KR101877336B1 - Substrate processing apparatus - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판처리를 수행하는 기판처리장치에 관한 것이다.
본 발명은 제1챔버부재와, 수평방향 이동에 의하여 상기 제1챔버부재와 탈착가능하게 결합되며 상기 제1챔버부재와 결합되어 밀폐된 처리공간을 형성하는 제2챔버부재를 포함하는 진공챔버와; 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재 중 적어도 어느 하나를 수평이동시켜 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재를 결합시키거나 분리하는 챔버착탈부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치를 개시한다.The present invention relates to a substrate processing apparatus, and more particularly, to a substrate processing apparatus that performs substrate processing.
The present invention relates to a vacuum chamber comprising a first chamber member, a second chamber member detachably coupled to the first chamber member by a horizontal movement and combined with the first chamber member to form a closed process space, ; And a chamber detachment unit for horizontally moving at least one of the first chamber member and the second chamber member to couple or separate the first chamber member and the second chamber member. do.

Description

기판처리장치 {Substrate processing apparatus}[0001] Substrate processing apparatus [

본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판처리를 수행하는 기판처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus, and more particularly, to a substrate processing apparatus that performs substrate processing.

평판표시소자(Flat Panel Display)는 액정표시소자 (Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이소자(Plasma Display Panel), 유기발광소자 (Organic Light Emitting Diodes) 등이 대표적이다. A flat panel display is typically a liquid crystal display, a plasma display panel, or an organic light emitting diode.

이 중에서 유기발광소자는 빠른 응답속도, 기존의 액정표시소자보다 낮은 소비 전력, 고휘도, 경량성 등의 특성이 있으며, 별도의 백라이트(back light) 장치가 필요 없어 초박형으로 만들 수 있는 점 등의 장점을 지니고 있는바, 차세대 디스플레이 소자로서 각광받고 있다.Of these, organic light emitting devices have advantages such as fast response speed, lower power consumption than conventional liquid crystal display devices, high brightness and light weight, and the advantage of being able to be made ultra thin by not requiring a separate back light device And has been attracting attention as a next-generation display device.

한편, 평판표시소자의 기판에 박막을 형성하는 일반적인 방법으로는, 증발증착법(Evaporation)과, 이온 플레이팅법(Ion-plation) 및 스퍼터링법(Sputtering)과 같은 물리증착법(PVD)과, 가스반응에 의한 화학기상증착법(CVD) 등이 있다. 이 중에서, 유기발광소자의 유기물층, 무기물층 등과 같은 박막형성에 증발증착법이 사용될 수 있다.On the other hand, as a general method for forming a thin film on a substrate of a flat panel display device, evaporation, physical vapor deposition (PVD) such as ion plating and sputtering, And chemical vapor deposition (CVD). Among them, a vapor deposition method can be used for forming a thin film such as an organic material layer, an inorganic material layer, etc. of an organic light emitting device.

상기와 같은 기판에 박막을 형성하는 기판처리를 수행하는 기판처리장치는 그 공정에 따라서 다양한 구성이 가능하며, 밀폐된 처리공간을 형성하는 진공챔버와, 진공챔버 내에 설치되어 증발에 의하여 기판에 박막을 형성하는 증발원, 증착될 물질로 이루어진 스퍼터링소스타겟 등을 포함한다.The substrate processing apparatus for performing the substrate processing for forming a thin film on the substrate as described above can be variously configured according to the process, and includes a vacuum chamber for forming a closed processing space, a vacuum chamber provided in the vacuum chamber, A sputtering source target made of a material to be deposited, and the like.

한편 상기와 같은 구성을 가지는 기판처리장치는 진공챔버 외부에 설치된 부품은 물론 진공챔버 내부에 설치된 부품의 수리, 교체 등 유지보수의 필요가 있다.On the other hand, the substrate processing apparatus having the above-described configuration needs maintenance and repair such as repairing and replacing parts installed inside the vacuum chamber as well as components installed outside the vacuum chamber.

그런데 종래에는 진공챔버 내부에 설치된 부품의 수리, 교체시 진공챔버를 분해한 후 작업자가 챔버 내부로 들어가서 수리, 교체작업을 수행하여 수리, 교체 작업이 용이하지 않은 문제점이 있다.However, conventionally, there is a problem that when the parts installed inside the vacuum chamber are repaired or replaced, the vacuum chamber is disassembled and then the operator enters the inside of the chamber to repair or replace, which is not easy to repair or replace.

