KR20220012361A - 파티션 모드로 제어 가능한 청정 작업장 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 청정 작업장 기술 분야에 속하는 파티션 모드로 제어 가능한 청정 작업장을 개시한다. 상기 파티션 모드로 제어 가능한 청정 작업장은 작업장 본체를 포함하고, 작업장 본체 내부에 상부 기술 중간층, 하부 기술 중간층 및 상부 기술 중간층과 하부 기술 중간층 사이에 위치한 클린 생산층을 포함하고, 클린 생산층 내부에 청정실이 구비되며, 상기 청정실의 양측에 하부 기술 중간층과 상부 기술 중간층을 연통하는 제1 환기 통로와 제2 환기 통로가 구비되며, 상기 작업장 본체에 격벽 구성요소가 구비되며, 청정실을 서로 독립적인 제1 클린 생산 영역과 제2 클린 생산 영역으로 분리하도록 구성된 제1 클린 생산 영역과 제2 클린 생산 영역에는 각각 독립적인 환기 시스템이 구비된다. 본 발명에 따른 청정 작업장은 청정실 독립적인 환기 시스템을 갖는 제1 클린 생산 영역과 제2 클린 생산 영역으로 분리함으로써 제1 클린 생산 영역과 제2 클린 생산 영역의 청정도, 온도, 상대 습도, VOC농도를 제어할 수 있으며 또한 에너지 소비를 줄일 수 있다.
Description
[관련 출원의 교차 인용]
본 출원은, 2019년 07월 23일에 중국 특허청에 출원된 출원 번호 제201910668606.5호, "청정 작업장"， 및 2019년 08월 12일에 중국 특허청에 출원된 출원 번호 제201910740337.9호, "2차 가습 시스템을 갖춘 청정실 레이아웃 구조 및 클린 생산 작업장"을 발명 명칭으로 하는 중국 특허 출원의 우선권을 주장하며, 상기 중국 특허 출원의 전체 내용은 참조로서 출원에 통합되어 본 출원의 일 부분으로 한다.
본 발명은 클린 생산 작업장의 기술 분야에 속한 것으로서, 보다 상세하게는 파티션 모드로 제어 가능한 청정 작업장에 관한 것이다.
현재 청정 작업장의 면적 수요가 증가하고 있으며 청정 작업장의 각 클린 생산층의 면적도 증가하고 있다. 각 클린 생산층의 서로 다른 공정 영역에는 청정도, 온도, 상대 습도, 휘발성 유기 화합물(VOC) 농도 등에 대한 제어 요구 사항이 다르다. 그러나 현재 청정 작업장에서는 서로 다른 공정 영역에서 공유 중앙 집중식 환기 시스템을 사용하여최고 요구 사항에 따라 전체 클린 생산층의 청정도, 온도, 상대 습도 및 VOC 농도를 제어하므로 결과적으로 에너지 소비가 높다.
따라서, 각 공정 영역의 정상 동작을 유지하면서 에너지 소비를 줄이는 방법은 시급히 해결되어야 하는 문제이다.
본 발명은 파티션 모드로 제어 가능한 청정 작업장을 제공한다. 각 공정 영역의 청정도, 온도, 상대 습도 및 VOC 농도를 제어하여 각 공정 영역의 정상 작동을 보장하면서 에너지 소비를 줄일 수 있다. 기술 해결책은 다음과 같다.
한편, 본 발명에 의해 제공되는 파티션 모드로 제어 가능한 청정 작업장은 작업장 본체를 포함하고, 상기 작업장 본체 내부에 상부 기술 중간층, 하부 기술 중간층 및 상기 상부 기술 중간층과 상기 하부 기술 중간층 사이에 위치한 클린 생산층이 구비되며, 상기 클린 생산상기 하부 기술 중간층과 상기 상부 기술 중간층을 연결하도록 구성된 상기 환기 통로는 상기 청정실의 일측에 위치하는 제1 환기 통로 및 상기 청정실의 타측에 위치하는 제2 환기 통로를 포함하고, 상기 작업장 본체 내부에 상기 청정실을 독립적인 제1 클린 생산 영역과 제2 클린 생산 영역으로 분리하기 위한 격벽 구성요소가 구비되며, 상기 제1 클린 생산 영역과 제2 클린 생산 영역에는 각각 독립적인 환기 시스템이 구비된다.
청정 작업장에 따르면, 청정실은 격벽 구성요소에 의해 서로 독립적인 제1 클린 생산 영역과 제2 클린 생산 영역으로 분리되고, 제1 클린 생산 영역과 제2 클린 생산 영역은 각각 독립적인 환기 시스템이 제공되며, 제1 클린 생산 영역과 제2 클린 생산 영역이 작동 상태에 있을 때 공기 공급량은 독립적인 환기 시스템에 의해 제어될 수 있고 기류의 순환이 실현되므로 제1 클린 생산 영역과 제2 클린 생산 영역이 청정도, 온도, 상대 습도 및 VOC 농도에 대한 요구를 보장한다. 또한 클린 생산 영역별 공기 공급량을 별도로 조절함으로써 에너지 소비량을 절감할 수 있어 원가절감 효과를 얻을 수 있다.
본 출원의 실시예에서의 기술적 해결책을 보다 명확하게 설명하기 위해, 실시예의 설명에 사용되어야 하는 도면에 대해 간략히 설명한다. 분명한 것은, 아래의 설명에 있는 도면은 단지 본 출원의 일부 실시예에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자가 어떠한 독창적인 노력 없이도 이들 도면에 따른 다른 도면을 얻는 것은 자명할 것이다.
도 1은 종래 기술에 제공되는 청정 작업장의 개략적인 구조도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 청정 작업장의 개략적인 구조도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 다른 청정 작업장의 개략적인 구조도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 7은 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 8은 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 9는 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 10은 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 11은 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 12는 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 13은 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 14는 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 15는 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 16은 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 17은 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 18은 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 공기 시스템 순환의 개략도이다.
도 19는 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 클린 생산 작업장의 개략적인 평면도이다.
도 20은 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 공간형 2-유체 가습 시스템의 개략적인 구조도이다.
도 21은 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 공간형 고압 마이크로 미스트 가습 시스템의 개략적인 구조도이다.
도 1은 종래 기술에 제공되는 청정 작업장의 개략적인 구조도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 청정 작업장의 개략적인 구조도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 다른 청정 작업장의 개략적인 구조도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 7은 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 8은 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 9는 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 10은 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 11은 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 12는 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 13은 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 14는 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 15는 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 16은 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 17은 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 측면도이다.
도 18은 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실의 공기 시스템 순환의 개략도이다.
도 19는 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 클린 생산 작업장의 개략적인 평면도이다.
도 20은 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 공간형 2-유체 가습 시스템의 개략적인 구조도이다.
도 21은 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 공간형 고압 마이크로 미스트 가습 시스템의 개략적인 구조도이다.
이하, 본 발명의 목적, 기술적 해결책 및 이점을 보다 명확하게 하기 위하여 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예를 상세히 설명한다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 파티션 모드로 제어 가능한 청정 작업장장은 작업장 본체(270)를 포함한다. 작업장 본체(270) 내부에 하부 기술 중간층(110), 상부 기술 중간층(100) 및 상부 기술 중간층(100)과 하부 기술 중간층(110) 사이에 위치한 클린 생산층이 구비된다. 클린 생산층 내부에 청정실이 구비된다. 청정실의 양측에는 상부 기술 중간층(100)과 하부 기술 중간층(110)을 연통하도록 구성된 제1 환기 통로(130) 및 제2 환기 통로(140)가 형성된다. 작업장 본체(270) 내부에 청정실을 서로 독립적인 제1 클린 생산 영역과 제2 클린 생산 영역으로 분리하도록 구성된 격벽 구성요소가 더 구비되면 제1 클린 생산 영역과 제2 클린 생산 영역에는 각각 독립적인 환기 시스템이 있다.
본 발명의 실시예에서 청정실은 격벽 구성요소에 의해 서로 독립적인 제1 클린 생산 영역과 제2 클린 생산 영역으로 분리되고, 제1 클린 생산 영역과 제2 클린 생산 영역은 각각 독립적인 환기 시스템이 제공되며, 제1 클린 생산 영역과 제2 클린 생산 영역이 작동 상태에 있을 때 공기 공급량은 독립적인 환기 시스템에 의해 제어될 수 있고 기류의 순환이 실현되므로 요구 사항 청정도, 온도, 상대습도, VOC 농도에 대한 제1 클린 생산 영역과 제2 클린 생산 영역의 청정도를 각각 보장한다. 또한 클린 생산 영역별 공기 공급량을 별도로 조절함으로써 에너지 소비량을 절감할 수 있어 원가절감 효과를 얻을 수 있다.
종래에는 매달린 천장에 설치된 팬 필터 장치를 통해 청정한 공기를 실내로 보내고 환풍구로부터 실내의 부유입자를 배출하여 청정실의 청정도를 유지하고 있는 실정이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 전통적인 청정 작업장은 작업장 본체(270)를 포함한다. 작업장 본체(270) 내부에 상부 기술 중간층(100), 하부 기술 중간층(110) 및 상부 기술 중간층(100)과 하부 기술 중간층(110) 사이에 위치한 클린 생산층이 구비된다. 클린 생산층 내부에에는 오버헤드 와플판(190) 및 와플판(190) 상에 배치된 청정실(120)이 구비된다. 청정실(120)은 와플판(190)에 위치한 높은 바닥(150), 매달린 천장(160), 높은 바닥(150) 및 매달린 천장(160) 과 일치하는 벽판를 포함한다. 청정실(2)의 양측에는 하부 기술 중간층(5)과 상부 기술 중간층(5)을 연통하도록 구성된 제1 환기 통로(130) 및 제2 환기 통로(140)가 구비된다. 하부 기술 중간층(110)과, 제1 환기 통로(130)/제2 환기 통로(140) 사이에 순환 공기를 냉각하도록 구성된 건식 냉각 코일(220)이 구비된다.
