KR20220120500A - 표면 처리액, 및 친수화 처리 방법 - Google Patents

표면 처리액, 및 친수화 처리 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20220120500A
KR20220120500A KR1020220022373A KR20220022373A KR20220120500A KR 20220120500 A KR20220120500 A KR 20220120500A KR 1020220022373 A KR1020220022373 A KR 1020220022373A KR 20220022373 A KR20220022373 A KR 20220022373A KR 20220120500 A KR20220120500 A KR 20220120500A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
polymerizable compound
ring
compound
surface treatment
Prior art date
Application number
KR1020220022373A
Other languages
English (en)
Inventor
다카히로 센자키
Original Assignee
도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 filed Critical 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
Publication of KR20220120500A publication Critical patent/KR20220120500A/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F228/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a bond to sulfur or by a heterocyclic ring containing sulfur
    • C08F228/02—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a bond to sulfur or by a heterocyclic ring containing sulfur by a bond to sulfur
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/02—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by baking
    • B05D3/0254—After-treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F226/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a single or double bond to nitrogen or by a heterocyclic ring containing nitrogen
    • C08F226/02—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a single or double bond to nitrogen or by a heterocyclic ring containing nitrogen by a single or double bond to nitrogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F226/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a single or double bond to nitrogen or by a heterocyclic ring containing nitrogen
    • C08F226/06—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a single or double bond to nitrogen or by a heterocyclic ring containing nitrogen by a heterocyclic ring containing nitrogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F230/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal
    • C08F230/04—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal
    • C08F230/08—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal containing silicon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F4/00—Polymerisation catalysts
    • C08F4/04—Azo-compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)

Abstract

표면 처리된 물품이 다양한 약제에 노출되어도 표면 처리의 효과가 시간 경과적으로 잘 저하되지 않는 친수화 표면 처리액과, 당해 친수화 표면 처리액을 사용하는 친수화 처리 방법을 제공하는 것.
에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 중합성 화합물 (A) 와, 중합 개시제 (B) 와, 용매 (S) 를 포함하는 친수화 표면 처리액에 있어서, 중합성 화합물 (A) 로서, 친수성 중합성 화합물 (A1) 과, 밀착성 중합성 화합물 (A2) 와, 산성 중합성 화합물 (A3a) 및/또는 염기성 중합성 화합물 (A3b) 를 사용하고, 중합성 화합물 (A) 의 농도 10 질량％ 의 수용액의 23 ℃ 에 있어서의 pH 를, 6.5 이상 7.5 이하로 한다.

Description

표면 처리액, 및 친수화 처리 방법{SURFACE TREATMENT LIQUID AND HYDROPHILIZING TREATMENT METHOD}
본 발명은, 표면 처리액과, 당해 표면 처리액을 사용하는 친수화 처리 방법에 관한 것이다.
종래부터, 다양한 물품의 표면의 성질을 개질하기 위해, 다양한 표면 처리액을 사용하여 표면 처리가 실시되고 있다. 표면 개질 중에서도, 물품의 표면의 친수화에 대한 요구는 커서, 친수화용의 약제나 표면 처리액에 대해 다수 제안되어 있다. 친수화용의 약제나 표면 처리액을 사용하여 대상물을 표면 처리함으로써, 대상물의 표면에 피막이 형성되고, 대상물의 표면이 친수화된다.
이러한 친수화용의 약제나 표면 처리액으로는, 예를 들어, 함질소 복소 고리 구조와 베타인 구조를 갖는 실록산 모노머를 포함하는 친수성 코트액이 제안되어 있다 (특허문헌 1 을 참조.).
국제공개 제2018/230514호
예를 들어, 창이나 거울 등, 표면 처리의 대상물은, 세정시에 사용되는 세정제 등의 약품으로 노출되는 경우가 있다. 특히 물을 사용하는 장소에서 사용되는 창이나 거울에 대해서는, 물때의 제거 등에 사용되는 산성 세제나, 곰팡이 제거에 사용되는 염기성 세제에 노출될 기회가 많다. 또, 세정제의 pH 에 상관없이, 비누나 샴푸 등도 포함하는 다양한 세정제에는, 지방산 나트륨, 도데실황산나트륨 (SDS), 직사슬 알킬에테르술폰산나트륨 등의 다양한 이온성 계면 활성제도 포함된다. 또한, 세정제에는, 올레산, 베헨산, 디메틸스테아릴아민, 디메틸 코코넛 아민 등의 소수성 부위를 갖는 아니온 또는 카티온을 생성시킬 수 있는 유기 산이나 유기 염기가 포함되는 경우도 있다.
그러나, 특허문헌 1 에 기재되는 종래의 친수화 처리제에 의해 표면 처리된 물품에 대해, 산, 및 알칼리나, 다양한 이온성 계면 활성제나, 소수성 부위를 갖는 아니온 또는 카티온을 생성할 수 있는 유기 산이나 유기 염기 등을 포함하는 세정제에 노출되면, 표면 처리된 물품의 표면의 친수성이 시간 경과적으로 서서히 저하되어 버리는 경우가 있다는 문제가 있다.
본 발명은, 상기 과제를 감안하여 이루어진 것으로서, 표면 처리된 물품이 다양한 약제에 노출되어도 표면 처리의 효과가 시간 경과적으로 잘 저하되지 않는 친수화 표면 처리액과, 당해 친수화 표면 처리액을 사용하는 친수화 처리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 중합성 화합물 (A) 와, 중합 개시제 (B) 와, 용매 (S) 를 포함하는 친수화 표면 처리액에 있어서, 중합성 화합물 (A) 로서, 친수성 중합성 화합물 (A1) 과, 밀착성 중합성 화합물 (A2) 와, 산성 중합성 화합물 (A3a) 및/또는 염기성 중합성 화합물 (A3b) 를 사용하고, 중합성 화합물 (A) 의 농도 10 질량％ 의 수용액의 23 ℃ 에 있어서의 pH 를, 6.5 이상 7.5 이하로 함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 보다 상세하게는, 본 발명은 이하의 것을 제공한다.
본 발명의 제 1 양태는, 중합성 화합물 (A) 와, 중합 개시제 (B) 와, 용매 (S) 를 포함하는 친수화 표면 처리액으로서,
중합성 화합물 (A) 가, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖고,
중합성 화합물 (A) 가, 친수성 중합성 화합물 (A1) 과, 밀착성 중합성 화합물 (A2) 와, 산성 중합성 화합물 (A3a) 및/또는 염기성 중합성 화합물 (A3b) 를 포함하고,
상기 중합성 화합물 (A) 의 농도 10 질량％ 의 수용액의 23 ℃ 에 있어서의 pH 가, 6.5 이상 7.5 이하인, 친수화 표면 처리액이다.
본 발명의 제 2 양태는, 제 1 양태에 관련된 표면 처리액을 도포하여, 피처리체의 표면에 도포막을 형성하는 것과,
도포막을 가열하여, 피처리체의 표면에 피막을 형성하는 것을 포함하는, 피처리체의 표면을 친수화시키는 친수화 처리 방법이다.
본 발명에 의하면, 표면 처리된 물품이 다양한 약제에 노출되어도 표면 처리의 효과가 시간 경과적으로 잘 저하되지 않는 친수화 표면 처리액과, 당해 친수화 표면 처리액을 사용하는 친수화 처리 방법을 제공할 수 있다.
≪친수화 표면 처리액≫
친수화 표면 처리액은, 중합성 화합물 (A) 와, 중합 개시제 (B) 와, 용매 (S) 를 포함한다. 이러한 친수화 표면 처리액은, 표면 처리의 대상물인 피처리체의 표면을 친수화시킬 수 있다.
이하, 친수화 표면 처리액에 관하여, 임의의 성분, 필수의 성분 등에 대해 설명한다.
＜중합성 화합물 (A)＞
중합성 화합물 (A) 는, 피처리체의 표면에 있어서 중합 개시제 (B) 의 작용에 의해 중합되어 피처리체의 표면에 양호하게 밀착된 수지 피막을 형성한다.
중합성 화합물 (A) 는, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는다.
에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 기로는, 비닐기, 1-프로페닐기, 2-n-프로페닐기 (알릴기), 1-n-부테닐기, 2-n-부테닐기, 3-n-부테닐기 등의 알케닐기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 아크릴로일아미노기, 및 메타크릴로일아미노기를 들 수 있다. 중합성 및 제막성의 점에서, 중합성 화합물 (A) 는, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 기로서, 비닐기, 및 알릴기에서 선택되는 1 이상의 중합성기를 갖는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.
중합성 화합물 (A) 는, 친수성 중합성 화합물 (A1) 과, 밀착성 중합성 화합물 (A2) 와, 산성 중합성 화합물 (A3a) 및/또는 염기성 중합성 화합물 (A3b) 를 포함한다.
또, 중합성 화합물 (A) 는, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서, 상기 친수성 중합성 화합물 (A1) 과, 밀착성 중합성 화합물 (A2) 와, 산성 중합성 화합물 (A3a) 및/또는 염기성 중합성 화합물 (A3b) 이외에, 다관능성 모노머 (A4) 나 다른 모노머 (A5) 를 포함하고 있어도 된다.
〔친수성 중합성 화합물 (A1)〕
친수성 중합성 화합물 (A1) 은, 친수성기와 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 화합물이다. 중합성 화합물 (A) 가, 친수성 중합성 화합물 (A) 를 포함함으로써, 친수화 표면 처리액을 사용하여, 피처리체의 표면에 친수성의 피막을 형성할 수 있다.
친수성기는, 종래부터, 당업자에게 친수성기인 것으로 인식되고 있는 관능기이면 특별히 한정되지 않고, 그 중에서 적절히 선택할 수 있다.
친수성기의 구체예로는, 폴리옥시알킬렌기 (예를 들어, 폴리옥시에틸렌기, 폴리옥시프로필렌기, 옥시에틸렌기와 옥시프로필렌기가 블록 또는 랜덤 결합한 폴리옥시알킬렌기 등), 카르복시기, 제 1 급 아미노기, 제 2 급 아미노기, 수산기, 포스폰산기, 포스핀산기, 및 술폰산기 등을 들 수 있다. 또, 이들 기를 포함하는 유기기도 친수성기로서 바람직하다.
친수화 효과가 우수한 점에서, 친수성기로는, 하기 식 (ai) :
-NH-R01 … (ai)
(식 (ai) 중, R01 은, 아미노기, 술폰산기, 포스폰산기, 및 수산기로 이루어지는 군에서 선택되는 1 이상의 기로 치환된 탄소 원자수 1 이상 4 이하의 알킬기, 또는 수소 원자이다.)
로 나타내는 기가 바람직하다.
R01 에 대해, 아미노기는, 카티온성기에 해당하고, 술폰산기, 및 포스폰산기는 아니온성기에 해당한다. 수산기 중 페놀성 수산기는 아니온성기에 해당한다.
식 (ai) 로 나타내는 친수성기의 구체예로는, 아미노기와, 하기 식으로 나타내는 기를 들 수 있다. 하기 식에 있어서의 R01 은, 상기 R01 과 동일하다.
