JP2020157665A - Cover film - Google Patents

Cover film Download PDF

Info

Publication number
JP2020157665A
JP2020157665A JP2019061093A JP2019061093A JP2020157665A JP 2020157665 A JP2020157665 A JP 2020157665A JP 2019061093 A JP2019061093 A JP 2019061093A JP 2019061093 A JP2019061093 A JP 2019061093A JP 2020157665 A JP2020157665 A JP 2020157665A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hard coat
buffer layer
meth
coat layer
acrylate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2019061093A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6697603B1 (en
Inventor
拓也 池田
Takuya Ikeda
拓也 池田
圭佑 松原
Keisuke Matsubara
圭佑 松原
功太郎 谷村
Kotaro Tanimura
功太郎 谷村
知輝 城下
Tomoki Shiroshita
知輝 城下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Gunze Ltd
Original Assignee
Gunze Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Gunze Ltd filed Critical Gunze Ltd
Priority to JP2019061093A priority Critical patent/JP6697603B1/en
Priority to TW109109543A priority patent/TW202041362A/en
Priority to KR1020200034793A priority patent/KR20200115220A/en
Priority to CN202010227675.5A priority patent/CN111748274B/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6697603B1 publication Critical patent/JP6697603B1/en
Publication of JP2020157665A publication Critical patent/JP2020157665A/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D175/00—Coating compositions based on polyureas or polyurethanes; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D175/04—Polyurethanes
    • C09D175/14—Polyurethanes having carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/046—Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/042—Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder

Abstract

To provide a cover film having high flex resistance while having high hardness.SOLUTION: A cover film includes a transparent base material film, a buffer layer layered on at least one surface of the transparent base material film, and a hard coat layer that is layered on the buffer layer and is formed of an ionizing radiation-curable resin, in which film thickness of the hard coat layer is 50-250 μm and film thickness of the buffer layer is 5-75 μm.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、カバーフィルムに関する。 The present invention relates to a cover film.

近年、スマートフォンなどのタッチパネルディスプレイの表面を保護する種々のカバーフィルムが提案されている。例えば、特許文献１には、フィルム基材と、その表面に形成された緩衝層とハードコート層とを有するカバーフィルムが提案されている。 In recent years, various cover films that protect the surface of a touch panel display such as a smartphone have been proposed. For example, Patent Document 1 proposes a cover film having a film base material and a buffer layer and a hard coat layer formed on the surface thereof.

特開開平１１−３００８７３号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-300873

一般的に、ハードコート層は、外力によって傷や圧痕がつかないように高硬度であることが要求されている。これに加え、近年は、湾曲または屈曲したディスプレイが提案されているため、このような湾曲や屈曲に追従し、ハードコート層に割れが生じないカバーフィルムが要望されている。本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、高硬度でありながら、耐屈曲性も高い、カバーフィルムを提供することを目的とする。 In general, the hard coat layer is required to have a high hardness so as not to be scratched or indented by an external force. In addition to this, in recent years, curved or bent displays have been proposed, and there is a demand for a cover film that follows such bending or bending and does not cause cracks in the hard coat layer. The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a cover film having high hardness and high bending resistance.

項１．透明の基材フィルムと、
前記透明基材フィルムの少なくとも一方の面に積層された緩衝層と、
前記緩衝層上に積層され、電離放射線硬化型樹脂で形成されたハードコート層と、
を備え、
前記ハードコート層の膜厚は、５０〜２５０μｍであり、
前記緩衝層の膜厚は、５〜７５μｍである、カバーフィルム。 Item 1. With a transparent base film
A buffer layer laminated on at least one surface of the transparent base film and
A hard coat layer laminated on the buffer layer and formed of an ionizing radiation curable resin,
With
The film thickness of the hard coat layer is 50 to 250 μm.
A cover film having a film thickness of 5 to 75 μm.

項２．前記ハードコート層の膜厚が、前記緩衝層の膜厚よりも大きい、項１に記載のカバーフィルム。 Item 2. Item 2. The cover film according to Item 1, wherein the film thickness of the hard coat layer is larger than the film thickness of the buffer layer.

項３．前記ハードコート層の膜厚に対する前記緩衝層の膜厚が、３〜７０％である、項２に記載のカバーフィルム。 Item 3. Item 2. The cover film according to Item 2, wherein the film thickness of the buffer layer is 3 to 70% of the film thickness of the hard coat layer.

項４．前記緩衝層は、
１Ｈｚ、２５℃におけるせん断貯蔵弾性率が１．０×１０5Ｐａ以下である、
項１から３のいずれかに記載のカバーフィルム。 Item 4. The buffer layer is
Shear storage elastic modulus at 1 Hz and 25 ° C. is 1.0 × 10 5 Pa or less.
Item 4. The cover film according to any one of Items 1 to 3.

本発明に係るカバーフィルムによれば、高硬度でありながら、耐屈曲性も高くすることができる。 According to the cover film according to the present invention, it is possible to increase the bending resistance while having a high hardness.

本発明の一実施形態に係るカバーフィルムの断面図である。It is sectional drawing of the cover film which concerns on one Embodiment of this invention. 屈曲試験の方法を示す図である。It is a figure which shows the method of a bending test.

以下、本発明に係るカバーフィルムの一実施形態について、図面を参照しつつ説明する。図１は本発明の一実施形態に係るカバーフィルムの断面図である。図１に示すように、このカバーフィルムは、例えば、タッチパネルディスプレイなどの画像表示装置に取り付けられるものであり、透明の基材フィルム１と、この基材フィルム１の一方の面に積層される緩衝層２と、この緩衝層２上に積層されるハードコート層３と、を備えている。以下、各部材について、詳細に説明する。 Hereinafter, an embodiment of the cover film according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view of a cover film according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, this cover film is attached to an image display device such as a touch panel display, and is a buffer laminated on one surface of a transparent base film 1 and the base film 1. A layer 2 and a hard coat layer 3 laminated on the buffer layer 2 are provided. Hereinafter, each member will be described in detail.

＜１．基材フィルム＞
本実施形態に係る基材フィルム１は、透明の種々の材料で形成することができ、例えば、セルロースアシレート、シクロオレフィンポリマー、ポリカーボネート、アクリレート系ポリマー、ポリエステル、ポリイミドなどで形成することができる。特に、ポリイミドは、屈曲に対して強く、また、屈曲しても癖が付きにくいため、好ましい。また、この基材フィルム１には、必要に応じて種々の添加剤を添加することができる。例えば、可塑剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤等の各種添加剤が添加されていてもよい。 <1. Base film>
The base film 1 according to the present embodiment can be formed of various transparent materials, for example, it can be formed of cellulose acylate, cycloolefin polymer, polycarbonate, acrylate-based polymer, polyester, polyimide, or the like. In particular, polyimide is preferable because it is resistant to bending and does not easily become habitual even when bent. Further, various additives can be added to the base film 1 as needed. For example, various additives such as a plasticizer, an antistatic agent, and an ultraviolet absorber may be added.

