KR20200079793A - Sealing capsule for inspecting extreme ultra violet lithography pellicle - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a capsule used to protect an extreme ultraviolet lithography pellicle during inspection of the extreme ultraviolet lithography pellicle used as a dustproof film when a semiconductor device is manufactured. The present invention provides a capsule used for inspecting an extreme ultraviolet lithography pellicle, including: an upper plate having an opening formed at the center of the upper plate; an upper plate window installed in the opening of the upper plate, and having an anti-reflective coating layer; a lower plate coupled to the upper plate to form an inner space in which the extreme ultraviolet lithography pellicle is accommodated, and having a plurality of vacuum holes formed on a bottom surface of the lower plate and a vacuum auxiliary device mounting groove formed on at least one side surface of the lower plate to adsorb and fix a pellicle frame of the extreme ultraviolet lithography pellicle; and a vacuum auxiliary device installed in the vacuum auxiliary device mounting groove of the lower plate, and having a gas discharge port connected to a vacuum generator and a first flow path connected to the gas discharge port, wherein the lower plate has a second flow path that connects the first flow path to the vacuum holes. When the capsule used for inspecting the extreme ultraviolet lithography pellicle according to the present invention is used, damage to a pellicle film of an extreme ultraviolet pellicle is minimized in an inspection process. In addition, even when the pellicle film is damaged, particles of the pellicle film are prevented from scattering and contaminating an inspection device.

Description

초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐{Sealing capsule for inspecting extreme ultra violet lithography pellicle}Capsule used for inspection of pellicle for ultra-ultraviolet lithography {Sealing capsule for inspecting extreme ultra violet lithography pellicle}

본 발명은 반도체 디바이스를 제조할 때 방진막으로 사용되는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사시에 초극자외선 리소그라피용 펠리클을 보호하기 위해 사용되는 캡슐에 관한 것이다.The present invention relates to a capsule used to protect pellicles for ultra-ultraviolet lithography when inspecting pellicles for ultra-ultraviolet lithography used as anti-vibration films when manufacturing semiconductor devices.

반도체 디바이스 또는 액정 표시판 등의 제조에 반도체 웨이퍼 또는 액정용 기판에 패터닝을 하는 경우에 포토 리소그라피라는 방법이 사용된다. 포토 리소그라피에서는 패터닝의 원판으로서 마스크가 사용되고, 마스크상의 패턴이 웨이퍼 또는 액정용 기판에 전사된다. 이 마스크에 먼지가 부착되어 있으면 이 먼지로 인하여 빛이 흡수되거나, 반사되기 때문에 전사한 패턴이 손상되어 반도체 장치나 액정 표시판 등의 성능이나 수율의 저하를 초래한다는 문제가 발생한다. 따라서, 이들의 작업은 보통 클린룸에서 행해지지만 이 클린룸 내에도 먼지가 존재하므로, 마스크 표면에 먼지가 부착하는 것을 방지하기 위하여 펠리클을 부착하는 방법이 행해지고 있다. 이 경우, 먼지는 마스크의 표면에는 직접 부착되지 않고, 펠리클 막 위에 부착되고, 리소그라피 시에는 초점이 마스크의 패턴 상에 일치되어 있으므로 펠리클 상의 먼지는 초점이 맞지 않아 패턴에 전사되지 않는 이점이 있다. When patterning a semiconductor wafer or a liquid crystal substrate for manufacturing a semiconductor device or a liquid crystal display panel, a method called photolithography is used. In photolithography, a mask is used as the original patterning pattern, and the pattern on the mask is transferred to a wafer or a substrate for liquid crystal. When dust is attached to the mask, light is absorbed or reflected by the dust, and thus the transferred pattern is damaged, resulting in a decrease in performance or yield of semiconductor devices or liquid crystal displays. Therefore, these operations are usually performed in a clean room, but since dust is also present in the clean room, a method of attaching a pellicle is being performed to prevent dust from adhering to the mask surface. In this case, the dust is not directly attached to the surface of the mask, but is attached to the pellicle film, and in lithography, the focus is coincident on the pattern of the mask, so the dust on the pellicle is out of focus and is not transferred to the pattern.

점차 반도체 제조용 노광 장치의 요구 해상도는 높아져 가고 있고, 그 해상도를 실현하기 위해서 광원의 파장이 점점 더 짧아지고 있다. 구체적으로, UV 광원은 자외광 g선(436), I선(365), KrF 엑시머 레이저(248), ArF 엑시머 레이저(193)에서 초극자외선(EUV, extreme UltraViolet, 13.5㎚)로 점점 파장이 짧아지고 있다. 이러한 초극자외선을 이용한 노광 기술을 실현하기 위해서는 새로운 광원, 레지스트, 마스크, 펠리클의 개발이 불가결하다. 즉, 종래의 유기 펠리클 막은 높은 에너지를 가진 노광 광원에 의해서 물성이 변화되고, 수명이 짧기 때문에 초극자외선용 펠리클에는 사용되기 어렵다는 문제가 있다. 이러한 문제를 해결하기 위해서 다양한 시도가 진행되고 있다.The required resolution of the semiconductor manufacturing exposure apparatus is gradually increasing, and the wavelength of the light source is gradually shortening to realize the resolution. Specifically, the UV light source is gradually shorter in wavelength from ultraviolet light g-ray 436, I-line 365, KrF excimer laser 248, ArF excimer laser 193 to ultra-ultraviolet rays (EUV, extreme UltraViolet, 13.5 nm). Losing. The development of new light sources, resists, masks, and pellicles is indispensable in order to realize the exposure technology using ultra-ultraviolet rays. That is, the conventional organic pellicle film has a problem that it is difficult to be used in pellicles for ultra-ultraviolet rays because the properties of the organic pellicle film are changed by an exposure light source having high energy and the life is short. Various attempts have been made to solve this problem.

펠리클의 제조는 보통 슈퍼 클린룸에서 행해지고 생산된 펠리클은 펠리클 전용 케이스에 보관하게 되며, 제품 출하 전에 투과율 측정과 이물 검사를 진행하게 된다. 또한, 입고 후에도 케이스를 개봉하여 마스크에 부착하기 전 혹은 마스크에 부착한 뒤에 이물검사를 진행하게 된다. The manufacture of pellicles is usually done in a super clean room, and the produced pellicles are stored in a pellicle case, and the transmittance is measured and the foreign matter is inspected before shipment. In addition, even after wearing, the case is opened and the foreign matter is inspected before or after attaching it to the mask.

그런데 이러한 초극자외선용 펠리클의 펠리클 막은 두께 수십㎚ 수준의 초박막이며, 길이와 폭은 6인치 정도이기 때문에 펠리클 막의 표면에 부착된 이물질 등을 검사하는 과정에서 쉽게 파손될 수 있다는 문제가 있다. However, the pellicle film of the pellicle for ultra-ultraviolet rays is an ultra-thin film having a thickness of several tens of nm and has a problem that it can be easily damaged in the process of inspecting foreign substances attached to the surface of the pellicle film because the length and width are about 6 inches.

즉, 펠리클 보관 케이스를 개봉하는 과정, 펠리클을 검사 장치의 이동 테이블에 장착하는 과정, 검사 장치의 이동 테이블 위에 고정된 상태에서 펠리클이 이동하는 과정에서 가해지는 진동, 검사 장치의 내부에 양압을 유지하기 위해서 검사 장치에 공급되는 공기의 흐름, 펠리클 막의 반대쪽 표면 검사를 위해서 펠리클을 뒤집는 과정에서 가해지는 압력이나 진동 등에 의해서 펠리클이 쉽게 파손될 수 있다는 문제가 있다.That is, the process of opening the pellicle storage case, the process of mounting the pellicle on the moving table of the inspection device, the vibration exerted in the process of moving the pellicle while being fixed on the moving table of the inspection device, and maintaining the positive pressure inside the inspection device In order to do this, there is a problem in that the pellicle can be easily broken by pressure or vibration applied in the process of turning the pellicle over for the flow of air supplied to the inspection device and the surface of the pellicle.

또한, 종래의 펠리클 막은 단순히 찢어지지만, 초극자외선용 펠리클의 펠리클 막은 파손되면 막을 구성하고 있는 입자들이 비산되어 검사장치에 들러붙게 되는 치명적인 문제를 발생시킬 수 있다.In addition, the conventional pellicle film is simply torn, but when the pellicle film of the pellicle for ultra-ultraviolet rays is damaged, particles constituting the film may be scattered and cause a fatal problem that sticks to the inspection apparatus.

