JP2009218034A - Transparent conductive film and touch panel - Google Patents

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Jun Hasegawa
準 長谷川
Takeshi Nishikawa
健 西川
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Toppan Inc
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent conductive film and a touch panel for raising durability and flexibility for pen writing and improving the pen-writing durability in the vicinity of a frame. <P>SOLUTION: The transparent conductive film includes a transparent base material, a cushion layer formed on one surface of the transparent base material, a hard-coated layer formed on the cushion layer, an adhesive layer formed on the other surface of the transparent base material, and a first transparent conductive film formed on the adhesive layer. Film thickness of the adhesive layer of the transparent conductive film is 5-15 nm. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、透明導電性フィルム及びタッチパネルに関する。特に、透明電極、タッチパネル、電磁波遮蔽膜として有用な透明導電性フィルム及びタッチパネルに関するものである。   The present invention relates to a transparent conductive film and a touch panel. In particular, it relates to a transparent electrode, a touch panel, a transparent conductive film useful as an electromagnetic wave shielding film, and a touch panel.

透明導電膜は、導電性と光学的な透明性とを合わせ持つという特性を有しているため、産業的には、透明電極、電磁波遮蔽膜、面状発熱膜、反射防止膜等として使用されている。近年、透明導電膜はタッチパネル向け電極として注目を集めている。   Transparent conductive films have the property of having both conductivity and optical transparency, and are therefore used industrially as transparent electrodes, electromagnetic shielding films, planar heating films, antireflection films, etc. ing. In recent years, transparent conductive films have attracted attention as electrodes for touch panels.

タッチパネルには静電容量結合方式、光学式等及び抵抗膜方式等多様な方式が存在する。その中で、透明導電膜が使用されるのは、上下の電極が接触することでタッチ位置を特定する抵抗膜式や静電容量の変化を感知する静電容量結合方式である。特に抵抗膜方式は、ペン入力が可能であり、比較的安価であることから、携帯用端末及び携帯ゲーム機等幅広く利用されている。この抵抗膜方式は動作原理上導電膜同士の接触がさけられず、タッチパネルの打点寿命を延ばすため、打点耐久性の高い透明導電性フィルムの開発が進められてきている。また、携帯端末の細額縁化に伴い、額縁近傍の入力耐久のあるフレキシブル性の高い透明導電性フィルムが望まれている。   There are various types of touch panels such as a capacitive coupling method, an optical method, and a resistive film method. Among them, the transparent conductive film is used in a resistance film type that identifies a touch position by contacting upper and lower electrodes and a capacitive coupling method that senses a change in capacitance. In particular, the resistive film method can be used for pen input and is relatively inexpensive, so that it is widely used for portable terminals and portable game machines. In this resistive film method, contact between conductive films is not avoided on the principle of operation, and the development of transparent conductive films with high dot durability has been promoted in order to extend the hit point life of the touch panel. In addition, with the thinning of the mobile terminal, a highly flexible transparent conductive film with input durability near the frame is desired.

液晶パネルの細額縁化や使用環境の多様化により、ディスプレイに組み込まれるタッチパネルの高耐久化が求められている。そのためには、電極となる透明導電性フィルムの高耐久化が必要不可欠である(特許文献1参照)。
特開2007−213886
Due to the thin frame of liquid crystal panels and the diversification of usage environments, high durability of touch panels incorporated in displays is required. For that purpose, high durability of the transparent conductive film used as an electrode is indispensable (refer patent document 1).
JP2007-213886

本発明は、ペン書き耐久性及びフレキシブル性を高めるとともに、額縁周辺部でのペン書き耐久性を改善する透明導電性フィルム及びタッチパネルを提供することである。   An object of the present invention is to provide a transparent conductive film and a touch panel that improve pen writing durability and flexibility, and improve pen writing durability in the frame periphery.

本発明の請求項1に係る発明は、透明基材と、透明基材上の一方の面に形成されたクッション層と、クッション層上に形成されたハードコート層と、透明基材上のもう一方の面に形成された密着層と、密着層上に形成された第1の透明導電膜と、を備えることを特徴とする透明導電性フィルムとしたものである。   The invention according to claim 1 of the present invention includes a transparent substrate, a cushion layer formed on one surface of the transparent substrate, a hard coat layer formed on the cushion layer, and another layer on the transparent substrate. A transparent conductive film comprising: an adhesion layer formed on one surface; and a first transparent conductive film formed on the adhesion layer.

本発明の請求項2に係る発明は、密着層の膜厚は5nm以上15nm以下であることを特徴とする請求項1に記載の透明導電性フィルムとしたものである。   The invention according to claim 2 of the present invention is the transparent conductive film according to claim 1, wherein the thickness of the adhesion layer is 5 nm or more and 15 nm or less.