基材フィルム１の厚みは、例えば、２５０μｍ以下であることが好ましく、２００μｍ以下であることがより好ましく、１００μｍ以下であることがさらに好ましい。基材フィルム１の厚さが２５０μｍより大きいと、カバーフィルムの屈曲性が低下する。 The thickness of the base film 1 is, for example, preferably 250 μm or less, more preferably 200 μm or less, and further preferably 100 μm or less. If the thickness of the base film 1 is larger than 250 μm, the flexibility of the cover film is lowered.

＜２．緩衝層＞
緩衝層２は、カバーフィルムの屈曲時に、ハードコート層３に作用する応力を吸収し、ハードコート層３にクラックが生じるのを抑制する役割を果たす。また、緩衝層２は、基材フィルム１とハードコート層３とを固定するための粘着剤としても機能する。この緩衝層２は、例えばアクリル系材料、ウレタン系材料、ゴム系材料で形成することができるが、一例として、主成分としてのアクリル酸エステル共重合体と、イソシアネート系架橋剤と、を含有する粘着性組成物を架橋したものとすることができる。以下、詳細に説明する。 <2. Buffer layer>
The buffer layer 2 absorbs the stress acting on the hard coat layer 3 when the cover film is bent, and plays a role of suppressing cracks in the hard coat layer 3. The buffer layer 2 also functions as an adhesive for fixing the base film 1 and the hard coat layer 3. The buffer layer 2 can be formed of, for example, an acrylic material, a urethane material, or a rubber material. As an example, it contains an acrylic acid ester copolymer as a main component and an isocyanate-based cross-linking agent. The adhesive composition can be crosslinked. The details will be described below.

＜２−１．（メタ）アクリル酸エステル共重合体＞
（メタ）アクリル酸エステル重合体は、アルキル基の炭素数が２〜２０の（メタ）アクリル酸アルキルエステルと、分子内に反応性官能基を有するモノマー（反応性官能基含有モノマー）とを、モノマー単位として含有することが好ましい。 <2-1. (Meta) Acrylic ester copolymer>
The (meth) acrylic acid ester polymer comprises a (meth) acrylic acid alkyl ester having an alkyl group having 2 to 20 carbon atoms and a monomer having a reactive functional group in the molecule (reactive functional group-containing monomer). It is preferably contained as a monomer unit.

アルキル基の炭素数が２〜２０の（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、ホモポリマーとしてのガラス転移温度（Ｔｇ）が−４０℃以下であるものが好ましい。このような（メタ）アクリル酸アルキルエステルを構成モノマー単位として含有することにより、せん断貯蔵弾性率の低い緩衝層を形成することができ、屈曲耐久性に優れたカバーフィルムを提供できる。 The (meth) acrylic acid alkyl ester having 2 to 20 carbon atoms in the alkyl group preferably has a glass transition temperature (Tg) of −40 ° C. or lower as a homopolymer. By containing such a (meth) acrylic acid alkyl ester as a constituent monomer unit, a buffer layer having a low shear storage elastic modulus can be formed, and a cover film having excellent bending durability can be provided.

（メタ）アクリル酸エステル重合体は、モノマー単位として反応性官能基含有モノマーを含有することで、当該反応性官能基含有モノマー由来の反応性官能基を介して、後述する架橋剤と反応し、これにより架橋構造（三次元網目構造）が形成され、所望の凝集力を有する緩衝層２が得られる。 By containing a reactive functional group-containing monomer as a monomer unit, the (meth) acrylic acid ester polymer reacts with a cross-linking agent described later via a reactive functional group derived from the reactive functional group-containing monomer. As a result, a crosslinked structure (three-dimensional network structure) is formed, and a buffer layer 2 having a desired cohesive force can be obtained.

（メタ）アクリル酸エステル重合体が、モノマー単位として含有する反応性官能基含有モノマーとしては、分子内に水酸基を有するモノマー（水酸基含有モノマー）、分子内にアミノ基を有するモノマー（アミノ基含有モノマー）などが好ましい。これらの中でも、水酸基含有モノマーが特に好ましい。水酸基含有モノマーは、ガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下であるものが多く、本実施形態に係る緩衝層２の主剤のガラス転移温度（Ｔｇ）を前述した範囲に設定し易い。 The reactive functional group-containing monomer contained in the (meth) acrylic acid ester polymer as a monomer unit includes a monomer having a hydroxyl group in the molecule (hydroxyl-containing monomer) and a monomer having an amino group in the molecule (amino group-containing monomer). ) Etc. are preferable. Among these, a hydroxyl group-containing monomer is particularly preferable. Most of the hydroxyl group-containing monomers have a glass transition temperature (Tg) of 0 ° C. or lower, and it is easy to set the glass transition temperature (Tg) of the main agent of the buffer layer 2 according to the present embodiment in the above-mentioned range.

（メタ）アクリル酸エステル重合体の重量平均分子量の下限値は、２０万以上であることが好ましく、３０万以上であることが好ましく、４０万以上であることが特に好ましい。（メタ）アクリル酸エステル重合体の重量平均分子量の下限値が上記以上であると、緩衝層２の浸み出し等の不具合が抑制される。なお、本明細書における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定した標準ポリスチレン換算の値である。 The lower limit of the weight average molecular weight of the (meth) acrylic acid ester polymer is preferably 200,000 or more, preferably 300,000 or more, and particularly preferably 400,000 or more. When the lower limit of the weight average molecular weight of the (meth) acrylic acid ester polymer is equal to or higher than the above, problems such as seepage of the buffer layer 2 are suppressed. The weight average molecular weight in the present specification is a standard polystyrene-equivalent value measured by a gel permeation chromatography (GPC) method.

また、（メタ）アクリル酸エステル重合体の重量平均分子量の上限値は、１００万以下であることが好ましく、９０万以下であることがさらに好ましく、８０万以下であることが特に好ましい。（メタ）アクリル酸エステル重合体の重量平均分子量の上限値が上記以下であると、得られる緩衝層２の層間密着力が好適な範囲に入り易くなる。 The upper limit of the weight average molecular weight of the (meth) acrylic acid ester polymer is preferably 1 million or less, more preferably 900,000 or less, and particularly preferably 800,000 or less. When the upper limit of the weight average molecular weight of the (meth) acrylic acid ester polymer is not more than the above, the interlayer adhesion of the obtained buffer layer 2 tends to fall within a suitable range.

