KR20220105663A - 오스테나이트계 스테인리스 강재 및 내식성 부재 - Google Patents

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아키노리 가와노
가즈나리 모리타
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닛테츠 스테인레스 가부시키가이샤
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Abstract

질량 기준으로, C:0.001~0.100%, Si:5.00% 이하, Mn:2.50% 이하, P:0.050% 이하, S:0.0300% 이하, Ni:6.00~26.00%, Cr:14.00~26.00%, Mo:8.00% 이하, Cu:4.00% 이하, N:0.350% 이하, Al:3.500% 이하를 포함하고, 잔부가 Fe 및 불순물로 이루어지는 조성을 갖는, 내식성이 뛰어난 오스테나이트계 스테인리스 강재이다. 이 오스테나이트계 스테인리스 강재는, 표면의 산술 평균 거칠기 Ra가 0.10~3.00μm 및 60도 경면 광택 Gs(60°)가 10~100%이다.

Description

오스테나이트계 스테인리스 강재 및 내식성 부재
본 발명은, 오스테나이트계 스테인리스 강재 및 내식성 부재에 관한 것이다.
스테인리스 강재는, 내식성 등의 각종 특성이 뛰어나기 때문에, 자동차용 부품, 건축용 부품, 주방용 기구 등의 광범위한 용도에 이용되고 있다.
스테인리스 강재는, 형상에 따라, 강판, 조강, 강대, 봉강, 강관 등으로 분류된다. 일반적인 스테인리스 강재인 스테인리스 강판은, 다음과 같은 공정에 의해 제조된다. 스테인리스강의 원료를 용해한 용선(鎔銑)을 연속 주조하여 슬라브로 하고, 슬라브를 열간 압연함으로써 열연 강판(후판재)이 얻어진다. 또, 필요에 따라, 열연 강판을 냉간 압연함으로써 냉연 강판(박판재)이 얻어진다. 이와 같은 스테인리스 강재의 제조에 있어서, 스테인리스 강재의 표면에는 산화 스케일이 형성되기 때문에, 산세에 의해 산화 스케일을 제거하는 것이 행해진다. 이하, 스테인리스 강재의 표면에 형성된 산화 스케일을 제거하는 것을 「디스케일」이라고 칭한다.
그러나, 산세 만에 의해서는 산화 스케일을 충분히 제거할 수 없는 경우가 있다. 특히, 열간 압연은, 가열 온도가 높고 또한 가열 시간이 길기 때문에, 스테인리스 강재의 표면에 형성된 산화 스케일은, 두껍고 안정적인 산화물로 구성되어 있어, 제거하기 어렵다. 또, 스테인리스 강재 중에서도 오스테나이트계 스테인리스 강재는, Ni를 많이 함유하기 때문에 내산성이 뛰어나다. 그 때문에, 오스테나이트계 스테인리스 강재는, 다른 스테인리스 강재에 비해, 표면에 형성된 산화 스케일을 산세에 의해 제거하기 어렵다.
그래서, 일반적인 디스케일 공정에서는, 스케일 브레이커나 쇼트 블라스트 등에 의한 기계적인 전처리를 행하여 산화 스케일에 크랙을 넣은 후에, 산세함으로써 산화 스케일을 제거하기 쉽게 하는 방법이 행해지고 있다(예를 들면, 특허 문헌 1 및 2).
일본 특허공개 2014-172077호 공보 일본 특허공개 평2-145785호 공보
그러나, 상기의 디스케일 공정에서는, 기계적인 전처리에서 형성되는 표면의 요철과 산세에 의한 표면의 거침에 의해, 스테인리스 강재의 표면이 희어지고 광택을 잃어 버려, 의장성이 저하되어 버린다. 또, Si나 Al의 함유량이 많은 스테인리스 강재의 경우, 산화 스케일과 스테인리스 강재의 계면에 형성되는 SiO2나 Al2O3을 포함하는 내부 산화층이 화학적으로 안정되기 때문에, 산화 스케일을 제거하는 것이 보다 한층 어려워진다.
한편, 스테인리스 강재의 의장성을 확보하기 위해 상기의 디스케일 공정 후에 표면을 연마하는 것도 생각되지만, 표면을 평활하게 될 때까지 연마하면, 연삭량이 많아져 수율이 저하됨과 함께, 연마선에 연삭유(냉각유)나 연마 부스러기가 잔존하여 내식성이 저하되는 경우가 있다.
본 발명은, 상기와 같은 문제를 해결하기 위해 이루어진 것이며, 평활하고 광택이 있는 표면을 갖고, 내식성이 뛰어난 오스테나이트계 스테인리스 강재, 및 이것을 이용한 내식성 부재를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은, 상기와 같은 문제를 해결할 수 있도록 예의 연구를 행한 결과, 오스테나이트계 스테인리스 강재의 조성을 제어함과 함께, 레이저를 이용한 디스케일 공정 및 그 후의 산세에 의한 디스케일 공정을 채용함으로써, 내식성을 저하시키는 일 없이, 표면의 평활성 및 광택성을 향상시킬 수 있다는 지견을 얻었다. 이 지견에 의거하여 다양한 오스테나이트계 스테인리스 강재를 제작하고 검토를 행한 결과, 소정의 조성을 갖고, 또한 표면의 산술 평균 거칠기 Ra 및 60도 경면 광택 Gs(60°)가 소정의 범위에 있는 오스테나이트계 스테인리스 강재가 상기의 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명은, 질량 기준으로, C:0.001~0.100%, Si:5.00% 이하, Mn:2.50% 이하, P:0.050% 이하, S:0.0300% 이하, Ni:6.00~26.00%, Cr:14.00~26.00%, Mo:8.00% 이하, Cu:4.00% 이하, N:0.350% 이하, Al:3.500% 이하를 포함하고, 잔부가 Fe 및 불순물로 이루어지는 조성을 갖고,
표면의 산술 평균 거칠기 Ra가 0.10~3.00μm 및 60도 경면 광택 Gs(60°)가 10~100%인, 내식성이 뛰어난 오스테나이트계 스테인리스 강재이다.
또, 본 발명은, 상기의 오스테나이트계 스테인리스 강재를 포함하는 내식성 부재이다.
본 발명에 의하면, 평활하고 광택이 있는 표면을 갖고, 내식성이 뛰어난 오스테나이트계 스테인리스 강재, 및 이것을 이용한 내식성 부재를 제공할 수 있다.
도 1은 레이저 디스케일 공정 및 산세 디스케일 공정을 실시하여 제조된 스테인리스 강판의 표면의 SEM 사진이다.
