KR102072212B1 - Novel compound,photosensitive resin composition comprising the same and color filter - Google Patents

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Abstract

하기 화학식 1로 표시되는 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조되는 컬러필터가 제공된다.
[화학식 1]

Figure 112017002648518-pat00064

(상기 화학식 1에서, 각 치환기는 명세서에 정의된 바와 같다.)Provided is a compound represented by Formula 1, a photosensitive resin composition comprising the same, and a color filter manufactured using the photosensitive resin composition.
[Formula 1]
Figure 112017002648518-pat00064

(In Formula 1, each substituent is as defined in the specification.)

Description

신규한 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터{NOVEL COMPOUND,PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION COMPRISING THE SAME AND COLOR FILTER}Novel compound, photosensitive resin composition and color filter comprising same {NOVEL COMPOUND, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION COMPRISING THE SAME AND COLOR FILTER}

본 기재는 신규한 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터에 관한 것이다.The present disclosure relates to a novel compound, a photosensitive resin composition and a color filter comprising the same.

안료형 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러필터에서는 안료 입자 크기에서 비롯되는 휘도와 명암비의 한계가 존재한다. 또한 이미지 센서용 컬러 촬상 소자의 경우에는 미세한 패턴 형성을 위해 더 작은 분산입도를 요구하게 된다. 이와 같은 요구에 부응하고자 안료 대신 입자를 이루지 않는 염료를 도입한 감광성 수지 조성물을 제조하여 휘도와 명암비 등의 색특성이 개선된 컬러필터를 구현하려는 시도가 계속되고 있다.In the color filter made of the pigment-type photosensitive resin composition, there are limitations of brightness and contrast ratio resulting from the pigment particle size. In addition, in the case of a color imaging device for an image sensor, a smaller dispersion particle size is required for forming a fine pattern. In order to meet such demands, attempts have been made to implement color filters having improved color characteristics such as brightness and contrast ratio by preparing a photosensitive resin composition incorporating a dye that does not form particles instead of pigments.

따라서, 감광성 수지 조성물의 제조에 사용되는 염료로 적합한 화합물에 대한 연구가 필요한 실정이다.Therefore, there is a need for research on a compound suitable as a dye used in the preparation of the photosensitive resin composition.

일 구현예는 신규한 화합물을 제공하기 위한 것이다.One embodiment is to provide novel compounds.

다른 일 구현예는 상기 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a photosensitive resin composition comprising the compound.

또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 컬러필터를 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a color filter manufactured using the photosensitive resin composition.

본 발명의 일 구현예는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제공한다.One embodiment of the present invention provides a compound represented by the following formula (1).

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112017002648518-pat00001
Figure 112017002648518-pat00001

상기 화학식 1에서,In Chemical Formula 1,

R1 내지 R16은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기이고,R 1 to R 16 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, or a substituted or unsubstituted group Ring C6 to C20 aryloxy group,

단, R1 내지 R16 중 적어도 하나는하기 화학식 2로 표시되고,However, at least one of R 1 to R 16 is represented by the following formula (2),

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112017002648518-pat00002
Figure 112017002648518-pat00002

상기 화학식 2에서,In Chemical Formula 2,

R17 및 R18은 각각 독립적으로 할로겐 원자이고,R 17 and R 18 are each independently a halogen atom,

n1 및 n2는 각각 독립적으로 0 내지 5의 정수이고, 단, 1 ≤ n1+n2 ≤ 5 이다.n1 and n2 are each independently an integer of 0 to 5, provided that 1 ≦ n1 + n2 ≦ 5.

상기 화학식 2는 하기 화학식 3-1 내지 화학식 3-4로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시될 수 있다.Formula 2 may be represented by any one selected from the group consisting of Formula 3-1 to Formula 3-4.

[화학식 3-1][Formula 3-1]

Figure 112017002648518-pat00003
Figure 112017002648518-pat00003

[화학식 3-2][Formula 3-2]

Figure 112017002648518-pat00004
Figure 112017002648518-pat00004

[화학식 3-3][Formula 3-3]

Figure 112017002648518-pat00005
Figure 112017002648518-pat00005

[화학식 3-4][Formula 3-4]

Figure 112017002648518-pat00006
Figure 112017002648518-pat00006

상기 화학식 3-1 내지 화학식 3-4에서,In Chemical Formulas 3-1 to 3-4,

R17 및 R18은 각각 독립적으로 할로겐 원자이다.R 17 and R 18 are each independently a halogen atom.

상기 R1 내지 R16 중 적어도 하나는상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R1 내지 R16 중 적어도 하나는 하기 화학식 4로 표시될 수 있다.At least one of R 1 to R 16 may be represented by Formula 2, and at least one of R 1 to R 16 may be represented by Formula 4.

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112017002648518-pat00007
Figure 112017002648518-pat00007

상기 R1 내지 R4 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 4로 표시되고, 상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 4로 표시되고, 상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 4로 표시될 수 있다.At least one of R 1 to R 4 is represented by Formula 2, at least one of R 5 to R 8 is represented by Formula 4, and at least one of R 9 to R 12 is represented by Formula 4 At least one of R 13 to R 16 may be represented by Formula 4.

상기 R1 내지 R4 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 4로 표시되고, 상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 4로 표시될 수 있다.At least one of R 1 to R 4 is represented by Formula 2, at least one of R 5 to R 8 is represented by Formula 2, and at least one of R 9 to R 12 is represented by Formula 4 At least one of R 13 to R 16 may be represented by Formula 4.

상기 R1 내지 R4 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 4로 표시되고, 상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 4로 표시될 수 있다.At least one of R 1 to R 4 is represented by Formula 2, at least one of R 5 to R 8 is represented by Formula 4, and at least one of R 9 to R 12 is represented by Formula 2 At least one of R 13 to R 16 may be represented by Formula 4.

상기 R1 내지 R4 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 4로 표시될 수 있다.At least one of R 1 to R 4 is represented by Formula 2, at least one of R 5 to R 8 is represented by Formula 2, and at least one of R 9 to R 12 is represented by Formula 2 At least one of R 13 to R 16 may be represented by Formula 4.

상기 R1 내지 R4 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시될 수 있다.At least one of R 1 to R 4 is represented by Formula 2, at least one of R 5 to R 8 is represented by Formula 2, and at least one of R 9 to R 12 is represented by Formula 2 At least one of R 13 to R 16 may be represented by Chemical Formula 2.

상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 5 내지 화학식 14 중 어느 하나로 표시될 수 있다.The compound represented by Chemical Formula 1 may be represented by any one of the following Chemical Formulas 5 to 14.

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112017002648518-pat00008
Figure 112017002648518-pat00008

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112017002648518-pat00009
Figure 112017002648518-pat00009

[화학식 7][Formula 7]

Figure 112017002648518-pat00010
Figure 112017002648518-pat00010

[화학식 8][Formula 8]

Figure 112017002648518-pat00011
Figure 112017002648518-pat00011

[화학식 9][Formula 9]

Figure 112017002648518-pat00012
Figure 112017002648518-pat00012

[화학식 10][Formula 10]

Figure 112017002648518-pat00013
Figure 112017002648518-pat00013

[화학식 11][Formula 11]

Figure 112017002648518-pat00014
Figure 112017002648518-pat00014

[화학식 12][Formula 12]

Figure 112017002648518-pat00015
Figure 112017002648518-pat00015

[화학식 13][Formula 13]

Figure 112017002648518-pat00016
Figure 112017002648518-pat00016

[화학식 14][Formula 14]

Figure 112017002648518-pat00017
Figure 112017002648518-pat00017

상기 화합물은 녹색 염료일 수 있다.The compound may be a green dye.

상기 녹색 염료는 445nm 내지 560nm의 파장범위에서 최대 투과도를 가질 수 있다.The green dye may have a maximum transmittance in the wavelength range of 445nm to 560nm.

다른 일 구현예는 상기 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.Another embodiment provides a photosensitive resin composition comprising the compound.

상기 화합물은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 1 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다.The compound may be included in an amount of 1 wt% to 10 wt% based on the total amount of the photosensitive resin composition.

상기 감광성 수지 조성물은 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition may further include an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent.

상기 감광성 수지 조성물은 안료를 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition may further include a pigment.

상기 안료는 황색 안료, 녹색 안료 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The pigment may comprise a yellow pigment, a green pigment or a combination thereof.

또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조되는 컬러필터를 제공한다.Yet another embodiment provides a color filter manufactured using the photosensitive resin composition.

기타 본 발명의 측면들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.Other details of aspects of the invention are included in the following detailed description.

일 구현예에 따른 화합물은 우수한 녹색 분광 특성과 높은 몰흡광계수를 가지고 유기 용매에 대한 용해도가 우수하여, 녹색 컬러필터용 감광성 수지 조성물 제조 시 염료로 사용될 수 있고, 상기 염료를 포함하는 컬러필터는 우수한 휘도 및 명암비를 가질 수 있다.Compound according to an embodiment has excellent green spectral properties and high molar absorption coefficient and excellent solubility in organic solvents, can be used as a dye when preparing a photosensitive resin composition for a green color filter, the color filter comprising the dye It can have excellent brightness and contrast ratio.

이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다.  다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, this is presented as an example, by which the present invention is not limited and the present invention is defined only by the scope of the claims to be described later.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "치환" 내지 "치환된"이란, 본 발명의 작용기 중의 하나 이상의 수소 원자가 할로겐 원자(F, Br, Cl 또는 I), 히드록시기, 니트로기, 시아노기, 아미노기(NH2, NH(R200) 또는 N(R201)(R202)이고, 여기서 R200, R201 및 R202는 동일하거나 서로 상이하며, 각각 독립적으로 C1 내지 C10 알킬기임), 아미디노기, 하이드라진기, 하이드라존기, 카르복실기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 알키닐기, 치환 또는 비치환된 지환족 유기기, 치환 또는 비치환된 아릴기 및 치환 또는 비치환된 헤테로고리기로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 치환기로 치환된 것을 의미한다.Unless stated otherwise in the specification, "substituted" to "substituted" means that at least one hydrogen atom of the functional group of the present invention is a halogen atom (F, Br, Cl or I), hydroxy group, nitro group, cyano group, amino group ( NH 2 , NH (R 200 ) or N (R 201 ) (R 202 ), where R 200 , R 201 and R 202 are the same or different from each other, and are each independently C 1 to C 10 alkyl groups, amidino groups, Hydrazine groups, hydrazone groups, carboxyl groups, substituted or unsubstituted alkyl groups, substituted or unsubstituted alkenyl groups, substituted or unsubstituted alkynyl groups, substituted or unsubstituted alicyclic organic groups, substituted or unsubstituted aryl groups, and Mean substituted by one or more substituents selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted heterocyclic group.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "알킬기"란 C1 내지 C20 알킬기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C15 알킬기를 의미하고, "사이클로알킬기"란 C3 내지 C20 사이클로알킬기를 의미하고, 구체적으로는 C3 내지 C18 사이클로알킬기를 의미하고, "알콕시기"란 C1 내지 C20 알콕시기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C18 알콕시기를 의미하고, "아릴기"란 C6 내지 C20 아릴기를 의미하고, 구체적으로는 C6 내지 C18 아릴기를 의미하고, "알케닐기"란 C2 내지 C20 알케닐기를 의미하고, 구체적으로는 C2 내지 C18 알케닐기를 의미하고, "알킬렌기"란 C1 내지 C20 알킬렌기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C18 알킬렌기를 의미하고, "아릴렌기"란 C6 내지 C20 아릴렌기를 의미하고, 구체적으로는 C6 내지 C16 아릴렌기를 의미한다.Unless stated otherwise in the specification, an "alkyl group" means a C1 to C20 alkyl group, specifically a C1 to C15 alkyl group, and a "cycloalkyl group" means a C3 to C20 cycloalkyl group, specifically C3 To C18 cycloalkyl group, "alkoxy group" means C1 to C20 alkoxy group, specifically C1 to C18 alkoxy group, "aryl group" means C6 to C20 aryl group, specifically C6 to Means an C18 aryl group, "alkenyl group" means a C2 to C20 alkenyl group, specifically means a C2 to C18 alkenyl group, "alkylene group" means a C1 to C20 alkylene group, specifically C1 To C18 alkylene group, an "arylene group" means a C6 to C20 arylene group, and specifically means a C6 to C16 arylene group.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "(메타)아크릴레이트"는 "아크릴레이트"와 "메타크릴레이트" 둘 다 가능함을 의미하며, "(메타)아크릴산"은 "아크릴산"과 "메타크릴산" 둘 다 가능함을 의미한다.Unless stated otherwise in the specification, "(meth) acrylate" means that both "acrylate" and "methacrylate" are possible, and "(meth) acrylic acid" means "acrylic acid" and "methacrylic acid". Both mean it's possible.

본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, "조합"이란 혼합 또는 공중합을 의미한다. 또한 "공중합"이란 블록 공중합 내지 랜덤 공중합을 의미하고, "공중합체"란 블록 공중합체 내지 랜덤 공중합체를 의미한다.Unless otherwise defined herein, “combination” means mixed or copolymerized. In addition, "copolymerization" means block copolymerization to random copolymerization, and "copolymer" means block copolymer to random copolymerization.

본 명세서 내 화학식에서 별도의 정의가 없는 한, 화학 결합이 그려져야 하는 위치에 화학결합이 그려져 있지 않은 경우는 상기 위치에 수소 원자가 결합되어 있음을 의미한다.Unless otherwise defined in the chemical formulas herein, when a chemical bond is not drawn at the position where the chemical bond is to be drawn, it means that a hydrogen atom is bonded at the position.

또한, 본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, "*"는 동일하거나 상이한 원자 또는 화학식과 연결되는 부분을 의미한다.In addition, unless otherwise defined in the present specification, "*" means the part connected with the same or different atoms or formulas.

일 구현예는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제공한다.One embodiment provides a compound represented by Formula 1 below.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112017002648518-pat00018
Figure 112017002648518-pat00018

상기 화학식 1에서,In Chemical Formula 1,

R1 내지 R16은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기이고,R 1 to R 16 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group or a substituted or unsubstituted Ring C6 to C20 aryloxy group,

단, R1 내지 R16 중 적어도 하나는하기 화학식 2로 표시되고,However, at least one of R 1 to R 16 is represented by the following formula (2),

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112017002648518-pat00019
Figure 112017002648518-pat00019

상기 화학식 2에서,In Chemical Formula 2,

R17 및 R18은 각각 독립적으로 할로겐 원자이고,R 17 and R 18 are each independently a halogen atom,

n1 및 n2는 각각 독립적으로 0 내지 5의 정수이고, 단, 1 ≤ n1+n2 ≤ 5 이다.n1 and n2 are each independently an integer of 0 to 5, provided that 1 ≦ n1 + n2 ≦ 5.

