KR20210021330A - 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

기판 처리 장치는 기판을 대상으로 공정이 이루어지는 챔버를 구비하는 기판 처리 장치로써, 상기 챔버 내에 잔류하는 냄새를 정화시킬 수 있게 상기 챔버 외부로부터 상기 챔버 상측을 통하여 상기 챔버 내부를 경유하여 상기 챔버 하측을 통하여 상기 챔버 외부로 유체가 플로우되도록 구비되는 유체 플로우부; 및 상기 챔버 내부로 유입되는 유체 중에서 상기 챔버 외부로 플로우되지 않고 상기 챔버 내부에 잔류하는 유체를 상기 챔버 하측으로부터 상기 챔버 상측으로 순환시킬 수 있게 상기 챔버 내부에 구비되는 내부 순환부를 포함할 수 있다.

Description

기판 처리 장치{Apparatus for Processing Substrate}
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는 반도체 소자, 평판 디스플레이 소자 등과 같은 집적회로 소자로 제조하기 위한 기판을 대상으로 공정이 이루어지는 챔버를 구비하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
반도체 소자, 평판 디스플레이 소자 등과 같은 집적회로 소자는 기판을 대상으로 공정이 이루어지는 챔버(chamber)를 구비하는 기판 처리 장치를 사용하여 제조할 수 있다.
기판 처리 장치에서 이루어지는 공정은 주로 외부와 차단되는 상태에서 이루어질 수 있다.
따라서 기판 처리 장치에서의 챔버는 외부와 차단되는 밀폐 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
기판 처리 장치에서 챔버를 사용하는 공정 수행시 또는 공정 수행 전, 후에 챔버 내에 잔류하는 냄새를 정화시킬 필요가 있다.
이에, 챔버 내에 잔류하는 냄새를 정화시킬 수 있도록 구비되는 냄새 정화부를 사용하여 챔버 내에 잔류하는 냄새를 정화시키고 있다.
그러나 종래에는 냄새 정화부만을 사용하여 챔버 내에 잔류하는 냄새를 정화시키기 때문에 상대적으로 많은 대수의 냄새 정화부를 구비해야 하는 문제점이 있다.
본 발명의 일 목적은 상대적으로 적은 대수의 냄새 정화부만을 구비함에도 불구하고 챔버 내에 잔류하는 냄새를 충분하게 정화시킬 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는데 있다.
상기 본 발명의 일 목적을 달성하기 위한 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치는 기판을 대상으로 공정이 이루어지는 챔버를 구비하는 기판 처리 장치로써, 상기 챔버 내에 잔류하는 냄새를 정화시킬 수 있게 상기 챔버 외부로부터 상기 챔버 상측을 통하여 상기 챔버 내부를 경유하여 상기 챔버 하측을 통하여 상기 챔버 외부로 유체가 플로우되도록 구비되는 유체 플로우부; 및 상기 챔버 내부로 유입되는 유체 중에서 상기 챔버 외부로 플로우되지 않고 상기 챔버 내부에 잔류하는 유체를 상기 챔버 하측으로부터 상기 챔버 상측으로 순환시킬 수 있게 상기 챔버 내부에 구비되는 내부 순환부를 포함할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 챔버 내에 잔류하는 냄새를 정화시킬 수 있게 상기 챔버 상측으로 유체를 유입시킬 수 있는 유체 유입부 및 상기 챔버 하측으로 유체를 배출시킬 수 있는 유체 배출부로 이루어지되, 상기 유체 유입부 및 상기 유체 배출부에 의해 상기 챔버 외부로부터 상기 챔버 상측, 상기 챔버 내부, 상기 챔버 하측, 및 상기 챔버 외부를 경유하여 상기 기판 처리 장치가 배치되는 공간 밖으로 유체가 플로우되도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 챔버 하측을 통하여 상기 챔버 외부로 플로우되는 유체에 잔류하는 냄새를 정화시킬 수 있게 상기 챔버 하측의 상기 챔버 외부에서의 유체 플로우부와 연결되도록 구비되는 냄새 정화부를 더 포함하되, 상기 유체는 상기 냄새 정화부를 경유하여 상기 챔버 외부를 통하여 상기 기판 처리 장치가 배치되는 공간 밖으로 플로우될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 챔버가 육면체의 박스 구조를 갖도록 구비될 때, 상기 내부 순환부는 상기 챔버의 네 군데의 모서리 중 적어도 두 군데의 모서리에 배치되는 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 내부 순환부는 상기 모서리에 직사각형의 기둥 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치는 냄새 정화부 이외에도 냄새를 정화시킬 수 있는 유체 플로우부 및 챔버 내부에서 유체를 순환시킬 수 있는 내부 순환부를 더 구비하기 때문에 상대적으로 적은 대수의 냄새 정화부만을 구비함에도 불구하고 챔버 내에 잔류하는 냄새를 충분하게 정화시킬 수 있을 것이다.
