KR20200068935A - Appratus for inverting substrate - Google Patents

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Abstract

A substrate inverting apparatus is disclosed. According to an embodiment of the present invention, provided is a substrate inverting apparatus for inverting upper and lower surfaces of a substrate, which comprises: a flip chamber into which the substrate enters; an actuator positioned outside a flip chamber and having a working rod linearly reciprocating into the flip chamber; a substrate holder having clampers for clamping or unclamping both ends of the substrate according to the linear reciprocating motion of the working rod; and an inversion driving unit for rotating the substrate holder so that the substrate is inverted.

Description

기판 반전 장치{Appratus for inverting substrate}Substrate inversion device {Appratus for inverting substrate}

본 발명은 기판 반전 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 기판 반전 시 기판을 클램핑하는 클램퍼의 일부를 플립 챔버 외측에 배치하여 장비 구성을 단순화함으로써 제작 비용을 절감할 수 있는 기판 반전 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate inversion device. More specifically, the present invention relates to a substrate reversing device capable of reducing manufacturing cost by simplifying equipment configuration by arranging a part of a clamper for clamping a substrate when flipping the substrate outside the flip chamber.

최근 디스플레이 소자로 액정 표시 소자(Liquid Crystal Display, LCD), 플라즈마 디스플레이 소자(Plasma Display Panel, PDP), 유기 발광 소자(Organic Light Emitting Diodes, OLED) 등 평판 표시 소자(Flat Panel Display)가 널리 이용되고 있다. 이러한 평판 표지 소자는 유리기판에 일정 패턴으로 금속박막이나 유기박막을 증착하는 증착공정 등의 일련의 공정을 진행하여 제조된다.Recently, flat panel displays such as liquid crystal display (LCD), plasma display panel (PDP), and organic light emitting diodes (OLED) are widely used as display devices. have. The flat panel label device is manufactured by performing a series of processes such as a deposition process of depositing a metal thin film or an organic thin film in a predetermined pattern on a glass substrate.

금속박막이나 유기박막의 증착은 진공열증착방법에 의해 이루어질 수 있는데, 진공열증착방법은 진공챔버 내에 기판을 배치하고, 일정 패턴이 형성된 마스크와 기판을 얼라인(align)하고 합착시킨 후, 증발물질이 담겨 있는 증발원에 열을 가하여 증발원에서 승화되는 증발물질을 기판 상에 증착하는 방식으로 이루어진다.The deposition of the metal thin film or the organic thin film may be performed by a vacuum thermal evaporation method. In the vacuum thermal evaporation method, a substrate is disposed in a vacuum chamber, the mask and substrate formed with a certain pattern are aligned and bonded, and then evaporated. It is achieved by applying heat to the evaporation source containing the substance and depositing the evaporation substance sublimating from the evaporation source on the substrate.

기판에 대한 증착 공정이 진행된 이후에는, 증착면 보호를 위한 봉지 공정(Encapsulation process) 등 각종 공정이 이루어진다. 이러한 일련의 공정은 고 진공이 유지되는 챔버 내에서 이루어지는데 각종 공정의 효율적 처리를 위하여 기판의 상하면을 서로 반전시키는 공정이 필요하다.After the deposition process for the substrate is performed, various processes such as an encapsulation process for protecting the deposition surface are performed. This series of processes is performed in a chamber in which a high vacuum is maintained. In order to efficiently process various processes, a process of inverting the upper and lower surfaces of the substrate is required.

도 1은 종래 기술에 따른 기판 반전 장치의 단면도이다. 도 1을 참조하면, 종래 기술에 따른 기판 반전 장치는, 플립 챔버(12), 피처리대상(C)를 반전시키는 반전 구동부(20)를 포함하는데, 반전 구동부(20)는 다시 피처리대상(C)을 지지하는 홀더(220)와, 홀더(220)와 결합되어 홀더(220)를 반전시켜 홀더(220)에 도입된 피처리대상(C)을 반전시키는 회전축(230)과, 회전축(230)을 회전구동하는 회전유닛(240)과, 반전 전 기판을 클램핑하는 이탈방지유닛(25)을 구비한다.1 is a cross-sectional view of a substrate inversion device according to the prior art. Referring to FIG. 1, the substrate inversion device according to the prior art includes a flip chamber 12 and an inversion driving unit 20 that inverts the object C to be processed. Holder 220 for supporting C), rotation shaft 230 coupled with holder 220 to invert the holder 220 to invert the target object C introduced into holder 220, and rotation shaft 230 ) Is provided with a rotating unit 240 for driving rotation, and a departure preventing unit 25 for clamping the substrate before inversion.

기판의 반전을 위해서는 먼저 이탈방지유닛(25)를 통해 기판을 클램핑을 클램핑하게 되는데, 종래 기술에 따른 기판 반전 장치의 경우 기판을 클램핑하기 위한 이탈방지유닛(25) 등이 플립 챔버 내에 배치되어 반전 시 기판 홀더와 함께 회전되도록 구성되었다.In order to invert the substrate, first, the substrate is clamped through the detachment prevention unit 25. In the case of a substrate inversion device according to the prior art, the detachment prevention unit 25 for clamping the substrate is disposed in the flip chamber and inverted. It was configured to rotate with the Si substrate holder.

이와 같이 기판의 클램핑을 위한 클램퍼 등이 플립 챔버 내에 배치되는 경우, 플립 챔버 사이즈 증가와 함께 내부 배선 연결의 어려워지고 장비 구성이 복잡해지면서 제작 비용이 증가되는 문제가 있다.When a clamper or the like for clamping the substrate is disposed in the flip chamber, there is a problem in that manufacturing cost increases as the size of the flip chamber increases, the internal wiring connection becomes difficult and the equipment configuration becomes complicated.

대한민국 공개특허공보 제10-2015-0100999(2015년 9월 3일 공개)Republic of Korea Patent Publication No. 10-2015-0100999 (released on September 3, 2015)

본 발명은 기판 반전 시 기판을 클램핑하는 클램퍼의 일부를 플립 챔버 외측에 배치하여 장비 구성을 단순화함으로써 제작 비용을 절감할 수 있는 기판 반전 장치를 제공하고자 한다. The present invention is to provide a substrate inversion device that can reduce the manufacturing cost by simplifying the equipment configuration by placing a part of the clamper clamping the substrate when flipping the substrate outside the flip chamber.

본 발명의 일 측면에 따르면, 기판의 상하면을 반전시키는 기판 반전 장치로서, 상기 기판이 내부로 진입되는 플립 챔버(flip chamber)와; 상기 플립 챔버의 외측에 위치하며, 작동 로드가 상기 플립 챔버의 내부로 직선 왕복 운동하는 액추에이터(actuator)와; 상기 작동 로드의 직선 왕복 운동에 따라 상기 기판의 양단부를 각각 클램핑 또는 언클램핑하는 클램퍼를 구비하는 기판 홀더와; 상기 기판이 반전되도록 상기 기판 홀더를 회전시키는 반전 구동부를 포함하는, 기판 반전 장치가 제공된다.According to an aspect of the present invention, a substrate reversing device for reversing the upper and lower surfaces of a substrate, comprising: a flip chamber into which the substrate enters; An actuator located outside the flip chamber, the working rod linearly reciprocating into the flip chamber; A substrate holder having clampers for clamping or unclamping both ends of the substrate according to the linear reciprocating motion of the working rod; A substrate inversion device is provided, which includes an inversion driving unit that rotates the substrate holder so that the substrate is inverted.

