KR20200119868A - 흑색 구조체, 및 그것을 구비한 자발광 화상 표시 장치 - Google Patents

흑색 구조체, 및 그것을 구비한 자발광 화상 표시 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20200119868A
KR20200119868A KR1020207026475A KR20207026475A KR20200119868A KR 20200119868 A KR20200119868 A KR 20200119868A KR 1020207026475 A KR1020207026475 A KR 1020207026475A KR 20207026475 A KR20207026475 A KR 20207026475A KR 20200119868 A KR20200119868 A KR 20200119868A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
black
layer
light
image display
self
Prior art date
Application number
KR1020207026475A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102482178B1 (ko
Inventor
마코토 가모
슌타로 이부키
šœ타로 이부키
Original Assignee
후지필름 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 후지필름 가부시키가이샤 filed Critical 후지필름 가부시키가이샤
Publication of KR20200119868A publication Critical patent/KR20200119868A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102482178B1 publication Critical patent/KR102482178B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/118—Anti-reflection coatings having sub-optical wavelength surface structures designed to provide an enhanced transmittance, e.g. moth-eye structures
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/003—Light absorbing elements
    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • G09F9/30—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • G09F9/30—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
    • G09F9/33—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements being semiconductor devices, e.g. diodes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/075—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00
    • H01L25/0753—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00 the devices being arranged next to each other
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/86—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
    • H10K50/865—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light comprising light absorbing layers, e.g. light-blocking layers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/58—Optical field-shaping elements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

표면 반사율이 낮게 억제된 흑색 구조체, 및 그것을 구비하는 자발광 표시 장치를 제공한다. 흑색 구조체는, 시인 측으로부터의 광선을 흡수하는 흑색층과, 시인 측과는 역측으로부터 입사하는 광을 투과하는 투광부를 동일면 내에 갖는 흑색 구조체로서, 흑색층의 시인 측 표면에, 380nm 이하의 주기를 갖는 미세 요철 구조를 갖고, 흑색층은, 미세 요철 구조를 갖는 면과 반대 측의 면에서 기재에 접합되어 있으며, 본 발명의 자발광 화상 표시 장치는, 자발광 화상 표시 패널과, 흑색층과 투광부를 동일면 내에 갖는 흑색 구조체를 포함하는 자발광 화상 표시 장치로서, 흑색층은, 시인 측 표면에 마련된 미세 요철 구조를 갖고, 미세 요철 구조를 갖는 면과 반대 측의 면에서 화상 표시 패널과 대향하고 있으며, 투광부는 자발광 화상 표시 패널의 발광 소자의 상방에 마련되어 있다.

Description

흑색 구조체, 및 그것을 구비한 자발광 화상 표시 장치
본 발명은, 흑색 구조체, 및 그것을 구비한 자발광 화상 표시 장치에 관한 것이다.
종래, 액정 표시 장치에서는 액정 셀 내에 컬러 필터를 마련하여 풀 컬러 표시를 행하고 있었다. 또, 컬러 필터 내에 화소를 구획하는 흑색층(블랙 매트릭스라고도 칭해짐)을 마련하여 화소끼리의 혼색이나 광 누출을 억제하고, 또한 TFT(thin film transistor) 소자나 배선과 같은 비표시 영역이 관찰자로부터 육안으로 확인되지 않도록 덮어 가리는 역할을 겸하고 있었다(특허문헌 1 참조).
일반적으로 컬러 필터 및 흑색층은 액정 셀을 구성하는 기판 상(주로는 유리 기판)에 형성되어 있으며, 또한 기판의 관찰자 측에는 편광판이나 표면 필름이 존재하여 그 표면 반사가 표시 콘트라스트를 저하시키는 주된 원인이 된 것, 흑색층이 표시 영역 전체에 차지하는 비율도 작은 점에서, 흑색층의 시인 측 계면이 갖는 반사는 지금까지 중요시된 경우가 없었다.
특허문헌 1: 일본 공개특허공보 평6-347778호
그러나 최근, 자발광 화상 표시 장치의 보급에 따라, 다시 흑색층이 다루어지고 있다. 자발광 화상 표시 장치는, 화소 자체가 풀 컬러로 점멸하여 컬러 필터는 원칙적으로 필요없지만, 여전히 구동용 회로는 패널 상에 존재하고, 그들이 외부로부터의 광을 반사하여 표시 콘트라스트를 낮추기 때문이다. 유기 EL 표시 장치에서는 시인 측에 원편광판을 마련하여 외부로부터의 광이 패널 상의 전극 등으로 반사하는 것을 방지하고 있지만, 동시에 표시 휘도도 저하되는 결점이 있었다.
이 때문에, 흑색층을 패널 표면에 마련하여 비발광 영역을 덮은 흑색 구조체를 마련하여 표시 콘트라스트의 향상을 검토한바, 휘도의 점에서 우수한 것이 얻어지는 반면, 종래 알려진 블랙 매트릭스 재료에서는, 흑색층의 표면 반사율의 점에서 아직도 개선의 여지가 있는 것을 알 수 있었다.
따라서, 본 발명은, 표면 반사율이 낮게 억제된 흑색 구조체, 및 그것을 구비하는 자발광 표시 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.
발명자들은, 종래의 블랙 매트릭스 재료에서는 바람직한 특성이 얻어지지 않았던 이유로서, 종래의 재료는 주로 시인 측에서 유리와 접하여 사용되는 것을 전제로 굴절률 분포, 흡광 특성이나 재료가 설계되어 있어, 단순하게 이들을 자발광형의 화상 표시 패널 전면에 마련한 것만으로는 만족할 수 있는 특성은 얻을 수 없다고 생각했다. 또, 표면에 유전체 다층막을 마련하여 저반사화를 도모하는 방법은 경사 시야 방향에서 색조가 변화하기 쉽고, 또, 별도 저굴절률층을 마련하는 방법으로는 충분한 반사율 저감이 도모되지 않는 난점이 있었다.
따라서, 발명자들은 예의 검토한 결과, 흑색 구조체의 표면 상에 미세 요철 구조를 부여함으로써 상술한 과제를 극복할 수 있는 것을 발견했다.
즉, 이하의 구성에 의하여 상기 과제를 달성할 수 있는 것을 발견했다.
[1] 시인 측으로부터의 광선을 흡수하는 흑색층과, 시인 측과는 역측으로부터 입사하는 광을 투과하는 투광부를 동일면 내에 갖는 흑색 구조체로서, 흑색층의 시인 측 표면에, 380nm 이하의 주기를 갖는 미세 요철 구조를 갖고, 흑색층은, 미세 요철 구조를 갖는 면과 반대 측의 면에서 기재에 접합되어 있는, 흑색 구조체.
[2] 투광부가 투명 재료로 충전되어 있는 [1]의 흑색 구조체.
[3] 흑색층의 시인 측 표면과 투명 재료로 충전되어 있는 투광부의 시인 측 표면이 동일 평면 상에 있고, 흑색층 상에 마련된 미세 요철 구조와 동일한 미세 요철 구조가 투광부의 시인 측 표면 상에도 마련되어 있는 [2]의 흑색 구조체.
[4] 미세 요철 구조가, 바인더 수지층 내에 매립된 평균 1차 입경 100~250nm의 미립자로 이루어지는 모스아이 구조로 구성되어 있는, [1] 내지 [3] 중 어느 하나의 흑색 구조체.
[5] 자발광 화상 표시 패널과, 흑색층과 투광부를 동일면 내에 갖는 흑색 구조체를 포함하는 자발광 화상 표시 장치로서, 흑색층은, 시인 측 표면에 마련된 미세 요철 구조를 갖고, 미세 요철 구조를 갖는 면과 반대 측의 면에서 화상 표시 패널과 대향하고 있으며, 투광부가 자발광 화상 표시 패널의 발광 소자의 상방에 마련되어 있는, 자발광 화상 표시 장치.
[6] 자발광 화상 표시 패널의 표면은, 연속한 투명층으로 피복된 것이며, 투광층의 시인 측 표면에 흑색 구조체가 마련되어 있는, [5]의 자발광 화상 표시 장치.
[7] 흑색 구조체의 투광부가, 투명 재료로 충전되어 있는 [6]의 자발광 화상 표시 장치.
[8] 투명층과, 투명 재료로 충전된 투광부가 일체로 형성되어 있는 [7]의 자발광 화상 표시 장치.
[9] 흑색층의 시인 측 표면과 투광부의 시인 측 표면이 동일 평면 상에 있고, 흑색층 상에 마련된 380nm 이하의 주기를 갖는 미세 요철 구조와 동일한 미세 요철 구조가 투광부의 시인 측 표면 상에도 마련되어 있는 [8]의 자발광 화상 표시 장치.
[10] 미세 요철 구조가, 바인더 수지층 내에 매립된 평균 1차 입경 100~250nm의 미립자로 이루어지는 모스아이 구조로 구성되어 있는, [5] 내지 [9] 중 어느 하나의 자발광 화상 표시 장치.
