KR20220041371A - 테프론 처리된 도포기를 이용한 슬러리 코팅 장치 및 이를 이용한 막-전극 접합체 제조방법 - Google Patents

테프론 처리된 도포기를 이용한 슬러리 코팅 장치 및 이를 이용한 막-전극 접합체 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 테프론 처리된 도포기를 이용한 슬러리 코팅 장치 및 이를 이용한 막-전극 접합체 제조방법에 관한 것으로서, 도포부 하면에 테프론 코팅층을 형성하여 슬러리 코팅시 도포기와 기판 사이에 계면 저항을 줄임으로써 슬러리를 기판 위에 균일한 코팅층을 형성할 수 있다.
본 발명에 따른 테프론 처리된 도포기를 이용한 슬러리 코팅 장치는 기판이 위치되는 스테이지, 기판 위에 슬러리를 공급하는 슬러리 공급부 및 하면에 테프론 코팅층을 구비하여 슬러리를 기판 위에 일정 두께의 코팅층으로 형성시키는 도포부를 구비하는 도포기를 포함한다.

Description

테프론 처리된 도포기를 이용한 슬러리 코팅 장치 및 이를 이용한 막-전극 접합체 제조방법{Slurry coating device using teflon-treated applicator and method for manufacturing membrane-electrode assembly using the same}
본 발명은 슬러리 코팅 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 테프론 처리된 도포기를 이용한 슬러리 코팅 장치 및 이를 이용한 막-전극 접합체 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로 연료전지용 막-전극 접합체를 제조방법에는 활물질, 도전재 및 바인더가 혼합되어있는 전극 슬러리를 수소이온이 이동하는 전해질막 위에 도포 한 후 전극 슬러리를 고온의 상태에서 건조시켜 막-전극접합체를 제작한다.
전해질막 상에 일정 두께의 코팅층을 형성하는 장치는 기판에 코팅액을 분주하는 디스펜서(dispenser)를 구동하는 장비, 분주된 코팅액을 균일한 두께의 코팅층을 형성하고 잔여 코팅액을 제거하는 닥터 블레이드(doctor blade), 스퀴즈(squeegee) 및 코팅롤(coating roll)을 구동하는 장비 등이 있다.
여기서 닥터 블레이드(doctor blade)는 분주된 전극 슬러리를 균일한 두께의 코팅층으로 형성하는 과정에서 블레이드 표면이 매끄럽지 못하여 기판에 손상을 주며, 블레이드 표면과 기판 사이에 높이가 불균일하거나, 전극 슬러리가 블레이드 날을 타고 올라오게 되어 코팅층이 균일하게 형성되지 못하는 문제점이 있다.
대한민국 공개특허공보 제10-2019-0001827호(2019.01.07.)
그러므로, 본 발명은 종래 문제점을 해소하기 위한 것으로, 슬러리 코팅 장치에 있어서, 기판 위에 슬러리를 균일하게 코팅하면서 기판에 손상을 억제할 수 있는 테프론 처리된 도포기를 이용한 슬러리 코팅 장치 및 이를 이용한 막-전극 접합체 제조방법을 제공하는 데 있다.
본 발명에 따른 테프론 처리된 도포기를 이용한 슬러리 코팅 장치는 기판이 위치되는 스테이지, 상기 기판 위에 슬러리를 공급하는 슬러리 공급부 및 하면에 테프론 코팅층을 구비하여 상기 슬러리를 상기 기판 위에 일정 두께의 코팅층으로 형성시키는 도포부를 구비하는 도포기를 포함한다.
상기 도포부는, 상기 기판 위에 위치되는 블레이드 및 상기 블레이드 하면에 코팅되는 테프론 코팅층을 포함할 수 있다.
상기 도포부에 설치되어 상기 기판과 상기 도포부의 이격 거리를 조절하는 높이 조절부 및 상기 스테이지에 열을 가해 상기 코팅층을 건조시키는 건조부를 더 포함할 수 있다.
