi-tof MS : 995.22 m/zMaldi-tof MS: 995.22 m/z

합성예 4: 화학식 1-4로 표시되는 화합물의 합성Synthesis Example 4: Synthesis of a compound represented by Formula 1-4

100ml 플라스크에 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile(10g), 4-Hydroxybenzyl Alcohol(4.8g), K2CO3(7.8g), N,N-디메틸포름아미드(N,N-dimethylformamide)(50ml)를 넣고 70℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 EA(ethyl acetate)로 추출 후 농축하여 얻어진 고체를 소량의 DCM에 녹인 후, 헥산으로 수회 씻어 주고, 여과 후 진공 건조하여 3,4,6-Trichloro-5-(4-Hydroxymethyl-phenoxy)-phthalonitrile를 얻는다.Put 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (10g), 4-Hydroxybenzyl Alcohol (4.8g), K2CO3 (7.8g), N,N-dimethylformamide (N,N-dimethylformamide) (50ml) in a 100ml flask Stir while heating to 70°C. After completion of the reaction, the solid obtained by extraction with EA (ethyl acetate) and concentration was dissolved in a small amount of DCM, washed several times with hexane, filtered and dried under vacuum to 3,4,6-Trichloro-5-(4-Hydroxymethyl-phenoxy). )-phthalonitrile is obtained.

100ml 플라스크에 상기 3,4,6-Trichloro-5-(4-Hydroxymethyl-phenoxy)-phthalonitrile (5.0g), Triethylamine (2.15g) 및 클로로포름 25ml를 넣고 교반하면서 2-Isocyanatoethyl Methacrylate (2.19g)을 투입 후 60℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 DCM 추출 후 무수황산 마그네슘으로 수분을 제거한 다음, 필터한 여액을 농축하여 얻어진 고체를 소량의 DCM에 녹인 후, 헥산으로 수회 씻어 주고, 여과 후 진공 건조하여 2-[[4-(2,3,6-trichloro-4,5-dicyano-phenoxy)phenyl]methoxycarbonylamino]ethyl 2-methylprop-2-enoate 를 얻는다. Put the 3,4,6-Trichloro-5-(4-Hydroxymethyl-phenoxy)-phthalonitrile (5.0g), Triethylamine (2.15g) and 25ml of chloroform in a 100ml flask, and add 2-Isocyanatoethyl Methacrylate (2.19g) while stirring. Then, it is stirred while heating to 60 °C. After completion of the reaction, DCM was extracted, water was removed with anhydrous magnesium sulfate, and the filtered filtrate was concentrated to dissolve the obtained solid in a small amount of DCM, washed several times with hexane, filtered and dried in vacuo to 2-[[4-(2) ,3,6-trichloro-4,5-dicyano-phenoxy)phenyl]methoxycarbonylamino]ethyl 2-methylprop-2-enoate is obtained.

100mL 플라스크에 phthalonitrile(0.5g), 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile(0.52g), 상기 2-[[4-(2,3,6-trichloro-4,5-dicyano-phenoxy)phenyl]methoxycarbonylamino]ethyl 2-methylprop-2-enoate (0.99g), 1,8-Diaza bicycloundec-7-ene(1.19g) 및 1-펜탄올(14g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 용해된 것을 확인 후 zinc acetate(0.36g)를 넣고 140℃로 승온 후, 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체를 적정량의 DCM에 넣어 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 최종적으로 하기 화학식 1-4로 표시되는 화합물을 얻는다.In a 100 mL flask, phthalonitrile (0.5 g), 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (0.52 g), the above 2-[[4-(2,3,6-trichloro-4,5-dicyano-phenoxy)phenyl]methoxycarbonylamino ]ethyl 2-methylprop-2-enoate (0.99g), 1,8-Diaza bicycloundec-7-ene (1.19g) and 1-pentanol (14g) were added and heated to 90℃ to confirm that the solid was dissolved. Zinc acetate (0.36 g) was added, and the temperature was raised to 140 °C, followed by stirring while heating. After completion of the reaction, precipitation is confirmed with methanol, filtered and vacuum dried. The dried solid is purified by column chromatography. The solid obtained after purification is dissolved in an appropriate amount of DCM and crystallized by adding methanol. The crystallized solid is filtered and dried under vacuum to finally obtain a compound represented by the following Chemical Formula 1-4.