본 발명에 의하면, 표면 반사율이 낮게 억제된 흑색 구조체, 및 그것을 구비하고, 표면 반사율이 낮으며 비표시 시의 칠흑성이 높아, 표시 콘트라스트가 우수한 자발광 표시 장치를 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 흑색 구조체 및 시인 측으로부터의 광, 표시광의 모습을 나타낸 개념도이다.
도 2에 있어서 (a)~(c)는, 본 발명에 있어서의 흑색층의 형성 방법을 나타낸 개념도이다.
도 3은 본 발명에 이용할 수 있는 미세 요철 구조의 형성 방법의 일례를 나타낸 개념도이다.
도 4는 본 발명에 이용할 수 있는 미세 요철 구조의 형성 방법의 일례를 나타낸 개념도이다.
도 5에 있어서 (a)~(c)는, 투광부가 투명 재료 혹은 투명 수지층으로 충전되어 있는 형태를 나타내는 단면도이다.
도 6은 흑색층 상에 실제로 작성된 미세 요철 구조 α를 시인 측으로부터 전자 현미경으로 촬영한 일례이다.
도 7은 본 명세서에 있어서의 제조예 1 및 제조예 2에서 작성한 흑색층의 반사 스펙트럼이다.
이하, 본 발명에 대하여 상세하게 설명한다.
이하에 기재하는 구성 요건의 설명은, 본 발명의 대표적인 실시형태에 근거하여 이루어지는 경우가 있지만, 본 발명은 그와 같은 실시형태에 한정되는 것은 아니다.
또한, 본 명세서에 있어서, "~"를 이용하여 나타나는 수치 범위는, "~"의 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 범위를 의미한다.
[흑색 구조체]
본 발명의 흑색 구조체는, 시인 측으로부터의 광선을 흡수하는 흑색층과, 시인 측과는 역측으로부터 입사하는 광을 투과하는 투광부를 동일면 내에 갖는 흑색 구조체로서, 상기 흑색층의 시인 측 표면에, 380nm 이하의 주기를 갖는 미세 요철 구조를 갖는, 흑색 구조체이다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 흑색 구조체(1)의 흑색층(2)은 미세 요철 구조(3)가 마련되어 있지 않은 측에서 임의의 기재(4)와 직접 또는 접착층 등의 다른 층을 통하여 접할 수 있다. 흑색층(2)은 시인 측으로부터 입사하는 광(5)을 흡수하는 역할을 갖고, 미세 요철 구조(3)는 흑색층(2)에 있어서의 시인 측 표면에서의 반사(6)를 저감시킨다. 투광부(7)는, 시인 측과는 역측에 마련된 광원으로부터 방사되는 광(8)을 투과시킨다.
발명자들은 표면 반사가 적고 시인 측으로부터의 입사광을 효율적으로 흡수하는 흑색 구조체를 실현하기 위하여 각종 검토를 행한 결과, 미세 요철 구조에 의한 반사율 저감 구조를 채용하면 흑색 구조체가 높은 칠흑성을 나타내는 것을 발견하여, 본 발명에 이른 것이다.
일반적으로 반사율 저감 구조는 간섭을 이용한 방법(예를 들면 유전체 다층막이나, 막두께를 제어한 저굴절률층을 마련하는 방법)과, 굴절률의 변조를 이용하는 방법(예를 들면 가시광 파장보다 미세한 구조체를 이용하는 방법)이 있지만, 발명자들은, 광대역에서 반사 특성이 균일하여 시야각 의존성이 없는 점에서, 굴절률의 변조를 이용하는 쪽이 유리하다고 생각하고 있다. 또, 본 발명에 설명하는 방식이면, 얇아도 충분한 굴절률의 변조를 양호한 재현성으로 부여할 수 있다. 일단 흑색층 내에 입사한 광은 내부에서 흡수와 산란·굴절·반사를 반복하는 동안에 거의 모두가 소쇠(消衰)하기 때문에, 우수한 흑색(칠흑성)을 나타낼 수 있다고 생각하고 있다.
이하에서는, 흑색 구조체를 구성하는 흑색층, 및 미세 요철 구조에 대하여, 재료 및 형성 방법의 일례를 들면서 상세하게 설명한다.
〔흑색층〕
본 발명의 흑색 구조체를 구성하는 흑색층은, 공지의 흑색 재료를 제한없이 이용할 수 있다. 흑색층의 광학 농도(OD)값은, 1.5/μm 이상인 것이 바람직하고, 3.0/μm 이상이면 보다 바람직하다. 이러한 흑색 재료는, 예를 들면 표면을 흑화 처리한 크로뮴, 니켈, 알루미늄 등의 금속 재료 피막이나 흑색 수지층을 이용할 수 있다. 시각적으로 보다 뉴트럴인 흑색을 나타내는 점에서, 흑색 수지층을 이용하는 것이 바람직하다. 흑색 수지층은, 흑색 조성물로 형성할 수 있다. 이하, 흑색 조성물에 대하여 설명한다.
<흑색 조성물>
본 발명에 이용할 수 있는 흑색 조성물은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 흑색 안료 및 바인더 전구체를 포함할 수 있다. 또, 필요에 따라 그 외의 성분을 포함하고 있어도 된다. 흑색 조성물은 감광성이어도 되고 비감광성이어도 된다. 그 형성 방법은 특별히 한정되지 않고, 이용하는 흑색 조성물의 특성에 따라, 인쇄법, 잉크젯법, 포토리소그래피, 전사법, 및 그들에게 가열이나 노광을 조합함으로써 형성할 수 있다.
흑색 안료로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 카본 블랙을 비롯한 카본계 흑색 안료, 유기 흑색 안료 등이 적절히 이용된다. 카본 나노 튜브나 그래파이트 등의, 카본 나노 재료 중 흑색을 나타내는 것도 이용할 수 있다. 이들의 흑색 안료는, 바인더에 대한 분산성 개량이나 표면의 전자 상태를 제어하여 색조의 조정을 도모하기 위하여, 다양한 표면 처리를 실시할 수 있다.
흑색 안료에 더하여, 흑색층의 광차폐성을 높이는 것, 혹은 색조의 보정을 목적으로, 다양한 보조 안료를 더할 수 있다. 보조 안료로서, 흑색 유기 안료로서는, 페릴렌 블랙, 아닐린 블랙 등을, 혼색 유기 안료로서는, 적색, 청색, 녹색, 자색, 황색, 마젠다, 사이안 등으로부터 선택되는 적어도 2종류 이상의 안료를 혼합하여 유사 흑색화된 것을, 무기 안료로서는, 그래파이트, 및 타이타늄, 구리, 철, 망가니즈, 코발트, 크로뮴, 니켈, 아연, 칼슘, 은 등의 금속 미립자, 금속 산화물, 복합 산화물, 금속 황화물, 금속 질화물 등을 들 수 있다. 흑색 조성물로부터 얻어지는 흑색층은, 첨가하는 안료의 농도나 분산 상태에 의하여 "브론즈 현상"이라고 불리는 경사 방향에서의 반사 색조의 변화를 따르는 경우가 있지만, 이들의 보조 안료를 적절히 선택함으로써, 어느 각도로부터도 칠흑성이 우수한 흑색층을 실현할 수 있다.
바인더 전구체로서는 다양한 유기 고분자 재료, 중합성 모노머, 가교제의 조합을 이용할 수 있지만, 패턴의 에지를 정밀하게 제어할 수 있는 점에서, 감광성의 바인더 전구체를 이용하는 것이 바람직하다. 감광성의 바인더 전구체는 포지티브형이어도 되고 네거티브형이어도 된다. 미노광부의 제거는, 다양한 에칭 프로세스를 적용할 수 있어, 범용성이 우수한 점에서 알칼리 현상액에 의한 에칭을 이용할 수 있다.
감광성의 바인더 전구체로서, 알칼리 현상성을 갖는 감광성의 바인더 전구체를 이용하면, 알칼리 현상에 의한 에칭이 가능하다. 알칼리 현상성을 갖는 감광성의 바인더 전구체로서는, 일례로서 알칼리 가용성 수지와 중합성 모노머, 중합 개시제의 조합을 이용할 수 있다.
알칼리 가용성 수지로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 노볼락형 에폭시 수지, 폴리카복실산 글리시딜에스터, 폴리올폴리글리시딜에스터, 지방족 또는 지환식 에폭시 수지, 아민에폭시 수지, 트라이페놀메테인형 에폭시 수지, 측쇄에 카복실기 등의 산성기나 그 염 등의 극성기를 갖는 (메트)아크릴 수지, 다이하이드록시벤젠형 에폭시 수지 등의 에폭시 수지와 (메트)아크릴산을 반응시켜 얻어지는 에폭시(메트)아크릴레이트 등의 통상의 광중합 가능한 수지 등이나 카도 수지를 들 수 있다.