상기 높이 조절부는, 상기 이격 거리를 0.01mm-3.5mm로 조절할 수 있다.
상기 테프론 코팅층은, 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE, polytetrafluoroethylene)을 포함하는 필름 재질일 수 있다.
상기 테프론 코팅층은, 상기 도포부 하면에 10 ~ 50㎛ 두께로 코팅될 수 있다.
상기 도포부는, 닥터블레이드를 포함할 수 있다.
상기 건조부는, 핫플레이트를 포함할 수 있다.
그리고 본 발명에 따른 테프론 처리된 도포기를 이용한 슬러리 코팅 장치를 이용한 막-전극접합체 제조방법은 스테이지 위에 전해질막을 위치시키는 단계, 슬러리 공급부를 통해 상기 전해질막 위에 전극 슬러리를 공급하는 단계, 하면에 테프론 코팅층을 갖는 도포부를 구비하는 도포기를 이용하여 상기 전극 슬러리를 일정 두께의 전극 코팅층으로 형성하는 단계 및 건조부를 통해 상기 스테이지에 열을 가해 상기 전극 코팅층을 건조하는 단계를 포함한다.
본 발명에 따른 테프론 처리된 도포기를 이용한 슬러리 코팅 장치에 의하면, 도포부 하면에 테프론 코팅층을 형성하여 슬러리 코팅시 도포기와 기판 사이에 계면 저항을 줄임으로써 슬러리를 기판 위에 균일한 코팅층을 형성할 수 있다.
또한, 본 발명은 막-전극접합체 제조방법에 있어서 테프론 코팅층이 형성된 도포기를 이용함으로써 도포기로 인해 전해질막이 손상되는 것을 억제하여 막-전극 접합체 제조 시 불량을 줄일 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 슬러리 코팅 장치의 모습을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 테프론 처리된 도포기의 모습을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 슬러리 코팅 장치를 이용한 막-전극접 합체 제조방법을 보여주는 플로우 차트이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 슬러리 코팅 장치를 이용하여 전극 코팅층이 형성된 모습을 개략적으로 나타낸 도면이다.
하기의 설명에서는 본 발명의 실시예를 이해하는데 필요한 부분만이 설명되며, 그 이외 부분의 설명은 본 발명의 요지를 흩트리지 않는 범위에서 생략될 것이라는 것을 유의하여야 한다.
이하에서 설명되는 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념으로 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 따라서 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 바람직한 실시예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.
본 발명은 테프론 처리된 도포기를 이용한 슬러리 코팅 장치 및 이를 이용한 막-전극 접합체 제조방법에 관한 것이다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 슬러리 코팅 장치의 모습을 개략적으로 나타낸 도면이다. 그리고 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 테프론 처리된 도포기의 모습을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 테프론 처리된 도포기(50)를 이용한 슬러리 코팅 장치(100)(이하, '슬러리 코팅 장치')는 스테이지(10), 슬러리 공급부(30) 및 도포기(50)를 포함한다. 스테이지(10)는 기판(12)이 위치된다. 슬러리 공급부(30)는 기판(12) 위에 슬러리(36)를 공급한다. 도포기(50)는 하면에 테프론 코팅층(52)을 구비하여 슬러리(36)를 기판(12) 위에 일정 두께의 코팅층(38)으로 형성시키는 도포부(51)를 구비한다.
이와 같은 실시예에 따른 슬러리 코팅 장치(100)에 대해서 도 1 및 도 2를 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
슬러리 코팅 장치(100)는 높이 조절부(70) 및 건조부(90)를 더 포함할 수 있다. 높이 조절부(70)는 도포부(51)에 설치되어 기판(12)과 도포부(51)의 이격 거리를 조절한다. 건조부(90) 스테이지(10)에 열을 가해 코팅층(38)을 건조시킨다.
스테이지(10)는 기판(12)을 지지하는 평판의 형태이며, 열전달이 좋은 재질로 형성될 수 있다.
