KR20200133037A - Blank Metal Mask Device - Google Patents

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KR20200133037A
KR20200133037A KR1020190056740A KR20190056740A KR20200133037A KR 20200133037 A KR20200133037 A KR 20200133037A KR 1020190056740 A KR1020190056740 A KR 1020190056740A KR 20190056740 A KR20190056740 A KR 20190056740A KR 20200133037 A KR20200133037 A KR 20200133037A
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Abstract

The present invention relates to a blank metal mask device comprising: a vacuum part including a base and a chamber, the base including a vacuum pump and the chamber being provided above the base to be openable and having a predetermined reception space; a deposition part installed above the base corresponding to the reception space to deposit a deposition material on crystal blanks; an opening/closing part installed on the base to open or close the chamber through elevation; and a metal mask installed above the deposition part to be rotatable and including a plurality of crystal blanks fixedly arranged thereon in a grid-shape, wherein the metal mask comprises an upper tray having a plurality of first blank holes to allow each of the crystal blanks to be placed and arranged therein and a lower tray having a plurality of second blank holes, and is configured to be foldable by a hinge formed on one side thereof. The first blank holes are formed through the lower tray to be arranged in a grid shape while corresponding to the areas of the crystal blanks, and the second blank holes are formed through the upper tray to be arranged as long holes having a length in the direction of the edge while corresponding to all the first blank holes in a first row. The deposition part further comprises a rotation part for rotating the metal mask to be reversed upward/downward. The blank metal mask device can rapidly perform deposition compared to a conventional device and, while silver is being deposited on crystal blanks, can prevent damage to and the release of an electrode pin as well as a loss of the crystal blanks, thereby minimizing failures.

Description

블랭크 메탈 마스크 장치{Blank Metal Mask Device}Blank Metal Mask Device {Blank Metal Mask Device}

본 발명은 블랭크 메탈 마스크 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 수정진동자의 제작을 위해 수정블랭크에 은 증착을 신속하게 수행할 수 있으며, 증착 중 수정블랭크의 분실 방지는 물론, 전극핀의 파손 및 이탈을 방지하여 불량을 최소화 할 수 있는 블랭크 메탈 마스크 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a blank metal mask device, and more specifically, it is possible to quickly perform silver deposition on a crystal blank for fabrication of a crystal oscillator, preventing loss of the crystal blank during deposition, as well as damage and separation of electrode pins. It relates to a blank metal mask device that can minimize defects by preventing.

일반적으로 수정진동자는 수정의 결정(結晶)에서 잘라낸 박판에 전극을 연결하면 안정된 주파수이 교류전압(交流電壓)을 발생하는 소자(素子)다.In general, a crystal oscillator is a device that generates an AC voltage with a stable frequency when an electrode is connected to a thin plate cut from a crystal of crystal.

이러한, 수정진동자는 산업용, 민생용을 불문하고, 컨퓨터의 클락신호, 푸시폰의 터언신호, 무선기, 시계 등 여러 가지 발진회로에 사용된다.Such a crystal oscillator is used in various oscillation circuits, such as clock signals of computers, turn signals of push phones, radio devices, and watches, regardless of industrial and consumer use.

최근에는 포토리조그래피 기술의 이용으로 초소형, 초박형 진동자가 싼 가격으로 생산 가능하게 되고 또 응용 범위가 넓어지고 시장 규모가 연간 15%정도 증가한다.In recent years, the use of photolithography technology makes it possible to produce ultra-small and ultra-thin vibrators at low prices, and the application range is widened and the market size is increased by 15% per year.

도 1에 도시와 같이, 수정진동자의 구조는 은 증착된 수정편과 납땜으로 연결되는 조선, 지지선, 베이스로 구성되는 단순한 구조이다.As shown in Fig. 1, the structure of the crystal oscillator is a simple structure composed of a ship, a support line, and a base connected by soldering and a silver-deposited crystal piece.

