KR20210041990A - Dry cleaning device - Google Patents

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KR20210041990A
KR20210041990A KR1020190124909A KR20190124909A KR20210041990A KR 20210041990 A KR20210041990 A KR 20210041990A KR 1020190124909 A KR1020190124909 A KR 1020190124909A KR 20190124909 A KR20190124909 A KR 20190124909A KR 20210041990 A KR20210041990 A KR 20210041990A
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안진호
손두열
최종현
오승철
안승재
박명진
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주식회사 에이아이코리아
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Abstract

According to one embodiment of the present invention, provided is a dry cleaning device, which includes: a blower having a discharge passage to spray air to an object; a chamber in which the blower is accommodated and which includes an inlet space into which particles separated from the object are introduced; and a suction unit connected to the chamber to suck in and discharge the particles by sucking air in the inlet space. The blower includes: a rod portion having an inlet through which air is introduced at one end and a plurality of outlets through which air is discharged on an outer circumferential surface; and blade portions disposed on both sides of the rod portion to guide the air discharged from the rod portion to the object, wherein the discharge portions are disposed in the longitudinal direction of the rod portion, and a distance between the discharge portions may increase from one end of the road portion to the other end thereof.

Description

건식 세정 장치{DRY CLEANING DEVICE}Dry cleaning device {DRY CLEANING DEVICE}

본 발명은 건식 세정 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a dry cleaning device.

PDP, LCD, AMOLED 등의 디스플레이용 유리기판 또는 필름(Film) 또는 반도체 웨이퍼 등은 세정을 거쳐 표면에 이물질이 없는 표면 상태를 유지해야 한다. 만약 이물질이 표면에 존재한 채로 가공하게 되면 최종 제품에 결점이 생겨 불량제품이 생산되어 생산 수율이 나빠지게 된다Glass substrates, films, or semiconductor wafers for displays such as PDP, LCD, and AMOLED must be cleaned to maintain the surface state without foreign substances on the surface. If foreign substances are processed with the presence on the surface, defects in the final product are produced, resulting in poor production yields.

세정방법은 크게 습식세정(Wet cleaning)과 건식세정(dry cleaning)이 있다. 습식세정이란 유기세정, 순수 물에 의한 세척, 무기세정 및 건조 단계를 순차적으로 거치는 것으로, 점착성 이물질인 기름때, 테이프자국, 손기름등과 같이 유기바인더로 연결된 무기물을 비접촉식 방법으로 유기바인더를 끊어 무기물화 하는 세정방법이다. 건식세정이란 유기세정 및 무기세정을 거쳐 세정을 완료하는 것으로, 비점착성 이물질인 먼지와 같은 무기물을 비접촉식 방법으로 부유시켜 세정하는 방법이다. 이러한 무기세정방법의 한 종류로서 건식 세정 장치가 사용되었다.The cleaning methods are largely divided into wet cleaning and dry cleaning. Wet cleaning means organic cleaning, cleaning with pure water, inorganic cleaning, and drying steps sequentially.Inorganic materials connected by organic binders such as oil stains, tape marks, and hand oils, which are adhesive foreign substances, are separated by a non-contact method to remove inorganic substances It is a method of cleaning. Dry cleaning is a method in which cleaning is completed through organic cleaning and inorganic cleaning, and is a method in which inorganic substances such as dust, which are non-adhesive foreign substances, are floated in a non-contact method for cleaning. As one kind of such inorganic cleaning method, a dry cleaning device was used.

건식 세정 장치는 일반적으로 초음파를 대상체에 전달하여 대상체 표면의 파티클(particle)을 대상체 표면으로부터 이격시킨 후, 공기를 분사하여 가진된 초음파를 가지는 압축공기(Pressure air)수단, 그리고 진공흡입(Vacuum suction)수단으로 구성되어 기판에 부착된 이물질을 제거하게 된다. 재진대는 기판 위에서 정전기에 의해 (+) 또는 (-)로 대전된 이물질을 중화시켜 점착력을 잃게 하고, 가진된 초음파를 가지는 압축공기(Pressure air)수단은 기판표면 경계층을 깨고 그 안에 존재하는 중화된 상태의 이물질을 부유시키고, 진공흡입(Vacuum suction)수단은 부유된 이물질을 흡입하게 된다. In general, a dry cleaning device transmits ultrasonic waves to an object to separate particles of the object surface from the object surface, and then injects air into a compressed air means having an excitation ultrasonic wave, and a vacuum suction device. ) Means to remove foreign substances attached to the substrate. Re-treatment neutralizes foreign matters charged with (+) or (-) by static electricity on the substrate to lose adhesion, and the compressed air means with excitation ultrasonic waves breaks the boundary layer on the substrate surface and neutralizes the existing material. The foreign matter in the state is suspended, and the vacuum suction means sucks the suspended foreign matter.

이러한 건식 세정 장치의 경우 공기 분사 또는 공기 흡입시 공기의 불균일 유동이 발생할 수 있으며, 이와 같이 공기의 불균일 유동이 발생하면, 세정 효율이 저하되는 문제점이 있다. 따라서, 공기의 분사 또는 흡입시 공기의 불균일 유동을 감소시킬 수 있는 건식 세정 장치에 대한 연구가 요구되고 있는 실정이다.In the case of such a dry cleaning apparatus, non-uniform flow of air may occur when air is injected or inhaled, and when the non-uniform flow of air occurs, there is a problem in that cleaning efficiency is deteriorated. Accordingly, there is a need for research on a dry cleaning device capable of reducing the non-uniform flow of air when air is injected or inhaled.

본 발명은 공기 분사 시 공기의 불균일 유동을 감소시킬 수 있는 건식 세정 장치를 제공하는데 발명의 목적이 있다.An object of the present invention is to provide a dry cleaning apparatus capable of reducing non-uniform flow of air during air injection.

또한, 본 발명은 공기 흡입 시 공기의 불균일 유동을 감소시킬 수 있는 건식 세정 장치를 제공하는데 발명의 목적이 있다.In addition, an object of the present invention is to provide a dry cleaning apparatus capable of reducing non-uniform flow of air when air is inhaled.

본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치는 대상체에 공기를 분사하는 블로워; 상기 블로워가 내부에 수용되고, 상기 대상체로부터 이탈한 파티클이 유입되는 유입 공간을 포함하는 챔버; 및 상기 챔버에 연결되고 상기 파티클을 흡입하여 배출하는 흡입부;를 포함하고, 상기 블로워는, 공기가 유입되는 유입구가 일단에 구비되고 외주면에 공기가 배출되는 배출부가 구비된 로드부; 및 상기 로드부의 양측에 배치되어 상기 로드부로부터 배출된 공기를 상기 대상체로 안내하는 블레이드부;를 포함하고, 상기 배출부는 상기 로드부의 일단측에 배치되고 복수개의 홀을 포함하는 제1 배출부 및 상기 제1 배출부와 길이방향으로 이격되게 배치되고 복수개의 홀을 포함하는 제2 배출부를 포함하며, 상기 제2 배출부의 홀 사이의 거리는 상기 제1 배출부의 홀 사이의 거리보다 멀게 구비될 수 있다.A dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention includes a blower for injecting air onto an object; A chamber in which the blower is accommodated and includes an inflow space into which particles separated from the object are introduced; And a suction unit connected to the chamber and configured to suck and discharge the particles, wherein the blower includes: a rod unit having an inlet through which air is introduced at one end and a discharge unit through which air is discharged; And blade portions disposed on both sides of the rod portion to guide air discharged from the rod portion to the object, wherein the discharge portion is disposed at one end of the rod portion and includes a plurality of holes; and A second discharge part disposed to be spaced apart from the first discharge part in a longitudinal direction and including a plurality of holes, and a distance between the holes of the second discharge part may be provided farther than a distance between the holes of the first discharge part. .