도 2는 쇼트 블라스트 처리에 의한 전처리를 행한 후에 산세 디스케일 공정을 행하여 제조된 스테인리스 강판의 표면의 레이저 현미경 사진이다.
도 3은 쇼트 블라스트 처리에 의한 전처리를 행한 후에 산세 디스케일 공정을 행하고, 다음에 벨트 연마를 행하여 제조된 스테인리스 강판의 표면의 레이저 현미경 사진이다.
이하, 본 발명의 실시 형태에 대해서 구체적으로 설명한다. 본 발명은 이하의 실시 형태에 한정되는 것이 아니라, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서, 당업자의 통상의 지식에 의거하여, 이하의 실시 형태에 대해 변경, 개량 등이 적절히 가해진 것도 본 발명의 범위에 들어가는 것이 이해되어야 한다.
또한, 본 명세서에 있어서 성분에 관한 「%」 표시는, 특별히 언급하지 않는 한 「질량%」를 의미한다.
본 발명의 실시 형태에 따른 오스테나이트계 스테인리스 강재는, C:0.001~0.100%, Si:5.00% 이하, Mn:2.50% 이하, P:0.050% 이하, S:0.0300% 이하, Ni:6.00~26.00%, Cr:14.00~26.00%, Mo:8.00% 이하, Cu:4.00% 이하, N:0.350% 이하, Al:3.500% 이하를 포함하고, 잔부가 Fe 및 불순물로 이루어지는 조성을 갖는다.
여기서, 본 명세서에 있어서 「스테인리스 강재」란, 스테인리스강으로부터 형성된 재료를 의미하고, 그 재형은 특별히 한정되지 않는다. 재형의 예로서는, 판형상(띠형상을 포함한다), 막대형상, 관형상 등을 들 수 있다. 또, 단면 형상이 T형, I형 등의 각종 형강이어도 된다. 또, 「불순물」이란, 스테인리스 강재를 공업적으로 제조할 때에, 광석, 스크랩 등의 원료, 제조 공정의 다양한 요인에 의해 혼입되는 성분이며, 본 발명에 악영향을 주지 않는 범위에서 허용되는 것을 의미한다. 예를 들면, 스테인리스 강재는, 불순물로서 O를 0.02% 이하 함유해도 된다. 또, REM(희토류 원소)를 합계로 0.1% 이하 함유해도 된다.
또, 본 발명의 실시 형태에 따른 오스테나이트계 스테인리스 강재는, Ti:0.001~0.500%, Nb:0.001~1.000%, V:0.001~1.000%, W:0.001~1.000%, Zr:0.001~1.000%, Co:0.001~1.200%로부터 선택되는 1종 이상을 추가로 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시 형태에 따른 오스테나이트계 스테인리스 강재는, Ca:0.0001~0.0100%, B:0.0001~0.0080%, Sn:0.001~0.500%로부터 선택되는 1종 이상을 추가로 포함할 수 있다.
이하, 각 성분에 대해서 상세하게 설명한다.
<C:0.001~0.100%>
C의 함유량은 너무 많으면, 경질이 되어 가공성이 낮아지는 것에 더하여, 용접 등의 열영향을 받았을 때에 예민화가 생겨, 오스테나이트계 스테인리스 강재의 내식성이 저하되어 버린다. 그 때문에, C의 함유량의 상한값은, 0.100%로 제어된다. 특히, Si 및 Al의 함유량이 적은(Si+2Al이 1.20% 미만이다) 오스테나이트계 스테인리스 강재의 경우, C의 함유량의 상한값은, 바람직하게는 0.060%, 보다 바람직하게는 0.040%, 더 바람직하게는 0.020%이다. 또, Si 및 Al의 함유량이 많은(Si+2Al이 1.20% 이상이다) 오스테나이트계 스테인리스 강재의 경우, C의 함유량의 상한값은, 바람직하게는 0.080%, 보다 바람직하게는 0.060%, 더 바람직하게는 0.030%이다. 한편, C의 함유량은 너무 적으면, 오스테나이트상의 안정도가 낮아지는 것에 의한 가공성의 열화나 정련 비용의 상승으로 연결된다. 그 때문에, C의 함유량의 하한값은, 0.001%, 바람직하게는 0.002%, 보다 바람직하게는 0.005%, 더 바람직하게는 0.010%로 제어된다.
<Si:5.00% 이하>
Si의 함유량은 너무 많으면, 경질화되어 오스테나이트계 스테인리스 강재의 가공성이 저하되어 버린다. 그 때문에, Si의 함유량의 상한값은, 5.00%로 제어된다.
특히, Si 및 Al의 함유량이 적은(Si+2Al이 1.20% 미만이다) 오스테나이트계 스테인리스 강재의 경우, Si의 함유량의 상한값은, 바람직하게는 1.00%, 보다 바람직하게는 0.80%, 더 바람직하게는 0.70%, 가장 바람직하게는 0.60%이다. 한편, Si의 함유량의 하한값은, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 0.01%, 보다 바람직하게는 0.05%, 더 바람직하게는 0.10%이다.
또, Si 및 Al의 함유량이 많은(Si+2Al이 1.20% 이상이다) 오스테나이트계 스테인리스 강재의 경우, Si의 함유량의 상한값은, 바람직하게는 4.00%, 보다 바람직하게는 3.80%, 더 바람직하게는 3.50%이다. 한편, Si의 함유량의 하한값은, 특별히 한정되지 않지만, 오스테나이트계 스테인리스 강재의 내열성을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 0.20%, 바람직하게는 1.00%, 보다 바람직하게는 1.50%, 더 바람직하게는 2.50%이다.
<Mn:2.50% 이하>
Mn은, 오스테나이트상(γ상) 생성 원소이다. Mn의 함유량은 너무 많으면, 오스테나이트계 스테인리스 강재의 내식성이 저하되어 버린다. 그 때문에, Mn의 함유량의 상한값은, 2.50%로 제어된다. 특히, Si 및 Al의 함유량이 적은(Si+2Al이 1.20% 미만이다) 오스테나이트계 스테인리스 강재의 경우, Mn의 함유량의 상한값은, 바람직하게는 2.00%, 보다 바람직하게는 1.50%, 더 바람직하게는 1.00%이다. 또, Si 및 Al의 함유량이 많은(Si+2Al이 1.20% 이상이다) 오스테나이트계 스테인리스 강재의 경우, Mn의 함유량의 상한값은, 바람직하게는 2.00%, 보다 바람직하게는 1.80%, 더 바람직하게는 1.60%이다. 한편, Mn의 함유량의 하한값은, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 0.01%, 보다 바람직하게는 0.05%, 더 바람직하게는 0.10%이다.