특허문헌 1은 증착 패턴이 형성된 박막형 마스크를 고정하기 위한 기판 증착용 지그에 관한 것으로, 박막형 마스크를 사이에 두고 상하 배치된 한 쌍의 상판 지그와 하판 지그로 이루어지되, 상기 상판 지그는 상판 지그 몸체와, 증착 패턴과 동일한 패턴으로 이루어짐과 동시에 증착 패턴보다는 폭이 더 넓은 지그 패턴을 구비하여 박막형 마스크 위에 올려지고, 상기 하판 지그는 하판 지그몸체를 구비하고, 기판의 후면에 올려진 상태에서 상판 지그와 체결됨으로써 상판 지그가 박막형 마스크를 가압하도록 지지력을 제공하도록 구성된다. 따라서, 상판 지그가 박막형 마스크를 가압하도록 한 상태에서 증착 물질을 기판 위에 증착시킬 수 있도록 하여, 기판 증착용 지그에 의해 박막형 마스크의 들뜸을 방지함으로써 박막형 마스크만으로도 기판에 증착 물질을 증착할 수 있도록 하면서도, 미세한 패턴의 정밀한 증착을 가능하게 함은 물론 증착 공정이 단순화되도록 할 수 있는 기판 증착용 지그가 제안되었다.Patent Document 1 relates to a substrate deposition jig for fixing a thin film-type mask on which a deposition pattern is formed, and consists of a pair of upper jig and lower jig arranged up and down with a thin-film mask interposed therebetween, wherein the upper jig is an upper jig body Wow, the same pattern as the deposition pattern and at the same time a jig pattern having a wider width than the deposition pattern is provided on a thin-film mask, and the lower jig has a lower jig body, and the upper jig is placed on the rear surface of the substrate. By being fastened with the upper plate jig is configured to provide a supporting force to press the thin film mask. Therefore, the deposition material can be deposited on the substrate while the upper jig presses the thin film mask, thereby preventing the thin film mask from being lifted by the substrate deposition jig so that the deposition material can be deposited on the substrate with only the thin film mask. , A substrate deposition jig has been proposed that enables precise deposition of fine patterns and simplifies the deposition process.

그러나, 수정블랭크의 앞/뒷면을 증착하기 위해서는 메탈마스크가 제공되며, 증착면에 전극핀의 접합 후 메탈마스크과 수정블랭크의 분리과정에 전극핀이 단락되는 불량이 발생하는 문제점이 있으며, 기존에 메탈마스크는 사용에 불편함이 있어 제작공정에 코스트가 발생하는 문제점이 있다.However, in order to deposit the front/rear surfaces of the quartz blank, a metal mask is provided, and there is a problem that the electrode pins are short-circuited during the separation process of the metal mask and the quartz blank after bonding the electrode pins to the deposition surface. The mask is inconvenient to use, so there is a problem in that cost is incurred in the manufacturing process.

KR 10-0976617 B1KR 10-0976617 B1

상기한 문제점을 해결하기 위하여 본 발명은 수정블랭크가 거치되는 메탈마스크의 구조를 변경하여 수정진동자를 제작하는 공정 중 증착공정에서 은 증착을 신속하게 수행할 수 있으며, 수정블랭크에 은을 증착하는 동안 수정블랭크의 분실 방지는 물론, 전극핀의 파손 및 이탈을 방지하여 불량을 최소화 할 수 있는 블랭크 메탈 마스크 장치를 제공하는데 목적이 있다.In order to solve the above problems, the present invention can quickly perform silver deposition in the deposition process during the process of manufacturing the crystal oscillator by changing the structure of the metal mask on which the crystal blank is mounted, while depositing silver on the crystal blank. An object of the present invention is to provide a blank metal mask device capable of minimizing defects by preventing damage and separation of electrode pins as well as preventing loss of the correction blank.