상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 우수한 녹색 분광 특성과 높은 몰흡광계수를 가진다. 나아가, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 상기 화학식 2로 표시되는 치환기를 반드시 포함함에 따라 유기용매에 대해 우수한 용해도 및 컬러필터에 적용 시 우수한 휘도 및 명암비를 나타낼 수 있다.The compound represented by Chemical Formula 1 has excellent green spectral properties and high molar extinction coefficient. Furthermore, the compound represented by Chemical Formula 1 may include a substituent represented by Chemical Formula 2, thereby exhibiting excellent solubility in organic solvents and excellent luminance and contrast ratio when applied to a color filter.

상기 화학식 2는 하기 화학식 3-1 내지 화학식 3-4로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시될 수 있다.Formula 2 may be represented by any one selected from the group consisting of Formula 3-1 to Formula 3-4.

[화학식 3-1][Formula 3-1]

Figure 112017002648518-pat00020
Figure 112017002648518-pat00020

[화학식 3-2][Formula 3-2]

Figure 112017002648518-pat00021
Figure 112017002648518-pat00021

[화학식 3-3][Formula 3-3]

Figure 112017002648518-pat00022
Figure 112017002648518-pat00022

[화학식 3-4][Formula 3-4]

Figure 112017002648518-pat00023
Figure 112017002648518-pat00023

상기 화학식 3-1 내지 화학식 3-4에서,In Chemical Formulas 3-1 to 3-4,

R17 및 R18은 각각 독립적으로 할로겐 원자이다.R 17 and R 18 are each independently a halogen atom.

상기 화학식 3-1 내지 화학식 3-4로 표시되는 치환기는 모두 할로겐 원자가 하나 이상 치환된 아릴옥시기인데, 특히 상기 할로겐 원자가 오르쏘(ortho) 및/또는 파라(para) 위치에 치환되어 있는 경우, 휘도 및 명암비를 더욱 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 할로겐 원자가 오르쏘(ortho) 및 파라(para) 위치에 모두 치환(2개의 할로겐 원자 치환)되어 있는 경우가, 상기 할로겐 원자가 오르쏘(ortho) 또는 파라(para) 위치에만 치환(1개의 할로겐 원자 치환)되어 있는 경우보다 휘도 및 명암비 향상 효과가 있다. 다만, 상기 할로겐 원자가 메타(meta) 위치에 치환되어 있는 경우 (비록 또다른 할로겐 원자가 오르쏘(ortho) 및/또는 파라(para) 위치에 같이 치환되어 있더라도) 휘도 및 명암비 향상 효과가 미미하다.The substituents represented by Formulas 3-1 to 3-4 are all aryloxy groups in which one or more halogen atoms are substituted, especially when the halogen atoms are substituted at ortho and / or para positions, The brightness and contrast ratio can be further improved. In addition, when the halogen atom is substituted at both the ortho and para positions (two halogen atom substitutions), the halogen atom is substituted only at the ortho or para position (one It is possible to improve the brightness and contrast ratio than in the case of halogen atom substitution). However, when the halogen atom is substituted at the meta position (even though another halogen atom is also substituted at the ortho and / or para position), the effect of improving the brightness and contrast ratio is insignificant.

즉, 상기 화학식 2로 표시되는 치환기, 예컨대 화학식 3-1 내지 화학식 3-4로 표시되는 치환기에서, i) 할로겐 원자가 하나라도 메타(meta) 위치에 치환되어 있는 경우, ii) 할로겐 원자가 오르쏘(ortho)와 파라(para) 위치 중 어느 하나의 위치에만 치환되어 있는 경우,iii) 할로겐 원자가 오르쏘(ortho) 및 파라(para) 위치에 모두 치환되어 있는 경우의 순서대로(i → ii → iii) 휘도 및 명암비를 더욱 향상시킬 수 있다.That is, in the substituent represented by Chemical Formula 2, for example, the substituents represented by Chemical Formulas 3-1 to 3-4, i) when at least one halogen atom is substituted at the meta position, ii) the halogen atom is ortho ( in case of substitution at only one of ortho and para position, iii) in the case of halogen atom being substituted at both ortho and para position (i → ii → iii) The brightness and contrast ratio can be further improved.

상기 R1 내지 R16 중 적어도 하나는상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R1 내지 R16 중 적어도 하나는 하기 화학식 4로 표시될 수 있다.At least one of R 1 to R 16 may be represented by Formula 2, and at least one of R 1 to R 16 may be represented by Formula 4.

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112017002648518-pat00024
Figure 112017002648518-pat00024

예컨대, 상기 화학식 4로 표시되는 치환기는 하기 화학식 4-1로 표시될 수 있다.For example, the substituent represented by Formula 4 may be represented by the following Formula 4-1.

[화학식 4-1][Formula 4-1]

Figure 112017002648518-pat00025
Figure 112017002648518-pat00025

상기 R1 내지 R4 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 4로 표시되고, 상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 4로 표시되고, 상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 4로 표시될 수 있다.At least one of R 1 to R 4 is represented by Formula 2, at least one of R 5 to R 8 is represented by Formula 4, and at least one of R 9 to R 12 is represented by Formula 4 At least one of R 13 to R 16 may be represented by Formula 4.

예컨대, 상기 R2 또는 R3은 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R6 또는 R7은 상기 화학식 4로 표시되고, 상기 R10 또는 R11은 상기 화학식 4로 표시되고, 상기 R14 또는 R15는 상기 화학식 4로 표시될 수 있다.For example, R 2 or R 3 is represented by Formula 2, R 6 or R 7 is represented by Formula 4, R 10 or R 11 is represented by Formula 4, and R 14 or R 15 May be represented by Formula 4.

예컨대, 상기 R2 또는 R3은 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R6 또는 R7은 상기 화학식 4로 표시되고, 상기 R10 또는 R11은 상기 화학식 4로 표시되고, 상기 R14 또는 R15는 상기 화학식 4로 표시되고, 상기 화학식 2 및 화학식 4로 표시되는 않는 나머지는 모두 할로겐 원자일 수 있다.For example, R 2 or R 3 is represented by Formula 2, R 6 or R 7 is represented by Formula 4, R 10 or R 11 is represented by Formula 4, and R 14 or R 15 Is represented by the formula (4), and the rest not represented by the formula (2) and formula (4) may all be a halogen atom.

상기 R1 내지 R4 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 4로 표시되고, 상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 4로 표시될 수 있다.At least one of R 1 to R 4 is represented by Formula 2, at least one of R 5 to R 8 is represented by Formula 2, and at least one of R 9 to R 12 is represented by Formula 4 At least one of R 13 to R 16 may be represented by Formula 4.

예컨대, 상기 R2 또는 R3은 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R6 또는 R7은 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R10 또는 R11은 상기 화학식 4로 표시되고, 상기 R14 또는 R15는 상기 화학식 4로 표시될 수 있다.For example, R 2 or R 3 is represented by Formula 2, R 6 or R 7 is represented by Formula 2, R 10 or R 11 is represented by Formula 4, and R 14 or R 15 May be represented by Formula 4.

예컨대, 상기 R2 또는 R3은 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R6 또는 R7은 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R10 또는 R11은 상기 화학식 4로 표시되고, 상기 R14 또는 R15는 상기 화학식 4로 표시되고, 상기 화학식 2 및 화학식 4로 표시되는 않는 나머지는 모두 할로겐 원자일 수 있다.For example, R 2 or R 3 is represented by Formula 2, R 6 or R 7 is represented by Formula 2, R 10 or R 11 is represented by Formula 4, and R 14 or R 15 Is represented by Formula 4, and the rest not represented by Formula 2 and Formula 4 may all be halogen atoms.

상기 R1 내지 R4 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 4로 표시되고, 상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 4로 표시될 수 있다.At least one of R 1 to R 4 is represented by Formula 2, at least one of R 5 to R 8 is represented by Formula 4, and at least one of R 9 to R 12 is represented by Formula 2 At least one of R 13 to R 16 may be represented by Formula 4.

예컨대, 상기 R2 또는 R3은 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R6 또는 R7은 상기 화학식 4로 표시되고, 상기 R10 또는 R11은 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R14 또는 R15는 상기 화학식 4로 표시될 수 있다.For example, R 2 or R 3 is represented by Formula 2, R 6 or R 7 is represented by Formula 4, R 10 or R 11 is represented by Formula 2, and R 14 or R 15 May be represented by Formula 4.

예컨대, 상기 R2 또는 R3은 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R6 또는 R7은 상기 화학식 4로 표시되고, 상기 R10 또는 R11은 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R14 또는 R15는 상기 화학식 4로 표시되고, 상기 화학식 2 및 화학식 4로 표시되는 않는 나머지는 모두 할로겐 원자일 수 있다.For example, R 2 or R 3 is represented by Formula 2, R 6 or R 7 is represented by Formula 4, R 10 or R 11 is represented by Formula 2, and R 14 or R 15 Is represented by Formula 4, and the rest not represented by Formula 2 and Formula 4 may all be halogen atoms.

상기 R1 내지 R4 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 4로 표시될 수 있다.At least one of R 1 to R 4 is represented by Formula 2, at least one of R 5 to R 8 is represented by Formula 2, and at least one of R 9 to R 12 is represented by Formula 2 At least one of R 13 to R 16 may be represented by Formula 4.

예컨대, 상기 R2 또는 R3은 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R6 또는 R7은 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R10 또는 R11은 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R14 또는 R15는 상기 화학식 4로 표시될 수 있다.For example, R 2 or R 3 is represented by Formula 2, R 6 or R 7 is represented by Formula 2, R 10 or R 11 is represented by Formula 2, and R 14 or R 15 May be represented by Formula 4.

예컨대, 상기 R2 또는 R3은 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R6 또는 R7은 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R10 또는 R11은 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R14 또는 R15는 상기 화학식 4로 표시되고, 상기 화학식 2 및 화학식 4로 표시되는 않는 나머지는 모두 할로겐 원자일 수 있다.For example, R 2 or R 3 is represented by Formula 2, R 6 or R 7 is represented by Formula 2, R 10 or R 11 is represented by Formula 2, and R 14 or R 15 Is represented by Formula 4, and the rest not represented by Formula 2 and Formula 4 may all be halogen atoms.

상기 R1 내지 R4 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 2로 표시될 수 있다.At least one of R 1 to R 4 is represented by Formula 2, at least one of R 5 to R 8 is represented by Formula 2, and at least one of R 9 to R 12 is represented by Formula 2 At least one of R 13 to R 16 may be represented by Chemical Formula 2.

예컨대, 상기 R2 또는 R3은 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R6 또는 R7은 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R10 또는 R11은 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R14 또는 R15는 상기 화학식 2로 표시될 수 있다.For example, R 2 or R 3 is represented by Formula 2, R 6 or R 7 is represented by Formula 2, R 10 or R 11 is represented by Formula 2, and R 14 or R 15 May be represented by Formula 2 above.

예컨대, 상기 R2 또는 R3은 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R6 또는 R7은 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R10 또는 R11은 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 R14 또는 R15는 상기 화학식 2로 표시되고, 상기 화학식 2로 표시되는 않는 나머지는 모두 할로겐 원자일 수 있다.For example, R 2 or R 3 is represented by Formula 2, R 6 or R 7 is represented by Formula 2, R 10 or R 11 is represented by Formula 2, and R 14 or R 15 Is represented by the formula (2), and the rest not represented by the formula (2) may all be a halogen atom.

예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 5 내지 화학식 14 중 어느 하나로 표시될 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the compound represented by Chemical Formula 1 may be represented by any one of the following Chemical Formulas 5 to 14, but is not necessarily limited thereto.

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112017002648518-pat00026
Figure 112017002648518-pat00026

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112017002648518-pat00027
Figure 112017002648518-pat00027

[화학식 7][Formula 7]

Figure 112017002648518-pat00028
Figure 112017002648518-pat00028

[화학식 8][Formula 8]

Figure 112017002648518-pat00029
Figure 112017002648518-pat00029

[화학식 9][Formula 9]

Figure 112017002648518-pat00030
Figure 112017002648518-pat00030

[화학식 10][Formula 10]

Figure 112017002648518-pat00031
Figure 112017002648518-pat00031

[화학식 11][Formula 11]

Figure 112017002648518-pat00032
Figure 112017002648518-pat00032

[화학식 12][Formula 12]

Figure 112017002648518-pat00033
Figure 112017002648518-pat00033

[화학식 13][Formula 13]

Figure 112017002648518-pat00034
Figure 112017002648518-pat00034

[화학식 14][Formula 14]

Figure 112017002648518-pat00035
Figure 112017002648518-pat00035

일 구현예에 따른 화합물은 상기 화학식 2, 예컨대 상기 화학식 3-1 내지 화학식 3-4 중 어느 하나로 표시되는 치환기를 포함하기 때문에 적은 양으로도 보다 선명한 색의 발현이 가능하여, 착색제로 사용 시 휘도나 명암비 등의 색특성이 우수한 디스플레이 소자의 제조가 가능하다. 예컨대, 상기 화합물은 착색제, 예컨대 염료, 예컨대 녹색 염료, 예컨대 445nm 내지 560nm의 파장범위에서 최대 투과도를 가지는 염료일 수 있다.Since the compound according to one embodiment includes a substituent represented by any one of Formula 2, for example, Formulas 3-1 to 3-4, it is possible to express more vivid colors in a small amount, and thus, luminance when used as a colorant. It is possible to manufacture a display element having excellent color characteristics such as contrast and contrast ratio. For example, the compound may be a colorant such as a dye such as a green dye such as a dye having a maximum transmittance in the wavelength range of 445 nm to 560 nm.

일반적으로, 염료는 컬러필터 내에 사용되는 구성성분 중 가장 고가의 구성성분이다. 그러므로, 원하는 효과, 예컨대 고휘도나 고명암비 등을 달성하기 위해서는 고가의 염료를 더 많이 사용해야 하기 때문에 생산 단가가 상승할 수 밖에 없었다. 그러나, 일 구현예에 따른 화합물을 컬러필터 내 염료로 사용하는 경우, 적은 양으로도 고휘도, 고명암비 등의 우수한 색특성을 달성할 수 있어 생산 단가의 절감이 가능하다.In general, dyes are the most expensive of the components used in color filters. Therefore, in order to achieve a desired effect such as high brightness or high contrast ratio, more expensive dyes have to be used. However, when using the compound according to the embodiment as a dye in the color filter, it is possible to achieve excellent color characteristics such as high brightness, high contrast ratio even in a small amount it is possible to reduce the production cost.

