JP2000340642A - Board storage case, and aligner using the same - Google Patents

Board storage case, and aligner using the same

Info

Publication number
JP2000340642A
JP2000340642A JP11148827A JP14882799A JP2000340642A JP 2000340642 A JP2000340642 A JP 2000340642A JP 11148827 A JP11148827 A JP 11148827A JP 14882799 A JP14882799 A JP 14882799A JP 2000340642 A JP2000340642 A JP 2000340642A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
reticle
case
storage case
side plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP11148827A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kanefumi Nakahara
兼文 中原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP11148827A priority Critical patent/JP2000340642A/en
Publication of JP2000340642A publication Critical patent/JP2000340642A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To hold a stored board within a case, even though the case is of such a structure that the side separates as a door, in a board storage case and an aligner using this. SOLUTION: A board storage case C1, which holds and stores a board R inside, is equipped with a case body 12 having an attachable and detachable side plate 9, and a holding mechanism 13 for holding the board provided within the case body. That is, the holding mechanism is equipped with a pressing part 14, which presses the board 14 against the case body and holds it with pressure when the user presses the side plates against the case body for attachment, so that it becomes possible to perform retention of the stored board and its release merely by attaching/detaching the side plate to/from the case body.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば露光装置に
使用されるレチクル等を収納・保持する基板収納ケース
およびこれを用いた露光装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate storage case for storing and holding, for example, a reticle used for an exposure apparatus, and an exposure apparatus using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体製造に用いる露光装置のレチクル
(原版)において、半導体ウエハへの転写不良の原因と
なるパーティクルの付着を防止する必要がある。近年、
クリーンルームの設備投資、維持コストを抑えるため、
装置内若しくは限られた装置周辺のみ高いクリーン度と
し、その他のエリアは低いクリーン度とするクリーンル
ームの方式が考えられている。この場合、レチクル、マ
スクや半導体ウエハ等の基板を収納するケースは、クリ
ーン度の低いエリアでの使用も考慮する必要がある。
2. Description of the Related Art In a reticle (original plate) of an exposure apparatus used for manufacturing a semiconductor, it is necessary to prevent adhesion of particles that cause transfer failure to a semiconductor wafer. recent years,
To reduce capital investment and maintenance costs for clean rooms,
A clean room system has been considered in which a high degree of cleanness is set only in the apparatus or around a limited area of the apparatus and a low level of cleanliness is set in other areas. In this case, it is necessary to consider the use of a case for accommodating a substrate such as a reticle, a mask, and a semiconductor wafer in an area with low cleanliness.

【0003】これに対し、密閉式のミニエンバイロメン
ト方式のケース、すなわち超清浄な環境を実現するケー
スが考えられている。この方式のケースは、底面がドア
として分離する方式、いわゆるSMIF方式(Standard
Mechanical Interface)や側面(前面)がドアとして分離
する方式、いわゆるFOUP方式(Front Opening Unifi
ed Pod:フロントオープニングユニファインドポッド)等
が考えられている。
On the other hand, a case of a closed mini-environment system, that is, a case of realizing an ultra-clean environment has been considered. The case of this system is a system in which the bottom is separated as a door, so-called SMIF system (Standard
Mechanical Interface) or the method of separating the side (front) as a door, the so-called FOUP method (Front Opening Unifi
ed Pod: front opening unified pod).

【0004】前者の方式は、図20に示すように、底面
2にレチクルRのレチクル支持部3があり、不図示の機
構により駆動するラッチ4が上カバー1の溝5に入るこ
とにより、図20の(b)に示すように、上カバー1と
底面2とが固定される。後者の方式は、図21に示すよ
うに、ケース本体7にレチクルRのレチクル支持部8が
あるとともに、側面ドア9に不図示の機構により駆動す
るラッチ10が内蔵されており、ケース本体7の溝11
に入ることにより、図21の(b)に示すように、ケー
ス本体7と側面ドア9とが固定される。なお、符号P
は、ペリクルである。
In the former method, as shown in FIG. 20, a reticle support portion 3 of a reticle R is provided on a bottom surface 2 and a latch 4 driven by a mechanism (not shown) enters a groove 5 of the upper cover 1. As shown in FIG. 20B, the upper cover 1 and the bottom surface 2 are fixed. In the latter method, as shown in FIG. 21, a case body 7 has a reticle support portion 8 for a reticle R, and a side door 9 has a built-in latch 10 driven by a mechanism (not shown). Groove 11
As a result, the case body 7 and the side door 9 are fixed as shown in FIG. Note that the symbol P
Is a pellicle.

【0005】ところで、オペレータによる上記ケースの
取扱い、持ち運び若しくは自動搬送の際に、ケースが振
動することが考えられ、この振動により中のレチクルR
が振動し、ケース内でケース部品と繰り返し分離接触す
ることはケース内部での発塵の原因となり好ましくな
い。このため、ケース内でレチクルを固定・保持するこ
とが望ましい。
[0005] By the way, it is conceivable that the case vibrates when the operator handles, carries, or automatically conveys the case.
Vibrating and repeatedly separating and contacting the case components inside the case is undesirable because it causes dust inside the case. For this reason, it is desirable to fix and hold the reticle in the case.

【0006】前者の方式では、上カバー1の内側に弾性
体で構成されたレチクル押さえ部品6を設けており、底
面2と上カバー1とをラッチ4で固定した際に、レチク
ルRを押さえることが可能である。また、前扉がヒンジ
方式であるケースでは、前扉とレチクル押さえ部品がバ
ネで接続されていて、連動することによりバネ力でレチ
クルを押さえる機構のものが考えられている。
In the former method, a reticle pressing component 6 made of an elastic material is provided inside the upper cover 1, and when the bottom surface 2 and the upper cover 1 are fixed by the latch 4, the reticle R is pressed. Is possible. Further, in the case where the front door is a hinge type, a mechanism in which the front door and the reticle pressing component are connected by a spring and presses the reticle with a spring force by interlocking with the reticle pressing component has been considered.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の方式のケースでは、次のような課題が残されてい
る。すなわち、上記後者の方式(FOUP方式)では上
記前者と異なる面(前面等の側面)が分離するため、前
者と同様の構成を採用することができず、また、側面が
ドアとして分離してしまうのでヒンジ方式のようにバネ
とドアとを接続することができない不都合がある。一
方、これらの密閉式ケースは、ケースを構成する樹脂部
品から揮発した脱ガスが内部の収納物(レチクル、マス
ク、半導体ウエハ等)に影響するとの懸念がある。特
に、レチクルを収納する場合は、ペリクルの脱ガスの吸
収により透過率が低下してしまい、また半導体ウエハを
収納する場合は、脱ガスによって内部のウエハやレジス
トに悪影響を及ぼすおそれがある。
However, in the case of the above-mentioned conventional system, the following problems remain. That is, in the latter method (FOUP method), a surface different from the former (side surface such as a front surface) is separated, so that the same configuration as the former cannot be adopted, and the side is separated as a door. Therefore, there is a disadvantage that the spring and the door cannot be connected as in the hinge system. On the other hand, in these sealed cases, there is a concern that degassing volatilized from the resin parts constituting the case may affect the internal storage (reticle, mask, semiconductor wafer, etc.). In particular, when a reticle is stored, the transmittance decreases due to absorption of degassed gas from the pellicle, and when a semiconductor wafer is stored, degassing may adversely affect the internal wafer and resist.

【0008】本発明は、前述の課題に鑑みてなされたも
ので、側面がドアとして分離する構造でも収納される基
板をケース内で保持することができ、また樹脂部品から
揮発した脱ガスによる収納基板への影響を低減させるこ
とができる基板収納ケースおよびこれを用いた露光装置
を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and can hold a substrate accommodated in a case even in a structure in which a side surface is separated as a door, and accommodates a substrate by degassing volatilized from a resin component. An object of the present invention is to provide a substrate storage case capable of reducing the influence on a substrate and an exposure apparatus using the same.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を解
決するために以下の構成を採用した。すなわち、図1か
ら図9とに対応づけて説明すると、請求項1記載の基板
収納ケースでは、内部に基板(R)を保持して収納する
基板収納ケース(C1、C2)であって、着脱可能な側
板(9、22)を有するケース本体(12、24)と、
該ケース本体内に設けられ前記基板を保持する保持機構
(13、21)とを備え、該保持機構は、前記側板を前
記ケース本体に押し付けて取り付けた際に側板の押圧力
で前記基板をケース本体に押し付けて保持する押圧部
(14、23)を備えている技術が採用される。
The present invention has the following features to attain the object mentioned above. That is, the substrate storage case according to claim 1 is a substrate storage case (C1, C2) for holding and storing a substrate (R) therein, A case body (12, 24) having possible side plates (9, 22);
A holding mechanism (13, 21) provided in the case main body for holding the substrate, wherein the holding mechanism presses the substrate with the pressing force of the side plate when the side plate is pressed against the case main body. A technology including a pressing portion (14, 23) that presses and holds the main body is adopted.

【0010】この基板収納ケースでは、保持機構(1
3、21)が、側板(9、22)をケース本体(12、
24)に押し付けて取り付けた際に側板の押圧力で基板
をケース本体に押し付けて保持する押圧部(14、2
3)を備えているので、側板をケース本体に着脱するだ
けで収納基板の保持およびその解放を容易に行うことが
可能となる。
In this substrate storage case, the holding mechanism (1)
3, 21) attaches the side plates (9, 22) to the case body (12,
24) is pressed against the case body by the pressing force of the side plate when attached by pressing against the case body (14, 2).
Because of the provision of 3), it is possible to easily hold and release the storage board simply by attaching and detaching the side plate to and from the case body.

【0011】請求項7記載の基板収納ケースでは、内部
に基板(R)を保持して収納する基板収納ケース(C
3)であって、着脱可能な側板(9)を有するケース本
体(31)と、該ケース本体内に設けられ前記基板を保
持する保持機構(13)とを備え、前記ケース本体を構
成する少なくとも一面には、通気性を有した防塵フィル
ター材(32)でカバーされた開口部(31a)が設け
られている技術が採用される。
In the substrate storage case according to the present invention, the substrate storage case (C) for holding and storing the substrate (R) therein.
3) which comprises a case body (31) having a detachable side plate (9), and a holding mechanism (13) provided in the case body and holding the substrate, and at least constituting the case body On one side, a technique is employed in which an opening (31a) covered with a dustproof filter material (32) having air permeability is provided.

【0012】この基板収納ケースでは、ケース本体(3
1)を構成する少なくとも一面には、通気性を有した防
塵フィルター材(32)でカバーされた開口部(31
a)が設けられているので、ケース本体内で脱ガスが発
生しても、該脱ガスは防塵フィルターを介して開口部か
ら外部に排出され内部に密閉されることがない。また、
防塵フィルターによって外部のパーティクルが入り込む
ことも防止される。
In this board storage case, the case body (3
An opening (31) covered with an air-permeable dust-proof filter material (32) is provided on at least one surface constituting 1).
Since a) is provided, even if degassing occurs in the case main body, the degassing is discharged to the outside through the opening through the dustproof filter and is not sealed inside. Also,
The dustproof filter also prevents external particles from entering.

【0013】請求項9記載の露光装置では、基板を内部
に搬送する基板搬送系を備えた露光装置において、前記
基板搬送系(120)は、請求項1から8のいずれかに
記載の基板収納ケース(C1、C2、C3)を保持可能
なケース保持機構(110)を備えている技術が採用さ
れる。
According to a ninth aspect of the present invention, in the exposure apparatus provided with a substrate transport system for transporting a substrate therein, the substrate transport system (120) is provided with a substrate storage system according to any one of the first to eighth aspects. A technology including a case holding mechanism (110) capable of holding the cases (C1, C2, C3) is employed.

【0014】この露光装置では、基板搬送系(120)
が、請求項1から8のいずれかに記載の基板収納ケース
(C1、C2、C3)を保持可能なケース保持機構(1
10)を備えているので、FOUP方式の基板収納ケー
ス単位で基板の搬送・収納ができ、ミニエンバイロメン
ト方式による搬送系を実現することができる。
In this exposure apparatus, a substrate transport system (120)
A case holding mechanism (1) capable of holding the substrate storage case (C1, C2, C3) according to any one of claims 1 to 8.
10), the substrate can be transported and stored in units of the FOUP type substrate storage case, and a transport system using the mini-environment method can be realized.