청정실(120) 에는 공기 청정도를 보장할 필요가 있는 세 부분이 있다. 이들은 각각 재료 보관 영역(171), 재료 이송 영역(172) 및 공정 생산 영역(125)이다. 여기서 재료 보관 영역(171)에 처리될 유리 기판 및 칩과 같은 재료를 보관하도록 구성된 재료 보관 랙(230)이 구비된다. 재료 이송 영역(172) 내부에 자동 이송 장치가 구비된다. 공정 생산 장치는 일반적으로 공정 생산 영역(125)에 배치되고 공정 생산 영역(125)은 또한 작업자의 활동 영역이기도 한다. 재료 보관 영역(171) 및 재료 이송 영역(172)에서 처리될 유리 기판, 칩 등은 주변 공기와 직접 접촉하기 때문에 이 공간의 공기 청정도 수준은 일반적으로 공정 생산 영역(125) 내부의 공기 청정도 수준보다 훨씬 엄격하다.
상기 공정 생산 영역(125)의 매달린 천장(160)에는 다수의 팬 필터 장치(210)이 배치되며, 재료 보관 및 이송 영역(170)의 엄격한 청정도를 확보하기 위하여 재료 이송 영역(172)의 매달린 천장(160)은 팬 필터 장치(210)로 일반적으로 덮이고, 재료 보관 랙(230)의 측면에 팬 필터 장치(210)가 높은 밀도로 설치되어 있다. 도 1의 화살표는 청정실 정화 공조 시스템 전체의 공기 통로를 나타낸다. 여기서 재료 보관 랙(230) 측면에 설치된 팬 필터 유닛(210)은 공정 생산 영역(125)의 공기를 흡입하여 공정 생산 영역(125)의 매달린 천장(160)에 재료 보관 랙(230)의 측면에 비치된 팬 필터 장치와 동일한 풍량의 팬 필터 장치를 추가로 배치해야 하므로, 공정 생산 영역(125)의 매달린 천장(160) 에 설치해야 하는 팬 필터 장치(210)의 양이 크게 증가하는 한편 에너지 소비도 증가된다.
또한, 재료 보관 영역(171) 및 재료 이송 영역(172)의 청정도 수준 요건은 매우 엄격하여 청정도 수준을 보장하는 공기 공급량은 매우 커야 하지만 이러한 영역의 장치는 매우 적은 열을 발생하며, 따라서 해당 영역을 흐르는 기류의 일부만 냉각하면 되지만, 도 1에 도시된 전통적인 청정실(2)의 공법에 따르면 재료 이송 영역(172) 상부에 설치된 팬 필터 장치(210) 및 재료 보관 랙(230) 측벽에 설치된 팬 필터 장치(210)에 의해 흡입되는 기류는 건식 냉각 코일(220) 에 의해 처리되는 기류이다. 또한, 공정 생산 영역(125)과 재료 이송 영역(172)에서 유출한 기류는 하부 기술 중간층(110)에 유입한 후 모두 건식 냉각 코일(220) 을 통과하여 건식 냉각 코일(220)의 양이 추가로 증가하고 많은 프로젝트에서 지정된 공간에 건식 냉각 코일(220)이 모두 비치되지 못한 상황이 발생된다. 또한, 공정 생산 영역(125)과 재료 이송 영역(172)에서 유출된 기류가 기술 통로(7)과 상부 기술 중간층(100) 을 통과하므로 환기 통로와 상부 기술 중간층(100)이 필요로 하는 공간이 넓어지어 건설 비용이 증가된다.
이에 본 발명의 일 실시예에서, 도 2에 도시된 바와 같이, 본 실시예의 청정실은 오버헤드 와플판(190)에 설치되며 청정실은 상부의 매달린 천장(160) 및 매달린 천장(160)과 일치하는 벽판를 포함한다. 하부 기술 중간층(110)과 제1 환기 통로(130)/제2 환기 통로(140) 사이에 순환 공기를 냉각하도록 구성된 건식 냉각 코일(220)이 구비된다.
와플판(190)은 홀이 균일하게 형성된 콘크리트 슬래브로서 지지 및 환기 기능을 갖는다. 청정실(2)은 상부의 매달린 천장(160)과 매달린 천장(160)과 일치하는 벽판을 포함한다. 제1 클린 생산 영역에 포함된 2개의 독립적인 영역은 공정 생산 영역(125)이다. 두 공정 생산 영역(125) 사이의 공간은 재료 보관 및 이송 영역(170)이며, 재료 보관 및 이송 영역(170)과 공정 생산 영역(125)의 매달린 천장에 복수의 팬 필터 장치(210)가 구비된다. 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 재료 보관 및 이송 영역(170)의 양측에는 각각 공정 생산 영역(125)이 구비된다. 재료 보관 및 이송 영역(170) 내부에 재료 보관 랙 그룹이 구비된다. 재료 보관 랙 그룹의 양측에는 격벽판(200)이 구비된다. 각 격벽판(200)의 상단은 상부 기술 중간층(100)의 상단까지 연장되고, 저부는 와플판(190) 과 연결된다. 재료 보관 랙 그룹은 2 열의 재료 보관 랙(230)을 포함한다. 각 열의 재료 보관 랙(230)과 인접한 격벽판(200) 사이의 갭은 제3 환기 통로(180)를 형성하고, 각각의 제3 환기 통로(180)는 상부 기술 중간층(100)과 연통한다. 구체적으로, 제3 환기 통로(180)는 매달린 천장(160)에 형성된 홀을 통해 상부 기술 중간층(100) 과 연통하고, 매달린 천장(160)에 형성된 홀은 제3 환기 통로(180)에 대응하는 영역에 분포된다.
재료 보관 및 이송 영역(170)에서, 재료 보관 랙(230)에 처리될 유리 기판 및 칩과 같은 재료를 보관하도록 구성된 재료 보관 랙(230)의 영역, 즉 재료 보관 영역(171)이 구비된다.2 열의 재료 보관 랙(230) 사이의 영역은 재료 이송 영역(172) 을 형성하고, 재료 이송 영역(172) 내에 자동 이송 장치가 구비된다. 여기서, 재료 보관 영역(171)에서 각 열의 재료 보관 랙(230)의 측벽에는 제3환기 통로(180)의 기류를 흡입하여 해당 재료 보관 랙(230)으로 유입시키느 복수의 팬필터부(210)가 구비된다. 즉, 이러한 팬필터부(210)는 제3환기통로(180)로 유입되는 기류를 흡입하고, 기류를 여과 및 가압한 후, 재료 보관 랙(230)의 일측 즉, 재료 보관 영역(171)으로 기류를 유출할 수 있고, 재료 보관 영역(171)의 청정도 수준 요건을 유지하기 위해 재료 보관 영역(171)에 있는 부유 입자의 농도를 희석하기 한다. 재료 이송 영역(172)의 상단에 고밀도로 배치된 팬 필터 유닛(210)은 상부 기술 중간층(100)의 기류를 흡입하고, 기류를 여과 및 가압한 후, 재료 이송 영역(172)으로 기류를 유출시키고, 재료 이송 영역(172)의 청정도 수준 요건을 유지하기 위해 재료 유출 영역(172)에서 부유 입자의 농도를 희석한다.
또한, 재료 보관 및 이송 영역(170)에서, 각 열의 재료 보관 랙(230)의 저부에 재료 이송 영역(172)과 인접한 제3 환기 통로(180) 를 연통시키는 공기유로가 형성된다. 즉, 제3 환기 통로(180)가 재료 이송 영역(172) 과 연통한다. 특정 설정에서, 각 열의 재료 보관 랙(230)의 저부와 와플판(190) 사이에 높은 바닥(150)이 구비된다. 높은 바닥(150)과 와플판(190) 사이의 갭 사이에 상기 공기유로가 형성된다. 또한, 공정 생산 영역(125)에서 와플판(190)에 높은 바닥(150)이 구비되며 높은 바닥(150)에 홀이 구비됨으로써 공정 생산 영역(125)과 하부 기술 중간층(110) 사이의 연통을 확보한다. 높은 바닥(150)의 표면은 비교적 평탄하여 공정 생산 장치의 설치가 용이하다. 높은 바닥(150)과 와플판(190) 사이의 갭에는 파이프 등의 기구가 더 설치될 수 있다.
도 2에 도시된 바와 같이, 제3환기 통로(180)는 재료 보관 랙(230) 저부의 공기유로를 통해 재료 이송 영역(172) 과 연통되고, 와플판(190)에 형성된 홀을 통해 하부 기술 중간층(110) 과 연통된다. 재료 이송 영역(172) 에서 유출된 기류의 일부는 재료 보관 랙(230) 저부의 공기유로를 통해 제3 환기 통로(180)에 유입하고, 다른 일부는 와플판(190) 상의 홀을 통해 하부 기술 중간층(110)에 유입한다. 여기서 하부 테크니컬 중간층(110)으로 유입되는 기류의 대부분은 경로 및 압력 균형으로 인해 와플판(190)의 홀을 통과하여 제3 환기 통로(180)로 들어가는 반면, 소부분 기류는 건식 냉각 코일(220)을 통해 제1 환기 통로(130)와 제2 환기 통로(140)에 유입한다. 제3 환기 통로(180) 내의 기류의 일부는 재료 보관 랙(230)의 측벽에 설치된 팬 필터 장치(210) 에 의해 흡입되어 가압여과된 후 배출되며, 재료 보관 랙(230)을 통해 재료 이송 영역(172)에 유입한다. 다른 일부의 기류는 상향 유동하고 상부 기술 중간층(100)에 유입하고， 재료 이송 영역(172) 상단에 설치된 팬 필터 장치(210) 에 의해 흡입되고, 가압 및 여과된 후 재료 이송 영역(172)으로 유출된다. 따라서 재료 이송 영역(172)에서 유출된 기류의 대부분은 제3 환기 통로(180)에 유입한 후 재료 보관 랙(230) 측벽에 설치된 팬 필터 장치(210) 및 재료 이송 영역(172) 상단에 설치된 팬 필터 장치(210)를 통해 재료 이송 영역(172)에 다시 유입하여 국부적 순환을 실현한다. 국부적 순환하는 기류가 건식 냉각 코일(220), 제1 환기 통로(130), 제2 환기 통로(140) 및 상부 기술 중간층(100) 을 통과하지 않기 때문에, 건식 냉각 코일(220)의 양이 크게 감소될 수 있으며, 제1 환기 통로(130), 제2 환기 통로(140) 및 상부 기술 중간층(100) 이 차지하는 공간도 감소될 수 있고, 청정실(2)의 건설 비용이 감소된다. 동시에, 제3 환기 통로(180)가 재료 보관 랙(230)의 측벽에 설치된 팬 여과 장치에 풍량을 제공하기 때문에 공정 생산 영역(125)의 상단에 재료 보관 랙(230)의 측면에 설치되는 팬 필터 장치(210) 와 동일한 풍량의 팬 필터 장치(210)가 추가로 구비될 필요가 없어, 공정 생산 영역(125)의 공기 공급량 및 팬 필터 장치(210)의 수량을 감소시키고, 에너지 소비 및 건설 비용을 저감시킨다. 도 2에 도시된 구조에서, 높은 바닥(150)은 건설 비용을 줄이기 위해 설치되지 않을 수 있다.
