KR101988494B1 - 안정성 및 반응성이 개선된 자이릴렌디이소시아네이트 조성물, 및 이를 이용한 광학 렌즈 - Google Patents

안정성 및 반응성이 개선된 자이릴렌디이소시아네이트 조성물, 및 이를 이용한 광학 렌즈 Download PDF

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Abstract

실시예에 따른 자일릴렌디이소시아네이트 조성물은 염소 함량이 100~1000 ppm으로 조절되어 안정성이 개선되었으므로 장기간 보관 시에도 반응성 저하를 방지할 수 있다. 따라서 실시예에 따른 자일릴렌디이소시아네이트 조성물은 제조 후에 판매 등을 위해 장기간 보관된 후에 사용되더라도, 티올과 중합하여 굴절률, 아베수, 투명도, 유리전이온도, 황색도 등의 물성이 우수한 폴리티오우레탄계 광학 재료로 제조될 수 있어서, 안경 렌즈, 카메라 렌즈 등의 분야에서 유용하다.

Description

안정성 및 반응성이 개선된 자이릴렌디이소시아네이트 조성물, 및 이를 이용한 광학 렌즈{XYLYLENE DIISOCYANATE COMPOSITION WITH IMPROVED STABILITY AND REACTIVITY, AND OPTICAL LENS USING THE SAME}
실시예는 광학 재료의 제조에 사용되는 자일릴렌디이소시아네이트 조성물에 관한 것으로서, 보다 구체적으로 안정성 및 반응성이 개선된 자일릴렌디이소시아네이트 조성물, 및 이를 이용한 플라스틱 광학 렌즈 등의 광학 재료에 관한 것이다.
플라스틱 광학 재료는 유리와 같은 무기 재료로 이루어지는 광학 재료에 비해 경량이면서 쉽게 깨지지 않고 염색성이 우수하기 때문에, 안경 렌즈, 카메라 렌즈 등의 광학 재료로 널리 이용되고 있다. 최근에는 고투명성, 고굴절율, 저비중, 고내열성, 고내충격성 등의 광학 재료의 고성능화가 요구되고 있다.
플라스틱 광학 재료 중 폴리티오우레탄은 우수한 광학 특성 및 기계적 물성을 가져 광학 재료로서 널리 사용되고 있다. 폴리티오우레탄은 티올과 이소시아네이트를 반응시켜 제조할 수 있으며, 폴리티오우레탄으로부터 제조된 렌즈는 굴절율이 높고 가벼우며 비교적 내충격성이 높아 널리 사용되고 있다.
폴리티오우레탄의 원료로 사용되는 이소시아네이트 중 자일릴렌디이소시아네이트는 일반적으로 자일릴렌디아민으로부터 포스겐(phosgene)을 이용한 방법 또는 비포스겐(non-phosgene) 방법에 의해 합성되며 매우 광범위한 분야에서 상업적으로 유용하게 사용되고 있다.
자일릴렌디이소시아네이트는 다양한 장점을 가짐에도, NCO기의 높은 반응성으로 인해 제품 제조시에 균일한 특성을 구현해 내기 어렵고 부반응으로 인해 장기간 저장 시에 본래의 물성을 잃어버리기 쉬운 단점이 있다. 구체적으로, 자일릴렌디이소시아네이트는 NCO기의 자가반응으로 인해 이량체(dimer) 또는 삼량체(trimer)가 형성되어 NCO%가 변화하고, 그 결과 고상의 물질이 석출되기도 하며, 또한 외부로부터 유입된 수분과의 반응으로 인해 이러한 현상이 더욱 가속화되는 문제가 있다. 이를 방지 혹은 지연시키기 위하여 여러가지 안정제를 사용하기도 하지만, 이는 황변을 유발하거나 반응성에 영향을 주어 폴리우레탄 제조시 또 다른 문제점을 발생시키기도 한다. 뿐만 아니라, 자일릴렌디이소시아네이트의 경우 다른 종류의 이소시아네이트와는 달리 첨가제의 종류 및 함량에 따른 부작용이 훨씬 크게 나타나기 때문에 최적의 배합을 찾는데 어려움이 있다.
한국 공개특허공보 제2012-0076329호 (2012.07.09.)
자일릴렌디이소시아네이트를 이용하여 광학 재료를 제조 시에, 높은 반응성으로 인해 다양한 종류의 부반응이 유발될 수 있고, 이는 고상 물질을 발생시켜 광학 특성에 치명적인 영향을 줄 수 있다. 이를 해결하기 위해 자일릴렌디이소시아네이트 내의 반응성에 영향을 줄 수 있는 불순물들을 극미량으로 줄이려는 시도가 있으나, 불순물의 함량을 최대로 낮추는 것은 상업적으로 상당히 어렵고 관리에도 비용이 많이 든다.
이에 본 발명자들이 연구한 결과, 자일릴렌디이소시아네이트 조성물이 일정량의 염소를 함유할 경우 안정성이 개선되어 반응성 저하를 방지할 수 있음을 발견하였다.
따라서, 실시예를 통해 염소 함량을 특정 범위로 조절하여 안정성 및 반응성이 개선된 자일릴렌디이소시아네이트 조성물 및 이의 제조방법을 제공하고자 한다.
또한 실시예를 통해 장기간 저장 시에도 안정한 자일릴렌디이소시아네이트 조성물의 저장체를 제공하고자 한다.
또한 실시예를 통해 상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물을 이용한 중합성 조성물, 광학 재료, 및 플라스틱 광학 렌즈의 제조방법을 제공하고자 한다.
일 실시예에 따르면, 염소 함량이 100~1000 ppm이고 NCO 함량이 43~46 중량%인, 자일릴렌디이소시아네이트 조성물이 제공된다.
다른 실시예에 따르면, NCO 함량이 43~46 중량%인 자일릴렌디이소시아네이트; 및 염소 이온과 염소계 저장 안정제 중에서 적어도 하나를 포함하고, 염소와 반응성이 없는 용기에 밀봉되어 80℃의 온도로 6개월간 방치될 때, NCO 함량의 변화가 초기 대비 4% 이내인, 자일릴렌디이소시아네이트 조성물이 제공된다.
