KR20220119010A - 화상 표시 장치 및 광학 부재의 세트 - Google Patents

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KR20220119010A
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마사토 후지타
도모유키 기무라
유스케 도야마
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

이형 가공부가 점착제로 충전되고, 또한, 기포가 현저하게 억제된 화상 표시 장치가 제공된다. 본 발명의 화상 표시 장치는, 화상 표시 셀과; 제1 편광자 및 제1 점착제층을 포함하고, 화상 표시 셀의 시인측에 제1 점착제층을 개재하여 적층된 제1 편광판과; 제2 편광자 및 제2 점착제층을 포함하고, 화상 표시 셀의 배면측에 제2 점착제층을 개재하여 적층된 제2 편광판과; 제1 편광판의 시인측에 배치된 제3 점착제층;을 갖는다. 해당 제3 점착제층을 해당 제1 편광판에 적층할 때의, 해당 제3 점착제층을 구성하는 점착제의 60℃에서의 저장 탄성률이 1.0×105Pa 이하이고, 제1 편광판을 85℃에서 24시간 가열 처리했을 때의 흡수축 방향의 치수 수축률의 절댓값은 0.7％ 이하이다.

Description

화상 표시 장치 및 광학 부재의 세트
본 발명은, 화상 표시 장치 및 광학 부재의 세트에 관한 것이다.
휴대 전화, 노트북형 퍼스널 컴퓨터 등의 화상 표시 장치에는, 화상 표시를 실현하고, 및/또는 당해 화상 표시의 성능을 높이기 위해서, 광학 적층체(예를 들어, 편광판)가 널리 사용되고 있다. 근년, 카메라를 탑재한 화상 표시 장치, 스마트 워치, 자동차의 인스트루먼트 패널 등에도 광학 적층체의 사용이 요망되고 있고, 광학 적층체가 직사각형 이외에 가공(이형 가공: 예를 들어, 노치 또는 관통 구멍의 형성)되는 경우가 있다. 한편, 화상 표시 장치에 표면 경도 및 내충격성을 부여하기 위해서, 화상 표시 장치의 최표면에 커버 유리가 적층되는 경우가 있다. 이형 가공된 광학 적층체를 포함하는 화상 표시 장치에 커버 유리를 적층하는 경우, 이형 가공부는, 대표적으로는 커버 유리를 적층하기 위한 점착제에 의해 충전된다. 그러나, 이형 가공부가 점착제로 충전된 화상 표시 장치는, 제조 공정에 있어서의 가열 처리 등에 의해 기포가 발생하는 경우가 있다.
일본 특허 공개 제2016-094569호 공보
본 발명은 상기 종래의 과제를 해결하기 위하여 이루어진 것이고, 그 주된 목적은, 이형 가공부가 점착제로 충전되고, 또한, 기포가 현저하게 억제된 화상 표시 장치를 제공하는 데 있다.
본 발명의 화상 표시 장치는, 화상 표시 셀과; 제1 편광자 및 제1 점착제층을 포함하고, 해당 화상 표시 셀의 시인측에 해당 제1 점착제층을 개재하여 적층된 제1 편광판과; 제2 편광자 및 제2 점착제층을 포함하고, 해당 화상 표시 셀의 배면측에 해당 제2 점착제층을 개재하여 적층된 제2 편광판과; 해당 제1 편광판의 시인측에 배치된 제3 점착제층;을 갖는다. 해당 제1 편광판 및 해당 제2 편광판은, 서로가 대응하는 위치에 이형 가공부를 갖고, 해당 제1 편광판의 이형 가공부가 제3 점착제층을 구성하는 점착제로 충전되어 있다. 해당 제3 점착제층을 해당 제1 편광판에 적층할 때의, 해당 제3 점착제층을 구성하는 점착제의 60℃에서의 저장 탄성률은 1.0×105Pa 이하이고, 해당 제1 편광판을 85℃에서 24시간 가열 처리했을 때의 흡수축 방향의 치수 수축률의 절댓값은 0.7％ 이하이다.
본 발명의 다른 실시 형태에 있어서는, 화상 표시 셀과; 제1 편광자 및 제1 점착제층을 포함하고, 해당 화상 표시 셀의 시인측에 해당 제1 점착제층을 개재하여 적층된 제1 편광판과; 해당 제1 편광판의 시인측에 배치된 제3 점착제층;을 갖고, 해당 제1 편광판이 이형 가공부를 갖고, 해당 제1 편광판의 이형 가공부가 제3 점착제층을 구성하는 점착제로 충전되어 있고, 해당 제3 점착제층을 해당 제1 편광판에 적층할 때의, 해당 제3 점착제층을 구성하는 점착제의 60℃에서의 저장 탄성률이 1.0×105Pa 이하이고, 해당 제1 편광판을 85℃에서 24시간 가열 처리했을 때의 흡수축 방향의 치수 수축률의 절댓값이 0.7％ 이하이다.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 제3 점착제층을 구성하는 점착제는 광경화성 점착제이고, 해당 광경화성 점착제의 경화 전의 60℃에서의 저장 탄성률은 1.0×103Pa 내지 1.0×105Pa이고, 해당 광경화성 점착제의 경화 후의 60℃에서의 저장 탄성률은 5.0×103Pa 내지 5.0×105Pa이고, 해당 제3 점착제층의 두께는 50㎛ 내지 500㎛이다. 하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 광경화성 점착제의 경화 전의 겔 분율은 0％ 내지 60％이고, 경화 후의 겔 분율은 50％ 내지 95％이다.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 제3 점착제층을 구성하는 점착제는 비경화성 점착제이고, 해당 제3 점착제층을 해당 제1 편광판에 적층할 때의 60℃에서의 저장 탄성률은 1.0×103Pa 내지 8.0×104Pa이고, 해당 제3 점착제층의 두께는 50㎛ 내지 1000㎛이다.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 제1 점착제층의 85℃에서의 탄성률은 5.0×104Pa 이상이다.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 제1 편광자의 두께는 10㎛ 미만이다. 다른 실시 형태에 있어서는, 상기 제1 편광자의 두께는 10㎛ 내지 20㎛이고, 상기 제1 편광판의 두께는 100㎛ 이하이고, 해당 제1 편광판은 가열 수축 처리되어 있다.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 제1 편광판의 이형 가공부는, 상기 제1 점착제층의 단부면이 해당 제1 편광판의 단부면보다도 면 방향 내측에 위치하여 형성된 점착제 공극부를 갖고, 해당 점착제 공극부의 크기가 300㎛ 이하이다.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 제1 점착제층과 상기 제3 점착제층의 접착력은 2N/25mm 이상이다.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 이형 가공부는, 관통 구멍 또는 평면으로 보았을 경우에 오목부가 되는 절삭 가공부를 포함한다. 하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 오목부는 V자 노치 또는 U자 노치이다.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 화상 표시 장치는, 상기 제3 점착제층의 시인측에 커버 유리를 더 갖는다.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 화상 표시 장치는, 상기 제1 편광판 및 상기 제2 편광판의 이형 가공부에 대응하는 위치에 카메라부를 갖는다.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 화상 표시 장치는 액정 표시 장치이다. 다른 실시 형태에 있어서는, 상기 화상 표시 장치는 유기 EL 표시 장치이다. 하나의 실시 형태에 있어서는, 해당 유기 EL 표시 장치는, 상기 제1 편광판의 이형 가공부에 대응하는 위치에 카메라부를 갖는다.
본 발명의 다른 국면에 의하면, 광학 부재의 세트가 제공된다. 이 광학 부재의 세트는, 제1 편광자 및 제1 점착제층을 포함하고, 이형 가공부를 갖고, 85℃에서 24시간 가열 처리했을 때의 흡수축 방향의 치수 수축률의 절댓값이 0.7％ 이하이고, 화상 표시 셀의 시인측에 배치되는 제1 편광판과; 기재와 해당 기재 상에 마련된 제3 점착제층을 갖고, 해당 제3 점착제층을 해당 제1 편광판에 적층할 때의, 해당 제3 점착제층을 구성하는 점착제의 60℃에서의 저장 탄성률이 1.0×105Pa 이하이고, 해당 제3 점착제층을 구성하는 점착제가 해당 제1 편광판의 이형 가공부를 충전하는, 점착제 시트;를 포함한다.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 제3 점착제층을 구성하는 점착제는 광경화성 점착제이고, 해당 광경화성 점착제의 경화 전의 60℃에서의 저장 탄성률은 1.0×103Pa 내지 1.0×105Pa이고, 해당 광경화성 점착제의 경화 후의 60℃에서의 저장 탄성률은 5.0×103Pa 내지 5.0×105Pa이고, 해당 제3 점착제층의 두께는 50㎛ 내지 500㎛이다. 하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 광경화성 점착제의 경화 전의 겔 분율은 0％ 내지 60％이고, 경화 후의 겔 분율은 50％ 내지 95％이다.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 제3 점착제층을 구성하는 점착제는 비경화성 점착제이고, 해당 제3 점착제층을 해당 제1 편광판에 적층할 때에 60℃에서의 저장 탄성률은 1.0×103Pa 내지 8.0×104Pa이고, 해당 제3 점착제층의 두께는 50㎛ 내지 1000㎛이다.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 제1 편광판의 이형 가공부는, 상기 제1 점착제층의 단부면이 해당 제1 편광판의 단부면보다도 면 방향 내측에 위치하여 형성된 점착제 공극부를 갖고, 해당 점착제 공극부의 크기가 300㎛ 이하이다.
하나의 실시 형태에 있어서는, 상기 광학 부재의 세트는, 제2 편광자를 포함하고, 이형 가공부를 갖고, 화상 표시 셀의 배면측에 배치되는 제2 편광판을 더 포함하고, 상기 제1 편광판 및 해당 제2 편광판은, 서로가 대응하는 위치에 이형 가공부를 갖는다.
본 발명의 실시 형태에 따르면, 이형 가공부가 점착제로 충전되어 있는 화상 표시 장치에 있어서, 이형 가공부를 충전하는 점착제의 적층 시(이형 가공부 충전 시)의 저장 탄성률을 소정 범위로 하고, 그리고, 시인측 편광판의 편광자 흡수축 방향의 가열 치수 수축률의 절댓값을 소정값 이하로 제어함으로써, 기포가 현저하게 억제된 화상 표시 장치를 실현할 수 있다.
도 1은, 본 발명의 하나의 실시 형태에 의한 화상 표시 장치의 개략 분해 사시도이다.
도 2는, 도 1의 화상 표시 장치의 관통 구멍 부분의 개략 단면도이다.
도 3은, 본 발명의 실시 형태에 의한 화상 표시 장치의 제1 편광판 및 제2 편광판에 있어서의 이형 또는 이형 가공부의 일례를 설명하는 개략 평면도이다.
도 4는, 본 발명의 실시 형태에 의한 화상 표시 장치의 제1 편광판 및 제2 편광판에 있어서의 이형 또는 이형 가공부의 변형예를 설명하는 개략 평면도이다.
도 5는, 본 발명의 실시 형태에 의한 화상 표시 장치의 제1 편광판 및 제2 편광판에 있어서의 이형 또는 이형 가공부의 다른 변형예를 설명하는 개략 평면도이다.
도 6은, 본 발명의 실시 형태에 의한 화상 표시 장치의 제1 편광판 및 제2 편광판에 있어서의 이형 또는 이형 가공부의 또 다른 변형예를 설명하는 개략 평면도이다.
도 7은, 본 발명의 실시 형태에 의한 화상 표시 장치의 제1 편광판에 있어서의 점착제 공극부를 설명하는 부분 개략 단면도이다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시 형태에 대하여 설명하지만, 본 발명은 이들 실시 형태에 한정되지는 않는다. 또한, 보기 쉽게 하기 위하여 도면은 모식적으로 표시되어 있고, 또한, 도면에 있어서의 길이, 폭, 두께 등의 비율, 그리고 각도 등은, 실제와는 다르다.
