KR102149968B1 - Novel compound,photosensitive resin composition comprising the same and color filter - Google Patents

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Abstract

하기 화학식 1로 표시되는 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조되는 컬러필터가 제공된다.
[화학식 1]

Figure 112017086608527-pat00046

(상기 화학식 1에서, 각 치환기는 명세서에 정의된 바와 같다.)A compound represented by the following Formula 1, a photosensitive resin composition including the same, and a color filter prepared using the photosensitive resin composition are provided.
[Formula 1]
Figure 112017086608527-pat00046

(In Formula 1, each substituent is as defined in the specification.)

Description

신규한 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터{NOVEL COMPOUND,PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION COMPRISING THE SAME AND COLOR FILTER}A novel compound, a photosensitive resin composition and a color filter comprising the same TECHNICAL FIELD [NOVEL COMPOUND, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION COMPRISING THE SAME AND COLOR FILTER}

본 기재는 신규한 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터에 관한 것이다.The present disclosure relates to a novel compound, a photosensitive resin composition including the same, and a color filter.

안료형 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러필터에서는 안료 입자 크기에서 비롯되는 휘도와 명암비의 한계가 존재한다. 또한 이미지 센서용 컬러 촬상 소자의 경우에는 미세한 패턴 형성을 위해 더 작은 분산입도를 요구하게 된다. 이와 같은 요구에 부응하고자 안료 대신 입자를 이루지 않는 염료를 도입한 감광성 수지 조성물을 제조하여 휘도와 명암비 등의 색특성이 개선된 컬러필터를 구현하려는 시도가 계속되고 있다.In a color filter made of a pigment-type photosensitive resin composition, there is a limit to the brightness and contrast ratio resulting from the pigment particle size. In addition, in the case of a color image sensor for an image sensor, a smaller dispersion particle size is required to form a fine pattern. In order to meet such demands, attempts to implement a color filter having improved color characteristics such as brightness and contrast ratio by preparing a photosensitive resin composition in which a dye that does not form particles is introduced instead of a pigment is continued.

따라서, 감광성 수지 조성물의 제조에 사용되는 염료로 적합한 화합물에 대한 연구가 필요한 실정이다.Therefore, there is a need for research on a compound suitable as a dye used in the production of a photosensitive resin composition.

일 구현예는 신규한 화합물을 제공하기 위한 것이다.One embodiment is to provide a novel compound.

다른 일 구현예는 상기 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a photosensitive resin composition comprising the compound.

또 다른 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 컬러필터를 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a color filter manufactured by using the photosensitive resin composition.

본 발명의 일 구현예는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제공한다.One embodiment of the present invention provides a compound represented by the following formula (1).

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112017086608527-pat00001
Figure 112017086608527-pat00001

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

R1 내지 R16은 각각 독립적으로 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기이고,R 1 to R 16 are each independently a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, or a substituted or unsubstituted C6 To C20 aryloxy group,

단, R1 내지 R16 중 적어도 둘 이상은 하기 화학식 2로 표시되고,However, at least two or more of R 1 to R 16 are represented by the following formula (2),

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112017086608527-pat00002
Figure 112017086608527-pat00002

상기 화학식 2에서,In Chemical Formula 2,

R17은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고, R 17 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

R18은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기이다.R 18 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group.

상기 화학식 2는 하기 화학식 3으로 표시될 수 있다.Formula 2 may be represented by Formula 3 below.

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112017086608527-pat00003
Figure 112017086608527-pat00003

상기 화학식 3에서,In Chemical Formula 3,

R17은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고, R 17 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

R18은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기이다.R 18 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group.

상기 R17은 tert-부틸기일 수 있다.R 17 may be a tert-butyl group.

상기 R1 내지 R16 중 적어도 하나는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기일 수 있다.At least one of R 1 to R 16 may be a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group.

상기 R1 내지 R4 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시될 수 있다.At least one of R 1 to R 4 is represented by Formula 2, at least one of R 5 to R 8 is represented by Formula 2, and at least one of R 9 to R 12 is represented by Formula 2, , At least one of R 13 to R 16 may be represented by Formula 2.

상기 R1 내지 R4 중 적어도 하나는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기이고, 상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시될 수 있다.At least one of R 1 to R 4 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, at least one of R 5 to R 8 is represented by Formula 2, and at least one of R 9 to R 12 is the It is represented by Formula 2, and at least one of R 13 to R 16 may be represented by Formula 2.

상기 R1 내지 R4는 모두 할로겐 원자이고, 상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시될 수 있다.Wherein R 1 to R 4 are all halogen atoms, at least one of R 5 to R 8 is represented by Formula 2, at least one of R 9 to R 12 is represented by Formula 2, and R 13 to At least one of R 16 may be represented by Formula 2.

상기 R1 내지 R8은 모두 할로겐 원자이고, 상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시될 수 있다.All of R 1 to R 8 are halogen atoms, at least one of R 9 to R 12 may be represented by Formula 2, and at least one of R 13 to R 16 may be represented by Formula 2.

상기 R1 내지 R4는 모두 할로겐 원자이고, 상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R9 내지 R12는 모두 할로겐 원자이고, 상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시될 수 있다.R 1 to R 4 are all halogen atoms, at least one of R 5 to R 8 is represented by Formula 2, and R 9 to R 12 are all halogen atoms, and at least one of R 13 to R 16 May be represented by Formula 2 above.

상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 4 내지 화학식 11 중 어느 하나로 표시될 수 있다.The compound represented by Formula 1 may be represented by any one of Formulas 4 to 11 below.

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112017086608527-pat00004
Figure 112017086608527-pat00004

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112017086608527-pat00005
Figure 112017086608527-pat00005

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112017086608527-pat00006
Figure 112017086608527-pat00006

[화학식 7][Formula 7]

Figure 112017086608527-pat00007
Figure 112017086608527-pat00007

[화학식 8][Formula 8]

Figure 112017086608527-pat00008
Figure 112017086608527-pat00008

[화학식 9][Formula 9]

Figure 112017086608527-pat00009
Figure 112017086608527-pat00009

[화학식 10][Formula 10]

Figure 112017086608527-pat00010
Figure 112017086608527-pat00010

[화학식 11][Formula 11]

Figure 112017086608527-pat00011
Figure 112017086608527-pat00011

상기 화합물은 녹색 염료일 수 있다.The compound may be a green dye.

상기 녹색 염료는 445nm 내지 560nm의 파장범위에서 최대 투과도를 가질 수 있다.The green dye may have a maximum transmittance in a wavelength range of 445 nm to 560 nm.

다른 일 구현예는 상기 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.Another embodiment provides a photosensitive resin composition comprising the compound.

상기 화합물은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 1 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다.The compound may be included in an amount of 1% to 10% by weight based on the total amount of the photosensitive resin composition.

상기 감광성 수지 조성물은 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition may further include an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent.

상기 감광성 수지 조성물은 안료를 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition may further include a pigment.

상기 안료는 황색 안료, 녹색 안료 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The pigment may include a yellow pigment, a green pigment, or a combination thereof.

또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조되는 컬러필터를 제공한다.Another embodiment provides a color filter manufactured by using the photosensitive resin composition.

기타 본 발명의 측면들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.Other specifics of aspects of the present invention are included in the detailed description below.

일 구현예에 따른 화합물은 우수한 녹색 분광 특성과 높은 몰흡광계수를 가지고 유기 용매에 대한 용해도가 우수하여, 녹색 컬러필터용 감광성 수지 조성물 제조 시 염료로 사용될 수 있고, 상기 염료를 포함하는 컬러필터는 우수한 휘도 및 명암비를 가질 수 있다.The compound according to an embodiment has excellent green spectral properties, high molar absorption coefficient, and has excellent solubility in organic solvents, and thus can be used as a dye when preparing a photosensitive resin composition for a green color filter, and the color filter including the dye It can have excellent luminance and contrast ratio.

이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다.  다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, this is presented as an example, and the present invention is not limited thereby, and the present invention is only defined by the scope of the claims to be described later.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "치환" 내지 "치환된"이란, 본 발명의 작용기 중의 하나 이상의 수소 원자가 할로겐 원자(F, Br, Cl 또는 I), 히드록시기, 니트로기, 시아노기, 아미노기(NH2, NH(R200) 또는 N(R201)(R202)이고, 여기서 R200, R201 및 R202는 동일하거나 서로 상이하며, 각각 독립적으로 C1 내지 C10 알킬기임), 아미디노기, 하이드라진기, 하이드라존기, 카르복실기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 알키닐기, 치환 또는 비치환된 지환족 유기기, 치환 또는 비치환된 아릴기 및 치환 또는 비치환된 헤테로고리기로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 치환기로 치환된 것을 의미한다.Unless otherwise specified in the specification, "substituted" to "substituted" means that at least one hydrogen atom in the functional groups of the present invention is a halogen atom (F, Br, Cl or I), a hydroxy group, a nitro group, a cyano group, an amino group ( NH 2 , NH (R 200 ) or N (R 201 ) (R 202 ), wherein R 200 , R 201 and R 202 are the same or different from each other, and each independently a C1 to C10 alkyl group), an amidino group, A hydrazine group, a hydrazone group, a carboxyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted alkynyl group, a substituted or unsubstituted alicyclic organic group, a substituted or unsubstituted aryl group, and It means substituted with one or more substituents selected from the group consisting of substituted or unsubstituted heterocyclic groups.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "알킬기"란 C1 내지 C20 알킬기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C15 알킬기를 의미하고, "사이클로알킬기"란 C3 내지 C20 사이클로알킬기를 의미하고, 구체적으로는 C3 내지 C18 사이클로알킬기를 의미하고, "알콕시기"란 C1 내지 C20 알콕시기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C18 알콕시기를 의미하고, "아릴기"란 C6 내지 C20 아릴기를 의미하고, 구체적으로는 C6 내지 C18 아릴기를 의미하고, "알케닐기"란 C2 내지 C20 알케닐기를 의미하고, 구체적으로는 C2 내지 C18 알케닐기를 의미하고, "알킬렌기"란 C1 내지 C20 알킬렌기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C18 알킬렌기를 의미하고, "아릴렌기"란 C6 내지 C20 아릴렌기를 의미하고, 구체적으로는 C6 내지 C16 아릴렌기를 의미한다.Unless otherwise specified in the specification, “alkyl group” refers to a C1 to C20 alkyl group, specifically C1 to C15 alkyl group, and “cycloalkyl group” refers to a C3 to C20 cycloalkyl group, specifically C3 To C18 cycloalkyl group, "alkoxy group" refers to a C1 to C20 alkoxy group, specifically C1 to C18 alkoxy group, and "aryl group" refers to a C6 to C20 aryl group, specifically C6 to It means a C18 aryl group, and "alkenyl group" means a C2 to C20 alkenyl group, specifically C2 to C18 alkenyl group, and "alkylene group" means a C1 to C20 alkylene group, specifically C1 To C18 alkylene group, and "arylene group" refers to a C6 to C20 arylene group, and specifically refers to a C6 to C16 arylene group.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "(메타)아크릴레이트"는 "아크릴레이트"와 "메타크릴레이트" 둘 다 가능함을 의미하며, "(메타)아크릴산"은 "아크릴산"과 "메타크릴산" 둘 다 가능함을 의미한다.Unless otherwise specified in the specification, "(meth)acrylate" means that both "acrylate" and "methacrylate" are possible, and "(meth)acrylic acid" means "acrylic acid" and "methacrylic acid" It means both are possible.

본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, "조합"이란 혼합 또는 공중합을 의미한다. 또한 "공중합"이란 블록 공중합 내지 랜덤 공중합을 의미하고, "공중합체"란 블록 공중합체 내지 랜덤 공중합체를 의미한다.Unless otherwise defined herein, "combination" means mixing or copolymerization. In addition, "copolymerization" means block copolymerization or random copolymerization, and "copolymer" means block copolymer or random copolymer.

본 명세서 내 화학식에서 별도의 정의가 없는 한, 화학 결합이 그려져야 하는 위치에 화학결합이 그려져 있지 않은 경우는 상기 위치에 수소 원자가 결합되어 있음을 의미한다.Unless otherwise defined in the chemical formula in the present specification, when a chemical bond is not drawn at a position where a chemical bond is to be drawn, it means that a hydrogen atom is bonded at the position.

또한, 본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, "*"는 동일하거나 상이한 원자 또는 화학식과 연결되는 부분을 의미한다.In addition, unless otherwise defined in the specification, "*" means a part connected to the same or different atoms or chemical formulas.

일 구현예는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제공한다.One embodiment provides a compound represented by the following formula (1).

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112017086608527-pat00012
Figure 112017086608527-pat00012

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

R1 내지 R16은 각각 독립적으로 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기이고,R 1 to R 16 are each independently a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, or a substituted or unsubstituted C6 To C20 aryloxy group,

단, R1 내지 R16 중 적어도 둘 이상은 하기 화학식 2로 표시되고,However, at least two or more of R 1 to R 16 are represented by the following formula (2),

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112017086608527-pat00013
Figure 112017086608527-pat00013

상기 화학식 2에서,In Chemical Formula 2,

R17은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고, R 17 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

R18은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기이다.R 18 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group.