【0015】請求項11記載の基板収納ケースでは、マ
ーク(B)が設けられた基板(R)をケース本体(4
1)の内部に保持して収納する基板収納ケース(C4、
C5)であって、前記ケース本体には、収納された前記
基板のマークを外部から読み取り可能にする透明な窓部
(42、52)が設けられている技術が採用される。
In the substrate storage case according to the eleventh aspect, the substrate (R) provided with the mark (B) is attached to the case body (4).
The substrate storage case (C4,
C5), wherein the case body employs a technology in which transparent windows (42, 52) are provided so that marks of the housed substrate can be read from the outside.

【0016】この基板収納ケース(C4、C5)では、
収納された基板(R)のマーク(B)を外部から読み取
り可能にする透明な窓部(42、52)が設けられてい
るので、たとえ非透明または半透明なケース本体でも少
なくとも窓部は透明であるので、該窓部を介してバーコ
ード等のマークを外部から容易に読み取ることができ
る。
In the substrate storage cases (C4, C5),
Since the transparent windows (42, 52) are provided so that the marks (B) of the stored substrate (R) can be read from the outside, at least the windows are transparent even in a non-transparent or translucent case body. Therefore, a mark such as a barcode can be easily read from the outside through the window.

【0017】請求項13記載の露光装置では、請求項1
1または12に記載の基板収納ケースを搬送するケース
搬送系(130)と、該ケース搬送系で搬送される前記
基板収納ケース(C4、C5)の外部から前記窓部(4
2、52)を介して前記基板(R)のマーク(B)を読
み取るマーク検出機構(131)とを備えている技術が
採用される。
In the exposure apparatus according to the thirteenth aspect, in the first aspect,
A case transport system (130) for transporting the substrate storage case described in 1 or 12, and the window (4) from outside the substrate storage cases (C4, C5) transported by the case transport system.
A technique including a mark detection mechanism (131) for reading the mark (B) on the substrate (R) via the second and second 52) is adopted.

【0018】この露光装置では、ケース搬送系で搬送さ
れる請求項11または12に記載の基板収納ケース(C
4、C5)の外部から前記窓部(42、52)を介して
前記基板(R)のマーク(B)を読み取るマーク検出機
構(131)を備えているので、基板収納ケースを搬送
する際に、マーク検出機構によって基板を取り出さずに
マークを確実に読み取ることができる。
In this exposure apparatus, the substrate storage case (C) is transported by a case transport system.
4, C5) is provided with a mark detection mechanism (131) for reading the mark (B) of the substrate (R) from outside the window (42, 52) through the window (42, 52). The mark can be reliably read by the mark detection mechanism without taking out the substrate.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る基板収納ケー
スの第1実施形態を、図1から図3を参照しながら説明
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a first embodiment of a substrate storage case according to the present invention will be described with reference to FIGS.

【0020】図1から図3は、本実施形態のレチクル収
納ケース(基板収納ケース)C1を示し、これらの図に
おいて、該レチクル収納ケースC1は、内部に露光装置
用のレチクル(基板)Rを保持して収納するFOUP方
式の樹脂製ケースであって、着脱可能な前扉として側面
ドア(側板)9を有するケース本体12と、該ケース本
体12内に設けられレチクルRを保持する保持機構13
とを備えている。
FIGS. 1 to 3 show a reticle storage case (substrate storage case) C1 of the present embodiment. In these figures, the reticle storage case C1 has a reticle (substrate) R for an exposure apparatus therein. A FOUP type resin case that holds and stores a case body 12 having a side door (side plate) 9 as a detachable front door, and a holding mechanism 13 provided in the case body 12 for holding a reticle R.
And

【0021】該保持機構13は、ケース本体12の内側
下面に立設されレチクルRを載置するレチクル支持部8
と、側面ドア9をケース本体12に押し付けて取り付け
た際に側面ドア9の押圧力でレチクルRをレチクル支持
部8に押し付けて保持する棒状のレチクル押さえ支持部
材(押圧部)14と、取付状態の側面ドア9の内面に当
接可能に配され側面ドア9の着脱方向に移動可能な棒状
のドア接触部材(当接部)15とを備えている。
The holding mechanism 13 is provided on a reticle supporting portion 8 erected on the lower surface inside the case body 12 and on which the reticle R is mounted.
And a rod-shaped reticle pressing support member (pressing portion) 14 for pressing and holding the reticle R against the reticle supporting portion 8 with the pressing force of the side door 9 when the side door 9 is pressed against the case body 12 and mounted. And a rod-shaped door contact member (contact portion) 15 which is arranged to be able to contact the inner surface of the side door 9 and is movable in the attaching / detaching direction of the side door 9.

【0022】前記レチクル押さえ支持部材14と前記ド
ア接触部材15とは、互いの基端部が連結固定されて全
体として略L字状とされているとともに、ケース本体1
2内部の左右に回転中心軸14aを中心に回転可能に取
り付けられている。また、レチクル押さえ支持部材14
とドア接触部材15との基端部には、回転中心軸14a
を中心にねじりバネ14bが取り付けられ、図1の
(b)中の時計回り方向にレチクル押さえ支持部材14
およびドア接触部材15を付勢している。
The reticle pressing support member 14 and the door contact member 15 are connected and fixed at their base ends to form a substantially L-shape as a whole.
It is attached to the left and right inside 2 so as to be rotatable about a rotation center shaft 14a. Also, the reticle holding support member 14
The rotation center axis 14a is provided at the base end of the
A torsion spring 14b is mounted around the reticle holding support member 14 in the clockwise direction in FIG.
And the door contact member 15 is urged.

【0023】レチクル押さえ支持部材14の先端部は、
ケース本体12の上面かつ側面ドア9に沿った方向に屈
曲して収納状態のレチクルR上方に延び、先端に収納状
態のレチクルRの表面に沿って回転可能なベアリング等
のレチクル側回転体14cが取り付けられている。ま
た、ドア接触部材15の先端には、側面ドア9とのこす
れを防止するために側面ドア9の内面に沿って回転可能
なベアリング等のドア側回転体15aが取り付けてあ
る。なお、レチクル押さえ支持部材14は、全体が有る
程度の弾性を有した樹脂等の弾性体で形成されている。
The tip of the reticle holding support member 14 is
A reticle-side rotating body 14c such as a bearing that can bend along the upper surface of the case body 12 and along the side door 9 and extends above the reticle R in the housed state, and is rotatable along the surface of the reticle R in the housed state. Installed. Further, a door-side rotating body 15 a such as a bearing rotatable along the inner surface of the side door 9 is attached to the tip of the door contact member 15 to prevent the door contact member 15 from rubbing against the side door 9. The reticle pressing support member 14 is formed of an elastic body such as a resin having a certain degree of elasticity as a whole.

【0024】前記レチクル側回転体14cおよび前記ド
ア側回転体15aは、それぞれの外周が摩擦性に優れて
いて摩擦係数の低い樹脂であるポリアセタール等で形成
されている。ケース本体12の内側下面には、ドア側回
転体15aの下方にストッパ16が立設され、側面ドア
9が外されている場合に、ストッパ16にドア側回転体
15aが当接して、レチクル側回転体14cが収納状態
のレチクルRより上側に上がっているとともにケース本
体12の内側上面に接触しない位置に設定されている。
The reticle-side rotator 14c and the door-side rotator 15a are made of a resin such as polyacetal, which is a resin having excellent frictional properties and a low coefficient of friction. A stopper 16 is erected below the door-side rotating body 15 a on the inner lower surface of the case body 12, and when the side door 9 is removed, the door-side rotating body 15 a comes into contact with the stopper 16 and the reticle side. The rotator 14c is set above the reticle R in the housed state, and is set at a position where the rotator 14c does not contact the inner upper surface of the case body 12.

【0025】前記側面ドア9には、ラッチ10を備えた
不図示のロック機構が内蔵され、前面側に形成されたラ
ッチ解除穴10aに不図示のキーを入れて該キーを回転
させることにより、ラッチ10が側面ドア9から進退可
能に設定されている。すなわち、側面ドア9をケース本
体12に押し付けて合体させた状態で、キーを回転して
ラッチ10を突出状態にすると、ケース本体12内の溝
11にラッチ10がはめ込まれ、側面ドア9をケース本
体12に固定することができる。
A lock mechanism (not shown) provided with a latch 10 is built in the side door 9, and a key (not shown) is inserted into a latch release hole 10a formed on the front side, and the key is rotated. The latch 10 is set to be able to advance and retreat from the side door 9. That is, when the side door 9 is pressed against the case main body 12 and united, and the key is rotated to make the latch 10 protrude, the latch 10 is fitted into the groove 11 in the case main body 12 and the side door 9 is put into the case. It can be fixed to the main body 12.

【0026】次に、レチクル収納ケースC1によるレチ
クルRの収納方法について、図1から図3を参照して説
明する。
Next, a method of storing the reticle R in the reticle storage case C1 will be described with reference to FIGS.

【0027】まず、図2に示すように、側面ドア9が取
り外されたケース本体12内に、側面開口部12aから
搬送用のアーム122上に載置したレチクルRを挿入
し、レチクル支持部8上に載置する。この状態で、図1
に示すように、側面ドア9をケース本体12の側面開口
部12aにはめ込むとともに押さえ込む。この際、ドア
接触部材15は、ドア側回転体15aが側面ドア9の内
面に押されて図1の(b)中の反時計回りに回転する。
First, as shown in FIG. 2, the reticle R mounted on the transfer arm 122 is inserted from the side opening 12a into the case body 12 from which the side door 9 has been removed. Place on top. In this state, FIG.
As shown in (1), the side door 9 is fitted into the side opening 12a of the case body 12 and pressed down. At this time, the door contact member 15 is rotated counterclockwise in FIG. 1B by the door-side rotating body 15a being pushed by the inner surface of the side door 9.

【0028】このとき、図3に示すように、ドア接触部
材15に連結されたレチクル押さえ支持部材14も同様
に回転し、その先端のレチクル側回転体14cがレチク
ルRの上面に当接するとともにレチクルRをレチクル支
持部8に押圧して保持する。そして、ラッチ解除穴10
aに差し込んだキーを回転させることによって、ラッチ
10を突出させて側面ドア9をケース本体12に固定す
る。この状態で、レチクルRは、レチクル収納ケースC
1内に密閉状態で保持・収納される。
At this time, as shown in FIG. 3, the reticle pressing support member 14 connected to the door contact member 15 also rotates in the same manner, and the reticle-side rotating body 14c at the tip comes into contact with the upper surface of the reticle R and the reticle. R is pressed against the reticle support 8 and held. And the latch release hole 10
The side door 9 is fixed to the case body 12 by rotating the key inserted into the case a so that the latch 10 protrudes. In this state, the reticle R is in the reticle storage case C.
1 is held and stored in a sealed state.

【0029】逆に、収納されているレチクルRを取り出
す場合には、上記手順と逆に側面ドア9のラッチ10に
よる固定を解除し、側面ドア9をケース本体12から分
離させると、側面ドア9に押されていたドア接触部材1
5が、レチクル押さえ支持部材14とともにねじりバネ
14bの付勢力によって図2の(b)中の時計回りに回
転する。このとき、レチクルRを押圧していたレチクル
側回転体14cがレチクルRから離れ、レチクルRが解
放される。この状態で、レチクルRはケース本体12か
ら搬出可能となる。
Conversely, when the stored reticle R is to be taken out, the fixing of the side door 9 by the latch 10 is released and the side door 9 is separated from the case body 12 in the reverse order to the above procedure. Door contact member 1 pushed to
5 rotates clockwise in FIG. 2B together with the reticle pressing support member 14 by the urging force of the torsion spring 14b. At this time, the reticle-side rotating body 14c that has pressed the reticle R separates from the reticle R, and the reticle R is released. In this state, the reticle R can be carried out of the case main body 12.

