KR20220030876A - 광원장치, 노광장치, 및 물품의 제조방법 - Google Patents

광원장치, 노광장치, 및 물품의 제조방법 Download PDF

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KR20220030876A
KR20220030876A KR1020210080528A KR20210080528A KR20220030876A KR 20220030876 A KR20220030876 A KR 20220030876A KR 1020210080528 A KR1020210080528 A KR 1020210080528A KR 20210080528 A KR20210080528 A KR 20210080528A KR 20220030876 A KR20220030876 A KR 20220030876A
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히로노리 야다
켄타로 히루마
슈고 나카야마
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캐논 가부시끼가이샤
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Abstract

반사경 내의 온도 구배를 저감시키는 것을 과제로 한다. 발광부와, 상기 발광부로부터의 빛을 반사하는 반사경과, 상기 반사경을 유지하는 유지 부재와, 상기 유지 부재를 고정하는 토대를 갖고, 상기 유지 부재가 상기 토대와 접촉하는 접촉 면적은, 상기 유지 부재가 상기 반사경과 접촉하는 접촉 면적보다도 작다.

Description

광원장치, 노광장치, 및 물품의 제조방법{LIGHT SOURCE DEVICE, EXPOSURE APPARATUS, AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD}
본 발명은, 광원장치, 노광장치, 및 물품의 제조방법에 관한 것이다.
노광장치는, 반도체 디바이스나 액정 표시장치 등의 제조공정인 리소그래피 공정에 있어서, 원판(예를 들면, 마스크)의 패턴을, 투영 광학계를 거쳐 감광성의 기판(예를 들면, 표면에 레지스트층이 형성된 글래스 플레이트)에 전사하는 장치다. 노광장치의 광원으로서는, 예를 들면, 방전 램프가 사용되고 있고, 방전 램프로부터 출사되는 빛을 타원 형상의 반사경에 의해 집광시키고 있다.
또한, 생산성을 향상시키기 위해서, 노광장치의 광원을 고출력으로 운용하는 것이 요구된다. 그렇지만, 광원을 고출력으로 운용하는 경우에는, 광원으로부터의 빛에 의해 반사경이 열 변형하거나, 파손될 우려가 있다. 특허문헌 1에는, 반사경에 기체를 내뿜는 것에 의해, 가열된 반사경을 냉각하여, 반사경의 열 변형이나 파손을 억제하는 내용이 개시되어 있다.
일본 특개 2014-199938호 공보
반사경 내의 온도 구배가 클 경우, 열에 의한 응력이 생겨 버려, 반사경이 파손될 우려가 있다. 특허문헌 1에 기재되어 있는 내용에서는, 반사경 내의 온도 구배를 어느 정도 저감시키는 효과는 기대할 수 있지만, 반사경을 유지하는 유지 부재로 반사경의 열이 달아나기 쉬운 구조로 되어 있다. 그 때문에, 반사경의 유지 부재 부근의 영역에서는, 유지 부재로부터 떨어진 영역보다도 온도가 낮아져, 결과적으로 열에 의한 응력이 발생함으로써 반사경의 파손을 초래하여 버릴 우려가 있다.
따라서, 본 발명은, 반사경 내의 온도 구배를 저감시키기 위해서 유리한 광원장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 일 측면으로서의 광원장치는, 발광부와, 상기 발광부로부터의 빛을 반사하는 반사경과, 상기 반사경을 유지하는 유지 부재와, 상기 유지 부재를 고정하는 토대를 갖고, 상기 유지 부재가 상기 토대와 접촉하는 접촉 면적은, 상기 유지 부재가 상기 반사경과 접촉하는 접촉 면적보다도 작은 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 반사경 내의 온도 구배를 저감시키기 위해서 유리한 광원장치를 제공할 수 있다.
본 발명의 또 다른 특징은 (첨부도면을 참조하는) 이하의 실시형태의 설명으로부터 명백해질 것이다.
도1은 노광장치의 구성을 도시한 개략도다.
도2는 광원장치의 구성을 도시한 개략도다.
도3은 제1실시형태에 있어서의 광원장치를 도시한 도면이다.
도4는 제2실시형태에 있어서의 광원장치를 도시한 도면이다.
도5는 제4실시형태에 있어서의 광원장치를 도시한 도면이다.