예컨대, 상기 R17 및 R18이 모두 알킬기 또는 알콕시기인 경우, 컬러필터용 녹색화소 구현이 어려울 수 있다.For example, when both R 17 and R 18 are an alkyl group or an alkoxy group, it may be difficult to implement a green pixel for a color filter.

상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 우수한 녹색 분광 특성과 높은 몰흡광계수를 가진다. 나아가, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 상기 화학식 2로 표시되는 치환기를 적어도 둘 이상 반드시 포함함에 따라 유기용매에 대해 우수한 용해도 및 컬러필터에 적용 시 우수한 휘도 및 명암비를 나타낼 수 있다.The compound represented by Formula 1 has excellent green spectral properties and a high molar extinction coefficient. Further, since the compound represented by Formula 1 must contain at least two or more substituents represented by Formula 2, it may exhibit excellent solubility in an organic solvent and excellent brightness and contrast ratio when applied to a color filter.

예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이 상기 화학식 2로 표시되는 치환기를 하나만 포함할 경우, 유기용매에 대해 용해도, 휘도 및 명암비 저하가 커서, 컬러필터용 감광성 수지 조성물 내 착색제로 사용하는 데 무리가 있을 수 있다.For example, when the compound represented by Formula 1 contains only one substituent represented by Formula 2, the solubility, brightness and contrast ratio in the organic solvent are largely decreased, and it is difficult to use it as a colorant in the photosensitive resin composition for color filters. There may be.

상기 화학식 2는 하기 화학식 3으로 표시될 수 있다.Formula 2 may be represented by Formula 3 below.

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112017086608527-pat00014
Figure 112017086608527-pat00014

상기 화학식 3에서,In Chemical Formula 3,

R17은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고, R 17 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

R18은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기이다.R 18 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group.

상기 화학식 3으로 표시되는 치환기는 1개의 알킬기 및 1개의 알콕시기를 가지며, 상기 1개의 알킬기는 오르쏘(ortho) 위치에 치환되어 있고, 상기 1개의 알콕시기는 파라(para) 위치에 치환되어 있어, 휘도 및 명암비를 더욱 향상시킬 수 있다. 예컨대, 상기 1개의 알킬기가 파라(para) 위치에 치환되고, 상기 1개의 알콕시기가 오르쏘(ortho) 위치에 치환될 경우, 컬러필터용 녹색화소 구현이 어려울 수 있다.The substituent represented by Formula 3 has 1 alkyl group and 1 alkoxy group, the 1 alkyl group is substituted at the ortho position, and the 1 alkoxy group is substituted at the para position, And the contrast ratio can be further improved. For example, when the one alkyl group is substituted at the para position and the one alkoxy group is substituted at the ortho position, it may be difficult to implement a green pixel for a color filter.

예컨대, 상기 R17은 tert-부틸기일 수 있다. 상기 R17은 메틸기, 에틸기, n-부틸기 등의 선형(linear) 알킬기인 경우보다, tert-부틸기 등의 비선형(branch) 알킬기인 경우가 휘도 및 명암비 측면에서 보다 유리하다.For example, R 17 may be a tert-butyl group. R 17 is more advantageous in terms of brightness and contrast ratio in the case of a branch alkyl group such as tert-butyl group than in the case of a linear alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, or an n-butyl group.

상기 R1 내지 R16 중 적어도 하나는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기일 수 있다. 예컨대, 상기 화학식 1에서, "R1 내지 R16 중 둘은 하기 화학식 2로 표시되고, 동시에 R1 내지 R16 중 적어도 하나가 알콕시기"인 경우가, "R1 내지 R16 중 둘은 하기 화학식 2로 표시되고, 나머지 치환기가 모두 할로겐 원자"인 경우보다 용해도 측면에서 유리하다. At least one of R 1 to R 16 may be a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group. For example, in Formula 1, "two of R 1 to R 16 are represented by the following Formula 2, and at the same time, when at least one of R 1 to R 16 is an alkoxy group", "two of R 1 to R 16 are It is more advantageous in terms of solubility than the case represented by Chemical Formula 2 and all of the remaining substituents are halogen atoms.

나아가, 상기 화학식 1에서, "R1 내지 R16 중 넷 이상이 하기 화학식 2로 표시"되는 경우(예컨대, 상기 R1 내지 R4 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되는 경우), 가장 우수한 용해도를 가질 수 있다. Further, in Formula 1, when "four or more of R 1 to R 16 are represented by the following Formula 2" (eg, at least one of R 1 to R 4 is represented by Formula 2, and the R 5 to R When at least one of 8 is represented by Formula 2, at least one of R 9 to R 12 is represented by Formula 2, and at least one of R 13 to R 16 is represented by Formula 2), the most excellent It can have solubility.

상기 R1 내지 R4 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시될 수 있다. 예컨대, 상기 R2 및 R3 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R6 및 R7 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R10 및 R11 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R14 및 R15 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시될 수 있다.At least one of R 1 to R 4 is represented by Formula 2, at least one of R 5 to R 8 is represented by Formula 2, and at least one of R 9 to R 12 is represented by Formula 2, , At least one of R 13 to R 16 may be represented by Formula 2. For example, at least one of R 2 and R 3 is represented by Formula 2, at least one of R 6 and R 7 is represented by Formula 2, and at least one of R 10 and R 11 is represented by Formula 2 And at least one of R 14 and R 15 may be represented by Formula 2.

상기 R1 내지 R4 중 적어도 하나는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기이고, 상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시될 수 있다. 예컨대, 상기 R2 및 R3 중 적어도 하나는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기이고, 상기 R6 및 R7 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R10 및 R11 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R14 및 R15 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시될 수 있다.At least one of R 1 to R 4 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, at least one of R 5 to R 8 is represented by Formula 2, and at least one of R 9 to R 12 is the It is represented by Formula 2, and at least one of R 13 to R 16 may be represented by Formula 2. For example, at least one of R 2 and R 3 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, at least one of R 6 and R 7 is represented by Formula 2, and at least one of R 10 and R 11 Is represented by Formula 2, and at least one of R 14 and R 15 may be represented by Formula 2.

상기 R1 내지 R4는 모두 할로겐 원자이고, 상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시될 수 있다. 예컨대, 상기 R1 내지 R4는 모두 할로겐 원자이고, 상기 R6 및 R7 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R10 및 R11 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R13 내지 R16은 모두 할로겐 원자일 수 있다.Wherein R 1 to R 4 are all halogen atoms, at least one of R 5 to R 8 is represented by Formula 2, at least one of R 9 to R 12 is represented by Formula 2, and R 13 to At least one of R 16 may be represented by Formula 2. For example, R 1 to R 4 are all halogen atoms, at least one of R 6 and R 7 is represented by Formula 2, at least one of R 10 and R 11 is represented by Formula 2, and R All of 13 to R 16 may be halogen atoms.

상기 R1 내지 R8은 모두 할로겐 원자이고, 상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시될 수 있다. 예컨대, 상기 R1 내지 R8은 모두 할로겐 원자이고, 상기 R10 및 R11 중 적어도 하나는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기이고, 상기 R14 및 R15 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시될 수 있다.All of R 1 to R 8 are halogen atoms, at least one of R 9 to R 12 may be represented by Formula 2, and at least one of R 13 to R 16 may be represented by Formula 2. For example, the R 1 to R 8 are all halogen atoms, at least one of R 10 and R 11 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, and at least one of R 14 and R 15 is represented by Formula 2 Can be displayed.

상기 R1 내지 R4는 모두 할로겐 원자이고, 상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R9 내지 R12는 모두 할로겐 원자이고, 상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시될 수 있다. 예컨대, 상기 R1 내지 R4는 모두 할로겐 원자이고, 상기 R6 및 R7 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R9 내지 R12는 모두 할로겐 원자이고, 상기 R14 및 R15 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시될 수 있다.R 1 to R 4 are all halogen atoms, at least one of R 5 to R 8 is represented by Formula 2, and R 9 to R 12 are all halogen atoms, and at least one of R 13 to R 16 May be represented by Formula 2 above. For example, R 1 to R 4 are all halogen atoms, at least one of R 6 and R 7 is represented by Formula 2, and R 9 to R 12 are all halogen atoms, and among R 14 and R 15 At least one may be represented by Formula 2 above.

예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 4 내지 화학식 11 중 어느 하나로 표시될 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the compound represented by Formula 1 may be represented by any one of Formulas 4 to 11 below, but is not limited thereto.

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112017086608527-pat00015
Figure 112017086608527-pat00015

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112017086608527-pat00016
Figure 112017086608527-pat00016

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112017086608527-pat00017
Figure 112017086608527-pat00017

[화학식 7][Formula 7]

Figure 112017086608527-pat00018
Figure 112017086608527-pat00018

[화학식 8][Formula 8]

Figure 112017086608527-pat00019
Figure 112017086608527-pat00019

[화학식 9][Formula 9]

Figure 112017086608527-pat00020
Figure 112017086608527-pat00020

[화학식 10][Formula 10]

Figure 112017086608527-pat00021
Figure 112017086608527-pat00021

[화학식 11][Formula 11]

Figure 112017086608527-pat00022
Figure 112017086608527-pat00022

일 구현예에 따른 화합물은 2개 이상의 상기 화학식 2로 표시되는 치환기를 포함하기 때문에 적은 양으로도 보다 선명한 색의 발현이 가능하여, 착색제로 사용 시 휘도나 명암비 등의 색특성이 우수한 디스플레이 소자의 제조가 가능하다. 예컨대, 상기 화합물은 착색제, 예컨대 염료, 예컨대 녹색 염료, 예컨대 445nm 내지 560nm의 파장범위에서 최대 투과도를 가지는 염료일 수 있다.Since the compound according to an embodiment contains two or more substituents represented by the above formula (2), it is possible to express a more vivid color even in a small amount, and when used as a colorant, the display device having excellent color characteristics such as brightness and contrast ratio Manufacturing is possible. For example, the compound may be a colorant, such as a dye, such as a green dye, such as a dye having a maximum transmittance in the wavelength range of 445 nm to 560 nm.

일반적으로, 염료는 컬러필터 내에 사용되는 구성성분 중 가장 고가의 구성성분이다. 그러므로, 원하는 효과, 예컨대 고휘도나 고명암비 등을 달성하기 위해서는 고가의 염료를 더 많이 사용해야 하기 때문에 생산 단가가 상승할 수 밖에 없었다. 그러나, 일 구현예에 따른 화합물을 컬러필터 내 염료로 사용하는 경우, 적은 양으로도 고휘도, 고명암비 등의 우수한 색특성을 달성할 수 있어 생산 단가의 절감이 가능하다.In general, dyes are the most expensive constituents among the constituents used in color filters. Therefore, in order to achieve a desired effect, such as high luminance or high contrast ratio, more expensive dyes must be used, resulting in an increase in production cost. However, when the compound according to an embodiment is used as a dye in a color filter, excellent color characteristics such as high luminance and high contrast ratio can be achieved even with a small amount, so that the production cost can be reduced.

다른 일 구현예에 따르면, 상기 일 구현예에 따른 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.According to another embodiment, a photosensitive resin composition comprising the compound according to the embodiment is provided.

예컨대, 상기 감광성 수지 조성물은 상기 일 구현예에 따른 화합물, 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 포함할 수 있다.For example, the photosensitive resin composition may include the compound according to the embodiment, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent.

일 구현예에 따른 화합물은 감광성 수지 조성물 내에서 착색제, 예컨대 염료, 예컨대 녹색 염료로서의 역할을 하여, 우수한 색특성을 발현할 수 있다.The compound according to an embodiment may serve as a colorant, such as a dye, such as a green dye, in the photosensitive resin composition, and may exhibit excellent color characteristics.

일 구현예에 따른 화합물은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 1 중량% 내지 10 중량%, 예컨대 3 중량% 내지 7 중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위로 일 구현예에 따른 화합물이 포함될 경우 색재현율 및 명암비가 우수해진다. The compound according to an embodiment may be included in an amount of 1% to 10% by weight, such as 3% to 7% by weight, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the compound according to the embodiment is included in the above range, color reproduction and contrast ratio are excellent .

상기 감광성 수지 조성물은 안료, 예컨대 황색 안료, 녹색 안료 또는 이들의 조합을 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition may further include a pigment such as a yellow pigment, a green pigment, or a combination thereof.

상기 황색 안료는 컬러 인덱스(Color Index) 내에서 C.I. 안료 황색 138, C.I. 안료 황색 139, C.I. 안료 황색 150 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. The yellow pigment is C.I. in the Color Index. Pigment Yellow 138, C.I. Pigment Yellow 139, C.I. Pigment yellow 150, etc. are mentioned, and these can be used individually or in mixture of 2 or more types.