상기 반전 구동부는, 상기 플립 챔버의 외측에 위치하되, 모터축이 상기 플립 챔버의 내부로 관통하여 상기 기판 홀더의 일측에 결합되는 회전 모터를 포함할 수 있다.The inversion driving unit may be located outside the flip chamber, and may include a rotating motor through which a motor shaft penetrates into the flip chamber and coupled to one side of the substrate holder.

상기 클램퍼는, 상기 기판 단부의 하면을 지지하는 지지플레이트와; 상기 지지플레이트에 대향하여 상기 기판 단부의 상면을 가압하는 가압플레이트와; 상기 작동 로드의 직선 왕복 이동에 따라 상기 지지플레이트와 상기 가압플레이트를 상대적으로 직선 이동하여 상기 기판 단부를 클램핑 또는 언클램핑하는 링크 유닛을 포함할 수 있다.The clamper includes a support plate supporting a lower surface of the end of the substrate; A pressing plate which opposes the support plate and presses the upper surface of the end of the substrate; And a link unit that clamps or unclamps the end of the substrate by relatively linearly moving the support plate and the pressure plate according to the linear reciprocating movement of the working rod.

상기 링크 유닛은, 일단부가 상기 지지플레이트에 회전가능하게 결합되는 제1 링크부재와; 일단부가 상기 가압플레이트에 회전가능하게 결합되며, 타단부가 상기 제1 링크부재의 타단부에 회전가능하게 결합되는 제2 링크부재와; 상기 제1 링크부재의 타단부와 상기 제2 링크부재의 타단부가 회전가능하게 결합되는 회전축 부재를 포함하되, 상기 작동 로드의 직선 왕복 이동에 따라 상기 회전축 부재가 직선 왕복 이동함에 따라 상기 지지플레이트와 상기 가압플레이트가 상대적으로 이동하여 상기 기판 단부를 클램핑 또는 언클램핑할 수 있다.The link unit includes a first link member having one end rotatably coupled to the support plate; A second link member having one end rotatably coupled to the pressure plate, and the other end rotatably coupled to the other end of the first link member; And a rotation shaft member rotatably coupled to the other end of the first link member and the other end of the second link member, the support plate as the rotation shaft member linearly reciprocates according to the linear reciprocation of the working rod. And the pressure plate can move relatively to clamp or unclamp the end of the substrate.

상기 회전축 부재는, 일단부가 상기 제1 링크부재의 타단부과 상기 제2 링크부재의 타단부 사이에 개재되는 구동 로드와; 상기 제1 링크부재의 타단부, 상기 구동 로드의 일단부 및 상기 제2 링크부재의 타단부가 회전가능하게 관통하는 제1 축부재를 포함할 수 있다.The rotating shaft member may include: a driving rod having one end interposed between the other end of the first link member and the other end of the second link member; The other end of the first link member, one end of the drive rod and the other end of the second link member may include a first shaft member rotatably penetrating.

상기 구동 로드는, 상기 기판 홀더의 회전 시 상기 기판 홀더의 회전 중심과 동일 선상에 위치할 수 있다.The driving rod may be positioned on the same line as the rotation center of the substrate holder when the substrate holder is rotated.

상기 링크 유닛은, 상기 작동 로드의 직선 이동 방향으로 따라 설치되는 가이드 레일과; 상기 작동 로드가 결합되며, 상기 작동 로드의 이동에 따라 상기 가이드 레일을 따라 이동하는 가이드 블록과; 일단부가 상기 가이드 블록에 결합되고 타단부가 상기 구동 로드의 타단부에 회전 가능하게 결합되는 연결 로드를 더 포함할 수 있다.The link unit includes a guide rail installed along the linear movement direction of the working rod; A guide block coupled to the working rod and moving along the guide rail according to the movement of the working rod; One end may be further coupled to the guide block and the other end may further include a connecting rod rotatably coupled to the other end of the drive rod.

상기 링크 유닛은, 상기 제1 링크부재의 일단부가 회전가능하게 결합되는 제2 축부재와; 상기 제2 축부재의 양단부를 각각 지지하며 상기 지지플레이트에 결합되는 제1 결합구와; 상기 제2 링크부재의 일단부가 회전가능하게 결합되는 제3 축부재와; 상기 제3 축부재의 양단부을 각각 지지하며 상기 가압플레이트에 결합되는 제2 결합구를 더 포함할 수 있다.The link unit includes a second shaft member to which one end of the first link member is rotatably coupled; A first coupling hole supporting both ends of the second shaft member and being coupled to the support plate; A third shaft member rotatably coupled to one end of the second link member; Each of the third shaft member supports both ends, and may further include a second coupling hole coupled to the pressure plate.

상기 기판 홀더는, 서로 대향하는 측벽을 포함하는 기판 홀더 프레임과; 상기 지지플레이트와 상기 가압플레이트의 상대적 이동을 가이드하도록 상기 지지플레이트와 상기 가압플레이트를 관통하여 양단부가 상기 기판 홀더 프레임에 결합되는 가이드 로드를 포함할 수 있다.The substrate holder includes: a substrate holder frame including sidewalls facing each other; To guide the relative movement of the support plate and the pressurized plate, a guide rod that penetrates through the support plate and the pressurized plate and has both ends coupled to the substrate holder frame.

상기 지지플레이트와 상기 가압프레이트 중 어느 하나에는 위치 설정 돌기가 형성되고, 나머지 하나에는 상기 위치 설정 돌기가 삽입되는 위치 설정 홈이 형성될 수 있다.Positioning projections may be formed on one of the support plate and the pressing plate, and a positioning groove into which the positioning projection is inserted may be formed on the other one.

상기 기판은 원형 기판을 포함하며, 이 경우, 상기 지지플레이트는, 상기 원형 기판의 호(弧)형 단부에 상응하여 호(형) 지지부를 포함할 수 있다.The substrate includes a circular substrate, and in this case, the support plate may include an arc (shaped) support portion corresponding to an arc-shaped end of the circular substrate.

본 발명의 실시예에 따르면, 기판 반전 시 기판을 클램핑하는 클램퍼의 일부를 플립 챔버 외측에 배치하여 장비 구성을 단순화함으로써 제작 비용을 절감할 수 있다. According to an embodiment of the present invention, a part of the clamper for clamping the substrate when the substrate is inverted is disposed outside the flip chamber to simplify the equipment configuration, thereby reducing manufacturing cost.

도 1은 종래 기술에 따른 기판 반전 장치의 단면도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반전 장치를 도시한 도면.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반전 장치의 내부 구성을 도시한 도면.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반전 장치의 클램퍼를 도시한 도면.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반전 장치의 링크 유닛을 도시한 도면.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반전 장치의 지지플레이트를 도시한 도면.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반전 장치의 지지플레이트의 변형예.1 is a cross-sectional view of a substrate inversion device according to the prior art.
2 is a view showing a substrate inversion device according to an embodiment of the present invention.
3 is a view showing the internal configuration of a substrate inversion device according to an embodiment of the present invention.
4 is a view showing a clamper of a substrate reversing device according to an embodiment of the present invention.
5 is a view showing a link unit of a substrate reversing device according to an embodiment of the present invention.
6 is a view showing a support plate of a substrate reversing device according to an embodiment of the present invention.
7 is a modification of the support plate of the substrate reversing device according to an embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.The present invention can be applied to a variety of transformations and may have various embodiments, and specific embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description. However, this is not intended to limit the present invention to specific embodiments, and should be understood to include all conversions, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. In the description of the present invention, if it is determined that a detailed description of known technologies related to the present invention may obscure the subject matter of the present invention, the detailed description will be omitted.

