KR20210094196A

KR20210094196A - 실시간 금속필름 식각 분석 방법 및 장치

Info

Publication number: KR20210094196A
Application number: KR1020200007432A
Authority: KR
Inventors: 심문진; 지상철; 정지원; 김호식; 김정열
Original assignee: 대덕전자 주식회사
Priority date: 2020-01-20
Filing date: 2020-01-20
Publication date: 2021-07-29

Abstract

본 발명은 QCM 센서에 미리 해당 금속을 미리 코팅하고, 그 중량 감소량으로 인한 발진주파수 변화로부터 식각속도를 산출하는 것을 요지로 한다. 이때에, 해당 금속의 산화환원 전위 또는 용해 전위 이하의 전압을 인가하여, 측정을 하지 않는 도중에도 해당 금속이 지속적으로 용해되어 없어지는 것을 억제함으로써 간헐적 식각 속도 측정을 가능하게 한다.

Description

실시간 금속필름 식각 분석 방법 및 장치{METHOD AND APPARATUS FOR REAL-TIME IN-SITU MEASUREMENT OF THE ETCH RATE OF METAL FILM}

본 발명은 금속의 식각 속도( 이하, 식각률, Etch Rate 등을 혼용하여 칭하기로 한다 )를 실시간( Real-Time )으로, 식각 프로세스 중에 인 시추( In-Situ )하게 측정하는 기술에 관한 것으로서, 수정 마이크로밸런스( QCM; Quartz Crystal Microbalance ) 센서에 미리 해당 금속을 코팅( coating )하고, 식각 과정 중에 그 중량 감소량으로부터 식각 속도를 산출하는 기술에 관한 것이다.

금속을 식각하는 프로세스( Metal Etch Process )는 전자부품, 전기부품, 자동차부품, 의료기기, 광학기기, 사무기기 등 여러 분야에서 사용되고 있다. 특히 전자회로 배선판( Printed Circuit Board; PCB )이나, 반도체 패키지( Package ) 제품 등에 있어서, 배선의 형성이나 금속 두께의 제어, 밀착성 향상, 금속 표면의 산화막 제거용 세정 등, 여러 공정에서 식각은 필수 핵심 공정이다.

금속 식각은, 약품( 이하, 식각 용액 등과 혼용하여 사용한다 )이 화학적으로 금속과 반응하여 금속을 용해시켜 식각이 진행된다. 금속 식각은 화학 반응이기 때문에, 식각 속도를 미리 파악해두지 않으면 과다식각 또는 식각부족으로 금속회로의 두께나 배선폭, 회로 간격 등에 있어 오차가 발생할 수 있다.

종래기술로서, 일정 부피의 금속에 대해 저울로 미리 중량을 측정하고, 소정 시간 식각용액에 침지한 후 중량을 재측정한다. 이로부터 중량 감소량을 산출해서, 식각 속도 또는 식각량을 추정한다. 그러나 종래기술은 실시간으로 식각률을 모니터하는 기술이 아니라는 단점이 있고, 소정의 시간 식각을 한 후 산출하는 평균 식각률을 제공하는 단점이 있다. 특히 식각 프로세스는 화학반응이기 때문에 매 식각 속도는 매순간 화학용액의 농도, 온도, 첨가물 등에 영향을 받게 되므로, 종래기술에 따라 추정한 식각률은 매 순간의 실시간 식각률을 반영하지는 못한다.

금속 식각 속도를 실시간으로 측정하는 종래기술로서, 식각 용액으로 메탈을 식각할 때에 발생하는 수소 가스를 모니터함으로써 식각 속도를 측정하는 기술이 있다. 즉, 알루미늄, 알루미늄 합금, 마그네슘, 마그네슘 합금 등의 금속의 식각 속도를 추정하기 위해, 식각 과정에서 발생하는 수소가스의 양을 측정함으로써 식각속도를 실시간으로 측정한다. 그러나 이 방법은 수소가스가 발생하는 금속에 국한하며, 구리( Cu ) 등과 같이 수소 발생을 수반하지 않는 금속이나 수소 발생이 없는 식각 용액에는 사용할 수 없는 단점이 있다.

이와 같은 종래기술들의 문제점을 해결하기 위해서, QCM( Quartz Crystal Microbalance ) 센서에 미리 해당 금속을 코팅( coating )하고, 식각 과정 중에 그 중량 감소량으로부터 식각 속도를 산출하는 방법을 생각할 수 있다. 그런데 QCM 센서에 해당 금속을 코팅한 후 용액에 침지 해두면, 단시간 내에 코팅된 금속이 모두 용해되어 사라지기 때문에, 장시간 계속해서 사용할 수 없게 되고 주기적으로 QCM을 꺼내서 금속을 코팅해주어야 하는 불편함이 있다.

1. 대한민국 특허공개 제10-2009-0125982호. 2. 대한민국 특허공개 제10-2019-0069616호. 3. 대한민국 특허공개 제10-2018-0042260호. 4. 일본 특허등록 JP02500402B2호.

본 발명의 제1 목적은 금속의 식각속도를 실시간( Real-Time )으로 인시추( In-Situ )하게 측정하는 기술을 제공하는 데 있다.

본 발명의 제2 목적은 QCM( Quartz Crystal Microbalance ) 센서에 코팅된 금속의 중량변화를 모니터해서 식각 속도를 측정하는 기술을 제공하는데 있다.

본 발명의 제3 목적은 상기 제1, 2 목적에 부가하여, 센서 위의 금속이 지속적으로 용해되는 문제에 대한 용해 전위의 역정위를 인가하여 해결한 측정 방법 및 장치를 제공하는 데 있다.

본 발명은 QCM 센서에 미리 해당 금속을 미리 코팅하고, 그 중량 감소량으로 인한 발진주파수 변화로부터 식각속도를 산출하는 것을 요지로 한다. 이때에, 해당 금속의 산화환원 전위( 또는 '용해 전위'라 칭한다 ) 이하의 전압을 인가하여, 측정을 하지 않는 도중에도 해당 금속이 지속적으로 용해되어 없어지는 것을 억제함으로써 간헐적 식각 속도 측정을 가능하게 한다.

본 발명에 따라 식각되는 금속은 동( Cu ), 철( Fe ), 니켈( Ni ), 주석( Sn ), 크롬( Cr ) 등과 같은 단일 종류의 금속 또는 합금 모두 적용 가능하다. 또한, 금속을 식각할 때의 식각용액 성분이 황산과 산화제 있는 과산화수소 또는 과산화황산염( peroxymonosufate salt ), 과산화이황산염( Peroxydisulfate salt )을 사용할 수 있다. 또한, 금속을 식각할 때의 식각용액 성분이 Ferric salts, 구리염 등을 주성분으로 할 수 있다.

본 발명은 금속의 식각 속도를 실시간으로 측정하는 방법에 있어서, (a) QCM 센서에 상기 금속을 미리 코팅하고 식각 용기 내 활성전극에 상기 QCM 센서를 연결하는 단계; (b) 식각 용기 내에 설치된 레퍼런스 단자와 카운터 전극 단자 사이에 가변전압을 인가해서 전위 전류 곡선을 추출하고 상기 전위 전류 곡선으로부터 용해 전위를 추출하는 단계; (c) 식각속도를 산출하는 주기에는 인가한 전압을 개방하고, 식각속도를 산출하지 않는 주기에는 용해전위보다 낮은 전위가 되도록 전압을 활성전극에 인가하는 단계; (d) 상기 QCM 센서 표면에 코팅된 금속 중량의 변화에 따른 발진주파수 변화를 감지하고, 이로부터 식각량을 산출하는 단계를 포함하는 식각 속도 분석 방법을 제공한다.

이때에, 전위 전류 곡선에서 전류가 영( zero )인 전압이고, 카운터 전극과 QCM 센서 사이에 인가하는 전압의 상한치와 하한치는 전류가 음의 전류에서 양의 전류로 전이하는 다이내믹 구간의 전압으로 정한다.

그 결과, 식각 속도를 측정을 하지 않는 주기 동안에는 식각 용액과 QCM 센서 상의 금속 막 사이의 반응을 억제하여 금속이 불필요하게 용해되어 소모되는 것을 방지하게 되고, QCM 센서에 인가하는 전압을 개방함으로써 식각속도를 간헐적으로 측정하는 것이 가능하다. 본 발명에 따르면 금속의 식각 속도를 실시간으로 측정하는 것이 가능해져 식각에 의한 금속 가공의 정밀도를 대폭 개선할 수 있다.

도1은 본 발명에 따른 식각 분석장치의 구성을 나타낸 도면.
도2는 본 발명에 따른 식각 분석장치를 구성하는 QCM의 구성을 나타낸 도면.
도3은 본 발명의 양호한 실시예에 따라 측정한 전위 전류 사이의 관계를 나타낸 도면.
도4는 본 발명의 양호한 실시예에 따라 측정한 식각 속도의 변화를 시간별로 나타낸 도면.

수정 마이크로밸런스( Quartz Crystal Microbalance; 이하 'QCM'이라 칭함 )은 수정 발진기( Quartz Crystal resonator )의 발진주파수의 변화를 측정함으로써 단위 면적당 질량의 변화를 계측하는 장치이다. 흔히 도금 공정에서 QCM 센서를 도금조에 침지하고, 공진기 표면에 피복되는 도금의 양을 계측하는데 사용되어 왔다.

본 발명은 식각 용액 속에서 금속이 식각되는 실시간 식각속도를 측정하기 위해서, QCM 센서에 해당 금속을 미리 코팅하고, QCM 센서를 식각 용액 속에 침지했을 때, 식각이 진행됨에 따라 QCM 센서 표면의 코팅 금속의 중량 감소량을 QCM 센서의 발진주파수의 증가로부터 읽어내는 데에 요지를 두고 있다.

그런데 코팅 금속으로 피복된 QCM 센서를 식각 용액 속에 담궈 두면 금속도금이 지속적으로 용해되어 모두 사라지므로, 반복적으로 금속을 미리 코팅하는 작업이 필요하게 되고, 현실적으로 24시간 계속 운영되는 생산라인에 적용하는데 어려움이 있다.

본 발명은 식각속도를 간헐적으로 측정하기 위해, QCM 센서 위에 코팅된 금속에 용해 전위 이하의 전위가 유지되도록 전압을 인가함으로써 금속의 용해 반응을 억제하고, 측정 시에는 인가한 전압을 개방함으로써 QCM 센서 위에 코팅된 금속의 소모를 억제하는 동시에 간헐적 측정이 가능하다.

본 발명에서 이용되는 수정 마이크로밸런스( QCM )의 동작원리는 다음과 같다. 압전체인 수정( Quartz Cystal )에 전압을 인가하면 수정에 변형이 생겨 일정 주파수로 발진을 시작한다. 그 진동의 발진주파수는 Quartz 표면의 중량에 따라 변하고, 중량이 증가하면 진동수는 감소하고, 반대로 중량이 줄어들면 진동수는 증가한다.

본 발명에 따른 식각 분석장치는 위 진동을 발신회로에서 전기신호로 변환하여 주파수의 변동( 변이 )을 중량 변화로 환산되어 식각 속도가 산출된다. 여기서 발진주파수와 질량의 관계는 사우어브레이 방정식( Sauerbrey Equation )으로 아래와 같이 도출된다.

여기서

는 주파수 변화량,

는 수정의 기본 주파수,

는 수정의 전단응력,

은 중량 변화량,

는 수정의 밀도,

는 반응면적이다.

수학식 1에 나타낸 대로, QCM은 질량의 증감을 직접적으로 감지하는 것을 가능하게 한다. QCM 센서에 물질이 부가되면 발진 주파수는 낮아지고 물질이 이탈하면 발진 주파수는 높아지는 원리에 착안해서, QCM 센서 상에 식각의 대상이 되는 금속을 미리 도금( Electroplating )하거나 스퍼터( Sputter ) 증착을 해두고서, 식각을 진행시키면서 단위시간당 주파수의 증대를 측정하면 실시간의 매 순간의 식각 속도를 모니터할 수 있다.

그러나 위에서 제안한 방법에도 문제점이 있다. 하나는 코팅된 QCM 센서를 식각용액에 계속 침지해 두면 QCM 센서 상의 금속은 단시간에 모두 용해되어 버린다. 또한 식각속도를 항상 지속적으로 측정할 필요성도 없고, 일정 주기 간격으로 간헐적으로 측정하면 충분하다.

또 하나는 QCM 센서에 코팅하는 금속의 중량에는 상한이 있다는 것이다. 즉, QCM 센서 자체가 너무 무거워지면 진동이 생기지 않게 된다. 따라서, QCM 센서 위에 코팅할 수 있는 금속의 중량에는 한계가 있다.

그래서 QCM 센서 위에 코팅된 금속의 용해 전위보다 낮은 전위가 되도록 전위 가변기( Potentiostat )로 전압을 인가하고, 측정 시에만 전압을 개방함으로써 간헐적인 측정과 전극의 수명을 길게 하는 것도 가능하다. 여기서 인가해야 할 전압은 식각 용액의 종류, 또는 금속의 종류에 따라 다르지만, 기본적으로는 금속의 산화환원 전위( ORP; Oxidation Reduction Potential )에서 도출하면 된다. 일례를 들면 다음과 같다.

즉, 전위 가변기를 사용하여 식각용액 중에서 상기 표1에 나타낸 금속 전위 이하가 되도록 전압을 인가하면 금속의 용해는 일어나지 않는다. 식각 속도를 측정하고자 할 경우, QCM 전극 상에서 식각이 진행되며 QCM센서 위의 금속 중량이 감소함으로써 주파수 변화가 생기기 의해 현재의 식각속도를 산출할 수 있다.

또한 위 표1에 나타낸 전압은 어디까지나 표준 전극 전위이며, 실제로는 금속의 조성, 불순물에 의해서 변화한다. 또한, 식각 용액의 조성, 온도, 첨가제 등에서도 변화한다. 따라서 실제로는 전극에 흐르는 전류값을 측정하고 실제로 인가전압을 설정한다. 본 명세서에서 산화환원전위와 용해전위를 혼용해서 사용한다.

도1은 본 발명에 따른 식각 분석장치의 구성을 나타낸 도면이다. 도1을 참조하면, QCM 센서(100)는 전위 가변기(110)의 활성전극( Working electrode; 200 )단자에 접속되어 있으며, 레퍼런스 전극( Reference electrode; 210)과 카운터 전극( Counter electrode; 220)도 각각 전위 가변기(110)의 레퍼런스 전극단자 및 카운터 전극단자에 접속된다.

QCM 센서(100)에서 용해반응이 일어나면 QCM 센서의 진동 주파수 감소와 더불어 전자가 발생한다. 전자는 카운터전극(220)으로 흘러가는데, 이때에 QCM 센서(100)와 카운터 전극 사이에 전위가 발생한다.

이 전위를 상쇄하기 위해 전위 가변기(110)은 QCM 센서에 반대의 전압을 인가한다. 그러면 QCM 센서(100)에서 나타낸 QCM 센서 표면에 코팅된 금속의 용해 반응은 정지한다.

QCM 센서(100)에서 얻어진 진동 주파수는 QCM 분석장치(150)에 의해 처리되며, 제어용 컴퓨터(170)으로 보내져 식각 속도가 계산된다. 또한, 제어용 컴퓨터(170)는 QCM 센서에 인가하는 전위 가변기(110)로부터의 인가전압의 온오프도 동시에 제어하여 단위 시간마다 측정값을 얻는다.

도2는 본 발명에 따른 식각 분석장치의 QCM의 구성을 상세히 나타낸 도면이다. 도2를 참조하면, QCM 센서(100)는 발진기( Oscillator; 300 )에서 전압을 걸어 진동한다. 발진기의 진동을 주파수 카운터( Frequency counter; 310 )으로 검출하고, 주파수의 변화를 주파수 차이검출기( Frequency difference detector; 320 )으로 검지한다. 검지된 주파수는 주파수 전압변환기( Frequency Voltage Convertor; 330)에 의해 전기신호로 변환된다.

여기서 사용되는 QCM 센서위에 금속을 코팅하는 방법으로는 스퍼터링( Spattering ) 방식이나, 또는 도금( Wet coating )을 통한 기법을 들 수 있으며, 어떤 방법을 사용해도 문제는 없다. 게다가 QCM 센서에는 초기의 발신 주파수가 규정되어 있지만, 그것도 식각속도의 변화량을 감안하면, 어떠한 발진 주파수를 이용해도 문제가 없다.

또한 카운터 전극( Counter electrode )에 사용되는 재료는 식각용액에 대해 용해성이 없는 것을 사용한다. 바람직한 실시예로서 백금( Pt ), 금( Au ), 글래시 카본( Glassy carbon ), 다이아몬드성 카본( Diamond like carbon ) 등이 사용될 수 있다.

더욱이 레퍼런스 전극( Reference electrode )으로 이용되는 재료도, 카운터 전극( Counter electrode )과 마찬가지로 식각용액에 대해 반응성이 없어야 한다. 바람직한 실시예로서, 접합( junction )을 갖춘 Ag/AgCl 전극, 또는 포화 칼로멜( calomel ) 전극 등이 사용될 수 있고, 게다가 그 바깥쪽에 글래스( glass ) 막을 가진 전극이나, 이중접합( double junction )형의 전극도 사용될 수 있다.

전위 가변기이나 QCM 분석장치는 일반적으로 판매되는 것을 사용해도 문제는 없다. 전위 가변기은 정전류·정전압 제어가 가능하면 된다. 물론 사설로 제작한 전위 가변기을 사용해도 무방하다. 기본적으로 전류의 범위는 1μA 에서 1 A의 범위이며, 전압은 -3.0 V 에서 +3.0 V의 범위라면 문제가 없다.

시장에서 시판되고 있는 QCM 분석장치의 한 예로 QCM922A(SEIKO EG&G Co., Ltd.), ALS4000(BAS Co., Ltd.), HQ-601(HOKUTO DENKO Co., Ltd.)등이 사용될 수 있다.

본 발명의 양호한 실시 예로서 동( Cu )의 식각 속도의 실시간 측정을 한 결과 나타낸다. 실험은 2L의 비커에 CCL( Copper Cladded Laminate ) 기판( 5 cm Х 10 cm, 구리 두께 35 μm FR-4기판 )을 침지해서, 침지 전후의 무게 감소량을 종래기술에 따른 중량 법 및 본 발명과 비교하였다. 아래의 표2는 다음으로 식각용액의 조성을 나타낸다.

본 실시예에 따른 식각 용액을 온도 25℃의 항온수조에 세팅하고 자성 교반기( Magnetics stirrer )를 사용하여 200 rpm의 회전속도로 회전시킨 상태에서 CCL 기판을 10장 침지하고 2분마다 꺼내서 무게를 측정하고 용해량을 산출하며 식각 속도를 산출했다. 이 실험결과( 종래기술 )를 비교예로 삼는다.

　동시에 QCM 센서와, 전위 가변기 및 각 전극을 도1에 나타낸 대로 연결하여, 비교예( 종래기술 )와 동일한 식각용액과 사용 조건에서 실시예에 의한 측정을 했다. 본 실험에서 QCM 분석장치는 QCM922A(SEIKO EG&G), 전위 가변기는 HAL-3001(HOKUTO DENKO)를 사용했다. 레퍼런스 전극은 Ag/AgCl전극(HS-305DP:TOA DKK)을 이용하였고, 카운터 전극은 시중에서 판매하는 Pt/Ti mesh( 5 cm Х 5 cm )를 사용하였다.

QCM 센서에는 진동자 위에 동( Cu )을 코팅한 QA-A9-CU(SEIKO EG&G)으로 스퍼터를 이용하여 15 μm 두께의 동을 코팅하였다. 이와 같이 셋팅한 장치를 이용하여 미리 전류 전위 곡선을 측정하여 QCM 센서 상에 인가하는 전압을 결정했다. 실제로 측정한 결과를 도3에 나타낸다. 도3은 본 발명의 양호한 실시예에 따라 측정한 전위 전류 사이의 관계를 나타낸 도면이다.

도3을 참조하면, 인가 전압을 0.14 V에 설정하여 측정 시 전압을 인가하고 임의의 간격으로 식각 속도를 측정할 수 있다. 또한, 이어서 2분 간격으로 2초씩 측정하고, 이것을 실시예로 삼을 수 있다.

실제로 측정한 식각속도의 변화를 도4에 나타낸다. 비교예를 참조하면 4분 때 식각 속도가 빨라지고 있다. 이것은 식각용액에 기판 투입량이 많기 때문에 식각용액의 온도가 상승했기 때문이다.

또한, 식각 속도가 서서히 느려지고 있는 것은 식각양이 많기 때문에, 약품의 소모가 심하기 때문이라고 생각된다. 그에 비해 본 발명의 식각속도는 거의 일정한 값을 나타내고 있다. 이것은 QCM 센서의 반응 면적이 약 0.2 mm²와 매우 작고, 식각용액 대한 부하가 거이 없기 때문이다.

또한, 비교예는 2 분마다 기판을 꺼내어, 수세, 건조 후 무게 측정해야 한다. 본 발명에서는 QCM에서 얻어진 주파수 변화를 컴퓨터로 순식간에 계산하기 때문에 그 자리에서 식각속도를 확인할 수 있다. 또 식각속도를 확인하기 위해서는 비교 예에서는 약 3 ~ 5 분의 시간과 인력이 필요했다. 식각속도를 산출하기 위해 항상 시간이나 인력이 필요한 것을 감안하면 본 발명이 얼마나 효과가 뛰어난지 알 수 있다.