계속해서 도 2를 참조하면, 재료 보관 및 이송 영역(170)의 온도 및 상대 습도 매개변수를 보장하기 위해 외기 공급 파이프(240)가 하부 기술 중간층(110)에 설치되고 외기 공급 파이프(240)의 배출 포트가 제3 환기 통로(180) 각각과 연통한다. 외기 공급 파이프(240)는 처리된 저온 공기를 제3환기 통로(180)로 유출하도록 구성된다. 제3 환기 통로(180)에서 외기와 순환기류가 혼합된다. 혼합 기류의 일부는 재료 보관 랙의 측벽에 설치된 팬 필터 장치에 의해 흡입되어 가압여과된 후 외부로 배출되며 재료 보관 랙을 통과하여 재료 이송 영역에 유입한다. 혼합 기류의 다른 부분은 상부 기술 중간층으로 위쪽으로 흐르고 재료 이송 영역의 상단에 설치된 팬 필터 장치에 의해 흡입되고 가압 및 여과된 후 재료 이송 영역으로 유출된다. 특정 설정에서, 외기 공급 파이프(240)는 청정실 정화 공조 시스템의 외기 처리 세트과 연통할 수 있다. 또한, 외기 공급 파이프(240)에 전기 조절 밸브(260)가 구비되며, 재료 보관 및 이송 영역(170) 내 또는 제3 환기 통로(180) 내부에 온도 센서, 전기 조절 밸브(260)와 온도 센서 각각은 제어 장치와 신호 연결된다. 제어 장치는 온도 센서에 의해 감지된 온도에 따라 전기 조절 밸브(260)의 개도를 제어하여 외기 공급 파이프(240)의 공기 공급량을 제어하도록 구성된다. 이와 같이 재료 보관 및 이송 영역(170) 또는 제3 환기 통로(180) 내의 온도에 따라 제3 환기 통로(180)로 유입되는 외기의 양을 제어하여 재료 보관 영역(171)와 재료 이송 영역(172)의 온도를 정확하게 제어할 수 있다.
도 3에 도시된 바와 같이, 재료 보관 및 이송 영역(170)의 압력 요건을 더 충족시키기 위해, 재료 보관 및 이송 영역(170)과 제3 환기 통로(180)에 대응한 영역의 와플판(190)의 저부에 밀봉판(250)가 구비된다. 밀봉판(250)는 재료 보관 및 이송 영역(170)과 제3 환기 통로(180)의 저부를 하부 기술 중간층(110)으로부터 분리하도록 구성된다. 또는, 재료 보관 및 이송 영역 및 환기 통로에 대응하는 영역의 와플판의 홀의 상단에 커버 플레이트가 구비된다. 상기 커버 플레이트는 재료 보관 및 이송 영역과 환기 통로의 저부를 하부 기술 중간층으로부터 분리하도록 구성되어, 재료 보관 및 이송 영역과 제3 환기 통로(180)이 주변환경과 완전히 분리되어 독립된 공기순환이 형성될 수 있게 된다. 도 3에서 화살표로 표시된 기류 방향에 따라, 재료 이송 영역(172)에서 유출된 기류는 높은 바닥(150)과 와플판(190)로 형성된 공기유로를 통해 제3 환기 통로(180)에 유입하고, 외기 공급 파이프(240) 에서 유출되는 외기와 혼합된다. 혼합 기류의 일부는 재료 보관 랙(230) 측벽에 설치된 팬 필터 장치(210) 에 의해 흡입되어 가압 및 여과된 후 배출되며, 재료 보관 랙(230)을 통과하여 재료 이송 영역(172)으로 진입한다. 혼합 기류의 다른 부분은 상부 기술 중간층(100)으로 위쪽으로 유동하고, 재료 이송 영역(172) 상단에 구비된 팬 필터 장치(210)에 의해 흡입되어 가압 및 여과된 후 배출되며, 재료 이송 영역(172) 으로 유입되어 순환을 형성한다. 외기 공급 파이프(240)는 제3 환기 통로(180)로 외기를 지속적으로 유출하기 때문에 재료 보관 및 이송 영역(170)의 압력 값은 주변 압력 값보다 높으며, 이는 엄격한 청정도의 압력 값이 청정도가 불량한 영역의 압력 값보다 높아야 한다는 요건을 보장한다. 즉, 재료 보관 및 이송 영역(170)의 압력이 높기 때문에 이 공간 내의 공기가 구조물 사이의 틈새를 통해 주변 환경으로 유입될 수 있고, 주변 환경의 청정도가 불량한 공기가 역류하지 못하므로, 재료 보관 및 이동 영역의 엄격한 청정도수준이 보장된다.
또는, 상기 하부 기술 중간층에서 각각의 격벽판에 대응되는 위치에 일정한 높이의 격판을 수직으로 하향 설치하여 상기 와플판의 하면에 부착할 수 있다. 밀봉판는 격판의 하단에 수평으로으로 설치된다. 수직으로 설치된 격판과 수평으로 설치된 밀봉판은 재료 보관 및 이송 영역의 저부를 외부와 분리하여 재료 보관 및 이송 영역과 환기 통로 사이에 독립적인 기류 순환을 형성하도록 구성된다.
위의 설명에서 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 실시예에서는 격벽판을 설치하고 또한 격벽판과 재료 보관 랙 상이에 상부 기술 중간층 및 재료 이송 영역과 연통하는 제3 환기 통로를 형성하여 작업장 본체 내의 기류 순환경로 최적화하고 공정 생산 영역의 공기 공급량 및 건식 냉각 코일과 팬 필터 장치의 수량을 감소한다. 기술 통로과 상부 기술 중간층이 점유한 공간을 감소하고 에너지 소비 및 건설 비용이 절감된다. 또한, 상기 외기 공급 파이프는 제3 환기 통로에 외기를 제공하도록 더 설치될 수 있으며, 재료 보관 및 이송 영역과 제3 환기 통로에 대응하는 영역의 와플판의 저부에 밀봉판이 구비되거나, 재료 보관 및 이송 영역과 제3 환기 통로에 대응하는 영역의 와플판의 홀의 상단에 커버 플레이트가 구비되거나, 상기 재료 보관 및 이송 영역 및 제3 환기 통로에 대응하는 영역에서 와플판의 하부 바닥면에 부착되도록하향 수직으로특정 높이를 갖는 격판이 설치되며, 격판의 하단에 수평으로 밀봉판이 구비되며, 재료 보관 및 이송 영역 및 제3 환기 통로는 주변 환경과 분리되어있어 재료 보관 및 이송 영역 내의 압력, 온도 및 습도 요구 사항을 추가로 보장한다.
생산 환경의 습도 변화 또는 생산 환경의 상대 습도에 대한 다른 요구 사항을 고려할 때, 관련 기술에서는 실내 조건 하에서 상대 습도의 현적한 변화 또는 높은 상대 습도 요구 사항이 있는 청정실의 방에 대해 공기 습도가 증가하지 않고(즉, 실내 공기 습도가 변하지 않음), 실내 온도 및 습도 요구 값에 근접하도록 상대 습도를 증가시키하기 위해 청정실의 온도 값을 낮추는 조치만 채택된다. 그러나 이 조치를 시행한 후에는 실내 온도 및 습도 값과 생산 요구 온도 및 습도 값 사이에 항상 일정한 편차가 있을 수 있으며 이는 생산 환경에 일정한 영향을 미치고 제품 수율 감소를 유발하기 쉽다.
이를 고려하여, 일 실시예에서 가습 장치가 청정실의 상부 기술 중간층(100)에 설치된 도 4를 참조한다. 본 발명의 실시예에 의해 제공되는 2차 가습 시스템을 구비한 청정실은 2차 가습 시스템의 적어도 하나의 그룹을 포함한다. 2차 가습 시스템의 각 그룹은 가습 장치(280), 청정실에 설치된 상부 기술 중간층(100), 청정실의 하부 테크니컬 중간층(110), 제1 환기 통로, 제2 환기 통로 또는 청정실에 설치된다. 청정실의 공기 습도를 감지하도록 구성된 상대 습도 센서(290); 및 상대 습도 센서(290) 및 가습 장치(280)와 연결되는 습도 조절기(300)를 포함한다. 습도 조절기(300)는 상대 습도 센서(290)의 습도 신호를 수신하여 습도 신호에 따라 가습 장치(280)가 동작하도록 제어하도록 구성된다.
