KR20220054849A - 크실릴렌디이소시아네이트가 들어간 용기, 크실릴렌디이소시아네이트의 보관 방법 및 크실릴렌디이소시아네이트의 수송 방법 - Google Patents

크실릴렌디이소시아네이트가 들어간 용기, 크실릴렌디이소시아네이트의 보관 방법 및 크실릴렌디이소시아네이트의 수송 방법 Download PDF

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야스아키 사토
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미쯔이가가꾸가부시끼가이샤
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Abstract

크실릴렌디이소시아네이트와, 크실릴렌디이소시아네이트가 수용된 용기를 구비하는 크실릴렌디이소시아네이트가 들어간 용기(1)에 있어서, 용기(2)의 내면에는, 수지층(4)이 마련되어 있다.

Description

크실릴렌디이소시아네이트가 들어간 용기, 크실릴렌디이소시아네이트의 보관 방법 및 크실릴렌디이소시아네이트의 수송 방법
본 발명은, 크실릴렌디이소시아네이트가 들어간 용기, 크실릴렌디이소시아네이트의 보관 방법 및 크실릴렌디이소시아네이트의 수송 방법에 관한 것이다.
우수한 투명성이 요구되는 광학 렌즈를, 폴리(티오)우레탄 수지로 형성하는 것이 검토되고 있다. 폴리(티오)우레탄 수지를 포함하는 광학 렌즈의 원료로서, 크실릴렌디이소시아네이트를 포함하는 크실릴렌디이소시아네이트 조성물이 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 1 참조)
국제 공개 제2018/190290호
그러나, 특허문헌 1에 기재된 크실릴렌디이소시아네이트 조성물을 금속제 용기에 수용하여 보존 및 수송하면, 특히 장기에 걸치는 경우에는, 크실릴렌디이소시아네이트 조성물이 착색되는 경우가 있다. 또한, 금속제 용기에 수용된 크실릴렌디이소시아네이트 조성물을 사용하여 폴리(티오)우레탄 수지를 제조하면, 폴리(티오)우레탄 수지가 착색되는 경우가 있다.
본 발명은, 저착색성이 우수한 크실릴렌디이소시아네이트가 들어간 용기, 크실릴렌디이소시아네이트의 보관 방법 및 크실릴렌디이소시아네이트의 수송 방법을 제공한다.
본 발명 [1]은, 크실릴렌디이소시아네이트와, 상기 크실릴렌디이소시아네이트가 수용된 용기를 구비하고, 상기 용기의 내면에는, 수지층이 마련되어 있는, 크실릴렌디이소시아네이트가 들어간 용기를 포함한다.
본 발명 [2]는, 상기 수지층이, 에폭시 수지를 포함하는, 상기 [1]에 기재된 크실릴렌디이소시아네이트가 들어간 용기를 포함한다.
본 발명 [3]은, 상기 수지층은, 에폭시페놀 수지를 포함하는, 상기 [2]에 기재된 크실릴렌디이소시아네이트가 들어간 용기를 포함한다.
본 발명 [4]는, 산분이 15ppm 미만인 크실릴렌디이소시아네이트와, 상기 크실릴렌디이소시아네이트가 수용된 용기를 구비하고, 상기 용기의 내면에는, 인산아연 피막이 마련되어 있는, 크실릴렌디이소시아네이트가 들어간 용기를 포함한다.
본 발명 [5]는, 내면에 수지층이 마련되어 있는 용기 내에서, 크실릴렌디이소시아네이트를 보관하는, 크실릴렌디이소시아네이트의 보관 방법을 포함한다.
본 발명 [6]은, 상기 수지층은, 에폭시 수지를 포함하는, 상기 [5]에 기재된 크실릴렌디이소시아네이트의 보관 방법을 포함한다.
본 발명 [7]은, 상기 수지층은, 에폭시페놀 수지를 포함하는, 상기 [6]에 기재된 크실릴렌디이소시아네이트의 보관 방법을 포함한다.
본 발명 [8]은, 내면에 인산아연 피막이 마련되어 있는 제1 용기 내에서, 산분이 15ppm 미만인 크실릴렌디이소시아네이트를 보관하는, 크실릴렌디이소시아네이트의 보관 방법을 포함한다.
본 발명 [9]는, 크실릴렌디이소시아네이트의 산분을 측정하는 공정과, 측정된 산분이 15ppm 이상인 경우, 상기 크실릴렌디이소시아네이트를, 내면에 수지층이 마련되어 있는 제2 용기에 수용하고, 측정된 산분이 15ppm 미만인 경우, 상기 제1 용기에 수용하는 공정을 포함하는, 상기 [8]에 기재된 크실릴렌디이소시아네이트의 보관 방법을 포함한다.
본 발명 [10]은, 내면에 수지층이 마련되어 있는 용기 내에, 크실릴렌디이소시아네이트를 보관하여 수송하는, 크실릴렌디이소시아네이트의 수송 방법을 포함한다.
본 발명 [11]은, 상기 수지층은, 에폭시 수지를 포함하는, 상기 [10]에 기재된 크실릴렌디이소시아네이트의 수송 방법을 포함한다.
본 발명 [12]는, 상기 수지층은, 에폭시페놀 수지를 포함하는, 상기 [11]에 기재된 크실릴렌디이소시아네이트의 수송 방법을 포함한다.
본 발명 [13]은, 내면에 인산아연 피막이 마련되어 있는 제1 용기 내에, 산분이 15ppm 미만인 크실릴렌디이소시아네이트를 보관하여 수송하는, 크실릴렌디이소시아네이트의 수송 방법을 포함한다.
본 발명 [14]는, 크실릴렌디이소시아네이트의 산분을 측정하는 공정과, 측정된 산분이 15ppm 이상인 경우, 상기 크실릴렌디이소시아네이트를, 내면에 수지층이 마련되어 있는 제2 용기에 수용하고, 측정된 산분이 15ppm 미만인 경우, 상기 크실릴렌디이소시아네이트를, 상기 제1 용기에 수용하는 공정을 포함하는, 상기 [13]에 기재된 크실릴렌디이소시아네이트의 수송 방법을 포함한다.
본 발명의 크실릴렌디이소시아네이트가 들어간 용기에 의하면, 용기의 내면에 수지층이 마련되어 있기 때문에, 크실릴렌디이소시아네이트를 용기에 수용하여, 장기에 걸쳐 보존 및 반송해도, 크실릴렌디이소시아네이트가 착색되는 것을 억제할 수 있다. 또한, 크실릴렌디이소시아네이트로 제조되는 폴리(티오)우레탄 수지가 착색되는 것을 억제할 수 있다.
본 발명의 크실릴렌디이소시아네이트가 들어간 용기에 의하면, 용기의 내면에 인산아연 피막이 마련되어 있기 때문에, 산분이 15ppm 미만인 크실릴렌디이소시아네이트를 용기에 수용하여, 장기에 걸쳐 보존 및 반송해도, 크실릴렌디이소시아네이트가 착색되는 것을 억제할 수 있다. 또한, 크실릴렌디이소시아네이트로 제조되는 폴리(티오)우레탄 수지가 착색되는 것을 억제할 수 있다.