상기 녹색 안료는 컬러 인덱스(Color Index) 내에서 C.I. 안료 녹색 36, C.I. 안료 녹색 58, C.I. 안료 녹색 59 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The green pigment is C.I. in the Color Index. Pigment Green 36, C.I. Pigment Green 58, C.I. Pigment green 59, etc. are mentioned, and these can be used individually or in mixture of 2 or more types.

상기 안료는 안료분산액의 형태로 상기 감광성 수지 조성물에 포함될 수 있다.The pigment may be included in the photosensitive resin composition in the form of a pigment dispersion.

상기 안료분산액은 고형분의 안료, 용제 및 상기 용제 내에 상기 안료를 균일하게 분산시키기 위한 분산제를 포함할 수 있다.The pigment dispersion may include a solid pigment, a solvent, and a dispersant for uniformly dispersing the pigment in the solvent.

상기 고형분의 안료는 안료분산액 총량에 대하여 1 중량%내지 20 중량%, 예컨대 8 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 8 중량% 내지 15 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 15 중량%로 포함될 수 있다.The solid pigment is 1% to 20% by weight, such as 8% to 20% by weight, such as 8% to 15% by weight, such as 10% to 20% by weight, such as 10% to 20% by weight, based on the total amount of the pigment dispersion. It may be included in 15% by weight.

상기 분산제로는 비이온성 분산제, 음이온성 분산제, 양이온성 분산제 등을 사용할 수 있다.  상기 분산제의 구체적인 예로는, 폴리알킬렌글리콜 및 이의 에스테르, 폴리옥시알킬렌, 다가알코올 에스테르 알킬렌 옥사이드 부가물, 알코올알킬렌 옥사이드 부가물, 술폰산 에스테르, 술폰산 염, 카르복실산 에스테르, 카르복실산 염, 알킬아미드 알킬렌 옥사이드 부가물, 알킬 아민 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.Nonionic dispersants, anionic dispersants, cationic dispersants, and the like may be used as the dispersant. Specific examples of the dispersant include polyalkylene glycol and esters thereof, polyoxyalkylene, polyhydric alcohol ester alkylene oxide adduct, alcohol alkylene oxide adduct, sulfonic acid ester, sulfonic acid salt, carboxylic acid ester, carboxylic acid Salts, alkylamide alkylene oxide adducts, alkyl amines, etc., and these may be used alone or in combination of two or more.

상기 분산제의 시판되는 제품을 예로 들면, BYK社의 DISPERBYK-101, DISPERBYK-130, DISPERBYK-140, DISPERBYK-160, DISPERBYK-161, DISPERBYK-162, DISPERBYK-163, DISPERBYK-164, DISPERBYK-165, DISPERBYK-166, DISPERBYK-170, DISPERBYK-171, DISPERBYK-182, DISPERBYK-2000, DISPERBYK-2001 등; EFKA 케미칼社의EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA-48, EFKA-49, EFKA-100, EFKA-400, EFKA-450 등; Zeneka社의 Solsperse 5000,Solsperse 12000, Solsperse 13240, Solsperse 13940, Solsperse 17000, Solsperse 20000, Solsperse24000GR, Solsperse 27000, Solsperse 28000 등; 또는 Ajinomoto社의 PB711, PB821 등이 있다.For example, the commercially available products of the dispersant are BYK's DISPERBYK-101, DISPERBYK-130, DISPERBYK-140, DISPERBYK-160, DISPERBYK-161, DISPERBYK-162, DISPERBYK-163, DISPERBYK-164, DISPERBYK-165, DISPERBYK -166, DISPERBYK-170, DISPERBYK-171, DISPERBYK-182, DISPERBYK-2000, DISPERBYK-2001, etc.; EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA-48, EFKA-49, EFKA-100, EFKA-400, EFKA-450, etc. from EFKA Chemical; Zeneka's Solsperse 5000, Solsperse 12000, Solsperse 13240, Solsperse 13940, Solsperse 17000, Solsperse 20000, Solsperse 24000GR, Solsperse 27000, Solsperse 28000, etc.; Alternatively, there are PB711 and PB821 of Ajinomoto.

상기 분산제는 안료분산액 총량에 대하여1 중량%내지20 중량%로 포함될 수 있다. 분산제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 적절한 점도를 유지할 수 있어감광성 수지 조성물의 분산성이 우수하며, 이로 인해 제품 적용시 광학적, 물리적 및 화학적 품질을 유지할 수 있다.The   dispersant may be included in an amount of 1% to 20% by weight based on the total amount of the pigment dispersion. When the dispersant is included within the above range, it is possible to maintain an appropriate viscosity, so that the photosensitive resin composition has excellent dispersibility, and thus optical, physical and chemical quality can be maintained when the product is applied.

상기 안료분산액을 형성하는 용제로는 에틸렌글리콜 아세테이트, 에틸셀로솔브, 프로필렌글리콜 메틸에테르아세테이트, 에틸락테이트, 폴리에틸렌글리콜, 사이클로헥사논, 프로필렌글리콜 메틸에테르 등을 사용할 수 있다. As a solvent for forming the pigment dispersion, ethylene glycol acetate, ethyl cellosolve, propylene glycol methyl ether acetate, ethyl lactate, polyethylene glycol, cyclohexanone, propylene glycol methyl ether, and the like may be used.

상기 안료분산액은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 10 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 12 중량% 내지 18 중량%로 포함될 수 있다. 상기 안료분산액이 상기 범위 내로 포함될 경우, 공정마진 확보에 유리하고, 색재현율 및 명암비가 우수해진다.The pigment dispersion may be included in an amount of 10% to 20% by weight, such as 12% to 18% by weight, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the pigment dispersion is included within the above range, it is advantageous to secure a process margin, and a color reproducibility and contrast ratio are excellent.

상기 알칼리 가용성 수지는 아크릴계 수지일 수 있다.The alkali-soluble resin may be an acrylic resin.

상기 아크릴계 수지는 제1 에틸렌성 불포화 단량체 및 이와 공중합 가능한 제2 에틸렌성 불포화 단량체의 공중합체로, 하나 이상의 아크릴계 반복단위를 포함하는 수지이다. The acrylic resin is a copolymer of a first ethylenically unsaturated monomer   and a second ethylenically unsaturated monomer copolymerizable therewith, and is a resin including at least one acrylic repeating unit.

상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 하나 이상의 카르복시기를 함유하는 에틸렌성 불포화 단량체이며, 이의 구체적인 예로는 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 이타콘산, 푸마르산또는 이들의 조합을 들 수 있다.The first ethylenically unsaturated monomer is an ethylenically unsaturated monomer containing at least one carboxy group, and specific examples thereof include  acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, or a combination thereof.

상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 상기 아크릴계 바인더 수지 총량에 대하여 5 중량% 내지 50 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 40 중량%로 포함될 수 있다.The first ethylenically unsaturated monomer may be included in an amount of 5% to 50% by weight, such as 10% to 40% by weight, based on the total amount of the acrylic binder resin.

상기 제2 에틸렌성 불포화 단량체는 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 비닐벤질메틸에테르 등의 방향족 비닐 화합물; 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시 부틸(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 에스테르 화합물; 2-아미노에틸(메타)아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 아미노 알킬 에스테르 화합물; 초산비닐, 안식향산 비닐 등의 카르복시산 비닐 에스테르 화합물; 글리시딜(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 글리시딜 에스테르 화합물; (메타)아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물; (메타)아크릴아미드 등의 불포화 아미드 화합물; 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The second ethylenically unsaturated monomers include aromatic vinyl compounds such as styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, and vinylbenzylmethylether; Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy butyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, Unsaturated carboxylic acid ester compounds such as cyclohexyl (meth)acrylate and phenyl (meth)acrylate; Unsaturated carboxylic acid amino alkyl ester compounds such as 2-aminoethyl (meth)acrylate and 2-dimethylaminoethyl (meth)acrylate; Carboxylic acid vinyl ester compounds such as vinyl acetate and vinyl benzoate; Unsaturated carboxylic acid glycidyl ester compounds such as glycidyl (meth)acrylate; Vinyl cyanide compounds such as (meth)acrylonitrile; Unsaturated amide compounds such as (meth)acrylamide; And the like, and these may be used alone or in combination of two or more.

상기 아크릴계 수지의 구체적인 예로는 (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 이들을 단독 또는 2종 이상을 배합하여 사용할 수도 있다.Specific examples of the acrylic resin include (meth)acrylic acid/benzyl methacrylate copolymer, (meth)acrylic acid/benzyl methacrylate/styrene copolymer, (meth)acrylic acid/benzyl methacrylate/2-hydroxyethyl methacrylate Rate copolymer, (meth)acrylic acid/benzyl methacrylate/styrene/2-hydroxyethyl methacrylate copolymer, and the like, but are not limited thereto, and these may be used alone or in combination of two or more. .

상기 알칼리 가용성 수지의 중량평균 분자량은 3,000 g/mol 내지 150,000 g/mol, 예컨대 5,000 g/mol 내지 50,000 g/mol, 예컨대 20,000 g/mol 내지 30,000 g/mol 일 수 있다. 상기 알칼리 가용성 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위 내일 경우, 상기 감광성 수지 조성물의 물리적 및 화학적 물성이 우수하고 점도가 적절하며, 컬러필터 제조시 기판과의 밀착성이 우수하다.  The weight average molecular weight of the alkali-soluble resin may be 3,000 g/mol to 150,000 g/mol, such as 5,000 g/mol to 50,000 g/mol, such as 20,000 g/mol to 30,000 g/mol. When the weight average molecular weight of the alkali-soluble resin is within the above range, the photosensitive resin composition has excellent physical and chemical properties, has an appropriate viscosity, and has excellent adhesion to a substrate when manufacturing a color filter.

상기 알칼리 가용성 수지의 산가는 15 mgKOH/g 내지 60 mgKOH/g, 예컨대 20 mgKOH/g 내지 50 mgKOH/g 일 수 있다. 알칼리 가용성 수지의 산가가 상기 범위 내일 경우 픽셀 패턴의 해상도가 우수하다.The acid value of the alkali-soluble resin may be 15 mgKOH/g to 60 mgKOH/g, such as 20 mgKOH/g to 50 mgKOH/g . When the acid value of the alkali-soluble resin is within the above range, the resolution of the pixel pattern is excellent.

상기 알칼리 가용성 수지는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 30 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 20 중량%로 포함될 수 있다. 알칼리 가용성 수지가 상기 범위 내로 포함될 경우, 컬러필터 제조시 현상성이 우수하며 가교성이 개선되어 우수한 표면 평활도를 얻을 수 있다.The alkali-soluble resin may be included in an amount of 1% to 30% by weight, such as 1% to 20% by weight, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the alkali-soluble resin is included within the above range, developability is excellent and crosslinking property is improved when manufacturing a color filter, thereby obtaining excellent surface smoothness.

상기 광중합성 화합물은 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 (메타)아크릴산의 일관능 또는 다관능 에스테르가 사용될 수 있다.The photopolymerizable compound may be a monofunctional or polyfunctional ester of (meth)acrylic acid having at least one ethylenically unsaturated double bond.

광중합성 화합물은 상기 에틸렌성 불포화 이중결합을 가짐으로써, 패턴 형성 공정에서 노광시 충분한 중합을 일으킴으로써 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수한 패턴을 형성할 수 있다.Since the photopolymerizable compound has the ethylenically unsaturated double bond, it is possible to form a pattern having excellent heat resistance, light resistance and chemical resistance by causing sufficient polymerization during exposure in the pattern formation process.

광중합성 화합물의 구체적인 예로는, 에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 프로필렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 에폭시(메타)아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 (메타)아크릴레이트, 트리메틸올 프로판 트리(메타)아크릴레이트, 트리스(메타)아크릴로일옥시에틸 포스페이트, 노볼락에폭시 (메타)아크릴레이트등을 들 수 있다. Specific examples of the photopolymerizable compound include ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, propylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di (Meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, bisphenol A di(meth)acrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate, Pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, pentaerythritol hexa(meth)acrylate, dipentaerythritol di(meth)acrylate, dipentaerythritol tri(meth)acrylate Rate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, bisphenol A epoxy (meth) acrylate, ethylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, trimethylol propane tri (meth) ) Acrylate, tris(meth)acryloyloxyethyl phosphate, novolac epoxy (meth)acrylate, and the like.