상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 진공펌프를 포함하는 베이스와, 상기 베이스의 상부에 개폐 가능하게 구비되며, 소정의 수용공간을 갖는 챔버로 이루어진 진공부와; 상기 수용공간에 해당하는 상기 베이스의 상부에 설치되어 수정블랭크에 증착물질을 증착시키는 증착부와; 상기 베이스에 설치되어 상기 챔버을 승강으로 개폐 작동시키는 개폐부와; 상기 증착부의 상부에 회전 가능하게 설치되며, 다수의 수정블랭크를 격자로 배열 고정시키는 메탈마스크를 포함하여 구성하되, 상기 메탈마스크는 상기 수정블랭크의 각각 안착 배열을 위해 다수의 제1블랭크홀을 갖는 상부트레이 및 다수의 제2블랭크홀을 갖는 하부트레이로 이루어지되, 일측에 형성된 경첩에 의해 절첩 가능하게 구성되는 것을 특징으로 하는 블랭크 메탈 마스크 장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention includes a vacuum unit comprising a base including a vacuum pump, and a chamber provided to be opened and closed on an upper portion of the base and has a predetermined accommodation space; A deposition unit installed on the base corresponding to the accommodation space to deposit a deposition material on the crystal blank; An opening/closing part installed on the base to open/close the chamber by lifting and lowering; It is rotatably installed on the top of the evaporation unit and comprises a metal mask for arranging and fixing a plurality of crystal blanks in a grid, wherein the metal mask has a plurality of first blank holes for each seating arrangement of the crystal blanks. It provides a blank metal mask device, characterized in that consisting of an upper tray and a lower tray having a plurality of second blank holes, it is configured to be folded by a hinge formed on one side.

여기서, 상기 하부트레이의 제1블랭크홀은 상기 수정블랭크의 넓이에 대응하여 격자로 관통 배열 형성되고, 상기 상부트레이의 제2블랭크홀은 상기 제1블랭크홀의 1열에 모두 대응하여 상기 경첩 방향으로 길이를 갖는 장홀로 관통 배열 형성되는 것을 특징으로 한다.Here, the first blank hole of the lower tray is formed through a grid in accordance with the width of the crystal blank, and the second blank hole of the upper tray corresponds to all the first row of the first blank hole and has a length in the hinge direction. It characterized in that the through arrangement is formed as a long hole having.

그리고, 상기 증착부에는 상기 메탈마스크를 상/하 반전으로 회전 작동시키는 회전부가 더 구비되는 것을 특징으로 한다.In addition, the evaporation unit may further include a rotating unit for rotating the metal mask in an up/down direction.

상기와 같이 구성된 본 발명을 제공함으로써, 기존에 비해 증착을 신속하게 수행할 수 있으며, 수정블랭크에 은을 증착하는 동안 수정블랭크의 분실 방지는 물론, 전극핀의 파손 및 이탈을 방지하여 불량을 최소화 할 수 있는 효과가 있다.By providing the present invention configured as described above, deposition can be performed faster than before, and defects are minimized by preventing the loss of the crystal blank while depositing silver on the crystal blank, as well as damage and separation of the electrode pins. There is an effect that can be done.

도 1은 통상의 수정진동자를 나타내는 예시도.
도 2 및 도 3은 본 발명에 따른 블랭크 메탈 마스크 장치를 나타내는 구성 및 작동상태 예시도.
도 4 내지 도 7은 본 발명에 따른 블랭크 메탈 마스크 장치에 적용되는 메탈마스크를 나타내는 구성 작동상태 예시도.1 is an exemplary view showing a conventional crystal oscillator.
2 and 3 are diagrams illustrating the configuration and operation of a blank metal mask device according to the present invention.
4 to 7 are diagrams illustrating a configuration operation state showing a metal mask applied to a blank metal mask device according to the present invention.

이하, 본 발명에 대하여 동일한 기술분야에 속하는 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 첨부도면을 참조하여 바람직한 실시 예를 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those of ordinary skill in the same technical field can easily implement the present invention.

본 발명의 블랭크 메탈 마스크 장치는 도 1에 도시와 같이, 수정진동자를 제작하는 과정 중 수정진동자의 원자재인 수정블랭크(600)에 은을 증착하고, 증착된 면에 전극핀(610)을 접합하기 위한 공정에 필수 장치이다.In the blank metal mask device of the present invention, as shown in FIG. 1, in the process of manufacturing the crystal oscillator, silver is deposited on the crystal blank 600, which is a raw material of the crystal oscillator, and the electrode pin 610 is bonded to the deposited surface. It is an essential device for the process.

