KR20200132731A - 광학 필름의 검사 방법 및 광학 필름의 제조 방법 - Google Patents

광학 필름의 검사 방법 및 광학 필름의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20200132731A
KR20200132731A KR1020200057251A KR20200057251A KR20200132731A KR 20200132731 A KR20200132731 A KR 20200132731A KR 1020200057251 A KR1020200057251 A KR 1020200057251A KR 20200057251 A KR20200057251 A KR 20200057251A KR 20200132731 A KR20200132731 A KR 20200132731A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
optical film
layer
inspection
axis
phase difference
Prior art date
Application number
KR1020200057251A
Other languages
English (en)
Inventor
다케시 가와카미
마야 오자키
리에 소가베
Original Assignee
스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 filed Critical 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
Publication of KR20200132731A publication Critical patent/KR20200132731A/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/41Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length
    • G01N21/45Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length using interferometric methods; using Schlieren methods
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/55Specular reflectivity
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/21Polarisation-affecting properties
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/8806Specially adapted optical and illumination features
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/89Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
    • G01N21/892Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles characterised by the flaw, defect or object feature examined
    • G01N21/896Optical defects in or on transparent materials, e.g. distortion, surface flaws in conveyed flat sheet or rod
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3025Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/55Specular reflectivity
    • G01N2021/558Measuring reflectivity and transmission
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N2021/9513Liquid crystal panels

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

본 발명의 일실시형태에 따른 광학 필름의 검사 방법은, 제1 위상차층과 제2 위상차층과 제1 위상차층 및 제2 위상차층 사이에 배치되는 제1 접착층을 갖는 광학 필름(10)의 검사면(10a)에, 검사면측에 배치된 광원부(21)로부터 검사광(L1)을 조사하며, 동시에 광원부로부터 조사되어 광학 필름에서 반사된 광을, 검사면측에 배치된 검출부(22)에 의해 검출하는 검출 공정과, 검출부에 의해 검출된 광의 휘도에 기초하여, 광학 필름에 있어서의 단면을 따른 휘도 분포를 취득하고, 휘도 분포에 기초하여 광학 필름이 양품인지의 여부를 판정하는 판정 공정을 구비한다.

Description

광학 필름의 검사 방법 및 광학 필름의 제조 방법{INSPECTION METHOD OF OPTICAL FILM AND MANUFACTURING METHOD OF OPTICAL FILM}
본 발명은 광학 필름의 검사 방법 및 광학 필름의 제조 방법에 관한 것이다.
광학 필름으로서, 제1 위상차층과 제2 위상차층을 갖는 위상차 적층체가 있다. 위상차 적층체에 있어서, 제1 위상차층과 제2 위상차층은 접착층(예컨대, 자외선 경화 수지 접착제로 형성되는 층)을 통해 접합되어 있다. 위상차 적층체의 예는, 유기 일렉트로루미네선스(유기 EL) 화상 표시 장치에 적용되는 원편광판이다(일본 특허 공개 제2018-17996호 공보 참조).
제1 위상차층, 접착층 및 제2 위상차층을 이 순서로 갖는 광학 필름을, 예컨대 화상 표시 장치에 적용하는 경우에는, 상기 광학 필름의 간섭 얼룩을 저감하는 것이 요구되고 있다. 그 때문에, 광학 필름을 형성한 후, 광학 필름의 간섭 얼룩의 정도에 따른 양부 검사를 행한다. 이 양부 검사는, 통상, 광학 필름에 광을 조사하여, 육안 검사로 행해지고 있었다. 그러나, 육안 검사에서는, 광학 필름의 양부가, 검사자의 주관, 컨디션 등에 의존하기 쉽기 때문에, 광학 필름의 성능의 신뢰성이 저하하기 쉽다.
그래서, 본 발명은 성능 신뢰성의 향상을 도모할 수 있는 광학 필름의 검사 방법 및 광학 필름의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 일측면에 따른 광학 필름의 검사 방법은, 제1 위상차층과 제2 위상차층과 상기 제1 위상차층 및 제2 위상차층 사이에 배치되는 제1 접착층을 갖는 광학 필름의 검사면에, 상기 검사면측에 배치된 광원부로부터 검사광을 조사하며, 동시에 상기 광원부로부터 조사되어 상기 광학 필름에서 반사된 광을, 상기 검사면측에 배치된 검출부에 의해 검출하는 검출 공정과, 상기 검출부에 의해 검출된 광의 휘도에 기초하여, 상기 광학 필름에 있어서의 단면을 따른 휘도 분포를 취득하고, 상기 휘도 분포에 기초하여 광학 필름이 양품인지의 여부를 판정하는 판정 공정을 구비한다.
상기 검사 방법에서는, 검출부에 의해 검출된 광의 휘도에 기초하여, 상기 광학 필름에 있어서의 단면을 따른 휘도 분포를 취득하고, 상기 휘도 분포에 기초하여 광학 필름이 양품인지의 여부를 판정한다. 그 때문에, 객관적으로 광학 필름의 양부를 판정할 수 있기 때문에, 광학 필름의 성능 신뢰성이 향상한다.
상기 광학 필름을 반송하면서 검출 공정 및 판정 공정을 행해도 좋다.
상기 단면은 광학 필름의 폭 방향에 있어서의 단면이어도 좋다.
상기 검출 공정에서는, 상기 광원부로부터의 상기 검사광을, 제1 편광 필터를 통하여 상기 검사면에 조사하며, 동시에 상기 광원부로부터 상기 광학 필름에 조사되어 상기 광학 필름에서 반사된 광을, 제2 편광 필터를 통하여, 상기 검출부에 의해 검출하여도 좋다. 이 경우, 예컨대 제1 편광 필터 및 제2 편광 필터의 배치 관계를 조정함으로써, 광학 필름의 표면 반사의 영향을 저감할 수 있어, 더욱 정확하게 광학 필름을 검사할 수 있다.
상기 제1 위상차층 및 상기 제2 위상차층 중 적어도 한쪽은 1/2 파장층이고 다른쪽은 1/4 파장층이며, 서로 직교하는 x축 및 y축을 상기 검사면에 가상적으로 설정하고, 상기 검사면측에서 보아 상기 x축 및 상기 y축의 한쪽을 기준축으로 하여, 상기 기준축에 대하여 반시계 방향을 양의 각도 방향이라고 칭한 경우에 있어서, 상기 제1 위상차층의 제1 지상축(遲相軸) 및 상기 제2 위상차층의 제2 지상축이 하기 조건 (1)∼(3)을 만족하도록, 상기 광학 필름에 있어서, 상기 제1 위상차층 및 상기 제2 위상차층이 배치되어 있고, 상기 제1 편광 필터의 제1 흡수축 및 상기 제2 편광 필터의 제2 흡수축이 하기 조건 (4), (5) 및 (6)의 조건을 만족하도록, 상기 제1 편광 필터 및 상기 제2 편광 필터가 상기 광학 필름에 대하여 배치되어 있어도 좋다.
(1) -40°<θ1<-10°(θ1은 상기 제1 지상축과 상기 기준축 사이의 각도)
(2) +15°<θ2<+50°(θ2는 상기 제2 지상축과 상기 기준축 사이의 각도)
(3) +55°<θ3<+65°(θ3은 상기 제1 지상축과 상기 제2 지상축 사이의 각도)
(4) -20°<θ4<+20°(θ4는 상기 제1 흡수축 및 상기 제2 흡수축 중 한쪽과 상기 기준축 사이의 각도)
(5) +70°<θ5<+110°(θ5는 상기 제1 흡수축 및 상기 제2 흡수축 중 다른쪽과 상기 기준축 사이의 각도)
(6) +70°<θ6<+110°(θ6은 상기 제1 흡수축과 상기 제2 흡수축 사이의 각도)
상기 구성에서는, 광학 필름의 표면 반사를 한층 더 저감할 수 있다.
상기 광학 필름은, 적층 방향에 있어서, 상기 1/2 파장층에서 보아 상기 1/4 파장층과 반대측에 위치하는 편광판과, 상기 편광판과 상기 1/2 파장층 사이에 위치하는 제2 접착층을 가져도 좋다.
상기 제1 접착층은 활성 에너지선 경화형 접착제의 경화층이어도 좋다.
상기 광학 필름을 반송하면서 상기 검출 공정을 실시하여도 좋다.
상기 검사광의 피크 파장은 400 ㎚∼750 ㎚의 범위 내여도 좋다.
상기 광학 필름을 지지판의 주면 상에 배치한 상태로 상기 검출 공정을 실시하고, 상기 주면의 정반사율이 45% 이하여도 좋다. 이 경우, 지지판의 주면에서의 반사의 영향을 저감할 수 있기 때문에, 광학 필름의 양부를 정확하게 판정하기 쉽다.