상기 2차 가습 시스템을 구비한 청정실에서, 2차 가습 시스템의 적어도 하나의 그룹은 청정실에 설치되고, 2차 가습 시스템의 각 그룹은 청정실에 설치되고 실내 공기 습도를 감지하도록 구성된 상대 습도 센서를 포함한다. 상대 습도 센서는 청정실의 생산 영역에 설치될 수 있다. 생산 영역은 생산 장치가 설치되는 장소이다. 생산 영역의 습도는 생산 영역에 설치된 상대 습도 센서에 의해 감지될 수 있다. 즉, 제품에 대한 생산 환경의 상대 습도가 감지되어 제품의 제조 환경의 실제 상대 습도 더 정확하게 결정된다. 또한, 가습 장치는 실내 공기를 직접 가습하도록 구성된다. 가습 장치는 청정실의 상부 기술 중간층, 또는 청정실의 하부 기술 중간층, 또는 청정실의 제1 환기 통로 또는 제2 환기 통로, 또는 생산 영역에 설치될 수 있다. 가습된 공기는 청정실의 공기 시스템에 유입되어 청정실의 전체 환경을 가습할 수 있다. 물론 가습된 공기는 청정실의 공기 시스템 순환 중에 생산 영역으로 들어갈 수 있으므로 청정실의 생산 환경은 2차 가습 효과를 얻는다. 습도 조절기는 상대 습도 센서와 신호 연결되고, 가습 장치와 전기적으로 연결되며, 상대 습도 센서에서 감지된 습도 신호를 수신하고, 이 습도 신호를 통해 가습 장치를 제어할 수 있다. 습도 신호는 클린 생산 영역의 상대 습도 값으로, 생산 영역의 상대 습도에 대해 생산 영역에서 생산되는 제품의 요구 사항에 따라 소정값이 설정된다. 상대 습도 센서는 클린 생산 영역의 습도값이 소정값 미만임을 감지하면 습도 조절기는 실내공기를 가습하도록 가습장치를 제어하고 이에 비례하여 가습량을 조절할 수 있다. 상대 습도 센서가 생산 영역의 습도 값이 소정값 이상임을 감지하면 습도 조절기는 일정하고 지속적인 가습에 비례하여 가습량을 줄이도록 가습 장치를 제어하거나 작동을 시작하지 않는다. 따라서 습도 조절기는 상대 습도 센서에서 습도 신호를 수신하여 실내 공기를 자동으로 가습하도록 가습 장치를 제어하여 생산 영역의 생산 환경의 습도 요구 사항 및 생산 환경의 상대 습도를 충족시켜 생산 영역에서 최적한값에 도달할 수 있다.
따라서, 상기 2차 가습 시스템을 구비한 청정실에서 2차 가습 시스템은 청정실에 설치되어 실내 공기에 대한 2차 가습을 효과적으로 수행할 수 있고, 생산 영역의 환경의 상대습도를 증가시킬 수 있다. 제품의 생산 환경의 상대 습도가 최적의 값에 도달하도록 하여 양호한 생산 공정 및 제조 환경을 보장하고 제품 수율을 향상시키는 데 도움이 된다.
본 발명의 실시예에서, 2차 가습 시스템을 구비한 상기 청정실에서, 2차 가습 시스템의 각 그룹은 내부적으로 하나 이상의 상대 습도 센서를 구비한다. 2차 가습 시스템의 각 그룹에 하나의 상대 습도 센서가 있는 경우 습도 신호는 상대 습도 센서의 유도 값이다. 2차 가습 시스템의 각 그룹에 복수의 상대 습도 센서가 있는 경우, 습도 신호는 복수의 상대 습도 센서의 습도 유도 값의 평균값이다. 복수의 상대 습도 센서가 제공되고, 복수의 상대 습도 센서의 유도 값의 평균값이 습도 신호 역할을 하며, 실내 상대 습도를 보다 정확하게 테스트할 수 있어 2차 습도의 정확도 향상에 유리한다. 실내 환경의 습도가 생산의 최적 상대 습도 값으로 되도록 확보한다..
도 4 내지 도 6를 참조하면, 2차 가습 시스템이 있는 청정실에는 내부적으로 2차 가습 시스템의 복수 그룹이 제공될 수 있으며, 이는 청정실에서 생산 환경의 가습 속도를 개선하고 환경 습도를 생산 환경에서 요구하는 상대 습도 값에 더 빨리 도달하도록 하는 데 유리한다. 2차 가습 시스템의 복수 그룹의 가습 장치(280)는 청정실의 상부 중간층(100), 청정실의 하부 중간층(110), 청정실의 제1 환기 통로(130), 청정실의 제2 환기 통로(140) 또는 청정실(120)의 임의의 1-4 곳에 설치될 수 있다. 예를 들어, 2차 가습 시스템의 복수 그룹의 가습 장치(280)는 모두 청정실의 상부 기술 중간층(100)에 설치될 수 있다. 또는 청정실의 환기 통로, 또는 청정실의 하부 기술 중간층(110), 또는 청정실(120)에 설치될 수 있다. 또한, 복수 그룹의 2차 가습 시스템의 가습 장치의 일부 시스템은 상부 기술 중간층(100)에 설치될 수 있고, 그 중 다른 일부는 제1 환기 통로(130) 및 제2 환기 통로(140)에 설치될 수 있다. 복수 그룹의 가습 시스템의 가습 장치의 일부는 하부 기술 중간층(110)에 설치되고, 다른 일부는 제1 환기 통로(130) 및 제2 환기 통로(140)에 설치된다. 또는, 복수 그룹의 가습 시스템의 가습 장치는 상부 기술 중간층(100)에 설치되고, 다른 일부는 하부 기술 중간층(110)에 설치된다. 또는, 복수 그룹의 가습 시스템의 가습 장치의 일부는 제 1 환기 통로(130) 및 제 2 환기 통로(140)에 설치되며, 다른 일부는 청정실(120)에 설치된다. 또는, 복수 그룹의 가습 시스템의 가습 장치의 일부는 상부 기술 중간층(100)에 설치되며, 다른 일부는 하부 기술 중간층(110)에 설치되고, 또 다른 일부는 제1 환기 통로(130) 및 제2 환기 통로(140)에 설치된다. 즉 상부 기술 중간층(100), 하부 기술 중간층(110), 제1 환기 통로(130) 및 제2 환기 통로(140)에는 모두 가습 장치가 구비된다. 상부 기술 중간층(100), 하부 기술 중간층(120), 제1 환기 통로(130), 제2 환기 통로(140) 및 청정실(120)에 2차 가습 시스템의 가습 장치를 설치하는 방법은 여러 가지가 있으며 여기에 나열되지 않는다. 복수 그룹의 2차 가습 시스템에서 2차 가습 시스템의 각 그룹의 설정은 실제 필요에 따라 이루어질 수 있으며, 2차 가습 시스템의 수량도 실내 필요에 따라 설정될 수 있다는 점에 유의해야 한다. 본 실시예는 이를 한정하지 않는다.
또한, 도 19 및 도 10을 참조하면, 전자 산업의 주류 제품인 디스플레이 소자의 생산 작업장에서 다른 제품, 다른 생산 공정 등으로 인해 생산 환경에 대한 요구 사항도 다르기 때문에 생산 작업장은 생산 환경에 대한 요구 사항, 제조 프로세스에 대한 특별 요구 사항 등에 따라 생산 작업장 내에서 복수의 독립 파티션으로 내부적으로 분할될 수 있다. 서로 다른 환경 요구 사항을 가진 제품을 제조하거나 서로 다른 독립 파티션에서 공정 제조를 수행한다. 청정실 내부에는 서로 다른 습도에 따라 제1 독립 파티션과 제2 독립 파티션이 마련될 수 있으며, 즉, 복수의 독립 파티션은 제1 독립 파티션과 제2 독립 파티션을 포함한다. 제1 독립 파티션은 복수일 수 있고, 제2 독립 파티션도 복수일 수 있으며, 제1 독립 파티션 및 제2 독립 파티션의 수량 및 레이아웃은 실제 수요에 따라 설정될 수 있다. 또한, 청정실에 제1독립 파티션과 제2 독립 파티션을 설치함으로써, 2차 가습 시스템을 설정하기 위한 아래와 같은 복수의 방식도 가능하다.
방식 1：
도 7 내지 도 9를 참조하면, 청정실 내부에는 제1 독립 파티션(320)과 제2 독립 파티션(330)이 설치되고, 제1 독립 파티션(320)과 제2 독립 파티션(330) 사이에는 격벽 구성요소가 설치되어 청정실(120)을 제1 독립 파티션(330)으로 분리하여 클린 생산 영역(121) 및 제2 클린 생산 영역(122)을 형성하도록 한다. 상부 기술 중간층(100)을 제1 상부 기술 중간층(101) 및 제2 상부 기술 중간층(102)으로 분리하고, 하부 기술 중간층(110)을 제1 하부 기술 중간층(111) 및 제2 하부 기술 중간층(112) 으로 분리한다. 제1 독립 파티션(320)은 제1 상부 기술 중간층(101), 제1 클린 생산 영역(121), 제1 하부 기술 중간층(111) 및 제1 환기 통로(130)를 포함한다. 제1 환기 통로(130)는 제2 독립 파티션(330) 에서 멀어지는 제1 독립 파티션(320) 측에 구비된다. 제2 독립 파티션(330)은 제2 상부 기술 중간층(102), 제2 클린 생산 영역(122), 제2 하부 기술 중간층(112) 및 제2 환기 통로(140)를 포함한다. 2차 가습 시스템은 제1 독립 파티션(320)에 설치되며 제1 독립 파티션의 공기를 직접 가습할 수 있으며 실내 공기 습도를 효과적으로 개선하고, 특히 제1 독립 파티션의 경우, 제1 독립 파티션의 상대 습도가 생산에 필요한 최적의 값이 되도록 하는 데 유리하다. 여기서, 제1 독립 파티션에는 1 그룹의 2차 가습 시스템 또는 복수 그룹의 2차 가습 시스템이 있을 수 있으며 본 실시예에서 이에 대해 제한하지 않는다.
위 방식 1의 청정실에서 제1 독립 파티션 및 제2 독립 파티션의 설치를 위해, 또한 아래와 같이 복수의 설치 박식이 있을 수 있다.