<P:0.050% 이하>
P의 함유량은 너무 많으면, 오스테나이트계 스테인리스 강재의 내식성이나 가공성이 저하되어 버린다. 그 때문에, P의 함유량의 상한값은, 0.050%, 바람직하게는 0.035%, 보다 바람직하게는 0.030%, 더 바람직하게는 0.020%로 제어된다. 한편, P의 함유량의 하한값은, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 0.001%, 보다 바람직하게는 0.002%, 더 바람직하게는 0.003%, 또 더 바람직하게는 0.005%, 가장 바람직하게는 0.010%이다.
<S:0.0300% 이하>
S의 함유량은 너무 많으면, 열간 가공성이 낮아져 오스테나이트계 스테인리스 강재의 제조성이 저하되어 버린다. 그 때문에, S의 함유량의 상한값은, 0.0300%, 바람직하게는 0.0100%, 보다 바람직하게는 0.0050%, 더 바람직하게는 0.0010%로 제어된다. 한편, S의 함유량의 하한값은, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 0.0001%, 보다 바람직하게는 0.0002%, 더 바람직하게는 0.0003%이다.
<Ni:6.00~26.00%>
Ni는, Mn과 마찬가지로 오스테나이트상(γ상) 생성 원소이다. Ni는 고가이기 때문에, 함유량이 너무 많으면, 제조 비용의 상승으로 연결된다. 그 때문에, Ni의 함유량의 상한값은, 26.00%로 제어된다. 한편, Ni의 함유량이 너무 적으면, 오스테나이트계 스테인리스 강재의 내식성이 저하되어 버린다. 그 때문에, Ni의 함유량의 하한값은, 6.00%로 제어된다.
특히, Si 및 Al의 함유량이 적은(Si+2Al이 1.20% 미만이다) 오스테나이트계 스테인리스 강재의 경우, Ni의 함유량의 상한값은, 바람직하게는 25.50%이다. 한편, Ni의 함유량의 하한값은, 바람직하게는 10.00%, 보다 바람직하게는 12.00%, 더 바람직하게는 18.00%이다.
또, Si 및 Al의 함유량이 많은(Si+2Al이 1.20% 이상이다) 오스테나이트계 스테인리스 강재의 경우, Ni의 함유량의 상한값은, 바람직하게는 18.00%, 보다 바람직하게는 16.00%, 더 바람직하게는 14.00%이다. 한편, Ni의 함유량의 하한값은, 바람직하게는 6.50%, 보다 바람직하게는 7.00%, 더 바람직하게는 8.00%이다.
<Cr:14.00~26.00%>
Cr의 함유량은 너무 많으면, 정련 비용의 상승을 초래할 뿐만 아니라, 고용강화에 의해 경질화되어, 오스테나이트계 스테인리스 강재의 가공성이 저하되어 버린다. 그 때문에, Cr의 함유량의 상한값은, 26.00%로 제어된다. 한편, Cr의 함유량은 너무 적으면, 내식성을 충분히 얻어지지 않는다. 그 때문에, Cr의 함유량의 하한값은, 14.00%로 제어된다.
특히, Si 및 Al의 함유량이 적은(Si+2Al이 1.20% 미만이다) 오스테나이트계 스테인리스 강재의 경우, Cr의 함유량의 상한값은, 바람직하게는 24.00%, 보다 바람직하게는 22.00%, 더 바람직하게는 20.50%이다. 한편, Cr의 함유량의 하한값은, 바람직하게는 15.00%, 보다 바람직하게는 16.00%, 더 바람직하게는 17.00%, 가장 바람직하게는 18.00%이다.
또, Si 및 Al의 함유량이 많은(Si+2Al이 1.20% 이상이다) 오스테나이트계 스테인리스 강재의 경우, Cr의 함유량의 상한값은, 바람직하게는 25.00%, 보다 바람직하게는 22.00%, 더 바람직하게는 21.00%, 가장 바람직하게는 20.00%이다. 한편, Cr의 함유량의 하한값은, 바람직하게는 15.00%, 보다 바람직하게는 16.00%, 더 바람직하게는 17.00%이다.
<Mo:8.00% 이하>
Mo는, 오스테나이트계 스테인리스 강재의 내식성을 개선하는 원소이다. Mo는 고가이기 때문에, Mo의 함유량이 너무 많으면, 제조 비용의 상승으로 연결된다. 그 때문에, Mo의 함유량의 상한값은, 8.00%로 제어된다.
특히, Si 및 Al의 함유량이 적은(Si+2Al이 1.20% 미만이다) 오스테나이트계 스테인리스 강재의 경우, Mo의 함유량의 상한값은, 바람직하게는 7.50%, 보다 바람직하게는 7.00%, 더 바람직하게는 6.50%이다. 한편, Mo의 함유량의 하한값은, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 0.20%, 보다 바람직하게는 2.00%, 더 바람직하게는 6.00%이다.
또, Si 및 Al의 함유량이 많은(Si+2Al이 1.20% 이상이다) 오스테나이트계 스테인리스 강재의 경우, Mo의 함유량의 상한값은, 바람직하게는 3.00%, 보다 바람직하게는 2.50%, 더 바람직하게는 2.00%, 가장 바람직하게는 1.00%이다. 한편, Mo의 함유량의 하한값은, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 0.01%, 보다 바람직하게는 0.05%, 더 바람직하게는 0.10%이다.
<Cu:4.00% 이하>
Cu는, 오스테나이트계 스테인리스 강재의 가공성을 개선하는 원소이다. Cu의 함유량은 너무 많으면, 오스테나이트계 스테인리스 강재의 내식성이 저하되어 버림과 함께, 주조 시에 저융점상을 형성하여 열간 가공성의 저하를 초래한다. 그 때문에, Cu의 함유량의 상한값은, 4.00%로 제어된다.
특히, Si 및 Al의 함유량이 적은(Si+2Al이 1.20% 미만이다) 오스테나이트계 스테인리스 강재의 경우, Cu의 함유량의 상한값은, 바람직하게는 3.50%, 보다 바람직하게는 2.00%, 더 바람직하게는 1.00%이다. 한편, Cu의 함유량의 하한값은, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 0.20%, 보다 바람직하게는 0.40%이다.
또, Si 및 Al의 함유량이 많은(Si+2Al이 1.20% 이상이다) 오스테나이트계 스테인리스 강재의 경우, Cu의 함유량의 상한값은, 바람직하게는 3.00%, 보다 바람직하게는 2.00%, 더 바람직하게는 1.00%이다. 한편, Cu의 함유량의 하한값은, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 0.01%, 보다 바람직하게는 0.04%, 더 바람직하게는 0.20%이다.