＜２−２．イソシアネート系架橋剤＞
本実施形態に係る粘着性組成物を加熱すると、イソシアネート系架橋剤は（メタ）アクリル酸エステル重合体を架橋し、三次元網目構造を形成する。これにより、得られる緩衝層２の凝集力が向上する。イソシアネート系架橋剤としては、特には限定されない。 <2-2. Isocyanate cross-linking agent>
When the adhesive composition according to the present embodiment is heated, the isocyanate-based cross-linking agent cross-links the (meth) acrylic acid ester polymer to form a three-dimensional network structure. As a result, the cohesive force of the obtained buffer layer 2 is improved. The isocyanate-based cross-linking agent is not particularly limited.

＜２−３．添加剤＞
緩衝層２には、必要に応じて、アクリル系粘着剤に通常使用されている各種添加剤、例えば、シランカップリング剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、粘着付与剤、酸化防止剤、光安定剤、軟化剤、充填剤、屈折率調整剤などを添加することができ、例えば、緩衝層２のせん断貯蔵弾性率を好適な範囲に調整するためにロジンエステル系粘着付与剤を添加することが好ましい。なお、後述の重合溶媒や希釈溶媒は、粘着性組成物を構成する添加剤に含まれないものとする。 <2-3. Additives>
If necessary, the buffer layer 2 contains various additives usually used for acrylic pressure-sensitive adhesives, such as silane coupling agents, ultraviolet absorbers, antistatic agents, tackifiers, antioxidants, and light stabilizers. Agents, softeners, fillers, refractive index adjusters and the like can be added. For example, a rosin ester-based tackifier can be added to adjust the shear storage elastic modulus of the buffer layer 2 to a suitable range. preferable. The polymerization solvent and the dilution solvent described later are not included in the additives constituting the adhesive composition.

＜２−４．緩衝層の物性＞
＜２−４−１．緩衝層の厚み＞
緩衝層２の厚みは、５〜７５μｍであることが好ましく、１０〜５０μｍであることがさらに好ましい。これは、厚みを５μｍ未満とすると、緩衝効果が低下し、ハードコート層３の屈曲による応力を吸収しづらくなるおそれがある。一方、厚みが７５μｍを超えると、カバーフィルムを押圧したときに、カバーフィルムが沈み込むため、鉛筆硬度が大きく低下するおそれがある。 <2-4. Physical properties of buffer layer>
<2-4-1. Buffer layer thickness>
The thickness of the buffer layer 2 is preferably 5 to 75 μm, more preferably 10 to 50 μm. This is because if the thickness is less than 5 μm, the cushioning effect is lowered, and it may be difficult to absorb the stress due to the bending of the hard coat layer 3. On the other hand, if the thickness exceeds 75 μm, the cover film sinks when the cover film is pressed, so that the pencil hardness may be significantly reduced.

特に、緩衝層２の厚みは、ハードコート層３の厚み３〜７０％であることが好ましく、５〜５０％であることがより好ましく、１０〜３０％であることがさらに好ましい。これは、緩衝層３の厚みが７０％を超えると、上記のように、鉛筆硬度が大きく低下するおそれがあり、３％未満であると、緩衝層２による緩衝効果が低下し、ハードコート層３の屈曲による応力を吸収しづらくなるおそれがある。そして、緩衝効果が低下すると、カバーフィルムの屈曲時にハードコート層３にクラックが生じるおそれがある。 In particular, the thickness of the buffer layer 2 is preferably 3 to 70%, more preferably 5 to 50%, and even more preferably 10 to 30% of the thickness of the hard coat layer 3. This is because if the thickness of the buffer layer 3 exceeds 70%, the pencil hardness may be significantly reduced as described above, and if it is less than 3%, the cushioning effect of the buffer layer 2 is reduced, and the hard coat layer There is a risk that it will be difficult to absorb the stress caused by the bending of 3. If the cushioning effect is reduced, the hard coat layer 3 may be cracked when the cover film is bent.

＜２−４−２．せん断貯蔵弾性率＞
本実施形態に係る緩衝層２は、１Ｈｚ、２５℃におけるせん断貯蔵弾性率が１．０×１０5Ｐａ以下であることが好ましい。緩衝層２の１Ｈｚ、２５℃におけるせん断貯蔵弾性率は、より低いことが好ましく、８．０×１０4Ｐａ以下であることがより好ましく、５．０×１０4Ｐａ以下であることがさらに好ましく、３．０×１０4Ｐａ以下であることが特に好ましい。また、低温においても柔らかさを保つため、緩衝層２の１Ｈｚ、−２０℃における貯蔵弾性率は、１．０×１０5Ｐａ以下であることが好ましく、７．０×１０4Ｐａ以下であることがさらに好ましく、５．５×１０4Ｐａ以下であることが特に好ましい。 <2-4-2. Shear storage modulus>
Buffer layer 2 according to the present embodiment is preferably a shear storage modulus at 1 Hz, 25 ° C. is 1.0 × 10 5 Pa or less. The shear storage elastic modulus of the buffer layer 2 at 1 Hz and 25 ° C. is preferably lower, more preferably 8.0 × 10 4 Pa or less, and further preferably 5.0 × 10 4 Pa or less. , 3.0 × 10 4 Pa or less is particularly preferable. Further, in order to maintain the softness even at a low temperature, the storage elastic modulus of the buffer layer 2 at 1 Hz and −20 ° C. is preferably 1.0 × 10 5 Pa or less, and is 7.0 × 10 4 Pa or less. It is more preferable, and it is particularly preferable that it is 5.5 × 10 4 Pa or less.

なお、１Ｈｚ、２５℃におけるせん断貯蔵弾性率は、ＪＩＳ Ｋ７２４４−６に準拠した方法により測定することができる。 The shear storage elastic modulus at 1 Hz and 25 ° C. can be measured by a method based on JIS K7244-6.

＜３．ハードコート層＞
次に、ハードコート層３について説明する。ハードコート層３は、電離放射線硬化型樹脂、光重合開始剤などを含有するハードコート層用樹脂組成物を硬化させたものである。また、この組成物には、必要に応じて、後述する添加剤やシリカ等の微粒子を配合することもできる。 <3. Hard coat layer>
Next, the hard coat layer 3 will be described. The hard coat layer 3 is a cured resin composition for a hard coat layer containing an ionizing radiation curable resin, a photopolymerization initiator, and the like. Further, if necessary, fine particles such as additives and silica, which will be described later, can be added to this composition.

＜３−１．電離放射線硬化型樹脂＞
電離放射線硬化型樹脂とは、電離放射線（紫外線または電子線）により高分子化または架橋反応するラジカル重合性を有する化合物を含み、例えば、構造単位中にエチレン性の不飽和結合を少なくとも１個以上含む化合物、またはこれらの混合物とすることができる。 <3-1. Ionizing radiation curable resin>
The ionizing radiation curable resin contains a compound having a radical polymerizable reaction which is polymerized or crosslinked by ionizing radiation (ultraviolet rays or electron beams), and for example, at least one ethylenically unsaturated bond is contained in a structural unit. It can be a compound containing or a mixture thereof.