또 다른 실시예에 따르면, (1) 자일릴렌디아민으로부터 이소시아네이트 합성 공정에 의해 자일릴렌디이소시아네이트를 함유하는 조성물을 얻는 단계; 및 (2) 상기 단계 (1)에서 얻은 조성물에 염소 이온과 염소계 저장 안정제 중에서 적어도 하나를 첨가하여, 조성물 내의 염소 함량을 100~1000 ppm으로 조절하는 단계를 포함하는, 자일릴렌디이소시아네이트 조성물의 제조방법이 제공된다.
또 다른 실시예에 따르면, 염소 함량이 100~1000 ppm이고 NCO 함량이 43~46 중량%인 자일릴렌디이소시아네이트 조성물; 및 상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물을 수용하는 용기를 포함하고, 상기 용기에서 상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물과 접촉하는 부위는 염소와 반응성이 없는, 자일릴렌디이소시아네이트 조성물 저장체가 제공된다.
또 다른 실시예에 따르면, 염소 함량이 100~1000 ppm이고 NCO 함량이 43~46 중량%인 자일릴렌디이소시아네이트 조성물; 및 티올을 포함하는, 중합성 조성물이 제공된다.
또 다른 실시예에 따르면, 염소 함량이 100~1000 ppm이고 NCO 함량이 43~46 중량%인 자일릴렌디이소시아네이트 조성물과 티올이 중합되어 형성된 폴리티오우레탄을 포함하는 광학 재료가 제공된다.
또 다른 실시예에 따르면, 염소 함량이 100~1000 ppm이고 NCO 함량이 43~46 중량%인 자일릴렌디이소시아네이트 조성물을 제조하는 단계; 및 상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물과 티올을 혼합하고 금형에서 가열 경화시키는 단계를 포함하는, 광학 렌즈의 제조방법이 제공된다.
실시예에 따른 자일릴렌디이소시아네이트 조성물은 일정량의 염소를 함유하여 안정성이 개선되었으므로 장기간 보관 시에도 반응성 저하를 방지할 수 있다.
따라서 실시예에 따른 자일릴렌디이소시아네이트 조성물은 제조 후에 판매 등을 위해 장기간 보관된 후에 사용되더라도, 티올과 중합하여 굴절률, 아베수, 투명도, 유리전이온도, 황색도 등의 물성이 우수한 폴리티오우레탄계 광학 재료로 제조될 수 있어서, 안경 렌즈, 카메라 렌즈 등의 분야에서 유용하다.
일 실시예에 따른 자일릴렌디이소시아네이트 조성물은, 염소 함량이 100~1000 ppm이고 NCO 함량이 43~46 중량%이다.
이와 같이 상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물은 100~1000 ppm 범위로 조절된 염소 함량을 갖는다.
조성물 내 염소 함량이 상기 범위 미만이면 높은 반응성을 효과적으로 억제하지 못하여 NCO 간의 자가반응 등으로 인해 장기간 저장 시에 백탁 및 침전물이 발생할 수 있고, 상기 범위 초과이면 과량의 염소 또는 염소계 화합물로 인한 황변이 발생할 수 있다.
상기 염소 함량은 자일릴렌디이소시아네이트 조성물 내에 함유된 염소 이온과 염소계 화합물 중의 염소 성분들의 총 함량을 의미하는 것으로서, 연소이온크로마토그래피 등의 방식으로 측정될 수 있다.
또한, 상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물은 NCO 함량(NCO%)이 43~46 중량%이다.
상기 NCO 함량 범위는 자일릴렌디이소시아네이트에서 NCO 간의 자가반응이 일어나지 않은 상태의 이론적 NCO 함량에 근접한 것으로서, 상기 범위 내일 때 실시예에 따른 자일릴렌디이소시아네이트 조성물의 물성이 저하되지 않을 수 있다.
상기 NCO 함량(NCO%)은 조성물 내에 포함된 자유 NCO(반응성 NCO) 그룹의 중량을 백분율로 환산한 값으로서, 염산을 이용한 역적정 등의 방식으로 측정될 수 있다.
보다 구체적인 예시로서, 상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물의 염소 함량은 100~700 ppm 범위일 수 있다.
상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물은 염소 이온과 염소계 저장 안정제 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다.
일례로서, 상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물은 하기 화학식 1 또는 2로 표시되는 염소계 저장 안정제를 1종 이상 포함할 수 있다.
[화학식 1]
Figure 112017121170778-pat00001
[화학식 2]
Figure 112017121170778-pat00002
상기 식에서, n은 1 내지 3의 정수이고; R1은 치환 또는 비치환된 C6- 10아릴이고; R2는 C1- 10알킬렌이고; R3는 치환 또는 비치환된 C6- 10아릴, 또는 치환 또는 비치환된 C1- 10알킬이며, 상기 아릴 및 알킬에 치환되는 그룹은 각각 독립적으로 할로겐, 하이드록시, 아미노 등으로 이루어진 군에서 선택될 수 있다.
구체적인 예로서, 상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물은 벤조트리클로라이드(하기 화학식 3), 벤질클로라이드(하기 화학식 4), 벤조일클로라이드(하기 화학식 5) 및 C1- 10알카노일클로라이드(하기 화학식 6)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 염소계 저장 안정제를 포함할 수 있다.
Figure 112017121170778-pat00003
상기 화학식 7에서 R은 C1-10알킬이다.
상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물은 저장 안정성이 매우 우수하다.
예를 들어, 상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물은 80℃의 온도에서 6개월간 방치될 때, 발생되는 침전물의 양이 조성물의 총 중량을 기준으로 1 중량% 이하, 0.5 중량% 이하, 또는 0.3 중량% 이하일 수 있다.
상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물은, 80℃의 온도에서 6개월간 방치될 때, NCO 함량의 변화가 초기 대비 5 중량% 이내일 수 있고, 보다 바람직하게는 4 중량% 이내, 3 중량% 이내, 2 중량% 이내, 또는 1 중량% 이내일 수 있다.