중합성 모노머로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 에폭시 화합물, (메트)아크릴레이트 화합물 등을 이용할 수 있으며, 바람직한 일 양태로서 분자량 300~1700의 범위의 에틸렌성 불포화 이중 결합을 갖는 화합물을 이용할 수 있다. 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물 1분자 중의 에틸렌성 불포화 이중 결합의 수는, 2~6인 것이 바람직하다. 이러한 화합물을 이용하면, 막강도가 우수하고, 후술하는 투광부의 잔막율이 낮아 에지 형상이 우수한 흑색층을 형성할 수 있다.
중합 개시제로서는, 공지의 다양한 중합 개시제를 이용할 수 있으며, 예를 들면 옥심에스터계 화합물, 아세토페논계 화합물, 트라이아진계 화합물, 벤조페논계 화합물, 싸이오잔톤계 화합물, 이미다졸계 화합물, 타이타노센 화합물, 아실포스핀 화합물 등을 들 수 있다. 흑색층의 광학 농도(OD)가 높은 막이어도 경화성이 우수한 점에서, 옥심에스터계 화합물이나, 타이타노센계 화합물, 아세토페논계 화합물 중에서도 아미노아세토페논계 화합물을 이용하는 것이 바람직하다.
흑색 조성물에는, 추가로 필요에 따라 안료의 분산 안정제, 계면활성제, 소포제, 염료, 산화 방지제, 중합 금지제, 증감제, 산화 방지제, 택키파이어, 밀착 개량제, 취성(脆性) 개량제 등을 첨가할 수 있다.
<흑색층의 형성 방법>
상술한 바와 같이, 흑색층 및 투광부의 형성 시에는 다양한 형성 방법을 이용할 수 있다. 또, 화상 표시 장치 그 자체의 표면이나, 화상 표시에 도입하는 각종 필름의 표면에 마련할 수 있고, 그때 이들 표면에 직접 마련할 수도 있지만, 일단 흑색층을 형성용 가지지체 상에 마련한 다음, 장치나 각종 필름의 표면에 전사하여 마련해도 된다. 이하에, 도를 이용하여 구체적으로 설명한다.
제1 양태로서, 도 2(a)와 같이, 기판(4)으로서의 화상 표시 장치 그 자체의 표면이나 화상 표시 장치에 도입하는 각종 필름의 표면에, 흑색 조성물의 도막(12)을 마련하여 적절히 패터닝이나 에칭을 실시하여 투광부(7)를 마련하며, 또한 필요에 따라 경화나 베이크를 행함으로써, 화상 표시 장치 그 자체의 표면이나 화상 표시 장치에 도입하는 각종 필름의 표면에 흑색층(2)을 형성할 수 있다.
제2 양태로서, 도 2(b)와 같이, 형성용 가지지체(11) 상에 흑색 조성물의 도막(12)을 마련하고, 이 도막의 표면을 기재(4)로서의 화상 표시 장치 그 자체의 표면이나 화상 표시 장치에 도입하는 각종 필름의 표면에, 형성용 가지지체(11)와 함께 직접, 또는 접착층(도시하지 않음)을 통하여 접착시킨 후, 적절히 패터닝을 실시하며, 투광부에 상당하는 부분의 도막(12)을 제거하여 투광부(7)를 형성하고, 또, 형성용 가지지체(11)를 박리 제거함으로써, 화상 표시 장치 그 자체의 표면이나, 화상 표시 장치에 도입하는 각종 필름의 표면에 흑색층(2)을 형성할 수 있다. 도 2(b)에서는 형성용 가지지체(11)와 함께 투광부에 상당하는 부분의 도막(12)을 제거하듯이 묘화했지만, 반드시 모두 제거할 필요는 없고, 형성용 가지지체를 먼저 박리 제거한 후, 투광부에 상당하는 부분의 도막(12)을 순차 제거해도 된다.
제3 양태로서, 도 2(c)와 같이, 형성용 가지지체 상에 흑색 조성물의 도막을 마련하고, 형성용 가지지체 상에서 에칭, 패터닝을 행하여 투광부(7)를 형성한 후, 접착층(도시하지 않음), 혹은 흑색층 자체의 접착성을 이용하여 기재(4)로서의 화상 표시 장치 그 자체의 표면이나, 화상 표시 장치에 도입하는 각종 필름의 표면에 흑색 구조물을 전사하여, 형성상 가지지체(11)를 박리 제거함으로써, 화상 표시 장치 그 자체의 표면이나, 화상 표시 장치에 도입하는 각종 필름의 표면에 흑색층(2)을 형성할 수 있다.
이들 형성 방법에서 이용하는 형성용 가지지체에 대해서는 공지의 플라스틱 필름이나 유리 등을 제한없이 이용할 수 있다. 플라스틱 필름의 일례로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리에틸렌나프탈레이트 필름 등의 폴리에스터 필름, 트라이아세틸셀룰로스 필름 등의 셀룰로스계 필름, 아크릴 수지 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름 등의 폴리올레핀 필름, 폴리사이클로올레핀 필름 등이다.
〔미세 요철 구조〕
본 발명의 흑색 구조체의 흑색층 상(시인 측 표면)에 마련되는 미세 요철 구조란, 가시광 파장 이하, 즉 380nm 이하의 주기를 가진 요철 구조를 가리킨다. 요철의 주기가 이 범위이면 광확산의 효과가 저감되어 헤이즈가 없는 클리어한 투과 특성을 나타낼 수 있다. 또, 주기가 100nm 이상이면 가시광 영역에서 반사 방지성이 우수하기 때문에 바람직하다. 미세 요철 구조의 유무는, 주사형 전자 현미경(SEM), 원자간력 현미경(AFM) 등에 의하여 표면 형상을 관찰하고, 상기 미세 요철 구조가 되어 있는지 여부를 조사함으로써 확인할 수 있다. 이러한 미세 요철 구조는, 모스아이 구조라고도 칭해지는 것이 포함된다.
미세 요철 구조의 형성 방법으로서는 다양한 방법을 채용할 수 있으며, 흑색층 표면에 미세한 요철을 갖는 주형(鑄型)을 압압하여 부형(賦型)하는 방법, 흑색층을 구성하는 폴리머의 혼합 용액으로부터 용매가 증발하는 과정에서 일어나는 상분리나 자체 조직화를 이용하는 방법 등을 들 수 있다.
또, 바람직한 일 양태로서 별도 제작한 미세 요철 구조막을 흑색층 표면에 전사하여 일체화함으로써, 흑색층 표면에 미세 요철 구조를 형성할 수 있다. 이 방법에 의하면 상술한 흑색 조성물의 소재 선택의 자유도가 높은 채로, 우수한 반사 방지능을 갖는 미세 요철 구조를 형성할 수 있는 이점이 있다. 이하에 그 구체예를 설명한다.
<미세 요철 구조의 형성예>
본 발명에서는 예를 들면, 하기 (1)~(8)의 공정을 거침으로써, 흑색층의 시인 측 표면에 미세 요철 구조를 마련할 수 있다. 개념도를 도 3, 도 4에 나타낸다.
가지지체 상에, 평균 1차 입경이 100nm 이상 250nm 이하인 입자 (a2)와 경화성 화합물 (a1)을, 상기 경화성 화합물 (a1)을 포함하는 층 (a) 중에 상기 입자 (a2)가 매몰되는 두께로 마련하는 공정 (1),
상기 층 (a)의 일부를 경화시켜 층 (ca)를 얻는 공정 (2),
지지체 및 상기 지지체 상에 점착제를 포함하는 층 (b)를 갖는 점착 필름의 상기 층 (b)를, 상기 층 (ca)와 첩합하는 공정 (3),
상기 입자 (a2)가, 상기 층 (ca) 및 상기 층 (b)를 합한 층 중에 매몰되고, 또한 상기 층 (ca)의 상기 지지체 측의 계면으로부터 돌출하도록, 상기 층 (ca)의 상기 지지체 측의 계면의 위치를 상기 가지지체 측으로 근접시키는 공정 (4),
상기 가지지체를 박리하는 공정 (5),
임의의 기재 상에 마련된 흑색층과, 상기 공정 (5)에서 얻어지는 상기 층 (ca)를 포함하는 적층체의 상기 층 (ca)를 첩합하는 공정 (6),
상기 입자 (a2)가, 상기 층 (ca)와, 상기 층 (b)를 합한 층 중에 매몰된 상태로 상기 층 (ca)를 경화시키는 공정 (7),
상기 점착 필름을 박리하는 공정 (8)을 이 순서로 행함으로써, 흑색층의 시인 측 표면 상에 미세 요철 구조를 마련할 수 있다.
여기에서, "층 (a) 중에 입자 (a2)가 매몰되는 두께"란, 층 (a)의 두께가 입자 (a2)의 평균 1차 입경의 0.8배 이상의 두께인 것을 나타내는 것으로 한다.
또, 본 발명에 있어서, "입자 (a2)가, 층 (ca) 및 층 (b)를 합한 층 중에 매몰"된다는 것은, 층 (ca) 및 층 (b)를 합한 층의 두께가 입자 (a2)의 평균 1차 입경의 0.8배 이상인 것을 나타내는 것이다.