이에, 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치는 상대적으로 적은 대수의 냄새 정화부를 구비하여도 챔버 내에 잔류하는 냄새를 충분하게 정화시킬 수 있기 때문에 정화 효율성의 향상을 기대할 수 있을 뿐만 아니라 장치 구조에 대한 효율성의 향상까지도 기대할 수 있을 것이다.
다만, 본 발명의 효과는 상기 언급한 효과에 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.
도 1은 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 실시예를 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조 부호를 유사한 구성 요소에 대해 사용하였다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "이루어진다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다. 도면상의 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 사용하고 동일한 구성 요소에 대해서 중복된 설명은 생략한다.
도 1은 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 1을 참조하면, 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)는 반도체 소자, 평판 디스플레이 소자 등과 같은 집적회로 소자의 제조에 적용할 수 있는 것으로써, 기판 상에 약액을 토출하는 인쇄 공정, 기판 상에 현상액을 토출하는 현상 공정, 기판 상에 식각액을 토출하는 식각 공정, 기판 상에 세정액을 토출하는 세정 공정 등에 적용할 수 있을 것이다.
예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)는 반도체 소자, 평판 디스플레이 소자 등과 같은 집적회로 소자로 제조하기 위한 기판을 대상으로 공정이 이루어지는 챔버(11)를 포함할 수 있다.
언급한 인쇄 공정, 현상 공정, 식각 공정, 세정 공정 등은 외부와 차단되는 환경에서 수행해야 하기 때문에 챔버(11)를 밀폐되는 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
챔버(11) 내에는 언급한 인쇄 공정, 현상 공정, 식각 공정, 세정 공정 등의 수행시 챔버(11) 내에 위치하는 기판이 놓이는 스테이지(13)가 구비될 수 있다.
특히, 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)가 인쇄 공정에 적용되는 챔버(11)를 구비할 경우에는 스테이지(13)는 기판을 부상시킬 수 있는 부상 스테이지로 이루어질 수 있다.
예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)는 공정의 수행시 또는 공정 수행 전, 후에 챔버(11) 내에 잔류하는 냄새를 외부로 배출시킴과 아울러 정화시킬 수 있도록 유체 플로우부(15), 냄새 정화부(23), 내부 순환부(25) 등을 포함할 수 있다.
유체 플로우부(15)는 챔버(11) 상측 외부로부터 챔버(11) 내부를 통하여 챔버(11) 하측 외부로 유체가 플로우되도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 따른 유체 플로우부(15)는 챔버(11) 상측으로 유체를 유입시킬 수 있는 유체 유입부(17) 및 챔버(11) 하측으로 유체를 배출시킬 수 있는 유체 배출부(19)로 이루어질 수 있다.
유체 유입부(17)는 챔버(11) 상측 외부에서 챔버(11) 상측을 통하여 챔버(11) 내부로 유체를 유입시킬 수 있도록 챔버(11)와 연결되는 유입 라인으로 이루어질 수 있다.
그리고 유입 라인에는 챔버(11) 상측 외부로부터 유입되는 유체의 유입량을 조절할 수 있도록 게이트 밸브(21)가 구비될 수 있다.
유체 배출부(19)는 챔버(11) 하측으로부터 챔버(11) 하측 외부로 유체를 배출할 수 있게 챔버(11) 하측과 연결되는 포트 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
따라서 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)는 유체 플로우부(15)를 사용하여 챔버(11) 상측 외부로부터 챔버(11) 내부를 통하여 챔버(11) 하측 외부로 유체가 플로우되도록 함으로써 챔버(11) 내에 잔류하는 냄새를 정화시킬 수 있을 것이다.