또한, 상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물은, 염소와 반응성이 없는 용기에 밀봉되어 80℃의 온도로 6개월간 방치될 때, NCO 함량의 변화가 초기 대비 4 중량% 이내일 수 있고, 보다 바람직하게는 3 중량% 이내, 2 중량% 이내, 또는 1 중량% 이내일 수 있다.
따라서, 일 실시예에 따른 자일릴렌디이소시아네이트 조성물은, NCO 함량이 43~46 중량%인 자일릴렌디이소시아네이트; 및 염소 이온과 염소계 저장 안정제 중에서 적어도 하나를 포함하고, 염소와 반응성이 없는 용기에 밀봉되어 80℃의 온도로 6개월간 방치될 때, NCO 함량의 변화가 초기 대비 4 중량% 이내일 수 있다.
상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물 내의 자일릴렌디이소시아네이트 함량은 90 중량% 이상, 95 중량% 이상, 또는 99 중량% 이상일 수 있고, 예를 들어 99 중량% 이상 내지 100 중량% 미만일 수 있다.
실시예에 따른 자일릴렌디이소시아네이트 조성물의 제조방법은, (1) 자일릴렌디아민으로부터 이소시아네이트 합성 공정에 의해 자일릴렌디이소시아네이트를 함유하는 조성물을 얻는 단계; 및 (2) 상기 단계 (1)에서 얻은 조성물에 염소 이온과 염소계 저장 안정제 중에서 적어도 하나를 첨가하는 공정을 수행하여 조성물 내의 염소 함량을 100~1000 ppm으로 조절하는 단계를 포함한다.
이하 각 단계별로 구체적으로 설명한다.
상기 단계 (1)에서는 자일릴렌디아민을 이소시아네이트 합성 공정(포스겐법 또는 비포스겐법)에 의해 자일릴렌디이소시아네이트를 함유하는 조성물을 얻는다.
예를 들어, 자일릴렌디아민을 포스겐, 할로C1 - 10알킬클로로포르메이트 또는 할로디C1-10알킬카보네이트와 반응시켜 자일릴렌디이소시아네이트를 함유하는 조성물을 얻을 수 있다.
포스겐법의 일례에 따르면, 하기 반응식 1에서 보듯이, 자일릴렌디아민을 에스테르계 용매 중에서 30℃ 이하의 온도로 염산과 반응시켜 아민 염산염을 얻은 후, 이를 120~170℃에서 포스겐과 반응시켜 자일릴렌디이소시아네이트를 합성할 수 있다.
[반응식 1]
Figure 112017121170778-pat00004
비포스겐법의 일례에 따르면, 하기 반응식 2에서 보듯이, 자일릴렌디아민을 할로C1-10알킬클로로포르메이트 또는 할로디C1 - 10알킬카보네이트와 반응시켜 비스카바메이트를 제조하고, 촉매 및 고온 조건(130~250℃) 하의 용매 중에서 열분해하여 자일릴렌디이소시아네이트를 합성할 수 있다.
[반응식 2]
Figure 112017121170778-pat00005
상기 반응식 2에서 R은 할로C1 - 10알킬이다.
여기서 상기 할로는 플루오로, 클로로, 브로모 또는 아이오도일 수 있다.
이상의 방법에 의해 자일릴렌디이소시아네이트를 함유하는 조성물이 제조되며, 이때 상기 포스겐법에 의해서는 수소화가 가능한 염소 이온이 함께 생성되고, 상기 비포스겐법에 의해서는 수소화가 가능한 염소 이온이 생성되지 않으므로, 조성물 내의 염소 함량을 인위적으로 조절하는 것이 필요하다.
상기 단계 (2)에서는 앞선 단계에서 얻는 조성물 내의 염소 함량을 100~1000 ppm으로 조절한다.
상기 염소 함량 조절은 상기 조성물에 염소 이온과 염소계 저장 안정제 중에서 적어도 하나를 첨가하여 수행될 수 있다.
예를 들어, 상기 염소 이온을 첨가하는 공정은, 상기 조성물을 상온에서 교반하면서 염소 가스를 주입하여 용해시킨 후 감압 하에서 비용해 상태의 염소 가스를 제거함으로써 수행될 수 있다
또한, 상기 염소계 저장 안정제를 첨가하는 공정은, 상기 조성물에 1종 이상의 염소계 저장 안정제를 첨가하고 20~50℃ 사이에서 교반시켜 혼합하여 수행될 수 있다. 이때 상기 염소계 저장 안정제는 앞서 예시한 종류의 화합물을 필요한 양으로 적절히 사용할 수 있다. 바람직하게는, 상기 염소 함량 조절은 상기 조성물에 벤조트리클로라이드, 벤질클로라이드, 벤조일클로라이드 및 C1- 10알카노일클로라이드로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 염소계 저장 안정제를 첨가하여 수행될 수 있다.
또한, 상기 조성물 내의 염소 이온 또는 염소계 화합물이 과도하게 존재/투입되었을 경우 이를 제거하는 공정을 추가로 수행할 수 있다. 즉, 상기 단계 (2) 이후에, 상기 조성물 내에 존재하는 과량의 염소 이온 또는 염소계 화합물을 제거하기 위해 가열 증류하여, 조성물 내의 염소 함량을 100~1000 ppm으로 조절하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.
또한, 각 염소 첨가/제거 공정 후에, 조성물 내의 염소 함량을 측정하여 필요시 상기 이들 공정을 추가로 더 수행하여 염소 함량을 100~1000 ppm으로 조절할 수 있다.
실시예에 따른 자일릴렌디이소시아네이트 조성물의 저장체는, 염소 함량이 100~1000 ppm이고 NCO 함량이 43~46 중량%인 자일릴렌디이소시아네이트 조성물; 및 상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물을 수용하는 용기를 포함하고, 상기 용기에서 상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물과 접촉하는 부위는 염소와 반응성이 없다.