[화학식 1]
Figure pat00001
상기 식 (ai) 로 나타내는 친수성기의 구체예 중, 특히 바람직한 기로는, 이하의 기를 들 수 있다.
[화학식 2]
Figure pat00002
중합성이나, 합성 또는 입수의 용이성 등의 점에서, 친수성 중합성 화합물 (A1) 로는, 하기 식 (a1-a) 로 나타내는 (메트)아크릴아미드 화합물이 바람직하다.
CH2=CR02-CO-NH-R01 … (a1-a)
(식 (a1-a) 중, R01 은, 아미노기, 술폰산기, 포스폰산기, 및 수산기로 이루어지는 군에서 선택되는 1 이상의 기로 치환된 탄소 원자수 1 이상 4 이하의 알킬기, 또는 수소 원자이고, R02 는 수소 원자 또는 메틸기이다.)
식 (a1-a) 중, R01 에 대해서는, 전술한 바와 같다.
(중합성 베타인 화합물)
중합성 화합물 (A) 는, 카티온성기와 아니온성기를 포함하는 베타인 구조와, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 기를 갖는 중합성 베타인 화합물을 친수성 중합성 화합물 (A1) 로서 포함하는 것이 바람직하다. 카티온성기, 및 아니온성기 모두 친수성기로서 작용한다.
표면 처리된 피처리체의 표면은, 소수성기를 갖는 아니온이나 소수성기를 갖는 카티온을 다량으로 포함하는 세정액에 접촉하는 경우가 있다. 표면 처리액 중의 수지가, 친수성기로서 카르복시기, 카르복실산염기, 술폰산기, 및 술폰산염기 등의 아니온성기만을 갖는 경우, 이들 친수성기가 소수성기를 갖는 카티온과의 상호 작용에 의해, 친수성기로서 작용하지 않게 되는 경우가 있다. 또, 표면 처리액 중의 수지가, 친수성기로서 제 4 급 암모늄기와 같은 카티온성기만을 갖는 경우, 카티온성기가 소수성기를 갖는 아니온과의 상호 작용에 의해 친수성기로서 작용하지 않게 되는 경우가 있다.
그러나, 중합성 베타인 화합물을 포함하는 중합성 화합물 (A) 의 중합체가, 친수성기로서 카티온성기 및 아니온성기의 쌍방을 가짐으로써, 표면 처리된 피처리체의 표면이, 소수성기를 갖는 카티온을 풍부하게 포함하는 세정제와 접촉해도, 소수성기를 갖는 아니온을 풍부하게 포함하는 세정제와 접촉해도, 카티온성기 및 아니온성기 중 어느 일방은 친수성기로서의 작용을 유지할 수 있어, 피처리체의 표면의 친수성이 잘 저하되지 않는다.
중합성 베타인 화합물에 있어서의 카티온성기의 수와 아니온성기의 수는, 특별히 한정되지 않는다.
중합성 베타인 화합물에 있어서, 카티온성기의 수와 아니온성기의 수가 동일한 것이 바람직하다.
중합성 베타인 화합물의 합성이나 입수가 용이한 점에서, 중합성 베타인 화합물에 있어서의 카티온성기의 수와 아니온성기의 수는, 각각 1 인 것이 바람직하다.
중합성 베타인 화합물에 있어서, 예를 들어, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 기와 카티온성기와 아니온성기가, 필요에 따라 연결기를 개재하여, 이 순서로 결합하고 있는 것이 바람직하다.
카티온성기는, 제 4 급 질소 카티온인 카티온성기인 것이 바람직하다.
아니온성기는, 술폰산 아니온기, 포스폰산 아니온기 또는 카르복실산 아니온기인 것이 바람직하다.
중합성 베타인 화합물에 있어서의 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 기로는, 비닐기, 1-프로페닐기, 2-n-프로페닐기 (알릴기), 1-n-부테닐기, 2-n-부테닐기, 및 3-n-부테닐기 등의 알케닐기를 들 수 있다. 이들 기 중에서는, 비닐기, 및 2-n-프로페닐기 (알릴기) 가 바람직하다.
중합성 베타인 화합물에 있어서의 에틸렌성 불포화 이중 결합의 수는 한정되지 않지만, 1 개 또는 2 개가 바람직하다.
중합성 베타인 화합물로는, 예를 들어, 하기 식 (a1-i) 또는 식 (a1-ii) 로 나타내는 화합물이 바람직하다. 하기 식 (a1-i) 또는 식 (a1-ii) 로 나타내는 중합성 베타인 화합물은, N＋ 를 포함하는 카티온성기와, R 로서의 아니온성기를 포함한다. 카티온성기, 및 아니온성기 모두 친수성기로서 작용한다.
[화학식 3]
Figure pat00003
(식 (a1-i) 중,
R1 은, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 포함하는 탄화수소기이고,
R2 는, 탄소 원자수 1 이상 10 이하의 2 가의 탄화수소기이고,
R 은, 아니온성기이고,
고리 A 는, 복소 고리이다.)
[화학식 4]
Figure pat00004
(식 (a1-ii) 중, R3, R4, 및 R5 는, 각각 독립적으로, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 탄화수소기, 또는 탄소 원자수 1 이상 10 이하의 탄화수소기이고,
R3, R4, 및 R5 중 적어도 1 개는, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 탄화수소기이고,
R6 은, 탄소 원자수 1 이상 10 이하의 2 가의 탄화수소기이고,
R 은, 아니온성기이다.)
식 (a1-i) 에 있어서, R1 로서의 에틸렌성 불포화 이중 결합을 포함하는 탄화수소기로는, 비닐기, 1-프로페닐기, 2-n-프로페닐기 (알릴기), 1-n-부테닐기, 2-n-부테닐기, 3-n-부테닐기 등의 알케닐기를 들 수 있다.
식 (a1-i) 에 있어서, R2 로서의 2 가의 탄화수소기로는, 알킬렌기, 아릴렌기, 및 알킬렌기와 아릴렌기를 조합한 기를 들 수 있고, 알킬렌기가 바람직하다.
R2 로서의 알킬렌기의 바람직한 구체예로는, 메틸렌기, 에탄-1,2-디일기, 프로판-1,3-디일기, 프로판-1,2-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 헵탄-1,7-디일기, 옥탄-1,8-디일기, 노난-1,9-디일기, 및 데칸-1,10-디일기를 들 수 있다.
식 (a1-i) 에 있어서, 고리 A 로서의 복소 고리는, 방향족 복소 고리여도 되고 지방족 복소 고리여도 된다.
방향족 복소 고리로는, 이미다졸 고리, 피라졸 고리, 1,2,3-트리아졸 고리, 1,2,4-트리아졸 고리, 피리딘 고리, 피리미딘 고리, 피리다진 고리 및 피라진 고리 등의 함질소 방향족 복소 고리에 있어서, 당해 함질소 방향족 복소 고리 중의 임의의 1 개의 질소 원자가 4 급화된 고리를 들 수 있다.
지방족 복소 고리로는, 피롤리딘 고리, 피페리딘 고리 및 피페라진 고리 등의 함질소 복소 고리에 있어서, 당해 함질소 복소 고리 중의 임의의 1 개의 질소 원자가 4 급화된 고리를 들 수 있다.
식 (a1-ii) 에 있어서, R3 ∼ R5 로서의 에틸렌성 불포화 이중 결합을 포함하는 탄화수소기로는, 비닐기, 1-프로페닐기, 2-n-프로페닐기 (알릴기), 1-n-부테닐기, 2-n-부테닐기, 3-n-부테닐기 등의 알케닐기를 들 수 있다.
식 (a1-ii) 에 있어서, R3 ∼ R5 로서의 탄화수소기로는, 알킬기, 아릴기, 및 아르알킬기 등을 들 수 있고, 알킬기가 바람직하다.
R3 ∼ R5 로서의 탄화수소기는 치환기를 갖고 있어도 된다. R3 ∼ R5 로서의 탄화수소기가 갖고 있어도 되는 치환기는, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않는다. 당해 치환기의 예로는, 할로겐 원자, 수산기, 탄소 원자수 1 이상 4 이하의 알콕시기, 탄소 원자수 2 이상 4 이하의 아실기, 탄소 원자수 2 이상 4 이하의 아실옥시기, 아미노기, 및 1 개 또는 2 개의 탄소 원자수 1 이상 4 이하의 알킬기로 치환된 알킬아미노기 등을 들 수 있다.
R3 ∼ R5 로서의 알킬기의 바람직한 구체예로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 2-에틸헥실기, n-노닐기, 및 n-데실기를 들 수 있다.
식 (a1-ii) 에 있어서, R6 으로서의 2 가의 탄화수소기로는, 알킬렌기, 아릴렌기, 및 알킬렌기와 아릴렌기를 조합한 기를 들 수 있고, 알킬렌기가 바람직하다.
R6 으로서의 알킬렌기의 바람직한 구체예로는, 메틸렌기, 에탄-1,2-디일기, 프로판-1,3-디일기, 프로판-1,2-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 헵탄-1,7-디일기, 옥탄-1,8-디일기, 노난-1,9-디일기, 및 데칸-1,10-디일기를 들 수 있다.
아니온성기가 술폰산 아니온기인 중합성 베타인 화합물로는, 합성이나 입수가 용이한 점에서, 하기 식 (a1-iii) 또는 식 (a1-iv) 로 나타내는 모노머가 바람직하다.
[화학식 5]
Figure pat00005
(식 (a1-iii) 중, R1, R2, 및 고리 A 는, 식 (a1-i) 에 있어서의 R1, R2, 및 고리 A 와 동일하다.)
[화학식 6]
Figure pat00006
(식 (a1-iv) 중, R3, R4, R5, 및 R6 은, 식 (a1-ii) 에 있어서의 R3, R4, R5, 및 R6 과 동일하다.)
상기 식 (a1-iii) 또는 식 (a1-iv) 로 나타내는 모노머로는, 하기 식 (a1-v), (a1-vi) 또는 (a1-vii) 로 나타내는 모노머를 들 수 있다.
[화학식 7]
Figure pat00007
(식 (a1-v), (a1-vi), 및 (a1-vii) 중, R2 는, 식 (a1-iii) 에 있어서의 R2 와 동일하고, R5 및 R6 은, 식 (a1-iv) 에 있어서의 R5 및 R6 과 동일하고, R11 및 R12 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기이고, R13 및 R14 는, 각각 독립적으로, 단결합, 또는 탄소 원자수 1 이상 4 이하의 알킬렌기이다.)
식 (a1-v), (a1-vi), 및 (a1-vii) 에 있어서, R13 및 R14 로서의 탄소 원자수 1 이상 4 이하의 알킬렌기로는, 메틸렌기, 에탄-1,2-디일기, 프로판-1,3-디일기, 프로판-1,2-디일기, 및 부탄-1,4-디일기를 들 수 있다.