[화학식 1-4][Formula 1-4]

Figure pat00024
Figure pat00024

Maldi-tof MS : 1096.32 m/zMaldi-tof MS: 1096.32 m/z

합성예 5: 화학식 1-5로 표시되는 화합물의 합성Synthesis Example 5: Synthesis of a compound represented by Formula 1-5

100ml 플라스크에 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile(10g), 2-(4-Hydroxyphenyl)ethanol (5.35g), K2CO3(7.8g), N,N-디메틸포름아미드(N,N-dimethylformamide)(50ml)를 넣고 70℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 EA(ethyl acetate)로 추출 후 농축하여 얻어진 고체를 소량의 DCM에 녹인 후, 헥산으로 수회 씻어 주고, 여과 후 진공 건조하여 3,4,6-Trichloro-5-(4-Hydroxyethyl-phenoxy)-phthalonitrile를 얻는다.3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (10g), 2-(4-Hydroxyphenyl)ethanol (5.35g), K2CO3 (7.8g), N,N-dimethylformamide (N,N-dimethylformamide) ( 50ml) and stirred while heating to 70°C. After completion of the reaction, the solid obtained by extraction with EA (ethyl acetate) and concentration was dissolved in a small amount of DCM, washed several times with hexane, filtered and dried under vacuum to 3,4,6-Trichloro-5-(4-Hydroxyethyl-phenoxy). )-phthalonitrile is obtained.

100ml 플라스크에 상기 3,4,6-Trichloro-5-(4-Hydroxyethyl-phenoxy)-phthalonitrile(5.0g), Triethylamine (2.06g) 및 클로로포름 25ml를 넣고 0℃로 냉각한 다음 교반하면서 Epichlorohydrin(1.26g)을 천천히 투입한다. 투입이 완료된 후 Ice bath를 제거하고 상온(25℃)에서 2시간 동안 교반한다. 반응 종료 후 DCM으로 추출 후 무수황산 마그네슘으로 수분을 제거한 다음, 필터한 여액을 농축하여 얻어진 고체를 소량의 DCM에 녹인 후, 헥산으로 수회 씻어 주고, 여과 후 진공 건조하여 3,4,6-Trichloro-5-(4-(2-(Oxiran-2-ylmethoxy)ethyl)phenoxy)-phthalonitrile 를 얻는다. In a 100ml flask, put the 3,4,6-Trichloro-5-(4-Hydroxyethyl-phenoxy)-phthalonitrile (5.0g), Triethylamine (2.06g) and 25ml of chloroform, cooled to 0℃, and then stirred while Epichlorohydrin (1.26g) ) is introduced slowly. After the input is complete, remove the ice bath and stir at room temperature (25°C) for 2 hours. After completion of the reaction, extraction with DCM was performed, moisture was removed with anhydrous magnesium sulfate, and the filtered filtrate was concentrated, and the resulting solid was dissolved in a small amount of DCM, washed several times with hexane, filtered and dried under vacuum to 3,4,6-Trichloro -5-(4-(2-(Oxiran-2-ylmethoxy)ethyl)phenoxy)-phthalonitrile is obtained.

100mL 플라스크에 phthalonitrile(0.5g), 상기 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile(0.52g), 3,4,6-Trichloro-5-(4-(2-(Oxiran-2-ylmethoxy)ethyl)phenoxy)-phthalonitrile (0.83g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(1.19g) 및 1-펜탄올(14g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 용해된 것을 확인 후 zinc acetate(0.36g)를 넣고 140℃로 승온 후, 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체를 적정량의 DCM에 넣어 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 최종적으로 하기 화학식 1-5로 표시되는 화합물을 얻는다.In a 100 mL flask, phthalonitrile (0.5 g), the above 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (0.52 g), 3,4,6-Trichloro-5-(4-(2-(Oxiran-2-ylmethoxy)ethyl)phenoxy )-phthalonitrile (0.83g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (1.19g) and 1-pentanol (14g) were added and heated to 90°C to confirm that the solid was dissolved. Then, zinc acetate (0.36g) was added. After heating to 140 ℃, and stirred while heating. After completion of the reaction, precipitation is confirmed with methanol, filtered and vacuum dried. The dried solid is purified by column chromatography. The solid obtained after purification is dissolved in an appropriate amount of DCM and crystallized by adding methanol. The crystallized solid is filtered and dried under vacuum to finally obtain a compound represented by the following Chemical Formula 1-5.

[화학식 1-5][Formula 1-5]

Figure pat00025
Figure pat00025

Maldi-tof MS : 1011.26 m/zMaldi-tof MS: 1011.26 m/z

비교 합성예 1: 화학식 C-1로 표시되는 화합물의 합성Comparative Synthesis Example 1: Synthesis of a compound represented by Formula C-1

100mL 플라스크에 4-(2-sec-Butyl-phenoxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile(1g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(0.30g), 1-펜탄올(7g), zinc acetate(0.12g)를 넣고 140℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 액체를 농축하여 고체를 얻는다. 상기 결정화된 고체를 진공건조하여, 하기 화학식 C-1로 표시되는 화합물을 얻는다.In a 100mL flask, 4-(2-sec-Butyl-phenoxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile (1g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (0.30g), 1-pentanol (7g), Add zinc acetate (0.12 g) and stir while heating to 140 °C. After completion of the reaction, it is purified by column chromatography. After purification, the obtained liquid is concentrated to obtain a solid. The crystallized solid is vacuum-dried to obtain a compound represented by the following Chemical Formula C-1.