不飽和結合を１個含む単官能の化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレートなどを挙げることができる。 Examples of the monofunctional compound containing one unsaturated bond include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, and cyclohexyl (meth). Meta) acrylate and the like can be mentioned.

また、不飽和結合を２個含む二官能の化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。 Examples of the bifunctional compound containing two unsaturated bonds include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, and nonane. Dioldi (meth) acrylate, ethoxylated hexanediol di (meth) acrylate, propoxylated hexanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate , Polypropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethoxylated neopentyl glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, etc. Di (meth) acrylate and the like can be mentioned.

また、不飽和結合を３個以上含む多官能化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等の（メタ）アクリレート化合物を挙げることができる。 Examples of the polyfunctional compound containing three or more unsaturated bonds include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and Tris. 2-Hydroxyethyl isocyanurate tri (meth) acrylate, tri (meth) acrylate such as glycerin tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) Trifunctional (meth) acrylate compounds such as acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ditrimethylol Trifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate compounds such as propanepenta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and ditrimethylolpropane hexa (meth) acrylate, and some of these (meth) acrylates are alkyl groups. And (meth) acrylate compounds such as polyfunctional (meth) acrylate compounds substituted with ε-caprolactone.

その他、上記（メタ）アクリレート化合物に、ウレタン系樹脂を混合することもできる。ウレタン系樹脂としては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート系樹脂を用いることができる。具体的には、ウレタン（メタ）アクリレート化合物としては、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマーなどを用いることができる。 In addition, a urethane-based resin can be mixed with the above (meth) acrylate compound. As the urethane-based resin, for example, a urethane (meth) acrylate-based resin can be used. Specifically, as the urethane (meth) acrylate compound, pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer, dipentaerythritol pentaacrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer, pentaerythritol triacrylate toluene diisocyanate urethane prepolymer, dipentaerythritol Pentaacrylate, toluene diisocyanate urethane prepolymer, pentaerythritol triacrylate isophorone diisocyanate urethane prepolymer, dipentaerythritol pentaacrylate isophorone diisocyanate urethane prepolymer and the like can be used.

＜３−２．光重合開始剤＞
重合開始剤としては、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン等のベンジルメチルケタール類、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン等のα−ヒドロキシケトン類、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１等のα−アミノケトン類、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド等のビスアシルフォスフィンオキサイド類、２，２‘−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４‘，５，５‘−テトラフェニル−１，１‘−ビイミダゾール、ビス（２，４，５−トリフェニル）イミダゾール等のビスイミダゾール類、Ｎ−フェニルグリシン等のＮ−アリールグリシン類、４，４‘−ジアジドカルコン等の有機アジド類、３，３‘，４，４‘−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボキシル）ベンゾフェノン等の有機過酸化物類をはじめ、Ｊ．Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍ．Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．，２，２８３（１９８７）．に記載される化合物を挙げることができる。 <3-2. Photopolymerization initiator>
Examples of the polymerization initiator include benzylmethyl ketals such as 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1. Α-Hydroxyketones such as −ON, 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholino) Α-Aminoketones such as phenyl) butanone-1, bisacylphosphine oxides such as bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, 2,2'-bis (o) -Chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenyl-1,1'-biimidazole, bisimidazoles such as bis (2,4,5-triphenyl) imidazole, N such as N-phenylglycine Including organic azides such as -arylglycines and 4,4'-diazide chalcone, organic peroxides such as 3,3', 4,4'-tetra (tert-butylperoxycarboxyl) benzophenone, J. Photochem. Sci. Technol. , 2,283 (1987). Can be mentioned.

＜３−３．添加剤＞
組成物には、必要に応じて添加剤を配合することができる。例えば、レベリング、表面スリップ性、高水接触角性等を付与するシリコーン系、フッ素系の添加剤（例えば、レベリング剤）を挙げることができる。 <3-3. Additives>
Additives can be added to the composition, if necessary. For example, silicone-based and fluorine-based additives (for example, leveling agents) that impart leveling, surface slip property, high water contact angle property, and the like can be mentioned.

＜３−４．ハードコート層の物性＞
ハードコート層３の厚みは、５０〜２５０μｍであることが好ましく、７５〜２００μｍであることがさらに好ましく、１００〜１５０μｍであることが特に好ましい。これは、５０μｍ未満であると、カバーフィルムの表面硬度が不十分になるからである。一方、２５０μｍより大きいとカバーフィルムの硬化収縮が大きくなり、屈曲性が低下する点で好ましくない。 <3-4. Physical properties of hard coat layer>
The thickness of the hard coat layer 3 is preferably 50 to 250 μm, more preferably 75 to 200 μm, and particularly preferably 100 to 150 μm. This is because if it is less than 50 μm, the surface hardness of the cover film becomes insufficient. On the other hand, if it is larger than 250 μm, the curing shrinkage of the cover film becomes large and the flexibility is lowered, which is not preferable.

＜３−５．引張貯蔵弾性率＞
本実施形態に係るハードコート層３は、１Ｈｚ、２５℃における引張貯蔵弾性率が１．０×１０9〜１．０×１０10Ｐａであることが好ましい。 <3-5. Tensile storage modulus>
The hard coat layer 3 according to the present embodiment preferably has a tensile storage elastic modulus of 1.0 × 10 9 to 1.0 × 10 10 Pa at 1 Hz and 25 ° C.

なお、１Ｈｚ、２５℃におけるせん断貯蔵弾性率は、ＪＩＳ Ｋ７２４４−４に準拠した方法により測定することができる。 The shear storage elastic modulus at 1 Hz and 25 ° C. can be measured by a method based on JIS K7244-4.

＜４．カバーフィルムの製造方法＞
本実施形態に係るカバーフィルムの製造方法は、特には限定されないが、例えば、次のように行うことができる。 <4. Cover film manufacturing method>
The method for producing the cover film according to the present embodiment is not particularly limited, but can be performed as follows, for example.

まず、基材フィルム１の一方の面に、上述したように調製した緩衝層用組成物を塗布する。塗布方法としては、例えば、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター等の公知の方法を採用することができる。次に、緩衝層組成物を５０〜１５０℃で加熱する。加熱時間は１０秒〜１０分である。こうして、緩衝層２が形成される。 First, the buffer layer composition prepared as described above is applied to one surface of the base film 1. As the coating method, for example, known methods such as a roll coater, a reverse roll coater, a gravure coater, a knife coater, and a bar coater can be adopted. The buffer layer composition is then heated at 50-150 ° C. The heating time is 10 seconds to 10 minutes. In this way, the buffer layer 2 is formed.