<N:0.350% 이하>
N은 내식성을 개선하는 원소이다. N의 함유량은 너무 많으면, 경질화되어 오스테나이트계 스테인리스 강재의 가공성이 저하되어 버린다. 그 때문에, N의 함유량의 상한값은, 0.350%로 제어된다.
특히, Si 및 Al의 함유량이 적은(Si+2Al이 1.20% 미만이다) 오스테나이트계 스테인리스 강재의 경우, N의 함유량의 상한값은, 바람직하게는 0.300%, 보다 바람직하게는 0.250%, 더 바람직하게는 0.230%이다. 한편, N의 함유량의 하한값은, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 0.010%, 바람직하게는 0.020%이다.
또, Si 및 Al의 함유량이 많은(Si+2Al이 1.20% 이상이다) 오스테나이트계 스테인리스 강재의 경우, N의 함유량의 상한값은, 바람직하게는 0.200%, 보다 바람직하게는 0.150%, 더 바람직하게는 0.100%이다. 한편, N의 함유량의 하한값은, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 0.001%, 바람직하게는 0.005%, 보다 바람직하게는 0.010%이다.
<Al:3.500% 이하>
Al는, 정련 공정에 있어서 탈산을 위해 필요에 따라 첨가되어, 내식성 및 내열성을 개선하는 원소이다. Al의 함유량은 너무 많으면, 개재물의 생성량이 증가하여 품질을 저하시켜 버린다. 그 때문에, Al의 함유량의 상한값은, 3.500%로 제어된다.
특히, Si 및 Al의 함유량이 적은(Si+2Al이 1.20% 미만이다) 오스테나이트계 스테인리스 강재의 경우, Al의 함유량의 상한값은, 바람직하게는 0.400%, 보다 바람직하게는 0.100%, 더 바람직하게는 0.050%이다. 한편, Al의 함유량의 하한값은, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 0.001%, 보다 바람직하게는 0.005%이다.
또, Si 및 Al의 함유량이 많은(Si+2Al이 1.20% 이상이다) 오스테나이트계 스테인리스 강재의 경우, Al의 함유량의 상한값은, 바람직하게는 3.000%, 보다 바람직하게는 2.000%, 더 바람직하게는 1.500%이다. 한편, Al의 함유량의 하한값은, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 0.001%, 보다 바람직하게는 0.010%, 더 바람직하게는 0.100%이다.
본 발명의 실시 형태에 따른 오스테나이트계 스테인리스 강재는, Si 및 Al의 함유량이 적은 것을 대상으로 하는 경우, Si+2Al(각 원소 기호는, 각 원소의 함유량을 나타낸다)는, 1.20% 미만, 바람직하게는 1.10% 이하, 보다 바람직하게는 1.00% 이하, 더 바람직하게는 0.90% 이하이다. 또한, Si+2Al의 하한값은, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 0.01%, 보다 바람직하게는 0.05%, 더 바람직하게는 0.10%이다.
또, 본 발명의 실시 형태에 따른 오스테나이트계 스테인리스 강재는, Si 및 Al의 함유량이 많은 것을 대상으로 하는 경우, Si+2Al(각 원소 기호는, 각 원소의 함유량을 나타낸다)는, 1.20% 이상, 바람직하게는 1.30% 이상, 보다 바람직하게는 1.50% 이상, 더 바람직하게는 2.00% 이상이다. 또한, Si+2Al의 상한값은, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 10.00%, 보다 바람직하게는 8.00%, 더 바람직하게는 5.00%이다.
<Ti:0.001~0.500%>
Ti는, C나 N과 결합하여 내식성 및 내립계 부식성을 향상시키는 원소이며, 필요에 따라 첨가된다. Ti에 의한 효과를 얻는 관점에서, Ti의 함유량의 하한값은, 0.001%, 바람직하게는 0.005%로 제어된다. 한편, Ti의 함유량은 너무 많으면, 표면흠의 원인이 되어 품질 저하를 초래함과 함께, 오스테나이트계 스테인리스 강재의 가공성이 저하되어 버린다. 그 때문에, Ti의 함유량의 상한값은, 0.500%, 바람직하게는 0.300%, 보다 바람직하게는 0.100%로 제어된다.
<Nb:0.001~1.000%>
Nb는, Ti와 마찬가지로, C나 N과 결합하여 내식성 및 내립계 부식성을 향상시키는 원소이며, 필요에 따라 첨가된다. Nb에 의한 효과를 얻는 관점에서, Nb의 함유량의 하한값은, 0.001%, 바람직하게는 0.004%, 보다 바람직하게는 0.010%로 제어된다. 한편, Nb의 함유량은 너무 많으면, 오스테나이트계 스테인리스 강재의 가공성이 저하되어 버린다. 그 때문에, Nb의 함유량의 상한값은, 1.000%, 바람직하게는 0.600%, 보다 바람직하게는 0.060%로 제어된다.
<V:0.001~1.000%>
V는, 내식성을 향상시키는 원소이며, 필요에 따라 첨가된다. V에 의한 효과를 얻는 관점에서, V의 함유량의 하한값은, 0.001%, 바람직하게는 0.010%로 제어된다. 한편, V의 함유량은 너무 많으면, 오스테나이트계 스테인리스 강재의 가공성이 저하되어 버린다. 그 때문에, V의 함유량의 상한값은, 1.000%, 바람직하게는 0.200%로 제어된다.
<W:0.001~1.000%>
W는, 고온 강도 및 내식성을 향상시키는 원소이며, 필요에 따라 첨가된다. W에 의한 효과를 얻는 관점에서, W의 함유량의 하한값은, 0.001%, 바람직하게는 0.010%로 제어된다. 한편, W의 함유량은 너무 많으면, 경질화되어 가공성이 저하됨과 함께, 표면흠이 증가하여 오스테나이트계 스테인리스 강재의 표면 품질이 저하되어 버린다. 그 때문에, W의 함유량의 상한값은, 1.000%, 바람직하게는 0.300%로 제어된다.
<Zr:0.001~1.000%>
Zr은, C나 N과 결합하여 내산화성 및 내립계 부식성을 향상시키는 원소이며, 필요에 따라 첨가된다. Zr에 의한 효과를 얻는 관점에서, Zr의 함유량의 하한값은, 0.001%, 바람직하게는 0.010%로 제어된다. 한편, Zr의 함유량은 너무 많으면, 오스테나이트계 스테인리스 강재의 가공성이 저하되어 버린다. 그 때문에, Zr의 함유량의 상한값은, 1.000%, 바람직하게는 0.200%, 보다 바람직하게는 0.050%로 제어된다.