아니온성기가 포스폰산 아니온기나 카르복실산 아니온기인 중합성 베타인 화합물로는, 상기 식 (a1-iii) 또는 식 (a1-iv) 로 나타내는 모노머나, 상기 식 (a1-v), (a1-vi), 또는 (a1-vii) 로 나타내는 모노머에 있어서의 술폰산 아니온기 (-SO3 -) 가, 포스폰산 아니온기 (-(PO3)2-) 나 카르복실산 아니온기 (-COO-) 로 치환된 모노머를 들 수 있다.
식 (a1-i) 또는 식 (a1-ii) 로 나타내는 중합성 베타인 화합물의 구체예로는, 하기 식의 화합물이나, 하기 식의 화합물에 있어서의 술폰산 아니온기 (-SO3 -)가, 포스폰산 아니온기 (-(PO3)2-) 나 카르복실산 아니온기 (-COO-) 로 치환된 모노머를 들 수 있다.
[화학식 8]
Figure pat00008
식 (a1-i) 또는 식 (a1-ii) 로 나타내는 중합성 베타인 화합물은, 공지된 반응에 의해 합성할 수 있다. 예를 들어, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 기와 카티온성기가 되는 기를 갖는 화합물에, 아니온성기를 갖는 화합물을 반응시킴으로써 얻어진다. 구체예로는, 예를 들어 식 (a1-iii) 으로 나타내는 화합물은, 하기 화합물과 술톤을, 용매 중에서 반응시킴으로써 얻어진다. 술톤으로는, 4 원 고리 이상 10 원 고리 이하의 술톤을 들 수 있고, 1,3-프로판술톤, 및 1,4-부탄술톤이 바람직하다.
[화학식 9]
Figure pat00009
(식 중, R1 은, 상기 (a1-i) 에 있어서의 R1 과 동일하고, 고리 A 는, 복소 고리이다.)
또, 하기 식 (a1-viii) 로 나타내는 화합물도 중합성 베타인 화합물로서 바람직하다. 하기 식 (a1-viii) 로 나타내는 중합성 베타인 화합물은, N＋ 를 포함하는 카티온성기와, R20 으로서의 아니온성기를 포함한다. 카티온성기, 및 아니온성기 모두 친수성기로서 작용한다.
CH2=CR15-CO-NH-R16-N＋(R17)(R18)-R19-R20 … (a1-viii)
(식 (a1-viii) 중, R15 는 수소 원자 또는 메틸기이고, R16 및 R19 는, 각각 독립적으로, 탄소 원자수 1 이상 10 이하의 2 가의 탄화수소기이고, R17 및 R18 은, 각각 독립적으로, 치환기를 가져도 되는 탄소 원자수 1 이상 10 이하의 탄화수소기이고, R20 은, 술폰산 아니온기 (-SO3 -), 포스폰산 아니온기 (-(PO3)2-), 또는 카르복실산 아니온기 (-COO-) 이다.)
식 (a1-viii) 에 있어서, R16 및 R19 로서의 2 가의 탄화수소기로는, 알킬렌기, 아릴렌기, 및 알킬렌기와 아릴렌기를 조합한 기를 들 수 있고, 알킬렌기가 바람직하다.
R16 및 R19 로서의 알킬렌기의 바람직한 구체예로는, 메틸렌기, 에탄-1,2-디일기, 프로판-1,3-디일기, 프로판-1,2-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 헵탄-1,7-디일기, 옥탄-1,8-디일기, 노난-1,9-디일기, 및 데칸-1,10-디일기를 들 수 있다.
식 (a1-viii) 에 있어서, R17 및 R18 로서의 탄화수소기로는, 알킬기, 아릴기, 및 아르알킬기 등을 들 수 있고, 알킬기가 바람직하다.
R17 및 R18 로서의 탄화수소기는 치환기를 갖고 있어도 된다. R17 및 R18 로서의 탄화수소기가 갖고 있어도 되는 치환기는, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않는다. 당해 치환기의 예로는, 할로겐 원자, 수산기, 탄소 원자수 1 이상 4 이하의 알콕시기, 탄소 원자수 2 이상 4 이하의 아실기, 탄소 원자수 2 이상 4 이하의 아실옥시기, 아미노기, 및 1 개 또는 2 개의 탄소 원자수 1 이상 4 이하의 알킬기로 치환된 알킬아미노기 등을 들 수 있다.
R17 및 R18 로서의 알킬기의 바람직한 구체예로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, 2-에틸헥실기, n-노닐기, 및 n-데실기를 들 수 있다.
식 (a1-viii) 에 있어서, R20 은, 술폰산 아니온기 (-SO3 -), 포스폰산 아니온기 (-PO3 2-), 또는 카르복실산 아니온기 (-COO-) 이고, 술폰산 아니온기 (-SO3 -) 가 바람직하다.
식 (a1-viii) 로 나타내는 N 치환 (메트)아크릴아미드의 바람직한 예로는, 하기 식의 화합물을 들 수 있다. 하기 식에 있어서, R15 는 수소 원자 또는 메틸기이다.
[화학식 10]
Figure pat00010
중합성 화합물 (A) 에 있어서의 친수성 중합성 화합물 (A1) 의 함유량은, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않는다. 양호한 친수화의 효과와, 형성되는 수지 피막의 피처리체 표면에 대한 양호한 밀착성의 양립의 점에서, 중합성 화합물 (A) 의 몰수에 대한 친수성 중합성 화합물 (A1) 의 몰수의 비율은, 50 몰％ 이상 99 몰％ 이하가 바람직하고, 60 몰％ 이상 99 몰％ 이하가 보다 바람직하고, 70 몰％ 이상 99 몰％ 이하가 더욱 바람직하다.
〔밀착성 중합성 화합물 (A2)〕
중합성 화합물 (A) 는, 전술한 친수성 중합성 화합물 (A1) 과 함께, 밀착성 중합성 화합물 (A2) 를 포함한다. 밀착성 중합성 화합물 (A2) 는, 에틸렌성 불포화 이중 결합과, 밀착성기를 갖는다. 밀착성기는, 공유 결합을 형성함으로써 피처리체의 표면과 화학적으로 결합 가능하거나, 극성 등에 기초하여, 정전기력의 작용에 의해 피처리체의 표면과 결합 가능하거나 하는 관능기이다.
밀착성기로는, 가수 분해성 실릴기, 아미노기 (-NH2), 카르복시기, 메르캅토기, 시아노기, 및 수산기에서 선택되는 적어도 1 개의 기가 바람직하다.
가수 분해성 실릴기는, 피처리체 표면과 반응하여 공유 결합을 형성함으로써, 친수화 표면 처리액을 사용하여 형성되는 피막을, 피처리체 표면에 강고하게 결합시킨다. 또, 아미노기 (-NH2), 카르복시기, 메르캅토기, 시아노기, 및 수산기는, 극성기로서, 그 극성에 기초하여, 친수화 표면 처리액을 사용하여 형성되는 피막을 피처리체 표면에 강고하게 결합시킨다.
밀착성 중합성 화합물 (A2) 의 바람직한 예로는, 에틸렌성 불포화 이중 결합과, 가수 분해성 실릴기를 갖는 불포화기 함유 규소 화합물 (A2-1), 및 에틸렌성 불포화 이중 결합과, 아미노기 (-NH2), 카르복시기, 메르캅토기, 시아노기, 및 수산기에서 선택되는 적어도 1 개의 극성 중합성 화합물 (A2-2) 를 들 수 있다.
(불포화기 함유 규소 화합물 (A2-1))
불포화기 함유 규소 화합물 (A2-1) 은, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 기와, 가수 분해성 실릴기를 갖는다.
에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 기는, 불포화기 함유 규소 화합물 (A2-1) 이 중합성 베타인 화합물 (A1) 과 공중합 가능한 한 특별히 한정되지 않는다.
에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 기의 바람직한 구체예로는, 비닐기, 1-프로페닐기, 2-n-프로페닐기 (알릴기), 1-n-부테닐기, 2-n-부테닐기, 및 3-n-부테닐기 등의 알케닐기 ; N-비닐아미노기, N-1-프로페닐아미노기, N-알릴아미노기, N-1-n-부테닐아미노기, N-2-n-부테닐아미노기, 및 N-3-n-부테닐아미노기 등의 모노알케닐아미노기 ; N,N-디비닐아미노기, N,N-디(1-프로페닐)아미노기, N,N-디알릴아미노기, N,N-디(1-n-부테닐)아미노기, N,N-디(2-n-부테닐)아미노기, N,N-디(3-n-부테닐)아미노기 등의 디알케닐아미노기 ; 알릴옥시기, 2-n-부테닐옥시기, 3-n-부테닐옥시기 등의 알케닐옥시기 ; 비닐아미노카르보닐기, 1-프로페닐아미노카르보닐기, 알릴아미노카르보닐기, 1-n-부테닐아미노카르보닐기, 2-n-부테닐아미노카르보닐기, 3-n-부테닐아미노카르보닐기 등의 알케닐아미노카르보닐기 ; 비닐옥시카르보닐기, 1-프로페닐옥시카르보닐기, 알릴옥시카르보닐기, 1-n-부테닐옥시카르보닐기, 2-n-부테닐옥시카르보닐기, 3-n-부테닐옥시카르보닐기 등의 알케닐옥시카르보닐기 ; 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 아크릴로일아미노기, 및 메타크릴로일아미노기 등의 (메트)아크릴로일기 함유기를 들 수 있다.
이들 기 중에서는, 알케닐기, 및 (메트)아크릴로일기 함유기가 바람직하다. 알케닐기의 탄소 원자수는, 예를 들어 2 이상 6 이하가 바람직하고, 2 또는 3 이 보다 바람직하다.
가수 분해성 실릴기는, 가수 분해에 의해 실란올기를 생성시킬 수 있는 실릴기이다.
가수 분해성 실릴기의 바람직한 예로는, -SiR11 aR12 3-a 로 나타내는 기를 들 수 있다. 여기서, R11 은, 알콕시기, 및 할로겐 원자 등의 가수 분해에 의해 실란올기를 생성시킬 수 있는 기이다. 알콕시기로는, 메톡시기, 에톡시기, n-프로필옥시기, 이소프로필옥시기, 및 n-부틸옥시기 등의 탄소 원자수 1 이상 4 이하의 알콕시기가 바람직하다. 할로겐 원자로는, 염소 원자, 및 브롬 원자가 바람직하고, 염소 원자가 보다 바람직하다.
R12 는, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서, 가수 분해에 의해 실란올기를 생성시킬 수 있는 기에 해당하지 않는 다양한 유기기여도 된다. 이러한 유기기로는, 탄소 원자수 1 이상 10 이하의 탄화수소기가 바람직하다. 탄화수소기는, 지방족기여도 되고, 방향족기여도 된다. 탄화수소기의 구조는, 직사슬형이어도 되고, 분기사슬형이어도 되고, 고리형이어도 되고 이것들의 조합이어도 된다. 탄소 원자수 1 이상 10 이하의 탄화수소기의 바람직한 구체예로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데실기, 페닐기, 나프탈렌-1-일기, 나프탈렌-2-일기, 벤질기, 및 페네틸기 등을 들 수 있다. 이것들 중에서는, 메틸기, 및 에틸기가 바람직하다.