본 발명의 크실릴렌디이소시아네이트의 보관 방법에 의하면, 상기한 용기에 크실릴렌디이소시아네이트를 보관하므로, 크실릴렌디이소시아네이트가 착색되는 것을 억제할 수 있음과 함께, 폴리(티오)우레탄 수지가 착색되는 것을 억제할 수 있다.
본 발명의 크실릴렌디이소시아네이트의 수송 방법에 의하면, 상기한 용기에 크실릴렌디이소시아네이트를 보관하여 수송하므로, 크실릴렌디이소시아네이트가 착색되는 것을 억제할 수 있음과 함께, 폴리(티오)우레탄 수지가 착색되는 것을 억제할 수 있다.
도 1은 본 발명의 크실릴렌디이소시아네이트가 들어간 용기의 일 실시 형태를 도시하는 개략도이다.
도 2는 실시예 1 및 비교예 1에 있어서의, 크실릴렌디이소시아네이트 조성물의 보존 기간과, 크실릴렌디이소시아네이트 조성물의 색상(APHA)의 상관을 나타내는 그래프이다.
도 3은 실시예 1 및 비교예 1에 있어서의, 크실릴렌디이소시아네이트 조성물의 보존 기간과, 크실릴렌디이소시아네이트 조성물의 옐로우 인덱스(Y. I.)의 상관을 나타내는 그래프이다.
도 4는 실시예 1 및 비교예 1에 있어서의, 크실릴렌디이소시아네이트 조성물의 보존 기간과, 크실릴렌디이소시아네이트 조성물의 b*의 상관을 나타내는 그래프이다.
도 5는 실시예 1 및 비교예 1에 있어서의, 크실릴렌디이소시아네이트 조성물의 보존 기간과, 크실릴렌디이소시아네이트 조성물로 제조되는 광학 렌즈의 Y. I.의 상관을 나타내는 그래프이다.
도 6은 실시예 3, 4에 있어서의, 크실릴렌디이소시아네이트 조성물의 보존 기간과, 크실릴렌디이소시아네이트 조성물로 제조되는 광학 렌즈의 Y. I.의 상관을 나타내는 그래프이다.
도 7은 실시예 5, 6에 있어서의, 크실릴렌디이소시아네이트 조성물의 보존 기간과, 크실릴렌디이소시아네이트 조성물로 제조되는 광학 렌즈의 Y. I.의 상관을 나타내는 그래프이다.
도 1에 도시한 바와 같이, 크실릴렌디이소시아네이트가 들어간 용기(1)는, 크실릴렌디이소시아네이트(이하, XDI라 함)와, 그 XDI가 수용된 용기(2)를 구비하고 있다.
용기(2)에 수용되는 XDI로서는, 예를 들어 1,2-XDI(o-XDI), 1,3-XDI(m-XDI), 1,4-XDI(p-XDI) 등을 들 수 있다.
이들 XDI는, 단독 사용 또는 2종류 이상 병용할 수 있다.
XDI 중에서는, 바람직하게는 1,3-XDI(m-XDI)를 들 수 있다.
XDI는, 예를 들어 시판품(예를 들어, 미쓰이 가가쿠사제 MR-7A 등)으로서 입수할 수도 있고, 공지의 방법에 의해 제조할 수도 있다. 공지의 방법으로서, 예를 들어 증발시킨 크실릴렌디아민(이하, XDA라 함)과 포스겐을 반응시키는 기상법, 예를 들어 XDA의 염산염과 포스겐을 반응시키는 염산염법, 예를 들어 XDA와 포스겐을 1단에서 직접 반응시키는 1단법, 예를 들어 XDA와 포스겐을 저온에서 반응시킨 후, 이어서 고온에서 반응시키는 냉열 2단법 등을 들 수 있다.
또한, XDI는, 필요에 따라, 정류(증류), 추출 등의 공지의 방법에 의해 정제된다.
XDI의 순도는, 예를 들어 95질량％ 이상, 바람직하게는 98질량％ 이상, 보다 바람직하게는, 99질량％ 이상, 더욱 바람직하게는, 99.5질량％ 이상, 특히 바람직하게는, 99.9질량％ 이상, 예를 들어 100질량％ 이하이다. XDI의 순도는, 후술하는 실시예에 기재된 방법에 준거하여 측정할 수 있다.
XDI의 순도가 100질량％ 미만인 경우, XDI에는, 다른 성분이 혼입되어 있다.
이 경우, 용기(2)는, XDI 및 다른 성분을 포함하는 XDI 조성물을 수용한다.
다른 성분으로서, 예를 들어 클로로메틸벤질이소시아네이트, 디클로로메틸벤질이소시아네이트, 가수 분해성 염소(HC) 등을 들 수 있다.
용기(2)에 수용되기 전의 XDI 조성물의 총 질량에 대한, 클로로메틸벤질이소시아네이트의 함유 비율은, 예를 들어 0.2ppm 이상, 바람직하게는 6ppm 이상, 보다 바람직하게는, 100ppm 이상, 예를 들어 5000ppm 이하, 바람직하게는 4000ppm 이하, 보다 바람직하게는, 3000ppm 이하, 특히 바람직하게는, 1600ppm 이하, 특히 바람직하게는, 1000ppm 이하이다. 클로로메틸벤질이소시아네이트의 함유 비율은, 일본 특허 제6373536호 공보의 [0377] 단락에 기재된 방법에 준거하여 측정할 수 있다(이하 마찬가지임).
용기(2)에 수용되기 전의 XDI 조성물의 총 질량에 대한, 디클로로메틸벤질이소시아네이트의 함유 비율은, 예를 들어 0.1ppm 이상, 바람직하게는 0.3ppm 이상, 보다 바람직하게는, 0.6ppm 이상, 보다 바람직하게는, 1.0ppm 이상이며, 예를 들어 60ppm 이하, 바람직하게는 50ppm 이하, 보다 바람직하게는, 30ppm 이하, 보다 바람직하게는, 20ppm 이하, 보다 바람직하게는, 10ppm 이하, 보다 바람직하게는, 5ppm 이하이다. 디클로로메틸벤질이소시아네이트의 함유 비율은, 일본 특허 제6373536호 공보의 [0375] 및 [0376] 단락에 기재된 방법에 준거하여 측정할 수 있다(이하 마찬가지임).
용기(2)에 수용되기 전의 XDI 조성물의 총 질량에 대한, 가수 분해성 염소의 농도(HC)는, 예를 들어 10ppm 이상, 바람직하게는 20ppm 이상, 보다 바람직하게는, 30ppm 이상, 예를 들어 1000ppm 이하, 바람직하게는 500ppm 이하, 보다 바람직하게는 200ppm 이하이다. 가수 분해성 염소의 농도(HC)는, JIS K-1603-3(2007)에 기재되어 있는 가수 분해성 염소의 산출법에 준거하여 측정된다(이하 마찬가지임).