스테이지(10)에서는 슬러리(36)가 도포되어 코팅층(38)을 형성하는 코팅 작업과 코팅층(38)을 응고 및 경화시키는 경화 작업을 수행할 수 있다.
여기서 기판(12)은 웨이퍼(wafer), 글래스(glass) 및 필름(film) 등과 같이 코팅을 필요로 하는 다양한 재질로 형성될 수 있다.
슬러리 공급부(30)는 스테이지(10) 상측에 위치하여 슬러리(36)를 기판(12)에 공급한다.
슬러리 공급부(30)는 슬러리(36)가 저장되며, 슬러리 주입부(32) 및 일측이 개구되어 슬러리(36)를 배출하는 노즐(34)을 포함할 수 있다.
슬러리 공급부(30)는 도포부(51)에 의해 코팅층(38)이 형성되는 방향으로 이동하면서 계속해서 슬러리(36)를 공급할 수 있다.
또는, 슬러리 공급부(30)는 도포부(51)에 의해 코팅층(38)이 형성되는 방향 측에 슬러리(36)를 일정량을 공급하는 고정된 형태일 수 있다.
슬러리 공급부(30)는 노즐(34)에서 분사되는 슬러리(36)의 양을 제어하여 기판(12) 위에 적정량을 공급하는 디스펜서 형태일 수 있다.
슬러리 주입부(32)는 슬러리(36)가 주입되며 슬러리(36)를 노즐(34)에 전달한다.
노즐(34)은 슬러리 주입부(32)에 연결되어 스테이지(10)에 위에 위치된 기판(12) 상면에 슬러리(36)를 일정량 분사할 수 있다.
도 2에 도시된 바와 같이, 슬러리 코팅 장치(100)는 도포기(50)를 포함할 수 있다. 그리고 도포기(50)는 도포부(51), 높이 조절부(70), 크로스바(86) 및 사이드 프레임(88)를 포함할 수 있다.
도포기(50)는 사이드 프레임(88) 양 측면에 연결되는 이동 레일이 설치되어 일측 방향으로 이동함으로써 기판(12)에 슬러리(36)를 도포하는 형태일 수 있다.
도포기(50)는 기판(12) 위의 슬러리(36)와 접촉하며 이동을 통해 기판(12) 위에 슬러리(36)를 균일한 두께로 도포한다.
크로스바(86)는 도포기(50)를 전체적으로 지지하기 위한 구성요소이다.
크로스바(86)는 판의 형태로 이루어져 있으나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 그 좌우 폭 또한 필요에 따라서 조절이 가능한 구조로 제작할 수 있다.
크로스바(86)는 한 쌍의 사이드 프레임(88) 사이를 연결하며, 도포부(51)와 높이 조절부(70)를 연결시킨다.
사이드 프레임(88)은 크로스바(86)의 양측에 설치되어 슬러리(36)를 일정 폭의 코팅층(38)으로 형성시키는 역할을 한다.
도포부(51)는 기판(12) 위에 위치되며, 테프론 코팅층(52) 및 블레이드(54)를 포함한다.
도포부(51)는 닥터 블레이드로 사용될 수 있으며, 코팅 또는 인쇄 방법의 종류에 따라 끝날의 형상을 달리할 수 있고, 내구성, 내마모성 등의 향상을 위해 합금강의 재질이 사용될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
테프론 코팅층(52)은 블레이드(54) 하면에 코팅되며 10 ~ 50㎛ 두께의 테프론 필름 형태일 수 있다.
여기서 테프론 필름 형태는 단순 도포 방식으로 테프론 층을 형성한 것과 비교하여 크랙(crack)이 쉽게 발생하지 않는다.
그리고 테프론 코팅층(52)은 두께가 지나치게 얇으면 잦은 슬러리(36) 코팅으로 인해 쉽게 찢어지거나 노후화로 인하여 쉽게 손상될 수 있는 우려가 발생할 수 있다.
테프론 코팅층(52)은 폴리테트라플루오로에틸렌PTFE(Polytetrafluoroethylene), PFA(Perfluoroalkoxy), FEP(Fluorinated ethylene propylene copolymer), ETFE(Ethylene-tetrafluoroethylene) 중 적어도 하나를 포함하는 필름 재질일 수 있다.