도 2 및 도 3에 의하면, 수정블랭크(600)의 표면에 증착물질(330)을 증착시킴과 동시에 전극핀(610)을 접합하기 위하여 내부에 진공으로 수용공간(125)을 갖는 챔버(120)를 포함하는 진공부(100), 증착을 위한 증착부(300), 작업자가 증착된 수정블랭크(600)의 표면에 전극핀(610) 부착을 위해 상기 진공부(100)를 개폐하는 개폐부(200), 수정블랭크(600)의 거치를 위한 메탈마스크(500)로 구성될 수 있다.According to FIGS. 2 and 3, a chamber 120 having a vacuum receiving space 125 therein to bond the electrode pins 610 while depositing the deposition material 330 on the surface of the quartz blank 600 A vacuum unit 100 including, a deposition unit 300 for deposition, an opening/closing unit 200 for opening and closing the vacuum unit 100 for attaching an electrode pin 610 to the surface of the crystal blank 600 on which an operator is deposited. ), it may be composed of a metal mask 500 for mounting the correction blank 600.

상기 진공부(100)는 진공펌프(115)를 포함하는 베이스(110)와, 상기 베이스(110)의 상부에 개폐 가능하게 구비되며, 소정의 수용공간(125)을 갖도록 하측이 개방된 챔버(120)로 이루어질 수 있다.The vacuum unit 100 is provided with a base 110 including a vacuum pump 115 to be opened and closed on an upper portion of the base 110, and a chamber whose lower side is open to have a predetermined receiving space 125 ( 120).

따라서, 상기 베이스(110)와 챔버(120)의 상호 밀폐 결합할 수 있다.Accordingly, the base 110 and the chamber 120 may be sealed to each other.

그리고, 상기 베이스(110)는 통상의 작업대와 같이 테이블로 이루어지되, 어느 한 부분에 관통하여 진공펌프(115)가 하부에 장착되며, 베이스(110)의 상부에 올려진 챔버(120)에 의한 수용공간(125)을 진공 상태를 만들 수 있다.In addition, the base 110 is made of a table like a normal worktable, but the vacuum pump 115 is mounted at the lower part through a certain part, and the chamber 120 is mounted on the upper part of the base 110. The accommodation space 125 can be made in a vacuum state.

이때, 상기 챔버(120)의 수용공간(125)을 육안으로 확인할 수 있는 투시창(121)이 형성될 수 있다.In this case, a viewing window 121 for visually checking the accommodation space 125 of the chamber 120 may be formed.

그리고, 상기 챔버(120)가 상기 베이스(110)에 안정적인 밀폐 결합이 용이하도록 상기 챔버(120)의 하단 테두리에는 플랜지(123)가 형성될 수 있다.In addition, a flange 123 may be formed at the lower edge of the chamber 120 so that the chamber 120 can be securely sealed to the base 110 easily.

상기 증착부(300)는 상기 수용공간(125)에 해당하는 상기 베이스(110)의 상부에 설치되어 수정블랭크(600)에 증착물질(330)을 증착시킬 수 있다.The deposition unit 300 may be installed above the base 110 corresponding to the receiving space 125 to deposit a deposition material 330 on the crystal blank 600.

이때, 상기 증착부(300)에 경우 상기 베이스(110)의 상부에는 테이블(310)이 이격 구비되고, 상기 테이블(310)에 상부에 증착물질(330)이 카트리지 방식으로 교체 수납되며, 상기 테이블(310)의 하부에 상기 증착물질(330)을 가열하여 훈증(薰蒸; 열기가 위로 올라 상부가 찌는듯 덥게 되는 현상)시킬 수 있도록 가열코일(320)이 구비될 수 있다.In this case, in the case of the deposition unit 300, a table 310 is provided spaced apart from the top of the base 110, and the deposition material 330 is exchanged and accommodated in the upper portion of the table 310 in a cartridge method, and the table A heating coil 320 may be provided to heat the deposition material 330 at the bottom of 310 to perform fumigation (a phenomenon in which heat rises up and the top becomes hot as if steaming).

