KR20220015173A - 메소트리온 전구체의 제조 방법 - Google Patents

메소트리온 전구체의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20220015173A
KR20220015173A KR1020200095342A KR20200095342A KR20220015173A KR 20220015173 A KR20220015173 A KR 20220015173A KR 1020200095342 A KR1020200095342 A KR 1020200095342A KR 20200095342 A KR20200095342 A KR 20200095342A KR 20220015173 A KR20220015173 A KR 20220015173A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mesotrione
reaction
precursor
present
reaction step
Prior art date
Application number
KR1020200095342A
Other languages
English (en)
Inventor
노상원
국진철
김지원
서용식
조재하
이원재
정대연
강명구
Original Assignee
주식회사 엘지화학
주식회사 팜한농
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 엘지화학, 주식회사 팜한농 filed Critical 주식회사 엘지화학
Priority to KR1020200095342A priority Critical patent/KR20220015173A/ko
Publication of KR20220015173A publication Critical patent/KR20220015173A/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C315/00—Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides
    • C07C315/04—Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides by reactions not involving the formation of sulfone or sulfoxide groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C315/00—Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides
    • C07C315/06—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C317/00—Sulfones; Sulfoxides
    • C07C317/24—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and doubly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C317/00—Sulfones; Sulfoxides
    • C07C317/26—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton
    • C07C317/32—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton with sulfone or sulfoxide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton
    • C07C317/34—Sulfones; Sulfoxides having sulfone or sulfoxide groups and nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups, bound to the same carbon skeleton with sulfone or sulfoxide groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton having sulfone or sulfoxide groups and amino groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings being part of the same non-condensed ring or of a condensed ring system containing that ring

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

본 발명은 메소트리온 전구체의 제조 방법에 관한 것이다.