독립 파티션을 설치하는 방식 1：
도 16을 참조하면, 격벽 구성요소은 제1 독립 파티션(320)과 제2 독립 파티션(330) 사이에 설치되는 격벽(350)을 포함한다. 제1 독립 파티션(320)과 제2 독립 파티션(330) 사이에 단지 하나의 격벽(350)이 구비되여 상기 격벽(350)은 적어도 제1 클린 생산 영역(121)과 제2 클린 생산 영역(122)에 대응하고, 제1 클린 생산 영역(121)과 제2 생산 영역(121)을 분리시킨다. 즉, 제1 클린 생산 영역과 제2 클린 생산 영역은 서로 인접하고 격벽에 의해서만 분리된다.
여기서, 상기 격벽은 제1 클린 생산 영역 및 제2 클린 생산 영역에만 대응할 수 있으며, 즉, 제1 상부 기술 중간층과 제2 상부 기술 중간층이 연통될 수 있고, 제1 하부 기술 중간층과 제2 하부 기술 중간층도 통신할 수 있다. 또한, 격벽의 저부는 또한 하부 기술 중간층의 바닥 판까지 연장되고 하부 공업 중간층의 바닥 판과 밀봉 끼워지도록 구성된다. 즉, 제1 하부 기술 중간층과 제2 하부 기술 중간층 상이에 격벽에 의해 분리된다. 즉 제 1 하부 공업 중간층 및 제 2 하부 기술 중간층은 칸막이 벽에 의해 분리된다. 게다가, 도 16에 도시된 바와 같이, 격벽(350)의 저부가 하부 기술 중간층의 바닥 판까지 연장되고 동시에 하부 기술 중간층의 바닥 판과 밀봉 끼워지도록 더 설치될 수 있다. 한편 격벽의 상단은 상부 기술 중간층의 상부 플레이트까지 연장되고 상부 기술 중간층의 상부 플레이트와 밀봉 끼워지도록 구성된다. 즉, 제1 하부 기술 중간층(111)과 제2 하부 기술 중간층(112) 사이에 격벽에 의해 분리된다. 한편 제1 상부 기술 중간층(101)과 제2 상부 기술 중간층(102) 사이에도 격벽에 의해 분리된다. 이와 같이 두 개의 독립된 파티션이 완전히 분리되고 제1독립 파티션과 제2 독립 파티션을 서로 통하지 않는 독립 공간으로 설치함으로써 서로 간의 환경 조건이 서로 영향을 미치는 것을 방지할 수 있어 각자의 환경 요구 사항을 보장하는 데에 더욱 유리하다.
여기서, 위 독립 파티션을 설치하는 방식 에서 격벽에 의해 제1 독립 파티션과 제2 독립 파티션을 서로 통하지 않는 독립 공간으로 설치함으로써 서로 간의 환경 조건이 서로 영향을 미치는 것을 방지할 수 있어 각자의 환경 요구 사항을 보장하는 데에 더욱 유리하다. 제1 독립 파티션에 2차 가습 시스템이 구비되기 때문에 제1 독립 파티션에는 2차 가습 시스템이 내부적으로 제공되기 때문에 제1 독립 파티션에서 상대 습도 요구 사항이 높은 생산 공정을 수행하거나 제1 독립 파티션에서 상대 습도 요구 사항이 높은 제품을 생산할 수 있다. 2차 가습 시스템은 제1 독립 파티션에 있는 공기의 상대 습도 값을 증가시켜 제1 독립 파티션에 있는 공기의 상대 습도가 제품 생산을 위한 최적의 수요 값에 도달하도록 하여 제품 수율을 개선하는 데 도움이 된다.
독립 파티션을 설치하는 방식 2：
도 5 내지 도 9에 도시된 바와 같이, 격벽 구성요소는 제1 독립 파티션(320)과 제2 독립 파티션(330) 사이에 설치된 제1 격벽(590) 및 제2 격벽(600)인 2개의 나란한 격벽을 포함한다. 즉, 제1 독립 파티션(320)과 제2 독립 파티션(330) 사이에 병행하면서 대향하는 제1 격벽(590)과 제2 격벽(600)이 구비된다. 이 두 격벽은 적어도 제1 클린 생산 영역(121)과 제2 클린 생산 영역(122)에 대응한다. 제1 클린 생산 영역(121)과 제2 클린 생산 영역(122)를 분리시킨다. 제1 격벽(590)은 제1 독립 파티션(320)에 위치하고, 제2 격벽(600)은 제2 독립 파티션(330) 위치하고, 제1 격벽(590)과 제2 격벽(600) 사이에 제4 환기 통로가 형성된다. 여기서, 제1 격벽과 제2 격벽은 제1 클린 생산 영역과 제2 클린 생산 영역에만 대응한다. 제1 상부 기술 중간층은 제2 상부 기술 중간층과 연통된다. 제1 하부 기술 중간층은 제2 하부 기술 중간층과 연통된다. 또한, 제1 격벽의 저부가 하부 기술 중간층까지 연장되도록 더 설치될 수 있고, 제2 격벽의 저부가 하부 기술 중간층 까지 연장되도록 더 설치될 수 있다.
독립 파티션을 설치하는 방식 3：
도 13, 도 14 및도 15에 도시된 바와 같이, 각 독립 파티션에서 환경 요구 사항의 정확도를 향상시키기 위해 독립 파티션은 서로 연통하지 않는 두 개의 독립 공간으로 완전히 분리될 수 있다. 격벽 구성요소는 제1 독립 파티션(320)과 제2 독립 파티션(330) 사이에 나란한 3개의 격벽, 즉 제1 격벽(590), 제2 격벽(600) 및 제3 격벽(610)을 포함한다. 제3 격벽(610)은 제1 격벽(590)과 제2 격벽(600) 사이에 위치한다. 제1 격벽(590)은 제1 독립 파티션(320)에 위치하고, 제2 격벽(600)은 제2 독립 파티션(330) 위치하고, 제3 격벽(610)의 상단은 상부 기술 중간층의 상부 플레이트까지 연장되고 상부 기술 중간층의 상부 플레이트와 밀봉 끼워지도록 구성된다. 제3 격벽(610)의 저부는 하부 기술 중간층의 바닥 판까지 연장되고 하부 기술 중간층의 바닥 판과 밀봉 끼워지도록 구성되고, 제1 독립 파티션(320)과 제2 독립 파티션(330)을 서로 연통하지 않는 두 개의 독립 공간으로 분리함으로써, 서로 간의 환경 조건이 서로 영향을 미치는 것을 방지할 수 있어 각자의 환경 요구 사항을 보장하는 데에 더욱 유리하다. 제1 격벽은 제1 클린 생산 영역에 대응하고, 제1 격벽의 저부는 하부 기술 중간층까지 연장된다. 제2 격벽은 제2 클린 생산 영역에 대응한다. 제2 격벽의 저부가 하부 기술 중간층 까지 연장되도록 더 설치될 수 있다. 제1 격벽(590)과 제3 격벽(610) 사이에 제5 환기 통로(360)가 형성되고, 또는, 제2 격벽(600)과 제3 격벽(610) 사이에 제6 환기 통로(370)가 형성되고, 또는, 제1 격벽(590)과 제3 격벽(610) 사이에 제5 환기 통로(360)가 형성되고, 한편 제2 격벽(600)과 제3 격벽(610) 사이에 제6 환기 통로(370)가 형성된다.
위 독립 파티션을 설치하는 방식 3에서, 제1 독립 파티션은 제2 독립 파티션을 서로 통하지 않는 독립 공간으로 설치함으로써 서로 간의 환경 조건이 서로 영향을 미치는 것을 방지할 수 있어 각자의 환경 요구 사항을 보장하는 데에 더욱 유리하다. 제1 독립 파티션에 2차 가습 시스템이 구비되기 때문에 제1 독립 파티션에는 2차 가습 시스템이 내부적으로 제공되기 때문에 제1 독립 파티션에서 상대 습도 요구 사항이 높은 생산 공정을 수행하거나 제1 독립 파티션에서 상대 습도 요구 사항이 높은 제품을 생산할 수 있다. 2차 가습 시스템은 제1 독립 파티션에 있는 공기의 상대 습도 값을 증가시켜 제1 독립 파티션 내의 공기의 상대 습도가 제품 생산을 위한 최적의 수요 값에 도달하도록 하여 제품 수율을 개선하는 데 도움이 된다.
도 12에 도시된 바와 같이, 제1 격벽(590)과 제3 격벽(610) 사이에 제5 환기 통로(360)가 형성되는 경우, 제5 환기 통로(360)에 가습장치를 설치하여 제1 독립 파티션 내의 가습을 용이하게 할 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 위 방식 1에서, 도 5, 도 6, 도 11, 도 12 및 도 16을 참조하면, 작동 과정에서 휘발성 유기 화합물을 생성하는 생산 장치(310)는 제1 독립 파티션(320)의 제1 클린 생산 영역(11)에 설치된다. 제1 하부 기술 중간층(111) 내에 휘발성 유기 화합물을 흡착하도록 구성된 제올라이트 러너 세트(340)가 구비된다. 제올라이트 러너 세트(340)는 운전 과정에서 실내 공기를 어느 정도 제습하여 청정실, 특히 제1 독립 파티션의 환경습도를 낮추어 제품 생산을 위한 환경 습도 요구값을 벗어날 수 있다. 제1 독립 파티션(320)에 설치된 2차 가습 시스템은 실내 공기를 직접 가습하여 실내 상대 습도를 향상시킬 수 있어 실내 공기의 상대 습도가 제품에 대한 최적의 요구 습도 값으로 유지되도록 하는 이점이 있으며 제품 수율을 보장하는 데 유리한다.