본 발명의 목적은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 제1챔버부재 및 제2챔버부재를 수평방향으로 서로 결합시켜 진공챔버를 구성하고 진공챔버 내부의 유지·보수를 요하는 경우 제1챔버부재 및 제2챔버부재 중 적어도 어느 하나를 수평방향으로 이동시켜 분할함으로써 유지·보수 작업이 용이한 기판처리장치를 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a vacuum chamber in which a first chamber member and a second chamber member are coupled to each other in a horizontal direction to form a vacuum chamber, And at least one of the first chamber member and the second chamber member is horizontally moved and divided to facilitate maintenance and repair work.

본 발명은 상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 창출된 것으로서, 본 발명은 제1챔버부재와, 수평방향 이동에 의하여 상기 제1챔버부재와 탈착가능하게 결합되며 상기 제1챔버부재와 결합되어 밀폐된 처리공간을 형성하는 제2챔버부재를 포함하는 진공챔버와; 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재 중 적어도 어느 하나를 수평이동시켜 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재를 결합시키거나 분리하는 챔버착탈부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치룰 개시한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to achieve the above-mentioned object of the present invention, and it is an object of the present invention to provide a plasma processing apparatus, A vacuum chamber including a second chamber member defining a closed processing space; And a chamber detachment unit for horizontally moving at least one of the first chamber member and the second chamber member to couple or separate the first chamber member and the second chamber member .

상기 제1챔버부재는 위치가 고정되며, 상기 제2챔버부재는 상기 챔버착탈부에 의하여 수평이동되어 상기 제1챔버부재와 착탈될 수 있다.The first chamber member may be fixed in position, and the second chamber member may be horizontally moved by the chamber detachable portion to be detachable from the first chamber member.

상기 챔버착탈부는 상기 제2챔버부재의 선형수평이동을 가이드하는 가이드부와, 상기 제2챔버부재가 상기 가이드부를 따라서 선형수평이동을 구동하는 선형구동부를 포함할 수 있다.The chamber detachable portion may include a guide portion for guiding the linear horizontal movement of the second chamber member and a linear driving portion for driving the linear movement of the second chamber member along the guide portion.

상기 제1챔버부재는 기판이 입출되는 게이트가 형성될 수 있다.The first chamber member may be formed with a gate through which the substrate is input and output.

상기 제1챔버부재는 기판의 이송을 위한 가이드레일이 설치될 수 있다.The first chamber member may be provided with a guide rail for transporting the substrate.

상기 제1챔버부재는 기판 및 마스크를 정렬하는 얼라이너장치가 설치될 수 있다.The first chamber member may be provided with an aligner device for aligning the substrate and the mask.

상기 제2챔버부재는 기판에 박막을 형성하기 위한 증착물을 증발시키는 증발원이 설치될 수 있다.The second chamber member may be provided with an evaporation source for evaporating a deposition material for forming a thin film on the substrate.

상기 제2챔버부재는 기판에 박막을 형성하기 위한 증착물로 이루어지는 스퍼터링소스타겟이 설치될 수 있다.The second chamber member may be provided with a sputtering source target comprising a deposition material for forming a thin film on a substrate.

상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재 중 적어도 어느 하나는 서로 면접하는 부분에 처리공간의 밀봉을 위하여 각각 폐곡선을 이루는 한 쌍의 오링들이 설치될 수 있다.At least one of the first chamber member and the second chamber member may be provided with a pair of O-rings, each of which forms a closed curve for sealing the processing space.

상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재 중 적어도 어느 하나는 상기 한 쌍의 오링들 사이에 위치되는 하나 이상의 요홈부가 형성되고, 상기 요홈부 및 상기 한 쌍의 오링들은 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재 중 어느 하나에 함께 설치되거나, 상기 요홈부 및 상기 한 쌍의 오링들 중 적어도 어느 하나는 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재 중 어느 하나에 설치되고 나머지는 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재 중 다른 하나에 설치되며, 상기 요홈부는 대기압보다는 낮고 상기 처리공간 내의 압력보다는 크거나 같은 압력이 형성되도록 진공펌프와 연결될 수 있다.Wherein at least one of the first chamber member and the second chamber member is formed with at least one recessed portion located between the pair of O-rings, the recessed portion and the pair of O- Wherein at least one of the recessed portion and the pair of O-rings is installed in any one of the first chamber member and the second chamber member and the other is provided in the first chamber member, Member and the other of the second chamber members, wherein the recess is connected to the vacuum pump so as to form a pressure lower than the atmospheric pressure and equal to or greater than the pressure in the processing space.

상기 요홈부는 상기 오링을 따라서 폐곡선을 이루어 형성될 수 있다.The concave portion may be formed as a closed curve along the O-ring.

상기 요홈부는 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재 중 어느 하나에 형성되어 외부에 설치된 진공연결관과 연결되는 연결유로가 형성될 수 있다.The concave portion may be formed in one of the first chamber member and the second chamber member to form a connection channel connected to an external vacuum connection pipe.

