KR20200115220A - Cover film - Google Patents

Cover film Download PDF

Info

Publication number
KR20200115220A
KR20200115220A KR1020200034793A KR20200034793A KR20200115220A KR 20200115220 A KR20200115220 A KR 20200115220A KR 1020200034793 A KR1020200034793 A KR 1020200034793A KR 20200034793 A KR20200034793 A KR 20200034793A KR 20200115220 A KR20200115220 A KR 20200115220A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
hard coat
buffer layer
meth
coat layer
acrylate
Prior art date
Application number
KR1020200034793A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
다쿠야 이케다
게이스케 마츠바라
고타로 다니무라
도모키 시로시타
Original Assignee
군제 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 군제 가부시키가이샤 filed Critical 군제 가부시키가이샤
Publication of KR20200115220A publication Critical patent/KR20200115220A/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D175/00Coating compositions based on polyureas or polyurethanes; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D175/04Polyurethanes
    • C09D175/14Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/046Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18Manufacture of films or sheets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04Coating
    • C08J7/042Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

A cover film having high hardness and high bending resistance is provided. The cover film according to the present invention includes a transparent base film, a buffer layer laminated on at least one side of the transparent base film, and a hard coat layer laminated on the buffer layer and formed of an ionizing radiation curable resin, wherein the thickness of the hard coat layer is 50 to 250 μm, and the thickness of the buffer layer is 5 to 75 μm.

Description

커버 필름 {COVER FILM}Cover film {COVER FILM}

본 발명은 커버 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a cover film.

최근, 스마트폰 등의 터치 패널 디스플레이의 표면을 보호하는 여러 가지 커버 필름이 제안되어 있다. 예를 들어, 특허문헌 1 에는, 필름 기재와, 그 표면에 형성된 완충층과 하드 코트층을 갖는 커버 필름이 제안되어 있다.Recently, various cover films for protecting the surface of a touch panel display such as a smartphone have been proposed. For example, in Patent Document 1, a cover film having a film base material and a buffer layer and a hard coat layer formed on the surface thereof is proposed.

일본 공개특허공보 평11-300873호Japanese Laid-Open Patent Publication No. Hei 11-300873

일반적으로, 하드 코트층은, 외력에 의해 흠집이나 압흔이 생기지 않도록 고경도일 것이 요구되고 있다. 이에 더하여, 최근에는, 만곡 또는 굴곡된 디스플레이가 제안되고 있기 때문에, 이와 같은 만곡이나 굴곡에 추종하여, 하드 코트층에 균열이 생기지 않는 커버 필름이 요망되고 있다. 본 발명은, 상기 문제를 해결하기 위해 이루어진 것으로, 고경도이면서, 내굴곡성도 높은, 커버 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.In general, the hard coat layer is required to have a high hardness so as not to cause scratches or indentations due to external force. In addition, in recent years, since curved or curved displays have been proposed, a cover film that follows such a curvature or curvature and does not cause cracks in the hard coat layer is desired. The present invention has been made to solve the above problem, and an object of the present invention is to provide a cover film having high hardness and high bending resistance.

항 1. 투명한 기재 필름과,Item 1. A transparent base film,

상기 투명 기재 필름의 적어도 일방의 면에 적층된 완충층과,A buffer layer laminated on at least one side of the transparent base film,

상기 완충층 상에 적층되고, 전리 방사선 경화형 수지로 형성된 하드 코트층을 구비하고,Laminated on the buffer layer and provided with a hard coat layer formed of an ionizing radiation curable resin,

상기 하드 코트층의 막두께는, 50 ∼ 250 ㎛ 이고,The film thickness of the hard coat layer is 50 to 250 µm,

상기 완충층의 막두께는, 5 ∼ 75 ㎛ 인, 커버 필름.The film thickness of the buffer layer is 5 to 75 μm, the cover film.

항 2. 상기 하드 코트층의 막두께가, 상기 완충층의 막두께보다 큰, 항 1 에 기재된 커버 필름.Item 2. The cover film according to item 1, wherein the film thickness of the hard coat layer is larger than the film thickness of the buffer layer.

항 3. 상기 하드 코트층의 막두께에 대한 상기 완충층의 막두께가, 3 ∼ 70 % 인, 항 2 에 기재된 커버 필름.Item 3. The cover film according to Item 2, wherein the film thickness of the buffer layer relative to the film thickness of the hard coat layer is 3 to 70%.

항 4. 상기 완충층은,Item 4. The buffer layer,

1 ㎐, 25 ℃ 에 있어서의 전단 저장 탄성률이 1.0 × 105 ㎩ 이하인,1 Hz, shear storage modulus at 25°C is 1.0 × 10 5 Pa or less,

항 1 내지 3 중 어느 하나에 기재된 커버 필름.The cover film according to any one of items 1 to 3.

본 발명에 관련된 커버 필름에 의하면, 고경도이면서, 내굴곡성도 높게 할 수 있다.According to the cover film according to the present invention, while having high hardness, it is possible to increase the bending resistance.

도 1 은, 본 발명의 일 실시형태에 관련된 커버 필름의 단면도이다.
도 2 는, 굴곡 시험의 방법을 나타내는 도면이다.
1 is a cross-sectional view of a cover film according to an embodiment of the present invention.
2 is a diagram showing a method of a flexural test.

이하, 본 발명에 관련된 커버 필름의 일 실시형태에 대하여, 도면을 참조하면서 설명한다. 도 1 은 본 발명의 일 실시형태에 관련된 커버 필름의 단면도이다. 도 1 에 나타내는 바와 같이, 이 커버 필름은, 예를 들어, 터치 패널 디스플레이 등의 화상 표시 장치에 장착되는 것으로, 투명한 기재 필름 (1) 과, 이 기재 필름 (1) 의 일방의 면에 적층되는 완충층 (2) 과, 이 완충층 (2) 상에 적층되는 하드 코트층 (3) 을 구비하고 있다. 이하, 각 부재에 대하여, 상세하게 설명한다.Hereinafter, one embodiment of the cover film according to the present invention will be described with reference to the drawings. 1 is a cross-sectional view of a cover film according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, this cover film is, for example, attached to an image display device such as a touch panel display, and is laminated on one side of the transparent base film 1 and the base film 1 A buffer layer 2 and a hard coat layer 3 laminated on the buffer layer 2 are provided. Hereinafter, each member will be described in detail.

<1. 기재 필름><1. Base film>

본 실시형태에 관련된 기재 필름 (1) 은, 투명한 여러 가지 재료로 형성할 수 있으며, 예를 들어, 셀룰로오스아실레이트, 시클로올레핀 폴리머, 폴리카보네이트, 아크릴레이트계 폴리머, 폴리에스테르, 폴리이미드 등으로 형성할 수 있다. 특히, 폴리이미드는, 굴곡에 대해 강하고, 또, 굴곡되어도 자국이 잘 남지 않기 때문에 바람직하다. 또, 이 기재 필름 (1) 에는, 필요에 따라 여러 가지 첨가제를 첨가할 수 있다. 예를 들어, 가소제, 대전 방지제, 자외선 흡수제 등의 각종 첨가제가 첨가되어 있어도 된다.The base film (1) according to the present embodiment can be formed from various transparent materials, for example, cellulose acylate, cycloolefin polymer, polycarbonate, acrylate polymer, polyester, polyimide, etc. can do. In particular, polyimide is preferable because it is strong against bending and does not easily leave a mark even if it is bent. Moreover, various additives can be added to this base film 1 as needed. For example, various additives, such as a plasticizer, an antistatic agent, and an ultraviolet absorber, may be added.