등록특허 10-1738887Registered Patent 10-1738887 등록특허 10-1807396Patent Registration 10-1807396 공개특허 10-2017-0085118Patent Publication 10-2017-0085118

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 초극자외선용 펠리클이 밀봉된 상태로 검사될 수 있도록 초극자외선용 펠리클을 저 진공 상태로 밀봉하는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention is to solve the above-mentioned problems, to provide a capsule used for the inspection of the ultra-ultraviolet lithography pellicle for sealing the ultra-ultraviolet pellicle in a low vacuum state so that the pellicle for the ultra-ultraviolet rays can be inspected in a sealed state It is aimed at.

상술한 목적을 달성하기 위해서, 본 발명은,In order to achieve the above object, the present invention,

중심부에 개구가 형성된 상판과,A top plate with an opening in the center,

상기 상판의 개구에 설치되며, 반사 방지 코팅층이 형성된 상판 윈도우와,It is installed in the opening of the top plate, the top plate window is formed with an anti-reflective coating layer,

상기 상판과 결합하여, 초극자외선 리소그라피용 펠리클이 수납되는 내부공간을 형성하며, 상기 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 펠리클 프레임을 흡착하여 고정하기 위해 바닥면에 형성된 복수의 진공 홀들과 적어도 한쪽 측면에 형성된 진공 보조장치 장착 홈이 형성된 하판과,Combined with the top plate to form an interior space in which pellicles for ultra-ultraviolet lithography are housed, a plurality of vacuum holes formed on the bottom surface to adsorb and fix the pellicle frame of the pellicles for ultra-ultraviolet lithography and vacuum formed on at least one side A lower plate with an auxiliary device mounting groove,

상기 하판의 진공 보조장치 장착 홈에 설치되며, 진공 발생장치와 연결되는 가스 배출구와 상기 가스 배출구와 연결된 제1 유로가 형성된 진공 보조장치를 포함하며,It is installed in the vacuum auxiliary device mounting groove of the lower plate, and includes a vacuum auxiliary device formed with a gas outlet connected to the vacuum generator and a first flow path connected to the gas outlet,

상기 하판에는 상기 제1 유로와 상기 진공 홀들을 연결하는 제2 유로가 형성된 초극자외선 리소그래피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공한다.The lower plate is provided with a capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography, in which a second flow path connecting the first flow path and the vacuum holes is formed.

또한, 상기 하판의 중심부에는 개구가 형성되며, 상기 하판의 개구에 설치되며, 반사 방지 코팅층이 형성된 하판 윈도우를 더 포함하는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공한다.In addition, an opening is formed in the center of the lower plate, and is provided in the opening of the lower plate, and provides a capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography further comprising a lower window with an antireflective coating layer.

또한, 상기 진공 보조장치는 몸체부와, 상기 몸체부의 일측면에서 연장되며, 상기 진공 보조장치 장착 홈에 끼워지며 상기 제1 유로가 형성된 흡입부를 포함하며,In addition, the vacuum assisting device includes a body part, a suction part extending from one side of the body part, fitted into the vacuum assisting device mounting groove, and having the first flow path formed therein,

상기 캡슐은 상기 진공 보조장치에 결합되는 진공 벤트 부시를 더 포함하며,The capsule further includes a vacuum vent bush coupled to the vacuum auxiliary device,

상기 진공 벤트 부시에는 제1 벽면과 반대 측 제2 벽면에 의해서 양단부가 막힌 가로 방향으로 연장된 제1 채널과, 상기 제1 채널과 각을 이루며 연결되며 상기 제1 채널과 진공 발생장치의 흡입구를 연결하는 제2 채널이 형성되며, The vacuum vent bush has a first channel extending in a transverse direction blocked at both ends by a second wall surface opposite to the first wall surface, and is formed at an angle with the first channel, and is connected to the first channel and the suction port of the vacuum generator. A second channel connecting is formed,

상기 진공 벤트 부시는 상기 제1 채널을 따라서 상기 제1 벽면과 제2 벽면 사이를 직선 운동하며, 중심부에 관통구멍이 형성된 피스톤을 더 포함하며,The vacuum vent bush linearly moves between the first wall and the second wall along the first channel, and further includes a piston having a through hole in the center,

상기 진공 보조장치의 흡입부에는 상기 제1 채널과 다른 높이로 가로 방향으로 연장된 제3 채널이 형성되며,A third channel extending in a horizontal direction at a different height from the first channel is formed in the suction part of the vacuum auxiliary device,

상기 진공 벤트 부시에는 상기 제1 채널과 상기 제3 채널을 연결하는 제4 채널이 형성되고,The vacuum vent bush is formed with a fourth channel connecting the first channel and the third channel,

상기 피스톤이 상기 제1 벽면과 접하면, 상기 제1 채널과 제2 채널의 연결부가 폐쇄되며, 상기 피스톤이 상기 제2 벽면에 접하면 상기 제1 채널과 제4 채널의 연결부가 폐쇄되는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공한다.When the piston is in contact with the first wall, the connection between the first channel and the second channel is closed, and when the piston is in contact with the second wall, the connection between the first channel and the fourth channel is closed. Provided are capsules used for the examination of pellicles for lithography.

또한, 상기 진공 벤트 부시에는 상기 제1 채널과 연결된 제5 채널이 형성되며, 상기 피스톤이 상기 제1 벽면과 접하면, 상기 제1 채널과 제5 채널의 연결부가 폐쇄되는 초극자외선 리소그래피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공한다.In addition, a fifth channel connected to the first channel is formed in the vacuum vent bush, and when the piston comes into contact with the first wall, the connection part of the first channel and the fifth channel is closed. Provide capsules for use in testing.

또한, 상기 피스톤의 제1 벽면 측 끝단에는 상기 제5 채널을 통해서 유입된 가스가 부딪혀 상기 피스톤을 상기 제2 벽면 측으로 밀어낼 수 있도록 경사진 절개부가 형성된 초극자외선 리소그래피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공한다.In addition, the capsule used for the inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography, in which an inclined incision is formed so that the gas introduced through the fifth channel collides with the end of the first wall side of the piston to push the piston toward the second wall side. Gives

또한, 상기 흡입부에는 상기 제3 채널과 연통된 챔버가 형성되며, 상기 챔버의 개방된 상면에는 다공성 플레이트인 흡입판이 배치된 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공한다.In addition, a chamber in communication with the third channel is formed in the suction part, and a capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography is disposed on the open upper surface of the chamber, wherein a suction plate as a porous plate is disposed.

또한, 상기 흡입판은 다공성 세라믹인 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공한다.In addition, the suction plate provides a capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography, which is a porous ceramic.

또한, 상기 제1 유로는 상기 제4 채널과 연결된 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공한다.In addition, the first flow path provides a capsule used for the inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography connected to the fourth channel.

또한, 상기 제1 벽면은 상기 피스톤과 상기 제1 벽면이 가까워지는 방향으로 상기 피스톤에 자기력을 인가하는 자석을 포함하는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공한다.In addition, the first wall surface provides a capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography including a magnet that applies a magnetic force to the piston in a direction in which the piston and the first wall surface are close.

또한, 상기 제2 벽면은 상기 피스톤과 상기 제2 벽면이 가까워지는 방향으로 상기 피스톤에 자기력을 인가하는 자석을 포함하는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공한다.In addition, the second wall surface provides a capsule used for the inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography including a magnet that applies a magnetic force to the piston in a direction in which the piston and the second wall surface are close.

또한, 힌지 핀에 의해서 회동 가능하게 상기 진공 벤트 부시의 인디케이터 설치부에 고정된 한 쌍의 아암과, 상기 한 쌍의 아암의 일단에 각각 고정된 한 쌍의 볼 샤프트 플런저를 구비한 진공 인디케이터를 더 포함하며,In addition, a vacuum indicator having a pair of arms fixed to the indicator installation portion of the vacuum vent bush and a pair of ball shaft plungers fixed to one end of the pair of arms so as to be rotatable by a hinge pin is further provided. Includes,

상기 볼 샤프트 플런저는 배럴과 상기 배럴 안에 배치되는 볼 샤프트와 일단은 배럴 안에 배치되며 타단은 상기 아암에 결합하는 압축 스프링을 포함하며,The ball shaft plunger includes a barrel, a ball shaft disposed in the barrel, one end disposed in the barrel, and the other end including a compression spring coupled to the arm,

상기 볼 샤프트 플런저는 상기 인디케이터 설치부와 상기 제1 채널 사이의 벽면을 관통하는 관통구멍에 설치되며,The ball shaft plunger is installed in a through hole penetrating the wall surface between the indicator installation portion and the first channel,

상기 볼 샤프트의 볼 형태의 끝단은 상기 제1 채널의 내부에 배치되며, 상기 피스톤이 상기 볼 샤프트의 아래를 지나가면 상기 볼 샤프트가 상승하면서 상기 볼 플런저의 압축 스프링과 연결된 아암을 회전시키는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공한다.The ball-shaped end of the ball shaft is disposed inside the first channel, and when the piston passes under the ball shaft, the ball shaft rises while rotating the arm connected to the compression spring of the ball plunger. Provided are capsules used for the examination of pellicles for lithography.