공정 (1)에 있어서, 가지지체 상에 층 (a)를 마련하는 방법은 특별히 한정 없고, 공지의 방법을 이용할 수 있다. 이러한 도포 방법으로서는, 특별히 한정되지 않고 공지의 방법을 이용할 수 있다. 예를 들면, 딥 코트법, 에어 나이프 코트법, 커튼 코트법, 롤러 코트법, 와이어 바 코트법, 그라비어 코트법, 다이 코트법 등을 들 수 있다.
층 (a)의 형성용 조성물로서는, 경화성 화합물 (a1)과 평균 1차 입경이 100nm 이상 250nm 이하인 입자 (a2)를 포함할 수 있으며, 필요에 따라 용매, 입자 (a2)의 분산 안정제, 폴리머, 계면활성제, 그 외의 성분을 포함하고 있어도 된다. 경화성 화합물 (a1)의 반응물 및 폴리머 등이 후술하는 프로세스를 거침으로써 바인더 수지를 구성한다.
경화성 화합물 (a1)로서는, 중합성 관능기를 갖는 화합물(바람직하게는 전리 방사선 경화성 화합물)이 바람직하다. 중합성 관능기를 갖는 화합물로서는, 각종 모노머, 올리고머 또는 폴리머를 이용할 수 있으며, 중합성 관능기(중합성기)로서는, 광, 열, 전자선, 방사선 중합성의 것이 바람직하고, 그 중에서도 광중합성 관능기가 바람직하다. 구체적으로는, 아크릴레이트 화합물, 특히 다관능성의 아크릴레이트 화합물일 수 있다. 이들의 중합을 개시, 혹은 촉진하는 화합물을 추가로 더하는 것이 바람직하다.
입자 (a2)로서는, 평균 1차 입경이 100nm 이상 250nm 이하의 입자이면 각종의 소재를 이용할 수 있지만, 입수의 용이성이나 단분산성으로부터, 실리카, 알루미나, 타이타니아, 지르코니아 등의 금속 산화물 미립자, 아크릴 수지나 유레테인 수지 등의 수지 미립자인 것이 바람직하다. 특히 금속 산화물 미립자를 이용하는 경우는, 분산 안정제로서 실레인 커플링제, 폴리바이닐알코올 등을 첨가하는 것이 바람직하다.
폴리머로서는, 층 (a)의 강도나 취성의 개량, 및 각 성분의 응집을 억제하는 것을 목적으로 하여, 공지의 각종 고분자 재료를 첨가할 수 있다. 계면활성제로서는, 음이온성, 비이온성, 양이온성의 것을 제한없이 이용할 수 있다.
공정 (2)에서는, 상술한 층 (a)의 형성용 조성물에 포함되는 경화성 화합물 (a1)의 일부를 경화한다. 경화 방법으로서는 경화성 화합물에 맞추어, 공지의 방법을 이용할 수 있다. 광 경화성의 경우는, UV 램프, UV-LED, 전자선 등을 광원으로서 소정의 노광 에너지를 층 (a)의 형성용 조성물 도막에 부여함으로써 행할 수 있다.
여기에서 경화성 화합물 (a1)의 일부를 경화시킨다란, 경화성 화합물 (a1)의 모두는 아니고, 일부만을 경화시키는 것을 나타낸다. 이 이후의 공정에 있어서, 잔존한 경화성 화합물 (a1)이 타층에 이행 또는 제거됨으로써, 층 (a)이 미세 요철 구조를 형성할 수 있다.
공정 (3)에서 이용하는 점착제를 포함하는 층 (b)로서는, 점착제와 각종의 성분을 포함하는 층일 수 있으며, 점착제로서는 공지의 각종 점착제 폴리머를 이용할 수 있다. 층 (b)에 포함되는 점착제는, 젤 분율이 95% 이상인 것이, 그 후의 공정에서 잔여 접착을 일으키지 않는 관점에서, 바람직하다.
이러한 점착제 폴리머로서는, 아크릴계 폴리머, 스타이렌계 폴리머, 뷰타다이엔계 폴리머, 아이소프렌계 폴리머, 폴리에스터계 폴리머, 폴리올레핀계 폴리머, 폴리실록세인계 폴리머, 및 이들의 랜덤 공중합체, 블록 공중합체 등을 들 수 있으며, 특히 아크릴계 폴리머가 바람직하다.
점착제층은 필요에 따라 택키파이어, 산화 방지제, 가소제, 대전 방지제 등을 포함할 수 있다. 공정 (5)에서 층 (ca)와 층 (b)를 박리하기 쉽게 하는 것을 목적으로, 층 (b) 내에 불소 화합물이나 실리콘 화합물 등의 이(易)박리제를 첨가해 두는 것이 바람직하다.
공정 (3)에서 점착제를 포함하는 층 (b)를 지지하는 지지체로서는, 공지의 다양한 지지체를 제한없이 이용할 수 있다. 전형적으로는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 셀룰로스아실레이트, 폴리프로필렌 등이다.
공정 (4)는, 층 (b)에 층 (ca) 내에 잔존하는 경화성 화합물 (a)를 흡수시킴으로써 행할 수 있다. 흡수는, 경화성 화합물 (a)의 자연스러운 확산에 의하여 행해도 되지만, 가압, 가열 등 방법에 의하여 촉진해도 된다.
이렇게 하여 얻어지는 층 (ca), 점착제를 포함하는 층 (b)를 포함하는 필름을, 공정 (5)에서 별도 임의의 기재(예를 들면 화상 표시 패널 혹은 기능성 필름) 상에 마련한 흑색층과 첩합한다. 여기에서 말하는 흑색층은, 이미 패터닝되어 투광부가 마련된 것이어도 된다.
추가로 공정 (7)을 거침으로써 흑색층과 층 (ca)가 일체화하여, 흑색층 표면에 미세 요철 구조가 형성된다. 이때, 투광부가 공극이면, 흑색층과 투광부의 경계부에서 층 (ca)가 용이하게 파단하고, 흑색층 상에는 층 (ca)(엄밀하게는 층 (ca)에서 유래하는 구조물)가 남으며, 투광부에서는 층 (b) 상에 층 (ca)가 남기 때문에, 흑색층 상에만 미세 요철 구조가 형성된다. 또 후술하는 바와 같이, 투광부가 투명 재료로 충전되어 있으며, 투광부의 시인 측 표면이 흑색층의 시인 측 표면과 동일 평면을 이루고 있는 경우는, 투광부의 시인 측 표면에도 미세 요철 구조를 부여할 수 있다.
또, 바람직한 다른 일 양태로서, 층 (a)와 가지지체의 사이에 흑색층을 마련한 것 이외에는 상술한 (2)~(5)의 수순을 거쳐, 얻어지는 흑색층/층 (ca)/점착제를 포함하는 층 (b)를 갖는 점착 필름의 순서로 적층된 적층체를, 흑색층 측 표면을 화상 표시 장치의 표면 또는 화상 표시 장치에 도입하는 각종 필름의 표면에 첩합하여 전사할 수도 있다.
본 발명에 있어서는, 미세 요철 구조가, 바인더 수지층 내에 매립된 평균 1차 입경 100~250nm의 미립자로 이루어지는 모스아이 구조로 구성되어 있는 것이 바람직하다.
본 발명의 흑색 구조체는, 미세 요철 구조에 있어서의 광의 간섭 효과나 회절에 의하여 반사율이 파장에 의존하여 변화하는 경우가 있고, 보다 뉴트럴에 가까운 흑색조를 실현하기 위해서는 반사 스펙트럼이 가시광 역에 걸쳐 평탄한 것이 바람직하다. 보다 구체적으로는, 흑색 구조체에 있어서, 파장 380nm~780nm의 범위에 있어서의 정면의 반사율의 최댓값과 최솟값의 차 ΔR이 0.5% 이하인 것이 바람직하고, 0.3% 이하인 것이 보다 바람직하며, 0.1% 미만인 것이 보다 바람직하다.
〔투광부〕
본 발명의 흑색 구조체는, 흑색 구조체의 시인 측과는 역의 측으로부터 입사하는 광을 투과하는 투광부를 갖고 있다. 투광부는 용도에 따라 다양한 형상으로 할 수 있다. 본 발명의 흑색 구조체를 마련하는 취지에 근거하여, 투광부는, 화상 표시 장치의 화소 부분에 대응한 위치, 형상으로 마련되어 있는 것이 바람직하다.
화소의 크기(법선(法線) 방향으로부터의 점유 면적)에 대한 투광부의 형상 및 면적비를 적절히 설계함으로써, 화상 표시 패널로부터의 광 취출 효율 향상이나 시야각 특성의 개선 혹은 제어, 화소 간의 크로스토크의 저감을 도모할 수 있다. 또, 투광부와 흑색층의 경계부의 형상을 제어하는 것에 의해서도 이들의 개선·제어를 도모할 수 있다.
