JP2009181881A

JP2009181881A - Transparent conductive film, method of manufacturing transparent conductive film, touch panel and method of manufacturing the same

Info

Publication number: JP2009181881A
Application number: JP2008021261A
Authority: JP
Inventors: Jun Hasegawa; 準長谷川; Takeshi Nishikawa; 健西川
Original assignee: Toppan Printing Co Ltd
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 2008-01-31
Filing date: 2008-01-31
Publication date: 2009-08-13

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent conductive film which has an improved pen-writing durability and an improved pen-writing feeling, to provide a method of manufacturing the same of the transparent conductive film, and to provide a touch panel and a method of manufacturing the same. <P>SOLUTION: The transparent conductive film includes a transparent base material, a cushion layer formed on the one surface of the transparent base material, a hard coated layer formed on the cushion layer, and a first transparent conductive film formed on the other surface of the transparent base material. The cushion layer has an elasticity modulus of ≥10<SP>4</SP>N/m<SP>2</SP>and ≤10<SP>6</SP>N/m<SP>2</SP>and has a layer thickness of ≥1 μm and ≤50 μm. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、透明導電性フィルム、透明導電性フィルムの製造方法、タッチパネル及びその製造方法に関し、特に、透明電極、タッチパネル、電磁波遮蔽膜として有用な透透明導電性フィルム、透明導電性フィルムの製造方法、タッチパネル及びその製造方法に関するものである。 The present invention relates to a transparent conductive film, a method for producing a transparent conductive film, a touch panel and a method for producing the same, and in particular, a transparent conductive film useful as a transparent electrode, a touch panel and an electromagnetic wave shielding film, and a method for producing a transparent conductive film. , A touch panel and a manufacturing method thereof.

透明導電膜は、導電性と光学的な透明性とを合わせ持つという特性を有しているため、産業的には、透明電極、電磁波遮蔽膜、面状発熱膜及び反射防止膜等として使用されている。近年、透明導電膜はタッチパネル向け電極として注目を集めている。 Since the transparent conductive film has the property of having both conductivity and optical transparency, it is industrially used as a transparent electrode, an electromagnetic wave shielding film, a planar heating film, an antireflection film, and the like. ing. In recent years, transparent conductive films have attracted attention as electrodes for touch panels.

タッチパネルには静電容量結合方式、光学方式及び抵抗膜方式等多様な方式が存在する。その中で、透明導電膜が使用されるのは、上下の電極が接触することでタッチ位置を特定する抵抗膜方式や静電容量の変化を感知する静電容量結合方式である。特に抵抗膜方式は、ペン入力が可能であり、比較的安価であることから、携帯用端末及び携帯ゲーム機等幅広く利用されている。この抵抗膜方式は動作原理上導電膜同士の接触がさけられず、タッチパネルの打点寿命を延ばすため、打点耐久性の高い透明導電性フィルムの開発が進められてきている。また、ペンでの入力は通常の紙に書く際の書き心地を得るには至っておらず、今後の改善が望まれている。 There are various types of touch panels such as a capacitive coupling method, an optical method, and a resistive film method. Among them, the transparent conductive film is used in a resistive film system that specifies a touch position by contacting upper and lower electrodes and a capacitive coupling system that senses a change in capacitance. In particular, the resistive film method can be used for pen input and is relatively inexpensive, so that it is widely used for portable terminals and portable game machines. In this resistive film method, contact between conductive films is not avoided on the principle of operation, and the development of transparent conductive films with high dot durability has been promoted in order to extend the hit point life of the touch panel. In addition, input with a pen has not reached the writing comfort of writing on ordinary paper, and future improvements are desired.

液晶パネルの細額縁化や使用環境の多様化により、ディスプレイに組み込まれるタッチパネルの高耐久化が求められている。そのためには、電極となる透明導電性フィルムの高耐久化が必要不可欠である（特許文献１参照）。
特開２００７−２１３８８６号公報 Due to the thin frame of liquid crystal panels and the diversification of usage environments, high durability of touch panels incorporated in displays is required. For that purpose, high durability of the transparent conductive film used as an electrode is indispensable (refer patent document 1).
Japanese Patent Laid-Open No. 2007-213886

本発明は、ペン書き耐久性を高めるとともに、ペンでの書き心地を改善する透明導電性フィルム、透明導電性フィルムの製造方法、タッチパネル及びその製造方法を提供することである。 An object of the present invention is to provide a transparent conductive film, a transparent conductive film manufacturing method, a touch panel, and a manufacturing method thereof that improve pen writing durability and improve writing comfort with a pen.

本発明の請求項１に係る発明は、透明基材と、透明基材上の一方の面に形成されたクッション層と、クッション層上に形成されたハードコート層と、透明基材上のもう一方の面に形成された第１の透明導電膜と、を備えることを特徴とする透明導電性フィルムとしたものである。 The invention according to claim 1 of the present invention includes a transparent substrate, a cushion layer formed on one surface of the transparent substrate, a hard coat layer formed on the cushion layer, and another layer on the transparent substrate. And a first transparent conductive film formed on one surface of the transparent conductive film.

本発明の請求項２に係る発明は、クッション層の弾性係数は１０^４Ｎ／ｍ^２以上１０^６Ｎ／ｍ^２以下であり、クッション層の層厚は１μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の透明導電性フィルムとしたものである。 The invention according to claim 2 of the present invention is characterized in that the elastic modulus of the cushion layer is 10 ⁴ N / m ² or more and 10 ⁶ N / m ² or less, and the thickness of the cushion layer is 1 μm or more and 50 μm or less. The transparent conductive film according to claim 1.