광중합성 화합물의 시판되는 제품을 예로 들면 다음과 같다. 상기 (메타)아크릴산의 일관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-101®, 동 M-111®, 동 M-114® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD TC-110S®, 동 TC-120S® 등; 오사카 유끼 가가꾸 고교(주)社의 V-158®, V-2311® 등을 들 수 있다. 상기 (메타)아크릴산의 이관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-210®, 동 M-240®, 동 M-6200® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD HDDA®, 동 HX-220®, 동 R-604® 등; 오사카 유끼 가가꾸 고교(주)社의 V-260®, V-312®, V-335 HP® 등을 들 수 있다. 상기 (메타)아크릴산의 삼관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-309®, 동 M-400®, 동 M-405®, 동 M-450®, 동 M-710®, 동 M-8030®, 동 M-8060® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD TMPTA®, 동 DPCA-20®, 동-30®, 동-60®, 동-120® 등; 오사카 유끼 가야꾸 고교(주)社의 V-295®, 동-300®, 동-360®, 동-GPT®, 동-3PA®, 동-400® 등을 들 수 있다. 상기 제품을 단독 사용 또는 2종 이상 함께 사용할 수 있다.Commercially available products of photopolymerizable compounds are as follows. The (meth) acrylic acid is one example of a polyfunctional ester, such as doah Gosei Kagaku Kogyo's (primary)社Aronix M-101 ®, the same M-111 ®, the same M-114 ®; KAYARAD TC-110S ® of Nihon Kayaku Co., Ltd., TC-120S ®, etc.; Osaka yukki the like Kagaku Kogyo (main)社of V-158 ®, V-2311 ®. The (meth) transfer function of an example esters of acrylic acid are, doah Gosei Kagaku Kogyo (Note)社of Aronix M-210 ®, copper or the like M-240 ®, the same M-6200 ®; KAYARAD HDDA ® , HX-220 ® , R-604 ® of Nihon Kayaku Co., Ltd.; Osaka Yuki Kagaku High School Co., Ltd.'s V-260 ® , V-312 ® , and V-335 HP ® are listed. Examples of the tri-functional ester of (meth) acrylic acid, doah Gosei Kagaku Kogyo (Note)社of Aronix M-309 ®, the same M-400 ®, the same M-405 ®, the same M-450 ®, Dong M -710 ® , M-8030 ® , M-8060 ®, etc.; Nippon Kayaku (Note)社of KAYARAD TMPTA ®, copper DPCA-20 ®, ® copper -30, -60 ® copper, copper ® -120 and the like; Osaka Yuki Kayaku High School Co., Ltd.'s V-295 ® , East-300 ® , East-360 ® , East-GPT ® , East-3PA ® , and East-400 ® are listed. The above products can be used alone or in combination of two or more.

상기 광중합성 화합물은 보다 우수한 현상성을 부여하기 위하여 산무수물로 처리하여 사용할 수도 있다.The photopolymerizable compound may be used after treatment with an acid anhydride in order to impart better developability.

상기 광중합성 화합물은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1중량% 내지 15중량%, 예컨대 5중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다. 광중합성 화합물이 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광시 경화가 충분히 일어나 신뢰성이 우수하며, 알칼리 현상액에의 현상성이 우수하다.The photopolymerizable compound may be included in an amount of 1% to 15% by weight, such as 5% to 10% by weight, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the photopolymerizable compound is included within the above range, hardening occurs sufficiently during exposure in the pattern formation process, so that reliability is excellent, and developability to an alkali developer is excellent.

상기 광중합 개시제는 감광성 수지 조성물에 일반적으로 사용되는 개시제로서, 예를 들어 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 벤조인계 화합물, 트리아진계 화합물, 옥심계 화합물, 또는 이들의 조합을 사용할 수 있다. The photopolymerization initiator is an initiator generally used in the photosensitive resin composition, for example, an acetophenone compound, a benzophenone compound, a thioxanthone compound, a benzoin compound, a triazine compound, an oxime compound, or a combination thereof You can use

상기 아세토페논계 화합물의 예로는, 2,2'-디에톡시 아세토페논, 2,2'-디부톡시 아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로피오페논, p-t-부틸트리클로로 아세토페논, p-t-부틸디클로로 아세토페논, 4-클로로 아세토페논, 2,2'-디클로로-4-페녹시 아세토페논, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-부탄-1-온 등을 들 수 있다.Examples of the acetophenone-based compound include 2,2'-diethoxy acetophenone, 2,2'-dibutoxy acetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, pt-butyltrichloro acetophenone, pt -Butyldichloro acetophenone, 4-chloro acetophenone, 2,2'-dichloro-4-phenoxy acetophenone, 2-methyl-1-(4-(methylthio)phenyl)-2-morpholinopropane-1 -One, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one, and the like.

상기 벤조페논계 화합물의 예로는, 벤조페논, 벤조일 안식향산, 벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 히드록시 벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디메틸-2-메톡시벤조페논 등을 들 수 있다.Examples of the benzophenone-based compound include benzophenone, benzoyl benzoic acid, methyl benzoyl benzoate, 4-phenyl benzophenone, hydroxy benzophenone, acrylated benzophenone, 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone, 4,4 '-Bis(diethylamino)benzophenone, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3'-dimethyl-2-methoxybenzophenone, and the like.

상기 티오크산톤계 화합물의 예로는, 티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 이소프로필 티오크산톤, 2,4-디에틸 티오크산톤, 2,4-디이소프로필 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 등을 들 수 있다.Examples of the thioxanthone-based compound include thioxanthone, 2-methyl thioxanthone, isopropyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2,4-diisopropyl thioxanthone, 2- And chloro thioxanthone.

상기 벤조인계 화합물의 예로는, 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다.Examples of the benzoin-based compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyl dimethyl ketal, and the like.

상기 트리아진계 화합물의 예로는, 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐 4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(3', 4'-디메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-톨릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-비페닐 4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 비스(트리클로로메틸)-6-스티릴-s-트리아진, 2-(나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-s-트리아진 등을 들 수 있다.Examples of the triazine-based compound include 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl 4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(3', 4'- Dimethoxystyryl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4'-methoxynaphthyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(p-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(p-tolyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-biphenyl 4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, bis(trichloromethyl)-6-styryl-s-triazine, 2-(naphtho-1-yl)-4, 6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4-methoxynaphtho-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-4-bis (Trichloromethyl)-6-piperonyl-s-triazine, 2-4-bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxystyryl)-s-triazine, etc. are mentioned.

상기 옥심계 화합물의 예로는, O-아실옥심계 화합물, 2-(o-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온, 1-(o-아세틸옥심)-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄온, O-에톡시카르보닐-α-옥시아미노-1-페닐프로판-1-온 등을 사용할 수 있다. 상기 O-아실옥심계 화합물의 구체적인 예로는, 1,2-옥탄디온, 2-디메틸아미노-2-(4-메틸벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온, 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1,2-디온2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1,2-디온2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1-온옥심-O-아세테이트 및 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1-온옥심-O-아세테이트 등을 들 수 있다. Examples of the oxime-based compound include O-acyloxime-based compounds, 2-(o-benzoyloxime)-1-[4-(phenylthio)phenyl]-1,2-octanedione, 1-(o-acetyloxime )-1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]ethanone, O-ethoxycarbonyl-α-oxyamino-1-phenylpropan-1-one Etc. can be used. Specific examples of the O-acyloxime-based compound include 1,2-octanedione, 2-dimethylamino-2-(4-methylbenzyl)-1-(4-morpholin-4-yl-phenyl)-butane- 1-one, 1-(4-phenylsulfanylphenyl)-butane-1,2-dione2-oxime-O-benzoate, 1-(4-phenylsulfanylphenyl)-octane-1,2-dione2 -Oxime-O-benzoate, 1-(4-phenylsulfanylphenyl)-octan-1-oneoxime-O-acetate and 1-(4-phenylsulfanylphenyl)-butan-1-oneoxime-O- Acetate, etc. are mentioned.

상기 광중합 개시제는 상기 화합물 이외에도 카바졸계 화합물, 디케톤류 화합물, 술포늄 보레이트계 화합물, 디아조계 화합물, 이미다졸계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 플루오렌계 화합물 등을 사용할 수 있다.In addition to the above compounds, the photopolymerization initiator may be a carbazole compound, a diketone compound, a sulfonium borate compound, a diazo compound, an imidazole compound, a biimidazole compound, a fluorene compound, or the like.

상기 광중합 개시제는 빛을 흡수하여 들뜬 상태가 된 후 그 에너지를 전달함으로써 화학반응을 일으키는 광 증감제와 함께 사용될 수도 있다.The photopolymerization initiator may be used together with a photosensitizer that absorbs light and becomes excited, and then transmits the energy to cause a chemical reaction.

상기 광 증감제의 예로는, 테트라에틸렌글리콜 비스-3-머캡토 프로피오네이트, 펜타에리트리톨 테트라키스-3-머캡토 프로피오네이트, 디펜타에리트리톨 테트라키스-3-머캡토 프로피오네이트 등을 들 수 있다. Examples of the photosensitizer include tetraethylene glycol bis-3-mercapto propionate, pentaerythritol tetrakis-3-mercapto propionate, dipentaerythritol tetrakis-3-mercapto propionate, etc. Can be mentioned.

상기 광중합 개시제는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.01 중량% 내지 10 중량%, 예컨대 0.1 중량% 내지 5 중량%로 포함될 수 있다. 광중합 개시제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광시 경화가 충분히 일어나 우수한 신뢰성을 얻을 수 있으며, 패턴의 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수하고, 해상도 및 밀착성 또한 우수하며, 미반응 개시제로 인한 투과율의 저하를 막을 수 있다.The photopolymerization initiator may be included in an amount of 0.01% to 10% by weight, such as 0.1% to 5% by weight, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the photopolymerization initiator is included within the above range, curing occurs sufficiently during exposure in the pattern formation process to obtain excellent reliability, excellent heat resistance, light resistance and chemical resistance of the pattern, excellent resolution and adhesion, and due to the unreacted initiator It is possible to prevent a decrease in transmittance.

상기 용매는 일 구현예에 따른 화합물, 안료, 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물 및 광중합 개시제와의 상용성을 가지되 반응하지 않는 물질들이 사용될 수 있다.The solvent may have compatibility with a compound, a pigment, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, and a photopolymerization initiator according to an exemplary embodiment, but materials that do not react.

상기 용매의 예로는, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 디클로로에틸 에테르, n-부틸 에테르, 디이소아밀 에테르, 메틸페닐 에테르, 테트라히드로퓨란 등의 에테르류; 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 메틸 셀로솔브 아세테이트, 에틸 셀로솔브 아세테이트, 디에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 셀로솔브 아세테이트류; 메틸에틸 카르비톨, 디에틸 카르비톨, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디에틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 사이클로헥사논, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논, 메틸-n-프로필케톤, 메틸-n-부틸케톤, 메틸-n-아밀케톤, 2-헵타논 등의 케톤류; 초산 에틸, 초산-n-부틸, 초산 이소부틸 등의 포화 지방족 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 젖산 메틸, 젖산 에틸 등의 젖산 에스테르류; 옥시 초산 메틸, 옥시 초산 에틸, 옥시 초산 부틸 등의 옥시 초산 알킬 에스테르류; 메톡시 초산 메틸, 메톡시 초산 에틸, 메톡시 초산 부틸, 에톡시 초산 메틸, 에톡시 초산 에틸 등의 알콕시 초산 알킬 에스테르류; 3-옥시 프로피온산 메틸, 3-옥시 프로피온산 에틸 등의 3-옥시 프로피온산 알킬에스테르류; 3-메톡시 프로피온산 메틸, 3-메톡시 프로피온산 에틸, 3-에톡시 프로피온산 에틸, 3-에톡시 프로피온산 메틸 등의 3-알콕시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-옥시 프로피온산 메틸, 2-옥시 프로피온산 에틸, 2-옥시 프로피온산 프로필 등의 2-옥시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-메톡시 프로피온산 메틸, 2-메톡시 프로피온산 에틸, 2-에톡시 프로피온산 에틸, 2-에톡시 프로피온산 메틸 등의 2-알콕시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-옥시-2-메틸 프로피온산 메틸, 2-옥시-2-메틸 프로피온산 에틸 등의 2-옥시-2-메틸 프로피온산 에스테르류, 2-메톡시-2-메틸 프로피온산 메틸, 2-에톡시-2-메틸 프로피온산 에틸 등의 2-알콕시-2-메틸 프로피온산 알킬류의 모노옥시 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 2-히드록시 프로피온산 에틸, 2-히드록시-2-메틸 프로피온산 에틸, 히드록시 초산 에틸, 2-히드록시-3-메틸 부탄산 메틸 등의 에스테르류; 피루빈산 에틸 등의 케톤산 에스테르류 등이 있으며, 또한, N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸포름아닐라드, N-메틸아세트아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시드, 벤질에틸에테르, 디헥실에테르, 아세틸아세톤, 이소포론, 카프론산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 초산 벤질, 안식향산 에틸, 옥살산 디에틸, 말레인산 디에틸, γ-부티로락톤, 탄산 에틸렌, 탄산 프로필렌, 페닐 셀로솔브 아세테이트 등의 고비점 용매를 들 수 있다.Examples of the solvent include alcohols such as methanol and ethanol; Ethers such as dichloroethyl ether, n-butyl ether, diisoamyl ether, methylphenyl ether, and tetrahydrofuran; Glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; Cellosolve acetates such as methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, and diethyl cellosolve acetate; Carbitols such as methyl ethyl carbitol, diethyl carbitol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, and diethylene glycol diethyl ether; Propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, methyl-n-propyl ketone, methyl-n-butyl ketone, methyl-n-amyl ketone, and 2-heptanone ; Saturated aliphatic monocarboxylic acid alkyl esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, and isobutyl acetate; Lactate esters such as methyl lactate and ethyl lactate; Oxyacetic acid alkyl esters such as methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, and butyl oxyacetate; Alkoxy acetate alkyl esters, such as methoxy methyl acetate, methoxy ethyl acetate, methoxy butyl methoxy acetate, ethoxy methyl acetate, and ethoxy ethyl acetate; 3-oxypropionic acid alkyl esters such as 3-oxy methyl propionate and 3-oxy ethyl propionate; 3-alkoxy propionic acid alkyl esters such as 3-methoxy methyl propionate, 3-methoxy ethyl propionate, 3-ethoxy ethyl propionate, and 3-ethoxy methyl propionate; 2-oxypropionic acid alkyl esters such as 2-oxy methyl propionate, 2-oxy ethyl propionate, and 2-oxy propionate propyl; 2-alkoxy propionic acid alkyl esters such as 2-methoxy methyl propionate, 2-methoxy ethyl propionate, 2-ethoxy ethyl propionate, and 2-ethoxy methyl propionate; 2-oxy-2-methyl propionic acid esters such as 2-oxy-2-methyl methyl propionate and 2-oxy-2-methyl ethyl propionate, 2-methoxy-2-methyl methyl propionate, 2-ethoxy-2- Monooxy monocarboxylic acid alkyl esters of alkyl 2-alkoxy-2-methyl propionate such as ethyl methyl propionate; Esters such as 2-hydroxy ethyl propionate, 2-hydroxy-2-methyl ethyl propionate, hydroxy ethyl acetate, and 2-hydroxy-3-methyl methyl butanoate; Ketone acid esters such as ethyl pyruvate, and the like, and N-methylformamide, N,N-dimethylformamide, N-methylformanilad, N-methylacetamide, N,N-dimethylacetamide , N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, benzyl ethyl ether, dihexyl ether, acetylacetone, isophorone, capronic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, benzoic acid High boiling point solvents such as ethyl, diethyl oxalate, diethyl maleate, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, and phenyl cellosolve acetate.