특히, 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)에서의 유체 플로우부(15)는 챔버 내에 잔류하는 냄새를 정화시킬 때 유체 유입부(17) 및 유체 배출부(19)를 사용하여 챔버(11) 외부로부터 챔버(11) 상측, 챔버(11) 내부, 챔버(11) 하측, 및 챔버(11) 외부를 경유하도록 유체를 플로우시킬 수 있을 뿐만 아니라 챔버(11) 외부를 경유하는 유체를 기판 처리 장치(100)가 배치되는 공간 밖으로 플로우되도록 할 수 있다.
즉, 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)에서의 유체 플로우부(15)는 챔버(11) 내에 잔류하는 냄새의 정화를 위한 유체의 플로우를 기판 처리 장치(100)가 배치되는 공간 밖인 공장단 외부까지 연장되게 구비될 수 있는 것이다.
예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)에서 냄새를 정화시키기 위한 유체의 예로서는 에어 등을 들 수 있을 것이다.
그리고 냄새 정화부(23)는 챔버(11) 하측 외부로 플로우되는 유체에 잔류하는 냄새를 정화시킬 수 있게 챔버(11) 하측 외부에서의 유체 플로우부(15)와 연결되도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)에서의 유체 플로우부(15)는 포트 구조를 갖는 유체 배출부(19)를 구비하기 때문에 냄새 정화부(23)는 유체 배출부(19)의 포트 구조와 연결되도록 구비될 수 있다.
따라서 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)는 유체 플로우부(15)를 사용하여 챔버(11) 상측 외부로부터 챔버(11) 내부를 통하여 챔버(11) 하측 외부로 유체가 플로우되도록 함으로써 챔버(11) 내에 잔류하는 냄새를 정화시킴과 더불어 냄새 정화부(23)를 사용하여 챔버(11) 하측 외부로 배출되는 유체에 잔류하는 냄새를 추가적으로 정화시킬 수 있을 것이다.
이와 같이, 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)가 냄새 정화부를 구비할 경우에는 유체는 냄새 정화부(23)를 경유하여 챔버(11) 외부를 통하여 기판 처리 장치(100)가 배치되는 공간 밖으로 플로우될 수 있다.
내부 순환부(25)는 챔버(11) 내부에 구비되는 것으로써, 챔버(11) 내부로 유입되는 유체를 챔버(11) 하측으로부터 챔버(11) 상측으로 순환시킬 수 있게 구비될 수 있다.
특히, 내부 순환부(25)는 챔버(11) 내부로 유입되는 유체 중에서 챔버(11) 외부로 플로우되지 않고 챔버(11) 내부에 잔류하는 유체를 챔버(11) 하측으로부터 챔버(11) 상측으로 순환시킬 수 있게 구비될 수 있다.
이에, 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)는 내부 순환부(25)를 사용하여 유체를 챔버(11) 내부에서 순환되도록 함으로써 챔버(11) 내부에서의 유체의 흐름에 의한 열 손실 등을 방지할 수 있을 것이고, 나아가 계속적인 순환을 통하여 챔버(11) 내부에 잔류할 수 있는 유체를 챔버(11) 외부로 배출시킬 수 있을 것이다.
그리고 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)에서의 챔버(11)는 육면체의 박스 구조, 구체적으로 직육면체의 박스 구조를 갖도록 구비될 수 있는데, 이 경우 내부 순환부(25)는 육면체의 박스 구조의 네 군데 모서리 중에서 적어도 두 군데의 모서리에 배치되는 구조를 갖도록 구비될 수 있고, 바람직하게는 네 군데 모두의 모서리에 직사각형의 기둥 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
아울러 내부 순환부(25)는 후술하는 필터 유닛(29)과 연결되는 구조를 갖도록 구비될 수 있는데, 이에 파티클의 흡인 등을 위하여 필터 유닛(29)에 구비되는 팬 구조물의 회전 구동을 통하여 챔버(11) 내부로 유입되는 유체 중에서 챔버(11) 외부로 플로우되지 않고 챔버(11) 내부에 잔류하는 유체를 챔버(11) 하측으로부터 챔버(11) 상측으로 순환시킬 수 있을 것이다.