따라서, 상기 증착물질(330)의 훈증 현상으로 상기 메탈마스크(500)에 구속된 수정블랭크(600)의 표면에 증착물질(330)을 증착시킬 수 있다.Accordingly, the deposition material 330 may be deposited on the surface of the crystal blank 600 confined to the metal mask 500 due to the fumigation of the deposition material 330.

상기 개폐부(200)는 상기 베이스(110)에 설치되어 상기 챔버(120)를 승강으로 개폐 작동시킬 수 있다.The opening/closing part 200 may be installed on the base 110 to open and close the chamber 120 by lifting and lowering.

상기 챔버(120)의 플랜지(123)에는 둘레를 따라 최소 3개소 이상 결합공(127)이 형성되고, 상기 베이스(110)에는 상기 결합공(127)에 관통 결합되는 수직의 승강포스트(210)가 승강 가능하게 구비되며, 상기 베이스(110)에는 상기 승강포스트(210)를 승강 작동시키는 유압모터(220)가 적용될 수 있다.The flange 123 of the chamber 120 has at least three coupling holes 127 formed along the circumference, and the base 110 has a vertical lifting post 210 that is penetrated to the coupling hole 127 Is provided to be elevating, and a hydraulic motor 220 for elevating and operating the elevating post 210 may be applied to the base 110.

따라서, 상기 베이스(110)의 유압모터(220)의 작동을 통해 승강포스트(210)에 결속된 챔버(120)가 개폐되어 상기 베이스(110)의 증착부(300)를 챔버(120)로부터 노출 시킬 수 있다.Accordingly, the chamber 120 bound to the lifting post 210 is opened and closed through the operation of the hydraulic motor 220 of the base 110 to expose the deposition part 300 of the base 110 from the chamber 120 I can make it.

상기 증착부(300)의 노출을 통해 증착물질(330)이 증착된 상기 수정블랭크(600)의 표면에 작업자가 전극핀(610)을 부착할 수 있다.An operator may attach the electrode pin 610 to the surface of the crystal blank 600 on which the deposition material 330 is deposited through the exposure of the deposition unit 300.

도 3 내지 도 7에 의하면, 상기 메탈마스크(500)는 상기 증착부(300)의 상부에 회전 가능하게 설치되며, 다수의 수정블랭크(600)를 격자로 배열 고정시킬 수 있다.3 to 7, the metal mask 500 is rotatably installed on the deposition part 300, and a plurality of crystal blanks 600 may be arranged and fixed in a grid.

이때, 상기 메탈마스크(500)는 상기 수정블랭크(600)의 각각 안착 배열을 위해 다수의 제1블랭크홀(515)을 갖는 상부트레이(520) 및 다수의 제2블랭크홀(525)을 갖는 하부트레이(510)로 이루어지되, 일측에 형성된 경첩(530)에 의해 절첩 가능하게 구성될 수 있다.In this case, the metal mask 500 includes an upper tray 520 having a plurality of first blank holes 515 and a lower part having a plurality of second blank holes 525 for each seating arrangement of the correction blank 600. Doedoe consisting of a tray 510, it may be configured to be foldable by a hinge 530 formed on one side.

도 3에 의하면, 상기 하부트레이(510)의 제1블랭크홀(515)은 상기 수정블랭크(600)의 넓이에 대응하여 격자로 관통 배열 형성되고, 상기 상부트레이(520)의 제2블랭크홀(525)은 상기 제1블랭크홀(515)의 1열에 모두 대응하여 상기 경첩(530) 방향으로 길이를 갖는 장홀로 관통 배열 형성된다.Referring to FIG. 3, the first blank hole 515 of the lower tray 510 is formed through a grid corresponding to the width of the crystal blank 600, and the second blank hole of the upper tray 520 ( 525 is formed through a long hole having a length in the direction of the hinge 530 corresponding to all of the first row of the first blank hole 515.