도6은 제5실시형태에 있어서의 광원장치를 도시한 도면이다.
이하에서, 본 발명의 바람직한 실시형태를 첨부도면에 근거하여 상세하게 설명한다. 이때, 각 도면에 있어서, 동일한 부재에 대해서는 동일한 참조번호를 붙이고, 중복되는 설명은 생략한다.
<제1실시형태>
노광장치는, 원판(마스크, 레티클 등)을 조명하여, 원판의 패턴을 기판(웨이퍼, 글래스 기판 등)에 노광하는 장치다. 노광장치는, 예를 들면, 원판을 조사하는 조명 광학계와, 원판의 패턴을, 감광제(레지스트)가 도포된 기판에 투영하는 투영 광학계를 갖고, 감광제에 잠상 패턴을 형성한다. 본 실시형태에서는, 기판에 패턴을 형성하는 노광장치의 일례로서, 플랫 패널 디스플레이(FPD) 제조용의 노광장치에 대해 설명한다.
도1은, 제1실시형태에 있어서의 노광장치(100)의 개략도다. 기판(105)의 표면에 대해 수직한 방향(연직 방향)을 z방향으로 하고, z방향에 대해 수직한 방향을 각각 x, y 방향으로 한다. 노광장치(100)는, 조명 광학계(101)와, 패턴이 형성된 마스크(102)를 유지하는 마스크 스테이지(103)와, 투영 광학계(104)와, 기판(105)을 유지하는 기판 스테이지(106)와, 노광장치(100) 내부의 환경을 적절히 유지하기 위한 챔버(110)를 구비한다.
조명 광학계(101)는, 노광장치(100)의 발광부를 갖는 광원장치(111)를 구비한다. 광원장치(111)로부터 출사된 빛은, 조명 광학계(101)를 통해, 노광 광(114)으로서 마스크(102)에 조사된다. 마스크(102)에 조사된 후, 노광 광(114)은, 투영 광학계(104)를 거쳐 감광제가 도포된 기판(105)에 투영된다.
도2는, 광원장치(111)의 내부 구조를 도시한 도면이다. 광원장치(111)는, 발광부(201), 반사경(202), 유지 부재(203), 토대(204), 케이스(205), 급기구(207), 배기구(208), 케이블(209), 전원(210)을 포함한다. 발광부(201)에는, 예를 들면, 수은 램프 등의 방전 램프가 사용될 수 있다. 반사경(202)은, 발광부(201)로부터의 빛을 집광하도록 타원 형상의 형상으로 되어 있고, 유지 부재(203)에 의해 유지된다. 유지 부재(203)는, 반사경(202)의 저면을 지지하기 위해 링 형상으로 되어 있고, 토대(204)에 의해 고정된다.
또한, 광원장치(111)의 각 부를 냉각하기 위해, 광원장치(111)의 케이스(205)의 내부에 기체(예를 들면, 공기)를 받아들이는 급기구(207), 기체를 배출하기 위한 배기구(208)가 설치되어 있다. 발광부(201)에는, 케이블(209)에 접속된 전원(210)으로부터 전력이 공급되고 있다.
발광부(201)로부터 반사경(202)으로 빛이 출사되면, 반사경(202)은 빛에 의해 가열되어, 온도가 상승한다. 한편, 토대(204)에 접하고 있는 유지 부재(203)는, 토대(204)의 온도의 영향을 받기 때문에, 반사경(202)에 비해 온도가 낮다. 그 때문에, 유지 부재(203)와 접촉하고 있는 반사경(202)의 저면으로부터 열이 달아난다. 그 결과, 반사경(202)의 저면 부근(저면부)의 온도가 낮아져, 반사경 내에서 온도 구배가 커짐으로써, 열 변형에 의한 응력이 발생할 수 있다.
본 실시형태에서는, 유지 부재(203)와 토대(204)가 접촉하는 접촉 면적을 작게 함으로써, 유지 부재(203)로부터 토대(204)로 이동하는 열량을 작게 할 수 있어, 반사경(202)의 저면으로부터 유지 부재(203)로 이동하는 열량을 저감시킬 수 있다. 그 결과, 반사경 내에서의 온도 구배를 저감시킬 수 있기 때문에, 반사경(202)의 열 변형에 의한 응력을 억제할 수 있다.