본 발명의 다른 측면에 따른 광학 필름의 제조 방법은, 본 발명에 따른 상기 광학 필름의 검사 방법을 포함한다.
상기 검사 방법에서는, 상기 검출부에 의해 검출된 광의 휘도에 기초하여, 상기 광학 필름에 있어서의 단면을 따른 휘도 분포를 취득하고, 상기 휘도 분포에 기초하여 광학 필름을 양품인지의 여부를 판정한다. 그 때문에, 객관적으로 광학 필름의 양부를 판정할 수 있기 때문에, 광학 필름의 성능 신뢰성이 향상한다. 그 결과, 성능 신뢰성의 향상한 광학 필름을 제조할 수 있다.
본 발명에 따르면, 성능 신뢰성의 향상을 도모할 수 있는 광학 필름의 검사 방법 및 광학 필름의 제조 방법을 제공할 수 있다.
도 1은 일실시형태에 따른 검사 방법을 포함하는 광학 필름의 제조 방법의 흐름도이다.
도 2는 일실시형태에 따른 광학 필름의 제조 방법으로 제조되는 광학 필름의 개략 구성을 나타내는 모식도이다.
도 3은 광학 필름의 변형예의 개략 구성을 나타내는 모식도이다.
도 4는 일실시형태에 따른 광학 필름의 검사 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 광학 필름이 갖는 제1 위상차층 및 제2 위상차층의 배치 관계를 설명하는 도면이다.
도 6은 광학 필름에 대한 제1 편광 필터 및 제2 편광 필터의 배치 관계를 설명하는 도면이다.
도 7은 실험예에서 사용한 샘플(S1∼S4)의 검출 결과를 나타내는 도표이다.
도 8은 육안 검사에 사용한 광학 필름의 개략 구성을 나타내는 모식도이다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시형태를 설명한다. 도면에 있어서 동일 또는 상당하는 부분에 대해서는 동일한 부호를 붙이고, 중복하는 설명을 생략한다. 도면의 치수 비율은, 설명한 것과 반드시 일치하지 않는다.
도 1은 일실시형태에 따른 검사 방법을 포함하는 광학 필름의 제조 방법의 흐름도이다. 광학 필름의 제조 방법은, 광학 필름의 형성 공정(S01)과, 광학 필름의 검사 공정(S02)과, 광학 필름의 형성 조건의 변경 공정(S03)과, 양품인 광학 필름의 회수 공정(S04)을 갖는다.
[형성 공정]
형성 공정(S01)에서는, 도 2에 나타낸 광학 필름(10)을 형성한다. 광학 필름(10)은, 원편광판이고, 예컨대 유기 일렉트로루미네선스 장치에 적용될 수 있다.
광학 필름(10)은, 위상차 적층체(11)를 갖는다. 위상차 적층체(11)는, 제1 위상차층(12)과, 제2 위상차층(13)과, 이들을 접착하는 제1 접착층(14)을 갖는다. 통상, 광학 필름(10)은, 위상차 적층체(11)를 보호하는 제1 보호층(15) 및 제2 보호층(16) 중 적어도 한쪽을 갖는다. 이하에서는, 따로 언급이 없는 한, 광학 필름(10)이 제1 보호층(15)과 제2 보호층(16)을 갖는 경우를 설명한다.
<제1 위상차층>
제1 위상차층(12)은, 예컨대 λ/2의 위상차를 부여하는 λ/2판(1/2 파장층)이다. 제1 위상차층(12)의 두께의 예는 1 ㎛∼3 ㎛이다. 제1 위상차층(12)의 면내 위상차(R0)의 예는 236 ㎚±4 ㎚, 234 ㎚±5 ㎚ 및 240 ㎚±5 ㎚를 포함한다. 상기 면내 위상차의 예는, 예컨대 파장 550 ㎚에 대한 예이다. 본 실시형태에 있어서의 면내 위상차는, 예컨대 AxoScan(Axometrics사 제조)에 의해 측정될 수 있다.
제1 위상차층(12)은, 1/2 파장층인 경우, 투광성을 갖는 열가소성 수지의 필름에, λ/2의 위상차를 부여하도록 연신 처리 등을 실시함으로써 제조될 수 있다. 이 경우, 제1 위상차층(12)은, 복굴절성 필름이다. 열가소성 수지의 예는, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스에스테르계 수지이다.
제1 위상차층(12)은, 기재 필름 상에, λ/2의 위상차를 부여하는 제1 액정층, 제1 배향층 등을 형성함으로써 제조되어도 좋다. 이 경우, 제1 액정층, 제1 배향층 등이 제1 위상차층(12)에 상당한다. 기재 필름은, 제1 위상차층(12)을 형성한 후, 박리되어도 좋다. 혹은, 상기 기재 필름도 제1 위상차층(12)의 구성 요소여도 좋다. 기재 필름의 예는, 제1 보호층(15)과 동일하다. 제1 보호층(15)이 기재 필름을 겸하여도 좋다.
<제2 위상차층>
제2 위상차층(13)은, 예컨대 λ/4의 위상차를 부여하는 λ/4판(1/4 파장층)이다. 제2 위상차층(13)의 두께의 예는, 0.1 ㎛∼2 ㎛이다. 제2 위상차층(13)의 면내 위상차(R0)의 예는, 116 ㎚±4 ㎚ 및 120 ㎚±5 ㎚를 포함한다. 제1 위상차층(12)의 면내 위상차가, 236 ㎚±4 ㎚ 또는 234 ㎚±5 ㎚인 경우, 제2 위상차층(13)의 면내 위상차는, 116 ㎚±4 ㎚일 수 있다. 제1 위상차층(12)의 면내 위상차가, 240 ㎚±5 ㎚인 경우, 제2 위상차층(13)의 면내 위상차는, 116 ㎚±4 ㎚일 수 있다. 상기 면내 위상차의 예는, 예컨대 파장 550 ㎚에 대한 예이다. 제2 위상차층(13)의 지상축[후술하는 제2 지상축(13a)]과 제1 위상차층(12)의 지상축[후술하는 제1 지상축(12a)]이 이루는 각도는, 광학 필름(10)이 원편광판으로서 기능하도록 배치되어 있으면 좋고, 통상 60°±1°이다.
제2 위상차층(13)은, 1/4 파장층인 경우, 투광성을 갖는 열가소성 수지의 필름에, λ/4의 위상차를 부여하도록 연신 처리 등을 실시함으로써 제조될 수 있다. 이 경우, 제2 위상차층(13)은, 복굴절성 필름이다. 열가소성 수지의 예는, 제1 위상차층(12)의 경우와 동일하다.
제2 위상차층(13)은, 기재 필름 상에, λ/4의 위상차를 부여하는 액정층, 배향층 등을 형성함으로써 제조되어도 좋다. 이 경우, 제2 액정층, 제2 배향층 등이 제2 위상차층(13)에 상당한다. 기재 필름은, 제2 위상차층(13)을 형성한 후, 박리되어도 좋다. 혹은, 상기 기재 필름도 제2 위상차층(13)의 구성 요소여도 좋다. 기재 필름의 예는, 제2 보호층(16)과 동일하다. 제2 보호층(16)이 기재 필름을 겸하여도 좋다.
제1 위상차층(12) 및 제2 위상차층(13)은, 위상차를 부여하는 층이라면, 특별히 한정되지 않으며, 각각 1/2 파장층, 1/4 파장층, 포지티브 C층 등이어도 좋고, 역파장 분산성을 나타내는 역위상차층이어도 좋다.
포지티브 C층의 면내 위상차 값[Re(550)]은 통상 0∼10 ㎚의 범위, 바람직하게는 0∼5 ㎚의 범위이고, 두께 방향의 위상차 값(Rth)은 통상 -10∼-300 ㎚의 범위, 바람직하게는 -20∼-200 ㎚의 범위이다.
광학 필름(10)은, 제1 위상차층(12)이 상기 λ/4층이고, 제2 위상차층(13)이 λ/2층인 광학 필름이어도 좋다.
광학 필름(10)은, 상기 제1 위상차층(12)이 상기 λ/4층이고 제2 위상차층(13)이 포지티브 C층인 광학 필름이어도 좋고, 상기 제1 위상차층(12)이 포지티브 C층이고, 제2 위상차층(13)이 상기 λ/4층인 광학 필름이어도 좋다.
광학 필름(10)은, 상기 제1 위상차층(12), 상기 제2 위상차층(13)에 더하여, 위상차층을 더 포함하는 광학 필름이어도 좋다. 예컨대, 상기 제1 위상차층(12)이 상기 λ/2층이고, 제2 위상차층(13)이 상기 λ/4층인 경우, 포지티브 C층이나 역위상차층을 더 포함하여도 좋다.