기재 필름 (1) 의 두께는, 예를 들어, 250 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 200 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 100 ㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 기재 필름 (1) 의 두께가 250 ㎛ 보다 크면, 커버 필름의 굴곡성이 저하된다.The thickness of the base film 1 is, for example, preferably 250 µm or less, more preferably 200 µm or less, and still more preferably 100 µm or less. When the thickness of the base film 1 is larger than 250 µm, the flexibility of the cover film is lowered.

<2. 완충층><2. Buffer layer>

완충층 (2) 은, 커버 필름의 굴곡시에, 하드 코트층 (3) 에 작용하는 응력을 흡수하여, 하드 코트층 (3) 에 크랙이 생기는 것을 억제하는 역할을 수행한다. 또, 완충층 (2) 은, 기재 필름 (1) 과 하드 코트층 (3) 을 고정시키기 위한 점착제로서도 기능한다. 이 완충층 (2) 은, 예를 들어 아크릴계 재료, 우레탄계 재료, 고무계 재료로 형성할 수 있는데, 일례로서, 주성분으로서의 아크릴산에스테르 공중합체와, 이소시아네이트계 가교제를 함유하는 점착성 조성물을 가교한 것으로 할 수 있다. 이하, 상세하게 설명한다.The buffer layer 2 absorbs a stress acting on the hard coat layer 3 when the cover film is bent, and plays a role of suppressing the occurrence of cracks in the hard coat layer 3. Moreover, the buffer layer 2 also functions as an adhesive for fixing the base film 1 and the hard coat layer 3. This buffer layer (2) can be formed of, for example, an acrylic material, a urethane-based material, or a rubber-based material.As an example, it can be made by crosslinking an adhesive composition containing an acrylic acid ester copolymer as a main component and an isocyanate crosslinking agent. . Hereinafter, it demonstrates in detail.

<2-1. (메트)아크릴산에스테르 공중합체><2-1. (Meth)acrylic acid ester copolymer>

(메트)아크릴산에스테르 중합체는, 알킬기의 탄소수가 2 ∼ 20 인 (메트)아크릴산알킬에스테르와, 분자 내에 반응성 관능기를 갖는 모노머 (반응성 관능기 함유 모노머) 를, 모노머 단위로서 함유하는 것이 바람직하다.The (meth)acrylic acid ester polymer preferably contains an alkyl (meth)acrylate having 2 to 20 carbon atoms in the alkyl group and a monomer having a reactive functional group in the molecule (reactive functional group-containing monomer) as a monomer unit.

알킬기의 탄소수가 2 ∼ 20 인 (메트)아크릴산알킬에스테르로는, 호모폴리머로서의 유리 전이 온도 (Tg) 가 -40 ℃ 이하인 것이 바람직하다. 이와 같은 (메트)아크릴산알킬에스테르를 구성 모노머 단위로서 함유함으로써, 전단 저장 탄성률이 낮은 완충층을 형성할 수 있어, 굴곡 내구성이 우수한 커버 필름을 제공할 수 있다.As the (meth)acrylate alkyl ester having 2 to 20 carbon atoms in the alkyl group, the glass transition temperature (Tg) as a homopolymer is preferably -40°C or less. By containing such an alkyl (meth)acrylate as a constituent monomer unit, a buffer layer having a low shear storage modulus can be formed, and a cover film excellent in bending durability can be provided.

(메트)아크릴산에스테르 중합체는, 모노머 단위로서 반응성 관능기 함유 모노머를 함유함으로써, 당해 반응성 관능기 함유 모노머 유래의 반응성 관능기를 개재하여, 후술하는 가교제와 반응하고, 이로써 가교 구조 (3 차원 망목 구조) 가 형성되어, 원하는 응집력을 갖는 완충층 (2) 이 얻어진다.The (meth)acrylic acid ester polymer, by containing a reactive functional group-containing monomer as a monomer unit, reacts with a crosslinking agent to be described later through a reactive functional group derived from the reactive functional group-containing monomer, thereby forming a crosslinked structure (three-dimensional network structure). As a result, a buffer layer 2 having a desired cohesive force is obtained.

(메트)아크릴산에스테르 중합체가, 모노머 단위로서 함유하는 반응성 관능기 함유 모노머로는, 분자 내에 수산기를 갖는 모노머 (수산기 함유 모노머), 분자 내에 아미노기를 갖는 모노머 (아미노기 함유 모노머) 등이 바람직하다. 이것들 중에서도, 수산기 함유 모노머가 특히 바람직하다. 수산기 함유 모노머는, 유리 전이 온도 (Tg) 가 0 ℃ 이하인 것이 많아, 본 실시형태에 관련된 완충층 (2) 의 주제 (主劑) 의 유리 전이 온도 (Tg) 를 전술한 범위로 설정하기 쉽다.As the reactive functional group-containing monomer contained in the (meth)acrylic acid ester polymer as a monomer unit, a monomer having a hydroxyl group in the molecule (a hydroxyl group-containing monomer), a monomer having an amino group in the molecule (amino group-containing monomer), and the like are preferable. Among these, a hydroxyl group-containing monomer is particularly preferred. Many of the hydroxyl group-containing monomers have a glass transition temperature (Tg) of 0°C or less, and it is easy to set the glass transition temperature (Tg) of the main body of the buffer layer 2 according to the present embodiment to the above-described range.

(메트)아크릴산에스테르 중합체의 중량 평균 분자량의 하한값은, 20 만 이상인 것이 바람직하고, 30 만 이상인 것이 바람직하고, 40 만 이상인 것이 특히 바람직하다. (메트)아크릴산에스테르 중합체의 중량 평균 분자량의 하한값이 상기 이상이면, 완충층 (2) 의 침출 등의 문제가 억제된다. 또한, 본 명세서에 있어서의 중량 평균 분자량은, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 법에 의해 측정한 표준 폴리스티렌 환산의 값이다.The lower limit of the weight average molecular weight of the (meth)acrylic acid ester polymer is preferably 200,000 or more, preferably 300,000 or more, and particularly preferably 400,000 or more. If the lower limit of the weight average molecular weight of the (meth)acrylic acid ester polymer is above the above, problems such as leaching of the buffer layer 2 are suppressed. In addition, the weight average molecular weight in this specification is a value in terms of standard polystyrene measured by a gel permeation chromatography (GPC) method.

또, (메트)아크릴산에스테르 중합체의 중량 평균 분자량의 상한값은, 100 만 이하인 것이 바람직하고, 90 만 이하인 것이 더욱 바람직하고, 80 만 이하인 것이 특히 바람직하다. (메트)아크릴산에스테르 중합체의 중량 평균 분자량의 상한값이 상기 이하이면, 얻어지는 완충층 (2) 의 층간 밀착력이 바람직한 범위에 들어가기 쉬워진다.Moreover, it is preferable that it is 1 million or less, as for the upper limit of the weight average molecular weight of a (meth)acrylic acid ester polymer, it is more preferable that it is 900,000 or less, and it is especially preferable that it is 800,000 or less. When the upper limit of the weight average molecular weight of the (meth)acrylic acid ester polymer is below the above, the interlayer adhesion of the obtained buffer layer 2 is likely to fall into a preferred range.