【0030】すなわち、本実施形態のレチクル収納ケー
スC1では、保持機構13が、側面ドア9をケース本体
12に押し付けて取り付けた際に側面ドア9の押圧力で
レチクルRをケース本体12に押し付けて保持するレチ
クル押さえ支持部材14およびドア接触部材15を備え
ているので、側面ドア9をケース本体12に着脱するだ
けでレチクルRの保持およびその解放を容易に行うこと
が可能となる。
That is, in the reticle storage case C1 of the present embodiment, when the holding mechanism 13 presses the side door 9 against the case body 12 and mounts the reticle R, the reticle R is pressed against the case body 12 by the pressing force of the side door 9. Since the reticle holding support member 14 and the door contact member 15 are provided, the reticle R can be easily held and released simply by attaching and detaching the side door 9 to and from the case body 12.

【0031】また、レチクル押さえ支持部材14の先端
にレチクル側回転体14cを設けたので、摩擦によるダ
メージをレチクルRに与え難いとともにパーティクルの
発生も防ぐことができる。さらに、レチクル側回転体1
4cは、その外周が樹脂材料で形成されているので、さ
らにレチクルRへのダメージおよびパーティクルの発生
を低減することができる。なお、レチクル押さえ支持部
材14は、全体が樹脂等の弾性体で形成されているの
で、そのたわみにより発生する力もレチクルRを押圧す
る力となっている。
Further, since the reticle-side rotating body 14c is provided at the tip of the reticle pressing support member 14, it is difficult to damage the reticle R due to friction, and it is possible to prevent the generation of particles. Further, the reticle-side rotating body 1
Since the outer periphery of 4c is formed of a resin material, damage to the reticle R and generation of particles can be further reduced. In addition, since the reticle pressing support member 14 is entirely formed of an elastic body such as a resin, the force generated by the bending is also the force pressing the reticle R.

【0032】次に、本発明に係る基板収納ケースの第2
実施形態を、図4および図5を参照しながら説明する。
Next, the second embodiment of the substrate storage case according to the present invention will be described.
An embodiment will be described with reference to FIGS.

【0033】第2実施形態と第1実施形態との異なる点
は、第1実施形態の保持機構13がねじりバネ14bで
付勢されたドア接触部材15およびレチクル押さえ支持
部材14でレチクルRを保持していたのに対し、第2実
施形態のレチクル収納ケースC2では、図4および図5
に示すように、保持機構21として、側面ドア22の内
面に設けられ先端にレチクル押さえ部材23aを有して
着脱方向に付勢可能なドア側押さえバネ(付勢部材)2
3を備えている点である。
The difference between the second embodiment and the first embodiment is that the holding mechanism 13 of the first embodiment holds the reticle R with the door contact member 15 and the reticle holding support member 14 urged by the torsion spring 14b. 4 and 5 in the reticle storage case C2 of the second embodiment.
As shown in FIG. 2, as a holding mechanism 21, a door-side pressing spring (biasing member) 2 which is provided on the inner surface of the side door 22 and has a reticle pressing member 23a at its tip and can be urged in the attaching / detaching direction.
3 is provided.

【0034】前記ドア側押さえバネ23は、側面ドア2
2を取り付けた状態でレチクルRの周縁部にレチクル押
さえ部材23aを当接させ、レチクルRを側面ドア22
の取付方向に付勢するものである。また、前記レチクル
押さえ部材23aは、ゴム又は樹脂製の弾性体で形成さ
れている。
The door-side pressing spring 23 is connected to the side door 2.
In a state where the reticle R is mounted, the reticle R is brought into contact with the peripheral edge of the reticle R, and the reticle R is moved to the side door 22.
In the mounting direction. The reticle pressing member 23a is formed of an elastic body made of rubber or resin.

【0035】なお、ケース本体24内の側面ドア22に
対向した内側面にも、本体側押さえバネ24aが取り付
けられ、該本体側押さえバネ24aは、ドア側押さえバ
ネ23で押圧されたレチクルRを内側面側で反対方向に
付勢して支持するものである。また、本体側押さえバネ
24aの先端にも、レチクル押さえ部材23aと同様の
材質で形成された押さえ部材24cが取り付けてある。
A body-side pressing spring 24a is also attached to the inner surface of the case body 24 facing the side door 22, and the body-side pressing spring 24a holds the reticle R pressed by the door-side pressing spring 23. It is biased and supported in the opposite direction on the inner side. A holding member 24c made of the same material as the reticle holding member 23a is also attached to the tip of the main body-side holding spring 24a.

【0036】すなわち、本実施形態のレチクル収納ケー
スC2では、レチクルRをケース本体24内のレチクル
支持部8に載置した後、側面ドア22を側面開口部24
bにはめ込んで押し付けることにより、ドア側押さえバ
ネ23のレチクル押さえ部材23aがレチクルRの周縁
部に当接して押圧するとともに、対向位置の本体側押さ
えバネ24aとの間で挟持して保持することができる。
したがって、本実施形態では、簡易な構成で実現でき、
レチクルRの上面に接触することなく周縁部に接触して
保持状態を得ることができる。
That is, in the reticle storage case C2 of this embodiment, after the reticle R is mounted on the reticle support portion 8 in the case main body 24, the side door 22 is opened.
b, the reticle pressing member 23a of the door-side pressing spring 23 comes into contact with and presses the peripheral portion of the reticle R, and is held and held between the opposing main body-side pressing spring 24a. Can be.
Therefore, this embodiment can be realized with a simple configuration,
The holding state can be obtained by contacting the peripheral portion without contacting the upper surface of the reticle R.

【0037】なお、ドア側押さえバネ23がなくて弾性
体のレチクル押さえ部材23aだけでもよい。また、本
体側押さえバネ24aがなくて弾性体の押さえ部材24
cだけでもよい。さらに、押さえ部材24c、押さえ部
材24c若しくはドア側押さえバネ23、レチクル押さ
え部材23aのどちらか一方で弾性体としてレチクルR
を押さえてもよい。
It is to be noted that the door-side pressing spring 23 may not be provided and only the elastic reticle pressing member 23a may be used. Also, the pressing member 24 made of an elastic body is not provided because the main body side pressing spring 24a is not provided.
Only c may be used. Further, one of the pressing member 24c, the pressing member 24c, the door-side pressing spring 23, and the reticle pressing member 23a is used as an elastic body for the reticle R.
You may hold down.

【0038】次に、本発明に係る基板収納ケースの第3
実施形態を、図6および図7を参照しながら説明する。
Next, the third embodiment of the substrate storage case according to the present invention will be described.
An embodiment will be described with reference to FIGS.

【0039】第3実施形態と第1実施形態との異なる点
は、第1実施形態のレチクル収納ケースC1は、側面ド
ア9が固定された状態では外気との通気が遮断された完
全密閉状態となるのに対し、第3実施形態のレチクル収
納ケースC3では、ケース本体31を構成する一面に、
通気性を有した防塵フィルター材32でカバーされた開
口部31aが設けられ内外の通気性が確保されている点
である。
The difference between the third embodiment and the first embodiment is that the reticle storage case C1 of the first embodiment has a completely closed state in which the ventilation with the outside air is blocked when the side door 9 is fixed. On the other hand, in the reticle storage case C3 of the third embodiment, one surface of the case
The point is that an opening 31a covered with a dustproof filter material 32 having air permeability is provided to ensure air permeability inside and outside.

【0040】前記防塵フィルター材32は、ケース本体
31の側面に形成された矩形状の開口部31aにはめ込
まれた状態で枠部材33で押さえられ該枠部材33上か
らねじ34で止められて交換可能とされている。また、
この防塵フィルター材32は、空気は通すものの塵埃は
通さないものが使用され、メンブランタイプのものが好
適である。例えば、日本ミリポア・リミテッド社により
輸入・販売されているMFミリポアフィルター(商品
名)、等が使用される。これらのうち、MFミリポアフ
ィルターは、セルロール混合エステルを材料として通気
性のあるフィルターに形成したものである。なお、防塵
フィルター材32は、交換可能に取り付けられているの
で、その使用状況に応じて適宜交換される。
The dustproof filter material 32 is pressed by a frame member 33 while being fitted in a rectangular opening 31a formed on the side surface of the case body 31, and is stopped by a screw 34 from above the frame member 33 for replacement. It is possible. Also,
As the dust filter material 32, a material that allows air to pass but does not allow dust to pass is used, and a membrane type filter material is preferable. For example, an MF Millipore filter (trade name) imported and sold by Nippon Millipore Limited is used. Among these, the MF Millipore filter is formed into a gas-permeable filter using cellulose mixed ester as a material. In addition, since the dust-proof filter material 32 is exchangeably mounted, it is appropriately replaced according to the use condition.

【0041】次に、本発明に係る基板収納ケースの第4
実施形態を、図8から図11を参照しながら説明する。
Next, the fourth embodiment of the substrate storage case according to the present invention will be described.
An embodiment will be described with reference to FIGS.

【0042】第4実施形態と第2実施形態との異なる点
は、第2実施形態のレチクル収納ケースC2ではケース
本体24が非透明または半透明な樹脂材料で形成されて
いるのに対し、図8に示すように、第4実施形態のレチ
クル収納ケースC4では、ケース本体41を構成する底
面に、レチクルRに設けられたバーコード(マーク)B
を読み取り可能にする透明な窓部材(窓部)42が設け
られている点である。また、該窓部材42は、ビス43
によって着脱可能に取り付けられている。なお、窓部材
42とケース本体41との間には、弾性体であるパッキ
ン44が配されて密封性が確保されている。
The difference between the fourth embodiment and the second embodiment is that in the reticle storage case C2 of the second embodiment, the case body 24 is formed of a non-transparent or translucent resin material. As shown in FIG. 8, in the reticle storage case C4 of the fourth embodiment, a bar code (mark) B provided on the reticle R is provided on the bottom surface of the case body 41.
Is provided with a transparent window member (window portion) 42 that makes it possible to read. The window member 42 is provided with a screw 43.
Attached detachably. In addition, between the window member 42 and the case main body 41, a packing 44, which is an elastic body, is disposed to ensure the sealing performance.

【0043】本実施形態の構造を採用した理由を以下に
説明すると、例えば、レチクルに種々の情報(ID等)
をバーコードや二次元コード等のマークによって表示す
る場合があり、収納ケース内に収納されたレチクルにつ
いて、レチクルパターン面(下面)に設けられたバーコ
ード等を読み取る必要が生じる場合がある。この場合、
ケース本体が非透明または半透明な材質であると、外部
から読み取りを行うことが困難なため、レチクルを収納
ケースから取り出して読み取りを行わなければならず取
出や収納の手間がかかってしまう。
The reason why the structure of this embodiment is adopted will be described below. For example, various information (ID, etc.)
May be displayed by a mark such as a barcode or a two-dimensional code, and it may be necessary to read a barcode or the like provided on the reticle pattern surface (lower surface) of the reticle stored in the storage case. in this case,
If the case main body is made of a non-transparent or translucent material, it is difficult to read from the outside, so that the reticle must be taken out of the storage case and read, which takes time and effort for taking out and storing.

【0044】また、レチクル収納ケースC2を透明な樹
脂材料で構成した場合、図9に示すように、レチクル収
納ケースC2に収納されたレチクルRのバーコードBを
外部からリーダREによって読み取ることが可能である
が、当初は透明であっても、使用の過程で他の収納ケー
ス等のユニットとの接触によって、読み取りに必要な部
分表面に大小の傷が付いたり、洗浄の際の溶剤などで曇
ったりして透明度が低下し、読み取りができなくなる場
合がある。
When the reticle storage case C2 is made of a transparent resin material, as shown in FIG. 9, the bar code B of the reticle R stored in the reticle storage case C2 can be read from outside by a reader RE. However, even if it is transparent at first, the surface required for reading may become large or small due to contact with other units such as storage cases during use, or it may become cloudy due to solvents during cleaning. In some cases, the transparency may decrease, and reading may not be performed.