A. 화상 표시 장치의 전체 구성
도 1은, 본 발명의 하나의 실시 형태에 의한 화상 표시 장치의 개략 분해 사시도이고; 도 2는, 도 1의 화상 표시 장치의 관통 구멍 부분의 개략 단면도이다. 도시 예의 화상 표시 장치(200)는, 화상 표시 셀(100)과, 화상 표시 셀(100)의 시인측에 적층된 제1 편광판(10)과, 화상 표시 셀(100)의 배면측에 적층된 제2 편광판(20)과, 제1 편광판(10)의 시인측에 배치된 제3 점착제층(30)을 갖는다. 하나의 실시 형태에 있어서는, 화상 표시 장치(200)는, 제3 점착제층(30)의 시인측에 커버 유리(40)를 더 갖고 있어도 된다. 즉, 커버 유리(40)가, 제3 점착제층(30)을 개재하여 제1 편광판(10)에 접합되어 있어도 된다. 제1 편광판(10)은, 제1 편광자(11)와, 제1 편광자(11)의 시인측에 배치된 보호층(외측 보호층)(12)과, 제1 편광자(11)의 화상 표시 셀(100)측에 배치된 보호층(내측 보호층)(13)과, 화상 표시 셀측의 최외층으로서 배치된 제1 점착제층(14)을 갖는다. 제1 편광판(10)은, 제1 점착제층(14)을 개재하여 화상 표시 셀(100)에 적층되어 있다. 목적 등에 따라, 보호층(12 및 13)의 한쪽은 생략되어도 된다. 제2 편광판(20)은, 제2 편광자(21)와, 제2 편광자(21)의 배면측에 배치된 보호층(외측 보호층)(22)과, 제2 편광자(21)의 화상 표시 셀(100)측에 배치된 보호층(내측 보호층)(23)과, 화상 표시 셀측의 최외층으로서 배치된 제2 점착제층(24)를 갖는다. 제2 편광판(20)은, 제2 점착제층(24)을 개재하여 화상 표시 셀(100)에 적층되어 있다. 목적 등에 따라, 보호층(22 및 23)의 한쪽은 생략되어도 된다. 대표적으로는, 제1 편광판(10) 및 제2 편광판(20)은, 제1 편광자(11)의 흡수축 A1과 제2 편광자(21)의 흡수축 A2가 실질적으로 직교하도록 하여 배치되어 있다. 도시 예에 있어서는 A1이 긴 변 방향, A2가 짧은 변 방향으로 기재되어 있지만, 이들은 반대여도 된다. 또한, 본 명세서에 있어서 「실질적으로 직교」란, 2개의 방향이 이루는 각도가 90°±7°인 경우를 포함하고, 바람직하게는 90°±5°이고, 보다 바람직하게는 90°±3°이다. 「실질적으로 평행」이란, 2개의 방향이 이루는 각도가 0°±7°인 경우를 포함하고, 바람직하게는 0°±5°이고, 보다 바람직하게는 0°±3°이다. 또한, 본 명세서에 있어서 단순히 「직교」 또는 「평행」이라고 할 때는, 「실질적으로 직교」 또는 「실질적으로 평행」인 경우를 포함한다. 또한, 본 명세서에 있어서 각도를 언급할 때는, 기준 방향에 대하여 시계 방향 및 반시계 방향의 양쪽을 포함한다.
제1 편광판(10)은 이형 가공부(15)를 갖고, 제2 편광판(20)은 이형 가공부(25)를 갖는다. 제1 편광판(10) 및 제2 편광판(20)은, 서로가 대응하는 위치에 이형 가공부(15, 25)를 갖는다. 제1 편광판(10)의 이형 가공부(15)는, 대표적으로는, 제3 점착제층(30)을 구성하는 점착제로 충전되어 있다. 본 명세서에 있어서 「서로가 대응하는 위치에 마련되어 있다」란, 2개의 편광판을 겹쳤을 때에 이형 가공부가 겹치는 것을 의미한다. 또한, 본 명세서에 있어서 「이형 가공부」란, 일반적인 형상(예를 들어, 직사각형, 구석부의 모따기)과는 다른 특수한 형상으로 가공한 부분을 말한다. 도 3 및 도 4에 도시하는 바와 같이, 이형 가공부의 대표예로서는, 관통 구멍, 평면으로 보았을 경우에 오목부가 되는 절삭 가공부를 들 수 있다. 오목부의 대표예로서는, 선형(船形)에 근사한 형상, V자 노치, U자 노치를 들 수 있다. 또한, 제1 편광판 및 제2 편광판은, 전체가 이형 가공되어 있어도 된다. 그러한 예로서는, 도 5 및 도 6에 도시하는 바와 같이, 자동차의 미터패널에 대응한 형상을 들 수 있다. 당해 형상은, 외연이 미터 바늘의 회전 방향을 따른 원호 형상으로 형성되고, 또한, 외연이 면 방향 내측에 볼록의 V자 형상(라운드 형상을 포함함)을 이루는 부위를 포함한다. 이형 가공부는, 목적에 따라서 임의의 적절한 위치에 마련된다. 대표적으로는, 이형 가공부는, 각각의 편광판의 단부 또는 그 근방에 마련된다. 이와 같은 구성이라면, 화상 표시에 대한 영향을 최소한으로 할 수 있다. 예를 들어 도 4에 도시하는 바와 같이, 이형 가공부는, 직사각 형상의 편광판의 긴 변 방향 단부의 대략 중앙부에 마련되어도 되고, 긴 변 방향 단부의 소정의 위치에 마련되어도 되고, 편광판의 구석부에 마련되어도 된다. 도시 예에서는 이형 가공부가 긴 변 방향 단부에 마련되는 경우를 도시하고 있지만, 이형 가공부는 짧은 변 방향 단부에 마련되어도 된다. 또한, 도 4의 2단째 우측 및 3단째에 나타내는 바와 같이, 이형 가공부는 복수 마련되어도 된다. 예를 들어, 도 4에 도시하는 바와 같이, 관통 구멍이 2개 이상 마련되어도 되고, 관통 구멍과 노치가 조합하여 마련되어도 되고, 도시하지 않지만 노치가 2개 이상 마련되어도 된다.
화상 표시 장치는, 화상 표시 패널을 포함한다. 화상 표시 패널은, 화상 표시 셀을 포함한다. 화상 표시 장치는, 광학 표시 장치라고 칭하는 경우가 있다. 화상 표시 패널은, 광학 표시 패널이라고 칭하는 경우가 있다. 화상 표시 셀은, 광학 표시 셀이라고 칭하는 경우가 있다.
화상 표시 셀(100)로서는, 대표적으로는, 액정 셀, 유기 일렉트로루미네센스(EL) 셀, 양자 도트 셀을 들 수 있다. 따라서, 화상 표시 장치(200)로서는, 대표적으로는, 액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치, 양자 도트 표시 장치를 들 수 있다. 도시 예는, 대표적으로는 액정 표시 장치의 구성을 나타내고 있다. 액정 표시 장치에 있어서는, 제1 편광판 및 제2 편광판의 조합에 의한 효과가 현저해진다. 유기 EL 표시 장치에 있어서는, 제2 편광판(20)이 생략될 수 있다. 하나의 실시 형태에 있어서는, 화상 표시 장치(200)는, 이형 가공부(15, 25)에 대응하는 위치에 카메라부(도시하지 않음)를 갖는다.
본 발명의 실시 형태에 있어서는, 제3 점착제층(30)을 구성하는 점착제는, 제3 점착제층(30)을 제1 편광판(10)에 적층할 때의, 60℃에서의 저장 탄성률이 1.0×104Pa 내지 1.0×105Pa이다. 제3 점착제층을 구성하는 점착제는, 적층 시에 이러한 저장 탄성률을 갖는 한에 있어서 임의의 적절한 점착제를 사용할 수 있다. 구체적으로는, 점착제는, 광경화성 점착제여도 되고, 비경화성 점착제여도 된다. 또한, 본 명세서에 있어서 「광경화성 점착제」란, 광 조사에 의해 가교 반응이 진행하는 점착제를 말한다. 따라서, 광경화성 점착제는, 적층 시에는 유연하게 변형 성이 우수하고, 적층 후에 광 조사함으로써 점착제층으로서 원하는 특성(예를 들어, 저장 탄성률)이 부여될 수 있다. 이에 의해, 광경화성 점착제는, 이형 가공부의 충전성이 매우 우수하고, 제3 점착제층(결과로서, 화상 표시 장치)의 두께를 얇게 할 수 있다. 또한, 예를 들어 커버 유리에 두꺼운 프레임 인쇄층이 형성되어 있는 경우에도, 양호한 접착성을 확보할 수 있다. 「비경화성 점착제」란, 가교 반응이 실질적으로 종료되고 있고, 적층 후에 가교 반응이 실질적으로 진행하지 않는 점착제를 말한다. 바꿔 말하면, 비경화성 점착제는, 소위 통상의 점착제일 수 있다. 비경화성 점착제는, 광 조사(광경화)가 불필요하므로 생산성이 우수하고, 또한, 타흔의 발생, 펀칭 가공품 단부로부터의 점착제의 비어져 나옴, 핸들링 불량 등을 방지할 수 있다.
광경화성 점착제의 경화 전의 60℃에서의 저장 탄성률은, 실질적으로는, 상기 적층 시의 저장 탄성률에 대응할 수 있다. 경화 전의 저장 탄성률은, 상기한 바와 같이 1.0×105Pa 이하이고, 바람직하게는 1.0×103Pa 내지 1.0×105Pa이다. 광경화성 점착제의 경화 후의 60℃에서의 저장 탄성률은, 바람직하게는 5.0×103Pa 내지 5.0×105Pa이다. 광경화성 점착제의 경화 전의 겔 분율은 0％ 내지 60％이고, 경화 후의 겔 분율은 50％ 내지 95％이다. 제3 점착제층이 광경화성 점착제로 구성되는 경우, 제3 점착제층의 두께는, 바람직하게는 50㎛ 내지 500㎛이고, 보다 바람직하게는 75㎛ 내지 475㎛이고, 더욱 바람직하게는 100㎛ 내지 450㎛이다.
비경화성 점착제의 적층 시의 60℃에서의 저장 탄성률은, 바람직하게는 1.0×103Pa 내지 8.0×104Pa이고, 보다 바람직하게는 5.0×103Pa 내지 6.0×104Pa이다. 제3 점착제층이 비경화성 점착제로 구성되는 경우, 제3 점착제층의 두께는, 바람직하게는 50㎛ 내지 1000㎛이고, 보다 바람직하게는 75㎛ 내지 900㎛이고, 더욱 바람직하게는 100㎛ 내지 800㎛이다.
본 발명의 실시 형태에 있어서는, 또한, 제1 편광판(10)을 85℃에서 24시간 가열 처리했을 때의 제1 편광자의 흡수축 방향의 치수 수축률(본 명세서에 있어서는 가열 치수 수축률이라고도 칭하는 경우가 있음)의 절댓값은 0.7％ 이하이고, 바람직하게는 0.6％ 이하이고, 보다 바람직하게는 0.5％ 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.4％ 이하이고, 특히 바람직하게는 0.3％ 이하이다. 가열 치수 수축률의 절댓값은 작을수록 바람직하고, 그 하한은 예를 들어 0.05％일 수 있다. 또한, 가열 치수 수축률은, 대표적으로는 음의 값이 된다. 이러한 제1 편광판에 있어서의 제1 편광자(11)는, 하나의 실시 형태에 있어서는, 두께가 바람직하게는 10㎛ 미만이고, 보다 바람직하게는 8㎛ 이하이고, 더욱 바람직하게는 6㎛ 이하이고, 특히 바람직하게는 5㎛ 이하이다. 두께의 하한은, 예를 들어 1㎛일 수 있다. 제1 편광자(11)는, 다른 실시 형태에 있어서는, 두께가 바람직하게는 10㎛ 내지 20㎛이고, 보다 바람직하게는 12㎛ 내지 18㎛이다. 이 경우, 제1 편광판(10)의 두께는 바람직하게는 100㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 80㎛ 이하이고, 더욱 바람직하게는 60㎛ 이하이다. 두께의 하한은, 예를 들어 40㎛일 수 있다. 이 경우에는 또한, 제1 편광판(실질적으로는, 제1 편광자)은, 바람직하게는 가열 수축 처리되어 있다. 가열 수축 처리는, 예를 들어 60℃에서 12시간 행하여질 수 있다. 또한, 제1 편광판의 두께는, 편광자와 보호층을 접합하는 접착제의 두께를 포함하고, 제1 점착제층의 두께를 포함하지 않는다.
제3 점착제층 그리고 제1 편광판을 상기와 같은 구성으로 함으로써, 이형 가공부가 점착제로 충전되어 있는 화상 표시 장치에 있어서 기포를 현저하게 억제할 수 있다. 특히, 소위 딜레이 버블이라고 칭해지는 기포의 발생을 현저하게 억제 할 수 있다. 상세는 이하와 같다. 이형 가공부의 제3 점착제층을 구성하는 점착제에 의한 충전은, 대표적으로는, 커버 유리와 제3 점착제층을 구성하는 점착제 시트의 적층체를 진공 라미네이트에 의해 제1 편광판에 접합함으로써 행하여진다. 진공 라미네이트 직후는 충전 부분에 인식 가능한 기포는 존재하지 않는 경우가 많은 한편으로, 그 후의 화상 표시 장치의 가열 내구성 시험에 있어서 기포가 발생하는 경우가 있다. 이러한 기포는, 대표적으로는, 충전부에 편광판의 수축 응력이 가해짐으로써 발생할 수 있다. 이러한 기포를 딜레이 버블이라고 칭한다. 딜레이 버블은, 미세한 것은 아니고, 이형 가공부의 평면으로 보아 면적의 일정 비율 이상을 차지하는 큰 것이고, 외관의 관점에서도 이형 가공부에 대응하는 위치에 마련되는 카메라부의 카메라 성능의 관점에서도 허용 불가능하다. 상기와 같은 구성으로 함으로써, 충전 부분의 잔류 응력을 완화하여 가열 등에 의한 점착제의 변형을 억제할 수 있고, 결과로서 딜레이 버블을 억제할 수 있다고 추정된다. 또한, 상기한 바와 같이, 제1 편광자의 두께를 10㎛ 미만으로 함으로써, 가열 수축 처리를 실시하지 않아도 상기 원하는 가열 치수 수축률(의 절댓값)을 실현할 수 있다. 따라서, 가열 수축 처리를 생략할 수 있음으로써 생산성을 증대시킬 뿐만 아니라, 치수 변화, 컬의 발생 등을 방지할 수 있다. 또한, 제1 편광자(제1 편광판)의 두께를 얇게 하고, 또한, 제3 점착제층을 비경화성 점착제로 구성함으로써, 가열 수축 처리를 생략할 수 있고, 또한, 광 조사(광경화)를 생략할 수 있으므로, 생산성을 더욱 증대시킬 수 있다. 또한, 제1 편광자(제1 편광판)의 두께를 얇게 하고, 또한, 제3 점착제층을 광경화성 점착제로 구성함으로써, 이형 가공부의 사이즈가 작은(예를 들어, 관통 구멍의 직경이 작은, V자 노치의 깊이 및 각도가 작은, U자 노치의 깊이 및 곡률 반경이 작은) 경우, 및/또는, 복수의 관통 구멍이 근접하여 형성되어 있는 경우라도 딜레이 버블을 현저하게 억제할 수 있다.