<Co:0.001~1.200%>
Co는, 내열성을 향상시키는 원소이며, 필요에 따라 첨가된다. Co에 의한 효과를 얻는 관점에서, Co의 함유량의 하한값은, 0.001%, 바람직하게는 0.010%로 제어된다. 한편, Co는 고가이기 때문에, Co의 함유량이 너무 많으면, 제조 비용의 상승으로 연결된다. 그 때문에, Co의 함유량의 상한값은, 1.200%, 바람직하게는 0.400%로 제어된다.
<Ca:0.0001~0.0100%>
Ca는, 황화물을 형성하여 S의 악영향을 저감하는 원소이며, 필요에 따라 첨가된다. Ca에 의한 효과를 얻는 관점에서, Ca의 함유량의 하한값은, 0.0001%, 바람직하게는 0.0003%로 제어된다. 한편, Ca의 함유량은 너무 많으면, 개재물의 생성량이 증가하여 품질을 저하시켜 버린다. 그 때문에, Ca의 함유량의 상한값은, 0.0100%, 바람직하게는 0.0050%로 제어된다.
<B:0.0001~0.0080%>
B는, 열간 가공성을 향상시키는 원소이며, 필요에 따라 첨가된다. B에 의한 효과를 얻는 관점에서, B의 함유량의 하한값은, 0.0001%, 바람직하게는 0.0003%, 보다 바람직하게는 0.0005%로 제어된다. 한편, B의 함유량은 너무 많으면, 오스테나이트계 스테인리스 강재의 내식성이 저하되어 버린다. 그 때문에, B의 함유량의 상한값은, 0.0080%, 바람직하게는 0.0040%, 보다 바람직하게는 0.0025%로 제어된다.
<Sn:0.001~0.500%>
Sn은, 내식성 및 고온 강도를 향상시키는 원소이며, 필요에 따라 첨가된다. Sn에 의한 효과를 얻는 관점에서, Sn의 함유량의 하한값은, 0.001%, 바람직하게는 0.002%로 제어된다. 한편, Sn의 함유량은 너무 많으면, 저융점상을 형성하여 오스테나이트계 스테인리스 강재의 열간 가공성이 저하되어 버린다. 그 때문에, Sn의 함유량의 상한값은, 0.500%, 바람직하게는 0.100%, 보다 바람직하게는 0.050%로 제어된다.
본 발명의 실시 형태에 따른 오스테나이트계 스테인리스 강재는, 표면의 산술 평균 거칠기 Ra가 0.10~3.00μm, 바람직하게는 0.50~2.00μm, 보다 바람직하게는 1.00~1.90μm이다. 이와 같은 범위에 표면의 산술 평균 거칠기 Ra를 제어함으로써, 오스테나이트계 스테인리스 강재의 평활성을 확보할 수 있다.
여기서, 본 명세서에 있어서 「산술 평균 거칠기 Ra」란, JIS B0601:2013에 준거하여 측정되는 산술 평균 거칠기 Ra를 의미한다.
본 발명의 실시 형태에 따른 오스테나이트계 스테인리스 강재는, 표면의 60도 경면 광택 Gs(60°)가 10~100%, 바람직하게는 13~70%, 보다 바람직하게는 15~65%이다. 이와 같은 범위에 표면의 60도 경면 광택 Gs(60°)를 제어함으로써, 오스테나이트계 스테인리스 강재의 광택성을 확보할 수 있다.
여기서, 본 명세서에 있어서 「60도 경면 광택 Gs(60°)」란, JIS Z8741:1997에 준거하여 측정되는 60도 경면 광택 Gs(60°)를 의미한다.
본 발명의 실시 형태에 따른 오스테나이트계 스테인리스 강재는, 내식성이 뛰어나다. 여기서, 본 명세서에 있어서 「내식성이 뛰어난다」란, 염 건습 반복 시험(CCT)에 있어서 염수 분무, 건조 및 습윤을 1사이클로 하여 10사이클 행했을 때에, 녹 발생 면적률이 1% 이하인 것을 의미한다.
본 발명의 실시 형태에 따른 오스테나이트계 스테인리스 강재는, 표면이, 이하의 (1) 및 (2)를 만족하는 것이 바람직하다.
(1) 제곱 평균 제곱근 경사 RΔq가 35° 이하, 바람직하게는 30° 이하, 보다 바람직하게는 25° 이하이다. 이와 같은 범위에 표면의 제곱 평균 제곱근 경사 RΔq를 제어함으로써, 오스테나이트계 스테인리스 강재의 광택을 향상시킬 수 있다. 또한, 제곱 평균 제곱근 경사 RΔq의 하한값은, 예를 들면 3°이다.
여기서, 본 명세서에 있어서 「제곱 평균 제곱근 경사 RΔq」란, JIS B0601:2013에 준거하여 측정되는 제곱 평균 제곱근 경사 RΔq를 의미한다.
(2) 크로마네틱스 지수 b*가 7.00 이하, 바람직하게는 6.00 이하, 보다 바람직하게는 5.00 이하이다. 크로마네틱스 지수 b*는, L*a*b* 색공간에 있어서의 청색에서 황색에 걸친 색감을 나타내는 크로마네틱스 지수이며, 연마나 전해 등으로 표면에 탄 자국(산화물)이 형성된 경우는 스테인리스 강재가 황색을 띤 색조가 되는 것이 알려져 있다. 크로마네틱스 지수 b*를 상기와 같은 범위로 제어함으로써, 부식의 기점이 되는 산화물이 존재하고 있지 않는 양호한 내식성을 갖는 오스테나이트계 스테인리스 강재를 얻을 수 있다. 또한, 크로마네틱스 지수 b*의 하한값은, 예를 들면 2.00이다.
여기서, 본 명세서에 있어서 「크로마네틱스 지수 b*」란, JIS Z8781-6:2017에 준거하여 측정되는 CIEDE2000 색차식에 이용하는 CIE-L*a*b* 색공간에 있어서의 크로마네틱스 지수 b*를 의미한다.
본 발명의 실시 형태에 따른 오스테나이트계 스테인리스 강재는, 표면이, 이하의 (3)을 더 만족해도 된다.