Description

메소트리온 전구체의 제조 방법{METHOD FOR PREPARING PRECURSOR FOR MESOTRIONE}
본 발명은 메소트리온 전구체의 제조 방법에 관한 것이다.
하기 화학식 1로 표시되는 메소트리온 (2-(4-메틸설포닐-2-니트로벤조일)사이클로헥산-1,3-디온)은 트리케톤 화합물로서, 농업 및 잡초 관리에 있어 작물 성장의 HPPD를 억제하는 제초제로 사용된다.
[화학식 1]
Figure pat00001
예를 들어, 특허문헌 WO2016-197900 A1 에는 하기 일련의 반응식 A-1 내지 A-3에 따라서 상기 화학식 1로 표시되는 메소트리온을 제조하는 방법이 제시되어 있다.
[반응식 A-1]
Figure pat00002
[반응식 A-2]
Figure pat00003
[반응식 A-3]
Figure pat00004
다만, 상기와 같이 종래 방식에 따라 메소트리온을 제조할 경우, 3단계 이상의 단계적 합성 반응이 필요하므로 공정에 소요되는 시간이 길고, 반응 수율이 낮으며, 합성 반응의 부산물로서 다량의 산 폐기물이 발생하는 문제가 있다.
WO 2016-197900 A1 US 20160355472 A1
본 발명의 일 실시상태는 메소트리온 전구체의 제조 방법을 제공하고자 한다.
본 발명의 일 실시상태는
4-메틸설포닐-2-니트로벤조산, 시클로헥산-1,3-디온 및 N,N'-디시클로헥실카보디이미드를 반응시키는 반응 단계; 및
상기 반응 단계에서의 생성물로부터 하기 화합물 X를 수득하는 수득 단계를 포함하는 메소트리온 전구체의 제조 방법을 제공한다.
[화합물 X]
Figure pat00005
본 발명의 일 실시상태는 상기 반응 단계 또는 수득 단계는 각각 15℃ 내지 30℃의 온도 범위에서 이루어지는 것인 메소트리온 전구체의 제조 방법을 제공한다.
본 발명의 일 실시상태는 상기 반응 단계 및 수득 단계는 원포트 (One-pot) 반응으로 이루어지는 것인 메소트리온 전구체의 제조 방법을 제공한다.
본 발명의 일 실시상태에 따른 메소트리온 전구체의 제조 방법에 의하면, 기존의 2단계 이상의 단계적 합성 반응 대신 원포트 반응에 따라 메소트리온 전구체를 제조할 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따른 메소트리온 전구체의 제조 방법에 의하면, 메소트리온 전구체의 제조 공정을 간소화시켜서, 메소트리온 전구체 또는 메소트리온 제조 공정에 소요되는 시간을 감소시킬 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따른 메소트리온 전구체의 제조 방법에 의하면, 메소트리온 전구체의 최종 수율을 증가시킬 수 있고, 이에 따라 메소트리온의 수율 또한 증가시킬 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따른 메소트리온 전구체의 제조 방법에 의하면, 메소트리온 전구체 합성 반응의 부산물인 다량의 산 폐기물이 발생하는 것을 방지할 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 따른 메소트리온 전구체의 제조 방법에 의하면, 고온 또는 환류 조건 없이, 15℃ 내지 30℃의 온도 범위에서 원포트 반응에 따라 메소트리온 전구체를 제조할 수 있다.
이하, 본 발명에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.
본 발명에 있어서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
본 발명에 있어서, "여과"란 액체와 고체가 혼합된 물질을 입자의 크기 차이를 이용하여 분리하는 방법을 의미하며, 예를 들어 공지된 방법으로서 물리적인 세공 또는 간극을 갖는 필터에 의해 여과가 행해질 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.
본 발명에 있어서, "농축"이란 용액에서 용매 등을 제거하는 것을 의미하며, 예를 들어 용액을 전기 히터나 증기 등의 열원을 이용하여 가열함으로써 행해질 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.
본 발명에 있어서, "원포트 (One-pot) 반응"이란 2단계 이상의 반응 과정에 의해 목표 화합물을 합성하는 경우, 도중 각 단계의 중간 생성물을 정제함이 없이 하나의 반응기 속에서 다음 단계의 반응물을 추가하여 반응시키는 방법을 의미한다.
본 발명에 있어서, "A를 B에 투입하는 단계 또는 B를 A에 투입하는 단계"란 A를 B에 첨가하거나, B를 A에 첨가하는 단계 등을 의미하고, 첨가 방법은 예를 들어, 적하 (dropwise) 방식으로 이루질 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.
본 발명에 있어서, 용매의 함량은 각 단계에서 그 함량을 구체적으로 명시한 경우를 제외하고는, 반응물들을 용해시킬 수 있는 충분한 함량을 사용하고, 특별히 한정하지 않는다.
본 발명의 일 실시상태는 4-메틸설포닐-2-니트로벤조산 (4-(MethylSulfonyl)-2-NitroBenzoic Acid), 시클로헥산-1,3-디온 (CycloHexane-1,3-Dione) 및 N,N'-디시클로헥실카보디이미드 (N,N'-DiCyclohexylCarbodiimide) 를 반응시키는 반응 단계; 및 상기 반응 단계에서의 생성물로부터 상기 화합물 X를 수득하는 수득 단계를 포함하는 메소트리온 전구체의 제조 방법을 제공한다.