또한, 상기 제1블랭크홀(515) 및 제2블랭크홀(525)에는 상기 수정블랭크(600)가 용이하게 안착됨과 아울러, 유동 방지를 위해 내측 테두리를 따라 안착턱(501)이 형성되는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the correction blank 600 is easily seated in the first blank hole 515 and the second blank hole 525 and a seating protrusion 501 is formed along the inner rim to prevent flow. Do.

한편, 상기 증착부(300)에는 상기 메탈마스크(500)를 상/하 반전으로 회전 작동시키는 회전부(400)가 더 구비될 수 있다.Meanwhile, the deposition unit 300 may further include a rotating unit 400 for rotating the metal mask 500 in an up/down direction.

도 5 및 도 6에 도시와 같이, 상기 회전부(400)에 경우 상기 테이블(310)의 양측에 수직의 지지대(410)가 연장 설치되고, 상기 지지대(410)의 상단에는 롤러, 베어링, 플리, 기어와 같은 회전부재(420)가 수펑 회전이 가능하도록 각각 설치되며, 상기 회전부재(420)의 내측에 상기 메탈마스크(500)의 양단을 각각 파지하는 클램프(430)가 형성될 수 있다.5 and 6, in the case of the rotating part 400, vertical supports 410 are extended on both sides of the table 310, and rollers, bearings, plies, and Rotating members 420, such as gears, are respectively installed so as to be able to rotate several times, and clamps 430 for holding both ends of the metal mask 500 may be formed inside the rotating member 420.

즉, 상기 회전부(400)의 회전 작동을 통해 상기 챔버(120)로부터 노출된 메탈마스크(500)의 상부트레이(520)와 하부트레이(510)를 상/하 반전으로 회전 시킬 수 있다.That is, the upper tray 520 and the lower tray 510 of the metal mask 500 exposed from the chamber 120 may be rotated in an up/down direction through the rotating operation of the rotating part 400.

따라서, 상/하 반전된 메탈마스크(500)에는 증착물질(330)이 증착된 수정블랭크(600)의 표면이 상부에 위치되어 작업자가 증착된 표면에 전극핀(610)을 납땜 또는 용접과 같은 작업을 통해 수직으로 접합할 수 있다.Therefore, in the upper/lower inverted metal mask 500, the surface of the crystal blank 600 on which the deposition material 330 is deposited is positioned on the top, so that the operator attaches the electrode pin 610 to the deposited surface, such as soldering or welding. It can be joined vertically through work.

마지막으로 상기 수정블랭크(600)에 증착되는 증착물질(330)은 은으로 사용하는 것이 매우 적합하다.Finally, it is very suitable to use silver as the deposition material 330 deposited on the crystal blank 600.

상기와 같이 구성된 본 발명의 구성에 대해 도면을 참조하여 작동과정을 설명한다.With reference to the drawings for the configuration of the present invention configured as described above will be described the operation process.

도 4에 의하면, a) 상기 메탈마스크(500)의 경첩(530)을 기준으로 하부트레이(510)와 상부트레이(520)의 접합을 펼쳐 상기 하부트레이(510)의 제1블랭크홀(515)에 수정블랭크(600)를 각각 배치시킨 후 상기 경첩(530)에 의해 상기 상부트레이(520)를 회전으로 하부트레이(510)에 접합시켜 메탈마스크(500)의 내측에 안착된 수정블랭크(600)를 구속한다.According to FIG. 4, a) the first blank hole 515 of the lower tray 510 by spreading the joint between the lower tray 510 and the upper tray 520 based on the hinge 530 of the metal mask 500 After arranging each of the correction blanks 600, the upper tray 520 is rotated by the hinge 530 to be bonded to the lower tray 510 to be seated on the inside of the metal mask 500. Restrain

b) 이 상태에서 도 2와 같이, 수정블랭크(600)가 구성된 메탈마스크(500)를 노출된 회전부(400)의 클램프(430)에 연결을 통해 증착부(300)의 상부에 메탈마스크(500)를 위치시킨다.b) In this state, as shown in FIG. 2, the metal mask 500 on which the correction blank 600 is formed is connected to the clamp 430 of the exposed rotating part 400. ).