続いて、ハードコート層用組成物を緩衝層２上に塗布する。塗布方法は、緩衝層２と同じである。次に、ハードコート層用組成物を乾燥させる。乾燥の方法は、特には限定されないが例えば、この組成物が塗布された基材フィルム１を、乾燥器内を通過させる方法が挙げられる。このときの乾燥温度は、例えば、４０〜１００℃であることが好ましい。その後、この組成物を光重合により硬化させる。この硬化には、電離放射線源として紫外線を使用することが好ましく、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源を利用することができる。こうして、この組成物が硬化し、ハードコート層３が形成される。以上の工程により、カバーフィルムが完成する。 Subsequently, the composition for the hard coat layer is applied onto the buffer layer 2. The coating method is the same as that of the buffer layer 2. Next, the composition for the hard coat layer is dried. The method of drying is not particularly limited, and examples thereof include a method of passing the base film 1 coated with this composition through the dryer. The drying temperature at this time is preferably, for example, 40 to 100 ° C. The composition is then cured by photopolymerization. For this curing, it is preferable to use ultraviolet rays as an ionizing radiation source, and a light source such as a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a carbon arc, or a xenon arc can be used. In this way, the composition is cured and the hard coat layer 3 is formed. The cover film is completed by the above steps.

なお、カバーフィルムの反りを防止するため、基材フィルム１の両面に、それぞれ緩衝層２とハードコート層３を積層させることもできる。 In order to prevent the cover film from warping, the buffer layer 2 and the hard coat layer 3 can be laminated on both sides of the base film 1, respectively.

また、緩衝層２及びハードコート層３を別個に作製した後、基材フィルム１上に、緩衝層２、ハードコート層３をこの順で貼り付けることもできる。この場合、緩衝層２は、シート材として作成しておく。ハードコート層３も、緩衝層２のシート材と同様に作成することができる。すなわち、剥離シートのほか、例えば、ＰＥＴフィルムなどの基材上にハードコート層３を形成することができる。 Further, after the buffer layer 2 and the hard coat layer 3 are separately prepared, the buffer layer 2 and the hard coat layer 3 can be attached to the base film 1 in this order. In this case, the buffer layer 2 is created as a sheet material. The hard coat layer 3 can also be formed in the same manner as the sheet material of the buffer layer 2. That is, in addition to the release sheet, the hard coat layer 3 can be formed on a base material such as a PET film.

あるいは、上記のように、基材フィルム１上に、緩衝層用組成物を塗布し、加熱によって緩衝層２を形成した後、別個に作成したハードコート層３を貼り付けることもできる。 Alternatively, as described above, the buffer layer composition may be applied onto the base film 1, the buffer layer 2 may be formed by heating, and then the separately prepared hard coat layer 3 may be attached.

＜５．特徴＞
本実施形態に係るカバーフィルムによれば、基材フィルム１とハードコート層３との間に緩衝層２を設けているため、例えば、カバーフィルムが画像表示装置に沿って屈曲したときの応力を緩衝層２によって緩和することができる。そのため、カバーフィルムが屈曲したときに、ハードコート層３にクラックが生じるのを防止することができる。また、ハードコート層３の厚みが５０〜２５０μｍであるため、適度な鉛筆硬度と屈曲性能を有することができる。 <5. Features>
According to the cover film according to the present embodiment, since the buffer layer 2 is provided between the base film 1 and the hard coat layer 3, for example, the stress when the cover film is bent along the image display device is applied. It can be relaxed by the buffer layer 2. Therefore, it is possible to prevent the hard coat layer 3 from being cracked when the cover film is bent. Further, since the thickness of the hard coat layer 3 is 50 to 250 μm, it is possible to have appropriate pencil hardness and bending performance.

＜６．変形例＞
上述した緩衝層２とハードコート層３の組成は一例であり、種々の材料を用いることができる。緩衝層２は、上記のように、屈曲によってハードコート層３に作用する応力を緩和するため、ハードコート３層よりも柔らかい材料であることが必要である。したがって、例えば、ハードコート層３の１Ｈｚ、２５℃における引張貯蔵弾性率を１．０×１０9Ｐａ〜１．０×１０10Ｐａとしたとき、緩衝層２のせん断貯蔵弾性率を１．０×１０5Ｐａ以下とすることが好ましい。 <6. Modification example>
The composition of the buffer layer 2 and the hard coat layer 3 described above is an example, and various materials can be used. As described above, the buffer layer 2 needs to be a softer material than the hard coat 3 layer in order to relieve the stress acting on the hard coat layer 3 due to bending. Therefore, for example, when the tensile storage elastic modulus of the hard coat layer 3 at 1 Hz and 25 ° C. is 1.0 × 10 9 Pa to 1.0 × 10 10 Pa, the shear storage elastic modulus of the buffer layer 2 is 1.0. It is preferably × 10 5 Pa or less.

次に、本発明の実施例について説明する。但し、本発明は、以下の実施例に限定されない。 Next, examples of the present invention will be described. However, the present invention is not limited to the following examples.

＜１．実施例及び比較例の作製＞
実施例１〜１２及び比較例１，２に係るカバーフィルムを準備した。 <1. Preparation of Examples and Comparative Examples>
The cover films according to Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 and 2 were prepared.

（１）基材フィルム
厚みが５０μｍのポリエチレンテレフタレートによって形成した。 (1) Base film Formed by polyethylene terephthalate having a thickness of 50 μm.

（２）緩衝層
重量平均分子量４０万、水酸基価１０〜２０であるアクリル酸エステル共重合体１００重量部に対し、溶剤（酢酸エチル）にて固形分３５％に希釈し、イソシアネート系架橋剤（東ソー社製 型番「コロネートＬ−５５Ｅ」）を０．１３重量部添加し、撹拌した。こうして、緩衝層用の塗工液を生成した。 (2) Buffer layer 100 parts by weight of an acrylic acid ester copolymer having a weight average molecular weight of 400,000 and a hydroxyl value of 10 to 20 is diluted with a solvent (ethyl acetate) to a solid content of 35%, and an isocyanate-based cross-linking agent ( 0.13 parts by weight of Tosoh's model number "Coronate L-55E") was added and stirred. In this way, a coating liquid for the buffer layer was generated.

この塗工液を上記基材フィルム上にアプリケーターを用い、乾燥後の膜厚が表１のようになるように塗工した。その後、乾燥炉（アドバンテック社製 型番：ＤＲＤ６２０ＤＡ）で９０℃、５ｍｉｎ加熱・乾燥し塗工液を半硬化させた。この緩衝層のせん断貯蔵弾性率は、１Ｈｚ、２５℃において、２．６×１０4Ｐａであった。 This coating liquid was applied onto the base film using an applicator so that the film thickness after drying would be as shown in Table 1. Then, the coating liquid was semi-cured by heating and drying at 90 ° C. for 5 minutes in a drying oven (model number: DRD620DA manufactured by Advantech). The shear storage elastic modulus of this buffer layer was 2.6 × 10 4 Pa at 1 Hz and 25 ° C.