(3) 텍스처의 애스펙트비 Str이 0.50 이상, 바람직하게는 0.60 이상, 보다 바람직하게는 0.70 이상이다. 이와 같은 범위에 텍스처의 애스펙트비 Str을 제어함으로써, 주름 모양이 없는 양호한 외관을 갖는 오스테나이트계 스테인리스 강재를 얻을 수 있다. 또한, 텍스처의 애스펙트비 Str의 상한값은, 그 정의로부터 1이 되는데, 예를 들면 0.95 정도이다.
여기서, 본 명세서에 있어서 「텍스처의 애스펙트비 Str」란, JIS B0681-2:2018에 준거하여 측정되는 텍스처의 애스펙트비 Str을 의미한다.
본 발명의 실시 형태에 따른 오스테나이트계 스테인리스 강재의 두께(판두께)는, 특별히 한정되지 않지만, 3mm 이상인 것이 바람직하다.
본 발명의 실시 형태에 따른 오스테나이트계 스테인리스 강재는, 상기의 조성을 갖는 스테인리스강을 용제하여 이용함과 함께, 디스케일 공정으로서, 레이저를 이용한 디스케일(이하, 「레이저 디스케일」이라고 칭한다) 공정 및 산세에 의한 디스케일(이하, 「산세 디스케일」이라고 칭한다) 공정을 채용하는 것 이외에는, 당해 기술 분야에 있어서 공지의 방법을 이용함으로써 제조할 수 있다. 구체적으로는, 상기의 조성을 갖는 스테인리스강을 용제하고, 단조 또는 주조에 의해 강편을 제조한다. 그 후, 강편을 열간 압연하고, 다음에 레이저 디스케일 공정, 다음에 산세 디스케일 공정을 실시하면 된다. 또한, 레이저 디스케일 공정 전에는, 소둔을 적절히 실시해도 된다.
레이저 디스케일 공정은, 오스테나이트계 스테인리스 강재의 표면에 형성된 산화 스케일에 대해 레이저광을 조사함으로써, 산화 스케일을 증산시켜 제거하는 공정이다.
레이저 디스케일 공정의 각종 조건은, 사용하는 장치에 따라, 이하의 사항을 고려하여 조정하면 된다.
(레이저의 종류)
연속파 레이저이면 입열(入熱)이 너무 커서 모재(오스테나이트계 스테인리스 강재)의 용해가 일어나기 쉽기 때문에, 펄스 레이저가 바람직하다.
(파장)
일반적으로 물질의 광에 대한 반사율은 파장 의존성을 갖고, 반사율이 낮은 파장을 선택하면 입열이 커져, 증산이 생기기 쉬워진다. 그 때문에, 모재의 반사율이 높고, 산화물의 반사율이 낮은 파장을 선택함으로써 산화 스케일을 선택적으로 증산 제거할 수 있다.
(펄스 폭)
펄스 폭이 짧으면 레이저에 의한 입열이 주위에 전달되기 전에 어블레이션이 생기기 때문에, 어블레이션 역치가 작아진다. 단, 펄스 폭은 주로 발진기의 성능으로 결정되며, 짧은 펄스 폭으로 발진 가능한 장치는 고액이기 때문에, 레이저 디스케일 설비의 사양 범위 내에서, 짧은 펄스 폭을 선택하는 것이 바람직하다.
(발진 주파수)
펄스 폭이 짧을수록 발진 주파수가 높아지고, 발진 주파수가 높을수록 스캔했을 때의 펄스 간의 공극을 작게 할 수 있기 때문에, 레이저 디스케일 설비의 사양 범위 내에서, 높은 발진 주파수를 선택하는 것이 바람직하다.
(스캔 주파수)
스캔 주파수가 높을수록 라인의 처리 속도가 빨라지지만, 너무 높게 하면 펄스 간의 공극이 생겨, 디스케일률이 저하된다. 그 때문에, 디스케일률을 유지할 수 있는 범위에서 스캔 주파수를 높게 하는 것이 바람직하다.
(레이저의 빔 직경)
클수록 조사 범위, 즉 1회의 펄스로 디스케일할 수 있는 범위가 넓어져, 디스케일 효율이 좋아지지만, 펄스 1회의 에너지 밀도(플루엔스)가 낮아진다. 스케일을 증산 제거할 수 있는 플루엔스를 유지한 범위에서 빔 직경을 크게 하는 것이 바람직하다.
(플루엔스)
스케일을 구성하는 산화물의 어블레이션 역치를 넘는 플루엔스를 갖는 레이저광을 조사함으로써, 산화 스케일을 증산 제거할 수 있지만, 플루엔스를 너무 높게 하면 스케일 뿐만이 아니라 모재도 증산 제거되기 때문에, 모재 손상이 커져 버린다. 따라서, 디스케일률과 모재 손상을 고려하여 플루엔스를 조정하면 된다.
산세 디스케일 공정은, 레이저 디스케일 공정을 행한 오스테나이트계 스테인리스 강재를 산세욕에 침지함으로써, 레이저 디스케일 공정에서 다 제거할 수 없었던 산화 스케일을 씻어내는 공정이다. 산세욕에 이용되는 산세액으로서는, 특별히 한정되지 않지만, 질산(HNO3), 황산(H2SO4), 불산(HF), 염화제2철(FeCl3) 등의 성분을 1종 이상 포함하는 용액을 이용할 수 있다. 전형적인 산세액은, 질산과 불산의 혼합액이다.
여기서, 표면 상태의 차이를 나타내는 참고로서, (1) 레이저 디스케일 공정 및 산세 디스케일 공정을 실시하여 제조된 스테인리스 강판의 표면, (2) 쇼트 블라스트 처리에 의한 전처리를 행한 후에 산세 디스케일 공정을 행하여 제조된 스테인리스 강판의 표면, 및 (3) 쇼트 블라스트 처리에 의한 전처리를 행한 후에 산세 디스케일 공정을 행하고, 다음에 벨트 연마를 행하여 제조된 스테인리스 강판의 표면의 SEM 사진 또는 레이저 현미경 사진을, 각각 도 1, 도 2 및 도 3에 나타낸다.
도 1은, 상기 (1)의 표면의 (a) 100배 및 (b) 1000배의 SEM 사진이다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 이 스테인리스 강판은, 펄스 레이저에 의한 펄스 흔적이 표면에 보이지만, 평활부가 많은 표면 구조를 갖고 있다. 그 때문에, 표면 거칠기 파라미터(산술 평균 거칠기 Ra 등)나 60도 경면 광택 Gs(60°) 등을 상기의 범위로 제어하는 것이 가능해진다.