여기서 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE)은 내식성, 내약품성, 내열성 및 내화학성 등의 기능성이 우수한 물질이다.
테프론 코팅층(52)은 블레이드(54) 하면의 부식을 방지하며 기판(12)의 손상을 최소화할 수 있다.
테프론 코팅층(52) 코팅 균일성을 향상시키며, 블레이드(54) 표면인 금속과 슬러리(36)의 흡착력으로 인해 슬러리(36)가 블레이드(54) 날을 타고 올라오는 것을 방지할 수 있다.
블레이드(54)는 슬러리 공급부(30)에서 공급된 기판(12) 위에 슬러리(36)와 접촉한다.
블레이드(54)는 기판(12)과 접촉되는 하면이 날카로운 금속으로 형성될 수 있으며, 기판(12)과 접촉되거나 소정 간격이 이격되는 높이에 위치할 수 있다.
블레이드(54)는 기판(12)과의 사이에 이격 거리, 즉 높이 조절된 상태로 슬러리(38)를 도포하며 조절된 높이의 코팅층(38)을 기판(12) 위에 형성시킬 수 있다.
블레이드(54)는 양측면이 한 쌍의 사이드 프레임(88)에 연결되고 상면에는 높이 조절부(70)가 연결되어, 높이 조절부(70)에 의해 상하로 움직일 수 있다.
높이 조절부(70)는 조절 노브(72) 및 로드(74)를 포함할 수 있다.
높이 조절부(70)는 블레이드(54) 상단에 연결되며 조절 노브(72)의 조절에 따라 로드(74)가 상하로 움직일 수 있다.
높이 조절부(70)는 기판(12)과 블레이드(54)의 이격 거리를 0.01mm-3.5mm로 조절할 수 있다
높이 조절부(70)는 조절 노브(72)와 로드(74) 사이에 삽입되어 ㎛ 단위를 측정할 수 있는 마이크로미터측정기를 더 포함할 수 있다.
여기서 마이크로미터측정기는 블레이드(54)와 기판(12)의 사이의 이격된 높이를 측정할 수 있다.
로드(74)는 블레이드(54)에 상측에 한 쌍의 형태로 연결되어 조절 노브(72)에 의해 상하로 이동되어 사이드 프레임(88) 따라 블레이드(54)를 상하로 이동시킬 수 있다.
조절 노브(72)는 한 쌍의 로드(74)와 결합되며 로드(74)의 상측 방향으로 돌출된 한 쌍의 형태로 형성될 수 있다.
조절 노브(72)는 좌우로 돌림으로써 로드(74)의 길이를 상하로 조절이 가능하다.
조절 노브(72)는 기판(12)과 블레이드(54) 사이의 이격 거리를 조절할 수 있다.
건조부(90)는 스테이지(10) 하면에 설치되어 스테이지(10)에 열을 공급할 수 있다.
건조부(90)는 스테이지(10)에 열을 가해 스테이지(10) 상면에서 제작된 코팅층(38)을 건조할 수 있다.
건조부(90)는 핫플레이트로 사용될 수 있으며 전원이 열선에 전류를 가하여 온도를 상승시키는 전기저항 히터가 사용될 수 있다.
여기서 열선은 건조부(90) 내부에 설치되어 전원에서 전류를 가함으로써 스테이지의 온도를 조절할 수 있다. 열선은 니켈크롬합금 등으로 구비될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
건조부(90)는 온도와 가열 시간을 조절할 수 있도록 컨트롤러가 내부에 내장되는 것이 바람직하다.
본 발명의 실시예에 따른 슬러리 코팅 장치(100)는 블레이드(54) 하면에 테프론 코팅층(52)을 형성하여 도포기(50)와 기판(12) 사이에 계면 저항을 줄임으로써 기판(12) 위에 균일한 코팅층(38)을 형성할 수 있다.