本発明の請求項3に係る発明は、クッション層の弾性係数が1×10N/m以上1×10N/m以下であり、クッション層の層厚は1μm以上50μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の透明導電性フィルムとしたものである。 In the invention according to claim 3 of the present invention, the elastic modulus of the cushion layer is 1 × 10 4 N / m 2 or more and 1 × 10 6 N / m 2 or less, and the thickness of the cushion layer is 1 μm or more and 50 μm or less. The transparent conductive film according to claim 1, wherein the transparent conductive film is formed.

本発明の請求項4に係る発明は、第1の透明導電膜の膜厚は5nm以上50nm以下であることを特徴とする請求項1に記載の透明導電性フィルムとしたものである。   The invention according to claim 4 of the present invention is the transparent conductive film according to claim 1, wherein the film thickness of the first transparent conductive film is 5 nm or more and 50 nm or less.

本発明の請求項5に係る発明は、透明基材と、透明基材上の一方の面に形成されたクッション層と、クッション層上に形成されたハードコート層と、透明基材上のもう一方の面に形成された密着層と、密着層上に形成された第1の透明導電膜と、第1の透明導電膜にスペーサを介して対向配置された第2の透明導電膜と、を備えることを特徴とするタッチパネルとしたものである。   The invention according to claim 5 of the present invention includes a transparent substrate, a cushion layer formed on one surface of the transparent substrate, a hard coat layer formed on the cushion layer, and another layer on the transparent substrate. An adhesion layer formed on one surface; a first transparent conductive film formed on the adhesion layer; and a second transparent conductive film disposed opposite to the first transparent conductive film with a spacer interposed therebetween. The touch panel is characterized by comprising a touch panel.

本発明の請求項6に係る発明は、密着層の膜厚は5nm以上15nm以下であることを特徴とする請求項5に記載のタッチパネルとしたものである。   The invention according to claim 6 of the present invention is the touch panel according to claim 5, wherein the thickness of the adhesion layer is 5 nm or more and 15 nm or less.

本発明の請求項7に係る発明は、クッション層の弾性係数が1×10N/m以上1×10N/m以下であり、クッション層の層厚は1μm以上50μm以下であることを特徴とする請求項5に記載のタッチパネルとしたものである。 In the invention according to claim 7 of the present invention, the elastic modulus of the cushion layer is 1 × 10 4 N / m 2 or more and 1 × 10 6 N / m 2 or less, and the thickness of the cushion layer is 1 μm or more and 50 μm or less. The touch panel according to claim 5, wherein the touch panel is provided.

本発明の請求項8に係る発明は、第1の透明導電膜の膜厚は5nm以上50nm以下であることを特徴とする請求項5に記載のタッチパネルとしたものである。   The invention according to claim 8 of the present invention is the touch panel according to claim 5, wherein the film thickness of the first transparent conductive film is 5 nm or more and 50 nm or less.

本発明によれば、ペン書き耐久性及びフレキシブル性を高めるとともに、額縁周辺部でのペン書き耐久性を改善する透明導電性フィルム及びタッチパネルを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, while improving pen writing durability and flexibility, the transparent conductive film and touch panel which improve pen writing durability in a frame peripheral part can be provided.

以下、本発明を、図面を参照しつつ詳細に説明する。実施の形態において、同一構成要素には同一符号を付け、重複する説明は省略する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the embodiments, the same components are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.

図1に示すように、本発明の実施の形態に係る透明導電性フィルム1は、透明基材2の一方の面にクッション層3、クッション層3上にハードコート層4、透明基材2のもう一方の面に密着層5、密着層5上に第1の透明導電膜6を備えている。   As shown in FIG. 1, a transparent conductive film 1 according to an embodiment of the present invention includes a cushion layer 3 on one surface of a transparent substrate 2, a hard coat layer 4 on the cushion layer 3, and a transparent substrate 2. An adhesive layer 5 is provided on the other surface, and a first transparent conductive film 6 is provided on the adhesive layer 5.

本発明の実施の形態に係る透明導電性フィルム1は、ハードコート層4と透明基材2との間にクッション層3を備えている。ハードコート層4と透明基材2との間にクッション層3を備えることにより、透明導電性フィルム1をタッチパネル11に搭載したときの、ペン書き耐久性を高めることができる。   The transparent conductive film 1 according to the embodiment of the present invention includes a cushion layer 3 between the hard coat layer 4 and the transparent substrate 2. By providing the cushion layer 3 between the hard coat layer 4 and the transparent substrate 2, pen writing durability when the transparent conductive film 1 is mounted on the touch panel 11 can be enhanced.

本発明の実施の形態に係る透明導電性フィルム1は、透明基材2と第1の透明導電膜6との間に密着層5を備えている。透明基材2と第1の透明導電膜6との間に密着層5を備えることにより、透明導電性フィルム1のフレキシブル性が向上され、タッチパネル11に搭載したときの、額縁部のペン書き耐久性を高めることができる。   The transparent conductive film 1 according to the embodiment of the present invention includes an adhesion layer 5 between the transparent substrate 2 and the first transparent conductive film 6. By providing the adhesion layer 5 between the transparent substrate 2 and the first transparent conductive film 6, the flexibility of the transparent conductive film 1 is improved, and the pen writing durability of the frame portion when mounted on the touch panel 11 is improved. Can increase the sex.

本発明の実施の形態に係る透明基材2を形成する材料としては、例えば、ポリエチレンやポリプロピレンなどのポリオレフィン;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル;ナイロン6、ナイロン66などのポリアミド;ポリイミド;ポリアリレート;ポリカーボネート;ポリアクリレート;ポリエーテルサルフォン、ポリサルフォン、これらの共重合体の無延伸あるいは延伸されたプラスチックフィルムを用いることができる。また、透明性の高い他のプラスチックフィルムを用いることもできる。透明基材2の厚さは透明基材2の可撓性を考慮し、10μm以上200μmのものを用いることができる。上記、透明基材2の材料において、ポリエチレンテレフタレートなどを好ましく用いることができる。   Examples of the material for forming the transparent substrate 2 according to the embodiment of the present invention include polyolefins such as polyethylene and polypropylene; polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polyamides such as nylon 6 and nylon 66 Polyimide; Polyarylate; Polycarbonate; Polyacrylate; Polyethersulfone, polysulfone, and a copolymer film of these copolymers that are not stretched or stretched can be used. Also, other plastic films with high transparency can be used. The thickness of the transparent substrate 2 can be 10 μm or more and 200 μm considering the flexibility of the transparent substrate 2. In the material of the transparent substrate 2, polyethylene terephthalate or the like can be preferably used.

なお、これらの透明基材2は、易接着処理、プラズマ処理、コロナ処理などの表面処理を施して、密着性を向上させることができる。   In addition, these transparent base materials 2 can perform surface treatments, such as an easily bonding process, a plasma process, and a corona treatment, and can improve adhesiveness.

本発明の実施の形態に係るクッション層3を形成する透明樹脂材料としては、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコン系樹脂、またこれらの共重合体を用いることができる。また後述するクッション層3の特性を満たす他の透明樹脂を用いることができる。   As the transparent resin material forming the cushion layer 3 according to the embodiment of the present invention, a polyester resin, a polyamide resin, a polyacrylic resin, a polyurethane resin, a silicon resin, or a copolymer thereof can be used. Moreover, other transparent resin which satisfy | fills the characteristic of the cushion layer 3 mentioned later can be used.

また、クッション層3には、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等の光重合開始剤や、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−n−ブチルホスフィン等の光増感剤が含有されていても構わない。   Further, the cushion layer 3 includes photopolymerization initiators such as acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine, etc. These photosensitizers may be contained.

クッション層3の硬さは、弾性係数において1×10N/m以上1×10N/m以下の範囲内であり、クッション層3の膜厚は1μm以上50μm以下の範囲であることを特徴としている。より好ましくはクッション層3の膜厚が5μm以上10μmとする。 The hardness of the cushion layer 3 is in the range of 1 × 10 4 N / m 2 to 1 × 10 6 N / m 2 in terms of elastic modulus, and the thickness of the cushion layer 3 is in the range of 1 μm to 50 μm. It is characterized by that. More preferably, the thickness of the cushion layer 3 is 5 μm or more and 10 μm.

クッション層3の硬さを表す弾性係数が1×10N/mを超えると、クッション層3が硬くなり、クッション性を得られなくなり、第1の透明導電膜6であるITO(後述する)にクラックが発生する。一方、1×10N/m未満ではクッション層3が非弾性となり、加圧により容易に変形してしまう。 When the elastic modulus representing the hardness of the cushion layer 3 exceeds 1 × 10 6 N / m 2 , the cushion layer 3 becomes hard and cushioning properties cannot be obtained, and the ITO that is the first transparent conductive film 6 (described later) ) Cracks. On the other hand, if it is less than 1 × 10 4 N / m 2 , the cushion layer 3 becomes inelastic and easily deforms by pressurization.

クッション層3の膜厚が1μm未満では、良好なクッション性を得られず、クッション層3の膜厚が50μmより厚くなると透明性を損なうことになる。   When the thickness of the cushion layer 3 is less than 1 μm, good cushioning properties cannot be obtained, and when the thickness of the cushion layer 3 is greater than 50 μm, the transparency is impaired.

本発明の実施の形態に係るハードコート層4を形成する材料としては、2官能以上の(メタ)アクリレートと多感能アクリレートとを用いることができる。反応性アクリル基が分子内に2個以上持つ化合物ならばどの材料も好適に用いることができる。例えばポリエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10−デカンジオールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ポリプロピレングリコールジメタクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールAジアクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノール(メタ)アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。   As a material for forming the hard coat layer 4 according to the embodiment of the present invention, bifunctional or higher functional (meth) acrylates and multi-sensitive acrylates can be used. Any material can be suitably used as long as it has two or more reactive acrylic groups in the molecule. For example, polyethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate , Ethoxylated polypropylene glycol dimethacrylate, propoxylated ethoxylated bisphenol A diacrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol (meta ) Acrylate, ethoxylated cyclohexanedimethanol di (meth) acrylate, ethoxylated glycerin triacrylate, trimethylolpropane tri (meth) a Relate, ethoxylated trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate, propoxylated pentaerythritol tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, etc. The present invention is not limited to these.

また、ハードコート層4を形成する材料には、多官能(メタ)アクリレートしてウレタン(メタ)アクリレートを使用することができる。ウレタン(メタ)アクリレートとしては分子内にウレタン結合と(メタ)アクリレート構造とを持つものであればどの材料も好適に用いることができる。例えば、ジイソシアネートとジオールと水酸基含有(メタ)アクリレートとから生成されるものを使用することができる。例えば、ジイソシアネートとしてはテトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、4,4−ジフェニルジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、3,3−ジメチル−4,4−ジフェニルジイソシアネート、きしりレンジイソシアネート等が挙げられる。例えば、ジオールとしてはエチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ナノンジオール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジオール、ポリエチレンオキサイドジオール、ポリプロピレンオキサイドジオール、ポリテトラメチレンオキサイドジオール、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加物、ポリカプロラクトンジオール、ポリエステルジール、ポリカーボネートジオール等を挙げることができる。また、水酸基を持ったアクリレートとしては、例えば2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、4−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレートのカプロラクトン変性物、2−ヒドロキシエチルアクリレートオリゴマー、2−ヒドロキシプロピルアクリレートオリゴマー、ペンタエリスリトールトリアクリレート等を例として挙げることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。   Further, as the material for forming the hard coat layer 4, urethane (meth) acrylate can be used by polyfunctional (meth) acrylate. Any material can be suitably used as the urethane (meth) acrylate as long as it has a urethane bond and a (meth) acrylate structure in the molecule. For example, what is produced | generated from diisocyanate, diol, and a hydroxyl-containing (meth) acrylate can be used. For example, as the diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 4,4-diphenyl diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, 3,3-dimethyl-4,4-diphenyl diisocyanate , And kishirange diisocyanate. For example, as the diol, ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 1,9-nanonediol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanediol, Examples thereof include polyethylene oxide diol, polypropylene oxide diol, polytetramethylene oxide diol, ethylene oxide adduct of bisphenol A, propylene oxide adduct of bisphenol A, polycaprolactone diol, polyester dial, and polycarbonate diol. Examples of acrylates having hydroxyl groups include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, and 2-hydroxyethyl acrylate caprolactone-modified products. , 2-hydroxyethyl acrylate oligomer, 2-hydroxypropyl acrylate oligomer, pentaerythritol triacrylate and the like can be mentioned as examples, but the invention is not limited thereto.

ハードコート層4を形成する材料の多官能アクリレートとしてはポリエステルアクリレートも用いることができる。ポリエステルアクリレートとしては、例えば一般にポリエステルポリオールに2−ヒドロキシアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させ容易に形成されるものを挙げることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。   Polyester acrylate can also be used as the polyfunctional acrylate of the material forming the hard coat layer 4. Examples of the polyester acrylate include those that can be easily formed by reacting a polyester polyol with a 2-hydroxy acrylate or 2-hydroxy acrylate monomer in general, but the invention is not limited thereto.

また、ハードコート層4を形成する材料にはエポキシアクリレートも使用することができる。エポキシアクリレートとしては、エポキシ樹脂のエポキシ基を開環しアクリル酸でアクリル化することにより得られるアクリレートであり、芳香環、脂環式のエポキシを用いたものがより好ましく用いることができる。   Further, epoxy acrylate can also be used as a material for forming the hard coat layer 4. The epoxy acrylate is an acrylate obtained by opening an epoxy group of an epoxy resin and acrylated with acrylic acid, and those using an aromatic ring or an alicyclic epoxy can be more preferably used.

上記アクリレートは1種類のみを用いても2種以上混合して使用しても好適に用いることができる。   The above acrylate can be suitably used by using only one kind or by mixing two or more kinds.

さらに、ハードコート層4には光重合開始剤を用いることができる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。また、光増感剤としてn−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−n−ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。   Furthermore, a photopolymerization initiator can be used for the hard coat layer 4. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, etc., but the present invention is not limited thereto. Further, n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine and the like can be mixed and used as a photosensitizer.

これらの樹脂および光重合開始剤は溶媒に溶かし固形分を30重量%以上80重量%以下、より好ましくは40重量%以上60重量%以下に調整し基材上に塗工することができる。   These resins and photopolymerization initiators can be dissolved in a solvent and the solid content can be adjusted to 30% by weight or more and 80% by weight or less, more preferably 40% by weight or more and 60% by weight or less, and coated on the substrate.

クッション層3及びハードコート層4の塗布方法としては、ディッピング法、ロールコーティング法、スクリーン印刷法、スプレー法などの方法を用いることができる。   As a method for applying the cushion layer 3 and the hard coat layer 4, methods such as a dipping method, a roll coating method, a screen printing method, and a spray method can be used.

本発明の実施の形態に係る密着層5を形成する材料としては、例えば、酸化物、硫化物、フッ化物等の無機化合物を用いることができる。好ましくは酸化珪素、酸化アルミニウムなどを好適に用いることができる。   As a material for forming the adhesion layer 5 according to the embodiment of the present invention, for example, an inorganic compound such as an oxide, sulfide, or fluoride can be used. Preferably, silicon oxide, aluminum oxide, or the like can be suitably used.

密着層5の膜厚としては5nm以上15nm以下が好適である。密着層5の膜厚が5nm未満になると、膜の均一性が得にくくなり、密着層5の膜厚が15nmを超えると透明性が低下してしまう。   The thickness of the adhesion layer 5 is preferably 5 nm or more and 15 nm or less. When the film thickness of the adhesion layer 5 is less than 5 nm, it is difficult to obtain film uniformity, and when the film thickness of the adhesion layer 5 exceeds 15 nm, the transparency is lowered.

本発明の実施の形態に係る第1の導電性薄膜6を形成する導電性材料としては、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛等の酸化物及びその混合酸化物等を挙げることができるが本発明ではこれらに限定されるわけではない。特に酸化インジウムと酸化錫との混合酸化物(ITO)を好適に用いることができる。   Examples of the conductive material for forming the first conductive thin film 6 according to the embodiment of the present invention include oxides such as indium oxide, tin oxide, and zinc oxide, and mixed oxides thereof. However, it is not limited to these. In particular, a mixed oxide (ITO) of indium oxide and tin oxide can be preferably used.

第1の導電性薄膜6の導電性材料には、必要に応じて、Al、Zr、Ga、Si、W等の添加物を含有させることができる。   The conductive material of the first conductive thin film 6 can contain additives such as Al, Zr, Ga, Si, and W as necessary.

第1の透明導電膜6の膜厚としては、5nm以上50nm以下が好適である。第1の透明導電膜6の膜厚が5nm未満になると、膜の均一性が得られにくくなってしまい、第1の透明導電膜6の膜厚が50nmを超えると透明性の低下が起こってしまう。   The film thickness of the first transparent conductive film 6 is preferably 5 nm or more and 50 nm or less. When the film thickness of the first transparent conductive film 6 is less than 5 nm, it becomes difficult to obtain film uniformity. When the film thickness of the first transparent conductive film 6 exceeds 50 nm, the transparency is lowered. End up.

本発明の密着層5及び第1の透明導電膜6の製造方法については特に限定はないが、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、CVD法等の真空成膜法を用いて好ましく製造することができる。   The method for producing the adhesion layer 5 and the first transparent conductive film 6 of the present invention is not particularly limited, but is preferably produced by using a vacuum film-forming method such as a sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method, a CVD method or the like. can do.

図4に示すように、本発明の実施の形態に係るタッチパネル11は、透明基材2の一方の面にクッション層3、クッション層3上にハードコート層4、透明基材2のもう一方の面に密着層5、密着層5上に第1の透明導電膜6を備える透明導電性フィルム1、透明導電性フィルム1の第1の透明導電膜6にスペーサ9を介して対向配置された第2の透明導電膜7及び基板8を備えている。   As shown in FIG. 4, the touch panel 11 according to the embodiment of the present invention includes a cushion layer 3 on one surface of the transparent substrate 2, a hard coat layer 4 on the cushion layer 3, and the other of the transparent substrate 2. The transparent conductive film 1 provided with the adhesion layer 5 on the surface and the first transparent conductive film 6 on the adhesion layer 5, the first transparent conductive film 6 of the transparent conductive film 1 disposed opposite to the first transparent conductive film 6 via the spacer 9. 2 transparent conductive films 7 and a substrate 8 are provided.

本発明の実施の形態に係る透明導電性フィルム1は、タッチパネルの中でも抵抗膜方式のタッチパネルに好適に用いることができる。抵抗膜方式のタッチパネル11にあっては、本発明の実施の形態に係る透明導電性フィルム1の第1の透明導電膜6と対向配置される第2の透明導電膜7と基板8とを備えている。第1の透明導電膜6と第2の透明導電膜7とは、スペーサ9により接触しない距離が保たれる。透明導電性フィルム1のハードコート層4側が、タッチパネル11の前面となり、ペン10により文字等が入力される。   The transparent conductive film 1 which concerns on embodiment of this invention can be used suitably for the touch panel of a resistance film system among touch panels. The resistive film type touch panel 11 includes a second transparent conductive film 7 and a substrate 8 which are disposed to face the first transparent conductive film 6 of the transparent conductive film 1 according to the embodiment of the present invention. ing. The first transparent conductive film 6 and the second transparent conductive film 7 are kept away from each other by the spacer 9. The hard coat layer 4 side of the transparent conductive film 1 becomes the front surface of the touch panel 11, and characters and the like are input by the pen 10.

本発明の実施の形態に係るタッチパネル11において、ペン10とハードコート層4とがタッチしていない状態では、スペーサ9により2枚の電極(第1の透明導電膜6と第2の透明導電膜7)が接触していないために電流は流れない。一方、ペン10によりハードコート層4をタッチすると、圧力によりハードコート層4がたわみ、基板8(ガラス面)側の電極(第2の透明導電膜7)と接触して電流が流れる。このとき、透明導電性フィルム1の第1の透明導電膜6と基板8の第2の透明導電膜7との抵抗による分圧比を測定することで、ペン9により入力された位置を検出することができる。   In the touch panel 11 according to the embodiment of the present invention, two electrodes (a first transparent conductive film 6 and a second transparent conductive film) are formed by the spacer 9 in a state where the pen 10 and the hard coat layer 4 are not touched. No current flows because 7) is not in contact. On the other hand, when the hard coat layer 4 is touched with the pen 10, the hard coat layer 4 bends due to pressure, and a current flows in contact with the electrode (second transparent conductive film 7) on the substrate 8 (glass surface) side. At this time, the position input by the pen 9 is detected by measuring the voltage division ratio due to the resistance between the first transparent conductive film 6 of the transparent conductive film 1 and the second transparent conductive film 7 of the substrate 8. Can do.

透明導電性フィルム1の材料は前述しているために省略し、基板8及び第2の透明導電膜7の材料について述べることにする。基板8の材料は、ガラスに限らず透明であれば使用でき、さらに、前述した透明基材2と同じ材料及び同じ形成方法を用いることができる。第2の透明導電膜7は、第1の透明導電膜6と同一材料及び同一製造方法を用いることができ、さらに、第2の透明導電膜7の膜厚は第1の透明導電膜6と同一にしてもよい。   The material of the transparent conductive film 1 is omitted because it has been described above, and the material of the substrate 8 and the second transparent conductive film 7 will be described. The material of the substrate 8 is not limited to glass and can be used as long as it is transparent. Further, the same material and the same forming method as those of the transparent substrate 2 described above can be used. The same material and the same manufacturing method as the first transparent conductive film 6 can be used for the second transparent conductive film 7, and the film thickness of the second transparent conductive film 7 is the same as that of the first transparent conductive film 6. It may be the same.

なお、本発明の実施の形態に係る透明導電性フィルム1は、ハードコート層4の表面に他の機能層を備えてもよい。他の機能層としては、例えば、反射防止層、防汚層を挙げることができる。   In addition, the transparent conductive film 1 which concerns on embodiment of this invention may equip the surface of the hard-coat layer 4 with another functional layer. Examples of other functional layers include an antireflection layer and an antifouling layer.

以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described based on examples.

まず、図1に示すように透明導電膜性フィルム1の透明基材2には、厚さ100μmのPETフィルムを用いた。   First, as shown in FIG. 1, a PET film having a thickness of 100 μm was used for the transparent base material 2 of the transparent conductive film 1.

次に、透明基材2上の一方の面にクッション層3を形成した。クッション層3は、新中村化学工業株式会社製、商品名「U−2PPA」で表示されるウレタンアクリレートを100重量部、チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュアー907を5重量部、純正化学社製、メチルエチルケトンを100重量部、攪拌、混合した塗布液を、バーコート法により硬化膜厚10μmになるように塗布、乾燥させ、40mJ/cmの紫外線を照射し半硬化させて形成した。 Next, the cushion layer 3 was formed on one surface on the transparent substrate 2. The cushion layer 3 is manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 100 parts by weight of urethane acrylate represented by the trade name “U-2PPA”, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, 5 parts by weight of Irgacure 907, manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd. A coating solution in which 100 parts by weight of methyl ethyl ketone was stirred and mixed was applied by a bar coating method to a cured film thickness of 10 μm, dried, and semi-cured by irradiation with 40 mJ / cm 2 ultraviolet rays.

次に、クッション層3上にハードコート層4を形成した。ハードコート層4は、日本合成化学社製、商品名「1700B」で表示されるウレタンアクリレートを100重量部、チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュアー184を3重量部、チバスペシャリティケミカルズ社製、ダロキュアーTPOを2重量部、純正化学社製、メチルエチルケトンを100重量部、攪拌、混合した塗布液を、バーコート法により硬化膜厚5μmになるように塗布、乾燥させ、400mJ/cmの紫外線を照射して形成した。 Next, the hard coat layer 4 was formed on the cushion layer 3. The hard coat layer 4 is manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., 100 parts by weight of urethane acrylate represented by the trade name “1700B”, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, 3 parts by weight of Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Darocur TPO 2 parts by weight, manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd., 100 parts by weight of methyl ethyl ketone, stirred and mixed, the coating solution was applied by a bar coating method to a cured film thickness of 5 μm, dried, and irradiated with 400 mJ / cm 2 ultraviolet rays. Formed.

次に、透明基材2のもう一方の面(クッション層3とは反対側)に密着層5を形成した。密着層5は、酸化珪素を用いて、直流マグネトロンスパッタリング法にて成膜することにより形成した。   Next, the adhesion layer 5 was formed on the other surface of the transparent substrate 2 (the side opposite to the cushion layer 3). The adhesion layer 5 was formed by forming a film using silicon oxide by a direct current magnetron sputtering method.

次に、密着層5上に第1の透明導電膜6を形成した。第1の透明導電膜6は、酸化インジウムと酸化錫の混合酸化物であるITOを用いて、直流マグネトロンスパッタリング法にて成膜することにより形成した。   Next, a first transparent conductive film 6 was formed on the adhesion layer 5. The first transparent conductive film 6 was formed by forming a film by direct current magnetron sputtering using ITO which is a mixed oxide of indium oxide and tin oxide.

[比較例1]
図2に示すように、第1の透明導電膜6を、透明基材2のもう一方の面(クッション層3と反対側)に直接成膜することにより形成した以外は、実施例1と同様にして、透明導電性フィルム1を形成した。
[Comparative Example 1]
As shown in FIG. 2, the first transparent conductive film 6 is the same as in Example 1 except that the first transparent conductive film 6 is formed directly on the other surface of the transparent substrate 2 (on the side opposite to the cushion layer 3). Thus, a transparent conductive film 1 was formed.

[比較例2]
まず、図3に示すように透明導電膜性フィルム1の透明基材2には、厚さ100μmのPETフィルムを用いた。
[Comparative Example 2]
First, as shown in FIG. 3, a PET film having a thickness of 100 μm was used for the transparent base material 2 of the transparent conductive film 1.

次に、透明基材2の一方の面にハードコート層4を形成した。ハードコート層4は、日本合成化学社製、商品名「1700B」で表示されるウレタンアクリレートを100重量部、チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュアー184を3重量部、チバスペシャリティケミカルズ社製、ダロキュアーTPOを2重量部、純正化学社製、メチルエチルケトンを100重量部、攪拌、混合した塗布液を、バーコート法により硬化膜厚15μmになるように塗布、乾燥させ、400mJ/cmの紫外線を照射して形成した。 Next, the hard coat layer 4 was formed on one surface of the transparent substrate 2. The hard coat layer 4 is manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., 100 parts by weight of urethane acrylate represented by the trade name “1700B”, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, 3 parts by weight of Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Darocur TPO 2 parts by weight, manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd., 100 parts by weight of methyl ethyl ketone, stirred and mixed, the coating solution was applied to a cured film thickness of 15 μm by the bar coating method, dried, and irradiated with 400 mJ / cm 2 ultraviolet rays. Formed.

次に、透明基材2のもう一方の面(ハードコート層4とは反対側)に第1の透明導電膜6を形成した。第1の透明導電膜6は、酸化インジウムと酸化錫の混合酸化物であるITOを用いて、直流マグネトロンスパッタリング法にて成膜することにより形成した。   Next, a first transparent conductive film 6 was formed on the other surface of the transparent substrate 2 (on the side opposite to the hard coat layer 4). The first transparent conductive film 6 was formed by forming a film by direct current magnetron sputtering using ITO which is a mixed oxide of indium oxide and tin oxide.

以上の実施例及び比較例により形成した透明導電膜性フィルム1を用いて、図4に示すように、タッチパネル11を形成して、ペン書き耐久性の評価を行った。ペン書きのペン10には、ポリアセタールからなるペン先半径0.8mmのタッチペンを用いて、ハードコート層4の上面から、プロッターにより220g加重して、アからンまでのカタカナ文字を10万字の筆記を行い、ペン書き前の抵抗値Roとペン書き後の抵抗値Rとの比R/Roで評価を行った。その結果を表1に示す。   Using the transparent conductive film 1 formed in the above examples and comparative examples, as shown in FIG. 4, a touch panel 11 was formed, and pen writing durability was evaluated. The pen 10 is a pen with a pen tip radius of 0.8 mm made of polyacetal, weighted by 220 g from the top surface of the hard coat layer 4 with a plotter, and written 100,000 katakana characters from A to N. And the ratio R / Ro between the resistance value Ro before pen writing and the resistance value R after pen writing was evaluated. The results are shown in Table 1.

以上の実施例及び比較例により形成した透明導電膜性フィルム1を用いて、図4に示すように、タッチパネル11を形成して、屈曲耐久性の評価を行った。屈曲耐久性は透明導電膜を外側にして、φ5mmの円柱状の棒に200gの加重をかけて1分間静止した後、元に戻して抵抗値Rを測定し、屈曲前の抵抗値Roとの比R/Roの値で評価を行った。その結果を表1に示す。   Using the transparent conductive film 1 formed according to the above examples and comparative examples, as shown in FIG. 4, a touch panel 11 was formed, and bending durability was evaluated. For bending durability, with a transparent conductive film on the outside, a cylindrical bar with a diameter of 5 mm was subjected to a load of 200 g and rested for 1 minute, then returned to its original state and measured for a resistance value R. Evaluation was performed using the value of the ratio R / Ro. The results are shown in Table 1.

Figure 2009218034
Figure 2009218034

表1に示す結果から、クッション性のある層を有する実施例1及び比較例1の構成の透明導電性フィルム1は、クッション性のある層の無い比較例2と比べ、ペン書き耐久性に優れていることがわかる。また、密着層5を有する実施例1は、密着層5を持たない比較例1及び比較例2に比べて屈曲耐久性が優れており、フレキシブル性を向上することができた。   From the result shown in Table 1, the transparent conductive film 1 of the structure of Example 1 and Comparative Example 1 which has a layer with cushioning properties is excellent in pen-writing durability compared with Comparative Example 2 without a layer with cushioning properties. You can see that In addition, Example 1 having the adhesion layer 5 was superior in bending durability as compared with Comparative Example 1 and Comparative Example 2 having no adhesion layer 5, and was able to improve flexibility.

本発明の実施の形態に係る透明導電性フィルムを示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the transparent conductive film which concerns on embodiment of this invention. 比較例1の透明導電性フィルムを示す概略断面図である。2 is a schematic cross-sectional view showing a transparent conductive film of Comparative Example 1. FIG. 比較例2の透明導電性フィルムを示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the transparent conductive film of the comparative example 2. 本発明の実施の形態に係るタッチパネルを示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the touchscreen which concerns on embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 透明導電性フィルム
2 透明基材
3 クッション層
4 ハードコート層
5 密着層
6 第1の透明導電膜
7 第2の透明導電膜
8 基板
9 スペーサ
10 ペン
11 タッチパネル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent conductive film 2 Transparent base material 3 Cushion layer 4 Hard-coat layer 5 Adhesion layer 6 1st transparent conductive film 7 2nd transparent conductive film 8 Board | substrate 9 Spacer 10 Pen 11 Touch panel

Claims (8)

透明基材と、
前記透明基材上の一方の面に形成されたクッション層と、
前記クッション層上に形成されたハードコート層と、
前記透明基材上のもう一方の面に形成された密着層と、
前記密着層上に形成された第1の透明導電膜と、
を備えることを特徴とする透明導電性フィルム。
A transparent substrate;
A cushion layer formed on one surface of the transparent substrate;
A hard coat layer formed on the cushion layer;
An adhesion layer formed on the other surface of the transparent substrate;
A first transparent conductive film formed on the adhesion layer;
A transparent conductive film comprising:
前記密着層の膜厚は5nm以上15nm以下であることを特徴とする請求項1に記載の透明導電性フィルム。   The transparent conductive film according to claim 1, wherein the adhesion layer has a thickness of 5 nm to 15 nm. 前記クッション層の弾性係数が1×10N/m以上1×10N/m以下であり、前記クッション層の層厚は1μm以上50μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の透明導電性フィルム。 The elastic modulus of the cushion layer is 1 × 10 4 N / m 2 or more and 1 × 10 6 N / m 2 or less, and the thickness of the cushion layer is 1 μm or more and 50 μm or less. The transparent conductive film as described. 前記第1の透明導電膜の膜厚は5nm以上50nm以下であることを特徴とする請求項1に記載の透明導電性フィルム。   The transparent conductive film according to claim 1, wherein the first transparent conductive film has a thickness of 5 nm to 50 nm. 透明基材と、
前記透明基材上の一方の面に形成されたクッション層と、
前記クッション層上に形成されたハードコート層と、
前記透明基材上のもう一方の面に形成された密着層と、
前記密着層上に形成された第1の透明導電膜と、
前記第1の透明導電膜にスペーサを介して対向配置された第2の透明導電膜と、
を備えることを特徴とするタッチパネル。
A transparent substrate;
A cushion layer formed on one surface of the transparent substrate;
A hard coat layer formed on the cushion layer;
An adhesion layer formed on the other surface of the transparent substrate;
A first transparent conductive film formed on the adhesion layer;
A second transparent conductive film disposed opposite to the first transparent conductive film via a spacer;
A touch panel comprising:
前記密着層の膜厚は5nm以上15nm以下であることを特徴とする請求項5に記載のタッチパネル。   The touch panel according to claim 5, wherein the adhesion layer has a thickness of 5 nm to 15 nm. 前記クッション層の弾性係数が1×10N/m以上1×10N/m以下であり、前記クッション層の層厚は1μm以上50μm以下であることを特徴とする請求項5に記載のタッチパネル。 6. The elastic coefficient of the cushion layer is 1 × 10 4 N / m 2 or more and 1 × 10 6 N / m 2 or less, and the thickness of the cushion layer is 1 μm or more and 50 μm or less. The touch panel described. 前記第1の透明導電膜の膜厚は5nm以上50nm以下であることを特徴とする請求項5に記載のタッチパネル。   The touch panel according to claim 5, wherein the first transparent conductive film has a thickness of 5 nm to 50 nm.
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