<제1 접착층>
제1 접착층(14)은, 제1 위상차층(12)과 제2 위상차층(13) 사이에 배치되어, 제1 위상차층(12) 및 제2 위상차층(13)을 접착하는 층이다. 제1 접착층(14)의 두께의 예는, 0.1 ㎛∼5.0 ㎛이고, 바람직하게는 0.5 ㎛∼4.0 ㎛이고, 더욱 바람직하게는 1.0 ㎛∼3.0 ㎛이다. 제1 접착층(14)은, 점착제 또는 접착제에 의해 형성할 수 있다. 제1 접착층(14)의 예는, 활성 에너지선 경화형 접착제의 경화층이다. 활성 에너지선 경화 접착제는, 자외선, 가시광, 전자선, X선 등의 활성 에너지선의 조사에 의해 경화하는 접착제이다.
제1 접착층(14)은, 경화성의 수지 성분을 물에 용해 또는 분산시킨 공지의 수계 접착제로 형성되어도 좋다. 수계 접착제에 함유되는 수지 성분으로서는, 폴리비닐알코올계 수지나 우레탄 수지 등을 들 수 있다. 폴리비닐알코올계 수지를 포함하는 수계 조성물은, 경화성 성분이나 가교제를 더 함유할 수 있다. 우레탄 수지를 포함하는 수계 조성물로서는, 폴리에스테르계 아이오노머형 우레탄 수지와 글리시딜옥시기를 갖는 화합물을 포함하는 수계 조성물을 들 수 있다. 폴리에스테르계 아이오노머형 우레탄 수지란, 폴리에스테르 골격을 갖는 우레탄 수지로서, 그 중에 소량의 이온성 성분(친수 성분)이 도입된 것이다.
상기 점착제로서는, 아크릴계 공중합체 및 가교제를 포함하는 아크릴계 점착제를 사용할 수 있다. 상기 아크릴계 공중합체는, 탄소수 1∼12의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴레이트 단량체와, 가교 가능한 관능기를 갖는 중합성 단량체를 라디칼 중합하여 제조할 수 있다. 상기 (메트)아크릴레이트는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트를 의미한다.
상기 탄소수 1∼12의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴레이트 단량체의 구체적인 예로서는, n-부틸(메트)아크릴레이트, 2-부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 메틸(메트)아크릴레이트, n-프로필(메트)아크릴레이트, 이소프로필(메트)아크릴레이트, 펜틸(메트)아크릴레이트, n-옥틸(메트)아크릴레이트, 이소옥틸(메트)아크릴레이트, 노닐(메트)아크릴레이트, 데실(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있고, 이들 중에서 n-부틸아크릴레이트, 메틸아크릴레이트 또는 이들의 혼합물이 바람직하다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 가교 가능한 관능기를 갖는 중합성 단량체는, 하기 가교제와의 화학 결합에 의해 점착제의 응집력 또는 점착 강도를 보강하여 내구성과 절단성을 부여하기 위한 성분으로서, 예컨대 히드록시기를 갖는 단량체, 카르복시기를 갖는 단량체, 아미드기를 갖는 단량체, 3차 아민기를 갖는 단량체 등을 들 수 있고, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
가교제는, 공중합체를 적절하게 가교함으로써 점착제의 응집력을 강화하기 위한 성분으로서, 그 종류는 특별히 한정되지 않는다. 예컨대, 이소시아네이트계 화합물, 에폭시계 화합물 등을 들 수 있고, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 점착제를 구성하는 각 성분을 아세트산에틸 등의 적당한 용제에 용해시켜 점착제 조성물을 얻고, 상기 점착제 조성물을 기재 상에 도포한 후에 건조시켜, 접착층이 형성된다. 일부 용제에 용해되지 않는 성분이 있는 경우에는, 이들은 계 중에 분산된 상태여도 좋다.
본 실시형태에 있어서, 제1 보호층(15) 및 제2 보호층(16)은, 위상차 적층체(11)의 양면에 마련되어 있다. 구체적으로는, 제1 보호층(15)은, 제1 위상차층(12)에서 보아 제1 접착층(14)과 반대측에 마련되어 있다. 제2 보호층(16)은, 제2 위상차층(13)에서 보아 제1 접착층(14)과 반대측에 마련되어 있다.
제1 보호층(15) 및 제2 보호층(16)의 재료의 예는, 환형 폴리오레핀계 수지; 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스 등의 아세트산셀룰로오스계 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트(PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; 폴리카보네이트계 수지 필름; (메트)아크릴계 수지; 폴리프로필렌계 수지 등, 당분야에 있어서 재료를 들 수 있다. 제1 보호층(15) 및 제2 보호층(16)의 두께의 예는, 30 ㎛∼100 ㎛이다. 제1 보호층(15) 및 제2 보호층(16)의 두께는 달라도 좋다.
광학 필름(10)은, 각 층을 준비한 후, 이들을 적층함으로써 형성될 수 있다. 각 층은, 형성 공정(S01)에서 제조하여도 좋고, 구입품을 사용하여도 좋다. 광학 필름(10)을 형성할 때, 예컨대 제1 위상차층(12)과 제2 위상차층(13)을 제1 접착층(14)을 통해 접합함으로써 위상차 적층체(11)를 형성한 후, 위상차 적층체(11)에 제1 보호층(15) 및 제2 보호층(16)을 접합하여도 좋다. 혹은, 제1 위상차층(12)에 제1 보호층(15)을 접합하며, 동시에 제2 위상차층(13)에 제2 보호층(16)을 접합한 후, 제1 위상차층(12)과 제2 위상차층(13)을 제1 접착층(14)을 통해 접합하여도 좋다.
형성 공정(S01)에서 제조하는 광학 필름(10)은, 도 3에 나타낸 광학 필름(10A)이어도 좋다. 광학 필름(10A)은, 제1 위상차층(12) 상에, 제2 접착층(18)을 통해 편광판(17)이 적층되어 있다는 점에서, 주로 광학 필름(10)과 상위하다. 이 상위점을 중심으로 광학 필름(10A)을 설명한다.
<편광판>
편광판(17)은, 직선 편광판이다. 편광판(17)은, 직선 편광 특성을 갖는 편광자를 갖는다. 편광판은, 편광자의 편면 또는 양면에 적층된 열가소성 수지 필름을 가져도 좋다.
편광자는, 예컨대 흡수 이방성을 갖는 색소를 흡착시킨 연신 필름(또는 연신층)이다. 흡수 이방성을 갖는 색소로서는, 예컨대 2색성 색소를 들 수 있다. 2색성 색소로서, 구체적으로는 요오드나 2색성의 유기 염료가 이용된다. 편광자의 재료의 예는, 폴리비닐알코올계 수지이다. 편광자는, 흡수 이방성을 갖는 색소를 기재 필름에 도포하여 경화시켜 이루어지는 층 등이어도 좋다. 기재 필름은, 편광자의 일부여도 좋고, 편광자를 형성한 후에 박리되어도 좋다. 기재 필름의 재료는, 열가소성 수지 필름과 동일하고, 열가소성 수지 필름이 기재 필름을 겸하여도 좋다.
편광자의 두께는, 통상 30 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 18 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 15 ㎛ 이하이다. 편광자의 두께는, 통상 1 ㎛ 이상이고, 예컨대 5 ㎛ 이상이어도 좋다.
열가소성 수지 필름의 재료의 예는, 제1 보호층(15)[또는 제2 보호층(16)]의 재료의 예와 동일하게 할 수 있다. 열가소성 수지 필름의 두께는, 바람직하게는 5 ㎛ 이상 150 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 5 ㎛ 이상 100 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 10 ㎛ 이상 50 ㎛ 이하이다.
편광판(17)의 흡수축과 제1 위상차층(12)의 지상축[후술하는 제1 지상축(12a)]의 각도는, 바람직하게는 71°∼74°이다.
<제2 접착층>
제2 접착층(18)은, 제1 접착층(14)과 동일한 접착제 또는 점착제로 형성된 층이어도 좋고, 다른 접착제 또는 점착제로 형성된 층이어도 좋다. 제2 접착층(18)은, 점착제에 의해 형성된 층이어도 좋다. 점착제의 예는, (메트)아크릴계 수지, 고무계 수지, 우레탄계 수지, 에스테르계 수지, 실리콘계 수지, 폴리비닐에테르계 수지 등을 주성분으로 하는 점착제 조성물이다. 제2 접착층(18)의 두께는, 예컨대 0.1 ㎛∼10 ㎛이다.
광학 필름(10A)은, 편광판(17) 상에, 제1 보호층(15A)을 가져도 좋다. 제1 보호층(15A)의 재료의 예는, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리프로필렌(PP), 폴리에틸렌(PE)을 포함한다. 제1 보호층(15A)의 두께의 예는, 30 ㎛∼100 ㎛이다.