또한, 상기 진공 보조장치와 상기 진공 벤트 부시는 일체를 이루는 초극자외선 리소그래피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 제공한다.In addition, the vacuum auxiliary device and the vacuum vent bush provide a capsule that is used for inspection of an integral ultra-ultraviolet lithography pellicle.

본 발명에 따른 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐을 사용하면 검사과정에서 초극자외선용 펠리클의 펠리클 막이 파손되는 것을 최소화할 수 있다. 또한, 만일 펠리클 막이 파손되어도 펠리클 막의 입자들이 비산되어 검사장치를 오염시키는 것을 방지할 수 있다.If the capsule used for the inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography according to the present invention is used, it is possible to minimize the breakage of the pellicle film of the pellicle for ultra-ultraviolet rays during the inspection process. In addition, if the pellicle film is broken, particles of the pellicle film may be scattered to prevent contamination of the inspection device.

또한, 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐은 펠리클 케이스를 대체할 수 있다는 장점도 있다. 또한, 검사과정에서 펠리클 케이스를 개봉하지 않으므로, 펠리클 케이스를 개봉하는 공정을 줄일 수 있다는 장점이 있다.In addition, the capsule used for the inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography also has the advantage of being able to replace the pellicle case. In addition, since the pellicle case is not opened during the inspection process, there is an advantage of reducing the process of opening the pellicle case.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐의 사시도이다.
도 2는 도 1에 도시된 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐의 분해사시도이다.
도 3은 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 일 예를 나타낸 사시도이다.
도 4와 5는 도 1에 도시된 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐이 진공 발생장치에 장착된 상태의 일부를 나타낸 단면도이다.
도 6은 도 4와 5에 도시된 피스톤의 사시도이다.
도 7은 1에 도시된 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐의 상판을 제거한 상태를 나타낸 평면도이다.
도 8은 도 5의 일부를 확대한 단면도이다.
도 9는 도 2에 도시된 볼 플런저를 나타낸 도면이다.
1 is a perspective view of a capsule used in the inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is an exploded perspective view of a capsule used in the inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography shown in FIG. 1.
3 is a perspective view showing an example of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography.
4 and 5 are cross-sectional views showing part of a state in which the capsule used for the inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography shown in FIG. 1 is mounted on a vacuum generator.
6 is a perspective view of the piston shown in FIGS. 4 and 5.
7 is a plan view showing a state in which the top plate of the capsule used for the inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography shown in 1 is removed.
8 is an enlarged cross-sectional view of a portion of FIG. 5.
9 is a view showing the ball plunger shown in FIG.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면들에 의거하여 상세하게 설명한다. 다음에 소개되는 실시예는 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되는 것이다. 따라서 본 발명은 이하 설명되는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 그리고 도면들에서, 구성요소의 폭, 길이, 두께 등은 편의를 위하여 과장되어 표현될 수 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail based on the accompanying drawings. The embodiments introduced below are provided as examples to ensure that the spirit of the present invention is sufficiently transmitted to those skilled in the art. Therefore, the present invention is not limited to the embodiments described below and may be embodied in other forms. In addition, in the drawings, the width, length, and thickness of components may be exaggerated for convenience. Throughout the specification, the same reference numbers refer to the same components.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐의 사시도이다. 도 2는 도 1에 도시된 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐의 분해사시도이다. 도 1과 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐(100)은 상판(10), 상판 윈도우(20), 하판(30), 하판 윈도우(40), 진공 보조장치(50), 진공 벤트 부시(60) 및 볼 플런저(80)를 포함한다.1 is a perspective view of a capsule used in the inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is an exploded perspective view of a capsule used in the inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography shown in FIG. 1. As shown in Figures 1 and 2, the capsule 100 used for the inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography according to an embodiment of the present invention is the top plate 10, the top window 20, the bottom plate 30, the bottom plate It includes a window 40, a vacuum assist device 50, a vacuum vent bush 60 and a ball plunger 80.

캡슐(100)은 초극자외선 리소그라피용 펠리클(1)의 검사과정에서 초극자외선 리소그래피용 펠리클(1)을 저 진공 상태로 밀봉하여 보호하는 역할을 한다.The capsule 100 serves to seal and protect the pellicle 1 for ultra-ultraviolet lithography in a low vacuum state during the inspection process of the pellicle 1 for ultra-ultraviolet lithography.

도 3은 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 일 예를 나타낸 사시도이다. 도 3에 도시된 바와 같이, 초극자외선 리소그라피용 펠리클(1)은 펠리클 막(2)과 펠리클 프레임(5)를 포함한다. 펠리클 프레임(5)은 한 쌍의 장변과 한 쌍의 단변을 포함하는 프레임부(3)와 프레임부(3)의 한 쌍의 장변 각각에 결합하는 픽스처(4, fixture)를 포함한다. 하나의 장변에는 두 개의 픽스처(4)가 결합한다. 초극자외선 리소그라피용 펠리클(1)은 픽스처(4)를 포토 마스크에 설치된 스터드(stud)에 결합하는 방식으로 포토 마스크에 설치된다.3 is a perspective view showing an example of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography. As shown in FIG. 3, the pellicle 1 for ultra-ultraviolet lithography includes a pellicle film 2 and a pellicle frame 5. The pellicle frame 5 includes a frame portion 3 including a pair of long sides and a pair of short sides, and a fixture 4, fixture that is coupled to each pair of long sides of the frame portion 3. Two fixtures 4 are joined to one long side. The pellicle 1 for ultra-ultraviolet lithography is installed on the photomask by coupling the fixture 4 to a stud installed on the photomask.

다시 도 1과 2를 참고하여, 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐(100)에 대해서 설명한다. 상판(10)은 직사각형 형태의 플레이트로서, 중심부에 개구(11)가 형성되어 있다. 상판(10)의 하면 모서리들에는 자리 맞춤 홈(미도시)들이 형성되어 있다.Referring again to FIGS. 1 and 2, the capsule 100 used for the inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography will be described. The upper plate 10 is a rectangular plate, and an opening 11 is formed in the center. Alignment grooves (not shown) are formed on the bottom edges of the top plate 10.

상판 윈도우(20)는 상판(10)의 개구(11)에 설치된다. 상판 윈도우(20)는 반사 방지 코팅층이 형성된 유리로 이루어질 수 있다. 상판 윈도우(20)는 초극자외선 리소그라피용 펠리클(1)의 펠리클 막(2)의 상면 검사시에 검사 광학계에서 조사된 빛과 펠리클 막(2)에서 반사된 빛이 통과하는 통로가 된다.The top plate window 20 is installed in the opening 11 of the top plate 10. The upper window 20 may be made of glass with an anti-reflective coating layer. The upper window 20 serves as a passage through which light irradiated from the inspection optical system and light reflected from the pellicle film 2 pass when inspecting the top surface of the pellicle film 2 of the pellicle 1 for ultra-ultraviolet lithography.

하판(30)은 대체로 직사각형 형태의 플레이트이다. 하판(30)은 상판(10)과 결합하여, 초극자외선 리소그라피용 펠리클(1)이 수납되는 내부공간을 형성한다. 하판(30)의 중심부에는 개구(31)가 형성되어 있다. 하판(30)의 둘레에는 상판(10) 방향으로 돌출된 둘레부(32)가 형성된다. 둘레부(32)의 모서리에는 자리 맞춤 핀(33)들이 설치되어 있다. 상판(10)의 모서리에 형성된 자리 맞춤 홈들에 자리 맞춤 핀(33)들을 끼우면 상판(10)과 하판(30)이 결합된다. 하판(30)의 둘레부(32)는 상판(10)의 하면에 접한다. 상판(10)의 하면, 둘레부(32)의 내면, 하판(30)의 상면에 둘러싸인 공간에 초극자외선 리소그래피용 펠리클(1)이 배치된다.The lower plate 30 is a plate having a generally rectangular shape. The lower plate 30 is combined with the upper plate 10 to form an inner space in which the pellicle 1 for ultra-ultraviolet lithography is accommodated. An opening 31 is formed in the center of the lower plate 30. A circumferential portion 32 protruding in the direction of the upper plate 10 is formed around the lower plate 30. Alignment pins 33 are installed at the edge of the circumference 32. When the alignment pins 33 are fitted into the alignment grooves formed at the corners of the upper panel 10, the upper panel 10 and the lower panel 30 are combined. The circumferential portion 32 of the lower plate 30 is in contact with the lower surface of the upper plate 10. The pellicle 1 for ultra-ultraviolet lithography is arranged in a space surrounded by the lower surface of the upper plate 10, the inner surface of the circumferential portion 32, and the upper surface of the lower plate 30.

하판(30)의 바닥면에는 펠리클 프레임(5)의 픽스처(4)가 안착될 수 있는 오목한 안착 홈(35)이 형성되어 있다. 안착 홈(35)은 픽스처(4)의 형태와 거의 동일하게 형성된다. 또한, 안착 홈(35)에는 적어도 하나의 진공 홀(36)이 형성된다. 진공 홀(36)은 하판(30)에 놓인 펠리클 프레임(5)의 픽스처(4)를 흡착하여 안착 홈(35)에 고정하는 역할을 한다.A concave seating groove 35 is formed on the bottom surface of the lower plate 30 on which the fixture 4 of the pellicle frame 5 can be seated. The seating groove 35 is formed in substantially the same shape as the fixture 4. In addition, at least one vacuum hole 36 is formed in the seating groove 35. The vacuum hole 36 serves to adsorb and fix the fixture 4 of the pellicle frame 5 placed on the lower plate 30 to the seating groove 35.

또한, 하판(30)의 양 측면에는 진공 보조장치(50)를 장착할 수 있는 진공 보조장치 장착 홈(37)이 형성된다. 진공 보조장치 장착 홈(37)은 하판(30)의 측면을 따라서 길게 형성된다. 진공 보조장치 장착 홈(37)의 캡슐(100)의 내부공간 쪽 끝 부분의 상부(38)는 개방되어 있다. 따라서 진공 보조장치 장착 홈(37)은 캡슐(100)의 내부공간과 연통된다.In addition, on both sides of the lower plate 30, a vacuum assist device mounting groove 37 capable of mounting the vacuum assist device 50 is formed. The vacuum assist device mounting groove 37 is formed long along the side surface of the lower plate 30. The upper part 38 of the end of the capsule 100 of the vacuum assisting device mounting groove 37 is opened. Therefore, the vacuum assist device mounting groove 37 communicates with the inner space of the capsule 100.

하판 윈도우(40)는 하판(30)의 개구(31)에 설치된다. 하판 윈도우(40)는 상판 윈도우(20)와 마찬가지로 반사 방지 코팅층이 형성된 유리로 이루어질 수 있다. 하판 윈도우(40)는 초극자외선 리소그라피용 펠리클(1)의 펠리클 막(2)의 하면과 펠리클 프레임(5)의 내면의 검사시에 검사 광학계에서 조사된 빛이 통과하는 통로가 된다. 하판 윈도우(40)를 구비하므로, 초극자외선 리소그라피용 펠리클(1)을 캡슐(100)에서 분리하여 뒤집은 후에 검사할 필요가 없이, 캡슐(100)을 바로 뒤집어서 펠리클 막(2)의 하면과 펠리클 프레임(5)의 내면을 검사할 수 있다.The lower panel window 40 is installed in the opening 31 of the lower panel 30. The lower panel window 40 may be made of glass having an anti-reflective coating layer, similar to the upper panel window 20. The lower window 40 is a passage through which the light irradiated from the inspection optical system passes when inspecting the lower surface of the pellicle film 2 of the pellicle 1 for ultra-ultraviolet lithography and the inner surface of the pellicle frame 5. Since the lower window 40 is provided, the pellicle 1 for ultra-ultraviolet lithography is removed from the capsule 100 and turned over, so that it is not necessary to inspect the capsule 100, and then the capsule 100 is turned over and the pellicle frame of the pellicle membrane 2 is turned over. The inner surface of (5) can be inspected.

진공 보조장치(50)는 하판(30)의 양 측면의 진공 보조장치 장착 홈(37)에 설치된다. 진공 보조장치(50)는 진공 발생장치(8)가 도킹되는 몸체부(51)와 몸체부(51)의 한쪽 측면에서 연장되며, 하판(30)의 진공 보조장치 장착 홈(37)에 끼워지는 흡입부(55)를 포함한다. 몸체부(51)에는 진공 벤트 부시(60)가 결합되는 제1 관통 구멍(511)과 제2 관통 구멍(512)이 형성된다.The vacuum assisting device 50 is installed in the vacuum assisting device mounting grooves 37 on both sides of the lower plate 30. The vacuum assisting device 50 is extended from one side of the body part 51 and the body part 51 to which the vacuum generating device 8 is docked, and is fitted into the groove 37 of the vacuum assisting device mounting of the lower plate 30. It includes a suction portion 55. The body part 51 is formed with a first through hole 511 and a second through hole 512 to which the vacuum vent bush 60 is coupled.

도 4와 5는 도 1에 도시된 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐이 진공 발생장치에 장착된 상태의 일부를 나타낸 단면도이다.4 and 5 are cross-sectional views showing part of a state in which the capsule used for the inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography shown in FIG. 1 is mounted on a vacuum generator.

도 4와 5에 도시된 바와 같이, 진공 벤트 부시(60)는 본체부(61)와 본체부(61)에서 돌출된 제1 돌기부(62) 및 제2 돌기부(63)를 포함한다. 제1 돌기부(62)는 진공 보조장치(50)의 제1 관통 구멍(511)에 끼워지며, 제2 돌기부(63)는 진공 보조장치(50)의 제2 관통 구멍(512)에 끼워진다. 제1 관통 구멍(511)에는 진공 발생장치(8)의 핀형 흡입구(9)도 끼워진다.4 and 5, the vacuum vent bush 60 includes a main body portion 61 and a first protrusion portion 62 and a second protrusion portion 63 protruding from the body portion 61. The first protrusion 62 is fitted into the first through hole 511 of the vacuum assisting device 50, and the second protrusion 63 is fitted into the second through hole 512 of the vacuum assisting device 50. The pin-shaped inlet 9 of the vacuum generator 8 is also fitted in the first through hole 511.

진공 벤트 부시(60)의 본체부(61)의 내부에는 가로 방향으로 제1 채널(611)이 형성된다. 제1 채널(611)의 양단부는 제1 벽면(617)과 제2 벽면(618)에 의해서 차단되어 있다. 제1 벽면(617)과 제2 벽면(618)은 영구자석으로 이루어질 수 있다. 제1 채널(611)에는 제1 채널(611)을 따라서 슬라이딩할 수 있는 원통형 피스톤(64)이 배치된다. 피스톤(64)은 제1 벽면(617)과 제2 벽면(618) 사이에서 제1 채널(611)을 따라서 이동한다.The first channel 611 is formed in the horizontal direction inside the body portion 61 of the vacuum vent bush 60. Both ends of the first channel 611 are blocked by the first wall surface 617 and the second wall surface 618. The first wall surface 617 and the second wall surface 618 may be made of permanent magnets. The first channel 611 is provided with a cylindrical piston 64 that can slide along the first channel 611. The piston 64 moves along the first channel 611 between the first wall surface 617 and the second wall surface 618.

도 6은 도 4와 5에 도시된 피스톤의 사시도이다. 도 6에 도시된 바와 같이, 피스톤(64)의 중심에는 관통구멍(641)이 형성된다. 피스톤(64)의 우측 끝단의 상부에는 대각선 방향으로 절개된 절개부(642)가 형성된다. 절개부(642)의 깊이는 깊지 않아서, 절개부(642)를 통해서 관통구멍(641)이 노출되지 않는다.6 is a perspective view of the piston shown in FIGS. 4 and 5. 6, a through hole 641 is formed at the center of the piston 64. An incision 642 cut in a diagonal direction is formed at an upper portion of the right end of the piston 64. The depth of the incision 642 is not deep, so the through hole 641 is not exposed through the incision 642.

피스톤(64)의 외주면은 제1 채널(611)의 내면에 밀착된다. 따라서 피스톤(64)의 외주면과 제1 채널(611)의 내면 사이에는 가스가 흐르지 않는다. 제1 채널(611)을 흐르는 가스는 피스톤(64)의 관통구멍(641)을 통해서 흐른다.The outer peripheral surface of the piston 64 is in close contact with the inner surface of the first channel 611. Therefore, gas does not flow between the outer peripheral surface of the piston 64 and the inner surface of the first channel 611. The gas flowing through the first channel 611 flows through the through hole 641 of the piston 64.

제1 채널(611)의 우측 단부에는 제1 채널(611)과 핀형 흡입구(9)를 연결하는 제2 채널(612)이 형성된다. 제2 채널(612)은 제1 채널(611)과 각을 이루며 연결된다. 본 실시예에 있어서, 제2 채널(612)을 제1 채널(611)과 직각을 이룬다. 피스톤(64)의 우측 끝단이 제1 벽면(617)에 밀착되면, 제2 채널(612)과 제1 채널(611)이 연결되는 부분이 피스톤(64)에 의해서 차단된다.A second channel 612 is formed at the right end of the first channel 611 to connect the first channel 611 and the pin-shaped intake 9. The second channel 612 is connected to the first channel 611 at an angle. In the present embodiment, the second channel 612 is perpendicular to the first channel 611. When the right end of the piston 64 is in close contact with the first wall surface 617, the portion where the second channel 612 and the first channel 611 are connected is blocked by the piston 64.

또한, 제1 채널(611)의 우측 단부 측에는 제1 채널(611)과 가스 주입장치(6)의 가스 주입구(7)를 연결하는 제5 채널(615)이 형성된다. 가스 주입장치(6)는 고순도 질소 등을 캡슐 내부에 공급하는 역할을 한다. 제5 채널(615)은 제1 채널(611)과 각을 이루며 연결된다. 본 실시예에 있어서, 제5 채널(615)을 제1 채널(611)과 직각을 이룬다. 피스톤(64)의 우측 끝단이 제1 벽면(617)에 밀착되면, 제5 채널(615)과 제1 채널(611)이 연결되는 부분도 피스톤(64)에 의해서 차단된다.In addition, a fifth channel 615 is formed on the right end side of the first channel 611 to connect the first channel 611 and the gas injection port 7 of the gas injection device 6. The gas injection device 6 serves to supply high purity nitrogen or the like inside the capsule. The fifth channel 615 is connected to the first channel 611 at an angle. In the present embodiment, the fifth channel 615 forms a right angle with the first channel 611. When the right end of the piston 64 is in close contact with the first wall surface 617, the portion where the fifth channel 615 and the first channel 611 are connected is also blocked by the piston 64.

진공 보조장치(50)의 흡입부(55)의 내부에는 가로 방향으로 제3 채널(551)이 형성된다. 제3 채널(551)은 제1 채널(611)과 다른 높이로 가로 방향으로 형성된다. 그리고 제3 채널(551)의 좌측 끝 부분에는 챔버(552)가 형성된다. 챔버(552)는 제3 채널(551)과 연통된다. 챔버(552)는 흡입부(55)의 폭 방향을 따라서 길게 형성된다. 챔버(552)의 상면은 개방되어 있으며, 개방된 상면에는 흡입판(553)이 설치된다. 흡입판(553)은 진공 보조장치 장착 홈(37)의 끝 부분의 개방된 상부(38)를 통해서 캡슐(100)의 내부공간을 향한다. 흡입판(553)은 미세기공이 형성된 다공성 세라믹으로 이루어질 수 있다.A third channel 551 is formed in a horizontal direction inside the suction part 55 of the vacuum assisting device 50. The third channel 551 is formed in a horizontal direction at a different height from the first channel 611. And the chamber 552 is formed at the left end of the third channel 551. The chamber 552 communicates with the third channel 551. The chamber 552 is formed long along the width direction of the suction part 55. The upper surface of the chamber 552 is open, and a suction plate 553 is installed on the opened upper surface. The suction plate 553 is directed to the inner space of the capsule 100 through the open upper portion 38 of the end of the vacuum assist device mounting groove 37. The suction plate 553 may be formed of a porous ceramic with micropores.

진공 벤트 부시(60)의 제1 채널(611)의 좌측 단부 측에는 제1 채널(611)과 제3 채널(551)을 연결하는 제4 채널(614)이 형성된다. 제4 채널(614)은 제1 채널(611)과 각을 이루며 연결된다. 그리고 제4 채널(614)은 제3 채널(551)과 마주보며 연결된다. 피스톤(64)의 좌측 끝단이 제2 벽면(618)에 밀착되면, 제1 채널(611)과 제4 채널(614)이 연결되는 부분이 피스톤(64)에 의해서 차단된다.A fourth channel 614 connecting the first channel 611 and the third channel 551 is formed on the left end side of the first channel 611 of the vacuum vent bush 60. The fourth channel 614 is connected to the first channel 611 at an angle. In addition, the fourth channel 614 is connected to the third channel 551 facing each other. When the left end of the piston 64 is in close contact with the second wall surface 618, the portion where the first channel 611 and the fourth channel 614 are connected is blocked by the piston 64.

도 7은 도 1에 도시된 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐의 상판을 제거한 상태를 나타낸 평면도이다. 7 is a plan view showing a state in which the top plate of the capsule used for the inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography shown in FIG. 1 is removed.

도 7에 도시된 바와 같이, 제4 채널(614)에는, 또한, 한 쌍의 제1 유로(519)가 연결된다. 한 쌍의 제1 유로(519)는 제4 채널(614)에서 진공 보조장치(50)의 폭 방향 양쪽으로 각각 연장된다. 그리고 제1 유로(519)의 제4 채널(614)과 먼 끝단은 하판(30)에 형성된 제2 유로(39)와 연통된다. 제2 유로(39)는 하판(30)의 진공 홀(36)과 제1 유로(519)를 연결한다.As illustrated in FIG. 7, a pair of first flow paths 519 are also connected to the fourth channel 614. The pair of first flow paths 519 extend in both width directions of the vacuum assisting device 50 in the fourth channel 614, respectively. The distal end of the fourth channel 614 of the first flow path 519 communicates with the second flow path 39 formed in the lower plate 30. The second flow path 39 connects the vacuum hole 36 of the lower plate 30 and the first flow path 519.

또한, 진공 벤트 부시(60)에는 진공 인디케이터(70)가 설치된다. 진공 인디케이터(70)는 캡슐(100)의 내부공간의 압력 상태를 외부에서 확인할 수 있도록 표시하는 역할을 한다.In addition, a vacuum indicator 70 is installed on the vacuum vent bush 60. The vacuum indicator 70 serves to display the pressure state of the inner space of the capsule 100 so as to be visible from the outside.

도 8은 도 5의 일부를 확대한 단면도이다. 도 8에 도시된 바와 같이, 진공 인디케이터(70)는 중심부가 힌지 핀(72)에 의해서 회동 가능하게 고정되며, 대체로 서로 X자로 교차하는 한 쌍의 아암(71a, 71b)과 한 쌍의 볼 샤프트 플런저(73a, 73b)를 포함한다. 아암(71a, 71b)은 진공 벤트 부시(60)의 상면에 오목하게 형성된 인디케이터 설치부(65)에 회동 가능하게 설치된다.8 is an enlarged cross-sectional view of a portion of FIG. 5. As shown in Fig. 8, the vacuum indicator 70 is pivotally fixed by the hinge pin 72, and a pair of arms 71a, 71b and a pair of ball shafts that intersect each other in an X-shape. Plungers 73a, 73b. The arms 71a and 71b are rotatably installed on the indicator installation portion 65 concavely formed on the upper surface of the vacuum vent bush 60.

볼 샤프트 플런저(73a, 73b)는 배럴(732a, 732b)과 배럴(732a, 732b) 안에 배치되는 볼 샤프트(731a, 731b)와 일부가 배럴(732a, 732b) 안에 배치되는 압축 스프링(733a, 733b)을 포함한다. 볼 샤프트 플런저(73a, 73b)는 인디케이터 설치부(65)와 제1 채널(611) 사이의 벽면을 관통하는 관통구멍(619)에 설치된다. 이때, 볼 샤프트(731a, 731b)의 볼 형태의 끝단의 절반 정도는 제1 채널(611)의 내부로 들어간다. 그리고 볼 샤프트 플런저(73a, 73b)의 압축 스프링(733a, 733b)의 반대 측 끝단은 아암(71a, 71b)의 일단에 결합한다. 따라서 볼 샤프트(731a, 731b)가 상승하면 아암(71a, 71b)이 회전하면서 압축 스프링(733a, 733b)이 결합된 끝단의 반대쪽 끝단이 하강한다.The ball shaft plungers 73a, 73b include the barrels 732a, 732b and the ball shafts 731a, 731b disposed in the barrels 732a, 732b, and compression springs 733a, 733b partially disposed in the barrels 732a, 732b. ). The ball shaft plungers 73a and 73b are installed in a through hole 619 penetrating the wall surface between the indicator installation portion 65 and the first channel 611. At this time, about half of the ball-shaped ends of the ball shafts 731a and 731b enter the inside of the first channel 611. And the opposite ends of the compression springs 733a and 733b of the ball shaft plungers 73a and 73b are coupled to one end of the arms 71a and 71b. Accordingly, when the ball shafts 731a and 731b rise, the opposite ends of the ends to which the compression springs 733a and 733b are coupled descend while the arms 71a and 71b rotate.