투광부는, 공극이어도 되지만, 필요에 따라 투명한 수지로 채워져 있어도 된다. 특히, 도 5(a)에 나타내는 바와 같이, 흑색층(2) 및 흑색 구조체(1)가 화상 표시 패널(10)을 밀봉하고 있는 투명 수지층(9)에 매립되어 형성되어 있는 경우, 투광부(7)는 이러한 투명 수지층(9)에 의하여 차지되어 있어도 된다. 도 5(a)의 경우, 혹은 도 5(b)와 같이 투광부(7)를 투명 재료(8)로 충전하는 경우는, 공지의 투명 재료를 이용할 수 있으며, 예를 들면 유리나 투명 수지일 수 있다. 투명 수지로서는 예를 들면 아크릴 수지, 에폭시 수지, 폴리올레핀 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에스터 수지, 폴리이미드 수지 등을 이용할 수 있다. 투명 수지는, 40μm 두께 필름으로 한 경우의 전광선 투과율이 80% 이상인 수지를 이용하는 것이 바람직하다.
투명 재료로 충전하는 경우는, 도 5(a)와 같이, 투명한 수지로 채워진 투광부의 시인 측 표면이, 흑색층의 시인 측 표면과 동일한 평면을 이루고 있는 것이 바람직하다. 이렇게 함으로써 흑색 구조체의 시인 측 표면이 평면이 되기 때문에, 요철에 의한 반사광이나 굴절광이 발생하기 어려워, 표시 화질을 더 높일 수 있다. 또, 투명한 수지로 채워진 투광부의 시인 측 표면이, 흑색층의 시인 측 표면과 동일한 평면을 이루고 있는 경우는, 도 5(c)와 같이 상술한 미세 요철 구조(3)를 흑색층(2)의 시인 측 표면뿐만 아니라, 투명한 수지로 채워진 투광부(7)의 시인 측 표면에도 마련함으로써, 흑색 구조체의 시인 측 표면 전체면에 미세 요철 구조를 부여할 수 있다. 이렇게 함으로써, 투광부를 투과하는 광의 투과율이 높아져, 표시 장치의 휘도를 보다 향상시킬 수도 있다.
본 발명에 있어서는, 투광부가 투명 재료로 충전되어 있는 것이 바람직하다.
또, 본 발명에 있어서는, 흑색층의 시인 측 표면과 상기 투명 재료로 충전되어 있는 투광부의 시인 측 표면이 동일 평면 상에 있고, 흑색층 상에 마련된 미세 요철 구조와 동일한 미세 요철 구조가 상기 투광부의 시인 측 표면 상에도 마련되어 있는 것이 바람직하다.
흑색 구조체의 평면에서 볼 때 면적 내에 있어서의, 흑색층과 투광부의 면적비는 적용하는 표시 패널의 화소 사이즈나 화소 밀도에 따라서 다르지만, 시야각, 휘도, 콘트라스트비 등의 밸런스를 고려하면, 흑색층과 투광부의 면적비는, 흑색층:투광부가, 50:50~95:5의 범위가 바람직하다.
[자발광 화상 표시 장치]
본 발명의 자발광 화상 표시 장치는, 자발광 화상 표시 패널과, 흑색층과 투광부를 동일면 내에 갖는 흑색 구조체를 포함하는 자발광 화상 표시 장치로서, 흑색층은, 시인 측 표면에 마련된 미세 요철 구조를 갖고, 미세 요철 구조를 갖는 면과 반대 측의 면에서 화상 표시 패널과 대향하고 있으며, 투광부가 자발광 화상 표시 패널의 발광 소자의 상방에 마련되어 있는, 자발광 화상 표시 장치이다.
본 발명의 자발광 화상 표시 장치는, 화상 표시 패널의 표면에, 상술한 본 발명의 흑색 구조체를 포함한다. 즉, 화상 표시 패널 상에, 시인 측으로부터 미세 요철 구조층, 흑색층의 순서로 적층된 흑색 구조체를 갖고 있다. 흑색 구조체는, 바람직하게는, 화상 표시 패널의 비발광 영역을 덮고 있고, 발광 영역 상에 투광부를 갖고 있다. 투광부의 형상, 흑색층:투광부의 면적비는 상술한 바와 같다. 또, 투광부와 발광 영역의 면적비(투광부:발광 영역)는, 발광 소자부터 흑색 구조체가 마련되는 면까지의 거리나 발광 소자의 사이즈에 따라서도 다르지만, 시야각과 콘트라스트 개선 효과의 밸런스로부터, 1:1.5에서 1:4의 범위인 것이 바람직하다.
본 발명의 자발광 화상 표시 장치는, 자발광 화상 표시 패널의 표면을, 연속한 투명층으로 피복된 것이며, 투광층의 시인 측 표면에 흑색 구조체를 갖는 것이 바람직하다. 또, 흑색 구조체의 투광부가 투명 재료로 충전되어 있는 것이 바람직하고, 투명층과 투명 재료로 충전된 투광부가 일체로 형성되어 있는 것이 보다 바람직하다.
<화상 표시 패널>
본 발명의 자발광 화상 표시 장치에 이용하는 화상 표시 패널은 임의의 자발광형 표시 패널이며, 구체적으로는 유기 일렉트로 루미네선스(OLED) 패널, LED(light emitting diode) 어레이 패널, 필드 이미션 디스플레이 등일 수 있다. 특히, 미세한 LED 칩을 표시 기판 상에 조밀하게 배치한 마이크로 LED 어레이 패널은, 발광 소자 사이즈가 작고 고휘도인 화소를 가지며, 또 광 취출 효율 향상을 위한 반사 구조를 원리적으로 필요로 하지 않기 때문에, 외광하에서도 콘트라스트비가 우수한 화상 표시를 할 수 있는 점에서 바람직하게 이용된다.
본 발명의 흑색 구조체는 상술한 바와 같이 파장에 의존하여 반사율이 변화하는 경우가 있어, 흑표시 시의 색조가 변화하는 경우가 있다. 본 발명의 흑색 구조체에 있어서의 파장 380nm~780nm의 범위에 있어서의 반사율의 최댓값과 최솟값의 차 ΔR이 상술한 범위이면, 반사의 색조를 저감시킬 수 있다. 보다 구체적으로는, 흑표시 시의 패널 반사에 있어서의 CIE1976L*a*b* 색공간의 L*, a*, b*값에 있어서, a*값이 -0.5~+2.0, b*값이 -0.3~+0.5의 범위로 하는 것이 바람직하고, a*값이 -0.3~+1.0, b*값이 -0.2~+0.3의 범위로 하는 것이 보다 바람직하며, a*값이±0.0~+0.5, b*값이 -0.1~+0.1의 범위로 하는 것이 특히 바람직하다. 패널에 있어서의 흑표시 시의 색조 평가는, 예를 들면 색도 특성 측정 장치 Ezcontrast(ELDIM사제)를 이용하여 측정할 수 있다.
실시예
이하에, 본 발명의 흑색 구조물을 구비하는 자발광 표시 장치에서의 효과에 대하여, 흑색층의 실시예, 및 자발광 화상 표시 장치를 모의한 시뮬레이션을 바탕으로 설명한다.
[제조예 1: 표면에 미세 요철 구조 α를 갖는 흑색층의 형성]
흑색층의 표면 반사 특성을 측정하기 위하여, 투광층을 마련하지 않는 흑색층만의 샘플을 작성했다. 작성은 이하와 같이 행했다.
(흑색층의 형성)
흑색 안료 분산물로서, 카본 블랙(데굿사사제, Special Black 250) 13.1질량%, 하기 분산제 1을 0.65질량%, 폴리머(벤질메타크릴레이트/메타크릴산=72/28 몰비의 랜덤 공중합물, 분자량 3.7만) 6.72질량%, 및 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트 잔부로 이루어지는 조성물을 조제하고, 페인트 쉐이커로 균일하게 분산한 흑색 안료 분산물을 준비했다.
[화학식 1]
Figure pct00001
다음으로, 흑색층 형성용 조성물로서, 하기의 조성물을 준비했다.
-흑색층 형성용 조성물-
상기의 흑색 안료 분산물 25.0질량부
하기의 바인더 용액 9.1질량부
다이펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 4.2질량부
하기 중합 개시제 T 0.16질량부
하기의 계면활성제 용액 0.044질량부
프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트 8.0질량부
메틸에틸케톤 53.0질량부
하이드로퀴논모노메틸에터 0.002질량부
(바인더 용액)
알칼리 가용성 폴리머(벤질메타크릴레이트/메타크릴산=78/22몰비의 랜덤 공중합물, 분자량 3.8만) 27질량%, 및 프로필렌글라이콜모노메틸에터아세테이트 73질량%의 균일 용액.
(계면활성제 용액)
하기 구조물 1 30질량%, 및 메틸에틸케톤(MEK) 70질량%의 용액
(중합 개시제 T)
2,4-비스(트라이클로로메틸)-6-[4-(N,N 다이에톡시카보닐메틸)-3-브로모페닐]-s-트라이아진
[화학식 2]
Figure pct00002
상기 흑색층 형성용 조성물을 세정한 유리 기판 상에 스핀 코트하고, 100℃에서 1분간 건조하여 용매를 제거한 후, 질소 분위기하 LED 램프(파장 405nm)를 이용하여 80mJ/cm2의 베타 노광을 행하며, 또한 120℃에서 3분간 베이크를 행하여 유리판 상에 마련된 흑색층 1(투광층 없음, 두께 2.4μm)을 형성했다.