이상 설명한 탄화수소기는, 탄소 원자수 1 이상 6 이하의 알콕시기, 할로겐 원자, 수산기, 및 시아노기 등의 치환기를 갖고 있어도 된다.
a 로는 2 또는 3 이 바람직하고, 3 이 보다 바람직하다. 또, a 가 2 또는 3 인 경우, 피처리체 표면에 있어서 인접하여 존재하는 -SiR11 aR12 3-a 로 나타내는 기의 사이에서도 축합 반응이 발생하기 쉽다. 그 결과, 친수화 표면 처리액을 사용하여 형성되는 피막 중에, 피처리체의 표면을 따라 확산되는 실록산 결합의 네트워크가 형성됨으로써, 중합성 화합물 (A) 의 중합체를, 피처리체 표면에 특히 강고하게 결합시키기 쉽다.
-SiR11 aR12 3-a 로 나타내는 가수 분해성 실릴기의 바람직한 구체예로는, 트리메톡시실릴기, 트리에톡시실릴기, 메틸디메톡시실릴기, 에틸디메톡시실릴기, 메틸디에톡시실릴기, 및 에틸디에톡시실릴기를 들 수 있다.
불포화기 함유 규소 화합물 (A2-1) 로는, 예를 들어, 하기 식 (a2-1) 로 나타내는 화합물이 바람직하다.
R13-(-CO-R14-)b-R15-SiR11 aR12 3-a … (a2-1)
식 (a2-1) 에 있어서, R11, R12, 및 a 는 가수 분해성 실릴기에 대해 전술한 바와 같다. R13 은, 탄소 원자수 2 이상 6 이하의 알케닐기이다. R14 는, -O-, 또는 -NH- 이다. R15 는, 단결합, 각각 탄소 원자수 1 이상 10 이하의 알킬렌기, 방향족 탄화수소기, 또는 함질소 복소 고리기이다. b 는 0 또는 1 이다.
R13 은, 탄소 원자수 2 이상 6 이하의 알케닐기이다. 알케닐기의 바람직한 예로는, 비닐기, 1-메틸비닐기, 알릴기, 3-부테닐기, 4-펜테닐기, 및 5-헥세닐기를 들 수 있다. b 가 1 인 경우, R13 은, 비닐기 또는 1-메틸비닐기가 바람직하다. 요컨대, b 가 1 인 경우, R13-CO-R14- 로 나타내는 기가, 아크릴로일옥시기, 아크릴로일아미노기, 메타크릴로일옥시기, 또는 메타크릴로일아미노기인 것이 바람직하다.
R15 로서의 알킬렌기로는, 예를 들어 메틸렌기, 에탄-1,2-디일기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 헵탄-1,7-디일기, 옥탄-1,8-디일기, 노난-1,9-디일기, 및 데칸-1,10-일기를 들 수 있다.
R15 로서의 방향족 탄화수소기로는, p-페닐렌기, m-페닐렌기, o-페닐렌기, 나프탈렌-2,6-디일기, 나프탈렌-2,7-디일기, 비페닐-4,4'-디일기, 비페닐-3,4'-디일기, 및 비페닐-3,3'-디일기를 들 수 있다.
R15 로서의 함질소 복소 고리기의 구체예로는, 하기의 함질소 복소 고리로부터 2 개의 수소 원자를 제거한 기를 들 수 있다. 함질소 복소 고리로는, 피롤리딘 고리, 피라졸리딘 고리, 이미다졸리딘 고리, 트리아졸리딘 고리, 테트라졸리딘 고리, 피롤린 고리, 피라졸린 고리, 이미다졸린 고리, 트리아졸린 고리, 테트리졸린 고리, 피롤 고리, 피라졸 고리, 이미다졸 고리, 트리아졸 고리, 및 테트라졸 고리 등의 함질소 5 원 고리 ; 피페리딘 고리, 피페리다인 고리, 피페라진 고리, 트리아지난 고리, 테트라지난 고리, 펜타지난 고리, 피리딘 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 피라진 고리, 트리아진 고리, 테트라진 고리, 및 펜타진 고리 등의 함질소 6 원 고리 ; 아제판 고리, 디아제판 고리, 트리아제판 고리, 테트라제판 고리, 아제핀 고리, 디아제핀 고리, 및 트리아제핀 고리 등의 함질소 7 원 고리 ; 인돌 고리, 인돌레닌 고리, 인돌린 고리, 이소인돌 고리, 이소인돌레닌 고리, 이소인돌린 고리, 벤조이미다졸 고리, 인돌리진 고리, 푸린 고리, 인돌리지딘 고리, 벤조디아제핀 고리, 퀴놀린 고리, 이소퀴놀린 고리, 퀴놀리지딘 고리, 퀴녹살린 고리, 신놀린 고리, 퀴나졸린 고리, 프탈라진 고리, 나프티리딘 고리, 및 프테리딘 고리 등의 함질소 축합 다고리를 들 수 있다.
식 (a2-1) 로 나타내는 실란 화합물의 바람직한 구체예로는, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 알릴트리메톡시실란, 및 알릴트리에톡시실란 등의 불포화기 함유 실란 ; 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디에톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리에톡시실란 등의 (메트)아크릴옥시기 함유 실란을 들 수 있다.
(극성 중합성 화합물 (A2-2))
극성 중합성 화합물 (A2-2) 는, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 기와, 아미노기, 카르복시기, 메르캅토기, 시아노기, 및 수산기에서 선택되는 극성기를 갖는다.
극성 중합성 화합물 (A2-2) 로는, 하기 식 (a2-2) 로 나타내는 화합물이 바람직하다.
CH2=CRA1-(RA2)c-CO-RA3 … (a2-2)
(식 (a2-2) 중, RA1 은 수소 원자 또는 메틸기이고, RA2 는 2 가의 탄화수소기이고, c 는 0 또는 1 이고, RA3 은, -OH, -O-RA4, 또는 -NH-RA4 이고, RA4 는, 아미노기, 카르복시기, 메르캅토기, 시아노기, 및 수산기로 이루어지는 군에서 선택되는 1 이상의 극성기로 치환된 탄화수소기이다.)
상기 식 (a2-2) 중, RA2 는 2 가의 탄화수소기이다. 2 가의 탄화수소기의 탄소 원자수는, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않는다. 식 (a2-2) 로 나타내는 화합물의 입수나 조제가 용이한 점에서, RA2 로서의 2 가의 탄화수소기의 탄소 원자수는, 1 이상 20 이하가 바람직하고, 1 이상 12 이하가 보다 바람직하고, 1 이상 10 이하가 특히 바람직하고, 1 이상 6 이하가 가장 바람직하다.
RA2 로서의 2 가의 탄화수소기는, 지방족기여도 되고, 방향족기여도 되고, 지방족 부분과 방향족 부분을 포함하는 탄화수소기여도 된다. 2 가의 탄화수소기가 지방족기인 경우, 당해 지방족기는, 포화 지방족기여도 되고 불포화 지방족기여도 된다. 또, 당해 지방족기의 구조는, 직사슬형이어도 되고, 분기사슬형이어도 되고, 고리형이어도 되고, 이들 구조의 조합이어도 된다.
RA2 의 바람직한 구체예로는, 메틸렌기, 에탄-1,2-디일기, 에탄-1,1-디일기, 프로판-1,3-디일기, 프로판-1,1-디일기, 프로판-2,2-디일기, n-부탄-1,4-디일기, n-펜탄-1,5-디일기, n-헥산-1,6-디일기, n-헵탄-1,7-디일기, n-옥탄-1,8-디일기, n-노난-1,9-디일기, n-데칸-1,10-디일기, o-페닐렌기, m-페닐렌기, p-페닐렌기, 나프탈렌-2,6-디일기, 나프탈렌-2,7-디일기, 나프탈렌-1,4-디일기, 비페닐-4,4'-디일기 등을 들 수 있다.
RA3 은, -OH, -O-RA4, 또는 -NH-RA4 이다. RA4 는, 아미노기, 카르복시기, 메르캅토기, 시아노기, 및 수산기로 이루어지는 군에서 선택되는 1 이상의 극성기로 치환된 탄화수소기이다.
RA4 의 기의 주골격을 구성하는 탄화수소기는, 직사슬형, 분기사슬형, 또는 고리형의 지방족기여도 되고, 방향족 탄화수소기여도 된다.
직사슬형, 분기사슬형, 또는 고리형의 지방족기의 탄소 원자수는 1 이상 20 이하가 바람직하고, 1 이상 12 이하가 보다 바람직하다.
직사슬형, 또는 분기사슬형의 지방족기의 바람직한 예로는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, sec-펜틸기, tert-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데실기 등을 들 수 있다.
고리형의 지방족기의 바람직한 예로는, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 및 시클로옥틸기 등의 시클로알킬기나, 아다만탄, 노르보르난, 이소보르난, 트리시클로데칸, 및 테트라시클로도데칸 등의 폴리시클로알칸으로부터 1 개의 수소 원자를 제거한 기나, 이들 폴리시클로알칸의 C1-C4 알킬 치환체로부터 1 개의 수소 원자를 제거한 기를 들 수 있다.
방향족 탄화수소기의 바람직한 예로는, 페닐기, 나프틸기, 안트라닐기, 페난트레닐기, 및 비페닐릴기 등을 들 수 있다. 방향족 탄화수소기는, 메틸기, 에틸기 등의 C1-C4 알킬기로 치환되어 있어도 된다.
식 (a2-2) 로 나타내는 화합물의 바람직한 구체예로는, 하기의 화합물을 들 수 있다.
[화학식 11]
Figure pat00011
극성 중합성 화합물 (A2-2) 로는, 하기 식 (a2-3) 으로 나타내는 화합물도 바람직하다.
(R3a-R2a)n-X-R1a … (a2-3)
(식 (a2-3) 중, R1a 는, 1 이상의 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 유기기이고, R2a 는, 단결합, 또는 탄소 원자수 1 이상 10 이하의 알킬렌기이고, R3a 는, 수소 원자이거나, 아미노기, 카르복시기, 메르캅토기, 시아노기, 및 수산기에서 선택되는 극성기이고, n 은 1 또는 2 이고, X 는, n ＋ 1 가의 함질소 복소 고리기이고, n 이 1 인 경우, R3a 는 전술한 극성기이고, n 이 2 인 경우, 적어도 일방의 R3a 가 전술한 극성기이다.)
식 (a2-3) 중, R1a 는, 1 이상의 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 유기기이다. 1 이상의 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 유기기의 바람직한 예로는, 하기 식 (a2-3i) ∼ 식 (a2-3vii) 로 나타내는 기를 들 수 있다. 하기 식 (a2-3i) ∼ 식 (a2-3vii) 에 있어서, Ra01 은 탄소 원자수 1 이상 10 이하의 알케닐기이고, Ra02 는 탄소 원자수 1 이상 10 이하의 탄화수소기이다.