본 발명의 일 실시상태는 염화티오닐 (SOCl2) 대신 상기 반응 단계의 반응물 중 하나인 N,N'-디시클로헥실카보디이미드를 사용하여 메소트리온 또는 메소트리온 전구체의 제조 방법을 제공한다. 종래 기술에 따라, 메소트리온 제조에 있어서 염화티오닐을 사용할 경우, 다량의 산 폐기물(예를 들어, 염화수소 등)이 반응 부산물로 생성되는데, 본 발명의 일 실시상태에 따라 염화티오닐 대신 N,N'-디시클로헥실카보디이미드를 사용함으로써 반응 부산물이 생성되는 것을 방지할 수 있다. 구체적으로, 다량의 염화수소(HCl)가 발생되어 환경 또는 안전에 악영향을 미치는 것을 방지할 수 있다.
일 실시상태에 있어서, 상기 반응 단계는 용매 중에서 수행될 수 있다. 이 때, 상기 용매는 아세토니트릴 (Acetonitrile), 1,2-디클로로에탄 (1,2-Dichloroethane), 톨루엔 (Toluene), 아세트산에틸 (Ethyl acetate), 1,4-다이옥산 (1,4-Dioxane) 등으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 용매일 수 있다. 바람직하게, 상기 용매는 아세토니트릴일 수 있다.
일 실시상태에 있어서, 상기 반응 단계에서 4-메틸설포닐-2-니트로벤조산 및 시클로헥산-1,3-디온의 당량비는 1:1 내지 3:1이거나, 1:1 내지 1:3일 수 있고, 바람직하게는 1:1.3일 수 있다.
일 실시상태에 있어서, 상기 반응 단계에서 4-메틸설포닐-2-니트로벤조산 및 N,N'-디시클로헥실카보디이미드의 당량비는 1:1 내지 3:1이거나, 1:1 내지 1:3일 수 있고, 바람직하게는 1:1.3일 수 있다.
일 실시상태에 있어서, 상기 반응 단계에서 시클로헥산-1,3-디온 및 N,N'-디시클로헥실카보디이미드의 당량비는 1:1 내지 3:1이거나, 1:1 내지 1:3일 수 있고, 바람직하게는 1:1일 수 있다.
일 실시상태에 있어서, 상기 반응 단계는 4-메틸설포닐-2-니트로벤조산, 시클로헥산-1,3-디온 및 N,N'-디시클로헥실카보디이미드를 용매에 투입하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시상태에 있어서, 상기 반응 단계는 4-메틸설포닐-2-니트로벤조산, 시클로헥산-1,3-디온 및 N,N'-디시클로헥실카보디이미드를 용매에 투입하는 단계를 포함할 수 있다. 이 때, 4-메틸설포닐-2-니트로벤조산, 시클로헥산-1,3-디온 및 N,N'-디시클로헥실카보디이미드를 용매에 투입하는 단계는 4-메틸설포닐-2-니트로벤조산, 시클로헥산-1,3-디온 및 N,N'-디시클로헥실카보디이미드를 용매에 첨가하거나, 용매를 4-메틸설포닐-2-니트로벤조산, 시클로헥산-1,3-디온 및 N,N'-디시클로헥실카보디이미드에 첨가하는 방식으로 이루어질 수 있다. 첨가 방법은 예를 들어, 적하 (dropwise) 방식으로 이루어질 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.
일 실시상태에 있어서, 상기 반응 단계는 15℃ 내지 30℃의 온도 범위에서 교반하는 단계를 포함할 수 있다. 이 때, 교반은 1시간 내지 4시간; 또는 1.5시간 내지 3시간 동안 이루어질 수 있고, 바람직하게는 2시간 내지 2.5시간 동안 이루어질 수 있다.
일 실시상태에 있어서, 상기 수득 단계는 상기 반응 단계에서 생성되는 불순물을 제거하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시상태에 있어서, 상기 불순물 제거 단계는 본원발명에 따른 일련의 단계에서 생성될 수 있는 임의의 불순물을 제거하는 단계로서 당 기술분야에서 사용하는 통상적으로 사용되는 방법이 사용될 수 있다. 예를 들어, 상기 반응 단계 또는 교반 단계에서 생성된 불순물은 여과 매체 (filtering medium)를 사용한 여과를 통해 제거될 수 있고, 여과 매체로는 글래스 필터 (glass filter) 등이 사용될 수 있다. 하지만 이에 한정되지 않는다.
일 실시상태에 있어서, 상기 불순물은 상기 반응 단계 또는 교반 단계에서 생성되는 임의의 불순물을 의미한다. 예를 들어, 상기 불순물은 디시클로헥실우레아 (1,3-dicyclohexylurea) 일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.
일 실시상태에 있어서, 상기 수득 단계는 상기 반응 단계에서의 생성물을 농축하는 단계; 및 상기 농축된 생성물로부터 극성 용매를 이용하여 고체를 석출하는 석출 단계를 포함할 수 있다. 이 때, 상기 석출 단계는 상기 불순물 제거 단계를 통하여 불순물이 제거되고, 농축 단계를 통하여 농축된 생성물에, 극성 용매를 투입함으로써 고체를 석출할 수 있다.
일 실시상태에 있어서, 상기 극성 용매는 증류수, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 등의 수성 용매일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.
일 실시상태에 있어서, 상기 극성 용매를 투입함으로써 고체를 석출하는 단계는 상기 농축된 생성물에 포함된 물질의 극성 용매에 대한 용해도 차이를 이용하여 분리가 진행될 수 있다.
일 실시상태에 있어서, 상기 석출 단계는 상기 농축 단계를 통하여 농축된 생성물에 극성 용매를 투입한 뒤, 추가로 교반하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이 때, 상기 추가 교반 단계에서는 상기 극성 용매가 투입된 농축된 생성물을 15℃ 내지 30℃의 온도 범위에서 교반할 수 있다. 이 때, 교반은 1시간 내지 4시간; 또는 1.5시간 내지 3시간 동안 이루어질 수 있고, 바람직하게는 2시간 내지 2.5시간 동안 이루어질 수 있다.