방식 2：
도 4에 도시된 바와 같이 청정실 내부에는 제1 독립 파티션(320)과 제2 독립 파티션(330)이 설치되고, 제1 독립 파티션(320)과 제2 독립 파티션(330) 사이에 격벽 구성요소가 설치되어 생산 영역을 제1 클린 생산 영역(121)과 제2 클린 생산 영역(122)으로 분리하고, 상부 기술 중간층(100)을 제1 상부 기술 중간층(101)과 제2 상부 기술 중간층(102)으로 분리하고, 하부 기술 중간층(110)을 제1 하부 기술 중간층(111)고 제2 하부 기술 중간층(112)로 분리한다. 제1 독립 파티션(320)은 제1 상부 기술 중간층(101), 제1 클린 생산 영역(121), 제1 하부 기술 중간층(111) 및 제1 환기 통로(130)를 포함한다. 제2 독립 파티션(330)은 제2 상부 기술 중간층(102), 제2 클린 생산 영역(122), 제2 하부 기술 중간층(112) 및 제2 환기 통로(140)를 포함한다. 2차 가습 시스템의 적어도 2개의 그룹이 있고, 제1 독립 파티션(320)과 제2 독립 파티션(330) 내에 2차 가습 시스템이 구비된다. 여기서, 2차 가습 시스템의 적어도 2개의 그룹이 있고, 제1 독립 파티션(320)과 제2 독립 파티션(330) 내부에는 각각 내부에 한 그룹의 2차 가습 시스템이 구비된다. 또는, 복수의 2차 가습 시스템 그룹이 있을 수 있고, 제1 독립 파티션(320)과 제2 독립 파티션(330)은 복수의 2차 가습 시스템 그룹을 구비한다.
방식 2에서, 제1 독립 파티션 및 제2 독립 파티션 모두 내부에 2차 가습 시스템이 제공되어, 제1 독립 파티션의 공기 상대 습도 및 제2 독립 파티션의 공기 상대 습도가 빠르게 개선할 수 있어 제1 독립 파티션의 공기 상대 습도와 제2 독립 파티션의 공기 상대 습도가 최적의 수요 값에 있도록 보장하고 제품 수율을 보장하는 데 유리한다.
방식 2의 청정실에서 제1 독립 파티션 및 제2 독립 파티션의 설치를 위해, 다음과 같이 복수의 설치 방식이 더 있을 수 있다.
독립 파티션을 설치하는 방식 1：
도 17을 참조하면, 격벽 구성요소은 제1 독립 파티션(320)과 제2 독립 파티션(330) 사이에 설치되는 격벽(350)을 포함한다. 즉, 제1 독립 파티션(320)과 제2 독립 파티션(330) 사이에 단지 하나의 격벽(350)이 설치되며 상기 격벽(350)은 적어도 제1 클린 생산 영역(121)과 제2 클린 생산 영역(122)에 대응한다. 제1 클린 생산 영역(121)과 제2 클린 생산 영역(122)을 분리한다. 즉, 제1 클린 생산 영역(121)과 제2 클린 생산 영역(122) 은 서로 인접하며, 격벽(350)에 의해서만 분리된다. 여기서, 상기 격벽은 제1 클린 생산 영역과 제2 클린 생산 영역에만 대응한다. 즉, 제1 상부 기술 중간층과 제2 상부 기술 중간층 사이에 연통되며 제1 하부 기술 중간층과 제2 하부 기술 중간층 사이에도 연통된다. 또한, 격벽의 저부는 하부 기술 중간층의 바닥 판까지 연장되고 하부 기술 중간층의 바닥 판과 밀봉 끼워지도록 구성된다. 즉, 제1 하부 기술 중간층과 제2 하부 기술 중간층 사이에 격벽에 의해 분리된다. 게다가, 도 17에 도시된 바와 같이, 격벽(350)의 저부는 하부 기술 중간층의 바닥 판까지 연장되고 하부 기술 중간층의 바닥 판과 밀봉 끼워지도록 구성된다. 한편 격벽의 상단은 상부 기술 중간층의 상부 플레이트까지 연장되고 상부 기술 중간층의 상부 플레이트와 밀봉 끼워지도록 구성된다. 즉, 제1 하부 기술 중간층(111)과 제2 하부 기술 중간층(112) 사이에 격벽에 의해 분리된다. 또한 제1 상부 기술 중간층(101)과 제2 상부 기술 중간층(102) 사이에도 격벽에 의해 분리된다. 이와 같이 두 개의 독립된 파티션이 완전히 분리되고 제1 독립 파티션과 제2 독립 파티션을 서로 통하지 않는 독립 공간으로 설치함으로써 서로 간의 환경 조건이 서로 영향을 미치는 것을 방지할 수 있어 각자의 환경 요구 사항을 보장하는 데에 더욱 유리하다.
여기서, 위 방식 2의 독립 파티션을 설치하는 방식 1에서, 격벽 제1 독립 파티션과 제2 독립 파티션을 서로 통하지 않는 독립 공간으로 설치함으로써 서로 간의 환경 조건이 서로 영향을 미치는 것을 방지할 수 있어 각자의 환경 요구 사항을 보장하는 데에 더욱 유리하다. 또한 제1 독립 파티션과 제2 독립 파티션 내에 2차 가습 시스템가 구비된다. 제1 독립 파티션에는 2차 가습 시스템이 내부적으로 제공되기 때문에 제1 독립 파티션에서 상대 습도 요구 사항이 높은 생산 공정을 수행하거나 제1 독립 파티션에서 상대 습도 요구 사항이 높은 제품을 생산할 수 있다. 2차 가습 시스템 제1 독립 파티션 내의 공기의 상대 습도 값을 증가시켜 제1 독립 파티션에 있는 공기의 상대 습도가 제품 생산을 위한 최적의 수요 값에 도달하도록 하여 제품 수율을 개선하는 데 도움이 된다.
독립 파티션을 설치하는 방식 2：
도 4에 도시된 바와 같이, 격벽 구성요소는 제1 독립 파티션(320)과 제2 독립 파티션(330) 사이에 설치되는 2개의 나란한 격벽, 즉 제1 격벽(590) 및 제2 격벽(600)을 포함한다. 즉, 제1 독립 파티션(320)과 제2 독립 파티션(330) 사이에 병행하면서 대향하는 제1 격벽(590)과 제2 격벽(600)이 구비된다. 이 두 격벽은 적어도 제1 클린 생산 영역(121)과 제2 클린 생산 영역(122)에 대응한다. 제1 클린 생산 영역(121)과 제2 클린 생산 영역(122)를 분리시킨다. 제1 격벽(590)은 제1 독립 파티션(320)에 위치하고, 제2 격벽(600)은 제2 독립 파티션(330) 위치하고, 제1 격벽(590)과 제2 격벽(600) 사이에 제4 환기 통로가 형성된다. 여기서, 제1 격벽과 제2 격벽은 제1 클린 생산 영역과 제2 클린 생산 영역에만 대응한다. 제1 상부 기술 중간층은 제2 상부 기술 중간층과 연통된다. 제1 하부 기술 중간층은 제2 하부 기술 중간층과 연통된다. 또한, 제1 격벽의 저부가 하부 기술 중간층까지 연장되도록 더 설치될 수 있고, 제2 격벽의 저부가 하부 기술 중간층 까지 연장되도록 더 설치될 수 있다.
독립 파티션을 설치하는 방식 3：
도 10을 참조하면, 각각의 독립 파티션에서 환경 요구사항의 정확도를 향상시키기 위해, 독립 파티션은 서로 연통하지 않는 두 개의 독립 공간으로 완전히 분리될 수 있다. 격벽 구성요소는 제1 독립 파티션(320)과 제2 독립 파티션(330) 사이에 나란한 3개의 격벽, 즉 제1 격벽(590), 제2 격벽(600) 및 제3 격벽(610)을 포함한다. 제3 격벽(610)은 제1 격벽(590)과 제2 격벽(600) 사이에 위치하며, 제1 격벽(590)은 제1 독립 파티션(320)에 위치한다. 제2 격벽(600)은 제2 독립 파티션(330)에 위치한다. 제3 격벽(610)의 상단은 상부 기술 중간층의 상부 플레이트까지 연장되고 상부 기술 중간층의 상부 플레이트와 밀봉 끼워지도록 구성된다. 제3 격벽(610)의 저부는 하부 기술 중간층의 바닥 판까지 연장되고 하부 기술 중간층의 바닥 판과 밀봉 끼워지도록 구성되고, 제1 독립 파티션과 제2 독립 파티션은 서로 연통하지 않는 두 개의 독립 공간으로 분리될 수 있다. 서로 간의 환경 조건이 서로 영향을 미치는 것을 방지할 수 있어 각자의 환경 요구 사항을 보장하는 데에 더욱 유리하다. 제1 격벽은 제1 클린 생산 영역에 대응하고, 제1 격벽의 저부는 하부 기술 중간층까지 연장된다. 제2 격벽은 제2 클린 생산 영역에 대응한다. 제2 격벽의 저부가 하부 기술 중간층 까지 연장되도록 더 설치될 수 있다. 제1 격벽(590)과 제3 격벽(610) 사이에 제5 환기 통로(360)가 형성되고, 또는, 제2 격벽(600)과 제3 격벽(610) 사이에 제6 환기 통로(370)가 형성되고, 또는, 제1 격벽과 제3 격벽(610) 사이에 제5 환기 통로가 형성되고, 제2 격벽과 제3 격벽(610) 사이에 제6 환기 통로가 형성된다.
위 방식 2의 독립 파티션을 설치하는 방식 3에서, 제1 독립 파티션과 제2 독립 파티션을 서로 통하지 않는 독립 공간으로 설치함으로써 서로 간의 환경 조건이 서로 영향을 미치는 것을 방지할 수 있어 각자의 환경 요구 사항을 보장하는 데에 더욱 유리하다. 제1 독립 파티션 및 제2 독립 파티션 내부에 모두 2차 가습 시스템이 구비되어, 즉, 상대 습도 요구가 높고 상대 습도 요구가 서로 다른 제조 프로세스가 제1 독립 파티션 및 제2 독립 파티션에서 수행될 수 있으며, 상대 습도 요구가 높은 제1 독립 파티션과 제2 독립 파티션의 상대 습도는 각자의 제품 생산에 대한 최적의 수요 값에 도달하고 제품 수율이 보장된다.