광학 필름(10A)은, 광학 필름(10)의 경우와 마찬가지로, 각 층을 준비한 후, 이들을 적층함으로써 제조될 수 있다. 각 층은, 형성 공정(S01)에서 제조되어도 좋고, 구입품을 사용하여도 좋다.
이하에서는, 따로 언급하지 않는 한, 형성 공정(S01)에서 광학 필름(10)을 형성하고, 그것을 검사하는 경우를 설명한다.
[검사 공정]
검사 공정(S02)에서는, 제1 접착층(14)과 제1 위상차층(12)의 굴절률차 및 제1 접착층(14)과 제2 위상차층(13)의 굴절률차 중 적어도 한쪽에 기인하는 계면 반사, 제1 접착층(14)의 두께의 균일성 등의 영향으로 생기는 간섭 얼룩의 정도가 허용 범위인지의 여부를 검사한다.
도 4는 광학 필름(10)을 검사하는 검사 방법을 설명하기 위한 도면이다. 본 실시형태에서는, 제1 위상차층(12)측의 면[도 2의 구성에서는, 제1 보호층(15)의 표면]을 검사면(10a)으로 하고, 광원부(21) 및 검출부(22)를 갖는 검사 광학계(20)를 이용하여 광학 필름(10)을 검사한다. 검사 광학계(20)는, 광원부(21) 및 검출부(22)가, 광학 필름(10)에 대하여 동일한 측에 위치하는 반사 광학계이다. 검사 방법은, 도 1에 나타낸 바와 같이, 검출 공정(S02A)과, 판정 공정(S02B)을 갖는다.
<검출 공정>
검출 공정(S02A)에서는, 광학 필름(10)을 도 4의 흰 화살표 방향으로 반송하면서, 검사면(10a)에, 광원부(21)로부터 검사광(L1)을 조사하며, 동시에 광원부(21)로부터 조사되어 광학 필름(10)에서 반사된 광[이하, 「반사광(L2)」이라고 칭함]을, 검출부(22)에 의해 검출한다.
광학 필름(10)이 매엽형인 경우, 광학 필름(10)은, 예컨대 벨트 컨베이어로 반송될 수 있다. 광학 필름(10)이 장척인 경우, 광학 필름(10)은, 예컨대 반송롤 등으로 반송될 수 있다. 이하, 광학 필름(10)의 폭 방향(반송 방향에 직교하는 방향)을 TD 방향이라고 칭하고, 광학 필름(10)의 반송 방향을 MD 방향이라고 칭한다. 반송 속도의 예는, 1 m/min∼100 m/min이다.
검사 광학계(20)가 갖는 광원부(21) 및 검출부(22)를 설명한다.
광원부(21)는, 검사광(L1)을 출력한다. 검사광(L1)의 피크 파장은, 예컨대 400 ㎚∼750 ㎚이고, 바람직하게는 500 ㎚∼700 ㎚이고, 보다 바람직하게는 550 ㎚∼680 ㎚이고, 더욱 바람직하게는 600 ㎚∼650 ㎚이다.
검사광(L1)의 광원부(21)에 있어서의 조도는, 광원부(21)로부터의 거리가 15 ㎜인 위치에 있어서, 통상 1000∼25000[lx]이 되는 범위이고, 바람직하게는 1000~15000[lx]가 되는 범위이며, 보다 바람직하게는 5000∼10000[lx]이 되는 범위이다.
검사광(L1)은, 검사면(10a) 상의 1점에 조사되어도 좋고, 필름폭 전체에 걸쳐 조사되어도 좋다.
광원부(21)는, 예컨대 복수의 LED가 라인형으로 배치된 라인 LED 광원이다. 이 경우, 광원부(21)의 연장 방향은, 광학 필름(10)의 법선(n)에 직교하고 동시에, 예컨대 MD 방향에 직교하는 방향이다.
광원부(21)는, 검사면(10a)측에 배치되어 있다. 광원부(21)와 검사면(10a) 사이의 거리(d1)는, 통상 100 ㎜∼2000 ㎜이다. 거리(d1)는, 예컨대 광원부(21)의 광출사면과 검사면(10a) 사이의 거리이다. 광원부(21)의 광축과, 검사면(10a)의 법선(n)[광학 필름(10)의 두께 방향]의 각도(α1)[°]는, 통상 1°∼60°이고, 바람직하게는 5°∼50°이고, 더욱 바람직하게는 10°∼45°이다.
검출부(22)는, 검사면(10a)으로부터의 반사광(L2)을 수광한다. 검출부(22)는 2차원 휘도계이다. 검출부(22)의 예는, 영역 센서 카메라(2차원 센서 카메라)이고, 영역 센서 카메라의 예는, CCD 카메라이다. 검출부(22)는, 라인형의 휘도계(예컨대, 라인 센서 카메라)여도 좋다.
검출부(22)는, 검사면(10a)측에 있어서, 광학 필름(10)에 의해 검사광(L1)이 반사한 반사광(L2)을 수광 가능하게 배치되어 있다. 검출부(22)의 광축과 검사면(10a)의 법선(n)이 이루는 각도(α2)의 크기는, 각도(α1)의 크기와 실질적으로 동일하다. 검출부(22)와 검사면(10a) 사이의 거리(d2)의 예는, 100 ㎜∼2000 ㎜이다. 검출부(22)와 검사면(10a) 사이의 거리(d2)는, 검출부(22)의 수광면과 검사면(10a)의 거리일 수 있다.
본 실시형태의 검출 공정(S02A)에서는, 제1 편광 필터(23) 및 제2 편광 필터(24)를 사용한다. 제1 편광 필터(23) 및 제2 편광 필터(24)는 검사 광학계(20)의 일부여도 좋다.
제1 편광 필터(23) 및 제2 편광 필터(24)는, 직선 편광 특성을 갖는 필터이다. 제1 편광 필터(23)는, 광원부(21)와 광학 필름(10) 사이에 배치되어 있다. 제2 편광 필터(24)는, 광학 필름(10)과 검출부(22) 사이에 배치되어 있다. 따라서, 광원부(21)로부터 출력된 검사광(L1)은, 제1 편광 필터(23)를 통과하여 직선 편광광으로서 광학 필름(10)에 조사된다. 광학 필름(10)에서 반사된 검사광(L1)인 반사광(L2)은, 제2 편광 필터(24)를 통해 검출부(22)에 입사한다. 제1 편광 필터(23)는 검사광(L1)의 광로 상에 배치되어 있고, 제2 편광 필터(24)는 반사광(L2)의 광로 상에 배치되어 있으면, 제1 편광 필터(23) 및 제2 편광 필터(24)의 배치 위치는 한정되지 않는다. 단, 제1 편광 필터(23)는, 광원부(21)로부터 발생하는 열의 영향을 가미하여, 광원부(21)로부터 거리를 둔 쪽이 보다 바람직하다. 광원부(21)로부터 제1 편광 필터(23)까지의 거리는, 50 ㎜ 이상이 바람직하다.
도 5 및 도 6을 이용하여, 검사 공정(S02A)에서의 광학 필름(10), 제1 편광 필터(23) 및 제2 편광 필터(24)의 배치 관계를 설명한다. 배치 관계의 설명에 있어서, 제1 위상차층(12)의 면내 위상차는, 236 ㎚±4 ㎚ 또는 234 ㎚±5 ㎚이고, 제2 위상차층(13)의 면내 위상차는, 116 ㎚±4 ㎚이다. 혹은, 제1 위상차층(12)의 면내 위상차는 240 ㎚±5 ㎚이고, 제2 위상차층(13)의 면내 위상차는 120 ㎚±4 ㎚이다.
도 5는 광학 필름(10)이 갖는 제1 위상차층(12) 및 제2 위상차층(13)의 배치 관계를 설명하는 도면이다. 도 5에서는, 제1 위상차층(12)이 갖는 제1 지상축(12a)과, 제2 위상차층(13)이 갖는 제2 지상축(13a)의 관계로, 제1 위상차층(12)과 제2 위상차층(13)의 배치 관계를 나타내고 있다.
도 5 중의 x축 및 y축은, 검사면(10a)에 설정한 가상적인 축이다. x축 및 y축은 서로 직교하고 있으면 임의로 설정될 수 있다. 일례로서, x축 방향은 MD 방향이다. 제1 지상축(12a) 및 제2 지상축(13a)의 각도를 규정하기 위해, y축을 기준축(RA)으로 한다. 기준축(RA)에 대한 각도를 규정하는 경우, 광학 필름(10)을 검사면(10a)측에서 본 경우에 기준축(RA)에 대하여 반시계 방향(좌회전)을 양의 각도 방향으로 하고, 시계 방향(우회전)을 음의 각도 방향으로 한다.