도 2는, 상기 (2)의 표면의 레이저 현미경 사진(50배)이다. 도 2에 나타내는 바와 같이, 이 스테인리스 강판은, 쇼트 블라스트 처리에 의한 타격 흔적 및 산세에 의한 용해의 흔적이 뒤섞인 것 같은 거친 표면 구조를 갖고 있다. 그 때문에, 산술 평균 거칠기 Ra나 제곱 평균 제곱근 경사 RΔq가 크고, 또 60도 경면 광택 Gs(60°)가 작아지는 경향이 있다.
도 3은, 상기 (3)의 표면의 레이저 현미경 사진(50배)이다. 도 3에 나타내는 바와 같이, 이 스테인리스 강판은, 벨트 연마에 의한 주름 모양을 갖는 표면 구조를 갖고 있다. 그 때문에, 텍스처의 애스펙트비 Str이 작아지는 경향이 있다.
상기의 특징을 갖는 본 발명의 실시 형태에 따른 오스테나이트계 스테인리스 강재는, 내식성이 뛰어나기 때문에, 내식성 부재로서 이용할 수 있다. 특히, 이 오스테나이트계 스테인리스 강재는, 평활하고 광택이 있는 표면을 갖고, 의장성이 뛰어나기 때문에, 의장성이 요구되는 내식성 부재에 이용하는데 적합하다.
[실시예]
이하에, 실시예를 들어 본 발명의 내용을 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정해서 해석되는 것은 아니다.
표 1에 나타내는 강종 A~K의 조성(잔부는 Fe 및 불순물이다)을 갖는 스테인리스강 30kg을 진공 용해로 용제하고, 두께 30mm의 강편에 단조한 후, 1230℃에서 2시간 가열하여, 두께 3mm로 열간 압연하여 열연 강판(오스테나이트계 스테인리스 강판)을 얻었다. 열연 강판은, 절삭 가공에 의해 50mm(압연 방향)×50mm(폭 방향)으로 잘라내어, 이하의 각 실시예 및 각 비교예에 이용했다.
Figure pct00001
(실시예 1)
강종 A의 조성을 갖는 열연 강판에 대해, 레이저 디스케일 공정 및 산세 디스케일 공정을 순차적으로 실시했다.
레이저 디스케일 공정은, 시판의 장치(주식회사 IHI 검사 계측 제조 LaserClear50A)를 이용하여 행했다. 이 장치의 가동 스테이지에 열연 강판을 설치하고, 압연 방향을 따라 0.2m/분으로 이동시키면서, 열연 강판의 상방으로부터 판폭 방향으로 일정 속도로 스캔하여 펄스 레이저를 1회 조사했다. 1회당 스캔 폭은 25mm로 했다. 펄스 레이저의 조사 조건은 이하 대로 했다.
파장:1085nm
펄스 폭:100ns
발진 주파수:120kHz
스캔 주파수:100Hz
레이저의 빔 직경:90μm
플루엔스:6J/cm2
산세 디스케일은, 불산 30g/L 및 질산 60g/L를 포함하는 불질산 수용액을 항온조에서 60℃로 유지하고, 열연 강판을 90초 침지시킨 후, 곧바로 흐르는 물로 수세하여 자연 건조시킴으로써 행했다.
(실시예 2~6)
표 2에 나타내는 강종의 조성을 갖는 열연 강판을 이용한 것, 및 레이저 디스케일 공정에 있어서의 펄스 레이저의 플루엔스를 7J/cm2로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 했다.
(실시예 7)
강종 G의 조성을 갖는 열연 강판을 이용한 것, 및 불산 45g/L 및 질산 145g/L를 포함하는 불질산 수용액을 항온조에서 50℃로 유지하고, 열연 강판을 230초 침지시킨 후, 곧바로 흐르는 물로 수세하여 자연 건조시킴으로써 산세 디스케일을 행한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 했다.
(실시예 8~11)
표 2에 나타내는 강종의 조성을 갖는 열연 강판을 이용한 것, 및 레이저 디스케일 공정에 있어서의 펄스 레이저의 플루엔스를 7J/cm2로 한 것 이외에는 실시예 7과 동일하게 했다.
(비교예 1)
강종 A의 조성을 갖는 열연 강판에 대해, 스케일 브레이커에 의한 굽힘 반경이 50mm인 굽힘 및 되돌림 처리, 그리고 스틸 쇼트(SB-5)를 이용한 쇼트 블라스트 처리에 의한 전처리를 행한 후, 산세 디스케일 공정을 실시했다.
산세 디스케일 공정은, 다음과 같이 하여 실시했다. 우선, 불산 50g/L 및 질산 150g/L를 포함하는 불질산 수용액을 항온조에서 50℃로 유지하고, 열연 강판을 240초 침지시킨 후, 곧바로 흐르는 물로 수세하여 자연 건조시켰다. 다음에, 불산 30g/L 및 질산 60g/L를 포함하는 불질산 수용액을 항온조에서 60℃로 유지하고, 열연 강판을 90초 침지시킨 후, 곧바로 흐르는 물로 수세하여 자연 건조시켰다.
(비교예 2)
비교예 1에서 얻어진 산세 디스케일 공정 후의 열연 강판에 대해, SiC 연마지(번수#400) 및 수용성 연삭유를 이용한 벨트 연마를 행했다. 연삭 깊이는, 표면으로부터 20μm의 깊이로 했다.
(비교예 3)
강종 G의 조성을 갖는 열연 강판을 이용한 것 이외에는 비교예 1과 동일하게 했다.
(비교예 4)
비교예 3에서 얻어진 산세 디스케일 공정 후의 열연 강판에 대해, SiC 연마지(번수#400) 및 수용성 연삭유를 이용한 벨트 연마를 행했다. 연삭 깊이는, 표면으로부터 20μm의 깊이로 했다.
상기의 실시예 및 비교예에서 얻어진 열연 강판에 대해 이하의 평가를 행했다.
(표면 거칠기 측정)
디스케일 공정을 실시한 상기의 열연 강판의 표면에 대해서, JIS B0601:2013에 준거하여, 접촉식의 표면 조도계(주식회사 토쿄 정밀 제조 서프컴 2800)를 이용하여 산술 평균 거칠기 Ra 및 제곱 평균 제곱근 경사 RΔq를 측정했다. 산술 평균 거칠기 Ra의 측정에서는, 기준 길이를 4mm로 했다.
마찬가지로, 디스케일 공정을 실시한 상기의 열연 강판의 표면에 대해서, JIS B0681-2:2018에 준거하여, 3D 측정 레이저 현미경(올림푸스 주식회사 제조 LEXT OLS4100)을 이용하여 텍스처의 애스펙트비 Str을 측정했다. 측정 시의 관찰 배율은 50배로 하고, 측정 범위는 3mm×3mm로 했다.