한 쌍의 볼 샤프트 플런저(73a, 73b)의 볼 샤프트(731a, 731b)의 끝단의 볼은 일정한 간격으로 제1 채널(611)의 내부에 배치된다. 따라서 도 8에 도시된 바와 같이, 피스톤(64)이 제1 벽면(617)에 밀착된 경우에는 우측의 볼 샤프트(731a)는 상승하고, 그 결과 우측의 볼 샤프트(731a)와 연결된 아암(71a)이 힌지 핀(72)을 중심으로 반시계방향으로 회전한다. Balls at the ends of the ball shafts 731a and 731b of the pair of ball shaft plungers 73a and 73b are disposed inside the first channel 611 at regular intervals. Therefore, as shown in FIG. 8, when the piston 64 is in close contact with the first wall surface 617, the right ball shaft 731a rises, and as a result, the arm 71a connected to the right ball shaft 731a. ) Rotates counterclockwise around the hinge pin 72.

반대로 피스톤(64)이 제2 벽면(618)에 밀착된 경우에는 좌측의 볼 샤프트(731b)가 상승하고, 좌측의 볼 샤프트(731b)와 연결된 아암(71b)이 힌지 핀(72)을 중심으로 시계방향으로 회전한다. Conversely, when the piston 64 is in close contact with the second wall surface 618, the ball shaft 731b on the left rises, and the arm 71b connected to the ball shaft 731b on the left is centered on the hinge pin 72. Rotate clockwise.

따라서 아암(72a, 71b)의 위치에 따라서 캡슐(100)의 내부가 저 진공 상태인지 진공이 파기된 상태인지 알 수 있다. 즉, 아암(72a, 71b)의 상부를 기준으로, 좌측 아암(71a)이 내려가면, 저 진공 상태이며, 우측 아암(71b)이 내려가면, 진공이 파기된 상태이다.Therefore, it can be seen whether the inside of the capsule 100 is in a low vacuum state or a vacuum is destroyed state depending on the position of the arms 72a and 71b. That is, based on the upper portion of the arms 72a and 71b, when the left arm 71a descends, it is in a low vacuum state, and when the right arm 71b descends, the vacuum is destroyed.

도 2에 도시된 바와 같이, 볼 플런저(80)는 상판(10)의 하면에 설치된다. 볼 플런저(80)는 평면상 하판(30)의 진공 홀(36)의 위치와 동일한 위치에 설치될 수 있다.2, the ball plunger 80 is installed on the lower surface of the top plate 10. The ball plunger 80 may be installed at the same position as the position of the vacuum hole 36 of the lower plate 30 on a plane.

볼 플런저(80)는 하판(30)에 있는 진공 홀(36)에 의해 펠리클 프레임(5)의 픽스처(4)가 하판(30)에 흡착될 때, 펠리클 프레임(5)의 픽스처(4)를 하판(30) 방향으로 눌러서, 펠리클 프레임(5)의 픽스처(4)를 하판(30)의 안착 홈(35)에 밀착시키는 역할을 한다. 따라서 진공 발생장치(8)를 캡슐(100)의 진공 보조장치(50)에 도킹한 후 진공 발생장치(8)를 가동할 때 펠리클 프레임(5)의 픽스처(4)와 안착 홈(36) 사이에 틈이 생겨서 가스가 새는 것을 방지할 수 있다.The ball plunger 80 moves the fixture 4 of the pellicle frame 5 when the fixture 4 of the pellicle frame 5 is adsorbed to the bottom plate 30 by a vacuum hole 36 in the bottom plate 30. By pressing in the direction of the lower plate 30, it serves to adhere the fixture 4 of the pellicle frame 5 to the seating groove 35 of the lower plate 30. Therefore, when the vacuum generator 8 is docked to the vacuum auxiliary device 50 of the capsule 100 and then the vacuum generator 8 is operated, between the fixture 4 and the seating groove 36 of the pellicle frame 5 It can prevent the gas from leaking due to the formation of a gap.

또한, 어떤 이유로 흡착이 잘 이루어지지 않은 상태에서 캡슐(100)의 이동 및 플립(flip)이 진행될 경우 펠리클(1)을 고정하여 펠리클(1)이 손상되는 것을 방지하는 역할도 한다.In addition, when the movement and flip of the capsule 100 in a state in which adsorption is not well performed for some reason, the pellicle 1 is fixed to prevent the pellicle 1 from being damaged.

도 9는 도 2에 도시된 볼 플런저를 나타낸 도면이다. 도 9에 도시된 바와 같이, 볼 플런저(80)는 원통형의 배럴(81)과 배럴(81)에 끼워진 볼(82)과 배럴(81)의 바닥면과 볼(82) 사이에 배치되어 볼(82)이 배럴(81)의 바닥면으로부터 멀어지는 방향으로 볼(82)에 탄성력을 가하는 코일 스프링(83)을 포함한다. 배럴(81)의 상부는 볼(82)이 빠지지 않도록 오므려져 있다.9 is a view showing the ball plunger shown in FIG. As shown in FIG. 9, the ball plunger 80 is disposed between the cylindrical barrel 81 and the ball 82 sandwiched between the barrel 81 and the bottom surface of the barrel 81 and the ball 82 ( 82) includes a coil spring 83 that applies elastic force to the ball 82 in a direction away from the bottom surface of the barrel 81. The upper portion of the barrel 81 is closed so that the ball 82 does not fall out.

이하에서는 상술한 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐의 작용에 대해서 설명한다.Hereinafter, the action of the capsule used for the inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography described above will be described.

먼저, 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐(100)의 하판(30)에 초극자외선 리소그라피용 펠리클(1)을 안착시킨다. 이때, 펠리클(1)의 픽스처(4)가 안착 홈(35)에 놓인다. 그리고 상판(10)을 하판(30)에 결합한다.First, the pellicle 1 for ultra-ultraviolet lithography is seated on the lower plate 30 of the capsule 100 used for the inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography. At this time, the fixture 4 of the pellicle 1 is placed in the seating groove 35. And the upper plate 10 is coupled to the lower plate 30.

다음, 피스톤(64)이 제2 벽면(618)에 밀착되어 있는 상태에서, 진공 발생장치(8)가 가동하면, 핀형 흡입구(9)를 통해서 가스가 배출된다. 그러면 제1 채널(611) 내부에서 우측으로 가스의 흐름이 발생하고, 제1 채널(611)의 우측의 압력이 좌측의 압력보다 낮아진다. 압력 차이가 영구자석과 피스톤(64) 사이의 인력 이상이 되면, 피스톤(64)이 우측으로 이동하기 시작한다.Next, while the piston 64 is in close contact with the second wall surface 618, when the vacuum generating device 8 is operated, gas is discharged through the pin-shaped inlet 9. Then, a gas flow occurs from the first channel 611 to the right, and the pressure on the right side of the first channel 611 is lower than the pressure on the left side. When the pressure difference becomes more than the attractive force between the permanent magnet and the piston 64, the piston 64 starts to move to the right.

피스톤(64)이 우측으로 이동하기 시작하면, 피스톤(64)에 의해서 막혀있던 제4 채널(614)과 제1 채널(611)의 연결부분이 개방된다. 그러면 흡입판(553), 챔버(552), 제3 채널(551), 제4 채널(614), 제1 채널(611), 피스톤(64)의 관통구멍(641), 제1 채널(611), 제2 채널(612), 핀형 흡입구(9)를 연결하는 경로도 개방된다.When the piston 64 starts to move to the right, the connecting portion of the fourth channel 614 and the first channel 611 blocked by the piston 64 is opened. Then, the suction plate 553, the chamber 552, the third channel 551, the fourth channel 614, the first channel 611, the through hole 641 of the piston 64, the first channel 611 , The second channel 612, the path connecting the pin-shaped inlet (9) is also opened.

따라서 캡슐(100)의 내부공간의 공기가 이러한 경로를 따라서 핀형 흡입구(9)로 배출되어, 캡슐(100)의 내부 압력이 낮아진다.Therefore, the air in the interior space of the capsule 100 is discharged to the pin-type inlet 9 along this path, so that the internal pressure of the capsule 100 is lowered.

또한, 동시에 제4 채널(614), 제1 유로(519), 제2 유로(39), 진공 홀(36)을 연결하는 경로로 형성된다. 따라서 펠리클 프레임(5)의 픽스처(4)가 안착 홈(35)에 밀착된다. Further, at the same time, it is formed as a path connecting the fourth channel 614, the first flow path 519, the second flow path 39, and the vacuum hole 36. Therefore, the fixture 4 of the pellicle frame 5 is in close contact with the seating groove 35.

피스톤(64)이 계속 우측으로 이동하여, 도 5에 도시된 바와 같이, 피스톤(64)이 제1 벽면(617)에 밀착되면 피스톤(64)에 의해서 제1 채널(611)과 제2 채널(612)의 연결부가 폐쇄된다. 그러면 더는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐(100)의 내부공간의 공기가 가스 배출구(511)를 통해서 배출될 수 없는 상태가 된다. As the piston 64 continues to move to the right, as shown in FIG. 5, when the piston 64 is in close contact with the first wall surface 617, the first channel 611 and the second channel ( 612) is closed. Then, the air in the inner space of the capsule 100 used for the inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography can no longer be discharged through the gas outlet 511.

따라서 캡슐(100)의 내부공간의 압력은 저절로 적절한 저 진공 상태로 조절된다. 진공도가 너무 낮아지면, 초극자외선 리소그라피용 펠리클(1)이 찢어질 우려가 있다. 피스톤(64)은 피스톤(64)과 제1 벽면(617)의 자석 사이의 자기력에 의해서 제1 벽면(617)에 밀착된 상태로 유지된다.Therefore, the pressure of the inner space of the capsule 100 is automatically adjusted to a suitable low vacuum state. If the vacuum degree is too low, there is a fear that the pellicle 1 for ultra-ultraviolet lithography is torn. The piston 64 is kept in close contact with the first wall surface 617 by the magnetic force between the piston 64 and the magnet of the first wall surface 617.

그리고 이때에는 피스톤(64)에 의해서, 우측의 볼 샤프트(731a)가 상승하고, 그 결과 우측의 볼 샤프트(731a)와 연결된 아암(71a)이 힌지 핀(72)을 중심으로 반시계방향으로 회전하여, 내려가므로 진공 상태인 것을 확인할 수 있다.And at this time, by the piston 64, the ball shaft 731a on the right rises, and as a result, the arm 71a connected to the ball shaft 731a on the right rotates counterclockwise around the hinge pin 72. As it goes down, it can be confirmed that it is in a vacuum.

다음, 캡슐(100)의 내부의 진공을 파기할 필요가 있는 경우에는, 피스톤(64)이 제1 벽면(617)에 밀착된 상태에서 가스 주입장치(6)의 가스 주입구(7)를 제5 채널(615) 측에 밀착시킨 후 가스 주입장치(6)를 가동하여 고순도의 질소 등의 가스를 주입한다.Next, when it is necessary to break the vacuum inside the capsule 100, the piston 64 is in close contact with the first wall surface 617, the gas injection port 7 of the gas injection device 6 is a fifth After being in close contact with the channel 615, the gas injection device 6 is operated to inject gas such as high purity nitrogen.

제5 채널(615)을 통해서 가스가 주입되면, 피스톤(64)의 사선으로 절단된 절개부(642)에 압력이 가해진다. 압력이 피스톤(64)과 제1 벽면(617) 사이의 자기력에 비해서 커지면, 피스톤(64)이 제1 채널(611)을 따라서 좌측으로 이동한다. When gas is injected through the fifth channel 615, pressure is applied to the incision 642 cut by the diagonal line of the piston 64. When the pressure increases compared to the magnetic force between the piston 64 and the first wall surface 617, the piston 64 moves to the left along the first channel 611.

그러면 흡입판(553), 챔버(552), 제3 채널(551), 제4 채널(614), 제1 채널(611), 피스톤(64)의 관통구멍(641), 제1 채널(611), 제5 채널(615), 가스 주입구(7)를 연결하는 경로가 개방된다. Then, the suction plate 553, the chamber 552, the third channel 551, the fourth channel 614, the first channel 611, the through hole 641 of the piston 64, the first channel 611 , A path connecting the fifth channel 615 and the gas inlet 7 is opened.

따라서 가스 주입구(7)를 통해서 주입된 질소 가스가 캡슐(100)의 내부에 주입되어 캡슐(100)의 내부 압력이 높아진다. Therefore, nitrogen gas injected through the gas inlet 7 is injected into the capsule 100 to increase the internal pressure of the capsule 100.

또한, 동시에 제4 채널(614), 제1 유로(519), 제2 유로(39), 진공 홀(36)을 연결하는 경로로 개방된다. 따라서 펠리클 프레임(5)의 픽스처(4)가 안착 홈(35)에서 분리될 수 있는 상태가 된다. In addition, at the same time, the fourth channel 614, the first flow path 519, the second flow path 39, and the vacuum hole 36 are opened through a path connecting the path. Therefore, the fixture 4 of the pellicle frame 5 is in a state that can be separated from the seating groove 35.

피스톤(64)이 계속 좌측으로 이동하여, 도 4에 도시된 바와 같이, 피스톤(64)이 제2 벽면(618)에 밀착되면 피스톤(64)에 의해서 제1 채널(611)과 제4 채널(614)의 연결부가 폐쇄된다. 그러면 더는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐(100)의 내부공간에 질소가 공급될 수 없는 상태가 된다. 따라서 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐(100)의 내부공간의 압력은 지나치게 높아지는 것을 방지할 수 있다.As the piston 64 continues to move to the left, as shown in FIG. 4, when the piston 64 is in close contact with the second wall surface 618, the first channel 611 and the fourth channel by the piston 64 ( 614) is closed. Then, nitrogen is no longer supplied to the inner space of the capsule 100 used for the inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography. Therefore, the pressure of the inner space of the capsule 100 used for the inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography can be prevented from being excessively high.

그리고 이때에는 피스톤(64)에 의해서, 좌측의 볼 샤프트(731b)가 상승하고, 그 결과 좌측의 볼 샤프트(731b)와 연결된 아암(71b)이 힌지 핀(72)을 중심으로 시계방향으로 회전하여, 내려가므로 진공이 파기된 상태인 것을 확인할 수 있다.And at this time, by the piston 64, the ball shaft 731b on the left rises, and as a result, the arm 71b connected to the ball shaft 731b on the left rotates clockwise around the hinge pin 72, As it goes down, it can be confirmed that the vacuum is destroyed.

진공이 파기되어도 상판(10)과 하판(30)이 분리되기 전까지는 볼 플런저(80)에 의해서 펠리클(1)이 안착 홈(35)에 고정된 상태가 유지된다.Even when the vacuum is broken, the pellicle 1 is fixed to the seating groove 35 by the ball plunger 80 until the top plate 10 and the bottom plate 30 are separated.

이상에서 설명된 실시예는 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한 것에 불과하고, 본 발명의 권리범위는 설명된 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술적 사상과 특허청구범위 내에서 이 분야의 당업자에 의하여 다양한 변경, 변형 또는 치환이 가능할 것이며, 그와 같은 실시예들은 본 발명의 범위에 속하는 것으로 이해되어야 한다.The embodiments described above are merely illustrative of preferred embodiments of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the described embodiments, and those skilled in the art within the technical spirit and claims of the present invention. Various changes, modifications, or substitutions may be made by and it should be understood that such embodiments are within the scope of the present invention.

예를 들어, 진공 보조장치(50)에 진공 벤트 부시(60)를 결합하는 것으로 설명하였으나, 진공 보조장치와 진공 벤트 부시가 일체로 이루어질 수도 있다.For example, although it has been described that the vacuum vent bush 60 is coupled to the vacuum assist device 50, the vacuum assist device and the vacuum vent bush may be integrally formed.