【0045】さらに、読み取りに必要な部分に傷が生じ
ることをある程度防止するために、図10に示すよう
に、レチクル収納ケースC2の下面で読み取りに必要な
部分を窪ませて凹部24dとすることもできるが、レチ
クル収納ケースC2を常に平らな面に置くとは限らず、
意図せずにケース外のものにぶつけることもあり、また
洗浄時に擦られたり、溶剤で透明度が徐々に落ちること
も避けられないことから、あまり効果的な対策とはなら
ない。
Further, in order to prevent a part required for reading from being damaged to some extent, a part required for reading is depressed on the lower surface of the reticle storage case C2 to form a recess 24d as shown in FIG. However, the reticle storage case C2 is not always placed on a flat surface.
It is not a very effective countermeasure because it may be inadvertently bumped into something outside the case, and it is inevitable that it will be rubbed at the time of cleaning and the transparency will gradually decrease with a solvent.

【0046】また、一般に、レチクル等を収納するケー
スは、重量、製造性、コスト等の理由で樹脂材質で一体
構成されることが多く、ケース本体の読み取りに必要な
部分が他の構成部品と一体になっている場合、読み取り
に必要な部分の透明度が落ちると、高価なケースを廃棄
するか、若しくは部品の交換や調整等の手間が必要にな
って、コストアップにつながってしまう不都合があっ
た。
In general, a case for accommodating a reticle or the like is often integrally formed of a resin material for reasons of weight, manufacturability, cost, and the like. If they are integrated, if the transparency of the parts required for reading deteriorates, expensive cases must be discarded, or replacement and adjustment of parts are required, leading to increased costs. Was.

【0047】そこで、本実施形態では、収納したレチク
ルRのバーコードBを外部から読み取ることができ、さ
らに読み取りに必要な部分の透明度の低下にも低コスト
で対応することを目的として、交換可能で透明な窓部材
42(樹脂製)をケース本体41に設けることとした。
すなわち、ケース本体41の外部から窓部材42を介し
て収納状態のレチクルRのバーコードBを読み取ること
ができ、さらに繰り返しの使用等によって窓部材42の
透明度が落ち、読み取りができなくなった場合でも、ビ
ス43を外して窓部材42を新しい窓部材42に交換す
ればよく、高価なケース全体を交換しなくても済む。
Therefore, in the present embodiment, the bar code B of the stored reticle R can be read from the outside, and the bar code B can be replaced at a low cost in order to cope with a decrease in transparency of a portion required for reading. Thus, a transparent window member 42 (made of resin) is provided on the case body 41.
That is, the barcode B of the reticle R in the housed state can be read from the outside of the case body 41 via the window member 42, and even if the transparency of the window member 42 is reduced due to repeated use or the like, the reading becomes impossible. , The screw 43 is removed and the window member 42 is replaced with a new window member 42, eliminating the need to replace the entire expensive case.

【0048】したがって、高価なケースの使用可能期間
を延ばすことができるとともに、窓部材42の交換時間
が短時間で済み、IC生産上の設備、人件費等のコスト
ダウンに貢献することができる。また、ケース全体の色
を中の収納物の判別のために異なる色で作る必要がある
場合も、バーコードBの読み取りに必要な部分である窓
部材42のみが透明であるので、IC生産上の効率化が
可能である。なお、本実施形態の他の例として、図11
に示すように、窓部材42の下面を窪ませて凹部42a
を形成し、傷が付き難くしてもよい。
Accordingly, the usable period of the expensive case can be extended, and the window member 42 needs to be replaced in a short time, thereby contributing to the cost reduction of facilities for IC production and labor costs. Also, when it is necessary to make the color of the entire case in a different color in order to discriminate the contents stored therein, since only the window member 42, which is a part necessary for reading the bar code B, is transparent, the Can be made more efficient. As another example of the present embodiment, FIG.
As shown in FIG.
May be formed to make it hard to be damaged.

【0049】次に、本発明に係る基板収納ケースの第5
実施形態を、図12を参照しながら説明する。
Next, the fifth embodiment of the substrate storage case according to the present invention will be described.
An embodiment will be described with reference to FIG.

【0050】第5実施形態と第4実施形態との異なる点
は、第4実施形態のレチクル収納ケースC4ではケース
本体41および窓部材42が樹脂材料で形成されている
のに対し、第5実施形態のレチクル収納ケースC5で
は、窓部材52の中央部(読み取りに必要な部分)がガ
ラスやクオーツ等の耐久性、透明度に優れた高硬度透明
材料52aで構成されている点で異なる。すなわち、本
実施形態では、窓部材52において読み取りが必要な部
分にのみガラス等の高硬度透明材料52aが用いられて
いるので、重量、製造性、コスト等の増加を最低限に抑
えて耐久性の向上および読み取りの信頼度を格段に向上
させ、IC生産装置の稼働率アップが可能となる。
The difference between the fifth embodiment and the fourth embodiment is that in the reticle storage case C4 of the fourth embodiment, the case body 41 and the window member 42 are formed of a resin material. The reticle storage case C5 of the embodiment is different in that a central portion (a portion necessary for reading) of the window member 52 is made of a high-hardness transparent material 52a having excellent durability and transparency such as glass and quartz. That is, in the present embodiment, since the high-hardness transparent material 52a such as glass is used only in the portion of the window member 52 that needs to be read, the increase in weight, manufacturability, cost, and the like is minimized and the durability is improved. And the reliability of reading is remarkably improved, and the operation rate of the IC production apparatus can be increased.

【0051】次に、上記各実施形態のレチクル収納ケー
スC1〜C5のいずれかを用いた露光装置の一実施形態
について、図13および図14を参照して説明する。
Next, an embodiment of an exposure apparatus using any of the reticle storage cases C1 to C5 of the above embodiments will be described with reference to FIGS.

【0052】露光装置本体40は、図13に示すよう
に、ステップ・アンド・スキャン方式でマスクとしてレ
チクルRのパターンを半導体ウエハW上に転写するもの
である。この露光装置本体40は、露光光源を含む照明
系60、レチクルRを保持するレチクルステージRS
T、投影光学系PL、半導体ウエハWが搭載されるウエ
ハステージWST等を備えている。
The exposure apparatus main body 40 transfers the pattern of the reticle R onto the semiconductor wafer W as a mask by a step-and-scan method, as shown in FIG. The exposure apparatus body 40 includes an illumination system 60 including an exposure light source, and a reticle stage RS for holding a reticle R.
T, a projection optical system PL, a wafer stage WST on which a semiconductor wafer W is mounted, and the like.

【0053】前記照明系60は、露光光源と照明光学系
(いずれも図示せず)とから構成される。照明光学系
は、コリメータレンズ、フライアイレンズ又はロッド型
インテグレータ等のオプティカルインテグレータ等から
なる照度均一化光学系、リレーレンズ、可変NDフィル
タ、レチクルブラインド、リレーレンズ等を含んで構成
され、レチクルR上のスリット状照明領域IARを照明
光ILにより均一な照度で照明する。ここで、照明系内
の上記各駆動部、すなわち、可変NDフィルタ、レチク
ルブラインド等は、主制御装置70からの指示に応じ照
明制御装置62によって制御される。
The illumination system 60 comprises an exposure light source and an illumination optical system (neither is shown). The illumination optical system includes a collimator lens, an illuminance uniforming optical system including an optical integrator such as a fly-eye lens or a rod-type integrator, a relay lens, a variable ND filter, a reticle blind, a relay lens, and the like. Is illuminated by the illumination light IL with uniform illuminance. Here, each of the driving units in the illumination system, that is, the variable ND filter, the reticle blind, and the like are controlled by the illumination control device 62 in accordance with an instruction from the main control device 70.

【0054】前記レチクルステージRSTは、レチクル
ベース盤64上に配置され、その上面にはレチクルR
が、例えば真空吸着により固定される。レチクルステー
ジRSTは、ここでは、磁気浮上型の2次元リニアアク
チュエータからなる不図示のレチクルステージ駆動部に
よって、レチクルRの位置決めのため、照明光学系の光
軸に垂直な平面内(XY平面内)で2次元的に微小駆動
可能であるとともに、所定の走査方向(ここでは、Y方
向)に指定された走査速度で駆動可能となっている。
The reticle stage RST is arranged on a reticle base plate 64, and has a reticle R on its upper surface.
Is fixed, for example, by vacuum suction. Here, the reticle stage RST is positioned in a plane perpendicular to the optical axis of the illumination optical system (in the XY plane) for positioning the reticle R by a reticle stage driving unit (not shown) composed of a magnetic levitation type two-dimensional linear actuator. , And can be driven at a designated scanning speed in a predetermined scanning direction (here, Y direction).

【0055】レチクルステージRSTの位置は、レチク
ルレーザ干渉計66によって、例えば0.5〜1nm程
度の分解能で常時検出される。この干渉計66からのレ
チクルステージRSTの位置情報は、ステージ制御装置
69およびこれを介して主制御装置70に送られ、ステ
ージ制御装置69では主制御装置70からの指示に応
じ、レチクルステージRSTの位置情報に基づいてレチ
クルステージ駆動部(図示略)を介してレチクルステー
ジRSTを駆動する。
The position of reticle stage RST is always detected by reticle laser interferometer 66 with a resolution of, for example, about 0.5 to 1 nm. The position information of the reticle stage RST from the interferometer 66 is sent to the stage control device 69 and to the main control device 70 via the stage control device 69. The reticle stage RST is driven via a reticle stage driving unit (not shown) based on the position information.

【0056】前記投影光学系PLは、レチクルステージ
RSTの下方に配置され、その光軸AXの方向がZ軸方
向とされ、ここでは両側テレセントリックな所定の投影
倍率、例えば1/5(あるいは1/4)を有する縮小光
学系が用いられている。このため、照明系60からの照
明光ILによってレチクルRの照明領域IARが照明さ
れると、このレチクルRを通過した照明光ILにより、
投影光学系PLを介して照明領域IAR部分のレチクル
Rの回路パターンの縮小像が表面にレジストが塗布され
た半導体ウエハW上の露光領域IAに形成される。
The projection optical system PL is disposed below the reticle stage RST, and the direction of the optical axis AX is set to the Z-axis direction. Here, a predetermined projection magnification which is telecentric on both sides, for example, 1/5 (or 1 /). The reduction optical system having 4) is used. Therefore, when the illumination area IAR of the reticle R is illuminated by the illumination light IL from the illumination system 60, the illumination light IL passing through the reticle R causes
Through the projection optical system PL, a reduced image of the circuit pattern of the reticle R in the illumination area IAR is formed in the exposure area IA on the semiconductor wafer W whose surface is coated with a resist.

【0057】前記ウエハステージWSTは、投影光学系
PLの下方に配置されたウエハベース盤67上に配置さ
れ、このウエハステージWST上には、ウエハホルダ6
8が載置されている。このウエハホルダ68上には半導
体ウエハWが不図示のバキュームチャックを介して真空
吸着されている。ウエハホルダ68は不図示の駆動部に
より、投影光学系PLの最良結像面に対し、任意方向に
傾斜可能で、かつ投影光学系PLの光軸AX方向(Z方
向)に微動できるように構成されている。また、このウ
エハホルダ68はZ軸回りの回転動作も可能になってい
る。
The wafer stage WST is arranged on a wafer base plate 67 arranged below the projection optical system PL, and a wafer holder 6 is mounted on the wafer stage WST.
8 are placed. The semiconductor wafer W is vacuum-sucked on the wafer holder 68 via a vacuum chuck (not shown). The wafer holder 68 is configured to be tiltable in an arbitrary direction with respect to the best image forming plane of the projection optical system PL and to be finely movable in the optical axis AX direction (Z direction) of the projection optical system PL by a driving unit (not shown). ing. The wafer holder 68 is also capable of rotating about the Z axis.