도 5에 나타낸 바와 같이, 제1 지상축(12a)과 기준축(RA) 사이의 각도를 θ1로 하고, 제2 지상축(13a)과 기준축(RA) 사이의 각도를 θ2로 하고, 제1 지상축(12a)과 제2 지상축(13a) 사이의 각도를 θ3으로 하였을 때, 제1 위상차층(12) 및 제2 위상차층(13)은, 각도(θ1), 각도(θ2) 및 각도(θ3)가 하기의 조건 (1)∼조건 (3)을 만족하도록, 배치되어 있다.
(1) -40°<θ1<-10°
(2) +15°<θ2<+50°
(3) +55°<θ3<+65°
도 5에서는, θ1 및 θ2의 허용 범위를 해칭으로 나타내고 있다. 조건 (3)을 만족함으로써, 광학 필름(10)이 원편광판으로서 기능한다.
도 6은 광학 필름(10)에 대한 제1 편광 필터(23) 및 제2 편광 필터(24)의 배치 관계를 설명하는 도면이다. 도 6에서는, 제1 편광 필터(23)가 갖는 제1 흡수축(23a)과, 제2 편광 필터(24)가 갖는 제2 흡수축(24a)의 관계로, 제1 편광 필터(23)와 제2 편광 필터(24)의 배치 관계를 나타내고 있다. 도 6 중의 x축 및 y축은, 도 5 중의 x축 및 y축과 동일하다. 바꾸어 말하면, 도 6 중의 제1 흡수축(23a)은, 도 4에 있어서, 제1 편광 필터(23)를, 법선(n)과 직교하는 위치까지 이동[각도(α1)가 0°가 되도록 회전]시킨 상태로, 제1 편광 필터(23)의 제1 흡수축(23a)을 검사면(10a)에 투영한 축에 상당한다. 도 6 중의 제2 흡수축(24a)에 대해서도 동일하다.
도 6에 나타낸 바와 같이, 제1 흡수축(23a)과 기준축(RA) 사이의 각도를 θ4로 하고, 제2 흡수축(24a)과 기준축(RA) 사이의 각도를 θ5로 하고, 제1 흡수축(23a)과 제2 흡수축(24a) 사이의 각도를 θ6으로 하였을 때, 제1 편광 필터(23) 및 제2 편광 필터(24)는, 각도(θ4), 각도(θ5) 및 각도(θ6)가 하기의 조건 (4)∼조건 (6)을 만족하도록, 배치되어 있다.
(4) -20°<θ4<+20°
(5) +70°<θ5<+110°
(6) +70°<θ6<+110°
도 6에서는, θ4 및 θ5의 허용 범위를 해칭으로 나타내고 있다. 조건 (6)은, 제1 편광 필터(23) 및 제2 편광 필터(24)가 크로스 니콜 상태에 있는 점을, 제1 흡수축(23a) 및 제2 흡수축(24a)이 이상적으로 직교하고 있는 상태에 대하여 일정한 허용 범위를 고려하여 나타낸 식이다. 이하, 설명의 편의를 위해, 조건 (6)을 만족하는 제1 편광 필터(23) 및 제2 편광 필터(24)의 배치 관계를, 크로스 니콜 상태라고 칭한다.
조건 (1)∼조건 (6)의 각도(θ1)∼각도(θ6)는, 공통의 기준축(RA)에 대하여 규정되어 있기 때문에, 조건 (1)∼조건 (6)은, 검출 공정(S02A)에 있어서의 제1 위상차층(12), 제2 위상차층(13), 제1 편광 필터(23) 및 제2 편광 필터(24)의 배치 관계를 규정하고 있다. 도 5 및 도 6을 이용한 조건 (1)∼조건 (6)의 관계의 설명에서는, y축을 기준축(RA)으로 한다. 그러나, 기준축(RA)은 x축이어도 좋다. 바꾸어 말하면, 광학 필름(10)을 ±90° 또는 180° 회전시켜도 좋고, 제1 편광 필터(23) 및 제2 편광 필터(24)의 배치 관계를 반전시켜도 좋다.
광학 필름(10)의 형성 시에 있어서의 제1 위상차층(12) 및 제2 위상차층(13)의 배치 관계 및 광학 필름(10)의 검사 시에 있어서의 광학 필름(10), 제1 편광 필터(23) 및 제2 편광 필터(24)의 배치 관계를 조정함으로써, 조건 (1)∼조건 (6)의 각도(θ1)∼각도(θ6)가 실현될 수 있다.
도 4에 나타낸 바와 같이, 광학 필름(10)은, 배면판(지지판)(25) 상에 배치되어 있어도 좋다. 배면판(25)의 주면(25a)[광학 필름(10)측의 면]의 정반사율은, 예컨대 45% 이하이다. 배면판(25)은, 상기 예시한 범위의 정반사율을 갖는 재료로 형성된 판을 사용하여도 좋고, 판부재의 표면에 상기 예시한 범위의 정반사율을 갖는 재료의 예컨대 시트를 접합한 구성을 가져도 좋다.
<판정 공정>
판정 공정(S02B)에서는, 검출부(22)에 의해 검출된 반사광(L2)의 휘도에 기초하여, 광학 필름(10)에 있어서의 폭 방향(TD 방향)의 단면을 따른 휘도 분포를 취득한다. 계속해서, 휘도 분포에 기초하여 광학 필름(10)이 양품인지의 여부를 판정한다. 상기 휘도 분포는, 예컨대 해석 장치로 검출부(22)에 의해 취득한 휘도 데이터에 기초하여 작성될 수 있다. 해석 장치는, 예컨대 검출 방법을 실시하기 위한 전용의 장치여도 좋고, 해석용의 프로그램이 인스톨된 퍼스널 컴퓨터여도 좋다.
판정 공정(S02B)에서는, 휘도 분포에 표시되는 간섭 줄무늬(진폭의 변화)에 있어서, 간섭 얼룩을 판정 가능한 지표(판정 지표)에 따라 판정하면 좋다. 예컨대, 휘도 분포에 있어서의 최대 휘도에 대한 최소 휘도의 비[최소 휘도/최대 휘도](%)를 판정 지표로 하여 판정을 행하여도 좋고, 최대 휘도와, 휘도 분포의 평균값(평균 휘도)의 차[최대 휘도-평균 휘도]를 판정 지표로 하여 판정을 행하여도 좋다. 광학 필름(10)이 양품인지의 여부는, 판정 방법에 따라 예컨대 미리 실험 등에 따라 기준을 설정하면 좋다.
판정 공정(S02B)에서, 광학 필름(10)이 불량품이라고 판정된 경우[판정 공정(S02B)에서 「아니오」], 변경 공정(S03)을 실시한다.
[변경 공정]
변경 공정(S03)에서는, 광학 필름(10)의 형성 조건을 변경한다. 형성 조건의 변경은, 예컨대 제1 접착층(14)의 두께의 변경, 제1 접착층(14)의 하지가 되는 부재의 평탄성의 조정, 제1 접착층(14)의 재료인 접착제의 특성 등의 조정을 포함한다.
변경 공정(S03)을 실시한 경우, 재차 형성 공정(S01)을 실시한다. 판정 공정(S02B)에서 광학 필름(10)이 양품이라고 판정될 때까지, 형성 공정(S01), 검사 공정(S02) 및 변경 공정(S03)을 반복하면 좋다.
판정 공정(S02B)에서, 광학 필름(10)이 양품이라고 판정된 경우[판정 공정(S02B)에서 「예」], 회수 공정(S04)을 실시한다.
[회수 공정]
회수 공정(S04)에서는, 검사용의 광학 필름(10)을 형성한 경우와 동일한 조건으로, 광학 필름(10)을 형성하고, 형성된 광학 필름(10)을 회수하면 좋다. 예컨대, 광학 필름(10)이 장척이고, 검사 공정(S02)을, 형성 공정(S01)에서 형성한 광학 필름(10)을 반송하면서 실시하는 경우, 검사 공정(S02)을 거친 광학 필름(10)을, 예컨대 권취함으로써 광학 필름(10)을 회수하여도 좋다.
본 실시형태의 검사 방법에서는, 상기한 바와 같이, 광원부(21)로부터 검사광(L1)을 광학 필름(10)에 조사하고, 그 반사광(L2)을 검출부(22)에서 검출한다. 검출부(22)에서 검출된 반사광(L2)의 휘도 데이터에 기초하여 광학 필름(10)의 TD 방향에 있어서의 단면의 휘도 분포를 취득하고, 그 휘도 분포에 기초하여 광학 필름(10)의 양부를 판정한다. 그 때문에, 객관적으로 광학 필름(10)의 양부를 판정할 수 있다.