제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.Terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from other components.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함한다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.Terms used in the present application are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In this application, terms such as “comprises” or “have” are intended to indicate that a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification exists, and that one or more other features are present. It should be understood that the existence or addition possibilities of fields or numbers, steps, operations, components, parts or combinations thereof are not excluded in advance.

이하, 본 발명에 따른 기판 반전 장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부한 도면을 참조하여 설명함에 있어서, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, the substrate inversion device according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, and in describing with reference to the accompanying drawings, identical or corresponding components are assigned the same reference numbers and overlapped descriptions thereof. Will be omitted.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반전 장치를 도시한 도면이다. 그리고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반전 장치의 내부 구성을 도시한 도면이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반전 장치의 클램퍼를 도시한 도면이며, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반전 장치의 링크 유닛을 도시한 도면이다. 그리고, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반전 장치의 지지플레이트를 도시한 도면이고, 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반전 장치의 지지플레이트의 변형예이다.2 is a view showing a substrate inversion device according to an embodiment of the present invention. And, Figure 3 is a view showing the internal configuration of a substrate reversing device according to an embodiment of the present invention, Figure 4 is a view showing a clamper of a substrate reversing device according to an embodiment of the present invention, Figure 5 is This is a view showing a link unit of a substrate inversion device according to an embodiment of the present invention. And, Figure 6 is a view showing a support plate of a substrate reversing device according to an embodiment of the present invention, Figure 7 is a modification of the support plate of a substrate reversing device according to an embodiment of the present invention.

도 2 내지 도 7에는, 기판(10), 플립 챔버(12), 액추에이터(14), 기판 홀더(16), 반전 구동부(18), 클램퍼(20), 작동 로드(22), 링크 유닛(24), 제1 링크부재(26), 제2 링크부재(28), 구동 로드(30), 제1 축부재(32), 제2 축부재(34), 제1 결합구(35), 제3 축부재(36), 제2 결합구(37), 회전축 부재(38), 기판 홀더 프레임(40), 가압플레이트(42), 지지플레이트(44, 44'), 직선형 지지부(45), 회전 모터(46), 모터축(48), 가이드 로드(50), 위치 설정 돌기(52), 위치 설정 홈(54), 가이드 레일(56), 가이드 블록(58), 연결 로드(60), 호형 지지부(62), 원형 기판(10')이 도시되어 있다.2 to 7, the substrate 10, the flip chamber 12, the actuator 14, the substrate holder 16, the inverting drive 18, the clamper 20, the operation rod 22, the link unit 24 ), the first link member 26, the second link member 28, the driving rod 30, the first shaft member 32, the second shaft member 34, the first coupling hole 35, the third Shaft member 36, second fitting 37, rotating shaft member 38, substrate holder frame 40, pressure plate 42, support plates 44, 44', linear support 45, rotary motor (46), motor shaft (48), guide rod (50), positioning projection (52), positioning groove (54), guide rail (56), guide block (58), connecting rod (60), arc support 62, a circular substrate 10' is shown.

본 실시예에 따른 기판 반전 장치는, 기판(10)의 상하면을 반전시키는 기판 반전 장치로서, 기판(10)이 내부로 진입되는 플립 챔버(12)(flip chamber)와; 플립 챔버(12)의 외측에 위치하며, 작동 로드(22)가 플립 챔버(12)의 내부로 직선 왕복 운동하는 액추에이터(14)(actuator)(14)와; 작동 로드(22)의 직선 왕복 운동에 따라 기판(10)의 양단부를 각각 클램핑 또는 언클램핑하는 클램퍼(20)를 구비하는 기판 홀더(16)와; 기판(10)이 반전되도록 기판 홀더(16)를 회전시키는 반전 구동부(18)를 포함한다.The substrate reversing apparatus according to the present embodiment is a substrate reversing apparatus for reversing the upper and lower surfaces of the substrate 10, comprising: a flip chamber 12 into which the substrate 10 enters; An actuator (14) located on the outside of the flip chamber (12), the operating rod (22) linearly reciprocating into the interior of the flip chamber (12); A substrate holder 16 having clampers 20 for clamping or unclamping both ends of the substrate 10 according to the linear reciprocating motion of the operation rod 22; It includes an inversion driving unit 18 for rotating the substrate holder 16 so that the substrate 10 is inverted.

기판(10)을 클램핑하기 위한 클램퍼(20)의 일부 구성인 액추에이터(14)를 플립 챔버(12)의 외부에 배치함으로써 플립 챔버(12) 내부의 장비 구성을 단순화할 수 있다.The arrangement of the equipment inside the flip chamber 12 can be simplified by arranging the actuator 14, which is a part of the clamper 20 for clamping the substrate 10, outside the flip chamber 12.

진공열증착방법에 의하여 유기 박막이나 금속 박막을 형성하기 위한 장비 시스템으로 클러스터형 증착 시스템이나 인라인 증착 시스템이 적용되고 있는데, 클러스터형 증착 시스템은 여러 유기박막을 형성하기 위하여 복수의 공정 챔버를 클러스터형으로 만들어서 기판에 대한 유기박막을 증착하는 방식이며, 인라인 증착 시스템은 복수의 공정 챔버를 일렬로 배열한 상태에서 복수의 기판을 셔틀에 각각 장착하여 연속적으로 이송시키면서 증착 공정을 수행하는 것이다. A cluster type deposition system or an inline deposition system is applied as an equipment system for forming an organic thin film or a metal thin film by a vacuum thermal vapor deposition method. The clustered deposition system is a substrate by forming a plurality of process chambers in a cluster type to form several organic thin films. It is a method of depositing an organic thin film for, and the inline deposition system is to perform a deposition process while continuously transporting a plurality of substrates, each being mounted on a shuttle in a state in which a plurality of process chambers are arranged in a line.

본 실시예 따른 기판 반전 장치가 진공열증착을 위한 증착 시스템에 적용되는 경우, 여러 공정을 수행하는 클러스터형 증착 시스템이나 인라인 증착 시스템의 공정 챔버 사이에 배치되어 공정의 필요에 따라 기판의 상하면을 서로 반전시켜 기판을 다른 공정 챔버로 이송할 수 있다. When the substrate reversal device according to the present embodiment is applied to a deposition system for vacuum thermal deposition, it is disposed between process chambers of a clustered deposition system or an inline deposition system that performs multiple processes to invert the upper and lower surfaces of the substrate according to the needs of the process The substrate can then be transferred to another process chamber.

이러한 진공열증착방법은 고 진공의 공정 챔버 내에서 진행되기 때문에 구성 장치 들이 공정 챔버 내에 배치되는 경우가 많은데, 이 경우 공정 챔버 내부의 장치 구성의 복잡을 초래하게 된다. Since such a vacuum thermal vapor deposition method is performed in a high vacuum process chamber, component devices are often disposed in the process chamber, which results in the complexity of the device configuration inside the process chamber.