일 실시상태에 있어서, 상기 수득 단계는 상기 수득한 고체를 추가 정제하여 최종 생성물로서의 메소트리온 전구체를 수득할 수 있다. 상기 추가 정제는 반응 생성물에 포함된 임의의 불순물을 제거하여, 생성물의 순도를 높이는 단계로서 당 기술분야에서 사용하는 통상적으로 사용되는 방법이 사용될 수 있다.
일 실시상태에 있어서, 상기 반응 단계 또는 수득 단계는 각각 상온에서 이루어질 수 있다. 이 때, 상온이란 15℃ 내지 30℃의 온도 범위일 수 있으므로, 다시 말해, 상기 반응 단계 또는 수득 단계는 각각 15℃ 내지 30℃의 온도 범위에서 이루어질 수 있다. 이에 따라, 상기 일련의 단계 중 어떠한 단계도 100℃ 이상의 온도로 승온시키지 않을 수 있고, 승온된 물질을 환류시키는 공정 또한 생략할 수 있다.
일 실시상태에 있어서, 상기 반응 단계 및 수득 단계는 하나의 반응기 내에서 원포트 반응으로 연속적으로 이루어질 수 있다. 종래 기술에 따라 2단계 이상의 단계적 합성을 통하여 메소트리온 전구체를 제조하는 방법에 비하여, 본 발명의 일 실시상태에 따른 메소트리온 전구체의 제조 방법은 원포트 반응에 따르는 바, 제조 공정을 간소화시키고, 공정에 소요되는 시간을 감소시킬 수 있다.
이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해 실시예 및 비교예 등을 들어 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명에 따른 실시예 및 비교예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예 및 비교예에 한정되는 것으로 해석되지 않는다. 본 발명의 실시예 및 비교예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다.
<실시예>
Figure pat00006
MSNBA (2.0 g, 8.16 mmol), CHD (1.2 g, 10.6 mmol), DCC (N,N'-디시클로헥실카보디이미드) (2.2 g, 10.6 mmol)이 용해되어 있는 아세토니트릴 (10 mL) 반응액을 상온에서 2.5시간 교반하였다. 반응액으로부터 석출되어 나오는 DCU (1,3-dicyclohexylurea)를 여과(Filteration)를 통해 제거하였다. 여과한 여액을 농축한 뒤 물 (20 mL) 를 투입하였다. 상온에서 2시간 교반 후, 석출된 화합물 X 결정을 여과하여 수득하였다. (2.74g, 99%)
<비교예 1>
Figure pat00007
MSNBA (10.0 g, 40.1 mmol), N,N-디메틸포름아마이드 (0.3 g, 4 mmol) 이 용해된 DCE (20 mL) 용액에 티오닐 클로라이드 (9.5 g, 80 mmol) 를 투입한 뒤, 80℃에서 3시간 가열 환류하였다. 반응 종결 후, 잔여 SOCl2 및 HCl은 감압증류하여 제거하였다. 잔여 산성 부산물의 제거를 위해 DCE (dichloroethane) 20 mL를 첨가 후 감압증류하는 과정을 2회 추가로 반복하였다.
농축된 반응액에 DCE (40 mL), CHD (5.8 g, 52 mmol), TEA (triethylamine) (6.1 g, 60 mmol)을 투입한 뒤, 상온에서 3시간 교반하였다. 반응 종결 후 반응액 유기층을 5% HCl 용액, 증류수, 브라인 (Brine) 으로 수세하였다. 유기층을 감압증류 후 물을 투입하여 고체를 석출하였다. 여과를 통해 11.4 g (84%) 의 화합물 X를 수득하였다.
<비교예 2>
Figure pat00008
MSNBA (2.0 g, 8.16 mmol), CHD (0.96 g, 8.6 mmol), DCC (1.77 g, 8.6 mmol), TFPBA (trifluorophenylboronic acid) (28 mg, 0.16 mmol) 이 용해되어 있는 m-Xylene (10mL) 반응액을 120℃에서 4시간 가열 환류하였다. HPLC 분석을 통하여 화합물 X로의 전환율은 오직 24.4% 임을 확인할 수 있었다. 기타 조성은 구조 미상의 부산물 3종으로 각각 7.8%, 10.7%, 57.1%의 전환율로 생성되었다.
본 발명의 일 실시상태에 따른 메소트리온 전구체 제조 방법은 기존 제조 방법에 비하여 더 적은 단계를 통하여 상기 화합물 X (메소트리온 전구체, MSNCE)를 제조할 수 있고, 또한 높은 수율로 화합물 X를 수득할 수 있으며, 추가 가열 공정 없이 상온에서 진행할 수 있다.
구체적으로, 실시예의 경우, 반응물을 별도의 가열 조건 또는 환류 조건 없이 상온의 온도 범위에서 반응시켜 화합물 X를 제조할 수 있고, 99%의 높은 수율로 화합물 X를 수득할 수 있다.
반면, 비교예 1의 경우, 실시예의 온도 범위인 상온보다 높은 온도인 80℃에서 반응을 진행시키기 위하여, 추가적인 가열 공정이 필요하다. 또한, SOCl2를 사용함에 따라, 반응의 부산물인 다량의 HCl 산 폐기물이 발생하고, 이를 제거하기 위한 추가 정제 공정이 필요하다.
또한, 비교예 2의 경우, 실시예의 온도 범위인 상온보다 높은 온도인 120℃에서 환류가 진행되고, 실시예의 MeCN 대신 m-Xylene 및 TFPBA를 사용한다. 이에, 비교예 2에서는, 상온보다 높은 온도인 120℃에서 반응을 진행하기 위하여 추가적인 가열 공정 및 환류 공정이 필요하다. 또한, 비교예 2에 따른 화합물 X의 수율은 24.4%으로, 실시예의 수율 99%보다 감소하는 것을 확인할 수 있다.