예컨대, 육안 검사를 행하는 경우, 검사 결과는, 검사자간의 개인차(보는 각도의 차이 등도 포함함), 동일한 검사자의 상태(예컨대, 컨디션, 검사 중의 피로 등) 및 광학 필름(10)의 제조 공장간의 차이 등이 생길 가능성이 있다. 이에 대하여, 본 실시형태의 광학 필름의 검사 방법에서는, 검사 광학계(20)와 광학 필름(10)의 배치 관계 및 사용하는 검사광(L1) 등이 고정되어 있고 또한 휘도 분포에 기초하여 판정을 행하기 때문에, 검사자간(또는 동일 검사자간)의 차이, 공장간의 검사 방법의 차이 등이 제거되어 있다. 그 때문에, 객관적으로 광학 필름(10)의 양부를 판정할 수 있다.
광학 필름(10)의 제조 방법에서는, 상기 검사 방법으로, 광학 필름(10)의 양부를 객관적으로 판정하기 때문에, 양품의 광학 필름(10)을 효율적으로 제조할 수 있다. 그 결과, 광학 필름(10)의 제조 수율이 향상한다.
광학 필름(10)의 제조 방법에서는, 전술한 검출 공정(S02A)과 판정 공정(S02B)을, 광학 필름(10)을 반송하면서 자동적으로 행하는 것이 가능하기 때문에, 불량품의 발생을 즉시 검출할 수 있다. 그 결과, 양품의 광학 필름(10)을 더욱 효율적으로 제조할 수 있다.
판정 공정(S02B)에서 사용하는 휘도 분포는, 반사광(L2)의 간섭 줄무늬를 나타내고 있다. 따라서, 휘도 분포에 기초하여 간섭 얼룩을 평가 가능하다.
휘도 분포에 있어서의 최대 휘도에 대한 최소 휘도의 비를, 판정 지표로서 사용하는 경우, 광학 필름(10)의 재료 등의 차이의 영향을 저감할 수 있다. 그 때문에, 상기 최대 휘도에 대한 최소 휘도의 비는, 범용성을 가질 수 있다.
제1 편광 필터(23) 및 제2 편광 필터(24)를 사용하는 경우, 검사면(10a)에서의 표면 반사의 영향을 저감할 수 있다. 광학 필름(10), 제1 편광 필터(23) 및 제2 편광 필터(24)가 상기 조건 (1)∼조건 (6)을 만족하도록 배치된 경우에, 표면 반사의 영향을 한층 더 저감할 수 있기 때문에, 제1 접착층(14)의 영향[제1 접착층(14)에 인접하는 층의 계면의 영향도 포함함]으로 생기는 간섭 얼룩을 더욱 정확하게 평가할 수 있다. 그 때문에, 광학 필름(10), 제1 편광 필터(23) 및 제2 편광 필터(24)가 상기 조건 (1)∼조건 (6)을 만족하도록 배치하여, 검출 공정(S02A)을 실시함으로써, 광학 필름(10)의 양부를 한층 더 정확하게 판정할 수 있다.
광원부(21)로부터 출력되는 검사광(L1)의 피크 파장이, 예컨대 400 ㎚∼750 ㎚, 바람직하게는 500 ㎚∼700 ㎚, 보다 바람직하게는 600 ㎚∼650 ㎚의 범위인 경우, 파장 영역이 한정되어 있기 때문에, 간섭 얼룩을 검지하기 쉽다. 또한, 휘도 분포의 최대값과 최소값이 데이터 상, 더욱 명확해진다. 이 관점에서도 간섭 얼룩을 더욱 검지하기 쉽다. 그 결과, 더욱 정확하게 광학 필름(10)의 양부를 판정할 수 있다.
광원부(21)와 광학 필름(10) 사이의 거리(d1)가 100 ㎜∼2000 ㎜인 경우, 검사 광학계(20)의 설치 스페이스를 축소할 수 있다. 또한, 반사광(L2)의 휘도가 향상하기 쉽다. 마찬가지로, 광학 필름(10)과 검출부(22) 사이의 거리(d2)가 100 ㎜∼2000 ㎜인 경우, 검사 광학계(20)의 설치 스페이스를 축소할 수 있다.
배면판(25)의 정반사율이 45% 이하이면, 배면판(25)으로부터의 반사의 영향을 저감할 수 있다. 그 결과, 더욱 정확하게 광학 필름(10)의 양부를 판정할 수 있다.
이하, 광학 필름(10)의 샘플을 이용한 실험예를 설명한다.
[실험예]
실험예에서는, 광학 필름(10)의 구체적인 샘플로서, 샘플(S1), 샘플(S2), 샘플(S3) 및 샘플(S4)을 준비하였다. 각 샘플의 폭은 1340 ㎜였다.
(샘플(S1))
샘플(S1)은, 도 2에 나타낸 구성을 가지고 있었다. 즉, 샘플(S1)은, 제2 보호층(16), 제2 위상차층(13), 제1 접착층(14), 제1 위상차층(12) 및 제1 보호층(15)을 가지고, 제2 위상차층(13), 제1 접착층(14), 제1 위상차층(12) 및 제1 보호층(15)이, 이 순서로 제2 보호층(16) 상에 적층되어 있었다. 샘플(S1)의 평면에서 본 형상은 직사각형이었다.
제1 보호층(15) 및 제2 보호층(16)은, 트리아세틸셀룰로오스 수지 필름이었다. 제1 보호층(15) 및 제2 보호층(16)의 두께는, 80 ㎛였다.
제1 위상차층(12)은 λ/2판이었다. 면내 위상차는 236 ㎚였다. 제2 위상차층(13)은 λ/4판이었다. 면내 위상차는 116 ㎚였다. 제1 위상차층(12)의 제1 지상축(12a)과 제2 위상차층(13)의 제2 지상축(13a) 사이의 각도(θ3)(도 5 참조)는 60°였다. 제1 위상차층(12)의 두께는 2 ㎛이고, 제2 위상차층(13)의 두께는 1 ㎛였다.
제1 접착층(14)의 재료는 에폭시 수지계 자외선 경화성 접착제(파장 589 ㎚에서의 굴절률이 1.54)였다. 제1 접착층(14)의 두께는 3.0 ㎛였다.
(샘플(S2))
샘플(S2)은, 제1 접착층(14)의 두께가 2.5 ㎛였던 점 이외에는, 샘플(S1)과 동일한 구성을 가지고 있었다.
(샘플(S3))
샘플(S3)은, 제1 접착층(14)의 두께가 2.0 ㎛였던 점 이외에는, 샘플(S1)과 동일한 구성을 가지고 있었다.
(샘플(S4))
샘플(S4)은, 제1 접착층(14)의 재료로서 에폭시 수지계 자외선 경화성 접착제(파장 589 ㎚에서의 굴절률이 1.51)를 사용한 점 및 제1 접착층(14)의 두께가 1.5 ㎛였던 점 이외에는, 샘플(S1)과 동일한 구성을 가지고 있었다.
준비한 샘플(S1∼S4)에 대하여, 도 4를 이용하여 설명한 검출 공정(S02A)을 실시하였다. 검사 대상이 다른 점 이외의 조건은 동일하기 때문에, 샘플(S1∼S4)을 샘플(S)이라고 칭하고, 실험예에 있어서의 검출 공정(S02A)을 구체적으로 설명한다.
광원부(21)로서, 복수의 적색 LED가 배치된 라인 광원을 이용하였다. 광원부(21)는, 검사 대상의 필름(샘플 S)에 있어서의 폭 중앙부에 검사광(L1)이 조사되도록 설치하였다. 검사광(L1)의 피크 파장은, 600 ㎚∼650 ㎚였다. 광원부(21)의 광축과 검사면(10a)의 법선(n) 사이의 각도(α1)는 20°였다. 마찬가지로, 검사면(10a)과의 법선(n)과 검출부(22)의 법선(n) 사이의 각도(α2)는, 20°였다. 광원부(21)와 검사면(10a) 사이의 거리는 135 ㎜였다. 검사면(10a)과 검출부(22) 사이의 거리(d2)는 760 ㎜였다. 또한, 검사광(L1)의 조도는, 광원부(21)으로부터의 거리가 15 ㎜인 위치에 있어서 6570[lx]이 되는 조도로 행하였다.
검출 공정(S02A)에서는, 영역 스캔 카메라(상품명: G0-5000M-PGE, JAI사 제조), 제1 편광 필터(23) 및 제2 편광 필터(24)를 사용하였다. 조건 (1)∼조건 (6)을 만족하도록, 샘플(S), 제1 편광 필터(23) 및 제2 편광 필터(24)를 배치하였다. 구체적으로는, 각도(θ1)∼각도(θ6)는 다음과 같았다.