본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치에서 상기 제1 배출부의 홀 사이의 거리, 상기 제2 배출부의 홀 사이의 거리 및 상기 제1 배출부와 상기 제2 배출부 사이의 거리는 하기 식 1을 만족할 수 있다.In the dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, the distance between the holes of the first discharge part, the distance between the holes of the second discharge part, and the distance between the first discharge part and the second discharge part are expressed in Equation 1 below. I can be satisfied.

[식 1][Equation 1]

L1 = 3/5 * L2,L1 = 3/5 * L2,

L3 = 7/3 * L1L3 = 7/3 * L1

(∵L1: 제1 배출부의 홀 사이의 거리, L2: 제2 배출부의 홀 사이의 거리, L3: 제1 배출부와 제2 배출부 사이의 거리)(∵L1: distance between the holes of the first discharge unit, L2: distance between the holes of the second discharge unit, L3: distance between the first discharge unit and the second discharge unit)

본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치에서 상기 제1 배출부와 상기 유입구 사이의 최단 거리 및 상기 제2 배출부와 상기 유입구 사이의 최장 거리는 하기 식 2를 만족할 수 있다.In the dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, the shortest distance between the first outlet and the inlet and the longest distance between the second outlet and the inlet may satisfy Equation 2 below.

[식 2][Equation 2]

L5 = 10 * L4L5 = 10 * L4

(∵L4: 제1 배출부와 유입구 사이의 최단 거리, L5: 제2 배출부와 유입구 사이의 거리)(∵L4: the shortest distance between the first outlet and the inlet, L5: the distance between the second outlet and the inlet)

본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치에서 상기 블레이드부는, 상기 로드부의 상측 외면을 감싸고, 상기 로드부와의 사이에서 제1 토출로를 형성하는 커버; 및 상기 커버의 하측에 배치되고, 상기 제1 토출로와 연통되게 구비되어 상기 제1 토출로에서 토출된 공기를 상기 대상체로 안내하는 제2 토출로를 형성하는 블레이드;를 포함할 수 있다.In the dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, the blade portion may include a cover surrounding an upper outer surface of the rod portion and forming a first discharge path between the rod portion; And a blade disposed under the cover and provided in communication with the first discharge path to form a second discharge path for guiding the air discharged from the first discharge path to the object.

본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치에서 상기 제1 토출로는 길이방향 단면 형상이 곡선으로 형성되고, 상기 제2 토출로는 길이방향 단면 형상이 직선으로 형성될 수 있다.In the dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, the first discharge path may have a curved cross-sectional shape in the longitudinal direction, and the second discharge path may have a straight cross-sectional shape.

본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치에서 상기 제2 토출로는 슬릿형태로 구비될 수 있으며, 유속 차이를 발생시키도록 길이 방향 단면이 확장되는 공진부를 포함할 수 있다.In the dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, the second discharge path may be provided in a slit shape, and may include a resonance part whose longitudinal cross section is extended to generate a difference in flow velocity.

본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치에서 상기 공진부는 공기 유출측의 단면적이 공기 유입측의 단면적보다 크게 구비될 수 있다.In the dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, the resonator may have a cross-sectional area of the air outlet side larger than that of the air inlet side.

본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치에서 상기 흡입부는, 상기 유입 공간과 연통되게 구비되는 제1 흡입로; 및 제1 흡입로로부터 유입된 파티클을 외부로 배출하는 제2 흡입로;를 포함하고, 상기 제1 흡입로 및 상기 제2 흡입로는 상기 제1 흡입로 및 상기 제2 흡입로 사이에 구비된 연통로를 통해 서로 연통되게 구비되며, 상기 연통로는 길이방향으로 폭방향 간격이 변화할 수 있다.In the dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, the suction unit includes: a first suction path provided to communicate with the inflow space; And a second suction passage for discharging the particles introduced from the first suction passage to the outside, wherein the first suction passage and the second suction passage are provided between the first suction passage and the second suction passage. It is provided to communicate with each other through a communication path, and the width direction gap may change in the length direction.

본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치에서 상기 연통로는, 상기 흡입부의 일단에서 타단으로 갈수록 폭방향 간격이 감소하는 제1 연통로, 상기 제1 연통로의 타단에 연결되고, 상기 흡입부의 타단으로 갈수록 폭방향 간격이 증가하여 타단의 폭방향 간격이 상기 제1 연통로의 일단의 폭방향 간격과 동일하게 구비되는 제2 연통로 및 상기 제2 연통로의 타단에 연결되고 상기 흡입부의 타단으로 갈수록 폭방향 간격이 증가하는 제3 연통로를 포함할 수 있다.In the dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, the communication path is a first communication path whose widthwise distance decreases from one end of the suction unit to the other end, and is connected to the other end of the first communication path, and the suction unit The widthwise spacing increases toward the other end so that the widthwise spacing of the other end is the same as the widthwise spacing of one end of the first communication path and is connected to the other end of the second communication path, and the other end of the suction unit It may include a third communication path in which the widthwise spacing increases as it goes to.

본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치에서 상기 제1 연통로의 길이방향 길이, 상기 제2 연통로의 길이 방향 길이 및 상기 제3 연통로의 길이방향 길이는 하기 식 3을 만족할 수 있다.In the dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, the longitudinal length of the first communication path, the longitudinal length of the second communication path, and the longitudinal length of the third communication path may satisfy Equation 3 below.

[식 3][Equation 3]

L6 = L7,L6 = L7,

L6 + L7 = L8L6 + L7 = L8

(∵ L5: 제1 연통로의 길이방향 길이, L6: 제2 연통로의 길이방향 길이, L7: 제3 연통로의 길이방향 길이)(∵ L5: longitudinal length of the first communication path, L6: longitudinal length of the second communication path, L7: longitudinal length of the third communication path)

본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치에서 상기 제1 연통로의 일단의 폭방향 간격, 상기 제2 연통로의 타단의 폭방향 간격 및 상기 제3 통로의 타단의 폭방향 간격은 하기 식 4를 만족할 수 있다.In the dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, the widthwise spacing of one end of the first communication path, the widthwise spacing of the other end of the second communication path, and the widthwise spacing of the other end of the third passage are shown in Equation 4 below. Can be satisfied.

[식 4][Equation 4]

D = G,D = G,

E = 3DE = 3D

(∵ D: 제1 연통로의 일단의 폭방향 간격, G: 제2 연통로의 타단의 폭방향 간격, E: 제3 연통로의 타단의 폭방향 간격)(∵ D: Spacing in the width direction of one end of the first communication path, G: Spacing in the width direction of the other end of the second communication path, E: Spacing in the width direction of the other end of the third communication path)

본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치는 대상체에 공기를 분사하는 블로워; 상기 블로워가 내부에 수용되고, 상기 대상체로부터 이탈한 파티클이 유입되는 유입 공간을 포함하는 챔버; 및 상기 챔버에 연결되고 상기 파티클을 흡입하여 배출하는 흡입부;를 포함하고, 상기 흡입부는, 상기 유입 공간과 연통되게 구비되는 제1 흡입로; 및 제1 흡입부로부터 유입된 파티클을 외부로 배출하는 제2 흡입로;를 포함하고, 상기 제1 흡입로 및 상기 제2 흡입로는 상기 제1 흡입로 및 상기 제2 흡입로 사이에 구비된 연통로를 통해 서로 연통되게 구비되며, 상기 연통로는 길이방향으로 폭방향 간격이 변화할 수 있다.A dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention includes a blower for injecting air onto an object; A chamber in which the blower is accommodated and includes an inflow space into which particles separated from the object are introduced; And a suction part connected to the chamber and configured to suck and discharge the particles, wherein the suction part comprises: a first suction path provided to communicate with the inflow space; And a second suction path for discharging the particles introduced from the first suction part to the outside, wherein the first suction path and the second suction path are provided between the first suction path and the second suction path. It is provided to communicate with each other through a communication path, and the width direction gap may change in the length direction.

본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치에서 상기 연통로는, 상기 흡입부의 일단에서 타단으로 갈수록 폭방향 간격이 감소하는 제1 연통로, 상기 제1 연통로의 타단에 연결되고, 상기 흡입부의 타단으로 갈수록 폭방향 간격이 증가하여 타단의 폭방향 간격이 상기 제1 연통로의 일단의 폭방향 간격과 동일하게 구비되는 제2 연통로 및 상기 제2 연통로의 타단에 연결되고 상기 흡입부의 타단으로 갈수록 폭방향 간격이 증가하는 제3 연통로를 포함할 수 있다.In the dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, the communication path is a first communication path whose widthwise distance decreases from one end of the suction unit to the other end, and is connected to the other end of the first communication path, and the suction unit The widthwise spacing increases toward the other end so that the widthwise spacing of the other end is the same as the widthwise spacing of one end of the first communication path and is connected to the other end of the second communication path, and the other end of the suction unit It may include a third communication path in which the widthwise spacing increases as it goes to.

본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치에서 상기 제1 연통로의 길이방향 길이, 상기 제2 연통로의 길이 방향 길이 및 상기 제3 연통로의 길이방향 길이는 하기 식 3을 만족할 수 있다.In the dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, the longitudinal length of the first communication path, the longitudinal length of the second communication path, and the longitudinal length of the third communication path may satisfy Equation 3 below.

[식 3][Equation 3]

L6 = L7,L6 = L7,

L6 + L7 = L8L6 + L7 = L8

(∵ L5: 제1 연통로의 길이방향 길이, L6: 제2 연통로의 길이방향 길이, L7: 제3 연통로의 길이방향 길이)(∵ L5: longitudinal length of the first communication path, L6: longitudinal length of the second communication path, L7: longitudinal length of the third communication path)

본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치에서 상기 제1 연통로의 일단의 폭방향 간격, 상기 제2 연통로의 타단의 폭방향 간격 및 상기 제3 통로의 타단의 폭방향 간격은 하기 식 4를 만족할 수 있다.In the dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, the widthwise spacing of one end of the first communication path, the widthwise spacing of the other end of the second communication path, and the widthwise spacing of the other end of the third passage are shown in Equation 4 below. Can be satisfied.

[식 4][Equation 4]

D = G,D = G,

E = 3DE = 3D

(∵ D: 제1 연통로의 일단의 폭방향 간격, G: 제2 연통로의 타단의 폭방향 간격, E: 제3 연통로의 타단의 폭방향 간격)(∵ D: Spacing in the width direction of one end of the first communication path, G: Spacing in the width direction of the other end of the second communication path, E: Spacing in the width direction of the other end of the third communication path)

본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치에서 상기 블로워는, 공기가 유입되는 유입구가 일단에 구비되고 외주면에 공기가 배출되는 복수개의 배출부가 구비된 로드부; 및 상기 로드부의 양측에 배치되어 상기 로드부로부터 배출된 공기를 상기 대상체로 안내하는 블레이드부;를 포함하고, 상기 배출부는 상기 로드부의 일단측에 배치되고 복수개의 홀을 포함하는 제1 배출부 및 상기 제1 배출부와 길이방향으로 이격되게 배치되고 복수개의 홀을 포함하는 제2 배출부를 포함하며, 상기 제2 배출부의 홀 사이의 거리는 상기 제1 배출부의 홀 사이의 거리보다 멀게 구비될 수 있다.In the dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, the blower includes: a rod portion having an inlet through which air is introduced and a plurality of discharge portions through which air is discharged; And blade portions disposed on both sides of the rod portion to guide air discharged from the rod portion to the object, wherein the discharge portion is disposed at one end of the rod portion and includes a plurality of holes; and A second discharge part disposed to be spaced apart from the first discharge part in a longitudinal direction and including a plurality of holes, and a distance between the holes of the second discharge part may be provided farther than a distance between the holes of the first discharge part. .

본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치에서 상기 제1 배출부의 홀 사이의 거리, 상기 제2 배출부의 홀 사이의 거리 및 상기 제1 배출부와 상기 제2 배출부 사이의 거리는 하기 식 1을 만족하는 건식 세정 장치.In the dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, the distance between the holes of the first discharge part, the distance between the holes of the second discharge part, and the distance between the first discharge part and the second discharge part are expressed in Equation 1 below. Satisfying dry cleaning device.

[식 1][Equation 1]

L1 = 3/5 * L2,L1 = 3/5 * L2,

L3 = 7/3 * L1L3 = 7/3 * L1

(∵L1: 제1 배출부의홀 사이의 거리, L2: 제2 배출부의 홀 사이의 거리, L3: 제1 배출부와 제2 배출부 사이의 거리)(∵L1: distance between holes in the first discharge unit, L2: distance between holes in the second discharge unit, L3: distance between the first discharge unit and the second discharge unit)

본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치에서 상기 제1 배출부와 상기 유입구 사이의 최단 거리 및 상기 제2 배출부와 상기 유입구 사이의 최장 거리는 하기 식 2를 만족할 수 있다.In the dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, the shortest distance between the first outlet and the inlet and the longest distance between the second outlet and the inlet may satisfy Equation 2 below.

[식 2][Equation 2]

L5 = 10 * L4L5 = 10 * L4

(∵L4: 제1 배출부와 유입구 사이의 최단 거리, L5: 제2 배출부와 유입구 사이의 거리)(∵L4: the shortest distance between the first outlet and the inlet, L5: the distance between the second outlet and the inlet)

본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치에서 상기 블레이드부는, 상기 로드부의 상측 외면을 감싸고, 상기 로드부와의 사이에서 제1 토출로를 형성하는 커버; 및 상기 커버의 하측에 배치되고, 상기 제1 토출로와 연통되게 구비되어 상기 제1 토출로에서 토출된 공기를 상기 대상체로 안내하는 제2 토출로를 형성하는 블레이드;를 포함할 수 있다.In the dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, the blade portion may include a cover surrounding an upper outer surface of the rod portion and forming a first discharge path between the rod portion; And a blade disposed under the cover and provided in communication with the first discharge path to form a second discharge path for guiding the air discharged from the first discharge path to the object.

본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치에서 상기 제1 토출로는 길이방향 단면 형상이 곡선으로 형성되고, 상기 제2 토출로는 길이방향 단면 형상이 직선으로 형성될 수 있다.In the dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, the first discharge path may have a curved cross-sectional shape in the longitudinal direction, and the second discharge path may have a straight cross-sectional shape.

본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치에서 상기 제2 토출로는 슬릿형태로 구비될 수 있으며, 유속 차이를 발생시키도록 길이 방향 단면이 확장되는 공진부를 포함할 수 있다.In the dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, the second discharge path may be provided in a slit shape, and may include a resonance part whose longitudinal cross section is extended to generate a difference in flow velocity.

본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치에서 상기 공진부는 공기 유출측의 단면적이 공기 유입측의 단면적보다 크게 구비될 수 있다.In the dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, the resonator may have a cross-sectional area of the air outlet side larger than that of the air inlet side.

본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치는 세정 구간의 공기 분사 시 공기의 불균일 유동을 방지할 수 있는 효과가 있다.The dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention has an effect of preventing non-uniform flow of air when air is injected in the cleaning section.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치는 세정 구간의 공기 흡입 시 공기의 불균일 유동을 방지할 수 있는 효과가 있다.In addition, the dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention has an effect of preventing non-uniform flow of air when air is sucked in the cleaning section.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치의 개략 후면 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치의 개략 전면 사시도이다.
도 3은 도 1의 A-A'에 따른 단면 사시도이다.
도 4는 도 1의 B-B'에 따른 단면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 로드부의 개략 사시도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 다른 흡입부에 형성된 연통로의 개략 평면도이다.1 is a schematic rear perspective view of a dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic front perspective view of a dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional perspective view taken along line A-A' of FIG. 1.
4 is a cross-sectional view taken along line B-B' of FIG. 1.
5 is a schematic perspective view of a rod unit according to an embodiment of the present invention.
6 is a schematic plan view of a communication path formed in a suction unit according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시예를 상세하게 설명한다. 다만, 본 발명의 사상은 제시되는 실시예에 제한되지 아니하고, 본 발명의 사상을 이해하는 당업자는 동일한 사상의 범위 내에서 다른 구성요소를 추가, 변경, 삭제 등을 통하여, 퇴보적인 다른 발명이나 본 발명의 사상의 범위 내에 포함되는 다른 실시예를 용이하게 제안할 수 있을 것이나, 이 또한 본원 발명 사상의 범위 내에 포함된다고 할 것이다.Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. However, the spirit of the present invention is not limited to the presented embodiments, and those skilled in the art who understand the spirit of the present invention can add, change, or delete other elements within the scope of the same idea. Other embodiments included within the scope of the inventive concept may be easily proposed, but this will also be said to be included within the scope of the inventive concept of the present application.

또한, 실시예의 도면에 나타나는 동일한 사상의 범위 내의 기능이 동일한 구성요소는 동일한 참조부호를 사용하여 설명한다. In addition, components having the same function within the scope of the same idea shown in the drawings of the embodiments will be described using the same reference numerals.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치의 개략 후면 사시도고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치의 개략 전면 사시도이고, 도 3은 도 1의 A-A'에 따른 단면 사시도이고, 도 4는 도 1의 B-B'에 따른 단면도이고, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 로드부의 개략 사시도이고, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 다른 흡입부에 형성된 연통로의 개략 평면도이다.1 is a schematic rear perspective view of a dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic front perspective view of a dry cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is A-A′ of FIG. Is a cross-sectional perspective view according to, Figure 4 is a cross-sectional view taken along B-B' of Figure 1, Figure 5 is a schematic perspective view of a rod according to an embodiment of the present invention, Figure 6 is a suction according to an embodiment of the present invention It is a schematic plan view of the communication path formed in the part.

도 1 내지 도 6을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치(1)는 블로워(100), 챔버(200) 및 흡입부(300)를 포함할 수 있다.1 to 6, the dry cleaning apparatus 1 according to an embodiment of the present invention may include a blower 100, a chamber 200, and a suction unit 300.

블로워(100)는 토출 유로(110)를 구비하여 대상체(미도시)에 공기를 분사할 수 있다. 블로워(100)는 로드부(110) 및 로드부(110)의 양측에 배치되어 로드부(110)로부터 배출된 공기를 대상체로 안내하는 블레이드부(120)를 포함할 수 있다.The blower 100 may include a discharge passage 110 to inject air onto an object (not shown). The blower 100 may include a rod portion 110 and a blade portion 120 disposed on both sides of the rod portion 110 to guide air discharged from the rod portion 110 to the object.

로드부(110)의 일단에는 공기가 유입되는 유입구(111)가 구비될 수 있으며, 외주면에는 공기가 배출되는 배출부(112)가 구비될 수 있다. One end of the rod unit 110 may be provided with an inlet 111 through which air is introduced, and an outlet 112 through which air is discharged may be provided on an outer circumferential surface.

로드부(110)의 유입구(111)의 일단은 별도의 압축 공기 분사 장치(미도시)에 연결될 수 있으며, 압축 공기 분사 장치가 구동하는 경우 압축 공기는 로드부(110)의 유입구(111)를 통해 로드부(110)로 유입될 수 있다. 유입구(111)로 유입된 압축 공기는 로드부(110)를 따라 길이방향으로 이동할 수 있다. 공기는 길이방향으로 이동 중에 로드부(110)의 외주면에 형성된 배출부(112)를 통해 로드부(110)의 외측으로 배출될 수 있다.One end of the inlet 111 of the rod unit 110 may be connected to a separate compressed air injection device (not shown), and when the compressed air injection device is driven, the compressed air passes through the inlet 111 of the rod unit 110 It may be introduced into the rod unit 110 through. The compressed air introduced into the inlet 111 may move along the rod 110 in the longitudinal direction. Air may be discharged to the outside of the rod unit 110 through the discharge unit 112 formed on the outer circumferential surface of the rod unit 110 while moving in the longitudinal direction.

배출부(112)는 일로드부(110)의 상측 외주면에 형성될 수 있으며, 로드부(110)에 길이 방향으로 배치될 수 있다. 이러한 배출부(112)는 일 예로서, 로드부(110)의 일단측에 배치되고 복수개의 홀을 포함하는 제1 배출부(112a) 및 제1 배출부(112a)와 길이방향으로 이격되게 배치되고 복수개의 홀을 포함하는 제2 배출부(112b)를 포함할 수 있다. 여기서, 제2 배출부(112b)의 홀 사이의 거리(L2)는 제1 배출부(112a)의 홀 사이의 거리(L1)보다 멀게 구비될 수 있다. 여기서, 제2 "l출부(112b)의 홀 사이의 거리는 제1 배출부(112a)와 제2 배출부(112b)사이의 거리보다는 가깝게 구비될 수 있다. 예를 들어, 제1 배출부(112a)의 홀 사이의 거리(L1), 제2 배출부(112b)의 홀 사이의 거리 및 제1 배출부(112a)와 제2 배출부(112b) 사이의 거리(L3)은 하기 식 1을 만족할 수 있다.The discharge part 112 may be formed on the upper outer circumferential surface of the work rod part 110, and may be disposed on the rod part 110 in the longitudinal direction. As an example, the discharge unit 112 is disposed at one end of the rod unit 110 and is disposed to be spaced apart from the first discharge unit 112a and the first discharge unit 112a including a plurality of holes in the longitudinal direction. And may include a second discharge unit 112b including a plurality of holes. Here, the distance L2 between the holes of the second discharge part 112b may be provided farther than the distance L1 between the holes of the first discharge part 112a. Here, the distance between the holes of the second "l outlet 112b" may be provided closer than the distance between the first discharge part 112a and the second discharge part 112b. For example, the first discharge part 112a ), the distance between the holes of the second discharge part 112b, and the distance L3 between the first discharge part 112a and the second discharge part 112b satisfy Equation 1 below. I can.

[식 1][Equation 1]

L1 = 3/5 * L2,L1 = 3/5 * L2,

L3 = 7/3 * L1L3 = 7/3 * L1

(∵L1: 제1 배출부의 홀 사이의 거리, L2: 제2 배출부의 홀 사이의 거리, L3: 제1 배출부와 제2 배출부 사이의 거리)(∵L1: distance between the holes of the first discharge unit, L2: distance between the holes of the second discharge unit, L3: distance between the first discharge unit and the second discharge unit)

더하여, 배출부(112)는 제1 배출부(112a)와 유입구(111) 사이의 최단거리(L4) 및 제2 배출부(112b)와 유입구(111) 사이의 최장 거리가(L5)가 하기 식 2를 만족하도록 구비될 수 있다.In addition, the discharge part 112 has the shortest distance L4 between the first discharge part 112a and the inlet 111 and the longest distance L5 between the second discharge part 112b and the inlet 111 It may be provided to satisfy Equation 2.

[식 2][Equation 2]

L5 = 10 * L4L5 = 10 * L4

(∵L4: 제1 배출부와 유입구 사이의 최단 거리, L5: 제2 배출부와 유입구 사이의 거리)(∵L4: the shortest distance between the first outlet and the inlet, L5: the distance between the second outlet and the inlet)

이와 같이 배출부(112)를 구성함으로써, 본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치(1)는 제1 배출부(112a)와 제2 배출부(112b)를 구성하는 홀 사이의 거리를 제2 토출로(122a)를 통해 분사되는 공기의 불균일 유동을 감소시킬 수 있다. 다시 말해, 로드부(110)의 일단으로 압축 공기가 유입되면, 로드부(110)의 타단측 공기의 유속은 일단측 공기의 유속보다 빠르게 형성된다. 따라서, 제2 배출부(112b)의 홀 사이의 간격(L2)을 제1 배출부(112a)의 홀 사이의 간격(L1)보다 멀게 구비하여 로드부(110) 외부로 배출되는 공기의 유량을 길이방향으로 균일하게 조절할 수 있으며, 이에 의해 제2 토출로(122a)로 이동하는 공기의 유량 및 속도가 균일하게 될 수 있다. 결과적으로 제2 토출로(122a)를 통해 분사되는 공기의 불균일 유동을 감소시킬 수 있다.By configuring the discharge part 112 in this way, the dry cleaning apparatus 1 according to an embodiment of the present invention controls the distance between the holes constituting the first discharge part 112a and the second discharge part 112b. 2 It is possible to reduce non-uniform flow of air injected through the discharge path 122a. In other words, when compressed air is introduced into one end of the rod unit 110, the flow velocity of the air at the other end of the rod unit 110 is formed faster than the flow velocity of the air at one end. Therefore, the distance L2 between the holes of the second discharge part 112b is provided farther than the gap L1 between the holes of the first discharge part 112a to reduce the flow rate of air discharged to the outside of the rod part 110. It can be uniformly adjusted in the longitudinal direction, whereby the flow rate and speed of the air moving to the second discharge path (122a) can be made uniform. As a result, it is possible to reduce non-uniform flow of air injected through the second discharge path 122a.

블레이드부(120)는 로드부(110)의 양측에서 로드부(110)를 감싸도록 구비되어 공기가 분사되는 토출로를 형성할 수 있다. 예를 들어, 블레이드부(120)는 로드부(110)의 상측 외면을 감싸고, 로드부(110)와의 사이에서 제1 토출로(121a)를 형성하는 커버(121) 및, 커버(121)의 하측에 배치되고 제1 토출로(121a)와 연통되게 구비되어 제1 토출로(121a)에서 토출된 공기를 대상체로 안내하는 제2 토출로(122a)를 형성하는 블레이드(122)를 포함할 수 있다. 여기서, 제1 토출로(121a)는 길이방향 단면 형상이 곡선으로 형성될 수 있으며, 제1 토출로(121a)는 길이방향 단면 형상이 직선으로 형성될 수 있다. The blade portion 120 may be provided to surround the rod portion 110 on both sides of the rod portion 110 to form a discharge path through which air is injected. For example, the blade portion 120 surrounds the upper outer surface of the rod portion 110 and forms a first discharge path 121a between the rod portion 110 and the cover 121 and the cover 121 It may include a blade 122 disposed at the lower side and provided in communication with the first discharge path 121a to form a second discharge path 122a for guiding the air discharged from the first discharge path 121a to the object. have. Here, the first discharge path 121a may have a curved cross-sectional shape in the longitudinal direction, and the first discharge path 121a may have a straight cross-sectional shape in the longitudinal direction.

제2 토출로(122a)는 슬릿 형태로 구비될 수 있으며, 유속 차이를 발생시키도록 길이 방향 단면이 확장되는 공진부(122b)를 포함할 수 있다. 공진부(122b)는 공기 유출측의 단면적이 공기 유입측의 단면적보다 크게 구비될 수 있다. 제2 토출로(122a)를 통해 공기가 지나가는 경우 공기는 공진부(122b)에 의해 유속과 압력차이가 발생하게 되며 이에 따라 고밀도의 초음파가 발생할 수 있다. 이러한 초음파는 유동이 실린 초음파로서 대상체의 파티클을 효과적으로 제거할 수 있다.The second discharge path 122a may be provided in a slit shape, and may include a resonance part 122b whose longitudinal cross-section is extended to generate a difference in flow velocity. The resonance part 122b may be provided with a cross-sectional area of the air outlet side larger than the cross-sectional area of the air inlet side. When air passes through the second discharge path 122a, a difference in flow velocity and pressure of the air is generated by the resonator 122b, and accordingly, high-density ultrasonic waves may be generated. Such ultrasonic waves are flow-carrying ultrasonic waves and can effectively remove particles from an object.

여기서 공기의 이동 경로에 대해 설명하면, 로드부(110)의 일단으로 유입된 압축 공기는 로드부(110)의 길이방향을 따라 이동하며, 배출부(112)를 통해 로드부(110)의 외부로 배출될 수 있다. 이때, 공기는 배출부(112)를 통해 로드부(110)의 상측으로 이동할 수 있다. 이후 공기는 제1 토출로(121a)를 따라 로드부(110)의 하측으로 이동할 수 있다. 이어서 제2 토출로(122a)로 유입되어 블레이드(122) 외측으로 분사될 수 있다.Herein, when the air movement path is described, the compressed air introduced to one end of the rod unit 110 moves along the longitudinal direction of the rod unit 110, and is external to the rod unit 110 through the discharge unit 112. Can be discharged as. At this time, the air may move upwards of the rod unit 110 through the discharge unit 112. Thereafter, the air may move to the lower side of the rod unit 110 along the first discharge path 121a. Subsequently, it may be introduced into the second discharge path 122a and sprayed outside the blade 122.

챔버(200)는 블로워(100)를 감싸도록 구비될 수 있다. 다시 말해, 챔버(200)의 내부에는 블로워(100)가 수용될 수 있다. 챔버(200)는 대상체로 부터 이탈한 파티클이 유입되는 유입 공간(210)을 포함할 수 있다. 유입 공간(210)은 블로워(100)의 폭방향 양측에 구비될 수 있으며, 블로워(100)에 의해 공기가 분사되는 경우 대상체로부터 이탈한 파티클은 유입 공간(210)으로 유입될 수 있다. 보다 구체적으로, 유입 공간(210)은 흡입부(300)와 연통되게 구비되어 흡입부(300) 구동 시 유입 공간(210)의 공기는 흡입부(300)로 흡입될 수 있으며, 이러한 공기 유동에 의해 대상체를 이탈한 파티클은 유입 공간(210)으로 유입될 수 있다.The chamber 200 may be provided to surround the blower 100. In other words, the blower 100 may be accommodated in the chamber 200. The chamber 200 may include an inflow space 210 into which particles separated from the object are introduced. The inflow space 210 may be provided on both sides of the blower 100 in the width direction, and when air is injected by the blower 100, particles separated from the object may be introduced into the inflow space 210. More specifically, the inlet space 210 is provided in communication with the inlet unit 300 so that when the inlet unit 300 is driven, the air in the inlet space 210 can be sucked into the inlet unit 300, As a result, particles that have left the object may flow into the inflow space 210.

흡입부(300)는 챔버(200)에 연결되어 유입 공간(210)의 공기를 흡입함으로써 파티클을 흡입하여 배출할 수 있다. 이를 위해, 흡입부(300)는 별도의 석션 장치(미도시)에 연결되어 구동될 수 있다. 흡입부(300)는 공기가 이동하는 흡입로(310)를 포함할 수 있다. 예를 들어 흡입부(300)는 유입 공간(210)과 연통되게 구비되는 제1 흡입로(311) 및 제1 흡입로(311)로부터 유입된 파티클을 외부로 배출하는 제2 흡입로(312)를 포함할 수 있다.The suction unit 300 may be connected to the chamber 200 to suck the air in the inlet space 210 to suck and discharge particles. To this end, the suction unit 300 may be driven by being connected to a separate suction device (not shown). The suction unit 300 may include a suction path 310 through which air moves. For example, the suction unit 300 may include a first suction path 311 provided in communication with the inflow space 210 and a second suction path 312 for discharging particles introduced from the first suction path 311 to the outside. It may include.

여기서, 제1 흡입로(311) 및 제2 흡입로(312)는 제1 흡입로(311)와 제2 흡입로(312) 사이에 구비되는 격벽(320)에 형성된 연통로(321)에 의해 서로 연통되게 구비될 수 있다.Here, the first suction passage 311 and the second suction passage 312 are formed by a communication passage 321 formed in the partition wall 320 provided between the first suction passage 311 and the second suction passage 312. It may be provided to communicate with each other.

흡입부(300)에서의 공기 유동을 설명하면, 유입 공간(210)으로부터 파티클을 포함하는 공기는 제1 흡입로(311) 및 연통로(321)를 순차적으로 통과하여 제2 흡입로(312)로 유입된 후 최종적으로 외부로 배출될 수 있다.When the air flow in the suction unit 300 is described, air containing particles from the inlet space 210 sequentially passes through the first suction passage 311 and the communication passage 321 to the second suction passage 312. After flowing into the furnace, it can be finally discharged to the outside.

여기서, 연통로(321)는 길이방향으로 폭방향 간격이 변하도록 구비될 수 있다. 예를 들어, 연통로(321)는 흡입부(300)의 일단에서 타단으로 갈수록 폭방향 간격이 감소하는 제1 연통로(321a), 제1 연통로(321a)의 타단에 연결되고, 흡입부(300)의 타단으로 갈수록 폭방향 간격이 증가하여 타단의 폭방향 간격이 제1 연통로(321a)의 일단의 폭방향 간격과 동일하게 구비되는 제2 연통로(321b) 및 제2 연통로(321b)의 타단에 연결되고 흡입부(300)의 타단으로 갈수록 폭방향 간격이 증가하는 제3 연통로(321c)를 포함할 수 있다. 여기서, 제1 연통로(321a)의 길이방향 길이를 'L6'이라하고, 제2 연통로(321b)의 길이방향 길이를 'L7'이라하고, 제3 연통로(321c)의 길이방향 길이를 'L8'이라 했을 때, 제1 연통로(321a) 내지 제3 연통로(321c)는 하기 식 3을 만족할 수 있다.Here, the communication path 321 may be provided so that the width direction interval varies in the length direction. For example, the communication path 321 is connected to the first communication path 321a and the other end of the first communication path 321a, whose widthwise spacing decreases from one end of the suction unit 300 to the other end, and The widthwise spacing increases toward the other end of the 300 so that the widthwise spacing of the other end is the same as the widthwise spacing of one end of the first communication path 321a, the second communication path 321b and the second communication path ( It may include a third communication path (321c) connected to the other end of 321b) and increasing the width direction distance toward the other end of the suction unit (300). Here, the length in the longitudinal direction of the first communication path 321a is referred to as'L6', the length in the longitudinal direction of the second communication path 321b is referred to as'L7', and the length in the longitudinal direction of the third communication path 321c is referred to as In the case of'L8', the first communication path 321a to the third communication path 321c may satisfy Equation 3 below.

[식 3][Equation 3]

L6 = L7,L6 = L7,

L6 + L7 = L8L6 + L7 = L8

(∵ L6: 제1 연통로의 길이방향 길이, L7: 제2 연통로의 길이방향 길이, L8: 제3 연통로의 길이방향 길이)(∵ L6: longitudinal length of the first communication path, L7: longitudinal length of the second communication path, L8: longitudinal length of the third communication path)

더하여, 제1 연통로(321a)의 일단의 폭방향 간격을 'D'라하고, 제2 연통로(321b)의 타단의 폭방향 간격을 'G'라하고, 제3 연통로(321c)의 타단의 폭방향 간격을 'D'라 했을 때, 제1 연통로(321a) 내지 제3 연통로(321c)는 하기 식 4를 만족할 수 있다.In addition, the widthwise spacing of one end of the first communication path 321a is referred to as'D', the widthwise spacing of the other end of the second communication path 321b is referred to as'G', and When the interval in the width direction of the other end is'D', the first communication path 321a to the third communication path 321c may satisfy Equation 4 below.

[식 4][Equation 4]

D = G,D = G,

E = 3DE = 3D

(∵ D: 제1 연통로의 일단의 폭방향 간격, G: 제2 연통로의 타단의 폭방향 간격, E: 제3 연통로의 타단의 폭방향 간격)(∵ D: Spacing in the width direction of one end of the first communication path, G: Spacing in the width direction of the other end of the second communication path, E: Spacing in the width direction of the other end of the third communication path)

여기서, 제1 연통로(321a)의 타단의 폭방향 간격과 제2 연통로(321b)의 일단의 폭방향 간격은 동일할 수 있다. 제1 연통로(321a)의 타단의 폭방향 간격은 일단의 폭방향 간격을 'D'라 했을 때 3/4*D에 해당할 수 있다.Here, the widthwise spacing of the other end of the first communication path 321a and the widthwise spacing of one end of the second communication path 321b may be the same. The widthwise spacing of the other end of the first communication path 321a may correspond to 3/4*D when the widthwise spacing of one end is'D'.

이와 같이, 흡입되는 공기의 유속이 빠르게 형성되는 부분의 연통로(321)의 폭방향 간격을 상대적으로 작게 형성하고, 공기의 유속이 느리게 형성되는 부분의 폭방향 간격을 상대적으로 크게 형성함으로써, 본 발명의 일 실시예에 다른 건식 세정 장치(1)는 세정 구간의 공기 흡입 시 공기의 불균일 유동을 방지할 수 있다.In this way, by forming a relatively small gap in the width direction of the communication path 321 in the portion where the flow velocity of the inhaled air is formed rapidly, and forming a relatively large interval in the width direction in the portion where the flow velocity of the air is slowly formed, The dry cleaning apparatus 1 according to an embodiment of the present invention can prevent uneven flow of air when air is sucked in the cleaning section.

다시 말해, 석션 장치가 구동하는 경우 석션 장치는 흡입부(300), 보다 구체적으로, 제2 흡입로(312)의 공기를 흡입하게 된다. 이때, 제2 흡입로(312)의 일단측에 배치된 공기가 상대적으로 빠른 유속으로 흡입된다. 따라서, 연통로(321)의 일단측 폭방향 간격을 상대적으로 작게 형성하여 제2 흡입로(312)로의 길이방향 전체 경로에서 흡입되는 공기량 및 유속을 일정하게 할 수 있으며 결과적으로 공기의 불균일 유동을 방지할 수 있다. In other words, when the suction device is driven, the suction device sucks air from the suction unit 300, more specifically, the second suction path 312. At this time, the air disposed at one end of the second suction path 312 is sucked at a relatively high flow rate. Accordingly, by forming a relatively small gap in the width direction of one end of the communication path 321, the amount and flow rate of air sucked in the entire lengthwise path to the second suction path 312 can be made constant, and as a result, non-uniform flow of air can be prevented. Can be prevented.

전술한 바와 같이 본 발명의 일 실시예에 따른 건식 세정 장치(1)는 인접하게 배치되는 배출부(112)의 길이 방향 간격 및 연통로(321)의 폭방향 간격을 공기의 유속에 대응되게 형성함으로써, 세정 구간의 공기 분사 및 흡입 시 공기의 불균일 유동을 방지할 수 있는 효과가 있다.As described above, in the dry cleaning apparatus 1 according to an embodiment of the present invention, the lengthwise spacing of the discharging part 112 disposed adjacently and the widthwise spacing of the communication path 321 are formed to correspond to the flow velocity of air. By doing so, there is an effect of preventing non-uniform flow of air when air is injected and inhaled in the cleaning section.

상기에서는 본 발명에 따른 실시예를 기준으로 본 발명의 구성과 특징을 설명하였으나 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 사상과 범위 내에서 다양하게 변경 또는 변형할 수 있음은 본 발명의 속하는 기술분야의 통상의 기술자들에게 명백한 것이며, 따라서 이와 같은 변경 또는 변형은 첨부된 특허청구범위에 속함을 밝혀둔다.In the above, the configuration and features of the present invention have been described based on the embodiments according to the present invention, but the present invention is not limited thereto, and it is understood that various changes or modifications can be made within the spirit and scope of the present invention. It is obvious to those skilled in the art, and therefore, such changes or modifications are found to be within the scope of the appended claims.

1: 건식 세정 장치 100: 블로워
110: 로드부 111: 유입구
112: 배출부 120: 블레이드부
200: 챔버 210: 유입 공간
300: 흡입부 310: 흡입로
311: 제1 흡입로 312: 제2 흡입로
320: 격벽 321: 연통로1: dry cleaning device 100: blower
110: rod part 111: inlet
112: discharge unit 120: blade unit
200: chamber 210: inlet space
300: suction unit 310: suction path
311: first suction path 312: second suction path
320: bulkhead 321: communication path

Claims (11)