100: 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐
10: 상판
20: 상판 윈도우
30: 하판
40: 하판 윈도우
50: 진공 보조장치
60: 진공 벤트 부시
70: 진공 인디케이터
80: 볼 플런저
100: capsule used for inspection of pellicles for ultra-ultraviolet lithography
10: top
20: tops window
30: bottom
40: lower window
50: vacuum assist device
60: vacuum vent bush
70: vacuum indicator
80: Ball plunger

Claims (12)

중심부에 개구가 형성된 상판과,
상기 상판의 개구에 설치되며, 반사 방지 코팅층이 형성된 상판 윈도우와,
상기 상판과 결합하여, 초극자외선 리소그라피용 펠리클이 수납되는 내부공간을 형성하며, 상기 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 펠리클 프레임을 흡착하여 고정하기 위해 바닥면에 형성된 복수의 진공 홀들과 적어도 한쪽 측면에 형성된 진공 보조장치 장착 홈이 형성된 하판과,
상기 하판의 진공 보조장치 장착 홈에 설치되며, 진공 발생장치와 연결되는 가스 배출구와 상기 가스 배출구와 연결된 제1 유로가 형성된 진공 보조장치를 포함하며,
상기 하판에는 상기 제1 유로와 상기 진공 홀들을 연결하는 제2 유로가 형성된 초극자외선 리소그래피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐.
A top plate with an opening in the center,
It is installed in the opening of the top plate, the top plate window is formed with an anti-reflective coating layer,
Combined with the top plate to form an interior space in which the pellicle for ultra-ultraviolet lithography is housed, a plurality of vacuum holes formed on the bottom surface for adsorbing and fixing the pellicle frame of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography and a vacuum formed on at least one side A lower plate with an auxiliary device mounting groove,
It is installed in the vacuum auxiliary device mounting groove of the lower plate, and includes a vacuum auxiliary device formed with a gas outlet connected to the vacuum generator and a first flow path connected to the gas outlet,
Capsules used in the inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography in which the second flow path connecting the first flow path and the vacuum holes is formed on the lower plate.
제1항에 있어서,
상기 하판의 중심부에는 개구가 형성되며,
상기 하판의 개구에 설치되며, 반사 방지 코팅층이 형성된 하판 윈도우를 더 포함하는 초극자외선 리소그래피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐.
According to claim 1,
An opening is formed in the center of the lower plate,
Capsule used in the inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography, which is installed in the opening of the lower plate, and further comprises a lower window with an antireflective coating layer.
제1항에 있어서,
상기 진공 보조장치는 몸체부와, 상기 몸체부의 일측면에서 연장되며, 상기 진공 보조장치 장착 홈에 끼워지며 상기 제1 유로가 형성된 흡입부를 포함하며,
상기 캡슐은 상기 진공 보조장치에 결합되는 진공 벤트 부시를 더 포함하며,
상기 진공 벤트 부시에는 제1 벽면과 반대 측 제2 벽면에 의해서 양단부가 막힌 가로 방향으로 연장된 제1 채널과, 상기 제1 채널과 각을 이루며 연결되며 상기 제1 채널과 진공 발생장치의 흡입구를 연결하는 제2 채널이 형성되며,
상기 진공 벤트 부시는 상기 제1 채널을 따라서 상기 제1 벽면과 제2 벽면 사이를 직선 운동하며, 중심부에 관통구멍이 형성된 피스톤을 더 포함하며,
상기 진공 보조장치의 흡입부에는 상기 제1 채널과 다른 높이로 가로 방향으로 연장된 제3 채널이 형성되며,
상기 진공 벤트 부시에는 상기 제1 채널과 상기 제3 채널을 연결하는 제4 채널이 형성되고,
상기 피스톤이 상기 제1 벽면과 접하면, 상기 제1 채널과 제2 채널의 연결부가 폐쇄되며, 상기 피스톤이 상기 제2 벽면에 접하면 상기 제1 채널과 제4 채널의 연결부가 폐쇄되는 초극자외선 리소그래피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐.
According to claim 1,
The vacuum assisting device includes a body part, and a suction part extending from one side of the body part and fitted into the vacuum assisting device mounting groove and having the first flow path formed therein,
The capsule further includes a vacuum vent bush coupled to the vacuum auxiliary device,
The vacuum vent bush has a first channel extending in a transverse direction blocked at both ends by a second wall surface opposite to the first wall surface, and is formed at an angle with the first channel, and is connected to the first channel and the suction port of the vacuum generator. A second channel connecting is formed,
The vacuum vent bush linearly moves between the first wall and the second wall along the first channel, and further includes a piston having a through hole in the center,
A third channel extending in a horizontal direction at a different height from the first channel is formed in the suction part of the vacuum auxiliary device,
The vacuum vent bush is formed with a fourth channel connecting the first channel and the third channel,
When the piston is in contact with the first wall, the connection between the first channel and the second channel is closed, and when the piston is in contact with the second wall, the connection between the first channel and the fourth channel is closed. Capsules used for inspection of pellicles for lithography.
제3항에 있어서,
상기 진공 벤트 부시에는 상기 제1 채널과 연결된 제5 채널이 형성되며, 상기 피스톤이 상기 제1 벽면과 접하면, 상기 제1 채널과 제5 채널의 연결부가 폐쇄되는 초극자외선 리소그래피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐.
According to claim 3,
In the vacuum vent bush, a fifth channel connected to the first channel is formed, and when the piston contacts the first wall, the connection between the first channel and the fifth channel is closed. Capsule used.
제4항에 있어서,
상기 피스톤의 제1 벽면 측 끝단에는 상기 제5 채널을 통해서 유입된 가스가 부딪혀 상기 피스톤을 상기 제2 벽면 측으로 밀어낼 수 있도록 경사진 절개부가 형성된 초극자외선 리소그래피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐.
According to claim 4,
The capsule used for the inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography, in which an inclined incision is formed so that the gas introduced through the fifth channel collides with the end of the first wall side of the piston to push the piston toward the second wall side.
제3항에 있어서,
상기 흡입부에는 상기 제3 채널과 연통된 챔버가 형성되며, 상기 챔버의 개방된 상면에는 다공성 플레이트인 흡입판이 배치된 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐.
According to claim 3,
A capsule used in the inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography, wherein a chamber communicating with the third channel is formed in the suction part, and a suction plate, which is a porous plate, is disposed on an open upper surface of the chamber.
제6항에 있어서,
상기 흡입판은 다공성 세라믹인 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐.
The method of claim 6,
The suction plate is a capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography, which is a porous ceramic.
제3항에 있어서,
상기 제1 유로는 상기 제4 채널과 연결된 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐.
According to claim 3,
The first flow path is a capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography connected to the fourth channel.
제3항에 있어서,
상기 제1 벽면은 상기 피스톤과 상기 제1 벽면이 가까워지는 방향으로 상기 피스톤에 자기력을 인가하는 자석을 포함하는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐.
According to claim 3,
The first wall surface is a capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography, including a magnet that applies a magnetic force to the piston in a direction in which the piston and the first wall surface are close.
제3항에 있어서,
상기 제2 벽면은 상기 피스톤과 상기 제2 벽면이 가까워지는 방향으로 상기 피스톤에 자기력을 인가하는 자석을 포함하는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐.
According to claim 3,
The second wall surface is a capsule used for inspection of a pellicle for ultra-ultraviolet lithography, which includes a magnet that applies a magnetic force to the piston in a direction in which the piston and the second wall surface are close.
제3항에 있어서,
힌지 핀에 의해서 회동 가능하게 상기 진공 벤트 부시의 인디케이터 설치부에 고정된 한 쌍의 아암과, 상기 한 쌍의 아암의 일단에 각각 고정된 한 쌍의 볼 샤프트 플런저를 구비한 진공 인디케이터를 더 포함하며,
상기 볼 샤프트 플런저는 배럴과 상기 배럴 안에 배치되는 볼 샤프트와 일단은 배럴 안에 배치되며 타단은 상기 아암에 결합하는 압축 스프링을 포함하며,
상기 볼 샤프트 플런저는 상기 인디케이터 설치부와 상기 제1 채널 사이의 벽면을 관통하는 관통구멍에 설치되며,
상기 볼 샤프트의 볼 형태의 끝단은 상기 제1 채널의 내부에 배치되며, 상기 피스톤이 상기 볼 샤프트의 아래를 지나가면 상기 볼 샤프트가 상승하면서 상기 볼 플런저의 압축 스프링과 연결된 아암을 회전시키는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐.
According to claim 3,
Further comprising a vacuum indicator having a pair of arms fixed to the indicator installation portion of the vacuum vent bush so as to be rotatable by a hinge pin, and a pair of ball shaft plungers respectively fixed to one end of the pair of arms, ,
The ball shaft plunger includes a barrel, a ball shaft disposed in the barrel, one end disposed in the barrel, and the other end including a compression spring coupled to the arm,
The ball shaft plunger is installed in a through hole penetrating the wall surface between the indicator installation portion and the first channel,
The ball-shaped end of the ball shaft is disposed inside the first channel, and when the piston passes under the ball shaft, the ball shaft rises while rotating the arm connected to the compression spring of the ball plunger. Capsules used to test pellicles for lithography.
제3항에 있어서,
상기 진공 보조장치와 상기 진공 벤트 부시는 일체를 이루는 초극자외선 리소그라피용 펠리클의 검사에 사용되는 캡슐.
According to claim 3,
Capsules used for inspection of the pellicle for ultra-ultraviolet lithography, wherein the vacuum auxiliary device and the vacuum vent bush are integral.
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