자일릴렌디이소시아네이트 조성물 내의 염소 성분이 금속 등의 반응성 물질과 접촉할 경우 시간의 경과에 따라 자일릴렌디이소시아네이트 조성물 내에 금속 이온 등의 불순물의 농도가 높아져 변질의 우려가 있고, 나아가 렌즈 제조시 반응성 및 광학 특성에 치명적인 영향을 줄 수 있다.
따라서, 실시예에 따른 저장체는 염소와 반응성이 없는 접촉부를 갖는 용기를 사용하여, 용기의 부식으로 인한 금속 이온 등의 용출을 방지할 수 있다.
예를 들어, 상기 용기에서 상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물과 접촉하는 부위는 비금속으로 이루어질 수 있다.
보다 구체적으로, 상기 용기에서 상기 조성물과 접촉하는 부위는 염소와 반응성이 없는 에폭시계, 폴리에틸렌계, 불소계(테프론 등), 실리콘계, 페놀계, 알키드계, 폴리에스테르계, 아크릴계, 아미노계, 비닐계 코팅제 등의 폴리머 코팅제; 또는 몰리브덴계, 포스페이트계, 아연계 코팅제 등의 무기금속계 등이 1종 이상 코팅된 것일 수 있다.
이와 같은 상기 저장체는 용기와 조성물 간에 반응을 일으키지 않으므로, 장기간 보관하여도 용기로부터 조성물에 용출되는 물질이 거의 없다.
구체적인 일례로서, 상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물은, 상기 용기에 밀봉되어 80℃의 온도로 6개월간 방치될 때, 조성물 내 NCO 함량의 변화가 초기 대비 4 중량% 이내이고, 상기 용기로부터 용출된 물질(금속 등)의 총 함량이 1 ppm 이내일 수 있고, 보다 바람직하게는 0.8 ppm 이내, 0.6 ppm 이내, 또는 0.4 ppm 이내일 수 있다.
다른 예로서, 상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물은, 상기 용기에 밀봉되어 100℃의 온도로 1개월간 방치될 때, 조성물 내 NCO 함량의 변화가 초기 대비 4 중량% 이내이고, 상기 용기로부터 용출된 물질(금속 등)의 총 함량이 1 ppm 이내일 수 있고, 보다 바람직하게는 0.8 ppm 이내, 0.6 ppm 이내, 또는 0.4 ppm 이내일 수 있다.
실시예에 따른 중합성 조성물은, 염소 함량이 100~1000 ppm이고 NCO 함량이 43~46 중량%인 자일릴렌디이소시아네이트 조성물; 및 티올을 포함한다.
상기 중합성 조성물은 상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물 및 티올을 혼합 상태로 포함하거나 또는 분리된 상태로 포함할 수 있다.
즉, 상기 중합성 조성물 내에서, 상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물 및 티올은, 서로 접촉하여 배합된 상태이거나, 또는 서로 접촉하지 않도록 분리된 상태일 수 있다.
상기 중합성 조성물은, 조성물 내의 SH기/NCO기의 몰비가, 0.5 내지 3.0일 수 있고, 보다 구체적으로는 0.8 내지 1.3 일 수 있다.
상기 티올은 티올 올리고머 또는 폴리티올일 수 있으며, 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 티올의 구체적인 예로는, 3,3'-티오비스[2-[(2-메르캅토에틸)티오]-1-프로판티올, 비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필)설파이드, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판-1-티올, 2,2-비스(메르캅토메틸)-1,3-프로판디티올, 비스(2-메르캅토에틸)설파이드, 테트라키스(메르캅토메틸)메탄, 2-(2-메르캅토에틸티오)프로판-1,3-디티올, 2-(2,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로필티오)에탄티올, 비스(2,3-디메르캅토프로판일)설파이드, 비스(2,3-디메르캅토프로판일)디설파이드, 1,2-비스[(2-메르캅토에틸)티오]-3-메르캅토프로판, 1,2-비스(2-(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로필티오)에탄, 2-(2-메르캅토에틸티오)-3-2-메르캅토-3-[3-메르캅토-2-(2-메르캅토에틸티오)-프로필티오]프로필티오-프로판-1-티올, 2,2-비스-(3-메르캅토-프로피오닐옥시메틸)-부틸에스테르, 2-(2-메르캅토에틸티오)-3-(2-(2-[3-메르캅토-2-(2-메르캅토에틸티오)-프로필티오]에틸티오)에틸티오)프로판-1-티올, (4R,11S)-4,11-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,12-테트라티아테트라데칸-1,14-디티올, (S)-3-((R-2,3-디메르캅토프로필)티오)프로판-1,2-디티올, (4R,14R)-4,14-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,12,15-펜타티아헵탄-1,17-디티올, (S)-3-((R-3-메르캅토-2-((2-메르캅토에틸)티오)프로필)티오)프로필)티오)-2-((2-메르캅토에틸)티오)프로판-1-티올, 3,3'-디티오비스(프로판-1,2-디티올), (7R,11S)-7,11-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,12,15-펜타티아헵타데칸-1,17-디티올, (7R,12S)-7,12-비스(메르캅토메틸)-3,6,9,10,13,16-헥사티아옥타데칸-1,18-디티올, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 트라이메틸올프로판 트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에트리톨테트라키스(2-메르캅토아세테이트), 비스펜타에리트리톨에테르헥사키스(3-메르캅토프로피오네이트), 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,1,2,2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안, 펜타에트리톨테트라키스(2-메르캅토아세테이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 2-(2,2-비스(메르캅토디메틸티오)에틸)-1,3-디티안 등을 들 수 있다.
상기 중합성 조성물은, 그 외에도 필요에 따라, 내부 이형제, 자외선 흡수제, 중합개시제, 열안정제, 색상보정제, 사슬연장제, 가교제, 광안정제, 산화방지제, 충전제 등의 첨가제를 더 포함할 수 있다.