[화학식 C-1][Formula C-1]

Figure pat00026
Figure pat00026

Maldi-tof MS : 1584.04 m/zMaldi-tof MS: 1584.04 m/z

비교 합성예 2: 화학식 C-2로 표시되는 화합물의 합성Comparative Synthesis Example 2: Synthesis of a compound represented by Formula C-2

100ml 플라스크에 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile(5g), 2,4-di-tert-butylphenol(2.75g), K2CO3(3.9g), N,N-디메틸포름아미드(N,N-dimethylformamide)(25ml)를 넣고 70℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 EA(ethyl acetate)로 추출하고 농축하여 얻어진 고체를 소량의 DCM에 녹인 후, 헥산으로 수회 씻어 주고, 여과 후 진공 건조하여 3,4,6-Trichloro-5-(2,4-dimethyl-phenoxy)-phthalonitrile를 얻는다.3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (5g), 2,4-di-tert-butylphenol (2.75g), K 2 CO 3 (3.9 g), N,N-dimethylformamide (N,N) in a 100ml flask -dimethylformamide) (25 ml) is added and stirred while heating to 70 °C. After completion of the reaction, the solid obtained by extraction with EA (ethyl acetate) and concentration was dissolved in a small amount of DCM, washed several times with hexane, filtered and dried under vacuum to 3,4,6-Trichloro-5-(2,4-dimethyl -phenoxy)-phthalonitrile is obtained.

100mL 플라스크에 3,4,6-Trichloro-5-(2,4-di-tert-butyl-phenoxy)-phthalonitrile (1g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(1.08g) 및 1-펜탄올(14g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 녹은 후 zinc acetate(0.26g)를 넣고 140℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체를 적정량의 DCM에 넣어 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 C-2로 표시되는 화합물을 얻는다.3,4,6-Trichloro-5-(2,4-di-tert-butyl-phenoxy)-phthalonitrile (1 g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (1.08 g) and 1-pentanol in a 100 mL flask (14g) was added and heated to 90℃ to dissolve the solid, then zinc acetate (0.26g) was added and stirred while heating to 140℃. After completion of the reaction, precipitation is confirmed with methanol, filtered and vacuum dried. The dried solid is purified by column chromatography. The solid obtained after purification is dissolved in an appropriate amount of DCM and crystallized by adding methanol. The crystallized solid is filtered and vacuum dried to obtain a compound represented by the following Chemical Formula C-2.

[화학식 C-2][Formula C-2]

Figure pat00027
Figure pat00027

Maldi-tof MS : 1808.47 m/zMaldi-tof MS: 1808.47 m/z

비교 합성예 3: 화학식 C-3으로 표시되는 화합물의 합성Comparative Synthesis Example 3: Synthesis of a compound represented by Formula C-3

100ml 플라스크에 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile(5g), 2,4-dimethoxyphenol(3.47g), K2CO3(3.9g), N,N-디메틸포름아미드(N,N-dimethylformamide)(25ml)를 넣고 70℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 EA(ethyl acetate)로 추출하고 농축하여 얻어진 고체를 소량의 DCM에 녹인 후, 헥산으로 수회 씻어 주고, 여과 후 진공 건조하여 3,4,6-Trichloro-5-(2,4-dimethoxy-phenoxy)-phthalonitrile를 얻는다.3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (5 g), 2,4-dimethoxyphenol (3.47 g), K 2 CO 3 (3.9 g), N,N-dimethylformamide (N,N-dimethylformamide) ( 25ml) and stirred while heating to 70°C. After completion of the reaction, the solid obtained by extraction with EA (ethyl acetate) and concentration was dissolved in a small amount of DCM, washed several times with hexane, filtered and dried under vacuum to 3,4,6-Trichloro-5-(2,4-dimethoxy). -phenoxy)-phthalonitrile is obtained.

100mL 플라스크에 상기 3,4,6-Trichloro-5-(2,4-dimethoxy-phenoxy)-phthalonitrile (2g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(0.99g) 및 1-펜탄올(14g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 용해된 것을 확인 후 zinc acetate(0.24g)를 넣고 140℃로 승온 후, 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체를 적정량의 DCM에 넣어 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 C-3로 표시되는 화합물을 얻는다.3,4,6-Trichloro-5-(2,4-dimethoxy-phenoxy)-phthalonitrile (2g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (0.99g) and 1-pentanol (14g) in a 100mL flask After confirming that the solid is dissolved by heating to 90°C, add zinc acetate (0.24g), increase the temperature to 140°C, and stir while heating. After completion of the reaction, precipitation is confirmed with methanol, filtered and vacuum dried. The dried solid is purified by column chromatography. The solid obtained after purification is dissolved in an appropriate amount of DCM and crystallized by adding methanol. The crystallized solid is filtered and vacuum dried to obtain a compound represented by the following Chemical Formula C-3.