（３）ハードコート層
ハードコート層は、（Ａ）ポリイソシアネート化合物（但し、脂環構造を有するものを除く。）と水酸基含有（メタ）アクリレートとを反応させてなる多官能ウレタン（メタ）アクリレートと、（Ｂ）脂環構造を有する２官能（メタ）アクリレートと、光重合開始剤である成分（Ｃ）と、によって調製した。 (3) Hard coat layer The hard coat layer is a polyfunctional urethane (meth) acrylate formed by reacting (A) a polyisocyanate compound (excluding those having an alicyclic structure) with a hydroxyl group-containing (meth) acrylate. And (B) a bifunctional (meth) acrylate having an alicyclic structure, and a component (C) which is a photopolymerization initiator.

まず、（Ａ）成分を調製した。具体的には、ポリイソシアネート化合物として、１，６−ヘキサンジイソシアネートのイソシアヌレート型３量体（１３０ｇ）を用意した。また、水酸基含有（メタ）アクリレートとして、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（８７０ｇ）を用意した。これらと、重合禁止剤としてのハイドロキノンメチルエーテル０．８ｇと、溶媒としてのトルエンとを、撹拌機、冷却管、温度計を備えたガラス製の反応機内に投入した。１，６−ヘキサンジイソシアネートのイソシアヌレート型３量体と、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとの−ＯＨ基／−ＮＣＯ基は１／１であった。更に、ウレタン化触媒としてジラウリン酸ジブチルスズ０．３ｇを添加して、８５度で６時間反応させた後、溶剤を留去して成分（Ａ）の多官能ウレタン（メタ）アクリレートを調製した。 First, the component (A) was prepared. Specifically, as a polyisocyanate compound, an isocyanurate-type trimer (130 g) of 1,6-hexane diisocyanate was prepared. Further, as a hydroxyl group-containing (meth) acrylate, dipentaerythritol pentaacrylate (870 g) was prepared. These, 0.8 g of hydroquinone methyl ether as a polymerization inhibitor, and toluene as a solvent were put into a glass reactor equipped with a stirrer, a cooling tube, and a thermometer. The -OH group / -NCO group of the isocyanurate-type trimer of 1,6-hexanediisocyanate and dipentaerythritol pentaacrylate was 1/1. Further, 0.3 g of dibutyltin dilaurate was added as a urethanization catalyst, and the mixture was reacted at 85 ° C. for 6 hours, and then the solvent was distilled off to prepare a polyfunctional urethane (meth) acrylate of the component (A).

ガラス容器に、上述のように調製した成分（Ａ）の多官能ウレタン（メタ）アクリレート１９３．６ｇと、成分（Ｂ）の脂環構造を有する２官能（メタ）アクリレートとしてのトリシクロデカンジメタノールジメタクリレート９６．８ｇと、成分（Ａ）及び（Ｂ）以外の３官能以上の多官能ポリエステルアクリレート６７７．６ｇと、成分（Ｃ）の光重合開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン９．７ｇと、紫外線吸収剤として２−ヒドロキシ−４−（アクリロイルエトキシ）ベンゾフェノン０．９７ｇと、増感剤としてチオール化合物１９．４ｇとを添加した。成分（Ａ）の質量（ＭＡ）と成分（Ｂ）の質量（ＭＢ）との質量比（ＭＡ）／（ＭＢ）は、６６．７／３３．３であった。 In a glass container, 193.6 g of the polyfunctional urethane (meth) acrylate of the component (A) prepared as described above and tricyclodecanedimethanol as the bifunctional (meth) acrylate having the alicyclic structure of the component (B). 96.8 g of dimethacrylate, 677.6 g of trifunctional or higher functional polyester acrylate other than the components (A) and (B), and 9.7 g of 1-hydroxycyclohexylphenylketone as a photopolymerization initiator of the component (C). , 0.97 g of 2-hydroxy-4- (acryloylethoxy) benzophenone as an ultraviolet absorber and 19.4 g of a thiol compound as a sensitizer were added. The mass ratio (MA) / (MB) of the mass (MA) of the component (A) to the mass (MB) of the component (B) was 66.7 / 33.3.

これらをガラス容器内で、４０℃、２時間の条件下で混合撹拌して、重合性組成物を調製した。重合性組成物の粘度は、２７００ｍＰａ・ｓであった。 These were mixed and stirred in a glass container under the conditions of 40 ° C. for 2 hours to prepare a polymerizable composition. The viscosity of the polymerizable composition was 2700 mPa · s.

得られた重合性組成物を、ＰＥＴフィルムであるＡ４１００（東洋紡株式会社製）の未処理面（易接着層が形成されていない面）に、テスター産業株式会社製のバーコーター：ＲＯＤ＃３８を用いて塗布した。Ａ４１００をもう一枚用意し、当該塗布された重合性組成物上に、Ａ４１００の未処理面が接するようにラミネートして、三層構造のラミネートフィルムを調製した。このとき、最終的なハードコート層の厚みが、表１に示した厚みになるように、重合性組成物の厚みを調整した。 The obtained polymerizable composition was applied to the untreated surface (the surface on which the easy-adhesive layer was not formed) of A4100 (manufactured by Toyobo Co., Ltd.), which is a PET film, with the bar coater: ROD # 38 manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd. Used to apply. Another A4100 was prepared and laminated on the applied polymerizable composition so that the untreated surface of the A4100 was in contact with each other to prepare a laminated film having a three-layer structure. At this time, the thickness of the polymerizable composition was adjusted so that the thickness of the final hard coat layer was the thickness shown in Table 1.

ラミネートフィルムに、紫外線硬化装置（フュージョンＵＶシステムズ・ジャパン株式会社製 商品名：ＣＶ−１１０Ｑ−Ｇ）を用いて積算照射量１５９７ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、重合性組成物を硬化させた後、両面のＰＥＴフィルムを剥離し、ハードコート層を得た。このハードコート層の引張貯蔵弾性率は、１Ｈｚ、２５℃において、２．５×１０9Ｐａであった。 After irradiating the laminated film with ultraviolet rays having an integrated irradiation amount of 1597 mJ / cm 2 using an ultraviolet curing device (trade name: CV-110Q-G manufactured by Fusion UV Systems Japan Co., Ltd.) to cure the polymerizable composition. , The PET films on both sides were peeled off to obtain a hard coat layer. Tensile storage modulus of the hard coat layer, at 1 Hz, 25 ° C., was 2.5 × 10 9 Pa.

（４）カバーフィルムの作製
緩衝層を積層した基材フィルムの緩衝層側に、ハードコート層を貼合により積層し、以下の表１に示すカバーフィルムを作製した。 (4) Preparation of Cover Film A hard coat layer was laminated on the buffer layer side of the base film on which the buffer layer was laminated by laminating, and the cover film shown in Table 1 below was prepared.

＜２．評価＞
（１）鉛筆硬度
実施例１〜１２及び比較例１，２のハードコート層に対し、ＪＩＳ−Ｋ５６００−５−４に準拠する表面鉛筆硬度試験を行った。すなわち、ハードコート層の表面に７５０ｇの荷重をかけた硬度Ｈから９Ｈの鉛筆（三菱ＵＮＩ）を順に用い、試験を行った。そして、ハードコート層の表面のキズによる外観の変化を目視で評価した。以下の表２では、キズが生じたときの鉛筆硬度を記載している。 <2. Evaluation ＞
(1) Pencil hardness A surface pencil hardness test according to JIS-K5600-5-4 was performed on the hard coat layers of Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 and 2. That is, the test was carried out using pencils (Mitsubishi UNI) having a hardness of H to 9H in which a load of 750 g was applied to the surface of the hard coat layer in order. Then, the change in appearance due to scratches on the surface of the hard coat layer was visually evaluated. Table 2 below shows the pencil hardness when scratches occur.

（２）屈曲試験
上記実施例１〜１２及び比較例１，２に係るカバーフィルムから、レーザーカット装置（ＧＣＣ社製ＳｐｉｒｉｔＧＸ ３０Ｗ）によって２×１０ｃｍの試験片を切り出し、常温で屈曲試験（マンドレル試験１回曲げ：ＪＩＳ Ｋ５６００−５−１）を行った。屈曲試験は図２に示すように、円筒体の外周面に２つ折りになるようにカバーフィルムを巻き付けた後、元の状態に戻した。そして、ハードコート層にクラックが発生するか否かを確認した。以下の表２では、ハードコート層にクラックが生じなかった最小の円筒体の半径を示している。なお、ＩＦ屈曲性は、ハードコート層が円筒体に接するように屈曲させたときの結果であり、ＯＦ屈曲性は、基材フィルムが円筒体に接するように屈曲させたときの結果である。 (2) Bending test A 2 × 10 cm test piece was cut out from the cover films according to Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 and 2 by a laser cutting device (SpiritGX 30W manufactured by GCC), and a bending test (mandrel test) was performed at room temperature. Bending once: JIS K5600-5-1) was performed. In the bending test, as shown in FIG. 2, the cover film was wrapped around the outer peripheral surface of the cylindrical body so as to be folded in half, and then returned to the original state. Then, it was confirmed whether or not cracks were generated in the hard coat layer. Table 2 below shows the radius of the smallest cylinder without cracks in the hard coat layer. The IF flexibility is the result when the hard coat layer is bent so as to be in contact with the cylindrical body, and the OF flexibility is the result when the base film is bent so as to be in contact with the cylindrical body.

表２によれば、ハードコート層の厚みが大きくなるにしたがって、概ね鉛筆硬度が高くなっている。特に、実施例９〜１２のように、ハードコート層の厚みが２００μｍ以上となると、緩衝層の厚みにかかわらず、鉛筆硬度が高くなっている。一方、ハードコート層の厚みが小さい比較例１は、鉛筆硬度がＨ未満であった。また、実施例１〜８のように、実施例９〜１２と比べて、ハードコート層の厚みが大きくない場合には、緩衝層の厚みが大きくなるにしたがって、鉛筆硬度が低くなっている。これは、鉛筆によってハードコート層を押圧したとき、緩衝層の厚みが大きいと、ハードコート層が凹みやすくなるからであると考えられる。 According to Table 2, as the thickness of the hard coat layer increases, the pencil hardness generally increases. In particular, when the thickness of the hard coat layer is 200 μm or more as in Examples 9 to 12, the pencil hardness is high regardless of the thickness of the buffer layer. On the other hand, in Comparative Example 1 in which the thickness of the hard coat layer was small, the pencil hardness was less than H. Further, when the thickness of the hard coat layer is not large as compared with Examples 9 to 12, as in Examples 1 to 8, the pencil hardness becomes lower as the thickness of the buffer layer increases. It is considered that this is because when the hard coat layer is pressed with a pencil, if the buffer layer is thick, the hard coat layer is likely to be dented.

また、ＩＦ屈曲性については、緩衝層の厚みにかかわらず、ハードコート層の厚みが大きくなるにしたがって、クラックが発生する円筒体の径が大きくなっている。一方、ＯＦ屈曲性についても、ＩＦ屈曲性と概ね同様の傾向が見られるが、ＩＦ屈曲性よりもハードコート層に作用する応力が大きいため、ＩＦ屈曲性に比べ、全体として屈曲性能が低下している。また、実施例５〜８のように、ハードコート層の厚みが１００μｍ程度であれば、緩衝層の厚みが大きくなるにしたがって、緩衝効果により、ＯＦ屈曲性が向上している。すなわち、より小さい径の円筒体での屈曲性が向上している。一方、比較例２は、ハードコート層の厚みが大きいため、ＩＦ屈曲性及びＯＦ屈曲性のいずれでも屈曲性はよくなかった。したがって、本発明に係るカバーフィルムは、鉛筆硬度と屈曲性能がともに良好であることが分かった。 Regarding IF flexibility, regardless of the thickness of the buffer layer, the diameter of the cylindrical body in which cracks occur increases as the thickness of the hard coat layer increases. On the other hand, the OF flexibility also tends to be almost the same as the IF flexibility, but the stress acting on the hard coat layer is larger than the IF flexibility, so that the bending performance as a whole is lower than that of the IF flexibility. ing. Further, as in Examples 5 to 8, when the thickness of the hard coat layer is about 100 μm, the OF flexibility is improved by the cushioning effect as the thickness of the buffer layer increases. That is, the flexibility of a cylinder having a smaller diameter is improved. On the other hand, in Comparative Example 2, since the thickness of the hard coat layer was large, the flexibility was not good in either IF flexibility or OF flexibility. Therefore, it was found that the cover film according to the present invention has good pencil hardness and bending performance.