(층 (a) 형성용 조성물의 조제)
하기의 조성이 되도록 각 성분을 믹싱 탱크에 투입하고, 60분간 교반하며, 30분간 초음파 분산기에 의하여 분산하여, 도포액으로 했다.
-조성물 (A-1)-
U-15HA 1.4질량부
하기 화합물 C3 1.5질량부
A-TMPT 1.7질량부
KBM-4803 4.1질량부
이르가큐어 127 0.2질량부
하기 화합물 P 0.1질량부
하기 화합물 FP-2 0.1질량부
실리카 입자 분산액 PA-1 32.3질량부
에탄올 12.7질량부
메틸에틸케톤 33.2질량부
아세톤 12.7질량부
U-15HA, 화합물 C3, A-TMPT, 및 KBM-4803이 경화성 화합물 (a1)이며, 소성 실리카 미립자가 입자 (a)이다.
각각 사용한 화합물을 이하에 나타낸다.
U-15HA(신나카무라 가가쿠 고교(주)제): 유레테인아크릴레이트
A-TMPT: 다관능 아크릴레이트(신나카무라 가가쿠 고교(주)제)
KBM-4803: 라디칼 반응성기 이외의 반응성기를 갖는 실레인 커플링제(신에쓰 가가쿠 고교(주)제)
이르가큐어 127: 광중합 개시제(BASF재팬(주)제)
화합물 P: 하기 구조식으로 나타나는 광산발생제(와코 준야쿠(주)제)
실리카 분산액 PA-1: 소성 실리카 미립자(액상 합성법, 평균 1차 입경: 170nm, 입경의 분산도(CV값): 3.3%, 소성 후 해쇄하고, 표면 실레인 커플링제 처리를 행한 것)의 MEK 분산액(고형분 농도 20질량%)
[화학식 3]
Figure pct00003
[화학식 4]
Figure pct00004
[화학식 5]
Figure pct00005
(공정 (1) 층 (a)의 도공)
가지지체로서 100μm의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(FD100M, 후지필름(주)제) 상에, 조성물 (A-1)을 다이 코터를 이용하여 2.8ml/m2 도포하고, 30℃에서 90초 건조시켰다. 이와 같이 하여 층 (a)를 도공했다.
(공정 (2) 층 (a)의 프리 노광)
산소 농도가 1.4체적%의 분위기가 되도록 질소 퍼지하면서, 고압 수은 램프(Dr. honle AG사제 형식: 33351N 부품 번호: LAMP-HOZ 200 D24 U 450 E)를 이용하여 층 (a) 측으로부터 조사량 5.0mJ/cm2, 조도 0.60mW로 광조사하고, 경화성 화합물 (a1)의 일부를 경화시켜 층 (ca)를 얻었다. 또한, 조사량의 측정은, 아이 그래픽스사제 아이 자외선 적산 조도계 UV METER UVPF-A1에 HEAD SENSER PD-365를 장착하고, 측정 레인지 0.00에서 측정했다.
(공정 (3) 점착 필름의 첩합)
이어서, 층 (ca) 상에, 후지모리 고교(주)제의 보호 필름(마스택 TFB AS3-304)으로부터 박리 필름을 박리하여 얻어지는 점착 필름을, 점착제층(층 (b))이 층 (ca) 측이 되도록 첩합했다. 첩합에는, 업무용 래미네이터 Bio330(DAE-EL Co.제)을 사용하고, 속도 1로 실시했다.
또한, 여기에서의 보호 필름이란, 지지체/점착제층/박리 필름으로 구성되는 적층체를 가리키고, 보호 필름으로부터 박리 필름을 박리한, 지지체/점착제층으로 구성되는 적층체가 점착 필름이다.
사용한 보호 필름을 이하에 나타낸다.
·마스택 TFB AS3-304(후지모리 고교(주)제 대전 방지 기능 포함 광학용 보호 필름)(이하, "AS3-304"라고도 함)
지지체: 폴리에스터 필름(두께 38μm)
점착제층 두께: 20μm
박리 필름을 박리한 상태에서의 파장 250nm~300nm에 있어서의 최대 투과율: 0.1% 미만
투과율의 측정은, 시마즈 세이사쿠쇼(주)제의 자외 가시근적외 분광 광도계 UV3150을 이용하여 행했다.
(공정 (4) 경화성 화합물 (a1)의 층 (b)에 대한 침투)
점착 필름에 대한 첩합 후, 25℃의 환경하에서 5분간 정치하고, 경화성 화합물 (a1)을 층 (b)에 침투시켰다.
(공정 (4-2) 층 (ca)의 부분 경화)
계속해서, 산소 농도가 0.01체적% 이하인 분위기가 되도록 질소 퍼지하면서 160W/cm의 공랭 메탈할라이드 램프(아이 그래픽스(주)제)를 이용하여, 지지체의 층 (ca) 측과는 반대 측으로부터 조도 150mW/cm2, 조사량 600mJ/cm2의 자외선을 조사하여 층 (ca)의 일부를 경화시켰다.
(공정 (5) 가지지체의 박리 적층체의 제작)
상기 적층체로부터, 가지지체인 FD100M을 박리각이 180°가 되는 방향으로 속도 30m/min으로 박리했다. 이와 같이 하여 적층체 1을 얻었다.
(공정 (6) 흑색층과 적층체의 첩합)
상기 흑색층 1의 표면과 공정 (5)에서 가지지체를 제거한 적층체 1의 층 (ca) 측을 첩합했다. 그 후, 첩합한 적층체를 140℃에서 2분간 가열했다.
(공정 (7) 층 (ca)의 부분 경화)
계속해서, 산소 농도가 0.01체적% 이하인 분위기가 되도록 질소 퍼지하면서 160W/cm의 공랭 메탈할라이드 램프(아이 그래픽스(주)제)를 이용하여, 지지체의 층 (ca) 측으로부터 조도 150mW/cm2, 조사량 600mJ/cm2의 자외선을 조사하여 층 (ca)의 일부를 경화시켰다.
(공정 (8) 점착 필름의 박리)
상기 제작한 적층체로부터 점착 필름(마스택 TFB AS3-304로부터 박리 필름을 박리한 것)를 박리했다.
(공정(9) 층 (ca)의 경화)
계속해서, 산소 농도가 0.01체적% 이하의 분위기가 되도록 질소 퍼지하면서 160W/cm의 공랭 메탈할라이드 램프(아이 그래픽스(주)제)를 이용하여, 층 (ca)의 기재 필름과는 반대 측으로부터 조도 150mW/cm2, 조사량 600mJ/cm2의 자외선을 조사하여 층 (ca)를 경화시켰다.
(공정 (10) 세정)
계속해서, 점착 필름이 첩합해 있던 면에 메틸아이소뷰틸케톤을 끼얹어 흘려 보내 점착제층의 잔사를 세정했다. 그 후, 25℃에서 10분 건조하고, 다시 180℃에서 30분간 포스트베이크를 행하여, 표면에 미세 요철 구조 α(미세 요철 주기: 190nm)가 마련된 흑색층 1b(두께 2.5μm)를 얻었다. 미세 요철 주기는 하기 방법으로 측정했다.
(측정 방법)
미세 구조 주기는, 주사형 전자 현미경 사진에 랜덤으로 끝단에서 끝단까지 직선을 긋고, 그 직선상에 있는 인접하는 볼록부의 정점(頂点) 간의 거리를 n=50 측정하여 평균값을 산출하며, 1자리수째(10nm 미만)의 수치를 반올림하여 구했다.
[제조예 2: 표면에 미세 요철 구조를 갖지 않는 흑색층의 형성]
상술한 공정에 있어서, 흑색층 1의 표면에 미세 요철 구조를 전사하지 않고, 산소 농도가 0.01체적% 이하인 분위기가 되도록 질소 퍼지하면서 160W/cm의 공랭 메탈할라이드 램프(아이 그래픽스(주)제)를 이용하여 조도 150mW/cm2, 조사량 600mJ/cm2의 자외선을 조사하여 흑색층 1을 경화시킨 후, 다시 180℃에서 30분 포스트베이크를 행하여 표면에 미세 요철 구조를 갖지 않는 흑색층 2(투광부 없음)를 유리 기판 상에 형성했다.
[제조예 3: 표면에 미세 요철 구조 β를 갖는 흑색층 3의 형성]
지지체로서 100μm의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(FD100M, 후지필름(주)제) 상에 코로나 처리를 실시한 후, UV 경화성 수지(덱세리얼즈사제, 제품명 "SK1100")를 바 코터에 의하여 도포했다. 계속해서, 미세 요철 피치가 평균하여 230nm이며, 오목부의 깊이가 약 250nm인 미세 요철 패턴을 갖는 형상 전사 롤에 UV 경화성 수지의 도포층 측을 감으면서, 지지체 측으로부터 UV광을 조사하여, 경화 층을 얻었다. 또한 경화층 상에 산화 텅스텐의 스퍼터층(두께 25nm)을 마련하여 이형층으로 했다. 이것을 주형 필름 1로 했다.