【0058】ウエハステージWSTは、ここでは、磁気
浮上型の2次元リニアアクチュエータからなるウエハ駆
動装置72によりX軸およびY軸の2次元方向に駆動さ
れる。すなわち、ウエハステージWSTは走査方向(Y
方向)の移動のみならず、半導体ウエハW上の複数のシ
ョット領域を照明領域IARと共役な露光領域IAに位
置させることができるように、走査方向に垂直な非走査
方向(X方向)にも移動可能に構成されており、半導体
ウエハW上の各ショット領域を走査(スキャン)露光す
る動作と、次のショットの露光のための走査開始位置ま
で移動する動作とを繰り返すステップ・アンド・スキャ
ン動作を行う。
Here, wafer stage WST is driven in the two-dimensional directions of the X-axis and the Y-axis by wafer driving device 72 composed of a magnetic levitation type two-dimensional linear actuator. That is, wafer stage WST moves in the scanning direction (Y
Direction), and also in a non-scanning direction (X direction) perpendicular to the scanning direction so that a plurality of shot areas on the semiconductor wafer W can be positioned in the exposure area IA conjugate to the illumination area IAR. A step-and-scan operation which is configured to be movable and repeats an operation of scanning (scanning) exposure of each shot area on the semiconductor wafer W and an operation of moving to a scan start position for exposure of the next shot. I do.

【0059】このウエハステージWSTの位置は、ウエ
ハレーザ干渉計74によって、例えば0.5〜1nm程
度の分解能で常時検出される。干渉計74の計測値は、
ステージ制御装置69及びこれを介して主制御装置70
に送られており、ステージ制御装置69では、主制御装
置70からの指示に応じ、ウエハステージWSTの位置
情報に基づいてウエハ駆動装置72を介してウエハステ
ージWSTを駆動する。また、ウエハステージWST上
には、ベースライン計測用基準マークその他の基準マー
クが形成された基準プレートFPが配置されている。
The position of wafer stage WST is always detected by wafer laser interferometer 74 with a resolution of, for example, about 0.5 to 1 nm. The measured value of the interferometer 74 is
Stage control device 69 and main control device 70 via this
The stage controller 69 drives the wafer stage WST via the wafer driving device 72 based on the position information of the wafer stage WST in response to an instruction from the main controller 70. On wafer stage WST, a reference plate FP on which a reference mark for baseline measurement and other reference marks are formed is arranged.

【0060】なお、走査露光の際の照明系60、レチク
ルステージRST、ウエハステージWST等の各部の動
作は、主制御装置70によって照明制御装置62、ステ
ージ制御装置69等を介して管理される。さらに、露光
装置本体40では、投影光学系PLの側面に、半導体ウ
エハW上の各ショット領域に付設されたアライメントマ
ーク(ウエハマーク)の位置を検出するためのオフ・ア
クシス方式のアライメント顕微鏡ALGが設けられ、そ
のアライメント顕微鏡ALGの計測結果が主制御装置7
0に供給されるようになっている。
The operations of the illumination system 60, the reticle stage RST, the wafer stage WST and the like during scanning exposure are managed by the main controller 70 via the illumination controller 62, the stage controller 69 and the like. Further, in the exposure apparatus body 40, an off-axis type alignment microscope ALG for detecting the position of an alignment mark (wafer mark) attached to each shot area on the semiconductor wafer W is provided on the side surface of the projection optical system PL. The measurement result of the alignment microscope ALG is provided to the main controller 7.
0 is supplied.

【0061】また、この露光装置本体40では、複数の
スリット像を形成するための結像光束(検出ビームF
B)を光軸AX方向に対して斜め方向より供給する照射
光学系AF1と、その結像光束の半導体ウエハWの表面
での各反射光束をそれぞれスリットを介して受光する受
光光学系AF2とからなる斜入射方式の多点焦点位置検
出系が、投影光学系PLを支える不図示の保持部材に固
定されている。この多点焦点位置検出系からのウエハ位
置情報は、主制御装置70を介してステージ制御装置6
9に送られる。ステージ制御装置69はこのウエハ位置
情報に基づいてウエハホルダ68をZ方向および傾斜方
向に駆動する。
In the exposure apparatus main body 40, an image forming light beam (detection beam F) for forming a plurality of slit images is formed.
An illumination optical system AF1 that supplies B) obliquely with respect to the optical axis AX direction, and a light receiving optical system AF2 that receives the respective reflected light beams of the image forming light beam on the surface of the semiconductor wafer W through slits. The oblique incidence type multi-point focal position detection system is fixed to a holding member (not shown) that supports the projection optical system PL. The wafer position information from the multipoint focus position detection system is transmitted to the stage controller 6 via the main controller 70.
9 The stage controller 69 drives the wafer holder 68 in the Z direction and the tilt direction based on the wafer position information.

【0062】上述した露光装置本体40を構成するレチ
クルベース盤64、ウエハベース盤67、投影光学系P
L等の主要構成部分は、同一の本体フレームに保持さ
れ、該本体フレームが不図示の防振パッドを介して水平
に保持されている。
The reticle base plate 64, the wafer base plate 67, the projection optical system P
Main components such as L are held by the same main body frame, and the main body frame is horizontally held via an anti-vibration pad (not shown).

【0063】本実施形態の露光装置には、図14に示す
ように、上記各実施形態のレチクル収納ケースC1〜C
5のいずれか(以下、本実施形態では、レチクル収納ケ
ースC1とする)を複数保持可能なレチクルライブラリ
(ケース保持機構)110と、該レチクルライブラリ1
10から一枚のレチクルRを選択してレチクルステージ
RST上に搬送するレチクル搬送系(基板搬送系)12
0とを備えている。前記レチクル搬送系120は、レチ
クルライブラリ110で保持されたレチクル収納ケース
C1の側面ドア9を着脱する着脱機構121を備えてい
る。
As shown in FIG. 14, the reticle storage cases C1 to C
5 (hereinafter, referred to as a reticle storage case C1 in the present embodiment), a reticle library (case holding mechanism) 110 capable of holding a plurality of reticle libraries,
A reticle transport system (substrate transport system) 12 that selects one reticle R from 10 and transports it onto reticle stage RST.
0. The reticle transport system 120 includes an attachment / detachment mechanism 121 for attaching / detaching the side door 9 of the reticle storage case C1 held by the reticle library 110.

【0064】レチクルライブラリ110は、レチクル収
納ケースC1を側面ドア9が同一方向に揃うように積み
重ねて保持するもので、各レチクル収納ケースC1は、
支柱部110aで上下方向には移動不能に保持されてい
る。ただし、着脱のため横方向には移動可能となってい
る。レチクル搬送系120は、レチクル収納ケースC1
内のレチクルRを載置して取出又は収納するためのフォ
ーク状のアーム122と、該アーム122を水平方向に
進退させるとともに上下動させる進退上下動装置123
と、着脱機構121を水平方向に進退させるとともに上
下動も行う着脱機構移動装置124とを備えている。前
記着脱機構121は、先端部にレチクル収納ケースC1
のラッチ解除穴10aに差し込まれるキーとして回転可
能な操作部121aが一対設けられている。
The reticle library 110 holds the reticle storage cases C1 in a stacked manner such that the side doors 9 are aligned in the same direction.
It is held immovable in the up-down direction by the support 110a. However, it can be moved in the horizontal direction for attachment and detachment. The reticle transport system 120 includes a reticle storage case C1.
Arm 122 for placing and taking out or storing the reticle R therein, and a reciprocating vertical movement device 123 for moving the arm 122 horizontally and vertically.
And an attachment / detachment mechanism moving device 124 that moves the attachment / detachment mechanism 121 in the horizontal direction and also moves up and down. The attachment / detachment mechanism 121 has a reticle storage case C1
A pair of rotatable operation units 121a are provided as keys inserted into the latch release holes 10a.

【0065】次に、レチクル搬送系120の動作を説明
する。まず、レチクル収納ケースC1の側面ドア9を開
けるときは、着脱機構121を着脱機構移動装置124
で所定のレチクル収納ケースC1の位置まで水平移動お
よび上下動させ、位置合わせした状態でラッチ解除穴1
0aに操作部121aを挿入する。さらに、操作部12
1aを回転させてラッチを解除した後、操作部121a
で側面ドア9を掴んだ状態で、着脱機構移動装置124
により着脱機構121を後退させ側面ドア9をケース本
体12から分離させる。
Next, the operation of the reticle transport system 120 will be described. First, when opening the side door 9 of the reticle storage case C1, the attachment / detachment mechanism 121 is attached to the attachment / detachment mechanism moving device 124.
To move horizontally and up and down to the position of the predetermined reticle storage case C1.
The operation unit 121a is inserted into 0a. Further, the operation unit 12
1a to release the latch by rotating the
With the side door 9 grasped by the user, the detachable mechanism moving device 124
As a result, the attachment / detachment mechanism 121 is retracted, and the side door 9 is separated from the case body 12.

【0066】側面ドア9および着脱機構121をレチク
ルRの搬送の邪魔にならない位置まで待避させたのち、
進退上下動装置123によってアーム122をケース本
体12内に収納されているレチクルRの下に差し込み、
所定量上昇させてレチクルRを載置する。この状態で、
アーム122を後退させてケース本体12からレチクル
Rを取り出すとともに、レチクルステージRST上にま
で移送して載置する。
After retracting the side door 9 and the attachment / detachment mechanism 121 to a position where they do not hinder the conveyance of the reticle R,
The arm 122 is inserted under the reticle R stored in the case body 12 by the reciprocating device 123,
The reticle R is placed after being raised by a predetermined amount. In this state,
The reticle R is taken out of the case body 12 by retracting the arm 122, and is transferred to and mounted on the reticle stage RST.

【0067】したがって、本実施形態の露光装置では、
レチクル搬送系120がレチクル収納ケースC1を保持
可能なレチクルライブラリ110を備え、さらにレチク
ルライブラリ110で保持されたレチクル収納ケースC
1の側板ドア9を着脱する着脱機構121を備えている
ので、FOUP方式のレチクル収納ケース単位でレチク
ルRの搬送・収納ができ、ミニエンバイロメント方式に
よる搬送系を実現することができる。
Therefore, in the exposure apparatus of this embodiment,
The reticle transport system 120 includes a reticle library 110 capable of holding a reticle storage case C1, and further includes a reticle storage case C held by the reticle library 110.
Since the detachable mechanism 121 for attaching and detaching the first side plate door 9 is provided, the reticle R can be transported and stored in units of the FOUP type reticle storage case, and a transport system using the mini-environment method can be realized.

【0068】なお、本実施形態の露光装置は、図15に
示すように、レチクルライブラリ110または外部から
のケース装填位置等からレチクル収納ケースC1〜C5
を搬送するケース搬送系130を備えている。該ケース
搬送系130は、例えば、レチクル収納ケースC4、C
5を用いて収納状態のレチクルRのIDを読み取る場
合、図15に示すように、レチクル収納ケースC4、C
5をレチクルライブラリ110または外部からのケース
装填位置からID読み取りポジションに搬送する。この
際、レチクル収納ケースC4、C5は、ケース搬送系1
30のケース搬送アーム130a上に搭載された状態と
される(なお、レチクル収納ケースC4、C5を、別の
支持部品で保持してもよい)。そして、ID読み取りポ
ジションにおいて、バーコード検出機構(マーク検出機
構)131によって内部のレチクルRに設けられたバー
コードBが検出されてIDが読み取られる。
As shown in FIG. 15, the exposure apparatus of the present embodiment uses the reticle storage cases C1 to C5 from the reticle library 110 or a case loading position from the outside.
And a case transport system 130 for transporting the. The case transport system 130 includes, for example, reticle storage cases C4 and C4.
When the ID of the reticle R in the stored state is read using the reticle storage case 5, as shown in FIG.
5 is transported from the reticle library 110 or an external case loading position to the ID reading position. At this time, the reticle storage cases C4 and C5
The reticle storage cases C4 and C5 may be held by other support components (see FIG. 3). Then, at the ID reading position, the bar code B provided on the internal reticle R is detected by the bar code detecting mechanism (mark detecting mechanism) 131, and the ID is read.