[화학식 C-3][Formula C-3]

Figure pat00028
Figure pat00028

Maldi-tof MS : 1591.80 m/zMaldi-tof MS: 1591.80 m/z

비교 합성예 4: 화학식 C-4로 표시되는 화합물의 합성Comparative Synthesis Example 4: Synthesis of a compound represented by Formula C-4

100mL 플라스크에 합성예 1-2의 4-(2,4-dimethoxy-phenoxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile (0.7g), 3,4,5,6-Tetrachlorophthalonitrile (1.45g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(1.38g) 및 1-펜탄올(14g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 용해된 것을 확인 후 zinc acetate(0.33g)를 넣고 140℃로 승온 후, 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체를 적정량의 DCM에 넣어 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 C-4로 표시되는 화합물을 얻는다.4-(2,4-dimethoxy-phenoxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile (0.7g), 3,4,5,6-Tetrachlorophthalonitrile (1.45g), 1 of Synthesis Example 1-2 in a 100mL flask ,8-Diazabicycloundec-7-ene (1.38g) and 1-pentanol (14g) were added and heated to 90℃ to confirm that the solid was dissolved. Then, zinc acetate (0.33g) was added, the temperature was raised to 140℃, and while heating Stir. After completion of the reaction, precipitation is confirmed with methanol, filtered and vacuum dried. The dried solid is purified by column chromatography. The solid obtained after purification is dissolved in an appropriate amount of DCM and crystallized by adding methanol. The crystallized solid is filtered and dried under vacuum to obtain a compound represented by the following Chemical Formula C-4.

[화학식 C-4][Formula C-4]

Figure pat00029
Figure pat00029

Maldi-tof MS : 1237.54 m/zMaldi-tof MS: 1237.54 m/z

비교 합성예 5: 화학식 C-5로 표시되는 화합물의 합성Comparative Synthesis Example 5: Synthesis of a compound represented by Formula C-5

100mL 플라스크에 4-(2-tert-Butyl-phenoxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile (2g), 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile(0.70g), 4,5-dichlorophthalonitrile(0.52g) 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(2.01g) 및 1-펜탄올(15g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 용해된 것을 확인 후 zinc acetate(0.48g)를 넣고 140℃로 승온 후, 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체를 적정량의 DCM에 넣어 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 C-5로 표시되는 화합물을 얻는다.4-(2-tert-Butyl-phenoxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile (2g), 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (0.70g), 4,5-dichlorophthalonitrile (0.52g) in a 100mL flask ) 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (2.01 g) and 1-pentanol (15 g) were added and heated to 90 ° C to confirm that the solid was dissolved. Then, zinc acetate (0.48 g) was added and the temperature was raised to 140 ° C. Stir while heating. After completion of the reaction, precipitation is confirmed with methanol, filtered and vacuum dried. The dried solid is purified by column chromatography. The solid obtained after purification is dissolved in an appropriate amount of DCM and crystallized by adding methanol. The crystallized solid is filtered and vacuum dried to obtain a compound represented by the following Chemical Formula C-5.

[화학식 C-5][Formula C-5]

Figure pat00030
Figure pat00030

Maldi-tof MS : 1287.63 m/zMaldi-tof MS: 1287.63 m/z

비교 합성예 6: 화학식 C-6으로 표시되는 화합물의 합성Comparative Synthesis Example 6: Synthesis of a compound represented by Formula C-6

100mL 플라스크에 4-(2-tert-Butyl-phenoxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile (2g), 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile(0.70g), 4-dichlorophthalonitrile(0.43g) 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(2.01g) 및 1-펜탄올(15g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 용해된 것을 확인 후 zinc acetate(0.48g)를 넣고 140℃로 승온 후, 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체를 적정량의 DCM에 넣어 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 C-6로 표시되는 화합물을 얻는다.4-(2-tert-Butyl-phenoxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile (2g), 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (0.70g), 4-dichlorophthalonitrile (0.43g) 1 in a 100mL flask ,8-Diazabicycloundec-7-ene (2.01g) and 1-pentanol (15g) were added and heated to 90℃ to confirm that the solid was dissolved. Then, zinc acetate (0.48g) was added, the temperature was raised to 140℃, and heating Stir. After completion of the reaction, precipitation is confirmed with methanol, filtered and vacuum dried. The dried solid is purified by column chromatography. The solid obtained after purification is dissolved in an appropriate amount of DCM and crystallized by adding methanol. The crystallized solid is filtered and dried under vacuum to obtain a compound represented by the following Chemical Formula C-6.