<2-2. 이소시아네이트계 가교제><2-2. Isocyanate crosslinking agent>

본 실시형태에 관련된 점착성 조성물을 가열하면, 이소시아네이트계 가교제는 (메트)아크릴산에스테르 중합체를 가교하여, 3 차원 망목 구조를 형성한다. 이로써, 얻어지는 완충층 (2) 의 응집력이 향상된다. 이소시아네이트계 가교제로는, 특별히 한정되지는 않는다.When the adhesive composition according to the present embodiment is heated, the isocyanate crosslinking agent crosslinks the (meth)acrylic acid ester polymer to form a three-dimensional network structure. Thereby, the cohesive force of the obtained buffer layer 2 is improved. It does not specifically limit as an isocyanate type crosslinking agent.

<2-3. 첨가제><2-3. Additive>

완충층 (2) 에는, 필요에 따라, 아크릴계 점착제에 통상적으로 사용되고 있는 각종 첨가제, 예를 들어, 실란 커플링제, 자외선 흡수제, 대전 방지제, 점착 부여제, 산화 방지제, 광 안정제, 연화제, 충전제, 굴절률 조정제 등을 첨가할 수 있으며, 예를 들어, 완충층 (2) 의 전단 저장 탄성률을 바람직한 범위로 조정하기 위해 로진에스테르계 점착 부여제를 첨가하는 것이 바람직하다. 또한, 후술하는 중합 용매나 희석 용매는, 점착성 조성물을 구성하는 첨가제에 포함되지 않는 것으로 한다.In the buffer layer 2, if necessary, various additives commonly used in acrylic pressure-sensitive adhesives, such as silane coupling agents, ultraviolet absorbers, antistatic agents, tackifiers, antioxidants, light stabilizers, softeners, fillers, refractive index adjusters Etc. can be added, and for example, in order to adjust the shear storage modulus of the buffer layer 2 to a preferable range, it is preferable to add a rosin ester tackifier. In addition, it is assumed that the polymerization solvent and the diluted solvent described later are not included in the additive constituting the adhesive composition.

<2-4. 완충층의 물성><2-4. Physical properties of the buffer layer>

<2-4-1. 완충층의 두께><2-4-1. Buffer layer thickness>

완충층 (2) 의 두께는, 5 ∼ 75 ㎛ 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 50 ㎛ 인 것이 더욱 바람직하다. 이것은, 두께를 5 ㎛ 미만으로 하면, 완충 효과가 저하되어, 하드 코트층 (3) 의 굴곡에 의한 응력을 흡수하기 어려워질 우려가 있다. 한편, 두께가 75 ㎛ 를 초과하면, 커버 필름을 가압했을 때에, 커버 필름이 내려앉기 때문에, 연필 경도가 크게 저하될 우려가 있다.The thickness of the buffer layer 2 is preferably 5 to 75 µm, and more preferably 10 to 50 µm. If the thickness is less than 5 µm, the buffering effect is lowered, and there is a fear that it becomes difficult to absorb stress due to bending of the hard coat layer 3. On the other hand, when the thickness exceeds 75 µm, when the cover film is pressed, since the cover film is settled, there is a fear that the pencil hardness is greatly reduced.

특히, 완충층 (2) 의 두께는, 하드 코트층 (3) 의 두께의 3 ∼ 70 % 인 것이 바람직하고, 5 ∼ 50 % 인 것이 보다 바람직하고, 10 ∼ 30 % 인 것이 더욱 바람직하다. 이것은, 완충층 (2) 의 두께가 70 % 를 초과하면, 상기와 같이, 연필 경도가 크게 저하될 우려가 있고, 3 % 미만이면, 완충층 (2) 에 의한 완충 효과가 저하되어, 하드 코트층 (3) 의 굴곡에 의한 응력을 흡수하기 어려워질 우려가 있다. 그리고, 완충 효과가 저하되면, 커버 필름의 굴곡시에 하드 코트층 (3) 에 크랙이 생길 우려가 있다.In particular, the thickness of the buffer layer 2 is preferably 3 to 70% of the thickness of the hard coat layer 3, more preferably 5 to 50%, and even more preferably 10 to 30%. When the thickness of the buffer layer 2 exceeds 70%, the pencil hardness may significantly decrease as described above, and when the thickness of the buffer layer 2 is less than 3%, the buffering effect by the buffer layer 2 decreases, and the hard coat layer ( 3) There is a fear that it becomes difficult to absorb the stress caused by the bending of. In addition, when the buffering effect is lowered, there is a concern that cracks may occur in the hard coat layer 3 when the cover film is bent.

<2-4-2. 전단 저장 탄성률><2-4-2. Shear storage modulus>

본 실시형태에 관련된 완충층 (2) 은, 1 ㎐, 25 ℃ 에 있어서의 전단 저장 탄성률이 1.0 × 105 ㎩ 이하인 것이 바람직하다. 완충층 (2) 의 1 ㎐, 25 ℃ 에 있어서의 전단 저장 탄성률은, 보다 낮은 것이 바람직하고, 8.0 × 104 ㎩ 이하인 것이 보다 바람직하고, 5.0 × 104 ㎩ 이하인 것이 더욱 바람직하여, 3.0 × 104 ㎩ 이하인 것이 특히 바람직하다. 또, 저온에 있어서도 유연함을 유지하기 위해, 완충층 (2) 의 1 ㎐, -20 ℃ 에 있어서의 저장 탄성률은, 1.0 × 105 ㎩ 이하인 것이 바람직하고, 7.0 × 104 ㎩ 이하인 것이 더욱 바람직하고, 5.5 × 104 ㎩ 이하인 것이 특히 바람직하다.It is preferable that the buffer layer 2 according to the present embodiment has a shear storage modulus of 1.0×10 5 Pa or less at 1 Hz and 25°C. The shear storage elastic modulus at 1 Hz and 25°C of the buffer layer 2 is preferably lower, more preferably 8.0×10 4 Pa or less, further preferably 5.0×10 4 Pa or less, and 3.0×10 4 It is particularly preferable that it is Pa or less. In addition, in order to maintain the softness even at low temperatures, the storage elastic modulus at 1 Hz and -20°C of the buffer layer 2 is preferably 1.0×10 5 Pa or less, more preferably 7.0×10 4 Pa or less, It is particularly preferable that it is 5.5×10 4 Pa or less.

또한, 1 ㎐, 25 ℃ 에 있어서의 전단 저장 탄성률은, JIS K7244-6 에 준거한 방법에 의해 측정할 수 있다.In addition, the shear storage modulus at 1 Hz and 25°C can be measured by a method based on JIS K7244-6.

<3. 하드 코트층><3. Hard coat layer>

다음으로, 하드 코트층 (3) 에 대하여 설명한다. 하드 코트층 (3) 은, 전리 방사선 경화형 수지, 광 중합 개시제 등을 함유하는 하드 코트층용 수지 조성물을 경화시킨 것이다. 또, 이 조성물에는, 필요에 따라, 후술하는 첨가제나 실리카 등의 미립자를 배합할 수도 있다.Next, the hard coat layer 3 will be described. The hard coat layer 3 is obtained by curing the resin composition for a hard coat layer containing an ionizing radiation curable resin, a photoinitiator, or the like. Further, in this composition, if necessary, additives described later and fine particles such as silica may be blended.