【0069】前記バーコード検出機構131は、レチク
ル収納ケースC4、C5の下側に配置され窓部材42、
52を介して収納状態のレチクルRのバーコードBを読
み取るIDリーダ132と、該IDリーダ132で読み
取ったバーコードBからIDを解析するデコーダ133
とを備えている。なお、バーコードBをレチクル収納ケ
ースC4、C5の上側から読み取る場合には、IDリー
ダ132をレチクル収納ケースC4、C5の上側に配置
する。
The bar code detection mechanism 131 is disposed below the reticle storage cases C4 and C5,
An ID reader 132 for reading the barcode B of the reticle R in the housed state via the 52, and a decoder 133 for analyzing the ID from the barcode B read by the ID reader 132
And When reading the bar code B from above the reticle storage cases C4 and C5, the ID reader 132 is arranged above the reticle storage cases C4 and C5.

【0070】前記IDリーダ132としては、例えば、
図16に示すように、レーザ光を走査させて反射光を検
出するレーザスキャン方式IDリーダ132Aが採用さ
れる。なお、この場合、IDリーダ132Aの反対側に
白色系の拡散反射面を形成すれば、より検出し易くな
る。例えば、ケース本体41の内面上部41eを白色と
したり、レチクル収納ケースC4、C5の上側に白色の
拡散反射板134を配置しても構わない。
As the ID reader 132, for example,
As shown in FIG. 16, a laser scan type ID reader 132A that scans laser light to detect reflected light is employed. In this case, if a white diffuse reflection surface is formed on the opposite side of the ID reader 132A, the detection becomes easier. For example, the upper part 41e of the inner surface of the case body 41 may be white, or the white diffuse reflection plate 134 may be arranged above the reticle storage cases C4 and C5.

【0071】また、図17に示すように、発光部135
側と受光部136側とに別れたLED方式IDリーダ1
32Bを採用しても構わない。すなわち、レチクル収納
ケースC4、C5の上側に配した発光部135から光を
内部のレチクルRに照射し、その透過光をレチクル収納
ケースC4、C5の下側で窓部材42、52の直下に配
した受光部136で受光してバーコードBを読み取って
も構わない。
Further, as shown in FIG.
LED type ID reader 1 that is separated into the side and the light receiving section 136 side
32B may be adopted. That is, light is emitted from the light emitting unit 135 disposed above the reticle storage cases C4 and C5 to the internal reticle R, and the transmitted light is distributed below the reticle storage cases C4 and C5 and directly below the window members 42 and 52. The bar code B may be read by receiving light with the light receiving unit 136 that has been used.

【0072】さらに、図18に示すように、CCDカメ
ラ132Cを採用しても構わない。この場合、CCD読
み取り可能な明るさがバーコードBの周辺部に必要であ
り、装置内の明るさがCCD読み取りに不足している場
合は、レチクル収納ケースC4、C5の上側から内部の
レチクルRを照明する発光体137を用いても構わな
い。そして、CCDカメラ132Cとは反対側に白色系
の背景が必要であれば、図19に示すように、レーザス
キャン方式と同様に、ケース本体41の内面上部41e
を白色としたり、レチクル収納ケースC4、C5の上側
に白色の拡散反射板134を配置しても構わない。その
際に、さらに明るさが必要であれば、周囲を照らす発光
体137をCCDカメラ132C側に設置してもよい。
Further, as shown in FIG. 18, a CCD camera 132C may be employed. In this case, the brightness that can be read by the CCD is required around the bar code B, and when the brightness in the apparatus is insufficient for reading the CCD, the reticle R inside the reticle storage cases C4 and C5 is May be used. Then, if a white background is required on the opposite side of the CCD camera 132C, as shown in FIG.
May be white, or a white diffuse reflector 134 may be arranged above the reticle storage cases C4 and C5. At that time, if further brightness is required, a light-emitting body 137 for illuminating the surroundings may be provided on the CCD camera 132C side.

【0073】なお、本発明は、次のような実施形態をも
含むものである。 (1)上記各実施形態では、レチクルRを収納するケー
スおよびこれを用いた露光装置として本発明を適用した
が、他の基板、例えば、半導体ウエハ、マスク等を収納
する基板収納ケース(ウエハケース等)およびこれを用
いた露光装置に採用しても構わない。なお、第4実施形
態および第5実施形態では、FOUP方式の基板収納ケ
ースC4、C5に適用したが、他の方式、例えばSMI
F方式やヒンジ方式に適用しても構わない。
The present invention includes the following embodiments. (1) In each of the above embodiments, the present invention is applied to the case for accommodating the reticle R and the exposure apparatus using the same. However, the substrate accommodating case (wafer case) for accommodating another substrate, for example, a semiconductor wafer, a mask or the like. Etc.) and an exposure apparatus using the same. In the fourth and fifth embodiments, the present invention is applied to the FOUP type substrate storage cases C4 and C5.
The present invention may be applied to the F type or the hinge type.

【0074】(2)第2実施形態の別の例として、本体
側押さえバネ24aを除いたものでも構わないが、この
場合、側面ドア9と対向する内側面に直接レチクルRの
周縁部が接触するため、レチクルRの上下移動によって
擦れが生じてしまいパーティクルが発生するおそれもあ
り、本体側押さえバネを備えることが好ましい。 (3)第3実施形態では、開口部31aをケース本体3
1の一側面に形成したが、他の面に形成してもよく、2
以上の面に設けても構わない。この場合、通気性が向上
することは言うまでもない。
(2) As another example of the second embodiment, the body-side pressing spring 24a may be omitted, but in this case, the peripheral edge of the reticle R directly contacts the inner surface facing the side door 9. Therefore, the reticle R may be rubbed by the vertical movement of the reticle R to generate particles. Therefore, it is preferable to provide a body-side pressing spring. (3) In the third embodiment, the opening 31a is
Although formed on one side, it may be formed on another side.
It may be provided on the above surface. In this case, it goes without saying that the air permeability is improved.

【0075】(4)上記実施形態の露光装置として、投
影光学系を用いることなくレチクルの代わりにマスクと
基板とを密接させてマスクのパターンを露光するプロキ
シミティ露光装置にも適用することができる。 (5)露光装置の用途としては半導体製造用の露光装置
に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレート
に液晶表示素子パターンを露光する液晶用の露光装置
や、薄膜磁気ヘッドを製造するための露光装置にも広く
適用できる。
(4) The exposure apparatus of the above embodiment can be applied to a proximity exposure apparatus that exposes a mask pattern by bringing a mask and a substrate into close contact instead of a reticle without using a projection optical system. . (5) The application of the exposure apparatus is not limited to an exposure apparatus for manufacturing a semiconductor, and for example, manufactures an exposure apparatus for a liquid crystal for exposing a liquid crystal display element pattern on a square glass plate and a thin film magnetic head. Can be widely applied to an exposure apparatus for the purpose.

【0076】(6)本実施形態の露光装置の光源は、g
線(436nm)、i線(365nm)、KrFエキシ
マレーザ(248nm)、ArFエキシマレーザ(19
3nm)、F2レーザ(157nm)のみならず、X線
や電子線などの荷電粒子線を用いることができる。例え
ば、電子線を用いる場合には電子銃として熱電子放射型
のランタンヘキサボライト(LaB6)、タンタル(Ta)
を用いることができる。 (7)投影光学系の倍率は縮小系のみならず等倍および
拡大系のいずれでもいい。
(6) The light source of the exposure apparatus of this embodiment is g
Line (436 nm), i-line (365 nm), KrF excimer laser (248 nm), ArF excimer laser (19
3 nm) and F2 laser (157 nm), as well as charged particle beams such as X-rays and electron beams. For example, when an electron beam is used, thermionic emission type lanthanum hexaborite (LaB6) or tantalum (Ta) is used as an electron gun.
Can be used. (7) The magnification of the projection optical system may be not only a reduction system but also any one of an equal magnification and an enlargement system.

【0077】(8)投影光学系としては、エキシマレー
ザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石
などの遠紫外線を透過する材料を用い、F2レーザやX
線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にし
(レチクルも反射型タイプのものを用いる)、また、電
子線を用いる場合には光学系として電子レンズおよび偏
向器からなる電子光学系を用いればいい。なお、電子線
が通過する光路は真空状態にすることはいうまでもな
い。
(8) When far ultraviolet rays such as an excimer laser are used as the projection optical system, a material that transmits the far ultraviolet rays such as quartz or fluorite is used as the glass material.
When a line is used, a catadioptric or refraction type optical system is used (use a reticle of a reflection type). When an electron beam is used, an electron optical system including an electron lens and a deflector is used as the optical system. You can use it. It goes without saying that the optical path through which the electron beam passes is in a vacuum state.

【0078】(9)ウエハステージやレチクルステージ
にリニアモータ(USP5,623,853またはUSP5,528,118参
照)を用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上
型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁
気浮上型のどちらを用いてもいい。また、ステージは、
ガイドに沿って移動するタイプでもいいし、ガイドを設
けないガイドレスタイプでもいい。
(9) When a linear motor (see US Pat. No. 5,623,853 or US Pat. No. 5,528,118) is used for a wafer stage or a reticle stage, an air levitation type using an air bearing and a magnetic levitation type using Lorentz force or reactance force are used. Either may be used. Also, the stage
A type that moves along a guide or a guideless type that does not have a guide may be used.

【0079】(10)ウエハステージの移動により発生
する反力は、(USP5,528,118に記載されているよう
に、)フレーム部材を用いて機械的に床(大地)に逃が
してもいい。 (11)レチクルステージの移動により発生する反力
は、(US S/N 416558に記載されているように、)フレ
ーム部材を用いて機械的に床(大地)に逃がしてもい
い。
(10) The reaction force generated by the movement of the wafer stage may be mechanically released to the floor (ground) using a frame member (as described in US Pat. No. 5,528,118). (11) The reaction force generated by the movement of the reticle stage may be mechanically released to the floor (ground) using a frame member (as described in US S / N 416558).

【0080】(12)複数のレンズから構成される照明
光学系、投影光学系を露光装置本体に組み込み光学調整
をするとともに、多数の機械部品からなるレチクルステ
ージやウエハステージを露光装置本体に取り付けて配線
や配管を接続し、更に総合調整(電気調整、動作確認
等)をすることにより本実施形態の露光装置を製造する
ことができる。なお、露光装置の製造は温度およびクリ
ーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ま
しい。
(12) The illumination optical system and the projection optical system composed of a plurality of lenses are incorporated into the main body of the exposure apparatus for optical adjustment, and a reticle stage or a wafer stage composed of many mechanical parts is mounted on the main body of the exposure apparatus. The exposure apparatus of the present embodiment can be manufactured by connecting wirings and pipes and performing overall adjustment (electrical adjustment, operation confirmation, and the like). It is desirable that the manufacture of the exposure apparatus be performed in a clean room in which the temperature, cleanliness, and the like are controlled.

【0081】(13)半導体デバイスは、デバイスの機
能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づ
いたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウ
エハを製作するステップ、前述した実施形態の露光装置
によりレチクルのパターンをウエハに露光するステッ
プ、デバイス組み立てステップ(ダイシング工程、ボン
ディング工程、パッケージ工程を含む)、検査ステップ
等を経て製造される。
(13) For a semiconductor device, a step of designing the function and performance of the device, a step of manufacturing a reticle based on this design step, a step of manufacturing a wafer from a silicon material, and a reticle by the exposure apparatus of the above-described embodiment. The device is manufactured through a step of exposing the pattern to a wafer, a device assembling step (including a dicing step, a bonding step, and a package step), an inspection step, and the like.

【0082】[0082]

【発明の効果】本発明によれば、以下の効果を奏する。 (1)請求項1記載の基板収納ケースによれば、保持機
構が、側板をケース本体に押し付けて取り付けた際に側
板の押圧力で基板をケース本体に押し付けて保持する押
圧部を備えているので、FOUP方式でも側板をケース
本体に着脱するだけで収納基板の保持およびその解放を
容易に行うことができる。
According to the present invention, the following effects can be obtained. (1) According to the substrate storage case of the first aspect, the holding mechanism includes a pressing portion that presses and holds the substrate against the case main body with the pressing force of the side plate when the side plate is mounted on the case main body by pressing. Therefore, even in the FOUP system, the holding and release of the storage board can be easily performed only by attaching and detaching the side plate to and from the case body.