또한, 반사경(202)과 유지 부재(203)가 접촉하는 접촉 면적을 작게 한 경우에는, 반사경을 유지하는 강성이 작아질 우려가 있다. 그 결과, 반사경(202)의 파손이나 위치 정밀도의 저하를 일으킬 우려가 있기 때문에, 본 실시형태에서는, 반사경(202)과 유지 부재(203)가 접촉하는 접촉 면적을 작게 하는 예에 대해 설명한다.
본 실시형태에 따른 광원장치(111)의 구성에 대해, 더욱 상세하게 설명한다. 도3은, 반사경(202), 유지 부재(203), 토대(204)를 도시한 도면이다. 도3a에서는, 유지 부재(203)와 토대(204)의 접촉 면적을 절감하기 위해, 홈(212a)이 토대(204)에 설치되어도 된다. 홈(212a)은, 유지 부재(203)와의 접점부를 따라 링 형상으로 설치될 수 있다. 여기에서, 홈(212a)은, 반드시 링 형상이 아니어도 되고, 예를 들면, 단속적으로 복수개 설치되어 있어도 된다.
또한, 도3b와 같이, 유지 부재(203)와 토대(204)의 접촉 면적을 줄이기 위해서, 홈(212b)이 유지 부재(203)에 설치되어도 된다. 홈(212b)은, 토대(204)와의 접점부를 따라 링 형상으로 설치될 수 있다. 여기에서, 홈(212b)은, 반드시 링 형상이 아니어도 되고, 예를 들면, 단속적으로 복수개 설치되어 있어도 된다.
또한, 도3c와 같이, 유지 부재(203)와 토대(204)의 접촉 면적을 줄이기 위해서, 홈 212a 및 홈 212b가, 유지 부재(203)와 토대(204)의 양쪽에 설치되어도 된다. 홈 212a 및 홈 212b는, 링 형상으로 설치될 수 있다. 유지 부재(203)와 토대(204)의 어느 한쪽에 홈을 설치하는 경우보다도 홈 212a 및 홈 212b가 설치된 공간이 커지기 때문에, 보다 높은 효과를 기대할 수 있다.
유지 부재측의 토대(204)의 면, 및 토대측의 유지 부재(203)의 면 중 적어도 한쪽에, 홈 212a나 홈 212b가 설치되는 것에 의해, 유지 부재(203)와 토대(204)가 접촉하는 접촉 면적을 절감할 수 있다. 이에 따라, 유지 부재(203)로부터 토대(204)로 이동하는 열량을 저감시킬 수 있다. 즉, 홈 212가 설치되지 않는 경우와 비교하여, 유지 부재(203)와 토대(204) 사이의 접촉 열 저항이 커진다. 접촉 열 저항은, 2개의 물체가 접촉하는 계면에 있어서의 열 저항이다.
또한, 유지 부재(203)가 토대(204)와 접촉하는 접촉 면적을 S1, 유지 부재(203)가 반사경(202)과 접촉하는 접촉 면적을 S2로 했을 때, 이하의 식 (1)을 만족하는 것이 바람직하다. 이때, S1에는, x-y 평면에 있어서의 홈 212a나 홈 212b의 면적은 포함하지 않는다.
1/5≤S1/S2≤1/2 …(1)
식 (1)의 조건을 만족하지 않는 경우에는, 본 실시형태의 효과를 충분히 얻을 수 없다. 예를 들면, S1/S2가 1/5보다 작은 경우에는, 유지 부재(203)를 토대(204)가 충분히 고정할 수 없게 되어 버릴 우려가 있다. 또한, S1/S2가 1/2보다 큰 경우에는, 유지 부재(203)와 토대(204) 사이의 접촉 열 저항이 그다지 커지지 않아, 반사경(202)의 열이 토대(204)로 흘러 버리기 때문에, 본 실시형태에 의해 얻어지는 효과가 작아져 버린다.
본 실시형태에서는, 홈 212a나 홈 212b를 설치함으로써, 홈 212a나 홈 212b를 설치하지 않는 경우와 비교하여, 유지 부재(203)와 토대(204)의 접촉 면적을 1/5 내지 1/2 정도로 한다. 즉, 유지 부재(203)측의 토대(204)의 면이 위치하는 평면(x-y 평면)에 있어서의 홈 212a(또는, 홈 212b)의 면적을 S3, 토대(204)측의 유지 부재(203)의 면의 면적을 S4로 했을 때, 이하의 식 (2)을 만족하는 것이 바람직하다.