상기 내부 이형제로는, 퍼플루오르알킬기, 히드록시알킬기 또는 인산에스테르기를 지닌 불소계 비이온계면활성제; 디메틸폴리실록산기, 히드록시알킬기 또는 인산에스테르기를 가진 실리콘계 비이온계면활성제; 알킬제 4급 암모늄염 즉, 트리메틸세틸 암모늄염, 트리메틸스테아릴, 디메틸에틸세틸 암모늄염, 트리에틸도데실 암모늄염, 트리옥틸메틸 암모늄염, 디에틸시클로헥사도데실 암모늄염; 산성 인산에스테르 중에서 선택된 성분이 단독으로 혹은 2종 이상 함께 사용될 수 있다.
상기 자외선 흡수제로는 벤조페논계, 벤조트라이아졸계, 살리실레이트계, 시아노아크릴레이트계, 옥사닐라이드계 등이 사용될 수 있다.
상기 중합개시제로는 아민계, 인계, 유기주석계, 유기구리계, 유기갈륨, 유기지르코늄, 유기철계, 유기아연, 유기알루미늄 등이 사용될 수 있다.
상기 열안정제로는, 금속 지방산염계, 인계, 납계, 유기주석계 등을 1종 또는 2종 이상 혼합하여 사용가능하다.
실시예에 따른 광학 재료는, 염소 함량이 100~1000 ppm이고 NCO 함량이 43~46 중량%인 자일릴렌디이소시아네이트 조성물과 티올이 중합되어 형성된 폴리티오우레탄을 포함한다.
실시예에 따른 광학 재료의 원료인 폴리티오우레탄은 상기 염소 함량이 조절된 자일릴렌디이소시아네이트 조성물과 티올이 중합(및 경화)되어 제조된다.
이때 상기 중합 반응에서 SH기/NCO기의 몰비는 0.5 내지 3.0일 수 있고, 보다 구체적으로는 0.8 내지 1.3일 수 있다.
또한, 상기 중합 반응 시에 반응 속도를 조절하기 위해서, 폴리우레탄의 제조에 통상적으로 이용되는 반응 촉매가 첨가될 수 있다. 상기 경화 촉매(중합 개시제)로는 주석계 촉매를 사용할 수 있으며, 예를 들어 디부틸틴디클로라이드, 디부틸틴디라우레이트, 디메틸틴디클로라이드 등을 사용할 수 있다.
보다 구체적으로, 실시예에 따른 광학 재료는 상기 염소 함량이 조절된 자일릴렌디이소시아네이트 조성물과 티올이 중합(및 경화)되면서 성형되어 제조될 수 있다.
이와 같이 실시예에 따른 자일릴렌디이소시아네이트 조성물을 이용하여 얻은 광학 재료는 광학적 특성이 우수하다. 따라서, 상기 광학 재료는 안경 렌즈, 카메라 렌즈 등으로 유용하게 사용될 수 있다. 상기 광학 재료는 바람직하게는 폴리티오우레탄계 렌즈, 즉 플라스틱 광학 렌즈일 수 있다.
실시예에 따른 광학 렌즈의 제조방법은, 염소 함량이 100~1000 ppm이고 NCO 함량이 43~46 중량%인 자일릴렌디이소시아네이트 조성물을 제조하는 단계; 및 상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물과 티올을 혼합하고 금형에서 가열 경화시키는 단계를 포함한다.
이때 상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물을 제조하는 단계는, (1) 자일릴렌디아민으로부터 이소시아네이트 합성 공정에 의해 자일릴렌디이소시아네이트를 함유하는 조성물을 얻는 단계; 및 (2) 상기 단계 (1)에서 얻은 조성물에 염소 이온과 염소계 저장 안정제 중에서 적어도 하나를 첨가하는 공정을 수행하여 조성물 내의 염소 함량을 100~1000 ppm으로 조절하는 단계를 포함할 수 있다.
또한 상기 각 단계 (1) 및 (2)는, 앞서 자일릴렌디이소시아네이트 조성물의 제조방법의 단계 (1) 및 (2)에서 설명한 바와 같은 조건 및 절차대로 수행될 수 있으며, 필요시 앞서 예시한 바와 같이 가열 증류를 통해 과량의 염소를 제거하는 공정이 추가될 수도 있다.
이후 상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물을 티올과 혼합하고 금형에서 가열 경화시킨다. 이를 위해, 먼저 자일릴렌디이소시아네이트 조성물을 티올과 혼합하여 중합성 조성물을 제조하고, 상기 중합성 조성물을 감압 하에 탈기(degassing)한 후, 광학 재료 성형용 금형에 주입한다. 이와 같은 탈기 및 금형 주입은 예를 들어 20~40℃의 온도 범위에서 수행될 수 있다.
금형에 주입한 후에는 통상 저온으로부터 고온으로 서서히 가열하여 중합을 수행한다. 상기 중합 반응의 온도는 예를 들어 30~150℃일 수 있고, 보다 구체적으로 40~130℃일 수 있다. 또한, 반응 속도를 조절하기 위해서, 폴리우레탄의 제조에 통상적으로 이용되는 반응 촉매가 첨가될 수 있으며, 이의 구체적인 종류는 앞서 예시한 바와 같다.
그 결과 얻어진 폴리티오우레탄 성형물을 금형으로부터 분리하여, 최종 광학 렌즈를 얻을 수 있다.
이와 같이 제조된 광학 렌즈는 유리전이온도(Tg)가 우수하다. 예를 들어, 상기 광학 렌즈는 유리전이온도(Tg)가 95℃ 이상, 100℃ 이상, 105℃ 이상, 또는 110℃ 이상일 수 있고, 구체적으로 95~130℃의 범위, 100~130℃의 범위, 또는 105~125℃의 범위일 수 있다.
이와 같이 제조된 광학 렌즈는 무색 투명하며 굴절률과 아베수 등의 광학 특성이 우수하다.
상기 광학 렌즈는 굴절률이 1.56~1.78의 범위일 수 있고, 보다 한정하면 1.58~1.76의 범위, 1.60~1.78의 범위, 1.60~1.76의 범위, 1.65~1.75의 범위, 또는 1.69~1.75의 범위일 수 있다.