상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재에 각각 설치되고 서로 결합되어 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재가 수평방향으로 밀착시키는 제1클램핑부 및 제2클램핑부를 더 포함할 수 있다.And a first clamping unit and a second clamping unit installed in the first chamber member and the second chamber member and coupled to each other to closely contact the first chamber member and the second chamber member in a horizontal direction.

상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재는 서로 결합되는 부분에서 수평방향 좌우측으로 연장형성되어 서로 면접하는 플렌지부를 포함하고, 상기 제1클램핑부 및 상기 제2클램핑부는 각각 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재에 설치될 수 있다.Wherein the first chamber member and the second chamber member include a flange portion extending horizontally to the left and right in a portion where the first chamber member and the second chamber member are engaged with each other and wherein the first clamping portion and the second clamping portion are respectively connected to the first chamber member and the second chamber member, And may be installed in the second chamber member.

상기 제1클램핑부 및 상기 제2클램핑부 중 어느 하나는 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재의 플렌지부들을 관통하여 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재의 결합방향으로 선형이동되는 록킹부재와, 상기 록킹부재를 상기 결합방향으로 선형이동시키는 선형구동부를 포함하며, 상기 제1클램핑부 및 상기 제2클램핑부 중 나머지 하나는 상기 록킹부재가 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재이 플렌지부들을 관통하여 돌출되었을 때 상기 록킹부재를 클램핑하는 클램핑부재와, 상기 클램핑부재를 이동시켜 상기 록킹부재를 클램핑하거나 클램핑을 해제하는 클램핑구동부를 포함할 수 있다.Wherein one of the first clamping portion and the second clamping portion is linearly moved in the coupling direction of the first chamber member and the second chamber member through the first chamber member and the flange portions of the second chamber member And a linear driving unit for linearly moving the locking member in the engaging direction, wherein the other one of the first clamping unit and the second clamping unit is configured such that the locking member moves the first chamber member and the second chamber, A clamping member for clamping the locking member when the member protrudes through the flange portions, and a clamping driver for clamping or releasing the locking member by moving the clamping member.

상기 선형구동부는 상기 클램핑부재가 상기 록킹부재를 클램핑하였을 때 상기 록킹부재를 미리 설정된 힘으로 인력을 가할 수 있다.The linear driving unit may apply the predetermined force to the locking member when the clamping member clamps the locking member.

상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재 중 적어도 어느 하나는 서로 면접하는 부분에 처리공간의 밀봉을 위하여 각각 폐곡선을 이루는 한 쌍의 오링들이 설치될 수 있다.At least one of the first chamber member and the second chamber member may be provided with a pair of O-rings, each of which forms a closed curve for sealing the processing space.

상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재 중 어느 하나에는 상기 한 쌍의 오링들 사이에 하나 이상의 요홈부가 형성되고, 상기 요홈부는 대기압보다는 낮고 상기 처리공간 내의 압력보다는 크거나 같은 압력이 형성되도록 진공펌프와 연결될 수 있다.Wherein at least one of the first chamber member and the second chamber member is formed with at least one recess between the pair of O-rings, and the recess is formed in a vacuum state so as to form a pressure lower than the atmospheric pressure, Can be connected to the pump.

상기 진공챔버는 지면에 대하여 수직인 방향으로 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재로 분할될 수 있다.The vacuum chamber may be divided into the first chamber member and the second chamber member in a direction perpendicular to the paper surface.

본 발명에 따른 기판처리장치는 제1챔버부재 및 제2챔버부재를 수평방향으로 서로 결합시켜 진공챔버를 구성하고 진공챔버 내부의 유지·보수를 요하는 경우 제1챔버부재 및 제2챔버부재 중 적어도 어느 하나를 수평방향으로 이동시켜 분할함으로써 유지·보수 작업이 용이한 이점이 있다.The substrate processing apparatus according to the present invention is characterized in that when the first chamber member and the second chamber member are coupled to each other in the horizontal direction to constitute a vacuum chamber and maintenance and repair within the vacuum chamber is required, the first chamber member and the second chamber member There is an advantage that the maintenance work can be easily performed by dividing at least any one of them in the horizontal direction.

즉, 본 발명에 따른 기판처리장치는 지면에 대하여 수직인 방향으로 진공챔버를 분할하는 형태로 제1챔버부재 및 제2챔버부재를 구성하고 그 분할방향 또한 수평방향으로 함으로써 진공챔버 내부의 유지·보수가 필요한 경우 수평방향으로 분할하여 그 분할이 용이할 뿐만 아니라 유지·보수 작업이 용이한 이점이 있다.That is, the substrate processing apparatus according to the present invention comprises the first chamber member and the second chamber member in the form of dividing the vacuum chamber in the direction perpendicular to the paper surface, If maintenance is required, it is divided in the horizontal direction so that it is easy to divide it, and maintenance and repair work is facilitated.