1/2≤S3/S4≤4/5 …(2)
식 (2)의 조건을 만족하는 홈 212a나 홈 212b를 설치함으로써, 유지 부재(203)와 토대(204) 사이의 접촉 열 저항을 2배 내지 5배 정도 크게 할 수 있다.
이상에서, 본 실시형태에서는, 홈 212a나 홈 212b를 설치함으로써, 반사경(202) 내의 온도 구배를 저감시킬 수 있기 때문에, 반사경(202)의 저면부에 발생하는 열 변형에 의한 응력을 억제할 수 있다.
<제2실시형태>
제1실시형태에서는, 유지 부재(203) 및 토대(204)의 적어도 한쪽에 홈 212a나 홈 212b를 설치하고, 유지 부재(203)와 토대(204)가 접촉하는 접촉 면적을 작게 함으로써, 유지 부재(203)와 토대(204) 사이의 접촉 열 저항을 크게 하는 예에 대해 설명하였다. 본 실시형태에서는, 유지 부재(203)와 토대(204) 사이의 표면 거칠기를 거칠게 해서, 유지 부재(203)와 토대(204)가 접촉하는 접촉 면적을 작게 함으로써, 유지 부재(203)와 토대(204) 사이의 접촉 열 저항을 크게 하는 예에 대해 설명한다. 이때, 노광장치(100)의 구성에 대해서는, 제1실시형태와 같기 때문에 설명은 생략한다. 또한, 본 실시형태에서 언급하지 않는 사항에 대해서는, 제1실시형태에 따른다.
본 실시형태에 있어서의 광원장치(111)의 구성에 대해서 도4에 나타낸다. 도4a는, 반사경(202), 유지 부재(203), 토대(204)를 도시한 도면이다. 도4b는, 각 부재의 표면 거칠기를 더욱 상세하게 도시한 도면이다. 본 실시형태에서는, 도4b에 나타낸 것과 같이, 토대(204)와 접촉하는 유지 부재(203)의 밑면의 표면 거칠기가, 반사경(202)과 접촉하는 유지 부재(203)의 상면의 표면 거칠기보다도 거칠다. 이에 따라, 유지 부재(203)와 토대(204) 사이의 접촉 열 저항을 증가시킨다.
또한, 유지 부재(203)와 접촉하는 토대(204)의 면의 표면 거칠기를, 유지 부재(203)와 접촉하는 반사경(202)의 면의 표면 거칠기보다도 거칠게 함으로써, 유지 부재(203)와 토대(204) 사이의 접촉 열 저항을 증가시켜도 된다. 또한, 유지 부재(203)와 토대(204)의 양면을 거칠게 함으로써, 보다 큰 효과를 얻는 것도 가능하다.
본 실시형태에 있어서, 유지 부재(203)와 토대(204) 사이의 표면 거칠기는, 유지 부재(203)와 반사경(202) 사이의 표면 거칠기보다도, 산술 평균 거칠기로 십수배 정도 거친 면인 것이 바람직하다.
이상에서, 본 실시형태에서는, 유지 부재(203)와 토대(204) 사이의 표면 거칠기를 거칠게 함으로써, 반사경(202)안의 온도 구배를 저감시킬 수 있기 때문에, 반사경(202)의 저면부에 발생하는 열 변형에 의한 응력을 억제할 수 있다.
<제3실시형태>
제1실시형태와 제2실시형태에서는, 유지 부재(203)와 토대(204)가 접촉하는 접촉 면적을 작게 함으로써, 반사경 내의 온도 구배를 저감시키는 예에 대해 설명하였다. 본 실시형태에서는, 유지 부재(203)를 열전도율이 낮은 재질로 함으로써, 반사경 내의 온도 구배를 저감시키는 예에 대해 설명한다. 이때, 노광장치(100)의 구성에 대해서는, 제1실시형태와 같기 때문에 설명은 생략한다. 또한, 본 실시형태에서 언급하지 않는 사항에 대해서는, 제1실시형태에 따른다.