[화학식 C-6][Formula C-6]

Figure pat00031
Figure pat00031

Maldi-tof MS : 1253.19 m/zMaldi-tof MS: 1253.19 m/z

평가 1: 최대흡수파장 측정Evaluation 1: Measurement of the maximum absorption wavelength

상기 합성예 1 내지 합성예 5 및 비교 합성예 1 내지 비교 합성예 6에 따른 화합물을, 희석 용제(PGMEA)를 이용하여 0.005wt%의 농도로 제조하여, 상기 합성예 1 내지 합성예 5 및 비교 합성예 1 내지 비교 합성예 6에 따른 프탈로시아닌계 화합물 각각에 대한 흡수스펙트럼을 얻었으며, 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.(UV-1800, SHIMADZU)The compounds according to Synthesis Examples 1 to 5 and Comparative Synthesis Examples 1 to 6 were prepared at a concentration of 0.005wt% using a diluting solvent (PGMEA), and the Synthesis Examples 1 to 5 and comparison Absorption spectra for each of the phthalocyanine-based compounds according to Synthesis Examples 1 to 6 were obtained, and the results are shown in Table 1 below. (UV-1800, SHIMADZU)

최대흡수파장(nm)Maximum absorption wavelength (nm) 합성예 1Synthesis Example 1 643643 합성예 2Synthesis Example 2 642642 합성예 3Synthesis Example 3 642642 합성예 4Synthesis Example 4 641641 합성예 5Synthesis Example 5 642642 비교 합성예 1Comparative Synthesis Example 1 653653 비교 합성예 2Comparative Synthesis Example 2 649649 비교 합성예 3Comparative Synthesis Example 3 648648 비교 합성예 4Comparative Synthesis Example 4 651651 비교 합성예 5Comparative Synthesis Example 5 650650 비교 합성예 6Comparative Synthesis Example 6 648648

평가 2: 용해도 측정Evaluation 2: Determination of solubility

상기 합성예 1 내지 합성예 5 및 비교 합성예 1 내지 비교 합성예 6에 따른 화합물 0.5 g에, 희석 용제(PGMEA)를 각각 첨가하고, 해당 용액을 믹스 로터(iuchi 주식회사, MIXROTAR VMR-5)로 25℃rpm로 1시간 동안 교반한 후, 각각의 화합물의 용해도 확인 결과를 하기 표 2에 나타내었다.To 0.5 g of the compounds according to Synthesis Examples 1 to 5 and Comparative Synthesis Examples 1 to 6, respectively, a diluting solvent (PGMEA) was added, and the solution was mixed with a mixing rotor (iuchi Co., Ltd., MIXROTAR VMR-5) After stirring at 25 ℃ rpm for 1 hour, the solubility of each compound was confirmed in Table 2 below.

용해도 평가 기준Solubility evaluation criteria

희석용제 총량에 대해 화합물(용질)이 10 중량% 이상 용해: ○10% by weight or more of the compound (solute) dissolved with respect to the total amount of the diluent: ○

희석용제 총량에 대해 화합물(용질)이 10 중량% 미만 용해: XLess than 10% by weight of the compound (solute) dissolved with respect to the total amount of the diluent: X

(단위: 중량%)(Unit: % by weight) 용해도Solubility 합성예 1Synthesis Example 1 합성예 2Synthesis Example 2 합성예 3Synthesis Example 3 합성예 4Synthesis Example 4 합성예 5Synthesis Example 5 비교 합성예 1Comparative Synthesis Example 1 XX 비교 합성예 2Comparative Synthesis Example 2 XX 비교 합성예 3Comparative Synthesis Example 3 XX 비교 합성예 4Comparative Synthesis Example 4 XX 비교 합성예 5Comparative Synthesis Example 5 XX 비교 합성예 6Comparative Synthesis Example 6 XX

상기 표 2로부터, 일 구현예에 따른 화합물인 합성예 1 내지 합성예 5의 화합물은 비교 합성예 1 내지 비교 합성예 6의 화합물보다 유기용매에 대한 용해도가 우수하여, 감광성 수지 조성물 등에 사용 시 우수한 색특성을 나타낼 수 있음을 확인할 수 있다.From Table 2, the compounds of Synthesis Examples 1 to 5, which are compounds according to one embodiment, have superior solubility in organic solvents than the compounds of Comparative Synthesis Examples 1 to 6, which is excellent when used in a photosensitive resin composition, etc. It can be confirmed that color characteristics can be exhibited.

(감광성 수지 조성물의 합성)(Synthesis of photosensitive resin composition)

실시예 1 내지 실시예 5 및 비교예 1 내지 비교예 6Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 6

하기 언급된 구성성분들을 하기 표 3에 나타낸 조성으로 혼합하여 실시예 1 내지 실시예 5 및 비교예 1 내지 비교예 6에 따른 감광성 수지 조성물을 제조하였다.The photosensitive resin compositions according to Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 6 were prepared by mixing the components mentioned below in the composition shown in Table 3 below.