c) 도 3과 같이 상기 개폐부(200)에 의해 상기 진공부(100)를 폐쇄시키고, 상기 진공펌프(115)의 작동으로 챔버(120)의 수용공간(125)을 진공 유지시킨 후 상기 증착부(300)의 가열코일(320)을 통해 증착물질(330)을 상기 메탈마스크(500)에 구속된 수정블랭크(600)의 저면에 증착시킨다.c) As shown in FIG. 3, the vacuum unit 100 is closed by the opening/closing unit 200, and the receiving space 125 of the chamber 120 is vacuum maintained by the operation of the vacuum pump 115, and then the deposition unit The deposition material 330 is deposited on the bottom of the crystal blank 600 confined to the metal mask 500 through the heating coil 320 of 300.

증착이 완료되면, 다시 상기 진공부(100)를 오픈시키고, 상기 회전부(400)를 통해 메탈마스크(500)를 회전시켜 상/하 반전 후 수정블랭크(600)의 증착면에 전극핀(610)을 접합한 후 c) 과정을 다시 한번 더 수행한다.When the deposition is completed, the vacuum unit 100 is opened again, the metal mask 500 is rotated through the rotation unit 400, and the electrode pins 610 on the deposition surface of the crystal blank 600 are inverted up and down. After joining the c) process is performed again.

d) 도 7에 의하면, 상기 수정블랭크(600)의 양쪽 표면에 각각 은 증착 및 전극핀(610)이 형성된 상태에서 경첩(530)을 기준으로 상기 상부트레이(520)를 회전으로 펼쳐 완성된 수정블랭크(600)를 인출할 수 있다.d) According to FIG. 7, in a state in which silver deposition and electrode pins 610 are formed on both surfaces of the crystal blank 600, the upper tray 520 is rotated with respect to the hinge 530 to be completed. The blank 600 can be withdrawn.

이때, 상기 상부트레이(520)의 제2블랭크홀(525)의 장공으로 형성됨에 따라 상기 수정블랭크(600)의 전극핀(610)이 간섭되지 않아 전극핀(610)의 접합 불량이 발생하지 않는다.At this time, as the upper tray 520 is formed as a long hole in the second blank hole 525, the electrode pin 610 of the crystal blank 600 does not interfere, so that a bonding failure of the electrode pin 610 does not occur. .

상기와 같이 구성된 본 발명을 제공함으로써, 기존에 비해 증착을 신속하게 수행할 수 있으며, 수정블랭크에 은을 증착하는 동안 수정블랭크의 분실 방지는 물론, 전극핀의 파손 및 이탈을 방지하여 불량을 최소화 할 수 있는 효과가 있다.By providing the present invention configured as described above, deposition can be performed faster than before, and defects are minimized by preventing the loss of the crystal blank while depositing silver on the crystal blank, as well as damage and separation of the electrode pins. There is an effect that can be done.

이상에 설명한 본 명세서 및 청구범위에 사용되는 용어 및 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 본 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.The terms and words used in the present specification and claims described above should not be construed as being limited to their usual or dictionary meanings, and the present inventors appropriate the concept of terms to describe their own invention in the best way. It should be interpreted as a meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention on the basis of the principle that it can be defined.

따라서, 본 명세서에 기재된 도면 및 실시 예에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 하나의 실시 예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것이 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형 예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.Therefore, the configurations shown in the drawings and embodiments described in the present specification are only one of the most preferred embodiments of the present invention, and do not represent all the technical ideas of the present invention, and thus can be replaced at the time of application. It is to be understood that there may be a variety of equivalents and variations that may exist.