본 실시형태에 있어서의 유지 부재(203)에는, 토대(204)보다도 열전도율이 낮은 재질이 사용된다. 이에 따라, 반사경(202)으로부터 유지 부재(203)를 거쳐 토대(204)로 이동하는 열의 양을 저감시킬 수 있다. 예를 들면, 토대(204)에 열전도율이 높은 알루미늄 등일 경우, 유지 부재(203)에는 스테인레스 등의 열전도율이 낮은 금속이 유효하다.
이상에서, 본 실시형태에서는, 열전도율이 낮은 재질을 유지 부재(203)에 사용함으로써, 반사경(202) 내의 온도 구배를 저감시킬 수 있기 때문에, 반사경(202)의 저면부에 발생하는 열 변형에 의한 응력을 억제할 수 있다.
<제4실시형태>
본 실시형태에서는, 유지 부재를 복수 사용함으로써, 반사경 내의 온도 구배를 저감시키는 예에 대해 설명한다. 이때, 노광장치(100)의 구성에 대해서는, 제1실시형태와 같기 때문에 설명은 생략한다. 또한, 본 실시형태에서 언급하지 않는 사항에 대해서는, 제1실시형태에 따른다.
본 실시형태에 있어서의 광원장치(111)의 구성에 대해서 도5에 나타낸다. 본 실시형태에서는, 반사경(202)이 복수의 유지 부재에 의해 유지된다. 반사경(202)은, 제1 유지 부재(203a)와 접촉해서 배치된다. 제1 유지 부재(203a)는, 제2 유지 부재(203b)와 접촉해서 배치된다. 제2 유지 부재(203b)는, 토대(204)에 의해 고정된다. 제1 유지 부재(203a) 및 제2 유지 부재(203b)는, 반사경(202)의 저면을 유지하기 위해 링 형상으로 되어 있다.
전술한 유지 부재가 복수 있는 경우, 유지 부재가 1개인 경우에 비해 부재가 접촉하는 접촉면의 수가 증가한다. 접촉면에서는 큰 접촉 열 저항이 생기기 때문에, 접촉면이 증가함으로써 반사경(202)의 열이 토대(204)로 달아나기 어려워진다. 이때, 본 실시형태에서는, 유지 부재의 수가 2개인 경우에 대해 설명했지만, 이것에 한정되지 않고, 3개 이상이어도 된다.
이상에서, 본 실시형태에서는, 복수의 유지 부재(203)를 사용함으로써, 반사경(202) 내의 온도 구배를 저감시킬 수 있기 때문에, 반사경(202)의 저면부에 발생하는 열 변형에 의한 응력을 억제할 수 있다.
<제5실시형태>
본 실시형태에서는, 냉각용의 기체를 반사경(202)으로 내뿜음으로써, 반사경 내의 온도 구배를 저감시키는 예에 대해 설명한다. 이때, 노광장치(100)의 구성에 대해서는, 제1실시형태와 같기 때문에 설명은 생략한다. 또한, 본 실시형태에서 언급하지 않는 사항에 대해서는, 제1실시형태에 따른다.
본 실시형태에 있어서의 광원장치(111)의 구성에 대해서 도6에 나타낸다. 급기관(601)은, 반사경(202)에 대하여, 냉각용의 기체(602)를 내뿜고 있다. 이에 따라, 반사경(202)이 냉각되어, 반사경(202)의 온도가 떨어진다. 그 결과, 유지 부재(203)와의 온도차가 저감되어, 반사경(202)으로부터 토대(204)로 흐르는 열을 저감시킬 수 있다. 따라서, 반사경(202) 내의 온도 구배가 억제된다. 또한, 급기관(601)을 복수 사용하여, 반사경(202)에 보다 많은 냉각용의 기체(602)를 내뿜음으로써, 보다 큰 냉각 효과를 얻어도 된다.
이상에서, 본 실시형태에서는, 냉각용의 기체(602)를 내뿜음으로써, 반사경(202) 내의 온도 구배를 저감시킬 수 있기 때문에, 반사경(202)의 저면부에 발생하는 열 변형에 의한 응력을 억제할 수 있다.
또한, 광원장치(111)는, 반사경(202)과 유지 부재(203) 사이의 접촉 열 저항에 대하여, 토대(204)와 유지 부재(203) 사이의 접촉 열 저항을, 수십배 정도 큰 값으로 하는 것이 바람직하다. 이때, 제1∼제5실시형태는, 각각 조합하여 실시되어도 되고, 제1∼5실시형태를 적절히 조합하여 실시함으로써 본 발명의 효과를 향상시킬 수 있다.