-Ra01 … (a2-3i)
-NH-Ra01 … (a2-3ii)
-N(Ra01)(Ra02) … (a2-3iii)
-N(Ra01)2 … (a2-3iv)
-O-Ra01 … (a2-3v)
-CO-NH-Ra01 … (a2-3vi)
-CO-O-Ra01 … (a2-3vii)
Ra01 로서의 알케닐기의 탄소 원자수는, 1 이상 6 이하가 바람직하고, 1 이상 4 이하가 보다 바람직하다. Ra01 로서의 알케닐기는, 직사슬 알케닐기여도 되고, 분기사슬 알케닐기여도 된다.
Ra02 로서의 탄화수소기는, 지방족기여도 되고, 방향족기여도 되고, 지방족기와 방향족기의 조합이어도 된다. Ra02 로서의 탄화수소기의 탄소 원자수는, 1 이상 6 이하가 바람직하고, 1 이상 4 이하가 보다 바람직하고, 1 이상 3 이하가 더욱 바람직하다.
R1a 로서의 1 이상의 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 유기기의 바람직한 구체예로는, 비닐기, 1-프로페닐기, 2-n-프로페닐기 (알릴기), 1-n-부테닐기, 2-n-부테닐기, 및 3-n-부테닐기 등의 알케닐기 ; N-비닐아미노기, N-1-프로페닐아미노기, N-알릴아미노기, N-1-n-부테닐아미노기, N-2-n-부테닐아미노기, 및 N-3-n-부테닐아미노기 등의 모노알케닐아미노기 ; N,N-디비닐아미노기, N,N-디(1-프로페닐)아미노기, N,N-디알릴아미노기, N,N-디(1-n-부테닐)아미노기, N,N-디(2-n-부테닐)아미노기, N,N-디(3-n-부테닐)아미노기 등의 디알케닐아미노기 ; 알릴옥시기, 2-n-부테닐옥시기, 3-n-부테닐옥시기 등의 알케닐옥시기 ; 비닐아미노카르보닐기, 1-프로페닐아미노카르보닐기, 알릴아미노카르보닐기, 1-n-부테닐아미노카르보닐기, 2-n-부테닐아미노카르보닐기, 3-n-부테닐아미노카르보닐기 등의 알케닐아미노카르보닐기 ; 비닐옥시카르보닐기, 1-프로페닐옥시카르보닐기, 알릴옥시카르보닐기, 1-n-부테닐옥시카르보닐기, 2-n-부테닐옥시카르보닐기, 3-n-부테닐옥시카르보닐기 등의 알케닐옥시카르보닐기 ; 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 아크릴로일아미노기, 및 메타크릴로일아미노기 등의 (메트)아크릴로일기 함유기를 들 수 있다.
이들 기 중에서는, 비닐기, 알릴기, N,N-디알릴아미노기, 알릴옥시기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기, 및 메타크릴로일옥시기가 바람직하고, N,N-디알릴아미노기가 보다 바람직하다.
식 (a2-3) 중, R2a 는, 단결합, 또는 탄소 원자수 1 이상 10 이하의 알킬렌기이다. 알킬렌기의 탄소 원자수는, 1 이상 6 이하가 바람직하고, 1 이상 4 이하가 보다 바람직하고, 1 이상 3 이하가 더욱 바람직하다. 탄소 원자수 1 이상 10 이하의 알킬렌기의 구체예로는, 메틸렌기, 에탄-1,2-디일기, 에탄-1,1-디일기, 프로판-1,3-디일기, 프로판-1,1-디일기, 프로판-2,2-디일기, n-부탄-1,4-디일기, n-펜탄-1,5-디일기, n-헥산-1,6-디일기, n-헵탄-1,7-디일기, n-옥탄-1,8-디일기, n-노난-1,9-디일기, 및 n-데칸-1,10-디일기를 들 수 있다.
이들 알킬렌기 중에서는, 메틸렌기, 에탄-1,2-디일기, 및 프로판-1,3-디일기가 바람직하고, 메틸렌기, 및 에탄-1,2-디일기가 보다 바람직하다.
식 (a2-3) 중, X 는, n ＋ 1 가의 함질소 복소 고리기이다. n 은 1 또는 2 이다. 함질소 복소 고리는, 방향족기여도 되고 지방족기여도 된다.
함질소 복소 고리는, 단고리여도 되고, 단고리형의 함질소 복소 고리가, 단고리형의 방향족 탄화수소 고리, 및 단고리형의 함질소 복소 고리에서 선택되는 1 이상의 단고리와 축합된 축합 다고리여도 된다.
또, 함질소 복소 고리는, 단고리형 함질소 복소 고리, 및 축합 다고리형의 함질소 복소 고리에서 선택되는 2 이상의 고리가 단결합을 개재하여 결합한 고리여도 된다.
식 (a2-3) 에 있어서, R1a 로 나타내는 기, 및 R3a-R2a- 로 나타내는 기는, X 로 나타내는 함질소 복소 고리기의 고리 구성 원자로서의 탄소 원자 상에 결합해도 되고, 고리 구성 원자로서의 질소 원자 상에 결합해도 된다.
X 를 부여하는 함질소 복소 고리의 구체예로는, 피롤리딘 고리, 피라졸리딘 고리, 이미다졸리딘 고리, 트리아졸리딘 고리, 테트라졸리딘 고리, 피롤린 고리, 피라졸린 고리, 이미다졸린 고리, 트리아졸린 고리, 테트리졸린 고리, 피롤 고리, 피라졸 고리, 이미다졸 고리, 트리아졸 고리, 및 테트라졸 고리 등의 함질소 5 원 고리 ; 피페리딘 고리, 피페리다인 고리, 피페라진 고리, 트리아지난 고리, 테트라지난 고리, 펜타지난 고리, 피리딘 고리, 피리다진 고리, 피리미딘 고리, 피라진 고리, 트리아진 고리, 테트라진 고리, 및 펜타진 고리 등의 함질소 6 원 고리 ; 아제판 고리, 디아제판 고리, 트리아제판 고리, 테트라제판 고리, 아제핀 고리, 디아제핀 고리, 및 트리아제핀 고리 등의 함질소 7 원 고리 ; 인돌 고리, 인돌레닌 고리, 인돌린 고리, 이소인돌 고리, 이소인돌레닌 고리, 이소인돌린 고리, 벤조이미다졸 고리, 인돌리진 고리, 푸린 고리, 인돌리지딘 고리, 벤조디아제핀 고리, 퀴놀린 고리, 이소퀴놀린 고리, 퀴놀리지딘 고리, 퀴녹살린 고리, 신놀린 고리, 퀴나졸린 고리, 프탈라진 고리, 나프티리딘 고리, 및 프테리딘 고리 등의 함질소 축합 다고리 ; 이들 함질소 복소 고리에서 선택되는 2 개 이상의 고리가 단결합을 개재하여 결합한 다고리를 들 수 있다.
이들 함질소 복소 고리에서 유래하는 X 로는, 중합성 화합물 (A) 의 중합체의 피처리체 표면에 대한 밀착성이 양호한 점 등에서, 함질소 6 원 고리를 포함하는 2 가 또는 3 가의 기가 바람직하고, 트리아진 고리를 포함하는 2 가 또는 3 가의 기가 보다 바람직하고, 1,3,5-트리아진-2,4-디일기, 및 1,3,5-트리아진-2,4,6-트리일기가 더욱 바람직하다.
X 로서의 2 가, 또는 3 가의 함질소 복소 고리의 바람직한 구체예로는 이하의 기를 들 수 있다.
[화학식 12]
Figure pat00012
식 (a2-3) 으로 나타내는 화합물의 바람직한 구체예로는, 하기의 화합물을 들 수 있다.
[화학식 13]
Figure pat00013
[화학식 14]
Figure pat00014
이상의 화합물 중에서는, 하기의 화합물이 바람직하다.
[화학식 15]
Figure pat00015
또한, N,N'-디(메트)아크릴로일-1,2-디하이드록시에틸렌디아민, 글리세린디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨디(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시-3-(메트)아크릴로일옥시프로필(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디글리시딜에테르디(메트)아크릴레이트, 및 프탈산디글리시딜에스테르디(메트)아크릴레이트와 같은 수산기를 갖는 다관능성의 화합물을 극성 중합성 화합물 (A2-2) 로서 사용하는 것도 바람직하다.
이러한 다관능성의 극성 중합성 화합물 (A2-2) 는, 수산기의 작용 뿐만 아니라, 분자 사슬의 가교에 의해, 중합성 화합물 (A) 가 중합되어 형성되는 수지 피막의 피처리체 표면에 대한 밀착성을 향상시킬 수 있다.
중합성 화합물 (A) 의 몰수에 대한 밀착성 중합성 화합물의 (A2) 의 몰수의 비율은, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않는다. 양호한 친수화의 효과와, 형성되는 수지 피막의 피처리체 표면에 대한 양호한 밀착성의 양립의 점에서, 중합성 화합물 (A) 의 몰수에 대한 밀착성 중합성 화합물 (A2) 의 몰수의 비율은, 수지 (A) 의 피처리체의 표면에 대한 밀착성과, 우수한 친수화의 효과의 양립의 점에서, 0.1 몰％ 이상 30 몰％ 이하가 바람직하고, 0.1 몰％ 이상 20 몰％ 이하가 보다 바람직하고, 0.1 몰％ 이상 10 몰％ 이하가 더욱 바람직하다.
〔산성 중합성 화합물 (A3a), 및 염기성 중합성 화합물 (A3b)〕
친수화 표면 처리액에 관하여, 중합성 화합물 (A) 의 농도 10 질량％ 의 수용액의 23 ℃ 에 있어서의 pH 는 6.5 이상 7.5 이하이다. 이와 같이 중합성 화합물 (A) 의 수용액의 pH 가 조정됨으로써, 친수화 표면 처리액을 사용하여 피처리체의 표면에 형성되는 수지 피막이 정전기적으로 중성에 가까워진다. 그 결과적으로, 표면 처리 후의 피처리체의 표면이, 아니온성의 약액이나 카티온성의 약액과 같은 다양한 약액에 노출되어도, 당해 약액의 아니온성 성분이나 카티온성 성분이 피막에 잘 결합하지 않아, 표면 처리의 효과가 시간 경과적으로 잘 저하되지 않는다.
중합성 화합물 (A) 의 농도 10 질량％ 의 수용액의 pH 를 조정하는 방법은 특별히 한정되지 않는다. 중합성 화합물 (A) 는, 산성 중합성 화합물 (A3a) 및/또는 염기성 중합성 화합물 (A3b) 를 포함한다. 중합성 화합물 (A) 의 농도 10 질량％ 의 수용액의 23 ℃ 에 있어서의 pH 는, 바람직하게는, 중합성 화합물 (A) 에 있어서의 산성 중합성 화합물 (A3a) 및/또는 염기성 중합성 화합물 (A3b) 의 중합성 화합물 (A) 중의 함유량을 조정함으로써 조정된다.