제1 격벽(590)과 제3 격벽(610) 사이에 제5 환기 통로(360)가 형성되는 경우, 가습 장치는 제1 독립 파티션의 가습을 용이하게 하기 위해 제5 환기 통로에 설치될 수 있다. 제6 환기 통로(370)가 제2 격벽(600)과 제3 격벽(610) 사이에 형성되는 경우, 제6 환기 통로에 가습장치가 설치되어 제2 독립 파티션의 가습이 용이해진다.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 위 방식 2에서 도 10을 참조하면, 제1 독립 파티션(320)의 제1 클린 생산 영역(121) 내부에 작업 공정에서 휘발성 유기 화합물을 생성하는 생산 장치(310)가 구비된다. 제1 하부 기술 중간층(111) 내에 휘발성 유기 화합물을 흡착하도록 구성된 제올라이트 러너 세트(340)가 구비된다. 제올라이트 러너 세트(340)는 운전 과정에서 실내 공기를 어느 정도 제습하여 청정실, 특히 제1 독립 파티션의 환경습도를 낮추어 제품 생산을 위한 환경 습도 요구값을 벗어날 수 있다. 제1 독립 파티션과 제2 독립 파티션에 모두 설치된 2차 가습 시스템은 실내 공기를 직접 가습하여 실내공기의 상대 습도를 향상시킬 수 있어 실내공기의 상대습도를 제품 생산을 위한 최적의 수요 값으로 유지하고 제품 수율을 보장하는 데 유리한다.
위 방식 1 및 방식 2에서, 도 18 및 도 19에 도시된 바와 같이, 2차 가습 시스템이 있는 청정실은 청정실의 상부 기술 중간층(100)에 설치된 청정 외기 메인 파이프(570) 및 각 독립 파티션의 환기 통로로 연장되어 외기를 유출하도록 구성된 청정 외기 분기 파이프(580)를 더 포함한다. 각 독립 파티션에 신선한 공기를 제공한다.
2차 가습 시스템은 공간형 2-유체 가습 시스템 또는 공간형 고압 마이크로 미스트 가습 시스템일 수 있고, 또는 공간형 전기 가습기 또는 공간형 전극 가습기일 수 있으며, 청정실실내 습도를 높이기 위해 실내 공기를 직접 가습할 수 있다. 또한, 2차 가습에 대한 전자동 제어를 실현한다. 구체적으로, 2차 가습 시스템은 본 실시예에 의해 제한되지 않는 다른 형태의 가습 시스템일 수 있다.
도 20을 참조하면, 공간형 2-유체 가습 시스템은 상대 습도 센서, 가습 장치 및 습도 조절기를 포함한다. 공간형 2-유체 가습 시스템의 가습 장치는 복수의 노즐(380)을 포함하고, 각 노즐(380)은 2개의 유입구를 포함한다. 노즐(380)의 일 유입구는 공기 유입 파이프(390)과 연결되어 연통된다. 공기 유입 파이프(390) 은 스테인리스 스틸 가습 파이프일 수 있다. 노즐(380)의 다른 유입구는 물 유입 파이프(400)과 연결되어 연통된다. 공기유입 파이프(390)의 일단에는 공기공급장치와 연결되는 압축 공기 입구(410)가 형성된다. 공기 유입 파이프(390)의 공기 흡입단에는 공기 흡입을 조절하는 공기 유입 보조 유닛(420)과 압축 공기 필터(430)가 설치된다. 물 유입 파이프(400)의 일단에는 급수장치에 연결되는 입수구(460)를 포함한다. 물 유입 파이프(400)의 물 유입 단에 정수필터(440)와 물 유입 보조 유닛(450)이 구비된다. 물 유입 보조 유닛(450)에 배수구(470)가 구비된다. 여기서, 물 유입 보조 유닛(450)과 공기 흡입 보조 유닛(420)은 전기 캐비닛(480) 과 전기적으로 연결되고, 즉, 전기 캐비닛(480)은 습도 조절기를 구성한다. 전기 캐비닛(480)은 상대 습도 센서와 연결되며, 상대 습도 센서의 습도 신호를 수신하여 물 유입 보조 유닛(450)과 공기 흡입 보조 유닛(420) 를 제어하여 가습 운전 제어를 실현할 수 있다. 또한, 물 유입 보조 유닛과 공기 흡입 보조 유닛을 수동으로 조절하여 실내 공기의 가습을 개선할 수 있다. 여기서, 공간형 2-유체 가습 시스템은 압력 설정 및 가습 범위를 제어할 수 있다. 각 영역의 가습량 요구사항에 따라 서로 다른 노즐 수량과 간격 구성을 자유롭게 조합할 수 있어 실내 가습 효율 향상에 유리하다. 압축 공기는 분무 중 공기 흐름을 촉진하는 동력으로 사용되며 가습이 균일한다. 이중 제어 설계를 채택하여 공기관과 수도관을 혼합하여 노즐 막힘을 효과적으로 방지하고 지속적이고 양호한 가습 작업을 보장한다. 또한 시스템은 압축 공기의 낮은 소비와 높은 가습 효율을 달성하여 실내 공기 가습 효율을 향상시키고 제품 생산 수율을 보장하는 데 도움이 된다.
도 21을 참조하면, 공간형 고압 마이크로 미스트 가습 시스템은 상대 습도 센서, 가습 장치 및 습도 조절기를 포함한다. 공간형 고압 마이크로 미스트 가습 시스템의 가습 장치는 분무기 브래킷(490)을 포함한다. 분무기 브래킷(490)에는 복수의 스프레이 파이프(500)가 구비된다. 각 스프레이 파이프(31)에 복수의 테인리스 노즐(510)이 구비된다. 각 스프레이 파이프(31)는 하나의 입력 포트를 포함하고, 입력 포트는 가습 파이프 520，가습 파이프(520)와 연결되어 연통된다. 가습 파이프(520)의 입력 단부는 고압 마이크로 미스트 가습 호스트(530)와 연결되고, 고압 마이크로 미스트 가습 호스트(530)에는 물 유입 파이프(540)가 연결되며, 물 유입 파이프(540) 에는 급수장치와 연결되는 입수구(550)가 구비된다. 물 유입 파이프(540) 에는 정수필터(560)가 연결된다. 고압 마이크로 미스트 가습 호스트(530)는 온도 컨트롤러와 전기적으로 연결된다. 온도 컨트롤러는 상대 습도 센서의 습도에 따라 고압 마이크로 미스트 가습 호스트를 제어하여 각 테인리스 노즐의 스프레이 제어를 실현한다. 여기서, 공간형 고압 마이크로 미스트 가습 시스템은 높은 가습량과 낮은 전력 소비를 달성하고 에너지를 절약하며 빠른 응답 속도와 높은 가습 효율을 가지며 실내 가습 효율을 향상시키고 제품 생산 수율을 보장하는 데 유리한다.
전술한 내용은 본 발명의 예시적인 실시예일 뿐이며, 본 발명을 제한하려는 의도는 아니다. 본 발명의 사상과 원칙 내에서 이루어진 모든 수정, 균등 교체, 개선 등은 본 발명의 보호 범위에 속한다.
100-상부 기술 중간층； 101-제1 상부 기술 중간층； 102-제2 상부 기술 중간층； 110-하부 기술 중간층； 111-제1 하부 기술 중간층； 112-제2 하부 기술 중간층； 120-생산 영역； 121-제1 클린 생산 영역； 122-제2 클린 생산 영역； 125-공정 생산 영역； 130-제1 환기 통로； 140-제2 환기 통로； 150-높은 바닥； 160-매달린 천장； 170-재료 보관 및 이송 영역； 171-재료 보관 영역； 172-재료 이송 영역； 180-제3 환기 통로； 190와플판； 200-격벽판； 210-팬 필터 장치； 220-건식 냉각 코일； 230-재료 보관 랙； 240-외기 공급 파이프； 250-밀봉판； 260-전기 조절 밸브； 270-작업장 본체； 280-가습 장치； 290-상대 습도 센서； 300-습도 조절기； 310-생산 장치； 320-제1 독립 파티션； 330-제2 독립 파티션； 340-제올라이트 러너 세트； 350-격벽； 360-제5 환기 통로； 370-제6 환기 통로； 380-노즐； 390-공기 유입 파이프； 400, 540-물 유입 파이프； 410-압축 공기 입구； 420-공기 흡입 보조 유닛； 430-압축 공기 필터； 440, 560-정수필터； 450-물 유입 보조 유닛； 460,550-입수구； 470-배수구； 480-전기 캐비닛； 490-분무기 브래킷；500-스프레이 파이프；510-테인리스 노즐；520-가습 파이프；530-고압 마이크로 미스트 가습 호스트；570-청정 외기 메인 파이프；580-청정 외기 분기 파이프；590-제1 격벽；600-제2 격벽；610-제3 격벽.