구체적으로, 용매에 광중합 개시제를 녹인 후 2 시간 동안 상온에서 교반한 다음, 여기에 바인더 수지 및 광중합성 단량체를 첨가하여 2시간 동안 상온에서 교반하였다. 이어서, 얻어진 상기 반응물에 착색제로서 상기 합성예에서 제조된 화합물(염료) 및 안료(안료분산액 형태)를 넣고 1시간 동안 상온에서 교반하였다. 이어 산화방지제 및 레벨링제를 넣고, 상기 생성물을 3회 여과하여 불순물을 제거함으로써, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.Specifically, a photopolymerization initiator was dissolved in a solvent and stirred at room temperature for 2 hours, and then a binder resin and a photopolymerizable monomer were added thereto and stirred at room temperature for 2 hours. Then, the compound (dye) and pigment (pigment dispersion form) prepared in the above Synthesis Example were added as a colorant to the obtained reactant and stirred at room temperature for 1 hour. Then, an antioxidant and a leveling agent were added, and the product was filtered three times to remove impurities, thereby preparing a photosensitive resin composition.

(단위: 중량%)(Unit: % by weight) 실시예Example 비교예comparative example 1One 22 33 44 55 1One 22 33 44 55 66 바인더 수지binder resin EHPE-3150
(DAICEL, 에폭시계)
EHPE-3150
(DAICEL, Epoxy)
0.270.27 0.270.27 0.270.27 0.270.27 0.270.27 0.270.27 0.270.27 0.270.27 0.270.27 0.270.27 0.270.27
NPR-5216
(미원, 아크릴계)
NPR-5216
(Miwon, acrylic)
7.917.91 7.917.91 7.917.91 7.917.91 7.917.91 7.917.91 7.917.91 7.917.91 7.917.91 7.917.91 7.917.91
광중합성 단량체photopolymerizable monomer GM66G0P
(QPPC)
GM66G0P
(QPPC)
4.924.92 4.924.92 4.924.92 4.924.92 4.924.92 4.924.92 4.924.92 4.924.92 4.924.92 4.924.92 4.924.92
Miramer 2200
(미원)
Miramer 2200
(Miwon)
0.370.37 0.370.37 0.370.37 0.370.37 0.370.37 0.370.37 0.370.37 0.370.37 0.370.37 0.370.37 0.370.37
광중합 개시제photopolymerization initiator SPI-03
(삼양사)
SPI-03
(Samyang Corporation)
0.780.78 0.780.78 0.780.78 0.780.78 0.780.78 0.780.78 0.780.78 0.780.78 0.780.78 0.780.78 0.780.78
IRG369
(BASF)
IRG369
(BASF)
0.010.01 0.010.01 0.010.01 0.010.01 0.010.01 0.010.01 0.010.01 0.010.01 0.010.01 0.010.01 0.010.01
산화방지제antioxidant AO-80
(ADEKA)
AO-80
(ADEKA)
0.010.01 0.010.01 0.010.01 0.010.01 0.010.01 0.010.01 0.010.01 0.010.01 0.010.01 0.010.01 0.010.01
안료pigment G58 안료분산액(SANYO, AG1623)G58 pigment dispersion (SANYO, AG1623) 3.003.00 3.003.00 3.003.00 3.003.00 3.003.00 3.003.00 3.003.00 3.003.00 3.003.00 3.003.00 3.003.00 Y138 안료분산액(ENF, EC-1200Y)Y138 pigment dispersion (ENF, EC-1200Y) 17.7917.79 17.7917.79 17.7917.79 17.7917.79 17.7917.79 17.7917.79 17.7917.79 17.7917.79 17.7917.79 17.7917.79 17.7917.79 염료dyes 30.22 (합성예 1)30.22 (Synthesis Example 1) 30.22 (합성예 2)30.22 (Synthesis Example 2) 30.22 (합성예 3)30.22 (Synthesis Example 3) 30.22 (합성예 4)30.22 (Synthesis Example 4) 30.22 (합성예 5)30.22 (Synthesis Example 5) 30.22 (비교 합성예 1)30.22 (Comparative Synthesis Example 1) 30.22 (비교 합성예 2)30.22 (Comparative Synthesis Example 2) 30.22 (비교 합성예 3)30.22 (Comparative Synthesis Example 3) 30.22 (비교 합성예 4)30.22 (Comparative Synthesis Example 4) 30.22 (비교 합성예 5)30.22 (Comparative Synthesis Example 5) 30.22
(비교 합성예 6)
30.22
(Comparative Synthesis Example 6)
용매menstruum PGMEA(DAICEL)PGMEA (DAICEL) 34.5034.50 34.5034.50 34.5034.50 34.5034.50 34.5034.50 34.5034.50 34.5034.50 34.5034.50 34.5034.50 34.5034.50 34.5034.50 레벨링제leveling agent F554(DIC)F554 (DIC) 0.200.20 0.200.20 0.200.20 0.200.20 0.200.20 0.200.20 0.200.20 0.200.20 0.200.20 0.200.20 0.200.20 TotalTotal 100.00100.00 100.00100.00 100.00100.00 100.00100.00 100.00100.00 100.00100.00 100.00100.00 100.00100.00 100.00100.00 100.00100.00 100.00100.00