하나의 실시 형태에 있어서는, 도 7에 도시하는 바와 같이, 제1 편광판(10)의 이형 가공부(15)는, 제1 점착제층(14)의 단부면이 제1 편광판(실질적으로는, 편광자(11) 또는 존재하는 경우에는 내측 보호층(13))의 단부면보다도 면 방향 내측에 위치하여 형성된 점착제 공극부(16)를 갖는다. 점착제 공극부의 크기 L은, 바람직하게는 300㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 200㎛ 이하이고, 더욱 바람직하게는 150㎛ 이하이고, 특히 바람직하게는 100㎛ 이하이고, 특히 바람직하게는 80㎛ 이하이다. 점착제 공극부의 크기 L의 하한은, 예를 들어 10㎛일 수 있다. 본 명세서에 있어서 「점착제 공극부의 크기 L」은, 제1 편광판(실질적으로는, 편광자(11) 또는 존재하는 경우에는 내측 보호층(13))의 단부면으로부터 점착제층(14)의 단부면까지의 최대 길이를 말한다.
화상 표시 장치(200)는, 화상 표시 셀(100)의 구성에 따라, 백라이트 유닛(도시하지 않음)을 갖고 있어도 된다. 백라이트 유닛에 대해서는 당업계에서 주지의 구성이 채용될 수 있으므로, 상세한 설명은 생략한다.
필요에 따라, 화상 표시 장치(200)에는, 위상차층(도시하지 않음)이 마련되어도 된다. 위상차층의 종류, 수, 조합, 배치 위치, 특성은, 목적에 따라서 적절하게 설정될 수 있다. 예를 들어, 위상차층은, λ/2판이어도 되고, λ/4판이어도 되고, 이들의 적층체여도 된다. λ/2판 및 λ/4판은, 대표적으로는 nx>ny≥nz의 굴절률 특성을 갖는다. λ/2판은, 면 내 위상차 Re(550)가 바람직하게는 180nm 내지 320nm이고, λ/4판은, 면 내 위상차 Re(550)가 바람직하게는 100nm 내지 200nm이다. 또한 예를 들어, 위상차층은, 네거티브 B 플레이트(nx>ny>nz)와 포지티브 C 플레이트(nz>nx=ny) 또는 포지티브 B 플레이트(nz>nx>ny)와의 적층체여도 된다. 또한, 본 명세서에 있어서 「Re(λ)」는, 23℃에서의 파장 λnm의 광에서 측정한 면 내 위상차이다. 예를 들어, 「Re(550)」는, 23℃에서의 파장 550nm의 광에서 측정한 면 내 위상차이다. Re(λ)는, 층(필름)의 두께를 d(nm)로 했을 때, 식: Re(λ)=(nx-ny)×d에 의해 구해진다. 「Rth(λ)」는, 23℃에서의 파장 λnm의 광에서 측정한 두께 방향의 위상차이다. 예를 들어, 「Rth(550)」는, 23℃에서의 파장 550nm의 광에서 측정한 두께 방향의 위상차이다. Rth(λ)는, 층(필름)의 두께를 d(nm)로 했을 때, 식: Rth(λ)=(nx-nz)×d에 의해 구해진다. 「nx」는 면 내의 굴절률이 최대가 되는 방향(즉, 지상축 방향)의 굴절률이고, 「ny」는 면 내에서 지상축과 직교하는 방향(즉, 진상축 방향)의 굴절률이고, 「nz」는 두께 방향의 굴절률이다.
필요에 따라, 화상 표시 장치(200)에는, 광학 부재(도시하지 않음)가 마련되어도 된다. 광학 부재의 종류, 수, 조합, 배치 위치, 특성은, 목적에 따라서 적절하게 설정될 수 있다. 예를 들어, 제2 편광판의 배면측에, 반사형 편광자, 프리즘 시트, 및/또는 확산판이 마련되어도 된다. 반사형 편광자는, 제2 편광판의 외측 보호층을 겸해도 된다.
이하, 화상 표시 장치의 구성 요소를 구체적으로 설명한다. 또한, 제1 편광판 및 제2 편광판을 통합하여 편광판으로서, 제1 편광자 및 제2 편광자를 통합하여 편광자로서, 제1 편광판 및 제2 편광판에 있어서의 각각의 보호층을 통합하여 보호층으로서, 제1 점착제층 및 제2 점착제층을 통합하여 점착제층으로서 설명한다. 따라서, 예를 들어 「편광판은」이라고 할 때는, 「제1 편광판 및 제2 편광판은 각각」이라고 하는 의미일 수 있다. 한편, 예를 들어 제1 편광판과 제2 편광판을 별개로 설명할 필요가 있는 경우에는, 「제1」 또는 「제2」를 명기한다. 또한, 커버 유리에 대해서는 당업계에서 주지의 구성이 채용될 수 있으므로, 상세한 설명은 생략한다.
B. 편광판
B-1. 편광자
편광자는, 대표적으로는, 2색성 물질을 포함하는 수지 필름으로 구성된다. 수지 필름으로서는, 편광자로서 사용될 수 있는 임의의 적절한 수지 필름을 채용할 수 있다. 수지 필름은, 대표적으로는, 폴리비닐알코올계 수지(이하, 「PVA계 수지」라고 칭함) 필름이다. 수지 필름은, 단층의 수지 필름이어도 되고, 2층 이상의 적층체여도 된다.
단층의 수지 필름으로 구성되는 편광자의 구체예로서는, PVA계 수지 필름에 요오드에 의한 염색 처리 및 연신 처리(대표적으로는, 1축 연신)가 실시된 것을 들 수 있다. 상기 요오드에 의한 염색은, 예를 들어 PVA계 필름을 요오드 수용액에 침지시킴으로써 행하여진다. 상기 1축 연신의 연신 배율은, 바람직하게는 3 내지 7배이다. 연신은, 염색 처리 후에 행해도 되고, 염색하면서 행해도 된다. 또한, 연신하고 나서 염색해도 된다. 필요에 따라, PVA계 수지 필름에, 팽윤 처리, 가교 처리, 세정 처리, 건조 처리 등이 실시된다. 예를 들어, 염색 전에 PVA계 수지 필름을 물에 침지하여 수세함으로써, PVA계 필름 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정할 수 있을 뿐만 아니라, PVA계 수지 필름을 팽윤시켜서 염색 불균일 등을 방지할 수 있다.
적층체를 사용하여 얻어지는 편광자의 구체예로서는, 수지 기재와 당해 수지 기재에 적층된 PVA계 수지층(PVA계 수지 필름)의 적층체, 혹은, 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층의 적층체를 사용하여 얻어지는 편광자를 들 수 있다. 수지 기재와 당해 수지 기재에 도포 형성된 PVA계 수지층의 적층체를 사용하여 얻어지는 편광자는, 예를 들어 PVA계 수지 용액을 수지 기재에 도포하고, 건조시켜서 수지 기재 상에 PVA계 수지층을 형성하고, 수지 기재와 PVA계 수지층의 적층체를 얻는 것; 당해 적층체를 연신 및 염색하여 PVA계 수지층을 편광자로 하는 것;에 의해 제작될 수 있다. 본 실시 형태에 있어서는, 연신은, 대표적으로는 적층체를 붕산 수용액 중에 침지시켜서 연신하는 것을 포함한다. 또한, 연신은, 필요에 따라, 붕산 수용액 중에서의 연신 전에 적층체를 고온(예를 들어, 95℃ 이상)에서 공중 연신하는 것을 더 포함할 수 있다. 얻어진 수지 기재/편광자의 적층체는 그대로 사용해도 되고(즉, 수지 기재를 편광자의 보호층으로 해도 되고), 수지 기재/편광자의 적층체로부터 수지 기재를 박리하고, 당해 박리면에 목적에 따른 임의의 적절한 보호층을 적층하여 사용해도 된다. 이러한 편광자의 제조 방법의 상세는, 예를 들어 일본 특허 공개 제2012-73580호 공보, 일본 특허 제6470455호에 기재되어 있다. 당해 공보는, 그 전체의 기재가 본 명세서에 참고로서 원용된다.
제1 편광자의 두께는, 상기 A항에서 설명한 대로이다. 제2 편광자의 두께는, 목적에 따라서 적절하게 설정될 수 있다. 예를 들어, 제2 편광자의 두께는, 바람직하게는 1㎛ 내지 30㎛이고, 보다 바람직하게는 2㎛ 내지 15㎛이고, 더욱 바람직하게는 1㎛ 내지 10㎛이다. 제2 편광자의 두께가 이러한 범위라면, 가열 시의 컬을 양호하게 억제할 수 있고, 및 양호한 가열 시의 외관 내구성이 얻어진다.
편광자는, 바람직하게는 파장 380nm 내지 780nm의 어느 것의 파장에서 흡수 2색성을 나타낸다. 편광자의 단체 투과율은, 예를 들어 41.5％ 내지 46.0％이고, 바람직하게는 43.0％ 내지 46.0％이고, 보다 바람직하게는 44.5％ 내지 46.0％이다. 편광자의 편광도는, 바람직하게는 97.0％ 이상이고, 보다 바람직하게는 99.0％ 이상이고, 더욱 바람직하게는 99.9％ 이상이다.
B-2. 보호층
보호층은, 편광자의 보호층으로서 사용할 수 있는 임의의 적절한 필름으로 형성된다. 당해 필름의 주성분이 되는 재료의 구체예로서는, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 등의 셀룰로오스계 수지나, 폴리에스테르계, 폴리비닐알코올계, 폴리카르보네이트계, 폴리아미드계, 폴리이미드계, 폴리에테르술폰계, 폴리술폰계, 폴리스티렌계, 폴리노르보르넨계, 폴리올레핀계, (메트)아크릴계, 아세테이트계 등의 투명 수지 등을 들 수 있다. 또한, (메트)아크릴계, 우레탄계, (메트)아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열경화형 수지 또는 자외선 경화형 수지 등도 들 수 있다. 이 밖에도, 예를 들어 실록산계 폴리머 등의 유리질계 폴리머도 들 수 있다. 또한, 일본 특허 공개 제2001-343529호 공보(WO01/37007)에 기재된 폴리머 필름도 사용할 수 있다. 이 필름의 재료로서는, 예를 들어 측쇄에 치환 또는 비치환된 이미드기를 갖는 열가소성 수지와, 측쇄에 치환 또는 비치환된 페닐기 그리고 니트릴기를 갖는 열가소성 수지를 함유하는 수지 조성물을 사용할 수 있고, 예를 들어 이소부텐과 N-메틸말레이미드로 이루어지는 교호 공중합체와, 아크릴로니트릴·스티렌 공중합체를 갖는 수지 조성물을 들 수 있다. 당해 폴리머 필름은, 예를 들어 상기 수지 조성물의 압출 성형물일 수 있다.
외측 보호층(특히, 제1 편광판의 외측 보호층(12))에는, 필요에 따라, 하드 코팅 처리, 반사 방지 처리, 스티킹 방지 처리, 안티 글래어 처리 등의 표면 처리가 실시되어 있어도 된다.
내측 보호층은, 광학적으로 등방성인 것이 바람직하다. 본 명세서에 있어서 「광학적으로 등방성이다」란, 면 내 위상차 Re(550)가 0nm 내지 10nm이고, 두께 방향의 위상차 Rth(550)가 -10nm 내지 +10nm인 것을 말한다.
보호층의 두께는, 임의의 적절한 두께가 채용될 수 있다. 보호층의 두께는, 예를 들어 15㎛ 내지 45㎛이고, 바람직하게는 20㎛ 내지 40㎛이다. 또한, 표면 처리가 실시되어 있는 경우, 보호층의 두께는, 표면 처리층의 두께를 포함한 두께이다.