용기(2)에 수용되기 전의 XDI 조성물의 산분은, 예를 들어 3000ppm 이하, 바람직하게는 2000ppm 이하, 보다 바람직하게는, 1000ppm 이하, 보다 바람직하게는, 100ppm 이하, 보다 바람직하게는, 50ppm 이하, 보다 바람직하게는, 30ppm 이하, 보다 바람직하게는, 15ppm 미만이다.
또한, 용기(2)에 수용되기 전의 XDI 조성물의 산분의 하한값은, 한정되지는 않는다. 용기(2)에 수용되기 전의 XDI 조성물의 산분은, 예를 들어 1ppm 이상이다.
산분은, 후술하는 실시예에 기재된 방법에 의해 측정된다(이하 마찬가지임).
XDI 조성물은, 다른 성분 중, 1종만을 함유해도 되고, 2종 이상 함유해도 된다.
용기(2)로서, 예를 들어 한 말캔, 드럼통, 페일캔, 캐니스터캔 등의 다양한 형상의 용기를 들 수 있고, 바람직하게는 한 말캔, 드럼통을 들 수 있다. 도 1에는, 드럼통 형상의 용기(2)를 나타내고 있다.
또한, 용기(2)의 크기는, 특별히 제한되지는 않고, 다양한 사이즈의 것이 사용된다. 구체적으로는, 용기(2)의 용량은, 예를 들어 0.5L 이상, 바람직하게는 1L 이상, 보다 바람직하게는, 16L 이상, 예를 들어 20000L 이하, 바람직하게는 250L 이하이다.
이와 같은 용기(2)의 재질은, 통상, 철 및/또는 아연을 함유하고 있다. 또한, 용기(2)의 내면에는, 도 1의 확대도에 도시된 바와 같이, 수지층(4)이 마련되어 있다. 바꿔 말하면, 용기(2)는, 용기 본체(3)와, 필요에 따라, 수지층(4)을 구비하고 있다. 상세하게는, 산분이 15ppm 이상인 XDI 조성물이 수용되는 용기(2)인 경우, 용기(2)는, 수지층(4)을 구비한다. 산분이 15ppm 미만인 XDI 조성물이 수용되는 용기(2)인 경우, 용기(2)는, 수지층(4)을 구비하지 않아도 되고, 수지층(4)을 구비하고 있어도 된다.
용기 본체(3)는, 용기(2)의 외형을 형성하는 금속판(3a)을 구비하고 있다. 용기 본체(3)는, 필요에 따라, 금속판(3a)의 한쪽 면(용기(2)의 내면)에 적층되는 표면 처리층(3b)을 구비하고 있다. 상세하게는, 용기(2)가 수지층(4)을 구비하지 않는 경우, 용기 본체(3)는, 표면 처리층(3b)을 구비한다. 용기(2)가 수지층(4)을 구비하고 있는 경우, 용기 본체(3)는, 표면 처리층(3b)을 구비하지 않아도 된다.
금속판(3a)은, 특별히 제한되지는 않지만, 예를 들어 철 및/또는 아연을 함유하는 금속판이며, 구체적으로는, 강판(스틸판)을 들 수 있고, 보다 구체적으로는, 탄소 강판 등을 들 수 있고, 더욱 구체적으로는, 냉간 압연 강판, 열간 압연 강판 등을 들 수 있다.
금속판(3a)의 두께는, 예를 들어 0.5㎜ 이상, 바람직하게는 1.0㎜ 이상, 예를 들어 2.0㎜ 이하, 바람직하게는 1.6㎜ 이하이다.
표면 처리층(3b)은, 예를 들어 공지의 화성 처리에 의해 형성되는 화성 피막을 들 수 있다.
화성 피막으로서는, 특별히 제한되지는 않고, 철 도금 피막, 아연 도금 피막, 주석 도금 피막, 크롬 도금 피막, 알루미늄 도금 피막, 니켈 도금 피막, 철-아연 도금 피막, 알루미늄-아연 도금 피막, 니켈-아연 도금 피막, 인산철 도금 피막, 인산아연 도금 피막 등을 들 수 있다. 화성 피막은, 단독 사용 또는 2종류 이상 병용할 수 있다.
표면 처리층(3b)으로서, 통상, 철 및/또는 아연을 함유하는 피막을 들 수 있고, 구체적으로는, 철 도금 피막, 아연 도금 피막, 인산철 피막, 인산아연 도금 피막을 들 수 있고, 보다 구체적으로는, 인산철 피막, 인산아연 도금 피막을 들 수 있고, 더욱 구체적으로는, 인산아연 피막을 들 수 있다.
표면 처리층(3b)의 두께는, 예를 들어 2㎛ 이상, 바람직하게는 5㎛ 이상이며, 예를 들어 100㎛ 이하, 바람직하게는 50㎛ 이하이다.
또한, 필요에 따라, 예를 들어 금속판(3a)의 한쪽 면(용기(2)의 내면), 금속판(3a)의 다른 쪽 면(용기(2)의 외면), 표면 처리층(3b)의 한쪽 면(용기(2)의 내면), 금속판(3a)과 표면 처리층(3b)의 계면 등에, 예를 들어 도장층, 프라이머층 등이 형성되어 있어도 된다.
수지층(4)은, 용기 본체(3)의 내면에 마련된다. 수지층(4)은, 용기 본체(3)의 내면에 적층된다. 도 1에서는, 수지층(4)은, 표면 처리층(3b)에 있어서의 금속판(3a)과 반대측의 면에 마련되어 있다. 수지층(4)은, 용기 본체(3)의 내면에, 수지를 적층함으로써 형성된다.
수지로서, 예를 들어 폴리올레핀 수지(예를 들어, 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지, 환상 폴리올레핀 수지 등), AS(아크릴로니트릴스티렌) 수지, ABS(아크릴로니트릴부타디엔스티렌) 수지, 폴리염화비닐 수지, 불소계 수지, 폴리에스테르 수지(예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리에틸렌나프탈레이트 수지 등), 페놀 수지, 폴리아크릴계 수지, 에폭시 수지(예를 들어, 에폭시페놀 수지, 에폭시아민 수지 등), 폴리이미드 수지, 폴리아미드 수지(예를 들어, 각종 나일론, 폴리아미드이미드 수지 등), 폴리(티오)우레탄 수지, 셀룰로오스계 수지, 실리콘계 수지, 폴리카르보네이트 수지 등을 들 수 있다.
또한, 폴리(티오)우레탄 수지는, 폴리우레탄 수지와 폴리티오우레탄 수지를 포함한다. 폴리우레탄 수지는, 이소시아네이트와 폴리올의 반응 생성물이다. 폴리티오우레탄 수지는, 이소시아네이트와 폴리티올의 반응 생성물이다.
이들 수지는, 단독 사용 또는 2종류 이상 병용할 수 있다.
수지로서, 바람직하게는 에폭시 수지를 들 수 있고, 보다 바람직하게는, 에폭시페놀 수지, 에폭시아민 수지를 들 수 있고, 더욱 바람직하게는, 에폭시페놀 수지를 들 수 있다. 바꿔 말하면, 수지층(4)은, 바람직하게는, 에폭시 수지를 포함하고, 보다 바람직하게는, 에폭시페놀 수지 및/또는 에폭시아민 수지를 포함하고, 더욱 바람직하게는, 에폭시페놀 수지를 포함하고, 특히 바람직하게는, 에폭시페놀 수지를 포함한다.