本発明の請求項３に係る発明は、クッション層は透明樹脂または、半硬化透明樹脂であることを特徴とする請求項１または２に記載の透明導電性フィルムとしたものである。 The invention according to claim 3 of the present invention is the transparent conductive film according to claim 1 or 2, wherein the cushion layer is a transparent resin or a semi-cured transparent resin.

本発明の請求項４に係る発明は、第１の透明導電膜の膜厚は５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の透明導電性フィルムとしたものである。 The invention according to claim 4 of the present invention is the transparent conductive film according to claim 1, wherein the film thickness of the first transparent conductive film is 5 nm or more and 50 nm or less.

本発明の請求項５に係る発明は、透明基材と、透明基材上の一方の面に形成されたクッション層と、クッション層上に形成されたハードコート層と、透明基材上のもう一方の面に形成された第１の透明導電膜と、第１の透明導電膜にスペーサを介して対向配置された第２の透明導電膜と、を備えることを特徴とするタッチパネルとしたものである。 The invention according to claim 5 of the present invention includes a transparent substrate, a cushion layer formed on one surface of the transparent substrate, a hard coat layer formed on the cushion layer, and another layer on the transparent substrate. A touch panel comprising: a first transparent conductive film formed on one surface; and a second transparent conductive film disposed opposite to the first transparent conductive film with a spacer interposed therebetween. is there.

本発明の請求項６に係る発明は、クッション層の弾性係数は１０^４Ｎ／ｍ^２以上１０^６Ｎ／ｍ^２以下であり、クッション層の層厚は１μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項５に記載のタッチパネルとしたものである。 The invention according to claim 6 of the present invention is characterized in that the elastic modulus of the cushion layer is 10 ⁴ N / m ² or more and 10 ⁶ N / m ² or less, and the thickness of the cushion layer is 1 μm or more and 50 μm or less. The touch panel according to claim 5 is provided.

本発明の請求項７に係る発明は、クッション層は透明樹脂または、半硬化透明樹脂であることを特徴とする請求項５または６に記載のタッチパネルとしたものである。 The invention according to claim 7 of the present invention is the touch panel according to claim 5 or 6, wherein the cushion layer is a transparent resin or a semi-cured transparent resin.

本発明の請求項８に係る発明は、第１の透明導電膜の膜厚は５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項５に記載のタッチパネルとしたものである。 The invention according to claim 8 of the present invention is the touch panel according to claim 5, wherein the film thickness of the first transparent conductive film is 5 nm or more and 50 nm or less.

本発明の請求項９に係る発明は、透明基材を準備し、透明基材上の一方の面にクッション層を形成し、クッション層上にハードコート層を形成し、透明基材上のもう一方の面に第１の透明導電膜を形成することを特徴とする透明導電性フィルムの製造方法としたものである。 The invention according to claim 9 of the present invention provides a transparent base material, forms a cushion layer on one side of the transparent base material, forms a hard coat layer on the cushion layer, A method for producing a transparent conductive film is characterized in that a first transparent conductive film is formed on one surface.

本発明の請求項１０に係る発明は、クッション層の弾性係数は１０^４Ｎ／ｍ^２以上１０^６Ｎ／ｍ^２以下であり、クッション層の層厚は１μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項９に記載の透明導電性フィルムの製造方法としたものである。 The invention according to claim 10 of the present invention is characterized in that the elastic modulus of the cushion layer is 10 ⁴ N / m ² or more and 10 ⁶ N / m ² or less, and the thickness of the cushion layer is 1 μm or more and 50 μm or less. The method for producing a transparent conductive film according to claim 9.

本発明の請求項１１に係る発明は、クッション層は透明樹脂または、半硬化透明樹脂であることを特徴とする請求項９または１０に記載の透明導電性フィルムの製造方法としたものである。 The invention according to claim 11 of the present invention is the method for producing a transparent conductive film according to claim 9 or 10, wherein the cushion layer is a transparent resin or a semi-cured transparent resin.

本発明の請求項１２に係る発明は、第１の透明導電膜の膜厚は５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項９に記載の透明導電性フィルムの製造方法としたものである。 The invention according to claim 12 of the present invention is the method for producing a transparent conductive film according to claim 9, wherein the film thickness of the first transparent conductive film is 5 nm or more and 50 nm or less. .

本発明の請求項１３に係る発明は、透明基材を準備し、透明基材上の一方の面にクッション層を形成し、クッション層上にハードコート層を形成し、透明基材上のもう一方の面に第１の透明導電膜を形成し、第１の透明導電膜にスペーサを介して第２の透明導電膜を対向配置することを特徴とするタッチパネルの製造方法としたものである。 According to the thirteenth aspect of the present invention, a transparent substrate is prepared, a cushion layer is formed on one surface of the transparent substrate, a hard coat layer is formed on the cushion layer, A touch panel manufacturing method is characterized in that a first transparent conductive film is formed on one surface, and a second transparent conductive film is disposed opposite to the first transparent conductive film with a spacer interposed therebetween.

本発明の請求項１４に係る発明は、クッション層の弾性係数は１０^４Ｎ／ｍ^２以上１０^６Ｎ／ｍ^２以下であり、クッション層の層厚は１μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１３に記載のタッチパネルの製造方法としたものである。 The invention according to claim 14 of the present invention is characterized in that the elastic modulus of the cushion layer is 10 ⁴ N / m ² or more and 10 ⁶ N / m ² or less, and the thickness of the cushion layer is 1 μm or more and 50 μm or less. The touch panel manufacturing method according to claim 13.

本発明の請求項１５に係る発明は、クッション層は透明樹脂または、半硬化透明樹脂であることを特徴とする請求項１３または１４に記載のタッチパネルの製造方法としたものである。 The invention according to claim 15 of the present invention is the touch panel manufacturing method according to claim 13 or 14, wherein the cushion layer is a transparent resin or a semi-cured transparent resin.