본 발명은 QCM 센서에 미리 해당 금속을 코팅하고, 그 중량 감소량으로부터 식각속도를 산출하되, QCM 센서 위에 코팅된 금속막에 소정의 전압을 인가하여 해당 금속의 산화환원 전위( 용해전위 ) 이하가 되도록 하는 것에서 QCM 센서 위의 금속의 지속적 용해를 억제하여 간헐적으로 측정이 가능하고 더 금속막의 수명이 길게 된 것을 특징으로 한다. 본 발명은 인쇄회로기판을 제작하기 위한 동도금 식각 공정 중에, 실시간으로 식각 속도를 모니터할 수 있는 장점이 있다.

Claims

식각 프로세스 중에 금속의 식각 속도를 실시간으로 측정하는 식각 분석 장비로서,
QCM 센서를 구비한 QCM 분석장치;
QCM 센서를 활성전극( Working Electrode )로 해서 활성전극과, 식각 용기에 설치된 카운터 전극과 레퍼런스 전극에 전압을 인가하는 전위 가변기( Potentiostat );
상기 QCM 분석장치의 출력을 전송받아 식각속도를 산출하고, 상기 QCM 분석장치와 전위 가변기를 제어하는 제어용 컴퓨터
를 포함하되, 상기 QCM 센서에는 식각할 금속을 소정의 두께로 미리 표면에 코팅함으로써 식각 프로세스 중에 금속의 식각량을 감지하는 것을 특징으로 하는 식각 분석장치.
제1항에 있어서, 식각속도를 산출하지 않는 주기에는 QCM 센서 위에 코팅한 금속의 용해전위보다 낮은 전위에 되도록 전압을 활성전극에 인가하고, 식각속도를 산출할 주기에는 인가한 전압을 개방하도록 제어용 컴퓨터로부터 제어를 받는 것을 특징으로 하는 식각 분석장치.
제2항에 있어서, 상기 용해전위는 금속의 산화환원 전위인 것을 특징으로 하는 식각 분석장치.
제2항에 있어서, 상기 용해전위는 레퍼런스 전극과 카운터 전극 사이에 가변 전압을 인가해서 얻은 전류 전위 곡선으로부터 추출된 전위인 것을 특징으로 하는 식각 분석장치.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 금속은 Cu, Fe, Ni, Sn, Cr 중 어느 한 금속 또는 이들의 합금인 것을 특징으로 식각 분석장치.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 식각용액은 황산과 산화제 있는 과산화수소 또는 Peroxymonosufate염, Peroxydisulfate염인 것을 특징으로 하는 식각 분석장치.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 식각용액의 주성분은 제2철염( Ferric salts) 또는 구리염인 것을 특징으로 하는 식각 분석장치.
금속의 식각 속도를 실시간으로 측정하는 방법에 있어서,
(a) QCM 센서에 상기 금속을 미리 코팅하고 식각 용기 내 활성전극에 상기 QCM 센서를 연결하는 단계;
(b) 식각 용기 내에 설치된 레퍼런스 단자와 카운터 전극 단자 사이에 가변전압을 인가해서 전위 전류 곡선을 추출하고 상기 전위 전류 곡선으로부터 용해 전위를 추출하는 단계;
(c) 식각속도를 산출하지 않는 주기에는 QCM 센서 위에 코팅한 금속의 용해전위보다 낮은 전위가 되도록 전압을 활성전극에 인가하고, 식각속도를 산출할 주기에는 인가한 전압을 개방하는 단계;
(d) 상기 QCM 센서 표면에 코팅된 금속 중량의 변화에 따른 발진주파수 변화를 감지하고, 이로부터 식각량을 산출하는 단계
를 포함하는 식각 속도 분석 방법.
제8항에 있어서, 상기 단계 (c)의 용해전위는 전위 전류 곡선에서 전류가 영( zero )인 전압이고, 카운터 전극과 QCM 센서 사이에 인가하는 전압의 상한치와 하한치는 전류가 음의 전류에서 양의 전류로 전이하는 다이내믹 구간의 전압인 것을 특징으로 하는 식각 속도 분석 방법.