각도(θ1): -26.5°
각도(θ2): 33.5°
각도(θ3): 60°
각도(θ4): 0°
각도(θ5): 90°
각도(θ6): 90°
샘플(S)을 반송 속도 500 ㎜/s로 반송하면서, 검출 공정(S02A)을 실시하였다.
도 7은 샘플(S1∼S4)의 검출 결과를 나타내는 도표이다. 도면 중의 휘도 분포는, 샘플(S1∼S4)의 짧은 길이 방향(폭 방향)의 중앙부에 있어서의 단면의 휘도 분포(폭 방향을 따른 휘도 분포)이다. 휘도 분포의 횡축은 폭 방향의 위치(단위: ㎜, 검출 부위의 일단에서의 위치를 0 ㎜로서 표시)를 나타내고, 종축은 휘도를 나타내고 있다.
도 7에 나타낸 휘도 분포에 있어서, 최대 휘도에 대한 최소 휘도의 비([최소 휘도/최대 휘도])(%)를 판정 지표로 하여, 육안 평가와의 관계를 검증하였다.
육안 평가에는, 다음의 샘플(S1a), 샘플(S2a), 샘플(S3a) 및 샘플(S4a)을 사용하였다. 샘플(S1a), 샘플(S2a), 샘플(S3a) 및 샘플(S4a)은, 샘플(S1), 샘플(S2), 샘플(S3) 및 샘플(S4)의 육안 평가용의 샘플에 대응한다.
(샘플(S1a))
도 8에 나타낸 바와 같이, 샘플(S1a)로서, 제3 접착층(32), 제2 위상차층(13), 제1 접착층(14), 제1 위상차층(12), 제2 접착층(18) 및 편광판(33)을 포함하는 광학 필름(30)을 제작하였다.
샘플(S1a)을 구성하는 제2 위상차층(13), 제1 접착층(14) 및 제1 위상차층(12)은, 샘플(S1)이 대응하는 층과 동일하였다. 제2 접착층(18)(두께 5 ㎛) 및 제3 접착층(32)(두께 25 ㎛)의 재료는 아크릴계 점착제였다. 즉, 제2 접착층(18) 및 제3 접착층(32)은 점착층이었다. 편광판(33)은, 도 3을 이용하여 설명한 편광판(17)과 동일한 직선 편광판이었다. 편광판(33)의 흡수축과 제1 위상차층(12)의 제1 지상축(12a) 사이의 각도는 72.1°∼72.9°였다.
육안 평가 시에는, 샘플(S1a)을 지지하기 위해, 제3 접착층(32)의 면을, 지지체로서의 흑아크릴판(31) 상에 배치하였다. 또한, 편광판(33)의 표면의 색 얼룩을 저감하기 위해, 편광판(33)의 면 상에 순서대로 수층(34)(두께 약 1 ㎜) 및 유리판(35)(두께 1.1 ㎜)을 적층하였다(도 8 참조).
(샘플(S2a∼S4a))
샘플(S2a∼S4a)로서의 광학 필름의 구성은, 샘플(S2∼S4)과 샘플(S1)의 차이와 동일한 차이를 갖는 점 이외에는, 광학 필름(30)의 구성과 동일하였다. 샘플(S2a∼S4a)을 육안 평가할 때에도, 샘플(S1a)의 경우와 마찬가지로, 샘플(S2a∼S4a)을 흑아크릴판(31) 상에 배치하고, 샘플(S2a∼S4a)이 갖는 편광판(33)의 면 상에, 수층(34) 및 유리판(35)을 적층하였다.
육안 평가는, 눈으로 본 결과를 1∼4로 평가하였다(숫자가 큰 쪽이 고평가). 육안 평가는, 4명이 미리 정한 육안 평가 방법에 따라 행하고, 각 샘플(S1a∼S4a)에 대한 4명의 평균을 각 샘플(S1a∼S4a)의 육안 평가 결과로서 채용하였다. 샘플(S1a)∼샘플(S4a)을 샘플(Sa)이라고 칭한 경우, 육안 평가는 다음과 같이 행하였다. 즉, 샘플(Sa)을, 수평면에 대하여 기울여 배치하였다. 상기 수평면에 직교하는 방향으로부터 샘플(Sa)에 3파장 형광등으로부터 광을 조사하였다. 기울여진 샘플(Sa)을 그 표면에 수직인 방향에서 보아, 상기 형광등으로부터 샘플(Sa)에 입사하여 반사된 광에 의한 간섭 얼룩을 육안 관찰하였다. 샘플(S1a)∼샘플(S4a)은, 샘플(S1∼S4)의 차이와 동일한 차이를 갖는 점 이외의 구성은 동일하였다. 그 때문에, 샘플(S1a)∼샘플(S4a)의 육안 평가의 차이는, 샘플(S1∼S4)의 육안 평가의 차이에 상당한다.
육안 평가와, 정량 평가[검출 공정(S02A)에서의 휘도 데이터를 이용한 평가]의 관계는 표 1과 같았다. 표 1의 결과로부터, 육안 평가와, 휘도 분포에 기초한 평가(정량 평가) 사이에, 높은 상관 관계를 갖는 것을 알았다. 즉, 검출 공정(S02A)을 실시하여 얻어지는 휘도 분포에 기초하여, 객관적으로 광학 필름(10)의 양부를 판정할 수 있다는 것을 검증할 수 있었다.
Figure pat00001
이상 설명한 실시형태와 함께, 여러 가지의 변형예를 설명하였다. 그러나, 본 발명은 상기 실시형태 및 여러 가지의 변형예에 한정되는 것이 아니며, 청구범위에 의해 나타나며, 청구범위와 균등의 의미 및 범위 내에서의 모든 변경이 포함되는 것이 의도된다.
예컨대, 광학 필름(10)의 검사면(10a)은, 제2 위상차층(13)측의 면[도 2 및 도 3에 나타낸 구성에서는, 제2 보호층(16)의 표면]이어도 좋다. 광학 필름(10)을 이용하여, 검사 공정(S02) 이후를 설명하였지만, 광학 필름(10) 대신에 광학 필름(10A)을 이용하여도 좋다. 광학 필름은, 제1 위상차층과 제2 위상차층과, 이들을 접착하는 접착층을 가지고 있으면 좋다.
제1 위상차층은 λ/2의 위상차를 부여하는 층에 한정되지 않고, 제2 위상차층은 λ/4의 위상차를 부여하는 층에 한정되지 않는다. 제1 위상차층 및 제2 위상차층이 부여하는 위상차는, 이들을 포함하는 광학 필름의 원하는 광학 특성을 실현할 수 있도록 설정된 위상차이면 좋다. 제1 위상차층 및 제2 위상차층이 각각 λ/2 및 λ/4의 위상차를 부여하는 층이 아닌 경우, 조건 (1)∼조건 (6)에 상당하는 조건은, 제1 위상차층 및 제2 위상차층이 부여하는 위상차에 따라, 광학 필름의 양부 판정에 알맞도록 설정되면 좋다.
검출 공정에서는, 광학 필름을 반송하지 않아도 좋다.
본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서, 전술한 여러 가지의 실시형태 및 변형예는 적절하게 조합되어도 좋다.