다른 일 구현예에 따르면, 상기 일 구현예에 따른 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.According to another embodiment, a photosensitive resin composition comprising the compound according to the embodiment is provided.

예컨대, 상기 감광성 수지 조성물은 상기 일 구현예에 따른 화합물, 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 포함할 수 있다.For example, the photosensitive resin composition may include a compound according to the embodiment, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent.

일 구현예에 따른 화합물은 감광성 수지 조성물 내에서 착색제, 예컨대 염료, 예컨대 녹색 염료로서의 역할을 하여, 우수한 색특성을 발현할 수 있다.The compound according to one embodiment may serve as a colorant such as a dye such as a green dye in the photosensitive resin composition, thereby expressing excellent color characteristics.

일 구현예에 따른 화합물은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 1 중량% 내지 10 중량%, 예컨대 3 중량% 내지 7 중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위로 일 구현예에 따른 화합물이 포함될 경우 색재현율 및 명암비가 우수해진다. The compound according to one embodiment may be included in an amount of 1 wt% to 10 wt%, such as 3 wt% to 7 wt%, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the compound according to the embodiment is included in the above range, color reproducibility and contrast ratio are excellent .

상기 감광성 수지 조성물은 안료, 예컨대 황색 안료, 녹색 안료 또는 이들의 조합을 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition may further include a pigment such as a yellow pigment, a green pigment, or a combination thereof.

상기 황색 안료는 컬러 인덱스(Color Index) 내에서 C.I. 안료 황색 139, C.I. 안료 황색 138, C.I. 안료 황색 150 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. The yellow pigment is a C.I. Pigment Yellow 139, C.I. Pigment Yellow 138, C.I. Pigment yellow 150, etc., These can be used individually or in mixture of 2 or more types.

상기 녹색 안료는 컬러 인덱스(Color Index) 내에서 C.I. 안료 녹색 58, C.I. 안료 녹색 59 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The green pigment has a color index of C.I. Pigment Green 58, C.I. Pigment green 59, etc., and these can be used individually or in mixture of 2 or more types.

상기 안료는 안료분산액의 형태로 상기 감광성 수지 조성물에 포함될 수 있다.The pigment may be included in the photosensitive resin composition in the form of a pigment dispersion.

상기 안료분산액은 고형분의 안료, 용제 및 상기 용제 내에 상기 안료를 균일하게 분산시키기 위한 분산제를 포함할 수 있다.The pigment dispersion may include a pigment of solid content, a solvent and a dispersant for uniformly dispersing the pigment in the solvent.

상기 고형분의 안료는 안료분산액 총량에 대하여 1 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 8 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 8 중량% 내지 15 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 15 중량%로 포함될 수 있다.The pigment of the solid content is 1% to 20% by weight, such as 8% to 20% by weight, such as 8% to 15% by weight, such as 10% to 20% by weight, such as 10% by weight, based on the total amount of the pigment dispersion. It may be included in 15% by weight.

상기 분산제로는 비이온성 분산제, 음이온성 분산제, 양이온성 분산제 등을 사용할 수 있다.  상기 분산제의 구체적인 예로는, 폴리알킬렌글리콜 및 이의 에스테르, 폴리옥시알킬렌, 다가알코올 에스테르 알킬렌 옥사이드 부가물, 알코올알킬렌 옥사이드 부가물, 술폰산 에스테르, 술폰산 염, 카르복실산 에스테르, 카르복실산 염, 알킬아미드 알킬렌 옥사이드 부가물, 알킬 아민 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.As the dispersant, a nonionic dispersant, an anionic dispersant, a cationic dispersant, or the like may be used. Specific examples of the dispersant include polyalkylene glycols and esters thereof, polyoxyalkylenes, polyhydric alcohol ester alkylene oxide adducts, alcohol alkylene oxide adducts, sulfonic acid esters, sulfonic acid salts, carboxylic acid esters, and carboxylic acids. Salts, alkylamide alkylene oxide adducts, alkyl amines, and the like, and these may be used alone or in combination of two or more.

상기 분산제의 시판되는 제품을 예로 들면, BYK社의 DISPERBYK-101, DISPERBYK-130, DISPERBYK-140, DISPERBYK-160, DISPERBYK-161, DISPERBYK-162, DISPERBYK-163, DISPERBYK-164, DISPERBYK-165, DISPERBYK-166, DISPERBYK-170, DISPERBYK-171, DISPERBYK-182, DISPERBYK-2000, DISPERBYK-2001 등; EFKA 케미칼社의 EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA-48, EFKA-49, EFKA-100, EFKA-400, EFKA-450 등; Zeneka社의 Solsperse 5000,Solsperse 12000, Solsperse 13240, Solsperse 13940, Solsperse 17000, Solsperse 20000, Solsperse 24000GR, Solsperse 27000, Solsperse 28000 등; 또는 Ajinomoto社의 PB711, PB821 등이 있다.Examples of commercially available products of the dispersant include DISPERBYK-101, DISPERBYK-130, DISPERBYK-140, DISPERBYK-160, DISPERBYK-161, DISPERBYK-162, DISPERBYK-163, DISPERBYK-164, DISPERBYK-165, DISPERBYK -166, DISPERBYK-170, DISPERBYK-171, DISPERBYK-182, DISPERBYK-2000, DISPERBYK-2001, and the like; EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA-48, EFKA-49, EFKA-100, EFKA-400, EFKA-450, etc. of EFKA Chemical Co., Ltd .; Zenspera Solsperse 5000, Solsperse 12000, Solsperse 13240, Solsperse 13940, Solsperse 17000, Solsperse 20000, Solsperse 24000GR, Solsperse 27000, Solsperse 28000, and the like; Or PB711, PB821 from Ajinomoto.

상기 분산제는 안료분산액 총량에 대하여 1 중량% 내지 20 중량%로 포함될 수 있다. 분산제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 적절한 점도를 유지할 수 있어감광성 수지 조성물의 분산성이 우수하며, 이로 인해 제품 적용시 광학적, 물리적 및 화학적 품질을 유지할 수 있다.The dispersant may be included in an amount of 1% to 20% by weight based on the total amount of the pigment dispersion. When the dispersant is included in the above range, it is possible to maintain the appropriate viscosity is excellent in the dispersibility of the photosensitive resin composition, thereby maintaining the optical, physical and chemical quality in the product application.

상기 안료분산액을 형성하는 용제로는 에틸렌글리콜 아세테이트, 에틸셀로솔브, 프로필렌글리콜 메틸에테르아세테이트, 에틸락테이트, 폴리에틸렌글리콜, 사이클로헥사논, 프로필렌글리콜 메틸에테르 등을 사용할 수 있다. As the solvent for forming the pigment dispersion, ethylene glycol acetate, ethyl cellosolve, propylene glycol methyl ether acetate, ethyl lactate, polyethylene glycol, cyclohexanone, propylene glycol methyl ether and the like can be used.

상기 안료분산액은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 10 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 12 중량% 내지 18 중량%로 포함될 수 있다. 상기 안료분산액이 상기 범위 내로 포함될 경우, 공정마진 확보에 유리하고, 색재현율 및 명암비가 우수해진다.The pigment dispersion may be included in an amount of 10 wt% to 20 wt%, such as 12 wt% to 18 wt%, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the pigment dispersion is included in the above range, it is advantageous to secure process margins, and the color reproducibility and contrast ratio are excellent.

상기 알칼리 가용성 수지는 아크릴계 수지일 수 있다.The alkali-soluble resin may be an acrylic resin.

상기 아크릴계 수지는 제1 에틸렌성 불포화 단량체 및 이와 공중합 가능한 제2 에틸렌성 불포화 단량체의 공중합체로, 하나 이상의 아크릴계 반복단위를 포함하는 수지이다. The acrylic resin is a copolymer of the first ethylenically unsaturated monomer and the second ethylenically unsaturated monomer copolymerizable therewith, and is a resin including one or more acrylic repeating units.

상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 하나 이상의 카르복시기를 함유하는 에틸렌성 불포화 단량체이며, 이의 구체적인 예로는 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 이타콘산, 푸마르산또는 이들의 조합을 들 수 있다.The first ethylenically unsaturated monomer is an ethylenically unsaturated monomer containing at least one carboxyl group, and specific examples thereof include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, or a combination thereof.

상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 상기 아크릴계 바인더 수지 총량에 대하여 5 중량% 내지 50 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 40 중량%로 포함될 수 있다.The first ethylenically unsaturated monomer may be included in an amount of 5 wt% to 50 wt%, such as 10 wt% to 40 wt%, based on the total amount of the acrylic binder resin.

상기 제2 에틸렌성 불포화 단량체는 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 비닐벤질메틸에테르 등의 방향족 비닐 화합물; 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시 부틸(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 에스테르 화합물; 2-아미노에틸(메타)아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 아미노 알킬 에스테르 화합물; 초산비닐, 안식향산 비닐 등의 카르복시산 비닐 에스테르 화합물; 글리시딜(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 글리시딜 에스테르 화합물; (메타)아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물; (메타)아크릴아미드 등의 불포화 아미드 화합물; 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The second ethylenically unsaturated monomer is an aromatic vinyl compound such as styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, vinylbenzylmethyl ether; Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy butyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, Unsaturated carboxylic ester compounds such as cyclohexyl (meth) acrylate and phenyl (meth) acrylate; Unsaturated carboxylic acid amino alkyl ester compounds such as 2-aminoethyl (meth) acrylate and 2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate; Carboxylic acid vinyl ester compounds, such as vinyl acetate and a vinyl benzoate; Unsaturated carboxylic acid glycidyl ester compounds such as glycidyl (meth) acrylate; Vinyl cyanide compounds such as (meth) acrylonitrile; Unsaturated amide compounds such as (meth) acrylamide; These etc. can be mentioned, These can be used individually or in mixture of 2 or more.

상기 아크릴계 수지의 구체적인 예로는 (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 이들을 단독 또는 2종 이상을 배합하여 사용할 수도 있다.Specific examples of the acrylic resin include (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate / styrene copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate Acrylate copolymers, (meth) acrylic acid / benzyl methacrylate / styrene / 2-hydroxyethyl methacrylate copolymers, and the like, but are not limited thereto, and these may be used alone or in combination of two or more thereof. .

상기 알칼리 가용성 수지의 중량평균 분자량은 3,000 g/mol 내지 150,000 g/mol, 예컨대 5,000 g/mol 내지 50,000 g/mol, 예컨대 20,000 g/mol 내지 30,000 g/mol 일 수 있다. 상기 알칼리 가용성 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위 내일 경우, 상기 감광성 수지 조성물의 물리적 및 화학적 물성이 우수하고 점도가 적절하며, 컬러필터 제조시 기판과의 밀착성이 우수하다.  The weight average molecular weight of the alkali-soluble resin may be 3,000 g / mol to 150,000 g / mol, such as 5,000 g / mol to 50,000 g / mol, such as 20,000 g / mol to 30,000 g / mol. When the weight average molecular weight of the alkali-soluble resin is within the above range, the physical and chemical physical properties of the photosensitive resin composition are excellent, the viscosity is appropriate, and the adhesion to the substrate is excellent when the color filter is manufactured.

상기 알칼리 가용성 수지의 산가는 15 mgKOH/g 내지 60 mgKOH/g, 예컨대 20 mgKOH/g 내지 50 mgKOH/g 일 수 있다. 알칼리 가용성 수지의 산가가 상기 범위 내일 경우 픽셀 패턴의 해상도가 우수하다.The acid value of the alkali-soluble resin may be 15 mgKOH / g to 60 mgKOH / g, such as 20 mgKOH / g to 50 mgKOH / g. When the acid value of alkali-soluble resin is in the said range, the resolution of a pixel pattern is excellent.

상기 알칼리 가용성 수지는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 30 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 20 중량%로 포함될 수 있다. 알칼리 가용성 수지가 상기 범위 내로 포함될 경우, 컬러필터 제조시 현상성이 우수하며 가교성이 개선되어 우수한 표면 평활도를 얻을 수 있다.The alkali-soluble resin may be included in 1% by weight to 30% by weight, such as 1% by weight to 20% by weight, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the alkali-soluble resin is included in the above range, it is excellent in developability in the production of color filters and crosslinkability is improved to obtain excellent surface smoothness.

상기 광중합성 화합물은 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 (메타)아크릴산의 일관능 또는 다관능 에스테르가 사용될 수 있다.As the photopolymerizable compound, a monofunctional or polyfunctional ester of (meth) acrylic acid having at least one ethylenically unsaturated double bond may be used.

광중합성 화합물은 상기 에틸렌성 불포화 이중결합을 가짐으로써, 패턴 형성 공정에서 노광시 충분한 중합을 일으킴으로써 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수한 패턴을 형성할 수 있다.Since the photopolymerizable compound has the ethylenically unsaturated double bond, the photopolymerizable compound can form a pattern excellent in heat resistance, light resistance and chemical resistance by causing sufficient polymerization during exposure in the pattern forming process.

광중합성 화합물의 구체적인 예로는, 에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 프로필렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 에폭시(메타)아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 (메타)아크릴레이트, 트리메틸올 프로판 트리(메타)아크릴레이트, 트리스(메타)아크릴로일옥시에틸 포스페이트, 노볼락에폭시 (메타)아크릴레이트등을 들 수 있다. Specific examples of the photopolymerizable compound include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (Meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, bisphenol A di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, Pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol di (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylic Latent, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, bisphenol A epoxy (meth) acrylate, ethylene glycol monometh Tyl ether (meth) acrylate, trimethylol propane tri (meth) acrylate, a tris (meth) acryloyloxyethyl phosphate, a novolak epoxy (meth) acrylate, etc. are mentioned.