본 실시예에서는 플립 챔버(12) 내부에 배치되는 클램퍼(20) 중 액추에이터(14)를 플립 챔버(12)의 외측에 배치함으로써 장치 구성의 단순화를 꾀할 수 있다.In the present embodiment, the arrangement of the device can be simplified by arranging the actuator 14 among the clampers 20 disposed inside the flip chamber 12 outside the flip chamber 12.

플립 챔버(12)(flip chamber)는, 반전 대상인 기판(10)이 내부 또는 외부로 출입되도록 일측에는 게이트(미도시)가 마련될 수 있다. 인라인 증착 시스템의 경우에는 기판(10)의 진입과 배출을 위하여 두 개의 게이트가 마련될 수 있다. 플립 챔버(12)의 내부는 증착 챔버와 마찬 가지로 진공 상태가 유지될 수 있다.In the flip chamber 12, a gate (not shown) may be provided on one side so that the substrate 10, which is the object to be inverted, enters or exits the inside or outside. In the case of an inline deposition system, two gates may be provided for entering and exiting the substrate 10. The inside of the flip chamber 12 can be maintained in a vacuum state like the deposition chamber.

액추에이터(14)(actuator)는, 플립 챔버(12)의 외측에 위치하며, 액추에이터(14)의 작동 로드(22)가 플립 챔버(12)의 내부로 직선 왕복 운동한다. 액추에이터(14)는 전기, 유압, 공기압 등의 에너지를 받아 기계적인 동력으로 출력하는 변환기인데, 본 실시예에 따른 액추에이터(14)는 전기, 유압, 공기압에 의해 작동 로드(22)가 직선 왕복 운동하도록 구성된 것을 말한다.The actuator 14 is located outside the flip chamber 12, and the working rod 22 of the actuator 14 linearly reciprocates into the interior of the flip chamber 12. The actuator 14 is a converter that receives energy such as electric, hydraulic, or pneumatic pressure and outputs it as mechanical power. In the actuator 14 according to the present embodiment, the operating rod 22 is linearly reciprocated by electric, hydraulic, or pneumatic pressure. It is configured to.

본 실시에에 따른 액추에이터(14)의 본체는 플립 챔버(12)의 외벽에 결합되며, 액추에이터(14)의 작동 로드(22)는 플립 챔버(12)의 벽체를 관통하여 작동에 따라 플립 챔버(12)의 내부에서 직선 왕복 운동을 한다.The body of the actuator 14 according to the present embodiment is coupled to the outer wall of the flip chamber 12, and the working rod 22 of the actuator 14 penetrates the wall of the flip chamber 12 and according to the operation, the flip chamber ( 12) The linear reciprocating motion is performed from the inside.

액추에이터 본체(14)가 플립 챔버(12)의 외측에 마련됨에 따라 플립 챔버(12) 내부의 장비 구성을 단순화할 수 있다.As the actuator body 14 is provided outside the flip chamber 12, it is possible to simplify the equipment configuration inside the flip chamber 12.

기판 홀더(16)는, 작동 로드(22)의 직선 왕복 운동에 따라 기판(10)의 양단부를 각각 클램핑 또는 언클램핑하는 클램퍼(20)를 구비한다. 기판 홀더(16)는 플립 챔버(12) 내부로 로딩된 기판(10)을 지지하기 위한 것으로서, 반전 시 기판(10)을 고정하기 위해 기판(10)의 양단부를 클램핑하기 위한 클램퍼(20)를 구비한다. The substrate holder 16 is provided with a clamper 20 that clamps or unclamps both ends of the substrate 10 according to a linear reciprocating motion of the operation rod 22, respectively. The substrate holder 16 is for supporting the substrate 10 loaded into the flip chamber 12, and the clamper 20 for clamping both ends of the substrate 10 to fix the substrate 10 when inverted To be equipped.

본 실시예에 따른 기판 홀더(16)는 도 5에 도시된 바와 같이, 서로 대향하는 측벽을 포함하는 기판 홀더 프레임(40)을 포함하는데, 양 측벽의 내부에 기판(10)을 클램핑하기 위해 클램퍼(20)가 배치될 수 있다. 클램퍼(20)는 상술한 액추에이터(14)의 작동 로드(22)의 직선 왕복 운동에 따라 기판(10)의 단부를 클램핑하거나 언클램핑하도록 구성된다.The substrate holder 16 according to the present embodiment includes a substrate holder frame 40 including sidewalls facing each other, as shown in FIG. 5, and a clamper for clamping the substrate 10 inside both sidewalls. 20 may be disposed. The clamper 20 is configured to clamp or unclamp the end of the substrate 10 according to the linear reciprocating motion of the actuating rod 22 of the actuator 14 described above.

본 실시예에 따른 클램퍼(20)는, 기판(10) 단부의 하면을 지지하는 지지플레이트(44)와, 지지플레이트(44)에 대향하여 기판(10) 단부의 상면을 가압하는 가압플레이트(42)와, 작동 로드(22)의 직선 왕복 이동에 따라 지지플레이트(44)와 가압플레이트(42)를 상대적으로 직선 이동하여 기판(10) 단부를 클램핑 또는 언클램핑하는 링크 유닛(24)을 포함한다.The clamper 20 according to the present embodiment includes a support plate 44 supporting a lower surface of the end of the substrate 10 and a pressure plate 42 pressing the upper surface of the end of the substrate 10 against the support plate 44 ) And a link unit 24 for clamping or unclamping the end of the substrate 10 by relatively linearly moving the support plate 44 and the pressure plate 42 according to the linear reciprocating movement of the operation rod 22. .

지지플레이트(44)와 가압플레이트(42)가 마주하면서 기판(10)의 단부를 클램핑하게 되는데, 지지플레이트(44)와 가압플레이트(42) 사이에는 링크 유닛(24)이 개재되어 작동 로드(22)의 직선 왕복 이동에 따라 링크 유닛(24)이 작동하면서 지지플레이트(44)와 가압플레이트(42)가 서로 멀어지거나 가까워지도록 상대적으로 직선 이동하도록 하여 기판(10)의 단부를 언클램핑 또는 클램핑하게 된다.While the support plate 44 and the pressure plate 42 face each other, the end portion of the substrate 10 is clamped. A link unit 24 is interposed between the support plate 44 and the pressure plate 42 to operate rod 22 ), the link unit 24 is operated according to the linear reciprocating motion, so that the support plate 44 and the pressure plate 42 are relatively linearly moved away from each other or closer to each other so that the end of the substrate 10 is unclamped or clamped. do.

지지플레이트(44)와 가압플레이트(42)의 상대적 직선 이동을 가이드하기 위해, 가이드 로드(50)가 지지플레이트(44)와 가압플레이트(42)를 관통한 상태에서 가이드 로드(50)의 양단부가 기판 홀더 프레임(40)에 각각 결합된다. 상술한 링크 유닛(24)의 작동에 따라 지지플레이트(44)와 가압플레이트(42)가 상대적으로 직선 이동할 때 가이드 로드(50)의 길이 방향 을 따라 직선 이동이 이루어진다. 본 실시예에서는 두 개의 가이드 로드(50)가 지지플레이트(44)와 가압플레이트(42)를 관통한 상태에서 기판 홀더 프레임(40)에 결합된 형태를 제시하고 있다.To guide the relative linear movement of the support plate 44 and the pressure plate 42, both ends of the guide rod 50 in the state where the guide rod 50 penetrates through the support plate 44 and the pressure plate 42 Each is coupled to the substrate holder frame 40. When the support plate 44 and the pressure plate 42 move relatively linearly according to the operation of the link unit 24 described above, linear movement is made along the longitudinal direction of the guide rod 50. In this embodiment, the two guide rods 50 are presented in a form coupled to the substrate holder frame 40 in a state that penetrates the support plate 44 and the pressure plate 42.

한편, 지지플레이트(44)와 가압플레이트(42)가 서로 가까워지면서 기판(10) 단부를 클램핑할 때 지지플레이트(44)와 가압플레이트(42)의 위치 설정을 명확히 하기 위해, 지지플레이트(44)와 가압플레이트(42) 중 어느 하나에는 위치 설정 돌기(52)를 형성하고, 나머지 하나에는 위치 설정 돌기(52)가 삽입되는 위치 설정 홈(54)이 형성될 수 있다. 기판(10) 클램핑시 위치 설정 돌기(52)가 위치 설정 홈(54)에 삽입되면서 지지플레이트(44)와 가압플레이트(42)의 위치가 명확히 설정된다. 본 실시예에서는 도 4에 도시된 바와 같이, 지지플레이트(44)에는 위치 설정 돌기(52)를 형성하고, 가압플레이트(42)에는 위치 설정 홈(54)을 형성한 형태를 제시하고 있다.On the other hand, when the support plate 44 and the pressure plate 42 are close to each other, when clamping the ends of the substrate 10, to clarify the positioning of the support plate 44 and the pressure plate 42, the support plate 44 Positioning projections 52 may be formed on one of the and the pressure plate 42, and a positioning groove 54 into which the positioning projection 52 is inserted may be formed on the other one. When the substrate 10 is clamped, the position of the support plate 44 and the pressure plate 42 is clearly set while the positioning protrusion 52 is inserted into the positioning groove 54. In this embodiment, as shown in FIG. 4, a form in which a positioning protrusion 52 is formed on the support plate 44 and a positioning groove 54 is formed on the pressure plate 42 is shown.

도 6에는 본 실시예에 따른 기판 반전 장치의 지지플레이트(44)가 도시되어 있는데, 기판(10)이 사각형 형상인 경우 서로 대향하는 두 개의 지지플레이트(44)가 기판(10)의 단부를 지지하도록 직선형 지지부(45)가 마련된다. 6, the support plate 44 of the substrate reversing device according to the present embodiment is illustrated. When the substrate 10 has a rectangular shape, two support plates 44 facing each other support the ends of the substrate 10. So that a straight support portion 45 is provided.

반면, 도 7은 본 실시예에 따른 기판 반전 장치의 지지플레이트(44)의 변형례를 도시하고 있는데, 기판(10)이 반도체 웨이퍼 등과 같이 원형 형상인 경우, 원형 기판(10')의 호(弧)형 단부에 상응하여 호형 지지부(62)가 지지플레이트(44')에 마련될 수 있다.On the other hand, Figure 7 shows a modification of the support plate 44 of the substrate reversing device according to the present embodiment, when the substrate 10 is a circular shape such as a semiconductor wafer, the arc of the circular substrate 10' ( Iii) An arc-shaped support portion 62 may be provided on the support plate 44 ′ corresponding to the end.

반전 구동부(18)는, 기판(10)이 반전되도록 기판 홀더(16)를 회전시킨다. 기판 홀더(16)의 클램퍼(20)에 의해 기판(10)의 양단부가 클램핑 된 상태에서, 반전 구동부(18)의 작동에 의해 기판 홀더(16)를 회전시킴에 따라 기판(10)의 상하면에 반전이 이루어진다. 증착 공정을 통해 기판(10)의 하면에 증착이 이루어진 후 플립 챔버(12)에 로딩되면, 기판 홀더(16)의 회전에 따라서 기판(10)이 반전되면서 증착면이 위쪽을 향하게 된다.The inversion driving unit 18 rotates the substrate holder 16 so that the substrate 10 is inverted. In the state where both ends of the substrate 10 are clamped by the clamper 20 of the substrate holder 16, as the substrate holder 16 is rotated by the operation of the inversion driving unit 18, the upper and lower surfaces of the substrate 10 are The reversal takes place. When deposition is performed on the bottom surface of the substrate 10 through the deposition process and then loaded into the flip chamber 12, the substrate 10 is inverted according to the rotation of the substrate holder 16 so that the deposition surface is upward.

반전 구동부(18)는, 플립 챔버(12)의 외측에 위치하되, 모터축(48)이 플립 챔버(12)의 내부로 관통하여 기판 홀더(16)의 일측에 결합되는 회전 모터(46)를 포함한다. 상술한 액추에이터(14)와 마찬가지로 본 실시예에 따른 회전 모터(46)의 본체는 플립 챔버(12)의 외벽에 결합되고, 회전 모터(46)의 모터축(48)은 플립 챔버(12)의 벽체를 관통하여 기판 홀더(16)의 일측에 결합된 형태이다. The inverting driving unit 18 is located outside the flip chamber 12, but the motor shaft 48 penetrates into the interior of the flip chamber 12 and rotates the rotating motor 46 coupled to one side of the substrate holder 16. Includes. Like the actuator 14 described above, the main body of the rotating motor 46 according to the present embodiment is coupled to the outer wall of the flip chamber 12, and the motor shaft 48 of the rotating motor 46 is of the flip chamber 12. It is a form that penetrates the wall and is coupled to one side of the substrate holder 16.

기판 홀더(16)의 타측면에는 모터축(48)과 동일 축선 상에 플립 챔버(12)의 벽체에 회전가능하게 결합되는 지지축이 결합될 수 있다. 이에 따라 회전 모터(46)의 작동에 따라 모터축(48)과 지지축이 동시에 회전하면서 기판 홀더(16)를 회전하게 된다. 액추에이터(14)와 마찬가지로 회전 모터(46) 본체를 플립 챔버(12)의 외부에 배치함으로써 플립 챔버(12) 내부의 장치 구성을 단순화할 수 있다.A support shaft rotatably coupled to the wall of the flip chamber 12 may be coupled to the other side of the substrate holder 16 on the same axis as the motor shaft 48. Accordingly, the substrate holder 16 is rotated while the motor shaft 48 and the support shaft rotate at the same time according to the operation of the rotating motor 46. As with the actuator 14, the arrangement of the device inside the flip chamber 12 can be simplified by arranging the body of the rotating motor 46 outside the flip chamber 12.

도 5에는 본 실시예에 따른 링크 유닛(24)이 도시되어 있는데, 도 4 및 도 5를 참조하여 링크 유닛(24)에 대해 자세히 살펴보기로 한다.The link unit 24 according to the present embodiment is illustrated in FIG. 5, and the link unit 24 will be described in detail with reference to FIGS. 4 and 5.

링크 유닛(24)은, 일단부가 지지플레이트(44)에 회전가능하게 결합되는 제1 링크부재(26)와, 일단부가 가압플레이트(42)에 회전가능하게 결합되며 타단부가 제1 링크부재(26)의 타단부에 회전가능하게 결합되는 제2 링크부재(28)와, 제1 링크부재(26)의 타단부와 제2 링크부재(28)의 타단부가 회전가능하게 결합되는 회전축 부재(38)를 포함한다. The link unit 24 includes a first link member 26, one end of which is rotatably coupled to the support plate 44, and one end of which is rotatably coupled to the press plate 42, and the other end of which is the first link member ( The second link member 28 rotatably coupled to the other end of 26), and the other end portion of the first link member 26 and the other end of the second link member 28 rotatably coupled to the rotating shaft member ( 38).

액추에이터(14)의 작동 로드(22)가 직선 왕복 이동함에 따라 링크 유닛(24)의 회전축 부재(38)가 축방향으로 직선 왕복 이동하면서, 제1 링크부재(26)와 제2 링크부재(28)를 당기거나 밀어 지지플레이트(44)와 가압플레이트(42)가 상대적으로 이동하도록 구성된다. The first link member 26 and the second link member 28 while the rotary shaft member 38 of the link unit 24 linearly reciprocates in the axial direction as the operating rod 22 of the actuator 14 moves linearly ) By pulling or pushing the support plate 44 and the pressure plate 42 is configured to move relatively.

도 4를 참조하면, 회전축 부재(38)가 도면 상의 오른쪽으로 당겨지는 경우 회전축 부재(38)가 제1 링크부재(26)와 제2 링크부재(28)의 타단부를 도면 상의 오른쪽으로 당기면서, 제1 링크부재(26) 및 제2 링크부재(28)의 일단부가 각각 가압플레이트(42)와 지지플레이트(44)를 당겨 기판(10)의 단부를 클램핑한다. 한편, 회전축 부재(38)가 도면 상의 왼쪽으로 밀리는 경우 회전축 부재(38)가 제1 링크부재(26)와 제2 링크부재(28)의 타단부를 도면 상의 왼쪽으로 밀면서, 제1 링크부재(26) 및 제2 링크부재(28)의 일단부가 각각 가압플레이트(42)와 지지플레이트(44)를 밀어 기판(10)의 단부를 언클램핑한다.Referring to FIG. 4, when the rotating shaft member 38 is pulled to the right in the drawing, the rotating shaft member 38 pulls the other ends of the first link member 26 and the second link member 28 to the right in the drawing. , One end of the first link member 26 and the second link member 28 pulls the pressure plate 42 and the support plate 44, respectively, to clamp the ends of the substrate 10. On the other hand, when the rotating shaft member 38 is pushed to the left in the drawing, the rotating shaft member 38 pushes the other ends of the first link member 26 and the second link member 28 to the left in the drawing, and the first link member ( 26) and one end of the second link member 28 push the pressure plate 42 and the support plate 44, respectively, to unclamp the ends of the substrate 10.

본 실시예에 따른 회전축 부재(38)는, 일단부가 제1 링크부재(26)의 타단부과 제2 링크부재(28)의 타단부 사이에 개재되는 구동 로드(30)와; 제1 링크부재(26)의 타단부, 구동 로드(30)의 일단부 및 제2 링크부재(28)의 타단부가 회전가능하게 관통하는 제1 축부재(32)를 포함하는데, 구동 로드(30)가 직선 이동함에 따라 제1 축부재(32)를 중심으로 제1 링크부재(26)의 타단부와 제2 링크부재(28)의 타단부가 회전되면서 제1 링크부재(26)의 타단부와 제2 링크부재(28)의 타단부를 당기거나 밀게 된다.The rotation shaft member 38 according to the present embodiment includes: a drive rod 30, one end of which is interposed between the other end of the first link member 26 and the other end of the second link member 28; The other end of the first link member 26, one end of the drive rod 30 and the other end of the second link member 28 includes a first shaft member 32 rotatably penetrating, the drive rod ( As the 30) moves linearly, the other end of the first link member 26 and the other end of the second link member 28 are rotated around the first shaft member 32 while the other end of the first link member 26 is rotated. The end and the other end of the second link member 28 are pulled or pushed.

그리고, 본 실시예에 따른 링크 유닛(24)은, 제1 링크부재(26)의 일단부가 회전가능하게 결합되는 제2 축부재(34)와; 제2 축부재(34)의 양단부를 각각 지지하며 지지플레이트(44)에 결합되는 제1 결합구(35)와; 제2 링크부재(28)의 일단부가 회전가능하게 결합되는 제3 축부재(36)와; 제3 축부재(36)의 양단부을 각각 지지하며 가압플레이트(42)에 결합되는 제2 결합구(27)를 더 포함한다. 제1 결합구(35)와 제2 결합구(27)를 제1 링크부재(26) 및 제2 링크부재(28)의 일단부를 가압플레이트(42)와 지지플레이트(44)에 각각 회전가능하게 결합하기 위한 것으로, 볼트 등의 체결수단을 통해 가압플레이트(42)와 지지플레이트(44)에 결합된다.In addition, the link unit 24 according to the present embodiment includes a second shaft member 34 to which one end of the first link member 26 is rotatably coupled; A first coupling hole 35 supporting both ends of the second shaft member 34 and coupled to the support plate 44; A third shaft member 36 to which one end of the second link member 28 is rotatably coupled; Each of the third shaft member 36 supports both ends, and further includes a second coupling hole 27 coupled to the pressure plate 42. The one end of the first link member 26 and the second link member 28 are rotatable to the first coupling member 35 and the second coupling member 27 on the pressure plate 42 and the support plate 44, respectively. For coupling, it is coupled to the pressure plate 42 and the support plate 44 through fastening means such as bolts.

한편, 플립 챔버(12)의 외벽에 부착된 액추에이터(14)의 작동에 따라 작동 로드(22)가 직선 왕복 운동을 하게 되는데, 작동 로드(22)의 직선 왕복 이동이 링크 유닛(24)의 회전축 부재(38)에 전달되도록 할 필요가 있다.On the other hand, according to the operation of the actuator 14 attached to the outer wall of the flip chamber 12, the operation rod 22 is in a linear reciprocating motion, the linear reciprocating movement of the operation rod 22 is the rotation axis of the link unit 24 It needs to be delivered to the member 38.

이에 따라, 본 실시예에 따른 링크 유닛(24)은, 작동 로드(22)의 직선 이동 방향으로 따라 설치되는 가이드 레일(56)과; 작동 로드(22)가 결합되며, 작동 로드(22)의 이동에 따라 가이드 레일(56)을 따라 이동하는 가이드 블록(58)과; 일단부가 가이드 블록(58)에 결합되고 타단부가 구동 로드(30)의 타단부에 회전 가능하게 결합되는 연결 로드(60)를 포함한다.Accordingly, the link unit 24 according to the present embodiment includes a guide rail 56 installed along the linear movement direction of the operation rod 22; The operation rod 22 is coupled, the guide block 58 moves along the guide rail 56 according to the movement of the operation rod 22; One end is coupled to the guide block 58 and the other end includes a connecting rod 60 rotatably coupled to the other end of the drive rod 30.