C. 점착제층
점착제층은, 대표적으로는, 각각의 편광판을 화상 표시 셀에 접합하기 위하여 사용된다. 점착제층은, 대표적으로는 아크릴계 점착제(아크릴계 점착제 조성물)로 구성될 수 있다. 아크릴계 점착제 조성물은, 대표적으로는 (메트)아크릴계 폴리머를 베이스 폴리머로서 포함한다. (메트)아크릴계 폴리머는, 점착제 조성물의 고형분 중, 예를 들어 50중량％ 이상, 바람직하게는 70중량％ 이상, 보다 바람직하게는 90중량％ 이상의 비율로 점착제 조성물에 함유될 수 있다. (메트)아크릴계 폴리머는, 모노머 단위로서 알킬(메트)아크릴레이트를 주성분으로서 함유한다. 또한, (메트)아크릴레이트는 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트를 말한다. 알킬(메트)아크릴레이트는, (메트)아크릴계 폴리머를 형성하는 모노머 성분 중, 바람직하게는 70중량％ 이상, 보다 바람직하게는 80중량％ 이상의 비율로 함유될 수 있다. 알킬(메트)아크릴레이트의 알킬기로서는, 예를 들어 1개 내지 18개의 탄소 원자를 갖는 직쇄상 또는 분지쇄상의 알킬기를 들 수 있다. 당해 알킬기의 평균 탄소수는, 바람직하게는 3개 내지 9개이고, 보다 바람직하게는 3개 내지 6개이다. 알킬(메트)아크릴레이트의 구체예로서는, 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트를 들 수 있다. (메트)아크릴계 폴리머를 구성하는 모노머(공중합 모노머)로서는, 알킬(메트)아크릴레이트 이외에, 카르복실기 함유 모노머, 히드록실기 함유 모노머, 아미드기 함유 모노머, 다관능 (메트)아크릴레이트, 방향환 함유 (메트)아크릴레이트, 복소환 함유 비닐계 모노머 등을 들 수 있다. 공중합 모노머의 대표예로서는, 아크릴산, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트, N-비닐-2-피롤리돈, N-아크릴로일모르폴린을 들 수 있다. 아크릴계 점착제 조성물은, 바람직하게는 실란 커플링제 및/또는 가교제를 함유할 수 있다. 실란 커플링제로서는, 예를 들어 에폭시기 함유 실란 커플링제를 들 수 있다. 가교제로서는, 예를 들어 이소시아네이트계 가교제, 과산화물계 가교제를 들 수 있다. 아크릴계 점착제 조성물은, 첨가제를 함유하고 있어도 된다. 첨가제의 구체예로서는, 산화 방지제, 대전 방지제, 리워크 향상제, 착색제, 안료, 염료, 계면 활성제, 가소제, 점착성 부여제, 표면 윤활제, 레벨링제, 연화제, 노화 방지제, 광안정제, 자외선 흡수제, 중합 금지제, 도전제, 무기 또는 유기의 충전제, 금속 분말, 입자상, 박상물을 들 수 있다. 또한, 제어할 수 있는 범위 내에서, 환원제를 첨가한 산화 환원계를 채용해도 된다. 첨가제의 종류, 수, 조합, 배합량 등은, 목적에 따라서 적절하게 설정될 수 있다. 모노머 성분의 종류, 조합해 및 배합량 등, 그리고, 가교제, 실란 커플링제 및 첨가제의 종류, 수, 조합, 배합량 등을 적절하게 조정함으로써, 목적에 따른 원하는 특성을 갖는 아크릴계 점착제 조성물(결과로서, 점착제층)이 얻어질 수 있다. 점착제층 또는 아크릴계 점착제 조성물의 상세는, 예를 들어 일본 특허 공개 제2006-183022호 공보, 일본 특허 공개 제2015-199942호 공보, 일본 특허 공개 제2018-053114호 공보, 일본 특허 공개 제2016-190996호 공보, 국제 공개 제2018/008712호에 기재되어 있고, 이들 공보의 기재는 본 명세서에 참고로서 원용된다.
점착제층의 두께는, 바람직하게는 50㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 40㎛ 이하이고, 더욱 바람직하게는 30㎛ 이하이고, 특히 바람직하게는 25㎛ 이하이다. 점착제층의 두께의 하한은, 예를 들어 2㎛일 수 있다. 점착제층의 두께가 이러한 범위라면, 화상 표시 장치의 박형화에 기여할 수 있다. 특히, 제1 점착제층의 두께가 이러한 범위라면, 제3 점착제층을 구성하는 점착제에 의한 이형 가공부의 충전이 용이하게 된다. 보다 구체적으로는, 이형 가공부의 깊이가 작아지므로, 점착제로 메워지기 쉬워진다. 그 결과, 이형 가공부에 있어서의 간극이 작아지므로, 점착제의 변형 등에 의해서도 기포가 발생하기 어려워진다. 결과로서, 제1 점착제층의 두께가 이러한 범위라면, 딜레이 버블의 억제에 공헌할 수 있다.
점착제층(특히, 제1 점착제층)을 구성하는 점착제와 제3 점착제층을 구성하는 점착제의 접착력은, 바람직하게는 2N/25mm 이상이고, 보다 바람직하게는 5N/25mm 이상이고, 더욱 바람직하게는 10N/25mm 이상이다. 당해 접착력의 상한은, 예를 들어 50N/25mm일 수 있다. 도 2로부터 이해되는 대로 제1 점착제층과 제3 점착제층은 접촉할 수 있는 바, 이들의 접착력이 크면, 점착제가 변형하거나 해도 제1 점착제층과 제3 점착제층이 벗겨지기 어려워진다. 그 결과, 이형 가공부에 있어서 간극이 형성되기 어려워지고, 딜레이 버블이 억제될 수 있다. 또한, 접착력은, JIS Z 0237의 「90도 박리 강도 시험」에 준하여 측정될 수 있다.
점착제층의 85℃에서의 탄성률은, 바람직하게는 5.0×104Pa 이상이고, 보다 바람직하게는 1.0×105Pa 이상이다. 점착제층의 탄성률의 상한은, 예를 들어 1.0×106Pa일 수 있다. 점착제층의 탄성률이 이러한 범위라면, 편광판의 치수 수축률의 절댓값을 작게 할 수 있다. 특히, 제1 점착제층의 탄성률이 이러한 범위라면, 제3 점착제층과의 상승적인 효과에 의해, 제1 편광판의 치수 수축이 억제될 수 있다.
D. 제3 점착제층
제3 점착제층(30)은, 상기 A항에 기재된 대로 적층 시에 소정의 저장 탄성률을 갖는 점착제로 구성되고, 당해 점착제는 제1 편광판(10)의 이형 가공부(15)를 충전할 수 있다. 먼저, 제3 점착제층의 특성 및 제3 점착제층을 구성하는 광경화성 점착제에 대하여 설명하고, 이어서 비경화성 점착제에 대하여 간단하게 설명한다.
D-1. 제3 점착제층의 특성
제3 점착제층의 유리 전이 온도는, 바람직하게는 -3℃ 이하이고, 보다 바람직하게는 -5℃ 이하이고, 더욱 바람직하게는 -6℃ 이하이다. 한편으로, 유리 전이 온도는, 바람직하게는 -20℃ 이상이고, 보다 바람직하게는 -15℃ 이상이고, 더욱 바람직하게는 -13℃ 이상이다. 유리 전이 온도가 이러한 범위라면, 우수한 내충격성을 갖는 제3 점착제층을 실현할 수 있다.
제3 점착제층의 손실 정접 tanδ의 피크 톱 값(즉, 유리 전이 온도에 있어서의 tanδ)은, 바람직하게는 1.5 이상이고, 보다 바람직하게는 1.6 이상이고, 더욱 바람직하게는 1.7 이상이고, 특히 바람직하게는 1.75 이상이다. 한편, tanδ의 피크 톱 값의 상한은, 바람직하게는 3.0 이하이고, 보다 바람직하게는 2.5 이하이고, 더욱 바람직하게는 2.3 이하이다. tanδ의 피크 톱 값이 이러한 범위라면, 제3 점착제층이 적절한 변형 거동(점탄성 거동)을 나타내므로, 이형 가공부에 있어서 간극이 형성되기 어려워지고, 딜레이 버블이 억제될 수 있다.
제3 점착제층의 전체 광선 투과율은, 바람직하게는 85％ 이상이고, 보다 바람직하게는 90％ 이상이다. 제3 점착제층의 헤이즈값은, 바람직하게는 1.5％ 이하이고, 보다 바람직하게는 1.0％ 이하이다.
D-2. 광경화성 점착제
D-2-1. 광경화성 점착제의 특성
광경화성 점착제의 경화 전의 60℃에서의 저장 탄성률은, 상기한 바와 같이 1.0×105Pa 이하이고, 바람직하게는 1.0×103Pa 내지 1.0×105Pa이고, 보다 바람직하게는 5.0×103Pa 내지 8.0×104Pa이고, 더욱 바람직하게는 7.5×103Pa 내지 6.0×104Pa이다. 광경화성 점착제의 경화 전의 저장 탄성률이 이러한 범위라면, 광경화성 점착제가 적절한 변형 거동(점탄성 거동)을 나타내고, 이형 가공부의 구석구석까지 양호하게 유입할 수 있다. 결과로서, 이형 가공부에 있어서 간극이 형성되기 어려워져, 딜레이 버블이 억제될 수 있다. 광경화성 점착제의 경화 후의 60℃에서의 저장 탄성률은, 바람직하게는 5.0×103Pa 내지 5.0×105Pa이고, 보다 바람직하게는 7.5×103Pa 내지 4.0×105Pa이고, 더욱 바람직하게는 8.0×103Pa 내지 3.0×105Pa이다. 광경화성 점착제의 경화 후의 저장 탄성률이 이러한 범위라면, 제3 점착제의 겔 탄성이 낮아지고, 잔류 응력이 작아진다. 결과로서, 딜레이 버블이 억제될 수 있다.
광경화성 점착제의 경화 전의 겔 분율은, 바람직하게는 0％ 내지 60％이고, 보다 바람직하게는 0％ 내지 55％이고, 더욱 바람직하게는 0％ 내지 50％이다. 광경화성 점착제의 경화 전의 겔 분율이 이러한 범위라면, 상기 원하는 저장 탄성률의 실현이 용이하다. 따라서, 광경화성 점착제가 적절한 변형 거동(점탄성 거동)을 나타내고, 이형 가공부의 구석구석까지 양호하게 유입할 수 있다. 결과로서, 이형 가공부에 있어서 간극이 형성되기 어려워져, 딜레이 버블이 억제될 수 있다. 광경화성 점착제의 경화 후의 겔 분율은, 바람직하게는 50％ 내지 95％이고, 보다 바람직하게는 55％ 내지 93％이고, 더욱 바람직하게는 60％ 내지 90％이다. 광경화성 점착제의 경화 후의 겔 분율이 이러한 범위라면, 커버 유리와 제1 편광판과 화상 표시 셀을 견고하게 고착시킬 수 있다. 결과로서, 딜레이 버블이 억제될 수 있다. 겔 분율은, 아세트산에틸 등의 용매에 대한 불용분으로서 구할 수 있다. 구체적으로는, 겔 분율은, 점착제층을 구성하는 점착제를 아세트산에틸 중에 23℃에서 7일간 침지한 후의 불용 성분의, 침지 전의 시료에 대한 중량 분율(단위: 중량％)로서 구해진다. 겔 분율은, 점착제의 베이스 폴리머를 구성하는 모노머 성분의 종류, 조합 및 배합량, 그리고, 가교제의 종류 및 배합량 등을 적절하게 설정함으로써 조정될 수 있다.
D-2-2. 광경화성 점착제의 구성 재료
광경화성 점착제로서는, 상기와 같은 특성을 갖는 한에 있어서, 임의의 적절한 광경화성 점착제(본 항에 있어서는, 단순히 점착제 조성물이라고 칭하는 경우가 있음)를 사용할 수 있다. 점착제 조성물의 베이스 폴리머로서는, 예를 들어 (메트)아크릴계 폴리머, 실리콘계 폴리머, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리아미드, 폴리비닐에테르, 아세트산비닐/염화비닐 코폴리머, 변성 폴리올레핀, 에폭시계 폴리머, 불소계 폴리머, 천연 고무, 합성 고무 등의 고무계 폴리머를 들 수 있다. 바람직하게는, (메트)아크릴계 폴리머를 베이스 폴리머로서 포함하는 (메트)아크릴계 점착제 조성물이다. 광학적 투명성이 우수하고, 적당한 습윤성, 응집성 및 접착성 등의 점착 특성을 나타내고, 내후성 및 내열성 등도 우수하기 때문이다. 또한, 본 명세서에 있어서 「(메트)아크릴」이란, 아크릴 및/또는 메타크릴을 의미한다.
(메트)아크릴계 베이스 폴리머(이하, 단순히 베이스 폴리머라고 칭하는 경우가 있음)는, 바람직하게는 가교 구조를 갖는다.
D-2-2-1. (메트)아크릴계 베이스 폴리머
(메트)아크릴계 베이스 폴리머는, 주된 모노머 성분으로서 알킬(메트)아크릴레이트를 함유한다. 알킬(메트)아크릴레이트로서는, 알킬기의 탄소수가 1 내지 20인 알킬(메트)아크릴레이트가 적합하게 사용된다. 알킬(메트)아크릴레이트는, 알킬기가 분지를 갖고 있어도 되고, 환상 알킬기를 갖고 있어도 된다. (메트)아크릴계 베이스 폴리머를 구성하는 모노머 성분 전량에 대한 알킬(메트)아크릴레이트의 양은, 바람직하게는 40중량％ 이상이고, 보다 바람직하게는 50중량％ 이상이고, 더욱 바람직하게는 60중량％ 이상이다. 폴리머쇄의 유리 전이 온도(Tg)를 적절한 범위로 하는 관점에서, (메트)아크릴계 베이스 폴리머를 구성하는 모노머 성분 전량에 대한 탄소수 4 내지 10의 쇄상 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트의 양은, 바람직하게는 30중량％ 이상이고, 보다 바람직하게는 40중량％ 이상이고, 더욱 바람직하게는 45중량％ 이상이다.