(산성 중합성 화합물 (A3a))
산성 중합성 화합물 (A3a) 는, 에틸렌성 불포화 이중 결합과, 산성기를 갖는다. 산성기로는, 술폰산기, 카르복시기, 인산기, 및 포스폰산기가 바람직하다.
산성 중합성 화합물 (A3a) 에 있어서의 에틸렌성 불포화 이중 결합, 및 산성기 이외의 부분의 구조는, 산성 중합성 화합물 (A3a) 의 수용액이 산성을 나타내는 한 특별히 한정되지 않는다.
산성 중합성 화합물 (A3a) 의 바람직한 예로는, 탄소 원자수 2 이상 10 이하의 알케닐술폰산, 탄소 원자수 3 이상 10 이하의 (메트)아크릴로일옥시알킬술폰산, 탄소 원자수 8 이상 20 이하의 알케닐 치환 아렌술폰산, 탄소 원자 3 이상 10 이하의 불포화 지방족 카르복실산, 탄소 원자수 4 이상 10 이하의 (메트)아크릴로일옥시알칸산, 탄소 원자수 9 이상 20 이하의 알케닐 치환 아렌카르복실산, 탄소 원자수 2 이상 10 이하의 인산알케닐에스테르, 탄소 원자수 3 이상 10 이하의 인산(메트)아크릴로일옥시알킬에스테르, 탄소 원자수 8 이상 20 이하의 알케닐 치환 아릴인산에스테르, 탄소 원자수 2 이상 10 이하의 알케닐포스폰산, 탄소 원자수 3 이상 10 이하의 (메트)아크릴로일옥시알킬포스폰산, 및 탄소 원자수 8 이상 20 이하의 알케닐 치환 아렌포스폰산을 들 수 있다.
산성 중합성 화합물 (A3a) 의 바람직한 구체예로는, 비닐술폰산, 알릴술폰산, 3-부텐-1-술폰산, 4-펜텐 1-술폰산, 5-헥센-1-술폰산, 2-(메트)아크릴로일옥시에탄-1-술폰산, 3-(메트)아크릴로일옥시프로판-1-술폰산, 4-(메트)아크릴로일옥시부탄-1-술폰산, 4-비닐벤젠술폰산, 3-비닐벤젠술폰산, 2-비닐벤젠술폰산, 아크릴산, 메타크릴산, 3-부텐산, 4-펜텐산, 5-헥센산, (메트)아크릴로일옥시아세트산, 3-(메트)아크릴로일옥시프로피온산, 4-(메트)아크릴로일옥시부탄산, 4-비닐벤조산, 3-비닐벤조산, 2-비닐벤조산, 인산비닐, 인산알릴, 인산이소프로페닐, 인산 3-부테닐, 인산 4-펜테닐, 인산(메트)아크릴로일옥시메틸, 인산 2-(메트)아크릴로일옥시에틸, 인산 3-(메트)아크릴로일옥시프로필, 인산 4-(메트)아크릴로일옥시부틸, 인산 4-비닐페닐, 인산 3-비닐페닐, 인산 2-비닐페닐, 비닐포스폰산, 알릴포스폰산, 3-부테닐포스폰산, 및 4-펜테닐포스폰산을 들 수 있다.
(염기성 중합성 화합물 (A3b))
염기성 중합성 화합물 (A3b) 는, 에틸렌성 불포화 이중 결합과, 염기성기를 갖는다. 염기성기로는, 제 1 급 아미노기, 제 2 급 아미노기, 제 3 급 아미노기, 및 염기성 방향족 복소 고리기를 들 수 있다.
염기성 중합성 화합물 (A3b) 에 있어서의 에틸렌성 불포화 이중 결합, 및 염기성기 이외의 부분의 구조는, 염기성 중합성 화합물 (A3b) 의 수용액이 염기성을 나타내는 한 특별히 한정되지 않는다.
염기성 중합성 화합물 (A3b) 의 바람직한 구체예로는, 비닐아민, 알릴아민, 3-부테닐아민, 4-펜테닐아민, 디비닐아민, 디알릴아민, 디(3-부테닐)아민, 디(4-펜테닐)아민, 트리알릴아민, 4-비닐아닐린, 3-비닐아닐린, 2-비닐아닐린, 4-비닐피리딘, 3-비닐피리딘, 2-비닐피리딘, 2-비닐-1H-이미다졸, 및 2-알릴-1H 이미다졸을 들 수 있다.
산성 중합성 화합물 (A3a), 및 염기성 중합성 화합물 (A3b) 의 사용량은, 중합성 화합물 (A) 의 농도 10 질량％ 의 수용액의 23 ℃ 에 있어서의 pH 가 6.5 이상 7.5 이하인 한 특별히 한정되지 않는다.
산성 중합성 화합물 (A3a), 및 염기성 중합성 화합물 (A3b) 의 사용량은, 양자의 합계량으로서, 중합성 화합물 (A) 의 몰수에 대하여, 0.1 몰％ 이상 30 몰％ 이하가 바람직하고, 0.1 몰％ 이상 20 몰％ 이하가 보다 바람직하고, 0.1 몰％ 이상 10 몰％ 이하가 더욱 바람직하다.
중합성 화합물 (A) 는, 산성 중합성 화합물 (A3a), 또는 염기성 중합성 화합물 (A3b) 만을 포함하고 있어도 되고, 산성 중합성 화합물 (A3a) 와 염기성 중합성 화합물 (A3b) 를 조합하여 포함하고 있어도 된다.
〔다관능 모노머 (A4)〕
중합성 화합물 (A) 는, 친수성 중합성 화합물 (A1), 밀착성 중합성 화합물 (A2), 산성 중합성 화합물 (A3a), 및 염기성 중합성 화합물 (A3b) 이외의, 다관능 모노머 (A4) 를 포함하고 있어도 된다.
다관능 모노머 (A4) 는, 2 이상의 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖고, 친수성 중합성 화합물 (A1), 밀착성 중합성 화합물 (A2), 산성 중합성 화합물 (A3a), 및 염기성 중합성 화합물 (A3b) 에 해당하지 않는 화합물이다.
다관능 모노머 (A4) 는, 중합성 화합물 (A) 가 중합됨으로써 형성되는 수지 피막에 있어서, 분자 사슬을 가교시킨다. 가교에 의해, 수지 피막의 피처리체 표면에 대한 밀착성이 향상된다.
다관능 모노머 (A4) 의 구체예로는, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 펜타에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 헥사에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 헵타에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 옥타에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 노나에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 데카에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 테트라프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 펜타프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 헥사프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 헵타프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 옥타프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 노나프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 데카프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 부틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 2,2-비스(4-(메트)아크릴옥시디에톡시페닐)프로판, 및 2,2-비스(4-(메트)아크릴옥시폴리에톡시페닐)프로판 등을 들 수 있다.
중합성 화합물 (A) 의 몰수에 대한 다관능 모노머 (A4) 의 몰수의 비율은, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서 특별히 한정되지 않는다. 중합성 화합물 (A) 의 중합물을 적당히 가교시키는 점에서, 중합성 화합물 (A) 의 몰수에 대한 다관능 모노머 (A4) 의 비율은, 0.5 몰％ 이상 20 몰％ 이하가 바람직하고, 1 몰％ 이상 15 몰％ 이하가 보다 바람직하고, 1 몰％ 이상 10 몰％ 이하가 보다 바람직하다.
〔다른 모노머 (A5)〕
중합성 화합물 (A) 는, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서, 친수성 중합성 화합물 (A1), 밀착성 중합성 화합물 (A2), 산성 중합성 화합물 (A3a), 염기성 중합성 화합물 (A3b), 및 다관능 모노머 (A4) 이외의 다른 모노머 (A5) 를 포함하고 있어도 된다.
다른 모노머 (A5) 는, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖고, 친수성 중합성 화합물 (A1), 밀착성 중합성 화합물 (A2), 산성 중합성 화합물 (A3a), 염기성 중합성 화합물 (A3b), 및 다관능 모노머 (A4) 에 해당하지 않는 화합물이다.
다른 모노머 (A5) 로는, 예를 들어, (메트)아크릴산메틸, (메트)아크릴산에틸, (메트)아크릴산이소프로필, (메트)아크릴산-n-프로필, (메트)아크릴산-n-부틸, (메트)아크릴산이소부틸, (메트)아크릴산-tert-부틸, (메트)아크릴산-n-펜틸, (메트)아크릴산이소펜틸, (메트)아크릴산페닐, N-메틸(메트)아크릴아미드, N-에틸(메트)아크릴아미드, N-n-프로필(메트)아크릴아미드, N-이소프로필(메트)아크릴아미드, N-n-부틸(메트)아크릴아미드, N-n-펜틸(메트)아크릴아미드, N-이소펜틸(메트)아크릴아미드, N-페닐(메트)아크릴아미드, N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N,N-디에틸(메트)아크릴아미드, N,N-디-n-프로필(메트)아크릴아미드, N,N-디-n-부틸(메트)아크릴아미드, N,N-디-n-펜틸(메트)아크릴아미드, 스티렌, α-메틸스티렌, β-메틸스티렌, o-메틸스티렌, m-메틸스티렌, p-메틸스티렌, 클로르스티렌, 메틸디알릴아민, 에틸디알릴아민, 및 트리알릴아민 등을 들 수 있다.
중합성 화합물 (A) 의 몰수에 대한 다른 모노머 (A5) 의 몰수의 비율은, 중합성 화합물 (A) 가, 친수성 중합성 화합물 (A1), 밀착성 중합성 화합물 (A2), 산성 중합성 화합물 (A3a), 및 염기성 중합성 화합물 (A3b) 를 원하는 양 포함하고 있는 한 특별히 한정되지 않는다.
친수화 표면 처리액의 질량에 대한 중합성 화합물 (A) 의 질량의 비율은, 특별히 한정되지 않지만, 1 질량％ 이상 40 질량％ 이하가 바람직하고, 2 질량％ 이상 20 질량％ 이하가 보다 바람직하고, 2 질량％ 이상 15 질량％ 이하가 더욱 바람직하다.
＜중합 개시제 (B)＞
친수화 표면 처리액은, 중합성 화합물 (A) 를 중합시키는 성분으로서 중합 개시제 (B) 를 포함한다. 중합 개시제 (B) 로는, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 중합성 화합물 (A) 를 중합시킬 수 있는 화합물이면 특별히 한정되지 않는다.
중합 개시제 (B) 의 바람직한 예로는, 아조 중합 개시제 (B1), 및 과산화물 (B2) 를 들 수 있다.