산술 평균 거칠기 Ra, 제곱 평균 제곱근 경사 RΔq 및 텍스처의 애스펙트비 Str은, 단부로부터 5mm까지의 범위를 제외한 5개소에서 측정을 행하고, 그 평균값을 평가 결과로 했다. 또한, 각 측정 위치 사이는 5mm 이상 떼어 놓았다.
(광택도 측정)
디스케일 공정을 실시한 상기의 열연 강판의 표면에 대해서, JIS Z8741:1997에 준거하여, 광택도계(일본 전색 공업 주식회사 제조 PG-1M)를 이용하여 60도 경면 광택 Gs(60°)를 측정했다. 60도 경면 광택 Gs(60°)는, 단부로부터 5mm까지의 범위를 제외한 5개소에서 측정을 행하고, 그 평균값을 평가 결과로 했다. 또한, 각 측정 위치 사이는 5mm 이상 떼어 놓았다.
(크로마네틱스 지수 b*)
디스케일 공정을 실시한 상기의 열연 강판의 표면에 대해서, JIS Z8722:2009에 준거하여, 분광 측색계(코니카 미놀타 주식회사 제조 CM-700d)를 이용하여 크로마네틱스 지수 b*를 측정했다. 측정의 기하 조건은 c(di:8°), 측정 직경은 8mmφ, 시야는 10°로 하고, 조명 광원으로서 D65 일루미넌트를 이용했다. 단부로부터 5mm까지의 범위를 제외한 5개소에서 측정을 행하고, 그 평균값을 평가 결과로서 이용했다.
(내식성 시험)
내식성 시험은, 염수 분무, 건조 및 습윤을 반복하는 염 건습 반복 시험에 의해 행했다. 염 건습 반복 시험은, 디스케일 공정을 실시한 상기 열연 강판에 대해, 5%의 NaCl 수용액의 분무(35℃에서 15분), 건조(상대습도 30%, 온도 60℃에서 1시간), 및 습윤(상대습도 95%, 온도 50℃에서 3시간)을 1사이클로 하여 10사이클 행했다. 그 후, 열연 강판을 수세하여 건조시켜, 열연 강판의 녹 발생 면적률을 산출했다.
녹 발생 면적률의 산출은, 다음과 같은 순서로 행했다. 염 건습 반복 시험 후의 열연 강판의 표면을 사진 촬영하고, 단면을 제외한 중앙의 25mm×25mm의 범위에 있어서의 녹 발생 부분의 면적의 비율을 구했다. 녹 발생 부분의 면적은, 열연 강판의 표면의 사진을 화상 해석에 의해 2치화하여, 1픽셀당 면적을 산출한 후, 녹 발생 부분의 픽셀수를 카운트하여 구했다. 녹 발생 면적률은, 이하의 식에 의해 산출했다.
녹 발생 면적률(%)=녹 발생 부분의 면적(mm2)/관찰부 전체의 면적(625mm2)×100
이 평가에 있어서, 녹 발생 면적률이 1% 이하의 것을 「○」(내식성이 양호), 1%를 넘는 것을 「×」(내식성이 불량)로 했다.
상기의 각 평가 결과를 표 2에 나타낸다.
Figure pct00002
표 2에 나타내는 바와 같이, 실시예 1~11의 열연 강판은, 표면의 산술 평균 거칠기 Ra가 0.10~3.00μm 및 60도 경면 광택 Gs(60°)가 10~100%의 범위에 있으며, 평활하고 광택이 있는 표면을 갖고 있는 것이 확인되었다. 또, 실시예 1~11의 열연 강판은, 내식성도 양호했다.
이에 반해 비교예 1 및 3의 열연 강판은, 60도 경면 광택 Gs(60°)가 상기의 범위 밖이며, 거칠고 광택이 없는 표면을 갖고 있었다. 또, 비교예 2 및 4의 열연 강판은, 산세 디스케일 공정 후에 연마를 행했기 때문에, 내식성이 충분하지 않았다.
이상의 결과로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에 의하면, 평활하고 광택이 있는 표면을 갖고, 내식성이 뛰어난 오스테나이트계 스테인리스 강재, 및 이것을 이용한 내식성 부재를 제공할 수 있다.

Claims (8)

  1. 질량 기준으로, C:0.001~0.100%, Si:5.00% 이하, Mn:2.50% 이하, P:0.050% 이하, S:0.0300% 이하, Ni:6.00~26.00%, Cr:14.00~26.00%, Mo:8.00% 이하, Cu:4.00% 이하, N:0.350% 이하, Al:3.500% 이하를 포함하고, 잔부가 Fe 및 불순물로 이루어지는 조성을 갖고,
    표면의 산술 평균 거칠기 Ra가 0.10~3.00μm 및 60도 경면 광택 Gs(60°)가 10~100%인, 내식성이 뛰어난 오스테나이트계 스테인리스 강재.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 오스테나이트계 스테인리스 강재의 표면이, 이하의 (1) 및 (2)를 만족하는, 오스테나이트계 스테인리스 강재.
    (1) 제곱 평균 제곱근 경사 RΔq가 35° 이하이다.
    (2) 크로마네틱스 지수 b*가 7.00 이하이다.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    질량 기준으로, Si가 1.00% 이하, Cr이 15.00~26.00%, Al이 0.400% 이하, Si+2Al이 1.20% 미만인, 오스테나이트계 스테인리스 강재.
  4. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    질량 기준으로, Si가 0.20~5.00%, Ni가 6.00~20.00%, Cr이 14.00~25.00%, Mo가 3.00% 이하, Si+2Al이 1.20% 이상인, 오스테나이트계 스테인리스 강재.
  5. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
    질량 기준으로, Ti:0.001~0.500%, Nb:0.001~1.000%, V:0.001~1.000%, W:0.001~1.000%, Zr:0.001~1.000%, Co:0.001~1.200%로부터 선택되는 1종 이상을 추가로 포함하는, 오스테나이트계 스테인리스 강재.
  6. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
    질량 기준으로, Ca:0.0001~0.0100%, B:0.0001~0.0080%, Sn:0.001~0.500%로부터 선택되는 1종 이상을 추가로 포함하는, 오스테나이트계 스테인리스 강재.
  7. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서,
    염 건습 반복 시험에 있어서, 염수 분무, 건조 및 습윤을 1사이클로 하여 10사이클 행한 후의 녹 발생 면적률이 1% 이하인, 오스테나이트계 스테인리스 강재.
  8. 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 기재된 오스테나이트계 스테인리스 강재를 포함하는, 내식성 부재.
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