수지층(4)이 에폭시 수지를 포함하면, 용기(2)에 수용되는 XDI 조성물이 착색되는 것을 안정적으로 억제할 수 있다. 특히, 수지층(4)이 에폭시페놀 수지를 포함하면, 용기(2)에 수용된 XDI 조성물로 제조되는 폴리(티오)우레탄 수지가 착색되는 것을 안정적으로 억제할 수 있다.
수지층(4)의 형성 방법으로서는, 특별히 제한되지는 않고, 공지의 방법이 채용된다.
예를 들어, 수지층(4)은, 스프레이 코팅법, 딥 코팅법, 정전 도장법, 파우더 코팅법(분체 도장법) 등의 공지의 수지 코팅법에 의해, 상기의 수지가 용기 본체(3)의 내면에 코팅됨으로써 형성된다.
또한, 수지층(4)은, 예를 들어 드라이 라미네이트, 핫 멜트 라미네이트 등의 공지의 수지 라미네이트법에 의해, 상기의 수지의 필름(단층 필름, 복층 필름)이, 용기 본체(3)의 내면에 라미네이트됨으로써도 형성된다.
수지층(4)의 두께는, 예를 들어 5㎛ 이상, 바람직하게는 10㎛ 이상, 예를 들어 1000㎛ 이하, 바람직하게는 500㎛ 이하이다.
이와 같은 용기(2)로서, 구체적으로는, 에폭시 코트 캔 등을 들 수 있고, 바람직하게는 에폭시페놀 코트 캔, 에폭시아민 코트 캔을 들 수 있고, 보다 바람직하게는, 에폭시페놀 코트 캔을 들 수 있다.
또한, 도시하지 않지만, 용기(2)에 무기 산화물 등을 증착시킴으로써, 가스 배리어성 및 물 배리어성을 향상시킬 수도 있다.
그리고, 이와 같은 용기(2)에, XDI 조성물(XDI)을 수용하여 보존함으로써, 저착색성이 우수한 XDI가 들어간 용기(1)가 얻어진다.
또한, 산분이 15ppm 이상인 XDI 조성물(XDI)을, 수지층(4)을 갖지 않는 용기에서 보존하면 용기 본체(3)에 포함되는 철 및/또는 아연이 XDI 조성물에 용출되어, XDI 조성물이, 철 및/또는 아연을 함유하는 경우가 있다. 그 때문에, 수지층(4)을 갖지 않는 용기(2)는, 산분이 15ppm 이상인 XDI 조성물을 수용하는 것은 바람직하지 않다.
이에 반해, 내면에 수지층(4)이 마련되어 있는 용기(2)에서는, 산분이 15ppm 이상인 XDI 조성물(XDI)을 용기(2)에 수용하여 보존해도, 철 및/또는 아연이 XDI 조성물에 용출되는 것을 억제할 수 있다. 그 때문에, 내면에 수지층(4)이 마련되어 있는 용기(2)는, 산분이 15ppm 이상인 XDI 조성물(XDI)을 수용할 수 있다. 또한, 내면에 수지층(4)이 마련되어 있는 용기(2)는, 산분이 15ppm 미만인 XDI 조성물(XDI)도, 수용할 수 있다.
또한, 산분이 15ppm 미만인 XDI 조성물이, 내면에 수지층(4)이 마련되어 있지 않고 표면 처리층(3b)이 마련되어 있는 용기(2)에 보존된 경우, 표면 처리층(3b)에 의해, XDI 조성물 중으로의 철 및/또는 아연의 용출이, 억제된다. 그 때문에, 내면에 수지층(4)이 마련되어 있지 않고 표면 처리층(3b)이 마련되어 있는 용기(2)는, 산분이 15ppm 이상인 XDI 조성물을 수용하는 것은 바람직하지 않지만, 산분이 15ppm 미만인 XDI 조성물을 수용할 수 있다.
용기(2)에 수용된 보존 시의 XDI 조성물에 있어서의 철 함유량은, 예를 들어 1ppb 이상, 예를 들어 1000ppb 이하, 바람직하게는 500ppb 이하이다.
용기(2)에 수용된 보존 시의 XDI 조성물에 있어서의 아연 함유량은, 예를 들어 1ppb 이상, 예를 들어 1000ppb 이하, 바람직하게는 500ppb 이하이다.
또한, 용기(2)에 수용된 보존 시의 XDI 조성물의 총 질량에 대한, 클로로메틸벤질이소시아네이트의 함유 비율은, 예를 들어 0.2ppm 이상, 바람직하게는 6ppm 이상, 보다 바람직하게는, 100ppm 이상, 예를 들어 5000ppm 이하, 바람직하게는 4000ppm 이하, 보다 바람직하게는, 3000ppm 이하, 특히 바람직하게는, 1600ppm 이하, 특히 바람직하게는, 1000ppm 이하이다.
용기(2)에 수용된 보존 시의 XDI 조성물의 총 질량에 대한, 디클로로메틸벤질이소시아네이트의 함유 비율은, 예를 들어 0.1ppm 이상, 바람직하게는 0.3ppm 이상, 보다 바람직하게는, 0.6ppm 이상, 보다 바람직하게는, 1.0ppm 이상이며, 예를 들어 60ppm 이하, 바람직하게는 50ppm 이하, 보다 바람직하게는, 30ppm 이하, 보다 바람직하게는, 20ppm 이하, 보다 바람직하게는, 10ppm 이하, 보다 바람직하게는, 5ppm 이하이다.
용기(2)에 수용된 보존 시의 XDI 조성물의 총 질량에 대한, 가수 분해성 염소의 농도(HC)는, 예를 들어 10ppm 이상, 바람직하게는 20ppm 이상, 보다 바람직하게는, 30ppm 이상, 예를 들어 1000ppm 이하, 바람직하게는 500ppm 이하, 보다 바람직하게는, 200ppm 이하이다.
또한, XDI가 들어간 용기(1)는, 필요에 따라, 질소 가스 등의 불활성 가스로 시일되어 있어도 된다.
이와 같은 XDI가 들어간 용기(1)에 있어서, XDI 조성물(XDI)은, 상기의 용기(2)에 수용된 상태에서 보존된다. 바꿔 말하면, 내면에 수지층(4)이 마련되어 있는 용기(2) 내에서, 산분이 15ppm 이상인 XDI 조성물(XDI)을 보관한 것이다. 또한, 내면에 수지층(4)이 마련되어 있지 않고 인산아연 피막이 마련되어 있는 용기(2) 내에서, 산분이 15ppm 미만인 XDI 조성물(XDI)을 보관한 것이다. 또한, 내면에 수지층(4)이 마련되어 있는 용기(2) 내에서, 산분이 15ppm 미만인 XDI 조성물(XDI)을 보관해도 된다.