<3-1. 전리 방사선 경화형 수지><3-1. Ionizing radiation curable resin>

전리 방사선 경화형 수지란, 전리 방사선 (자외선 또는 전자선) 에 의해 고분자화 또는 가교 반응하는 라디칼 중합성을 갖는 화합물을 포함하고, 예를 들어, 구조 단위 중에 에틸렌성의 불포화 결합을 적어도 1 개 이상 포함하는 화합물, 또는 이것들의 혼합물로 할 수 있다.The ionizing radiation curable resin includes a radical polymerizable compound that polymerizes or crosslinks by ionizing radiation (ultraviolet or electron beam), and, for example, a compound containing at least one ethylenic unsaturated bond in a structural unit , Or a mixture of these.

불포화 결합을 1 개 포함하는 단관능의 화합물로는, 예를 들어, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.As a monofunctional compound containing one unsaturated bond, for example, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, and gly Cydyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, etc. are mentioned.

또, 불포화 결합을 2 개 포함하는 2 관능의 화합물로는, 예를 들어, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 부탄디올디(메트)아크릴레이트, 헥산디올디(메트)아크릴레이트, 노난디올디(메트)아크릴레이트, 에톡시화헥산디올디(메트)아크릴레이트, 프로폭시화헥산디올디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 에톡시화네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 하이드록시피발산네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.In addition, as a bifunctional compound containing two unsaturated bonds, for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (Meth)acrylate, nonanedioldi(meth)acrylate, ethoxylated hexanedioldi(meth)acrylate, propoxylated hexanedioldi(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol Di(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, ethoxylated neopentyl glycol di(meth)acrylate, tri Di(meth)acrylates, such as propylene glycol di(meth)acrylate and hydroxypivalate neopentyl glycol di(meth)acrylate, etc. are mentioned.

또, 불포화 결합을 3 개 이상 포함하는 다관능 화합물로는, 예를 들어, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 에톡시화트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 프로폭시화트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 트리스2-하이드록시에틸이소시아누레이트트리(메트)아크릴레이트, 글리세린트리(메트)아크릴레이트 등의 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트 등의 3 관능의 (메트)아크릴레이트 화합물이나, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판헥사(메트)아크릴레이트 등의 3 관능 이상의 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물이나, 이들 (메트)아크릴레이트의 일부를 알킬기나 ε-카프로락톤으로 치환한 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물 등의 (메트)아크릴레이트 화합물을 들 수 있다.Moreover, as a polyfunctional compound containing three or more unsaturated bonds, for example, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri(meth)acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri( Tri(meth)acrylates such as meth)acrylate, tris2-hydroxyethyl isocyanurate tri(meth)acrylate, glycerin tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, dipenta Trifunctional (meth)acrylate compounds such as erythritol tri(meth)acrylate and ditrimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth) Acrylate, dipentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, ditrimethylolpropanepenta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, ditrimethylol Trifunctional or higher polyfunctional (meth)acrylate compounds such as propanehexa(meth)acrylate, and polyfunctional (meth)acrylate compounds in which some of these (meth)acrylates are substituted with an alkyl group or ε-caprolactone. (Meth)acrylate compounds are mentioned.

그 밖에, 상기 (메트)아크릴레이트 화합물에, 우레탄계 수지를 혼합할 수도 있다. 우레탄계 수지로는, 예를 들어, 우레탄(메트)아크릴레이트계 수지를 사용할 수 있다. 구체적으로는, 우레탄(메트)아크릴레이트 화합물로는, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트헥사메틸렌디이소시아네이트우레탄 프레폴리머, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트헥사메틸렌디이소시아네이트우레탄 프레폴리머, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트톨루엔디이소시아네이트우레탄 프레폴리머, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 톨루엔디이소시아네이트우레탄 프레폴리머, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트이소포론디이소시아네이트우레탄 프레폴리머, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트이소포론디이소시아네이트우레탄 프레폴리머 등을 사용할 수 있다.In addition, a urethane resin may be mixed with the (meth)acrylate compound. As the urethane resin, for example, a urethane (meth)acrylate resin can be used. Specifically, as the urethane (meth)acrylate compound, pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer, dipentaerythritol pentaacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer, pentaerythritol triacrylate toluene Diisocyanate urethane prepolymer, dipentaerythritol pentaacrylate, toluene diisocyanate urethane prepolymer, pentaerythritol triacrylate isophorone diisocyanate urethane prepolymer, dipentaerythritol pentaacrylate isophorone diisocyanate urethane prepolymer, etc. You can use

<3-2. 광 중합 개시제><3-2. Photopolymerization initiator>

중합 개시제로는, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온 등의 벤질메틸케탈류, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온 등의 α-하이드록시케톤류, 2-메틸-1[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부타논-1 등의 α-아미노케톤류, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥사이드 등의 비스아실포스핀옥사이드류, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,1'-비이미다졸, 비스(2,4,5-트리페닐)이미다졸 등의 비스이미다졸류, N-페닐글리신 등의 N-아릴글리신류, 4,4'-디아지드칼콘 등의 유기 아지드류, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르복실)벤조페논 등의 유기 과산화물류를 비롯하여, J. Photochem. Sci. Technol., 2,283 (1987). 에 기재되는 화합물을 들 수 있다.Examples of the polymerization initiator include benzyl methyl ketals such as 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, and 2-hydroxy-2-methyl-1-one Α-hydroxyketones such as phenylpropan-1-one, 2-methyl-1[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1 -(4-morpholinophenyl) butanone-1, such as α-amino ketones, bis(2,6-dimethoxybenzoyl)-2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, such as bisacylphosphine oxides , 2,2'-bis(o-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl-1,1'-biimidazole, bis(2,4,5-triphenyl)imidazole, etc. Bisimidazoles, N-arylglycines such as N-phenylglycine, organic azides such as 4,4'-diazidechalcone, 3,3',4,4'-tetra(tert-butylperoxycar) Including organic peroxides such as benzophenone and the like, J. Photochem. Sci. Technol., 2,283 (1987). The compounds described in are mentioned.

<3-3. 첨가제><3-3. Additive>

조성물에는, 필요에 따라 첨가제를 배합할 수 있다. 예를 들어, 레벨링, 표면 슬립성, 높은 물 접촉각성 등을 부여하는 실리콘계, 불소계의 첨가제 (예를 들어, 레벨링제) 를 들 수 있다.Additives can be blended into the composition as needed. For example, silicone-based and fluorine-based additives (eg, leveling agents) that impart leveling, surface slip properties, high water contact arousal, and the like can be mentioned.

<3-4. 하드 코트층의 물성><3-4. Properties of the hard coat layer>

하드 코트층 (3) 의 두께는, 50 ∼ 250 ㎛ 인 것이 바람직하고, 75 ∼ 200 ㎛ 인 것이 더욱 바람직하고, 100 ∼ 150 ㎛ 인 것이 특히 바람직하다. 이것은, 50 ㎛ 미만이면, 커버 필름의 표면 경도가 불충분해지기 때문이다. 한편, 250 ㎛ 보다 크면 커버 필름의 경화 수축이 커져, 굴곡성이 저하되는 점에서 바람직하지 않다.The thickness of the hard coat layer 3 is preferably 50 to 250 µm, more preferably 75 to 200 µm, and particularly preferably 100 to 150 µm. This is because if it is less than 50 µm, the surface hardness of the cover film is insufficient. On the other hand, when it is larger than 250 µm, curing shrinkage of the cover film becomes large, and the flexibility is lowered, which is not preferable.