Claims (15)
- 파티션 모드로 제어 가능한 청정 작업장으로서,
상기 파티션 모드로 제어 가능한 청정 작업장은 작업장 본체를 포함하고, 상기 작업장 본체 내부에 상부 기술 중간층, 하부 기술 중간층 및 상기 상부 기술 중간층과 상기 하부 기술 중간층 사이에 위치한 클린 생산층이 구비되며, 상기 클린 생산상기 하부 기술 중간층과 상기 상부 기술 중간층을 연결하도록 구성된 상기 환기 통로는 상기 청정실의 일측에 위치하는 제1 환기 통로 및 상기 청정실의 타측에 위치하는 제2 환기 통로를 포함하고,
상기 작업장 본체 내부에 상기 청정실을 독립적인 제1 클린 생산 영역과 제2 클린 생산 영역으로 분리하기 위한 격벽 구성요소가 구비되며, 상기 제1 클린 생산 영역과 제2 클린 생산 영역에는 각각 독립적인 환기 시스템이 구비되는
것을 특징으로 하는 파티션 모드로 제어 가능한 청정 작업장. - 제1항에 있어서,
상기 클린 생산 영역에 오버헤드 와플판이 더 설치되며, 상기 청정실은 상기 와플판 상에 설치되며, 상기 청정실은 상부의 매달린 천장 및 상기 매달린 천장 과 일치하는 벽판을 포함하고, 상기 하부 기술 중간층과 상기 제1 환기 통로, 제2 환기 통로 사이에 모두 순환 공기를 냉각하도록 구성된 건식 냉각 코일이 설치되며,
상기 제1 클린 생산 영역은 재료 보관 및 이송 영역， 상기 제2 클린 생산 영역은 공정 생산 영역이며, 상기 재료 보관 및 이송 영역 및 상기 공정 생산 영역의 매달린 천장 각각에 복숭의 팬 필터 장치가 설치되고,
상기 재료 보관 및 이송 영역 내부에 재료 보관 랙 그룹이 설치되며, 상기 격벽 구성요소는 상기 재료 보관 랙 그룹의 양측에 위치한 격벽판을 포함하고, 각각의 격벽판의 상단은 상기 상부 기술 중간층의 상단까지 연장되며 저부는 상기 와플판과 연결되고,
상기 재료 보관 랙 그룹는 2 열의 재료 보관 랙을 포함하고, 각 열의 재료 보관 랙과 인접한 격벽판 사이의 갭이 제3 환기 통로를 형성하고, 상기 제3 환기 통로은 상기 상부 기술 중간층과 연통되며, 상기 각 열의 재료 보관 랙의 측벽에 복수의 팬 필터 장치가 수비되며 상기 제3 환기 통로 내의 기류 흡수하여 해당 재료 보관 랙 에 유송하도록 하고,
상기 2 열의 재료 보관 랙 사이에 재료 이송 영역이 형성되며 상기 각 열의 재료 보관 랙의 저부에 상기 재료 이송 영역과 인접한 제3 환기 통로를 연통하는 공기유로가 구비되고,
상기 하부 기술 중간층 내부에 외기 공급 파이프가 구비되고, 상기 외기 공급 파이프의 배출 포트는 상기 제3 환기 통로과 연통되는
것을 특징으로 하는 파티션 모드로 제어 가능한 청정 작업장. - 제2항에 있어서,
상기 외기 공급 파이프에 전기 조절 밸브가 구비되며, 상기 재료 보관 및 이송 영역 또는 상기 제3 환기 통로 내부에 온도 센서가 구비되고,
제어 장치가 더 포함되며, 상기 제어 장치는 상기 온도 센서 및 상기 전기 조절 밸브에 신호 연결되며, 상기 제어 장치는 상기 온도 센서에 의해 감지된 온도에 따라 상기 전기 조절 밸브의 개도를 제어하여 상기 외기 공급 파이프의 공기 공급량을 제어하도록 하는
것을 특징으로 하는 파티션 모드로 제어 가능한 청정 작업장. - 제2항에 있어서,
상기 재료 보관 및 이송 영역과 상기 제3 환기 통로에 대응하는 영역의 와플판의 저부에 밀봉판이 구비되며, 상기 밀봉판은 상기 재료 보관 및 이송 영역 및 상기 환기 통로의 저부를 상기 하부 기술 중간층에서 분리하도록 구성되고,
또는, 상기 재료 보관 및 이송 영역과 상기 제3 환기 통로에 대응하는 영역의 와플판의 홀의 상단에 커버 플레이트가 구성되며, 상기 커버 플레이트는 상기 재료 보관 및 이송 영역 및 상기 제3 환기 통로의 저부를 상기 하부 기술 중간층에서 분리하도록 구성되는
것을 특징으로 하는 파티션 모드로 제어 가능한 청정 작업장. - 제2항에 있어서,
상기 재료 보관 및 이송 영역에서, 상기 각 열의 재료 보관 랙의 저부과 상기 와플판 사이에 높은 바닥이 구비되며, 상기 높은 바닥과 상기 와플판 사이에 상기 재료 이송 영역과 인접한 제3 환기 통로를 연통시키기 위한 공기유로가 형성되는
것을 특징으로 하는 파티션 모드로 제어 가능한 청정 작업장. - 제2항에 있어서,
상기 외기 공급 파이프는 클린 생산층 정화 공조 시스템의 외기 처리 세트와 연통되는
것을 특징으로 하는 파티션 모드로 제어 가능한 청정 작업장. - 제1항에 있어서,
상기 청정실은 제1 독립 파티션과 제2 독립 파티션을 포함하고, 상기 제1 독립 파티션은 제1 상부 기술 중간층, 상기 제1 클린 생산 영역, 제1 하부 기술 중간층 및 상기 제1 환기 통로를 포함하고, 상기 제2 독립 파티션은 제2 상부 기술 중간층, 상기 제2 클린 생산 영역, 제2 하부 기술 중간층 및 상기 제2 환기 통로를 포함하는
것을 특징으로 하는 파티션 모드로 제어 가능한 청정 작업장. - 제7항에 있어서,
상기 격벽 구성요소는 상기 제1 독립 파티션과 상기 제2 독립 파티션 사이에 설치된 하나의 격벽을 포함하고, 상기 격벽은 적어도 상기 제1 클린 생산 영역과 상기 제2 클린 생산 영역 사이에 위치하여 상기 제1 클린 생산 영역과 상기 제2 클린 생산 영역을 분리하도록 구성되고, 또는,
상기 격벽 구성요소는 상기 제1 독립 파티션과 상기 제2 독립 파티션 사이에 설치되며 나란히 배열된 제1 격벽과 제2 격벽을 포함하고, 상기 제1 격벽과 제2 격벽은 적어도 상기 제1 클린 생산 영역과 상기 제2 클린 생산 영역 사이에 위치하여 상기 제1 클린 생산 영역과 상기 제2 클린 생산 영역을 분리하도록 구성되며, 상기 제1 격벽과 상기 제2 격벽 사이에에 제4 환기 통로가 형성되고, 또는,
상기 격벽 구성요소는 상기 제1 독립 파티션과 상기 제2 독립 파티션 사이에 설치된 제1 격벽, 제2 격벽 및 제3 격벽을 포함하고, 상기 제1 격벽과 제2 격벽은 적어도 상기 제1 클린 생산 영역과 상기 제2 클린 생산 영역 사이에 위치하여 상기 제1 클린 생산 영역과 상기 제2 클린 생산 영역을 분리하도록 구성되고, 상기 제3 격벽은 상기 제1 격벽과 상기 제2 격벽 사이에에 위치하며 상기 제3 격벽의 상단은 상기 상부 기술 중간층의 상부 플레이트까지 연자되며 상기 상부 기술 중간층의 상부와 플레이트봉 끼워지도록 구성되고, 상기 제3 격벽의 저부는 상기 하부 기술 중간층의 바닥 판까지 연자되며 상기 하부 기술 중간층의 바닥 판과 밀봉 끼워지도록구성되고, 상기 제1 격벽과 상기 제3 격벽 사이에 제5 환기 통로가 형성되며, 및/또는, 상기 제2 격벽과 상기 제3 격벽 사이에 제6 환기 통로가 형성되는
것을 특징으로 하는 파티션 모드로 제어 가능한 청정 작업장. - 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
적어도 1 그룹의 2차 가습 시스템이 포함되고, 각 그룹의 2차 가습 시스템은,
상기 상부 기술 중간층, 하부 기술 중간층, 환기 통로 또는 클린 생산층에 설치되는 가습 장치；
상기 클린 생산층 내의 공기 습도를 감지하기 위한 상대 습도 센서； 및
상기 상대 습도 센서과 상기 가습 장치에 연결된 습도 조절기를 포함하고,
상기 습도 조절기는 상기 상대 습도 센서의 습도 신호를 수신하여 상기 습도 신호에 따라 상기 가습 장치의 작업을 제어하도록 구성된
것을 특징으로 하는 파티션 모드로 제어 가능한 청정 작업장. - 제9항에 있어서,
상기 청정실에 제1 독립 파티션과 제2 독립 파티션이 구비되는 경우, 상기 2차 가습 시스템은 상기 제1 독립 파티션 또는 상기 제2 독립 파티션 내에 설치되어 있는
것을 특징으로 하는 파티션 모드로 제어 가능한 청정 작업장. - 제9항에 있어서,
상기 청정실에 제1 독립 파티션과 제2 독립 파티션이 구비되는경우 상기 2차 가습 시스템은 적어도 2 그룹이며, 상기 제1 독립 파티션과 제2 독립 파티션에 모두 상기 2차 가습 시스템이 설치되어 있는
것을 특징으로 하는 파티션 모드로 제어 가능한 청정 작업장. - 제9항에 있어서,
상기 격벽 구성요소는 상기 제1 독립 파티션과 상기 제2 독립 파티션 사이에 설치된 제1 격벽, 제2 격벽 및 제3 격벽을 포함하고, 상기 제1 격벽과 상기 제3 격벽 사이에 제5 환기 통로가 형성되는 경우 상기 제5 환기 통로 내부에 상기 가습 장치가 설치되어 있는
것을 특징으로 하는 파티션 모드로 제어 가능한 청정 작업장. - 제9항에 있어서,
상기 청정실에 제1 독립 파티션과 제2 독립 파티션이 구비되는 경우 상기 제1 독립 파티션의 제1 하부 기술 중간층 내에 상기 휘발성 유기 화합물을 흡착하는 제올라이트 러너 세트가 설치되어 있는
것을 특징으로 하는 파티션 모드로 제어 가능한 청정 작업장. - 제9항에 있어서,
상기 상대 습도 센서는 상기 청정실에 설치되는
것을 특징으로 하는 파티션 모드로 제어 가능한 청정 작업장. - 제9항에 있어서,
각 그룹의 2차 가습 시스템에서, 상기 상대 습도 센서는 하나 이상이며,
상기 상대 습도 센서가 하나인 경우 상기 습도 신호는 상기 상대 습도 센서의 유도 값이며,
상기 상대 습도 센서가 복수인 경우 상기 습도 신호는 상기 복수의 상대 습도 센서의 습도 유도 값의 평균값인
것을 특징으로 하는 파티션 모드로 제어 가능한 청정 작업장.
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