이들 중 좋게는 상용성 및 반응성을 고려하여, 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 에틸렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 2-히드록시 프로피온산 에틸 등의 에스테르류; 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 및/또는 사이클로헥사논 등의 케톤류가 사용될 수 있다.Among these, in consideration of compatibility and reactivity, glycol ethers such as ethylene glycol monoethyl ether; Ethylene glycol alkyl ether acetates such as ethyl cellosolve acetate; Esters such as ethyl 2-hydroxypropionate; Carbitols such as diethylene glycol monomethyl ether; Propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate; And/or ketones such as cyclohexanone may be used.

상기 용매는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 잔부량, 예컨대 30 중량% 내지 80 중량%로 포함될 수 있다. 용매가 상기 범위 내로 포함될 경우 상기 감광성 수지 조성물이 적절한 점도를 가짐에 따라 컬러필터 제조시 공정성이 우수하다.The solvent may be included in the balance, for example, 30% to 80% by weight based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the solvent is included within the above range, the photosensitive resin composition has an appropriate viscosity, and thus processability is excellent in manufacturing a color filter.

다른 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 기판과의 밀착성 등을 개선하기 위해 에폭시 화합물을 더 포함할 수 있다. The photosensitive resin composition according to another embodiment may further include an epoxy compound to improve adhesion with the substrate.

상기 에폭시 화합물의 예로는, 페놀 노볼락 에폭시 화합물, 테트라메틸 비페닐 에폭시 화합물, 비스페놀 A형 에폭시 화합물, 지환족 에폭시화합물 또는 이들의 조합을 들 수 있다.Examples of the epoxy compound include a phenol novolac epoxy compound, a tetramethyl biphenyl epoxy compound, a bisphenol A type epoxy compound, an alicyclic epoxy compound, or a combination thereof.

상기 에폭시 화합물은 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 20 중량부, 예컨대 0.1 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 에폭시 화합물이 상기 범위 내로 포함될 경우 밀착성, 저장성 등이 우수하다. The epoxy compound may be included in an amount of 0.01 to 20 parts by weight, for example, 0.1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition. When the epoxy compound is included within the above range, adhesion and storage properties are excellent.

또한 상기 감광성 수지 조성물은 기판과의 접착성을 향상시키기 위해 카르복실기, 메타크릴로일기, 이소시아네이트기, 에폭시기 등의 반응성 치환기를 갖는 실란 커플링제를 더 포함할 수 있다.In addition, the photosensitive resin composition may further include a silane coupling agent having a reactive substituent such as a carboxyl group, a methacryloyl group, an isocyanate group, or an epoxy group to improve adhesion to the substrate.

상기 실란 커플링제의 예로는, 트리메톡시실릴 벤조산, γ-메타크릴 옥시프로필 트리메톡시실란, 비닐 트리아세톡시실란, 비닐 트리메톡시실란, γ-이소시아네이트 프로필 트리에톡시실란, γ-글리시독시 프로필 트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. Examples of the silane coupling agent include trimethoxysilyl benzoic acid, γ-methacryl oxypropyl trimethoxysilane, vinyl triacetoxysilane, vinyl trimethoxysilane, γ-isocyanate propyl triethoxysilane, γ-glycidok Cypropyl trimethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, and the like, and these may be used alone or in combination of two or more.

상기 실란 커플링제는 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 실란 커플링제가 상기 범위 내로 포함될 경우 밀착성, 저장성 등이 우수하다. The silane coupling agent may be included in an amount of 0.01 parts by weight to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition. When the silane coupling agent is included within the above range, adhesion and storage properties are excellent.

또한 상기 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 코팅성 향상 및 결점 생성 방지 효과를 위해 계면 활성제를 더 포함할 수 있다. In addition, the photosensitive resin composition may further include a surfactant to improve coating properties and prevent defects from being generated, if necessary.

상기 계면활성제의 예로는, BM Chemie社의 BM-1000®, BM-1100® 등; 다이 닛폰 잉키 가가꾸 고교(주)社의 메카 팩 F 142D®, 동 F 172®, 동 F 173®, 동 F 183® 등; 스미토모 스리엠(주)社의 프로라드 FC-135®, 동 FC-170C®, 동 FC-430®, 동 FC-431® 등; 아사히 그라스(주)社의 사프론 S-112®, 동 S-113®, 동 S-131®, 동 S-141®, 동 S-145® 등; 도레이 실리콘(주)社의 SH-28PA®, 동-190®, 동-193®, SZ-6032®, SF-8428® 등의 명칭으로 시판된고 있는 불소계 계면 활성제를 사용할 수 있다.Examples of the surfactants include, BM Chemie BM-1000 ® of社, BM-1100 ®, and the like; Mecha Pack F 142D ® , F 172 ® , F 173 ® , F 183 ® of Dai Nippon Inki Chemical Co., Ltd.; Sumitomo M. (Note)社Pro rod FC-135 ®, the same FC-170C ®, copper FC-430 ®, the same FC-431 ®, and the like; Asahi Grass Co., Saffron S-112 ® of社, such S-113 ®, the same S-131 ®, the same S-141 ®, the same S-145 ®, and the like; Toray silicone (Note)社SH-28PA ®, copper -190 ®, may be used copper ® -193, fluorine-based surfactants and commercially available under the name, such as SZ-6032 ®, SF-8428 ®.

상기 계면 활성제는 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.001 중량부 내지 5 중량부로 사용될 수 있다. 계면 활성제가 상기 범위 내로 포함될 경우 코팅 균일성이 확보되고, 얼룩이 발생하지 않으며, 유리 기판에 대한 습윤성(wetting)이 우수하다.The surfactant may be used in an amount of 0.001 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition. When the surfactant is included within the above range, coating uniformity is ensured, stains do not occur, and wettability to the glass substrate is excellent.

또한 상기 감광성 수지 조성물은 물성을 저해하지 않는 범위 내에서 산화방지제, 안정제 등의 기타 첨가제가 일정량 첨가될 수도 있다.In addition, a certain amount of other additives such as antioxidants and stabilizers may be added to the photosensitive resin composition within a range that does not impair physical properties.

또 다른 일 구현예에 따르면, 상기 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 컬러필터를 제공한다. According to another embodiment, a color filter manufactured by using the photosensitive resin composition according to the embodiment is provided.

상기 컬러필터 내 패턴 형성 공정은 다음과 같다.The pattern formation process in the color filter is as follows.

상기 감광성 수지 조성물을 지지 기판상에 스핀 코팅, 슬릿 코팅, 잉크젯 프린팅 등으로 도포하는 공정; 상기 도포된 감광성 수지 조성물을 건조하여 감광성 수지 조성물 막을 형성하는 공정; 상기 감광성 수지 조성물 막을 노광하는 공정; 상기 노광된 감광성 수지 조성물 막을 알칼리 수용액으로 현상하여 감광성 수지막을 제조하는 공정; 및 상기 감광성 수지막을 가열 처리하는 공정을 포함한다. 상기 공정 상의 조건 등에 대하여는 당해 분야에서 널리 알려진 사항이므로, 본 명세서에서 자세한 설명은 생략하기로 한다. Applying the photosensitive resin composition onto a supporting substrate by spin coating, slit coating, inkjet printing, or the like; Drying the applied photosensitive resin composition to form a photosensitive resin composition film; Exposing the photosensitive resin composition film to light; Developing the exposed photosensitive resin composition film with an aqueous alkali solution to prepare a photosensitive resin film; And a step of heat treating the photosensitive resin film. Since the above process conditions are widely known in the art, detailed descriptions thereof will be omitted herein.

이하, 실시예를 들어 본 발명에 대해서 더욱 상세하게 설명할 것이나, 하기의 실시예는 본 발명의 바람직한 실시예일 뿐 본 발명이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the following examples are only preferred examples of the present invention, and the present invention is not limited to the following examples.

(화합물의 합성)(Synthesis of compounds)

합성예Synthesis example 1- One- 1: 31: 3 ,4,6-Trichloro-5-(4-,4,6-Trichloro-5-(4- methoxymethoxy -2-methyl--2-methyl- phenoxyphenoxy )-phthalonitrile의 합성Synthesis of )-phthalonitrile

100ml 플라스크에 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile(5g), 4-methoxy-2-methylphenol(3.12g), K2CO3(3.9g), N,N-디메틸포름아미드(N,N-dimethylformamide)(25ml)를 넣고 70℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 EA(ethyl acetate)로 추출한다. 추출 후 농축하면 고체를 얻을 수 있다. 이 때 얻어진 고체를 소량의 디클로로메탄에 녹인 후, 헥산으로 수회 씻어 주고, 여과 후 진공 건조하여 3,4,6-Trichloro-5-(4-methoxy-2-methyl-phenoxy)-phthalonitrile를 얻는다.In a 100ml flask, 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (5g), 4-methoxy-2-methylphenol (3.12g), K 2 CO 3 (3.9g), N,N-dimethylformamide (N,N-dimethylformamide) )(25ml) was added and stirred while heating to 70℃. After completion of the reaction, extraction was performed with ethyl acetate (EA). When concentrated after extraction, a solid can be obtained. The obtained solid was dissolved in a small amount of dichloromethane, washed several times with hexane, filtered and dried in vacuo to obtain 3,4,6-Trichloro-5-(4-methoxy-2-methyl-phenoxy)-phthalonitrile.

합성예Synthesis example 1- One- 2: 42: 4 -(2--(2- terttert -Butyl-4--Butyl-4- methoxymethoxy -- phenoxyphenoxy )-3,5,6-)-3,5,6- trichlorotrichloro -- phthalonitrile의phthalonitrile 합성 synthesis

100ml 플라스크에 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile(5g), 2-tert-Butyl-4-methoxyphenol(4.07g), K2CO3(3.9g), N,N-디메틸포름아미드(N,N-dimethylformamide)(25ml)를 넣고 70℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 EA(ethyl acetate)로 추출한다. 추출 후 농축하면 고체를 얻을 수 있다. 이 때 얻어진 고체를 소량의 디클로로메탄에 녹인 후, 헥산으로 수회 씻어 주고, 여과 후 진공 건조하여 4-(2-tert-Butyl-4-methoxy-phenoxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile를 얻는다.In a 100ml flask, 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (5g), 2-tert-Butyl-4-methoxyphenol (4.07g), K 2 CO 3 (3.9g), N,N-dimethylformamide (N,N Add -dimethylformamide) (25ml) and stir while heating to 70℃. After completion of the reaction, extraction was performed with ethyl acetate (EA). When concentrated after extraction, a solid can be obtained. The solid obtained at this time was dissolved in a small amount of dichloromethane, washed several times with hexane, filtered and dried under vacuum to obtain 4-(2-tert-Butyl-4-methoxy-phenoxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile. Get

합성예Synthesis example 1: 화학식 4로 표시되는 화합물의 합성 1: Synthesis of a compound represented by Formula 4

100mL 플라스크에 합성예 1-1의 3,4,6-Trichloro-5-(4-methoxy-2-methyl-phenoxy)-phthalonitrile (2g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(1.04g) 및 1-펜탄올(10g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 녹은 후 zinc acetate(0.25g)를 넣고 140℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체에디클로로메탄을 적당히 넣어 고체를 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 4로 표시되는 화합물을 얻는다.In a 100 mL flask, 3,4,6-Trichloro-5-(4-methoxy-2-methyl-phenoxy)-phthalonitrile (2g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (1.04g) of Synthesis Example 1-1, and Add 1-pentanol (10g) and heat to 90℃ to dissolve the solid, then add zinc acetate (0.25g) and stir while heating to 140℃. After completion of the reaction, the precipitation was confirmed with methanol, followed by filtration and vacuum drying. The dried solid is purified by column chromatography. After purification, the obtained solid eddichloromethane is appropriately added to dissolve the solid, and then methanol is added to crystallize. The crystallized solid is filtered and dried under vacuum to obtain a compound represented by the following formula (4).