<3-5. 인장 저장 탄성률><3-5. Tensile storage modulus>

본 실시형태에 관련된 하드 코트층 (3) 은, 1 ㎐, 25 ℃ 에 있어서의 인장 저장 탄성률이 1.0 × 109 ∼ 1.0 × 1010 ㎩ 인 것이 바람직하다.It is preferable that the hard coat layer 3 according to the present embodiment has a tensile storage modulus of 1.0 × 10 9 to 1.0 × 10 10 Pa at 1 Hz and 25°C.

또한, 1 ㎐, 25 ℃ 에 있어서의 전단 저장 탄성률은, JIS K7244-4 에 준거한 방법에 의해 측정할 수 있다.In addition, the shear storage modulus at 1 Hz and 25°C can be measured by a method based on JIS K7244-4.

<4. 커버 필름의 제조 방법><4. Manufacturing method of cover film>

본 실시형태에 관련된 커버 필름의 제조 방법은, 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어, 다음과 같이 실시할 수 있다.Although it does not specifically limit, the manufacturing method of the cover film which concerns on this embodiment, For example, it can implement as follows.

먼저, 기재 필름 (1) 의 일방의 면에, 상기 서술한 바와 같이 조제한 완충층용 조성물을 도포한다. 도포 방법으로는, 예를 들어, 롤 코터, 리버스 롤 코터, 그라비아 코터, 나이프 코터, 바 코터 등의 공지된 방법을 채용할 수 있다. 다음으로, 완충층용 조성물을 50 ∼ 150 ℃ 에서 가열한다. 가열 시간은 10 초 ∼ 10 분이다. 이렇게 하여, 완충층 (2) 이 형성된다.First, the composition for a buffer layer prepared as described above is applied to one surface of the base film 1. As the coating method, a known method such as a roll coater, a reverse roll coater, a gravure coater, a knife coater, and a bar coater can be adopted. Next, the composition for a buffer layer is heated at 50 to 150°C. The heating time is 10 seconds to 10 minutes. In this way, the buffer layer 2 is formed.

계속해서, 하드 코트층용 조성물을 완충층 (2) 상에 도포한다. 도포 방법은, 완충층 (2) 과 동일하다. 다음으로, 하드 코트층용 조성물을 건조시킨다. 건조의 방법은, 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들어, 이 조성물이 도포된 기재 필름 (1) 을, 건조기 내를 통과시키는 방법을 들 수 있다. 이 때의 건조 온도는, 예를 들어, 40 ∼ 100 ℃ 인 것이 바람직하다. 그 후, 이 조성물을 광 중합에 의해 경화시킨다. 이 경화에는, 전리 방사선원으로서 자외선을 사용하는 것이 바람직하고, 고압 수은등, 저압 수은등, 초고압 수은등, 메탈 할라이드 램프, 카본 아크, 크세논 아크 등의 광원을 이용할 수 있다. 이렇게 하여, 이 조성물이 경화되어, 하드 코트층 (3) 이 형성된다. 이상의 공정에 의해, 커버 필름이 완성된다.Subsequently, the composition for a hard coat layer is applied onto the buffer layer (2). The application method is the same as that of the buffer layer 2. Next, the composition for a hard coat layer is dried. Although the method of drying is not particularly limited, for example, a method of passing the base film 1 coated with this composition through the inside of a dryer is mentioned. It is preferable that drying temperature at this time is 40-100 degreeC, for example. Thereafter, this composition is cured by photopolymerization. For this curing, it is preferable to use ultraviolet rays as the ionizing radiation source, and light sources such as a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a carbon arc, and a xenon arc can be used. In this way, this composition is cured, and the hard coat layer 3 is formed. The cover film is completed by the above process.

또한, 커버 필름의 휘어짐을 방지하기 위해, 기재 필름 (1) 의 양면에, 각각 완충층 (2) 과 하드 코트층 (3) 을 적층시킬 수도 있다.Further, in order to prevent the cover film from being warped, the buffer layer 2 and the hard coat layer 3 may be laminated on both surfaces of the base film 1, respectively.

또, 완충층 (2) 및 하드 코트층 (3) 을 별개로 제작한 후, 기재 필름 (1) 상에, 완충층 (2), 하드 코트층 (3) 을 이 순서로 첩부할 수도 있다. 이 경우, 완충층 (2) 은, 시트재로서 제조해 둔다. 하드 코트층 (3) 도, 완충층 (2) 의 시트재와 마찬가지로 제조할 수 있다. 즉, 박리 시트 외에, 예를 들어, PET 필름 등의 기재 상에 하드 코트층 (3) 을 형성할 수 있다.Moreover, after producing the buffer layer 2 and the hard coat layer 3 separately, the buffer layer 2 and the hard coat layer 3 can also be affixed on the base film 1 in this order. In this case, the buffer layer 2 is manufactured as a sheet material. The hard coat layer 3 can also be produced similarly to the sheet material of the buffer layer 2. That is, in addition to the release sheet, the hard coat layer 3 can be formed on a substrate such as a PET film, for example.

혹은, 상기와 같이, 기재 필름 (1) 상에, 완충층용 조성물을 도포하고, 가열에 의해 완충층 (2) 을 형성한 후, 별개로 제조한 하드 코트층 (3) 을 첩부할 수도 있다.Alternatively, as described above, after applying the composition for a buffer layer on the base film 1 and forming the buffer layer 2 by heating, a separately manufactured hard coat layer 3 may be attached.

<5. 특징><5. Features>

본 실시형태에 관련된 커버 필름에 의하면, 기재 필름 (1) 과 하드 코트층 (3) 사이에 완충층 (2) 을 형성하고 있기 때문에, 예를 들어, 커버 필름이 화상 표시 장치를 따라 굴곡되었을 때의 응력을 완충층 (2) 에 의해 완화할 수 있다. 그 때문에, 커버 필름이 굴곡되었을 때에, 하드 코트층 (3) 에 크랙이 생기는 것을 방지할 수 있다. 또, 하드 코트층 (3) 의 두께가 50 ∼ 250 ㎛ 이기 때문에, 적당한 연필 경도와 굴곡 성능을 가질 수 있다.According to the cover film according to the present embodiment, since the buffer layer 2 is formed between the base film 1 and the hard coat layer 3, for example, when the cover film is bent along the image display device. Stress can be relieved by the buffer layer 2. Therefore, when the cover film is bent, it is possible to prevent cracks from occurring in the hard coat layer 3. Moreover, since the thickness of the hard coat layer 3 is 50-250 micrometers, it can have suitable pencil hardness and bending performance.

<6. 변형예><6. Modification Example>

상기 서술한 완충층 (2) 과 하드 코트층 (3) 의 조성은 일례이며, 여러 가지 재료를 사용할 수 있다. 완충층 (2) 은, 상기와 같이, 굴곡에 의해 하드 코트층 (3) 에 작용하는 응력을 완화시키기 위해, 하드 코트층 (3) 보다 유연한 재료일 필요가 있다. 따라서, 예를 들어, 하드 코트층 (3) 의 1 ㎐, 25 ℃ 에 있어서의 인장 저장 탄성률을 1.0 × 109 ㎩ ∼ 1.0 × 1010 ㎩ 로 했을 때, 완충층 (2) 의 전단 저장 탄성률을 1.0 × 105 ㎩ 이하로 하는 것이 바람직하다.The composition of the buffer layer 2 and the hard coat layer 3 described above is an example, and various materials can be used. As described above, the buffer layer 2 needs to be a material that is more flexible than the hard coat layer 3 in order to alleviate the stress acting on the hard coat layer 3 by bending. Therefore, for example, when the tensile storage modulus at 1 Hz and 25°C of the hard coat layer 3 is 1.0 × 10 9 Pa to 1.0 × 10 10 Pa, the shear storage modulus of the buffer layer 2 is 1.0 It is preferable to set it as x 10 5 Pa or less.