Claims (6)

  1. 4-메틸설포닐-2-니트로벤조산, 시클로헥산-1,3-디온 및 N,N'-디시클로헥실카보디이미드를 반응시키는 반응 단계; 및
    상기 반응 단계에서의 생성물로부터 하기 화합물 X를 수득하는 수득 단계를 포함하는 메소트리온 전구체의 제조 방법:
    [화합물 X]
    Figure pat00009
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 반응 단계는 용매 중에서 수행되는 것인 메소트리온 전구체의 제조 방법.
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 수득 단계는 상기 반응 단계에서 생성되는 불순물을 제거하는 단계를 포함하는 메소트리온 전구체의 제조 방법.
  4. 청구항 1에 있어서, 상기 수득 단계는 상기 반응 단계에서의 생성물을 농축하는 단계; 및
    상기 농축된 생성물로부터 극성 용매를 이용하여 고체를 석출하는 석출 단계를 포함하는 것인 메소트리온 전구체의 제조 방법.
  5. 청구항 1에 있어서, 상기 반응 단계 또는 수득 단계는 각각 15℃ 내지 30℃의 온도 범위에서 이루어지는 것인 메소트리온 전구체의 제조 방법.
  6. 청구항 1에 있어서, 상기 반응 단계 및 수득 단계는 원포트 반응으로 이루어지는 것인 메소트리온 전구체의 제조 방법.
KR1020200095342A 2020-07-30 2020-07-30 메소트리온 전구체의 제조 방법 KR20220015173A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200095342A KR20220015173A (ko) 2020-07-30 2020-07-30 메소트리온 전구체의 제조 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200095342A KR20220015173A (ko) 2020-07-30 2020-07-30 메소트리온 전구체의 제조 방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20220015173A true KR20220015173A (ko) 2022-02-08