(메트)아크릴계 베이스 폴리머는, 바람직하게는 가교 가능한 관능기를 갖는 모노머 성분을 포함한다. 이와 같은 구성이라면, 점착제의 겔 분율을 원하는 범위로 조정할 수 있다. 가교 가능한 관능기를 갖는 모노머 성분으로서는, 예를 들어 수산기 함유 모노머, 카르복시기 함유 모노머를 들 수 있다. 이소시아네이트 가교제에 의해 가교 구조가 도입되는 경우에는 수산기가 이소시아네이트기와의 반응점이 되고, 에폭시계 가교제에 의해 가교 구조가 도입되는 경우에는, 카르복시기가 에폭시기와의 반응점이 된다. 바람직하게는, 가교 가능한 관능기를 갖는 모노머 성분으로서 수산기 함유 모노머를 사용하여, 이소시아네이트계 가교제에 의해 가교 구조가 도입될 수 있다. 이와 같은 구성이라면, 베이스 폴리머의 가교성이 높아짐과 함께, 투명성이 높은 제3 점착제층이 얻어질 수 있다. 또한, 이와 같은 구성이면, 소위 산 프리의 점착제를 실현할 수 있다.
(메트)아크릴계 베이스 폴리머를 구성하는 모노머 성분 전량에 대한 수산기 함유 모노머의 양은, 바람직하게는 5중량％ 내지 30중량％이고, 보다 바람직하게는 8중량％ 내지 25중량％이고, 더욱 바람직하게는 10중량％ 내지 20중량％이다. 수산기 함유 모노머의 양이 이러한 범위라면, 적은 가교제량으로 가교도(겔 분율)를 높일 수 있고, 결과적으로, 경화 전의 광경화성 점착제의 이형 가공부 충전성 및 조작성을 높일 수 있다. 또한, 가교 후에 미반응된 수산기가 분자 간 수소 결합을 형성할 수 있으므로, 겔 분율이 작아도 원하는 저장 탄성률을 실현할 수 있다.
제3 점착제층이 예를 들어 터치 패널 센서와 접촉할 수 있는 경우, 산 성분에 의한 전극의 부식을 방지하기 위해서, 제3 점착제층은 산의 함유량이 작은 것이 바람직하다. 이 경우, (메트)아크릴계 베이스 폴리머를 구성하는 모노머 성분 전량에 대한 카르복시기 함유 모노머의 양은, 바람직하게는 0.5중량％ 이하이고, 보다 바람직하게는 0.1중량％ 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.05중량％ 이하이고, 이상적으로는 0(제로)이다. 이와 같은 구성이라면, 광경화성 점착제 중에 있어서의 산의 함유량을, 바람직하게는 100ppm 이하, 보다 바람직하게는 70ppm 이하, 더욱 바람직하게는 50ppm 이하로 할 수 있다.
(메트)아크릴계 베이스 폴리머는, 모노머 성분으로서, 질소 함유 모노머를 포함하고 있어도 된다. (메트)아크릴계 베이스 폴리머가, 모노머 성분으로서, 수산기 함유 모노머, 카르복시기 함유 모노머 및 질소 함유 모노머 등의 고극성 모노머를 적절하게 함유함으로써, 저장 탄성률, 접착 유지성 및 내충격성의 밸런스가 우수한 제3 점착제층을 형성할 수 있다. (메트)아크릴계 베이스 폴리머를 구성하는 모노머 성분 전량에 대한 고극성 모노머양(수산기 함유 모노머, 카르복시기 함유 모노머 및 질소 함유 모노머의 합계)은, 바람직하게는 10중량％ 내지 45중량％이고, 보다 바람직하게는 15중량％ 내지 40중량％이고, 더욱 바람직하게는 18중량％ 내지 35중량％이다. 특히, 수산기 함유 모노머와 질소 함유 모노머의 합계가 상기 범위 내인 것이 바람직하다. (메트)아크릴계 베이스 폴리머를 구성하는 모노머 성분 전량에 대한 질소 함유 모노머의 양은, 바람직하게는 3중량％ 내지 25중량％이고, 보다 바람직하게는 5중량％ 내지 20중량％이고, 더욱 바람직하게는 7중량％ 내지 15중량％이다.
(메트)아크릴계 폴리머는, 목적에 따라서 임의의 적절한 모노머 성분을 더 포함하고 있어도 된다. 그러한 모노머 성분의 구체예로서는, 산 무수물기 함유 모노머, (메트)아크릴산의 카프로락톤 부가물, 술폰산기 함유 모노머, 인산기 함유 모노머, 아세트산비닐, 프로피온산비닐, 스티렌, α-메틸스티렌 등의 비닐계 모노머; 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 시아노기 함유 아크릴계 모노머; (메트)아크릴산글리시딜 등의 에폭시기 함유 모노머; (메트)아크릴산폴리에틸렌글리콜, (메트)아크릴산폴리프로필렌글리콜, (메트)아크릴산메톡시에틸렌글리콜, (메트)아크릴산메톡시폴리프로필렌글리콜 등의 글리콜계 아크릴에스테르 모노머; (메트)아크릴산테트라히드로푸르푸릴, 불소(메트)아크릴레이트, 실리콘(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴산2-메톡시에틸 등의 아크릴산에스테르계 모노머를 들 수 있다.
(메트)아크릴계 베이스 폴리머는, 바람직하게는 모노머 성분으로서 알킬(메트)아크릴레이트를 가장 많이 포함하고, 보다 바람직하게는, 탄소수 6 이하의 쇄상 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트를 가장 많이 포함한다. 이와 같은 구성이라면, tanδ의 피크 톱 값이 커지고, 내충격성이 향상될 수 있다. (메트)아크릴계 베이스 폴리머를 구성하는 모노머 성분 전량에 대한 탄소수 6 이하의 쇄상 알킬기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트의 양은, 바람직하게는 30중량％ 내지 80중량％이고, 보다 바람직하게는 35중량％ 내지 75중량％이고, 더욱 바람직하게는 40중량％ 내지 70중량％이다. 특히, 모노머 성분으로서의 부틸아크릴레이트의 함유량이 상기 범위인 것이 바람직하다.
(메트)아크릴계 베이스 폴리머의 유리 전이 온도(Tg)는, 바람직하게는 -50℃ 이상이다. 한편, (메트)아크릴계 베이스 폴리머의 Tg는, 바람직하게는 -5℃ 이하이고, 보다 바람직하게는 -10℃ 이하이고, 더욱 바람직하게는 -15℃ 이하이다.
D-2-2-2. 가교 구조
(메트)아크릴계 베이스 폴리머에 가교 구조가 도입된 폴리머는, 예를 들어 (1) 가교제와 반응 가능한 관능기를 갖는 (메트)아크릴계 폴리머를 중합 후에, 가교제를 첨가하여, (메트)아크릴계 폴리머와 가교제를 반응시키는 방법; 및 (2) 폴리머의 중합 성분에 다관능 화합물을 포함함으로써, 폴리머쇄에 분지 구조(가교 구조)를 도입하는 방법 등에 의해 얻어진다. 이들을 병용해도 된다.
상기 (1)의 베이스 폴리머와 가교제를 반응시키는 방법에 있어서의 가교제의 구체예로서는, 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 아지리딘계 가교제, 카르보디이미드계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 베이스 폴리머의 수산기나 카르복시기와의 반응성이 높고, 가교 구조의 도입이 용이한 점에서, 이소시아네이트계 가교제 및 에폭시계 가교제가 바람직하다. 이들의 가교제는, 베이스 폴리머 중에 도입된 수산기나 카르복시기 등의 관능기와 반응하여 가교 구조를 형성한다. 상기한 바와 같이, 베이스 폴리머가 카르복시기를 포함하지 않는 산 프리의 점착제를 채용하는 경우에는, 베이스 폴리머 중의 수산기와 이소시아네이트계 가교제에 의해 가교 구조를 도입하는 것이 바람직하다.
가교제는, 베이스 폴리머 100중량부에 대하여, 바람직하게는 0.03중량부 내지 0.5중량부, 보다 바람직하게는 0.05중량부 내지 0.3중량부, 더욱 바람직하게는 0.06중량부 내지 0.25중량부, 특히 바람직하게는 0.07중량부 내지 0.2중량부의 비율로 사용될 수 있다. 가교제의 사용량을 이러한 범위로 함으로써, 겔 분율을 상기 원하는 범위로 할 수 있다.
D-2-2-3. 다관능 화합물
상기 (2)의 베이스 폴리머의 중합 성분에 다관능 화합물을 포함하는 방법에서는, (메트)아크릴계 베이스 폴리머를 구성하는 모노머 성분 및 가교 구조를 도입하기 위한 다관능 화합물의 전량을 한번에 반응시켜도 되고, 다단계로 중합을 행해도 된다. 다단계로 중합을 행하는 방법으로서는, (메트)아크릴계 베이스 폴리머를 구성하는 단관능 모노머를 중합(예비 중합)하여, 부분 중합물(프리폴리머 조성물)을 조제하고, 프리폴리머 조성물에 다관능 (메트)아크릴레이트 등의 다관능 화합물을 첨가하여, 프리폴리머 조성물과 다관능 모노머를 중합(본 중합)하는 방법이 바람직하다. 프리폴리머 조성물은, 저중합도의 중합물과 미반응된 모노머를 포함하는 부분 중합물이다.
(메트)아크릴계 베이스 폴리머의 구성 성분의 예비 중합을 행함으로써, 다관능 화합물에 의한 분지점(가교점)을, (메트)아크릴계 베이스 폴리머에 균일하게 도입할 수 있다. 또한, 저분자량의 폴리머 또는 부분 중합물과 미중합의 모노머 성분의 혼합물(점착제 조성물)을 기재 상에 도포한 후, 기재 상에서 본 중합을 행하여, 점착제층을 형성할 수도 있다. 프리폴리머 조성물 등의 저중합 조성물은 저점도에서 도포성이 우수하기 때문에, 프리폴리머 조성물과 다관능 화합물의 혼합물인 점착제 조성물을 도포 후에 기재 상에서 본 중합을 행하는 방법에 의하면, 점착제층의 생산성을 향상할 수 있음과 함께, 점착제층의 두께를 균일하게 할 수 있다.
가교 구조의 도입에 사용하는 다관능 화합물로서는, 불포화 이중 결합을 갖는 중합성의 관능기(에틸렌성 불포화기)를, 1분자 중에 2개 이상 함유하는 화합물을 들 수 있다. 다관능 화합물은, 대표적으로는 광중합성 다관능 화합물이다. 다관능 화합물로서는, (메트)아크릴계 폴리머의 모노머 성분과의 공중합이 용이한 점에서, 다관능 (메트)아크릴레이트가 바람직하다. 활성 에너지선 중합(광중합)에 의해 분지(가교) 구조를 도입하는 경우에는, 다관능 (메트)아크릴레이트가 바람직하다.
다관능 화합물의 분자량은, 바람직하게는 1500 이하이고, 보다 바람직하게는 1000 이하이다. 분자량의 하한은, 예를 들어 500일 수 있다. 다관능 화합물의 관능기 당량(g/eq)은, 바람직하게는 50 내지 500이고, 보다 바람직하게는 70 내지 300이고, 더욱 바람직하게는 80 내지 200이다. 이와 같은 구성이라면, 광경화성 점착제의 점탄성을 적절하게 조정할 수 있다.
다관능 화합물은, 베이스 폴리머 100중량부에 대하여, 바람직하게는 1중량부 내지 6중량부, 보다 바람직하게는 2중량부 내지 5중량부, 더욱 바람직하게는 2.5중량부 내지 4중량부의 비율로 사용될 수 있다. 사용량이 너무 적으면, 광경화성 점착제(결과로서, 제3 점착제층)의 접착 유지성이 불충분해지는 경우가 있다. 사용량이 너무 많으면, 형성되는 제3 점착제층이 과도하게 딱딱해져, 내충격성이 불충분해지는 경우가 있다. 또한, 광경화성 점착제의 가공성 및/또는 가공 치수 안정성이 불충분해지는 경우가 있다.
하나의 실시 형태에 있어서는, 다관능 화합물은, 바람직하게는 1분자 중에 광중합성 관능기를 3개 이상 함유하는 화합물일 수 있고, 보다 바람직하게는, 1분자 중에 광중합성 관능기를 3개 이상 함유하는 (메트)아크릴레이트일 수 있다. 3관능 이상의 광중합성 화합물을 사용함으로써, 광경화성 점착제(결과로서, 제3 점착제층)의 접착 유지성을 더 높일 수 있다. 2관능의 광중합성 화합물과 3관능 이상의 광중합성 화합물을 병용해도 된다. 3관능 이상의 광중합성 화합물은, 베이스 폴리머 100중량부에 대하여, 바람직하게는 0.5중량부 내지 5중량부, 보다 바람직하게는 1중량부 내지 4.5중량부, 더욱 바람직하게는 2중량부 내지 4중량부의 비율로 사용될 수 있다.