실시예Example

다음으로, 본 발명의 실시예에 대하여 설명한다. 단, 본 발명은, 이하의 실시예에 한정되지 않는다.Next, an embodiment of the present invention will be described. However, the present invention is not limited to the following examples.

<1. 실시예 및 비교예의 제작><1. Preparation of Examples and Comparative Examples>

실시예 1 ∼ 12 및 비교예 1, 2 에 관련된 커버 필름을 준비하였다.Cover films according to Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 and 2 were prepared.

(1) 기재 필름(1) base film

두께가 50 ㎛ 인 폴리에틸렌테레프탈레이트에 의해 형성하였다.It was formed by polyethylene terephthalate having a thickness of 50 μm.

(2) 완충층(2) buffer layer

중량 평균 분자량 40 만, 수산기가 10 ∼ 20 인 아크릴산에스테르 공중합체 100 중량부에 대해, 용제 (아세트산에틸) 로 고형분 35 % 에 희석시키고, 이소시아네이트계 가교제 (토소사 제조, 형번 「콜로네이트 L-55E」) 를 0.13 중량부 첨가하여, 교반하였다. 이렇게 하여, 완충층용의 도공액을 생성하였다.With respect to 100 parts by weight of the acrylic acid ester copolymer having a weight average molecular weight of 400,000 and a hydroxyl value of 10 to 20, it was diluted with a solvent (ethyl acetate) to 35% solid content, and an isocyanate crosslinking agent (manufactured by Tosoh Corporation, model number "Colonate L-55E ") 0.13 weight part was added, and it stirred. In this way, a coating solution for the buffer layer was produced.

이 도공액을 상기 기재 필름 상에 어플리케이터를 사용하여, 건조 후의 막두께가 표 1 과 같이 되도록 도공하였다. 그 후, 건조로 (어드밴테크사 제조, 형번 : DRD620DA) 에서 90 ℃, 5 min 가열ㆍ건조시켜 도공액을 반경화시켰다. 이 완충층의 전단 저장 탄성률은, 1 ㎐, 25 ℃ 에 있어서, 2.6 × 104 ㎩ 였다.This coating liquid was applied on the base film using an applicator so that the film thickness after drying was as shown in Table 1. Then, it was heated and dried at 90°C for 5 min in a drying furnace (manufactured by Advantech, model number: DRD620DA) to semi-cure the coating liquid. The shear storage modulus of this buffer layer was 2.6×10 4 Pa at 1 Hz and 25°C.

(3) 하드 코트층(3) hard coat layer

하드 코트층은, (A) 폴리이소시아네이트 화합물 (단, 지환 구조를 갖는 것을 제외한다.) 과 수산기 함유 (메트)아크릴레이트를 반응시켜 이루어지는 다관능 우레탄(메트)아크릴레이트와, (B) 지환 구조를 갖는 2 관능 (메트)아크릴레이트와, 광 중합 개시제인 성분 (C) 에 의해 조제하였다.The hard coat layer is a polyfunctional urethane (meth)acrylate obtained by reacting (A) a polyisocyanate compound (except those having an alicyclic structure) and a hydroxyl group-containing (meth)acrylate, and (B) an alicyclic structure. It was prepared by the bifunctional (meth)acrylate having and the component (C) which is a photoinitiator.

먼저, (A) 성분을 조제하였다. 구체적으로는, 폴리이소시아네이트 화합물로서, 1,6-헥산디이소시아네이트의 이소시아누레이트형 3 량체 (130 g) 를 준비하였다. 또, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트로서, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트 (870 g) 를 준비하였다. 이것들과, 중합 금지제로서의 하이드로퀴논메틸에테르 0.8 g 과, 용매로서의 톨루엔을, 교반기, 냉각관, 온도계를 구비한 유리제의 반응기 내에 투입하였다. 1,6-헥산디이소시아네이트의 이소시아누레이트형 3 량체와, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트의 -OH 기/NCO 기는 1/1 이었다. 또한, 우레탄화 촉매로서 디라우르산디부틸주석 0.3 g 을 첨가하여, 85 도에서 6 시간 반응시킨 후, 용제를 증류 제거하여 성분 (A) 의 다관능 우레탄(메트)아크릴레이트를 조제하였다.First, component (A) was prepared. Specifically, as a polyisocyanate compound, an isocyanurate-type trimer (130 g) of 1,6-hexanediisocyanate was prepared. Further, as a hydroxyl group-containing (meth)acrylate, dipentaerythritol pentaacrylate (870 g) was prepared. These, 0.8 g of hydroquinone methyl ether as a polymerization inhibitor, and toluene as a solvent were put into a glass reactor equipped with a stirrer, a cooling tube, and a thermometer. The isocyanurate-type trimer of 1,6-hexanediisocyanate and the -OH group/NCO group of dipentaerythritol pentaacrylate were 1/1. Further, 0.3 g of dibutyltin dilaurate was added as a urethanization catalyst, and after reacting at 85°C for 6 hours, the solvent was distilled off to prepare a polyfunctional urethane (meth)acrylate as component (A).

유리 용기에, 상기 서술한 바와 같이 조제한 성분 (A) 의 다관능 우레탄(메트)아크릴레이트 193.6 g 과, 성분 (B) 의 지환 구조를 갖는 2 관능 (메트)아크릴레이트로서의 트리시클로데칸디메탄올디메타크릴레이트 96.8 g 과, 성분 (A) 및 (B) 이외의 3 관능 이상의 다관능 폴리에스테르아크릴레이트 677.6 g 과, 성분 (C) 의 광 중합 개시제로서 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤 9.7 g 과, 자외선 흡수제로서 2-하이드록시-4-(아크릴로일에톡시)벤조페논 0.97 g 과, 증감제로서 티올 화합물 19.4 g 을 첨가하였다. 성분 (A) 의 질량 (MA) 와 성분 (B) 의 질량 (MB) 의 질량비 (MA)/(MB) 는, 66.7/33.3 이었다.In a glass container, 193.6 g of polyfunctional urethane (meth)acrylate of component (A) prepared as described above, and tricyclodecanedimethanoldi as a bifunctional (meth)acrylate having an alicyclic structure of component (B) 96.8 g of methacrylates, 677.6 g of trifunctional or higher polyfunctional polyester acrylates other than components (A) and (B), and 9.7 g of 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone as a photoinitiator of component (C) , 0.97 g of 2-hydroxy-4-(acryloylethoxy)benzophenone as an ultraviolet absorber and 19.4 g of a thiol compound as a sensitizer were added. The mass ratio (MA)/(MB) of the mass (MA) of the component (A) and the mass (MB) of the component (B) was 66.7/33.3.

이것들을 유리 용기 내에서, 40 ℃, 2 시간의 조건하에서 혼합 교반하여, 중합성 조성물을 조제하였다. 중합성 조성물의 점도는, 2700 m㎩ㆍs 였다.These were mixed and stirred in a glass container under conditions of 40°C and 2 hours to prepare a polymerizable composition. The viscosity of the polymerizable composition was 2700 mPa·s.