100: 진공부
110: 베이스
115: 진공펌프
120: 챔버
121: 투시창
123: 플랜지
125: 수용공간
127: 결합공
200: 개폐부
210: 승강포스트
220: 유압모터
300: 증착부
310: 테이블
320: 가열코일
330: 증착물질
400: 회전부
410: 지지대
420: 회전부재
430: 클램프
500: 메탈마스크
510: 하부트레이
515: 제1블랭크홀
520: 상부트레이
525: 제2블랭크홀
530: 경첩
600: 수정블랭크
610: 전극핀100: vacuum part
110: base
115: vacuum pump
120: chamber
121: viewing window
123: flange
125: accommodation space
127: coupling hole
200: opening and closing part
210: lifting post
220: hydraulic motor
300: evaporation unit
310: table
320: heating coil
330: deposition material
400: rotating part
410: support
420: rotating member
430: clamp
500: metal mask
510: lower tray
515: first blank hole
520: upper tray
525: second blank hole
530: hinge
600: crystal blank
610: electrode pin

Claims (3)

진공펌프(115)를 포함하는 베이스(110)와, 상기 베이스(110)의 상부에 개폐 가능하게 구비되며, 소정의 수용공간(125)을 갖는 챔버(120)로 이루어진 진공부(100)와;
상기 수용공간(125)에 해당하는 상기 베이스(110)의 상부에 설치되어 수정블랭크(600)에 증착물질(330)을 증착시키는 증착부(300)와;
상기 베이스(110)에 설치되어 상기 챔버(120)를 승강으로 개폐 작동시키는 개폐부(200)와;
상기 증착부(300)의 상부에 회전 가능하게 설치되며, 다수의 수정블랭크(600)를 격자로 배열 고정시키는 메탈마스크(500)를 포함하여 구성하되,
상기 메탈마스크(500)는 상기 수정블랭크(600)의 각각 안착 배열을 위해 다수의 제1블랭크홀(515)을 갖는 상부트레이(520) 및 다수의 제2블랭크홀(525)을 갖는 하부트레이(510)로 이루어지되, 일측에 형성된 경첩(530)에 의해 절첩 가능하게 구성되는 것을 특징으로 하는 블랭크 메탈 마스크 장치.
A vacuum unit 100 comprising a base 110 including a vacuum pump 115 and a chamber 120 provided to be opened and closed on an upper portion of the base 110 and having a predetermined receiving space 125;
A deposition unit 300 installed above the base 110 corresponding to the receiving space 125 to deposit a deposition material 330 on the crystal blank 600;
An opening/closing part 200 installed on the base 110 to open/close the chamber 120 by lifting and lowering;
It is configured to be rotatably installed on the top of the deposition unit 300, including a metal mask 500 for arranging and fixing a plurality of crystal blanks 600 in a grid,
The metal mask 500 includes an upper tray 520 having a plurality of first blank holes 515 and a lower tray having a plurality of second blank holes 525 for each seating arrangement of the correction blank 600 ( Doedoe consisting of 510), a blank metal mask device, characterized in that configured to be folded by a hinge 530 formed on one side.
 청구항 1에 있어서,
상기 하부트레이(510)의 제1블랭크홀(515)은 상기 수정블랭크(600)의 넓이에 대응하여 격자로 관통 배열 형성되고,
상기 상부트레이(520)의 제2블랭크홀(525)은 상기 제1블랭크홀(515)의 1열에 모두 대응하여 상기 경첩(530) 방향으로 길이를 갖는 장홀로 관통 배열 형성되는 것을 특징으로 하는 블랭크 메탈 마스크 장치.
The method according to claim 1,
The first blank hole 515 of the lower tray 510 is arranged through a grid corresponding to the width of the correction blank 600,
A blank, characterized in that the second blank hole 525 of the upper tray 520 is formed through a long hole having a length in the direction of the hinge 530 corresponding to all the first row of the first blank hole 515 Metal mask device.
 청구항 1에 있어서,
상기 증착부(300)에는 상기 메탈마스크(500)를 상/하 반전으로 회전 작동시키는 회전부(400)가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 블랭크 메탈 마스크 장치.
The method according to claim 1,
A blank metal mask device, characterized in that the deposition unit 300 further includes a rotating unit 400 for rotating the metal mask 500 in an up/down reverse direction.
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