작동 로드(22)가 플립 챔버(12)의 내부에서 직선 왕복 운동이 이루어지는데, 가이드 레일(56)이 작동 로드(22)의 직선 왕복 운동 방향으로 설치되며, 이러한 가이드 레일(56)을 따라 이동하는 가이드 블록(58)은 작동 로드(22)의 단부에 결합되어 작동 로드(22)의 직선 왕복 이동에 따라 가이드 레일(56)을 따라 직선 왕복 운동을 하게 된다. The working rod 22 is a linear reciprocating motion is made inside the flip chamber 12, the guide rail 56 is installed in the direction of the linear reciprocating motion of the working rod 22, and moves along the guide rail 56 The guide block 58 is coupled to the end of the working rod 22 to perform a linear reciprocating motion along the guide rail 56 according to the linear reciprocating motion of the working rod 22.

연결 로드(60)는 가이드 블록(58)의 직선 왕복 운동을 회전축 부재(38)로 전달하기 위한 것으로, 연결 로드(60)의 일단부는 가이드 블록(58)에 결합되고 연결 로드(60)의 타단부는 회전축 부재(38)의 구동 로드(30)의 타단부에 회전 가능하게 결합되어 가이드 블록(58)의 직선 왕복 운동을 회전축 부재(38)로 전달한다.The connecting rod 60 is for transmitting the linear reciprocating motion of the guide block 58 to the rotating shaft member 38, one end of the connecting rod 60 is coupled to the guide block 58 and the other of the connecting rod 60 The end is rotatably coupled to the other end of the drive rod 30 of the rotating shaft member 38 to transmit the linear reciprocating motion of the guide block 58 to the rotating shaft member 38.

한편, 연결 로드(60)의 타단부는 구동 로드(30)의 타단부에 회전 가능하게 결합되는데, 이는 기판(10) 반전 시 기판 홀더(16)를 회전시킬 때 구동 로드(30)의 회전력이 연결 로드(60)에 전달되지 않도록 하기 위함이다. 동일한 이유로, 구동 로드(30)는 기판 홀더(16)의 회전 시 기판 홀더(16)의 회전 중심과 동일 선상에 위치하도록 구성한다. On the other hand, the other end of the connecting rod 60 is rotatably coupled to the other end of the driving rod 30, which is the rotational force of the driving rod 30 when rotating the substrate holder 16 when the substrate 10 is reversed This is to prevent transmission to the connecting rod 60. For the same reason, the driving rod 30 is configured to be positioned on the same line as the rotation center of the substrate holder 16 when the substrate holder 16 is rotated.

이하에서는 본 실시예에 따른 기판 반전 장치의 작동 방법을 설명한다. 먼저, 플립 챔버(12)의 외측에 위치한 액추레이터(14)를 작동시켜 작동 로드(22)를 밀면 회전축 부재(38)가 밀리면서 제1 링크부재(26)와 제2 링크부재(28)의 타단부를 밀어 가압플레이트(42)와 지지플레이트(44)가 서로 벌어진다. 다음에, 플립 챔버(12)의 게이트(미도시)가 열리면서 기판(10)이 기판 홀더(16)의 지지플레이트(44)에 로딩된다. 다음에, 플립 챔버(12)의 외측에 위치한 액추레이터(14)를 작동시켜 작동 로드(22)를 외측으로 잡아 당기면, 회전축 부재(38)가 당겨지면서 제1 링크부재(26)와 제2 링크부재(28)의 타단부를 당겨 가압플레이트(42)와 지지플레이트(44)가 모아져 기판(10)의 단부를 클램핑하다. 다음에, 기판(10)의 상하면이 반전되도록 회전 모터(46)의 모터축(48)을 회전시켜 기판 홀더(16)를 회전시킨다. 기판(10)의 상하면이 반전이 이루어지면 위와 같은 방법으로 액추레이터(14)의 작동 로드(22)를 밀어 기판(10)을 언클램핑한다.Hereinafter, an operation method of the substrate reversing device according to the present embodiment will be described. First, by actuating the actuator 14 located on the outside of the flip chamber 12, pushing the operation rod 22 pushes the rotating shaft member 38 while the first link member 26 and the second link member 28 are pushed. The pressing plate 42 and the support plate 44 are pushed apart from each other by pushing the other end. Next, while the gate (not shown) of the flip chamber 12 is opened, the substrate 10 is loaded on the support plate 44 of the substrate holder 16. Next, by actuating the actuator 14 located on the outside of the flip chamber 12 and pulling the working rod 22 outward, the first link member 26 and the second link are pulled while the rotating shaft member 38 is pulled out. By pressing the other end of the member 28, the pressure plate 42 and the support plate 44 are gathered to clamp the end of the substrate 10. Next, the substrate holder 16 is rotated by rotating the motor shaft 48 of the rotating motor 46 so that the upper and lower surfaces of the substrate 10 are reversed. When the upper and lower surfaces of the substrate 10 are inverted, the operating rod 22 of the actuator 14 is pushed in the same manner as above to unclamp the substrate 10.

상기에는 본 발명의 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 쉽게 이해할 수 있을 것이다.Although described above with reference to embodiments of the present invention, those skilled in the art variously modify the present invention without departing from the spirit and scope of the present invention as set forth in the claims below. And it can be easily understood.

10: 기판 12: 플립 챔버
14: 액추에이터 16: 기판 홀더
18: 반전 구동부 20: 클램퍼
22: 작동 로드 24: 링크 유닛
26: 제1 링크부재 28: 제2 링크부재
30: 구동 로드 32: 제1 축부재
34: 제2 축부재 35: 제1 결합구
36: 제3 축부재 37: 제2 결합구
38: 회전축 부재 40: 기판 홀더 프레임
42: 가압플레이트 44: 지지플레이트
45: 직선형 지지부 46: 회전 모터
48: 모터축 50: 가이드 로드
52: 위치 설정 돌기 54: 위치 설정 홈
56: 가이드 레일 58: 가이드 블록
60: 연결 로드 62: 호형 지지부
10': 원형 기판 44': 지지플레이트10: substrate 12: flip chamber
14: actuator 16: board holder
18: inversion driving unit 20: clamper
22: working rod 24: link unit
26: first link member 28: second link member
30: drive rod 32: first shaft member
34: second shaft member 35: first coupling hole
36: third shaft member 37: second fitting
38: rotating shaft member 40: substrate holder frame
42: pressure plate 44: support plate
45: straight support 46: rotary motor
48: motor shaft 50: guide rod
52: Positioning projection 54: Positioning groove
56: guide rail 58: guide block
60: connecting rod 62: arc support
10': circular substrate 44': support plate

Claims (11)