本発明の請求項１６に係る発明は、第１の透明導電膜の膜厚は、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１３に記載のタッチパネルの製造方法としたものである。 The invention according to claim 16 of the present invention is the touch panel manufacturing method according to claim 13, wherein the film thickness of the first transparent conductive film is not less than 5 nm and not more than 50 nm.

本発明によれば、ペン書き耐久性を高めるとともに、ペンでの書き心地を改善する透明導電性フィルム、透明導電性フィルムの製造方法、タッチパネル及びその製造方法を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, while improving pen writing durability, the transparent conductive film which improves the writing comfort with a pen, the manufacturing method of a transparent conductive film, a touch panel, and its manufacturing method can be provided.

以下、本発明を、図面を参照しつつ詳細に説明する。実施の形態において、同一構成要素には同一符号を付け、重複する説明は省略する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the embodiments, the same components are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.

図１に示すように、本発明の実施の形態に係る透明導電性フィルム１は、透明基材２、透明基材２の一方の面にクッション層３、クッション層３上にハードコート層４、透明基材２のもう一方の面に第１の透明導電膜５を備えている。 As shown in FIG. 1, a transparent conductive film 1 according to an embodiment of the present invention includes a transparent base 2, a cushion layer 3 on one surface of the transparent base 2, a hard coat layer 4 on the cushion layer 3, A first transparent conductive film 5 is provided on the other surface of the transparent substrate 2.

本発明の実施の形態に係る透明導電性フィルム１は、ハードコート層４と透明基材２との間にクッション層３を備えている。ハードコート層４と透明基材２との間にクッション層３を備えることにより、透明導電性フィルム１をタッチパネルに搭載したときの、ペン書き耐久性を高めることができる。 The transparent conductive film 1 according to the embodiment of the present invention includes a cushion layer 3 between the hard coat layer 4 and the transparent substrate 2. By providing the cushion layer 3 between the hard coat layer 4 and the transparent substrate 2, pen writing durability when the transparent conductive film 1 is mounted on the touch panel can be enhanced.

本発明の実施の形態に係る透明基材２の材料としては、ポリエチレンやポリプロピレンなどのポリオレフィン；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル；ナイロン６、ナイロン６６などのポリアミド；ポリイミド；ポリアリレート；ポリカーボネート；ポリアクリレート；ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォン及びこれらの共重合体の無延伸あるいは延伸されたプラスチックフィルムを用いることができる。また、透明性の高い他のプラスチックフィルムを用いることもできる。透明基材２の厚さは基材の可撓性を考慮し、１０μｍ以上２００μｍ以下程度のものが用いられる。上記、透明基材２の材料においてはポリエチレンテレフタレートなどを好ましく用いることができる。 Examples of the material for the transparent substrate 2 according to the embodiment of the present invention include polyolefins such as polyethylene and polypropylene; polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polyamides such as nylon 6 and nylon 66; polyimides; Polyacrylate; Polyacrylate; Polyethersulfone, polysulfone, and copolymers of these can be used as unstretched or stretched plastic films. Also, other plastic films with high transparency can be used. The thickness of the transparent substrate 2 is about 10 μm or more and 200 μm or less in consideration of the flexibility of the substrate. As the material for the transparent substrate 2, polyethylene terephthalate or the like can be preferably used.

なお、透明基材２は、易接着処理、プラズマ処理及びコロナ処理などの表面処理が施されていてもよい。また、他の機能層を備えていてもよい。 The transparent substrate 2 may be subjected to surface treatment such as easy adhesion treatment, plasma treatment, and corona treatment. Moreover, you may provide the other functional layer.

本発明の実施の形態に係るクッション層３の硬さは、弾性係数において１０^４Ｎ／ｍ^２以上１０^６Ｎ／ｍ^２以下であり、クッション層３の層厚は、１μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴としている。より好ましくは、クッション層３の層厚を５μｍ以上１０μｍ以下とする。 The hardness of the cushion layer 3 according to the embodiment of the present invention is 10 ⁴ N / m ² or more and 10 ⁶ N / m ² or less in elastic modulus, and the thickness of the cushion layer 3 is 1 μm or more and 50 μm or less. It is characterized by that. More preferably, the layer thickness of the cushion layer 3 is 5 μm or more and 10 μm or less.

クッション層３の硬さを表す弾性係数が１０^６Ｎ／ｍ^２を超えると、クッション層３が硬くなり、クッション性を得られなくなり、第１の透明導電膜５であるＩＴＯ（後述する）にクラックが発生する。一方、１０^４Ｎ／ｍ^２未満ではクッション層３が非弾性となり、加圧により容易に変形が維持された状態となってしまう。 When the elastic modulus representing the hardness of the cushion layer 3 exceeds 10 ⁶ N / m ² , the cushion layer 3 becomes hard and cushioning properties cannot be obtained, and the first transparent conductive film 5 is made of ITO (described later). Cracks occur. On the other hand, if it is less than 10 ⁴ N / m ² , the cushion layer 3 becomes inelastic, and the deformation is easily maintained by pressurization.

クッション層３の層厚が１μｍ未満では良好なクッション性を得られず、クッション層３の層厚が５０μｍより厚くなると透明性を損なうことになる。 When the thickness of the cushion layer 3 is less than 1 μm, good cushioning properties cannot be obtained, and when the thickness of the cushion layer 3 is greater than 50 μm, transparency is impaired.

クッション層３を形成する透明樹脂材料としては、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコン系樹脂、またこれらの共重合体を用いることができる。また上記クッション層３の特性を満たす他の透明樹脂を用いることができる。 As the transparent resin material forming the cushion layer 3, a polyester resin, a polyamide resin, a polyacrylic resin, a polyurethane resin, a silicon resin, or a copolymer thereof can be used. Other transparent resins that satisfy the characteristics of the cushion layer 3 can be used.

また、クッション層３の形成材料としては紫外線硬化型材料を用いることができ、紫外線硬化型材料を完全硬化させるのではなく、半硬化させることにより、クッション性を発現させることができる。紫外線硬化型材料としては、２官能以上の（メタ）アクリレートと多官能アクリレートとを用いることができる。反応性アクリル基が分子内に２個以上持つ化合物ならばどんな材料を用いてもよい。例えばポリエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１,６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１,９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１,１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ポリプロピレングリコールジメタクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。 Further, an ultraviolet curable material can be used as the material for forming the cushion layer 3, and the cushioning property can be expressed by semi-curing the ultraviolet curable material instead of completely curing it. As the ultraviolet curable material, bifunctional or higher functional (meth) acrylates and polyfunctional acrylates can be used. Any material may be used as long as it has two or more reactive acrylic groups in the molecule. For example, polyethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate , Ethoxylated polypropylene glycol dimethacrylate, propoxylated ethoxylated bisphenol A diacrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol (meta ) Acrylate, ethoxylated cyclohexanedimethanol di (meth) acrylate, ethoxylated glycerin triacrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate Ethoxylated trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate, propoxylated pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate However, the present invention is not limited to these.

また、クッション層３の形成材料には、多官能（メタ）アクリレートとしてウレタン（メタ）アクリレートを使用することができる。ウレタン（メタ）アクリレートとしては分子内にウレタン結合と（メタ）アクリレート構造を持つものであればどの材料を用いてもよい。例えばジイソシアネートとジオール及び水酸基含有（メタ）アクリレートから生成されるものを使用することができる。ジイソシアネートとしてはテトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、２,４−トリレンジイソシアネート、４,４−ジフェニルジイソシアネート、１,５−ナフタレンジイソシアネート、３,３−ジメチル−４,４−ジフェニルジイソシアネート、きしりレンジイソシアネート等が挙げられるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。ジオールとしてはエチレングリコール、プロピレングリコール、１,３−ブタンジオール、１,４−ブタンジオール、１,６−ヘキサンジオール、１,９−ナノンジオール、ネオペンチルグリコール、１,４−シクロヘキサンジオール、ポリエチレンオキサイドジオール、ポリプロピレンオキサイドジオール、ポリテトラメチレンオキサイドジオール、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物、ポリカプロラクトンジオール、ポリエステルジール及びポリカーボネートジオール等を挙げることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。また、水酸基を持ったアクリレートとしては、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレートのカプロラクトン変性物、２−ヒドロキシエチルアクリレートオリゴマー、２−ヒドロキシプロピルアクリレートオリゴマー及びペンタエリスリトールトリアクリレートを挙げることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。 Moreover, urethane (meth) acrylate can be used for the forming material of the cushion layer 3 as polyfunctional (meth) acrylate. As the urethane (meth) acrylate, any material may be used as long as it has a urethane bond and a (meth) acrylate structure in the molecule. For example, what is produced | generated from diisocyanate, diol, and a hydroxyl-containing (meth) acrylate can be used. Diisocyanates include tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 4,4-diphenyl diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, 3,3-dimethyl-4,4-diphenyl diisocyanate, and kishiri. Although range isocyanate etc. are mentioned, in this invention, it is not necessarily limited to these. Diols include ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 1,9-nanonediol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanediol, and polyethylene oxide. Examples include diol, polypropylene oxide diol, polytetramethylene oxide diol, ethylene oxide adduct of bisphenol A, propylene oxide adduct of bisphenol A, polycaprolactone diol, polyester dial, and polycarbonate diol. It is not done. Examples of the acrylate having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, and 2-hydroxyethyl acrylate caprolactone modified product. Examples include 2-hydroxyethyl acrylate oligomer, 2-hydroxypropyl acrylate oligomer, and pentaerythritol triacrylate, but the present invention is not limited thereto.

多官能アクリレートとしてはポリエステルアクリレートを用いることができる。ポリエステルアクリレートとしては、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキシアクリレート及び２−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させ容易に形成されるものを挙げることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。 Polyester acrylate can be used as the polyfunctional acrylate. Examples of the polyester acrylate include those that are easily formed by reacting 2-hydroxy acrylate and 2-hydroxy acrylate monomers with a polyester polyol. However, the present invention is not limited thereto.

またクッション層３の形成材料には、エポキシアクリレートを使用することができる。エポキシアクリレートとしては、エポキシ樹脂のエポキシ基を開環しアクリル酸でアクリル化することにより得られるアクリレートであり、芳香環、脂環式のエポキシを用いたものがより好ましく用いることができる。 Epoxy acrylate can be used as a material for forming the cushion layer 3. The epoxy acrylate is an acrylate obtained by opening an epoxy group of an epoxy resin and acrylated with acrylic acid, and those using an aromatic ring or an alicyclic epoxy can be more preferably used.

上記アクリレートは１種類のみを用いても２種以上混合して使用してもよい。 The acrylate may be used alone or in combination of two or more.

このとき、クッション層３の形成材料には、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類及びチオキサントン類等の光重合開始剤が添加される。また、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン及びポリ−ｎ−ブチルホスフィン等の光増感剤が含有されていてもよい。 At this time, photopolymerization initiators such as acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, and thioxanthones are added to the material for forming the cushion layer 3. Moreover, photosensitizers, such as n-butylamine, triethylamine, and poly-n-butylphosphine, may be contained.