<물품의 처리의 실시형태>
본 발명의 실시형태에 따른 물품의 제조방법은, 예를 들면, 플랫 패널 디스플레이(FPD)를 제조하는데 적합하다. 본 실시형태의 물품의 제조방법은, 기판 위에 도포된 감광제에 상기한 노광장치를 사용해서 잠상 패턴을 형성하는 공정(기판을 노광하는 공정)과, 이러한 공정에서 잠상 패턴이 형성된 기판을 현상하는 공정을 포함한다. 또한, 이러한 제조방법은, 다른 주지의 공정(산화, 성막, 증착, 도핑, 평탄화, 에칭, 레지스트 박리, 다이싱, 본딩, 패키징 등)을 포함한다. 본 실시형태의 물품의 제조방법은, 종래의 방법에 비해, 물품의 성능·품질·생산성·생산 코스트의 적어도 1개에 있어서 유리하다.
이상, 본 발명의 바람직한 실시형태에 대해 설명했지만, 본 발명은 이들 실시형태에 한정되지 않는 것은 말할 필요도 없고, 그 요지의 범위 내에서 다양한 변형 및 변경이 가능하다.

Claims (12)

  1. 발광부와,
    상기 발광부로부터의 빛을 반사하는 반사경과,
    상기 반사경을 유지하는 유지 부재와,
    상기 유지 부재를 고정하는 토대를 갖고,
    상기 유지 부재가 상기 토대와 접촉하는 접촉 면적은, 상기 유지 부재가 상기 반사경과 접촉하는 접촉 면적보다도 작은 것을 특징으로 하는 광원장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 토대와 상기 유지 부재 사이의 접촉 열 저항은, 상기 유지 부재와 상기 반사경 사이의 접촉 열 저항보다도 큰 것을 특징으로 하는 광원장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 유지 부재에는, 상기 토대측의 면에 홈이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 광원장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 토대에는, 상기 유지 부재측의 면에 홈이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 광원장치.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 유지 부재가 상기 토대와 접촉하는 접촉 면적을 S1, 상기 유지 부재가 상기 반사경과 접촉하는 접촉 면적을 S2로 했을 때,
    1/5≤S1/S2≤1/2
    을 만족하는 것을 특징으로 하는 광원장치.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 유지 부재가 상기 토대에 접촉하는 면의 표면 거칠기는, 상기 유지 부재가 상기 반사경에 접촉하는 면의 표면 거칠기보다도 거친 것을 특징으로 하는 광원장치.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 유지 부재의 재질은, 상기 토대보다도 열전도율이 낮은 재질인 것을 특징으로 하는 광원장치.
  8. 제 1항에 있어서,
    상기 유지 부재는, 상기 반사경과 접촉하는 제1 유지 부재와, 상기 토대에 고정되 제2 유지 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 광원장치.
  9. 제 1항에 있어서,
    상기 반사경에 기체를 내뿜는 급기관을 더 갖는 것을 특징으로 하는 광원장치.
  10. 발광부와,
    상기 발광부로부터의 빛을 집광시키기 위해, 상기 빛을 반사하는 반사경과,
    상기 반사경을 유지하는 유지 부재와,
    상기 유지 부재를 고정하는 토대를 갖고,
    상기 유지 부재측의 상기 토대의 면에 홈이 형성되고, 상기 유지 부재측의 상기 토대의 면에 있어서의 상기 홈의 면적을 S3, 상기 토대측의 상기 유지 부재의 면의 면적을 S4로 했을 때,
    1/2≤S3/S4≤4/5
    를 만족하는 것을 특징으로 하는 광원장치.
  11. 청구항 1 내지 10 중 어느 한 항에 기재된 광원장치로부터의 빛으로 원판을 조사하는 조명 광학계와,
    상기 원판의 패턴을 기판에 투영하는 투영 광학계를 갖는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  12. 청구항 11에 기재된 노광장치를 사용해서 기판을 노광하는 노광공정과,
    상기 노광공정에서 노광된 상기 기판을 현상하는 현상공정을 포함하고,
    상기 현상공정에서 현상된 상기 기판으로부터 물품을 제조하는 것을 특징으로 하는 물품의 제조방법.
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