평가 3: 색좌표, 휘도, 내화학성, 현상성 및 표면 주름Evaluation 3: Color coordinates, luminance, chemical resistance, developability and surface wrinkles

탈지 세척한 두께 1 mm의 유리 기판 상에 1 ㎛ 내지 3 ㎛의 두께로 상기 실시예 1 내지 실시예 5 및 비교예 1 내지 비교예 6에서 제조한 감광성 수지 조성물을 도포하고, 90℃의 핫 플레이트 상에서 2분 동안 건조시켜 도막을 수득하였다. 계속해서 도막에 365nm의 주파장을 가진 고압수은램프를 사용하여 노광하였다. 이 후, 200℃의 열풍순환식 건조로 안에서 5분 동안 건조시켜 샘플을 수득하였다. 화소층은 분광광도계(MCPD3000, Otsuka electronic社)를 이용하여 C 광원 기준 색순도를 평가하였고, CIE 색좌표 기준으로 휘도 및 명암비를 계산하여, 하기 표 4에 기재하였다.The photosensitive resin composition prepared in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 6 was applied to a thickness of 1 μm to 3 μm on a degreasing-washed glass substrate having a thickness of 1 mm, and a hot plate at 90° C. A coating film was obtained by drying on the bed for 2 minutes. Subsequently, the coating film was exposed using a high-pressure mercury lamp having a dominant wavelength of 365 nm. Thereafter, the sample was obtained by drying for 5 minutes in a hot air circulation drying furnace at 200°C. The pixel layer was evaluated for color purity based on the C light source using a spectrophotometer (MCPD3000, Otsuka electronic), and the luminance and contrast ratio were calculated based on the CIE color coordinates, and are shown in Table 4 below.

또한, 상기 노광 및 건조시켜 수득된 샘플(포토레지스트막)의 초기 두께를 측정한 후, NMP 용매에 25℃, 10분 간 정치시킨 후, 초순수로 30초간 세정한 다음 압축공기로 불어 건조하였다. 이후 상기 분광광도계를 이용하여 del(E*)값을 측정하여 내화학성을 확인하였고, 그 결과를 하기 표 4에 나타내었다.In addition, after measuring the initial thickness of the sample (photoresist film) obtained by exposure and drying, it was placed in an NMP solvent at 25° C. for 10 minutes, washed with ultrapure water for 30 seconds, and then dried by blowing with compressed air. Thereafter, the del(E*) value was measured using the spectrophotometer to confirm the chemical resistance, and the results are shown in Table 4 below.

내화학성 평가 기준Criteria for evaluation of chemical resistance

del(E*)가 3 미만: ○del(E*) less than 3: ○

del(E*)가 3 이상: Xdel(E*) is 3 or greater: X

휘도 (%)Luminance (%) 명암비contrast ratio 내화학성chemical resistance 실시예 1Example 1 65.565.5 1440014400 OO 실시예 2Example 2 66.666.6 1490014900 OO 실시예 3Example 3 66.866.8 1510015100 OO 실시예 4Example 4 66.566.5 1500015000 OO 실시예 5Example 5 66.666.6 1490014900 OO 비교예 1Comparative Example 1 60.160.1 1430014300 XX 비교예 2Comparative Example 2 60.060.0 1440014400 XX 비교예 3Comparative Example 3 58.858.8 1380013800 XX 비교예 4Comparative Example 4 59.859.8 1390013900 XX 비교예 5Comparative Example 5 59.159.1 1370013700 XX 비교예 6Comparative Example 6 58.158.1 1370013700 XX

상기 표 4로부터, 일 구현예에 따른 화합물을 염료로 포함하는 실시예 1 내지 실시예 5의 감광성 수지 조성물이 상기 화합물을 포함하지 않은 비교예 1 내지 비교예 6의 감광성 수지 조성물과 비교하여, 휘도, 명암비 및 내화학성이 우수하여, 이미지 센서 등에 용이하게 적용되어 색특성이 우수한 고선명 디스플레이 장치의 제조가 가능함을 확인할 수 있다. From Table 4, the photosensitive resin composition of Examples 1 to 5 including the compound according to an embodiment as a dye compared with the photosensitive resin composition of Comparative Examples 1 to 6 not including the compound, luminance , it can be confirmed that it is possible to manufacture a high-definition display device having excellent color characteristics by being easily applied to an image sensor and the like due to excellent contrast ratio and chemical resistance.

이상 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고, 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고, 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.Although preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications can be made within the scope of the claims, the detailed description of the invention, and the accompanying drawings, and this also It goes without saying that it falls within the scope of the invention.