상기 광학 렌즈는 아베수가 20 이상일 수 있고, 더 구체적으로 30 이상일 수 있다. 예를 들어, 상기 광학 렌즈는 아베수가 20 내지 50의 범위, 25 내지 50의 범위, 30 내지 45의 범위, 또는 30 내지 43의 범위일 수 있다.
상기 광학 렌즈는 광투과율, 예를 들어 550nm 파장에서의 광투과율이 85.0% 내지 99.9%일 수 있고, 보다 한정하면 87.0% 내지 99.0%, 또는 87.0% 내지 95.0%일 수 있다.
상기 광학 렌즈는 황색도(YI)가 25 이하, 또는 20 이하일 수 있고, 구체적으로 1~25의 범위, 1~20의 범위, 3~20의 범위, 또는 5~15의 범위일 수 있다.
또한, 상기 광학 렌즈는 유리전이온도(Tg)가 90℃ 이상, 또는 95℃ 이상일 수 있고, 구체적으로 90~130℃의 범위, 95~120℃의 범위, 또는 95~115℃의 범위일 수 있다.
바람직한 일례에 따르면, 상기 광학 렌즈는 1~20의 황색도(YI), 및 550nm 파장에서 85~99%의 광투과율을 가질 수 있다. 또한, 이때 상기 광학 렌즈는 30~45의 아베수, 및 95~120℃의 유리전이온도를 가질 수 있다.
이하 보다 구체적인 실시예들이 예시적으로 설명된다.
실시예 1: 자일릴렌디이소시아네이트 조성물의 염소 함량 조절
(1) 재료의 준비
m-자일릴렌아민 15 중량부를 o-디클로로벤젠 78 중량부에 용해시켜 아민 용액을 제조하였다. 이후 o-디클로로벤젠 52 중량부에 포스겐 44 중량부를 용해시킨 용액을 브라인 컨덴서로 10℃로 냉각하여 반응용기에 넣고, 여기에 상기 제조한 아민 용액을 50℃ 이하의 온도에서 서서히 첨가하였다. 이때, 아민 용액의 첨가량은 아민 1몰에 대해 포스겐 5몰이 되도록 하였다. 이후, 반응용기를 밀봉하고 2시간 동안 반응 용액을 교반하였다. 140℃의 온도 및 3 kg/cm2의 압력 조건으로 3시간 동안 반응을 더 진행한 후에, 반응에서 생성된 염산 기체를 방출하였다. 반응이 완료된 후, 초과량의 포스겐을 증류 공정에 의해서 제거하였다. 생성물을 감압 하의 분별 증류를 통해 정제하여 m-XDI 조성물을 얻었다.
(2) 염소 함량의 조절
앞서 얻은 m-XDI 조성물에 염소 이온과 염소계 저장 안정제 중에서 적어도 하나를 첨가하는 공정을 수행하여 염소 함량을 다양하게 조절하였다.
이때 염소 이온을 첨가하는 공정은, 자일릴렌디이소시아네이트를 상온에서 교반하면서 염소 가스를 주입하여 1시간 동안 용해시키고, 그 후 감압 하에서 약 30분간 비용해 상태의 염소 가스를 제거함으로써 수행되었다.
또한, 염소계 저장 안정제를 첨가하는 공정은, 아래 표 1에 기재된 각각의 염소계 저장 안정제를 첨가하여 35℃에서 1시간 가량 충분히 교반시킴으로써 수행되었다.
이후, 조성물 내 염소의 함량을 연소이온크로마토그래피로 측정하여 과량이 존재할 경우 조성물을 80℃에서 증류하여 염소 이온 혹은 염소계 화합물을 제거하였다. 그리고, 다시 염소 함량을 측정하여 필요한 경우 앞서의 공정들을 반복한 뒤, 조성물 내의 최종 염소 함량을 하기 표 1에 정리하였다.
시험예 1: 염소 함량에 따른 조성물의 저장 안정성 평가
상기 실시예 1에서 염소 함량이 조절된 m-XDI 조성물들의 초기 NCO 함량(NCO%)을 역적정(back titration) 방법으로 측정하였다. 먼저 이론적 NCO 대비 과량의 n-부틸아민을 투입하여 반응시키고, 잔류하는 과량의 n-부틸아민을 0.1 N 농도의 염산 시약으로 분석하였다. 그 결과를 하기 표 1에 정리하였다.
또한 m-XDI 조성물들의 초기 색상, 백탁 발생 여부, 및 침전물 존재 여부를 표 1에 정리하였다. 백탁 및 침전물 여부는 투명한 유리병에 m-XDI 조성물들을 넣고 질소를 충진하여 밀봉한 다음 하루 이상 방치하고, 외관 및 바닥에 가라 앉은 물질의 여부를 관찰하여 판정하였다.
이후 m-XDI 조성물들을 6개월간 80℃에서 보관하고, 앞서와 같은 방식으로 m-XDI 조성물들의 NCO%를 측정하고, 색상, 백탁 발생 여부, 및 침전물 존재 여부를 육안으로 관찰하여 하기 표 1에 정리하였다.
구분 염소
(ppm)		 초기값 6개월 후 (@80℃)
NCO% 색상 백탁 침전 NCO% 색상 백탁 침전
m-XDI 조성물 1 15 44.6 투명 X X 39.2 투명 O O
조성물 2 60 44.5 투명 X X 40.3 투명 O O
조성물 3 100 44.5 투명 X X 44.5 투명 X X
조성물 4 300 44.3 투명 X X 44.2 투명 X X
조성물 5 530 44.5 투명 X X 44.6 투명 X X
조성물 6 750 44.6 투명 X X 44.5 투명 X X
조성물 7 1000 44.5 투명 X X 44.2 투명 X X
조성물 8 1180 44.5 투명 X X 44.6 황변 X X
조성물 9 1400 44.3 투명 X X 44.2 황변 X X
조성물 10 2000 44.5 투명 X X 44.5 황변 X X
상기 표 1에서 보듯이, 염소 함량이 100~1000 ppm 이내인 m-XDI 조성물들(조성물 3~7)은 모두 6개월 보관 이후 NCO%의 변동이 거의 없으면서 투명한 색상을 유지하였고 백탁이나 침전이 발생하지 않아서 장기간 저장 시에도 안정성이 우수한 것으로 확인되었다.