D-2-2-4. 점착제 조성물
점착제 조성물(광경화성 점착제)은, 상기의 베이스 폴리머, 가교제 및 다관능 화합물에 추가하여, 광중합 개시제, 올리고머, 실란 커플링제 및 목적에 따른 임의의 적절한 첨가제를 포함할 수 있다.
광중합 개시제로서는, 예를 들어 벤조인에테르계 광중합 개시제, 아세토페논계 광중합 개시제, α-케톨계 광중합 개시제, 방향족 술포닐클로라이드계 광중합 개시제, 광활성 옥심계 광중합 개시제, 벤조인계 광중합 개시제, 벤질계 광중합 개시제, 벤조페논계 광중합 개시제, 케탈계 광중합 개시제, 티오크산톤계 광중합 개시제, 아실포스핀옥사이드계 광중합 개시제를 들 수 있다. 광중합 개시제는, 단독으로 사용해도 되고 2종 이상을 병용해도 된다. 점착제 조성물에 있어서의 광중합 개시제의 함유량은, 베이스 폴리머 100중량부에 대하여, 바람직하게는 0.01중량부 내지 5중량부이고, 보다 바람직하게는 0.05중량부 내지 3중량부이다.
올리고머로서는, 임의의 적절한 올리고머가 사용될 수 있다. 올리고머를 사용함으로써, 광경화성 점착제의 점탄성(따라서, 이형 가공부 충전성, 작업성) 및 접착력을 조정할 수 있다. 올리고머는, 바람직하게는 (메트)아크릴계 올리고머이다. (메트)아크릴계 올리고머는 베이스 폴리머와의 상용성이 우수할 수 있다.
올리고머의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 1000 내지 30000 정도이고, 보다 바람직하게는 1500 내지 10000이고, 더욱 바람직하게는 2000 내지 8000이다. 올리고머의 중량 평균 분자량이 이러한 범위라면, 우수한 접착력 및 접착 유지성을 실현할 수 있다.
올리고머의 Tg는, 바람직하게는 20℃ 이상이고, 보다 바람직하게는 50℃ 이상이고, 더욱 바람직하게는 80℃ 이상이고, 특히 바람직하게는 100℃ 이상이다. 한편, 올리고머의 Tg는, 바람직하게는 200℃ 이하이고, 보다 바람직하게는 180℃ 이하이고, 더욱 바람직하게는 160℃ 이하이다. 올리고머의 Tg가 이러한 범위라면, 우수한 접착력을 갖는 제3 점착제층이 형성될 수 있다.
점착제 조성물에 있어서의 올리고머의 함유량은, 베이스 폴리머 100중량부에 대하여, 바람직하게는 0.1중량부 내지 10중량부이고, 보다 바람직하게는 0.2중량부 내지 5중량부이다. 올리고머의 함유량이 이러한 범위라면, 광경화성 점착제의 가공성 및 가공 치수 안정성을 양호하게 유지하면서, 우수한 접착력을 갖는 제3 점착제층을 형성할 수 있다.
실란 커플링제로서는, 임의의 적절한 실란 커플링제가 사용될 수 있다. 실란 커플링제를 사용함으로써, 광경화성 점착제의 접착력을 조정할 수 있다. 점착제 조성물에 있어서의 실란 커플링제의 함유량은, 베이스 폴리머 100중량부에 대하여, 바람직하게는 0.01중량부 내지 5중량부이고, 보다 바람직하게는 0.03중량부 내지 2중량부이다.
첨가제에 대해서는, 제1 및 제2 점착제층에 대하여 상기 C항에서 설명한 대로이다.
하나의 실시 형태에 있어서는, 점착제 조성물(광경화성 점착제)은, 제3 점착제층의 두께에 대응하는 두께를 갖고, 양면에 이형 필름이 가착된 점착제 시트로서 제공될 수 있다.
점착제 조성물(광경화성 점착제)의 더욱 상세한 사항에 대해서는, 본 출원인에 의한 일본 특허 출원 제2018-218422호에 기재되어 있다. 당해 출원의 기재는 본 명세서에 참고로서 원용된다.
D-3. 비경화성 점착제
비경화성 점착제로서는, 상기와 같은 특성을 갖는 한에 있어서 임의의 적절한 비경화성 점착제를 사용할 수 있다. 모노머 성분의 종류, 조합 및 배합량 등, 그리고, 가교제, 실란 커플링제 및 첨가제의 종류, 수, 조합, 배합량 등을 적절하게 조정함으로써, 상기 원하는 저장 탄성률을 갖는 비경화성 점착제(결과로서, 제3 점착제층)가 얻어질 수 있다. 비경화성 점착제로서는, 예를 들어 제1 및 제2 점착제층에 대하여 상기 C항에 기재한 점착제, 본 출원인에 의한 일본 특허 출원 제2019-196942에 기재된 점착제, 일본 특허 공개 제2016-94569호 공보에 기재된 점착제를 들 수 있다. 당해 출원 및 공보의 기재는 본 명세서에 참고로서 원용된다.
E. 광학 부재의 세트
상기 D항에 기재된 대로, 제3 점착제층을 구성하는 점착제(점착제 조성물)는 점착제 시트로서 제공될 수 있다. 화상 표시 장치의 제작에 있어서는, 당해 점착제 시트는, 제1 편광판(시인측 편광판)과 함께 광학 부재의 세트로서 제공될 수 있다. 따라서, 이러한 광학 부재의 세트도 또한, 본 발명의 실시 형태에 포함된다. 하나의 실시 형태에 있어서는, 광학 부재의 세트는, 제2 편광판(배면측 편광판)을 더 포함하고 있어도 된다. 즉, 화상 표시 장치의 제작에 있어서, 점착제 시트, 제1 편광판(시인측 편광판) 및 제2 편광판(배면측 편광판)이, 광학 부재의 세트로서 제공될 수 있다.
실시예
이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되지는 않는다. 실시예에 있어서의 각 특성의 측정 방법은 이하와 같다.
(1) 두께
10㎛ 이하의 두께는, 간섭 막 두께 측정기(오츠카 덴시사제, 제품명 「MCPD-3000」)를 사용하여 측정하였다. 10㎛를 초과하는 두께는, 디지털 마이크로미터(안리쓰사제, 제품명 「KC-351C」)를 사용하여 측정하였다.
(2) 겔 분율
제3 점착제층을 구성하는 점착제를 가교시켜, 아세트산에틸 중에 23℃에서 7일간 침지한 후의 불용 성분의, 침지 전의 시료에 대한 중량 분율(단위: 중량％)로서 구하였다.
(3) 저장 탄성률
제3 점착제층을 구성하는 점착제에 대해서, 레오메트릭사제의 동적 점탄성 측정 장치 「ARES」를 사용하여 JIS K 7244에 기초하여 60℃에서의 저장 탄성률을 측정하였다.
(4) 가열 치수 수축률
실시예 및 비교예에서 사용한 제1 편광판(시인측 편광판)을 10cm×10cm의 사이즈로 잘라내어 측정 시료로 하였다. 이 측정 시료를 85℃에서 24시간 가열하고, 하기 식으로부터 편광자의 흡수축 방향의 가열 치수 수축률을 구하였다.
가열 치수 수축률(％)={(가열 후의 치수)/(가열 전의 치수)-1}×100
(5) 점착제 공극부의 크기
실시예 및 비교예에서 사용한 제1 편광판(시인측 편광판)의 이형 가공부에 있어서의 제1 점착제층의 단면 상태를 광학 현미경으로 관찰하고, 외연으로부터 면 방향 내측으로의 점착제층의 결락이 최대로 되어 있는 부분의 길이를 측정하고, 점착제 공극부의 크기 L(㎛)로 하였다.
(6) 기포
실시예 및 비교예에서 얻어진 화상 표시 장치 대응품에 대해서, 진공 라미네이트 후에 오토클레이브 처리(50℃/0.5MPa/15min)를 하고, UV 큐어(조도 150mW/㎠로, 3000mJ의 조사량)를 한 시점에서 기포의 상태를 눈으로 보아 또는 광학 현미경에 의해 관찰하였다(진공 라미네이트 후). 그 후, 또한 샘플을 가열 시험(85℃, 24h)에 투입하고, 취출한 시점에서 기포의 상태를 눈으로 보아 또는 광학 현미경에 의해 관찰하고(가열 시험 후), 이하의 기준으로 평가하였다.
5: 진공 라미네이트 후 및 가열 시험 후의 모두 기포 없음
4: 진공 라미네이트 후는 기포 없음, 가열 시험 후는 일부 기포 있음
3: 진공 라미네이트 후는 기포 없음, 가열 시험 후는 다수 기포 있음
2: 진공 라미네이트 후 및 가열 시험 후의 모두 일부 기포 있음
1: 진공 라미네이트 후 및 가열 시험 후의 모두 다수 기포 있음
<제조예 1: 제1 점착제층을 구성하는 점착제의 조제>
교반 블레이드, 온도계, 질소 가스 도입관, 냉각기를 구비한 4구 플라스크에, 부틸아크릴레이트(BA) 99부 및 4-히드록시부틸아크릴레이트(4HBA) 1부를 함유하는 모노머 혼합물을 투입하였다. 또한, 모노머 혼합물(고형분) 100부에 대하여, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.1부를 아세트산에틸 100중량부와 함께 투입하고, 완만하게 교반하면서 질소 가스를 도입하여 질소 치환한 후, 플라스크 내의 액온을 55℃ 부근으로 유지하여 8시간 중합 반응을 행하고, 아크릴계 폴리머의 용액을 조제하였다. 얻어진 아크릴계 폴리머 용액의 고형분 100부에 대하여 가교제로서의 벤조일퍼옥사이드(상품명: 나이퍼 BMT 40SV, 니혼 유시(주)제) 0.3부, 이소시아네이트계 가교제(상품명: 타케네이트 D110N, 미쓰이 가가쿠(주)제) 0.2부, 리워크 향상제(상품명: 사이릴 SAT10, 가네카사제) 0.03부, 대전 방지제(상품명: LiTFSi30EA, 미쓰비시 마테리얼사제) 7부, 산화 방지제(상품명: Irganox 1010, 힌더드 페놀계, BASF 재팬사제) 0.3부 및 실란 커플링제(상품명: A-100, 소껜 가가꾸사제, 아세토아세틸기 함유 실란 커플링제) 0.2부를 배합하여, 점착제 조성물 a를 얻었다.
<제조예 2: 제3 점착제층을 구성하는 광경화성 점착제의 조제>
부틸아크릴레이트(BA) 65부, 시클로헥실아크릴레이트(CHA) 5부, N-비닐-2-피롤리돈(NVP) 10부, 4-히드록시부틸아크릴레이트(4HBA) 15부 및 이소스테아릴아크릴레이트(ISTA) 5부를 함유하는 모노머 혼합물을 투입하였다. 또한, 모노머 혼합물(고형분) 100부에 대하여, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.2부 및 연쇄 이동제로서 α-티오글리세롤(TGR) 0.065부를 아세트산에틸 233중량부와 함께 투입하고, 23℃의 질소 분위기 하에서 1시간 교반하여, 질소 치환을 행하였다. 그 후, 56℃에서 5시간 반응시키고, 계속하여 70℃에서 3시간 반응시켜서, 아크릴계 베이스 폴리머의 용액을 조제하였다. 상기에서 얻어진 아크릴계 베이스 폴리머의 용액에, 베이스 폴리머 100부에 대하여, 하기의 후첨가 성분을 첨가하고, 균일 혼합하여, 광경화성 점착제 b를 조제하였다. 광경화성 점착제 b의 경화 전의 60℃에서의 저장 탄성률은 4.7×104Pa이고, 경화 후의 60℃에서의 저장 탄성률은 1.0×105Pa였다. 또한, 경화 전의 겔 분율은 40％이고, 경화 후의 겔 분율은 80％였다.
(후첨가 성분)
다관능 화합물(광경화제)로서의 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트: 2부
다관능 화합물(광경화제)로서의 폴리프로필렌글리콜디아크릴레이트(상품명: APG400, 신나까무라 가가꾸 고교사제, 폴리프로필렌글리콜 #400(n=7) 디아크릴레이트, 관능기 당량 268g/eq): 3부
광중합 개시제(상품명: Irgacure 184」, BASF사제): 0.2부
(점착제 시트의 제작)
표면에 실리콘계 이형층이 마련된 두께 75㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(미쓰비시 케미컬사제 「다이어포일 MRF75」)에 광경화성 점착제 b를 도포하고, 100℃에서 3분간 가열하여 용매를 제거한 후, 표면에 상기와 같은 이형 PET 필름을 접합하였다. 이와 같이 하여 얻어진 적층체를 25℃에서 3일간 에이징하여, 양면에 이형 필름이 가착된 점착제 시트 I를 얻었다.