얻어지는 주형 필름 1의 무기층 상에, UV 경화성 수지(덱세리얼즈사제, 제품명 "SK1100")를 다이 코터에 의하여 두께 2μm(최대 두께 부분)가 되도록 도포했다. 이 도포층 측을, 표면이 평활한 이형 롤에 감으면서 지지체 측으로부터 10 kJ/cm2의 조사량으로 노광을 행하고, 주형 필름 1의 무기층 상에, 미세 요철 구조 β(미세 요철 주기: 230nm)를 갖는 수지층을 형성했다.
얻어지는 수지층 상에 사이아노아크릴레이트계 접착제를 도포하고, 제조예 1에서 형성한 흑색층 1 상에 적층하고 10분간 정치하여 접착제를 경화시켜, 주형 필름 1을 박리하며, 표면에 미세 요철 구조 β를 갖는 흑색층 3(두께 4.5μm)을 얻었다.
(반사 특성의 평가)
표면에 미세 요철 구조 α를 갖는 흑색층 1b(제조예 1), 표면에 미세 요철 구조를 전사하지 않고 경화한 흑색층 2b (제조예 2) 및, 표면에 미세 요철 구조 β를 갖는 흑색층 3(제조예 3)을, 각각 분광 광도계 V-5502[니혼 분코(주)제]에 어댑터 "ARV-474"를 장착하고, 380~780nm의 파장 영역에 있어서, 입사각 5°에 있어서의 출사각 -5°의 경면 반사율을 측정했다. 얻어지는 반사 스펙트럼(도 7)으로부터, 450~650nm의 평균 반사율, 및 색조, 즉 CIE1976L*a*b* 색공간의 L*, a*, b*값을 구했다.
(흑색 구조체의 형성)
상술한 공정에서, 흑색층 형성용 조성물의 도막을 노광량 80mJ/cm2로 베타 노광하는 공정 대신에, 동일한 노광량으로 격자상으로 패터닝 노광하고, 알칼리 현상하여 미노광부를 제거한 후 베이크하는 것 이외에는 상술한 제조예 1과 동일하게 하여, 유리 기판 상에, 표면에 미세 요철 구조를 갖는 흑색층과 공극으로 이루어지는 투광부를 면적비로 90:10의 비율로 갖는 흑색 구조체를 제작할 수 있었다. 이 흑색 구조체를 흑지 상에 두고, 명실 하에서 관찰한바, 양호한 칠흑성을 갖는 것이었다.
[자발광 화상 표시 장치의 실장 시뮬레이션 1]
기판 상에 발광 소자 패키지(화소)가 마련되고, 굴절률 1.48의 투명 수지층에서 밀봉된 화상 표시 패널을 상정하여, 그 표면 반사 거동에 대하여 시뮬레이션을 행했다.
흑색 구조체는 투명 수지층에 매립되어 투명 수지층에 의하여 투광부는 충전되어 있으며, 흑색 구조체 및 투광부의 시인 측의 공기 계면은 동일 평면을 이루는 것으로 했다. 투명 수지층에 입사하고, 투명 수지층의 흑색 구조체가 마련된 면과 대향하는 표면에서 반사하는 광은 모두 정반사만으로 하여, 전파장역으로 4%의 반사율을 갖는다고 가정했다.
또, 흑색층의 반사 스펙트럼은, 상술한 흑색층 1b, 2b, 3의 데이터를 각각 이용했다. 투명 수지층 상에 미세 요철 구조 α 또는 β를 마련한 경우의 반사 스펙트럼은, PMMA(폴리메틸메타크릴레이트) 필름 상에 미세 요철 구조 α 또는 β를 마련한 필름의 반사 스펙트럼을 이용했다.
일본 공업 규격(JIS) Z 8720에 기재된 표준 일루미넌트 D65 광원을 관찰자 측으로부터 이들의 흑색 구조체를 향하여 조사하여 얻어지는 반사 스펙트럼을 시뮬레이션에 의하여 얻고, 얻어지는 스펙트럼을 프로그램에 의하여 L*값, a*값, b*값으로 환산한 결과를 표 1에 나타낸다. 흑색층과 투광부의 면적비(흑색층/투광부)는 50/50, 75/25, 90/10, 95/5로 설정했다. 또한, 흑색층과 투광부의 경계에서 발생하는 회절이나 반사의 효과는 무시하는 것으로 한다.
비교예 1은, 미세 구조를 갖지 않는 흑색층 2b를 이용한 예이다.
실시예 1~8은, 미세 구조 α를 갖는 흑색층 1b를 이용한 예이다.
실시예 9~16은, 미세 구조 β를 갖는 흑색층 3을 이용한 예이다.
[표 1]
Figure pct00006
표면에 미세 요철 구조가 없고, 간단히 흑색층과 투광부만으로 구성되는 흑색 구조체를 배치한 경우(비교예 1)에 비하여, 흑색층 표면에 미세 요철 구조를 부여하고, 표면 반사율을 저감시킨 흑색 구조체(실시예 1~16)에서는, L*값이 25.0 이하로 되어 있으며, 특히 미세 구조 α의 경우에는, L*값이 칠흑성의 기준으로 되어 있는 24.0 이하를 충족시키고, 양호한 칠흑성을 부여할 수 있는 것을 알 수 있다.
또, 흑색 구조체에 있어서의 흑색층 영역과 투광부 영역의 면적비를 다양하게 변경한 결과를 비교하면, 투광부 영역의 비율이 낮을수록 양호한 칠흑성을 나타내는 것을 알 수 있다. 발광 소자 사이즈가 작고 고휘도인 화소를 가짐으로써 투광부가 상대적으로 적은 화상 표시 패널과 조합하면 본 발명의 효과가 현저하게 나타나는 것을 기대할 수 있다.
또한 흑색 구조체에 있어서 흑색층 상뿐만 아니라, 투광부의 시인 측 표면 상에도 미세 요철 구조를 부여한 경우(실시예 5~8, 실시예 13~16), 투광부의 시인 측 표면의 반사 성분이 감소함으로써 흑색 구조체 전체의 반사율이 저하되어, 관찰자가 시인하는데 있어서의 칠흑성은 보다 높아지는(L*값이 보다 작아지는) 것을 알 수 있다.
실시예 1~8과 같이, 미세 요철 구조가, 바인더 수지층 내에 매립된 평균 1차 입경 100~250nm의 미립자로 이루어지는 모스아이 구조이면, 가시광 범위 내의 반사율 변화가 작고, 반사 색조가 보다 뉴트럴인 흑에 가까워지기 때문에, 관찰자가 시인하는 데 있어서의 칠흑성은 보다 높아지는(a*값, b*값이 보다±0에 가까워지는) 것을 알 수 있다.
[자발광 화상 표시 장치의 실장 시뮬레이션 2]
유기 EL 패널 탑재의 SAMSUNG사제 GALAXY S IV를 분해하고, 원편광판을 박리하여, 얻어지는 유기 EL 표시 패널의 평균 정반사 스펙트럼(정반사 함유)을 측정했다. 이 반사 스펙트럼 데이터를 기판의 반사 스펙트럼과 상정하고, 그 표면 반사 거동에 대하여 상기의 실장 시뮬레이션 1과 동일하게 시뮬레이션을 행했다. 결과를 표 2에 나타낸다.
[표 2]
Figure pct00007
이들의 시뮬레이션 결과는 본 발명의 흑색 구조체가 자발광 화상 표시 장치에 도입되었을 때의 효과를 단적으로 나타낸 것이며, 실제로는 예를 들면 발광 소자나 배선, 이들이 마련되는 기판, 투명 수지층의 반사율이나 각 부재에 있어서의 산란의 영향도 고려해야 하지만, 특히 화상 표시 장치의 시인 측으로부터 입사하는 외광에 의한 표시 콘트라스트 저하에 본 발명의 흑색 구조체가 유용한 것은 당업자이면 충분히 이해할 수 있을 것이다.
1 흑색 구조체
2 흑색층
3 미세 요철 구조
4 기재
5 시인 측으로부터 입사하는 광
6 흑색층의 표면 반사광
7 투광부
8 광원으로부터 방사되는 광
9 투명 수지층(밀봉층)
10 자발광 화상 표시 패널
11 형성용 가지지체
12 흑색층 형성 조성물의 도막
31 층 (a)
32 입자 (a2)
33 가지지체
34 층 (b)
35 지지체
36 점착 필름
37 적층체
UV 자외선

Claims (11)

  1. 시인 측으로부터의 광선을 흡수하는 흑색층과, 시인 측과는 역측으로부터 입사하는 광을 투과하는 투광부를 동일면 내에 갖는 흑색 구조체로서,
    상기 흑색층의 시인 측 표면에, 380nm 이하의 주기를 갖는 미세 요철 구조를 갖고, 상기 흑색층은, 상기 미세 요철 구조를 갖는 면과 반대 측의 면에서 기재에 접합되어 있는, 흑색 구조체.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 투광부가 투명 재료로 충전되어 있는 흑색 구조체.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 흑색층의 시인 측 표면과 상기 투명 재료로 충전되어 있는 상기 투광부의 시인 측 표면이 동일 평면 상에 있고, 상기 흑색층 상에 마련된 상기 380nm 이하의 주기를 갖는 미세 요철 구조와 동일한 미세 요철 구조가 상기 투광부의 시인 측 표면 상에도 마련되어 있는, 흑색 구조체.
