KR20200113113A - Non Contact Vertical Typed Processing System For Board - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a noncontact vertical development system for a circuit board which performs work while vertically moving a circuit board such as a printed circuit board while gripping the circuit board by a frame-type jig to protect the surface of a product and obtain high quality. The noncontact vertical development system for a circuit board comprises: a base frame to provide a worktable longitudinally extended in a straight line shape; a main chamber installed on an upper portion of the base frame in a box form; a circuit board supply unit to supply a circuit board into the main chamber; a plurality of jigs to grip the circuit board; a jig transport device to continuously transport the jigs; a surface treatment unit which is installed on the base frame and the main chamber and sprays surface treatment liquid to the surface of the circuit board; a cleaning unit to spray and supply cleaning water to the surface of the circuit board passing through the surface treatment unit; a drying unit to remove cleaning water from the surface of the circuit board passing through the cleaning unit; a jig return unit to return the jigs gripping the treated circuit board toward the circuit board supply unit; and a circuit board collection unit which is installed on the jig return unit and collects the circuit board from the jigs.

Description

기판의 비접촉식 수직 처리시스템{Non Contact Vertical Typed Processing System For Board}Non-Contact Vertical Typed Processing System For Board

본 발명은 기판의 수직 시스템에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 인쇄회로기판 등의 기판을 액자형 지그로써 파지한 상태에서 수직이동시키면서 에칭, 박리 또는 전처리 등의 각종 작업을 수행함으로써 제품의 표면을 보호할 수 있으며 고품질을 얻을 수 있는 기판의 비접촉식 수직 처리시스템에 관한 것이다. The present invention relates to a vertical system of a substrate, and more specifically, while holding a substrate such as a printed circuit board with a frame type jig, it is possible to protect the surface of a product by performing various operations such as etching, peeling or pretreatment while vertically moving. It relates to a non-contact vertical processing system of substrates that can be used and can obtain high quality.

기판을 처리하기 위한 여러 작업내용과 이 작업을 수행하는 여러 시스템이 있다. 기판이라 함은 각종 전자제품에 사용되는 인쇄회로기판이 대표적이다. 인쇄회로기판은 기술의 발달로 초박형화 및 대형화되는 추세에 있다. 기판을 처리하기 위한 작업내용에는 도금, 에칭, 현상, 박리, 전처리 등의 작업을 포함한다. There are several tasks for processing substrates and several systems to do this. The substrate is a typical printed circuit board used in various electronic products. Printed circuit boards tend to become ultra-thin and large due to the development of technology. The work contents for processing the substrate include work such as plating, etching, development, peeling, and pretreatment.

그중 현상이란 포토리소그라피(photolithography) 기술의 일부로서 해당 분야의 기술발전과 더불어 갈수록 복잡해지고 난이도도 높아지고 있다. 인쇄회로기판의 처리공정 중 패턴 노광에서 폴리머로 변화되지 않은 미경화 부분을 화학약품을 이용하여 벗겨냄으로써 인쇄회로기판의 동박상에 필요한 영상을 1차로 재현하는 작업을 말한다. Among them, the phenomenon is a part of photolithography technology, which is becoming more complex and more difficult with the development of technology in the field. It refers to the work of firstly reproducing the image required on the copper foil of the printed circuit board by peeling off the uncured part of the printed circuit board that has not been changed to a polymer in the pattern exposure by using chemicals.

현상작업은 노광공정을 거친 제품의 투입, 세정, 건조, 화학처리, 수차례의 수세와 건조(또는 액절), 산세와 건조(또는 액절), 가열 건조, 배출 등의 세부 작업으로 구성된다. 현상액은 탄산나트륨이 일반적으로 사용되며, 수세액은 사용제품에 따라 공업용수 또는 전해수가 사용될 수 있다. The development work consists of detailed operations such as inputting, cleaning, drying, chemical treatment, washing and drying (or cutting liquid) several times, pickling and drying (or cutting liquid), heating drying, and discharging the product that has gone through the exposure process. Sodium carbonate is generally used as the developer, and industrial water or electrolyzed water may be used as the washing solution depending on the product used.

본 발명은 기존의 기판 현상시스템을 개선하여 작업효율을 높이고 설치 및 운영상 더욱 경제적인 시스템을 구축하기 위한 것이다. 그리고 이 시스템은 비단 현상뿐만 아니라 기판을 처리하는 각종 작업에 응용될 수 있다. The present invention is to improve the existing substrate development system to increase work efficiency and to build a more economical system for installation and operation. In addition, this system can be applied not only to development but also to various tasks for processing substrates.

대한민국 특허출원 제10-2011-0104225호Korean Patent Application No. 10-2011-0104225 대한민국 특허출원 제10-2007-0088002호Korean Patent Application No. 10-2007-0088002

본 발명의 목적은 기판의 안정적인 콘트롤을 통해 불량률을 더 낮추고, 구동부를 개선하여 마모와 소음을 줄일 수 있으며, 효율적인 작업 동선을 통하여 장비의 설치비용을 절감할 수 있으며, 오류발생시 즉각적인 조치를 할 수 있게 하여 작업손실을 최소화하는, 기판의 비접촉식 수직 처리시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 기타 목적은 이하의 설명을 통해 더욱 구체화될 것이다. It is an object of the present invention to further lower the defect rate through stable control of the substrate, to reduce wear and noise by improving the driving unit, to reduce the installation cost of equipment through efficient work flow, and to take immediate action when an error occurs. It is an object of the present invention to provide a non-contact vertical processing system of a substrate, thereby minimizing work loss. Other objects of the present invention will be further embodied through the following description.

위와 같은 목적은, 일직선 형태로 길게 연장되어 있는 작업대를 제공하기 위한 베이스프레임; 일직선 형태로 연속되어 있는 작업공간이 마련되도록 상기 베이스프레임의 상부에 박스 형태로 설치되는 메인챔버; 상기 메인챔버 내부로 기판을 공급하는 기판공급부; 박형으로 된 기판의 가장자리를 클램프로 파지하여 팽팽하게 유지한 상태에서 작업이 이루어질 수 있도록 하는 복수 개의 지그; 상기 메인챔버 내부에 설치되는 것으로서 기판을 파지하고 있는 상기 지그를 연속적으로 이송시키기 위한 지그이송장치; 상기 메인챔버와 베이스프레임에 설치되는 것으로서, 상기 지그이송장치에 의해 상기 메인챔버 내부에서 이송되는 기판의 표면에 표면처리액을 분사하는 표면처리부; 상기 메인챔버와 베이스프레임에 설치되는 것으로서, 상기 표면처리부를 통과한 기판의 표면에 세정수를 분사 공급하기 위한 세정부; 상기 메인챔버와 베이스프레임에 설치되는 것으로서, 상기 세정부를 통과한 기판의 표면에서 세정수를 제거하기 위한 건조부; 처리가 완료된 기판을 파지하고 있는 지그를 상기 기판공급부를 향하여 반송하기 위한 지그반송부; 상기 지그반송부 상에 설치되는 것으로서 상기 지그에서 기판을 회수하는 기판회수부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판의 비접촉식 수직 현상시스템에 의해 달성된다. The above object is, a base frame for providing a worktable that is elongated in a straight line shape; A main chamber installed in the form of a box above the base frame to provide a working space that is continuous in a straight line; A substrate supply unit supplying a substrate into the main chamber; A plurality of jigs for gripping the edge of the thin substrate with a clamp so that the work can be performed in a state that is held taut; A jig transfer device installed in the main chamber and configured to continuously transfer the jig holding the substrate; A surface treatment unit installed in the main chamber and the base frame and spraying a surface treatment liquid onto the surface of the substrate transferred inside the main chamber by the jig transfer device; A cleaning unit installed in the main chamber and the base frame and configured to spray and supply cleaning water to the surface of the substrate passing through the surface treatment unit; A drying unit installed in the main chamber and the base frame and configured to remove cleaning water from the surface of the substrate that has passed through the cleaning unit; A jig transfer unit for transferring a jig holding the processed substrate toward the substrate supply unit; It is achieved by a non-contact vertical developing system of a substrate comprising a; a substrate recovery unit that is installed on the jig transfer unit and recovers the substrate from the jig.

본 발명의 특징에 의하면, 상기 메인챔버는 프레임 및 상기 프레임에 설치되는 것으로서 내부를 볼 수 있는 투명한 윈도우; 상기 메인챔버에 직접 접근할 수 있도록 상기 메인챔버의 연장방향을 따라 상기 윈도우 상에 설치되는 투명 개폐도어;을 포함할 수 있다.According to a feature of the present invention, the main chamber includes a frame and a transparent window that is installed in the frame and can see the inside; It may include; a transparent opening and closing door installed on the window along the extending direction of the main chamber so as to directly access the main chamber.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 지그이송장치는 상기 작업대 위에 "

Figure pat00001
"의 형태로 설치되는 레일설치대; 상기 레일설치대 위에 설치되는 것으로서 일렬로 배열되어 있는 것으로서 상기 지그가 얹히게 되는 이송롤; 상기 이송롤을 회전구동하기 위한 롤구동장치; 메인챔버의 천장에 설치되는 것으로서 지그의 상단 양측면을 지지하는 상부가이드바;를 포함할 수 있다. 여기서 상기 롤구동장치는 마그네틱 구동방식을 이용한 것일 수 있다. According to another feature of the present invention, the jig transfer device is "on the worktable"
Figure pat00001
Rail mounting base installed in the form of "; a transfer roll installed on the rail mounting base and arranged in a row on which the jig is mounted; a roll driving device for rotating the transfer roll; installed on the ceiling of the main chamber; As such, it may include an upper guide bar that supports both upper side surfaces of the jig, wherein the roll driving device may be a magnetic driving method.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면 상기 메인챔버는 길이방향을 따라 중간에 격벽이 마련되어 있어 좌우로 공간이 구분되어 있으며, 한쪽 공간은 표면처리공간으로 이용되고, 다른 쪽 공간은 처리된 기판을 반송하는 반송공간으로 이용되는 것일 수 있다. 여기서 윈도우는 메인챔버의 좌우 양측에 모두 마련되되, 개폐도어는 표면처리공간이 있는 쪽에는 전체 구간에 설치되고 반송공간이 있는 쪽에는 부분적으로 설치될 수 있다. According to another feature of the present invention, the main chamber is provided with a partition wall in the middle along the longitudinal direction, so that the space is divided left and right, one space is used as a surface treatment space, and the other space transports the treated substrate. It may be used as a transport space. Here, the windows are provided on both left and right sides of the main chamber, and the opening and closing door may be installed in the entire section on the side with the surface treatment space and partially on the side with the conveyance space.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 기판공급부, 표면처리부, 세정부, 건조부 및 기판회수부 사이에 각각 버퍼부(buffer portion)가 설치되어 있으며; According to another feature of the present invention, a buffer portion is provided between the substrate supply unit, the surface treatment unit, the cleaning unit, the drying unit and the substrate recovery unit, respectively;

상기 버퍼부에는 상기 기판의 처리과정에 이상이 있을 시 상기 기판 또는 지그를 상기 메인챔버 밖으로 빼낼 수 있도록 개폐도어가 마련되어 있을 수 있다. An opening/closing door may be provided in the buffer unit so that the substrate or jig can be removed from the main chamber when there is an abnormality in the processing of the substrate.

본 발명에 따르면, 기판의 표면처리면이 구동장치 등과 접촉시키지 않으며 연속 구동장치에 의해 연속적으로 작업이 이루어질 수 있도록 하는 비접촉식 연속 처리장치가 제공된다. 본 발명에 의하면 메인챔버에 연장방향을 따라 전체에 걸쳐 윈도우가 마련되어 작업의 진행상황을 그대로 볼 수 있어 관리가 용이하고 메인챔버의 각 작업구간 마다 개폐도어가 설치되어 있으므로 불량품을 바로 인출함으로써 불필요한 후속공정이 진행되는 것을 방지하여 낭비의 요소를 없앨 수 있는 기판의 비접촉식 수직 현상시스템이 제공된다.According to the present invention, there is provided a non-contact type continuous processing device that does not contact the surface-treated surface of a substrate, such as a driving device, and allows the operation to be continuously performed by the continuous driving device. According to the present invention, a window is provided throughout the main chamber along the extension direction, so that the progress of the work can be viewed as it is, so it is easy to manage, and since opening and closing doors are installed in each work section of the main chamber, the defective product is immediately taken out and unnecessary follow-up. A non-contact vertical development system of the substrate is provided that can prevent the process from proceeding and thus eliminate the element of waste.

또한 본 발명에 의하면 하나의 메인챔버를 격벽을 공유하는 2개의 공간으로 나누어 이용함으로써 작업 동선을 짧게 하여 장치의 크기를 줄임으로써 사용 현장의 용적효율을 높이고 시스템 구축비용을 절감할 수 있는 기판의 비접촉식 수직 현상시스템이 제공된다. In addition, according to the present invention, by dividing one main chamber into two spaces that share a partition wall, a non-contact type of a substrate capable of reducing the size of the device by shortening the working flow line, increasing the volumetric efficiency at the site of use and reducing the system construction cost. A vertical developing system is provided.

도 1은 본 발명의 실시예에 의한 기판의 비접촉식 수직 현상시스템의 전체 평면구성도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 의한 기판의 비접촉식 수직 현상시스템의 전체 정면구성도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 의한 기판의 비접촉식 수직 현상시스템의 메인챔버의 개략 사시도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 의한 기판의 비접촉식 수직 현상시스템에서 사용되는 지그의 사시도이다.
도 5는 도 1의 A-A선을 따라 취한 본 발명의 실시예에 의한 기판의 비접촉식 수직 현상시스템의 측단면 구성도이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 의한 기판의 비접촉식 수직 현상시스템의 전체 측면 구성도이다. 1 is an overall plan configuration diagram of a non-contact vertical developing system for a substrate according to an embodiment of the present invention.
2 is an overall front configuration diagram of a non-contact vertical developing system for a substrate according to an embodiment of the present invention.
3 is a schematic perspective view of a main chamber of a non-contact vertical developing system for a substrate according to an embodiment of the present invention.
4 is a perspective view of a jig used in a non-contact vertical developing system for a substrate according to an embodiment of the present invention.
5 is a side cross-sectional view of a non-contact vertical developing system for a substrate according to an embodiment of the present invention taken along line AA of FIG. 1.
6 is an overall side configuration diagram of a non-contact vertical developing system for a substrate according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 내용을 상세하게 설명한다. 도 1, 2, 5를 기본적으로 참조하되, 나머지 도면은 필요한 곳에서 인용하기로 한다.Hereinafter, specific contents of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Basically refer to Figs. 1, 2, and 5, but the remaining drawings will be cited where necessary.

베이스프레임(1)은 일직선 형태로 길게 연장되어 있는 작업대(3)를 제공한다. 작업대(3)는 작업자의 허리 높이로 설치되어 있음으로써 작업자가 편리하게 작업대 위에서 이루어지는 각종 작업을 콘트롤할 수 있게 한다. 베이스프레임(1)은 작업대 아래로는 소정의 저부공간(S1)이 마련되어 있으며, 이 저부공간(S1)에는 각종 부속장치들이 설치될 수 있다. The base frame 1 provides a work table 3 that is elongated in a straight line. The worktable 3 is installed at the height of the worker's waist, so that the worker can conveniently control various tasks performed on the worktable. The base frame 1 is provided with a predetermined bottom space S1 under the worktable, and various accessory devices may be installed in the bottom space S1.

메인챔버(5)가 일직선 형태로 연속되어 있는 작업공간이 마련되도록 베이스프레임(1)의 상부에 박스 형태로 설치된다. 메인챔버(5)는 지붕(7) 및 프레임을 제외하고는 내부를 볼 수 있도록 투명한 윈도우(window)로 구성되어 있다. 그리고 작업자가 메인챔버(5) 내부에 직접 접근할 수 있도록 메인챔버(5)의 연장방향을 따라 윈도우 상에 투명 개폐도어(9)가 설치될 수 있다.The main chamber 5 is installed in a box shape on the upper part of the base frame 1 to provide a working space in which the main chamber 5 is continuous in a straight line. The main chamber 5 is composed of a transparent window so that the inside can be seen except for the roof 7 and the frame. In addition, a transparent opening and closing door 9 may be installed on the window along the extending direction of the main chamber 5 so that the operator can directly access the interior of the main chamber 5.

장치를 멈추고 보수할 일이 있을 경우 해당 지점에 설치된 개폐도어(9)를 열어놓고 작업하면 된다(도 3 참조). 개폐도어(9)는 손잡이(11)를 구비하며 양쪽 여닫이식으로 설치되어 있다. 개폐도어(9)는 밀폐시 수밀을 유지할 수 있는 구조로 메인챔버(5)의 윈도우에 설치된다. If there is a need to stop the device and repair it, you can work with the opening and closing door 9 installed at the point open (see Fig. 3). The opening and closing door 9 has a handle 11 and is installed in a two-sided opening type. The opening and closing door 9 is installed in the window of the main chamber 5 in a structure capable of maintaining watertightness when closed.

기판공급부(13)는 메인챔버(5)의 일측에 마련되어 있는 투입구(15, 도 3 참조)를 통해 그 내부로 기판(P)을 공급한다. 기판공급부(13)는 로봇으로 하여금 적재된 상태로 공급되는 기판(P)을 한 장씩 파지하여 대기 중인 지그(17)에 장착하도록 한다. 기판공급부(13)는 기판(P)이 정확한 위치에서 파지되어 지그(17)에 장착될 수 있도록 하기 위한 기판정렬부(19)를 포함할 수 있다. 기판정렬부(19)는 비젼(vision)을 사용하여 정렬판 위에 놓인 기판의 위치를 판단한 다음 기판이 잘못된 위치에 있을 시 정확한 위치에 세팅되도록 기판(P)을 미세 조정한다. The substrate supply unit 13 supplies the substrate P into the main chamber 5 through an inlet 15 (refer to FIG. 3) provided at one side of the main chamber 5. The substrate supply unit 13 allows the robot to hold the substrates P supplied in a loaded state one by one and mount them on the waiting jig 17. The substrate supply unit 13 may include a substrate alignment unit 19 for allowing the substrate P to be gripped at an accurate position and mounted on the jig 17. The substrate alignment unit 19 determines the position of the substrate placed on the alignment plate using a vision, and then finely adjusts the substrate P so that it is set at the correct position when the substrate is in an incorrect position.

언급한 것처럼 지그(17, 도 4 참조)는 박형으로 된 기판의(P) 가장자리를 클램프(17a)로 파지하여 팽팽하게 유지한 상태에서 작업이 이루어질 수 있도록 한다. 수십개의 지그(17)가 하나의 시스템 내에서 순환하면서 작업을 수행하도록 할 수 있다. 지그(17)는 시스템 내에서 연속적으로 순환하게끔 되어 있고, 시스템의 일측에서는 기판(P)을 장착하고 타측에서는 처리된 기판을 수거하는 구성으로 되어 있다. As mentioned, the jig 17 (refer to FIG. 4) holds the edge of the thin substrate (P) with the clamp 17a so that the work can be performed in a state where it is held tight. Dozens of jigs 17 can be made to perform tasks while circulating within one system. The jig 17 is configured to circulate continuously within the system, and the substrate P is mounted on one side of the system and the processed substrate is collected on the other side.

메인챔버(5) 내부에는 지그이송장치(21)가 설치된다. 지그이송장치(21)는 기판을 파지하고 있는 지그(17)를 수직으로 세운 상태에서 도 1의 화살표(W,W') 방향을 따라 순환식으로 연속 이송시킨다. 지그이송장치(21)는 지그(17)의 하단과 상단만을 파지 또는 가이드한 상태에서 지그(17)를 이송방향(W) 및 반송방향(W')으로 각각 이송시키는 구성을 가진다. Inside the main chamber 5, a jig transfer device 21 is installed. The jig transfer device 21 continuously transfers the jig 17 holding the substrate in a circulating manner along the direction of arrows W and W'of FIG. 1 in a vertically erected state. The jig transfer device 21 has a configuration in which the jig 17 is transferred in the transfer direction W and the transfer direction W', respectively, while holding or guiding only the lower and upper ends of the jig 17.

본 발명의 실시예에 의하면, 지그이송장치(21)는 작업대(3) 위에 "

Figure pat00002
"의 형태로 설치되는 레일설치대(23)와; 레일설치대(23) 위에 설치되는 것으로서 일렬로 배열되어 있는 것으로서 지그(17)가 얹히게 되는 이송롤(25)과; 이송롤(25)을 회전구동하기 위한 롤구동장치(27)와; 메인챔버(5)의 지붕 저면에 설치되는 것으로서 지그(17)의 상단 양측면을 지지하는 상부가이드바(2)를 포함한다. 여기서 롤구동장치(27)는 비접촉식 동력전달방식인 마그네틱 구동방식을 이용한 것일 수 있다. According to an embodiment of the present invention, the jig transfer device 21 is "on the work table 3"
Figure pat00002
Rail mounting base 23 installed in the form of; and a transfer roll 25 on which the jig 17 is mounted as being installed on the rail mounting base 23 and arranged in a row; and rotating the transfer roll 25 It includes a roll driving device 27 for driving, and an upper guide bar 2 that is installed on the bottom of the roof of the main chamber 5 and supports both sides of the upper end of the jig 17. Here, the roll driving device 27 is provided. May be using a magnetic drive method, which is a non-contact power transmission method.

지그이송장치(21)에 의해 메인챔버(5) 내부를 이송하는 기판(P)을 처리하기 위한 표면처리부가 메인챔버(5)와 베이스프레임(1)에 설치된다. A surface treatment part for processing the substrate P that is transferred inside the main chamber 5 by the jig transfer device 21 is installed in the main chamber 5 and the base frame 1.

표면처리부(31)는 지그이송장치(21)에 의해 상기 메인챔버(5) 내부에서 이송되는 기판(P)의 표면에 표면처리액을 분사한다. 본 발명은 특히 기판(P) 상에 인쇄회로패턴을 형성하기 위한 현상시스템에 관한 것으로서 표면처리액(L)은 현상액이 될 수 있다. 그러나 박리, 전처리 등의 다른 작업을 수행하는 경우에는 그에 맞는 표면처리액이 사용되어야 할 것이다. The surface treatment unit 31 sprays a surface treatment liquid onto the surface of the substrate P transferred inside the main chamber 5 by the jig transfer device 21. The present invention particularly relates to a developing system for forming a printed circuit pattern on a substrate P, and the surface treatment liquid L may be a developer. However, when performing other operations such as peeling or pretreatment, a suitable surface treatment liquid should be used.

표면처리부(31)의 후단에는 세정부(33)가 설치된다. 세정부(33)는 메인챔버(5)와 베이스프레임(1)에 설치되는 것으로서, 표면처리부(31)를 통과한 기판(P)의 표면에 세정수를 분사 공급하여 표면처리액을 깨끗하게 제거한다. A cleaning unit 33 is installed at the rear end of the surface treatment unit 31. The cleaning unit 33 is installed in the main chamber 5 and the base frame 1, and cleanly removes the surface treatment liquid by spraying and supplying cleaning water to the surface of the substrate P that has passed through the surface treatment unit 31. .

세정부(33)의 후단에는 건조부(35)가 설치된다. 건조부(35)는 메인챔버(5)와 베이스프레임(1)에 설치되는 것으로서, 세정부(33)를 통과한 기판의 표면에서 세정수를 제거하여 얼룩이 생기는 것을 방지하기 위한 것이다. 건조부(35)를 통과함으로써 기판의 처리공정은 완료가 된다. 건조부(35)는 저온(예를 들어, 20 ~ 35℃)의 압축공기를 먼저 분사 공급하고 이후 고온(예를 들어, 50 ~ 80℃)의 압축공기를 분사 공급하여 완전 건조될 수 있도록 하고 있다. 분사공급하는 공기의 온도조절을 위하여 냉동장치 또는 히터가 채용될 수 있다. 저온으로 공급하는 이유는 물얼룩이 생기는 것을 방지하기 위한 것이다. A drying unit 35 is installed at the rear end of the cleaning unit 33. The drying unit 35 is installed in the main chamber 5 and the base frame 1 and is for preventing stains from occurring by removing washing water from the surface of the substrate that has passed through the washing unit 33. By passing through the drying unit 35, the processing process of the substrate is completed. The drying unit 35 first sprays and supplies compressed air of low temperature (for example, 20 to 35°C), and then sprays and supplies compressed air of high temperature (for example, 50 to 80°C) so that it can be completely dried. have. A refrigeration device or a heater may be employed to control the temperature of the air supplied by injection. The reason for supplying it at a low temperature is to prevent water stains from occurring.

지그반송부(37)는 처리가 완료된 기판(P)을 파지하고 있는 지그를 앞서 설명한 기판공급부(13)를 향하여, 즉 화살표(W') 방향으로 반송한다. 지그반송부(37)는 좌우 폭이 좁인 반송공간(S3)에 설치되며 전술한 지그이송장치(21)와 같은 구성을 가진다. The jig transfer unit 37 transfers the jig holding the processed substrate P toward the substrate supply unit 13 described above, that is, in the direction of an arrow W'. The jig transfer unit 37 is installed in the transfer space S3 having a narrow left and right width and has the same configuration as the jig transfer device 21 described above.

기판회수부(39)는 지그반송부(37) 상의 일지점에 설치되는데, 지그(17)에서 기판(P)을 회수하여 다음 공정으로 반출하도록 하는 것이다. 본 발명의 실시예에 의하면, 기판회수부(39)는 기판공급부(13)의 반대편에 설치된다. The substrate recovery unit 39 is installed at a point on the jig transfer unit 37 to recover the substrate P from the jig 17 and carry it out to the next process. According to the embodiment of the present invention, the substrate recovery unit 39 is installed on the opposite side of the substrate supply unit 13.

본 발명의 실시예에 의하면, 표면처리부(31)와 세정부(33)에는 표면처리액(L)과 세정수를 기판 표면에 분사하고 낙하되는 것을 메인챔버 외부로 배출하기 위한 드레인장치(41)가 마련된다. 드레인장치(41)와 표면처리액을 공급하는 장치는 도 6을 참조하여 보면 알 수 있다. According to an embodiment of the present invention, the surface treatment part 31 and the cleaning part 33 spray the surface treatment liquid L and the cleaning water onto the surface of the substrate, and a drain device 41 for discharging the fall to the outside of the main chamber. Is prepared. The drain device 41 and the device for supplying the surface treatment liquid can be seen with reference to FIG. 6.

표면처리액(L)은 분사노즐에 의해 기판(P) 위에 수차례에 걸쳐 분사하게 되는데, 2 ~ 5회까지 분사하게끔 할 수 있다. 마찬가지로 세정부(33)와 건조부(35) 역시 구동장치에 의해 연속적으로 통과하는 기판(P)에 대하여 수차례에 걸쳐 세정수와 에어를 분사한다. 도시된 바에 의하면 세정부(33)는 6회에 걸쳐 세정수를 기판에 분사하도록 되어 있으며, 건조부(35)는 5회에 걸쳐 기판에 압축공기를 분사여 세정서를 제거하게 되어 있다. The surface treatment liquid (L) is sprayed on the substrate (P) several times by the spray nozzle, and it can be sprayed up to 2 to 5 times. Likewise, the cleaning unit 33 and the drying unit 35 also spray cleaning water and air several times on the substrate P that is continuously passed by the driving device. As illustrated, the cleaning unit 33 sprays the cleaning water onto the substrate six times, and the drying unit 35 sprays compressed air onto the substrate five times to remove the cleaning paper.

본 발명의 다른 특징에 의하면, 기판공급부(13), 표면처리부(31), 세정부(33), 건조부(35) 및 기판회수부(39) 사이에 각각 버퍼부(43-1,43-2,43-3, 43-4, buffer portion)가 설치되어 있다. 버퍼부(43-1 등)는 각 처리과정에 이상이 있을 시 도 3에 도시된 바와 같이 개폐도어(9)를 열고 기판 또는 지그를 장치 밖으로 빼낼 수 있도록 하는 것이다. 이를 위해 각 버퍼부(43-1 등)에는 위에 설명된 개폐도어(9)가 각각 마련되어 있다. According to another feature of the present invention, the buffer units 43-1 and 43- are each between the substrate supply unit 13, the surface treatment unit 31, the cleaning unit 33, the drying unit 35, and the substrate recovery unit 39. 2,43-3, 43-4, buffer portion) are installed. The buffer unit 43-1, etc., allows the opening and closing door 9 to be opened and the substrate or jig out of the apparatus as shown in FIG. 3 when there is an abnormality in each processing process. To this end, each of the buffer units 43-1 and the like is provided with an opening/closing door 9 described above.

버퍼부(43-1 등)에는 이송중에 있는 기판(P)을 정지시키기 위한 정지수단이 마련될 수 있다. 정지수단은 기판을 물리적으로 가로막기 위한 브레이크 기구 또는 홀딩 기구와; 이들에 의해 구동하는 이송롤에 저항이 가해질 경우 슬립(slip)이 생기도록 함으로써 이송롤을 공회전시키기 위한 슬립기구를 포함할 수 있다. A stop means for stopping the substrate P being transferred may be provided in the buffer unit 43-1 or the like. The stopping means includes a brake mechanism or a holding mechanism for physically blocking the substrate; When resistance is applied to the conveying roll driven by these, a slip mechanism may be included for idling the conveying roll by causing slip.

그리고 본 발명의 다른 실시예에 의하면, 버퍼부(43-1 등)에는 지그(17)의 이상유무를 검사하기 위한 검사부가 마련될 수 있다. 또한 버퍼부(43-1 등)에는 문제가 있다고 판단된 기판 및 이를 파지하는 행거는 이송경로 밖으로 내보내기 위한 열외수단이 마련될 수 있다. 상기 열외수단은 기판의 이송을 정지시키기 위한 정지기구와, 정지된 기판을 이송경로 밖으로 인출해내기 위한 중간인출부를 포함할 수 있다. 중간인출부는 로봇이거나 또는 실린더에 의해 가동하는 푸쉬바일 수 있다. 인출해낸 기판은 버퍼부 내부 또는 외부에 마련된 임시수용공간에 임시 보관되도록 할 수 있다. And according to another embodiment of the present invention, the buffer unit 43-1, etc. may be provided with an inspection unit for checking whether the jig 17 is abnormal. In addition, the buffer unit 43-1 or the like may be provided with an external means for discharging the substrate judged to have a problem and the hanger holding the substrate outside the transfer path. The extra-heat means may include a stop mechanism for stopping the transfer of the substrate, and an intermediate withdrawal part for pulling the stopped substrate out of the transfer path. The intermediate withdrawal may be a robot or a push bar actuated by a cylinder. The pulled-out substrate may be temporarily stored in a temporary accommodation space provided inside or outside the buffer unit.

본 발명의 또 다른 실시예에 의하면 상기 메인챔버(5)는 길이방향을 따라 중간에 격벽(45)이 마련되어 있어 좌우로 공간이 구분되어 있다. 격벽(45)에 의해 구분되는 한쪽 공간은 표면처리공간(S2)으로 이용되고, 다른 쪽 공간은 처리된 기판을 반송하는 반송공간(S3)으로 이용될 수 있다. 여기서 윈도우는 메인챔버(5)의 좌우 양측에 모두 마련되되, 개폐도어(9)는 표면처리공간(S2)이 있는 쪽에는 전체 구간에 설치되고 반송공간(S3)이 있는 쪽에는 부분적으로 설치될 수 있다. According to another embodiment of the present invention, the main chamber 5 is provided with a partition wall 45 in the middle along the longitudinal direction, so that the space is divided left and right. One space separated by the partition wall 45 may be used as a surface treatment space S2, and the other space may be used as a transport space S3 for transporting the processed substrate. Here, the windows are provided on both left and right sides of the main chamber 5, but the opening and closing door 9 is installed in the entire section on the side with the surface treatment space S2, and partially installed on the side with the conveyance space S3. I can.

본 발명의 또 다른 다른 특징에 의하면, 표면처리부(31), 세정부(33), 건조부(35) 및 기판회수부(39)의 이송경로를 따라 이송하는 기판(P)의 이송속도는 2종 이상으로 조합 구성될 수 있다. 즉 이송장치는 기판(P)을 신속하게 이송시키는 곳과 느리게 이송시키는 곳으로 구분하여 운영되는 것이다. 이것은 기판 이송장치가 복수 개가 마련되고 각자 독립적으로 운전될 수 있는 것을 의미한다. According to another feature of the present invention, the transfer speed of the substrate P transferred along the transfer path of the surface treatment unit 31, the cleaning unit 33, the drying unit 35, and the substrate recovery unit 39 is 2 It may be composed of combinations of more than one species. That is, the transfer device is operated by dividing the substrate P into a place that transfers quickly and a place that transfers slowly. This means that a plurality of substrate transfer devices are provided and each can be operated independently.

위에 도시 및 설명된 구성은 본 발명의 기술적 사상에 근거한 바람직한 실시예에 지나지 아니한다. 당업자는 통상의 기술적 상식을 바탕으로 다양한 변경실시를 할 수 있을 것이지만 이는 본 발명의 보호범위에 포함될 수 있음을 주지해야 할 것이다. The configuration shown and described above is only a preferred embodiment based on the technical idea of the present invention. Those skilled in the art will be able to implement various modifications based on common technical knowledge, but it should be noted that this may be included in the protection scope of the present invention.

1 :베이스프레임 5 : 메인챔버
7 : 지붕 9 : 개폐도어
13 : 기판공급부 15 : 투입구
17 : 지그 19 : 기판정렬부
21 : 지그이송장치 23 : 레일설치대
25 : 이송롤 27 : 롤구동장치
29 : 상부가이드바 31 : 표면처리부
33 : 세정부 35 : 건조부
37 : 지그반송부 39 : 기판회수부
41 : 드레인장치 43-1,43-2,43-3, 43-4 : 버퍼부
45 : 격벽
S1 : 저부공간 S2 : 표면처리공간
S3 : 반송공간 P : 기판
W : 이송방향 W' : 반송방향 1: base frame 5: main chamber
7: roof 9: opening door
13: substrate supply unit 15: input port
17: jig 19: substrate alignment unit
21: jig transfer device 23: rail mounting table
25: feed roll 27: roll drive device
29: upper guide bar 31: surface treatment
33: washing unit 35: drying unit
37: jig transfer unit 39: substrate recovery unit
41: drain device 43-1,43-2,43-3, 43-4: buffer unit
45: bulkhead
S1: Bottom space S2: Surface treatment space
S3: transfer space P: substrate
W: Transfer direction W': Transfer direction

Claims (6)

일직선 형태로 길게 연장되어 있는 작업대를 제공하기 위한 베이스프레임; 일직선 형태로 연속되어 있는 작업공간이 마련되도록 상기 베이스프레임의 상부에 박스 형태로 설치되는 메인챔버; 상기 메인챔버 내부로 기판을 공급하는 기판공급부; 박형으로 된 기판의 가장자리를 클램프로 파지하여 팽팽하게 유지한 상태에서 작업이 이루어질 수 있도록 하는 복수 개의 지그; 상기 메인챔버 내부에 설치되는 것으로서 기판을 파지하고 있는 상기 지그를 연속적으로 이송시키기 위한 지그이송장치; 상기 메인챔버와 베이스프레임에 설치되는 것으로서, 상기 지그이송장치에 의해 상기 메인챔버 내부에서 이송되는 기판의 표면에 표면처리액을 분사하는 표면처리부; 상기 메인챔버와 베이스프레임에 설치되는 것으로서, 상기 표면처리부를 통과한 기판의 표면에 세정수를 분사 공급하기 위한 세정부; 상기 메인챔버와 베이스프레임에 설치되는 것으로서, 상기 세정부를 통과한 기판의 표면에서 세정수를 제거하기 위한 건조부; 처리가 완료된 기판을 파지하고 있는 지그를 상기 기판공급부를 향하여 반송하기 위한 지그반송부; 상기 지그반송부 상에 설치되는 것으로서 상기 지그에서 기판을 회수하는 기판회수부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판의 비접촉식 수직 처리시스템.
A base frame for providing a worktable that is elongated in a straight line shape; A main chamber installed in the form of a box above the base frame to provide a working space that is continuous in a straight line; A substrate supply unit supplying a substrate into the main chamber; A plurality of jigs for gripping the edge of the thin substrate with a clamp so that the work can be performed in a state that is held taut; A jig transfer device installed in the main chamber and configured to continuously transfer the jig holding the substrate; A surface treatment unit installed in the main chamber and the base frame and spraying a surface treatment liquid onto the surface of the substrate transferred inside the main chamber by the jig transfer device; A cleaning unit installed in the main chamber and the base frame and configured to spray and supply cleaning water to the surface of the substrate passing through the surface treatment unit; A drying unit installed in the main chamber and the base frame and configured to remove cleaning water from the surface of the substrate that has passed through the cleaning unit; A jig transfer unit for transferring a jig holding the processed substrate toward the substrate supply unit; And a substrate recovery unit installed on the jig transfer unit and configured to recover the substrate from the jig.
 제1항에 있어서, 상기 메인챔버는 프레임 및 상기 프레임에 설치되는 것으로서 내부를 볼 수 있는 투명한 윈도우; 상기 메인챔버에 직접 접근할 수 있도록 상기 메인챔버의 연장방향을 따라 상기 윈도우 상에 설치되는 투명 개폐도어;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판의 비접촉식 수직 처리시스템.
The apparatus of claim 1, wherein the main chamber comprises: a frame and a transparent window that is installed in the frame and is visible inside; And a transparent opening/closing door installed on the window along the extending direction of the main chamber so as to directly access the main chamber.
 제1항에 있어서,
상기 지그이송장치는 상기 작업대 위에 "
Figure pat00003
"의 형태로 설치되는 레일설치대; 상기 레일설치대 위에 설치되는 것으로서 일렬로 배열되어 있는 것으로서 상기 지그가 얹히게 되는 이송롤; 상기 이송롤을 회전구동하기 위한 롤구동장치; 메인챔버의 천장에 설치되는 것으로서 지그의 상단 양측면을 지지하는 상부가이드바;를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판의 비접촉식 수직 처리시스템.
The method of claim 1,
The jig transfer device is on the worktable
Figure pat00003
Rail mounting base installed in the form of "; a transfer roll installed on the rail mounting base and arranged in a row on which the jig is mounted; a roll driving device for rotating the transfer roll; installed on the ceiling of the main chamber; As a non-contact type vertical processing system of the substrate comprising a; upper guide bar for supporting both sides of the upper end of the jig.
 제1항에 있어서,
상기 메인챔버는 길이방향을 따라 중간에 격벽이 마련되어 있어 좌우로 공간이 구분되어 있으며, 한쪽 공간은 표면처리공간으로 이용되고, 다른 쪽 공간은 처리된 기판을 반송하는 반송공간으로 이용되는 것을 특징으로 하는 기판의 비접촉식 수직 처리시스템.
The method of claim 1,
The main chamber is characterized in that a partition wall is provided in the middle along the longitudinal direction, so that the space is divided left and right, and one space is used as a surface treatment space, and the other space is used as a transport space for transporting the treated substrate. Non-contact vertical processing system of substrates.
 제1항에 있어서,
상기 표면처리부, 세정부, 건조부, 기판회수부의 이송경로를 따라 이송하는 기판(P)의 이송속도는 2종 이상으로 조합 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판의 비접촉식 수직 처리시스템.
The method of claim 1,
The non-contact vertical processing system of a substrate, characterized in that the transfer speed of the substrate P transferred along the transfer path of the surface treatment unit, the cleaning unit, the drying unit and the substrate recovery unit is a combination of two or more types.
 제1항에 있어서,
상기 기판공급부, 표면처리부, 세정부, 건조부 및 기판회수부 사이에 각각 버퍼부(buffer portion)가 설치되어 있으며;
상기 버퍼부에는 상기 기판의 처리과정에 이상이 있을 시 상기 기판 또는 지그를 상기 메인챔버 밖으로 빼낼 수 있도록 개폐도어가 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 기판의 비접촉식 수직 처리시스템.
The method of claim 1,
A buffer portion is provided between the substrate supply unit, the surface treatment unit, the cleaning unit, the drying unit and the substrate recovery unit;
The non-contact vertical processing system of a substrate, wherein the buffer unit is provided with an opening/closing door so that the substrate or jig can be removed from the main chamber when there is an abnormality in the processing of the substrate.
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