Claims (15)

하기 화학식 1로 표시되는 화합물:
[화학식 1]
Figure pat00032

상기 화학식 1에서,
R1 내지 R16은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기이고, 단 R1 내지 R4 중 하나, R5 내지 R8 중 하나 및 R9 내지 R12 중 하나로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나 이상은 하기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되고,
[화학식 2]
Figure pat00033

상기 화학식 2에서,
R17은 하기 화학식 2-1로 표시되고,
n은 1 내지 5의 정수이고,
[화학식 2-1]
Figure pat00034

상기 화학식 2-1에서,
L1 내지 L3은 각각 독립적으로 단일 결합, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기 또는 *-O(C=O)NR'-*(R'은 수소 원자 또는 C1 내지 C10 알킬기임)이고,
R18은 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
[화학식 3]
Figure pat00035

상기 화학식 3에서,
L4는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기이다.
A compound represented by the following formula (1):
[Formula 1]
Figure pat00032

In Formula 1,
R 1 to R 16 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryloxy group, with the proviso that one of R 1 to R 4 , R 5 At least one selected from the group consisting of one of to R 8 and one of R 9 to R 12 is represented by the following Chemical Formula 2 or Chemical Formula 3,
[Formula 2]
Figure pat00033

In Formula 2,
R17 is represented by the following formula 2-1,
n is an integer from 1 to 5,
[Formula 2-1]
Figure pat00034

In Formula 2-1,
L 1 to L 3 are each independently a single bond, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group, or *-O(C=O)NR′-* (R′ is a hydrogen atom or a C1 to C10 alkyl group);
R 18 is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,
[Formula 3]
Figure pat00035

In Formula 3,
L 4 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group.
제1항에 있어서,
상기 R1 내지 R4 중 하나, R5 내지 R8 중 하나 및 R9 내지 R12 중 하나로 이루어진 군에서 선택된 적어도 둘 이상은 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되는 화합물.
According to claim 1,
At least two selected from the group consisting of one of R 1 to R 4 , one of R 5 to R 8 , and one of R 9 to R 12 are compounds represented by Formula 2 or Formula 3.
제1항에 있어서,
상기 R1 내지 R4 중 적어도 하나는 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되고, 나머지 셋은 할로겐 원자인 화합물.
According to claim 1,
At least one of R 1 to R 4 is represented by Formula 2 or Formula 3, and the other three are halogen atoms.
제1항에 있어서,
상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되고, 나머지 셋은 할로겐 원자인 화합물.
According to claim 1,
At least one of R 5 to R 8 is represented by Formula 2 or Formula 3, and the other three are halogen atoms.
제1항에 있어서,
상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되고, 나머지 셋은 할로겐 원자인 화합물.
According to claim 1,
At least one of R 9 to R 12 is represented by Formula 2 or Formula 3, and the other three are halogen atoms.
제1항에 있어서,
상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-5 중 어느 하나로 표시되는 화합물.
[화학식 1-1]
Figure pat00036

[화학식 1-2]
Figure pat00037

[화학식 1-3]
Figure pat00038

[화학식 1-4]
Figure pat00039

[화학식 1-5]
Figure pat00040

According to claim 1,
The compound represented by Formula 1 is a compound represented by any one of Formulas 1-1 to 1-5.
[Formula 1-1]
Figure pat00036

[Formula 1-2]
Figure pat00037

[Formula 1-3]
Figure pat00038

[Formula 1-4]
Figure pat00039

[Formula 1-5]
Figure pat00040

제1항에 있어서,
상기 화합물은 녹색 염료인 화합물.
According to claim 1,
The compound is a green dye.
제1항에 있어서,
상기 화합물은 645nm 내지 647nm 파장 영역에서 최대흡수파장을 가지는 화합물.
According to claim 1,
The compound has a maximum absorption wavelength in the wavelength region of 645nm to 647nm.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항의 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물.
The photosensitive resin composition containing the compound of any one of Claims 1-8.
제9항에 있어서,
상기 화합물은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 1 중량% 내지 40 중량%로 포함되는 감광성 수지 조성물.
10. The method of claim 9,
The compound is included in an amount of 1 wt% to 40 wt% based on the total amount of the photosensitive resin composition.
제9항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은 바인더 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
10. The method of claim 9,
The photosensitive resin composition further comprises a binder resin, a photopolymerizable compound, a photoinitiator, and a solvent.
제9항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은 안료를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
10. The method of claim 9,
The photosensitive resin composition further comprises a pigment.
제9항의 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조되는 감광성 수지막.
A photosensitive resin film produced by using the photosensitive resin composition of claim 9 .
제13항의 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터.
A color filter comprising the photosensitive resin film of claim 13 .
제14항의 컬러필터를 포함하는 디스플레이 장치.A display device comprising the color filter of claim 14 .
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