<제조예 3: 제3 점착제층을 구성하는 광경화성 점착제의 조제>
에틸헥실아크릴레이트(EHA) 90부, 아크릴아미드 5부 및 히드록시에틸아크릴레이트(HEA) 5부를 함유하는 모노머 혼합물을 사용한 것 이외에는 제조예 2와 마찬가지로 하여, 아크릴계 베이스 폴리머의 용액을 조제하였다. 상기에서 얻어진 아크릴계 베이스 폴리머의 용액에, 베이스 폴리머 100부에 대하여, 하기의 후첨가 성분을 첨가하고, 균일 혼합하여, 광경화성 점착제 c를 조제하였다. 광경화성 점착제 c의 경화 전의 60℃에서의 저장 탄성률은 1.9×104Pa이고, 경화 후의 60℃에서의 저장 탄성률은 4.5×104Pa였다. 또한, 경화 전의 겔 분율은 0％이고, 경화 후의 겔 분율은 75％였다. 이하의 수순은 제조예 2와 마찬가지로 하여, 양면에 이형 필름이 가착된 점착제 시트 II를 얻었다.
다관능 화합물(광경화제)로서의 트리메틸올프로판트리아크릴레이트: 1부
광중합 개시제(상품명: Irgacure 184」, BASF사제): 0.2부
<실시예 1>
1. 제1 편광자의 제작
열가소성 수지 기재로서, 긴 형상으로, Tg 약 75℃인, 비정질의 이소프탈 공중합 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(두께: 100㎛)을 사용하였다. 수지 기재의 편면에, 코로나 처리를 실시하였다.
폴리비닐알코올(중합도 4200, 비누화도 99.2몰％) 및 아세트아세틸 변성 PVA(닛본 고세 가가꾸 고교사제, 상품명 「고세파이머 Z410」)를 9:1로 혼합한 PVA계 수지 100중량부에, 요오드화칼륨 13중량부를 첨가하고, PVA 수용액(도포액)을 조제하였다.
수지 기재의 코로나 처리면에, 상기 PVA 수용액을 도포하여 60℃에서 건조함으로써, 두께 13㎛의 PVA계 수지층을 형성하고, 적층체를 제작하였다.
얻어진 적층체를, 130℃의 오븐 내에서 주속이 다른 롤 간에서 세로 방향(긴 변 방향)으로 2.4배로 자유단 일축 연신하였다(공중 보조 연신 처리).
이어서, 적층체를, 액온 40℃의 불용화 욕(물 100중량부에 대하여, 붕산을 4중량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(불용화 처리).
이어서, 액온 30℃의 염색 욕(물 100중량부에 대하여, 요오드와 요오드화칼륨을 1:7의 중량비로 배합하여 얻어진 요오드 수용액)에, 최종적으로 얻어지는 편광자의 단체 투과율(Ts)이 43％가 되도록 농도를 조정하면서 60초간 침지시켰다(염색 처리).
이어서, 액온 40℃의 가교욕(물 100중량부에 대하여, 요오드화칼륨을 3중량부 배합하고, 붕산을 5중량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(가교 처리).
그 후, 적층체를, 액온 70℃의 붕산 수용액(붕산 농도 4.0중량％, 요오드화칼륨 5.0중량％)에 침지시키면서, 주속이 다른 롤 간에서 세로 방향(긴 변 방향)으로 총 연신 배율이 5.5배가 되도록 일축 연신을 행하였다(수중 연신 처리).
그 후, 적층체를 액온 20℃의 세정 욕(물 100중량부에 대하여, 요오드화칼륨을 4중량부 배합하여 얻어진 수용액)에 침지시켰다(세정 처리).
그 후, 90℃로 유지된 오븐 내에서 건조하면서, 표면 온도가 75℃로 유지된 SUS제의 가열 롤에 약 2초 접촉시켰다(건조 수축 처리). 건조 수축 처리에 의한 적층체의 폭 방향의 수축률은 2％였다.
이와 같이 하여, 수지 기재 상에 두께 5.0㎛의 제1 편광자를 형성하였다.
2. 제1 편광판의 제작
상기에서 얻어진 수지 기재/제1 편광자의 적층체의 편광자 표면에, 자외선 경화형 접착제를 개재하여 HC-TAC 필름을 접합하였다. 또한, HC-TAC 필름은, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름(두께 25㎛)에 하드 코팅(HC)층(두께 7㎛)이 형성된 필름이고, TAC 필름이 편광자측이 되도록 하여 접합하였다. 이어서, 수지 기재를 박리하고, 박리면에 제조예 1에서 얻어진 점착제 조성물 a를 사용하여 제1 점착제층(두께 20㎛)을 형성하고, 외측 보호층(HC-TAC 필름)/제1 편광자/제1 점착제층의 구성을 갖는 편광판을 얻었다. 이 편광판을 세로 148mm 및 가로 70mm의 사이즈로 펀칭하고, 또한, 구석부에 직경 3.9mm의 관통 구멍을 형성하였다. 이때, 편광자의 흡수축 방향이 짧은 변 방향이 되도록 펀칭하였다. 이와 같이 하여, 제1 편광판(시인측 편광판) A를 얻었다. 제1 편광판의 가열 치수 수축률은 -0.20％, 점착제 공극부의 크기 L은 50㎛였다. 또한, 85℃에서의 상기 점착제층의 탄성률은 5.7×104Pa였다.
3. 화상 표시 장치 대응품의 제작
유리판(화상 표시 셀에 대응)의 한쪽 면에, 상기 2.에서 얻어진 제1 편광판(시인측 편광판) A를, 제1 점착제층을 개재하여 접합하였다. 이어서, 제조예 2에서 얻어진 점착제 시트 I의 한쪽의 이형 필름을 박리하고, 커버 유리(마쯔나미 가라스사제, 두께 0.8mm)에 롤 라미네이터로 접합하였다. 이어서, 점착제 시트 I의 다른 한쪽의 이형 필름을 박리하고, 제1 편광판 A의 표면과 진공 라미네이터를 사용하여, 밀착시킴과 함께 점착제 시트로 관통 구멍을 충전하였다. 진공 라미네이트의 조건은 이하와 같았다: 0.2MPa, 60℃(대기 시간 90초)에서의 가온 압착, 이어서 100Pa로 10초간의 진공 라미네이트. 또한, 커버 유리측에서 메탈 할라이드 램프(300mW/㎠)로 적산 광량 3000mJ/㎠의 자외선을 조사하여, 광경화성 점착제를 경화시켰다. 그 후 오토클레이브 처리(50℃/0.5MPa/15min)를 행하였다. 또한, 제2 편광판(배면측 편광판)으로서 시판하고 있는 점착제층 구비 편광판을, 유리판의 다른 한쪽 면에 통상적인 방법에 의해 접합하였다. 이와 같이 하여, 화상 표시 장치 대응품을 제작하였다. 얻어진 화상 표시 장치 대응품을 상기 (6)의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타내었다.
<실시예 2>
제1 편광판의 점착제 공극부의 크기 L을 100㎛로 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 화상 표시 장치 대응품을 제작하였다. 얻어진 화상 표시 장치 대응품을 실시예 1과 마찬가지의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타내었다.
<실시예 3>
제1 점착제층의 두께를 15㎛로 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 화상 표시 장치 대응품을 제작하였다. 얻어진 화상 표시 장치 대응품을 실시예 1과 마찬가지의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타내었다.
<실시예 4>
제1 편광판의 점착제 공극부의 크기 L을 100㎛로 한 것 이외에는 실시예 3과 마찬가지로 하여 화상 표시 장치 대응품을 제작하였다. 얻어진 화상 표시 장치 대응품을 실시예 1과 마찬가지의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타내었다.
<실시예 5>
제1 점착제층의 두께를 5㎛로 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 화상 표시 장치 대응품을 제작하였다. 얻어진 화상 표시 장치 대응품을 실시예 1과 마찬가지의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타내었다.
<실시예 6>
제1 편광판의 점착제 공극부의 크기 L을 100㎛로 한 것 이외에는 실시예 5와 마찬가지로 하여 화상 표시 장치 대응품을 제작하였다. 얻어진 화상 표시 장치 대응품을 실시예 1과 마찬가지의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타내었다.
<실시예 7 내지 12>
제3 점착제층으로서 제조예 3의 점착제 시트 II를 사용한 것 이외에는 실시예 1 내지 6과 마찬가지로 하여 화상 표시 장치 대응품을 제작하였다. 얻어진 화상 표시 장치 대응품을 실시예 1과 마찬가지의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타내었다.
<실시예 13>
제1 편광자로서, 긴 형상의 폴리비닐알코올(PVA)계 수지 필름에 요오드를 함유시키고, 긴 변 방향(MD 방향)으로 일축 연신하여 얻어진 필름(두께 12㎛)을 사용하였다. 이 편광자의 양측에 외측 보호층이 되는 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름(두께 25㎛) 및 내측 보호층이 되는 아크릴 수지 필름(두께 20㎛)을 각각 접합하고, 내측 보호층의 표면에 제조예 1에서 얻어진 점착제 조성물 a를 사용하여 제1 점착제층(두께 20㎛)을 형성하고, 외측 보호층(TAC 필름)/제1 편광자/내측 보호층(COP 필름)/제1 점착제층의 구성을 갖는 편광판을 얻었다. 이 편광판을 실시예 1과 마찬가지로 하여 펀칭 및 관통 구멍을 형성하였다. 이와 같이 하여, 제1 편광판(시인측 편광판) B를 얻었다. 이 제1 편광판을 60℃에서 12시간의 가열 수축 처리에 제공하였다. 가열 수축 처리 후의 제1 편광판의 가열 치수 수축률은 -0.50％, 점착제 공극부의 크기 L은 50㎛였다.
<실시예 14 내지 16>
점착제 공극부의 크기 L 및 제3 점착제의 구성을 표 1에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 13과 마찬가지로 하여 화상 표시 장치 대응품을 제작하였다. 얻어진 화상 표시 장치 대응품을 실시예 1과 마찬가지의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타내었다.
<실시예 17>
제1 편광자로서, 실시예 13과 마찬가지의 PVA계 수지 필름(두께 18㎛)을 사용하였다. 이 편광자의 양측에 외측 보호층이 되는 아크릴계 수지 필름(두께 40㎛) 및 내측 보호층이 되는 아크릴계 수지 필름(두께 40㎛)을 각각 접합하고, 내측 보호층의 표면에 제조예 1에서 얻어진 점착제 조성물 a를 사용하여 제1 점착제층(두께 20㎛)을 형성하고, 외측 보호층(아크릴계 수지 필름)/제1 편광자/내측 보호층(아크릴계 수지 필름)/제1 점착제층의 구성을 갖는 편광판을 얻었다. 이 편광판을 실시예 1과 마찬가지로 하여 펀칭 및 관통 구멍을 형성하였다. 이와 같이 하여, 제1 편광판(시인측 편광판) C를 얻었다. 이 제1 편광판을 60℃에서 12시간의 가열 수축 처리에 제공하였다. 가열 수축 처리 후의 제1 편광판의 가열 치수 수축률은 -0.60％, 점착제 공극부의 크기 L은 50㎛였다.
<실시예 18 내지 20>
점착제 공극부의 크기 L 및 제3 점착제의 구성을 표 1에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 17과 마찬가지로 하여 화상 표시 장치 대응품을 제작하였다. 얻어진 화상 표시 장치 대응품을 실시예 1과 마찬가지의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타내었다.
<실시예 21>
제1 편광자로서, 실시예 13과 마찬가지인 PVA계 수지 필름(두께 12㎛)을 사용하였다. 해당 편광자의 표면에, 자외선 경화형 접착제를 개재하여 HC-TAC 필름(두께 32㎛)을 접합하였다. 또한, 내측 보호층이 되는 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름(두께 25㎛)을 접합하였다. 이어서, 내측 보호층의 표면에 λ/2 위상차층인 액정 화합물의 배향 고화층(두께 2.5㎛, 면 내 위상차 Re(550) 240nm) 및 λ/4 위상차층인 액정 화합물의 배향 고화층(두께 1.5㎛, 면 내 위상차 Re(550) 120nm)을 이 순으로 전사하였다. 제1 편광자의 흡수축과 λ/2 위상차층의 지상축이 이루는 각도가 15°, 제1 편광자의 흡수축과 λ/4 위상차층의 지상축이 이루는 각도가 75°가 되도록 하여 전사를 행하였다. 각각의 전사는, 접착제를 개재하여 행하였다. 또한, λ/4 위상차층의 표면에 제조예 1에서 얻어진 점착제 조성물 a를 사용하여 제1 점착제층(두께 20㎛)을 형성하고, 외측 보호층(HC-TAC 필름)/제1 편광자/내측 보호층(TAC 필름)/접착층/λ/2 위상차층/접착층/λ/4 위상차층/제1 점착제층의 구성을 갖는 편광판을 얻었다. 이 편광판을 실시예 1과 마찬가지로 하여 펀칭 및 관통 구멍을 형성하였다. 이와 같이 하여, 제1 편광판(시인측 편광판) D를 얻었다. 이 제1 편광판을 60℃에서 12시간의 가열 수축 처리에 제공하였다. 가열 수축 처리 후의 제1 편광판의 가열 치수 수축률은 -0.50％, 점착제 공극부의 크기 L은 50㎛였다. 얻어진 제1 편광판을 사용하여, 제2 편광판(배면측 편광판)으로서 시판하고 있는 점착제층 구비 편광판을, 유리판의 다른 한쪽 면에 접합하지 않은 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 화상 표시 장치 대응품을 제작하였다. 얻어진 화상 표시 장치 대응품을 실시예 1과 마찬가지의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타내었다.