１ 基材フィルム
２ 緩衝層
３ ハードコート層


1 Base film 2 Buffer layer 3 Hard coat layer

Claims (4)

透明の基材フィルムと、
前記透明基材フィルムの少なくとも一方の面に積層された緩衝層と、
前記緩衝層上に積層され、電離放射線硬化型樹脂で形成されたハードコート層と、
を備え、
前記ハードコート層の膜厚は、５０〜２５０μｍであり、
前記緩衝層の膜厚は、５〜７５μｍである、カバーフィルム。 With a transparent base film
A buffer layer laminated on at least one surface of the transparent base film and
A hard coat layer laminated on the buffer layer and formed of an ionizing radiation curable resin,
With
The film thickness of the hard coat layer is 50 to 250 μm.
A cover film having a film thickness of 5 to 75 μm. 前記ハードコート層の膜厚が、前記緩衝層の膜厚よりも大きい、請求項１に記載のカバーフィルム。 The cover film according to claim 1, wherein the film thickness of the hard coat layer is larger than the film thickness of the buffer layer. 前記ハードコート層の膜厚に対する前記緩衝層の膜厚が、３〜７０％である、請求項２に記載のカバーフィルム。 The cover film according to claim 2, wherein the film thickness of the buffer layer is 3 to 70% of the film thickness of the hard coat layer. 前記緩衝層は、
１Ｈｚ、２５℃におけるせん断貯蔵弾性率が１．０×１０5Ｐａ以下である、
請求項１から３のいずれかに記載のカバーフィルム。

The buffer layer is
Shear storage elastic modulus at 1 Hz and 25 ° C. is 1.0 × 10 5 Pa or less.
The cover film according to any one of claims 1 to 3.
JP2019061093A 2019-03-27 2019-03-27 Cover film Active JP6697603B1 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019061093A JP6697603B1 (en) 2019-03-27 2019-03-27 Cover film
TW109109543A TW202041362A (en) 2019-03-27 2020-03-23 Cover film having high hardness and high bending resistance
KR1020200034793A KR20200115220A (en) 2019-03-27 2020-03-23 Cover film
CN202010227675.5A CN111748274B (en) 2019-03-27 2020-03-27 Film coating

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019061093A JP6697603B1 (en) 2019-03-27 2019-03-27 Cover film

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP6697603B1 JP6697603B1 (en) 2020-05-20
JP2020157665A true JP2020157665A (en) 2020-10-01

Family

ID=70682501

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019061093A Active JP6697603B1 (en) 2019-03-27 2019-03-27 Cover film

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6697603B1 (en)
KR (1) KR20200115220A (en)
CN (1) CN111748274B (en)
TW (1) TW202041362A (en)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03505308A (en) * 1988-04-28 1991-11-21 イーストマン コダック カンパニー Protective and decorative sheet material with transparent top coat
JPH11300873A (en) * 1998-02-18 1999-11-02 Dainippon Printing Co Ltd Hard-coat film
WO2002078978A2 (en) * 2001-03-30 2002-10-10 3M Innovative Properties Company Graphics-protection sheet and graphics-displaying sheet
JP2004259256A (en) * 2003-02-05 2004-09-16 Nitto Denko Corp Transparent lamination body, pen input image display device, and image display method
JP2015083335A (en) * 2013-10-25 2015-04-30 三菱樹脂株式会社 Laminate
JP2015197487A (en) * 2014-03-31 2015-11-09 大日本印刷株式会社 hard coat film

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4782294B2 (en) * 2001-03-02 2011-09-28 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー．ブイ． Multilayer coating
JP2009181881A (en) * 2008-01-31 2009-08-13 Toppan Printing Co Ltd Transparent conductive film, method of manufacturing transparent conductive film, touch panel and method of manufacturing the same
JP5198120B2 (en) * 2008-03-31 2013-05-15 株式会社きもと Hard coat film and resin molded product
KR20170103644A (en) * 2016-03-04 2017-09-13 동우 화인켐 주식회사 Hard coating film
US10751980B2 (en) * 2016-06-24 2020-08-25 Toray Industries, Inc. Multilayer film
CN109791887B (en) * 2016-10-05 2023-04-28 琳得科株式会社 First protective film-forming sheet
JP6363769B1 (en) * 2017-06-19 2018-07-25 グンゼ株式会社 Cover film

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03505308A (en) * 1988-04-28 1991-11-21 イーストマン コダック カンパニー Protective and decorative sheet material with transparent top coat
JPH11300873A (en) * 1998-02-18 1999-11-02 Dainippon Printing Co Ltd Hard-coat film
WO2002078978A2 (en) * 2001-03-30 2002-10-10 3M Innovative Properties Company Graphics-protection sheet and graphics-displaying sheet
JP2002307621A (en) * 2001-03-30 2002-10-23 Three M Innovative Properties Co Graphics protective sheet and graphics display sheet
JP2004259256A (en) * 2003-02-05 2004-09-16 Nitto Denko Corp Transparent lamination body, pen input image display device, and image display method
JP2015083335A (en) * 2013-10-25 2015-04-30 三菱樹脂株式会社 Laminate
JP2015197487A (en) * 2014-03-31 2015-11-09 大日本印刷株式会社 hard coat film

Also Published As

Publication number Publication date
JP6697603B1 (en) 2020-05-20
KR20200115220A (en) 2020-10-07
CN111748274B (en) 2023-04-07
TW202041362A (en) 2020-11-16
CN111748274A (en) 2020-10-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4817675B2 (en) (Meth) acrylic film, marking film using the same, and receptor sheet
JP6289637B2 (en) Plastic film laminate
JP6114413B2 (en) Plastic film
JP6075009B2 (en) Decorated hard coat film and decorated hard coat adhesive film.
JP4001180B2 (en) Active energy ray-curable resin composition for film protective layer and film using the same
JP2009104002A (en) Protective film for image display device, and image display device including the same
JP5885021B2 (en) Hard coat film
JP2006328364A (en) Active energy ray-curable resin composition and article and molded product using the same
JPWO2014141866A1 (en) Hard coat film, protective film, and image display device
JP6222304B2 (en) LAMINATE AND INFORMATION DISPLAY DEVICE
JPWO2015029667A1 (en) Hard coat laminate and method for producing the same
JP5616187B2 (en) Molded body and resin composition for molded body
JP5082354B2 (en) Protective adhesive film
KR20210104019A (en) Adhesive resin composition, adhesive resin cured product, adhesive sheet, and image display device laminate
JP2013231901A (en) Protective film and decorative protective film
JP2016041778A (en) Protective film, film laminate and polarizing plate
JP6697603B1 (en) Cover film
JP2017078155A (en) Protective film, film laminate and polarizing plate
JP2016177163A (en) Hard coat film and information display device
JP2016060117A (en) Hard coat film, protective film and information display
JP6733071B1 (en) Cover film
JP2019051692A (en) Laminate
JP2016060833A (en) Adhesive film, information display device, and portable electronic terminal
WO2016152644A1 (en) Hard coat film, information display device, and portable electronic terminal
WO2023189573A1 (en) Adhesive sheet, adhesive sheet with mold release film, and adhesive sheet for flexible image display device constituent members

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190408

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20190408

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190809

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20190918

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190924

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20191122

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200128

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200219

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200407

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200424

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6697603

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250