이와 같은 본 발명의 실시예에 따른 테프론 처리된 도포기를 이용한 슬러리 코팅 장치를 이용한 막-전극 접합체 제조방법을 도 3 및 도 4를 참조하여 설명하면 다음과 같다. 여기서 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 슬러리 코팅 장치를 이용한 막-전극 접합체 제조방법을 보여주는 플로우 차트이다. 그리고 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 슬러리 코팅 장치를 이용하여 전극 코팅층이 형성된 모습을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3 및 도 4를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 테프론 처리된 도포기(50)를 이용한 슬러리 코팅 장치(100)를 이용한 막-전극 접합체(49) 제조방법은 스테이지(10) 위에 전해질막(42)을 위치시키는 단계(S10), 슬러리 공급부(30)를 통해 전해질막(10) 위에 전극 슬러리(46)를 공급하는 단계(S20), 하면에 테프론 코팅층(52)을 갖는 도포부(51)를 구비하는 도포기(50)를 이용하여 전극 슬러리(46)를 일정 두께의 전극 코팅층(48)으로 형성하는 단계(S30) 및 건조부(90)를 통해 스테이지(10)에 열을 가해 전극 코팅층(48)을 건조하는 단계(S40)를 포함한다.
실시예에서는 스테이지(10) 위에 기판을 위치시킨 후 슬러리를 공급하여 코팅층이 도포가 가능한 슬러리 코팅 장치의 예를 개시하였지만 이것에 한정되는 것은 아니다. 예컨대 도 4에 도시된 바와 같이, 스테이지(10) 위에 전해질막(42)을 위치시킨 후 전극 슬러리(46)를 공급하여 전극 코팅층(48)이 도포가 가능한 형태일 수 있다.
먼저 S10 단계에서는, 전해질막(42)을 스테이지(10) 위에 위치시킨다.
여기서 전해질막(42) 상면에는 일정 크기의 틀이 마스킹 처리될 수 있다.
다음으로 S20 단계에서는, 도포기(50)를 전해질막(42) 위에 위치시킨다.
이어서 도포기(50)의 조절 노브(72)를 조절하여 하면에 테프론 코팅층(52)이 형성된 블레이드(54)와 전해질막(42) 사이에 이격되는 높이를 조절한다.
다음으로 슬러리 공급부(30)를 통해 전해질막(42) 상면에 일정량의 전극 슬러리(46)를 공급한다.
여기서 전극 슬러리(46)는 활물질, 도전재, 바인더, 탄소 분말, 유기 용매가 혼합될 수 있다. 전극 슬러리(46)는 함유된 공기가 도포 시 요철이 생기거나, 균질성을 저하하는 경우도 있기 때문에, 함유된 공기를 원심 탈기나 진공 탈기법에 의해 탈기하는 것이 바람직하다.
이어서 S30 단계에서, 도포기(50)를 일정 방향으로 이송시켜 전해질막(42) 위에 전극 슬러리(46)를 균일한 두께로 도포시킨다.
여기서 도포기(50)를 일정 속도로 이동시켜 전해질막(42) 위에 전극 코팅층(48)을 형성시킬 수 있다.
마지막으로 S40 단계에서, 전극 슬러리(46)의 도포가 종료되면 전해질막(42) 위에 남아 있는 전극 슬러리(46)를 제거하며 도포기(50)를 스테이지(10)에서 제거시킨다.
다음으로 전극 코팅층(48) 형성된 전해질막(42)을 건조부(90)를 통해 온도와 가열 시간을 조절하여 건조시킨다.
마지막으로 건조가 완료되면 스테이지(10) 위에서 코팅된 전해질막(42)을 분리시켜 막-전극접합체(49)를 제조한다.
본 발명의 실시예에 따른 막-전극 접합체 제조방법은 테프론 코팅층(52)이 형성된 블레이드(54)를 이용함으로써 도포기(50)로 인해 전해질막(42)이 손상되는 것을 억제하여 막-전극 접합체(49) 제조 시 불량을 줄일 수 있다.