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112017086608527-pat00023
Figure 112017086608527-pat00023

Maldi-tof MS : 1527.82 m/zMaldi-tof MS: 1527.82 m/z

합성예Synthesis example 2: 화학식 5로 표시되는 화합물의 합성 2: Synthesis of the compound represented by Formula 5

100mL 플라스크에 합성예 1-1의 3,4,6-Trichloro-5-(4-methoxy-2-methyl-phenoxy)-phthalonitrile (1.5g), 3,4,5,6-Tetrachlorophthalonitrile (0.36g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(1.04g) 및 1-펜탄올(14g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 녹은 후 zinc acetate(0.25g)를 넣고 140℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체에디클로로메탄을 적당히 넣어 고체를 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 5로 표시되는 화합물을 얻는다.In a 100 mL flask, 3,4,6-Trichloro-5-(4-methoxy-2-methyl-phenoxy)-phthalonitrile (1.5 g), 3,4,5,6-Tetrachlorophthalonitrile (0.36 g) of Synthesis Example 1-1 , 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (1.04g) and 1-pentanol (14g) were added and heated to 90°C to dissolve the solid, then zinc acetate (0.25g) was added and stirred while heating to 140°C. After completion of the reaction, the precipitation was confirmed with methanol, followed by filtration and vacuum drying. The dried solid is purified by column chromatography. After purification, the obtained solid eddichloromethane is appropriately added to dissolve the solid, and then methanol is added to crystallize. The crystallized solid is filtered and dried in vacuo to obtain a compound represented by the following formula (5).

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112017086608527-pat00024
Figure 112017086608527-pat00024

Maldi-tof MS : 1425.72 m/zMaldi-tof MS: 1425.72 m/z

합성예Synthesis example 3: 화학식 6으로 표시되는 화합물의 합성 3: Synthesis of the compound represented by Formula 6

100mL 플라스크에 합성예 1-1의 3,4,6-Trichloro-5-(4-methoxy-2-methyl-phenoxy)-phthalonitrile (1.1g), 3,4,5,6-Tetrachlorophthalonitrile (0.80g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(1.14g) 및 1-펜탄올(14g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 녹은 후 zinc acetate(0.27g)를 넣고 140℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체에디클로로메탄을 적당히 넣어 고체를 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 6으로 표시되는 화합물을 얻는다.In a 100 mL flask, 3,4,6-Trichloro-5-(4-methoxy-2-methyl-phenoxy)-phthalonitrile (1.1 g), 3,4,5,6-Tetrachlorophthalonitrile (0.80 g) of Synthesis Example 1-1 , 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (1.14g) and 1-pentanol (14g) were added and heated to 90°C to dissolve the solid, then zinc acetate (0.27g) was added and heated to 140°C while stirring. After completion of the reaction, the precipitation was confirmed with methanol, followed by filtration and vacuum drying. The dried solid is purified by column chromatography. After purification, the obtained solid eddichloromethane is appropriately added to dissolve the solid, and then methanol is added to crystallize. The crystallized solid is filtered and dried in vacuo to obtain a compound represented by the following formula (6).

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112017086608527-pat00025
Figure 112017086608527-pat00025

Maldi-tof MS : 1323.64 m/zMaldi-tof MS: 1323.64 m/z

합성예Synthesis example 4: 화학식 7로 표시되는 화합물의 합성 4: Synthesis of a compound represented by Formula 7

100mL 플라스크에 합성예 1-1의 3,4,6-Trichloro-5-(4-methoxy-2-methyl-phenoxy)-phthalonitrile (1.5g), 3,4,6-Trichloro-5-pentyloxy-phthalonitrile (0.43g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(1.04g) 및 1-펜탄올(14g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 녹은 후 zinc acetate(0.25g)를 넣고 140℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체에디클로로메탄을 적당히 넣어 고체를 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 7로 표시되는 화합물을 얻는다.In a 100 mL flask, 3,4,6-Trichloro-5-(4-methoxy-2-methyl-phenoxy)-phthalonitrile (1.5g), 3,4,6-Trichloro-5-pentyloxy-phthalonitrile of Synthesis Example 1-1 (0.43g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (1.04g) and 1-pentanol (14g) were added and heated to 90℃ to dissolve the solid, then zinc acetate (0.25g) was added and heated to 140℃. Stir. After completion of the reaction, the precipitation was confirmed with methanol, followed by filtration and vacuum drying. The dried solid is purified by column chromatography. After purification, the obtained solid eddichloromethane is appropriately added to dissolve the solid, and then methanol is added to crystallize. The crystallized solid is filtered and dried in vacuo to obtain a compound represented by the following formula (7).

[화학식 7][Formula 7]

Figure 112017086608527-pat00026
Figure 112017086608527-pat00026

Maldi-tof MS : 1477.84 m/zMaldi-tof MS: 1477.84 m/z

합성예Synthesis example 5: 화학식 8로 표시되는 화합물의 합성 5: Synthesis of the compound represented by Formula 8

100mL 플라스크에 합성예 1-2의 4-(2-tert-Butyl-4-methoxy-phenoxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile (2g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(0.93g) 및 1-펜탄올(10g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 녹은 후 zinc acetate(0.22g)를 넣고 140℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체에디클로로메탄을 적당히 넣어 고체를 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 8로 표시되는 화합물을 얻는다.In a 100 mL flask, 4-(2-tert-Butyl-4-methoxy-phenoxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile (2g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (0.93g) of Synthesis Example 1-2 ) And 1-pentanol (10g) are added and heated to 90°C to dissolve the solid, then zinc acetate (0.22g) is added and heated to 140°C while stirring. After completion of the reaction, the precipitation was confirmed with methanol, followed by filtration and vacuum drying. The dried solid is purified by column chromatography. After purification, the obtained solid eddichloromethane is appropriately added to dissolve the solid, and then methanol is added to crystallize. The crystallized solid is filtered and dried in vacuo to obtain a compound represented by the following formula (8).

[화학식 8][Formula 8]

Figure 112017086608527-pat00027
Figure 112017086608527-pat00027

Maldi-tof MS : 1696.01 m/zMaldi-tof MS: 1696.01 m/z

합성예Synthesis example 6: 화학식 9로 표시되는 화합물의 합성 6: Synthesis of the compound represented by Formula 9

100mL 플라스크에 합성예 1-2의 4-(2-tert-Butyl-4-methoxy-phenoxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile (1.5g), 3,4,5,6-Tetrachlorophthalonitrile (0.32g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(0.93g) 및 1-펜탄올(14g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 녹은 후 zinc acetate(0.22g)를 넣고 140℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체에디클로로메탄을 적당히 넣어 고체를 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 9로 표시되는 화합물을 얻는다.In a 100 mL flask, 4-(2-tert-Butyl-4-methoxy-phenoxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile (1.5g), 3,4,5,6-Tetrachlorophthalonitrile (0.32) of Synthesis Example 1-2 g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (0.93g) and 1-pentanol (14g) are added and heated to 90℃ to dissolve the solid, then zinc acetate (0.22g) is added and heated to 140℃ while stirring. . After completion of the reaction, the precipitation was confirmed with methanol, followed by filtration and vacuum drying. The dried solid is purified by column chromatography. After purification, the obtained solid eddichloromethane is appropriately added to dissolve the solid, and then methanol is added to crystallize. The crystallized solid is filtered and dried under vacuum to obtain a compound represented by the following formula (9).

[화학식 9][Formula 9]

Figure 112017086608527-pat00028
Figure 112017086608527-pat00028

Maldi-tof MS : 1551.87 m/zMaldi-tof MS: 1551.87 m/z

합성예Synthesis example 7: 화학식 10으로 표시되는 화합물의 합성 7: Synthesis of the compound represented by Formula 10

100mL 플라스크에 합성예 1-2의 4-(2-tert-Butyl-4-methoxy-phenoxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile (1.1g), 3,4,5,6-Tetrachlorophthalonitrile (0.71g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(1.02g) 및 1-펜탄올(14g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 녹은 후 zinc acetate(0.25g)를 넣고 140℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체에디클로로메탄을 적당히 넣어 고체를 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 10으로 표시되는 화합물을 얻는다.In a 100 mL flask, 4-(2-tert-Butyl-4-methoxy-phenoxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile (1.1g), 3,4,5,6-Tetrachlorophthalonitrile (0.71) of Synthesis Example 1-2 g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (1.02g) and 1-pentanol (14g) are added and heated to 90℃ to dissolve the solid, then zinc acetate (0.25g) is added and heated to 140℃ while stirring. . After completion of the reaction, the precipitation was confirmed with methanol, followed by filtration and vacuum drying. The dried solid is purified by column chromatography. After purification, the obtained solid eddichloromethane is appropriately added to dissolve the solid, and then methanol is added to crystallize. The crystallized solid is filtered and dried in vacuo to obtain a compound represented by Formula 10 below.

[화학식 10][Formula 10]

Figure 112017086608527-pat00029
Figure 112017086608527-pat00029

Maldi-tof MS : 1407.73 m/zMaldi-tof MS: 1407.73 m/z

합성예Synthesis example 8: 화학식 11로 표시되는 화합물의 합성 8: Synthesis of the compound represented by Formula 11

100mL 플라스크에 합성예 1-1의 3,4,6-Trichloro-5-(4-methoxy-2-methyl-phenoxy)-phthalonitrile (1.5g), 3,4,6-Trichloro-5-pentyloxy-phthalonitrile (0.39g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(0.93g) 및 1-펜탄올(14g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 녹은 후 zinc acetate(0.22g)를 넣고 140℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체에디클로로메탄을 적당히 넣어 고체를 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 11로 표시되는 화합물을 얻는다In a 100 mL flask, 3,4,6-Trichloro-5-(4-methoxy-2-methyl-phenoxy)-phthalonitrile (1.5g), 3,4,6-Trichloro-5-pentyloxy-phthalonitrile of Synthesis Example 1-1 (0.39g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (0.93g) and 1-pentanol (14g) were added and heated to 90℃ to dissolve the solid, then zinc acetate (0.22g) was added and heated to 140℃. Stir. After completion of the reaction, the precipitation was confirmed with methanol, followed by filtration and vacuum drying. The dried solid is purified by column chromatography. After purification, the obtained solid eddichloromethane is appropriately added to dissolve the solid, and then methanol is added to crystallize. The crystallized solid is filtered and dried in vacuo to obtain a compound represented by the following formula (11).

[화학식 11][Formula 11]

Figure 112017086608527-pat00030
Figure 112017086608527-pat00030

Maldi-tof MS : 1603.98 m/zMaldi-tof MS: 1603.98 m/z

비교 compare 합성예Synthesis example 1: 화학식 C-1로 표시되는 화합물의 합성 1: Synthesis of a compound represented by Formula C-1

100mL 플라스크에 4-(2-sec-Butyl-phenoxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile(1g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(0.30g), 1-펜탄올(7g), zinc acetate(0.12g)를 넣고 140℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 농축하여 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 액체를 농축하여 고체를 얻는다. 상기 결정화된 고체를 진공건조하여, 하기 화학식 C-1로 표시되는 화합물을 얻었다.In a 100 mL flask, 4-(2-sec-Butyl-phenoxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile (1 g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (0.30 g), 1-pentanol (7 g), Add zinc acetate (0.12g) and stir while heating to 140℃. After completion of the reaction, the mixture was concentrated and purified through column chromatography. The liquid obtained after purification is concentrated to obtain a solid. The crystallized solid was vacuum-dried to obtain a compound represented by the following formula (C-1).