광중합성 화합물의 시판되는 제품을 예로 들면 다음과 같다. 상기 (메타)아크릴산의 일관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-101®, 동 M-111®, 동 M-114® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD TC-110S®, 동 TC-120S® 등; 오사카 유끼 가가꾸 고교(주)社의 V-158®, V-2311® 등을 들 수 있다. 상기 (메타)아크릴산의 이관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-210®, 동 M-240®, 동 M-6200® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD HDDA®, 동 HX-220®, 동 R-604® 등; 오사카 유끼 가가꾸 고교(주)社의 V-260®, V-312®, V-335 HP® 등을 들 수 있다. 상기 (메타)아크릴산의 삼관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-309®, 동 M-400®, 동 M-405®, 동 M-450®, 동 M-710®, 동 M-8030®, 동 M-8060® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD TMPTA®, 동 DPCA-20®, 동-30®, 동-60®, 동-120® 등; 오사카 유끼 가야꾸 고교(주)社의 V-295®, 동-300®, 동-360®, 동-GPT®, 동-3PA®, 동-400® 등을 들 수 있다. 상기 제품을 단독 사용 또는 2종 이상 함께 사용할 수 있다.Examples of commercially available products of the photopolymerizable compound are as follows. Examples of the monofunctional ester of (meth) acrylic acid include Aronix M-101 ® , M-111 ® , M-114 ®, and the like manufactured by Toagosei Kagaku Kogyo Co., Ltd .; Nihon Kayaku Co., Ltd. KAYARAD TC-110S ® , TC-120S ®, etc .; The V-158 ® and V-2311 ® of Osaka Yuki Chemical Co., Ltd. are mentioned. Examples of the difunctional ester of the (meth) acrylic acid include, but are not limited to, Aronix M-210 ® , M-240 ® , M-6200 ®, etc. manufactured by Toagosei Chemical Industries, Ltd .; Nihon Kayaku Co., Ltd. KAYARAD HDDA ® , HX-220 ® , R-604 ®, etc .; And V-260 ® , V-312 ® and V-335 HP ® from Osaka Yuki Kagaku Kogyo Co., Ltd. Examples of the trifunctional ester of (meth) acrylic acid include Aronix M-309 ® , M-400 ® , M-405 ® , M-450 ® , M-450 ® from Toagosei Kagaku Kogyo Co., Ltd. -710 ® , M-8030 ® , M-8060 ®, etc .; Nippon Kayaku Co., Ltd. KAYARAD TMPTA ® , DPCA-20 ® , East-30 ® , East-60 ® , East-120 ®, etc .; Osaka yukki Kayaku high (primary)社of V-295 ®, copper ® -300, -360 ® copper, copper -GPT ®, copper -3PA ®, and the like copper -400 ®. The above products can be used alone or in combination of two or more.

상기 광중합성 화합물은 보다 우수한 현상성을 부여하기 위하여 산무수물로 처리하여 사용할 수도 있다.The photopolymerizable compound may be used after being treated with an acid anhydride in order to impart better developability.

상기 광중합성 화합물은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 15 중량%, 예컨대 5 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다. 광중합성 화합물이 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광시 경화가 충분히 일어나 신뢰성이 우수하며, 알칼리 현상액에의 현상성이 우수하다.The photopolymerizable compound may be included in an amount of 1 wt% to 15 wt%, such as 5 wt% to 10 wt%, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When a photopolymerizable compound is contained in the said range, hardening arises at the time of exposure in a pattern formation process, and it is excellent in reliability, and is excellent in developability to an alkaline developing solution.

상기 광중합 개시제는 감광성 수지 조성물에 일반적으로 사용되는 개시제로서, 예를 들어 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 벤조인계 화합물, 옥심계 화합물, 또는 이들의 조합을 사용할 수 있다. As the photopolymerization initiator, an initiator generally used in the photosensitive resin composition, for example, an acetophenone compound, a benzophenone compound, a thioxanthone compound, a benzoin compound, an oxime compound, or a combination thereof may be used. .

상기 아세토페논계 화합물의 예로는, 2,2'-디에톡시 아세토페논, 2,2'-디부톡시 아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로피오페논, p-t-부틸트리클로로 아세토페논, p-t-부틸디클로로 아세토페논, 4-클로로 아세토페논, 2,2'-디클로로-4-페녹시 아세토페논, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-부탄-1-온 등을 들 수 있다.Examples of the acetophenone-based compound include 2,2'-diethoxy acetophenone, 2,2'-dibutoxy acetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, pt-butyltrichloro acetophenone, pt -Butyldichloro acetophenone, 4-chloro acetophenone, 2,2'-dichloro-4-phenoxy acetophenone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1 -One, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, etc. are mentioned.

상기 벤조페논계 화합물의 예로는, 벤조페논, 벤조일 안식향산, 벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 히드록시 벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸 아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디메틸-2-메톡시벤조페논 등을 들 수 있다.Examples of the benzophenone compound include benzophenone, benzoyl benzoic acid, methyl benzoyl benzoate, 4-phenyl benzophenone, hydroxy benzophenone, acrylated benzophenone, 4,4'-bis (dimethyl amino) benzophenone, 4,4 '-Bis (diethylamino) benzophenone, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3'-dimethyl-2-methoxybenzophenone and the like.

상기 티오크산톤계 화합물의 예로는, 티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 이소프로필 티오크산톤, 2,4-디에틸 티오크산톤, 2,4-디이소프로필 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 등을 들 수 있다.Examples of the thioxanthone compound include thioxanthone, 2-methyl thioxanthone, isopropyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2,4-diisopropyl thioxanthone, 2- Chloro thioxanthone, etc. are mentioned.

상기 벤조인계 화합물의 예로는, 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다.Examples of the benzoin compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyldimethyl ketal and the like.

상기 트리아진계 화합물의 예로는, 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐 4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(3', 4'-디메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-톨릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-비페닐 4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 비스(트리클로로메틸)-6-스티릴-s-트리아진, 2-(나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-s-트리아진 등을 들 수 있다.Examples of the triazine-based compound include 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl 4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (3 ', 4'- Dimethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4'-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-biphenyl 4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, bis (trichloromethyl) -6-styryl-s-triazine, 2- (naphtho-1-yl) -4, 6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxynaphtho-1-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-4-bis (Trichloromethyl) -6-piperonyl-s-triazine, 2-4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -s-triazine, etc. are mentioned.

상기 옥심계 화합물의 예로는, O-아실옥심계 화합물, 2-(o-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온, 1-(o-아세틸옥심)-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄온, O-에톡시카르보닐-α-옥시아미노-1-페닐프로판-1-온 등을 사용할 수 있다. 상기 O-아실옥심계 화합물의 구체적인 예로는, 1,2-옥탄디온, 2-디메틸아미노-2-(4-메틸벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온, 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1,2-디온2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1,2-디온2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1-온옥심-O-아세테이트 및 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1-온옥심-O-아세테이트 등을 들 수 있다. Examples of the oxime compounds include O-acyl oxime compounds, 2- (o-benzoyl oxime) -1- [4- (phenylthio) phenyl] -1,2-octanedione, and 1- (o-acetyloxime ) -1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] ethanone, O-ethoxycarbonyl-α-oxyamino-1-phenylpropan-1-one Etc. can be used. Specific examples of the O-acyl oxime compound include 1,2-octanedione, 2-dimethylamino-2- (4-methylbenzyl) -1- (4-morpholin-4-yl-phenyl) -butane- 1-one, 1- (4-phenylsulfanylphenyl) -butane-1,2-dione2-oxime-O-benzoate, 1- (4-phenylsulfanylphenyl) -octane-1,2-dione2 Oxime-O-benzoate, 1- (4-phenylsulfanylphenyl) -octane-1-one oxime-O-acetate and 1- (4-phenylsulfanylphenyl) -butan-1-one oxime-O- Acetate and the like.

상기 광중합 개시제는 상기 화합물 이외에도 카바졸계 화합물, 디케톤류 화합물, 술포늄 보레이트계 화합물, 디아조계 화합물, 이미다졸계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 플루오렌계 화합물 등을 사용할 수 있다.In addition to the above compounds, the photopolymerization initiator may be a carbazole compound, a diketone compound, a sulfonium borate compound, a diazo compound, an imidazole compound, a biimidazole compound, a fluorene compound or the like.

상기 광중합 개시제는 빛을 흡수하여 들뜬 상태가 된 후 그 에너지를 전달함으로써 화학반응을 일으키는 광 증감제와 함께 사용될 수도 있다.The photopolymerization initiator may be used together with a photosensitizer that causes a chemical reaction by absorbing light and transferring the energy after being excited.

상기 광 증감제의 예로는, 테트라에틸렌글리콜 비스-3-머캡토 프로피오네이트, 펜타에리트리톨 테트라키스-3-머캡토 프로피오네이트, 디펜타에리트리톨 테트라키스-3-머캡토 프로피오네이트 등을 들 수 있다. Examples of the photosensitizer include tetraethylene glycol bis-3-mercapto propionate, pentaerythritol tetrakis-3-mercapto propionate, dipentaerythritol tetrakis-3-mercapto propionate, and the like. Can be mentioned.

상기 광중합 개시제는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.01 중량% 내지 10 중량%, 예컨대 0.1 중량% 내지 5 중량%로 포함될 수 있다. 광중합 개시제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광시 경화가 충분히 일어나 우수한 신뢰성을 얻을 수 있으며, 패턴의 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수하고, 해상도 및 밀착성 또한 우수하며, 미반응 개시제로 인한 투과율의 저하를 막을 수 있다.The photopolymerization initiator may be included in an amount of 0.01 wt% to 10 wt%, such as 0.1 wt% to 5 wt%, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the photopolymerization initiator is included in the above range, curing occurs during exposure in the pattern forming process to obtain excellent reliability, excellent heat resistance, light resistance and chemical resistance of the pattern, excellent resolution and adhesion, and due to unreacted initiator The fall of a transmittance | permeability can be prevented.

상기 용매는 일 구현예에 따른 화합물, 안료, 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물 및 광중합 개시제와의 상용성을 가지되 반응하지 않는 물질들이 사용될 수 있다.The solvent may be a compound having a compatibility with a compound, a pigment, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, and a photopolymerization initiator according to one embodiment but not reacting.

상기 용매의 예로는, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 디클로로에틸 에테르, n-부틸 에테르, 디이소아밀 에테르, 메틸페닐 에테르, 테트라히드로퓨란 등의 에테르류; 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 메틸 셀로솔브 아세테이트, 에틸 셀로솔브 아세테이트, 디에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 셀로솔브 아세테이트류; 메틸에틸 카르비톨, 디에틸 카르비톨, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디에틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 사이클로헥사논, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논, 메틸-n-프로필케톤, 메틸-n-부틸케톤, 메틸-n-아밀케톤, 2-헵타논 등의 케톤류; 초산 에틸, 초산-n-부틸, 초산 이소부틸 등의 포화 지방족 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 젖산 메틸, 젖산 에틸 등의 젖산 에스테르류; 옥시 초산 메틸, 옥시 초산 에틸, 옥시 초산 부틸 등의 옥시 초산 알킬 에스테르류; 메톡시 초산 메틸, 메톡시 초산 에틸, 메톡시 초산 부틸, 에톡시 초산 메틸, 에톡시 초산 에틸 등의 알콕시 초산 알킬 에스테르류; 3-옥시 프로피온산 메틸, 3-옥시 프로피온산 에틸 등의 3-옥시 프로피온산 알킬에스테르류; 3-메톡시 프로피온산 메틸, 3-메톡시 프로피온산 에틸, 3-에톡시 프로피온산 에틸, 3-에톡시 프로피온산 메틸 등의 3-알콕시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-옥시 프로피온산 메틸, 2-옥시 프로피온산 에틸, 2-옥시 프로피온산 프로필 등의 2-옥시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-메톡시 프로피온산 메틸, 2-메톡시 프로피온산 에틸, 2-에톡시 프로피온산 에틸, 2-에톡시 프로피온산 메틸 등의 2-알콕시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-옥시-2-메틸 프로피온산 메틸, 2-옥시-2-메틸 프로피온산 에틸 등의 2-옥시-2-메틸 프로피온산 에스테르류, 2-메톡시-2-메틸 프로피온산 메틸, 2-에톡시-2-메틸 프로피온산 에틸 등의 2-알콕시-2-메틸 프로피온산 알킬류의 모노옥시 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 2-히드록시 프로피온산 에틸, 2-히드록시-2-메틸 프로피온산 에틸, 히드록시 초산 에틸, 2-히드록시-3-메틸 부탄산 메틸 등의 에스테르류; 피루빈산 에틸 등의 케톤산 에스테르류 등이 있으며, 또한, N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸포름아닐라드, N-메틸아세트아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시드, 벤질에틸에테르, 디헥실에테르, 아세틸아세톤, 이소포론, 카프론산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 초산 벤질, 안식향산 에틸, 옥살산 디에틸, 말레인산 디에틸, γ-부티로락톤, 탄산 에틸렌, 탄산 프로필렌, 페닐 셀로솔브 아세테이트 등의 고비점 용매를 들 수 있다.Examples of the solvent include alcohols such as methanol and ethanol; Ethers such as dichloroethyl ether, n-butyl ether, diisoamyl ether, methylphenyl ether and tetrahydrofuran; Glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; Cellosolve acetates such as methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate and diethyl cellosolve acetate; Carbitols such as methyl ethyl carbitol, diethyl carbitol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methylethyl ether and diethylene glycol diethyl ether; Propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol propylether acetate; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, methyl-n-propyl ketone, methyl-n-butyl ketone, methyl-n-amyl ketone and 2-heptanone ; Saturated aliphatic monocarboxylic acid alkyl esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate and isobutyl acetate; Lactic acid esters such as methyl lactate and ethyl lactate; Oxy acetic acid alkyl esters such as methyl oxy acetate, oxy ethyl acetate and oxy butyl acetate; Alkoxy acetate alkyl esters, such as methoxy methyl acetate, methoxy ethyl acetate, methoxy butyl acetate, ethoxy methyl acetate, and ethoxy ethyl acetate; 3-oxy propionic acid alkyl esters such as methyl 3-oxy propionate and ethyl 3-oxypropionate; 3-alkoxy propionic acid alkyl esters such as 3-methoxy methyl propionate, 3-methoxy ethyl propionate, 3-ethoxy ethyl propionate and 3-ethoxy methyl propionate; 2-oxy propionic acid alkyl esters such as 2-oxy methyl propionate, 2-oxy ethyl propionate and 2-oxy propionic acid propyl; 2-alkoxy propionic acid alkyl esters such as methyl 2-methoxy propionate, ethyl 2-methoxy propionate, ethyl 2-ethoxy propionate and methyl 2-ethoxy propionate; 2-oxy-2-methyl propionic acid esters, such as 2-oxy-2-methyl methyl propionate and 2-oxy-2-methyl ethyl propionate, 2-methoxy-2-methyl methyl propionate and 2-ethoxy-2- Monooxy monocarboxylic acid alkyl esters of 2-alkoxy-2-methyl propionic acid alkyls such as methyl methyl propionate; Esters such as ethyl 2-hydroxy propionate, ethyl 2-hydroxy-2-methyl propionate, ethyl hydroxy acetate, and methyl 2-hydroxy-3-methyl butanoate; Ketone acid esters such as ethyl pyruvate and the like; and N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, N-methylformanilade, N-methylacetamide, N, N-dimethylacetamide , N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, benzyl ethyl ether, dihexyl ether, acetylacetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, benzoic acid High boiling point solvents, such as ethyl, diethyl oxalate, diethyl maleate, (gamma) -butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, and phenyl cellosolve acetate, are mentioned.

이들 중 좋게는 상용성 및 반응성을 고려하여, 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 에틸렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 2-히드록시 프로피온산 에틸 등의 에스테르류; 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류, 사이클로헥사논 등의 케톤류가 사용될 수 있다.Among these, glycol ethers, such as ethylene glycol monoethyl ether, in consideration of compatibility and reactivity; Ethylene glycol alkyl ether acetates such as ethyl cellosolve acetate; Esters such as 2-hydroxy ethyl propionate; Carbitols such as diethylene glycol monomethyl ether; Propylene glycol alkylether acetates such as propylene glycol monomethylether acetate and propylene glycol propylether acetate, and ketones such as cyclohexanone can be used.

상기 용매는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 잔부량, 예컨대 30 중량% 내지 80 중량%로 포함될 수 있다. 용매가 상기 범위 내로 포함될 경우 상기 감광성 수지 조성물이 적절한 점도를 가짐에 따라 컬러필터 제조시 공정성이 우수하다.The solvent may be included in a balance, such as 30 wt% to 80 wt%, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the solvent is included in the above range, as the photosensitive resin composition has an appropriate viscosity, the processability in manufacturing the color filter is excellent.

다른 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 기판과의 밀착성 등을 개선하기 위해 에폭시 화합물을 더 포함할 수 있다. The photosensitive resin composition according to another embodiment may further include an epoxy compound to improve adhesion to a substrate, and the like.

상기 에폭시 화합물의 예로는, 페놀 노볼락 에폭시 화합물, 테트라메틸 비페닐 에폭시 화합물, 비스페놀 A형 에폭시 화합물, 지환족 에폭시 화합물 또는 이들의 조합을 들 수 있다.As an example of the said epoxy compound, a phenol novolak epoxy compound, a tetramethyl biphenyl epoxy compound, a bisphenol-A epoxy compound, an alicyclic epoxy compound, or a combination thereof is mentioned.

상기 에폭시 화합물은 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 20 중량부, 예컨대 0.1 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 에폭시 화합물이 상기 범위 내로 포함될 경우 밀착성, 저장성 등이 우수하다. The epoxy compound may be included in an amount of 0.01 to 20 parts by weight, such as 0.1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition. When the epoxy compound is included in the above range, it is excellent in adhesion, storage properties and the like.

또한 상기 감광성 수지 조성물은 기판과의 접착성을 향상시키기 위해 카르복실기, 메타크릴로일기, 이소시아네이트기, 에폭시기 등의 반응성 치환기를 갖는 실란 커플링제를 더 포함할 수 있다.In addition, the photosensitive resin composition may further include a silane coupling agent having a reactive substituent such as carboxyl group, methacryloyl group, isocyanate group, epoxy group, etc. in order to improve adhesion to the substrate.

상기 실란 커플링제의 예로는, 트리메톡시실릴 벤조산, γ-메타크릴 옥시프로필 트리메톡시실란, 비닐 트리아세톡시실란, 비닐 트리메톡시실란, γ-이소시아네이트 프로필 트리에톡시실란, γ-글리시독시 프로필 트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. Examples of the silane coupling agent include trimethoxysilyl benzoic acid, γ-methacryloxypropyl trimethoxysilane, vinyl triacetoxysilane, vinyl trimethoxysilane, γ-isocyanate propyl triethoxysilane, and γ-glycidoxy Cipropyl trimethoxysilane, (beta)-(3, 4- epoxycyclohexyl) ethyl trimethoxysilane, etc. are mentioned, These can be used individually or in mixture of 2 or more types.

상기 실란 커플링제는 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 실란 커플링제가 상기 범위 내로 포함될 경우 밀착성, 저장성 등이 우수하다. The silane coupling agent may be included in an amount of 0.01 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition. When the silane coupling agent is included in the above range, it is excellent in adhesion, shelf life and the like.

또한 상기 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 코팅성 향상 및 결점 생성 방지 효과를 위해 계면 활성제를 더 포함할 수 있다. In addition, the photosensitive resin composition may further include a surfactant in order to improve the coating properties and prevent the formation of defects as necessary.

상기 계면활성제의 예로는, BM Chemie社의 BM-1000®, BM-1100® 등; 다이 닛폰 잉키 가가꾸 고교(주)社의 메카 팩 F 142D®, 동 F 172®, 동 F 173®, 동 F 183® 등; 스미토모 스리엠(주)社의 프로라드 FC-135®, 동 FC-170C®, 동 FC-430®, 동 FC-431® 등; 아사히 그라스(주)社의 사프론 S-112®, 동 S-113®, 동 S-131®, 동 S-141®, 동 S-145® 등; 도레이 실리콘(주)社의 SH-28PA®, 동-190®, 동-193®, SZ-6032®, SF-8428® 등의 명칭으로 시판된고 있는 불소계 계면 활성제를 사용할 수 있다.Examples of the surfactant include BM-1000 ® , BM-1100 ®, etc. of BM Chemie Co .; Mecha packs F 142D ® , F 172 ® , F 173 ® , F 183 ®, etc. from Dai Nippon Inki Chemical Co., Ltd .; Prorad FC-135 ® , FC-170C ® , FC-430 ® , FC-431 ®, etc. of Sumitomo 3M Co., Ltd .; Asahi Grass Co., Ltd. Saffron S-112 ® , S-113 ® , S-131 ® , S-141 ® , S-145 ®, etc .; Toray silicone (Note)社SH-28PA ®, copper -190 ®, may be used copper ® -193, fluorine-based surfactants and commercially available under the name, such as SZ-6032 ®, SF-8428 ®.

상기 계면 활성제는 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.001 중량부 내지 5 중량부로 사용될 수 있다. 계면 활성제가 상기 범위 내로 포함될 경우 코팅 균일성이 확보되고, 얼룩이 발생하지 않으며, 유리 기판에 대한 습윤성(wetting)이 우수하다.The surfactant may be used in an amount of 0.001 part by weight to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition. When the surfactant is included in the above range, coating uniformity is secured, staining does not occur, and wetting on the glass substrate is excellent.

또한 상기 감광성 수지 조성물은 물성을 저해하지 않는 범위 내에서 산화방지제, 안정제 등의 기타 첨가제가 일정량 첨가될 수도 있다.In addition, the photosensitive resin composition may be added a certain amount of other additives such as antioxidants, stabilizers, etc. within a range that does not impair the physical properties.

또 다른 일 구현예에 따르면, 상기 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 컬러필터를 제공한다. According to another embodiment, a color filter manufactured using the photosensitive resin composition according to the embodiment is provided.

상기 컬러필터 내 패턴 형성 공정은 다음과 같다.The pattern forming process in the color filter is as follows.

상기 감광성 수지 조성물을 지지 기판상에 스핀 코팅, 슬릿 코팅, 잉크젯 프린팅 등으로 도포하는 공정; 상기 도포된 감광성 수지 조성물을 건조하여 감광성 수지 조성물 막을 형성하는 공정; 상기 감광성 수지 조성물 막을 노광하는 공정; 상기 노광된 감광성 수지 조성물 막을 알칼리 수용액으로 현상하여 감광성 수지막을 제조하는 공정; 및 상기 감광성 수지막을 가열 처리하는 공정을 포함한다. 상기 공정 상의 조건 등에 대하여는 당해 분야에서 널리 알려진 사항이므로, 본 명세서에서 자세한 설명은 생략하기로 한다. Applying the photosensitive resin composition on a support substrate by spin coating, slit coating, inkjet printing, or the like; Drying the applied photosensitive resin composition to form a photosensitive resin composition film; Exposing the photosensitive resin composition film; Developing the exposed photosensitive resin composition film with an aqueous alkali solution to produce a photosensitive resin film; And heat-processing the said photosensitive resin film. Since the process conditions and the like are well known in the art, detailed descriptions thereof will be omitted herein.

이하, 실시예를 들어 본 발명에 대해서 더욱 상세하게 설명할 것이나, 하기의 실시예는 본 발명의 바람직한 실시예일 뿐 본 발명이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the following Examples are only preferred examples of the present invention, and the present invention is not limited to the following Examples.

(화합물의 합성)Synthesis of Compound

합성예Synthesis Example 1: 41: 4 -(Biphenyl-2--(Biphenyl-2- yloxyyloxy )-3,5,6-) -3,5,6- trichlorotrichloro -- phthalonitrile의phthalonitrile 합성 synthesis

100ml 플라스크에 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile(5g), 2-Phenylphenol(3.21g), K2CO3(3.9g), 아세톤(25ml)을 넣고 70℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 필터하고 아세톤으로 워싱하여 나온 액체를 증류하면고체를 얻을 수 있다. 이때 얻어진 고체를 소량의 디클로로메탄에 녹인 후, 핵산으로 수회 씻어 주고, 여과 후 진공건조하여 4-(Biphenyl-2-yloxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile를 얻는다.3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (5g), 2-Phenylphenol (3.21g), K 2 CO 3 (3.9g) and acetone (25ml) were added to a 100ml flask and stirred while heating to 70 ° C. After completion of the reaction, the solid obtained by filtering and distilling the liquid washed with acetone. The solid obtained at this time is dissolved in a small amount of dichloromethane, washed several times with nucleic acid, filtered and dried under vacuum to obtain 4- (Biphenyl-2-yloxy) -3,5,6-trichloro-phthalonitrile.

합성예Synthesis Example 2: 32: 3 ,4,6-Trichloro-5-(2,6-, 4,6-Trichloro-5- (2,6- dichlorodichloro -- phenoxyphenoxy )-)- phthalonitrile의phthalonitrile 합성 synthesis

100ml 플라스크에 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile(5g), 2,6-dichlorophenol(3.06g), K2CO3(3.9g), 아세톤(25ml)를 넣고 70℃로가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 필터하고 아세톤으로 워싱하여 나온 액체를 증류하면 고체를 얻을 수 있다. 이 때 얻어진 고체를 소량의 디클로로메탄에 녹인 후, 헥산으로 수회 씻어 주고, 여과 후 진공 건조하여 3,4,6-Trichloro-5-(2,6-dichloro-phenoxy)-phthalonitrile를 얻는다.3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (5g), 2,6-dichlorophenol (3.06g), K 2 CO 3 (3.9g) and acetone (25ml) were added to a 100ml flask and stirred while heating to 70 ° C. After completion of the reaction, the solid obtained by filtering and distilling the liquid washed with acetone. The solid obtained at this time is dissolved in a small amount of dichloromethane, washed several times with hexane, filtered and dried in vacuo to give 3,4,6-Trichloro-5- (2,6-dichloro-phenoxy) -phthalonitrile.

합성예Synthesis Example 3: 33: 3 ,4,6-Trichloro-5-(2,6-dibromo-, 4,6-Trichloro-5- (2,6-dibromo- phenoxyphenoxy )-)- phthalonitrile의phthalonitrile 합성 synthesis

100ml 플라스크에 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile(5g), 2,6-dibromophenol(4.75g), K2CO3(3.9g), N,N-디메틸포름아미드(N,N-dimethylformamide)(25ml)를넣고 70℃로가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 EA(ethyl acetate)로 추출한다. 추출 후 농축하면 고체를 얻을 수 있다. 이 때 얻어진 고체를 소량의 디클로로메탄에 녹인 후, 헥산으로 수회 씻어 주고, 여과 후 진공 건조하여3,4,6-Trichloro-5-(2,6-dibromo-phenoxy)-phthalonitrile를 얻는다.In a 100 ml flask, 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (5 g), 2,6-dibromophenol (4.75 g), K 2 CO 3 (3.9 g), N, N-dimethylformamide (N, N-dimethylformamide) 25 ml) and stirred while heating to 70 ℃. After the reaction was extracted with EA (ethyl acetate). Concentration after extraction gives a solid. The solid obtained at this time was dissolved in a small amount of dichloromethane, washed several times with hexane, filtered and dried in vacuo to obtain 3,4,6-Trichloro-5- (2,6-dibromo-phenoxy) -phthalonitrile.

합성예Synthesis Example 4: 34: 3 ,4,6-Trichloro-5-(2,6-, 4,6-Trichloro-5- (2,6- difluorodifluoro -- phenoxyphenoxy )-)- phthalonitrile의phthalonitrile 합성 synthesis

100ml 플라스크에 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile(5g), 2,6-difluorophenol(2.45g), K2CO3(3.9g), N,N-디메틸포름아미드(N,N-dimethylformamide)(25ml)를 넣고 70℃로가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 EA(ethyl acetate)로 추출한다. 추출 후 농축하면 고체를 얻을 수 있다. 이 때 얻어진 고체를 소량의 디클로로메탄에 녹인 후, 헥산으로 수회 씻어 주고, 여과 후 진공 건조하여3,4,6-Trichloro-5-(2,6-difluoro-phenoxy)-phthalonitrile를 얻는다.In a 100 ml flask, 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (5 g), 2,6-difluorophenol (2.45 g), K 2 CO 3 (3.9 g), N, N-dimethylformamide (N, N-dimethylformamide) ( 25 ml) was added and stirred while heating to 70 ℃. After the reaction was extracted with EA (ethyl acetate). Concentration after extraction gives a solid. The solid obtained at this time is dissolved in a small amount of dichloromethane, washed several times with hexane, filtered and dried in vacuo to obtain 3,4,6-Trichloro-5- (2,6-difluoro-phenoxy) -phthalonitrile.

합성예Synthesis Example 5: 35: 3 ,4,6-Trichloro-5-(2-, 4,6-Trichloro-5- (2- chlorochloro -- phenoxyphenoxy )-)- phthalonitrile의phthalonitrile 합성 synthesis

100ml 플라스크에 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile(5g), 2-chlorophenol(2.41g), K2CO3(3.9g), 아세톤(25ml)를 넣고 70℃로가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 필터하고 아세톤으로 워싱하여 나온 액체를 증류하면 고체를 얻을 수 있다. 이 때 얻어진 고체를 소량의 디클로로메탄에 녹인 후, 헥산으로 수회 씻어 주고, 여과 후 진공 건조하여 3,4,6-Trichloro-5-(2-chloro-phenoxy)-phthalonitrile 를 얻는다.3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (5g), 2-chlorophenol (2.41g), K 2 CO 3 (3.9g) and acetone (25ml) were added to a 100ml flask and heated to 70 ° C. After completion of the reaction, a solid obtained by filtration and distillation of the liquid obtained by washing with acetone is obtained. The solid obtained at this time is dissolved in a small amount of dichloromethane, washed several times with hexane, filtered and dried in vacuo to give 3,4,6-Trichloro-5- (2-chloro-phenoxy) -phthalonitrile.

합성예Synthesis Example 6: 36: 3 ,4,6-Trichloro-5-(2-, 4,6-Trichloro-5- (2- bromobromo -- phenoxyphenoxy )-)- phthalonitrile의phthalonitrile 합성 synthesis

100ml 플라스크에 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile(5g), 2-bromophenol(3.25g), K2CO3(3.9g), N,N-디메틸포름아미드(N,N-dimethylformamide)(25ml)를 넣고 70℃로가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 EA(ethyl acetate)로 추출한다. 추출 후 농축하면 고체를 얻을 수 있다. 이 때 얻어진 고체를 소량의 디클로로메탄에 녹인 후, 헥산으로 수회 씻어 주고, 여과 후 진공 건조하여3,4,6-Trichloro-5-(2-bromo-phenoxy)-phthalonitrile 를 얻는다.3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (5 g), 2-bromophenol (3.25 g), K 2 CO 3 (3.9 g), N, N-dimethylformamide (25 ml) in a 100 ml flask Add and stir while heating to 70 ℃. After the reaction was extracted with EA (ethyl acetate). Concentration after extraction gives a solid. The solid obtained at this time is dissolved in a small amount of dichloromethane, washed several times with hexane, filtered and dried in vacuo to give 3,4,6-Trichloro-5- (2-bromo-phenoxy) -phthalonitrile.

합성예Synthesis Example 7: 37: 3 ,4,6-Trichloro-5-(2-fluoro-, 4,6-Trichloro-5- (2-fluoro- phenoxyphenoxy )-)- phthalonitrile의phthalonitrile 합성 synthesis

100ml 플라스크에 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile(5g), 2-fluorophenol(2.10g), K2CO3(3.9g), N,N-디메틸포름아미드(N,N-dimethylformamide)(25ml)를 넣고 70℃로가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 EA(ethyl acetate)로 추출한다. 추출 후 농축하면 고체를 얻을 수 있다. 이 때 얻어진 고체를 소량의 디클로로메탄에 녹인 후, 헥산으로 수회 씻어 주고, 여과 후 진공 건조하여3,4,6-Trichloro-5-(2-fluoro-phenoxy)-phthalonitrile 를 얻는다.3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (5 g), 2-fluorophenol (2.10 g), K 2 CO 3 (3.9 g), N, N-dimethylformamide (25 ml) in a 100 ml flask Add and stir while heating to 70 ℃. After the reaction was extracted with EA (ethyl acetate). Concentration after extraction gives a solid. The solid obtained at this time is dissolved in a small amount of dichloromethane, washed with hexane several times, filtered and dried under vacuum to obtain 3,4,6-Trichloro-5- (2-fluoro-phenoxy) -phthalonitrile.

합성예Synthesis Example 8: 38: 3 ,4,6-Trichloro-5-(2,5-, 4,6-Trichloro-5- (2,5- dichlorodichloro -- phenoxyphenoxy )-)- phthalonitrile의phthalonitrile 합성 synthesis

100ml 플라스크에 3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile(5g), 2,5-dichlorophenol(3.06g), K2CO3(3.9g), 아세톤(25ml)를 넣고 70℃로가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 필터하고 아세톤으로 워싱하여 나온 액체를 증류하면 고체를 얻을 수 있다. 이 때 얻어진 고체를 소량의 디클로로메탄에 녹인 후, 헥산으로 수회 씻어 주고, 여과 후 진공 건조하여 3,4,6-Trichloro-5-(2,5-dichloro-phenoxy)-phthalonitrile 를 얻는다.3,4,5,6-tetrachlorophthalonitrile (5g), 2,5-dichlorophenol (3.06g), K 2 CO 3 (3.9g) and acetone (25ml) were added to a 100ml flask and heated to 70 ° C. After completion of the reaction, the solid obtained by filtering and distilling the liquid washed with acetone. The solid obtained at this time is dissolved in a small amount of dichloromethane, washed several times with hexane, filtered and dried in vacuo to give 3,4,6-Trichloro-5- (2,5-dichloro-phenoxy) -phthalonitrile.

합성예Synthesis Example 9: 화학식 5로 표시되는 화합물의 합성 9: Synthesis of Compound Represented by Formula 5

100mL 플라스크에 합성예 1의 4-(Biphenyl-2-yloxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile (1.5g), 합성예 2의 3,4,6-Trichloro-5-(2,6-dichloro-phenoxy)-phthalonitrile(0.49g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(1.52g) 및 1-펜탄올(14g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 녹은 후 zinc acetate(0.23g)를 넣고 140℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체에디클로로메탄을 적당히 넣어 고체를 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 5로 표시되는 화합물을 얻는다.4- (Biphenyl-2-yloxy) -3,5,6-trichloro-phthalonitrile (1.5 g) of Synthesis Example 1 and 3,4,6-Trichloro-5- (2,6- of Synthesis Example 2) in a 100 mL flask Dichloro-phenoxy) -phthalonitrile (0.49g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (1.52g), and 1-pentanol (14g) were added and heated to 90 ° C to dissolve the solid, followed by zinc acetate (0.23g). Put and stir while heating to 140 ℃. After completion of the reaction, the precipitate was confirmed by methanol, filtered and dried in vacuo. The dried solid is purified by column chromatography. Solid dichloromethane obtained after purification is appropriately added to dissolve the solid, and then crystallized by adding methanol. The crystallized solid is filtered and vacuum dried to obtain a compound represented by the following formula (5).

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112017002648518-pat00036
Figure 112017002648518-pat00036

Maldi-tof MS :1656.79 m/zMaldi-tof MS: 1656.79 m / z

합성예Synthesis Example 10: 화학식 6으로 표시되는 화합물의 합성 10: Synthesis of Compound Represented by Chemical Formula 6

100mL 플라스크에 합성예 1의4-(Biphenyl-2-yloxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile(1.6g), 합성예 2의 3,4,6-Trichloro-5-(2,6-dichloro-phenoxy)-phthalonitrile(1.5g),1,8-Diazabicycloundec-7-ene(1.74g) 및1-펜탄올(14g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 녹은 후 zinc acetate(0.34g)를 넣고 140℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체에디클로로메탄을 적당히 넣어 고체를 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 6으로 표시되는 화합물을 얻는다.4- (Biphenyl-2-yloxy) -3,5,6-trichloro-phthalonitrile (1.6 g) of Synthesis Example 1 and 3,4,6-Trichloro-5- (2,6- of Synthesis Example 2) in a 100 mL flask Dichloro-phenoxy) -phthalonitrile (1.5g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (1.74g) and 1-pentanol (14g) were added and heated to 90 ° C to dissolve the solid and zinc acetate (0.34g) was added. Put and stir while heating to 140 ℃. After completion of the reaction, the precipitate was confirmed by methanol, filtered and dried in vacuo. The dried solid is purified by column chromatography. Solid dichloromethane obtained after purification is appropriately added to dissolve the solid, and then crystallized by adding methanol. The crystallized solid is filtered and vacuum dried to obtain a compound represented by the following formula (6).

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112017002648518-pat00037
Figure 112017002648518-pat00037

Maldi-tof MS :1649.57 m/zMaldi-tof MS: 1649.57 m / z

합성예Synthesis Example 11: 화학식 7로 표시되는 화합물의 합성 11: Synthesis of Compound Represented by Formula 7

100mL 플라스크에 합성예 1의4-(Biphenyl-2-yloxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile (1g), 합성예 2의 3,4,6-Trichloro-5-(2,6-dichloro-phenoxy)-phthalonitrile(2.9g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(3g)및 1-펜탄올(27g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 녹은 후 zinc acetate(0.45g)를 넣고 140℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체에디클로로메탄을 적당히 넣어 고체를 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 7로 표시되는 화합물을 얻는다.4- (Biphenyl-2-yloxy) -3,5,6-trichloro-phthalonitrile (1 g) of Synthesis Example 1, 3,4,6-Trichloro-5- (2,6-dichloro of Synthesis Example 2, in a 100 mL flask -phenoxy) -phthalonitrile (2.9g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (3g) and 1-pentanol (27g) were added and heated to 90 ° C to melt the solid, followed by zinc acetate (0.45g) and 140 Stir while heating to ° C. After completion of the reaction, the precipitate was confirmed by methanol, filtered and dried in vacuo. The dried solid is purified by column chromatography. Solid dichloromethane obtained after purification is appropriately added to dissolve the solid, and then crystallized by adding methanol. The crystallized solid is filtered and dried in vacuo to obtain a compound represented by the following formula (7).

[화학식 7][Formula 7]

Figure 112017002648518-pat00038
Figure 112017002648518-pat00038

Maldi-tof MS :1642.36 m/zMaldi-tof MS: 1642.36 m / z

합성예Synthesis Example 12: 화학식 8로 표시되는 화합물의 합성 12: Synthesis of Compound Represented by Formula 8

100mL 플라스크에 합성예 2의 3,4,6-Trichloro-5-(2,6-dichloro-phenoxy)-phthalonitrile(1.5g),1,8-Diazabicycloundec-7-ene(0.87g) 및1-펜탄올(7g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 녹은 후 zinc acetate(0.17g)를 넣고 140℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체에디클로로메탄을 적당히 넣어 고체를 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 8로 표시되는 화합물을 얻는다.3,4,6-Trichloro-5- (2,6-dichloro-phenoxy) -phthalonitrile (1.5 g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (0.87 g) and 1-pentane of Synthesis Example 2 in a 100 mL flask Add (7g) and heat to 90 ℃ to dissolve the solid, add zinc acetate (0.17g) and stir while heating to 140 ℃. After completion of the reaction, the precipitate was confirmed by methanol, filtered and dried in vacuo. The dried solid is purified by column chromatography. Solid dichloromethane obtained after purification is suitably added to dissolve the solid, and then crystallized by adding methanol. The crystallized solid is filtered and dried in vacuo to obtain a compound represented by the following formula (8).

[화학식 8][Formula 8]

Figure 112017002648518-pat00039
Figure 112017002648518-pat00039

Maldi-tof MS :1635.14 m/zMaldi-tof MS: 1635.14 m / z

합성예Synthesis Example 13: 화학식 9로 표시되는 화합물의 합성 13: Synthesis of Compound Represented by Formula 9

100mL 플라스크에 합성예 3의 3,4,6-Trichloro-5-(2,6-dibromo-phenoxy)-phthalonitrile(1.5g),1,8-Diazabicycloundec-7-ene(0.87g) 및1-펜탄올(7g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 녹은 후 zinc acetate(0.17g)를 넣고 140℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체에디클로로메탄을 적당히 넣어 고체를 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 9로 표시되는 화합물을 얻는다.3,4,6-Trichloro-5- (2,6-dibromo-phenoxy) -phthalonitrile (1.5 g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (0.87 g) and 1-pentane of Synthesis Example 3 in a 100 mL flask Add (7g) and heat to 90 ℃ to dissolve the solid, add zinc acetate (0.17g) and stir while heating to 140 ℃. After completion of the reaction, the precipitate was confirmed by methanol, filtered and dried under vacuum. The dried solid is purified by column chromatography. Solid dichloromethane obtained after purification is suitably added to dissolve the solid, and then crystallized by adding methanol. The crystallized solid is filtered and vacuum dried to obtain a compound represented by the following formula (9).

[화학식 9][Formula 9]

Figure 112017002648518-pat00040
Figure 112017002648518-pat00040

Maldi-tof MS :1990.78m/zMaldi-tof MS: 1990.78 m / z

합성예Synthesis Example 14: 화학식 10으로 표시되는 화합물의 합성 14: Synthesis of Compound Represented by Formula 10

100mL 플라스크에 합성예 4의 3,4,6-Trichloro-5-(2,6-difluoro-phenoxy)-phthalonitrile(1.5g),1,8-Diazabicycloundec-7-ene(0.87g) 및1-펜탄올(7g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 녹은 후 zinc acetate(0.17g)를 넣고 140℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체에디클로로메탄을 적당히 넣어 고체를 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 10으로 표시되는 화합물을 얻는다.3,4,6-Trichloro-5- (2,6-difluoro-phenoxy) -phthalonitrile (1.5 g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (0.87 g) and 1-pentane of Synthesis Example 4 in a 100 mL flask Add (7g) and heat to 90 ℃ to dissolve the solid, add zinc acetate (0.17g) and stir while heating to 140 ℃. After completion of the reaction, the precipitate was confirmed by methanol, filtered and dried in vacuo. The dried solid is purified by column chromatography. Solid dichloromethane obtained after purification is appropriately added to dissolve the solid, and then crystallized by adding methanol. The crystallized solid is filtered and vacuum dried to obtain a compound represented by the following formula (10).

[화학식 10][Formula 10]

Figure 112017002648518-pat00041
Figure 112017002648518-pat00041

Maldi-tof MS :1503.53 m/zMaldi-tof MS: 1503.53 m / z

합성예Synthesis Example 15: 화학식 11로 표시되는 화합물의 합성 15: Synthesis of Compound Represented by Formula 11

100mL 플라스크에 합성예 5의 3,4,6-Trichloro-5-(2-chloro-phenoxy)-phthalonitrile(1.5g),1,8-Diazabicycloundec-7-ene(0.87g) 및1-펜탄올(7g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 녹은 후 zinc acetate(0.17g)를 넣고 140℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체에디클로로메탄을 적당히 넣어 고체를 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 11로 표시되는 화합물을 얻는다.In a 100 mL flask, 3,4,6-Trichloro-5- (2-chloro-phenoxy) -phthalonitrile (1.5 g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (0.87 g) and 1-pentanol of Synthesis Example 5 ( 7g) is added and heated to 90 ° C to dissolve the solid, and then zinc acetate (0.17g) is added and stirred while heating to 140 ° C. After completion of the reaction, the precipitate was confirmed by methanol, filtered and dried under vacuum. The dried solid is purified by column chromatography. Solid dichloromethane obtained after purification is appropriately added to dissolve the solid, and then crystallized by adding methanol. The crystallized solid is filtered and vacuum dried to obtain a compound represented by the following formula (11).

[화학식 11][Formula 11]

Figure 112017002648518-pat00042
Figure 112017002648518-pat00042

Maldi-tof MS :1497.38 m/zMaldi-tof MS: 1497.38 m / z

합성예Synthesis Example 16: 화학식 12로 표시되는 화합물의 합성 16: Synthesis of Compound Represented by Formula 12

100mL 플라스크에 합성예 6의 3,4,6-Trichloro-5-(2-bromo-phenoxy)-phthalonitrile(1.5g),1,8-Diazabicycloundec-7-ene(0.87g) 및1-펜탄올(7g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 녹은 후 zinc acetate(0.17g)를 넣고 140℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체에디클로로메탄을 적당히 넣어 고체를 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 12로 표시되는 화합물을 얻는다.In a 100 mL flask, 3,4,6-Trichloro-5- (2-bromo-phenoxy) -phthalonitrile (1.5 g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (0.87 g) and 1-pentanol of Synthesis Example 6 ( 7g) is added and heated to 90 ° C to dissolve the solid, and then zinc acetate (0.17g) is added and stirred while heating to 140 ° C. After completion of the reaction, the precipitate was confirmed by methanol, filtered and dried under vacuum. The dried solid is purified by column chromatography. Solid dichloromethane obtained after purification is appropriately added to dissolve the solid, and then crystallized by adding methanol. The crystallized solid is filtered and dried in vacuo to obtain a compound represented by the following formula (12).

[화학식 12][Formula 12]

Figure 112017002648518-pat00043
Figure 112017002648518-pat00043

Maldi-tof MS :1675.19 m/zMaldi-tof MS: 1675.19 m / z

합성예Synthesis Example 17: 화학식 13으로 표시되는 화합물의 합성 17: Synthesis of Compound Represented by Chemical Formula 13

100mL 플라스크에 합성예 7의 3,4,6-Trichloro-5-(2-fluoro-phenoxy)-phthalonitrile(1.5g),1,8-Diazabicycloundec-7-ene(0.87g) 및1-펜탄올(7g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 녹은 후 zinc acetate(0.17g)를 넣고 140℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체에디클로로메탄을 적당히 넣어 고체를 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 13으로 표시되는 화합물을 얻는다.In a 100 mL flask, 3,4,6-Trichloro-5- (2-fluoro-phenoxy) -phthalonitrile (1.5 g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (0.87 g) and 1-pentanol ( 7g) is added and heated to 90 ° C to dissolve the solid, and then zinc acetate (0.17g) is added and stirred while heating to 140 ° C. After completion of the reaction, the precipitate was confirmed by methanol, filtered and dried in vacuo. The dried solid is purified by column chromatography. Solid dichloromethane obtained after purification is appropriately added to dissolve the solid, and then crystallized by adding methanol. The crystallized solid is filtered and vacuum dried to obtain a compound represented by the following formula (13).

[화학식 13][Formula 13]

Figure 112017002648518-pat00044
Figure 112017002648518-pat00044

Maldi-tof MS :1431.57 m/zMaldi-tof MS: 1431.57 m / z

합성예Synthesis Example 18: 화학식 14로 표시되는 화합물의 합성 18: Synthesis of Compound Represented by Formula 14

100mL 플라스크에 합성예 1의4-(Biphenyl-2-yloxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile(1.6g), 합성예 8의 3,4,6-Trichloro-5-(2,5-dichloro-phenoxy)-phthalonitrile(1.5g),1,8-Diazabicycloundec-7-ene(1.74g) 및1-펜탄올(14g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 녹은 후 zinc acetate(0.34g)를 넣고 140℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체에디클로로메탄을 적당히 넣어 고체를 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 14로 표시되는 화합물을 얻는다.4- (Biphenyl-2-yloxy) -3,5,6-trichloro-phthalonitrile (1.6 g) of Synthesis Example 1 and 3,4,6-Trichloro-5- (2,5- of Synthesis Example 8) in a 100 mL flask Dichloro-phenoxy) -phthalonitrile (1.5g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (1.74g) and 1-pentanol (14g) were added and heated to 90 ° C to dissolve the solid and zinc acetate (0.34g) was added. Put and stir while heating to 140 ℃. After completion of the reaction, the precipitate was confirmed by methanol, filtered and dried in vacuo. The dried solid is purified by column chromatography. Solid dichloromethane obtained after purification is appropriately added to dissolve the solid, and then crystallized by adding methanol. The crystallized solid is filtered and dried in vacuo to obtain a compound represented by the following formula (14).

[화학식 14][Formula 14]

Figure 112017002648518-pat00045
Figure 112017002648518-pat00045

Maldi-tof MS :1649.57 m/zMaldi-tof MS: 1649.57 m / z

비교 compare 합성예Synthesis Example 1: 화학식 X로 표시되는 화합물의 합성 1: Synthesis of Compound Represented by Formula (X)

100mL 플라스크에4-(2-sec-Butyl-phenoxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile(1g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(0.30g), 1-펜탄올(7g), zinc acetate(0.12g)를넣고 140℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 농축하여 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 액체를 농축하여 고체를 얻는다. 상기 결정화된 고체를 진공건조하여, 하기 화학식 X로 표시되는 화합물을 얻었다.In a 100 mL flask, 4- (2-sec-Butyl-phenoxy) -3,5,6-trichloro-phthalonitrile (1 g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (0.30 g), 1-pentanol (7 g), Add zinc acetate (0.12 g) and stir while heating to 140 ° C. After completion of the reaction, the reaction mixture was concentrated and purified by column chromatography. The liquid obtained after purification is concentrated to give a solid. The crystallized solid was vacuum dried to obtain a compound represented by the following general formula (X).

[화학식 X][Formula X]

Figure 112017002648518-pat00046
Figure 112017002648518-pat00046

Maldi-tof MS : 1584.04 m/zMaldi-tof MS: 1584.04 m / z

(감광성 수지 조성물의 합성)(Synthesis of Photosensitive Resin Composition)

실시예Example 1 One

하기 언급된 구성성분들을 하기 표 1에 나타낸 조성으로 혼합하여 실시예 1에 따른 감광성 수지 조성물을 제조하였다.The photosensitive resin compositions according to Example 1 were prepared by mixing the components mentioned below in the compositions shown in Table 1 below.

구체적으로, 용매에 광중합 개시제를 녹인 후 2 시간 동안 상온에서 교반한 다음, 여기에 알칼리 가용성 수지 및 광중합성 화합물을 첨가하여 2시간 동안 상온에서 교반하였다. 이어서, 얻어진 상기 반응물에 착색제로서 상기 합성예9에서 제조된 화합물(화학식5로 표시되는 화합물) 및 안료(안료분산액 형태)를 넣고 1시간 동안 상온에서 교반하였다. 이어 상기 생성물을 3회 여과하여 불순물을 제거함으로써, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.Specifically, after dissolving the photopolymerization initiator in a solvent and stirred at room temperature for 2 hours, an alkali-soluble resin and a photopolymerizable compound were added thereto, followed by stirring at room temperature for 2 hours. Subsequently, a compound (a compound represented by Chemical Formula 5) and a pigment (in the form of a pigment dispersion) prepared in Synthesis Example 9 were added as a colorant to the obtained reactant, followed by stirring at room temperature for 1 hour. The product was then filtered three times to remove impurities, thereby preparing a photosensitive resin composition.

(단위: 중량%)(Unit: weight%) 배합원료Blended raw materials 함량content 착색제coloring agent 염료dyes 합성예 9의 화합물Compound of Synthesis Example 9 5.05.0 안료분산액Pigment Dispersion Pigment Y138 안료분산액Pigment Y138 Pigment Dispersion 15.015.0 알칼리 가용성 수지Alkali soluble resin (A)/(B)=15/85(w/w),
분자량(Mw)=22,000g/mol
(A): 메타크릴산
(B): 벤질메타크릴레이트
(A) / (B) = 15/85 (w / w),
Molecular weight (Mw) = 22,000 g / mol
(A): methacrylic acid
(B): benzyl methacrylate
3.53.5
광중합성 화합물Photopolymerizable compound 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(DPHA)Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) 8.08.0 광중합 개시제Photopolymerization initiator 1,2-옥탄디온1,2-octanedione 1.01.0 2-디메틸아미노-2-(4-메틸-벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온2-dimethylamino-2- (4-methyl-benzyl) -1- (4-morpholin-4-yl-phenyl) -butan-1-one 0.50.5 용매menstruum 사이클로헥사논Cyclohexanone 37.037.0 PGMEA(Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate)Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate (PGMEA) 30.030.0 총량(Total)Total 100.00100.00

실시예Example 2 2

합성예 9의 화합물(화학식 5로 표시되는 화합물) 대신 합성예 10의 화합물(화학식 6으로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compound of Synthesis Example 10 (compound represented by Formula 6) was used instead of the compound of Synthesis Example 9 (compound represented by Formula 5).

실시예Example 3 3

합성예 9의 화합물(화학식 5로 표시되는 화합물) 대신 합성예 11의 화합물(화학식 7로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compound of Synthesis Example 11 (compound represented by Formula 7) was used instead of the compound of Synthesis Example 9 (compound represented by Formula 5).

실시예Example 4 4

합성예 9의 화합물(화학식 5로 표시되는 화합물) 대신 합성예 12의 화합물(화학식 8로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compound of Synthesis Example 12 (compound represented by Formula 8) was used instead of the compound of Synthesis Example 9 (compound represented by Formula 5).

실시예 5Example 5

합성예 9의 화합물(화학식 5로 표시되는 화합물) 대신 합성예 13의 화합물(화학식 9로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compound of Synthesis Example 13 (compound represented by Formula 9) was used instead of the compound of Synthesis Example 9 (compound represented by Formula 5).

실시예Example 6 6

합성예 9의 화합물(화학식 5로 표시되는 화합물) 대신 합성예 14의 화합물(화학식 10으로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compound of Synthesis Example 14 (compound represented by Formula 10) was used instead of the compound of Synthesis Example 9 (compound represented by Formula 5).

실시예Example 7 7

합성예 9의 화합물(화학식 5로 표시되는 화합물) 대신 합성예 15의 화합물(화학식 11로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compound of Synthesis Example 15 (compound represented by Formula 11) was used instead of the compound of Synthesis Example 9 (compound represented by Formula 5).

실시예Example 8 8

합성예 9의 화합물(화학식 5로 표시되는 화합물) 대신 합성예 16의 화합물(화학식 12로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compound of Synthesis Example 16 (compound represented by Formula 12) was used instead of the compound of Synthesis Example 9 (compound represented by Formula 5).

실시예Example 9 9

합성예 9의 화합물(화학식 5로 표시되는 화합물) 대신 합성예 17의 화합물(화학식 13으로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compound of Synthesis Example 17 (compound represented by Formula 13) was used instead of the compound of Synthesis Example 9 (compound represented by Formula 5).

실시예Example 10 10

합성예 9의 화합물(화학식 5로 표시되는 화합물) 대신 합성예 18의 화합물(화학식 14로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compound of Synthesis Example 18 (compound represented by Formula 14) was used instead of the compound of Synthesis Example 9 (compound represented by Formula 5).

실시예Example 11 11

염료를 5 중량% 대신 3.7 중량% 사용하고, "Pigment Y138 안료분산액 15.0 중량%" 대신 "Pigment G58 안료분산액 2.5 중량% 및 Pigment Y138 안료분산액 13.7 중량%"를 사용하고, PGMEA를 30.0 중량% 대신 30.1 중량% 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.3.7% by weight instead of 5% by weight, "2.5% by weight of Pigment G58 pigment dispersion and 13.7% by weight of Pigment Y138 pigment dispersion" instead of "15.0% by weight of Pigment Y138 pigment dispersion" and 30.1% by weight of PGMEA instead of 30.0% by weight. A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the wt% was used.

실시예Example 12 12

합성예 9의 화합물(화학식 5로 표시되는 화합물) 대신 합성예 10의 화합물(화학식 6으로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 11과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 11, except that the compound of Synthesis Example 10 (compound represented by Formula 6) was used instead of the compound of Synthesis Example 9 (compound represented by Formula 5).

실시예Example 13 13

합성예 9의 화합물(화학식 5로 표시되는 화합물) 대신 합성예 11의 화합물(화학식 7로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 11과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 11 except that the compound of Synthesis Example 11 (compound represented by Formula 7) was used instead of the compound of Synthesis Example 9 (compound represented by Formula 5).

실시예Example 14 14

합성예 9의 화합물(화학식 5로 표시되는 화합물) 대신 합성예 12의 화합물(화학식 8로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 11과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 11, except that the compound of Synthesis Example 12 (compound represented by Formula 8) was used instead of the compound of Synthesis Example 9 (compound represented by Formula 5).

실시예Example 15 15

합성예 9의 화합물(화학식 5로 표시되는 화합물) 대신 합성예 13의 화합물(화학식 9로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 11과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 11 except that the compound of Synthesis Example 13 (compound represented by Formula 9) was used instead of the compound of Synthesis Example 9 (compound represented by Formula 5).

실시예Example 16 16

합성예 9의 화합물(화학식 5로 표시되는 화합물) 대신 합성예 14의 화합물(화학식 10으로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 11과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 11 except that the compound of Synthesis Example 14 (compound represented by Formula 10) was used instead of the compound of Synthesis Example 9 (compound represented by Formula 5).

실시예Example 17 17

합성예 9의 화합물(화학식 5로 표시되는 화합물) 대신 합성예 15의 화합물(화학식 11로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 11과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 11, except that the compound of Synthesis Example 15 (compound represented by Formula 11) was used instead of the compound of Synthesis Example 9 (compound represented by Formula 5).

실시예Example 18 18

합성예 9의 화합물(화학식 5로 표시되는 화합물) 대신 합성예 16의 화합물(화학식 12로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 11과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 11 except that the compound of Synthesis Example 16 (compound represented by Formula 12) was used instead of the compound of Synthesis Example 9 (compound represented by Formula 5).

실시예Example 19 19

합성예 9의 화합물(화학식 5로 표시되는 화합물) 대신 합성예 17의 화합물(화학식 13으로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 11과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 11, except that the compound of Synthesis Example 17 (compound represented by Formula 13) was used instead of the compound of Synthesis Example 9 (compound represented by Formula 5).

실시예Example 20 20

합성예 9의 화합물(화학식 5로 표시되는 화합물) 대신 합성예 18의 화합물(화학식 14로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 11과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 11 except that the compound of Synthesis Example 18 (compound represented by Formula 14) was used instead of the compound of Synthesis Example 9 (compound represented by Formula 5).

비교예Comparative example 1 One

합성예 9의 화합물(화학식 5로 표시되는 화합물) 대신 비교 합성예 1의 화합물(화학식 X로 표시되는 화합물)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compound of Comparative Synthesis Example 1 (compound represented by Formula X) was used instead of the compound of Synthesis Example 9 (compound represented by Formula 5).

비교예Comparative example 2 2

표 1에 나타낸 조성 대신 하기 표 2에 나타낸 조성으로 혼합한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition shown in Table 2 was used instead of the composition shown in Table 1.

(단위: 중량%)(Unit: weight%) 배합원료Blended raw materials 함량content 착색제coloring agent 안료분산액Pigment Dispersion Pigment G58 안료분산액Pigment G58 Pigment Dispersion 20.020.0 Pigment Y138 안료분산액Pigment Y138 Pigment Dispersion 15.015.0 알칼리 가용성 수지Alkali soluble resin (A)/(B)=15/85(w/w),
분자량(Mw)=22,000g/mol
(A): 메타크릴산
(B): 벤질메타크릴레이트
(A) / (B) = 15/85 (w / w),
Molecular weight (Mw) = 22,000 g / mol
(A): methacrylic acid
(B): benzyl methacrylate
2.52.5
광중합성 화합물Photopolymerizable compound 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(DPHA)Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) 5.05.0 광중합 개시제Photopolymerization initiator 1,2-옥탄디온1,2-octanedione 1.01.0 2-디메틸아미노-2-(4-메틸-벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온2-dimethylamino-2- (4-methyl-benzyl) -1- (4-morpholin-4-yl-phenyl) -butan-1-one 0.50.5 용매menstruum 사이클로헥사논Cyclohexanone 40.040.0 PGMEA(Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate)Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate (PGMEA) 16.016.0 총량(Total)Total 100.00100.00

평가: 휘도 및 명암비 측정Evaluation: Luminance and Contrast Ratio Measurements

탈지 세척한 두께 1 mm의 유리 기판 상에 1 ㎛ 내지 3 ㎛의 두께로 상기 실시예 1 내지 실시예 20, 비교예 1및 비교예 2에서 제조한 감광성 수지 조성물을 도포하고, 90℃의 핫 플레이트 상에서 2분 동안 건조시켜 도막을 수득하였다. 계속해서 도막에 365nm의 주파장을 가진 고압수은램프를 사용하여 노광하였다. 이 후, 200℃의 열풍순환식 건조로 안에서 5분 동안 건조시켜 샘플을 수득하였다. 화소층은 분광광도계(MCPD3000, Otsuka electronic社)를 이용하여 휘도(Y) 및 명암비를 측정하여, 하기 표 3에 기재하였다.The photosensitive resin composition prepared in Example 1 to Example 20, Comparative Example 1 and Comparative Example 2 was applied to a glass substrate having a thickness of 1 mm by degreasing washing, and a 90 ° C. hot plate Drying over the bed for 2 minutes gave a coating. Subsequently, the coating film was exposed using a high pressure mercury lamp having a dominant wavelength of 365 nm. Thereafter, the sample was dried in a hot air circulation drying furnace at 200 ° C. for 5 minutes. The pixel layer measured luminance (Y) and contrast ratio using a spectrophotometer (MCPD3000, Otsuka electronic Co., Ltd.), and is shown in Table 3 below.

휘도 (Y)Brightness (Y) 명암비Contrast Ratio 실시예 1Example 1 63.263.2 15,70015,700 실시예 2Example 2 63.663.6 15,60015,600 실시예 3Example 3 63.363.3 15,200 15,200 실시예 4Example 4 63.363.3 15,20015,200 실시예 5Example 5 63.163.1 15,40015,400 실시예 6Example 6 62.862.8 15,30015,300 실시예 7Example 7 62.962.9 15,20015,200 실시예 8Example 8 63.063.0 15,30015,300 실시예 9Example 9 62.862.8 15,50015,500 실시예 10Example 10 62.662.6 15,50015,500 실시예 11Example 11 62.862.8 14,90014,900 실시예 12Example 12 63.063.0 14,80014,800 실시예 13Example 13 62.962.9 14,60014,600 실시예 14Example 14 62.862.8 14,70014,700 실시예 15Example 15 62.762.7 14,80014,800 실시예 16Example 16 62.662.6 15,00015,000 실시예 17Example 17 62.762.7 14,80014,800 실시예 18Example 18 62.762.7 14,70014,700 실시예 19Example 19 62.562.5 14,90014,900 실시예 20Example 20 62.462.4 14,80014,800 비교예 1Comparative Example 1 62.362.3 14,30014,300 비교예 2Comparative Example 2 62.162.1 13,80013,800

상기 표 3으로부터, 일 구현예에 따른 화합물을 염료로 포함하는 실시예 1 내지 실시예 20의 감광성 수지 조성물, 보다 구체적으로는 실시예 1 내지 실시예 9의 감광성 수지 조성물이 상기 화합물을 포함하지 않은 비교예 1 및 비교예 2의 감광성 수지 조성물보다 우수한 색특성을 나타냄을 확인할 수 있다. From Table 3, the photosensitive resin composition of Examples 1 to 20, and more specifically, the photosensitive resin composition of Examples 1 to 9 containing the compound according to one embodiment as a dye does not contain the compound It can be seen that color characteristics superior to the photosensitive resin compositions of Comparative Example 1 and Comparative Example 2 are exhibited.

이상 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고, 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고, 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described, this invention is not limited to this, It can be variously modified and implemented in a claim, a detailed description of an invention, and the range of an accompanying drawing. Naturally, it belongs to the scope of the invention.

Claims (17)

하기 화학식 1로 표시되는 화합물:
[화학식 1]
Figure 112019120664597-pat00047

상기 화학식 1에서,
R1 내지 R16은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기이고,
단, R1 내지 R16 중 적어도 하나는 하기 화학식 3-1, 화학식 3-2, 화학식 3-3 및 화학식 3-4로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시되고,
[화학식 3-1]
Figure 112019120664597-pat00065

[화학식 3-2]
Figure 112019120664597-pat00066

[화학식 3-3]
Figure 112019120664597-pat00067

[화학식 3-4]
Figure 112019120664597-pat00068

상기 화학식 3-1, 화학식 3-2, 화학식 3-3 및 화학식 3-4에서,
R17 및 R18은 각각 독립적으로 할로겐 원자이다.
Compound represented by the following formula (1):
[Formula 1]
Figure 112019120664597-pat00047

In Chemical Formula 1,
R 1 to R 16 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, or a substituted or unsubstituted group Ring C6 to C20 aryloxy group,
Provided that at least one of R 1 to R 16 is represented by any one selected from the group consisting of the following Chemical Formula 3-1, Chemical Formula 3-2, Chemical Formula 3-3, and Chemical Formula 3-4,
[Formula 3-1]
Figure 112019120664597-pat00065

[Formula 3-2]
Figure 112019120664597-pat00066

[Formula 3-3]
Figure 112019120664597-pat00067

[Formula 3-4]
Figure 112019120664597-pat00068

In Chemical Formula 3-1, Chemical Formula 3-2, Chemical Formula 3-3, and Chemical Formula 3-4,
R 17 and R 18 are each independently a halogen atom.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 R1 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 3-1 내지 화학식 3-4로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시되고,
상기 R1 내지 R16 중 적어도 하나는 하기 화학식 4로 표시되는 화합물.
[화학식 4]
Figure 112019056961809-pat00053

The method of claim 1,
At least one of the R 1 to R 16 is represented by any one selected from the group consisting of Formula 3-1 to Formula 3-4,
At least one of the R 1 to R 16 is a compound represented by the formula (4).
[Formula 4]
Figure 112019056961809-pat00053

제3항에 있어서,
상기 R1 내지 R4 중 적어도 하나는 상기 화학식 3-1 내지 화학식 3-4로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시되고,
상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 4로 표시되고,
상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 4로 표시되고,
상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 4로 표시되는 화합물.
The method of claim 3,
At least one of R 1 to R 4 is represented by any one selected from the group consisting of Formula 3-1 to Formula 3-4,
At least one of the R 5 To R 8 Is represented by the formula (4),
At least one of R 9 to R 12 is represented by Formula 4,
At least one of the R 13 To R 16 A compound represented by the formula (4).
제3항에 있어서,
상기 R1 내지 R4 중 적어도 하나는 상기 화학식 3-1 내지 화학식 3-4로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시되고,
상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 3-1 내지 화학식 3-4로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시되고,
상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 4로 표시되고,
상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 4로 표시되는 화합물.
The method of claim 3,
At least one of R 1 to R 4 is represented by any one selected from the group consisting of Formula 3-1 to Formula 3-4,
At least one of R 5 to R 8 is represented by any one selected from the group consisting of Formula 3-1 to Formula 3-4,
At least one of R 9 to R 12 is represented by Formula 4,
At least one of the R 13 To R 16 A compound represented by the formula (4).
제3항에 있어서,
상기 R1 내지 R4 중 적어도 하나는 상기 화학식 3-1 내지 화학식 3-4로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시되고,
상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 4로 표시되고,
상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 3-1 내지 화학식 3-4로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시되고,
상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 4로 표시되는 화합물.
The method of claim 3,
At least one of R 1 to R 4 is represented by any one selected from the group consisting of Formula 3-1 to Formula 3-4,
At least one of the R 5 To R 8 Is represented by the formula (4),
At least one of the R 9 to R 12 is represented by any one selected from the group consisting of Formula 3-1 to Formula 3-4,
At least one of the R 13 To R 16 A compound represented by the formula (4).
제3항에 있어서,
상기 R1 내지 R4 중 적어도 하나는 상기 화학식 3-1 내지 화학식 3-4로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시되고,
상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 3-1 내지 화학식 3-4로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시되고,
상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 3-1 내지 화학식 3-4로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시되고,
상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 4로 표시되는 화합물.
The method of claim 3,
At least one of R 1 to R 4 is represented by any one selected from the group consisting of Formula 3-1 to Formula 3-4,
At least one of R 5 to R 8 is represented by any one selected from the group consisting of Formula 3-1 to Formula 3-4,
At least one of the R 9 to R 12 is represented by any one selected from the group consisting of Formula 3-1 to Formula 3-4,
At least one of the R 13 To R 16 A compound represented by the formula (4).
제1항에 있어서,
상기 R1 내지 R4 중 적어도 하나는 상기 화학식 3-1 내지 화학식 3-4로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시되고,
상기 R5 내지 R8 중 적어도 하나는 상기 화학식 3-1 내지 화학식 3-4로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시되고,
상기 R9 내지 R12 중 적어도 하나는 상기 화학식 3-1 내지 화학식 3-4로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시되고,
상기 R13 내지 R16 중 적어도 하나는 상기 화학식 3-1 내지 화학식 3-4로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나로 표시되는 화합물.
The method of claim 1,
At least one of R 1 to R 4 is represented by any one selected from the group consisting of Formula 3-1 to Formula 3-4,
At least one of R 5 to R 8 is represented by any one selected from the group consisting of Formula 3-1 to Formula 3-4,
At least one of the R 9 to R 12 is represented by any one selected from the group consisting of Formula 3-1 to Formula 3-4,
At least one of R 13 to R 16 is a compound represented by any one selected from the group consisting of Formula 3-1 to Formula 3-4.
제1항에 있어서,
상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 5 내지 화학식 13 중 어느 하나로 표시되는 화합물.
[화학식 5]
Figure 112019120664597-pat00054

[화학식 6]
Figure 112019120664597-pat00055

[화학식 7]
Figure 112019120664597-pat00056

[화학식 8]
Figure 112019120664597-pat00057

[화학식 9]
Figure 112019120664597-pat00058

[화학식 10]
Figure 112019120664597-pat00059

[화학식 11]
Figure 112019120664597-pat00060

[화학식 12]
Figure 112019120664597-pat00061

[화학식 13]
Figure 112019120664597-pat00062

The method of claim 1,
The compound represented by Chemical Formula 1 is a compound represented by any one of the following Chemical Formulas 5 to 13.
[Formula 5]
Figure 112019120664597-pat00054

[Formula 6]
Figure 112019120664597-pat00055

[Formula 7]
Figure 112019120664597-pat00056

[Formula 8]
Figure 112019120664597-pat00057

[Formula 9]
Figure 112019120664597-pat00058

[Formula 10]
Figure 112019120664597-pat00059

[Formula 11]
Figure 112019120664597-pat00060

[Formula 12]
Figure 112019120664597-pat00061

[Formula 13]
Figure 112019120664597-pat00062

제1항에 있어서,
상기 화합물은 녹색 염료인 화합물.
The method of claim 1,
The compound is a green dye.
제10항에 있어서,
상기 녹색 염료는 445nm 내지 560nm의 파장범위에서 최대 투과도를 가지는 화합물.
The method of claim 10,
The green dye has a maximum transmittance in the wavelength range of 445nm to 560nm.
제1항 및 제3항 내지 제11항 중 어느 한 항의 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물.
The photosensitive resin composition containing the compound of any one of Claims 1-11.
제12항에 있어서,
상기 화합물은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 1 중량% 내지 10 중량%로 포함되는 감광성 수지 조성물.
The method of claim 12,
The compound is 1% by weight to 10% by weight relative to the total amount of the photosensitive resin composition.
제12항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용매를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
The method of claim 12,
The photosensitive resin composition further comprises an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator and a solvent.
제14항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은 안료를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
The method of claim 14,
The photosensitive resin composition further comprises a pigment.
제15항에 있어서,
상기 안료는 황색 안료, 녹색 안료 또는 이들의 조합을 포함하는 감광성 수지 조성물.
The method of claim 15,
The pigment is a photosensitive resin composition comprising a yellow pigment, a green pigment or a combination thereof.
제12항의 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조되는 컬러필터.The color filter manufactured using the photosensitive resin composition of Claim 12.
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