얻어진 중합성 조성물을, PET 필름인 A4100 (토요보 주식회사 제조) 의 미처리면 (접착 용이층이 형성되어 있지 않은 면) 에, 테스터 산업 주식회사 제조의 바 코터 : ROD#38 을 사용하여 도포하였다. A4100 을 1 장 더 준비하고, 당해 도포된 중합성 조성물 상에, A4100 의 미처리면이 접하도록 라미네이트하여, 3 층 구조의 라미네이트 필름을 조제하였다. 이 때, 최종적인 하드 코트층의 두께가, 표 1 에 나타낸 두께가 되도록, 중합성 조성물의 두께를 조정하였다.The obtained polymerizable composition was applied to the untreated surface of A4100 (manufactured by Toyobo Co., Ltd.) as a PET film (surface on which the easy-to-adhesion layer was not formed) using a bar coater manufactured by Tester Industries Co., Ltd.: ROD#38. One more sheet of A4100 was prepared and laminated on the applied polymerizable composition so that the untreated surface of A4100 was in contact with each other to prepare a laminate film having a three-layer structure. At this time, the thickness of the polymerizable composition was adjusted so that the thickness of the final hard coat layer became the thickness shown in Table 1.

라미네이트 필름에, 자외선 경화 장치 (퓨전 UV 시스템즈ㆍ재팬 주식회사 제조, 상품명 : CV-110Q-G) 를 사용하여 적산 조사량 1597 mJ/㎠ 의 자외선을 조사하여, 중합성 조성물을 경화시킨 후, 양면의 PET 필름을 박리하여, 하드 코트층을 얻었다. 이 하드 코트층의 인장 저장 탄성률은, 1 ㎐, 25 ℃ 에 있어서, 2.5 × 109 ㎩ 였다.The laminate film was irradiated with ultraviolet rays with an accumulated irradiation amount of 1597 mJ/cm 2 using an ultraviolet curing device (manufactured by Fusion UV Systems Japan, trade name: CV-110Q-G) to cure the polymerizable composition, and then PET The film was peeled off to obtain a hard coat layer. The tensile storage modulus of this hard coat layer was 2.5×10 9 Pa at 1 Hz and 25°C.

(4) 커버 필름의 제작(4) Preparation of cover film

완충층을 적층한 기재 필름의 완충층측에, 하드 코트층을 첩합에 의해 적층하여, 이하의 표 1 에 나타내는 커버 필름을 제작하였다.On the buffer layer side of the base film on which the buffer layer was laminated, the hard coat layer was laminated by bonding to prepare a cover film shown in Table 1 below.

Figure pat00001
Figure pat00001

<2. 평가><2. Evaluation>

(1) 연필 경도(1) pencil hardness

실시예 1 ∼ 12 및 비교예 1, 2 의 하드 코트층에 대해, JIS-K5600-5-4 에 준거하는 표면 연필 경도 시험을 실시하였다. 즉, 하드 코트층의 표면에 750 g 의 하중을 가한 경도 H 부터 9H 의 연필 (미츠비시 UNI) 을 순서대로 사용하여, 시험을 실시하였다. 그리고, 하드 코트층의 표면의 흠집에 의한 외관의 변화를 육안으로 평가하였다. 이하의 표 2 에서는, 흠집이 생겼을 때의 연필 경도를 기재하고 있다.About the hard coat layers of Examples 1-12 and Comparative Examples 1 and 2, the surface pencil hardness test based on JIS-K5600-5-4 was implemented. That is, the test was performed using a pencil (Mitsubishi UNI) of hardness H to 9H in which a load of 750 g was applied to the surface of the hard coat layer in order. Then, the change in appearance due to scratches on the surface of the hard coat layer was evaluated visually. In Table 2 below, the pencil hardness when a scratch occurred is described.

(2) 굴곡 시험(2) flexion test

상기 실시예 1 ∼ 12 및 비교예 1, 2 에 관련된 커버 필름으로부터, 레이저 컷 장치 (GCC 사 제조, SpiritGX 30W) 에 의해 2 × 10 ㎝ 의 시험편을 잘라내고, 상온에서 굴곡 시험 (맨드릴 시험 1 회 구부림 : JIS K5600-5-1) 을 실시하였다. 굴곡 시험은 도 2 에 나타내는 바와 같이, 원통체의 외주면에 절반으로 접히도록 커버 필름을 감은 후, 원래의 상태로 되돌렸다. 그리고, 하드 코트층에 크랙이 발생하는지 여부를 확인하였다. 이하의 표 2 에서는, 하드 코트층에 크랙이 생기지 않은 최소의 원통체의 반경을 나타내고 있다. 또한, IF 굴곡성은, 하드 코트층이 원통체에 접하도록 굴곡시켰을 때의 결과이고, OF 굴곡성은, 기재 필름이 원통체에 접하도록 굴곡시켰을 때의 결과이다.From the cover films according to Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 and 2, a 2 × 10 cm test piece was cut out by a laser cutting device (manufactured by GCC, SpiritGX 30W), and a bending test at room temperature (one mandrel test) Bending: JIS K5600-5-1) was implemented. In the bending test, as shown in Fig. 2, after winding the cover film so as to be folded in half on the outer peripheral surface of the cylindrical body, the original state was returned. Then, it was confirmed whether or not cracks occurred in the hard coat layer. In Table 2 below, the radius of the minimum cylindrical body in which cracks are not generated in the hard coat layer is shown. In addition, IF flexibility is a result when the hard coat layer is bent so as to contact the cylindrical body, and OF flexibility is a result when the base film is bent so as to contact the cylindrical body.

Figure pat00002
Figure pat00002

표 2 에 의하면, 하드 코트층의 두께가 커짐에 따라, 대체로 연필 경도가 높아지고 있다. 특히, 실시예 9 ∼ 12 와 같이, 하드 코트층의 두께가 200 ㎛ 이상이 되면, 완충층의 두께에 관계없이, 연필 경도가 높아져 있다. 한편, 하드 코트층의 두께가 작은 비교예 1 은, 연필 경도가 H 미만이었다. 또, 실시예 1 ∼ 8 과 같이, 실시예 9 ∼ 12 와 비교하여, 하드 코트층의 두께가 크지 않은 경우에는, 완충층의 두께가 커짐에 따라, 연필 경도가 낮아져 있다. 이것은, 연필에 의해 하드 코트층을 가압했을 때, 완충층의 두께가 크면, 하드 코트층이 패이기 쉬워지기 때문이라고 생각된다.According to Table 2, as the thickness of the hard coat layer increases, the pencil hardness generally increases. In particular, as in Examples 9 to 12, when the thickness of the hard coat layer is 200 μm or more, the pencil hardness is increased regardless of the thickness of the buffer layer. On the other hand, in Comparative Example 1 in which the thickness of the hard coat layer was small, the pencil hardness was less than H. In addition, as in Examples 1 to 8, compared with Examples 9 to 12, when the thickness of the hard coat layer is not large, the pencil hardness is lowered as the thickness of the buffer layer increases. This is considered to be because, when the hard coat layer is pressed with a pencil and the thickness of the buffer layer is large, the hard coat layer becomes easy to dent.