[화학식 C-1][Chemical Formula C-1]

Figure 112017086608527-pat00031
Figure 112017086608527-pat00031

Maldi-tof MS : 1584.04 m/zMaldi-tof MS: 1584.04 m/z

비교 compare 합성예Synthesis example 2: 화학식 C-2로 표시되는 화합물의 합성 2: Synthesis of a compound represented by Formula C-2

100ml 플라스크에 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile(5g), 2,4-dimethylphenol(2.75g), K2CO3(3.9g), N,N-디메틸포름아미드(N,N-dimethylformamide)(25ml)를 넣고 70℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 EA(ethyl acetate)로 추출한다. 추출 후 농축하면 고체를 얻을 수 있다. 이 때 얻어진 고체를 소량의 디클로로메탄에 녹인 후, 헥산으로 수회 씻어 주고, 여과 후 진공 건조하여 3,4,6-Trichloro-5-(2,4-dimethyl-phenoxy)-phthalonitrile를 얻는다.In a 100ml flask, 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (5g), 2,4-dimethylphenol (2.75g), K 2 CO 3 (3.9g), N,N-dimethylformamide (N,N-dimethylformamide) ( 25ml) and stirred while heating to 70°C. After completion of the reaction, extraction was performed with ethyl acetate (EA). When concentrated after extraction, a solid can be obtained. The obtained solid was dissolved in a small amount of dichloromethane, washed several times with hexane, filtered and dried in vacuo to obtain 3,4,6-Trichloro-5-(2,4-dimethyl-phenoxy)-phthalonitrile.

100mL 플라스크에 3,4,6-Trichloro-5-(2,4-dimethyl-phenoxy)-phthalonitrile (1g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(1.08g) 및 1-펜탄올(14g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 녹은 후 zinc acetate(0.26g)를 넣고 140℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체에디클로로메탄을 적당히 넣어 고체를 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 C-2로 표시되는 화합물을 얻는다In a 100 mL flask, add 3,4,6-Trichloro-5-(2,4-dimethyl-phenoxy)-phthalonitrile (1 g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (1.08 g) and 1-pentanol (14 g). The mixture is heated to 90°C to dissolve the solid, and then zinc acetate (0.26g) is added and heated to 140°C while stirring. After completion of the reaction, the precipitation was confirmed with methanol, followed by filtration and vacuum drying. The dried solid is purified by column chromatography. After purification, the obtained solid eddichloromethane is appropriately added to dissolve the solid, and then methanol is added to crystallize. The crystallized solid is filtered and dried in vacuo to obtain a compound represented by the following formula C-2.

[화학식 C-2][Formula C-2]

Figure 112017086608527-pat00032
Figure 112017086608527-pat00032

Maldi-tof MS : 1463.84 m/zMaldi-tof MS: 1463.84 m/z

비교 compare 합성예Synthesis example 3: 화학식 C-3으로 표시되는 화합물의 합성 3: Synthesis of a compound represented by Formula C-3

100ml 플라스크에 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile(5g), 2,4-dimethoxyphenol(3.47g), K2CO3(3.9g), N,N-디메틸포름아미드(N,N-dimethylformamide)(25ml)를 넣고 70℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 EA(ethyl acetate)로 추출한다. 추출 후 농축하면 고체를 얻을 수 있다. 이 때 얻어진 고체를 소량의 디클로로메탄에 녹인 후, 헥산으로 수회 씻어 주고, 여과 후 진공 건조하여 3,4,6-Trichloro-5-(2,4-dimethoxy-phenoxy)-phthalonitrile를 얻는다.In a 100ml flask, 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (5g), 2,4-dimethoxyphenol (3.47g), K 2 CO 3 (3.9g), N,N-dimethylformamide (N,N-dimethylformamide) ( 25ml) and stirred while heating to 70°C. After completion of the reaction, extraction was performed with ethyl acetate (EA). When concentrated after extraction, a solid can be obtained. The obtained solid was dissolved in a small amount of dichloromethane, washed several times with hexane, filtered and dried under vacuum to obtain 3,4,6-Trichloro-5-(2,4-dimethoxy-phenoxy)-phthalonitrile.

100mL 플라스크에 3,4,6-Trichloro-5-(2,4-dimethoxy-phenoxy)-phthalonitrile (2g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(0.99g) 및 1-펜탄올(14g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 녹은 후 zinc acetate(0.24g)를 넣고 140℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체에디클로로메탄을 적당히 넣어 고체를 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 C-3로 표시되는 화합물을 얻는다In a 100 mL flask, add 3,4,6-Trichloro-5-(2,4-dimethoxy-phenoxy)-phthalonitrile (2 g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (0.99 g) and 1-pentanol (14 g). The mixture is heated to 90℃ to dissolve the solid, and then zinc acetate (0.24g) is added and heated to 140℃ while stirring. After completion of the reaction, the precipitation was confirmed with methanol, followed by filtration and vacuum drying. The dried solid is purified by column chromatography. After purification, the obtained solid eddichloromethane is appropriately added to dissolve the solid, and then methanol is added to crystallize. The crystallized solid is filtered and dried in vacuo to obtain a compound represented by the following formula C-3.

[화학식 C-3][Chemical Formula C-3]

Figure 112017086608527-pat00033
Figure 112017086608527-pat00033

Maldi-tof MS : (1591.80 m/zMaldi-tof MS: (1591.80 m/z

비교 compare 합성예Synthesis example 4: 화학식 C-4로 표시되는 화합물의 합성 4: Synthesis of a compound represented by Formula C-4

100mL 플라스크에 합성예 1-2의 4-(2,4-dimethoxy-phenoxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile (0.7g), 3,4,5,6-Tetrachlorophthalonitrile (1.45g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(1.38g) 및 1-펜탄올(14g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 녹은 후 zinc acetate(0.33g)를 넣고 140℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체에디클로로메탄을 적당히 넣어 고체를 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 C-4로 표시되는 화합물을 얻는다.In a 100 mL flask, 4-(2,4-dimethoxy-phenoxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile (0.7g), 3,4,5,6-Tetrachlorophthalonitrile (1.45g), 1 of Synthesis Example 1-2 Add ,8-Diazabicycloundec-7-ene (1.38g) and 1-pentanol (14g) and heat to 90℃ to dissolve the solid, then add zinc acetate (0.33g) and heat to 140℃ while stirring. After completion of the reaction, the precipitation was confirmed with methanol, followed by filtration and vacuum drying. The dried solid is purified by column chromatography. After purification, the obtained solid eddichloromethane is appropriately added to dissolve the solid, and then methanol is added to crystallize. The crystallized solid is filtered and dried in vacuo to obtain a compound represented by Formula C-4 below.

[화학식 C-4][Chemical Formula C-4]

Figure 112017086608527-pat00034
Figure 112017086608527-pat00034

Maldi-tof MS : 1237.54 m/zMaldi-tof MS: 1237.54 m/z

평가 1: 용해도 측정 Evaluation 1: solubility measurement

상기 합성예 1 내지 합성예 8 및 비교 합성예 1 내지 비교 합성예 4에 따른 화합물 0.5 g에, 희석 용제(PGMEA)를 각각 첨가하고, 해당 용액을 믹스 로터(iuchi 주식회사, MIXROTAR VMR-5)로 25℃, 100 rpm로 1시간 동안 교반한 후, 각각의 화합물의 용해도 확인 결과를 하기 표 1에 나타내었다.To 0.5 g of the compounds according to Synthesis Examples 1 to 8 and Comparative Synthesis Examples 1 to 4, a diluting solvent (PGMEA) was added, respectively, and the solution was mixed with a rotor (MIXROTAR VMR-5) After stirring at 25° C. and 100 rpm for 1 hour, the results of confirming the solubility of each compound are shown in Table 1 below.

용해도 평가 기준Solubility evaluation criteria

희석용제 총량에 대해 화합물(용질)이 10 중량% 이상 용해: ○Compound (solute) is dissolved in at least 10% by weight based on the total amount of the diluted solvent: ○

희석용제 총량에 대해 화합물(용질)이 5 중량% 이상 10 중량% 미만 용해: △Compound (solute) is 5% by weight or more and less than 10% by weight, based on the total amount of the diluted solvent: △

희석용제 총량에 대해 화합물(용질)이 5 중량% 미만 용해: XDissolution of less than 5% by weight of compound (solute) based on the total amount of diluent: X

(단위: 중량%)(Unit: wt%) 용해도Solubility 합성예 1Synthesis Example 1 합성예 2Synthesis Example 2 합성예 3Synthesis Example 3 합성예 4Synthesis Example 4 합성예 5Synthesis Example 5 합성예 6Synthesis Example 6 합성예 7Synthesis Example 7 합성예 8Synthesis Example 8 비교 합성예 1Comparative Synthesis Example 1 XX 비교 합성예 2Comparative Synthesis Example 2 XX 비교 합성예 3Comparative Synthesis Example 3 XX 비교 합성예 4Comparative Synthesis Example 4 XX

상기 표 1로부터, 일 구현예에 따른 화합물인 합성예 1 내지 합성예 8의 화합물은 비교 합성예 1 내지 비교 합성예 4의 화합물보다 유기용매에 대한 용해도가 우수하여, 감광성 수지 조성물 등에 사용 시 우수한 색특성을 나타낼 수 있음을 확인할 수 있다.From Table 1, the compounds of Synthesis Examples 1 to 8, which are compounds according to an embodiment, have better solubility in organic solvents than the compounds of Comparative Synthesis Examples 1 to 4, and are excellent when used in photosensitive resin compositions, etc. It can be seen that it can show color characteristics.

(감광성 수지 조성물의 합성)(Synthesis of photosensitive resin composition)

실시예Example 1 One

하기 언급된 구성성분들을 하기 표 2에 나타낸 조성으로 혼합하여 실시예 1에 따른 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition according to Example 1 was prepared by mixing the components mentioned below in the composition shown in Table 2 below.

구체적으로, 용매에 광중합 개시제를 녹인 후 2 시간 동안 상온에서 교반한 다음, 여기에 알칼리 가용성 수지 및 광중합성 화합물을 첨가하여 2시간 동안 상온에서 교반하였다. 이어서, 얻어진 상기 반응물에 착색제로서 상기 합성예 1에서 제조된 화합물(화학식 4로 표시되는 화합물) 및 안료(안료분산액 형태)를 넣고 1시간 동안 상온에서 교반하였다. 이어 상기 생성물을 3회 여과하여 불순물을 제거함으로써, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.Specifically, after dissolving the photopolymerization initiator in a solvent, the mixture was stirred at room temperature for 2 hours, and then an alkali-soluble resin and a photopolymerizable compound were added thereto, followed by stirring at room temperature for 2 hours. Subsequently, the compound prepared in Synthesis Example 1 (compound represented by Formula 4) and a pigment (in the form of a pigment dispersion) were added to the obtained reactant as a colorant, and stirred at room temperature for 1 hour. Subsequently, the product was filtered three times to remove impurities, thereby preparing a photosensitive resin composition.

(단위: 중량%)(Unit: wt%) 배합원료Ingredients 함량content 착색제coloring agent 염료dyes 합성예 1의 화합물Compound of Synthesis Example 1 5.05.0 안료분산액Pigment dispersion Pigment Y138 안료분산액Pigment Y138 pigment dispersion 15.015.0 알칼리 가용성 수지Alkali-soluble resin (A)/(B)=15/85(w/w),
분자량(Mw)=22,000g/mol
(A): 메타크릴산
(B): 벤질메타크릴레이트
(A)/(B)=15/85(w/w),
Molecular weight (Mw)=22,000g/mol
(A): methacrylic acid
(B): Benzyl methacrylate
3.53.5
광중합성 화합물Photopolymerizable compound 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(DPHA)Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) 8.08.0 광중합 개시제Photopolymerization initiator 1,2-옥탄디온1,2-octanedione 1.01.0 2-디메틸아미노-2-(4-메틸-벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온2-Dimethylamino-2-(4-methyl-benzyl)-1-(4-morpholin-4-yl-phenyl)-butan-1-one 0.50.5 용매menstruum 사이클로헥사논Cyclohexanone 37.037.0 PGMEA(Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate)PGMEA (Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate) 30.030.0 총량(Total)Total 100.00100.00

실시예Example 2 2

합성예 1의 화합물(화학식 4로 표시되는 화합물) 대신 합성예 2의 화합물(화학식 5로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the compound of Synthesis Example 2 (a compound represented by Chemical Formula 5) was used instead of the compound of Synthesis Example 1 (the compound represented by Chemical Formula 4).

실시예Example 3 3

합성예 1의 화합물(화학식 4로 표시되는 화합물) 대신 합성예 3의 화합물(화학식 6으로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the compound of Synthesis Example 3 (a compound represented by Formula 6) was used instead of the compound of Synthesis Example 1 (the compound represented by Formula 4).

실시예Example 4 4

합성예 1의 화합물(화학식 4로 표시되는 화합물) 대신 합성예 4의 화합물(화학식 7로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the compound of Synthesis Example 4 (a compound represented by Formula 7) was used instead of the compound of Synthesis Example 1 (a compound represented by Formula 4).

실시예 5Example 5

합성예 1의 화합물(화학식 4로 표시되는 화합물) 대신 합성예 5의 화합물(화학식 8로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the compound of Synthesis Example 5 (a compound represented by Chemical Formula 8) was used instead of the compound of Synthesis Example 1 (the compound represented by Chemical Formula 4).

실시예Example 6 6

합성예 1의 화합물(화학식 4로 표시되는 화합물) 대신 합성예 6의 화합물(화학식 9로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the compound of Synthesis Example 6 (a compound represented by Formula 9) was used instead of the compound of Synthesis Example 1 (a compound represented by Chemical Formula 4).

실시예Example 7 7

합성예 1의 화합물(화학식 4로 표시되는 화합물) 대신 합성예 7의 화합물(화학식 10으로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the compound of Synthesis Example 7 (a compound represented by Formula 10) was used instead of the compound of Synthesis Example 1 (a compound represented by Formula 4).

실시예Example 8 8

합성예 1의 화합물(화학식 4로 표시되는 화합물) 대신 합성예 8의 화합물(화학식 11로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the compound of Synthesis Example 8 (a compound represented by Formula 11) was used instead of the compound of Synthesis Example 1 (a compound represented by Chemical Formula 4).

비교예Comparative example 1 One

합성예 1의 화합물(화학식 4로 표시되는 화합물) 대신 비교 합성예 1의 화합물(화학식 C-1로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the compound of Comparative Synthesis Example 1 (a compound represented by Chemical Formula C-1) was used instead of the compound of Synthesis Example 1 (a compound represented by Chemical Formula 4). .

비교예Comparative example 2 2

합성예 1의 화합물(화학식 4로 표시되는 화합물) 대신 비교 합성예 2의 화합물(화학식 C-2로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the compound of Comparative Synthesis Example 2 (a compound represented by Chemical Formula C-2) was used instead of the compound of Synthesis Example 1 (a compound represented by Chemical Formula 4). .

비교예Comparative example 3 3

합성예 1의 화합물(화학식 4로 표시되는 화합물) 대신 비교 합성예 3의 화합물(화학식 C-3으로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the compound of Comparative Synthesis Example 3 (a compound represented by Chemical Formula C-3) was used instead of the compound of Synthesis Example 1 (a compound represented by Chemical Formula 4). .

비교예Comparative example 4 4

합성예 1의 화합물(화학식 4로 표시되는 화합물) 대신 비교 합성예 4의 화합물(화학식 C-4로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the compound of Comparative Synthesis Example 4 (a compound represented by Chemical Formula C-4) was used instead of the compound of Synthesis Example 1 (a compound represented by Chemical Formula 4). .

비교예Comparative example 5 5

표 1에 나타낸 조성 대신 하기 표 3에 나타낸 조성으로 혼합한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the composition shown in Table 3 was mixed instead of the composition shown in Table 1 below.

(단위: 중량%)(Unit: wt%) 배합원료Ingredients 함량content 착색제coloring agent 안료분산액Pigment dispersion Pigment G58 안료분산액Pigment G58 pigment dispersion 20.020.0 Pigment Y138 안료분산액Pigment Y138 pigment dispersion 15.015.0 알칼리 가용성 수지Alkali-soluble resin (A)/(B)=15/85(w/w),
분자량(Mw)=22,000g/mol
(A): 메타크릴산
(B): 벤질메타크릴레이트
(A)/(B)=15/85(w/w),
Molecular weight (Mw)=22,000g/mol
(A): methacrylic acid
(B): Benzyl methacrylate
2.52.5
광중합성 화합물Photopolymerizable compound 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(DPHA)Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) 5.05.0 광중합 개시제Photopolymerization initiator 1,2-옥탄디온1,2-octanedione 1.01.0 2-디메틸아미노-2-(4-메틸-벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온2-Dimethylamino-2-(4-methyl-benzyl)-1-(4-morpholin-4-yl-phenyl)-butan-1-one 0.50.5 용매menstruum 사이클로헥사논Cyclohexanone 40.040.0 PGMEA(Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate)PGMEA (Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate) 16.016.0 총량(Total)Total 100.00100.00

비교예Comparative example 6 6

Pigment G58 안료분산액 대신 Pigment G36 안료분산액을 사용한 것을 제외하고는 비교예 5와 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Comparative Example 5, except that Pigment G36 pigment dispersion was used instead of Pigment G58 pigment dispersion.

평가 2: Evaluation 2: 색좌표Color coordinates , 휘도 및 명암비 측정, Brightness and contrast ratio measurement

탈지 세척한 두께 1 mm의 유리 기판 상에 1 ㎛ 내지 3 ㎛의 두께로 상기 실시예 1 내지 실시예 8 및 비교예 1 내지 비교예 6에서 제조한 감광성 수지 조성물을 도포하고, 90℃의 핫 플레이트 상에서 2분 동안 건조시켜 도막을 수득하였다. 계속해서 도막에 365nm의 주파장을 가진 고압수은램프를 사용하여 노광하였다. 이 후, 200℃의 열풍순환식 건조로 안에서 5분 동안 건조시켜 샘플을 수득하였다. 화소층은 분광광도계(MCPD3000, Otsuka electronic社)를 이용하여 휘도(Y) 및 명암비를 측정하여, 하기 표 4에 기재하였다.The photosensitive resin composition prepared in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 6 was applied to a thickness of 1 µm to 3 µm on a degreasing and washed glass substrate, and a hot plate at 90°C Drying on the bed for 2 minutes to obtain a coating film. Subsequently, the coating film was exposed using a high-pressure mercury lamp having a dominant wavelength of 365 nm. Thereafter, it was dried for 5 minutes in a hot air circulation drying furnace at 200° C. to obtain a sample. For the pixel layer, the luminance (Y) and contrast ratio were measured using a spectrophotometer (MCPD3000, Otsuka electronic), and are shown in Table 4 below.

휘도 (Y)Luminance (Y) 명암비Contrast ratio 실시예 1Example 1 62.762.7 15,70015,700 실시예 2Example 2 62.562.5 15,40015,400 실시예 3Example 3 62.862.8 15,50015,500 실시예 4Example 4 62.462.4 15,30015,300 실시예 5Example 5 62.662.6 15,30015,300 실시예 6Example 6 62.362.3 15,00015,000 실시예 7Example 7 62.562.5 14,90014,900 실시예 8Example 8 62.362.3 15,20015,200 비교예 1Comparative Example 1 61.061.0 14,40014,400 비교예 2Comparative Example 2 60.860.8 14,60014,600 비교예 3Comparative Example 3 60.160.1 14,30014,300 비교예 4Comparative Example 4 59.759.7 14,10014,100 비교예 5Comparative Example 5 60.960.9 13,30013,300 비교예 6Comparative Example 6 58.658.6 13,60013,600

상기 표 4로부터, 일 구현예에 따른 화합물을 염료로 포함하는 실시예 1 내지 실시예 8의 감광성 수지 조성물이 상기 화합물을 포함하지 않은 비교예 1 내지 비교예 6의 감광성 수지 조성물보다 우수한 색특성을 나타냄을 확인할 수 있다. From Table 4, the photosensitive resin compositions of Examples 1 to 8 including the compound according to an embodiment as a dye exhibit superior color characteristics than the photosensitive resin compositions of Comparative Examples 1 to 6 not including the compound. It can be confirmed that it appears.

이상 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고, 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고, 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications can be made within the scope of the claims, the detailed description of the invention, and the accompanying drawings. It is natural to fall within the scope of the invention.

Claims (18)

하기 화학식 1로 표시되는 화합물:
[화학식 1]
Figure 112020027574887-pat00035

상기 화학식 1에서,
R1 내지 R4는 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기이고,
R5 내지 R8은 각각 독립적으로 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기 또는 하기 화학식 3으로 표시되는 아릴옥시기이고,
R9 내지 R12는 각각 독립적으로 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기 또는 하기 화학식 3으로 표시되는 아릴옥시기이고,
R13 내지 R16은 각각 독립적으로 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기 또는 하기 화학식 3으로 표시되는 아릴옥시기이고,
단, R5 내지 R16 중 적어도 둘 이상은 하기 화학식 3으로 표시되고,
[화학식 3]
Figure 112020027574887-pat00047

상기 화학식 3에서,
R17은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
R18은 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기이다.
Compound represented by the following formula (1):
[Formula 1]
Figure 112020027574887-pat00035

In Formula 1,
R 1 to R 4 are each independently a halogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group,
R 5 to R 8 are each independently a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group or an aryloxy group represented by the following formula (3),
R 9 to R 12 are each independently a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group or an aryloxy group represented by the following formula (3),
R 13 to R 16 are each independently a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group or an aryloxy group represented by the following formula (3),
However, at least two or more of R 5 to R 16 are represented by the following formula (3),
[Formula 3]
Figure 112020027574887-pat00047

In Chemical Formula 3,
R 17 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,
R 18 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 R17은 tert-부틸기인 화합물.
The method of claim 1,
Wherein R 17 is a tert-butyl group.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 R1 내지 R4 중 적어도 하나는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기이고,
상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 3으로 표시되고,
상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 3으로 표시되고,
상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물.
The method of claim 1,
At least one of the R 1 to R 4 is a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group,
At least one of R 5 to R 8 is represented by Formula 3,
At least one of R 9 to R 12 is represented by Formula 3,
At least one of R 13 to R 16 is a compound represented by Formula 3.
제1항에 있어서,
상기 R1 내지 R4는 모두 할로겐 원자이고,
상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 3으로 표시되고,
상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 3으로 표시되고,
상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물.
The method of claim 1,
All of the R 1 to R 4 are halogen atoms,
At least one of R 5 to R 8 is represented by Formula 3,
At least one of R 9 to R 12 is represented by Formula 3,
At least one of R 13 to R 16 is a compound represented by Formula 3.
제1항에 있어서,
상기 R1 내지 R8은 모두 할로겐 원자이고,
상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 3으로 표시되고,
상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물.
The method of claim 1,
All of the R 1 to R 8 are halogen atoms,
At least one of R 9 to R 12 is represented by Formula 3,
At least one of R 13 to R 16 is a compound represented by Formula 3.
제1항에 있어서,
상기 R1 내지 R4는 모두 할로겐 원자이고,
상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 3으로 표시되고,
상기 R9 내지 R12는 모두 할로겐 원자이고,
상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물.
The method of claim 1,
All of the R 1 to R 4 are halogen atoms,
At least one of R 5 to R 8 is represented by Formula 3,
All of R 9 to R 12 are halogen atoms,
At least one of R 13 to R 16 is a compound represented by Formula 3.
제1항에 있어서,
상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 5 내지 화학식 7 및 화학식 9 내지 화학식 11 중 어느 하나로 표시되는 화합물.
[화학식 5]
Figure 112020027574887-pat00039

[화학식 6]
Figure 112020027574887-pat00040

[화학식 7]
Figure 112020027574887-pat00041

[화학식 9]
Figure 112020027574887-pat00043

[화학식 10]
Figure 112020027574887-pat00044

[화학식 11]
Figure 112020027574887-pat00045

The method of claim 1,
The compound represented by Formula 1 is a compound represented by any one of Formulas 5 to 7 and Formulas 9 to 11.
[Formula 5]
Figure 112020027574887-pat00039

[Formula 6]
Figure 112020027574887-pat00040

[Formula 7]
Figure 112020027574887-pat00041

[Formula 9]
Figure 112020027574887-pat00043

[Formula 10]
Figure 112020027574887-pat00044

[Formula 11]
Figure 112020027574887-pat00045

제1항에 있어서,
상기 화합물은 녹색 염료인 화합물.
The method of claim 1,
The compound is a green dye.
제11항에 있어서,
상기 녹색 염료는 445nm 내지 560nm의 파장범위에서 최대 투과도를 가지는 화합물.
The method of claim 11,
The green dye is a compound having a maximum transmittance in a wavelength range of 445nm to 560nm.
제1항, 제3항, 제6항 내지 제12항 중 어느 한 항의 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물.
A photosensitive resin composition comprising the compound of any one of claims 1, 3 and 6 to 12.
제13항에 있어서,
상기 화합물은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 1 중량% 내지 10 중량%로 포함되는 감광성 수지 조성물.
The method of claim 13,
The compound is a photosensitive resin composition containing 1% by weight to 10% by weight based on the total amount of the photosensitive resin composition.
제13항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
The method of claim 13,
The photosensitive resin composition further comprises an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent.
제15항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은 안료를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
The method of claim 15,
The photosensitive resin composition is a photosensitive resin composition further comprising a pigment.
제16항에 있어서,
상기 안료는 황색 안료, 녹색 안료 또는 이들의 조합을 포함하는 감광성 수지 조성물.
The method of claim 16,
The pigment is a photosensitive resin composition comprising a yellow pigment, a green pigment, or a combination thereof.
제13항의 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조되는 컬러필터.A color filter manufactured using the photosensitive resin composition of claim 13.
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