상세하게는, 크실릴렌디이소시아네이트의 산분을 측정하고, 측정된 산분이 15ppm 이상인 경우, 크실릴렌디이소시아네이트를, 내면에 수지층이 마련되어 있는 용기(2)에 수용하고, 측정된 산분이 15ppm 미만인 경우, 크실릴렌디이소시아네이트를, 내면에 수지층(4)이 마련되어 있지 않고 인산아연 피막이 마련되어 있는 용기(2)에 수용한다.
보존 조건으로서는, 보존 온도가, 예를 들어 -5℃ 이상, 바람직하게는 0℃ 이상, 예를 들어 50℃ 이하, 바람직하게는 40℃ 이하, 보다 바람직하게는, 30℃ 이하, 더욱 바람직하게는, 25℃ 이하이다. 또한, 저온 보존 시에는, 보존 온도가, 예를 들어 5℃ 이하, 바람직하게는 1℃ 이하이다.
보존 온도가 상기 상한 이하이면, XDI 조성물이 착색되는 것을 안정적으로 억제할 수 있다.
또한, 보존 기간은, 예를 들어 1일 이상, 바람직하게는 10일 이상, 보다 바람직하게는, 1개월 이상, 더욱 바람직하게는, 3개월 이상, 특히 바람직하게는, 6개월 이상, 예를 들어 3년 이하, 바람직하게는 1년 이하이다.
또한, 필요에 따라, XDI 조성물(XDI)은, 상기의 용기(2)에 수용된 상태에서 수송된다. 바꿔 말하면, 내면에 수지층(4)이 마련되어 있는 용기(2) 내에서, 산분이 15ppm 이상인 XDI 조성물(XDI)을 보관하여 수송한다. 또한, 내면에 수지층(4)이 마련되어 있지 않고 인산아연 피막이 마련되어 있는 용기(2) 내에서, 산분이 15ppm 미만인 XDI 조성물(XDI)을 보관하여 수송한다. 또한, 내면에 수지층(4)이 마련되어 있는 용기(2) 내에서, 산분이 15ppm 미만인 XDI 조성물(XDI)을 보관하여 수송해도 된다. 또한, 수송 시의 온도로서는, 상기한 보존 온도를 적용할 수 있다.
이와 같은 XDI가 들어간 용기(1) 중의 XDI는, 폴리(티오)우레탄 수지의 원료로서 널리 사용할 수 있고, 예를 들어, 광학 렌즈, 코팅의 제조에 있어서 적합하게 사용된다.
광학 렌즈는, 예를 들어 XDI와 폴리티올의 반응에 의해 제조된다. 광학 렌즈의 제조에서는, 예를 들어 주형법을 채용할 수 있다.
광학 렌즈로서, 예를 들어 투명 렌즈, 선글라스 렌즈, 편광 렌즈, 안경 렌즈, 카메라 렌즈, 픽업 렌즈, 콘택트 렌즈 등을 들 수 있다.
코팅은, 예를 들어 경화제로서의 A제와, 주제로서의 B제를 포함하는 2액 경화형 코팅 원료로 제조된다. XDI는, A제 및 B제 중 어느 것에도 이용할 수 있다.
XDI를 A제에 이용하는 경우, A제는, 예를 들어 XDI로부터 변성되는 XDI 변성체(예를 들어, 이소시아누레이트 변성체, 우레탄 변성체 등), 및/또는, XDI와 폴리올의 반응 생성물인 이소시아네이트기 말단 프리폴리머를 함유한다.
XDI를 B제에 이용하는 경우, B제는, 예를 들어 XDI와 폴리올의 반응 생성물인 폴리우레탄폴리올을 함유한다.
코팅으로서, 예를 들어 도료, 접착제 등을 들 수 있다.
상기한 XDI가 들어간 용기(1)에서는, 도 1에 도시한 바와 같이, 용기(2)의 내면에 수지층(4)이 마련되어 있다. 그 때문에, XDI를 용기(2)에 수용하여, 장기에 걸쳐 보존 및 반송해도, XDI(XDI 조성물)가 착색되는 것을 억제할 수 있다. 또한, XDI(XDI 조성물)로 제조되는 폴리(티오)우레탄 수지가 착색되는 것을 억제할 수 있다.
특히, 수지층(4)이 에폭시페놀 수지를 함유하면, XDI(XDI 조성물)가 착색되는 것을 보다 한층 더 확실하게 억제할 수 있다.
실시예
이하에 실시예, 비교예 및 참고예를 나타내고, 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은, 그것들에 한정되지는 않는다. 이하의 기재에 있어서 사용되는 배합 비율(함유 비율), 물성값, 파라미터 등의 구체적 수치는, 상기의 「발명을 실시하기 위한 형태」에 있어서 기재되어 있는, 그것들에 대응하는 배합 비율(함유 비율), 물성값, 파라미터 등 해당 기재의 상한값(「이하」, 「 미만」으로서 정의되어 있는 수치) 또는 하한값(「이상」, 「초과」로서 정의되어 있는 수치)으로 대체할 수 있다. 또한, 「부」 및 「％」는, 특별히 언급이 없는 한, 질량 기준이다.
또한, 이하에 있어서 기재되는 각종 물성의 측정법을 하기한다.
<m-XDI 조성물 중의 m-XDI의 순도>
순도 99mol％의 m-XDI를 표준 물질로 하여, 내부 표준법에 의해, 하기의 조건에서 가스 크로마토그래피로 분석하여, 얻어진 가스 크로마토그램의 면적값으로부터 검량선을 작성하였다.
다음에, 정류로 얻어진 m-XDI 조성물을 하기의 조건에서 가스 크로마토그래피로 분석하여, m-XDI의 몰수를 얻었다. 이것을 질량으로 환산하여, m-XDI 조성물 중의 m-XDI의 함유 비율(순도)을 산출하였다. 또한, 내부 표준 물질의 리텐션 타임은, 8.8분이며, m-XDI의 리텐션 타임은, 13.8분이었다.
장치; SHIMADZU GC-2014(시마즈 세이사쿠쇼사제)
칼럼; DB-1(막 두께 1.5㎛, 내경 0.53㎜×길이 60m)(시마즈 세이사쿠쇼사제),
오븐 온도; 130℃로부터 220℃까지 3℃/min으로 승온, 220℃ 도달 후 300℃까지 10℃/min으로 승온,
스플릿비; 펄스드 스플릿레스법,
주입구 온도; 280℃,
검출기 온도; 300℃,
캐리어 가스; N2 158kPa(정압 제어),
내부 표준 물질; 1,2,4,5-테트라클로로벤젠 100㎎,
용매; 클로로포름,
샘플 농도: 2.0질량％ 클로로포름 용액,
주입량; 2μL,
검출 방법; FID.
<2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2.2.1]헵탄과 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2.2.1]헵탄의 혼합물(이하, NBDI라 함)을 포함하는 NBDI 조성물 중의 NBDI 순도>
순도 99mol％의 NBDI를 표준 물질로 하여, 내부 표준법에 의해, 하기의 조건에서 가스 크로마토그래피로 분석하여, 얻어진 가스 크로마토그램의 면적값으로부터 검량선을 작성하였다.