Family

ID=80251668

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200095342A KR20220015173A (ko) 2020-07-30 2020-07-30 메소트리온 전구체의 제조 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20220015173A (ko)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20160355472A1 (en) 2015-06-08 2016-12-08 Rotam Agrochem International Company Limited Process for preparing mesotrione

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20160355472A1 (en) 2015-06-08 2016-12-08 Rotam Agrochem International Company Limited Process for preparing mesotrione
WO2016197900A1 (en) 2015-06-08 2016-12-15 Rotam Agrochem International Company Limited Process for preparing mesotrione

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110878084A (zh) 一种烟嘧磺隆原药的制备方法
KR100814597B1 (ko) 메틸 4-포밀벤조에이트와 디메틸테레프탈레이트의 분리방법
KR20220015173A (ko) 메소트리온 전구체의 제조 방법
HUT54347A (en) Improved process for producing amidoximes
JP4320059B2 (ja) ５−アミノメチル−クロロピリジン類の製造方法
JP4892821B2 (ja) エパルレスタット製造法
KR20220015168A (ko) 메소트리온의 제조 방법
JPH11228540A (ja) ２−（４−ピリジル）エタンチオールの製造方法
KR100881890B1 (ko) 사포그렐레이트 염산염의 제조방법
CN114539285A (zh) 一种玛巴洛沙韦的制备方法
CN111943899A (zh) 一种5-甲酸乙酯四氮唑的合成方法
JP2012020970A (ja) ｛２−アミノ−１，４−ジヒドロ−６−メチル−４−（３−ニトロフェニル）−３，５−ピリジンジカルボン酸３−（１−ジフェニルメチルアゼチジン−３−イル）エステル５−イソプロピルエステル｝の製造方法
KR20220033151A (ko) 고순도 메소트리온의 제조 방법
CN116354884B (zh) 一种高纯度10-甲氧基亚氨基芪及其高收率的制备方法
JPH01102072A (ja) エポキサイド誘導体の製造法
JP3291987B2 (ja) Ｏ，ｓ−ジメチル−ｎ−アセチルホスホルアミドチオエートの精製法
JP4035287B2 (ja) イサチンビス（ｏ−クレゾール）の製造方法
CN112521298B (zh) 一种利多卡因的合成方法
CA2867936C (en) Industrial method for manufacturing high-purity methiozolin
JP4508670B2 (ja) 高純度アダマンタントリオール類の製造方法
WO2012048451A1 (zh) (6r)-四氢生物喋呤盐酸盐的制备方法
JP2009221185A (ja) トルイジン化合物の製造方法
JP4534192B2 (ja) ビフェノール誘導体の製造方法
JP3663520B2 (ja) ４，６−ジアミノレゾルシン及びその塩の製造法
KR100310936B1 (ko) Ｎ-(4-메틸벤젠술포닐)-ｎ&#39;-(3-아자바이시클로[3,3,0]옥탄)우레아의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination