KR20200108280A - Pellicle frame gripping device and pellicle frame gripping method - Google Patents
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Abstract
펠리클이 마스크에 확실하게 첩부되어 있는 것을 확인할 수가 있다. 틀(10)에 설치된 펠리클 파지부(20)를 이용하여 펠리클 프레임(101)을 파지하고, 펠리클의 점착 부재와 마스크를 맞닿게 한다. 계측부(30)를 선단 근방이 마스크와 겹치는 제1 위치에 배치하여 마스크의 표면까지의 거리인 제1 거리를 측정하고, 계측부(30)를 선단 근방이 펠리클 프레임(101)과 겹치는 제2 위치로 이동시켜서 펠리클 막(102)까지의 거리인 제2 거리를 측정한다.It can be confirmed that the pellicle is firmly attached to the mask. The pellicle frame 101 is gripped using the pellicle gripping portion 20 provided in the frame 10, and the adhesive member of the pellicle and the mask are brought into contact with each other. The measurement unit 30 is placed at a first position where the vicinity of the tip overlaps the mask, and measures a first distance, which is the distance to the surface of the mask, and moves the measurement unit 30 to a second position where the vicinity of the tip overlaps the pellicle frame 101. By moving, a second distance, which is the distance to the pellicle membrane 102, is measured.
Description
본 발명은, 펠리클(pellicle) 프레임 파지 장치 및 펠리클 프레임 파지 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a pellicle frame gripping apparatus and a pellicle frame gripping method.
특허 문헌 1에는, 펠리클 파지 부재를 펠리클 프레임 주연(周緣)에 형성된 홈(groove)에 삽입함으로써 펠리클을 파지하고, 파지한 펠리클과 대략 연직 방향으로 파지된 포토마스크(photomask)와의 위치 맞춤을 행하고, 펠리클을 포토마스크에 압압함으로써 펠리클을 포토마스크에 첩부(貼付)하는 펠리클 프레임 파지 장치가 개시되어 있다. In
특허 문헌 1에 기재의 발명에서는, 펠리클을 포토마스크에 첩부한 후에 펠리클 파지 부재를 홈으로부터 뽑아냄으로써 펠리클을 클램프 해제하지만, 펠리클이 포토마스크에 확실하게 첩부되어 있지 않은 상태에서 펠리클이 클램프 해제되면, 펠리클이 낙하해 버릴 우려가 있다. In the invention described in
본 발명은 이러한 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 펠리클이 마스크에 확실하게 첩부되어 있는 것을 확인할 수가 있는 펠리클 프레임 파지 장치 및 펠리클 프레임 파지 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a pellicle frame holding device and a pellicle frame holding method capable of confirming that a pellicle is reliably affixed to a mask.
상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명과 관련되는 펠리클 프레임 파지 장치는, 예를 들면, 대략 중공 통형상의 펠리클 프레임과, 상기 펠리클 프레임의 외주면과 대략 직교하는 제1 면에 상기 펠리클 프레임의 중공부를 덮도록 설치된 펠리클 막과, 상기 제1 면과 대략 평행한 제2 면에 설치된 점착 부재를 가지는 펠리클을 파지하고, 상기 펠리클을 대략 연직 방향으로 보유된 대략 판상의 마스크에 첩부하는 펠리클 파지 장치로서, 복수의 봉재를 대략 직사각형 형상으로 조합한 테두리 모양의 부재인 틀과, 상기 틀에 설치되고, 상기 펠리클 프레임의 상기 외주면을 파지하는 펠리클 파지부와, 상기 틀에 설치된 계측부와, 상기 틀, 상기 펠리클 파지부 및 상기 계측부를 제어하는 제어부를 구비하고, 상기 계측부는, 선단 근방이 상기 마스크와 겹치는 제1 위치와, 상기 선단 근방이 상기 펠리클 프레임과 겹치는 제2 위치와의 사이에서 이동 가능하게 설치되고, 상기 봉재의 연설 방향과 대략 직교하는 방향으로부터 보아서, 상기 펠리클 파지부와 상기 계측부는 다른 위치에 설치되고, 상기 제어부는, 상기 펠리클 파지부가 상기 펠리클 프레임을 파지하고, 또한 상기 틀을 대략 수직 방향으로 연설하여 상기 점착 부재와 상기 마스크를 맞닿게 한 상태로, 상기 계측부를 상기 제1 위치에 배치하여 상기 마스크의 표면까지의 거리인 제1 거리를 측정하고, 상기 계측부를 상기 제2 위치로 이동시켜서 상기 펠리클 막까지의 거리인 제2 거리를 측정하는 것을 특징으로 한다. In order to solve the above problems, the pellicle frame holding device according to the present invention includes, for example, a pellicle frame having a substantially hollow cylindrical shape, and a hollow portion of the pellicle frame on a first surface substantially perpendicular to the outer circumferential surface of the pellicle frame. A pellicle holding device for holding a pellicle having a pellicle film provided so as to cover and an adhesive member provided on a second surface substantially parallel to the first surface, and affixing the pellicle to a substantially plate-shaped mask held in a substantially vertical direction, A frame as a frame-shaped member in which a plurality of rods are combined in a substantially rectangular shape, a pellicle gripping part installed in the frame and gripping the outer circumferential surface of the pellicle frame, a measuring part provided in the frame, the frame, and the pellicle A gripping unit and a control unit for controlling the measurement unit are provided, and the measurement unit is movably installed between a first position near the tip of the mask and a second position near the tip of the pellicle frame. , When viewed from a direction substantially perpendicular to the direction of the extension of the bar, the pellicle gripping unit and the measuring unit are installed at different positions, and the control unit includes the pellicle gripping unit gripping the pellicle frame, and the frame is in a substantially vertical direction. In a state in which the adhesive member and the mask are brought into contact with each other, the measurement unit is placed in the first position to measure a first distance, which is a distance to the surface of the mask, and the measurement unit is moved to the second position. To measure the second distance, which is the distance to the pellicle film.
본 발명과 관련되는 펠리클 프레임 파지 장치에 의하면, 점착 부재와 마스크를 맞닿게 하고, 계측부를 선단 근방이 마스크와 겹치는 제1 위치에 배치하여 마스크의 표면까지의 거리인 제1 거리를 측정하고, 계측부를 선단 근방이 상기 펠리클 프레임과 겹치는 제2 위치로 이동시켜서 펠리클 막까지의 거리인 제2 거리를 측정한다. 이에 의해 펠리클이 마스크에 확실하게 첩부되어 있는 것을 확인할 수가 있다. According to the pellicle frame holding device according to the present invention, the adhesive member and the mask are brought into contact, and the measurement unit is disposed at a first position where the vicinity of the tip overlaps the mask to measure the first distance, which is the distance to the surface of the mask, and the measurement unit Is moved to a second position near the tip of the pellicle frame and the second distance, which is the distance to the pellicle film, is measured. Thereby, it can be confirmed that the pellicle is reliably affixed to the mask.
상기 펠리클 파지부는, 상기 외주면과 맞닿는 맞닿음 위치와, 상기 외주면과 맞닿지 않는 퇴피 위치와의 사이에서 수평 방향 또는 수직 방향으로 이동 가능하게 설치된 펠리클 파지 부재를 가지고, 상기 틀은, 수평 방향으로 이동 가능하고, 상기 제어부는, 상기 펠리클 파지 부재를 상기 맞닿음 위치에 배치하여 상기 펠리클 프레임을 파지하고, 상기 틀을 대략 수직 방향으로 연설(延設)한 상태로 상기 틀을 수평 방향으로 이동시켜서 상기 점착 부재와 상기 마스크를 맞닿게 하고, 상기 계측부를 상기 제1 위치에 배치하여 상기 제1 거리를 측정하고, 상기 계측부를 상기 제2 위치로 이동시켜서 상기 제2 거리를 측정하고, 상기 제1 거리와 상기 제2 거리의 차가 문턱값 이하인 경우에 상기 펠리클 파지 부재를 상기 맞닿음 위치로부터 상기 퇴피 위치로 이동 가능하게 해도 좋다. 이에 의해 펠리클이 마스크에 확실하게 첩부되어 있지 않은 상태(제1 거리와 제2 거리의 차가 문턱값 이하가 아닌 경우)에, 펠리클이 클램프 해제되어 낙하해 버리는 것을 방지할 수가 있다. The pellicle gripping part has a pellicle gripping member installed to be movable in a horizontal direction or a vertical direction between an abutting position in contact with the outer circumferential surface and a retracted position not in contact with the outer circumferential surface, and the frame is moved in a horizontal direction It is possible, the control unit, by disposing the pellicle gripping member in the abutting position to grip the pellicle frame, and moving the frame in a horizontal direction while the frame is elongated in a substantially vertical direction. The adhesive member and the mask are brought into contact, the measurement unit is placed at the first position to measure the first distance, the measurement unit is moved to the second position to measure the second distance, and the first distance When the difference between the and the second distance is less than or equal to a threshold value, the pellicle holding member may be movable from the abutting position to the retracting position. Accordingly, it is possible to prevent the pellicle from being clamped off and falling off in a state in which the pellicle is not firmly attached to the mask (when the difference between the first distance and the second distance is not less than the threshold value).
상기 계측부는, 상기 점착 부재와 상기 마스크를 맞닿게 할 때의 자세에 있어서, 상기 틀의 상측 근방 또한 좌단 근방에 설치된 제1 계측부와, 상기 틀의 상측 근방 또한 우단 근방에 설치된 제2 계측부를 가져도 좋다. 이에 의해 계측부는, 마스크나 펠리클의 상단부, 또한 좌우 양단 근방의 점을 측정할 수가 있다. 또, 펠리클을 마스크에 첩부할 때, 펠리클의 일단이 첩부되어 있고, 펠리클의 타단이 첩부되어 있지 않다고 하는 불량을 찾아낼 수가 있다. The measurement unit includes a first measurement unit provided near an upper side and a left end of the frame, and a second measurement unit provided near an upper side and a right end of the frame in a posture when the adhesive member and the mask are brought into contact with each other. Also good. As a result, the measuring unit can measure a point near the upper end of the mask or the pellicle, and the left and right ends. Further, when affixing the pellicle to the mask, it is possible to find a defect that one end of the pellicle is affixed and the other end of the pellicle is not affixed.
상기 틀은, 상기 점착 부재와 상기 마스크를 맞닿게 할 때의 자세에 있어서, 대략 연직으로 연설된 대략 봉상의 제1 세로 틀 및 제2 세로 틀과, 상기 제1 세로 틀 및 상기 제2 세로 틀의 상단 근방에 대략 수평으로 연설된 상측 틀을 가지고, 상기 제1 세로 틀 및 상기 제2 세로 틀은, 상기 상측 틀의 연설 방향을 따라 이동 가능하고, 상기 상측 틀은, 상기 제1 세로 틀 및 상기 제2 세로 틀의 연설 방향을 따라 이동 가능하고, 상기 펠리클 파지부는, 상기 제1 세로 틀 및 상기 제2 세로 틀에 설치되고, 상기 계측부는, 상기 상측 틀에 설치되어도 좋다. 이에 의해 제1 세로 틀, 제2 세로 틀, 상측 틀에 의해 구성되는 테두리의 크기를 변화시켜서, 여러 가지 크기의 펠리클에 대응할 수가 있다. 또, 펠리클의 크기에 상관이 없이, 펠리클의 상단 근방의 위치에서 펠리클 막의 높이를 측정할 수가 있다. The frame, in a posture when the adhesive member and the mask are brought into contact with each other, a first vertical frame and a second vertical frame in the shape of a substantially rod extended substantially vertically, and the first vertical frame and the second vertical frame Has an upper frame elongated approximately horizontally in the vicinity of an upper end of, the first vertical frame and the second vertical frame are movable along the speech direction of the upper frame, and the upper frame is the first vertical frame and It is movable along the speech direction of the second vertical frame, the pellicle holding part may be provided in the first vertical frame and the second vertical frame, and the measuring part may be provided in the upper frame. As a result, the size of the frame constituted by the first vertical frame, the second vertical frame, and the upper frame can be changed, and thus pellicles of various sizes can be accommodated. Further, regardless of the size of the pellicle, the height of the pellicle film can be measured at a position near the upper end of the pellicle.
상기 틀은, 상기 제1 세로 틀 및 상기 제2 세로 틀의 하단 근방에 대략 수평으로 연설된 하측 틀을 가지고, 상기 계측부는, 상기 하측 틀에 설치된 제3 계측부를 가져도 좋다. 이에 의해 펠리클이 첩부되어 있는지 어떤지를 보다 확실하게 확인할 수가 있다. The frame may have a lower frame extending substantially horizontally in the vicinity of a lower end of the first vertical frame and the second vertical frame, and the measurement unit may have a third measurement unit provided in the lower frame. This makes it possible to more reliably confirm whether or not the pellicle is affixed.
상기 틀은, 상기 점착 부재와 상기 마스크를 맞닿게 할 때에, 상단측에 있어서의 상기 제2 면과 상기 마스크와의 거리가, 하단측에 있어서의 상기 제2 면과 상기 마스크와의 거리보다도 가깝게 되도록 기울어져 있어도 좋다. 이에 의해 점착 부재와 마스크가 부분적으로 맞닿고, 펠리클을 마스크에 첩부할 수 없다고 하는 문제의 발생을 방지할 수가 있다. 또, 펠리클의 상단부를 마스크에 첩부하고, 마스크 및 펠리클의 상단 근방에 있어서 마스크의 표면의 높이 및 펠리클 막의 높이를 측정한 결과에 기초하여 펠리클이 마스크에 첩부되었는지 어떤지 판정함으로써 펠리클의 첩부 상태를 정확하게 판정할 수가 있다. In the frame, when the adhesive member and the mask are brought into contact with each other, the distance between the second surface and the mask on the upper end side is closer than the distance between the second surface and the mask on the lower end side. It may be tilted as much as possible. Accordingly, it is possible to prevent the occurrence of a problem that the adhesive member and the mask partially come into contact with each other and the pellicle cannot be attached to the mask. In addition, the upper end of the pellicle is affixed to the mask, and based on the result of measuring the height of the surface of the mask and the height of the pellicle film in the vicinity of the mask and the upper end of the pellicle, it is determined whether the pellicle is attached to the mask, thereby accurately determining the affixed state of the pellicle. You can judge.
상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명과 관련되는 펠리클 프레임 파지 방법은, 예를 들면, 대략 중공 통형상의 펠리클 프레임과, 상기 펠리클 프레임의 외주면과 대략 직교하는 제1 면에 상기 펠리클 프레임의 중공부를 덮도록 설치된 펠리클 막과, 상기 제1 면과 대략 평행한 제2 면에 설치된 점착 부재를 가지는 펠리클을 파지하고, 대략 연직 방향으로 보유된 대략 판상의 마스크에 첩부하는 펠리클 파지 방법으로서, 틀에 수평 방향으로 이동 가능하게 설치된 펠리클 파지 부재를 상기 외주면과 맞닿는 맞닿음 위치에 배치하여 상기 펠리클 프레임을 파지하고, 상기 펠리클 프레임을 파지한 상태로 상기 틀을 평행이동 시키고 상기 점착 부재와 상기 마스크와 맞닿게 하고, 상기 틀에 설치된 계측부를 선단 근방이 상기 마스크와 겹치는 제1 위치에 배치하여, 상기 마스크의 표면까지의 거리인 제1 거리를 측정하고, 상기 계측부를 상기 선단 근방이 상기 펠리클 프레임과 겹치는 제2 위치로 이동시켜서, 상기 펠리클 막까지의 거리인 제2 거리를 측정하고, 상기 제1 거리와 상기 제2 거리의 차가 문턱값 이하인 경우에, 상기 펠리클 파지 부재를 상기 맞닿음 위치로부터 상기 외주면과 맞닿지 않는 퇴피 위치로 이동 가능하게 하는 것을 특징으로 한다. In order to solve the above problems, the method for holding a pellicle frame according to the present invention includes, for example, a pellicle frame having a substantially hollow cylindrical shape, and a hollow portion of the pellicle frame on a first surface substantially perpendicular to the outer circumferential surface of the pellicle frame. A pellicle holding method in which a pellicle having a pellicle film installed so as to cover and an adhesive member provided on a second surface substantially parallel to the first surface is held, and affixed to a substantially plate-shaped mask held in a substantially vertical direction. A pellicle holding member installed so as to be movable in a direction is placed in abutting position in contact with the outer circumferential surface to grip the pellicle frame, and the frame is parallelly moved while the pellicle frame is held in contact with the adhesive member and the mask. And, by arranging the measurement unit installed in the frame at a first position near the tip of the mask overlapping the mask, measure a first distance, which is a distance to the surface of the mask, and measure the measurement unit near the tip of the
본 발명에 의하면, 펠리클이 포토마스크에 확실하게 첩부(貼付)되어 있는 것을 확인할 수가 있다. According to the present invention, it can be confirmed that the pellicle is reliably affixed to the photomask.
도 1은 제1의 실시의 형태와 관련되는 펠리클 파지 장치(1)의 개략을 나타내는 정면도이다.
도 2는 펠리클(100)의 개략을 나타내는 사시도이다.
도 3은 도 2의 A-A단면도이다.
도 4는 펠리클 파지부(20)의 개략을 나타내는 도이다.
도 5는 계측부(30)가 제1 위치에 위치하는 상태를 모식적으로 나타내는 도이다.
도 6은 계측부(30)가 제2 위치에 위치하는 상태를 모식적으로 나타내는 도이다.
도 7은 펠리클 파지 장치(1)의 전기적인 구성을 나타내는 블록도이다.
도 8은 펠리클 파지 장치(1)가 행하는 처리의 흐름을 나타내는 플로차트(flow chart)이다.
도 9는 스텝 S107의 처리의 흐름을 나타내는 플로차트(flow chart)이다.
도 10은 스텝 S107에 나타내는 검사시의 모습을 나타내는 모식도이다.
도 11은 스텝 S107에 나타내는 검사시의 모습을 나타내는 모식도이다. 1 is a front view schematically showing a
2 is a perspective view schematically showing the
3 is an AA cross-sectional view of FIG. 2.
4 is a diagram schematically showing the
5 is a diagram schematically showing a state in which the
6 is a diagram schematically showing a state in which the
7 is a block diagram showing the electrical configuration of the
8 is a flow chart showing the flow of processing performed by the
9 is a flow chart showing the flow of the processing in step S107.
Fig. 10 is a schematic diagram showing a state at the time of inspection shown in step S107.
Fig. 11 is a schematic diagram showing a state at the time of inspection shown in step S107.
이하, 본 발명의 실시 형태를 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 각 도면에 있어서, 동일한 요소에는 동일한 부호가 붙여져 있고 중복되는 부분에 대해서는 설명을 생략한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In each of the drawings, the same elements are denoted by the same reference numerals, and descriptions of overlapping portions are omitted.
<제1의 실시의 형태> <First embodiment>
도 1은 제1의 실시의 형태와 관련되는 펠리클 파지 장치(1)의 개략을 나타내는 정면도이다. 펠리클 파지 장치(1)는, 대략 연직 방향으로 보유된 대략 판상의 마스크 M에, 펠리클(100)을 첩부(貼付)하는 것이다. 마스크 M은, 도시하지 않는 마스크 파지 장치에 의해 대략 연직 방향으로 보유되어 있다. 1 is a front view schematically showing a
우선, 펠리클(100)에 대해 설명한다. 도 2는 펠리클(100)의 개략을 나타내는 사시도이다. 도 3은 도 2의 A-A단면도이다. 펠리클(100)은, 주로 펠리클 프레임(101)과, 펠리클 프레임(101)의 상에 장설(張設)된 펠리클 막(102)과, 펠리클 프레임(101)의 하면에 형성된 점착(粘着) 부재(103)(도 3 참조)를 가진다. First, the
펠리클 프레임(101)은, 대략 직사각형의 외주를 가지는 테두리 모양(대략 중공 통형상)이며, 금속, 예를 들면, 철, 알루미늄 등으로 형성된다. 펠리클 프레임(101)은, 평면시(도 2의 지면 상방으로부터 보아서) 대략 직사각형 형상이며, 중앙부에 중공부(101e)를 가진다. 펠리클 프레임(101)에는, 중공부(101e)를 덮도록 펠리클 막(102)이 설치된다. 펠리클 프레임(101)은, 중공부(101e)의 크기가 포토마스크의 크기(예를 들면 520㎜×800㎜~1620㎜×1780㎜ 정도)와 동일한 정도이다. 펠리클 프레임(101)의 테두리 모양의 부분의 폭은 수십㎜ 정도이며, 두께는 2㎜~10㎜ 정도이다. The
펠리클 프레임(101)은, 대략 평행한 상면(101a) 및 하면(101b)을 가진다. 또, 펠리클 프레임(101)의 상면(101a) 및 하면(101b)에 직교하는 외주면(101c)은, 홈(groove)(101d)을 포함한다. 홈(101d)은, 외주면(101c)을 따라 형성되어 있고, 높이 및 깊이가 2㎜ 정도이다. 홈(101d)에는, 틀(10)에 설치되는 펠리클 파지 부재(21)(후에 상술)가 삽입된다. The
펠리클 막(102)은, 서브미크론(sub-micron)의 두께의 박막이다. 펠리클 막(102)은, 펠리클 프레임(101)의 상면(101a)에, 펠리클 프레임(101)의 중공부(101e)를 덮도록 장설된다. 펠리클 프레임(101)이 포토마스크 기판 상에 첩부되면, 펠리클 막(102)은, 마스크 M의 패턴 형성면(표면)과 소정의 간격으로 설치된다. The
점착 부재(103)는, 펠리클 프레임(101)의 하면(101b)에 설치된다. 점착 부재(103)는, 펠리클 프레임(101)의 전체 둘레에, 액자 형상으로 형성되어 있다. 또, 점착 부재(103)는, 펠리클 프레임(101)으로부터 비어져 나오지 않게 설치된다. The
도 1의 설명으로 되돌아온다. 펠리클 파지 장치(1)는, 주로 틀(10)과, 펠리클 파지부(20)와, 계측부(30)를 가진다. 펠리클 파지부(20) 및 계측부(30)는, 틀(10)에 설치된다. Returning to the description of FIG. 1. The
틀(10)은, 복수의 봉재를 대략 직사각형 형상으로 조합한 테두리 모양의 부재이다. 틀(10)은, 주로 세로 틀(11, 12)과, 상측 틀(13, 14)과, 세로 틀(11, 12) 및 상측 틀(13, 14)의 외측에 설치된 테두리(15)를 가진다. 세로 틀(11, 12), 상측 틀(13, 14) 및 테두리(15)는, 금속, 예를 들면, 철, 알루미늄 등으로 형성된다. The
세로 틀(11, 12)은, 도 1에 나타내는 펠리클(100)을 마스크 M에 첩부할(점착 부재(103)와 마스크 M을 맞닿게 할) 때의 자세에 있어서 대략 연직으로 연설된 대략 봉상의 부재이며, 길이 방향이 z방향을 따라 설치된다. 세로 틀(11, 12)은, 테두리(15)의 하단부(15a) 및 상단부(15b)를 따라, 즉 x방향을 따라 이동 가능하게 설치된다. 세로 틀(11, 12)을 x방향으로 이동시키는 기구는, 이미 공지의 여러 가지 기술을 이용할 수가 있다. The
상측 틀(13, 14)은, 각각, 도 1에 나타내는 펠리클(100)을 마스크 M에 첩부할 때의 자세에 있어서, 세로 틀(11, 12)의 상단 근방에 대략 수평으로 연설된 대략 봉상의 부재이며, 길이 방향이 x방향을 따라 설치된다. 상측 틀(13, 14)은, 각각, 세로 틀(11, 12)을 따라, 즉 z방향을 따라 이동 가능하게 설치된다. 상측 틀(13, 14)을 z방향으로 이동시키는 기구는, 이미 공지의 여러 가지 기술을 이용할 수가 있다. The
또한, 상측 틀(13, 14)의 형태는 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 상측 틀이 대략 수평으로 연설된 1개의 봉재로 이루어지고, 이 1개의 봉재의 양단 근방이 세로 틀(11, 12)에 설치되어 있어도 좋다. In addition, the shape of the
이와 같이 세로 틀(11, 12) 및 상측 틀(13, 14)을 이동 가능하게 함으로써, 세로 틀(11, 12), 상측 틀(13, 14) 및 하단부(15a)에 의해 구성되는 테두리의 크기를 변화시켜서, 여러 가지 크기의 펠리클(100)에 대응할 수가 있다. 또한, 펠리클(100)은, 예를 들면, 420㎜×720㎜의 크기의 것, 700㎜×800㎜의 크기의 것, 520㎜×680㎜의 크기의 것, 750㎜×1300㎜의 크기의 것, 1520㎜×1680㎜의 크기의 것을 들 수 있다. By making the
틀(10)은, 도시하지 않는 이동 기구에 의해 수평 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있다. 펠리클(100)을 마스크 M에 첩부할 때는, 틀(10)은 +y방향으로 평행이동 한다. 틀(10)은, 구동부(16)(도 7 참조)와, 틀(10)을 수평 방향으로 이동시키는 기구를 가진다. 틀(10)을 수평 방향으로 이동시키는 기구는 공지이기 때문에 설명을 생략한다. The
또, 틀(10)은, 하단부 근방에 도시하지 않는 회동축이 설치된다. 틀(10)은, 회동축을 중심으로, 테두리(15)에 의해 형성되는 면이 대략 수평(xy평면과 대략 평행)으로 되는 위치와 테두리(15)에 의해 형성되는 면이 대략 연직(xz평면과 대략 평행)으로 되는 위치와의 사이에서 회동 가능하다. 도 1에서는, 틀(10)이 펠리클(100)을 파지한 상태에 있어서, 상단측(+z측)에 있어서의 하면(101b)(도 1에 있어서의 지면 안쪽)과 마스크 M과의 거리가, 하단측(-z측)에 있어서의 하면(101b)과 상기 마스크와의 거리보다도 가깝게 되도록 연직 방향에 대해서 틀(10)이 기울어져 있다. Further, the
펠리클 파지부(20)는, 펠리클 프레임(101)의 외주면(101c)을 파지하는 펠리클 파지 부재(21)를 복수 가진다. 펠리클 파지 부재(21)는, 세로 틀(11, 12), 상측 틀(13, 14), 하단부(15a) 및 상단부(15b)에 설치된다. The
도 1에 나타내는 예에서는, 세로 틀(11, 12)에는, 각각 5개의 펠리클 파지 부재(21)가 설치되고, 상측 틀(13, 14)에는, 각각 1개의 펠리클 파지 부재(21)가 설치되고, 하단부(15a)에는, 5개의 펠리클 파지 부재(21)가 설치되고, 상단부(15b)에는, 1개의 펠리클 파지 부재(21)가 설치되지만, 펠리클 파지 부재(21)의 위치 및 수는 이것에 한정되지 않는다. In the example shown in FIG. 1, five
펠리클(100)의 크기에 따라 사용하는 펠리클 파지 부재(21)가 다르다. 도 1에 있어서는, 틀(10)에 설치된 펠리클 파지 부재(21) 중에서, 펠리클(100)(여기에서는, 외주면(101c))에 맞닿아 있는 펠리클 파지 부재(21)만이 사용되고 있다. The
펠리클 파지 부재(21)는, 외주면(101c)에 맞닿는 맞닿음 위치와 외주면(101c)에 맞닿지 않는 퇴피 위치와의 사이에서 수평 방향 또는 수직 방향으로 이동 가능하게 설치된다. 도 4는 펠리클 파지부(20)의 개략을 나타내는 도이다. The
펠리클 파지 부재(21)는, 금속제의 판재에 의해 형성된다. 또한, 펠리클 파지 부재(21)는, 판상의 부재에 한정하지 않고, 예를 들면 봉상의 부재를 이용하여 형성해도 좋다. The
펠리클 파지 부재(21)에는, 구동 부재(22)가 설치된다. 구동 부재(22)는, 로드(rod)(22a)와, 로드(22a)를 이동시키는 액츄에이터(22b)를 가진다. 펠리클 파지 부재(21)는, 로드(22a)에 연결되어 있다. 액츄에이터(22b)는, 틀(10)(도 4에서는 도시 생략)에 설치된다. The drive member 22 is provided in the
펠리클 파지 부재(21)는, 구동 부재(22)에 의해, 펠리클 파지 부재(21)가 홈(101d)에 삽입되는 삽입 위치(도 4의 실선 참조)와, 펠리클 파지 부재(21)가 홈(101d)에 삽입되지 않고, 펠리클 파지 부재(21)가 펠리클 프레임(101)과 간섭하지 않는 퇴피 위치(도 4의 1점 쇄선 참조)와의 사이에서 수평 방향으로 이동된다. The
펠리클 파지 부재(21)의 선단은, 수지(예를 들면, 초고분자량 폴리에틸렌)로 형성된 시트 등에 의해 덮인다. 이에 의해 펠리클 파지 부재(21)가 홈(101d)에 삽입되었을 때에, 펠리클 파지 부재(21)나 펠리클 프레임(101)이 깎여져 먼지가 발생하는 것을 방지할 수 있다. The tip of the
도 1의 설명으로 되돌아온다. 계측부(30)는, 마스크 M이나 펠리클 프레임(101)의 높이(y방향의 위치)를 측정한다. 계측부(30)는, 틀(10), 여기에서는 상측 틀(13, 14)에 설치된다. 계측부(30)는, 펠리클 파지 부재(21)와 간섭하지 않는 위치에 설치된다. 바꾸어 말하면, 틀(10)을 구성하는 봉재(예를 들면, 상측 틀(13, 14))의 연설 방향과 대략 직교하는 방향(여기에서는, y방향)으로부터 보아서, 계측부(30)와 펠리클 파지 부재(21)는 다른 위치에 설치된다. Returning to the description of FIG. 1. The
계측부(30)는, 선단 근방이 마스크 M과 겹치는 제1 위치(도 1의 실선 참조)와, 선단 근방이 펠리클 프레임(101)과 겹치는 제2 위치(도 1의 2점 쇄선 참조)와의 사이에서 수직 방향으로 이동 가능하게 설치된다. The
상측 틀(13)에 설치된 계측부(30)는, 세로 틀(11)의 근방에 설치되고, 상측 틀(14)에 설치된 계측부(30)는, 세로 틀(12)의 근방에 설치된다. 바꾸어 말하면, 2개의 계측부(30)는, 각각, 틀(10)의 상측 근방 또한 좌단 근방에 설치되고, 또한 틀(10)의 상측 근방 또한 우단 근방에 설치되어 있다. 이에 의해 계측부(30)는, 마스크 M이나 펠리클 프레임(101)의 상단부, 또한 좌우 양단 근방의 점을 측정할 수가 있다. 다만, 계측부(30)가 설치되는 위치 및 수는, 도 1에 나타내는 형태에 한정되지 않는다. The
도 5는 계측부(30)가 제1 위치에 위치하는 상태를 모식적으로 나타내는 도이다. 도 6은 계측부(30)가 제2 위치에 위치하는 상태를 모식적으로 나타내는 도이다. 5 is a diagram schematically showing a state in which the
계측부(30)는, 주로 초음파 센서(31)와 반사판(32)을 가진다. 초음파 센서(31)는, 초음파를 대상물을 향해 발신하여 그 반사파를 수신하고, 신호 발신과 반사파 수신의 시간 간격에 기초하여, 목표물까지의 거리를 측정하는 거리 측정 센서이다. 초음파 센서(31)는, 이미 공지이기 때문에 상세한 설명을 생략한다. The
반사판(32)은, 초음파 센서(31)로부터 발신된 초음파를 반사한다. 반사판(32)의 반사부(32a)를 yz평면 상에서 기울기 45°로 설치함으로써, 반사부(32a)에 있어서, 초음파 센서(31)로부터 하향(-z방향)으로 발신된 초음파가 +y방향을 향하도록 반사된다(도 5, 6에 있어서의 2점 쇄선 참조). The reflecting
또한, 본 실시의 형태에서는, 계측부(30)가 초음파 센서(31)를 가졌지만, 거리를 구하기 위한 센서는 초음파 센서(31)에 한정되지 않는다. 거리 측정 센서로서 광을 이용하여 거리를 구하는 광학식 센서나, 와전류식의 센서를 이용해도 좋다. 광학식 센서로서는, 예를 들면, 레이저를 이용하는 레이저 변위 센서나, 삼각 거리 측정식 광학 센서를 이용할 수가 있다. 다만, 계측부(30)로서 비접촉식의 센서를 이용하는 것이 바람직하다. 또, 본 실시의 형태에서는, 반사판(32)을 설치했지만, 반사판(32)을 이용하지 않아도 좋다. 이 경우에는, 초음파 센서(31)를, 초음파가 +y방향으로 발신되도록 설치하면 좋다. In addition, in this embodiment, although the
계측부(30)는, 액츄에이터(33)를 가진다. 액츄에이터(33)는, 초음파 센서(31) 및 반사판(32)을, 제1 위치와 제2 위치와의 사이에서 z방향(수직 방향)을 따라 이동시킨다. The
도 5에서는, 계측부(30)의 계측 위치(여기에서는, 계측부(30)의 선단(-z단)) 근방이 마스크 M과 겹치고 있다. 따라서, 초음파 센서(31)로부터 발신된 초음파는 마스크 M의 표면 Ma에 맞고, 계측부(30)는 반사부(32a)와 표면 Ma와의 거리, 즉 표면 Ma의 높이(y방향의 위치)를 측정한다. In FIG. 5, the vicinity of the measurement position of the measurement unit 30 (here, the tip (-z end) of the measurement unit 30) overlaps the mask M. Therefore, the ultrasonic wave transmitted from the
도 6에서는, 계측부(30)의 계측 위치(여기에서는, 계측부(30)의 선단(-z단)) 근방이 펠리클 프레임(101)과 겹치고 있다. 따라서, 초음파 센서(31)로부터 발신된 초음파는 펠리클 막(102)에 맞고, 계측부(30)는 반사부(32a)와 펠리클 막(102)과의 거리, 즉 펠리클 막(102)의 높이를 측정한다. 펠리클(100)이 마스크 M에 첩부되어 있는 경우에는, 펠리클 막(102)의 높이와 펠리클 막(102)의 높이의 차가 문턱값 이하로 된다. In FIG. 6, the vicinity of the measurement position of the measurement unit 30 (here, the tip (-z end) of the measurement unit 30) overlaps the
도 7은 펠리클 파지 장치(1)의 전기적인 구성을 나타내는 블록도이다. 펠리클 파지 장치(1)는, CPU(Central Processing Unit)(151)와, RAM(Random Access Memory)(152)과, ROM(Read Only Memory)(153)과, 입출력 인터페이스(I/F)(154)와, 통신 인터페이스(I/F)(155)와, 미디어 인터페이스(I/F)(156)를 가지고, 이들은 구동부(16), 액츄에이터(22b), 계측부(30) 등과 서로 접속되어 있다. 7 is a block diagram showing the electrical configuration of the
CPU(151)는, RAM(152), ROM(153)에 격납된 프로그램에 기초하여 동작하고, 각부의 제어를 행한다. CPU(151)에는, 구동부(16), 액츄에이터(22b), 계측부(30)로부터 신호가 입력된다. CPU(151)로부터 출력된 신호는, 구동부(16), 액츄에이터(22b), 계측부(30)로 출력된다. The
RAM(152)은, 휘발성 메모리이다. ROM(153)은, 각종 제어 프로그램 등이 기억되어 있는 비휘발성 메모리이다. CPU(151)는, RAM(152), ROM(153)에 격납된 프로그램에 기초하여 동작하고, 각부의 제어를 행한다. 또, ROM(153)은, 펠리클 파지 장치(1)의 기동시에 CPU(151)가 행하는 부트(boot) 프로그램이나, 펠리클 파지 장치(1)의 하드웨어에 의존하는 프로그램 등을 격납한다. 또, RAM(152)은, CPU(151)가 실행하는 프로그램 및 CPU(151)가 사용하는 데이터 등을 격납한다. The
CPU(151)는, 입출력 인터페이스(154)를 통해, 키보드나 마우스 등의 입출력 장치(161)를 제어한다. 통신 인터페이스(155)는, 네트워크(162)를 통해 다른 기기로부터 데이터를 수신하여 CPU(151)에 송신함과 아울러, CPU(151)가 생성한 데이터를, 네트워크(162)를 통해 다른 기기에 송신한다. The
미디어 인터페이스(156)는, 기억 매체(163)에 격납된 프로그램 또는 데이터를 읽어내고, RAM(152)에 격납한다. 또한, 기억 매체(163)는, 예를 들면, IC카드, SD카드, DVD 등이다. The
또한, 각 기능을 실현하는 프로그램은, 예를 들면, 기억 매체(163)로부터 읽어내어져, RAM(152)을 통해 펠리클 파지 장치(1)에 인스톨(install) 되고, CPU(151)에 의해 실행된다. In addition, a program that realizes each function is, for example, read from the
CPU(151)는, 입력 신호에 기초하여 펠리클 파지 장치(1)의 각부를 제어하는 제어부(151a)의 기능을 가진다. 제어부(151a)는, CPU(151)가 읽어들인 소정의 프로그램을 실행함으로써 구축된다. 제어부(151a)가 행하는 처리에 대해서는 후에 상술한다. The
도 7에 나타내는 펠리클 파지 장치(1)의 구성은, 본 실시 형태의 특징을 설명하기에 즈음하여 주요 구성을 설명한 것으로서, 예를 들면 일반적인 정보처리 장치가 구비하는 구성을 배제하는 것은 아니다. 도 7에 나타내는 기능 구성은, 펠리클 파지 장치(1)의 구성을 이해하기 쉽게 하기 위해서 분류한 것이고, 구성 요소의 분류의 방법이나 명칭은 도 7에 기재의 형태에 한정되지 않는다. 펠리클 파지 장치(1)의 구성은, 처리 내용에 따라 한층 더 많은 구성 요소로 분류해도 좋고, 1개의 구성 요소가 복수의 구성 요소의 처리를 실행해도 좋다. The configuration of the pellicle
이와 같이 구성된 펠리클 파지 장치(1)의 작용에 대해 설명한다. 도 8은 펠리클 파지 장치(1)가 행하는 처리의 흐름을 나타내는 플로차트(flow chart)이다. 이하의 처리는 주로 제어부(151a)에 의해 행해진다. The operation of the
우선, 제어부(151a)는, 액츄에이터(22b)를 제어하여 펠리클 파지 부재(21)를 퇴피 위치로부터 삽입 위치로 이동시켜서, 펠리클 파지 부재(21)를 홈(101d)에 삽입한다(스텝 S101). 제어부(151a)는, 스텝 S101의 처리를 펠리클 파지 부재(21)마다 행한다. 이에 의해 펠리클 파지 장치(1)가 펠리클(100)을 파지한다. 퇴피 위치와 삽입 위치와의 사이에서 펠리클 파지 부재(21)를 이동시키는 양은, 미리 설정되어 있고, ROM(153)에 격납되어 있다. First, the
제어부(151a)는, 구동부(16)를 구동하여 틀(10)을 대략 수직 방향으로 회동시킨다(스텝 S102). 틀(10)은 펠리클(100)을 파지하고 있기 때문에, 틀(10)과 함께 펠리클(100)도 회동하고 있다. 다음에, 제어부(151a)는, 도시하지 않는 검사부를 이용하여, 틀(10)에 파지된 펠리클(100)을 검사한다(스텝 S103). 검사부는, 레이저 빔(beam) 등을 발신하는 발신부를 가지고, 이미 공지의 여러 가지 방법을 이용하여 펠리클(100)을 검사한다. 스텝 S103은 이미 공지이기 때문에 설명을 생략한다. The
검사 처리(스텝 S103)에 의해 펠리클(100)에 이상이 없는 것을 확인할 수 있으면, 제어부(151a)는, 구동부(16)를 이용하여, 틀(10)을 마스크 M이 재치되어 있는 장치 내로 평행이동 시킨다(스텝 S104). 그리고, 마스크 M과 펠리클(100)과의 위치 맞춤(조정(alignment))을 행한다(스텝 S105). 스텝 S104, S105에서는, 제어부(151a)는, 구동부(16)를 통해 틀(10)을 회동시키고, 상단측에 있어서의 하면(101b)(즉, 점착 부재(103))과 마스크 M과의 거리가, 하단측에 있어서의 하면(101b)(즉, 점착 부재(103))과 마스크 M과의 거리보다도 가깝게 되도록 틀(10)을 기울인다. 이 기울기는, 연직 방향에 대해서 미소 각도이다. If it is possible to confirm that there is no abnormality in the
조정(alignment)(스텝 S105)의 다음에, 제어부(151a)는, 펠리클(100)을 포토마스크에 첩부한다(스텝 S106). 스텝 S106은, 이른바 가(假)붙임 공정이다. After the alignment (step S105), the
제어부(151a)는, 구동부(16)를 통해, 틀(10)을 연직 방향에 대해서 미소 각도만 기울인 상태로 틀(10)을 평행이동(여기에서는, +y방향으로 이동) 시키고, 펠리클(100)을 마스크 M에 접근한다. 그렇게 하면, 펠리클(100)과 마스크 M이 맞닿는다. 제어부(151a)는, 그대로 펠리클(100)을 마스크 M에 접근하는 방향(+y방향)으로 이동시킨다. 그렇지만, 펠리클(100)과 마스크 M이 맞닿아 있기 때문에, 펠리클(100)이 마스크 M에 압압되고, 점착 부재(103)에 의해 펠리클(100)이 마스크 M에 첩부된다. The
첩부 공정(스텝 S106)에서는, 펠리클(100)은, 마스크 M에 대해서 미소 각도만 기울어져 있다. 이에 반해, 펠리클(100)이 마스크 M에 대해서 기울지 않고 대략 평행한 경우에는, 펠리클(100)의 일그러짐 등이 원인으로 점착 부재(103)와 마스크 M이 부분적으로만 맞닿기 때문에, 펠리클(100)을 마스크 M에 첩부(貼付)할 수 없을 가능성이 있다. 따라서, 펠리클(100)을 마스크 M에 대해서 미소 각도만 기울이는 것이 바람직하다. In the affixing process (step S106), the
다음에, 제어부(151a)는, 계측부(30)를 이용하여 펠리클(100)이 마스크 M에 첩부되어 있는지 아닌지 검사를 행한다(스텝 S107). 도 9는 스텝 S107의 처리의 흐름을 나타내는 플로차트(flow chart)이다. Next, the
우선, 제어부(151a)는, 도 5에 나타내듯이, 계측부(30)를 제1 위치에 배치한다. 그리고, 초음파 센서(31)로부터 초음파를 발신하여, 마스크 M의 표면 Ma의 높이(y방향의 위치)를 측정한다(스텝 S201). First, the
다음에, 제어부(151a)는, 액츄에이터(33)를 통해 초음파 센서(31) 및 반사판(32)을 이동시키고, 도 6에 나타내듯이, 계측부(30)를 제2 위치에 배치한다. 그리고, 초음파 센서(31)로부터 초음파를 발신하여, 펠리클 막(102)의 높이(y방향의 위치)를 측정한다(스텝 S202). 또한, 제1 위치로부터 제2 위치로 초음파 센서(31) 및 반사판(32)을 이동시키는 거리는, 미리 설정되어 있고, ROM(153)에 격납되어 있다. Next, the
그 후, 제어부(151a)는, 마스크 M의 높이와 펠리클 막(102)의 높이의 차와, 문턱값(threshold value) T를 비교한다(스텝 S203). 문턱값 T는, 미리 임의의 값으로 설정해 둔다. 예를 들면, 펠리클 프레임(101)의 두께가 대략 7㎜, 점착 부재(103)의 두께가 대략 1㎜인 경우에는, 문턱값 T는 대략 8㎜이다. 문턱값 T에 관한 정보(여기에서는, 값)는, ROM(153)에 격납되어 있다. After that, the
제어부(151a)는, 스텝 S203에 있어서의 비교 결과에 기초하여, 펠리클(100)의 첩부 상태를 판정한다(스텝 S204). 제어부(151a)는, 마스크 M의 높이와 펠리클 막(102)의 높이의 차가 문턱값 이하가 아닌 경우(스텝 S204에서 「아니오(NO)」)에는, 펠리클(100)이 마스크 M에 첩부되어 있지 않다고 판정한다. 펠리클(100)이 마스크 M에 첩부되어 있지 않은 경우에는, 제어부(151a)는, 틀(10)을 평행이동 시키고 펠리클(100)을 마스크 M에 접근하는 처리(스텝 S106)로 되돌아오고, 재차 스텝 S107의 첩부 검사 처리를 행한다. 스텝 S106, S107을 몇 차례 반복해도, 마스크 M의 높이와 펠리클 막(102)의 높이의 차가 문턱값 이하가 아닌 경우에는, 제어부(151a)는 처리를 정지한다. The
제어부(151a)는, 마스크 M의 높이와 펠리클 막(102)의 높이의 차가 문턱값 이하인 경우(스텝 S204에서 「예(YES)」)에는, 펠리클(100)이 마스크 M에 첩부되어 있다고 판정하고, 펠리클(100)의 파지를 해제한다(스텝 S108, 도 8 참조). 스텝 S108에서는, 제어부(151a)는, 액츄에이터(22b)를 제어하여 펠리클 파지 부재(21)를 삽입 위치로부터 퇴피 위치로 이동시켜서, 펠리클 파지 부재(21)의 선단이 홈(101d)과 맞닿지 않게 한다. The
그리고, 제어부(151a)는, 도 8에 나타내는 일련의 처리를 종료한다. 당해 일련의 처리가 종료하면, 제어부(151a)는, 도시하지 않는 압압부를 이용하여 펠리클(100)의 네 귀퉁이를 마스크 M을 향해 압압하고, 펠리클(100)을 마스크 M에 첩부한다(이른바 본 붙임). Then, the
도 10, 11은 스텝 S107에 나타내는 검사시의 모습을 나타내는 모식도이다. 도 10의 파선은 펠리클 막(102)이 설치되어 있지 않을 때의 펠리클 프레임(101)의 모습을 나타내고, 도 10의 실선은 펠리클 막(102)이 설치되어 있을 때의 펠리클 프레임(101)의 모습을 나타낸다. 펠리클 프레임(101)에 펠리클 막(102)이 설치되면, 펠리클 막(102)의 장력에 의해, 펠리클 프레임(101)의 중심축을 따라 보았을 때에, 펠리클 프레임(101)의 각변의 중앙 부분이 내측으로 밀려 들어가 있다. 본 실시의 형태에서는, 계측부(30)가 틀(10)(도 10에서는 도시 생략)의 상측 근방 또한 좌우 양단 근방에 설치되어 있고, 계측부(30)가 펠리클(100)의 상단 근방 또한 좌우 양단 근방의 높이를 측정하기 때문에, 펠리클 프레임(101)이 변형했다고 해도, 제2 위치에 있어서 계측부(30)가 펠리클 막(102)의 높이를 측정할 수가 있다. 10 and 11 are schematic diagrams showing the state at the time of inspection shown in step S107. The broken line in FIG. 10 shows the shape of the
또, 도 11에 나타내듯이, 펠리클(100)을 마스크 M에 첩부할 때, 펠리클(100)의 일단(예를 들면, +x측의 단(端))이 첩부되어 있고, 펠리클(100)의 타단(예를 들면, -x측의 단(端))이 첨부되어 있지 않다고 하는 불량이 발생한 경우를 상정한다. 본 실시의 형태에서는, 계측부(30)가 펠리클(100)의 상단 근방 또한 좌우 양단 근방의 높이를 측정하기 때문에, 이러한 불량이 발생하면, 일방의 계측부(30)(여기에서는, +x측의 계측부(30))에서는, 마스크 M의 높이와 펠리클 막(102)의 높이의 차가 문턱값 이하로 되지만, 타방의 계측부(30)(여기에서는, -x측의 계측부(30))에서는, 마스크 M의 높이와 펠리클 막(102)의 높이의 차가 문턱값 이하로 되지 않는다. 따라서, 상측 틀(13)에 설치된 계측부(30)를 세로 틀(11)의 근방에 설치하고, 상측 틀(14)에 설치된 계측부(30)를 세로 틀(12)의 근방에 설치함으로써, 이러한 불량을 검지할 수가 있다. In addition, as shown in Fig. 11, when affixing the
본 실시의 형태에 의하면, 펠리클(100)이 마스크 M에 확실하게 첩부되어 있는 것을 확인할 수가 있다. 따라서, 펠리클(100)이 마스크 M에 확실하게 첩부되어 있지 않은 상태에서 펠리클(100)이 클램프 해제되고, 펠리클(100)이 낙하해 버리는 것을 방지할 수가 있다. According to this embodiment, it can be confirmed that the
예를 들면, 틀(10)을 이동시키는 모터 등의 좌표로 펠리클(100)의 첩부 상태를 확인하는 경우에는, 펠리클 파지 부재(21)의 손상 등에 의해 펠리클(100)과 마스크 M과의 위치 관계가 상정과 달라, 펠리클(100)이 마스크 M에 첩부되어 있지 않은 상태에서 펠리클(100)을 클램프 해제해 버릴 우려가 있다. 특히, 크기가 큰 펠리클(100)의 경우에는, 펠리클(100)을 1매 낙하시킴으로써, 1000만엔 정도의 고액의 손실이 발생해 버린다. 따라서, 본 실시의 형태와 같이, 펠리클(100)이 마스크 M에 확실하게 첩부되어 있는 것을 확인함으로써 쓸데없는 비용을 삭감할 수가 있다. For example, in the case of confirming the affixed state of the
또, 본 실시의 형태에 의하면, 마스크 M의 표면 Ma와 펠리클(100)과의 거리를 실제로 측정하여 첩부 상태를 확인하기 때문에, 펠리클 파지 장치(1)가 여러 가지 두께의 펠리클 프레임(101)을 취급하는 경우에도 용이하게 대응할 수가 있다. In addition, according to the present embodiment, since the distance between the surface Ma of the mask M and the
또, 본 실시의 형태에 의하면, 틀(10), 즉 펠리클(100)을 연직 방향에 대해서 미소 각도만 기울인 상태로 평행이동 시키서 점착 부재(103)을 마스크 M에 압압함으로써, 펠리클(100)의 상단부를 마스크 M에 첩부하고, 마스크 M 및 펠리클(100)의 상단 근방에 있어서 표면 Ma의 높이 및 펠리클 막(102)의 높이를 측정한 결과에 기초하여 펠리클(100)이 마스크 M에 첩부되었는지 어떤지를 판정하기 때문에, 펠리클(100)의 첩부 상태를 정확하게 판정할 수가 있다. In addition, according to the present embodiment, the
또한, 본 실시의 형태에서는, 펠리클 파지 장치(1)가 계측부(30)를 2개 가지고, 2개의 계측부(30)가 틀(10)의 상측 근방 또한 좌우 양단 근방에 설치되었지만, 계측부(30)가 설치되는 위치 및 수는 이것에 한정되지 않는다. 2개의 계측부(30)는, 상측 틀(13, 14)이 아니라, 세로 틀(11, 12)의 상단 근방에 설치되어 있어도 좋다. 이 경우에는, 액츄에이터(33)는, 초음파 센서(31) 및 반사판(32)을, 제1 위치와 제2 위치와의 사이에서 x방향(수평 방향)을 따라 이동시키면 좋다. In addition, in the present embodiment, the
또 예를 들면, 펠리클 파지 장치(1)가, 계측부(30)를 3개 가지고, 3개의 계측부(30)가 상측 틀(13, 14) 및 하단부(15a)에 설치되어 있어도 좋다. 펠리클(100)의 상하단 근방에 있어서 펠리클 막(102)의 높이를 측정함으로써, 펠리클(100)이 첩부되어 있는지 어떤지를 보다 확실하게 확인할 수가 있다. 이 경우, 펠리클(100)을 마스크 M에 맞닿게 할 때는, 상단측에 있어서의 하면(101b)과 마스크 M과의 거리가, 하단측에 있어서의 하면(101b)과 마스크 M과의 거리보다 가깝기 때문에, 스텝 S203, 204에 있어서, 하단측의 문턱값을 상단측의 문턱값보다 크게 한다. 또한, 하단부(15a)에 설치되는 계측부(30)는, 하단부(15a)의 x방향 대략 중앙부에 배치하는 것이 바람직하다. Further, for example, the
또 예를 들면, 계측부(30)는, 상측 틀(13, 14)이 아니라, 상단부(15b)에 설치되어 있어도 좋다. 상단부(15b)에 계측부(30)를 설치하기 때문에, 펠리클(100)의 상단 근방의 위치에서 펠리클 막(102)의 높이를 측정할 수가 있다. 상단부(15b)에 설치되는 계측부(30)가 1개인 경우에는, 계측부(30)는, 틀(10)의 중앙 근방에 설치하는 것이 바람직하다. 다만, 펠리클(100)의 일부(예를 들면, +x단)가 마스크 M에 첩부되어 있고, 다른 부분(예를 들면, -x단)이 마스크 M에 첩부되어 있지 않은 상태를 검지하기 위해서는, 계측부(30)를, 틀(10)의 상측 또한 좌우 양단 근방에 설치하는 것이 바람직하다. In addition, for example, the
또, 본 실시의 형태에서는, 틀(10)이 여러 가지 크기의 펠리클(100)을 파지할 수 있도록, 주로 세로 틀(11, 12)이나 상측 틀(13, 14)이 테두리(15)에 대해서 이동 가능하게 설치되어 있었지만, 세로 틀(11, 12)이나 상측 틀(13, 14)은 필수는 아니다. 예를 들면, 틀(10)이 1종류의 펠리클(100)을 파지할 수 있으면 좋은 경우에는 테두리(15)만으로 좋다. 이 경우에는, 계측부(30)는, 펠리클(100)의 상측 근방 또한 좌우 양단 근방의 점을 측정하기 때문에, 테두리(15)의 상측에 있는 2개의 모퉁이의 근방에 설치되어 있는 것이 바람직하다. In addition, in the present embodiment, the
이상, 이 발명의 실시 형태를 도면을 참조하여 상술해 왔지만, 구체적인 구성은 이 실시 형태에 한정되는 것은 아니고, 이 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위의 설계 변경 등도 포함된다. 당업자이면, 실시 형태의 각 요소를 적당하게 변경, 추가, 변환 등을 하는 것이 가능하다. As mentioned above, although the embodiment of this invention has been described in detail with reference to drawings, the specific structure is not limited to this embodiment, It includes design changes etc. within the range which does not deviate from the gist of this invention. Those skilled in the art can appropriately change, add, or convert each element of the embodiment.
또, 본 발명에 있어서, 「대략」이란, 엄밀하게 동일한 경우뿐만 아니라, 동일성을 잃지 않는 정도의 오차나 변형을 포함하는 개념이다. 예를 들면, 대략 평행이란, 엄밀하게 평행의 경우에는 한정되지 않고, 예를 들면 수도(數度) 정도의 오차를 포함하는 개념이다. 또, 예를 들면, 단지 평행, 직교 등으로 표현하는 경우에 있어서, 엄밀하게 평행, 직교 등의 경우뿐만 아니라, 대략 평행, 대략 직교 등의 경우를 포함하는 것으로 한다. 또, 본 발명에 있어서, 「근방」이란, 기준으로 되는 위치의 가까이의 어느 범위(임의에 정할 수가 있음)의 영역을 포함하는 것을 의미한다. 예를 들면, A의 근방이라고 하는 경우에, A의 가까이의 어느 범위의 영역으로서, A를 포함하고 있어도 포함하고 있지 않아도 좋은 것을 나타내는 개념이다. In addition, in the present invention, "approximately" is a concept including not only the exact same case, but also an error or deformation of a degree that does not lose the identity. For example, substantially parallel is not limited in the case of strictly parallel, but is a concept including, for example, an error of about the number of times. In addition, for example, in the case of expressing only parallel, orthogonal, etc., it is assumed that not only the case of strictly parallel, orthogonal, etc. but also the case of substantially parallel, substantially orthogonal, etc. In addition, in the present invention, "nearby" means to include an area of a certain range (which can be arbitrarily determined) close to the reference position. For example, in the case of the vicinity of A, it is a concept indicating that the region of a certain range near A is included or not included.
1 : 펠리클(pellicle) 프레임 파지 장치
10 : 틀
11, 12 : 세로 틀
13, 14 : 상측 틀
15 : 테두리
15a : 하단부
15b : 상단부
16 : 구동부
20 : 펠리클 파지부
21 : 펠리클 파지 부재
22 : 구동 부재
22a : 로드(rod)
22b : 액츄에이터(actuator)
30 : 계측부
31 : 초음파 센서
32 : 반사판
32a : 반사부
33 : 액츄에이터(actuator)
100 : 펠리클(pellicle)
101 : 펠리클 프레임
101a : 상면
101b : 하면
101c : 외주면
101d : 홈(groove)
101e : 중공부
102 : 펠리클 막
103 : 점착 부재
151 : CPU
151a : 제어부
152 : RAM
153 : ROM
154 : 입출력 인터페이스
155 : 통신 인터페이스
156 : 미디어 인터페이스
161 : 입출력 장치
162 : 네트워크
163 : 기억 매체 1: pellicle frame gripping device
10: frame
11, 12:
15: border
15a:
16: drive unit
20: pellicle holding portion 21: pellicle holding member
22: drive member
22a:
30: measurement unit 31: ultrasonic sensor
32:
33: actuator
100: pellicle 101: pellicle frame
101a:
101c: outer
101e: hollow part
102: pellicle membrane 103: adhesive member
151:
152: RAM 153: ROM
154: input/output interface
155: communication interface 156: media interface
161: input/output device
162: network 163: storage medium
Claims (7)
복수의 봉재를 대략 직사각형 형상으로 조합한 테두리 모양의 부재인 틀과,
상기 틀에 설치되고, 상기 펠리클 프레임의 상기 외주면을 파지하는 펠리클 파지부와,
상기 틀에 설치된 계측부와,
상기 틀, 상기 펠리클 파지부 및 상기 계측부를 제어하는 제어부를 구비하고,
상기 계측부는, 선단 근방이 상기 마스크와 겹치는 제1 위치와, 상기 선단 근방이 상기 펠리클 프레임과 겹치는 제2 위치와의 사이에서 이동 가능하게 설치되고,
상기 봉재의 연설 방향과 대략 직교하는 방향으로부터 보아서, 상기 펠리클 파지부와 상기 계측부는 다른 위치에 설치되고,
상기 제어부는, 상기 펠리클 파지부가 상기 펠리클 프레임을 파지하고, 또한 상기 틀을 대략 수직 방향으로 연설하여 상기 점착 부재와 상기 마스크를 맞닿게 한 상태로, 상기 계측부를 상기 제1 위치에 배치하여 상기 마스크의 표면까지의 거리인 제1 거리를 측정하고, 상기 계측부를 상기 제2 위치로 이동시켜서 상기 펠리클 막까지의 거리인 제2 거리를 측정하는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임 파지 장치. A pellicle frame having a substantially hollow cylindrical shape, a pellicle membrane installed on a first surface substantially perpendicular to the outer peripheral surface of the pellicle frame to cover the hollow portion of the pellicle frame, and an adhesive member provided on a second surface substantially parallel to the first surface A pellicle holding device for holding a pellicle having a and attaching the pellicle to a substantially plate-shaped mask held in a substantially vertical direction,
A frame, which is a frame-shaped member in which a plurality of bars are combined in a substantially rectangular shape,
A pellicle gripping portion installed on the frame and gripping the outer peripheral surface of the pellicle frame,
A measuring unit installed in the frame,
And a control unit for controlling the frame, the pellicle gripping unit, and the measuring unit,
The measurement unit is movably installed between a first position in the vicinity of the tip overlapping the mask and a second position in the vicinity of the tip overlapping the pellicle frame,
When viewed from a direction substantially orthogonal to the extending direction of the bar, the pellicle gripping portion and the measuring portion are provided at different positions,
The control unit comprises a state in which the pellicle gripping unit grips the pellicle frame and extends the frame in a substantially vertical direction to bring the adhesive member into contact with the mask, and the measurement unit is disposed at the first position to provide the mask. A pellicle frame holding device, characterized in that measuring a first distance, which is a distance to the surface of, and moving the measurement unit to the second position, and measuring a second distance, which is a distance to the pellicle film.
상기 펠리클 파지부는, 상기 외주면과 맞닿는 맞닿음 위치와, 상기 외주면과 맞닿지 않는 퇴피 위치와의 사이에서 수평 방향 또는 수직 방향으로 이동 가능하게 설치된 펠리클 파지 부재를 가지고,
상기 틀은, 수평 방향으로 이동 가능하고,
상기 제어부는, 상기 펠리클 파지 부재를 상기 맞닿음 위치에 배치하여 상기 펠리클 프레임을 파지하고, 상기 틀을 대략 수직 방향으로 연설한 상태로 상기 틀을 수평 방향으로 이동시켜서 상기 점착 부재와 상기 마스크를 맞닿게 하고, 상기 계측부를 상기 제1 위치에 배치하여 상기 제1 거리를 측정하고, 상기 계측부를 상기 제2 위치로 이동시켜서 상기 제2 거리를 측정하고, 상기 제1 거리와 상기 제2 거리의 차가 문턱값 이하인 경우에 상기 펠리클 파지 부재를 상기 맞닿음 위치로부터 상기 퇴피 위치로 이동 가능하게 하는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임 파지 장치. The method of claim 1,
The pellicle gripping part has a pellicle gripping member installed to be movable in a horizontal direction or a vertical direction between an abutting position in contact with the outer circumferential surface and a retracting position not in contact with the outer circumferential surface,
The frame is movable in a horizontal direction,
The control unit, by disposing the pellicle gripping member in the abutting position to grip the pellicle frame, and by moving the frame in a horizontal direction while the frame is extended in a substantially vertical direction, so that the adhesive member and the mask are brought into contact with each other. Touch, measure the first distance by placing the measurement unit in the first position, measure the second distance by moving the measurement unit to the second position, and the difference between the first distance and the second distance is A pellicle frame gripping device, characterized in that when it is less than a threshold value, the pellicle gripping member is movable from the abutting position to the retracted position.
상기 계측부는, 상기 점착 부재와 상기 마스크를 맞닿게 할 때의 자세에 있어서, 상기 틀의 상측 근방 또한 좌단 근방에 설치된 제1 계측부와, 상기 틀의 상측 근방 또한 우단 근방에 설치된 제2 계측부를 가지는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임 파지 장치. The method according to claim 1 or 2,
The measurement unit has a first measurement unit provided near the upper side and the left end of the frame, and a second measurement unit provided near the upper side and the right end of the frame in a posture when the adhesive member and the mask are brought into contact with each other. A pellicle frame holding device, characterized in that.
상기 틀은, 상기 점착 부재와 상기 마스크를 맞닿게 할 때의 자세에 있어서, 대략 연직으로 연설된 대략 봉상의 제1 세로 틀 및 제2 세로 틀과, 상기 제1 세로 틀 및 상기 제2 세로 틀의 상단 근방에 대략 수평으로 연설된 상측 틀을 가지고,
상기 제1 세로 틀 및 상기 제2 세로 틀은, 상기 상측 틀의 연설 방향을 따라 이동 가능하고,
상기 상측 틀은, 상기 제1 세로 틀 및 상기 제2 세로 틀의 연설 방향을 따라 이동 가능하고,
상기 펠리클 파지부는, 상기 제1 세로 틀 및 상기 제2 세로 틀에 설치되고,
상기 계측부는, 상기 상측 틀에 설치되는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임 파지 장치. The method according to any one of claims 1 to 3,
The frame, in a posture when the adhesive member and the mask are brought into contact with each other, a first vertical frame and a second vertical frame in the shape of a substantially rod extended substantially vertically, and the first vertical frame and the second vertical frame Has an upper frame extending approximately horizontally near the top of
The first vertical frame and the second vertical frame are movable along the speech direction of the upper frame,
The upper frame is movable along the speech direction of the first vertical frame and the second vertical frame,
The pellicle holding portion is installed on the first vertical frame and the second vertical frame,
The measuring unit is a pellicle frame gripping device, characterized in that installed on the upper frame.
상기 틀은, 상기 제1 세로 틀 및 상기 제2 세로 틀의 하단 근방에 대략 수평으로 연설된 하측 틀을 가지고,
상기 계측부는, 상기 하측 틀에 설치된 제3 계측부를 가지는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임 파지 장치. The method of claim 4,
The frame has a lower frame extending approximately horizontally in the vicinity of a lower end of the first vertical frame and the second vertical frame,
The measurement unit, a pellicle frame holding device, characterized in that it has a third measurement unit provided on the lower frame.
상기 틀은, 상기 점착 부재와 상기 마스크를 맞닿게 할 때에, 상단측에 있어서의 상기 제2 면과 상기 마스크와의 거리가, 하단측에 있어서의 상기 제2 면과 상기 마스크와의 거리보다도 가깝게 되도록 기울어져 있는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임 파지 장치. The method according to any one of claims 1 to 5,
In the frame, when the adhesive member and the mask are brought into contact with each other, the distance between the second surface and the mask on the upper end side is closer than the distance between the second surface and the mask on the lower end side. A pellicle frame holding device, characterized in that inclined so as to be.
틀에 수평 방향으로 이동 가능하게 설치된 펠리클 파지 부재를 상기 외주면과 맞닿는 맞닿음 위치에 배치하여 상기 펠리클 프레임을 파지하고,
상기 펠리클 프레임을 파지한 상태로 상기 틀을 평행이동 시키고 상기 점착 부재와 상기 마스크와 맞닿게 하고,
상기 틀에 설치된 계측부를 선단 근방이 상기 마스크와 겹치는 제1 위치에 배치하여, 상기 마스크의 표면까지의 거리인 제1 거리를 측정하고,
상기 계측부를 상기 선단 근방이 상기 펠리클 프레임과 겹치는 제2 위치로 이동시켜서, 상기 펠리클 막까지의 거리인 제2 거리를 측정하고,
상기 제1 거리와 상기 제2 거리의 차가 문턱값 이하인 경우에, 상기 펠리클 파지 부재를 상기 맞닿음 위치로부터 상기 외주면과 맞닿지 않는 퇴피 위치로 이동 가능하게 하는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임 파지 방법. A pellicle frame having a substantially hollow cylindrical shape, a pellicle membrane installed on a first surface substantially perpendicular to the outer peripheral surface of the pellicle frame to cover the hollow portion of the pellicle frame, and an adhesive member provided on a second surface substantially parallel to the first surface A pellicle holding method of holding a pellicle having a and attaching it to a substantially plate-shaped mask held in a substantially vertical direction,
A pellicle holding member installed in the frame so as to be movable in the horizontal direction is disposed in abutting position in contact with the outer circumferential surface to hold the pellicle frame,
The frame is moved in parallel while holding the pellicle frame and brought into contact with the adhesive member and the mask,
A measurement unit installed in the frame is disposed at a first position where the vicinity of the tip overlaps the mask, and a first distance, which is a distance to the surface of the mask, is measured,
The measurement unit is moved to a second position where the vicinity of the tip end overlaps the pellicle frame, and a second distance, which is a distance to the pellicle film, is measured,
When the difference between the first distance and the second distance is less than or equal to a threshold value, the pellicle gripping member is movable from the abutting position to a retracted position not in contact with the outer circumferential surface.
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