또한, 예시적인 실시예들 따른 기판 처리 장치(100)는 유체 배출부(19)의 포트 구조와 연결되는 냄새 정화부(23)를 통하여 배출되는 유체의 배출량만큼 챔버(11) 내에 유체가 유입되게 유체 유입부(17)의 게이트 밸브(21)를 사용하여 유체의 유입량을 조절할 수 있도록 구비될 수 있다. 즉, 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)는 냄새 정화를 위하여 챔버(11) 외부로 배출되는 유체의 배출량만큼으로 챔버(11) 내부로 유체를 유입하도록 하는 것이다.
이와 같이, 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(100)는 냄새 정화부(23) 이외에도 냄새를 정화시킬 수 있는 유체 플로우부(15) 및 챔버(11) 내부에서 유체를 순환시킬 수 있는 내부 순환부(25)를 더 구비하기 때문에 상대적으로 적은 대수의 냄새 정화부(23)만을 구비하여도 챔버(11) 내에 잔류하는 냄새를 충분하게 정화시킬 수 있을 것이다.
그리고 예시적인 실시예들 따른 기판 처리 장치(100)는 챔버(11) 상측에 열교환기(27) 및 필터 유닛(29)이 배치되도록 구비될 수 있다.
열교환기(27)는 챔버(11) 내부로 유입되는 유체에 의해 챔버(11) 내부의 열손실을 방지하도록 구비될 수 있고, 필터 유닛(29)은 챔버(11) 내부로 유입되는 유체로부터 파티클 등을 제거할 수 있도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치는 빈도체 소자, 평판 디스플레이 소자 등과 같은 집적회로 소자의 제조를 위한 인쇄 공정, 현상 공정, 식각 공정, 세정 공정 등과 같은 단위 공정들에 다양하게 적용할 수 있을 것이다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
11 : 챔버 13 : 스테이지
15 : 유체 플로우부 17 : 유체 유입부
19 : 유체 배출부 21 : 게이트 밸브
23 : 냄새 정화부 25 : 내부 순환부
27 : 열교환기 29 : 필터 유닛
100 : 기판 처리 장치

Claims (5)

  1. 기판을 대상으로 공정이 이루어지는 챔버를 구비하는 기판 처리 장치에 있어서,
    상기 챔버 내에 잔류하는 냄새를 정화시킬 수 있게 상기 챔버 외부로부터 상기 챔버 상측을 통하여 상기 챔버 내부를 경유하여 상기 챔버 하측을 통하여 상기 챔버 외부로 유체가 플로우되도록 구비되는 유체 플로우부; 및
    상기 챔버 내부로 유입되는 유체 중에서 상기 챔버 외부로 플로우되지 않고 상기 챔버 내부에 잔류하는 유체를 상기 챔버 하측으로부터 상기 챔버 상측으로 순환시킬 수 있게 상기 챔버 내부에 구비되는 내부 순환부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 챔버 내에 잔류하는 냄새를 정화시킬 수 있게 상기 챔버 상측으로 유체를 유입시킬 수 있는 유체 유입부 및 상기 챔버 하측으로 유체를 배출시킬 수 있는 유체 배출부로 이루어지되, 상기 유체 유입부 및 상기 유체 배출부에 의해 상기 챔버 외부로부터 상기 챔버 상측, 상기 챔버 내부, 상기 챔버 하측, 및 상기 챔버 외부를 경유하여 상기 기판 처리 장치가 배치되는 공간 밖으로 유체가 플로우되도록 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 챔버 하측을 통하여 상기 챔버 외부로 플로우되는 유체에 잔류하는 냄새를 정화시킬 수 있게 상기 챔버 하측의 상기 챔버 외부에서의 유체 플로우부와 연결되도록 구비되는 냄새 정화부를 더 포함하되,
    상기 유체는 상기 냄새 정화부를 경유하여 상기 챔버 외부를 통하여 상기 기판 처리 장치가 배치되는 공간 밖으로 플로우되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 챔버가 육면체의 박스 구조를 갖도록 구비될 때, 상기 내부 순환부는 상기 챔버의 네 군데의 모서리 중 적어도 두 군데의 모서리에 배치되는 구조를 갖도록 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  5. 제4 항에 있어서,
    상기 내부 순환부는 상기 모서리에 직사각형의 기둥 구조를 갖도록 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
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