기판의 상하면을 반전시키는 기판 반전 장치로서,
상기 기판이 내부로 진입되는 플립 챔버(flip chamber)와;
상기 플립 챔버의 외측에 위치하며, 작동 로드가 상기 플립 챔버의 내부로 직선 왕복 운동하는 액추에이터(actuator)와;
상기 작동 로드의 직선 왕복 운동에 따라 상기 기판의 양단부를 각각 클램핑 또는 언클램핑하는 클램퍼를 구비하는 기판 홀더와;
상기 기판이 반전되도록 상기 기판 홀더를 회전시키는 반전 구동부를 포함하는, 기판 반전 장치.
A substrate inversion device for inverting the upper and lower surfaces of a substrate,
A flip chamber into which the substrate enters;
An actuator located outside the flip chamber, the working rod linearly reciprocating into the flip chamber;
A substrate holder having clampers for clamping or unclamping both ends of the substrate according to the linear reciprocating motion of the working rod;
And an inversion driving unit for rotating the substrate holder so that the substrate is inverted.
제1항에 있어서,
상기 반전 구동부는,
상기 플립 챔버의 외측에 위치하되, 모터축이 상기 플립 챔버의 내부로 관통하여 상기 기판 홀더의 일측에 결합되는 회전 모터를 포함하는 것을 특징으로 하는, 기판 반전 장치.
According to claim 1,
The inversion driving unit,
Located on the outside of the flip chamber, characterized in that it comprises a rotating motor is coupled to one side of the substrate holder through the inside of the flip chamber, the substrate inverting device.
제1항에 있어서,
상기 클램퍼는,
상기 기판 단부의 하면을 지지하는 지지플레이트와;
상기 지지플레이트에 대향하여 상기 기판 단부의 상면을 가압하는 가압플레이트와;
상기 작동 로드의 직선 왕복 이동에 따라 상기 지지플레이트와 상기 가압플레이트를 상대적으로 직선 이동하여 상기 기판 단부를 클램핑 또는 언클램핑하는 링크 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는, 기판 반전 장치.
According to claim 1,
The clamper,
A support plate supporting a lower surface of the end of the substrate;
A pressing plate which opposes the support plate and presses the upper surface of the end of the substrate;
And a link unit for clamping or unclamping the end of the substrate by relatively linearly moving the support plate and the pressure plate according to the linear reciprocating movement of the working rod.
제3항에 있어서,
상기 링크 유닛은,
일단부가 상기 지지플레이트에 회전가능하게 결합되는 제1 링크부재와;
일단부가 상기 가압플레이트에 회전가능하게 결합되며, 타단부가 상기 제1 링크부재의 타단부에 회전가능하게 결합되는 제2 링크부재와;
상기 제1 링크부재의 타단부와 상기 제2 링크부재의 타단부가 회전가능하게 결합되는 회전축 부재를 포함하되,
상기 작동 로드의 직선 왕복 이동에 따라 상기 회전축 부재가 직선 왕복 이동함에 따라 상기 지지플레이트와 상기 가압플레이트가 상대적으로 이동하여 상기 기판 단부를 클램핑 또는 언클램핑하는 것을 특징으로 하는, 기판 반전 장치.
According to claim 3,
The link unit,
A first link member having one end rotatably coupled to the support plate;
A second link member having one end rotatably coupled to the pressure plate, and the other end rotatably coupled to the other end of the first link member;
The other end of the first link member and the other end of the second link member includes a rotating shaft member that is rotatably coupled,
The substrate reversing device, characterized in that the support plate and the pressing plate are relatively moved as the rotating shaft member moves linearly reciprocating according to the linear reciprocating movement of the working rod to relatively move or clamp the end of the substrate.
제4항에 있어서,
상기 회전축 부재는,
일단부가 상기 제1 링크부재의 타단부과 상기 제2 링크부재의 타단부 사이에 개재되는 구동 로드와;
상기 제1 링크부재의 타단부, 상기 구동 로드의 일단부 및 상기 제2 링크부재의 타단부가 회전가능하게 관통하는 제1 축부재를 포함하는 것을 특징으로 하는, 기판 반전 장치.
The method of claim 4,
The rotating shaft member,
A driving rod having one end interposed between the other end of the first link member and the other end of the second link member;
And a first shaft member rotatably penetrating the other end of the first link member, one end of the driving rod, and the other end of the second link member.
제5항에 있어서,
상기 구동 로드는,
상기 기판 홀더의 회전 시 상기 기판 홀더의 회전 중심과 동일 선상에 위치하는 것을 특징으로 하는, 기판 반전 장치.
The method of claim 5,
The drive rod,
When rotating the substrate holder, it characterized in that it is located on the same line as the center of rotation of the substrate holder, the substrate reversing device.
제5항에 있어서,
상기 링크 유닛은,
상기 작동 로드의 직선 이동 방향으로 따라 설치되는 가이드 레일과;
상기 작동 로드가 결합되며, 상기 작동 로드의 이동에 따라 상기 가이드 레일을 따라 이동하는 가이드 블록과;
일단부가 상기 가이드 블록에 결합되고 타단부가 상기 구동 로드의 타단부에 회전 가능하게 결합되는 연결 로드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 기판 반전 장치.
The method of claim 5,
The link unit,
A guide rail installed along a linear movement direction of the working rod;
A guide block coupled to the working rod and moving along the guide rail according to the movement of the working rod;
Characterized in that the one end is coupled to the guide block, the other end further comprises a connecting rod rotatably coupled to the other end of the drive rod, the substrate reversing device.
제4항에 있어서,
상기 링크 유닛은,
상기 제1 링크부재의 일단부가 회전가능하게 결합되는 제2 축부재와;
상기 제2 축부재의 양단부를 각각 지지하며 상기 지지플레이트에 결합되는 제1 결합구와;
상기 제2 링크부재의 일단부가 회전가능하게 결합되는 제3 축부재와;
상기 제3 축부재의 양단부을 각각 지지하며 상기 가압플레이트에 결합되는 제2 결합구를 더 포함하는, 기판 반전 장치.
The method of claim 4,
The link unit,
A second shaft member rotatably coupled to one end of the first link member;
A first coupling hole supporting both ends of the second shaft member and being coupled to the support plate;
A third shaft member rotatably coupled to one end of the second link member;
A substrate reversing device further comprising a second coupling hole that supports each end portion of the third shaft member and is coupled to the pressure plate.
제3항에 있어서,
상기 기판 홀더는,
서로 대향하는 측벽을 포함하는 기판 홀더 프레임과;
상기 지지플레이트와 상기 가압플레이트의 상대적 이동을 가이드하도록 상기 지지플레이트와 상기 가압플레이트를 관통하여 양단부가 상기 기판 홀더 프레임에 결합되는 가이드 로드를 포함하는, 기판 반전 장치
According to claim 3,
The substrate holder,
A substrate holder frame including sidewalls facing each other;
A substrate reversing device including a guide rod through which both ends are coupled to the substrate holder frame through the support plate and the pressure plate to guide the relative movement of the support plate and the pressure plate.
제3항에 있어서,
상기 지지플레이트와 상기 가압프레이트 중 어느 하나에는 위치 설정 돌기가 형성되고, 나머지 하나에는 상기 위치 설정 돌기가 삽입되는 위치 설정 홈이 형성되는 것을 특징으로 하는, 기판 반전 장치.
According to claim 3,
Positioning projection is formed on one of the support plate and the pressing plate, and the other, characterized in that the positioning groove into which the positioning projection is inserted, the substrate reversing device.
제3항에 있어서,
상기 기판은 원형 기판을 포함하며,
상기 지지플레이트는,
상기 원형 기판의 호(弧)형 단부에 상응하여 호(형) 지지부를 포함하는 것을 특징으로 하는, 기판 반전 장치.According to claim 3,
The substrate includes a circular substrate,
The support plate,
And an arc (shaped) support portion corresponding to the arc-shaped end of the circular substrate.
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