다음에, 정류로 얻어진 NBDI 조성물을 하기의 조건에서 가스 크로마토그래피로 분석하여, NBDI의 몰수를 얻었다. 이것을 질량으로 환산하여, NBDI 조성물 중의 NBDI의 함유 비율(순도)을 산출하였다. 또한, 내부 표준 물질의 리텐션 타임은, 8.8분이며, NBDI의 리텐션 타임은, 13.0이었다.
장치; SHIMADZU GC-2014(시마즈 세이사쿠쇼사제),
칼럼; DB-1(막 두께 1.5㎛, 내경 0.53㎜×길이 60m)(시마즈 세이사쿠쇼사제),
오븐 온도; 130℃로부터 220℃까지 5℃/min으로 승온, 220℃ 도달 후 300℃까지 20℃/min으로 승온,
스플릿비; 펄스드 스플릿레스법,
주입구 온도; 280℃,
검출기 온도; 300℃,
캐리어 가스; N2 95.4kPa(정압 제어),
내부 표준 물질; 1,2,4,5-테트라클로로벤젠 100㎎,
용매; 클로로포름,
샘플 농도: 2.0질량％ 클로로포름 용액,
주입량; 2μL,
검출 방법; FID.
<XDI 조성물, NBDI 조성물의 색상(APHA)>
JIS K 0071(1998년)에 준거한 방법에 의해 측정하였다. 구체적으로는, APHA는, 백금 및 코발트의 시약을 용해하여 조제한 표준액을 사용하여, 시료의 색과 동등한 농도의 표준액 희석액을 비교에 의해 구하였다. 그 「도수」를 측정값으로 하였다. 이 도수는 작을수록 색상이 양호하다.
<XDI 조성물의 옐로우 인덱스(Y. I.) 및 b*>
MINOLTA제 색채 색차계 CT-210을 사용하여 측정하였다. 먼저 광로 길이 20㎜의 셀 CT-A20에 증류수를 넣고, Y=100.00, x=0.3101, y=0.3162로 하여 백색 교정을 행하였다. 그 후, 동일한 셀에 시료를 넣고, 색도 좌표 x, y 및 b*를 측정하였다. 측정 결과인 x와 y의 값을 기초로 하기 식 (1)에 의해 Y. I.를 산출하였다.
Y. I.=(234×x+106×y+106)/y (1)
이 Y. I.를 XDI 조성물의 색상의 수치로 하고, 수치가 높을수록, 착색 정도가 큰 것을 나타낸다.
액체인 XDI 조성물을 측정하는 경우에는, 두께 10㎜의 셀에 넣어, 측정을 행하였다.
<광학 렌즈(수지)의 옐로우 인덱스의 값(Y. I.값)의 산출>
수지를, 각각, 두께 9㎜, 직경 75㎜의 원형 평판 플라스틱 렌즈로서 작성하고, MINOLTA사제 색채 색차계 CT-210을 사용하여 색도 좌표 x, y를 측정하였다.
측정 결과인 x와 y의 값을 기초로 상기 식 (1)에 의해 Y. I.를 산출하였다.
또한, Y. I.값은 작을수록 플라스틱 렌즈의 색상이 좋고, Y. I.가 클수록 색상이 불량해지는 상관이 있다.
조제예 1: 제1 m-XDI 조성물(산분: 15ppm 이상)의 조제
환류 냉각관, 교반 날개, 온도계, 염화수소 가스 도입관, 포스겐 도입관, 원료조, 원료 장입 펌프를 구비한, 압력 조절기가 구비된 오토클레이브(내용적은 2㎥)를 반응기로서 사용하였다. 이 반응기 내에, 불활성 용매로서 오르토디클로로벤젠 846㎏을 투입하고, 원료조에 m-크실릴렌디아민 136.2㎏(1.0k몰), 및, 오르토디클로로벤젠 621㎏을 투입하였다(전체 아민 농도 8.5질량％).
다음에, 반응기 내의 온도를 120℃로 승온 후, 내압을 대기압보다도 0.01㎫ 고압으로 조절하였다. 그리고, 염화수소 가스 도입관으로부터 염화수소 가스를 43.8㎏/hr의 속도로 반응기 내에 장입을 개시하고, 동시에 원료조로부터 불활성 용매로 희석한 m-크실릴렌디아민을, 원료 장입 펌프로 379㎏/hr의 속도로 장입을 개시하고, 2시간에 걸쳐 전량을 장입하였다. 그 후, 다시 염화수소 가스를 20㎏/hr로 장입하면서, 1시간 숙성하였다.
다음에, 반응기 내에 있어서 반응액(염산염 슬러리)을 160℃로 승온 후, 포스겐 도입관으로부터, 포스겐을 100㎏/hr(1.0k몰/hr)로 도입하고, 온도를 유지하면서 8시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 반응기 내에 질소를 퍼지함으로써, 미반응 포스겐 및 염화수소 가스를 제거하였다. 그리고, 반응액을 여과하여, 미반응 염산염 0.8㎏(건조 중량)을 제거하였다. 얻어진 여액을 탈용매하여, m-XDI 순도 98.10％의 m-XDI 조성물 188.6㎏을 얻었다.
다음에, 얻어진 m-XDI 조성물을 정류하여, m-XDI 순도 99.99질량％의 m-XDI 조성물을 얻었다. 얻어진 m-XDI 조성물에 염산 가스를 취입하여, 산분이 20ppm인 m-XDI 조성물을 조제하였다.
또한, 산분은, 이하의 방법에 의해, 측정되었다.
<산분의 측정 방법>
교반자를 넣은 200ml 비이커에 시료 20g을 정확하게 계량하여 넣고, 용제(아세톤과 에탄올을 1:1(용량비)의 비율로 혼합한 것) 100ml를 첨가하여, 핫 플레이트 상 놓고, 가열하여 시료를 용해시킨 후, 실온에서 10 내지 20분간 뒤섞으면서 반응시킨다.
다음에, 자동 적정 장치(히라누마 COM-500)를 사용하여, N/100 메탄올성 수산화칼륨 용액(JIS K4101에 준거, 메탄올을 사용하여 조정, 표정한 0.1mol/L 메탄올성 수산화칼륨을 정확하게 10배 희석하여 조제함)으로 적정하고, 얻어진 적정 곡선의 변국점을 종점으로 한다. 또한 이 시험에는 동일 조건에서 공시험을 행한다.
적정의 결과로부터, 하기 식에 따라 산분(％)을 산출한다.
식: 산분=[0.0365×(A-B)×f]/S
상기 식 중, A는, 시료의 적정에 요한 N/100 메탄올성 수산화칼륨 용액의 사용량(ml)이고, B는, 공시험에 요한 N/100 메탄올성 수산화칼륨 용액의 사용량(ml)이며, f는, N/100 메탄올성 수산화칼륨 용액의 팩터이고, S는, 시료의 중량(g)이다.
조정예 2: 제2 m-XDI 조성물(산분: 15ppm 미만)의 조제
조제예 1과 마찬가지로 하여, m-XDI 순도 99.99질량％의 m-XDI 조성물을 얻었다. 얻어진 m-XDI 조성물에 염산 가스를 취입하여, 산분이 2ppm인 m-XDI 조성물을 조제하였다.
조제예 3: NBDI 조성물의 조제
조제예 1과 동일한 반응기를 사용하였다. 반응기 내에, 반응 용매로서 오르토디클로로벤젠 958g을 투입하고, 원료조에 2,5-비스(아미노메틸)비시클로[2.2.1]헵탄과 2,6-비스(아미노메틸)비시클로[2.2.1]헵탄의 혼합물 154.2g(1.0몰) 및 오르토디클로로벤젠 702g을 투입하였다(전체 아민 농도 8.5질량％).
다음에, 반응기 내의 온도를 120℃로 승온 후, 오토클레이브 내를 대기압보다도 0.01㎫ 고압으로 조절하였다. 그리고, 염화수소 가스 도입관으로부터 염화수소 가스를 43.8g/hr의 속도로 반응기 내에 장입을 개시하고, 동시에, 원료조로부터 용매로 희석한 2,5-비스(아미노메틸)비시클로[2.2.1]헵탄과 2,6-비스(아미노메틸)비시클로[2.2.1]헵탄의 혼합물을, 원료 장입 펌프로 428.1g/hr의 속도로 장입을 개시하고, 2시간에 걸쳐 전량을 장입하였다. 다시 염화수소 가스를 20g/hr로 장입하면서, 1시간 숙성하였다.
다음에, 반응기 내에 있어서 염산염 슬러리를 160℃로 승온 후, 포스겐 도입관으로부터, 포스겐을 100g/hr(1.0몰/hr)로 취입하고, 온도를 유지하면서 8시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 계 내에 질소를 퍼지함으로써 미반응 포스겐 및 염화수소 가스를 제거하였다. 그리고, 반응액을 여과하여, 미반응 염산염 0.5g(건조 질량)을 제거하였다. 얻어진 여액을 탈용매하여, NBDI 순도 98.5질량％의 NBDI 조성물 206.9g을 얻었다.
다음에, 얻어진 NBDI 조성물을 정류하여, NBDI 순도 99.99질량％의 NBDI 조성물을 얻었다.
실시예 1, 2 및 비교예 1
제1 m-XDI 조성물 또는 제2 m-XDI 조성물을, 하기 표 1에 나타내는 용기에 장입하고, 충분히 질소 가스로 시일한 후, 밀폐하였다.
그 후, 20℃의 환경에서, 제조(0개월)로부터 12개월간, 정치하였다.
또한, 표 1에 나타내는 타이밍에, 각 용기를 개방하여 샘플을 채취하였다. 그리고, 각 샘플(m-XDI 조성물)의 APHA, Y. I. 및 b*를 측정하였다. 그 결과를 표 1 및 도 2 내지 도 4에 나타낸다.
또한, 표 1에 나타내는 타이밍에 채취한 샘플(m-XDI 조성물)과, 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄(활성 수소 화합물)을 반응시켜, 광학 렌즈(폴리티오우레탄 수지)를 조제하였다. 구체적으로는, 충분히 건조시킨 플라스크에, m-XDI 조성물 36.4g, 디부틸주석디클로라이드 0.001g, 젤렉 UN(상품명, 산성 인산에스테르, 내부 이형제, Stepan사제) 0.07g, 바이오소브 583(상품명, 자외선 흡수제, 사카이 가가쿠 고교사제) 0.05g을 칭량하고, 25℃에서 1시간 교반하여 혼합 용해시켰다. 그 후, 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 33.6g을 장입 혼합하여 혼합액(중합성 조성물)을 조제하였다.
이 혼합액을 600Pa로 1시간 탈포한 후, 3㎛ PTFE 필터로 여과하였다. 그 후, 유리 몰드와 테이프를 포함하는 몰드형에 주입하였다. 이 몰드형을 오븐에 투입하고, 10℃로부터 120℃까지 서서히 승온하여, 18시간 중합시켰다. 중합 종료 후, 오븐으로부터 몰드형을 빼내고, 이형하여 수지를 얻었다. 얻어진 수지를 다시 130℃에서 4시간 어닐하였다. 얻어진 수지의 광학 렌즈 Y. I.를 측정하였다. 그 결과를 표 1 및 도 5에 나타낸다.
용기가 에폭시페놀 코트 캔인 실시예 1은, 비교예 1(산분이 15ppm 이상이고, 또한, 용기가 인산아연 처리 드럼통인 양태)과 비교하여, m-XDI 조성물의 APHA, Y. I. 및 b*를 저감할 수 있어, 광학 렌즈의 Y. I.를 저감할 수 있음이 확인되었다. 또한, 산분이 15ppm 미만이고, 또한, 용기가 인산아연 처리 드럼통인 실시예 2는, 비교예 1과 비교하여, m-XDI 조성물의 APHA를 저감할 수 있음이 확인되었다.
<보존 용기>
·수지층을 구비하는 용기
실시예 1: 에폭시페놀 코트 캔(용기의 내면에 에폭시페놀 수지층을 구비하는 드럼통),
·수지층을 구비하지 않는 용기
실시예 2, 비교예 1: 인산아연 처리 드럼통(인산아연 처리 강판제 드럼통(JFE 컨테이너사제)
참고예 1
m-XDI 조성물을 NBDI 조성물로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, NBDI 조성물을 정치하여 샘플을 채취하였다. 그리고, 각 샘플(NBDI 조성물)의 APHA를, 상기와 마찬가지로 하여 측정하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다. 참고예 1에서는, 용기가 에폭시페놀 캔이면, NBDI 조성물의 APHA가 악화되지 않음이 확인되었다.
참고예 2
m-XDI 조성물을 NBDI 조성물로 변경한 것 이외는, 비교예 1과 마찬가지로 하여, NBDI 조성물을 정치하여 샘플을 채취하였다. 그리고, 각 샘플(NBDI 조성물)의 APHA를, 상기와 마찬가지로 하여 측정하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다. 용기가 인산아연 처리 드럼통이어도, NBDI 조성물의 APHA가 악화되지 않음이 확인되었다.
Figure pct00001
실시예 3, 4
실시예 1, 2 및 비교예 1에서 사용한 m-XDI 조성물과는 다른 제조 로트의 m-XDI 조성물을, 하기의 용기의 각각에 장입하고, 충분히 질소 가스로 시일한 후, 밀폐하였다.
그 후, 20℃의 환경에서, 제조(0개월)로부터 6개월간, 정치하였다.
또한, 표 2에 나타내는 타이밍에, 각 용기를 개방하여 샘플을 채취하였다. 그리고, 각 샘플(m-XDI 조성물)의 APHA를 측정하였다. 그 결과를 표 2에 나타낸다.
또한, 표 2에 나타내는 타이밍에 채취한 샘플(m-XDI 조성물)과, 펜타에리트리톨테트라키스머캅토프로피오네이트(활성 수소 화합물)를 반응시켜, 광학 렌즈(폴리티오우레탄 수지)를 조제하였다. 구체적으로는, 충분히 건조시킨 플라스크에, m-XDI 조성물 43.5g, 디부틸주석디클로라이드 0.008g, 젤렉 UN(상품명, 산성 인산에스테르, 내부 이형제, Stepan사제) 0.10g, 바이오소브 583(상품명, 자외선 흡수제, 사카이 가가쿠 고교사제) 0.05g을 칭량하고, 25℃에서 1시간 교반하여 혼합 용해시켰다. 그 후, 펜타에리트리톨테트라키스머캅토프로피오네이트 56.5g을 장입 혼합하여 혼합액(중합성 조성물)을 조제하였다.