10, 10A…광학 필름
10a…검사면
11…위상차 적층체
12…제1 위상차층
12a…제1 지상축
13…제2 위상차층
13a…제2 지상축
14…제1 접착층
15, 15A…제1 보호층
16…제2 보호층
17…편광판
18…제2 접착층
20…검사 광학계
21…광원부
22…검출부
23…제1 편광 필터
23a…제1 흡수축
24…제2 편광 필터
24a…제2 흡수축
25…배면판
25a…배면판의 주면

Claims (11)

  1. 제1 위상차층과 제2 위상차층과 상기 제1 위상차층 및 제2 위상차층 사이에 배치되는 제1 접착층을 갖는 광학 필름의 검사면에, 상기 검사면측에 배치된 광원부로부터 검사광을 조사하며, 동시에 상기 광원부로부터 조사되어 상기 광학 필름에서 반사된 광을, 상기 검사면측에 배치된 검출부에 의해 검출하는 검출 공정과,
    상기 검출부에 의해 검출된 광의 휘도에 기초하여, 상기 광학 필름에 있어서의 단면을 따른 휘도 분포를 취득하고, 상기 휘도 분포에 기초하여 광학 필름이 양품인지의 여부를 판정하는 판정 공정
    을 구비하는 광학 필름의 검사 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 광학 필름을 반송하면서 검출 공정 및 판정 공정을 행하는 광학 필름의 검사 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 단면은 광학 필름의 폭 방향에 있어서의 단면인 광학 필름의 검사 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 검출 공정에서는, 상기 광원부로부터의 상기 검사광을, 제1 편광 필터를 통하여 상기 검사면에 조사하며, 동시에 상기 광원부로부터 상기 광학 필름에 조사되어 상기 광학 필름에서 반사된 광을, 제2 편광 필터를 통하여 상기 검출부에 의해 검출하는 광학 필름의 검사 방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 제1 위상차층 및 상기 제2 위상차층 중 한쪽은 1/2 파장층이고 다른 쪽은 1/4 파장층이며,
    서로 직교하는 x축 및 y축을 상기 검사면에 가상적으로 설정하고, 상기 검사면측에서 보아 상기 x축 및 상기 y축 중 한쪽을 기준축으로 하고, 상기 기준축에 대하여 반시계 방향을 양의 각도 방향이라고 칭한 경우에 있어서,
    상기 제1 위상차층의 제1 지상축(遲相軸) 및 상기 제2 위상차층의 제2 지상축이 하기 조건 (1)∼(3)을 만족하도록, 상기 광학 필름에 있어서, 상기 제1 위상차층 및 상기 제2 위상차층이 배치되어 있고,
    상기 제1 편광 필터의 제1 흡수축 및 상기 제2 편광 필터의 제2 흡수축이 하기 조건 (4), (5) 및 (6)의 조건을 만족하도록, 상기 제1 편광 필터 및 상기 제2 편광 필터가 상기 광학 필름에 대하여 배치되어 있는 광학 필름의 검사 방법:
    (1) -40°<θ1<-10°(θ1은 상기 제1 지상축과 상기 기준축 사이의 각도)
    (2) +15°<θ2<+50°(θ2는 상기 제2 지상축과 상기 기준축 사이의 각도)
    (3) +55°<θ3<+65°(θ3은 상기 제1 지상축과 상기 제2 지상축 사이의 각도)
    (4) -20°<θ4<+20°(θ4는 상기 제1 흡수축 및 상기 제2 흡수축 중 한쪽과 상기 기준축 사이의 각도)
    (5) +70°<θ5<+110°(θ5는 상기 제1 흡수축 및 상기 제2 흡수축 중 다른쪽과 상기 기준축 사이의 각도)
    (6) +70°<θ6<+110°(θ6은 상기 제1 흡수축과 상기 제2 흡수축 사이의 각도)
  6. 제5항에 있어서, 상기 광학 필름은,
    적층 방향에 있어서, 상기 1/2 파장층에서 보아 상기 1/4 파장층과 반대측에 위치하는 편광판과,
    상기 편광판과 상기 1/2 파장층 사이에 위치하는 제2 접착층
    을 갖는 광학 필름의 검사 방법.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1 접착층은 활성 에너지선 경화형 접착제의 경화층인 광학 필름의 검사 방법.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 필름을 반송하면서 상기 검출 공정을 실시하는 광학 필름의 검사 방법.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 검사광의 피크 파장은 400 ㎚∼750 ㎚의 범위 내인 광학 필름의 검사 방법.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 필름을 지지판의 주면 상에 배치한 상태로 상기 검출 공정을 실시하고,
    상기 주면의 정반사율이 45% 이하인 광학 필름의 검사 방법.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름의 검사 방법을 포함하는 광학 필름의 제조 방법.
KR1020200057251A 2019-05-15 2020-05-13 광학 필름의 검사 방법 및 광학 필름의 제조 방법 KR20200132731A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2019-091996 2019-05-15
JP2019091996 2019-05-15

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20200132731A true KR20200132731A (ko) 2020-11-25

Family

ID=73337549

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200057251A KR20200132731A (ko) 2019-05-15 2020-05-13 광학 필름의 검사 방법 및 광학 필름의 제조 방법

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP7383559B2 (ko)
KR (1) KR20200132731A (ko)
CN (1) CN111948176B (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102486442B1 (ko) * 2019-06-07 2023-01-09 주식회사 엘지화학 편광판의 액정얼룩 검사장치 및 편광판의 액정얼룩 검사방법

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3331624B2 (ja) * 1992-06-17 2002-10-07 カシオ計算機株式会社 位相差測定方法
JPH11231129A (ja) * 1997-11-17 1999-08-27 Sumitomo Chem Co Ltd 光学フィルム積層中間体およびその製造方法ならびに光学フィルム積層チップの製造方法
JP2001066598A (ja) * 1999-08-26 2001-03-16 Fujitsu Ltd 反射型液晶表示装置
JP4229932B2 (ja) * 2004-07-28 2009-02-25 日東電工株式会社 偏光フィルムの製造方法
JP2006078426A (ja) * 2004-09-13 2006-03-23 Konica Minolta Holdings Inc 欠陥検査装置、欠陥検査方法
EP1869399A2 (en) * 2005-04-11 2007-12-26 Zetetic Institute Apparatus and method for in situ and ex situ measurement of spatial impulse response of an optical system using phase-shifting point-diffraction interferometry
JP4869053B2 (ja) * 2006-01-11 2012-02-01 日東電工株式会社 積層フィルムの製造方法、積層フィルムの欠陥検出方法、積層フィルムの欠陥検出装置、積層フィルム、及び画像表示装置
JP4878223B2 (ja) * 2006-06-16 2012-02-15 国立大学法人東京農工大学 核酸と蛋白質の相互作用の検出方法及び装置
JP2008082811A (ja) * 2006-09-27 2008-04-10 Japan Steel Works Ltd:The 薄膜の光学特性測定方法および光学特性測定装置
JP2012032346A (ja) * 2010-08-02 2012-02-16 Meiryo Technical Co Ltd 光学素子評価方法および光学素子評価装置
JP5422620B2 (ja) * 2011-08-31 2014-02-19 富士フイルム株式会社 パターン化位相差フィルムの欠陥検出装置及び方法、並びに製造方法
JP2015129706A (ja) * 2014-01-08 2015-07-16 三菱レイヨン株式会社 微細凹凸構造を表面に有する物品の検査装置および検査方法、並びに微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法
JPWO2016002624A1 (ja) * 2014-06-30 2017-04-27 住友化学株式会社 検出装置、検出方法、処理装置および処理方法
JP6690907B2 (ja) * 2014-09-30 2020-04-28 住友化学株式会社 光学積層体、複合偏光板及び液晶表示装置
JP6750793B2 (ja) * 2016-04-26 2020-09-02 レーザーテック株式会社 膜厚測定装置及び膜厚測定方法
JP2018017996A (ja) * 2016-07-29 2018-02-01 日東電工株式会社 位相差層付偏光板および有機el表示装置
JP2018155907A (ja) * 2017-03-17 2018-10-04 大日本印刷株式会社 光学フィルム、画像表示装置
JP6948215B2 (ja) * 2017-10-11 2021-10-13 住友化学株式会社 欠陥検査装置、欠陥検査方法、及び、フィルムの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW202101042A (zh) 2021-01-01
JP7383559B2 (ja) 2023-11-20
CN111948176A (zh) 2020-11-17
CN111948176B (zh) 2024-03-26
JP2020190553A (ja) 2020-11-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6042576B2 (ja) 偏光板の製造方法
KR101394690B1 (ko) 광학 필름을 갖는 시트상 제품의 결점 검사 장치, 그 검사 데이터 처리 장치, 그 절단 장치 및 그 제조 시스템
KR101369534B1 (ko) 검사 데이터 처리 장치 및 검사 데이터 처리 방법
TW201113598A (en) Method and system for continuously manufacturing liquid-crystal display element
KR101757062B1 (ko) 편광판 및 액정 표시 장치
JP5671571B2 (ja) 光学フィルムを有するシート状製品の検査データ処理装置および切断装置
KR20130103391A (ko) 광학적 표시장치
WO2021124645A1 (ja) 検査方法、検査装置、及び検査システム
WO2015182541A1 (ja) 積層偏光フィルムの欠陥検査方法、製造方法および製造装置
KR20200132731A (ko) 광학 필름의 검사 방법 및 광학 필름의 제조 방법
WO2021124647A1 (ja) 検査方法、検査装置、及び検査システム
JP2008292201A (ja) 積層フィルムの検査方法及び積層フィルムの検査装置
JP7474569B2 (ja) 検査方法及び検査装置
JP7369609B2 (ja) 検査方法、検査装置、及び検査システム
TWI839517B (zh) 光學膜的檢查方法及光學膜的製造方法
JP7286693B2 (ja) 偏光板の欠陥検査方法
WO2022163381A1 (ja) 欠陥検査方法及び欠陥検査装置
CN116519711A (zh) 检查方法
JP2023111431A (ja) 長尺光学フィルムの検査方法
TW202217285A (zh) 檢查方法
KR20210070930A (ko) 검사 방법, 광학 필름 검사 장치 및 광학 부품의 제조 방법
CN115015280A (zh) 缺陷检查方法及缺陷检查装置
KR20080099542A (ko) 편광판 및 편광판 검사 시스템

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination