KR102624672B1 - Photosensitive resin composition, photosensitive resin using the same and color filter - Google Patents

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Abstract

(A) 청색 안료, 하기 화학식 1로 표시되는 염료 및 프탈로시아닌계 염료를 포함하는 착색제; (B) 바인더 수지; (C) 광중합성 화합물; (D) 광중합 개시제; 및 (E) 용매를 포함하고, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 감광성 수지 조성물 총량에 대해 10 중량% 이하로 포함되고, 상기 프탈로시아닌계 염료는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 25 중량% 이하로 포함되는 감광성 수지 조성물, 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조되는 감광성 수지막 및 컬러필터가 제공된다.
[화학식 1]

(상기 화학식 1에서, 각 치환기는 명세서에 정의된 바와 같다.)
(A) a colorant containing a blue pigment, a dye represented by the following formula (1), and a phthalocyanine-based dye; (B) binder resin; (C) photopolymerizable compound; (D) photopolymerization initiator; and (E) a solvent, wherein the compound represented by Formula 1 is contained in an amount of 10% by weight or less based on the total amount of the photosensitive resin composition, and the phthalocyanine-based dye is contained in an amount of 25% by weight or less based on the total amount of the photosensitive resin composition. A photosensitive resin composition, a photosensitive resin film, and a color filter manufactured using the photosensitive resin composition are provided.
[Formula 1]

(In Formula 1 above, each substituent is as defined in the specification.)

Description

감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터 {PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIN USING THE SAME AND COLOR FILTER}Photosensitive resin composition, photosensitive resin film and color filter using the same {PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIN USING THE SAME AND COLOR FILTER}

본 기재는 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조되는 감광성 수지막 및 컬러필터에 관한 것이다.This description relates to a photosensitive resin composition, a photosensitive resin film and color filter manufactured using the same.

디스플레이 장치 중의 하나인 액정디스플레이 장치는 경량화, 박형화, 저가, 저소비 전력 구동화 및 우수한 집적회로와의 접합성 등의 장점을 가지고 있어 노트북 컴퓨터, 모니터 및 TV 화상용으로 그 사용범위가 확대되고 있다. 이와 같은 액정디스플레이 장치는 블랙매트릭스(차광층), 컬러필터 및 ITO 화소전극이 형성된 하부 기판과, 액정층, 박막트랜지스터, 축전 캐패시터층으로 구성된 능동회로부와 ITO 화소전극이 형성된 상부의 기판을 포함하여 구성된다. Liquid crystal display devices, one of the display devices, have advantages such as light weight, thinness, low cost, low power consumption, and excellent adhesion to integrated circuits, so their range of use is expanding to laptop computers, monitors, and TV images. Such a liquid crystal display device includes a lower substrate on which a black matrix (light blocking layer), a color filter, and ITO pixel electrodes are formed, an active circuit section consisting of a liquid crystal layer, a thin film transistor, and a storage capacitor layer, and an upper substrate on which ITO pixel electrodes are formed. It is composed.

컬러필터는 화소 사이의 경계부를 차광하기 위해서 투명 기판 상에 정해진 패턴으로 형성된 블랙 매트릭스(차광층) 및 각각의 화소를 형성하기 위해 복수의 색(통상적으로, 적(R), 녹(G), 청(B)의 3원색을 정해진 순서로 배열한 화소부가 차례로 적층된 구조를 취하고 있다. A color filter is a black matrix (light-shielding layer) formed in a predetermined pattern on a transparent substrate to block light at the boundary between pixels, and a plurality of colors (typically red (R), green (G), etc.) to form each pixel. It has a structure in which the pixel units, in which the three primary colors of blue (B) are arranged in a certain order, are stacked one after another.

컬러필터를 구현하는 방법 중의 하나인 안료분산법은 블랙 매트릭스가 제공된 투명한 기질 위에 착색제를 함유하는 광중합성 조성물을 코팅하고, 형성하고자 하는 형태의 패턴을 노광한 후, 비노광 부위를 용제로 제거하여 열경화시키는 일련의 과정을 반복함으로써 착색 박막이 형성되는 방법이다. 안료분산법에 따른 컬러필터 제조에 사용되는 착색 감광성 수지 조성물은 일반적으로 알칼리 가용성 수지, 광중합 단량체, 광중합 개시제, 에폭시 수지, 용제와 기타 첨가제 등으로 이루어진다. 상기의 특징을 가지는 안료분산법은 휴대폰, 노트북, 모니터, TV 등의 LCD를 제조하는 데 활발하게 응용되고 있다. The pigment dispersion method, which is one of the methods of implementing a color filter, involves coating a photopolymerizable composition containing a colorant on a transparent substrate provided with a black matrix, exposing the pattern of the shape to be formed, and then removing the unexposed area with a solvent. This is a method of forming a colored thin film by repeating a series of heat curing processes. The colored photosensitive resin composition used to manufacture color filters using the pigment dispersion method generally consists of an alkali-soluble resin, a photopolymerization monomer, a photopolymerization initiator, an epoxy resin, a solvent, and other additives. The pigment dispersion method having the above characteristics is actively used to manufacture LCDs for mobile phones, laptops, monitors, TVs, etc.

그러나, 근래에는 여러 가지 장점을 가지는 안료분산법을 이용한 컬러필터용 감광성 수지 조성물에 있어서도 분말의 미세화 공정이 어렵고 분산을 하더라도 분산상태가 분산액 내에서 안정해야 하기 때문에 다양한 첨가제가 필요하고 공정 또한 매우 까다로우며 더욱이 안료분산액은 최적의 품질상태를 유지하기 위해 보관 및 운송조건이 어려운 단점이 있다. However, in recent years, even for photosensitive resin compositions for color filters using pigment dispersion methods, which have various advantages, the process of micronizing the powder is difficult and even after dispersion, the dispersion state must be stable within the dispersion, so various additives are required and the process is also very difficult. Furthermore, pigment dispersions have the disadvantage of difficult storage and transportation conditions to maintain optimal quality.

또한 안료형 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러필터에서는 안료 입자 크기에서 비롯되는 휘도와 명암비의 한계가 존재한다. 그리고 이미지 센서용 컬러 촬상 소자의 경우에는 미세한 패턴 형성을 위해 더 작은 분산입도를 요구하게 된다. 이와 같은 요구에 부응하고자 안료 대신 또는 안료와 함께, 입자를 이루지 않는 염료를 도입한 감광성 수지 조성물을 제조하여 휘도와 명암비 등의 색특성이 개선된 컬러필터를 구현하려는 시도가 계속되고 있으나, 염료형 감광성 수지 조성물은 안료형 감광성 수지 조성물에 비해 내구성이 떨어지는 문제가 있다. Additionally, color filters manufactured from pigment-type photosensitive resin compositions have limitations in luminance and contrast ratio resulting from the size of pigment particles. And in the case of color imaging devices for image sensors, smaller dispersed particles are required to form fine patterns. In order to meet such demands, attempts are being made to implement color filters with improved color characteristics such as brightness and contrast ratio by manufacturing photosensitive resin compositions that introduce non-particle dyes instead of or together with pigments. However, dye-type Photosensitive resin compositions have a problem of lower durability compared to pigment-type photosensitive resin compositions.

한편, Blue 레지스트의 경우 일반적으로 청색 안료에 바이올렛 염료 또는 안료를 적용하여 색좌표 매칭 및 휘도 증대를 꾀한다. 그러나, 색재현율 증대를 위하여 (By는 일정하게 유지하면서) Bx가 낮은 색좌표(고색 좌표)를 목표로 하거나, 청색광에 오래 노출되는 경우 발생할 수 있는 Eye damage를 줄이기 위하여 450nm 이하 영역의 청색광을 차광하기 위한 노력이 최근들어 진행되고 있다.Meanwhile, in the case of blue resist, violet dye or pigment is generally applied to blue pigment to match color coordinates and increase luminance. However, in order to increase the color gamut, aim for a color coordinate (high color coordinate) with a low Bx (while keeping By constant), or to block blue light in the region of 450 nm or less to reduce eye damage that may occur when exposed to blue light for a long time. Efforts to do so have been underway recently.

디바이스 구성 측면에서는 차광필름을 적용하거나 백라이트(Back Light Unit; BLU)를 변경하는 방법이 있다.In terms of device configuration, there are ways to apply a light-shielding film or change the backlight (Back Light Unit (BLU)).

청색광 차광 필름을 추가하는 경우 공정이 1단계 더 추가되고, 단파장 영역이 cutting된 백라이트를 적용하는 경우 전체 공장 라인 모두를 변경해야 하기에 막대한 비용과 시간이 소요된다.When adding a blue light blocking film, one more step is added to the process, and when applying a backlight with a short wavelength area cut, the entire factory line must be changed, which takes a huge amount of time and money.

레지스트 구성 측면에서는 주로 사용되는 epsilon 형태의 청색 안료 대신 Bx가 낮은 beta 형태의 청색 안료를 과량 적용하여 투과 스펙트럼의 폭을 감소시키는 방법이 있는데, 이 경우 휘도가 매우 저하된다.In terms of resist composition, there is a method of reducing the width of the transmission spectrum by applying an excessive amount of a beta-type blue pigment with a low Bx instead of the mainly used epsilon-type blue pigment. In this case, the luminance is greatly reduced.

일 구현예는 특정 영역의 매우 좁은 파장대를 강하게 흡광하는 분광 특성을 가지는 염료를 프탈로시아닌계 염료와 함께 함량을 제어하면서, 청색 안료와 혼용하여, 고색 좌표(일정한 By 좌표값에서 Bx 좌표값만 낮은 좌표)를 구현하면서, 휘도 및 내구성의 향상을 꾀할 수 있는 감광성 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.One embodiment is to control the content of a dye with a spectral characteristic of strongly absorbing a very narrow wavelength band in a specific area along with a phthalocyanine dye and mix it with a blue pigment to obtain high color coordinates (coordinates where only the Bx coordinate value is low at a certain By coordinate value). ), while providing a photosensitive resin composition that can improve brightness and durability.

다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막을 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a photosensitive resin film manufactured using the photosensitive resin composition.

또 다른 구현예는 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터를 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a color filter including the photosensitive resin film.

본 발명의 일 구현예는 (A) 청색 안료, 하기 화학식 1로 표시되는 염료 및 프탈로시아닌계 염료를 포함하는 착색제; (B) 바인더 수지; (C) 광중합성 화합물; (D) 광중합 개시제; 및 (E) 용매를 포함하고, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 감광성 수지 조성물 총량에 대해 10 중량% 이하로 포함되고, 상기 프탈로시아닌계 염료는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 25 중량% 이하로 포함되는 감광성 수지 조성물을 제공한다.One embodiment of the present invention includes (A) a colorant including a blue pigment, a dye represented by the following formula (1), and a phthalocyanine-based dye; (B) binder resin; (C) photopolymerizable compound; (D) photopolymerization initiator; and (E) a solvent, wherein the compound represented by Formula 1 is contained in an amount of 10% by weight or less based on the total amount of the photosensitive resin composition, and the phthalocyanine-based dye is contained in an amount of 25% by weight or less based on the total amount of the photosensitive resin composition. A photosensitive resin composition is provided.

[화학식 1][Formula 1]

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

M은 Cu, Co, VO, Zn, Pt 또는 In 이고,M is Cu, Co, VO, Zn, Pt or In,

L1 내지 L4는 각각 독립적으로 *-C(=O)O-* 또는 *-S(=O)2NH-* 이고,L 1 to L 4 are each independently *-C(=O)O-* or *-S(=O) 2 NH-*,

R1 내지 R4는 각각 독립적으로 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기이고,R 1 to R 4 are each independently a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, or a substituted or unsubstituted C2 to C20 heteroaryl group,

R5 내지 R12는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 할로겐 원자이다.R 5 to R 12 are each independently a hydrogen atom or a halogen atom.

상기 화학식 1로 표시되는 염료는 상기 프탈로시아닌계 염료보다 적은 함량으로 포함될 수 있다.The dye represented by Formula 1 may be included in a smaller amount than the phthalocyanine-based dye.

상기 화학식 1로 표시되는 염료 및 상기 프탈로시아닌계 염료는 1:1.1 내지 1:2의 중량비로 포함될 수 있다.The dye represented by Formula 1 and the phthalocyanine-based dye may be included in a weight ratio of 1:1.1 to 1:2.

상기 L1 내지 L4는 각각 독립적으로 *-C(=O)O-* 이고, 상기 R1 내지 R4는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기일 수 있다.L 1 to L 4 are each independently *-C(=O)O-*, and R 1 to R 4 may each independently be a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group.

상기 화학식 1로 표시되는 염료는 400nm 내지 435nm의 파장영역에서 최대흡광을 가질 수 있다.The dye represented by Formula 1 may have maximum absorption in the wavelength range of 400 nm to 435 nm.

상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-14 중 어느 하나로 표시될 수 있다.The compound represented by Formula 1 may be represented by any one of the following Formulas 1-1 to 1-14.

[화학식 1-1][Formula 1-1]

[화학식 1-2][Formula 1-2]

[화학식 1-3] [Formula 1-3]

[화학식 1-4] [Formula 1-4]

[화학식 1-5] [Formula 1-5]

[화학식 1-6] [Formula 1-6]

[화학식 1-7] [Formula 1-7]

[화학식 1-8] [Formula 1-8]

[화학식 1-9] [Formula 1-9]

[화학식 1-10] [Formula 1-10]

[화학식 1-11] [Formula 1-11]

[화학식 1-12] [Formula 1-12]

[화학식 1-13] [Formula 1-13]

[화학식 1-14] [Formula 1-14]

상기 화학식 1-1 또는 화학식 1-14에서,In Formula 1-1 or Formula 1-14,

M은 Cu, Co, VO, Zn, Pt 또는 In 이다.M is Cu, Co, VO, Zn, Pt or In.

상기 프탈로시아닌계 염료는 하기 화학식 2로 표시될 수 있다.The phthalocyanine-based dye may be represented by the following formula (2).

[화학식 2][Formula 2]

상기 화학식 2에서,In Formula 2,

R13 내지 R28은 각각 독립적으로 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기이다.R 13 to R 28 are each independently a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryloxy group.

상기 화학식 2에서, R13 내지 R16 중 적어도 하나 및 R21 내지 R24 중 적어도 하나는 할로겐 원자로 치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기일 수 있고, R17 내지 R20 중 적어도 하나 및 R25 내지 R28 중 적어도 하나는 C6 내지 C10 아릴기로 치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기일 수 있다.In Formula 2, at least one of R 13 to R 16 and at least one of R 21 to R 24 may be a C6 to C20 aryloxy group substituted with a halogen atom, and at least one of R 17 to R 20 and R 25 to R 28 At least one of them may be a C6 to C20 aryloxy group substituted with a C6 to C10 aryl group.

상기 화학식 2에서, R14 및 R15 중 어느 하나 및 R22 및 R23 중 어느 하나는 할로겐 원자로 치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기일 수 있고, R18 및 R19 중 어느 하나 및 R26 및 R27 중 어느 하나는 C6 내지 C10 아릴기로 치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기일 수 있다.In Formula 2, any one of R 14 and R 15 and any one of R 22 and R 23 may be a C6 to C20 aryloxy group substituted with a halogen atom, and any one of R 18 and R 19 and R 26 and R 27 Any one of them may be a C6 to C20 aryloxy group substituted with a C6 to C10 aryl group.

상기 바인더 수지는 아크릴계 바인더 수지, 카도계 바인더 수지 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The binder resin may include an acrylic binder resin, a cardo-based binder resin, or a combination thereof.

상기 바인더 수지는 아크릴계 바인더 수지일 수 있다, 이 때, 상기 아크릴계 바인더 수지는 5000 g/mol 내지 15000 g/mol의 중량평균분자량을 가질 수 있고, 80 mgKOH/g 내지 130 mgKOH/g의 산가를 가질 수 있다.The binder resin may be an acrylic binder resin. In this case, the acrylic binder resin may have a weight average molecular weight of 5000 g/mol to 15000 g/mol and an acid value of 80 mgKOH/g to 130 mgKOH/g. You can.

상기 감광성 수지 조성물은 감광성 수지 조성물 총량에 대해, 상기 착색제 30 중량% 내지 50 중량%; 상기 바인더 수지 1 중량% 내지 10 중량%; 상기 광중합성 화합물 1 중량% 내지 10 중량%; 상기 광중합 개시제 0.1 중량% 내지 5 중량% 및 상기 용매 잔부량을 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition includes 30% by weight to 50% by weight of the colorant, based on the total amount of the photosensitive resin composition; 1% to 10% by weight of the binder resin; 1% to 10% by weight of the photopolymerizable compound; It may include 0.1% to 5% by weight of the photopolymerization initiator and the remaining amount of the solvent.

상기 감광성 수지 조성물은 에폭시 화합물, 실란 커플링제, 계면활성제 또는 이들의 조합을 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition may further include an epoxy compound, a silane coupling agent, a surfactant, or a combination thereof.

상기 감광성 수지 조성물은 CIE 색좌표에서 By 값이 0.0600일 때 Bx 값이 0.152 이하일 수 있다.The photosensitive resin composition may have a Bx value of 0.152 or less when the By value is 0.0600 in CIE color coordinates.

다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조되는 감광성 수지막을 제공한다.Another embodiment provides a photosensitive resin film manufactured using the photosensitive resin composition.

또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터를 제공한다.Another embodiment provides a color filter including the photosensitive resin film.

기타 본 발명의 측면들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.Details of other aspects of the invention are included in the detailed description below.

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 특정 영역의 매우 좁은 파장대를 강하게 흡광하는 분광 특성을 가지는 염료의 사용량을 최소화하여 휘도 및 내구성 저하를 방지하면서도, 고색 블루 레지스트에서 낮은 Bx 색좌표를 구현할 수 있다.The photosensitive resin composition according to one embodiment minimizes the amount of dye having a spectral characteristic of strongly absorbing light in a very narrow wavelength range in a specific region, thereby preventing a decrease in luminance and durability, while realizing a low Bx color coordinate in a high-color blue resist.

도 1은 실시예 1 내지 실시예 4, 비교예 1 및 비교예 2에 따른 감광성 수지 조성물의 투과스펙트럼을 나타낸 그래프이다.Figure 1 is a graph showing the transmission spectrum of photosensitive resin compositions according to Examples 1 to 4, Comparative Examples 1, and Comparative Examples 2.

이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다.  다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, this is presented as an example, and the present invention is not limited thereby, and the present invention is only defined by the scope of the claims to be described later.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "치환" 내지 "치환된"이란, 본 발명의 작용기 중의 하나 이상의 수소 원자가 할로겐 원자(F, Br, Cl 또는 I), 히드록시기, 니트로기, 시아노기, 아미노기(NH2, NH(R200) 또는 N(R201)(R202)이고, 여기서 R200, R201 및 R202는 동일하거나 서로 상이하며, 각각 독립적으로 C1 내지 C10 알킬기임), 아미디노기, 하이드라진기, 하이드라존기, 카르복실기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 알키닐기, 치환 또는 비치환된 지환족 유기기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 및 치환 또는 비치환된 헤테로고리기로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 치환기로 치환된 것을 의미한다.Unless otherwise specified herein, “substituted” or “substituted” means that one or more hydrogen atoms in the functional groups of the present invention are halogen atoms (F, Br, Cl or I), hydroxy groups, nitro groups, cyano groups, amino groups ( NH 2 , NH(R 200 ) or N(R 201 )(R 202 ), where R 200 , R 201 and R 202 are the same or different from each other and are each independently a C1 to C10 alkyl group), an amidino group, Hydrazine group, hydrazone group, carboxyl group, substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted alkenyl group, substituted or unsubstituted alkynyl group, substituted or unsubstituted alicyclic organic group, substituted or unsubstituted aryl group, and substituted or unsubstituted heterocyclic groups.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "알킬기"란 C1 내지 C20 알킬기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C15 알킬기를 의미하고, "사이클로알킬기"란 C3 내지 C20 사이클로알킬기를 의미하고, 구체적으로는 C3 내지 C18 사이클로알킬기를 의미하고, "알콕시기"란 C1 내지 C20 알콕시기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C18 알콕시기를 의미하고, "아릴기"란 C6 내지 C20 아릴기를 의미하고, 구체적으로는 C6 내지 C18 아릴기를 의미하고, "알케닐기"란 C2 내지 C20 알케닐기를 의미하고, 구체적으로는 C2 내지 C18 알케닐기를 의미하고, "알킬렌기"란 C1 내지 C20 알킬렌기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C18 알킬렌기를 의미하고, "아릴렌기"란 C6 내지 C20 아릴렌기를 의미하고, 구체적으로는 C6 내지 C16 아릴렌기를 의미한다.Unless otherwise specified herein, “alkyl group” means a C1 to C20 alkyl group, specifically means a C1 to C15 alkyl group, and “cycloalkyl group” means a C3 to C20 cycloalkyl group, specifically C3 refers to a C1 to C18 cycloalkyl group, “alkoxy group” refers to a C1 to C20 alkoxy group, specifically refers to a C1 to C18 alkoxy group, and “aryl group” refers to a C6 to C20 aryl group, specifically refers to a C6 to C20 aryl group. means a C18 aryl group, “alkenyl group” means a C2 to C20 alkenyl group, specifically means a C2 to C18 alkenyl group, and “alkylene group” means a C1 to C20 alkylene group, specifically a C1 to C18 alkylene group, and “arylene group” refers to a C6 to C20 arylene group, specifically, a C6 to C16 arylene group.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "(메타)아크릴레이트"는 "아크릴레이트"와 "메타크릴레이트" 둘 다 가능함을 의미하며, "(메타)아크릴산"은 "아크릴산"과 "메타크릴산" 둘 다 가능함을 의미한다.Unless otherwise specified herein, “(meth)acrylate” means both “acrylate” and “methacrylate”, and “(meth)acrylic acid” means “acrylic acid” and “methacrylic acid”. This means that both are possible.

본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, "조합"이란 혼합 또는 공중합을 의미한다. 또한 "공중합"이란 블록 공중합 내지 랜덤 공중합을 의미하고, "공중합체"란 블록 공중합체 내지 랜덤 공중합체를 의미한다.Unless otherwise defined herein, “combination” means mixing or copolymerization. Additionally, “copolymerization” refers to block copolymerization to random copolymerization, and “copolymer” refers to block copolymerization to random copolymerization.

본 명세서 내 화학식에서 별도의 정의가 없는 한, 화학 결합이 그려져야 하는 위치에 화학결합이 그려져 있지 않은 경우는 상기 위치에 수소 원자가 결합되어 있음을 의미한다.Unless otherwise defined in the chemical formulas in this specification, if a chemical bond is not drawn at a position where a chemical bond should be drawn, it means that a hydrogen atom is bonded at that position.

본 명세서에서 CIE 색좌표라 함은 CIE1931 색좌표를 의미한다. In this specification, CIE color coordinates refer to CIE1931 color coordinates.

본 명세서에서 카도계 수지란, 하기 화학식 3-1 내지 3-11로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 관능기가 수지 내 주골격(backbone)에 포함되는 수지를 의미한다.As used herein, cardo-based resin refers to a resin in which one or more functional groups selected from the group consisting of the following formulas 3-1 to 3-11 are included in the backbone of the resin.

또한, 본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, "*"는 동일하거나 상이한 원자 또는 화학식과 연결되는 부분을 의미한다.Additionally, unless otherwise defined in the specification, “*” means a portion connected to the same or different atom or chemical formula.

일 구현예는 (A) 청색 안료, 하기 화학식 1로 표시되는 염료 및 프탈로시아닌계 염료를 포함하는 착색제; (B) 바인더 수지; (C) 광중합성 화합물; (D) 광중합 개시제; 및 (E) 용매를 포함하고, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 감광성 수지 조성물 총량에 대해 10 중량% 이하로 포함되고, 상기 프탈로시아닌계 염료는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 25 중량% 이하로 포함되는 감광성 수지 조성물을 제공한다.One embodiment includes (A) a colorant including a blue pigment, a dye represented by the following formula (1), and a phthalocyanine-based dye; (B) binder resin; (C) photopolymerizable compound; (D) photopolymerization initiator; and (E) a solvent, wherein the compound represented by Formula 1 is contained in an amount of 10% by weight or less based on the total amount of the photosensitive resin composition, and the phthalocyanine-based dye is contained in an amount of 25% by weight or less based on the total amount of the photosensitive resin composition. A photosensitive resin composition is provided.

[화학식 1][Formula 1]

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

M은 Cu, Co, VO, Zn, Pt 또는 In 이고,M is Cu, Co, VO, Zn, Pt or In,

L1 내지 L4는 각각 독립적으로 *-C(=O)O-* 또는 *-S(=O)2NH-* 이고,L 1 to L 4 are each independently *-C(=O)O-* or *-S(=O) 2 NH-*,

R1 내지 R4는 각각 독립적으로 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기이고,R 1 to R 4 are each independently a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, or a substituted or unsubstituted C2 to C20 heteroaryl group,

R5 내지 R12는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 할로겐 원자이다.R 5 to R 12 are each independently a hydrogen atom or a halogen atom.

기존 컬러필터 레지스트 중 블루 레지스트의 경우 보편적으로 청색 안료에 색좌표 조정 및 휘도 증대를 위해 일부 바이올렛 착색제를 첨가하는 것이 일반적이다. 그러나 최근 색재현율 증대를 위한 신규 블루의 색좌표(고색 좌표)는 Bx가 더 작아지는 추세이다. 이러한 색재현율이 높은 블루 컬러필터를 구현하기 위해서는 광원인 blue LED의 파장인 450nm 근방으로 좁은(narrow) 투과 스펙트럼을 만들어야 하며, 이를 위해, 기존에 보편적으로 쓰이던 epsilon blue(예컨대 C.I. Pigment Blue 15:6 등) 대신 beta blue(예컨대 C.I. Pigment Blue 15:3, C.I. Pigment Blue 15:4 등)인 안료를 사용하되 PWC를 높여 투과 spectrum의 폭을 줄인 레지스트를 제작하는 방향도 제시되고 있다. 그러나, 이 경우 기존 휘도가 매우 떨어진다는 문제가 있다.Among existing color filter resists, in the case of blue resist, it is common to add some violet colorant to the blue pigment to adjust color coordinates and increase luminance. However, recently, the color coordinates (high color coordinates) of the new blue to increase the color gamut have tended to make Bx smaller. In order to implement a blue color filter with such a high color reproduction rate, it is necessary to create a narrow transmission spectrum around 450nm, which is the wavelength of the light source, blue LED. To this end, the previously commonly used epsilon blue (e.g. C.I. Pigment Blue 15:6) must be used. Instead of using beta blue pigments (e.g. C.I. Pigment Blue 15:3, C.I. Pigment Blue 15:4, etc.), there is also a proposal to produce a resist that increases the PWC and reduces the width of the transmission spectrum. However, in this case, there is a problem that the existing luminance is very low.

한편, 본 발명자들은 연구에 연구를 거듭하여, 430nm 이하의 파장에서 최대흡광을 가지고 450nm 이상의 파장에서 95% 이상의 투과율을 보이는 염료를 적용하여 좁은(narrow) 청색 스펙트럼을 구현할 수 있음을 확인하였으나, 내구성의 한계로 이러한 염료의 과량 적용이 어렵다는 단점이 있음을 알아내었다.Meanwhile, through repeated research, the present inventors have confirmed that a narrow blue spectrum can be achieved by applying a dye that has a maximum absorption at a wavelength of 430 nm or less and a transmittance of more than 95% at a wavelength of 450 nm or more. However, the durability It was found that there is a disadvantage in that it is difficult to apply excessive amounts of these dyes due to the limitations of .

일 구현예에 따르면, 고색 좌표 구현을 위해 Bx를 낮추면서도, beta blue 사용 시와 대비하여 휘도 및 내구성 저하가 발생하지 않도록, 특정 구조, 즉 violet 영역을 차단(cutting)하는 염료의 구조를 상기 화학식 1로 한정하고, 이를 epsilon blue(청색 안료) 및 프탈로시아닌계 염료와 함께 사용하되, 상기 화학식 1로 표시되는 염료 및 프탈로시아닌계 염료의 함량을 감광성 수지 조성물 총량에 대해 각각 10 중량% 이하 및 25 중량% 이하가 되도록 제어하였다. (동일한 By 기준) Bx를 낮추기 위해서는 청색 안료 및 violet 영역을 차단(cutting)하는 염료의 함량을 낮추어여 하는데, 일 구현예에서는 상기 청색 안료와 상기 화학식 1로 표시되는 염료를 프탈로시아닌계 염료와 함께 사용함으로써, 청색 안료 및 violet 영역을 차단(cutting)하는 염료의 총 사용량을 크게 줄일 수 있다. 또한, 상기 violet 영역을 차단(cutting)하는 염료는 상기 화학식 1로 표시되는 구조를 가짐으로 인해 420nm 이하의 파장 영역을 주로 흡광하며, 450nm 이후의 파장 영역에서의 투과율은 95% 이상이 되며, 따라서 광원으로부터의 주(main) 스펙트럼의 휘도 손실을 최소화할 수 있어, 착색제 사용량 저하에 따른 휘도 저하 문제도 방지할 수 있다. Bx가 커서 고색 좌표를 구현하지 못했던 종래 감광성 수지 조성물의 경우, 고색 좌표 구현이 가능한 일 구현예에 따른 조성물보다 휘도 및 내구성은 우수하나, 현재 디스플레이 시장에서는 고색 좌표 구현이 가능한 조성물을 더욱 요구하고 있기에, 아무리 휘도 및 내구성이 우수하다 하여도 고색 좌표 구현이 어렵다면, 더 이상 현재 디스플레이 시장에서 인정을 받기는 어렵다. 이러한 현재 상황에 비추어 볼때, Bx가 낮은 고색 좌표를 구현함을 전제로, 휘도 및 내구성을 향상시킬 수 있는 감광성 수지 조성물에 대한 연구가 가장 최신의 트렌드가 되었으며, 본 발명자들 또한 이러한 트렌드에 맞추어 수많은 시행착오를 겪으며 연구를 수행한 결과, 휘도 및 내구성 저하를 방지하면서도, 낮은 Bx 색좌표를 구현할 수 있는 감광성 수지 조성물을 개발하기에 이르렀다.According to one embodiment, while lowering Bx to implement high-color coordinates, a specific structure, that is, a structure of a dye that cuts the violet region, is formed in the formula above to prevent a decrease in luminance and durability compared to when using beta blue. It is limited to 1, and it is used together with epsilon blue (blue pigment) and phthalocyanine dye, and the content of the dye represented by Formula 1 and the phthalocyanine dye is 10% by weight or less and 25% by weight, respectively, based on the total amount of the photosensitive resin composition. It was controlled to be below. (Same By standard) In order to lower Bx, the content of blue pigment and dye that cuts the violet region must be lowered. In one embodiment, the blue pigment and the dye represented by Formula 1 are used together with a phthalocyanine dye. By doing so, the total amount of dye used for cutting blue pigments and violet areas can be greatly reduced. In addition, the dye that cuts the violet region mainly absorbs light in the wavelength range of 420 nm or less due to its structure represented by Formula 1, and the transmittance in the wavelength range after 450 nm is more than 95%, so The luminance loss of the main spectrum from the light source can be minimized, and the problem of luminance decrease due to a decrease in the amount of colorant used can also be prevented. In the case of the conventional photosensitive resin composition, which cannot implement high color coordinates because Bx is large, luminance and durability are superior to the composition according to one embodiment that can implement high color coordinates, but the current display market is demanding more compositions that can realize high color coordinates. , No matter how excellent the luminance and durability are, if it is difficult to implement high color coordinates, it is difficult to receive recognition in the current display market anymore. In light of this current situation, research on photosensitive resin compositions that can improve luminance and durability has become the latest trend, on the premise of realizing high color coordinates with low Bx, and the present inventors have also followed this trend and made numerous As a result of conducting research through trial and error, we were able to develop a photosensitive resin composition that can achieve a low Bx color coordinate while preventing a decrease in luminance and durability.

이하에서 각 성분에 대하여 구체적으로 설명한다.Below, each component is described in detail.

(A) 착색제(A) Colorant

상기 착색제는 청색 안료, 상기 화학식 1로 표시되는 염료 및 프탈로시아닌계 염료를 포함한다.The colorant includes a blue pigment, a dye represented by Formula 1, and a phthalocyanine-based dye.

(청색 안료)(blue pigment)

예컨대, 상기 청색 안료는 입실론 청색(epsilon blue) 안료를 포함할 수 있다. 예컨대, 상기 청색 안료는 “입실론 청색(epsilon blue) 안료”와 함께, “'입실론 청색(epsilon blue) 안료' 및 '잔센(Xanthene)계 violet 염료'의 혼합형(blue-hybrid) 안료”를 모두 포함할 수 있다. 이 경우, 잔센계 violet 염료를 단독으로 사용하는 경우보다 휘도 향상에 도움이 된다. 또한, 입실론 청색(epsilon blue) 안료를 포함하는 것이 400nm 내지 450nm의 파장영역에서의 투과도를 낮게 유지하는 데 유리할 수 있다. 즉, 본 명세서에서 Blue-Hybrid 청색 안료 분산액이라 함은 상기 입실론 청색(epsilon blue) 안료가 분산된 청색 안료분산액에 상기 잔센계 violet 염료가 혼합된 청색 안료분산액을 의미할 수 있다.For example, the blue pigment may include epsilon blue pigment. For example, the blue pigment includes both “epsilon blue pigment” and “blue-hybrid pigment of ‘epsilon blue pigment’ and ‘Xanthene violet dye’” can do. In this case, it helps improve brightness compared to the case where Janssen-based violet dye is used alone. Additionally, including epsilon blue pigment may be advantageous in maintaining low transmittance in the wavelength range of 400 nm to 450 nm. That is, in this specification, the blue-hybrid blue pigment dispersion may mean a blue pigment dispersion in which the Janssen-based violet dye is mixed with the blue pigment dispersion in which the epsilon blue pigment is dispersed.

예컨대, 상기 입실론 청색(epsilon blue) 안료는 C.I. Pigment Blue 15:6 등일 수 있다.For example, the epsilon blue pigment is C.I. It may be Pigment Blue 15:6, etc.

예컨대, 상기 청색 안료는 유기 폴리머와 결합된 유도체일 수 있다.For example, the blue pigment may be a derivative combined with an organic polymer.

예컨대, 상기 청색 안료는 안료분산액의 형태로 상기 감광성 수지 조성물에 포함될 수 있다.For example, the blue pigment may be included in the photosensitive resin composition in the form of a pigment dispersion.

상기 안료분산액은 고형분의 안료, 용제 및 상기 용제 내에 상기 안료를 균일하게 분산시키기 위한 분산제를 포함할 수 있다.The pigment dispersion may include a solid pigment, a solvent, and a dispersant for uniformly dispersing the pigment within the solvent.

상기 고형분의 안료는 안료분산액 총량에 대하여 1 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 8 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 8 중량% 내지 15 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 15 중량%로 포함될 수 있다.The solid pigment is 1% by weight to 20% by weight, such as 8% by weight to 20% by weight, such as 8% by weight to 15% by weight, such as 10% by weight to 20% by weight, such as 10% by weight to 10% by weight, based on the total amount of the pigment dispersion. It may be included at 15% by weight.

상기 분산제로는 비이온성 분산제, 음이온성 분산제, 양이온성 분산제 등을 사용할 수 있다.  상기 분산제의 구체적인 예로는, 폴리알킬렌글리콜 및 이의 에스테르, 폴리옥시알킬렌, 다가알코올 에스테르 알킬렌 옥사이드 부가물, 알코올알킬렌 옥사이드 부가물, 술폰산 에스테르, 술폰산 염, 카르복실산 에스테르, 카르복실산 염, 알킬아미드 알킬렌 옥사이드 부가물, 알킬 아민 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.As the dispersant, a nonionic dispersant, an anionic dispersant, a cationic dispersant, etc. may be used. Specific examples of the dispersant include polyalkylene glycol and its esters, polyoxyalkylene, polyhydric alcohol ester alkylene oxide adduct, alcohol alkylene oxide adduct, sulfonic acid ester, sulfonic acid salt, carboxylic acid ester, carboxylic acid. Salts, alkylamide alkylene oxide adducts, alkyl amines, etc. may be used, and these may be used alone or in combination of two or more.

상기 분산제의 시판되는 제품을 예로 들면, BYK社의 DISPERBYK-101, DISPERBYK-130, DISPERBYK-140, DISPERBYK-160, DISPERBYK-161, DISPERBYK-162, DISPERBYK-163, DISPERBYK-164, DISPERBYK-165, DISPERBYK-166, DISPERBYK-170, DISPERBYK-171, DISPERBYK-182, DISPERBYK-2000, DISPERBYK-2001 등; EFKA 케미칼社의EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA-48, EFKA-49, EFKA-100, EFKA-400, EFKA-450 등; Zeneka社의 Solsperse 5000,Solsperse 12000, Solsperse 13240, Solsperse 13940, Solsperse 17000, Solsperse 20000, Solsperse24000GR, Solsperse 27000, Solsperse 28000 등; 또는 Ajinomoto社의 PB711, PB821 등이 있다.Examples of commercially available dispersants include BYK's DISPERBYK-101, DISPERBYK-130, DISPERBYK-140, DISPERBYK-160, DISPERBYK-161, DISPERBYK-162, DISPERBYK-163, DISPERBYK-164, DISPERBYK-165, and DISPERBYK. -166, DISPERBYK-170, DISPERBYK-171, DISPERBYK-182, DISPERBYK-2000, DISPERBYK-2001, etc.; EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA-48, EFKA-49, EFKA-100, EFKA-400, EFKA-450, etc. from EFKA Chemicals; Zeneka's Solsperse 5000, Solsperse 12000, Solsperse 13240, Solsperse 13940, Solsperse 17000, Solsperse 20000, Solsperse24000GR, Solsperse 27000, Solsperse 28000, etc.; Alternatively, there are Ajinomoto's PB711 and PB821.

상기 분산제는 안료분산액 총량에 대하여 1 중량% 내지 20 중량%로 포함될 수 있다. 분산제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 적절한 점도를 유지할 수 있어감광성 수지 조성물의 분산성이 우수하며, 이로 인해 제품 적용시 광학적, 물리적 및 화학적 품질을 유지할 수 있다.The dispersant may be included in an amount of 1% to 20% by weight based on the total amount of the pigment dispersion. When the dispersant is included within the above range, appropriate viscosity can be maintained and the dispersibility of the photosensitive resin composition is excellent, and thus optical, physical and chemical quality can be maintained when the product is applied.

상기 안료분산액을 형성하는 용제로는 에틸렌글리콜 아세테이트, 에틸셀로솔브, 프로필렌글리콜 메틸에테르아세테이트, 에틸락테이트, 폴리에틸렌글리콜, 사이클로헥사논, 프로필렌글리콜 메틸에테르 등을 사용할 수 있다. Solvents for forming the pigment dispersion include ethylene glycol acetate, ethyl cellosolve, propylene glycol methyl ether acetate, ethyl lactate, polyethylene glycol, cyclohexanone, and propylene glycol methyl ether.

상기 청색 안료분산액은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 10 중량% 내지 25 중량%, 예컨대 15 중량% 내지 25 중량%, 예컨대 16 중량% 내지 24 중량%로 포함될 수 있다. 상기 안료분산액이 상기 범위 내로 포함될 경우, 공정마진 확보에 유리하고, 색재현율 및 명암비가 우수해진다.The blue pigment dispersion may be included in an amount of 10% to 25% by weight, for example, 15% to 25% by weight, for example, 16% to 24% by weight, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the pigment dispersion is contained within the above range, it is advantageous to secure the process margin and the color reproduction rate and contrast ratio are excellent.

(화학식 1로 표시되는 염료)(Dye represented by Chemical Formula 1)

상기 화학식 1로 표시되는 염료는 400nm 내지 450nm의 매우 좁은 영역을 강하게 흡광하는 분광 특성을 가지면서 유기용매에 대한 용해도가 높아, 이를 착색제로 포함하는 감광성 수지 조성물을 사용하면, 색재현율이 우수한 컬러필터를 제조할 수 있다. 400nm 내지 450nm의 매우 좁은 영역은 청색광 위험 지역(Blue Light Hazard Area)로서, 400nm 내지 450nm의 파장 영역에서의 투과도가 높으면 높을수록 그만큼 고색 좌표의 구현(Bx를 낮추는 것)이 어려워지고, 400nm 내지 450nm의 파장 영역에서의 투과도가 낮으면 낮을수록 그만큼 고색 좌표의 구현(Bx를 낮추는 것)이 용이해지게 된다. 400nm 내지 450nm의 파장 영역에서의 투과도는 투과도 그래프의 아래부분의 면적에 비례하는 바, 투과 스펙트럼을 확인함으로써, 투과도가 높은지 낮은지를 쉽게 확인할 수 있다(도 1 참조). 나아가, 상기 화학식 1로 표시되는 염료를 착색제로 포함하는 조성물을 사용하여 제조된 감광성 수지막은 높은 색재현율 및 낮은 반사율을 가진다.The dye represented by Formula 1 has spectral characteristics of strongly absorbing light in a very narrow region of 400 nm to 450 nm and has high solubility in organic solvents, so when a photosensitive resin composition containing it as a colorant is used, a color filter with excellent color gamut is produced. can be manufactured. The very narrow area of 400nm to 450nm is the Blue Light Hazard Area. The higher the transmittance in the wavelength range of 400nm to 450nm, the more difficult it is to implement high-color coordinates (lowering Bx). The lower the transmittance in the wavelength region, the easier it is to implement high-color coordinates (lowering Bx). Transmittance in the wavelength range of 400 nm to 450 nm is proportional to the area of the lower part of the transmittance graph, and by checking the transmission spectrum, it can be easily confirmed whether the transmittance is high or low (see Figure 1). Furthermore, a photosensitive resin film manufactured using a composition containing the dye represented by Formula 1 as a colorant has high color reproduction and low reflectance.

상기 화학식 1에서, 치환기들(*-L1-R1, *-L2-R2, *-L3-R3 및 *-L4-R4)의 치환 위치는 오르쏘(ortho), 메타(meta), 파라(para) 중 파라(para) 위치에 오는 것이 400nm 내지 450nm의 좁은 파장 영역에서의 흡광도를 높이는 데 유리할 수 있다. 예컨대, 상기 치환기들의 치환 위치가 파라(para)인 상기 화학식 1로 표시되는 염료는 400nm 내지 450nm, 예컨대 400nm 내지 435nm에서 매우 강한 흡광도를 보이기 때문에, 이를 착색제로 포함하는 조성물은 Bx가 낮으면서도 동시에 색재현율이나 색안정성, 내광성 등이 우수할 수 있다. In Formula 1, the substitution positions of the substituents (*-L 1 -R 1 , *-L 2 -R 2 , *-L 3 -R 3 and *-L 4 -R 4 ) are ortho, Coming to the para position among meta and para may be advantageous in increasing absorbance in a narrow wavelength range of 400 nm to 450 nm. For example, the dye represented by Chemical Formula 1 in which the substitution positions of the substituents are para shows very strong absorbance at 400 nm to 450 nm, for example, 400 nm to 435 nm, so a composition containing it as a colorant has a low Bx and at the same time shows color. Reproducibility, color stability, light fastness, etc. may be excellent.

예컨대, 상기 화학식 1에서, 상기 L1 내지 L4는 각각 독립적으로 *-C(=O)O-* 이고, 상기 R1 내지 R4는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기일 수 있다. 이 경우 상기 프탈로시아닌계 염료와의 상응성이 가장 우수하여, 400nm 내지 450nm의 파장 영역에서 낮은 투과도를 가져 Bx를 낮게 유지하면서 동시에 우수한 내구성을 유지할 수 있다.For example, in Formula 1, L 1 to L 4 are each independently *-C(=O)O-*, and R 1 to R 4 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group. there is. In this case, the compatibility with the phthalocyanine-based dye is the best, and it has low transmittance in the wavelength range of 400 nm to 450 nm, making it possible to maintain low Bx and at the same time maintain excellent durability.

예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 염료는 400nm 내지 435nm의 파장영역에서 최대흡광을 가질 수 있다.For example, the dye represented by Formula 1 may have maximum absorption in the wavelength range of 400 nm to 435 nm.

예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-14 중 어느 하나로 표시될 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the compound represented by Formula 1 may be represented by any one of the following Formulas 1-1 to 1-14, but is not necessarily limited thereto.

[화학식 1-1][Formula 1-1]

[화학식 1-2][Formula 1-2]

[화학식 1-3] [Formula 1-3]

[화학식 1-4] [Formula 1-4]

[화학식 1-5] [Formula 1-5]

[화학식 1-6] [Formula 1-6]

[화학식 1-7] [Formula 1-7]

[화학식 1-8] [Formula 1-8]

[화학식 1-9] [Formula 1-9]

[화학식 1-10] [Formula 1-10]

[화학식 1-11] [Formula 1-11]

[화학식 1-12] [Formula 1-12]

[화학식 1-13] [Formula 1-13]

[화학식 1-14] [Formula 1-14]

상기 화학식 1-1 또는 화학식 1-14에서,In Formula 1-1 or Formula 1-14,

M은 Cu, Co, VO, Zn, Pt 또는 In 이다.M is Cu, Co, VO, Zn, Pt or In.

예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 염료는 후술하는 프탈로시아닌계 염료보다 적은 함량으로 포함될 수 있다. 예컨대, 상기 화학식 1로 표시되는 염료 및 상기 프탈로시아닌계 염료는 1:1.1 내지 1:2의 중량비로 포함될 수 있다. 상기 화학식 1로 표시되는 염료가 상기 프탈로시아닌계 염료보다 적은 함량으로 포함되는 것, 구체적으로 상기 중량비로 포함되는 것이 (낮은 Bx를 유지하는 가운데) 내열성, 내화학성 등의 내구성 향상에 보다 유리할 수 있다.For example, the dye represented by Formula 1 may be included in a smaller amount than the phthalocyanine-based dye described later. For example, the dye represented by Formula 1 and the phthalocyanine-based dye may be included in a weight ratio of 1:1.1 to 1:2. It may be more advantageous to include the dye represented by Formula 1 in a smaller amount than the phthalocyanine-based dye, specifically in the above weight ratio (while maintaining low Bx) in improving durability such as heat resistance and chemical resistance.

상기 화학식 1로 표시되는 염료는 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물 총량에 대해 1 중량% 내지 10 중량%, 예컨대 5 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다.The dye represented by Formula 1 may be included in an amount of 1% to 10% by weight, for example, 5% to 10% by weight, based on the total amount of the photosensitive resin composition according to one embodiment.

(프탈로시아닌계 염료)(phthalocyanine dye)

상기 프탈로시아닌계 염료는 하기 화학식 2로 표시될 수 있다.The phthalocyanine-based dye may be represented by the following formula (2).

[화학식 2][Formula 2]

상기 화학식 2에서,In Formula 2,

R13 내지 R28은 각각 독립적으로 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기이다.R 13 to R 28 are each independently a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryloxy group.

예컨대, 상기 화학식 2에서, R13 내지 R16 중 적어도 하나 및 R21 내지 R24 중 적어도 하나는 할로겐 원자로 치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기일 수 있고, R17 내지 R20 중 적어도 하나 및 R25 내지 R28 중 적어도 하나는 C6 내지 C10 아릴기로 치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기일 수 있다. 구체적으로, 상기 화학식 2에서, R14 및 R15 중 어느 하나 및 R22 및 R23 중 어느 하나는 할로겐 원자로 치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기일 수 있고, R18 및 R19 중 어느 하나 및 R26 및 R27 중 어느 하나는 C6 내지 C10 아릴기로 치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기일 수 있다. 상기 화학식 2로 표시되는 프탈로시아닌계 염료가 이와 같을 경우, 전술한 상기 화학식 1로 표시되는 염료와의 상응성이 가장 우수하여, (낮은 Bx를 유지하는 가운데) 내열성, 내화학성 등의 내구성 향상을 효과적으로 꾀할 수 있다.For example, in Formula 2, at least one of R 13 to R 16 and at least one of R 21 to R 24 may be a C6 to C20 aryloxy group substituted with a halogen atom, and at least one of R 17 to R 20 and R 25 to At least one of R 28 may be a C6 to C20 aryloxy group substituted with a C6 to C10 aryl group. Specifically, in Formula 2, any one of R 14 and R 15 and any one of R 22 and R 23 may be a C6 to C20 aryloxy group substituted with a halogen atom, and any one of R 18 and R 19 and R 26 And any one of R 27 may be a C6 to C20 aryloxy group substituted with a C6 to C10 aryl group. When the phthalocyanine dye represented by Formula 2 is like this, it has the best correspondence with the dye represented by Formula 1 described above, effectively improving durability such as heat resistance and chemical resistance (while maintaining low Bx). You can plan it.

상기 프탈로시아닌계 염료는 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물 총량에 대해 5 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 5 중량% 내지 15 중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위로 포함될 경우, 400nm 내지 450nm의 파장영역에서 낮은 투과도를 가지는 고색 좌표를 용이하게 달성할 수 있다.The phthalocyanine-based dye may be included in an amount of 5% by weight to 20% by weight, for example, 5% by weight to 15% by weight, based on the total amount of the photosensitive resin composition according to one embodiment. When included in the above range, high color coordinates with low transmittance can be easily achieved in the wavelength range of 400 nm to 450 nm.

(B) 바인더 수지(B) Binder resin

상기 바인더 수지는 아크릴계 바인더 수지, 카도계 바인더 수지 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. The binder resin may include an acrylic binder resin, a cardo-based binder resin, or a combination thereof.

상기 아크릴계 바인더 수지는 제1 에틸렌성 불포화 단량체 및 이와 공중합 가능한 제2 에틸렌성 불포화 단량체의 공중합체로, 하나 이상의 아크릴계 반복단위를 포함하는 수지이다.  The acrylic binder resin is a copolymer of a first ethylenically unsaturated monomer and a second ethylenically unsaturated monomer copolymerizable therewith, and is a resin containing one or more acrylic repeating units.

상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 하나 이상의 카르복시기를 함유하는 에틸렌성 불포화 단량체이며, 이의 구체적인 예로는 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 이타콘산, 푸마르산, 또는 이들의 조합을 들 수 있다.The first ethylenically unsaturated monomer is an ethylenically unsaturated monomer containing at least one carboxyl group, and specific examples thereof include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, or a combination thereof.

상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 상기 아크릴계 바인더 수지 총량에 대하여 5 중량% 내지 50 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 40 중량%로 포함될 수 있다.The first ethylenically unsaturated monomer may be included in an amount of 5% to 50% by weight, for example, 10% to 40% by weight, based on the total amount of the acrylic binder resin.

상기 제2 에틸렌성 불포화 단량체는 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 비닐벤질메틸에테르 등의 방향족 비닐 화합물; 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시 부틸(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 에스테르 화합물; 2-아미노에틸(메타)아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 아미노 알킬 에스테르 화합물; 초산비닐, 안식향산 비닐 등의 카르복시산 비닐 에스테르 화합물; 글리시딜(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 글리시딜 에스테르 화합물; (메타)아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물; (메타)아크릴아미드 등의 불포화 아미드 화합물; 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The second ethylenically unsaturated monomer may include aromatic vinyl compounds such as styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, and vinylbenzylmethyl ether; Methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxy butyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, Unsaturated carboxylic acid ester compounds such as cyclohexyl (meth)acrylate and phenyl (meth)acrylate; unsaturated carboxylic acid amino alkyl ester compounds such as 2-aminoethyl (meth)acrylate and 2-dimethylaminoethyl (meth)acrylate; Carboxylic acid vinyl ester compounds such as vinyl acetate and vinyl benzoate; Unsaturated carboxylic acid glycidyl ester compounds such as glycidyl (meth)acrylate; Vinyl cyanide compounds such as (meth)acrylonitrile; Unsaturated amide compounds such as (meth)acrylamide; These can be mentioned, and these can be used alone or in a mixture of two or more.

상기 아크릴계 바인더 수지의 구체적인 예로는 (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 이들을 단독 또는 2종 이상을 배합하여 사용할 수도 있다.Specific examples of the acrylic binder resin include (meth)acrylic acid/benzyl methacrylate copolymer, (meth)acrylic acid/benzyl methacrylate/styrene copolymer, (meth)acrylic acid/benzyl methacrylate/2-hydroxyethyl methacrylate Examples include, but are not limited to, acrylate copolymers, (meth)acrylic acid/benzyl methacrylate/styrene/2-hydroxyethyl methacrylate copolymers, and these may be used alone or in combination of two or more types. there is.

예컨대, 상기 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 아크릴계 바인더 수지를 포함할 수 있다. For example, the photosensitive resin composition according to the above embodiment may include an acrylic binder resin.

상기 아크릴계 바인더 수지의 중량평균 분자량은 5,000 g/mol 내지 15,000 g/mol 일 수 있다. 상기 아크릴계 바인더 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위 내일 경우, 상기 감광성 수지 조성물의 물리적 및 화학적 물성이 우수하고 점도가 적절하며, 컬러필터 제조 시 기판과의 밀착성이 우수하다.  The weight average molecular weight of the acrylic binder resin may be 5,000 g/mol to 15,000 g/mol. When the weight average molecular weight of the acrylic binder resin is within the above range, the photosensitive resin composition has excellent physical and chemical properties, appropriate viscosity, and excellent adhesion to the substrate when manufacturing a color filter.

상기 아크릴계 바인더 수지의 산가는 80 mgKOH/g 내지 130 mgKOH/g 일 수 있다. 상기 아크릴계 바인더 수지의 산가가 상기 범위 내일 경우 픽셀 패턴의 해상도가 우수하다.The acid value of the acrylic binder resin may be 80 mgKOH/g to 130 mgKOH/g. When the acid value of the acrylic binder resin is within the above range, the resolution of the pixel pattern is excellent.

예컨대, 상기 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 카도계 바인더 수지이거나 상기 아크릴계바인더 수지 및 카도계 바인더 수지의 혼합물일 수 있다.For example, the photosensitive resin composition according to the embodiment may be a cardo-based binder resin or a mixture of the acrylic binder resin and a cardo-based binder resin.

상기 카도계 바인더 수지는 하기 화학식 3으로 표시될 수 있다.The cardo-based binder resin may be represented by the following formula (3).

[화학식 3][Formula 3]

상기 화학식 3에서,In Formula 3 above,

R101 및 R102은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 (메타)아크릴로일옥시 알킬기이고, R 101 and R 102 are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted (meth)acryloyloxy alkyl group,

R103 및 R104는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고, R 103 and R 104 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

Z1은 단일결합, O, CO, SO2, CR107R108, SiR109R110(여기서, R107 내지 R110은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기임) 또는 하기 화학식 3-1 내지 3-11로 표시되는 연결기 중 어느 하나이고, Z 1 is a single bond, O, CO, SO 2 , CR 107 R 108 , SiR 109 R 110 (wherein R 107 to R 110 are each independently a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group) or the following Any one of the linking groups represented by Formulas 3-1 to 3-11,

[화학식 3-1][Formula 3-1]

[화학식 3-2][Formula 3-2]

[화학식 3-3][Formula 3-3]

[화학식 3-4][Formula 3-4]

[화학식 3-5][Formula 3-5]

(상기 화학식 3-5에서,(In Formula 3-5 above,

Rz는 수소 원자, 에틸기, C2H4Cl, C2H4OH, CH2CH=CH2 또는 페닐기이다.)R z is a hydrogen atom, an ethyl group, C 2 H 4 Cl, C 2 H 4 OH, CH 2 CH=CH 2 or a phenyl group.)

[화학식 3-6][Formula 3-6]

[화학식 3-7][Formula 3-7]

[화학식 3-8][Formula 3-8]

[화학식 3-9][Formula 3-9]

[화학식 3-10][Formula 3-10]

[화학식 3-11][Formula 3-11]

Z2는 산무수물 잔기 또는 산이무수물 잔기이고,Z 2 is an acid anhydride residue or an acid dianhydride residue,

z1 및 z2는 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이ek.z1 and z2 are each independently integers from 0 to 4.

상기 카도계 바인더 수지의 중량평균 분자량은 500 g/mol 내지 50,000 g/mol, 예컨대 1,000 g/mol 내지 30,000 g/mol일 수 있다. 상기 카도계 바인더 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위 내일 경우 차광층 제조 시 잔사 없이 패턴 형성이 잘되며, 현상 시 막두께의 손실이 없고, 양호한 패턴을 얻을 수 있다. The weight average molecular weight of the cardo-based binder resin may be 500 g/mol to 50,000 g/mol, for example, 1,000 g/mol to 30,000 g/mol. If the weight average molecular weight of the cardo-based binder resin is within the above range, a pattern can be easily formed without residue when manufacturing the light-shielding layer, there is no loss of film thickness during development, and a good pattern can be obtained.

상기 카도계 바인더 수지는 양 말단 중 적어도 하나에 하기 화학식 4로 표시되는 관능기를 포함할 수 있다.The cardo-based binder resin may include a functional group represented by the following formula (4) at at least one of both ends.

[화학식 4][Formula 4]

상기 화학식 4에서,In Formula 4 above,

Z3은 하기 화학식 4-1 내지 4-7로 표시될 수 있다.Z 3 may be represented by the following formulas 4-1 to 4-7.

[화학식 4-1][Formula 4-1]

(상기 화학식 4-1에서, Rh 및 Ri는 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 에스테르기 또는 에테르기이다.)(In Formula 4-1, R h and R i are each independently a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, an ester group, or an ether group.)

[화학식 4-2][Formula 4-2]

[화학식 4-3][Formula 4-3]

[화학식 4-4][Formula 4-4]

[화학식 4-5][Formula 4-5]

(상기 화학식 4-5에서, Rj는 O, S, NH, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기, C1 내지 C20 알킬아민기 또는 C2 내지 C20 알케닐아민기이다.)(In Formula 4-5, R j is O, S, NH, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkylene group, a C1 to C20 alkylamine group, or a C2 to C20 alkenylamine group.)

[화학식 4-6][Formula 4-6]

[화학식 4-7][Formula 4-7]

상기 카도계 바인더 수지는 예컨대, 9,9-비스(4-옥시라닐메톡시페닐)플루오렌 등의 플루오렌 함유 화합물; 벤젠테트라카르복실산 디무수물, 나프탈렌테트라카르복실산 디무수물, 비페닐테트라카르복실산 디무수물, 벤조페논테트라카르복실산 디무수물, 피로멜리틱 디무수물, 사이클로부탄테트라카르복실산 디무수물, 페릴렌테트라카르복실산 디무수물, 테트라히드로푸란테트라카르복실산 디무수물, 테트라하이드로프탈산 무수물 등의 무수물 화합물; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜 등의 글리콜 화합물; 메탄올, 에탄올, 프로판올, n-부탄올, 사이클로헥산올, 벤질알코올 등의 알코올 화합물; 프로필렌글리콜 메틸에틸아세테이트, N-메틸피롤리돈 등의 용매류 화합물; 트리페닐포스핀 등의 인 화합물; 및 테트라메틸암모늄 클로라이드, 테트라에틸암모늄 브로마이드, 벤질디에틸아민, 트리에틸아민, 트리부틸아민, 벤질트리에틸암모늄 클로라이드 등의 아민 또는 암모늄염 화합물 중에서 둘 이상을 혼합하여 제조할 수 있다.The cardo-based binder resin includes, for example, fluorene-containing compounds such as 9,9-bis(4-oxiranylmethoxyphenyl)fluorene; Benzene tetracarboxylic acid dianhydride, naphthalene tetracarboxylic acid dianhydride, biphenyl tetracarboxylic acid dianhydride, benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, pyromellitic dianhydride, cyclobutane tetracarboxylic acid dianhydride, Anhydride compounds such as rylene tetracarboxylic acid dianhydride, tetrahydrofuran tetracarboxylic acid dianhydride, and tetrahydrophthalic acid anhydride; Glycol compounds such as ethylene glycol, propylene glycol, and polyethylene glycol; Alcohol compounds such as methanol, ethanol, propanol, n-butanol, cyclohexanol, and benzyl alcohol; solvent compounds such as propylene glycol methyl ethyl acetate and N-methylpyrrolidone; Phosphorus compounds such as triphenylphosphine; and amine or ammonium salt compounds such as tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium bromide, benzyldiethylamine, triethylamine, tributylamine, and benzyltriethylammonium chloride.

상기 바인더 수지가 카도계 바인더 수지를 포함할 경우, 감광성 수지 조성물의 현상성이 우수하고, 광경화 시 감도가 좋아 미세 패턴 형성성이 우수하다.When the binder resin includes a cardo-based binder resin, the photosensitive resin composition has excellent developability, good sensitivity during photocuring, and excellent fine pattern formation.

상기 바인더 수지는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 10 중량%, 예컨대 5 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다. 바인더 수지가 상기 범위 내로 포함될 경우, 컬러필터 제조 시 현상성이 우수하며 가교성이 개선되어 우수한 표면 평활도를 얻을 수 있다.The binder resin may be included in an amount of 1% to 10% by weight, for example, 5% to 10% by weight, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the binder resin is contained within the above range, developability is excellent when manufacturing a color filter, crosslinking is improved, and excellent surface smoothness can be obtained.

(C) 광중합성 화합물(C) Photopolymerizable compound

상기 광중합성 화합물은 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 (메타)아크릴산의 일관능 또는 다관능 에스테르가 사용될 수 있다.The photopolymerizable compound may be a mono- or multi-functional ester of (meth)acrylic acid having at least one ethylenically unsaturated double bond.

광중합성 화합물은 상기 에틸렌성 불포화 이중결합을 가짐으로써, 패턴 형성 공정에서 노광 시 충분한 중합을 일으킴으로써 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수한 패턴을 형성할 수 있다.By having the ethylenically unsaturated double bond, the photopolymerizable compound can form a pattern with excellent heat resistance, light resistance, and chemical resistance by sufficiently polymerizing the compound upon exposure to light in the pattern formation process.

광중합성 화합물의 구체적인 예로는, 에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 프로필렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 에폭시(메타)아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 (메타)아크릴레이트, 트리메틸올 프로판 트리(메타)아크릴레이트, 트리스(메타)아크릴로일옥시에틸 포스페이트, 노볼락에폭시 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. Specific examples of photopolymerizable compounds include ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, propylene glycol di(meth)acrylate, and neopentyl glycol di. (meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, bisphenol A di(meth)acrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate, Pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, pentaerythritol hexa(meth)acrylate, dipentaerythritol di(meth)acrylate, dipentaerythritol tri(meth)acrylate Rate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, bisphenol A epoxy(meth)acrylate, ethylene glycol monomethyl ether (meth)acrylate, trimethylol propane tri(meth)acrylate ) acrylate, tris (meth)acryloyloxyethyl phosphate, novolak epoxy (meth)acrylate, etc.

상기 광중합성 화합물의 시판되는 제품을 예로 들면 다음과 같다. 상기 (메타)아크릴산의 일관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-101®, 동 M-111®, 동 M-114® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD TC-110S®, 동 TC-120S® 등; 오사카 유끼 가가꾸 고교(주)社의 V-158®, V-2311® 등을 들 수 있다. 상기 (메타)아크릴산의 이관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-210®, 동 M-240®, 동 M-6200® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD HDDA®, 동 HX-220®, 동 R-604® 등; 오사카 유끼 가가꾸 고교(주)社의 V-260®, V-312®, V-335 HP® 등을 들 수 있다.  상기 (메타)아크릴산의 삼관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-309®, 동 M-400®, 동 M-405®, 동 M-450®, 동 M-710®, 동 M-8030®, 동 M-8060® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD TMPTA®, 동 DPCA-20®, 동-30®, 동-60®, 동-120® 등; 오사카 유끼 가야꾸 고교(주)社의 V-295®, 동-300®, 동-360®, 동-GPT®, 동-3PA®, 동-400® 등을 들 수 있다. 상기 제품을 단독 사용 또는 2종 이상 함께 사용할 수 있다.Examples of commercially available products of the photopolymerizable compound are as follows. Examples of the monofunctional ester of (meth)acrylic acid include Aronix M- 101® , M- 111® , and M- 114® manufactured by Toagosei Chemical Co., Ltd.; Nippon Kayaku Co., Ltd.'s KAYARAD TC-110S ® , KAYARAD TC-120S ® , etc.; Examples include V-158 ® and V-2311 ® manufactured by Osaka Yuki Chemical Co., Ltd. Examples of the above-mentioned difunctional ester of (meth)acrylic acid include Aronics M-210 ® , M-240 ® , and M-6200 ® manufactured by Toagosei Chemical Co., Ltd.; Nihon Kayaku Co., Ltd.'s KAYARAD HDDA ® , HX-220 ® , R-604 ® , etc.; Examples include V-260 ® , V-312 ® , and V-335 HP ® manufactured by Osaka Yuki Chemical Engineering Co., Ltd. Examples of the trifunctional ester of (meth)acrylic acid include Aronics M-309 ® , M-400 ® , M-405 ® , M-450 ® , and M manufactured by Toagosei Chemical Co., Ltd. -710 ® , M-8030 ® , M-8060 ® , etc.; Nippon Kayaku Co., Ltd.'s KAYARAD TMPTA ® , DPCA-20 ® , Dong-30 ® , Dong-60 ® , Dong-120 ® , etc.; Examples include V-295 ® , Dong-300 ® , Dong-360 ® , Dong-GPT ® , Dong-3PA ® , and Dong-400 ® manufactured by Osaka Yuki Kayaku Kogyo Co., Ltd. The above products can be used alone or in combination of two or more types.

상기 광중합성 화합물은 보다 우수한 현상성을 부여하기 위하여 산무수물로 처리하여 사용할 수도 있다.The photopolymerizable compound may be used by treating it with an acid anhydride to provide better developability.

상기 광중합성 화합물은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 10 중량%, 예컨대 3 중량% 내지 8 중량%로 포함될 수 있다. 광중합성 화합물이 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광 시 경화가 충분히 일어나 신뢰성이 우수하며, 알칼리 현상액에의 현상성이 우수하다.The photopolymerizable compound may be included in an amount of 1% to 10% by weight, for example, 3% to 8% by weight, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the photopolymerizable compound is included within the above range, sufficient curing occurs during exposure to light in the pattern formation process, resulting in excellent reliability and excellent developability in an alkaline developer.

(D) 광중합 개시제(D) Photopolymerization initiator

상기 광중합 개시제는 감광성 수지 조성물에 일반적으로 사용되는 개시제로서, 예를 들어 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 벤조인계 화합물, 트리아진계 화합물, 옥심계 화합물 또는 이들의 조합을 사용할 수 있다. The photopolymerization initiator is an initiator commonly used in photosensitive resin compositions, for example, an acetophenone-based compound, a benzophenone-based compound, a thioxanthone-based compound, a benzoin-based compound, a triazine-based compound, an oxime-based compound, or a combination thereof. You can use it.

상기 아세토페논계 화합물의 예로는, 2,2'-디에톡시 아세토페논, 2,2'-디부톡시 아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로피오페논, p-t-부틸트리클로로 아세토페논, p-t-부틸디클로로 아세토페논, 4-클로로 아세토페논, 2,2'-디클로로-4-페녹시 아세토페논, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-부탄-1-온 등을 들 수 있다.Examples of the acetophenone-based compounds include 2,2'-diethoxy acetophenone, 2,2'-dibutoxy acetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, p-t-butyltrichloro acetophenone, p-t -Butyldichloro acetophenone, 4-chloro acetophenone, 2,2'-dichloro-4-phenoxy acetophenone, 2-methyl-1-(4-(methylthio)phenyl)-2-morpholinopropane-1 -one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one, etc.

상기 벤조페논계 화합물의 예로는, 벤조페논, 벤조일 안식향산, 벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 히드록시 벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸 아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디메틸-2-메톡시벤조페논 등을 들 수 있다.Examples of the benzophenone-based compounds include benzophenone, benzoyl benzoic acid, methyl benzoyl benzoate, 4-phenyl benzophenone, hydroxy benzophenone, acrylated benzophenone, 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone, 4,4 '-bis(diethylamino)benzophenone, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3'-dimethyl-2-methoxybenzophenone, etc.

상기 티오크산톤계 화합물의 예로는, 티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 이소프로필 티오크산톤, 2,4-디에틸 티오크산톤, 2,4-디이소프로필 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 등을 들 수 있다.Examples of the thioxanthone-based compounds include thioxanthone, 2-methylthioxanthone, isopropyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2,4-diisopropyl thioxanthone, 2- Chlorothioxanthone, etc. can be mentioned.

상기 벤조인계 화합물의 예로는, 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다.Examples of the benzoin-based compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzyldimethyl ketal.

상기 트리아진계 화합물의 예로는, 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐 4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(3', 4'-디메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-톨릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-비페닐 4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 비스(트리클로로메틸)-6-스티릴-s-트리아진, 2-(나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-s-트리아진 등을 들 수 있다.Examples of the triazine-based compounds include 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl 4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(3', 4'- Dimethoxystyryl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4'-methoxynaphthyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(p-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(p-tolyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-biphenyl 4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, bis(trichloromethyl)-6-styryl-s-triazine, 2-(naphtho-1-yl)-4, 6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4-methoxynaphtho-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-4-bis (trichloromethyl)-6-piperonyl-s-triazine, 2-4-bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxystyryl)-s-triazine, etc.

상기 옥심계 화합물의 예로는, O-아실옥심계 화합물, 2-(o-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온, 1-(o-아세틸옥심)-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄온, O-에톡시카르보닐-α-옥시아미노-1-페닐프로판-1-온 등을 사용할 수 있다. 상기 O-아실옥심계 화합물의 구체적인 예로는, 1,2-옥탄디온, 2-디메틸아미노-2-(4-메틸벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온, 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1,2-디온2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1,2-디온2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1-온옥심-O-아세테이트 등을 들 수 있다. Examples of the oxime-based compounds include O-acyloxime-based compounds, 2-(o-benzoyloxime)-1-[4-(phenylthio)phenyl]-1,2-octanedione, 1-(o-acetyloxime) )-1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]ethanone, O-ethoxycarbonyl-α-oxyamino-1-phenylpropan-1-one etc. can be used. Specific examples of the O-acyloxime compounds include 1,2-octanedione, 2-dimethylamino-2-(4-methylbenzyl)-1-(4-morpholin-4-yl-phenyl)-butane- 1-one, 1-(4-phenylsulfanylphenyl)-butane-1,2-dione2-oxime-O-benzoate, 1-(4-phenylsulfanylphenyl)-octane-1,2-dione2 -Oxime-O-benzoate, 1-(4-phenylsulfanylphenyl)-octane-1-oneoxime-O-acetate, 1-(4-phenylsulfanylphenyl)-butane-1-oneoxime-O- Acetate, etc. can be mentioned.

상기 광중합 개시제는 상기 화합물 이외에도 카바졸계 화합물, 디케톤류 화합물, 술포늄 보레이트계 화합물, 디아조계 화합물, 이미다졸계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 플루오렌계 화합물 등을 사용할 수 있다.In addition to the above compounds, the photopolymerization initiator may include carbazole-based compounds, diketone-based compounds, sulfonium borate-based compounds, diazo-based compounds, imidazole-based compounds, biimidazole-based compounds, and fluorene-based compounds.

상기 광중합 개시제는 빛을 흡수하여 들뜬 상태가 된 후 그 에너지를 전달함으로써 화학반응을 일으키는 광 증감제와 함께 사용될 수도 있다.The photopolymerization initiator may be used together with a photosensitizer that absorbs light, becomes excited, and then transmits the energy to cause a chemical reaction.

상기 광 증감제의 예로는, 테트라에틸렌글리콜 비스-3-머캡토 프로피오네이트, 펜타에리트리톨 테트라키스-3-머캡토 프로피오네이트, 디펜타에리트리톨 테트라키스-3-머캡토 프로피오네이트 등을 들 수 있다. Examples of the photosensitizer include tetraethylene glycol bis-3-mercapto propionate, pentaerythritol tetrakis-3-mercapto propionate, dipentaerythritol tetrakis-3-mercapto propionate, etc. can be mentioned.

상기 광중합 개시제는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.1 중량% 내지 5 중량%, 예컨대 0.1 중량% 내지 3 중량%로 포함될 수 있다. 광중합 개시제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광 시 경화가 충분히 일어나 우수한 신뢰성을 얻을 수 있으며, 패턴의 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수하고, 해상도 및 밀착성 또한 우수하며, 미반응 개시제로 인한 투과율의 저하를 막을 수 있다.The photopolymerization initiator may be included in an amount of 0.1% to 5% by weight, for example, 0.1% to 3% by weight, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the photopolymerization initiator is included within the above range, curing occurs sufficiently during exposure during the pattern formation process to obtain excellent reliability, the heat resistance, light resistance, and chemical resistance of the pattern are excellent, resolution and adhesion are also excellent, and no damage due to unreacted initiator is achieved. Deterioration of transmittance can be prevented.

(E) 용매(E) Solvent

상기 용매는 상기 착색제, 상기 바인더 수지, 상기 광중합성 화합물 및 상기 광중합 개시제와의 상용성을 가지되 반응하지 않는 물질들이 사용될 수 있다.The solvent may be a material that is compatible with, but does not react with, the colorant, the binder resin, the photopolymerizable compound, and the photopolymerization initiator.

상기 용매의 예로는, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 디클로로에틸 에테르, n-부틸 에테르, 디이소아밀 에테르, 메틸페닐 에테르, 테트라히드로퓨란 등의 에테르류; 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 메틸 셀로솔브 아세테이트, 에틸 셀로솔브 아세테이트, 디에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 셀로솔브 아세테이트류; 메틸에틸 카르비톨, 디에틸 카르비톨, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디에틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌 글리콜 메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 사이클로헥사논, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논, 메틸-n-프로필케톤, 메틸-n-부틸케톤, 메틸-n-아밀케톤, 2-헵타논 등의 케톤류; 초산 에틸, 초산-n-부틸, 초산 이소부틸 등의 포화 지방족 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 젖산 메틸, 젖산 에틸 등의 젖산 에스테르류; 옥시 초산 메틸, 옥시 초산 에틸, 옥시 초산 부틸 등의 옥시 초산 알킬 에스테르류; 메톡시 초산 메틸, 메톡시 초산 에틸, 메톡시 초산 부틸, 에톡시 초산 메틸, 에톡시 초산 에틸 등의 알콕시 초산 알킬 에스테르류; 3-옥시 프로피온산 메틸, 3-옥시 프로피온산 에틸 등의 3-옥시 프로피온산 알킬에스테르류; 3-메톡시 프로피온산 메틸, 3-메톡시 프로피온산 에틸, 3-에톡시 프로피온산 에틸, 3-에톡시 프로피온산 메틸 등의 3-알콕시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-옥시 프로피온산 메틸, 2-옥시 프로피온산 에틸, 2-옥시 프로피온산 프로필 등의 2-옥시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-메톡시 프로피온산 메틸, 2-메톡시 프로피온산 에틸, 2-에톡시 프로피온산 에틸, 2-에톡시 프로피온산 메틸 등의 2-알콕시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-옥시-2-메틸 프로피온산 메틸, 2-옥시-2-메틸 프로피온산 에틸 등의 2-옥시-2-메틸 프로피온산 에스테르류, 2-메톡시-2-메틸 프로피온산 메틸, 2-에톡시-2-메틸 프로피온산 에틸 등의 2-알콕시-2-메틸 프로피온산 알킬류의 모노옥시 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 2-히드록시 프로피온산 에틸, 2-히드록시-2-메틸 프로피온산 에틸, 히드록시 초산 에틸, 2-히드록시-3-메틸 부탄산 메틸 등의 에스테르류; 피루빈산 에틸 등의 케톤산 에스테르류 등이 있으며, 또한, N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸포름아닐라드, N-메틸아세트아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시드, 벤질에틸에테르, 디헥실에테르, 아세틸아세톤, 이소포론, 카프론산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 초산 벤질, 안식향산 에틸, 옥살산 디에틸, 말레인산 디에틸, γ부티로락톤, 탄산 에틸렌, 탄산 프로필렌, 페닐 셀로솔브 아세테이트 등의 고비점 용매를 들 수 있다.Examples of the solvent include alcohols such as methanol and ethanol; ethers such as dichloroethyl ether, n-butyl ether, diisoamyl ether, methylphenyl ether, and tetrahydrofuran; Glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; Cellosolve acetates such as methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, and diethyl cellosolve acetate; Carbitols such as methyl ethyl carbitol, diethyl carbitol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, and diethylene glycol diethyl ether; propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol methyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, methyl-n-propyl ketone, methyl-n-butyl ketone, methyl-n-amyl ketone, and 2-heptanone ; saturated aliphatic monocarboxylic acid alkyl esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, and isobutyl acetate; Lactic acid esters such as methyl lactate and ethyl lactate; Alkyl oxyacetic acid esters such as methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, and butyl oxyacetate; Alkoxy acetate alkyl esters such as methoxy methyl acetate, methoxy ethyl acetate, methoxy butyl acetate, ethoxy methyl acetate, and ethoxy ethyl acetate; 3-oxypropionic acid alkyl esters such as methyl 3-oxypropionate and ethyl 3-oxypropionate; 3-alkoxy propionic acid alkyl esters such as 3-methoxy methyl propionate, 3-methoxy ethyl propionate, 3-ethoxy ethyl propionate, and 3-ethoxy methyl propionate; 2-oxypropionic acid alkyl esters such as methyl 2-oxypropionate, ethyl 2-oxypropionate, and propyl 2-oxypropionate; 2-alkoxy propionic acid alkyl esters such as 2-methoxy methyl propionate, 2-methoxy ethyl propionate, 2-ethoxy ethyl propionate, and 2-ethoxy methyl propionate; 2-oxy-2-methyl propionate esters such as methyl 2-oxy-2-methyl propionate, ethyl 2-oxy-2-methyl propionate, 2-methoxy-2-methyl methyl propionate, 2-ethoxy-2- monooxy monocarboxylic acid alkyl esters of 2-alkoxy-2-methyl alkyl propionate such as ethyl methyl propionate; esters such as ethyl 2-hydroxy propionate, 2-hydroxy-2-methyl ethyl propionate, ethyl hydroxy acetate, and 2-hydroxy-3-methyl methyl butanoate; Keto acid esters such as ethyl pyruvate, and others include N-methylformamide, N,N-dimethylformamide, N-methylformanilad, N-methylacetamide, and N,N-dimethylacetamide. , N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, benzyl ethyl ether, dihexyl ether, acetylacetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, benzoic acid. High boiling point solvents such as ethyl, diethyl oxalate, diethyl maleate, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, and phenyl cellosolve acetate can be mentioned.

이들 중 좋게는 상용성 및 반응성을 고려하여, 사이클로헥사논 등의 케톤류; 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 에틸렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 2-히드록시 프로피온산 에틸 등의 에스테르류; 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류가 사용될 수 있다.Among these, considering compatibility and reactivity, ketones such as cyclohexanone are preferred; Glycol ethers such as ethylene glycol monoethyl ether; Ethylene glycol alkyl ether acetates such as ethyl cellosolve acetate; esters such as ethyl 2-hydroxypropionate; Carbitols such as diethylene glycol monomethyl ether; Propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate may be used.

상기 용매는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 잔부량, 예컨대 30 중량% 내지 60 중량%,예컨대 30 중량% 내지 50 중량%, 예컨대 40 중량% 내지 60 중량%로 포함될 수 있다. 용매가 상기 범위 내로 포함될 경우 상기 감광성 수지 조성물이 적절한 점도를 가짐에 따라 컬러필터 제조 시 공정성이 우수하다.The solvent may be included in the remaining amount, for example, 30 wt% to 60 wt%, such as 30 wt% to 50 wt%, for example, 40 wt% to 60 wt%, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the solvent is contained within the above range, the photosensitive resin composition has an appropriate viscosity, thereby improving processability when manufacturing a color filter.

(F) 기타 첨가제(F) Other additives

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 기판과의 밀착성 등을 개선하기 위해 에폭시 화합물을 더 포함할 수 있다. The photosensitive resin composition according to one embodiment may further include an epoxy compound to improve adhesion to the substrate.

상기 에폭시 화합물의 예로는, 페놀 노볼락 에폭시 화합물, 테트라메틸 비페닐 에폭시 화합물, 비스페놀 A형 에폭시 화합물, 지환족 에폭시 화합물 또는 이들의 조합을 들 수 있다.Examples of the epoxy compound include a phenol novolac epoxy compound, a tetramethyl biphenyl epoxy compound, a bisphenol A type epoxy compound, an alicyclic epoxy compound, or a combination thereof.

상기 에폭시 화합물은 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 20 중량부, 예컨대 0.1 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 에폭시 화합물이 상기 범위 내로 포함될 경우 밀착성, 저장성 등이 우수하다. The epoxy compound may be included in an amount of 0.01 to 20 parts by weight, for example, 0.1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition. When the epoxy compound is contained within the above range, adhesion, storage, etc. are excellent.

또한 상기 감광성 수지 조성물은 기판과의 접착성을 향상시키기 위해 카르복실기, 메타크릴로일기, 이소시아네이트기, 에폭시기 등의 반응성 치환기를 갖는 실란 커플링제를 더 포함할 수 있다.In addition, the photosensitive resin composition may further include a silane coupling agent having a reactive substituent such as a carboxyl group, methacryloyl group, isocyanate group, or epoxy group to improve adhesion to the substrate.

상기 실란 커플링제의 예로는, 트리메톡시실릴 벤조산, γ메타크릴 옥시프로필 트리메톡시실란, 비닐 트리아세톡시실란, 비닐 트리메톡시실란, γ이소시아네이트 프로필 트리에톡시실란, γ글리시독시 프로필 트리메톡시실란, β에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. Examples of the silane coupling agent include trimethoxysilyl benzoic acid, γ methacryl oxypropyl trimethoxysilane, vinyl triacetoxysilane, vinyl trimethoxysilane, γ isocyanate propyl triethoxysilane, and γ glycidoxy propyl trimethoxysilane. Examples include methoxysilane, β-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, and these can be used alone or in combination of two or more types.

상기 실란 커플링제는 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 실란 커플링제가 상기 범위 내로 포함될 경우 밀착성, 저장성 등이 우수하다. The silane coupling agent may be included in an amount of 0.01 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition. When the silane coupling agent is included within the above range, adhesion, storage, etc. are excellent.

또한 상기 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 코팅성 향상 및 결점 생성 방지 효과를 위해 계면 활성제를 더 포함할 수 있다. Additionally, the photosensitive resin composition may further include a surfactant, if necessary, to improve coating properties and prevent defects.

상기 계면활성제의 예로는, BM Chemie社의 BM-1000®, BM-1100® 등; 다이 닛폰 잉키 가가꾸 고교(주)社의 메카 팩 F 142D®, 동 F 172®, 동 F 173®, 동 F 183®, 동 F 554® 등; 스미토모 스리엠(주)社의 프로라드 FC-135®, 동 FC-170C®, 동 FC-430®, 동 FC-431® 등; 아사히 그라스(주)社의 사프론 S-112®, 동 S-113®, 동 S-131®, 동 S-141®, 동 S-145® 등; 도레이 실리콘(주)社의 SH-28PA®, 동-190®, 동-193®, SZ-6032®, SF-8428® 등의 명칭으로 시판된고 있는 불소계 계면 활성제를 사용할 수 있다.Examples of the surfactant include BM-1000 ® and BM-1100 ® from BM Chemie; Mecha pack F 142D ® , F 172 ® , F 173 ® , F 183 ® , F 554 ® , etc. from Dai Nippon Inki Chemicals Co., Ltd.; Prorad FC-135 ® , FC-170C ® , FC-430 ® , FC-431 ® , etc. from Sumitomo 3M Co., Ltd.; Asahi Grass Co., Ltd.'s Saffron S-112 ® , S-113 ® , S-131 ® , S-141 ® , S-145 ® , etc.; Fluorine-based surfactants commercially available under names such as SH-28PA ® , Dong-190 ® , Dong-193 ® , SZ-6032 ® , and SF-8428 ® from Toray Silicone Co., Ltd. can be used.

상기 계면 활성제는 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.001 중량부 내지 5 중량부로 사용될 수 있다. 계면 활성제가 상기 범위 내로 포함될 경우 코팅 균일성이 확보되고, 얼룩이 발생하지 않으며, 유리 기판에 대한 습윤성(wetting)이 우수하다.The surfactant may be used in an amount of 0.001 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition. When the surfactant is contained within the above range, coating uniformity is ensured, stains do not occur, and wetting on the glass substrate is excellent.

또한 상기 감광성 수지 조성물은 물성을 저해하지 않는 범위 내에서 산화방지제, 안정제 등의 기타 첨가제가 일정량 첨가될 수도 있다.Additionally, a certain amount of other additives such as antioxidants and stabilizers may be added to the photosensitive resin composition within the range that does not impair the physical properties.

한편, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 By 값이 0.0600일 때 Bx 값이 0.152 이하인 CIE 색좌표를 구현할 수 있다. 전술한 것처럼, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 Bx가 낮은 고색 좌표를 구현함을 전제로, 휘도 및 내구성을 향상시킬 수 있는 감광성 수지 조성물에 대한 것으로서, 상기와 같은 CIE 색좌표를 구현할 수 있다.Meanwhile, the photosensitive resin composition according to one embodiment can implement CIE color coordinates with a Bx value of 0.152 or less when the By value is 0.0600. As described above, the photosensitive resin composition according to one embodiment is a photosensitive resin composition that can improve luminance and durability on the premise that it implements a high color coordinate with a low Bx, and can implement the CIE color coordinate as described above.

다른 일 구현예에 따르면, 상기 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막을 제공한다.According to another embodiment, a photosensitive resin film manufactured using the photosensitive resin composition according to the above embodiment is provided.

상기 감광성 수지막 내 패턴 형성 공정은 다음과 같다.The pattern formation process in the photosensitive resin film is as follows.

상기 감광성 수지 조성물을 지지 기판 상에 스핀 코팅, 슬릿 코팅, 잉크젯 프린팅 등으로 도포하는 공정; 상기 도포된 감광성 수지 조성물을 건조하여 감광성 수지 조성물 막을 형성하는 공정; 상기 감광성 수지 조성물 막을 노광하는 공정; 상기 노광된 감광성 수지 조성물 막을 알칼리 수용액으로 현상하여 감광성 수지막을 제조하는 공정; 및 상기 감광성 수지막을 가열 처리하는 공정을 포함한다. 상기 공정 상의 조건 등에 대하여는 당해 분야에서 널리 알려진 사항이므로, 본 명세서에서 자세한 설명은 생략하기로 한다. A process of applying the photosensitive resin composition to a support substrate by spin coating, slit coating, inkjet printing, etc.; A step of drying the applied photosensitive resin composition to form a photosensitive resin composition film; A process of exposing the photosensitive resin composition film; A process of developing the exposed photosensitive resin composition film with an aqueous alkaline solution to produce a photosensitive resin film; and a step of heat treating the photosensitive resin film. Since the above process conditions are widely known in the field, detailed description will be omitted in this specification.

또 다른 일 구현예에 따르면, 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터를 제공한다.According to another embodiment, a color filter including the photosensitive resin film is provided.

이하, 실시예를 들어 본 발명에 대해서 더욱 상세하게 설명할 것이나, 하기의 실시예는 본 발명의 바람직한 실시예일 뿐 본 발명이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through examples. However, the following examples are only preferred examples of the present invention and the present invention is not limited to the following examples.

(실시예)(Example)

(화학식 1로 표시되는 화합물의 합성) (Synthesis of the compound represented by Formula 1)

합성예 1: 화학식 1-1로 표시되는 화합물의 합성Synthesis Example 1: Synthesis of the compound represented by Formula 1-1

둥근바닥 플라스크에 Terephthalaldehydic acid 30g(0.2 mol)을 넣고 여기에 propionic acid 600g을 첨가하여 교반시킨다. 반응물에 pyrrole 13.5g(0.2 mol)을 첨가한 후 반응물을 80℃로 올려 1 시간 동안 교반시킨 후 130℃로 가열하고 90분 동안 교반한 후 종결시킨다. 반응물을 실온(23℃으로 낮춘 뒤 여기에 아세톤 300g을 넣고 실온에서 1시간 동안 교반시킨 후 필터링한다. 이 후 필터상에 존재하는 고체 화합물을 수거하여 아세톤으로 세정한 다음 건조하여 중간체(A) 8.3g을 합성하였다.Add 30 g (0.2 mol) of terephthalaldehydic acid to a round bottom flask, add 600 g of propionic acid, and stir. After adding 13.5 g (0.2 mol) of pyrrole to the reaction, the reaction was raised to 80°C and stirred for 1 hour, then heated to 130°C, stirred for 90 minutes, and then terminated. After lowering the reactant to room temperature (23°C), 300 g of acetone was added thereto, stirred at room temperature for 1 hour, and then filtered. Afterwards, the solid compound present on the filter was collected, washed with acetone, and dried to produce Intermediate (A) 8.3. g was synthesized.

이 후 질소 분위기 하에서 둥근바닥 플라스크에 중간체(A) 3g(3.8 mmol)과 SOCl2 30g을 넣은 후 80℃로 12시간 동안 교반시킨 후 과량의 SOCl2는 증류를 통해 제거한다. 여기에 클로로포름 45g을 넣은 뒤 2-hydroxybenzofluoride 2.96g(18.24 mmol)과 트리에틸아민 1.85g(18.24 mmol)을 첨가한 뒤 실온에서 24시간 동안 교반시킨다. 반응이 종결되면 10% NaCl 용액과 DI water로 세정하고 클로로폼으로 추출한다. 이후 증류를 통해 용매들을 제거한 뒤 컬럼크로마토 그래피를 이용하여 중간체(B) 0.99g을 얻었다.Afterwards, 3 g (3.8 mmol) of intermediate (A) and 30 g of SOCl 2 were added to a round-bottomed flask under a nitrogen atmosphere, stirred at 80°C for 12 hours, and excess SOCl 2 was removed through distillation. After adding 45 g of chloroform, 2.96 g (18.24 mmol) of 2-hydroxybenzofluoride and 1.85 g (18.24 mmol) of triethylamine were added and stirred at room temperature for 24 hours. When the reaction is completed, it is washed with 10% NaCl solution and DI water and extracted with chloroform. Afterwards, solvents were removed through distillation and then 0.99 g of intermediate (B) was obtained using column chromatography.

둥근바닥 플라스크에 벤즈알데히드 30g(0.283 mol)을 넣고 여기에 propionic acid 600g을 첨가하여 교반시킨다. 상기 교반된 반응물에 pyrrole 18.9g(0.283 mol)을 첨가한 후 온도를 80℃로 올려 1 시간 동안 교반시킨 후 130℃로 가열하고 90분 동안 교반한 후 반응을 종결시킨다. 반응물을 실온으로 낮춘 뒤 여기에 아세톤 300g을 넣고 실온에서 1시간 교반시킨 후 필터링한다. 이후 필터상에 존재하는 고체화합물을 수거하여 아세톤으로 세정한 다음 건조하여 중간체(E) 11.3g을 합성하였다.Add 30 g (0.283 mol) of benzaldehyde to a round bottom flask, add 600 g of propionic acid, and stir. After adding 18.9 g (0.283 mol) of pyrrole to the stirred reactant, the temperature was raised to 80°C and stirred for 1 hour, then heated to 130°C and stirred for 90 minutes to terminate the reaction. After lowering the reactant to room temperature, 300 g of acetone was added thereto, stirred at room temperature for 1 hour, and then filtered. Afterwards, the solid compound present on the filter was collected, washed with acetone, and dried to synthesize 11.3 g of intermediate (E).

이 후 둥근 바닥플라스크에 상기에서 얻어진 중간체(E) 11.3g(18.4 mmol)을 넣은 후, 여기에 chlorosulfonic acid 50g 과 Methylene chloride 200g을 넣고 실온에서 5시간 교반시킨다. 반응이 종결되면 증류를 통해 용매 및 chlorosulfonic acid를 제거한 후 여기에 100g과 2-ethylhexylamine (14.3g 110.4mmol)을 넣고 실온에서 24시간 교반시킨다. 반응이 종결되면 10% NaCl 용액과 DI water로 세정하고 Methylene chloride로 추출한다. 이 후 증류를 통해 용매를 제거한 뒤 컬럼크로마토 그래피를 이용하여 중간체(F) 5.1g을 얻었다.Afterwards, 11.3 g (18.4 mmol) of the intermediate (E) obtained above was added to the round bottom flask, then 50 g of chlorosulfonic acid and 200 g of methylene chloride were added thereto and stirred at room temperature for 5 hours. When the reaction is completed, the solvent and chlorosulfonic acid are removed through distillation, then 100 g and 2-ethylhexylamine (14.3 g 110.4 mmol) are added thereto and stirred at room temperature for 24 hours. When the reaction is completed, it is washed with 10% NaCl solution and DI water and extracted with methylene chloride. Afterwards, the solvent was removed through distillation and then 5.1 g of intermediate (F) was obtained using column chromatography.

하나의 둥근바닥 플라스크에 상기 중간체(F) 3.2g(2.58 mmol)을 넣고 클로로포름(chloroform) 160g을 첨가하여 60℃로 교반한다. 다른 하나의 둥근바닥 플라스크에 Zn(OAc)2 1.42g(7.74 mmol)을 넣은 후 MeOH 30g을 넣고 실온에서 교반하여 Zn(OAc)2을 용해시킨다. 이후 Zn(OAc)2 용액을 상기 중간체(B)가 들어있는 플라스크에 첨가한 후 2시간 동안 교반하며 반응시킨다. 반응이 종결되면 실온(23℃으로 온도를 낮춘 뒤 MC로 추출하고 10% NaCl 및 DI water를 이용하여 세정한다. 증류를 통해 용매들을 제거한 뒤, 최소량의 MC로 반응물을 녹인 후 100g MeCN에 서서히 적가하여 침전시킨다. 침전물을 필터링 후 MeCN으로 세정한 다음 건조하여 하기 화학식 1-1로 표시되는 화합물 3.1g(수율: 92%)을 얻었다. 하기 화학식 1-1로 표시되는 화합물에서 M은 Zn이다.Add 3.2 g (2.58 mmol) of the intermediate (F) to one round bottom flask, add 160 g of chloroform, and stir at 60°C. Add 1.42 g (7.74 mmol) of Zn(OAc) 2 to another round bottom flask, then add 30 g of MeOH and stir at room temperature to dissolve Zn(OAc) 2 . Afterwards, the Zn(OAc) 2 solution was added to the flask containing the intermediate (B) and reacted with stirring for 2 hours. When the reaction is completed, the temperature is lowered to room temperature (23°C), extracted with MC, and washed with 10% NaCl and DI water. After removing the solvents through distillation, the reactant is dissolved in a minimum amount of MC and then slowly added dropwise to 100 g MeCN. The precipitate was filtered, washed with MeCN, and dried to obtain 3.1 g (yield: 92%) of a compound represented by the following Chemical Formula 1-1: In the compound represented by the following Chemical Formula 1-1, M is Zn.

[화학식 1-1][Formula 1-1]

MALDI-TOF 1200 m/zMALDI-TOF 1200 m/z

(프탈로시아닌계 염료의 합성) (Synthesis of phthalocyanine dyes)

합성예 2: 화학식 2-1로 표시되는 화합물의 합성Synthesis Example 2: Synthesis of the compound represented by Formula 2-1

100mL 플라스크에 4-(Biphenyl-2-yloxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile(1.6g), 3,4,6-Trichloro-5-(2,6-dichloro-phenoxy)-phthalonitrile(1.5g), 1,8-Diazabicycloundec-7-ene(1.74g) 및 1-펜탄올(14g)을 넣고 90℃로 가열하여 고체가 녹은 후 zinc acetate(0.34g)를 넣고 140℃로 가열하면서 교반한다. 반응 종료 후 메탄올로 침전을 확인하고, 여과 후 진공 건조한다. 건조된 고체를 컬럼 크로마토그래피(column chromatography)로 정제한다. 정제 후 얻어진 고체에디클로로메탄을 적당히 넣어 고체를 녹인 후, 메탄올을 첨가하여 결정화한다. 상기 결정화된 고체를 여과하고 진공건조하여 하기 화학식 2-1로 표시되는 화합물을 얻는다. 4-(Biphenyl-2-yloxy)-3,5,6-trichloro-phthalonitrile (1.6g), 3,4,6-Trichloro-5-(2,6-dichloro-phenoxy)-phthalonitrile (1.5g) in a 100mL flask. g), Add 1,8-Diazabicycloundec-7-ene (1.74g) and 1-pentanol (14g) and heat to 90℃ to dissolve the solid. Then add zinc acetate (0.34g) and stir while heating to 140℃. . After completion of the reaction, precipitation is confirmed with methanol, filtered, and vacuum dried. The dried solid is purified by column chromatography. Add the solid edichloromethane obtained after purification to dissolve the solid, and then add methanol to crystallize it. The crystallized solid is filtered and vacuum dried to obtain a compound represented by the following formula 2-1.

[화학식 2-1][Formula 2-1]

MALDI-TOF 1649.57 m/zMALDI-TOF 1649.57 m/z

(감광성 수지 조성물의 합성)(Synthesis of photosensitive resin composition)

실시예 1 내지 실시예 7 및 비교예 1 내지 비교예 5Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 5

하기 언급된 구성성분들을 하기 표 1에 나타낸 조성으로 혼합하여 실시예 1 내지 실시예 7 및 비교예 1 내지 비교예 5에 따른 감광성 수지 조성물을 제조하였다.The photosensitive resin compositions according to Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 5 were prepared by mixing the components mentioned below in the composition shown in Table 1.

구체적으로, 용매에 광중합 개시제를 녹인 후 2 시간 동안 상온에서 교반한 다음, 여기에 바인더 수지 및 광중합성 화합물을 첨가하여 2시간 동안 상온에서 교반하였다. 이어서, 얻어진 상기 반응물에 착색제 및 기타 첨가제를 넣고 2시간 동안 상온에서 교반하였다. 이어 상기 생성물을 3회 여과하여 불순물을 제거함으로써, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.Specifically, the photopolymerization initiator was dissolved in a solvent and stirred at room temperature for 2 hours, then a binder resin and a photopolymerizable compound were added thereto and stirred at room temperature for 2 hours. Next, colorants and other additives were added to the obtained reaction product and stirred at room temperature for 2 hours. Then, the product was filtered three times to remove impurities, thereby preparing a photosensitive resin composition.

(단위: 중량%)(Unit: weight%) 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 실시예 4Example 4 실시예 5Example 5 실시예 6Example 6 실시예 7Example 7 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 비교예 3Comparative Example 3 비교예 4Comparative Example 4 비교예 5Comparative Example 5 (A) 착색제(A) Colorant (A-1)(A-1) 16.216.2 15.015.0 13.713.7 10.910.9 16.216.2 13.713.7 13.713.7 20.020.0 18.418.4 -- 10.910.9 16.216.2 (A-2)(A-2) 7.07.0 7.47.4 7.77.7 8.08.0 7.07.0 7.77.7 7.77.7 6.86.8 6.36.3 15.515.5 8.08.0 7.07.0 (A-3)(A-3) 9.89.8 8.28.2 6.56.5 4.84.8 10.010.0 9.359.35 6.26.2 -- 14.014.0 -- 4.34.3 10.510.5 (A-4)(A-4) 5.55.5 8.98.9 12.212.2 25.025.0 5.35.3 9.359.35 12.512.5 -- -- 26.526.5 25.525.5 4.84.8 (B) 바인더 수지(B) Binder resin 8.48.4 8.38.3 8.28.2 8.28.2 8.48.4 8.28.2 8.28.2 8.38.3 8.48.4 8.38.3 8.28.2 8.48.4 (C) 광중합성 화합물(C) Photopolymerizable compound 5.35.3 5.35.3 5.25.2 5.25.2 5.35.3 5.25.2 5.25.2 5.25.2 5.35.3 5.35.3 5.25.2 5.35.3 (D) 광중합 개시제(D) Photopolymerization initiator (D-1)(D-1) 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 (D-2)(D-2) 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 (E) 용매(E) Solvent 47.047.0 46.446.4 45.745.7 37.137.1 47.047.0 45.745.7 45.745.7 58.958.9 46.846.8 43.543.5 37.137.1 47.047.0 (F) 기타 첨가제(F) Other additives 0.20.2 0.20.2 0.20.2 0.20.2 0.20.2 0.20.2 0.20.2 0.20.2 0.20.2 0.20.2 0.20.2 0.20.2

(A) 착색제(A) Colorant

(A-1) C.I. Pigment Blue 15:6 분산액(Iridos社; 안료 고형분 10%)(A-1) C.I. Pigment Blue 15:6 dispersion (Iridos; pigment solids 10%)

(A-2) Blue-Hybrid 청색 안료 분산액(Iridos社; 입실론 청색 안료 + 잔센계 violet 염료)(A-2) Blue-Hybrid blue pigment dispersion (Iridos; epsilon blue pigment + Janssen violet dye)

(A-3) 합성예 1의 염료(A-3) Dye of Synthesis Example 1

(A-4) 합성예 2의 프탈로시아닌계 염료(A-4) Phthalocyanine-based dye of Synthesis Example 2

(B) 바인더 수지(B) Binder resin

아크릴계 바인더 수지 (SP-RY-25, Showadenko社) Acrylic binder resin (SP-RY-25, Showadenko)

(C) 광중합성 화합물(C) Photopolymerizable compound

디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(DPHA) (일본화약社) Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) (Japan Gunpowder Co., Ltd.)

(D) 광중합 개시제(D) Photopolymerization initiator

(D-1) 옥심계 개시제 (삼양社; SPI02)(D-1) Oxime-based initiator (Samyang; SPI02)

(D-2) 옥심계 개시제 (삼양社; SPI03)(D-2) Oxime-based initiator (Samyang; SPI03)

(E) 용매(E) Solvent

PGMEA (교화社)PGMEA (Pyohwasa)

(F) 첨가제(F) Additives

불소계 계면활성제 (F-554, DIC社)Fluorine-based surfactant (F-554, DIC)

(평가 1) 색좌표 및 휘도(Evaluation 1) Color coordinates and luminance

탈지 세척한 두께 1 mm의 유리 기판 상에 1 ㎛ 내지 3 ㎛의 두께로 상기 실시예 1 내지 실시예 7 및 비교예 1 내지 비교예 5에서 제조한 감광성 수지 조성물을 250rpm 내지 350rpm의 조건으로 도포하고, 90℃의 핫 플레이트 상에서 2분 동안 건조시켜 도막을 수득하였다. 계속해서 도막에 40mJ/cm2의 조건으로 365nm의 주파장을 가진 고압수은램프를 사용하여 전면 노광을 진행한 뒤, 현상기에서 KOH 현상액(111배 희석액)을 이용하여 수세액/현상액 = 1/0.8의 조건에서 60초 동안 현상하고, 다시 60초 동안 수세를 진행하여 현상 이력을 주었다. 이 후, 230℃의 열풍순환식 건조로 안에서 20분 동안 건조시켜 색 시편(Color Chip)을 수득하였다. The photosensitive resin compositions prepared in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 5 were applied to a thickness of 1 ㎛ to 3 ㎛ on a degreased and washed glass substrate with a thickness of 1 mm under conditions of 250 rpm to 350 rpm. , and dried on a hot plate at 90°C for 2 minutes to obtain a coating film. Subsequently, the entire surface was exposed using a high-pressure mercury lamp with a main wavelength of 365 nm under the condition of 40 mJ/cm 2 , and then washed with water/developer = 1/0.8 using KOH developer (111 times diluted solution) in the developer. It was developed for 60 seconds under the conditions, and then washed with water for another 60 seconds to give the development history. Afterwards, it was dried in a hot air circulation drying furnace at 230°C for 20 minutes to obtain a color chip.

상기 제작된 색 시편을 분광광도계(MCPD3000, Otsuka electronic社)를 이용하여 C 광원 기준 색 특성을 평가하였고, CIE 색좌표(By 0.0600) 기준으로 휘도(Y)와 명암비를 계산하여, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.The produced color specimen was evaluated for color characteristics based on C light source using a spectrophotometer (MCPD3000, Otsuka Electronic), and luminance (Y) and contrast ratio were calculated based on CIE color coordinates (By 0.0600), and the results are shown in the table below. It is shown in 2.

CIE 색좌표CIE color coordinates 휘도Luminance 명암비contrast ratio BxBx ByBy 실시예 1Example 1 0.15110.1511 0.06000.0600 8.818.81 1172011720 실시예 2Example 2 0.15110.1511 0.06000.0600 8.828.82 1183011830 실시예 3Example 3 0.15110.1511 0.06000.0600 8.848.84 1194111941 실시예 4Example 4 0.15110.1511 0.06000.0600 8.758.75 1178411784 실시예 5Example 5 0.15110.1511 0.06000.0600 8.638.63 1177811778 실시예 6Example 6 0.15110.1511 0.06000.0600 8.648.64 1177911779 실시예 7Example 7 0.15110.1511 0.06000.0600 8.748.74 1178911789 비교예 1Comparative Example 1 0.15550.1555 0.06000.0600 12.0412.04 1071210712 비교예 2Comparative Example 2 0.15100.1510 0.06000.0600 8.258.25 1073610736 비교예 3Comparative Example 3 0.15040.1504 0.06000.0600 7.497.49 1400214002 비교예 4Comparative Example 4 0.15050.1505 0.06000.0600 8.528.52 1170511705 비교예 5Comparative Example 5 0.15140.1514 0.06000.0600 8.668.66 1173411734

(평가 2) 내열성, 내화학성 및 투과도(Evaluation 2) Heat resistance, chemical resistance and permeability

평가 1의 색 특성 평가 후, 230℃의 열풍순환식 건조로 안에서 20분 동안 한번 더 건조시킨 뒤, 동일 장비를 이용하여 색좌표 및 휘도를 측정하고, 추가 오븐 공정 전과 후의 색 변경 수치를 기준으로 del(E*) 값을 계산하여 내열 특성을 확인하였다. 내화학성 또한 동일하게 색좌표 및 휘도를 측정한 뒤, NMP 용액에 상온에서 10분간 침지하고, 용액 침지 전과 후의 색 변경 수치를 기준으로 del(E*) 값을 계산하여 내화학성을 확인하였다. 내열성 및 내화학성 결과를 하기 표 3에 나타내었다.After evaluating the color characteristics of Evaluation 1, drying was performed once more for 20 minutes in a hot air circulation drying furnace at 230°C, then color coordinates and luminance were measured using the same equipment, and del was based on the color change values before and after the additional oven process. The heat resistance properties were confirmed by calculating the (E*) value. Chemical resistance was also confirmed by measuring the color coordinates and luminance in the same way, then immersing the sample in an NMP solution at room temperature for 10 minutes, and calculating the del(E*) value based on the color change values before and after immersion in the solution. The heat resistance and chemical resistance results are shown in Table 3 below.

투과도의 경우, 실시예 1 내지 실시예 7 및 비교예 1 내지 비교예 5에 따른 감광성 수지 조성물 MCPD 장비를 통하여 각각의 파장에 따른 투과도 그래프를 얻은 뒤, 400nm 내지 450nm에 해당하는 그래프 아래 영역의 면적을 구하고, 비교예 1에 따른 그래프에서 얻어진 면적(400nm 내지 450nm에 해당하는 그래프 아래 영역의 면적)을 기준(100%)으로 하여, 나머지 감광성 수지 조성물들의 상대적인 영역을 구하였다. 투과도 결과를 하기 표 3 및 도 1에 나타내었다.In the case of transmittance, after obtaining a transmittance graph according to each wavelength through the photosensitive resin composition MCPD equipment according to Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 5, the area under the graph corresponding to 400 nm to 450 nm was obtained, and the relative areas of the remaining photosensitive resin compositions were determined using the area obtained from the graph according to Comparative Example 1 (area of the area under the graph corresponding to 400 nm to 450 nm) as a standard (100%). The transmittance results are shown in Table 3 and Figure 1 below.

내열성heat resistance 내화학성chemical resistance 400nm 내지 450nm에서의 투과도 (상대비교) (%)Transmittance at 400nm to 450nm (relative comparison) (%) 실시예 1Example 1 3.203.20 4.314.31 5555 실시예 2Example 2 2.872.87 3.503.50 5656 실시예 3Example 3 2.542.54 2.682.68 5757 실시예 4Example 4 2.692.69 2.902.90 6464 실시예 5Example 5 2.672.67 2.792.79 6161 실시예 6Example 6 2.682.68 2.822.82 6363 실시예 7Example 7 2.772.77 2.912.91 6565 비교예 1Comparative Example 1 0.610.61 0.770.77 100100 비교예 2Comparative Example 2 4.494.49 10.8910.89 5353 비교예 3Comparative Example 3 1.641.64 1.351.35 7373 비교예 4Comparative Example 4 2.682.68 2.712.71 8888 비교예 5Comparative Example 5 2.952.95 3.673.67 8989

상기 표 2, 표 3 및 도 1로부터, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 400nm 내지 450nm에서 낮은 투과도를 유지하며 고색 좌표를 구현함과 동시에, 내열성, 내화학성이 우수함을 확인할 수 있다. 구체적으로, 비교예 1의 감광성 수지 조성물은 휘도, 명암비, 내구성 등은 우수하나 400nm 내지 450nm에서의 투과도가 너무 높고, 고색 좌표를 전혀 구현할 수 없음을 확인할 수 있다. 또한, 비교예 2 내지 비교예 5의 감광성 수지 조성물은 고색 좌표를 구현할 수는 있으나, 400nm 내지 450nm에서의 투과도가 너무 높거나, 휘도, 명암비, 내구성 등이 우수하지 못함을 확인할 수 있다.From Table 2, Table 3, and Figure 1, it can be seen that the photosensitive resin composition according to one embodiment maintains low transmittance at 400 nm to 450 nm, realizes high color coordinates, and has excellent heat resistance and chemical resistance. Specifically, it can be confirmed that the photosensitive resin composition of Comparative Example 1 is excellent in brightness, contrast ratio, durability, etc., but the transmittance at 400 nm to 450 nm is too high and high color coordinates cannot be realized at all. In addition, it can be confirmed that the photosensitive resin compositions of Comparative Examples 2 to 5 can implement high color coordinates, but the transmittance at 400 nm to 450 nm is too high or the brightness, contrast ratio, durability, etc. are not excellent.

이상 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고, 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고, 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited thereto, and can be implemented with various modifications within the scope of the claims, the detailed description of the invention, and the accompanying drawings, and this also applies to the present invention. It is natural that it falls within the scope of the invention.

Claims (19)

(A) 청색 안료, 하기 화학식 1로 표시되는 염료 및 프탈로시아닌계 염료를 포함하는 착색제;
(B) 바인더 수지;
(C) 광중합성 화합물;
(D) 광중합 개시제; 및
(E) 용매
를 포함하고,
상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 감광성 수지 조성물 총량에 대해 10 중량% 이하로 포함되고,
상기 프탈로시아닌계 염료는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 5 중량% 내지 25 중량%로 포함되는 감광성 수지 조성물:
[화학식 1]

상기 화학식 1에서,
M은 Cu, Co, VO, Zn, Pt 또는 In 이고,
L1 내지 L4는 각각 독립적으로 *-C(=O)O-* 또는 *-S(=O)2NH-* 이고,
R1 내지 R4는 각각 독립적으로 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C20 헤테로아릴기이고,
R5 내지 R12는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 할로겐 원자이다.
(A) a colorant containing a blue pigment, a dye represented by the following formula (1), and a phthalocyanine-based dye;
(B) binder resin;
(C) photopolymerizable compound;
(D) photopolymerization initiator; and
(E) Solvent
Including,
The compound represented by Formula 1 is contained in an amount of 10% by weight or less based on the total amount of the photosensitive resin composition,
A photosensitive resin composition in which the phthalocyanine-based dye is contained in an amount of 5% to 25% by weight based on the total amount of the photosensitive resin composition:
[Formula 1]

In Formula 1,
M is Cu, Co, VO, Zn, Pt or In,
L 1 to L 4 are each independently *-C(=O)O-* or *-S(=O) 2 NH-*,
R 1 to R 4 are each independently a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, or a substituted or unsubstituted C2 to C20 heteroaryl group,
R 5 to R 12 are each independently a hydrogen atom or a halogen atom.
제1항에 있어서,
상기 화학식 1로 표시되는 염료는 상기 프탈로시아닌계 염료보다 적은 함량으로 포함되는 감광성 수지 조성물.
According to paragraph 1,
A photosensitive resin composition in which the dye represented by Formula 1 is contained in a smaller amount than the phthalocyanine-based dye.
제2항에 있어서,
상기 화학식 1로 표시되는 염료 및 상기 프탈로시아닌계 염료는 1:1.1 내지 1:2의 중량비로 포함되는 감광성 수지 조성물.
According to paragraph 2,
A photosensitive resin composition comprising the dye represented by Formula 1 and the phthalocyanine-based dye in a weight ratio of 1:1.1 to 1:2.
제1항에 있어서,
상기 L1 내지 L4는 각각 독립적으로 *-C(=O)O-* 이고,
상기 R1 내지 R4는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기인 감광성 수지 조성물.
According to paragraph 1,
The L 1 to L 4 are each independently *-C(=O)O-*,
The photosensitive resin composition wherein R 1 to R 4 are each independently a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group.
제1항에 있어서,
상기 화학식 1로 표시되는 염료는 400nm 내지 435nm의 파장영역에서 최대흡광을 가지는 감광성 수지 조성물.
According to paragraph 1,
The dye represented by Formula 1 is a photosensitive resin composition having maximum absorption in the wavelength range of 400 nm to 435 nm.
제1항에 있어서,
상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-14 중 어느 하나로 표시되는 감광성 수지 조성물:
[화학식 1-1]

[화학식 1-2]

[화학식 1-3]

[화학식 1-4]

[화학식 1-5]

[화학식 1-6]

[화학식 1-7]

[화학식 1-8]

[화학식 1-9]

[화학식 1-10]

[화학식 1-11]

[화학식 1-12]

[화학식 1-13]

[화학식 1-14]

상기 화학식 1-1 또는 화학식 1-14에서,
M은 Cu, Co, VO, Zn, Pt 또는 In 이다.
According to paragraph 1,
The compound represented by Formula 1 is a photosensitive resin composition represented by any one of the following Formulas 1-1 to 1-14:
[Formula 1-1]

[Formula 1-2]

[Formula 1-3]

[Formula 1-4]

[Formula 1-5]

[Formula 1-6]

[Formula 1-7]

[Formula 1-8]

[Formula 1-9]

[Formula 1-10]

[Formula 1-11]

[Formula 1-12]

[Formula 1-13]

[Formula 1-14]

In Formula 1-1 or Formula 1-14,
M is Cu, Co, VO, Zn, Pt or In.
제1항에 있어서,
상기 프탈로시아닌계 염료는 하기 화학식 2로 표시되는 감광성 수지 조성물:
[화학식 2]

상기 화학식 2에서,
R13 내지 R28은 각각 독립적으로 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기이다.
According to paragraph 1,
The phthalocyanine-based dye is a photosensitive resin composition represented by the following formula (2):
[Formula 2]

In Formula 2,
R 13 to R 28 are each independently a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, or a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryloxy group.
제7항에 있어서,
상기 화학식 2에서,
R13 내지 R16 중 적어도 하나 및 R21 내지 R24 중 적어도 하나는 할로겐 원자로 치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기인 감광성 수지 조성물.
In clause 7,
In Formula 2,
A photosensitive resin composition wherein at least one of R 13 to R 16 and at least one of R 21 to R 24 are a C6 to C20 aryloxy group substituted with a halogen atom.
제8항에 있어서,
상기 화학식 2에서,
R14 및 R15 중 어느 하나 및 R22 및 R23 중 어느 하나는 할로겐 원자로 치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기인 감광성 수지 조성물.
According to clause 8,
In Formula 2,
A photosensitive resin composition wherein any one of R 14 and R 15 and any one of R 22 and R 23 are a C6 to C20 aryloxy group substituted with a halogen atom.
제8항에 있어서,
상기 화학식 2에서,
R17 내지 R20 중 적어도 하나 및 R25 내지 R28 중 적어도 하나는 C6 내지 C10 아릴기로 치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기인 감광성 수지 조성물.
According to clause 8,
In Formula 2,
A photosensitive resin composition wherein at least one of R 17 to R 20 and at least one of R 25 to R 28 are a C6 to C20 aryloxy group substituted with a C6 to C10 aryl group.
제10항에 있어서,
상기 화학식 2에서,
R18 및 R19 중 어느 하나 및 R26 및 R27 중 어느 하나는 C6 내지 C10 아릴기로 치환된 C6 내지 C20 아릴옥시기인 감광성 수지 조성물.
According to clause 10,
In Formula 2,
A photosensitive resin composition wherein any one of R 18 and R 19 and any one of R 26 and R 27 are a C6 to C20 aryloxy group substituted with a C6 to C10 aryl group.
제1항에 있어서,
상기 바인더 수지는 아크릴계 바인더 수지, 카도계 바인더 수지 또는 이들의 조합을 포함하는 감광성 수지 조성물.
According to paragraph 1,
The binder resin is a photosensitive resin composition including an acrylic binder resin, a cardo-based binder resin, or a combination thereof.
제12항에 있어서,
상기 바인더 수지는 아크릴계 바인더 수지이고, 상기 아크릴계 바인더 수지는 5000 g/mol 내지 15000 g/mol의 중량평균분자량을 가지는 감광성 수지 조성물.
According to clause 12,
The binder resin is an acrylic binder resin, and the acrylic binder resin has a weight average molecular weight of 5000 g/mol to 15000 g/mol.
제12항에 있어서,
상기 바인더 수지는 아크릴계 바인더 수지이고, 상기 아크릴계 바인더 수지는 80 mgKOH/g 내지 130 mgKOH/g의 산가를 가지는 감광성 수지 조성물.
According to clause 12,
The binder resin is an acrylic binder resin, and the acrylic binder resin has an acid value of 80 mgKOH/g to 130 mgKOH/g.
제1항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은 감광성 수지 조성물 총량에 대해,
상기 착색제 30 중량% 내지 50 중량%;
상기 바인더 수지 1 중량% 내지 10 중량%;
상기 광중합성 화합물 1 중량% 내지 10 중량%;
상기 광중합 개시제 0.1 중량% 내지 5 중량% 및
상기 용매 잔부량
을 포함하는 감광성 수지 조성물.
According to paragraph 1,
The photosensitive resin composition is based on the total amount of the photosensitive resin composition,
30% to 50% by weight of the colorant;
1% to 10% by weight of the binder resin;
1% to 10% by weight of the photopolymerizable compound;
0.1% to 5% by weight of the photopolymerization initiator and
The remaining amount of the solvent
A photosensitive resin composition containing a.
제1항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은 에폭시 화합물, 실란 커플링제, 계면활성제 또는 이들의 조합을 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
According to paragraph 1,
The photosensitive resin composition further includes an epoxy compound, a silane coupling agent, a surfactant, or a combination thereof.
제1항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은 CIE 색좌표에서 By 값이 0.0600일 때 Bx 값이 0.152 이하인 감광성 수지 조성물.
According to paragraph 1,
The photosensitive resin composition has a Bx value of 0.152 or less when the By value is 0.0600 in CIE color coordinates.
제1항 내지 제17항 중 어느 한 항의 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조되는 감광성 수지막.
A photosensitive resin film manufactured using the photosensitive resin composition of any one of claims 1 to 17.
제18항의 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터.A color filter comprising the photosensitive resin film of claim 18.
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