【0083】(2)請求項2記載の基板収納ケースによ
れば、保持機構が、取付状態の側板の内面に当接可能に
配され側板の着脱方向に移動可能な当接部を備え、押圧
部が、当接部の移動に連動して基板の厚さ方向に移動可
能に当接部に接続され側板を取り付けた状態で基板の上
面を押さえつけるので、側板を取り付けるだけで容易に
基板をその上面から押さえることができ、ケース内に載
置した状態のまま確実に保持することができる。
(2) According to the substrate storage case of the second aspect, the holding mechanism is provided with a contact portion which is disposed so as to be in contact with the inner surface of the mounted side plate and is movable in the attaching / detaching direction of the side plate. The part is connected to the contact part so that it can move in the thickness direction of the board in conjunction with the movement of the contact part and presses the top surface of the board with the side plate attached. It can be held down from the upper surface, and can be securely held in a state of being placed in the case.

【0084】(3)請求項3記載の基板収納ケースによ
れば、押圧部の基板に接触する部分が樹脂材料で形成さ
れているので、基板を保持する際に基板に損傷を与え難
くすることができる。
According to the third aspect of the present invention, since the portion of the pressing portion that contacts the substrate is formed of a resin material, it is difficult to damage the substrate when holding the substrate. Can be.

【0085】(4)請求項4記載の基板収納ケースによ
れば、押圧部の基板に接触する部分が基板の表面に沿っ
て回転可能な回転体で形成されているので、基板を保持
する際に回転体が回転することにより基板表面が擦られ
ることがなくなり、損傷をさらに低減することができる
とともにパーティクルの発生を抑えることができる。
(4) According to the substrate storage case of the fourth aspect, the portion of the pressing portion that contacts the substrate is formed by a rotating body that is rotatable along the surface of the substrate. By rotating the rotating body, the substrate surface is not rubbed, so that damage can be further reduced and generation of particles can be suppressed.

【0086】(5)請求項5記載の基板収納ケースによ
れば、押圧部の全体が弾性体で形成されているので、基
板を保持する際に、押圧部全体が撓んでこの弾力性をも
って基板を押さえることができる。
(5) According to the fifth aspect of the present invention, since the entire pressing portion is formed of an elastic body, when the substrate is held, the entire pressing portion bends and the substrate has this elasticity. Can be held down.

【0087】(6)請求項6記載の基板収納ケースによ
れば、保持機構が、側板の内面に設けられ先端に押圧部
を有して着脱方向に付勢可能な付勢部材を備え、該付勢
部材が、側板を取り付けた状態で基板の周縁部に押圧部
を当接させ、基板を側板の取付方向に付勢するので、基
板を押さえる方向と側板を取り付ける方向とが同じにな
り、より簡易な構成で実現可能になるとともに、基板表
面に触れることなく基板を保持することができる。
(6) According to the substrate storage case of the sixth aspect, the holding mechanism is provided with an urging member provided on the inner surface of the side plate and having a pressing portion at the tip and capable of urging in the attaching / detaching direction. The urging member makes the pressing portion abut the peripheral portion of the substrate in a state where the side plate is attached, and urges the substrate in the attaching direction of the side plate, so that the direction in which the substrate is pressed and the direction in which the side plate is attached are the same, This can be realized with a simpler configuration, and the substrate can be held without touching the substrate surface.

【0088】(7)請求項7記載の基板収納ケースによ
れば、ケース本体を構成する少なくとも一面には、通気
性を有した防塵フィルター材でカバーされた開口部が設
けられているので、クリーン度の悪い周囲環境のパーテ
ィクルが内部に侵入することを防止できるとともにケー
ス本体内で発生した脱ガスを、防塵フィルターを介して
開口部から外部に排出させることができ、収納基板への
脱ガスの影響を低減することができる。
(7) According to the substrate storage case of the seventh aspect, at least one surface constituting the case main body is provided with an opening covered with a permeable dustproof filter material, so that the case is clean. In addition, it is possible to prevent particles in the surrounding environment from entering the inside of the case and prevent degassing generated inside the case body from the opening through the dustproof filter. The effect can be reduced.

【0089】(8)請求項8記載の基板収納ケースによ
れば、防塵フィルター材が交換可能に取り付けられてい
るので、フィルター材の状態に応じて適宜交換すれば、
良好な通気性および防塵性を常に得ることができる。
(8) According to the substrate storage case according to the eighth aspect, since the dustproof filter material is replaceably mounted, if it is appropriately replaced according to the state of the filter material,
Good air permeability and dust resistance can always be obtained.

【0090】(9)請求項9記載の露光装置によれば、
基板搬送系が、請求項1から8のいずれかに記載の基板
収納ケースを保持可能なケース保持機構を備えているの
で、基板収納ケース単位で基板の搬送・収納ができ、ミ
ニエンバイロメント方式による搬送系を実現することが
できる。
(9) According to the exposure apparatus of the ninth aspect,
Since the substrate transport system is provided with a case holding mechanism capable of holding the substrate storage case according to any one of claims 1 to 8, the substrate can be transported and stored in units of the substrate storage case, and a mini environment method is used. A transport system can be realized.

【0091】(10)請求項10記載の露光装置によれ
ば、基板搬送系が、ケース保持機構で保持された基板収
納ケースの側板を着脱する着脱機構を備えているので、
FOUP方式の基板収納ケースの取扱いが容易になり、
基板の搬送・収納の自動化が可能となる。
(10) According to the exposure apparatus of the tenth aspect, since the substrate transport system is provided with the attaching / detaching mechanism for attaching / detaching the side plate of the substrate storage case held by the case holding mechanism,
FOUP type substrate storage case is easy to handle,
It becomes possible to automate the transfer and storage of the substrate.

【0092】(11)請求項11記載の基板収納ケース
によれば、収納された基板のマークを外部から読み取り
可能にする透明な窓部が設けられているので、たとえ非
透明または半透明なケース本体でも少なくとも窓部は透
明であるので、該窓部を介してバーコード等のマークを
外部から容易に読み取ることができる。
(11) According to the substrate storage case of the eleventh aspect, since the transparent window portion is provided so that the mark of the stored substrate can be read from the outside, the non-transparent or translucent case is provided. Since at least the window portion of the main body is transparent, a mark such as a barcode can be easily read from the outside through the window portion.

【0093】(12)請求項12記載の基板収納ケース
によれば、前記窓部が着脱可能であるので、使用によっ
て透明度が低下して読み取りができなくなっても、窓部
のみを容易に交換できて読み取り可能にできるため、高
価なケースの使用可能期間を延ばすことができるととも
に、設備、人件費等のコストダウンに貢献することがで
きる。
(12) According to the twelfth aspect of the present invention, since the window is detachable, even if the transparency is reduced due to use and reading becomes impossible, only the window can be easily replaced. As a result, it is possible to extend the usable period of expensive cases and to contribute to cost reduction of equipment and labor costs.

【0094】(13)請求項13記載の露光装置によれ
ば、ケース搬送系で搬送される請求項11または12に
記載の基板収納ケースの外部から窓部を介して基板のマ
ークを読み取るマーク検出機構を備えているので、基板
収納ケースを搬送する際に、マーク検出機構によって基
板を取り出さずにマークを確実に読み取ることができ
る。
(13) According to the exposure apparatus of the thirteenth aspect, mark detection for reading the mark of the substrate through the window from outside of the substrate storage case according to the eleventh or twelfth aspect, wherein the mark is transported by the case transport system. Since the mechanism is provided, the mark can be reliably read without removing the substrate by the mark detection mechanism when transporting the substrate storage case.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に係る基板収納ケースの第1実施形態
を示す側面図およびそのA−A線矢視断面図である。
FIG. 1 is a side view showing a first embodiment of a substrate storage case according to the present invention, and a cross-sectional view taken along line AA of FIG.

【図2】 本発明に係る基板収納ケースの第1実施形態
において、側面ドアの取付後の状態を示す断面図および
側面図である。
FIGS. 2A and 2B are a cross-sectional view and a side view showing a state after mounting a side door in the first embodiment of the board storage case according to the present invention.

【図3】 本発明に係る基板収納ケースの第1実施形態
において、側面ドアの取付前の状態を示す断面図および
側面図である。
3A and 3B are a cross-sectional view and a side view showing a state before mounting a side door in the first embodiment of the board storage case according to the present invention.

【図4】 本発明に係る基板収納ケースの第2実施形態
において、側面ドアの取付前の状態を示す断面図であ
る。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state before mounting a side door in a second embodiment of the substrate storage case according to the present invention.

【図5】 本発明に係る基板収納ケースの第2実施形態
において、側面ドアの取付後の状態を示す断面図であ
る。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a state after mounting a side door in the second embodiment of the board storage case according to the present invention.

【図6】 本発明に係る基板収納ケースの第3実施形態
を示す斜視図である。
FIG. 6 is a perspective view showing a third embodiment of the substrate storage case according to the present invention.

【図7】 図6のB−B線矢視断面図である。FIG. 7 is a sectional view taken along line BB of FIG. 6;

【図8】 本発明に係る基板収納ケースの第4実施形態
を示す断面図である。
FIG. 8 is a sectional view showing a fourth embodiment of the substrate storage case according to the present invention.

【図9】 本発明に係る基板収納ケースの第2実施形態
を用いた場合において、ID読み取り手段を示す断面図
である。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing an ID reading unit when the second embodiment of the substrate storage case according to the present invention is used.

【図10】 本発明に係る基板収納ケースの第2実施形
態を用いた場合において、ID読み取り手段の他の例を
示す断面図である。
FIG. 10 is a cross-sectional view showing another example of the ID reading means when the second embodiment of the substrate storage case according to the present invention is used.

【図11】 本発明に係る基板収納ケースの第4実施形
態における他の例を示す断面図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view showing another example of the fourth embodiment of the substrate storage case according to the present invention.

【図12】 本発明に係る基板収納ケースの第4実施形
態を示す要部の断面図である。
FIG. 12 is a sectional view of a main part showing a fourth embodiment of the substrate storage case according to the present invention.

【図13】 本発明に係る基板収納ケースを用いた露光
装置の一実施形態を示す全体構成図である。
FIG. 13 is an overall configuration diagram showing an embodiment of an exposure apparatus using a substrate storage case according to the present invention.

【図14】 本発明に係る基板収納ケースを用いた露光
装置の一実施形態におけるレチクルライブラリおよびレ
チクル搬送系を示す要部の斜視図である。
FIG. 14 is a perspective view of a main part showing a reticle library and a reticle transport system in an embodiment of an exposure apparatus using a substrate storage case according to the present invention.

【図15】 本発明に係る基板収納ケースの第4および
第5実施形態において、ID読み取り手段を示す断面図
である。
FIG. 15 is a sectional view showing an ID reading unit in the fourth and fifth embodiments of the substrate storage case according to the present invention.

【図16】 本発明に係る基板収納ケースの第4および
第5実施形態において、レーザスキャン方式のID読み
取り手段を示す断面図である。
FIG. 16 is a sectional view showing a laser scanning type ID reading means in the fourth and fifth embodiments of the substrate storage case according to the present invention.

【図17】 本発明に係る基板収納ケースの第4および
第5実施形態において、LED方式のID読み取り手段
を示す断面図である。
FIG. 17 is a cross-sectional view showing an LED type ID reading means in the fourth and fifth embodiments of the substrate storage case according to the present invention.

【図18】 本発明に係る基板収納ケースの第4および
第5実施形態において、CCD方式のID読み取り手段
を示す断面図である。
FIG. 18 is a cross-sectional view showing a CCD type ID reading means in the fourth and fifth embodiments of the substrate storage case according to the present invention.

【図19】 本発明に係る基板収納ケースの第4および
第5実施形態において、CCD方式のID読み取り手段
における他の例を示す断面図である。
FIG. 19 is a sectional view showing another example of the CCD type ID reading means in the fourth and fifth embodiments of the substrate storage case according to the present invention.

【図20】 本発明に係る基板収納ケースの従来例にお
いて、レチクル保持前後の状態を示す断面図である。
FIG. 20 is a sectional view showing a state before and after holding a reticle in a conventional example of a substrate storage case according to the present invention.