또, IF 굴곡성에 대해서는, 완충층의 두께에 관계없이, 하드 코트층의 두께가 커짐에 따라, 크랙이 발생하는 원통체의 직경이 커지고 있다. 한편, OF 굴곡성에 대해서도, IF 굴곡성과 대체로 동일한 경향을 볼 수 있지만, IF 굴곡성보다 하드 코트층에 작용하는 응력이 크기 때문에, IF 굴곡성에 비해, 전체적으로 굴곡 성능이 저하되어 있다. 또, 실시예 5 ∼ 8 과 같이, 하드 코트층의 두께가 100 ㎛ 정도이면, 완충층의 두께가 커짐에 따라, 완충 효과에 의해, OF 굴곡성이 향상되어 있다. 즉, 보다 작은 직경의 원통체에서의 굴곡성이 향상되어 있다. 한편, 비교예 2 는, 하드 코트층의 두께가 크기 때문에, IF 굴곡성 및 OF 굴곡성 어느 것에서도 굴곡성은 좋지 않았다. 따라서, 본 발명에 관련된 커버 필름은, 연필 경도와 굴곡 성능이 모두 양호하다는 것을 알 수 있었다.In addition, with respect to IF flexibility, as the thickness of the hard coat layer increases, the diameter of the cylindrical body in which cracks occur increases, regardless of the thickness of the buffer layer. On the other hand, the OF flexural property can also have substantially the same tendency as the IF flexural property, but since the stress acting on the hard coat layer is greater than that of the IF flexural property, the overall flexural performance is lowered compared to the IF flexural property. In addition, as in Examples 5 to 8, when the thickness of the hard coat layer is about 100 µm, the OF flexibility is improved by the buffering effect as the thickness of the buffer layer increases. That is, the bendability in a cylindrical body having a smaller diameter is improved. On the other hand, in Comparative Example 2, since the thickness of the hard coat layer was large, the flexibility was not good in either of the IF flexibility and OF flexibility. Therefore, it was found that the cover film according to the present invention had good pencil hardness and flexural performance.

1 : 기재 필름
2 : 완충층
3 : 하드 코트층
1: base film
2: buffer layer
3: hard coat layer

Claims (2)

투명한 기재 필름과,
상기 투명 기재 필름의 적어도 일방의 면에 적층된 완충층과,
상기 완충층 상에 적층되고, 전리 방사선 경화형 수지로 형성된 하드 코트층을 구비하고,
상기 완충층은, 상기 하드 코트층에 굴곡에 의해 작용하는 응력을 흡수하도록 구성되고,
상기 하드 코트층의 막두께는, 50 ∼ 250 ㎛ 이고,
상기 완충층의 막두께는, 5 ∼ 75 ㎛ 이며,
상기 하드 코트층의 막두께에 대한 상기 완충층의 막두께가, 3 ∼ 50 % 인, 커버 필름.
A transparent base film,
A buffer layer laminated on at least one side of the transparent base film,
Laminated on the buffer layer and provided with a hard coat layer formed of an ionizing radiation curable resin,
The buffer layer is configured to absorb a stress acting on the hard coat layer by bending,
The film thickness of the hard coat layer is 50 to 250 µm,
The thickness of the buffer layer is 5 to 75 μm,
The cover film, wherein the thickness of the buffer layer is 3 to 50% relative to the thickness of the hard coat layer.
제 1 항에 있어서,
상기 완충층은,
1 ㎐, 25 ℃ 에 있어서의 전단 저장 탄성률이 1.0 × 105 ㎩ 이하인, 커버 필름.
The method of claim 1,
The buffer layer,
A cover film having a shear storage modulus of 1.0 × 10 5 Pa or less at 1 Hz and 25°C.
KR1020200034793A 2019-03-27 2020-03-23 Cover film KR20200115220A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019061093A JP6697603B1 (en) 2019-03-27 2019-03-27 Cover film
JPJP-P-2019-061093 2019-03-27

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20200115220A true KR20200115220A (en) 2020-10-07

Family

ID=70682501

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200034793A KR20200115220A (en) 2019-03-27 2020-03-23 Cover film

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6697603B1 (en)
KR (1) KR20200115220A (en)
CN (1) CN111748274B (en)
TW (1) TW202041362A (en)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11300873A (en) 1998-02-18 1999-11-02 Dainippon Printing Co Ltd Hard-coat film

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2634917B2 (en) * 1988-04-28 1997-07-30 イーストマン コダック カンパニー Protective and decorative sheet material with transparent topcoat
JP4782294B2 (en) * 2001-03-02 2011-09-28 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. Multilayer coating
JP2002307621A (en) * 2001-03-30 2002-10-23 Three M Innovative Properties Co Graphics protective sheet and graphics display sheet
JP2004259256A (en) * 2003-02-05 2004-09-16 Nitto Denko Corp Transparent lamination body, pen input image display device, and image display method
JP2009181881A (en) * 2008-01-31 2009-08-13 Toppan Printing Co Ltd Transparent conductive film, method of manufacturing transparent conductive film, touch panel and method of manufacturing the same
JP5198120B2 (en) * 2008-03-31 2013-05-15 株式会社きもと Hard coat film and resin molded product
JP2015083335A (en) * 2013-10-25 2015-04-30 三菱樹脂株式会社 Laminate
JP2015197487A (en) * 2014-03-31 2015-11-09 大日本印刷株式会社 hard coat film
KR20170103644A (en) * 2016-03-04 2017-09-13 동우 화인켐 주식회사 Hard coating film
US10751980B2 (en) * 2016-06-24 2020-08-25 Toray Industries, Inc. Multilayer film
JP6344811B1 (en) * 2016-10-05 2018-06-20 リンテック株式会社 First protective film forming sheet
JP6363769B1 (en) * 2017-06-19 2018-07-25 グンゼ株式会社 Cover film

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11300873A (en) 1998-02-18 1999-11-02 Dainippon Printing Co Ltd Hard-coat film

Also Published As

Publication number Publication date
TW202041362A (en) 2020-11-16
JP6697603B1 (en) 2020-05-20
JP2020157665A (en) 2020-10-01
CN111748274B (en) 2023-04-07
CN111748274A (en) 2020-10-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6289637B2 (en) Plastic film laminate
JP4817675B2 (en) (Meth) acrylic film, marking film using the same, and receptor sheet
JP6067964B2 (en) Radiation curable adhesive sheet
TW201710428A (en) Adhesive tape for work processing
JP6075009B2 (en) Decorated hard coat film and decorated hard coat adhesive film.
JP5885021B2 (en) Hard coat film
JP2016516846A (en) Plastic film
JP2007023147A (en) Active energy ray-curable composition for optical material
JP4566525B2 (en) Surface protective film for polycarbonate
JP5616187B2 (en) Molded body and resin composition for molded body
KR20130031033A (en) Adhesive composition for optical use, adhesive layer and adhesive sheet using the same
KR20210104019A (en) Adhesive resin composition, adhesive resin cured product, adhesive sheet, and image display device laminate
TW202215903A (en) Photocurable adhesive sheet
JPWO2014069266A1 (en) Curable resin composition, cured product thereof, and plastic lens
JP5839116B2 (en) Active energy ray-curable composition for optical layer formation
JP2013231901A (en) Protective film and decorative protective film
JP4666715B2 (en) Adhesive composition, adhesive sheet and method of using the adhesive sheet
JP6074144B2 (en) Optical film and display device
JP2016041778A (en) Protective film, film laminate and polarizing plate
JP6003570B2 (en) Transparent adhesive composition and transparent adhesive tape
JP6697603B1 (en) Cover film
JP2020111734A (en) Adhesive sheet
JP6986666B2 (en) Adhesive sheet for image display device
JP2016060117A (en) Hard coat film, protective film and information display
JP6733071B1 (en) Cover film