반면, 염소 함량이 100 ppm 미만이거나 1000 ppm 초과인 그 외 m-XDI 조성물들은 6개월 보관 이후에 황변이 발생하거나 백탁과 침전이 발생하여 장기간 보관 시에 안정성이 저하됨을 확인하였다.
시험예 2: 보관 용기에 따른 조성물의 저장 안정성 평가
염소 함량이 다양하게 조절된 m-XDI 조성물을 준비하고 이들의 초기 금속 이온 농도를 분석한 뒤, 서로 다른 재질의 용기에서 80℃에서 6개월간 보관하고 잔류 금속 이온 농도를 분석하였다.
표 2는 스테인레스스틸(SUS 304) 용기에서, 표 3은 폴리에틸렌으로 내부가 코팅된 스틸 용기에서 보관한 샘플을 분석한 결과이다.
스테인레스스틸 용기에서 보관
구분 염소
(ppm)		 초기값 (ppm) 6개월 후 (@80℃, ppm)
Cr Fe Mn Ni Cr Fe Mn Ni
m-XDI 조성물 1 15 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1
조성물 2 60 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 0.3 <0.1 <0.1
조성물 3 100 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 0.9 <0.1 <0.1
조성물 4 300 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 5.2 <0.1 0.5
조성물 5 530 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 0.5 11 0.3 1.0
조성물 6 750 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 1.8 25 1.0 3.0
조성물 7 1000 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 2.6 60 3.0 5.8
조성물 8 1180 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 12 130 5.3 11
조성물 9 1400 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 39 507 10 30
조성물 10 2000 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 152 1550 120 160
폴리에틸렌으로 내부가 코팅된 용기에서 보관
구분 염소
(ppm)		 초기값 (ppm) 6개월 후 (@80℃, ppm)
Cr Fe Mg Ni Cr Fe Mg Ni
m-XDI 조성물 1 15 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1
조성물 2 60 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1
조성물 3 100 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1
조성물 4 300 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1
조성물 5 530 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1
조성물 6 750 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1
조성물 7 1000 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1
조성물 8 1180 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1
조성물 9 1400 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1
조성물 10 2000 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1 <0.1
상기 표 2 및 3에서 보듯이, 자일릴렌디이소시아네이트 조성물을 스테인레스스틸 용기에서 보관 시에는 조성물 내 염소 함량이 증가할수록 용출되는 금속의 양이 크게 증가하였으나, 폴리에틸렌으로 내부가 코팅된 용기에 보관 시에는 조성물 내 염소 함량이 증가하여도 용출되는 금속이 거의 검출되지 않았다.
실시예 2: 광학 렌즈의 제조
자일릴렌디이소시아네이트 조성물로서 상기 시험예 1에서 6개월간 보관된 각각의 조성물 520g, 티올로서 3,3'-티오비스[2-[(2-메르캅토에틸)티오]-1-프로판티올 479.3g, 경화 촉매로 디부틸틴디클로라이드 0.15g, 및 내부 이형제로 Stepan사의 ZelecTM UN 0.80g을 균일하게 혼합하여, 각각의 중합성 조성물을 제조하였다.
상기 중합성 조성물에 대해 상온 질소 분위기에서 30분간 감압 교반을 실시하여 기포를 제거하고, 3 ㎛의 테프론 필터로 여과하였다.
여과된 중합성 조성물을 점착 테이프에 의해 조립된 유리 몰드에 질소 압력을 이용해 주입하였다. 중합성 조성물이 주입된 유리 몰드를 강제 순환식 오븐에 넣고 25℃에서 120℃까지 5℃/분의 속도로 승온시키고, 120℃에서 18시간 중합시켰다. 이후, 중합된 수지를 130℃에서 4시간 동안 추가 경화하고, 유리 몰드로부터 렌즈를 이형시켜 중심 두께 약 1.2 mm인 각각의 광학 렌즈를 얻었다.
시험예 3: 광학 렌즈의 평가
상기 실시예 2에서 제조한 광학 렌즈들에 대해, 아래와 같이 물성을 평가하여 표 4에 정리하였다.
(1) 굴절률 및 아베수
광학 렌즈에 대해 Atago사에서 제작된 아베굴절계인 DR-M4 모델을 사용하여 20℃에서의 굴절률 및 아베수를 측정하였다.
(2) 황색도(YI) 및 광투과율
광학 렌즈에 대해 미놀타사의 색채 색차계 CT-210을 사용하여 색도좌표 x 및 y를 측정한 후 측정값을 하기 수학식 1에 적용하여 황색도를 계산하였다. 또한, 동일한 기기를 사용하여 얻은 스펙트럼에서 550nm 파장에서의 투과도를 투과율로서 나타내었다.
[수학식 1]
Y.I. = (234x+106y+106)/y
(3) 유리전이온도(Tg)
광학 렌즈에 대해 열기계분석기(TMA Q400, TA instruments사)를 사용한 페네트레이션법(50g 하중, 핀 끝 0.5 mmФ, 가열속도 10℃/min)으로 유리전이온도(Tg)를 측정하였다.
(4) 맥리
광학 렌즈 100매를 수은 램프 아래에서 육안으로 관찰하고, 불균일상이 확인된 렌즈는 맥리가 있는 것으로 분류하여 백분율을 산출하였다. 그 결과 맥리의 발생율이 5% 미만인 경우에 양호로 판정하였고 5% 이상인 경우에 불량으로 판정하였다.
구 분 염소
(ppm)		 굴절률
(nd)		 아베수 (ve) 광투과도
(%)		 Tg
(℃)		 황색도
(Y.I.)		 맥리
m-XDI 조성물 1 15 측정불가 측정불가 65 102 10 불량
조성물 2 60 1.6633 25 87 102 12 불량
조성물 3 100 1.6675 31 87 102 12 양호
조성물 4 300 1.6675 31 70 103 11 양호
조성물 5 530 1.6674 31 88 105 10 양호
조성물 6 750 1.6675 31 87 105 11 양호
조성물 7 1000 1.6673 31 88 103 12 양호
조성물 8 1180 1.6651 25 88 103 20 양호
조성물 9 1400 1.6650 24 88 103 35 불량
조성물 10 2000 1.6630 26 50 63 50 불량
상기 표 4에서 보듯이, 염소 함량이 100~1000 ppm 이내인 자일릴렌디이소시아네이트 조성물들의 경우 6개월간 보관 후에 렌즈의 제조에 사용하더라도, 이로부터 제조된 렌즈의 굴절률, 아베수, 투과율, Tg, 및 황색도가 모두 우수하였다.
반면, 염소 함량이 100 ppm 미만이거나 1000 ppm 초과인 그 외 자일릴렌디이소시아네이트 조성물들은 6개월 보관 이후에 렌즈의 제조에 사용할 경우, 이로부터 제조된 렌즈의 굴절률, 아베수, 투과율, Tg, 및 황색도, 맥리 중 하나 이상의 시험에서 저조하게 평가되었다.
이러한 결과는 염소의 함량이 자일릴렌디이소시아네이트의 반응성에 크게 영향을 미치기 때문이다. 이에 따라, 염소 함량 100 ppm 미만에서는 과도한 반응성으로 인해 조성물의 저장안정성이 저하되고 렌즈 제조 시에 지나치게 반응이 빨라져서 광학 특성이 불균일하게 된다. 반면, 염소 함량 1000 ppm 초과에서는 반응성의 지연 효과가 과도하여 조성물을 이용하여 렌즈 제조 시에 미반응 혹은 미경화가 발생하여 광학 특성이 저하된다.

Claims (17)

  1. 염소 함량이 100~1000 ppm이고 조성물 내에 포함된 NCO 그룹의 함량이 43~46 중량%이고,
    80℃의 온도에서 6개월간 방치될 때, 발생되는 침전물의 양이 조성물의 총 중량을 기준으로 0.3 중량% 이하인, 자일릴렌디이소시아네이트 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물은 염소 이온과 염소계 저장 안정제 중에서 적어도 하나를 포함하는, 자일릴렌디이소시아네이트 조성물.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물은, 80℃의 온도에서 6개월간 방치될 때, 조성물 내에 포함된 NCO 그룹의 함량의 변화가 초기 대비 5 중량% 이내인, 자일릴렌디이소시아네이트 조성물.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물은, 염소와 반응성이 없는 용기에 밀봉되어 80℃의 온도로 6개월간 방치될 때, 조성물 내에 포함된 NCO 그룹의 함량의 변화가 초기 대비 4 중량% 이내인, 자일릴렌디이소시아네이트 조성물.
  8. 조성물 내에 포함된 NCO 그룹의 함량이 43~46 중량%인 자일릴렌디이소시아네이트; 및
    염소 이온과 염소계 저장 안정제 중에서 적어도 하나를 포함하고,
    염소와 반응성이 없는 용기에 밀봉되어 80℃의 온도로 6개월간 방치될 때, 조성물 내에 포함된 NCO 그룹의 함량의 변화가 초기 대비 4 중량% 이내이고,
    80℃의 온도에서 6개월간 방치될 때, 발생되는 침전물의 양이 조성물의 총 중량을 기준으로 0.3 중량% 이하인, 자일릴렌디이소시아네이트 조성물.
  9. 제 1 항의 자일릴렌디이소시아네이트 조성물; 및
    상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물을 수용하는 용기를 포함하고,
    상기 용기에서 상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물과 접촉하는 부위는 염소와 반응성이 없는, 자일릴렌디이소시아네이트 조성물 저장체.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물이, 상기 용기에 밀봉되어 80℃의 온도로 6개월간 방치될 때, 조성물 내에 포함된 NCO 그룹의 함량의 변화가 초기 대비 4 중량% 이내이고, 상기 용기로부터 용출된 물질의 총 함량이 0.4 ppm 이내인, 자일릴렌디이소시아네이트 조성물 저장체.
  11. 제 9 항에 있어서,
    상기 용기는, 상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물과 접촉하는 부위에, 염소와 반응성이 없는 에폭시계, 폴리에틸렌계, 불소계, 실리콘계, 페놀계, 알키드계, 폴리에스테르계, 아크릴계, 아미노계, 비닐계, 몰리브덴계, 포스페이트계 및 아연계 코팅제로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상으로 코팅된 것인, 자일릴렌디이소시아네이트 조성물 저장체.
  12. 제 1 항의 자일릴렌디이소시아네이트 조성물; 및 티올을 포함하는, 중합성 조성물.
  13. 제 1 항의 자일릴렌디이소시아네이트 조성물과 티올이 중합되어 형성된 폴리티오우레탄을 포함하는 광학 재료.
  14. 제 1 항의 자일릴렌디이소시아네이트 조성물을 제조하는 단계; 및
    상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물과 티올을 혼합하고 금형에서 가열 경화시키는 단계를 포함하는, 광학 렌즈의 제조방법.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 자일릴렌디이소시아네이트 조성물을 제조하는 단계는,
    (1) 자일릴렌디아민으로부터 이소시아네이트 합성 공정에 의해 자일릴렌디이소시아네이트를 함유하는 조성물을 얻는 단계; 및
    (2) 상기 단계 (1)에서 얻은 조성물에 염소 이온과 염소계 저장 안정제 중에서 적어도 하나를 첨가하여 조성물 내의 염소 함량을 100~1000 ppm으로 조절하는 단계를 포함하는, 광학 렌즈의 제조방법.
  16. 제 14 항에 있어서,
    상기 광학 렌즈가 1~20의 황색도(YI) 및 550nm 파장에서 85~99%의 광투과율을 갖는, 광학 렌즈의 제조방법.
  17. 제 14 항에 있어서,
    상기 광학 렌즈가 30~45의 아베수 및 95~120℃의 유리전이온도를 갖는, 광학 렌즈의 제조방법.
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