ハードコート層４の形成材料としては、電離放射線硬化型材料を用いることができる。電離放射線硬化型材料は、紫外線や電子線といった電離放射線により硬化する材料であり、２官能以上の（メタ）アクリレートと多官能アクリレートとを用いることができる。反応性アクリル基が分子内に２個以上持つ化合物ならばどの材料を用いてもよい。例えばポリエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１,６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１,９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１,１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ポリプロピレングリコールジメタクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート及びジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが挙げられるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。 As a material for forming the hard coat layer 4, an ionizing radiation curable material can be used. The ionizing radiation curable material is a material that is cured by ionizing radiation such as ultraviolet rays or electron beams, and bifunctional or higher (meth) acrylates and polyfunctional acrylates can be used. Any material may be used as long as it is a compound having two or more reactive acrylic groups in the molecule. For example, polyethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate , Ethoxylated polypropylene glycol dimethacrylate, propoxylated ethoxylated bisphenol A diacrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol (meta ) Acrylate, ethoxylated cyclohexanedimethanol di (meth) acrylate, ethoxylated glycerin triacrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate Ethoxylated trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate, propoxylated pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate. The present invention is not limited to these.

また、ハードコート層４の形成材料には、多官能（メタ）アクリレートとしてウレタン（メタ）アクリレートを使用することができる。ウレタン（メタ）アクリレートとしては分子内にウレタン結合と（メタ）アクリレート構造を持つものであればどの材料を用いてもよい。例えばジイソシアネートとジオール及び水酸基含有（メタ）アクリレートから生成されるものを使用することができる。ジイソシアネートとしてはテトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、２,４−トリレンジイソシアネート、４,４−ジフェニルジイソシアネート、１,５−ナフタレンジイソシアネート、３,３−ジメチル−４,４−ジフェニルジイソシアネート、きしりレンジイソシアネート等が挙げられるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。ジオールとしてはエチレングリコール、プロピレングリコール、１,３−ブタンジオール、１,４−ブタンジオール、１,６−ヘキサンジオール、１,９−ナノンジオール、ネオペンチルグリコール、１,４−シクロヘキサンジオール、ポリエチレンオキサイドジオール、ポリプロピレンオキサイドジオール、ポリテトラメチレンオキサイドジオール、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物、ポリカプロラクトンジオール、ポリエステルジール、ポリカーボネートジオール等を挙げることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。また、水酸基を持ったアクリレートとしては、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレートのカプロラクトン変性物、２−ヒドロキシエチルアクリレートオリゴマー、２−ヒドロキシプロピルアクリレートオリゴマー及びペンタエリスリトールトリアクリレート等を例として挙げることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。 Moreover, urethane (meth) acrylate can be used for the formation material of the hard-coat layer 4 as polyfunctional (meth) acrylate. As the urethane (meth) acrylate, any material may be used as long as it has a urethane bond and a (meth) acrylate structure in the molecule. For example, what is produced | generated from diisocyanate, diol, and a hydroxyl-containing (meth) acrylate can be used. Diisocyanates include tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 4,4-diphenyl diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, 3,3-dimethyl-4,4-diphenyl diisocyanate, and kishiri. Although range isocyanate etc. are mentioned, in this invention, it is not necessarily limited to these. Diols include ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 1,9-nanonediol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanediol, and polyethylene oxide. Examples include diol, polypropylene oxide diol, polytetramethylene oxide diol, ethylene oxide adduct of bisphenol A, propylene oxide adduct of bisphenol A, polycaprolactone diol, polyester dial, polycarbonate diol, etc. It is not done. Examples of the acrylate having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, and 2-hydroxyethyl acrylate caprolactone modified product. Examples include 2-hydroxyethyl acrylate oligomer, 2-hydroxypropyl acrylate oligomer, pentaerythritol triacrylate, and the like, but the present invention is not limited thereto.

多官能アクリレートとしてはポリエステルアクリレートを用いることができる。ポリエステルアクリレートとしては、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキシアクリレート及び２−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させて容易に形成されるものを挙げることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。 Polyester acrylate can be used as the polyfunctional acrylate. Examples of polyester acrylates include those that are easily formed by reacting polyester polyol with 2-hydroxy acrylate and 2-hydroxy acrylate monomers, but are not limited to these in the present invention.

またエポキシアクリレートを使用することができる。エポキシアクリレートとしては、エポキシ樹脂のエポキシ基を開環しアクリル酸でアクリル化することにより得られるアクリレートであり、芳香環、脂環式のエポキシを用いたものがより好ましく用いることができる。 Epoxy acrylate can also be used. The epoxy acrylate is an acrylate obtained by opening an epoxy group of an epoxy resin and acrylated with acrylic acid, and those using an aromatic ring or an alicyclic epoxy can be more preferably used.

さらに光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類及びチオキサントン類等が挙げられるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。また、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン及びポリ−ｎ−ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。 Furthermore, examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, and thioxanthones, but the invention is not limited thereto. In addition, n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine, and the like can be mixed and used as a photosensitizer.

これらの樹脂及び光重合開始剤は溶媒に溶かし固形分を３０重量％以上８０重量％以下、より好ましくは４０重量％以上６０重量％以下に調整し基材上に塗工することができる。 These resins and photopolymerization initiators can be dissolved in a solvent and the solid content can be adjusted to 30% by weight or more and 80% by weight or less, more preferably 40% by weight or more and 60% by weight or less, and can be coated on the substrate.

クッション層３及びハードコート層４の塗布方法としては、通常用いられるディッピング法、ロールコーティング法、スクリーン印刷法及びスプレー法などの方法を用いることができる。 As a method for applying the cushion layer 3 and the hard coat layer 4, commonly used methods such as a dipping method, a roll coating method, a screen printing method, and a spray method can be used.

本発明の実施の形態に係る第１の透明導電膜５を形成する導電性材料としては、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛等の酸化物及びその混合酸化物等を挙げることができる。特に酸化インジウムと酸化錫との混合酸化物（ＩＴＯ）が好適に用いられる。 Examples of the conductive material forming the first transparent conductive film 5 according to the embodiment of the present invention include oxides such as indium oxide, tin oxide, and zinc oxide, and mixed oxides thereof. In particular, a mixed oxide (ITO) of indium oxide and tin oxide is preferably used.

第１の透明導電膜５の導電性材料には、必要に応じて、Ａｌ、Ｚｒ、Ｇａ、Ｓｉ及びＷ等の添加物を含有させることができる。 The conductive material of the first transparent conductive film 5 can contain additives such as Al, Zr, Ga, Si, and W as necessary.

第１の透明導電膜５の膜厚としては５ｎｍ以上５０ｎｍ以下が好適である。第１の透明導電膜５の膜厚が５ｎｍ未満になると膜の均一性が得にくくなり、また５０ｎｍを超えると透明性の低下が起こる。 The film thickness of the first transparent conductive film 5 is preferably 5 nm or more and 50 nm or less. When the thickness of the first transparent conductive film 5 is less than 5 nm, it becomes difficult to obtain film uniformity, and when it exceeds 50 nm, the transparency is lowered.

本発明の実施の形態に係る第１の透明導電膜５の製造方法については特に限定はないが、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法等の真空成膜法を用いて好ましく製造することができる。 The method for producing the first transparent conductive film 5 according to the embodiment of the present invention is not particularly limited, but it is preferable to use a vacuum film forming method such as a sputtering method, a vacuum evaporation method, an ion plating method, or a CVD method. Can be manufactured.

図３に示すように、本発明の実施の形態に係るタッチパネル１０は、透明基材２の一方の面にクッション層３、クッション層３上にハードコート層４、透明基材２のもう一方の面に第１の透明導電膜５を備える透明導電性フィルム１、透明導電性フィルム１の第１の透明導電膜５にスペーサ８を介して対向配置された第２の透明導電膜６及び基板７を備えている。 As shown in FIG. 3, the touch panel 10 according to the embodiment of the present invention includes a cushion layer 3 on one surface of the transparent substrate 2, a hard coat layer 4 on the cushion layer 3, and the other of the transparent substrate 2. The transparent conductive film 1 provided with the first transparent conductive film 5 on the surface, the second transparent conductive film 6 disposed opposite to the first transparent conductive film 5 of the transparent conductive film 1 via the spacer 8 and the substrate 7. It has.

本発明の実施の形態に係る透明導電性フィルム１は、タッチパネルの中でも抵抗膜方式のタッチパネルに好適に用いることができる。抵抗膜方式のタッチパネル１０にあっては、本発明の実施の形態に係る透明導電性フィルム１の第１の透明導電膜５と対向配置するように第２の透明導電膜６及び基板７を備えている。第１の透明導電膜５と第２の透明導電膜６とは、スペーサ８により接触しない距離が保たれる。透明導電性フィルム１のハードコート層４側が、タッチパネル１０の前面となり、ペン９により文字等が入力される。 The transparent conductive film 1 which concerns on embodiment of this invention can be used suitably for the touch panel of a resistance film system among touch panels. The resistive film type touch panel 10 includes a second transparent conductive film 6 and a substrate 7 so as to be opposed to the first transparent conductive film 5 of the transparent conductive film 1 according to the embodiment of the present invention. ing. The first transparent conductive film 5 and the second transparent conductive film 6 are kept away from each other by the spacer 8. The hard coat layer 4 side of the transparent conductive film 1 becomes the front surface of the touch panel 10, and characters and the like are input by the pen 9.

本発明の実施の形態に係るタッチパネル１０において、ペン９とハードコート層４とがタッチしていない状態では、スペーサ８により２枚の電極（第１の透明導電膜５と第２の透明導電膜６）が接触していないために電流は流れない。一方、ペン９によりハードコート層４をタッチすると、圧力によりハードコート層４がたわみ、基板７（ガラス面）側の電極（第２の透明導電膜６）と接触して電流が流れる。このとき、透明導電性フィルム１の第１の透明導電膜５と基板７の第２の透明導電膜６との抵抗による分圧比を測定することで、ペン９入力された位置を検出することができる。 In the touch panel 10 according to the embodiment of the present invention, when the pen 9 and the hard coat layer 4 are not touched, two electrodes (a first transparent conductive film 5 and a second transparent conductive film) are formed by the spacer 8. No current flows because 6) is not touching. On the other hand, when the hard coat layer 4 is touched with the pen 9, the hard coat layer 4 bends due to the pressure, and contacts with the electrode (second transparent conductive film 6) on the substrate 7 (glass surface) side so that a current flows. At this time, the position input to the pen 9 can be detected by measuring the voltage division ratio due to the resistance between the first transparent conductive film 5 of the transparent conductive film 1 and the second transparent conductive film 6 of the substrate 7. it can.

透明導電性フィルム１の材料は前述しているために省略し、基板７及び第２の透明導電膜６の材料について述べることにする。基板７の材料は、ガラスに限らず透明であれば使用でき、さらに、前述した透明基材２と同じ材料及び同じ形成方法を用いることができる。第２の透明導電膜６は、第１の透明導電膜５と同一材料及び同一製造方法を用いることができ、さらに、第２の透明導電膜６の膜厚は第１の透明導電膜５と同一にしてもよい。 The material of the transparent conductive film 1 is omitted because it has been described above, and the material of the substrate 7 and the second transparent conductive film 6 will be described. The material of the substrate 7 is not limited to glass and can be used as long as it is transparent. Further, the same material and the same forming method as those of the transparent substrate 2 described above can be used. The second transparent conductive film 6 can use the same material and the same manufacturing method as the first transparent conductive film 5, and the second transparent conductive film 6 has the same film thickness as that of the first transparent conductive film 5. It may be the same.