아조 중합 개시제 (B1) 의 구체예로는, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온아미딘)이염산염 (디하이드로클로라이드), 2,2'-아조비스[2-메틸-N-(2-하이드록시에틸)프로피온아미드, 2,2'-아조비스[2-(페닐아미디노)프로판]디하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스{2-[N-(4-클로로페닐)아미디노]프로판}디하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스{2-[N-(4-하이드록시페닐)아미디노]프로판}디하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스[2-(N-벤질아미디노)프로판]디하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스[2-(N-알릴아미디노)프로판]디하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스(2-아미디노프로판)디하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스{2-[N-(2-하이드록시에틸)아미디노]프로판}디하이드로클로라이드, 2,2-아조비스[2-(5-메틸-2-이미다졸린-2-일)프로판]디하이드로클로라이드, 2,2-아조비스[2-(2-이미다졸린-2-일)프로판]디하이드로클로라이드, 2,2-아조비스[2-(4,5,6,7-테트라하이드로-1H-1,3-디아제핀-2-일)프로판]디하이드로클로라이드, 2,2-아조비스[2-(3,4,5,6-테트라하이드로피리미딘-2-일)프로판]디하이드로클로라이드, 2,2-아조비스[2-(5-하이드록시-3,4,5,6-테트라하이드로피리미딘-2-일)프로판]디하이드로클로라이드, 2,2-아조비스{2-[1-(2-하이드록시에틸)-2-이미다졸린-2-일]프로판}디하이드로클로라이드, 2,2-아조비스[2-(2-이미다졸린-2-일)프로판] 을 들 수 있다. 이들 아조 중합 개시제 (B1) 은, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상 조합하여 사용해도 된다.
과산화물 (B2) 의 구체예로는, 이소부틸퍼옥사이드, 및 데카노일퍼옥사이드 등의 알킬퍼옥사이드 ; 아세틸퍼옥사이드 등의 과산화카르복실산 무수물 ; 벤조일퍼옥사이드 등의 방향족계 과산화카르복실산 무수물 ; 숙신산퍼옥사이드 등의 폴리카르복실산의 과산화 무수물 ; 디이소프로필퍼옥시디카보네이트, 디-2-에틸헥실퍼옥시디카보네이트, 및 디알릴퍼옥시디카보네이트 등의 퍼옥시디카보네이트 ; tert-부틸퍼옥시이소부틸레이트, tert-부틸퍼옥시네오데카네이트, 쿠멘퍼옥시네오데카네이트 등의 과산화에스테르 ; 아세틸시클로헥실술포닐퍼옥사이드 등의 카르복실산과 술폰산의 과산화 무수물 ; 과황산암모늄, 과황산칼륨, 염소산칼륨, 브롬산칼륨, 및 과인산칼륨 등의 무기 과산화물을 들 수 있다.
이들 과산화물 (B2) 는, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상 조합하여 사용해도 된다.
중합 개시제 (B) 의 사용량은, 중합 반응을 양호하게 실시할 수 있으면 특별히 한정되지 않는다. 중합 개시제 (B) 의 사용량은, 중합성 화합물 (A) 전체의 몰수에 대하여, 0.1 몰％ 이상 20 몰％ 이하가 바람직하고, 0.1 몰％ 이상 15 몰％ 이하가 보다 바람직하다.
또한, 표면 처리액의 시간 경과적인 안정성의 점에서, 표면 처리액을, 중합성 화합물 (A) 와 용매 (S) 를 포함하는 제 1 액과, 중합 개시제 (B) 와 용매 (S) 를 포함하는 제 2 액으로 이루어지는 2 액형의 표면 처리액으로 해도 된다. 이러한 2 액형의 표면 처리액은, 표면 처리의 직전에 혼합되어 사용된다.
〔용매 (S)〕
표면 처리액은, 용매 (S) 를 포함한다. 용매 (S) 는, 물이어도 되고, 유기 용제여도 되고, 유기 용제의 수용액이어도 된다. 용매 (S) 로는, 중합성 화합물 (A) 의 용해성, 친수화 처리의 작업의 안전성, 및 저비용인 점 등에서, 물이 바람직하다.
용매 (S) 로서 사용되는 유기 용제의 바람직한 예로는, 알코올을 들 수 있다. 그 알코올로는, 지방족 알코올을 들 수 있고, 탄소 원자수 1 이상 3 이하의 알코올이 바람직하다. 구체적으로는, 메탄올, 에탄올, n-프로필알코올, 및 이소프로필알코올 (IPA) 을 들 수 있고, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올이 바람직하다. 그 알코올은 1 종 또는 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
용매 (S) 에 있어서의 물의 함유량은, 50 질량％ 이상이 바람직하고, 80 질량％ 이상이 보다 바람직하고, 100 질량％ 가 특히 바람직하다.
〔그 밖의 성분〕
친수화 표면 처리액은, 본 발명의 목적을 저해하지 않는 범위에서, 다양한 첨가제를 포함하고 있어도 된다. 이러한 첨가제의 예로는, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 착색제, 소포제, 및 점도 조정제 등을 들 수 있다. 이들 첨가제의 함유량은, 이들 첨가제의 통상적으로 사용되는 양을 감안하여, 적절히 결정된다.
≪친수화 처리 방법≫
친수화 처리 방법은,
전술한 친수화 표면 처리액을 도포하여, 피처리체의 표면에 도포막을 형성하는 것과,
도포막을 가열하여, 피처리체의 표면에 피막을 형성하는 것을 포함한다.
단, 피처리체의 표면이 원하는 정도로 친수화되는 한에 있어서, 피처리체의 친수화되어야 할 표면의 전체면에 균일하게 표면 처리액이 도포될 필요는 없다.
친수화 처리 방법은, 추가로, 피막의 가열 후, 피처리체의 표면을 린스액에 의해 린스하는 것을 포함하는 것이 바람직하다.
특히, 물이나, 유기 용매의 수용액에 의해 린스를 실시함으로써, 중합도나 가교도가 낮은, 저분자량의 중합물을 피막으로부터 제거하기 쉽다.
이하, 표면 처리액을 도포하여, 피처리체의 표면에 도포막을 형성하는 것을「도포 공정」으로도 기재한다. 도포막을 가열하여, 피처리체의 표면에 피막을 형성하는 것을「가열 공정」으로도 기재한다. 피막의 가열 후, 피처리체의 표면을 린스액에 의해 린스하는 것을「린스 공정」으로도 기재한다.
이하, 도포 공정, 가열 공정, 및 린스 공정에 대해 상세하게 설명한다.
＜도포 공정＞
도포 공정에서는, 전술한 표면 처리액을 피처리체의 표면에 도포하여 도포막을 형성한다.
도포 방법은 특별히 한정되지 않는다. 도포 방법의 구체예로는, 스핀 코트법, 스프레이법, 롤러 코트법, 침지법 등을 들 수 있다. 피처리체가 기판인 경우, 기판의 표면에 균일한 막두께의 피막을 불균일없이 형성하기 쉬운 점에서, 도포 방법으로서 스핀 코트법이 바람직하다.
피처리체의 표면 처리액이 도포되는 면의 재질은 특별히 한정되지 않으며, 유기 재료여도 되고, 무기 재료여도 된다.
유기 재료로는, PET 수지나 PBT 수지 등의 폴리에스테르 수지, 각종 나일론, 폴리이미드 수지, 폴리아미드이미드 수지, 폴리에틸렌이나 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀, 폴리스티렌, (메트)아크릴 수지, 시클로올레핀 폴리머 (COP), 시클로올레핀 코폴리머 (COC), 및 실리콘 수지 (예를 들어, 폴리디메틸실록산 (PDMS) 등의 폴리오르가노실록산 등) 등, 다양한 수지 재료를 들 수 있다.
또, 다양한 레지스트 재료에 포함되는 감광성의 수지 성분이나, 알칼리 가용성의 수지 성분도 유기 재료로서 바람직하다.
무기 재료로는, 유리, 실리콘이나, 구리, 알루미늄, 철, 텅스텐 등의 다양한 금속을 들 수 있다. 금속은, 합금이어도 된다.
피처리체의 형상은 특별히 한정되지 않는다. 피처리체는 평탄해도 되며, 예를 들어, 구상이나, 기둥상 등의 입체 형상이어도 된다.
피처리체는, 세정제 등의 약품에 노출되는 경우가 있으며, 약품의 노출에 의해 피처리체에 형성된 피막의 친수성의 저하가 우려된다. 그러나, 상기 서술한 표면 처리액을 사용함으로써, 표면 처리된 표면이 다양한 약품에 접촉한 경우의 친수성의 저하를 억제할 수 있다. 그 때문에, 세정액 등의 약품에 노출되는 경우가 많은 피처리체, 예를 들어, 창, 거울, 가구, 광학 장치 (예를 들어, 렌즈를 갖는 장치) 가 구비하는 유리 부재나, 투광성 수지 부재를 피처리체로 함으로써, 친수성에 대한 약품 내성이라는 효과를 특히 발휘할 수 있다.
표면 처리액을 피처리체의 표면에 도포한 후에는, 주지의 건조 방법에 의해, 필요에 따라, 표면 처리액으로 이루어지는 도포막으로부터 용매 (S) 의 적어도 일부를 제거해도 된다.
도포 공정에 있어서 형성되는 피막의 막두께는, 특별히 한정되지 않는다. 도포 공정에 있어서 형성되는 도포막의 두께는, 예를 들어, 1 ㎛ 이하가 바람직하고, 300 ㎚ 이하가 보다 바람직하고, 100 ㎚ 이하가 더욱 바람직하다.
도포 공정에 의해 형성되는 도포막의 두께는, 표면 처리액의 고형분 농도, 도포 조건 등을 조정함으로써 조정 가능하다.
＜가열 공정＞
가열 공정에서는, 도포 공정에서 형성된 도포막이 가열된다. 가열에 의해, 도포막에 포함되는 중합성 화합물 (A) 가 중합 개시제 (B) 의 작용에 의해 중합되어, 피처리체의 표면에 강고하게 결합하는 수지 피막이 형성된다.
가열 조건은, 중합성 화합물 (A) 가 원하는 정도로 중합되고, 피처리체가 열화되거나 변형되거나 하지 않는 조건이면 특별히 한정되지 않는다. 가열 온도로는, 예를 들어, 30 ℃ 이상 300 ℃ 이하가 바람직하고, 40 ℃ 이상 250 ℃ 이하가 보다 바람직하다. 가열 시간은, 예를 들어 1 분 이상 6 시간 이하가 바람직하고, 3 분 이상 60 분 이하가 보다 바람직하고, 5 분 이상 30 분 이하가 더욱 바람직하다.
＜린스 공정＞
린스 공정에서는, 도포막의 가열 후, 피처리체의 표면을 린스액에 의해 린스한다. 린스에 의해, 피처리체의 표면에 형성되는 피막을 박막화할 수 있다.
린스액으로는, 원하는 막두께의 피막을 형성할 수 있는 한 특별히 한정되지 않는다. 린스액으로는, 물, 유기 용제, 및 유기 용제의 수용액을 사용할 수 있다. 린스액으로는 물이 바람직하다.
피막을 린스하는 방법으로는, 특별히 한정되지 않는다. 전형적으로는, 전술한 도포 방법과 동일한 방법에 의해, 린스액을 피막에 접촉시킴으로써, 린스가 실시된다.
린스 후에 얻어지는 피막의 막두께는, 예를 들어, 10 ㎚ 이하가 바람직하고, 0.1 ㎚ 이상 10 ㎚ 이하가 보다 바람직하고, 0.1 ㎚ 이상 8 ㎚ 이하가 더욱 바람직하고, 0.5 ㎚ 이상 5 ㎚ 이하가 보다 더 바람직하고, 0.5 ㎚ 이상 3 ㎚ 이하가 특히 바람직하다.