【図21】 本発明に係る基板収納ケースの従来例にお
いて、レチクル保持前後の状態を示す断面図である。
FIG. 21 is a cross-sectional view showing a state before and after holding a reticle in a conventional example of a substrate storage case according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

9、22 側面ドア(側板) 12、24、31、41 ケース本体 13、21 保持機構 14 レチクル押さえ支持部材(押圧部) 14c レチクル側回転体(回転体) 15 ドア接触部材(当接部) 23 ドア側押さえバネ(押圧部、付勢部材) 32 防塵フィルター材 31a 開口部 42、52 窓部材(窓部) 110 レチクルライブラリ(ケース保持機構) 120 レチクル搬送系(基板搬送系) 121 着脱機構 131 バーコード検出機構(マーク検出機構) C1、C2、C3、C4、C5 レチクル収納ケース B バーコード(マーク) R レチクル(基板) 9, 22 Side door (side plate) 12, 24, 31, 41 Case body 13, 21 Holding mechanism 14 Reticle holding support member (pressing portion) 14c Reticle side rotating body (rotating body) 15 Door contact member (contact portion) 23 Door-side pressing spring (pressing portion, biasing member) 32 Dustproof filter material 31a Opening 42, 52 Window member (window) 110 Reticle library (case holding mechanism) 120 Reticle transport system (substrate transport system) 121 Removable mechanism 131 Bar Code detection mechanism (mark detection mechanism) C1, C2, C3, C4, C5 Reticle storage case B Barcode (mark) R Reticle (substrate)

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 内部に基板を保持して収納する基板収納
ケースであって、 着脱可能な側板を有するケース本体と、 該ケース本体内に設けられ前記基板を保持する保持機構
とを備え、 該保持機構は、前記側板を前記ケース本体に押し付けて
取り付けた際に側板の押圧力で前記基板をケース本体に
押し付けて保持する押圧部を備えていることを特徴とす
る基板収納ケース。
1. A substrate storage case for holding and storing a substrate therein, comprising: a case main body having a detachable side plate; and a holding mechanism provided in the case main body for holding the substrate. The holding mechanism includes a pressing portion that presses and holds the substrate against the case body with a pressing force of the side plate when the side plate is pressed against the case main body and attached.
【請求項2】 前記保持機構は、取付状態の前記側板の
内面に当接可能に配され側板の着脱方向に移動可能な当
接部を備え、 前記押圧部は、前記当接部の移動に連動して前記基板の
厚さ方向に移動可能に当接部に接続され、側板を取り付
けた状態で基板の上面を押さえつけることを特徴とする
請求項1記載の基板収納ケース。
2. The holding mechanism includes a contact portion disposed so as to be in contact with an inner surface of the side plate in a mounted state and movable in a mounting / removing direction of the side plate, wherein the pressing portion is configured to move the contact portion. 2. The substrate storage case according to claim 1, wherein the substrate storage case is connected to the contact portion so as to be movable in the thickness direction of the substrate in conjunction therewith, and presses the upper surface of the substrate with the side plate attached.
【請求項3】 前記押圧部は、前記基板に接触する部分
が樹脂材料で形成されていることを特徴とする請求項2
記載の基板収納ケース。
3. The pressing portion, wherein a portion of the pressing portion that contacts the substrate is formed of a resin material.
The board storage case described.
【請求項4】 前記押圧部は、前記基板に接触する部分
が基板の表面に沿って回転可能な回転体で形成されてい
ることを特徴とする請求項2または3記載の基板収納ケ
ース。
4. The substrate storage case according to claim 2, wherein a portion of the pressing portion that contacts the substrate is formed of a rotating body that is rotatable along a surface of the substrate.
【請求項5】 前記押圧部は、全体が弾性体で形成され
ていることを特徴とする請求項2から4のいずれかに記
載の基板収納ケース。
5. The substrate storage case according to claim 2, wherein the pressing portion is entirely formed of an elastic body.
【請求項6】 前記保持機構は、前記側板の内面に設け
られ先端に前記押圧部を有して着脱方向に付勢可能な付
勢部材を備え、 該付勢部材は、前記側板を取り付けた状態で前記基板の
周縁部に前記押圧部を当接させ、基板を側板の取付方向
に付勢することを特徴とする請求項1記載の基板収納ケ
ース。
6. The holding mechanism includes an urging member provided on an inner surface of the side plate, the urging member having the pressing portion at a tip thereof and capable of urging in a detaching direction, and the urging member has the side plate attached thereto. 2. The substrate storage case according to claim 1, wherein the pressing portion is brought into contact with a peripheral portion of the substrate in the state, and the substrate is urged in a mounting direction of the side plate.
【請求項7】 内部に基板を保持して収納する基板収納
ケースであって、 着脱可能な側板を有するケース本体と、 該ケース本体内に設けられ前記基板を保持する保持機構
とを備え、 前記ケース本体を構成する少なくとも一面には、通気性
を有した防塵フィルター材でカバーされた開口部が設け
られていることを特徴とする基板収納ケース。
7. A substrate storage case for holding and storing a substrate therein, comprising: a case main body having a detachable side plate; and a holding mechanism provided in the case main body for holding the substrate. A substrate storage case, wherein at least one surface of a case main body is provided with an opening covered with a dustproof filter material having air permeability.
【請求項8】 前記防塵フィルター材は、交換可能に取
り付けられていることを特徴とする請求項7記載の基板
収納ケース。
8. The substrate storage case according to claim 7, wherein the dustproof filter member is exchangeably mounted.
【請求項9】 基板を内部に搬送する基板搬送系を備え
た露光装置において、 前記基板搬送系は、請求項1から8のいずれかに記載の
基板収納ケースを保持可能なケース保持機構を備えてい
ることを特徴とする露光装置。
9. An exposure apparatus including a substrate transport system for transporting a substrate therein, wherein the substrate transport system includes a case holding mechanism capable of holding the substrate storage case according to claim 1. An exposure apparatus, comprising:
【請求項10】 前記基板搬送系は、前記ケース保持機
構で保持された前記基板収納ケースの側板を着脱する着
脱機構を備えていることを特徴とする請求項9記載の露
光装置。
10. The exposure apparatus according to claim 9, wherein the substrate transport system includes an attaching / detaching mechanism for attaching / detaching a side plate of the substrate storage case held by the case holding mechanism.
【請求項11】 マークが設けられた基板をケース本体
の内部に保持して収納する基板収納ケースであって、 前記ケース本体には、収納された前記基板のマークを外
部から読み取り可能にする透明な窓部が設けられている
ことを特徴とする基板収納ケース。
11. A substrate storage case for holding and storing a substrate provided with a mark inside a case main body, wherein the case main body has a transparent mark for reading the stored substrate mark from outside. A substrate storage case provided with a transparent window.
【請求項12】 前記窓部は、着脱可能であることを特
徴とする請求項11記載の基板収納ケース。
12. The substrate storage case according to claim 11, wherein the window is detachable.
【請求項13】 請求項11または12に記載の基板収
納ケースを搬送するケース搬送系と、 該ケース搬送系で搬送される前記基板収納ケースの外部
から前記窓部を介して前記基板のマークを読み取るマー
ク検出機構とを備えていることを特徴とする露光装置。
13. A case transport system for transporting the substrate storage case according to claim 11 or 12, wherein a mark on the substrate is transferred from outside of the substrate storage case transported by the case transport system via the window. An exposure apparatus comprising: a mark detection mechanism for reading.
JP11148827A 1999-05-27 1999-05-27 Board storage case, and aligner using the same Withdrawn JP2000340642A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11148827A JP2000340642A (en) 1999-05-27 1999-05-27 Board storage case, and aligner using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11148827A JP2000340642A (en) 1999-05-27 1999-05-27 Board storage case, and aligner using the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000340642A true JP2000340642A (en) 2000-12-08

Family

ID=15461623

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11148827A Withdrawn JP2000340642A (en) 1999-05-27 1999-05-27 Board storage case, and aligner using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000340642A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016058425A (en) * 2014-09-05 2016-04-21 株式会社Screenホールディングス Substrate housing container, load port device and substrate processing apparatus
JP2020528160A (en) * 2017-07-21 2020-09-17 インテグリス・インコーポレーテッド Container with transparent window assembly for holding and transporting reticle
CN111830781A (en) * 2019-04-16 2020-10-27 家登精密工业股份有限公司 Photomask box and clamping piece thereof
JP2021510209A (en) * 2018-10-29 2021-04-15 家登精密工業股▲ふん▼有限公司Gudeng Precision Industrial Co.,Ltd Reticle holding system
US11919680B2 (en) 2020-03-27 2024-03-05 Suzuki Motor Corporation Storage case

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016058425A (en) * 2014-09-05 2016-04-21 株式会社Screenホールディングス Substrate housing container, load port device and substrate processing apparatus
JP2020528160A (en) * 2017-07-21 2020-09-17 インテグリス・インコーポレーテッド Container with transparent window assembly for holding and transporting reticle
US11914287B2 (en) 2017-07-21 2024-02-27 Entegris, Inc. Container for holding and transporting reticles having a transparent window assembly
JP2021510209A (en) * 2018-10-29 2021-04-15 家登精密工業股▲ふん▼有限公司Gudeng Precision Industrial Co.,Ltd Reticle holding system
JP2021167966A (en) * 2018-10-29 2021-10-21 家登精密工業股▲ふん▼有限公司Gudeng Precision Industrial Co., Ltd Reticle retaining system
JP2022051846A (en) * 2018-10-29 2022-04-01 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 Reticle holding system
US11508592B2 (en) 2018-10-29 2022-11-22 Gudeng Precision Industrial Co., Ltd Reticle retaining system
JP7291684B2 (en) 2018-10-29 2023-06-21 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 Reticle holding system
CN111830781A (en) * 2019-04-16 2020-10-27 家登精密工业股份有限公司 Photomask box and clamping piece thereof
CN111830781B (en) * 2019-04-16 2023-10-13 家登精密工业股份有限公司 Photomask box and clamping piece thereof
US11919680B2 (en) 2020-03-27 2024-03-05 Suzuki Motor Corporation Storage case

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4710308B2 (en) Reticle conveying apparatus, exposure apparatus, and reticle conveying method
US7236233B2 (en) Assembly of a reticle holder and a reticle
KR101496076B1 (en) Substrate transfer apparatus, substrate transfer method and exposure apparatus
TWI352880B (en) Lithographic apparatus, device manufacturing metho
US20080024751A1 (en) Reticle holding member, reticle stage, exposure apparatus, projection-exposure method and device manufacturing method
JP5418511B2 (en) Reticle protection apparatus and exposure apparatus
US6762821B2 (en) Gas purge method and exposure apparatus
JPH10172897A (en) Substrate adaptor, substrate holder and method for holding substrate
WO2006030910A1 (en) Substrate for exposure, exposure method and device manufacturing method
TWI620990B (en) Substrate transfer device, substrate transfer method, exposure device, exposure method, and device manufacturing method
WO2006059636A1 (en) Exposure device and device manufacturing method
US20140144805A1 (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20020074635A1 (en) Exposure apparatus, holder container, device manufacturing method, and device manufacturing unit
WO2006006565A1 (en) Exposure equipment and device manufacturing method
US20060197935A1 (en) Processing unit, exposure apparatus having the processing unit, and protection unit
JP2000340642A (en) Board storage case, and aligner using the same
JP2007141925A (en) Mask storage container and aligner
JP2008166616A (en) Cleaning apparatus, cleaning system, pattern forming apparatus, cleaning method, exposure method and device manufacturing method
JP2001244313A (en) Transportation method and transportation apparatus, and exposure method and aligner
JP2001022053A (en) Substrate housing case and exposure device
JP2001201846A (en) Frame member, mask, and aligner
JP2001332600A (en) Carrying method, exposing apparatus
WO1999038207A1 (en) Method and apparatus for detecting wafer
TWI480707B (en) Light source device, exposure device and element production method
EP1531363A1 (en) Reticle holder

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20060801