이 혼합액을 600Pa로 1시간 탈포한 후, 3㎛ PTFE 필터로 여과하였다. 그 후, 유리 몰드와 테이프를 포함하는 몰드형에 주입하였다. 이 몰드형을 오븐에 투입하고, 20℃로부터 120℃까지 서서히 승온하여, 22시간 중합시켰다. 중합 종료 후, 오븐으로부터 몰드형을 빼내고, 이형하여 수지를 얻었다. 얻어진 수지를 다시 120℃에서 2시간 어닐하였다. 얻어진 수지의 Y. I.를 측정하였다. 그 결과를 표 2 및 도 6에 나타낸다.
실시예 3에서는, 용기가 에폭시페놀 코트 캔이면, 실시예 4(용기가 에폭시아민 코트 캔인 양태)보다도, 광학 렌즈(수지)의 Y. I.를 저감할 수 있음이 확인되었다.
실시예 5, 6
실시예 3 및 4에서 사용한 m-XDI 조성물과 동일한 제조 로트의 m-XDI 조성물을, 하기의 용기의 각각에 장입하고, 충분히 질소 가스로 시일한 후, 밀폐하였다.
그 후, 20℃의 환경에서, 제조(0개월)로부터 6개월간, 정치하였다.
또한, 표 2에 나타내는 타이밍에, 각 용기를 개방하여 샘플을 채취하였다. 그리고, 각 샘플(m-XDI 조성물)의 APHA를 측정하였다. 그 결과를 표 2에 나타낸다.
또한, 표 2에 나타내는 타이밍에 채취한 샘플(m-XDI 조성물)과, 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄(활성 수소 화합물)을 반응시켜, 광학 렌즈(폴리티오우레탄 수지)를 조제하였다. 구체적으로는, 충분히 건조시킨 플라스크에, m-XDI 조성물 36.4g, 디부틸주석디클로라이드 0.001g, 젤렉 UN(상품명, 산성 인산에스테르, 내부 이형제, Stepan사제) 0.07g, 바이오소브 583(상품명, 자외선 흡수제, 사카이 가가쿠 고교사제) 0.05g을 칭량하고, 25℃에서 1시간 교반하여 혼합 용해시켰다. 그 후, 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 33.6g을 장입 혼합하여 혼합액(중합성 조성물)을 조제하였다.
이 혼합액을 600Pa로 1시간 탈포한 후, 3㎛ PTFE 필터로 여과하였다. 그 후, 유리 몰드와 테이프를 포함하는 몰드형에 주입하였다. 이 몰드형을 오븐에 투입하고, 10℃로부터 120℃까지 서서히 승온하여, 18시간 중합시켰다. 중합 종료 후, 오븐으로부터 몰드형을 빼내고, 이형하여 수지를 얻었다. 얻어진 수지를 다시 130℃에서 4시간 어닐하였다. 얻어진 수지의 Y. I.를 측정하였다. 그 결과를 표 2 및 도 7에 나타낸다.
실시예 5에서는, 용기가 에폭시페놀 코트 캔이면, 실시예 6(용기가 에폭시아민 코트 캔인 양태)보다도, 광학 렌즈(수지)의 Y. I.를 저감할 수 있음이 확인되었다.
<보존 용기>
·수지층을 구비하는 용기
실시예 3 및 5: 에폭시페놀 코트 캔(용기의 내면에 에폭시페놀 수지층을 구비하는 드럼통),
실시예 4 및 6: 에폭시아민 코트 캔(용기의 내면에 에폭시아민 수지층을 구비하는 드럼통).
Figure pct00002
1: 크실릴렌디이소시아네이트가 들어간 용기
2: 용기
3: 용기 본체
4: 수지층

Claims (14)

  1. 크실릴렌디이소시아네이트와,
    상기 크실릴렌디이소시아네이트가 수용된 용기를 구비하고,
    상기 용기의 내면에는, 수지층이 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 크실릴렌디이소시아네이트가 들어간 용기.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 수지층은, 에폭시 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 크실릴렌디이소시아네이트가 들어간 용기.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 수지층은, 에폭시페놀 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 크실릴렌디이소시아네이트가 들어간 용기.
  4. 산분이 15ppm 미만인 크실릴렌디이소시아네이트와,
    상기 크실릴렌디이소시아네이트가 수용된 용기를 구비하고,
    상기 용기의 내면에는, 인산아연 피막이 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 크실릴렌디이소시아네이트가 들어간 용기.
  5. 내면에 수지층이 마련되어 있는 용기 내에서, 크실릴렌디이소시아네이트를 보관하는 것을 특징으로 하는 크실릴렌디이소시아네이트의 보관 방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 수지층은, 에폭시 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 크실릴렌디이소시아네이트의 보관 방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 수지층은, 에폭시페놀 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 크실릴렌디이소시아네이트의 보관 방법.
  8. 내면에 수지층이 마련되어 있지 않고 인산아연 피막이 마련되어 있는 제1 용기 내에서, 산분이 15ppm 미만인 크실릴렌디이소시아네이트를 보관하는 것을 특징으로 하는 크실릴렌디이소시아네이트의 보관 방법.
  9. 제8항에 있어서,
    크실릴렌디이소시아네이트의 산분을 측정하는 공정과,
    측정된 산분이 15ppm 이상인 경우, 상기 크실릴렌디이소시아네이트를, 내면에 수지층이 마련되어 있는 제2 용기에 수용하고, 측정된 산분이 15ppm 미만인 경우, 상기 제1 용기에 수용하는 공정을 포함하는 크실릴렌디이소시아네이트의 보관 방법.
  10. 내면에 수지층이 마련되어 있는 용기 내에, 크실릴렌디이소시아네이트를 보관하여 수송하는 것을 특징으로 하는 크실릴렌디이소시아네이트의 수송 방법.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 수지층은, 에폭시 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 크실릴렌디이소시아네이트의 수송 방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 수지층은, 에폭시페놀 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 크실릴렌디이소시아네이트의 수송 방법.
  13. 내면에 수지층이 마련되어 있지 않고 인산아연 피막이 마련되어 있는 제1 용기 내에, 산분이 15ppm 미만인 크실릴렌디이소시아네이트를 보관하여 수송하는 것을 특징으로 하는 크실릴렌디이소시아네이트의 수송 방법.
  14. 제13항에 있어서,
    크실릴렌디이소시아네이트의 산분을 측정하는 공정과,
    측정된 산분이 15ppm 이상인 경우, 상기 크실릴렌디이소시아네이트를, 내면에 수지층이 마련되어 있는 제2 용기에 수용하고, 측정된 산분이 15ppm 미만인 경우, 상기 크실릴렌디이소시아네이트를, 상기 제1 용기에 수용하는 공정을 포함하는 크실릴렌디이소시아네이트의 수송 방법.
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