한편, 본 명세서와 도면에 개시된 실시예들은 이해를 돕기 위해 특정 예를 제시한 것에 지나지 않으며, 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것은 아니다. 여기에 개시된 실시예들 이외에도 본 발명의 기술적 사상에 바탕을 둔 다른 변형예들이 실시 가능하다는 것은, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게는 자명한 것이다. 또한, 본 명세서와 도면에서 특정 용어들이 사용되었으나, 이는 단지 본 발명의 기술 내용을 쉽게 설명하고 발명의 이해를 돕기 위한 일반적인 의미에서 사용된 것이지, 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것은 아니다.
10 : 스테이지
12 : 기판
30 : 슬러리 공급부
32 : 슬러리 주입구
34 : 노즐
36 : 슬러리
38 : 코팅층
42 : 전해질막
46 : 전극 슬러리
48 : 전극 코팅층
49 : 막-전극 접합체
50 : 도포기
51 : 도포부
52 : 테프론 코팅층
54 : 블레이드
70 : 높이 조절부
72 : 조절 노브
74 : 로드
86 : 크로스바
88 : 사이드 프레임
90 : 건조부
100 : 슬러리 코팅 장치

Claims (9)

  1. 기판이 위치되는 스테이지;
    상기 기판 위에 슬러리를 공급하는 슬러리 공급부; 및
    하면에 테프론 코팅층을 구비하여 상기 슬러리를 상기 기판 위에 일정 두께의 코팅층으로 형성시키는 도포부를 구비하는 도포기;
    를 포함하는 테프론 처리된 도포기를 이용한 슬러리 코팅 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 도포부는,
    상기 기판 위에 위치되는 블레이드; 및
    상기 블레이드 하면에 코팅되는 테프론 코팅층;
    을 포함하는 테프론 처리된 도포기를 이용한 슬러리 코팅 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 도포부에 설치되어 상기 기판과 상기 도포부의 이격 거리를 조절하는 높이 조절부; 및
    상기 스테이지에 열을 가해 상기 코팅층을 건조시키는 건조부;
    를 더 포함하는 테프론 처리된 도포기를 이용한 슬러리 코팅 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 높이 조절부는,
    상기 이격 거리를 0.01mm-3.5mm로 조절하는 것을 특징으로 하는 테프론 처리된 도포기를 이용한 슬러리 코팅 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 테프론 코팅층은,
    폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE, polytetrafluoroethylene)을 포함하는 필름 재질인 것을 특징으로 하는 테프론 처리된 도포기를 이용한 슬러리 코팅 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 테프론 코팅층은,
    상기 도포부 하면에 10 ~ 50㎛ 두께로 코팅된 것을 특징으로 하는 테프론 처리된 도포기를 이용한 슬러리 코팅 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 도포부는,
    닥터블레이드를 포함하는 것을 특징으로 하는 테프론 처리된 도포기를 이용한 슬러리 코팅 장치.
  8. 제3항에 있어서,
    상기 건조부는,
    핫플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 테프론 처리된 도포기를 이용한 슬러리 코팅 장치.
  9. 스테이지 위에 전해질막을 위치시키는 단계;
    슬러리 공급부를 통해 상기 전해질막 위에 전극 슬러리를 공급하는 단계;
    하면에 테프론 코팅층을 갖는 도포부를 구비하는 도포기를 이용하여 상기 전극 슬러리를 일정 두께의 전극 코팅층으로 형성하는 단계; 및
    건조부를 통해 상기 스테이지에 열을 가해 상기 전극 코팅층을 건조하는 단계;
    를 포함하는 테프론 처리된 도포기를 이용한 슬러리 코팅 장치를 이용한 막-전극 접합체 제조방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102543140B1 (ko) * 2022-12-29 2023-06-14 주식회사 에코퓨어셀 고분자 전해질 연료전지의 막 전극접합체의 제조장치.

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190001827A (ko) 2017-06-28 2019-01-07 주식회사 엘지화학 슬러리 도포 장치

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