  4. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 미세 요철 구조가, 바인더 수지층 내에 매립된 평균 1차 입경 100~250nm의 미립자로 이루어지는 모스아이 구조로 구성되어 있는, 흑색 구조체.
  5. 자발광 화상 표시 패널과, 흑색층과 투광부를 동일면 내에 갖는 흑색 구조체를 포함하는 자발광 화상 표시 장치로서,
    상기 흑색층은, 시인 측 표면에 마련된 미세 요철 구조를 갖고, 상기 미세 요철 구조를 갖는 면과 반대 측의 면에서 화상 표시 패널과 대향하고 있으며,
    상기 투광부는 자발광 화상 표시 패널의 발광 소자의 상방에 마련되어 있는, 자발광 화상 표시 장치.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 자발광 화상 표시 패널의 표면은, 연속한 투명층으로 피복된 것이며, 상기 투명층의 시인 측 표면에 상기 흑색 구조체가 마련되어 있는, 자발광 화상 표시 장치.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 흑색 구조체의 투광부가, 투명 재료로 충전되어 있는, 자발광 화상 표시 장치.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 투명층과, 상기 투명 재료로 충전된 투광부가 일체로 형성되어 있는, 자발광 화상 표시 장치.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 흑색층의 시인 측 표면과 상기 투광부의 시인 측 표면이 동일 평면 상에 있고, 상기 흑색층 상에 마련된 380nm 이하의 주기를 갖는 미세 요철 구조와 동일한 미세 요철 구조가 상기 투광부의 시인 측 표면 상에도 마련되어 있는, 자발광 화상 표시 장치.
  10. 청구항 5 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 미세 요철 구조가, 바인더 수지층 내에 매립된 평균 1차 입경 100~250nm의 미립자로 이루어지는 모스아이 구조로 구성되어 있는, 자발광 화상 표시 장치.
  11. 청구항 5 내지 청구항 10 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 자발광 화상 표시 패널이, LED 어레이 패널인, 자발광 화상 표시 장치.
KR1020207026475A 2018-03-28 2019-03-25 흑색 구조체, 및 그것을 구비한 자발광 화상 표시 장치 KR102482178B1 (ko)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2018-063182 2018-03-28
JP2018063182 2018-03-28
JPJP-P-2019-046141 2019-03-13
JP2019046141 2019-03-13
PCT/JP2019/012291 WO2019188861A1 (ja) 2018-03-28 2019-03-25 黒色構造体、ならびにそれを備えた自発光画像表示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200119868A true KR20200119868A (ko) 2020-10-20
KR102482178B1 KR102482178B1 (ko) 2022-12-29

Family

ID=68059078

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020207026475A KR102482178B1 (ko) 2018-03-28 2019-03-25 흑색 구조체, 및 그것을 구비한 자발광 화상 표시 장치

Country Status (5)

Country Link
US (1) US11874437B2 (ko)
JP (1) JP6931740B2 (ko)
KR (1) KR102482178B1 (ko)
CN (1) CN111919143B (ko)
WO (1) WO2019188861A1 (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7392485B2 (ja) * 2020-01-17 2023-12-06 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 積層体、及びその製造方法
KR20220005922A (ko) * 2020-07-07 2022-01-14 삼성전자주식회사 디스플레이 모듈 및 그 제조 방법

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06347778A (ja) 1993-06-10 1994-12-22 Nec Corp アクティブマトリクス型液晶パネルおよびその製造方法
JP2004258586A (ja) * 2003-02-28 2004-09-16 Dainippon Printing Co Ltd 光学フィルターおよびこれを用いた有機ｅｌディスプレイ
JP2010286615A (ja) * 2009-06-10 2010-12-24 Sony Corp 光学部品の製造方法、光学部品、表示装置の製造方法および表示装置
JP2016061794A (ja) * 2014-09-12 2016-04-25 富士フイルム株式会社 反射防止フィルム、偏光板、カバーガラス、画像表示装置、及び反射防止フィルムの製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5209063B2 (ja) * 2008-12-19 2013-06-12 シャープ株式会社 基板および基板を備えた表示パネル
JP2011013387A (ja) * 2009-06-30 2011-01-20 Nikon Corp 遮光膜、光学素子及びその製造方法、ブラックマトリクス、カラーフィルタ並びに表示素子
WO2012043620A1 (ja) 2010-09-30 2012-04-05 凸版印刷株式会社 カラーフィルタ基板および液晶表示装置
US9784889B2 (en) * 2012-06-22 2017-10-10 Sharp Kabushiki Kaisha Antireflection structure and display device
JP2014153425A (ja) * 2013-02-05 2014-08-25 Sony Corp 表示装置、表示装置の製造方法および電子機器
TW201539736A (zh) 2014-03-19 2015-10-16 3M Innovative Properties Co 用於藉白光成色之 oled 裝置的奈米結構
JP6334346B2 (ja) * 2014-09-19 2018-05-30 株式会社東芝 燃料電池スタックの寿命評価方法および製造方法
WO2018025818A1 (ja) 2016-08-02 2018-02-08 富士フイルム株式会社 積層体、反射防止物品、及びそれらの製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06347778A (ja) 1993-06-10 1994-12-22 Nec Corp アクティブマトリクス型液晶パネルおよびその製造方法
JP2004258586A (ja) * 2003-02-28 2004-09-16 Dainippon Printing Co Ltd 光学フィルターおよびこれを用いた有機ｅｌディスプレイ
JP2010286615A (ja) * 2009-06-10 2010-12-24 Sony Corp 光学部品の製造方法、光学部品、表示装置の製造方法および表示装置
JP2016061794A (ja) * 2014-09-12 2016-04-25 富士フイルム株式会社 反射防止フィルム、偏光板、カバーガラス、画像表示装置、及び反射防止フィルムの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2019188861A1 (ja) 2021-02-25
CN111919143A (zh) 2020-11-10
WO2019188861A1 (ja) 2019-10-03
KR102482178B1 (ko) 2022-12-29
US11874437B2 (en) 2024-01-16
JP6931740B2 (ja) 2021-09-08
US20200400862A1 (en) 2020-12-24
CN111919143B (zh) 2022-06-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3826145B2 (ja) 集光フィルム、液晶パネルおよびバックライト並びに集光フィルムの製造方法
CN103168373B (zh) 用于有机发光装置(oled)的光提取膜
TWI454725B (zh) 光學積層膜
JP5232448B2 (ja) 防眩材料
JP6903927B2 (ja) 光波長変換組成物、光波長変換部材、光波長変換シート、バックライト装置、および画像表示装置
JP2011039466A (ja) 光線指向制御光学シート
KR20140121860A (ko) 감광성 조성물, 패턴 및 패턴을 갖는 표시 장치
JP2014126654A (ja) 光学シート及び表示装置
US11874437B2 (en) Black structure and self-luminous image display device comprising same
JPWO2008078707A1 (ja) 光重合性樹脂積層体及びブラックマトリックスパターン付き基板の製造方法
JP2010009913A (ja) 光重合性樹脂積層体及びそれを用いたパターンの製造方法
CN114384725A (zh) 一种量子点复合膜及其制备方法
TW201727270A (zh) 防反射光學體的形成方法、顯示面板及光學膜
KR102697186B1 (ko) 감광성 필름 및 영구 마스크 레지스트의 형성 방법
KR101435139B1 (ko) 도광판 무늬형용 활성에너지선경화형 수지 조성물
JP2011207140A (ja) 含フッ素ポリマー化合物含有層積層フィルム及び表面撥液性パターン付き基板の製造方法
JPH08201795A (ja) ブラックマトリクス基板およびそれを用いたマイクロレンズアレイシートの製造方法
TWI445221B (zh) 具框架之模板，其製造方法及應用
JP2007293288A (ja) プロジェクションスクリーン用光制御膜積層体、その製造方法、及びプロジェクションスクリーン
KR20170105519A (ko) 적층 기재, 커버글라스, 터치패널 및 적층 기재의 제조 방법
JP2021124639A (ja) 加飾フィルム及び加飾フィルムの製造方法
JP2009157250A (ja) 光制御膜積層体及びそれを用いたプロジェクション用スクリーン
JP2008197322A (ja) 光学シートの製造方法
JP6965500B2 (ja) 光波長変換組成物、光波長変換粒子、光波長変換部材、光波長変換シート、バックライト装置、および画像表示装置
JP2004246314A (ja) 表面凹凸形成方法およびその利用

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E90F Notification of reason for final refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right