KR102066549B1 - Photosensitive resin composition, black pixel defining layer using the same and display device - Google Patents

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Abstract

(A) 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함하는 바인더 수지; (B) 흑색 착색제; (C) 광중합성 단량체; (D) 광중합 개시제; 및 (E) 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 블랙 화소 격벽층 및 블랙 화소 격벽층을 포함하는 디스플레이 장치가 제공된다.
[화학식 1]

Figure 112016118114917-pat00039

(상기 화학식 1에서, 각 치환기는 명세서에 정의된 바와 같다.)(A) Binder resin containing a repeating unit represented by following formula (1); (B) a black colorant; (C) photopolymerizable monomer; (D) photoinitiator; And (E) a photosensitive resin composition comprising a solvent, a display device including a black pixel barrier layer and a black pixel barrier layer manufactured using the same.
[Formula 1]
Figure 112016118114917-pat00039

(In Formula 1, each substituent is as defined in the specification.)

Description

감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치 {PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, BLACK PIXEL DEFINING LAYER USING THE SAME AND DISPLAY DEVICE}Photosensitive resin composition, black pixel partition layer and display device using the same {PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, BLACK PIXEL DEFINING LAYER USING THE SAME AND DISPLAY DEVICE}

본 기재는 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치에 관한 것이다.The present disclosure relates to a photosensitive resin composition, a black pixel partition layer and a display device using the same.

감광성 수지 조성물은 컬러필터, 액정 표시재료, 유기발광소자 등의 디스플레이 장치, 디스플레이 장치 패널 재료 등의 표시 소자의 제조에 필수적인 재료이다. 예를 들어, 컬러 액정 디스플레이 등의 컬러필터에는 표시 콘트라스트나 발색 효과를 높이기 위해, 레드(red), 그린(green), 블루(blue) 등의 착색층 간의 경계 부분에 블랙 화소 격벽층과 같은 감광성 수지막이 필요하고, 이 감광성 수지막은 주로 감광성 수지 조성물로 형성되는 것이다.The photosensitive resin composition is a material essential for the production of display elements such as color filters, liquid crystal display materials, display devices such as organic light emitting elements, and display device panel materials. For example, in a color filter such as a color liquid crystal display, in order to increase the display contrast and the color development effect, photosensitivity such as a black pixel partition wall layer is formed at a boundary between colored layers such as red, green, and blue. A resin film is required, and this photosensitive resin film is mainly formed from the photosensitive resin composition.

특히, 디스플레이 장치 패널의 소재로 사용되는 화소 격벽층 등의 감광성 수지막은 공정성 및 소자 신뢰성을 가지기 위해 테이퍼 각도가 낮아야 한다. 또한 차광성을 위해 가시광선 영역의 빛을 흡광하는 안료나 염료 등의 착색제가 사용되어야 한다.In particular, a photosensitive resin film such as a pixel partition layer used as a material of a display device panel should have a low taper angle in order to have processability and device reliability. In addition, a colorant such as a pigment or a dye that absorbs light in the visible region for light shielding properties should be used.

종래에는 내열성, 감도 또는 낮은 아웃가스 특성을 위해 감광성 수지 조성물 내 바인더 수지로 폴리이미드, 폴리벤조옥사졸 또는 이들의 전구체를 사용하였으나, 노광 후 패턴 형성 시 명암비가 떨어지는 문제가 있었다. Conventionally, polyimide, polybenzoxazole, or precursors thereof are used as the binder resin in the photosensitive resin composition for heat resistance, sensitivity, or low outgas characteristics, but there is a problem that the contrast ratio is lowered when the pattern is formed after exposure.

따라서, 상기 문제점을 해소할 수 있는 블랙 화소 격벽층 제조용 감광성 수지 조성물을 개발하려는 연구가 계속되고 있다.Therefore, the research to develop the photosensitive resin composition for black pixel partition layer manufacture which can solve the said problem is continued.

일 구현예는 테이퍼가 낮고 감도가 우수한 감광성 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.One embodiment is to provide a photosensitive resin composition having a low taper and excellent sensitivity.

다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 블랙 화소 격벽층을 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a black pixel partition layer manufactured using the photosensitive resin composition.

또 다른 일 구현예는 상기 블랙 화소 격벽층을 포함하는 디스플레이 장치를 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a display device including the black pixel partition layer.

일 구현예는 (A) 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함하는 바인더 수지; (B) 흑색 착색제; (C) 광중합성 단량체; (D) 광중합 개시제; 및 (E) 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.One embodiment is (A) a binder resin comprising a repeating unit represented by the formula (1); (B) a black colorant; (C) photopolymerizable monomer; (D) photoinitiator; And (E) provides a photosensitive resin composition comprising a solvent.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112016118114917-pat00001
Figure 112016118114917-pat00001

상기 화학식 1에서,In Chemical Formula 1,

X1은 산소 원자, 황 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고,X 1 is an oxygen atom, a sulfur atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group,

L1은 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고,L 1 is a single bond or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group,

R1 및 R2는 각각 독립적으로 하기 화학식 2로 표시되고,R 1 and R 2 are each independently represented by the following formula (2),

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112016118114917-pat00002
Figure 112016118114917-pat00002

상기 화학식 2에서,In Chemical Formula 2,

L2 및 L4는 각각 독립적으로 *-C(=O)-* 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고,L 2 and L 4 are each independently * -C (= 0)-* or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group,

L3은 "말단에 히드록시기 또는 카르복시기를 포함하는 C6 내지 C20 아릴렌기" 또는 "말단에 히드록시기 또는 카르복시기를 포함하는 C1 내지 C10 알킬렌기"이고,L 3 is "C6 to C20 arylene group containing a hydroxy group or a carboxyl group at the terminal" or "C1 to C10 alkylene group containing a hydroxyl group or a carboxyl group at the terminal",

L5는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고,L 5 is a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group,

n1은 0 또는 1의 정수이다.n1 is an integer of 0 or 1.

상기 L3은 하기 화학식 2-1 또는 화학식 2-2로 표시될 수 있다.L 3 may be represented by the following Chemical Formula 2-1 or Chemical Formula 2-2.

[화학식 2-1][Formula 2-1]

Figure 112016118114917-pat00003
Figure 112016118114917-pat00003

[화학식 2-2][Formula 2-2]

Figure 112016118114917-pat00004
Figure 112016118114917-pat00004

상기 화학식 2-1 및 화학식 2-2에서,In Chemical Formulas 2-1 and 2-2,

R3 및 R4는 각각 독립적으로 히드록시기 또는 카르복시기이고,R 3 and R 4 are each independently a hydroxyl group or a carboxy group,

L6는 산소 원자 또는 *-OC(=O)-* 이다.L 6 is an oxygen atom or * -OC (= O)-*.

상기 X1은 "산소 원자" 또는 "할로겐 원소로 치환된 C1 내지 C5 알킬기로 치환된 C1 내지 C10 알킬렌기"일 수 있다.X 1 may be an “oxygen atom” or a “C 1 to C 10 alkylene group substituted with a C 1 to C 5 alkyl group substituted with a halogen element”.

상기 L1은 "단일결합" 또는 "할로겐 원소로 치환된 C1 내지 C5 알킬기로 치환된 C1 내지 C10 알킬렌기"일 수 있다.L 1 may be a “single bond” or “C1 to C10 alkylene group substituted with C1 to C5 alkyl group substituted with halogen element”.

상기 바인더 수지는 말단에 하기 화학식 3으로 표시되는 관능기를 포함할 수 있다.The binder resin may include a functional group represented by the following Formula 3 at the terminal.

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112016118114917-pat00005
Figure 112016118114917-pat00005

상기 화학식 3에서,In Chemical Formula 3,

L7은 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고,L 7 is a single bond or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group,

R5는 상기 화학식 2로 표시된다.R 5 is represented by the formula (2).

상기 바인더 수지는 3,000 g/mol 내지 20,000 g/mol의 중량평균 분자량을 가질 수 있다.The binder resin may have a weight average molecular weight of 3,000 g / mol to 20,000 g / mol.

상기 흑색 착색제는 유기 흑색 안료를 포함할 수 있다.The black colorant may include an organic black pigment.

상기 광중합성 단량체는 하기 화학식 4로 표시되는 관능기를 적어도 2개 이상 포함하는 화합물을 포함할 수 있다.The photopolymerizable monomer may include a compound including at least two or more functional groups represented by Formula 4 below.

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112016118114917-pat00006
Figure 112016118114917-pat00006

상기 화학식 4에서,In Chemical Formula 4,

R6은 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,R 6 is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,

L8은 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다.L 8 is a single bond or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group.

상기 화학식 4로 표시되는 관능기를 적어도 2개 이상 포함하는 화합물은 하기 화학식 5 또는 하기 화학식 6으로 표시되는 화합물일 수 있다.The compound including at least two or more functional groups represented by Formula 4 may be a compound represented by Formula 5 or Formula 6.

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112016118114917-pat00007
Figure 112016118114917-pat00007

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112016118114917-pat00008
Figure 112016118114917-pat00008

상기 화학식 5 및 화학식 6에서, In Chemical Formulas 5 and 6,

p, q, r 및 s는 각각 독립적으로 1 내지 10의 정수이다.p, q, r and s are each independently an integer of 1 to 10.

상기 감광성 수지 조성물은, 감광성 수지 조성물 총량에 대해, 상기 (A) 바인더 수지 1 중량% 내지 20 중량%; 상기 (B) 흑색 착색제 1 중량% 내지 20 중량%; 상기 (C) 광중합성 단량체 0.5 중량% 내지 10 중량%; 상기 (D) 광중합 개시제 0.1 중량% 내지 5 중량%; 및 상기 (E) 용매 잔부량을 포함할 수 있다.The said photosensitive resin composition is 1 weight%-20 weight% of said (A) binder resin with respect to the total amount of photosensitive resin composition; 1% to 20% by weight of the black colorant (B); 0.5 wt% to 10 wt% of the (C) photopolymerizable monomer; 0.1% to 5% by weight of the photopolymerization initiator (D); And (E) may include the remaining amount of the solvent.

상기 감광성 수지 조성물은 말론산, 3-아미노-1,2-프로판디올, 실란계 커플링제, 레벨링제, 계면활성제, 라디칼 중합개시제 또는 이들의 조합의 첨가제를 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition may further include an additive of malonic acid, 3-amino-1,2-propanediol, a silane coupling agent, a leveling agent, a surfactant, a radical polymerization initiator, or a combination thereof.

다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 블랙 화소 격벽층(Black Pixel Defining Layer)을 제공한다.Another embodiment provides a Black Pixel Defining Layer manufactured by using the photosensitive resin composition.

또 다른 일 구현예는 상기 블랙 화소 격벽층을 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.Another embodiment provides a display device including the black pixel partition layer.

상기 디스플레이 장치는 유기발광소자(OLED)일 수 있다.The display device may be an organic light emitting diode (OLED).

기타 본 발명의 측면들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.Other details of aspects of the invention are included in the following detailed description.

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 중간에 카르복시기 (및/또는 히드록시기)를 가지는 특정 반복단위를 포함하는 바인더 수지를 포함함으로써, 낮은 테이퍼를 유지하면서도 우수한 감도를 가지는 블랙 화소 격벽층 및 이를 포함하는 디스플레이 장치를 제공할 수 있다. The photosensitive resin composition according to the exemplary embodiment includes a binder resin including a specific repeating unit having a carboxyl group (and / or a hydroxyl group) in the middle thereof, thereby maintaining a low taper and having excellent sensitivity, and a black pixel partition layer layer and a display including the same. A device can be provided.

이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다.  다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, this is presented as an example, by which the present invention is not limited and the present invention is defined only by the scope of the claims to be described later.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "알킬기"란 C1 내지 C20 알킬기를 의미하고, "알케닐기"란 C2 내지 C20 알케닐기를 의미하고, "사이클로알케닐기"란 C3 내지 C20 사이클로알케닐기를 의미하고, "헤테로사이클로알케닐기"란 C3 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기를 의미하고, "아릴기"란 C6 내지 C20 아릴기를 의미하고, "아릴알킬기"란 C6 내지 C20 아릴알킬기를 의미하며, "알킬렌기"란 C1 내지 C20 알킬렌기를 의미하고, "아릴렌기"란 C6 내지 C20 아릴렌기를 의미하고, "알킬아릴렌기"란 C6 내지 C20 알킬아릴렌기를 의미하고, "헤테로아릴렌기"란 C3 내지 C20 헤테로아릴렌기를 의미하고, "알콕실렌기"란 C1 내지 C20 알콕실렌기를 의미한다.Unless stated otherwise in the specification, "alkyl group" means a C1 to C20 alkyl group, "alkenyl group" means a C2 to C20 alkenyl group, and "cycloalkenyl group" means a C3 to C20 cycloalkenyl group , "Heterocycloalkenyl group" means a C3 to C20 heterocycloalkenyl group, "aryl group" means a C6 to C20 aryl group, "arylalkyl group" means a C6 to C20 arylalkyl group, "alkylene group" Is a C1 to C20 alkylene group, and "arylene group" refers to a C6 to C20 arylene group, and "alkylarylene group" refers to a C6 to C20 alkylarylene group, and a "heteroarylene group" to C3 to C20 hetero It means an arylene group and a "alkoxy group" means a C1-C20 alkoxylene group.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "치환"이란 적어도 하나의 수소 원자가 할로겐원자(F, Cl, Br, I), 히드록시기, C1 내지 C20 알콕시기, 니트로기, 시아노기, 아민기, 이미노기, 아지도기, 아미디노기, 히드라지노기, 히드라조노기, 카르보닐기, 카르바밀기, 티올기, 에스테르기, 에테르기, 카르복실기 또는 그것의 염, 술폰산기 또는 그것의 염, 인산이나 그것의 염, C1 내지 C20 알킬기, C2 내지 C20 알케닐기, C2 내지 C20 알키닐기, C6 내지 C20 아릴기, C3 내지 C20 사이클로알킬기, C3 내지 C20 사이클로알케닐기, C3 내지 C20 사이클로알키닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알킬기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알키닐기, C3 내지 C20 헤테로아릴기 또는 이들의 조합의 치환기로 치환된 것을 의미한다.Unless stated otherwise in the present specification, "substituted" means that at least one hydrogen atom is halogen atom (F, Cl, Br, I), hydroxy group, C1 to C20 alkoxy group, nitro group, cyano group, amine group, imino group, Azido, amidino, hydrazino, hydrazono, carbonyl, carbamyl, thiol, ester, ether, carboxyl or salts thereof, sulfonic acid or salts thereof, phosphoric acid or salts thereof, C1 To C20 alkyl, C2 to C20 alkenyl, C2 to C20 alkynyl, C6 to C20 aryl, C3 to C20 cycloalkyl, C3 to C20 cycloalkenyl, C3 to C20 cycloalkynyl, C2 to C20 heterocycloalkyl, C2 To C20 heterocycloalkenyl group, C2 to C20 heterocycloalkynyl group, C3 to C20 heteroaryl group, or a combination thereof.

또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "헤테로"란, 화학식 내에 N, O, S 및 P 중 적어도 하나의 헤테로 원자가 적어도 하나 포함된 것을 의미한다.In addition, unless otherwise specified in the present specification, "hetero" means that at least one hetero atom of N, O, S, and P is included in a chemical formula.

또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "(메타)아크릴레이트"는 "아크릴레이트"와 "메타크릴레이트" 둘 다 가능함을 의미하며, "(메타)아크릴산"은 "아크릴산"과 "메타크릴산" 둘 다 가능함을 의미한다. Also, unless stated otherwise in the present specification, "(meth) acrylate" means that both "acrylate" and "methacrylate" are possible, and "(meth) acrylic acid" means "acrylic acid" and "methacrylic acid". "Both mean it's possible.

본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, "조합"이란 혼합 또는 공중합을 의미한다. 또한 "공중합"이란 블록 공중합 내지 랜덤 공중합을 의미하고, "공중합체"란 블록 공중합체 내지 랜덤 공중합체를 의미한다.Unless otherwise defined herein, “combination” means mixed or copolymerized. In addition, "copolymerization" means block copolymerization to random copolymerization, and "copolymer" means block copolymer to random copolymerization.

본 명세서 내 화학식에서 별도의 정의가 없는 한, 화학 결합이 그려져야 하는 위치에 화학결합이 그려져 있지 않은 경우는 상기 위치에 수소 원자가 결합되어 있음을 의미한다.Unless otherwise defined in the chemical formulas herein, when a chemical bond is not drawn at the position where the chemical bond is to be drawn, it means that a hydrogen atom is bonded at the position.

본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, "*"는 동일하거나 상이한 원자 또는 화학식과 연결되는 부분을 의미한다.Unless otherwise defined herein, "*" means the part connected with the same or different atoms or formulas.

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 (A) 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함하는 바인더 수지; (B) 흑색 착색제; (C) 광중합성 단량체; (D) 광중합 개시제; 및 (E) 용매를 포함합니다.Photosensitive resin composition according to one embodiment includes (A) a binder resin comprising a repeating unit represented by the formula (1); (B) a black colorant; (C) photopolymerizable monomer; (D) photoinitiator; And (E) solvent.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112016118114917-pat00009
Figure 112016118114917-pat00009

상기 화학식 1에서,In Chemical Formula 1,

X1은 산소 원자, 황 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고,X 1 is an oxygen atom, a sulfur atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group,

L1은 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고,L 1 is a single bond or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group,

R1 및 R2는 각각 독립적으로 하기 화학식 2로 표시되고,R 1 and R 2 are each independently represented by the following formula (2),

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112016118114917-pat00010
Figure 112016118114917-pat00010

상기 화학식 2에서,In Chemical Formula 2,

L2 및 L4는 각각 독립적으로 *-C(=O)-* 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고,L 2 and L 4 are each independently * -C (= 0)-* or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group,

L3은 "말단에 히드록시기 또는 카르복시기를 포함하는 C6 내지 C20 아릴렌기" 또는 "말단에 히드록시기 또는 카르복시기를 포함하는 C1 내지 C10 알킬렌기"이고,L 3 is "C6 to C20 arylene group containing a hydroxy group or a carboxyl group at the terminal" or "C1 to C10 alkylene group containing a hydroxyl group or a carboxyl group at the terminal",

L5는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고,L 5 is a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group,

n1은 0 또는 1의 정수이다.n1 is an integer of 0 or 1.

종래 감광성 수지 조성물 내 사용되는 바인더 수지는 상기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함하지 않는 바, 노광 후 수계 현상액으로 현상하여 패턴 형성 시 명암비가 떨어지는 문제점이 있었다. 따라서, 광경화 비율을 높이기 위해 광중합성 단량체의 비율을 높이려는 시도가 있었는데, 이 경우 명암비는 향상되나 오히려 내열성이 떨어지는 새로운 문제점이 발생하였다. Since the binder resin used in the conventional photosensitive resin composition does not include the repeating unit represented by Chemical Formula 1, there is a problem that the contrast ratio is lowered when the pattern is formed by developing with an aqueous developer after exposure. Therefore, there has been an attempt to increase the ratio of the photopolymerizable monomer in order to increase the photocuring ratio. In this case, the contrast ratio is improved, but rather, a new problem of inferior heat resistance occurs.

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 상기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함하는 바인더 수지를 사용하기 때문에, 내열성 및 명암비가 우수하고, 안정적인 순테이퍼 패턴(25° 내지 40°의 낮은 테이퍼 각도를 가짐)을 가지면서 동시에 감도 또한 향상시킬 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 화학식 1로 표시되는 반복단위는 말단에 카르복시기 (및/또는 히드록시기)를 포함하는 연결기를 가짐으로써, 수계 현상액을 사용하여 형성된 패턴의 테이퍼 각도를 낮추고 감도를 향상시킬 수 있다. Since the photosensitive resin composition uses a binder resin including a repeating unit represented by Chemical Formula 1, it has excellent heat resistance and contrast ratio, and has a stable forward taper pattern (low taper angle of 25 ° to 40 °). At the same time, sensitivity can be improved. More specifically, the repeating unit represented by Chemical Formula 1 may have a linking group including a carboxyl group (and / or a hydroxyl group) at its terminal, thereby lowering the taper angle of the pattern formed using the aqueous developer and improving sensitivity.

이하에서 각 성분에 대하여 구체적으로 설명한다.Each component is demonstrated concretely below.

(A) 바인더 수지(A) binder resin

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물 내 바인더 수지는 상기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함한다. 상기 바인더 수지는 상기 화학식 1로 표시되는 반복단위 내에 카르복시기 (및/또는 히드록시기)를 포함하는 연결기를 가지는 바, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물을 현상 시 수계 현상액을 사용해야 한다. 유기계 현상액을 사용할 경우, 현상성이 매우 떨어지게 되어 바람직하지 않을 수 있다.The binder resin in the photosensitive resin composition according to one embodiment includes a repeating unit represented by Chemical Formula 1. The binder resin has a linking group including a carboxyl group (and / or hydroxy group) in the repeating unit represented by Chemical Formula 1, and an aqueous developing solution should be used when developing the photosensitive resin composition including the same. When an organic developer is used, developability may be very low and may not be desirable.

예컨대, 상기 L3은 하기 화학식 2-1 또는 화학식 2-2로 표시될 수 있다.For example, L 3 may be represented by the following Chemical Formula 2-1 or Chemical Formula 2-2.

[화학식 2-1][Formula 2-1]

Figure 112016118114917-pat00011
Figure 112016118114917-pat00011

[화학식 2-2][Formula 2-2]

Figure 112016118114917-pat00012
Figure 112016118114917-pat00012

상기 화학식 2-1 및 화학식 2-2에서,In Chemical Formulas 2-1 and 2-2,

R3 및 R4는 각각 독립적으로 히드록시기 또는 카르복시기이고,R 3 and R 4 are each independently a hydroxyl group or a carboxy group,

L6는 산소 원자 또는 *-OC(=O)-* 이다.L 6 is an oxygen atom or * -OC (= O)-*.

예컨대, 상기 R3 및 R4는 각각 독립적으로 카르복시기이고, 상기 L6는 *-OC(=O)-* 일 수 있다.For example, R 3 and R 4 may be each independently a carboxy group, and L 6 may be * -OC (= 0)-*.

예컨대, 상기 n1은 1의 정수이고, 상기 L3은 상기 화학식 2-1로 표시될 수 있다.For example, n1 is an integer of 1, and L 3 may be represented by Chemical Formula 2-1.

예컨대, 상기 n1은 0의 정수이고, 상기 L3은 상기 화학식 2-2로 표시될 수 있다.For example, n1 is an integer of 0, and L 3 may be represented by Chemical Formula 2-2.

상기 X1은 "산소 원자" 또는 "할로겐 원소로 치환된 C1 내지 C5 알킬기로 치환된 C1 내지 C10 알킬렌기"일 수 있다. 예컨대, 상기 X1은 "산소 원자" 또는 "트리플루오로알킬기로 치환된 C1 내지 C5 알킬기로 치환된 C1 내지 C10 알킬렌기"일 수 있다. 예컨대, 상기 X1은 산소 원자 또는 *-C(CF3)2-* 일 수 있다.X 1 may be an “oxygen atom” or a “C 1 to C 10 alkylene group substituted with a C 1 to C 5 alkyl group substituted with a halogen element”. For example, X 1 may be an “oxygen atom” or a “C 1 to C 10 alkylene group substituted with a C 1 to C 5 alkyl group substituted with a trifluoroalkyl group”. For example, X 1 may be an oxygen atom or * —C (CF 3 ) 2 — *.

상기 L1은 "단일결합" 또는 "할로겐 원소로 치환된 C1 내지 C5 알킬기로 치환된 C1 내지 C10 알킬렌기"일 수 있다. 예컨대, 상기 L1은 "단일결합 또는 트리플루오로알킬기로 치환된 C1 내지 C5 알킬기로 치환된 C1 내지 C10 알킬렌기"일 수 있다. 예컨대, 상기 L1은 단일결합 또는 *-C(CF3)2-* 일 수 있다.L 1 may be a “single bond” or “C1 to C10 alkylene group substituted with C1 to C5 alkyl group substituted with halogen element”. For example, L 1 may be a “C 1 to C 10 alkylene group substituted with a C 1 to C 5 alkyl group substituted with a single bond or a trifluoroalkyl group”. For example, L 1 may be a single bond or * -C (CF 3 ) 2- *.

상기 바인더 수지는 말단에 하기 화학식 3으로 표시되는 관능기를 포함할 수 있다.The binder resin may include a functional group represented by the following Formula 3 at the terminal.

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112016118114917-pat00013
Figure 112016118114917-pat00013

상기 화학식 3에서,In Chemical Formula 3,

L7은 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고,L 7 is a single bond or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group,

R5는 상기 화학식 2로 표시된다.R 5 is represented by the formula (2).

상기 R5에 대한 정의는 전술한 상기 화학식 2에 대한 것과 같을 수 있다.The definition for R 5 may be the same as for Formula 2 above.

상기 바인더 수지가 말단에 상기 화학식 3으로 표시되는 관능기를 포함하는 경우, 상기 바인더 수지는 말단에도 카르복시기 (및/또는 히드록시기)를 포함하는 연결기를 가짐으로써, 수계 현상액을 사용하여 형성된 패턴의 테이퍼 각도를 낮추고 감도를 더욱 향상시킬 수 있다.When the binder resin includes a functional group represented by the formula (3) at the terminal, the binder resin has a linking group including a carboxyl group (and / or hydroxy group) at the terminal, thereby the taper angle of the pattern formed using the aqueous developer Lower the sensitivity and further improve the sensitivity.

상기 바인더 수지는 3,000 g/mol 내지 20,000 g/mol의 중량평균 분자량을 가질 수 있다. 상기 바인더 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위인 경우, 우수한 패턴 형성성을 가지며, 제조된 박막은 우수한 기계적 열적 특성을 가질 수 있다.The binder resin may have a weight average molecular weight of 3,000 g / mol to 20,000 g / mol. When the weight average molecular weight of the binder resin is in the above range, it has excellent pattern formability, and the manufactured thin film may have excellent mechanical and thermal properties.

상기 바인더 수지는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 15 중량%로 포함될 수 있다. 상기 바인더 수지가 상기 범위 내로 포함될 경우, 우수한 감도, 현상성, 해상도 및 패턴의 직진성을 얻을 수 있다.The binder resin may be included in an amount of 1 wt% to 20 wt%, such as 1 wt% to 15 wt%, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the binder resin is included in the above range, excellent sensitivity, developability, resolution and linearity of the pattern can be obtained.

(B) 흑색 착색제(B) black colorant

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물 내 흑색 착색제는 차광성을 높여 흑색을 용이하게 구현하기 위해 유기 흑색 안료를 포함할 수 있다.The black colorant in the photosensitive resin composition according to one embodiment may include an organic black pigment to increase the light blocking property and to easily implement black.

일반적으로 차광성을 향상시키기 위해 카본블랙을 단독으로 흑색 착색제로 사용하는데, 카본블랙만을 단독으로 사용할 경우 광학밀도는 우수하나, 전기적 특성 등 광학밀도 외의 다른 특성이 저하되는 바, 바람직하지 않다.In general, carbon black is used alone as a black colorant to improve light shielding properties. However, when carbon alone is used alone, optical density is excellent, but other properties other than optical density such as electrical properties are deteriorated.

일 구현예에 따르면, 흑색 착색제로 유기 흑색 안료를 사용하므로, 카본블랙을 단독으로 사용하는 경우보다 상대적으로 차광성은 약간 떨어질 수 있으나, 충분한 차광 성능을 가짐과 동시에 전기적 특성 등 다른 특성을 더 향상시킬 수 있다. According to one embodiment, since the organic black pigment is used as the black colorant, the light shielding property may be slightly lower than that of carbon black alone, but it has sufficient light shielding performance and further improves other characteristics such as electrical characteristics. You can.

예컨대, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물 내 흑색 착색제는 유기 흑색 안료와 함께 카본블랙을 더 포함하여, 차광성을 더욱 향상시킬 수 있다. 유기 흑색 안료 외에 RGB 블랙 등의 칼라혼색을 통한 흑색 안료도 사용 가능하며, 각각 단독으로 사용 가능하다.For example, the black colorant in the photosensitive resin composition according to one embodiment may further include carbon black together with the organic black pigment, thereby further improving light blocking property. In addition to the organic black pigments, black pigments through color mixing such as RGB black may be used, and each may be used alone.

상기 흑색 착색제로 상기 유기 흑색 안료 또는 상기 유기 흑색 안료와 무기 흑색 안료인 카본블랙의 혼합물을 사용할 경우, 안료를 분산시키기 위해 분산제를 함께 사용할 수 있다. 구체적으로는, 상기 안료를 분산제로 미리 표면처리하여 사용하거나, 조성물 제조 시 안료와 함께 분산제를 첨가하여 사용할 수 있다. When using the organic black pigment or a mixture of the organic black pigment and carbon black which is an inorganic black pigment as the black colorant, a dispersant may be used together to disperse the pigment. Specifically, the pigment may be used by surface treatment with a dispersant in advance, or may be used by adding a dispersant together with the pigment when preparing the composition.

상기 분산제로는 비이온성 분산제, 음이온성 분산제, 양이온성 분산제 등을 사용할 수 있다.  상기 분산제의 구체적인 예로는, 폴리 알킬렌 글리콜 및 이의 에스테르, 폴리 옥시 알킬렌, 다가 알코올 에스테르 알킬렌 옥사이드 부가물, 알코올 알킬렌 옥사이드 부가물, 술폰산에스테르, 술폰산염, 카르복실산 에스테르, 카르복실산염, 알킬 아미드 알킬렌 옥사이드 부가물, 알킬 아민 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.As the dispersant, a nonionic dispersant, an anionic dispersant, a cationic dispersant, or the like may be used. Specific examples of the dispersant include polyalkylene glycols and esters thereof, polyoxyalkylenes, polyhydric alcohol ester alkylene oxide adducts, alcohol alkylene oxide adducts, sulfonic acid esters, sulfonates, carboxylic acid esters, and carboxylates. , Alkyl amide alkylene oxide adducts, alkyl amines, and the like, and these may be used alone or in combination of two or more thereof.

상기 분산제의 시판되는 제품을 예로 들면, BYK社의 DISPERBYK-101, DISPERBYK-130, DISPERBYK-140, DISPERBYK-160, DISPERBYK-161, DISPERBYK-162, DISPERBYK-163, DISPERBYK-164, DISPERBYK-165, DISPERBYK-166, DISPERBYK-170, DISPERBYK-171, DISPERBYK-182, DISPERBYK-2000, DISPERBYK-2001 등; EFKA 케미칼社의 EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA-48, EFKA-49, EFKA-100, EFKA-400, EFKA-450 등; Zeneka社의 Solsperse 5000, Solsperse 12000, Solsperse 13240, Solsperse 13940, Solsperse 17000, Solsperse 20000, Solsperse 24000GR, Solsperse 27000, Solsperse 28000 등; 또는 Ajinomoto社의 PB711, PB821 등이 있다.Examples of commercially available products of the above dispersants include BYPER's DISPERBYK-101, DISPERBYK-130, DISPERBYK-140, DISPERBYK-160, DISPERBYK-161, DISPERBYK-162, DISPERBYK-163, DISPERBYK-164, DISPERBYK-165, DISPERBYK -166, DISPERBYK-170, DISPERBYK-171, DISPERBYK-182, DISPERBYK-2000, DISPERBYK-2001, and the like; EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA-48, EFKA-49, EFKA-100, EFKA-400, EFKA-450, etc. of EFKA Chemical Co., Ltd .; Zenspera Solsperse 5000, Solsperse 12000, Solsperse 13240, Solsperse 13940, Solsperse 17000, Solsperse 20000, Solsperse 24000GR, Solsperse 27000, Solsperse 28000, and the like; Or PB711, PB821 from Ajinomoto.

상기 분산제는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.1 중량% 내지 15 중량%로 포함될 수 있다.  분산제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 조성물의 분산성이 우수함에 따라 블랙 격벽재료 제조 시 안정성, 현상성 및 패턴성이 우수하다. The dispersant may be included in an amount of 0.1 wt% to 15 wt% based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the dispersant is included in the above range, according to the dispersibility of the composition is excellent in stability, developability and patternability in the production of black bulkhead material.

상기 안료는 수용성 무기염 및 습윤제를 이용하여 전처리하여 사용할 수도 있다. 안료를 상기 전처리하여 사용할 경우 안료의 평균입경을 미세화할 수 있다.The pigment may be used after pretreatment using a water-soluble inorganic salt and a humectant. When the pigment is used after the pretreatment, the average particle diameter of the pigment can be refined.

상기 전처리는 상기 안료를 수용성 무기염 및 습윤제와 함께 니딩(kneading)하는 단계, 그리고 상기 니딩단계에서 얻어진 안료를 여과 및 수세하는 단계를 거쳐 수행될 수 있다.The pretreatment may be performed by kneading the pigment with a water-soluble inorganic salt and a wetting agent, and filtering and washing the pigment obtained in the kneading step.

상기 니딩은 40℃ 내지 100℃의 온도에서 수행될 수 있고, 상기 여과 및 수세는 물 등을 사용하여 무기염을 수세한 후 여과하여 수행될 수 있다.The kneading may be carried out at a temperature of 40 ° C to 100 ° C, and the filtration and washing may be performed by washing the inorganic salt with water and the like followed by filtration.

상기 수용성 무기염의 예로는 염화나트륨, 염화칼륨 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.  상기 습윤제는 상기 안료 및 상기 수용성 무기염이 균일하게 섞여 안료가 용이하게 분쇄될 수 있는 매개체 역할을 하며, 그 예로는 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 등과 같은 알킬렌 글리콜 모노알킬에테르; 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 글리세린폴리에틸렌글리콜 등과 같은 알코올 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.Examples of the water-soluble inorganic salts include sodium chloride and potassium chloride, but are not limited thereto. The wetting agent serves as a medium through which the pigment and the water-soluble inorganic salt are uniformly mixed so that the pigment can be easily pulverized. Examples thereof include ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, and the like. Alkylene glycol monoalkyl ethers; Alcohols such as ethanol, isopropanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, diethylene glycol, polyethylene glycol, glycerin polyethylene glycol, and the like, and the like, and these may be used alone or in combination of two or more thereof.

상기 니딩 단계를 거친 안료는 5 nm 내지 200 nm, 예컨대 5 nm 내지 150 nm의 평균 입경을 가질 수 있다.  안료의 평균 입경이 상기 범위 내인 경우, 안료 분산액에서의 안정성이 우수하고, 픽셀의 해상성 저하의 우려가 없다. The pigment passed through the kneading step may have an average particle diameter of 5 nm to 200 nm, such as 5 nm to 150 nm. When the average particle diameter of a pigment is in the said range, stability in a pigment dispersion liquid is excellent and there is no fear of the resolution fall of a pixel.

구체적으로, 상기 안료는 상기 분산제 및 후술하는 용매를 포함하는 안료분산액의 형태로 사용될 수 있고, 상기 안료분산액은 고형분의 안료, 분산제 및 용매를 포함할 수 있다. 상기 고형분의 안료는 상기 안료분산액 총량에 대해 5 중량% 내지 40 중량%, 예컨대 8 중량% 내지 30 중량%로 포함될 수 있다.Specifically, the pigment may be used in the form of a pigment dispersion containing the dispersant and the solvent described later, the pigment dispersion may include a solid pigment, a dispersant and a solvent. The solid pigment may be included in an amount of 5 wt% to 40 wt%, such as 8 wt% to 30 wt%, based on the total amount of the pigment dispersion.

상기 흑색 착색제는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 고형분 기준으로 1 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 2 중량% 내지 15 중량%로 포함될 수 있다. 예컨대, 상기 흑색 착색제는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 안료분산액 기준으로 15 중량% 내지 50 중량%, 예컨대 20 중량% 내지 40 중량%로 포함될 수 있다. 상기 상기 흑색 착색제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 착색 효과 및 현상 성능이 우수하다.The black colorant may be included in an amount of 1 wt% to 20 wt%, such as 2 wt% to 15 wt%, based on solids, based on the total amount of the photosensitive resin composition. For example, the black colorant may be included in an amount of 15 wt% to 50 wt%, such as 20 wt% to 40 wt%, based on the pigment dispersion based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the black colorant is included in the above range, the coloring effect and development performance is excellent.

(C) (C) 광중합성Photopolymerizable 단량체 Monomer

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물 내 광중합성 단량체는 단일의 화합물일 수도 있고, 서로 다른 2종의 화합물의 혼합물일 수 있다. The photopolymerizable monomer in the photosensitive resin composition according to one embodiment may be a single compound or a mixture of two different compounds.

상기 광중합성 단량체가 서로 다른 2종의 화합물의 혼합물일 경우, 상기 2종의 화합물 중 어느 하나는 하기 화학식 4로 표시되는 관능기를 적어도 2개 이상 포함하는 화합물일 수 있다.When the photopolymerizable monomer is a mixture of two different compounds, any one of the two compounds may be a compound including at least two or more functional groups represented by the following general formula (4).

[화학식 4] [Formula 4]

Figure 112016118114917-pat00014
Figure 112016118114917-pat00014

상기 화학식 4에서,In Chemical Formula 4,

R6은 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,R 6 is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,

L8은 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다.L 8 is a single bond or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group.

예컨대 상기 화학식 4로 표시되는 관능기를 적어도 2개 이상 포함하는 화합물은, 상기 화학식 4로 표시되는 관능기를 2개 내지 6개 포함할 수 있다. 이 경우, 패턴 형성 공정에서 노광 시 충분한 중합을 일으켜 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수한 패턴을 형성할 수 있다.For example, the compound including at least two or more functional groups represented by Formula 4 may include 2 to 6 functional groups represented by Formula 4. In this case, a sufficient polymerization can be caused during exposure in the pattern forming step to form a pattern excellent in heat resistance, light resistance and chemical resistance.

예컨대, 상기 화학식 4로 표시되는 관능기를 적어도 2개 이상 포함하는 화합물은 하기 화학식 5 또는 하기 화학식 6으로 표시되는 화합물일 수 있다.For example, the compound including at least two or more functional groups represented by Formula 4 may be a compound represented by Formula 5 or Formula 6.

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112016118114917-pat00015
Figure 112016118114917-pat00015

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112016118114917-pat00016
Figure 112016118114917-pat00016

상기 화학식 5 및 화학식 6에서,In Chemical Formulas 5 and 6,

p, q, r 및 s는 각각 독립적으로 1 내지 10의 정수이다.p, q, r and s are each independently an integer of 1 to 10.

상기 광중합성 단량체가 서로 다른 2종의 화합물의 혼합물일 경우, 상기 2종의 화합물 중 다른 어느 하나는 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 (메타)아크릴산의 일관능 또는 다관능 에스테르 화합물일 수 있다.When the photopolymerizable monomer is a mixture of two different compounds, the other one of the two compounds may be a monofunctional or polyfunctional ester compound of (meth) acrylic acid having at least one ethylenically unsaturated double bond. have.

상기 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 (메타)아크릴산의 일관능 또는 다관능 에스테르 화합물은 예컨대, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 에폭시(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜모노메틸에테르 (메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리스(메타)아크릴로일옥시에틸포스페이트, 노볼락에폭시 (메타)아크릴레이트 또는 이들의조합일 수 있다.The monofunctional or polyfunctional ester compound of (meth) acrylic acid having at least one ethylenically unsaturated double bond may be, for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di ( Meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, bisphenol A di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipenta Erythritol di (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylic Y, bisphenol A epoxy (meth) acrylate, ethylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (meth) acryloyloxyethyl phosphate, novolac epoxy (meth) acrylic Rate or a combination thereof.

상기 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 (메타)아크릴산의 일관능 또는 다관능 에스테르 화합물의 시판되는 제품을 예로 들면 다음과 같다.  상기 (메타)아크릴산의 일관능 에스테르의 예로는, 도아고세이가가꾸고교(주)社 아로닉스 M-101®, 동 M-111®, 동 M-114®등; 니혼가야꾸(주)社의 KAYARAD TC-110S®, 동 TC-120S®등; 오사카유끼가가꾸고교(주)社의 V-158®, V-2311®등을 들 수 있다.  상기 (메타)아크릴산의 이관능 에스테르의 예로는, 도아고세이가가꾸고교(주)社의 아로닉스 M-210®, 동 M-240®, 동 M-6200®등; 니혼가야꾸(주)社의 KAYARAD HDDA®, 동 HX-220®, 동 R-604®등; 오사카유끼가가꾸고교(주)社의 V-260®, V-312®, V-335 HP® 등을 들 수 있다.  상기 (메타)아크릴산의 삼관능 에스테르의 예로는, 도아고세이가가꾸고교(주)社의 아로닉스 M-309®, 동 M-400®, 동 M-405®, 동 M-450®, 동 M-7100®, 동 M-8030®, 동 M-8060®등; 니혼가야꾸(주)社의 KAYARAD TMPTA®, 동 DPCA-20®, 동-30®, 동-60®, 동-120®등; 오사카유끼가야꾸고교(주)社의 V-295®, 동-300®, 동-360®, 동-GPT®, 동-3PA®, 동-400® 등을 들 수 있다. 상기 제품을 단독 사용 또는 2종 이상 함께 사용할 수 있다.A commercially available product of the monofunctional or polyfunctional ester compound of (meth) acrylic acid having at least one ethylenically unsaturated double bond is as follows. The (meth) acrylic acid is one example of a polyfunctional ester, doah Gosei cultivating the T (weeks)社Aronix M-101 ®, the same M-111 ®, the same M-114 ®, and the like; Nihon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD TC-110S ® , TC-120S ®, etc .; The V-158 ® and V-2311 ® of Osaka Yuki Chemical Co., Ltd. are mentioned. The (meth) transfer function of an example esters of acrylic acid are, doah Gosei cultivating the T (weeks)社of Aronix M-210 ®, copper or the like M-240 ®, the same M-6200 ®; Nihon Kayaku Co., Ltd. KAYARAD HDDA ® , HX-220 ® , R-604 ®, etc .; The V-260 ® , V-312 ® and V-335 HP ® of Osaka Yuki Chemical Co., Ltd. are mentioned. Examples of the tri-functional ester of (meth) acrylic acid, doah Gosei the cultivating T (weeks)社of Aronix M-309 ®, the same M-400 ®, the same M-405 ®, the same M-450 ®, Dong M -7100 ® , M-8030 ® , M-8060 ®, etc .; Nippon Kayaku Co., Ltd. KAYARAD TMPTA ® , DPCA-20 ® , East-30 ® , East-60 ® , East-120 ®, etc .; Osaka yukki Kayaku high (primary)社of V-295 ®, copper ® -300, -360 ® copper, copper -GPT ®, copper -3PA ®, and the like copper -400 ®. The above products can be used alone or in combination of two or more.

상기 광중합성 단량체는 보다 우수한 현상성을 부여하기 위하여 산무수물로 처리하여 사용할 수도 있다. The photopolymerizable monomer may be used by treating with an acid anhydride in order to impart better developability.

상기 광중합성 단량체는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.5 중량% 내지 10 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 5 중량%로 포함될 수 있다.  상기 광중합성 단량체가 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광 시 경화가 충분히 일어나 신뢰성이 우수하며, 패턴의 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수하며, 해상도 및 밀착성 또한 우수하다.The photopolymerizable monomer may be included in an amount of 0.5 wt% to 10 wt%, such as 1 wt% to 5 wt%, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the photopolymerizable monomer is included in the above range, curing occurs sufficiently during exposure in the pattern forming process, thereby providing excellent reliability, excellent heat resistance, light resistance and chemical resistance of the pattern, and excellent resolution and adhesion.

(D) (D) 광중합Photopolymerization 개시제Initiator

일 구현예에 따르는 감광성 수지 조성물은 광중합 개시제를 포함한다. 상기 광중합 개시제는 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 벤조인계 화합물, 트리아진계 화합물, 옥심계 화합물 등을 사용할 수 있다.The photosensitive resin composition according to one embodiment includes a photopolymerization initiator. The photopolymerization initiator may be an acetophenone compound, a benzophenone compound, a thioxanthone compound, a benzoin compound, a triazine compound, an oxime compound, or the like.

상기 아세토페논계 화합물의 예로는, 2,2'-디에톡시 아세토페논, 2,2'-디부톡시 아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로피오페논, p-t-부틸트리클로로 아세토페논, p-t-부틸디클로로 아세토페논, 4-클로로 아세토페논, 2,2'-디클로로-4-페녹시 아세토페논, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-부탄-1-온 등을 들 수 있다.Examples of the acetophenone-based compound include 2,2'-diethoxy acetophenone, 2,2'-dibutoxy acetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, pt-butyltrichloro acetophenone, pt -Butyldichloro acetophenone, 4-chloro acetophenone, 2,2'-dichloro-4-phenoxy acetophenone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1 -One, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, etc. are mentioned.

상기 벤조페논계 화합물의 예로는, 벤조페논, 벤조일 안식향산, 벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 히드록시 벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸 아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-디메틸아미노벤조페논,4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디메틸-2-메톡시벤조페논 등을 들 수 있다.Examples of the benzophenone-based compound include benzophenone, benzoyl benzoic acid, methyl benzoyl benzoate, 4-phenyl benzophenone, hydroxy benzophenone, acrylated benzophenone, 4,4'-bis (dimethyl amino) benzophenone, 4,4 '-Bis (diethylamino) benzophenone, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3'-dimethyl-2-methoxybenzophenone and the like.

상기 티오크산톤계 화합물의 예로는, 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 이소프로필 티오크산톤, 2,4-디에틸 티오크산톤, 2,4-디이소프로필 티오크산톤 등을 들 수 있다.Examples of the thioxanthone-based compound include thioxanthone, 2-chloro thioxanthone, 2-methyl thioxanthone, isopropyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2,4-diiso Propyl thioxanthone, etc. are mentioned.

상기 벤조인계 화합물의 예로는, 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다.Examples of the benzoin compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyldimethyl ketal and the like.

상기 트리아진계 화합물의 예로는, 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐 4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(3',4'-디메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-톨릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-비페닐 4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 비스(트리클로로메틸)-6-스티릴-s-트리아진, 2-(나프토1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프토1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-s-트리아진등을 들 수 있다.Examples of the triazine-based compound include 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl 4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine and 2- (3 ', 4'- Dimethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4'-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-biphenyl 4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, bis (trichloromethyl) -6-styryl-s-triazine, 2- (naphtho1-yl) -4,6 -Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxynaphtho1-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-4-bis (trichloro Romethyl) -6-piperonyl-s-triazine, 2-4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -s-triazine, and the like.

상기 옥심계 화합물의 예로는 O-아실옥심계화합물, 2-(O-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온, 1-(O-아세틸옥심)-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄온, O-에톡시카르보닐-α-옥시아미노-1-페닐프로판-1-온 등을 사용할 수 있다. 상기 O-아실옥심계화합물의구체적인예로는, 1,2-옥탄디온, 2-디메틸아미노-2-(4-메틸벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온, 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1-온옥심-O-아세테이트 및 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1-온옥심-O-아세테이트 등을 사용할 수 있다. Examples of the oxime compounds include O-acyl oxime compounds, 2- (O-benzoyl oxime) -1- [4- (phenylthio) phenyl] -1,2-octanedione, 1- (O-acetyl oxime) -1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] ethanone, O-ethoxycarbonyl-α-oxyamino-1-phenylpropan-1-one and the like Can be used. Specific examples of the O-acyl oxime compound include 1,2-octanedione, 2-dimethylamino-2- (4-methylbenzyl) -1- (4-morpholin-4-yl-phenyl) -butane -1-one, 1- (4-phenylsulfanylphenyl) -butane-1,2-dione-2-oxime-O-benzoate, 1- (4-phenylsulfanylphenyl) -octane-1,2- Dione-2-oxime-O-benzoate, 1- (4-phenylsulfanylphenyl) -octane-1-one oxime-O-acetate and 1- (4-phenylsulfanylphenyl) -butan-1-one oxime -O-acetate can be used.

상기 광중합 개시제는 상기 화합물 이외에도 카바졸계 화합물, 디케톤류 화합물, 술포늄 보레이트계 화합물, 디아조계 화합물, 이미다졸계 화합물, 비이미다졸계 화합물 등을 사용할 수 있다.In addition to the compound, the photopolymerization initiator may be a carbazole compound, a diketone compound, a sulfonium borate compound, a diazo compound, an imidazole compound, a biimidazole compound, or the like.

상기 광중합 개시제는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.1 중량% 내지 5 중량%, 예컨대 0.1 중량% 내지 3 중량%로 포함될 수 있다. 광중합 개시제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 컬러필터 제조를 위한 패턴 형성 공정에서 노광 시 광중합이 충분히 일어나게 되어 감도가 우수하며, 투과율이 개선된다.The photopolymerization initiator may be included in an amount of 0.1 wt% to 5 wt%, such as 0.1 wt% to 3 wt%, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the photopolymerization initiator is included in the above range, the photopolymerization occurs sufficiently during exposure in the pattern forming process for manufacturing the color filter, so that the sensitivity is excellent and the transmittance is improved.

(E) 용매(E) solvent

상기 용매는 상기 흑색 착색제를 포함하는 안료분산액, 상기 바인더 수지, 상기 광중합성 단량체 및 상기 광중합 개시제와의 상용성을 가지되 반응하지 않는 물질들이 사용될 수 있다.The solvent may be a material having a compatibility with the pigment dispersion, including the black colorant, the binder resin, the photopolymerizable monomer and the photopolymerization initiator, but does not react.

상기 용매의 예로는, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 디클로로에틸에테르, n-부틸에테르, 디이소아밀에테르, 메틸페닐에테르, 테트라히드로퓨란 등의 에테르류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜디메틸에테르 등의 글리콜에테르류; 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 디에틸셀로솔브아세테이트 등의 셀로솔브아세테이트류; 메틸에틸카르비톨, 디에틸카르비톨, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜에틸메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트 등의 프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족탄화수소류; 메틸에틸케톤, 사이클로헥사논, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논, 메틸-n-프로필케톤, 메틸-n-부틸케톤, 메틸-n-아밀케톤, 2-헵타논 등의 케톤류; 초산에틸, 초산-n-부틸, 초산이소부틸 등의 포화 지방족 모노카르복실산알킬에스테르류; 젖산메틸, 젖산에틸 등의 젖산에스테르류; 옥시초산메틸, 옥시초산에틸, 옥시초산부틸 등의 옥시초산알킬에스테르류; 메톡시초산메틸, 메톡시초산에틸, 메톡시초산부틸, 에톡시초산메틸, 에톡시초산에틸 등의 알콕시초산알킬에스테르류; 3-옥시프로피온산메틸, 3-옥시프로피온산에틸 등의 3-옥시프로피온산알킬에스테르류; 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸 등의 3-알콕시프로피온산알킬에스테르류; 2-옥시프로피온산메틸, 2-옥시프로피온산에틸, 2-옥시프로피온산프로필 등의 2-옥시프로피온산알킬에스테르류; 2-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 2-에톡시프로피온산에틸, 2-에톡시프로피온산메틸 등의 2-알콕시프로피온산알킬에스테르류; 2-옥시-2-메틸프로피온산메틸, 2-옥시-2-메틸프로피온산에틸 등의2-옥시-2-메틸프로피온산에스테르류, 2-메톡시-2-메틸프로피온산메틸, 2-에톡시-2-메틸프로피온산에틸 등의 2-알콕시-2-메틸프로피온산알킬류의 모노옥시모노카르복실산알킬에스테르류; 2-히드록시프로피온산에틸, 2-히드록시-2-메틸프로피온산에틸, 히드록시초산에틸, 2-히드록시-3-메틸부탄산메틸 등의 에스테르류; 피루빈산에틸 등의 케톤산에스테르류 등이 있으며, 또한, N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸포름아닐라드, N-메틸아세트아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시드, 벤질에틸에테르, 디헥실에테르, 아세틸아세톤, 이소포론, 카프론산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 초산벤질, 안식향산에틸, 옥살산디에틸, 말레인산디에틸, γ-부티로락톤, 탄산에틸렌, 탄산프로필렌, 페닐셀로솔브아세테이트 등의 고비점 용매를 들 수 있다.Examples of the solvent include alcohols such as methanol and ethanol; Ethers such as dichloroethyl ether, n-butyl ether, diisoamyl ether, methylphenyl ether and tetrahydrofuran; Glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, and ethylene glycol dimethyl ether; Cellosolve acetates such as methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate and diethyl cellosolve acetate; Carbitols such as methyl ethyl carbitol, diethyl carbitol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether and diethylene glycol diethyl ether; Propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol methyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, methyl-n-propyl ketone, methyl-n-butyl ketone, methyl-n-amyl ketone and 2-heptanone ; Saturated aliphatic monocarboxylic acid alkyl esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate and isobutyl acetate; Lactic acid esters such as methyl lactate and ethyl lactate; Alkyl oxyacetates such as methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate and butyl oxyacetate; Alkoxy acetate alkyl esters, such as methoxy methyl acetate, methoxy ethyl acetate, methoxy butyl acetate, ethoxy methyl acetate, and ethoxy acetate; 3-oxypropionate alkyl esters, such as methyl 3-oxypropionate and ethyl 3-oxypropionate; 3-alkoxy propionic acid alkyl esters such as methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-ethoxypropionate; 2-oxypropionate alkyl esters such as methyl 2-oxypropionate, ethyl 2-oxypropionate and propyl 2-oxypropionate; Alkyl alkoxypropionates such as methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate and methyl 2-ethoxypropionate; 2-oxy-2-methylpropionate esters, such as 2-oxy-2-methyl propionate and 2-oxy-2-methylpropionate, methyl 2-methoxy-2-methylpropionate and 2-ethoxy-2- Monooxy monocarboxylic acid alkyl esters of alkyl alkoxy-2-methylpropionates such as methyl methyl propionate; Esters such as ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl hydroxyacetate and methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate; Ketone acid esters such as ethyl pyruvate and the like, and N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, N-methylformanilade, N-methylacetamide, and N, N-dimethylacetamide , N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, benzyl ethyl ether, dihexyl ether, acetylacetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, benzoic acid High boiling point solvents, such as ethyl, diethyl oxalate, diethyl maleate, (gamma) -butyrolactone, ethylene carbonate, a propylene carbonate, and phenyl cellosolve acetate, are mentioned.

이들 중 좋게는 상용성 및 반응성을 고려하여, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜에틸메틸에테르 등의 글리콜에테르류; 에틸셀로솔브아세테이트 등의 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 2-히드록시프로피온산에틸 등의 에스테르류; 디에틸렌글리콜모노메틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트 등의 프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트류가 사용될 수 있다.Among them, glycol ethers such as ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, etc. in consideration of compatibility and reactivity; Ethylene glycol alkyl ether acetates such as ethyl cellosolve acetate; Esters such as 2-hydroxyethyl propionate; Carbitols such as diethylene glycol monomethyl ether; Propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate can be used.

상기 용매는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 잔부량, 예컨대 30 중량% 내지 70 중량%로 포함될 수 있다. 상기 용매가 상기 범위 내로 포함될 경우 감광성 수지 조성물이 적절한 점도를 가짐에 따라 블랙 화소 격벽층 제조 시 공정성이 우수하다.The solvent may be included in a balance, such as 30 wt% to 70 wt%, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the solvent is included in the above range, as the photosensitive resin composition has an appropriate viscosity, processability in manufacturing the black pixel partition layer is excellent.

(F) 기타 첨가제(F) other additives

한편, 상기 감광성 수지 조성물은 말론산, 3-아미노-1,2-프로판디올, 실란계 커플링제, 레벨링제, 계면활성제, 라디칼 중합개시제 또는 이들의 조합의 첨가제를 더 포함할 수 있다.Meanwhile, the photosensitive resin composition may further include additives of malonic acid, 3-amino-1,2-propanediol, a silane coupling agent, a leveling agent, a surfactant, a radical polymerization initiator, or a combination thereof.

상기 실란계 커플링제는 기판과의 밀착성 등을 개선하기 위해 비닐기, 카르복실기, 메타크릴옥시기, 이소시아네이트기, 에폭시기 등의 반응성 치환기를 가질 수 있다. The silane coupling agent may have a reactive substituent such as a vinyl group, a carboxyl group, a methacryloxy group, an isocyanate group, an epoxy group, or the like to improve adhesion to a substrate.

상기 실란계 커플링제의 예로는, 트리메톡시실릴벤조산, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, 비닐트리메톡시실란, γ-이소시아네이트프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. Examples of the silane coupling agent include trimethoxysilylbenzoic acid, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxysilane, γ-isocyanatepropyltriethoxysilane, and γ-glycol. Cidoxypropyl trimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, etc. are mentioned, These can be used individually or in mixture of 2 or more types.

상기 실란계 커플링제는 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 상기 실란계 커플링제가 상기 범위 내로 포함될 경우 밀착성, 저장성 등이 우수하다. The silane coupling agent may be included in an amount of 0.01 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition. When the silane coupling agent is included in the above range, it is excellent in adhesion, storage property and the like.

또한 상기 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 코팅성 향상 및 결점생성 방지효과를 위해 계면활성제, 계면활성제, 예컨대 불소계 계면활성제 및/또는 실리콘계 계면활성제를 더 포함할 수 있다. In addition, the photosensitive resin composition may further include a surfactant, a surfactant, for example, a fluorine-based surfactant and / or a silicone-based surfactant, in order to improve coating properties and prevent defects.

상기 불소계 계면활성제로는, BM Chemie社의 BM-1000®, BM-1100®등; 다이닛폰잉키가가꾸고교(주)社의 메카팩 F 142D®, 동 F 172®, 동 F 173®, 동 F 183®, 동 F 554® 등; 스미토모스리엠(주)社의 프로라드 FC-135®, 동 FC-170C®, 동 FC-430®, 동 FC-431®등; 아사히그라스(주)社의 사프론 S-112®, 동 S-113®, 동 S-131®, 동 S-141®, 동 S-145®등; 도레이실리콘(주)社의 SH-28PA®, 동-190®, 동-193®, SZ-6032®, SF-8428® 등의 명칭으로 시판되고 있는 것을 사용할 수 있다.Examples of the fluorine-based surfactants include BM-1000 ® , BM-1100 ® , and the like from BM Chemie Co .; Mechapack F 142D ® , F 172 ® , F 173 ® , F 183 ® , F 554 ®, etc. from Dai Nippon Inki Chemical Co., Ltd .; Prorad FC-135 ® , FC-170C ® , FC-430 ® , FC-431 ®, etc. of Sumitomo 3M Co., Ltd .; Saffron S-112 ® , S-113 ® , S-131 ® , S-141 ® , S-145 ® from Asahi Glass Co., Ltd .; May be selected from commercially available under the name, such as Toray Silicone ® (Note)社SH-28PA, the copper ® -190, copper -193 ®, SZ-6032 ®, SF-8428 ®.

상기 실리콘계 계면활성제로는 BYK Chem社의 BYK-307, BYK-333, BYK-361N, BYK-051, BYK-052, BYK-053, BYK-067A, BYK-077, BYK-301, BYK-322, BYK-325등의 명칭으로 시판되고 있는 것을 사용할 수 있다.As the silicone surfactant, BYK-307, BYK-333, BYK-361N, BYK-051, BYK-052, BYK-053, BYK-067A, BYK-077, BYK-301, BYK-322, Commercially available products such as BYK-325 can be used.

상기 계면활성제는 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.001 중량부 내지 5 중량부로 사용될 수 있다. 상기 계면활성제가 상기 범위 내로 포함될 경우 코팅 균일성이 확보되고, 얼룩이 발생하지 않으며, IZO 기판 또는 유리기판에 대한 습윤성(wetting)이 우수하다.The surfactant may be used in an amount of 0.001 part by weight to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition. When the surfactant is included in the above range, coating uniformity is secured, staining does not occur, and wetting of the IZO substrate or the glass substrate is excellent.

또한 상기 감광성 수지 조성물은 물성을 저해하지 않는 범위 내에서 산화방지제, 안정제 등의 기타 첨가제가 일정량 첨가될 수도 있다. In addition, the photosensitive resin composition may be added a certain amount of other additives such as antioxidants, stabilizers, etc. within a range that does not impair the physical properties.

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 포지티브형일 수도 있고, 네가티브형일 수도 있으나, 차광성을 가지는 조성물의 노광 및 현상 후 패턴이 노풀되는 영역의 잔기(residue)를 보다 완벽하게 제거하기 위해서는 네가티브형인 것이 보다 바람직하다.The photosensitive resin composition according to the exemplary embodiment may be positive or negative, but in order to more completely remove residues in the region where the pattern is exposed after exposure and development of the light-shielding composition, it is more negative. desirable.

다른 일 구현예는 전술한 감광성 수지 조성물을 노광, 현상 및 경화하여 제조된 블랙 화소 격벽층을 제공한다. Another embodiment provides a black pixel partition layer manufactured by exposing, developing, and curing the photosensitive resin composition described above.

상기 블랙 화소 격벽층 제조방법은 다음과 같다.The method of manufacturing the black pixel partition layer is as follows.

(1) 도포 및 도막 형성 단계(1) application and coating film forming step

상기 감광성 수지 조성물을 소정의 전처리를 한 유리 기판 또는 ITO 기판 등의 기판상에 스핀 또는 슬릿 코트법, 롤 코트법, 스크린 인쇄법, 어플리케이터법 등의 방법을 사용하여 원하는 두께로 도포한 후, 70℃ 내지 110℃에서 1분 내지 10분 동안 가열하여 용제를 제거함으로써 감광성 수지막을 형성한다.After apply | coating the said photosensitive resin composition to a desired thickness on the board | substrate, such as a glass substrate or an ITO board | substrate which gave predetermined | prescribed pretreatment, using a method, such as a spin or a slit coat method, a roll coat method, the screen printing method, an applicator method, 70 The photosensitive resin film is formed by heating at 1 to 10 minutes for 1 to 10 minutes to remove the solvent.

(2) 노광 단계(2) exposure step

상기 얻어진 감광성 수지막에 필요한 패턴 형성을 위해 마스크를 개재한 뒤, 200 nm 내지 500 nm의 활성선을 조사한다. 조사에 사용되는 광원으로는 저압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 금속 할로겐화물 램프, 아르곤 가스 레이저 등을 사용할 수 있으며, 경우에 따라 X선, 전자선 등도 이용할 수 있다.After the mask is formed to form a pattern necessary for the obtained photosensitive resin film, active rays of 200 nm to 500 nm are irradiated. As a light source used for irradiation, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, an argon gas laser, etc. can be used, and X-rays, an electron beam, etc. can also be used in some cases.

노광량은 조성물 각 성분의 종류, 배합량 및 건조 막 두께에 따라 다르지만, 고압 수은등을 사용하는 경우에는 500 mJ/cm2(365 nm 센서에 의함) 이하이다.The exposure amount varies depending on the kind of each component of the composition, the compounding amount and the dry film thickness, but when using a high pressure mercury lamp, the exposure amount is 500 mJ / cm 2 or less (by a 365 nm sensor).

(3) 현상 단계(3) developing stage

현상 방법으로는 상기 노광 단계에 이어 알칼리성 수용액을 현상액으로 이용하여 불필요한 부분을 용해, 제거함으로써 노광 부분만을 잔존시켜 패턴을 형성시킨다. In the developing method, following the exposure step, an alkaline aqueous solution is used as a developing solution to dissolve and remove unnecessary portions, thereby remaining only the exposed portions to form a pattern.

(4) 후처리 단계(4) post-processing steps

상기 공정에서 현상에 의해 수득된 화상 패턴을 내열성, 내광성, 밀착성, 내크랙성, 내화학성, 고강도 및 저장 안정성 등의 면에서 우수한 패턴을 얻기 위한 후가열 공정이 있다. 예컨대, 현상 후 250℃의 컨벡션 오븐에서 1시간 동안 가열할 수 있다.There is a post-heating step for obtaining an image pattern obtained by development in the above process in terms of heat resistance, light resistance, adhesion, crack resistance, chemical resistance, high strength and storage stability. For example, it may be heated for 1 hour in a convection oven at 250 ℃ after development.

또 다른 일 구현예는 상기 블랙 화소 격벽층을 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다. Another embodiment provides a display device including the black pixel partition layer.

상기 디스플레이 장치는 유기발광소자(OLED)일 수 있다.The display device may be an organic light emitting diode (OLED).

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 기재한다. 다만, 하기의 실시예는 본 발명의 바람직한 일실시예일 뿐, 본 발명이 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention are described. However, the following examples are only preferred embodiments of the present invention, and the present invention is not limited by the following examples.

(( 실시예Example ))

(바인더 수지 합성)(Binder resin synthesis)

합성예Synthesis Example 1 One

교반기, 온도조절 장치, 질소가스주입 장치 및 냉각기가 장착된 4구 플라스크에 질소를 통과시키면서 하기 화학식 A 0.04 mol에 고형분 20 중량%가 되도록 N-메틸-2-피롤리돈(NMP)을 넣어 35℃에서 용해시켰다. While passing nitrogen through a four-necked flask equipped with a stirrer, a thermostat, a nitrogen gas injection device, and a cooler, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) was added to 0.04 mol of the following Chemical Formula A so that the solid content was 20% by weight. It was dissolved at ℃.

고체가 완전 용해되면 5-노보렌-2,3-디카르복시언하이드라이드를 0.02 mol을 고형분 20 중량%가 되도록 N-메틸-2-피롤리돈(NMP)로 녹인 용액을 상온에는 30분 동안 적가하였다. 2시간 동안 반응시킨 후 피리딘(pyridine)을 0.02 mol 투입한 후, 80℃에서 4시간 동안 반응시키고, 상온으로 cooling하였다.When the solid is completely dissolved, a solution of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) dissolved in 0.02 mol of 20-% by weight of 5-noborene-2,3-dicarboxylhydride at 20% by weight for 30 minutes at room temperature Added dropwise. After reacting for 2 hours, pyridine (0.02 mol) was added, followed by reaction at 80 ° C. for 4 hours, and cooled to room temperature.

화학식 B 0.03 mol을 NMP에 20 중량%로 녹인 후 30분 동안 적가하였다. 4시간 동안 반응시킨 후 피리딘(pyridine) 0.04 mol과 acetic anhydride 0.1 mol을 투입하고 70℃에서 5시간 동안 반응시킨다. 상온으로 cooling 후 전체 반응 용액의 5배 DIW에 3시간 동안 적가하여 침전하였다. 슬러리를 필터하여 wet cake를 얻었다. 동량의 DIW에 상기 wet cake를 섞고 30분 동안 교반한 후, 5회 필터링을 진행하고, 80℃의 진공 오븐에서 48시간 동안 건조하였다.0.03 mol of Formula B was dissolved in NMP at 20 wt% and added dropwise for 30 minutes. After reacting for 4 hours, 0.04 mol of pyridine and 0.1 mol of acetic anhydride were added and reacted at 70 ° C. for 5 hours. After cooling to room temperature, precipitate was added dropwise to 5 times DIW of the total reaction solution for 3 hours. The slurry was filtered to obtain a wet cake. The wet cake was mixed with the same amount of DIW, stirred for 30 minutes, filtered five times, and dried in a vacuum oven at 80 ° C. for 48 hours.

플라스크에 trimellitic anhydride chloride 0.04 mol을 넣고 20 중량%가 되도록 디에틸렌글리콜 에틸 메틸 에테르(EDM)을 넣었다. 건조된 polymer를 EDM에 20 중량%가 되게 용해한 후 피리딘(pyridine) 0.06 mol을 투입하였다. 용액을 플라스크에 0℃에서 1시간 동안 적가하였다. 적가완료 후 서서히 40℃로 승온하여 페놀(phenol)기가 없어질 때까지 반응시켰다. 반응 완료 후 hydroxy ethyl acrylate를 0.04 mol 투입한 후 24시간 동안 반응시켜 hydroxyl ethyl acrylate를 모두 반응시키고, 전체 용액의 5배 DIW에 침전하였다. 슬러리를 EDM에 이론 고형분의 20 중량%가 될 수 있게 용해한 후 40℃에서 rotary evaporator를 이용하여 수분이 500 ppm이 될 때 까지 evaporation 하여, 하기 화학식 1-1로 표시되는 바인더 수지를 합성하였다. GPC(Gel Permeation Chromatography)법 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구한 하기 화학식 1-1로 표시되는 바인더 수지의 중량평균 분자량은 4,500 g/mol 이었다.To the flask was added 0.04 mol of trimellitic anhydride chloride and diethylene glycol ethyl methyl ether (EDM) was added to 20% by weight. The dried polymer was dissolved in EDM at 20% by weight, and then 0.06 mol of pyridine was added thereto. The solution was added dropwise to the flask at 0 ° C. for 1 hour. After completion of the dropwise addition, the temperature was gradually raised to 40 ° C. and reacted until the phenol group disappeared. After completion of the reaction, hydroxy ethyl acrylate was added 0.04 mol and reacted for 24 hours to react all of the hydroxyl ethyl acrylate and precipitated in 5-fold DIW of the total solution. The slurry was dissolved in EDM so as to be 20% by weight of theoretical solids, and then evaporated at 40 ° C. using a rotary evaporator until 500 ppm water was used to synthesize a binder resin represented by the following Chemical Formula 1-1. The weight average molecular weight of the binder resin represented by the following Chemical Formula 1-1 determined by GPC (Gel Permeation Chromatography) standard polystyrene conversion was 4,500 g / mol.

[화학식 A][Formula A]

Figure 112016118114917-pat00017
Figure 112016118114917-pat00017

[화학식 B][Formula B]

Figure 112016118114917-pat00018
Figure 112016118114917-pat00018

[화학식 1-1][Formula 1-1]

Figure 112016118114917-pat00019
Figure 112016118114917-pat00019

합성예Synthesis Example 2 2

화학식 B 대신 하기 화학식 C를 사용한 것을 제외하고는, 합성예 1과 동일하게 하여, 하기 화학식 1-2로 표시되는 바인더 수지를 합성하였다. GPC(Gel Permeation Chromatography)법 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구한 하기 화학식 1-2로 표시되는 바인더 수지의 중량평균 분자량은 5,200 g/mol 이었다.A binder resin represented by the following Chemical Formula 1-2 was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1, except that Chemical Formula C was used instead of Chemical Formula B. The weight average molecular weight of the binder resin represented by the following Chemical Formula 1-2 obtained in terms of Gel Permeation Chromatography (GPC) standard polystyrene was 5,200 g / mol.

[화학식 C][Formula C]

Figure 112016118114917-pat00020
Figure 112016118114917-pat00020

[화학식 1-2][Formula 1-2]

Figure 112016118114917-pat00021
Figure 112016118114917-pat00021

합성예Synthesis Example 3 3

화학식 A 대신 하기 화학식 D를 사용한 것을 제외하고는, 합성예 1과 동일하게 하여, 하기 화학식 1-3으로 표시되는 바인더 수지를 합성하였다. GPC(Gel Permeation Chromatography)법 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구한 하기 화학식 1-3으로 표시되는 바인더 수지의 중량평균 분자량은 4,800 g/mol 이었다.A binder resin represented by the following Chemical Formula 1-3 was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1, except that the following Chemical Formula D was used instead of Chemical Formula A. The weight average molecular weight of the binder resin represented by the following general formula (1) calculated by GPC (Gel Permeation Chromatography) standard polystyrene was 4,800 g / mol.

[화학식 D][Formula D]

Figure 112016118114917-pat00022
Figure 112016118114917-pat00022

[화학식 1-3][Formula 1-3]

Figure 112016118114917-pat00023
Figure 112016118114917-pat00023

합성예Synthesis Example 4 4

화학식 A 대신 화학식 D를 사용하고, 화학식 B 대신 화학식 C를 사용한 것을 제외하고는, 합성예 1과 동일하게 하여, 하기 화학식 1-4로 표시되는 바인더 수지를 합성하였다. GPC(Gel Permeation Chromatography)법 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구한 하기 화학식 1-4로 표시되는 바인더 수지의 중량평균 분자량은 4,300 g/mol 이었다.A binder resin represented by the following Chemical Formula 1-4 was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1, except that Chemical Formula D was used instead of Chemical Formula A, and Chemical Formula C was used instead of Chemical Formula B. The weight average molecular weight of the binder resin represented by the following Chemical Formula 1-4, which was determined by GPC (Gel Permeation Chromatography) standard polystyrene conversion, was 4,300 g / mol.

[화학식 1-4][Formula 1-4]

Figure 112016118114917-pat00024
Figure 112016118114917-pat00024

합성예Synthesis Example 5 5

교반기, 온도조절 장치, 질소가스주입 장치 및 냉각기가 장착된 4구 플라스크에 질소를 통과시키면서 하기 화학식 A 0.04 mol에 고형분 20 중량%가 되도록 N-메틸-2-피롤리돈(NMP)을 넣어 35℃에서 용해시켰다. While passing nitrogen through a four-necked flask equipped with a stirrer, a thermostat, a nitrogen gas injection device, and a cooler, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) was added to 0.04 mol of the following Chemical Formula A so that the solid content was 20% by weight. It was dissolved at ℃.

고체가 완전 용해되면 5-노보렌-2,3-디카르복시언하이드라이드를 0.02 mol을 고형분 20 중량%가 되도록 N-메틸-2-피롤리돈(NMP)로 녹인 용액을 상온에는 30분 동안 적가하였다. 2시간 동안 반응시킨 후 피리딘(pyridine)을 0.02 mol 투입한 후, 80℃에서 4시간 동안 반응시키고, 상온으로 cooling하였다.When the solid is completely dissolved, a solution of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) dissolved in 0.02 mol of 20-% by weight of 5-noborene-2,3-dicarboxylhydride at 20% by weight for 30 minutes at room temperature Added dropwise. After reacting for 2 hours, pyridine (0.02 mol) was added, followed by reaction at 80 ° C. for 4 hours, and cooled to room temperature.

화학식 B 0.03 mol을 NMP에 20 중량%로 녹인 후 30분 동안 적가하였다. 4시간 동안 반응시킨 후 피리딘(pyridine) 0.04 mol과 acetic anhydride 0.1 mol을 투입하고 70℃에서 5시간 동안 반응시킨다. 상온으로 cooling 후 전체 반응 용액의 5배 DIW에 3시간 동안 적가하여 침전하였다. 슬러리를 필터하여 wet cake를 얻었다. 동량의 DIW에 상기 wet cake를 섞고 30분 동안 교반한 후, 5회 필터링을 진행하고, 80℃의 진공 오븐에서 48시간 동안 건조하였다.0.03 mol of formula B was dissolved in NMP at 20 wt% and added dropwise for 30 minutes. After reacting for 4 hours, 0.04 mol of pyridine and 0.1 mol of acetic anhydride were added and reacted at 70 ° C. for 5 hours. After cooling to room temperature, precipitate was added dropwise to 5 times DIW of the total reaction solution for 3 hours. The slurry was filtered to obtain a wet cake. The wet cake was mixed with the same amount of DIW, stirred for 30 minutes, filtered five times, and dried in a vacuum oven at 80 ° C. for 48 hours.

플라스크에 건조된 레진이 20 중량%가 되도록 에틸렌글리콜 디메틸 에테르(EDM)/메탄올(methanol) 3/7 비율로 용해하였다. 플라스크에 0.08 mol의 KOH를 첨가한다. 그 다음 용해된 용액을 evaporation하여 용매를 완전히 제거시켜 건조된 칼륨염을 얻었다. 이 후 플라스크에 EDM을 20 중량%가 되도록 넣고 epichlorohydrin을 0.09 mol 투입하였다. 그리고 90℃로 24시간 동안 반응시켰다. 반응이 완료된 용액을 5배의 DIW로 침전시킨 후 40℃의 vacuum oven에서 24시간 동안 건조한 후, toluene에 20 중량%가 되게 용해하고, acrylic acid를 0.08 mol 투입 후, 100℃에서 24시간 동안 반응시켜, 상온으로 cooling 하였다. 이 후, phthalic anhydride를 0.08 mol 투입 후 추가로 24시간 동안 반응시켰다. 용액의 5배 DIW에 침전한 후 5번 슬러리를 씻어주었다. 슬러리를 EDM에 이론 고형분의 20 중량%가 될 수 있게 용해한 후 40℃에서 rotary evaporator을 이용하여 수분이 500 ppm이 될 때까지 evaporation 하여, 하기 화학식 1-5로 표시되는 바인더 수지를 합성하였다. GPC(Gel Permeation Chromatography)법 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구한 하기 화학식 1-5로 표시되는 바인더 수지의 중량평균 분자량은 5,500 g/mol 이었다.Ethylene glycol dimethyl ether (EDM) / methanol 3/7 ratio was dissolved so that 20% by weight of the dried resin in the flask. Add 0.08 mol of KOH to the flask. The dissolved solution was then evaporated to remove the solvent completely to obtain dried potassium salt. Thereafter, EDM was added to 20 wt% of the flask and 0.09 mol of epichlorohydrin was added thereto. And it reacted at 90 degreeC for 24 hours. The reaction solution was precipitated with 5 times DIW, dried in a vacuum oven at 40 ° C. for 24 hours, dissolved in 20% by weight in toluene, 0.08 mol of acrylic acid, and reacted at 100 ° C. for 24 hours. After cooling to room temperature. Thereafter, 0.08 mol of phthalic anhydride was added and reacted for an additional 24 hours. The slurry was washed 5 times after precipitated in 5 times DIW of the solution. The slurry was dissolved in EDM so that it could be 20% by weight of theoretical solids, and then evaporated at 40 ° C. using a rotary evaporator until 500 ppm water was used to synthesize a binder resin represented by Chemical Formula 1-5. The weight average molecular weight of the binder resin represented by the following Chemical Formula 1-5, which was determined by GPC (Gel Permeation Chromatography) standard polystyrene conversion, was 5,500 g / mol.

[화학식 1-5][Formula 1-5]

Figure 112016118114917-pat00025
Figure 112016118114917-pat00025

합성예Synthesis Example 6 6

화학식 B 대신 화학식 C를 사용한 것을 제외하고는, 합성예 5와 동일하게 하여, 하기 화학식 1-6으로 표시되는 바인더 수지를 합성하였다. GPC(Gel Permeation Chromatography)법 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구한 하기 화학식 1-6으로 표시되는 바인더 수지의 중량평균 분자량은 5,300 g/mol 이었다.A binder resin represented by the following Chemical Formula 1-6 was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 5, except that Chemical Formula C was used instead of Chemical Formula B. The weight average molecular weight of the binder resin represented by the following Chemical Formula 1-6, which was determined by GPC (Gel Permeation Chromatography) standard polystyrene conversion, was 5,300 g / mol.

[화학식 1-6][Formula 1-6]

Figure 112016118114917-pat00026
Figure 112016118114917-pat00026

합성예Synthesis Example 7 7

화학식 A 대신 화학식 D를 사용한 것을 제외하고는, 합성예 5와 동일하게 하여, 하기 화학식 1-7로 표시되는 바인더 수지를 합성하였다. GPC(Gel Permeation Chromatography)법 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구한 하기 화학식 1-7로 표시되는 바인더 수지의 중량평균 분자량은 4,000 g/mol 이었다.Except for using the formula (D) instead of the formula (A), in the same manner as in Synthesis example 5, a binder resin represented by the formula (1-7) was synthesized. The weight average molecular weight of the binder resin represented by the following general formula (1-7) calculated by GPC (Gel Permeation Chromatography) standard polystyrene was 4,000 g / mol.

[화학식 1-7][Formula 1-7]

Figure 112016118114917-pat00027
Figure 112016118114917-pat00027

합성예Synthesis Example 8 8

화학식 A 대신 화학식 D를 사용하고, 화학식 B 대신 화학식 C를 사용한 것을 제외하고는, 합성예 5와 동일하게 하여, 하기 화학식 1-8로 표시되는 바인더 수지를 합성하였다. GPC(Gel Permeation Chromatography)법 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구한 하기 화학식 1-8로 표시되는 바인더 수지의 중량평균 분자량은 4,800 g/mol 이었다.A binder resin represented by the following Chemical Formula 1-8 was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 5, except that Chemical Formula D was used instead of Chemical Formula A, and Chemical Formula C was used instead of Chemical Formula B. The weight average molecular weight of the binder resin represented by the following Chemical Formula 1-8, which was determined by GPC (Gel Permeation Chromatography) standard polystyrene conversion, was 4,800 g / mol.

[화학식 1-8][Formula 1-8]

Figure 112016118114917-pat00028
Figure 112016118114917-pat00028

비교합성예Comparative Synthesis Example 1 One

교반기, 온도 조절장치, 질소가스 주입 장치 및 냉각기가 장착된 4구 플라스크에 질소를 통과시키면서, N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 86.6 g을 넣고, 4,4'(헥사플오로아이소프로필리덴)다이프탈릭언하이드라이드(6-FDA) 12.3g을 넣어 용해시켰다. 고체가 완전히 용해되면 3-아미노페닐 설폰(3-DAS) 6.5g 투입하여 상온에서 2시간 교반시켰다. 이 후 피리딘 5.6g을 투입하여 70℃에서 3시간 동안 교반시켰다. 반응기 내 온도를 상온으로 냉각한 후, 2-하이드로에틸메타크릴레이트(HEMA) 1.6g을 투입하고 6시간 교반하였다. 반응 혼합물을 5배의 DIW에 투입하여 침전물을 생성하고, 침전물을 여과하여 물로 충분히 세정한 후, 30℃의 진공 하에서 24시간 동안 건조하였다. 건조된 바인더를 EDM에 20 중량%가 되도록 용해 후, 수분이 500 ppm 이하가 되도록 evaporation을 하여, 하기 화학식 X-1로 표시되는 바인더 수지를 합성하였다. GPC(Gel Permeation Chromatography)법 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구한 하기 화학식 X-1로 표시되는 바인더 수지의 중량평균 분자량은 5,200 g/mol 이었다.While passing nitrogen through a four-necked flask equipped with a stirrer, a thermostat, a nitrogen gas injector, and a cooler, 86.6 g of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) was added thereto and 4,4 '(hexafluoroiso) 12.3 g of propylidene) diphthalic hydride (6-FDA) was added to dissolve it. When the solid was completely dissolved, 6.5g of 3-aminophenyl sulfone (3-DAS) was added thereto, followed by stirring at room temperature for 2 hours. Thereafter, 5.6 g of pyridine was added thereto, followed by stirring at 70 ° C. for 3 hours. After cooling the temperature in the reactor to room temperature, 1.6 g of 2-hydroethyl methacrylate (HEMA) was added and stirred for 6 hours. The reaction mixture was poured into 5 times DIW to form a precipitate, which was filtered, washed sufficiently with water and dried under vacuum at 30 ° C. for 24 hours. After dissolving the dried binder to 20% by weight in EDM, the evaporation was performed so that the moisture is 500 ppm or less, to synthesize a binder resin represented by the following formula (X-1). The weight average molecular weight of the binder resin represented by the following general formula (X-1) calculated by GPC (Gel Permeation Chromatography) standard polystyrene conversion was 5,200 g / mol.

[화학식 X-1][Formula X-1]

Figure 112016118114917-pat00029
Figure 112016118114917-pat00029

(감광성 수지 조성물 제조)(Photosensitive resin composition production)

실시예Example 1 내지  1 to 실시예Example 8 및  8 and 비교예Comparative example 1 One

하기 표 1에 기재된 조성으로, 용매에 광중합 개시제를 용해시킨 후 2시간 동안 상온에서 교반하였다. 여기에, 바인더 수지, 광중합성 단량체를 첨가하고, 1시간 동안 상온에서 교반하였다. 여기에, 계면활성제(기타 첨가제) 및 흑색 착색제를 첨가한 후, 1시간 동안 상온에서 교반한 후, 용액 전체를 2시간 동안 교반하였다. 상기 용액에 대하여 3회에 걸친 여과를 행하여 불순물을 제거하여 감광성 수지 조성물을 제조하였다. To the composition shown in Table 1, after dissolving the photopolymerization initiator in a solvent, it was stirred at room temperature for 2 hours. Binder resin and a photopolymerizable monomer were added here, and it stirred at room temperature for 1 hour. After adding a surfactant (other additive) and a black colorant thereto, the mixture was stirred at room temperature for 1 hour, and then the whole solution was stirred for 2 hours. The solution was filtered three times to remove impurities to prepare a photosensitive resin composition.

(단위: g)(Unit: g) 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 실시예 4Example 4 실시예 5Example 5 실시예 6Example 6 실시예 7Example 7 실시예 8Example 8 비교예 1Comparative Example 1 (A) 바인더 수지(A) binder resin (A-1)(A-1) 4.54.5 -- -- -- -- -- -- -- -- (A-2)(A-2) -- 4.54.5 -- -- -- -- -- -- -- (A-3)(A-3) -- -- 4.54.5 -- -- -- -- -- -- (A-4)(A-4) -- -- -- 4.54.5 -- -- -- -- -- (A-5)(A-5) -- -- -- -- 4.54.5 -- -- -- -- (A-6)(A-6) -- -- -- -- -- 4.54.5 -- -- -- (A-7)(A-7) -- -- -- -- -- -- 4.54.5 -- -- (A-8)(A-8) -- -- -- -- -- -- -- 4.54.5 -- (A-9)(A-9) -- -- -- -- -- -- -- -- 4.54.5 (B) 흑색 착색제(B) black colorant 3030 3030 3030 3030 3030 3030 3030 3030 3030 (C) 광중합성 단량체(C) photopolymerizable monomer (C-1)(C-1) 0.80.8 0.80.8 0.80.8 0.80.8 0.80.8 0.80.8 0.80.8 0.80.8 0.80.8 (C-2)(C-2) 0.80.8 0.80.8 0.80.8 0.80.8 0.80.8 0.80.8 0.80.8 0.80.8 0.80.8 (D) 광중합 개시제(D) photoinitiator 1.21.2 1.21.2 1.21.2 1.21.2 1.21.2 1.21.2 1.21.2 1.21.2 1.21.2 (E) 용매(E) solvent (E-1)(E-1) 45.1545.15 45.1545.15 45.1545.15 45.1545.15 45.1545.15 45.1545.15 45.1545.15 45.1545.15 45.1545.15 (E-2)(E-2) 17.517.5 17.517.5 17.517.5 17.517.5 17.517.5 17.517.5 17.517.5 17.517.5 17.517.5 (F) 기타 첨가제(F) other additives 0.050.05 0.050.05 0.050.05 0.050.05 0.050.05 0.050.05 0.050.05 0.050.05 0.050.05

(A) 바인더 수지(A) binder resin

(A-1) 합성예 1의 바인더 수지(A-1) Binder Resin of Synthesis Example 1

(A-2) 합성예 2의 바인더 수지(A-2) Binder Resin of Synthesis Example 2

(A-3) 합성예 3의 바인더 수지(A-3) Binder Resin of Synthesis Example 3

(A-4) 합성예 4의 바인더 수지(A-4) Binder Resin of Synthesis Example 4

(A-5) 합성예 5의 바인더 수지(A-5) Binder Resin of Synthesis Example 5

(A-6) 합성예 6의 바인더 수지(A-6) Binder Resin of Synthesis Example 6

(A-7) 합성예 7의 바인더 수지(A-7) Binder Resin of Synthesis Example 7

(A-8) 합성예 8의 바인더 수지(A-8) Binder Resin of Synthesis Example 8

(A-9) 비교합성예 1의 바인더 수지(A-9) Binder Resin of Comparative Synthesis Example 1

(B) 흑색 착색제(B) black colorant

락탐계 유기흑색안료 분산액(CI-IM-126, SAKATA社; 유기흑색안료 고형분 15 중량%)Lactam organic black pigment dispersion (CI-IM-126, SAKATA; 15% by weight of organic black pigment solids)

(C) (C) 광중합성Photopolymerizable 단량체 Monomer

(C-1) 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 (DPHA, 일본화약社)(C-1) dipentaerythritol hexa (meth) acrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.)

(C-2) 하기 화학식 A로 표시되는 화합물 (LTM II, BASF社)(C-2) A compound represented by the following formula (A) (LTM II, BASF Corporation)

[화학식 A][Formula A]

Figure 112016118114917-pat00030
Figure 112016118114917-pat00030

(상기 화학식 A에서, r 및 s는 각각 독립적으로 2의 정수임)(In Formula A, r and s are each independently an integer of 2)

(D) (D) 광중합Photopolymerization 개시제Initiator

옥심계 개시제 (NCI-831, ADEKA社)Oxime initiator (NCI-831, ADEKA Corporation)

(E) 용매(E) solvent

(E-1) 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세테이트(PGMEA, Sigma-Aldrich社)(E-1) Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate (PGMEA, Sigma-Aldrich)

(E-2) 에틸렌글리콜 디메틸 에테르 (EDM, Sigma-Aldrich社)(E-2) Ethylene Glycol Dimethyl Ether (EDM, Sigma-Aldrich)

(F) 기타 첨가제(F) other additives

계면활성제 (BYK-307, BYK Chem社)Surfactant (BYK-307, BYK Chem)

평가evaluation

실시예 1 내지 실시예 8 및 비교예 1에 따른 감광성 수지 조성물을 10cm*10cm ITO 글래스(저항 30Ω)에 도포하여, 100℃의 핫플레이트에서, 1 분간 proxy type으로 가열하고, 다시 1분간 contact type으로 가열하여 1.2 ㎛ 두께의 감광성 수지막을 형성하였다. 상기 감광성 수지막이 코팅된 기판을 다양한 크기의 패턴이 새겨진 마스크를 사용하여 노광기(Ushio社의 UX-1200SM-AKS02)로 노광량의 변화를 주어가며 노광한 후, 상온에서 2.38%의 TMAH 용액(수계 현상액)으로 현상하여 노광부를 용해시켜 제거한 후, 순수로 50초간 세척하여 패턴을 형성하였다. The photosensitive resin compositions according to Examples 1 to 8 and Comparative Example 1 were applied to 10 cm * 10 cm ITO glass (resistance 30 Ω), heated to a proxy type for 1 minute on a hot plate at 100 ° C, and then contact type for 1 minute. Heated to form a photosensitive resin film having a thickness of 1.2 μm. The photosensitive resin film-coated substrate was exposed using a mask engraved with a pattern of various sizes with an exposure unit (Ushio's UX-1200SM-AKS02) with a change in exposure dose, followed by a 2.38% TMAH solution (aqueous developer solution) at room temperature. ), And the exposed part was dissolved and removed, followed by washing with pure water for 50 seconds to form a pattern.

감도는 Olympus社의 MX51T-N633MU을 사용하여 측정한 패턴 사이즈를 기준으로 20 ㎛ 패턴이 구현되는 energy를 확인하여 평가하여, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.Sensitivity was confirmed by evaluating the energy to implement a 20 ㎛ pattern based on the pattern size measured using the Olympus MX51T-N633MU, and the results are shown in Table 2 below.

감도 측정 시 제작된 기판을 250℃에서 1시간 동안 경화하였다. 이 후 주사전자현미경(Hitachi社의 S-4300 FE-SEM)으로 단면 분석을 진행하여, 테이퍼 각도를 측정하여, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.The substrate prepared during the sensitivity measurement was cured at 250 ° C. for 1 hour. After that, cross-sectional analysis was performed with a scanning electron microscope (S-4300 FE-SEM by Hitachi, Ltd.), and the taper angle was measured. The results are shown in Table 2 below.

감도 (mJ/cm2)Sensitivity (mJ / cm 2 ) 테이퍼 각도 (°)Taper Angle (°) 실시예 1Example 1 4040 3030 실시예 2Example 2 3535 2929 실시예 3Example 3 4545 3030 실시예 4Example 4 4040 3131 실시예 5Example 5 4040 3030 실시예 6Example 6 3535 2828 실시예 7Example 7 4040 2929 실시예 8Example 8 4040 2727 비교예 1Comparative Example 1 8080 4545

상기 표 2를 통하여, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 상기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함하는 바인더 수지를 포함함에 따라, 상기 바인더 수지를 포함하지 않은 감광성 수지 조성물보다 감도가 우수하고, 낮은 테이퍼 각도를 유지할 수 있음을 확인할 수 있다.Through the above Table 2, the photosensitive resin composition according to an embodiment includes a binder resin including a repeating unit represented by Formula 1, and has a higher sensitivity and lower sensitivity than the photosensitive resin composition containing no binder resin. It can be seen that the taper angle can be maintained.

본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.  그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.The present invention is not limited to the above embodiments, but may be manufactured in various forms, and a person skilled in the art to which the present invention pertains has another specific form without changing the technical spirit or essential features of the present invention. It will be appreciated that the present invention may be practiced as. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are exemplary in all respects and not restrictive.

Claims (14)

(A) 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함하는 바인더 수지;
(B) 흑색 착색제;
(C) 광중합성 단량체;
(D) 광중합 개시제; 및
(E) 용매
를 포함하는 감광성 수지 조성물:
[화학식 1]
Figure 112016118114917-pat00031

상기 화학식 1에서,
X1은 산소 원자, 황 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고,
L1은 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고,
R1 및 R2는 각각 독립적으로 하기 화학식 2로 표시되고,
[화학식 2]
Figure 112016118114917-pat00032

상기 화학식 2에서,
L2 및 L4는 각각 독립적으로 *-C(=O)-* 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고,
L3은 "말단에 히드록시기 또는 카르복시기를 포함하는 C6 내지 C20 아릴렌기" 또는 "말단에 히드록시기 또는 카르복시기를 포함하는 C1 내지 C10 알킬렌기"이고,
L5는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고,
n1은 0 또는 1의 정수이다.
(A) Binder resin containing a repeating unit represented by following formula (1);
(B) a black colorant;
(C) photopolymerizable monomer;
(D) photoinitiator; And
(E) solvent
Photosensitive resin composition comprising:
[Formula 1]
Figure 112016118114917-pat00031

In Chemical Formula 1,
X 1 is an oxygen atom, a sulfur atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group,
L 1 is a single bond or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group,
R 1 and R 2 are each independently represented by the following formula (2),
[Formula 2]
Figure 112016118114917-pat00032

In Chemical Formula 2,
L 2 and L 4 are each independently * -C (= 0)-* or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group,
L 3 is "C6 to C20 arylene group containing a hydroxy group or a carboxyl group at the terminal" or "C1 to C10 alkylene group containing a hydroxyl group or a carboxyl group at the terminal",
L 5 is a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group,
n1 is an integer of 0 or 1.
제1항에 있어서,
상기 L3은 하기 화학식 2-1 또는 화학식 2-2로 표시되는 감광성 수지 조성물:
[화학식 2-1]
Figure 112016118114917-pat00033

[화학식 2-2]
Figure 112016118114917-pat00034

상기 화학식 2-1 및 화학식 2-2에서,
R3 및 R4는 각각 독립적으로 히드록시기 또는 카르복시기이고,
L6는 산소 원자 또는 *-OC(=O)-* 이다.
The method of claim 1,
L 3 is a photosensitive resin composition represented by Formula 2-1 or Formula 2-2:
[Formula 2-1]
Figure 112016118114917-pat00033

[Formula 2-2]
Figure 112016118114917-pat00034

In Chemical Formulas 2-1 and 2-2,
R 3 and R 4 are each independently a hydroxyl group or a carboxy group,
L 6 is an oxygen atom or * -OC (= O)-*.
제1항에 있어서,
상기 X1은 "산소 원자" 또는 "할로겐 원소로 치환된 C1 내지 C5 알킬기로 치환된 C1 내지 C10 알킬렌기"인 감광성 수지 조성물.
The method of claim 1,
X 1 is a "oxygen atom" or a "C1 to C10 alkylene group substituted with a C1 to C5 alkyl group substituted with a halogen element".
제1항에 있어서,
상기 L1은 "단일결합" 또는 "할로겐 원소로 치환된 C1 내지 C5 알킬기로 치환된 C1 내지 C10 알킬렌기"인 감광성 수지 조성물.
The method of claim 1,
L 1 is a “single bond” or “C1 to C10 alkylene group substituted with C1 to C5 alkyl group substituted with halogen element”.
제1항에 있어서,
상기 바인더 수지는 말단에 하기 화학식 3으로 표시되는 관능기를 포함하는 감광성 수지 조성물:
[화학식 3]
Figure 112016118114917-pat00035

상기 화학식 3에서,
L7은 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이고,
R5는 상기 화학식 2로 표시된다.
The method of claim 1,
The binder resin is a photosensitive resin composition comprising a functional group represented by the following formula (3) at the terminal:
[Formula 3]
Figure 112016118114917-pat00035

In Chemical Formula 3,
L 7 is a single bond or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group,
R 5 is represented by the formula (2).
제1항에 있어서,
상기 바인더 수지는 3,000 g/mol 내지 20,000 g/mol의 중량평균 분자량을 가지는 감광성 수지 조성물.
The method of claim 1,
The binder resin is a photosensitive resin composition having a weight average molecular weight of 3,000 g / mol to 20,000 g / mol.
제1항에 있어서,
상기 흑색 착색제는 유기 흑색 안료를 포함하는 감광성 수지 조성물.
The method of claim 1,
The black colorant is a photosensitive resin composition comprising an organic black pigment.
제1항에 있어서,
상기 광중합성 단량체는 하기 화학식 4로 표시되는 관능기를 적어도 2개 이상 포함하는 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물:
[화학식 4]
Figure 112016118114917-pat00036

상기 화학식 4에서,
R6은 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,
L8은 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다.
The method of claim 1,
The photopolymerizable monomer is a photosensitive resin composition comprising a compound containing at least two or more functional groups represented by the formula (4):
[Formula 4]
Figure 112016118114917-pat00036

In Chemical Formula 4,
R 6 is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkyl group,
L 8 is a single bond or a substituted or unsubstituted C1 to C10 alkylene group.
제8항에 있어서,
상기 화학식 4로 표시되는 관능기를 적어도 2개 이상 포함하는 화합물은 하기 화학식 5 또는 하기 화학식 6으로 표시되는 화합물인 감광성 수지 조성물:
[화학식 5]
Figure 112016118114917-pat00037

[화학식 6]
Figure 112016118114917-pat00038

상기 화학식 5 및 화학식 6에서,
p, q, r 및 s는 각각 독립적으로 1 내지 10의 정수이다.
The method of claim 8,
A compound comprising at least two or more functional groups represented by Formula 4 is a compound represented by the following formula (5) or formula (6):
[Formula 5]
Figure 112016118114917-pat00037

[Formula 6]
Figure 112016118114917-pat00038

In Chemical Formulas 5 and 6,
p, q, r and s are each independently an integer of 1 to 10.
제1항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은, 감광성 수지 조성물 총량에 대해
상기 (A) 바인더 수지 1 중량% 내지 20 중량%;
상기 (B) 흑색 착색제 1 중량% 내지 20 중량%;
상기 (C) 광중합성 단량체 0.5 중량% 내지 10 중량%;
상기 (D) 광중합 개시제 0.1 중량% 내지 5 중량%; 및
상기 (E) 용매 45.15 중량% 내지 70 중량%
을 포함하는 감광성 수지 조성물.
The method of claim 1,
The said photosensitive resin composition is with respect to the photosensitive resin composition total amount.
1% to 20% by weight of the (A) binder resin;
1% to 20% by weight of the black colorant (B);
0.5 wt% to 10 wt% of the (C) photopolymerizable monomer;
0.1% to 5% by weight of the photopolymerization initiator (D); And
45.15% to 70% by weight of the solvent (E)
Photosensitive resin composition comprising a.
제1항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은 말론산, 3-아미노-1,2-프로판디올, 실란계 커플링제, 레벨링제, 계면활성제, 라디칼 중합개시제 또는 이들의 조합의 첨가제를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
The method of claim 1,
The photosensitive resin composition further comprises an additive of malonic acid, 3-amino-1,2-propanediol, a silane coupling agent, a leveling agent, a surfactant, a radical polymerization initiator, or a combination thereof.
제1항 내지 제11항 중 어느 한 항의 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 블랙 화소 격벽층(Black Pixel Defining Layer).
Black pixel defining layer manufactured using the photosensitive resin composition of any one of Claims 1-11.
제12항의 블랙 화소 격벽층을 포함하는 디스플레이 장치.
A display device comprising the black pixel partition layer of claim 12.
제13항에 있어서,
상기 디스플레이 장치는 유기발광소자(OLED)인 디스플레이 장치.
The method of claim 13,
The display device is an organic light emitting device (OLED).
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