대상체에 공기를 분사하는 블로워;
상기 블로워가 내부에 수용되고, 상기 대상체로부터 이탈한 파티클이 유입되는 유입 공간을 포함하는 챔버; 및
상기 챔버에 연결되고 상기 파티클을 흡입하여 배출하는 흡입부;를 포함하고,
상기 블로워는,
공기가 유입되는 유입구가 일단에 구비되고 외주면에 공기가 배출되는 배출부가 구비된 로드부; 및
상기 로드부의 양측에 배치되어 상기 로드부로부터 배출된 공기를 상기 대상체로 안내하는 블레이드부;를 포함하고,
상기 배출부는 상기 로드부의 일단측에 배치되고 복수개의 홀을 포함하는 제1 배출부 및 상기 제1 배출부와 길이방향으로 이격되게 배치되고 복수개의 홀을 포함하는 제2 배출부를 포함하며,
상기 제2 배출부의 홀 사이의 거리는 상기 제1 배출부의 홀 사이의 거리보다 멀게 구비되는 건식 세정 장치.A blower that injects air onto the object;
A chamber in which the blower is accommodated and includes an inflow space into which particles separated from the object are introduced; And
Including; a suction unit connected to the chamber and suctioning and discharging the particles,
The blower,
A rod portion having an inlet through which air is introduced and having an outlet through which air is discharged; And
Includes; blade portions disposed on both sides of the rod portion to guide the air discharged from the rod portion to the object,
The discharge unit includes a first discharge unit disposed at one end of the rod unit and including a plurality of holes, and a second discharge unit disposed to be spaced apart from the first discharge unit in a longitudinal direction and including a plurality of holes,
A dry cleaning apparatus provided in which a distance between the holes of the second discharge part is greater than a distance between the holes of the first discharge part. 제1 항에 있어서,
상기 제1 배출부의 홀 사이의 거리, 상기 제2 배출부의 홀 사이의 거리 및 상기 제1 배출부와 상기 제2 배출부 사이의 거리는 하기 식 1을 만족하는 건식 세정 장치.
[식 1]
L1 = 3/5 * L2,
L3 = 7/3 * L1
(∵L1: 제1 배출부의 홀 사이의 거리, L2: 제2 배출부의 홀 사이의 거리, L3: 제1 배출부와 제2 배출부 사이의 거리)The method of claim 1,
The distance between the holes of the first discharge part, the distance between the holes of the second discharge part, and the distance between the first discharge part and the second discharge part satisfy Equation 1 below.
[Equation 1]
L1 = 3/5 * L2,
L3 = 7/3 * L1
(∵L1: distance between holes in the first discharge unit, L2: distance between holes in the second discharge unit, L3: distance between the first discharge unit and the second discharge unit) 제1 항에 있어서,
상기 제1 배출부와 상기 유입구 사이의 최단 거리 및 상기 제2 배출부와 상기 유입구 사이의 최장 거리는 하기 식 2를 만족하는 건식 세정 장치.
[식 2]
L5 = 10 * L4
(∵L4: 제1 배출부와 유입구 사이의 최단 거리, L5: 제2 배출부와 유입구 사이의 거리)The method of claim 1,
A dry cleaning apparatus in which the shortest distance between the first discharge part and the inlet port and the longest distance between the second discharge part and the inlet port satisfy Equation 2 below.
[Equation 2]
L5 = 10 * L4
(∵L4: the shortest distance between the first outlet and the inlet, L5: the distance between the second outlet and the inlet) 제1 항에 있어서,
상기 블레이드부는,
상기 로드부의 상측 외면을 감싸고, 상기 로드부와의 사이에서 제1 토출로를 형성하는 커버; 및
상기 커버의 하측에 배치되고, 상기 제1 토출로와 연통되게 구비되어 상기 제1 토출로에서 토출된 공기를 상기 대상체로 안내하는 제2 토출로를 형성하는 블레이드;를 포함하는 건식 세정 장치.The method of claim 1,
The blade part,
A cover surrounding an upper outer surface of the rod portion and forming a first discharge path between the rod portion; And
And a blade disposed under the cover and provided in communication with the first discharge path to form a second discharge path for guiding the air discharged from the first discharge path to the object. 제4 항에 있어서,
상기 제1 토출로는 길이방향 단면 형상이 곡선으로 형성되고, 상기 제2 토출로는 길이방향 단면 형상이 직선으로 형성된 건식 세정 장치.The method of claim 4,
The first discharge path is formed in a longitudinal cross-sectional shape of a curved line, and the second discharge path is formed in a longitudinal cross-sectional shape of a straight line. 제4 항에 있어서,
상기 제2 토출로는 슬릿형태로 구비될 수 있으며, 유속 차이를 발생시키도록 길이 방향 단면이 확장되는 공진부를 포함하는 건식 세정 장치.The method of claim 4,
The second discharge path may be provided in a slit shape, and a dry cleaning apparatus including a resonance part whose longitudinal cross section is extended to generate a difference in flow velocity. 제4 항에 있어서,
상기 공진부는 공기 유출측의 단면적이 공기 유입측의 단면적보다 크게 구비되는 건식 세정 장치.The method of claim 4,
The resonator is a dry cleaning device provided with a cross-sectional area of the air outlet side larger than the cross-sectional area of the air inlet side. 제1 항에 있어서,
상기 흡입부는,
상기 유입 공간과 연통되게 구비되는 제1 흡입로; 및
제1 흡입로로부터 유입된 파티클을 외부로 배출하는 제2 흡입로;를 포함하고,
상기 제1 흡입로 및 상기 제2 흡입로는 상기 제1 흡입로 및 상기 제2 흡입로 사이에 구비된 연통로를 통해 서로 연통되게 구비되며, 상기 연통로는 길이방향으로 폭방향 간격이 변화하는 건식 세정 장치.The method of claim 1,
The suction unit,
A first suction passage provided in communication with the inflow space; And
Including; a second suction passage for discharging the particles introduced from the first suction passage to the outside,
The first suction path and the second suction path are provided to communicate with each other through a communication path provided between the first suction path and the second suction path, and the communication path changes in width direction in the longitudinal direction. Dry cleaning device. 제8 항에 있어서,
상기 연통로는, 상기 흡입부의 일단에서 타단으로 갈수록 폭방향 간격이 감소하는 제1 연통로,
상기 제1 연통로의 타단에 연결되고, 상기 흡입부의 타단으로 갈수록 폭방향 간격이 증가하여 타단의 폭방향 간격이 상기 제1 연통로의 일단의 폭방향 간격과 동일하게 구비되는 제2 연통로 및
상기 제2 연통로의 타단에 연결되고 상기 흡입부의 타단으로 갈수록 폭방향 간격이 증가하는 제3 연통로를 포함하는 건식 세정 장치.The method of claim 8,
The communication path, a first communication path in which the width direction gap decreases from one end of the suction unit to the other end,
A second communication path connected to the other end of the first communication path and provided with a widthwise spacing of the other end equal to the widthwise spacing of one end of the first communication path as the widthwise spacing increases toward the other end of the suction unit; and
A dry cleaning apparatus comprising a third communication path connected to the other end of the second communication path and increasing a widthwise distance toward the other end of the suction part. 제9 항에 있어서,
상기 제1 연통로의 길이방향 길이, 상기 제2 연통로의 길이 방향 길이 및 상기 제3 연통로의 길이방향 길이는 하기 식 3을 만족하는 건식 세정 장치.
[식 3]
L6 = L7,
L6 + L7 = L8
(∵ L6: 제1 연통로의 길이방향 길이, L7: 제2 연통로의 길이방향 길이, L8: 제3 연통로의 길이방향 길이)The method of claim 9,
The lengthwise length of the first communication path, the length of the second communication path, and the length of the third communication path in the longitudinal direction satisfy Equation 3 below.
[Equation 3]
L6 = L7,
L6 + L7 = L8
(∵ L6: longitudinal length of the first communication path, L7: longitudinal length of the second communication path, L8: longitudinal length of the third communication path) 제9 항에 있어서,
상기 제1 연통로의 일단의 폭방향 간격, 상기 제2 연통로의 타단의 폭방향 간격 및 상기 제3 연통로의 타단의 폭방향 간격은 하기 식 4를 만족하는 건식 세정 장치.
[식 4]
D = G,
E = 3D
(∵ D: 제1 연통로의 일단의 폭방향 간격, G: 제2 연통로의 타단의 폭방향 간격, E: 제3 연통로의 타단의 폭방향 간격)The method of claim 9,
The dry cleaning apparatus satisfies Equation 4 below for the widthwise spacing of one end of the first communication path, the widthwise spacing of the other end of the second communication path, and the widthwise spacing of the other end of the third communication path.
[Equation 4]
D = G,
E = 3D
(∵ D: the widthwise spacing of one end of the first communication path, G: the widthwise spacing of the other end of the second communication path, E: the widthwise spacing of the other end of the third communication path)
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JPH09148294A (en) * 1995-11-24 1997-06-06 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate processor
KR20100073507A (en) * 2008-12-23 2010-07-01 이혜영 Dry type cleaning device for cleaning organic and inorganic matter on substrate
KR20130086760A (en) * 2012-01-26 2013-08-05 (주)에스피에이시티 Apparatus for cleaning semiconductor and display panel during manufacturing process of semiconductor and display panel

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09148294A (en) * 1995-11-24 1997-06-06 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate processor
KR20100073507A (en) * 2008-12-23 2010-07-01 이혜영 Dry type cleaning device for cleaning organic and inorganic matter on substrate
KR20130086760A (en) * 2012-01-26 2013-08-05 (주)에스피에이시티 Apparatus for cleaning semiconductor and display panel during manufacturing process of semiconductor and display panel

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