피막의 두께는, 표면 처리액의 고형분 농도, 도포 조건, 린스액의 사용량, 린스액의 종류, 및 린스액의 온도 등을 조정함으로써 조정 가능하다.
린스 후, 필요에 따라 피처리체를 건조시킨 후, 피처리체는 다양한 용도에 바람직하게 사용된다.
실시예
이하, 실시예를 나타내어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하는데, 본 발명의 범위는, 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.
〔실시예 1 ∼ 4, 및 비교예 1 ∼ 4〕
실시예, 및 비교예에 있어서, 친수성 중합성 화합물 (A1) 로서, 이하의 A1-1 ∼ A1-3 을 사용하였다.
[화학식 16]
Figure pat00016
실시예, 및 비교예에 있어서, 밀착성 중합성 화합물 (A2) 로서, 아크릴산 3-(트리메톡시실릴)프로필을 사용하였다.
실시예, 및 비교예에 있어서, 산성 중합성 화합물 (A3a), 및 염기성 중합성 화합물 (A3b) 로서 하기의 A3-1 ∼ A3-3 을 사용하였다.
A3-1 : 비닐술폰산
A3-2 : 4-비닐피리딘
A3-3 : 디알릴아민
실시예 및 비교예에 있어서, 중합 개시제 (B) 로서, 표 1 에 기재된 양의 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온아미딘)이염산염을 사용하였다.
표 1 에 기재된 종류 및 양의 중합성 화합물 (A) 를 고형분 농도 10 질량％ 가 되도록 물에 용해시킨 후, 얻어진 용액에 표 1 에 기재된 양의 중합 개시제 (B) 를 첨가하여 실시예 1 ∼ 4, 및 비교예 1 ∼ 4 의 표면 처리액을 얻었다.
＜중합성 화합물 (A) 의 수용액의 pH＞
중합성 화합물 (A) 로서 사용한 각 화합물을, 표 1 에 기재되는 몰 비율과 동일한 몰 비율이 되고, 또한 중합성 화합물 (A) 의 농도가 10 질량％ 가 되도록 물에 용해시켰다.
얻어진 수용액을 사용하여, 23 ℃ 에 있어서 pH 를 측정하였다. pH 의 측정 결과를 표 1 에 기재한다.
＜물 접촉각＞
실리콘 웨이퍼 상에 각 실시예, 및 비교예의 표면 처리액을 1000 rpm, 60 초의 조건에서 스핀 코트한 후, 웨이퍼를 100 ℃ 에서 10 분간 가열하였다. 이어서, 웨이퍼 표면을 수세하여, 상기 중합성 화합물 (A) 의 공중합체인 수지로 이루어지는 피막을 웨이퍼 상에 형성하였다.
Dropmaster700 (쿄와 계면 과학 주식회사 제조) 을 사용하여, 실리콘 웨이퍼의 표면 처리된 표면에 순수 액적 (2.0 μL) 을 적하하고, 적하 10 초 후에 있어서의 접촉각으로서, 물의 접촉각을 측정하였다. 실리콘 웨이퍼 상의 3 점의 물의 접촉각의 평균값을, 표 1 에 기재한다.
또한, 미처리의 실리콘 웨이퍼의 물의 접촉각은 13.8°이다.
＜약액 내성＞
물 접촉각의 측정과 동일한 방법으로 표면 처리된 실리콘 웨이퍼를, 아니온성의 약액인 농도 1 질량％ 의 라우레스황산나트륨 수용액, 또는 카티온성의 약액인 아민 변성 폴리디메틸실록산의 농도 1 질량％ 의 수용액에 1 분간 침지시켰다. 그 후, 실리콘 웨이퍼의 표면을 순수로 1 분간 샤워 세정하였다. 세정 후의 실리콘 웨이퍼의 표면 처리된 표면의 물 접촉각을 상기 방법에 따라서 측정하였다. 측정된 물의 접촉각을 표 1 에 기재한다.
Figure pat00017
실시예에 의하면, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 중합성 화합물 (A) 와, 중합 개시제 (B) 와, 용매 (S) 를 포함하는 친수화 표면 처리액에 있어서, 중합성 화합물 (A) 로서, 친수성 중합성 화합물 (A1) 과, 밀착성 중합성 화합물 (A2) 와, 산성 중합성 화합물 (A3a) 및/또는 염기성 중합성 화합물 (A3b) 를 사용하고, 중합성 화합물 (A) 의 농도 10 질량％ 의 수용액의 23 ℃ 에 있어서의 pH 를, 6.5 이상 7.5 이하로 함으로써, 친수화 처리액을 사용하여, 아니온성 약액이나 카티온성 약액에 접촉한 경우에도, 친수성이 잘 저하되지 않는 피막을 피처리체의 표면에 형성할 수 있는 것을 알 수 있다.
한편, 비교예 1 ∼ 3 에 의하면, 친수화 처리액이, 중합성 화합물 (A) 로서, 친수성 중합성 화합물 (A1) 과, 밀착성 중합성 화합물 (A2) 와, 산성 중합성 화합물 (A3a) 및/또는 염기성 중합성 화합물 (A3b) 를 포함하고 있어도, 중합성 화합물 (A) 의 농도 10 질량％ 의 수용액의 23 ℃ 에 있어서의 pH 가, 6.5 이상 7.5 이하의 범위에서 벗어나 있으면, 친수화 처리액을 사용하여, 아니온성 약액이나 카티온성 약액에 접촉한 경우에 친수성이 잘 저하되지 않는 피막을 피처리체의 표면에 형성할 수 없는 것을 알 수 있다.
또한, 비교예 4 에 의하면, 중합성 화합물 (A) 의 농도 10 질량％ 의 수용액의 23 ℃ 에 있어서의 pH 가, 6.5 이상 7.5 이하의 범위 내여도, 중합성 화합물 (A) 가 친수성 중합성 화합물 (A1) 을 포함하지 않는 경우, 친수화 처리액을 사용하여, 아니온성 약액이나 카티온성 약액에 접촉한 경우에 친수성이 잘 저하되지 않는 피막을 피처리체의 표면에 형성할 수 없는 것을 알 수 있다.

Claims (6)

  1. 중합성 화합물 (A) 와, 중합 개시제 (B) 와, 용매 (S) 를 포함하는 친수화 표면 처리액으로서,
    상기 중합성 화합물 (A) 가, 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖고,
    상기 중합성 화합물 (A) 가, 친수성 중합성 화합물 (A1) 과, 밀착성 중합성 화합물 (A2) 와, 산성 중합성 화합물 (A3a) 및/또는 염기성 중합성 화합물 (A3b) 를 포함하고,
    상기 중합성 화합물 (A) 의 농도 10 질량％ 의 수용액의 23 ℃ 에 있어서의 pH 가, 6.5 이상 7.5 이하인, 친수화 표면 처리액.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 친수성 중합성 화합물 (A1) 이, 중합성 베타인 화합물인, 친수화 표면 처리액.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 밀착성 중합성 화합물 (A2) 가, 가수 분해성 실릴기, 아미노기, 카르복시기, 메르캅토기, 시아노기, 및 수산기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 밀착성기를 갖는, 친수화 표면 처리액.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 중합성 화합물 (A) 가, 비닐기, 및 알릴기에서 선택되는 1 이상의 중합성기를 갖는 화합물을 포함하는, 친수화 표면 처리액.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    중합성 화합물 (A) 의 몰수에 대한 상기 밀착성 중합성 화합물 (A2) 의 몰수의 비율이 0.1 몰％ 이상 10 몰％ 이하인, 친수화 표면 처리액.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 친수화 표면 처리액을 도포하여, 피처리체의 표면에 도포막을 형성하는 것과,
    상기 도포막을 가열하여, 상기 피처리체의 표면에 피막을 형성하는 것을 포함하는, 피처리체의 표면을 친수화시키는 친수화 처리 방법.
KR1020220022373A 2021-02-22 2022-02-21 표면 처리액, 및 친수화 처리 방법 KR20220120500A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2021-026381 2021-02-22
JP2021026381A JP2022128066A (ja) 2021-02-22 2021-02-22 表面処理液、及び親水化処理方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20220120500A true KR20220120500A (ko) 2022-08-30

Family

ID=82899539

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020220022373A KR20220120500A (ko) 2021-02-22 2022-02-21 표면 처리액, 및 친수화 처리 방법

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20220269173A1 (ko)
JP (1) JP2022128066A (ko)
KR (1) KR20220120500A (ko)
TW (1) TW202239792A (ko)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018230514A1 (ja) 2017-06-14 2018-12-20 日産化学株式会社 親水性コート膜形成用組成物、及びそれを用いた親水性コート膜

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018230514A1 (ja) 2017-06-14 2018-12-20 日産化学株式会社 親水性コート膜形成用組成物、及びそれを用いた親水性コート膜

Also Published As

Publication number Publication date
TW202239792A (zh) 2022-10-16
US20220269173A1 (en) 2022-08-25
JP2022128066A (ja) 2022-09-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA2560041C (en) Polymers for use in cleaning compositions
CN114829537B (zh) 表面处理液及亲水化处理方法
JPH0541668B2 (ko)
EP3508539A1 (en) Hydrophilic coating composition
KR20220120500A (ko) 표면 처리액, 및 친수화 처리 방법
US7030275B2 (en) Monomer compound comprising several cationic groups, process for making the same, and polymers comprising units deriving therefrom
JP7474340B2 (ja) 表面処理液、及び表面処理方法
EP3594252B1 (en) Surface treatment liquid and hydrophilic treatment method
WO2022044679A1 (ja) 表面処理液、及び親水化処理方法
KR20220121203A (ko) 중합성 조성물, 및 친수화 처리 방법
JP7458938B2 (ja) 表面処理液、表面処理方法、樹脂、及び化合物
JPS6221361B2 (ko)
JP5892570B1 (ja) ダブルネットワークゲル−固体物ハイブリッド構造体
JP3246956B2 (ja) アクリルアミド系及びメタクリルアミド系カチオン変性共重合体の製造方法
JP2019206610A (ja) 重合体塩および接着剤
JP2006320822A (ja) 高分子凝集剤及びその製造方法
JP4105088B2 (ja) リン系酸残基含有不飽和単量体単独重合物を含む溶液からなるコーティング剤の製造方法
WO2000052070A1 (fr) Procede de fabrication d'une solution aqueuse d'un polymere monoallylamine
EP3594253A1 (en) Hydrophilic treatment method and surface treatment liquid
JPH08245801A (ja) 架橋剤
JPS60235802A (ja) カチオン性共重合体の製造法
JPH0236208A (ja) 塩化ビニル系導電性樹脂
CZ548689A3 (cs) Homopolymery a kopolymery třimethyl(3-methakrylamidofenyl)amontu mjodidů a způsob jejích výroby