なお、本発明の実施の形態に係る透明導電性フィルム１は、ハードコート層４の表面に他の機能層を備えてもよい。他の機能層としては、例えば、反射防止層、防汚層を挙げることができる。 In addition, the transparent conductive film 1 which concerns on embodiment of this invention may equip the surface of the hard-coat layer 4 with another functional layer. Examples of other functional layers include an antireflection layer and an antifouling layer.

以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。 Hereinafter, the present invention will be specifically described based on examples.

まず、図１に示すように、透明導電膜性フィルム１の透明基材２は、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを用いた。 First, as shown in FIG. 1, the transparent base material 2 of the transparent conductive film 1 was a PET film having a thickness of 100 μm.

次に、透明基材２上の一方の面にクッション層３を形成した。クッション層３は、新中村化学工業社製、商品名「Ｕ−２ＰＰＡ」で表示されるウレタンアクリレートを１００重量部、チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュアー９０７を５重量部、純正化学社製、メチルエチルケトンを１００重量部、攪拌、混合した塗布液を、バーコート法により硬化膜厚１０μｍになるように塗布、乾燥させ、７０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して半硬化させて形成した。 Next, the cushion layer 3 was formed on one surface on the transparent substrate 2. Cushion layer 3 is made by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 100 parts by weight of urethane acrylate represented by the trade name “U-2PPA”, made by Ciba Specialty Chemicals, 5 parts by weight of Irgacure 907, made by Pure Chemical Co., methyl ethyl ketone A coating solution obtained by stirring and mixing 100 parts by weight was coated and dried so as to have a cured film thickness of 10 μm by a bar coating method, and semi-cured by irradiation with ultraviolet rays of 70 mJ / cm ² .

次に、クッション層３上にハードコート層４を形成した。ハードコート層４は、日本合成化学社製、商品名「１７００Ｂ」で表示されるウレタンアクリレートを１００重量部、チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュアー１８４を３重量部、チバスペシャルティケミカルズ社製、ダロキュアーＴＰＯを２重量部、純正化学社製、メチルエチルケトンを１００重量部、攪拌、混合した塗布液を、バーコート法により硬化膜厚５μｍになるように塗布、乾燥させ、４００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して形成した。 Next, the hard coat layer 4 was formed on the cushion layer 3. Hard coat layer 4 is manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., 100 parts by weight of urethane acrylate represented by the trade name “1700B”, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, 3 parts by weight of Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Darocur TPO 2 parts by weight, manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd., 100 parts by weight of methyl ethyl ketone, stirred and mixed, the coating solution was applied to a cured film thickness of 5 μm by the bar coating method, dried, and irradiated with 400 mJ / cm ² ultraviolet rays. Formed.

次に、透明基材２のもう一方の面（ハードコート層４とは反対の面）に、第１の透明導電膜５を形成した。第１の透明導電膜５は酸化インジウムと酸化錫の混合酸化物であるＩＴＯを用いて、直流マグネトロンスパッタリング法にて成膜することにより形成した。 Next, the first transparent conductive film 5 was formed on the other surface of the transparent substrate 2 (the surface opposite to the hard coat layer 4). The first transparent conductive film 5 was formed by forming a film by direct current magnetron sputtering using ITO which is a mixed oxide of indium oxide and tin oxide.

クッション層３の硬化条件が４０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線照射で行った以外は、実施例１と同様にして、透明導電性フィルム１を形成した。 A transparent conductive film 1 was formed in the same manner as in Example 1 except that the curing condition of the cushion layer 3 was 40 mJ / cm ² by ultraviolet irradiation.

クッション層３の硬化条件が８０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線照射で行った以外は、実施例１と同様にして、透明導電性フィルム１を形成した。 A transparent conductive film 1 was formed in the same manner as in Example 1 except that the curing condition of the cushion layer 3 was ultraviolet irradiation of 80 mJ / cm ² .

［比較例１］
クッション層３の硬化条件が４００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線照射を行い、完全硬化させ、クッション性を消失させた以外は、実施例１と同様にして、透明導電性フィルム１を形成した。 [Comparative Example 1]
A transparent conductive film 1 was formed in the same manner as in Example 1 except that the curing condition of the cushion layer 3 was irradiated with ultraviolet rays of 400 mJ / cm ² to be completely cured and the cushioning property was lost.

［比較例２］
まず、図２に示すように、透明導電性フィルム１の透明基材２は、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを用いた。 [Comparative Example 2]
First, as shown in FIG. 2, a PET film having a thickness of 100 μm was used as the transparent substrate 2 of the transparent conductive film 1.

次に、透明基材２上の一方の面にハードコート層４を形成した。ハードコート層４は、日本合成化学社製、商品名「１７００Ｂ」で表示されるウレタンアクリレートを１００重量部、チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュアー１８４を３重量部、チバスペシャルティケミカルズ社製、ダロキュアーＴＰＯを２重量部、純正化学社製、メチルエチルケトンを１００重量部、攪拌、混合した塗布液を、バーコート法により硬化膜厚１５μｍになるように塗布、乾燥させ、４００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して形成した。 Next, the hard coat layer 4 was formed on one surface on the transparent substrate 2. Hard coat layer 4 is manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., 100 parts by weight of urethane acrylate represented by the trade name “1700B”, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, 3 parts by weight of Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Darocur TPO 2 parts by weight, manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd., 100 parts by weight of methyl ethyl ketone, stirred and mixed, the coating solution was applied to a cured film thickness of 15 μm by the bar coating method, dried, and irradiated with 400 mJ / cm ² ultraviolet rays. Formed.

透明基材２のもう一方の面（ハードコート層４とは反対の面）に、第１の透明導電膜５を形成した。第１の透明導電膜５は、酸化インジウムと酸化錫との混合酸化物であるＩＴＯを用いて、直流マグネトロンスパッタリング法にて成膜することにより形成した。 A first transparent conductive film 5 was formed on the other surface of the transparent substrate 2 (the surface opposite to the hard coat layer 4). The first transparent conductive film 5 was formed by forming a film by direct current magnetron sputtering using ITO which is a mixed oxide of indium oxide and tin oxide.

以上の実施例及び比較例について、図３に示すように、タッチパネル１０を形成して、ペン書き耐久性の評価を行った。ペン書きのペン９には、ポリアセタールからなるペン先半径０．８ｍｍのタッチペンを用いて、ハードコート層４の上面から、プロッターにより２２０ｇ加重して、アからンまでのカタカナ文字を１０万字の筆記を行った。その結果を表１に示す。 About the above Example and the comparative example, as shown in FIG. 3, the touch panel 10 was formed and pen-writing durability was evaluated. As the pen 9 for writing with a pen, a touch pen made of polyacetal with a pen tip radius of 0.8 mm is used, and a weight of 220 g is applied from the top surface of the hard coat layer 4 by a plotter to write 100,000 katakana characters from a to n. Went. The results are shown in Table 1.

表１の実施例と比較例とを対比すると、クッション性のある層を有する実施例１〜３の透明導電性フィルム１はペン書き耐久性に優れているとともにペン９での書き心地を向上することができた。 Comparing the examples of Table 1 with the comparative examples, the transparent conductive films 1 of Examples 1 to 3 having a cushioning layer are excellent in pen writing durability and improve writing comfort with the pen 9. I was able to.

本発明の実施の形態に係る透明導電性フィルムを示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the transparent conductive film which concerns on embodiment of this invention. 比較例の透明導電性フィルムを示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the transparent conductive film of a comparative example. 本発明の実施の形態に係るタッチパネルを示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the touchscreen which concerns on embodiment of this invention.

Explanation of symbols

１透明導電性フィルム
２透明基材
３クッション層
４ハードコート層
５第１の透明導電膜
６第２の透明導電膜
７基板
８スペーサ
９ペン
１０タッチパネル DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent conductive film 2 Transparent base material 3 Cushion layer 4 Hard-coat layer 5 1st transparent conductive film 6 2nd transparent conductive film 7 Board | substrate 8 Spacer 9 Pen 10 Touch panel

Claims

A transparent substrate;
A cushion layer formed on one surface of the transparent substrate;
A hard coat layer formed on the cushion layer;
A first transparent conductive film formed on the other surface of the transparent substrate;
A transparent conductive film comprising:

^2. The transparent conductive material according to claim 1, wherein the elastic modulus of the cushion layer is 10 ⁴ N / m ² or more and 10 ⁶ N / m ² or less, and the thickness of the cushion layer is 1 μm or more and 50 μm or less. Sex film.

The transparent conductive film according to claim 1, wherein the cushion layer is a transparent resin or a semi-cured transparent resin.

The transparent conductive film according to claim 1, wherein the first transparent conductive film has a thickness of 5 nm to 50 nm.

A transparent substrate;
A cushion layer formed on one surface of the transparent substrate;
A hard coat layer formed on the cushion layer;
A first transparent conductive film formed on the other surface of the transparent substrate;
A second transparent conductive film disposed opposite to the first transparent conductive film via a spacer;
A touch panel comprising:

The touch panel according to claim 5, wherein an elastic coefficient of the cushion layer is 10 ⁴ N / m ² or more and 10 ⁶ N / m ² or less, and a thickness of the cushion layer is 1 μm or more and 50 μm or less.

The touch panel according to claim 5 or 6, wherein the cushion layer is a transparent resin or a semi-cured transparent resin.

The touch panel according to claim 5, wherein the first transparent conductive film has a thickness of 5 nm to 50 nm.

Prepare a transparent substrate,
Forming a cushion layer on one surface of the transparent substrate;
Forming a hard coat layer on the cushion layer;
A method for producing a transparent conductive film, comprising forming a first transparent conductive film on the other surface of the transparent substrate.

The transparent conductive material according to claim 9, wherein the elastic modulus of the cushion layer is 10 ⁴ N / m ² or more and 10 ⁶ N / m ² or less, and the thickness of the cushion layer is 1 µm or more and 50 µm or less. For producing a conductive film.

The method for producing a transparent conductive film according to claim 9 or 10, wherein the cushion layer is a transparent resin or a semi-cured transparent resin.

The method for producing a transparent conductive film according to claim 9, wherein the film thickness of the first transparent conductive film is 5 nm or more and 50 nm or less.

Prepare a transparent substrate,
Forming a cushion layer on one surface of the transparent substrate;
Forming a hard coat layer on the cushion layer;
Forming a first transparent conductive film on the other surface of the transparent substrate;
A method for manufacturing a touch panel, wherein a second transparent conductive film is disposed opposite to the first transparent conductive film with a spacer interposed therebetween.

14. The touch panel according to claim 13, wherein the elastic modulus of the cushion layer is 10 ⁴ N / m ² or more and 10 ⁶ N / m ² or less, and the thickness of the cushion layer is 1 μm or more and 50 μm or less. Production method.

The method for manufacturing a touch panel according to claim 13 or 14, wherein the cushion layer is a transparent resin or a semi-cured transparent resin.

The method for manufacturing a touch panel according to claim 13, wherein the film thickness of the first transparent conductive film is 5 nm or more and 50 nm or less.