<실시예 22>
내측 보호층이 되는 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름의 두께를 40㎛로 한 것 이외에는, 실시예 21과 마찬가지로 하여 화상 표시 장치 대응품을 제작하였다. 얻어진 화상 표시 장치 대응품을 실시예 21과 마찬가지의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타내었다.
<실시예 23 내지 26>
제1 점착제층으로서, 제조예 1에서 얻어지는 점착제를 사용하였다. 제1 편광판에 가열 수축 처리를 실시하지 않은 것, 점착제 공극부의 크기 L 및 제3 점착제의 구성을 표 1에 나타내는 것과 같이 변경한 것 이외에는 실시예 13과 마찬가지로 하여 화상 표시 장치 대응품을 제작하였다. 85℃에서의 상기 제1 점착제층의 탄성률은 1.1×105Pa였다. 얻어진 화상 표시 장치 대응품을 실시예 1과 마찬가지의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타내었다.
<비교예 1>
제1 편광자로서, 긴 형상의 폴리비닐알코올(PVA)계 수지 필름에 요오드를 함유시키고, 긴 변 방향(MD 방향)으로 일축 연신하여 얻어진 필름(두께 22㎛)을 사용하였다. 이 편광자의 양측에 외측 보호층이 되는 TAC 필름(두께 60㎛) 및 내측 보호층이 되는 아크릴계 수지 필름(두께 40㎛)을 각각 접합하고, 내측 보호층의 표면에 제조예 1에서 얻어진 점착제 조성물 a를 사용하여 제1 점착제층(두께 20㎛)을 형성하고, 외측 보호층(TAC 필름)/제1 편광자/내측 보호층(아크릴계 수지 필름)/제1 점착제층의 구성을 갖는 편광판을 얻었다. 이 편광판을 실시예 1과 마찬가지로 하여 펀칭 및 관통 구멍을 형성하였다. 이와 같이 하여, 제1 편광판(시인측 편광판) E를 얻었다. 이 제1 편광판을 60℃에서 12시간의 가열 수축 처리에 제공하였다. 가열 수축 처리 후의 제1 편광판의 가열 치수 수축률은 -0.90％, 점착제 공극부의 크기 L은 50㎛였다. 또한, 85℃에서의 상기 점착제층의 탄성률은 5.7×104Pa였다.
<비교예 2 내지 4>
점착제 공극부의 크기 L 및 제3 점착제의 구성을 표 1에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외에는 비교예 1과 마찬가지로 하여 화상 표시 장치 대응품을 제작하였다. 얻어진 화상 표시 장치 대응품을 실시예 1과 마찬가지의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타내었다.
<비교예 5>
제1 편광판에 가열 수축 처리를 실시하지 않은 것 이외에는 실시예 13과 마찬가지로 하여 화상 표시 장치 대응품을 제작하였다. 얻어진 화상 표시 장치 대응품을 실시예 1과 마찬가지의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타내었다.
<비교예 6 내지 8>
점착제 공극부의 크기 L 및 제3 점착제의 구성을 표 1에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외에는 비교예 5와 마찬가지로 하여 화상 표시 장치 대응품을 제작하였다. 얻어진 화상 표시 장치 대응품을 실시예 1과 마찬가지의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타내었다.
<비교예 9>
제1 편광판에 가열 수축 처리를 실시하지 않은 것 이외에는 실시예 17과 마찬가지로 하여 화상 표시 장치 대응품을 제작하였다. 얻어진 화상 표시 장치 대응품을 실시예 1과 마찬가지의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타내었다.
<비교예 10 내지 12>
점착제 공극부의 크기 L 및 제3 점착제의 구성을 표 1에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외에는 비교예 9와 마찬가지로 하여 화상 표시 장치 대응품을 제작하였다. 얻어진 화상 표시 장치 대응품을 실시예 1과 마찬가지의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타내었다.
<비교예 13>
제1 편광판에 가열 수축 처리를 실시하지 않은 것 이외에는 비교예 1과 마찬가지로 하여 화상 표시 장치 대응품을 제작하였다. 얻어진 화상 표시 장치 대응품을 실시예 1과 마찬가지의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타내었다.
<비교예 14 내지 16>
점착제 공극부의 크기 L 및 제3 점착제의 구성을 표 1에 나타내는 바와 같이 변경한 것 이외에는 비교예 13과 마찬가지로 하여 화상 표시 장치 대응품을 제작하였다. 얻어진 화상 표시 장치 대응품을 실시예 1과 마찬가지의 평가에 제공하였다. 결과를 표 1에 나타내었다.
Figure pct00001
<평가>
표 1로부터 명백한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 의하면, 이형 가공부가 점착제로 충전되어 있는 화상 표시 장치에 있어서, 이형 가공부를 충전하는 점착제를 광경화성 점착제로 하고, 그리고, 시인측 편광판의 편광자의 흡수축 방향의 가열 치수 수축률의 절댓값을 소정값 이하로 제어함으로써, 기포를 현저하게 억제할 수 있다. 또한, 85℃에서의 제1 점착제층의 탄성률을 소정의 범위로 함으로써, 제1 편광판의 치수 수축을 억제할 수 있다.
본 발명의 화상 표시 장치는, 자동차의 인스트루먼트 패널, 스마트폰, 태블릿형 PC 또는 스마트 워치로 대표되는 이형 가공부를 갖는 화상 표시 장치로서 적합하게 사용될 수 있다.
10: 제1 편광판
11: 제1 편광자
12: 외측 보호층
13: 내측 보호층
14: 제1 점착제층
15: 이형 가공부
20: 제2 편광판
21: 제2 편광자
22: 외측 보호층
23: 내측 보호층
24: 제2 점착제층
25: 이형 가공부
30: 제3 점착제층
40: 커버 유리
100: 화상 표시 셀
200: 화상 표시 장치

Claims (23)

  1. 화상 표시 셀과; 제1 편광자 및 제1 점착제층을 포함하고, 해당 화상 표시 셀의 시인측에 해당 제1 점착제층을 개재하여 적층된 제1 편광판과; 제2 편광자 및 제2 점착제층을 포함하고, 해당 화상 표시 셀의 배면측에 해당 제2 점착제층을 개재하여 적층된 제2 편광판과; 해당 제1 편광판의 시인측에 배치된 제3 점착제층;을 갖고,
    해당 제1 편광판 및 해당 제2 편광판이, 서로가 대응하는 위치에 이형 가공부를 갖고, 해당 제1 편광판의 이형 가공부가 제3 점착제층을 구성하는 점착제로 충전되어 있고,
    해당 제3 점착제층을 해당 제1 편광판에 적층할 때의, 해당 제3 점착제층을 구성하는 점착제의 60℃에서의 저장 탄성률이 1.0×105Pa 이하이고,
    해당 제1 편광판을 85℃에서 24시간 가열 처리했을 때의 흡수축 방향의 치수 수축률의 절댓값이 0.7％ 이하인,
    화상 표시 장치.
  2. 화상 표시 셀과; 제1 편광자 및 제1 점착제층을 포함하고, 해당 화상 표시 셀의 시인측에 해당 제1 점착제층을 개재하여 적층된 제1 편광판과; 해당 제1 편광판의 시인측에 배치된 제3 점착제층;을 갖고,
    해당 제1 편광판이 이형 가공부를 갖고, 해당 제1 편광판의 이형 가공부가 제3 점착제층을 구성하는 점착제로 충전되어 있고,
    해당 제3 점착제층을 해당 제1 편광판에 적층할 때의, 해당 제3 점착제층을 구성하는 점착제의 60℃에서의 저장 탄성률이 1.0×105Pa 이하이고,
    해당 제1 편광판을 85℃에서 24시간 가열 처리했을 때의 흡수축 방향의 치수 수축률의 절댓값이 0.7％ 이하인,
    화상 표시 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제3 점착제층을 구성하는 점착제가 광경화성 점착제이고,
    해당 광경화성 점착제의 경화 전의 60℃에서의 저장 탄성률이 1.0×103Pa 내지 1.0×105Pa이고, 해당 광경화성 점착제의 경화 후의 60℃에서의 저장 탄성률이 5.0×103Pa 내지 5.0×105Pa이고,
    해당 제3 점착제층의 두께가 50㎛ 내지 500㎛인,
    화상 표시 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 광경화성 점착제의 경화 전의 겔 분율이 0％ 내지 60％이고, 경화 후의 겔 분율이 50％ 내지 95％인, 화상 표시 장치.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제3 점착제층을 구성하는 점착제가 비경화성 점착제이고, 해당 제3 점착제층을 해당 제1 편광판에 적층할 때의 60℃에서의 저장 탄성률이 1.0×103Pa 내지 8.0×104Pa이고,
    해당 제3 점착제층의 두께가 50㎛ 내지 1000㎛인,
    화상 표시 장치.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 점착제층의 85℃에서의 탄성률이 5.0×104Pa 이상인, 화상 표시 장치.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 편광자의 두께가 10㎛ 미만인, 화상 표시 장치.
  8. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 편광자의 두께가 10㎛ 내지 20㎛이고, 상기 제1 편광판의 두께가 100㎛ 이하이고, 해당 제1 편광판이 가열 수축 처리되어 있는, 화상 표시 장치.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 편광판의 이형 가공부가, 상기 제1 점착제층의 단부면이 해당 제1 편광판의 단부면보다도 면 방향 내측에 위치하여 형성된 점착제 공극부를 갖고, 해당 점착제 공극부의 크기가 300㎛ 이하인, 화상 표시 장치.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 점착제층과 상기 제3 점착제층의 접착력이 2N/25mm 이상인, 화상 표시 장치.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 이형 가공부가, 관통 구멍 또는 평면으로 보았을 경우에 오목부가 되는 절삭 가공부를 포함하는, 화상 표시 장치.
  12. 제11항에 있어서, 상기 오목부가 V자 노치 또는 U자 노치인, 화상 표시 장치.
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제3 점착제층의 시인측에 커버 유리를 더 갖는, 화상 표시 장치.
  14. 제1항 또는 제3항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 편광판 및 상기 제2 편광판의 이형 가공부에 대응하는 위치에 카메라부를 갖는, 화상 표시 장치.
  15. 제2항에 있어서, 상기 제1 편광판의 이형 가공부에 대응하는 위치에 카메라부를 갖는, 화상 표시 장치.
  16. 제1항 또는 제3항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 액정 표시 장치인, 화상 표시 장치.
  17. 제2항에 있어서, 유기 EL 표시 장치인, 화상 표시 장치.
  18. 제1 편광자 및 제1 점착제층을 포함하고, 이형 가공부를 갖고, 85℃에서 24시간 가열 처리했을 때의 흡수축 방향의 치수 수축률의 절댓값이 0.7％ 이하이고, 화상 표시 셀의 시인측에 배치되는 제1 편광판과;
    기재와 해당 기재 상에 마련된 제3 점착제층을 갖고, 해당 제3 점착제층을 해당 제1 편광판에 적층할 때의, 해당 제3 점착제층을 구성하는 점착제의 60℃에서의 저장 탄성률이 1.0×105Pa 이하이고, 해당 제3 점착제층을 구성하는 점착제가 해당 제1 편광판의 이형 가공부를 충전하는, 점착제 시트;
    를 포함하는, 광학 부재의 세트.
  19. 제18항에 있어서, 상기 제3 점착제층을 구성하는 점착제가 광경화성 점착제이고,
    해당 광경화성 점착제의 경화 전의 60℃에서의 저장 탄성률이 1.0×103Pa 내지 1.0×105Pa이고, 해당 광경화성 점착제의 경화 후의 60℃에서의 저장 탄성률이 5.0×103Pa 내지 5.0×105Pa이고,
    해당 제3 점착제층의 두께가 50㎛ 내지 500㎛인,
    광학 부재의 세트.
  20. 제19항에 있어서, 상기 광경화성 점착제의 경화 전의 겔 분율이 0％ 내지 60％이고, 경화 후의 겔 분율이 50％ 내지 95％인, 광학 부재의 세트.
  21. 제18항에 있어서, 상기 제3 점착제층을 구성하는 점착제가 비경화성 점착제이고, 해당 제3 점착제층을 해당 제1 편광판에 적층할 때의 60℃에서의 저장 탄성률이 1.0×103Pa 내지 8.0×104Pa이고,
    해당 제3 점착제층의 두께가 50㎛ 내지 1000㎛인,
    광학 부재의 세트.
  22. 제18항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 편광판의 이형 가공부가, 상기 제1 점착제층의 단부면이 해당 제1 편광판의 단부면보다도 면 방향 내측에 위치하여 형성된 점착제 공극부를 갖고, 해당 점착제 공극부의 크기가 300㎛ 이하인, 광학 부재의 세트.
  23. 제18항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서, 제2 편광자를 포함하고, 이형 가공부를 갖고, 화상 표시 셀의 배면측에 배치되는 제2 편광판을 더 포함하고, 상기 제1 편광판 및 해당 제2 편광판이, 서로가 대응하는 위치에 이형 가공부를 갖는, 광학 부재의 세트.
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