또한 본 발명에 따른 기판처리장치는 제1챔버부재 및 제2챔버부재가 면접하는 부분에 2중의 오링을 형성함과 아울러, 2중의 오링들 사이에 진공압 및 대기압 사이의 중간압력을 형성함으로써 진공챔버의 분할에 있어서 발생할 수 있는 진공압의 누설을 방지하는 한편 제1챔버부재 및 제2챔버부재를 더욱 밀착시킬 수 있는 이점이 있다.Further, the substrate processing apparatus according to the present invention forms a double O-ring at the portion where the first chamber member and the second chamber member are in contact with each other, and forms an intermediate pressure between the vacuum pressure and the atmospheric pressure between the O- There is an advantage that the first chamber member and the second chamber member can be brought closer to each other while preventing the leakage of the vacuum pressure that may occur in the division of the chamber.

특히 수평방향의 분할시에 진공압 가능성이 매우 높은바, 2중의 오링들 사이에 진공압 및 대기압 사이의 중간압력을 형성함으로써 진공챔버의 분할에 있어서 발생할 수 있는 진공압의 누설을 방지할 수 있는 이점이 있다.Especially, in the case of horizontal division, the possibility of vacuum pressure is very high. By forming an intermediate pressure between the vacuum pressure and the atmospheric pressure between the two O rings, it is possible to prevent leakage of the vacuum pressure, There is an advantage.

또한 본 발명에 따른 기판처리장치는 제1챔버부재 및 제2챔버부재가 결합되었을 때 밀착력을 높이기 위한 클램핑부를 추가로 설치하여 제1챔버부재 및 제2챔버부재를 더욱 밀착시킴으로써 진공챔버의 분할에 있어서 발생할 수 있는 진공압의 누설을 방지할 수 있는 이점이 있다.Further, the substrate processing apparatus according to the present invention may further include a clamping unit for increasing the adhesion when the first chamber member and the second chamber member are coupled to each other to closely contact the first chamber member and the second chamber member, There is an advantage that the leakage of the vacuum pressure that can occur in the case of the vacuum pump can be prevented.

또한 본 발명에 따른 기판처리장치는 진공챔버의 분할에 있어서, 기판의 이송을 위한 게이트, 기판이송을 위한 가이드레일 등 고정이 바람직한 구성을 포함하는 위치를 고정한 제1챔버부재에 배치하고 증발원 등 위치고정을 요하지 않는 구성을 수평이동이 가능한 제2챔버부재에 배치함으로써 유지·보수시 분할효과를 극대화할 수 있다.Further, in the substrate processing apparatus according to the present invention, in the division of the vacuum chamber, the vacuum chamber is disposed in the first chamber member having the fixed position including the gate for transporting the substrate and the guide rail for transporting the substrate, It is possible to maximize the dividing effect in the maintenance and repairing by arranging the configuration that does not require fixing in the horizontally movable second chamber member.

도 1은 본 발명에 따른 기판처리장치를 보여주는 개념도이다.
도 2는 도 1의 기판처리장치에서 제2챔버부재 중 제1챔버부재와 면접하는 부분의 일부를 보여주는 측면도이다.
도 3은 도 1의 기판처리장치에서 제1챔버부재 및 제2챔버부재가 결합된 상태의 Ⅲ-Ⅲ 방향의 단면 일부를 보여주는 일부단면도이다.
도 4a는 도 1의 기판처리장치에서 제2챔버부재 쪽에서 본 측면도이다.
도 4b는 도 4a에서 제1챔버부재 및 제2챔버부재가 분리되기 위하여 클램핑부가 작동된 상태를 보여주는 측면도이다.
도 5a 및 도 5b는 도 4a에서 Ⅴ-Ⅴ 방향의 단면 일부로서, 클램핑부의 작동과정을 보여주는 일부단면도들이다.1 is a conceptual view showing a substrate processing apparatus according to the present invention.
FIG. 2 is a side view showing a part of a portion of the second chamber member that is in contact with the first chamber member in the substrate processing apparatus of FIG. 1; FIG.
3 is a partial cross-sectional view showing a part of a section in the III-III direction in a state where the first chamber member and the second chamber member are combined in the substrate processing apparatus of FIG.
4A is a side view of the substrate processing apparatus of FIG. 1 viewed from the second chamber member side.
FIG. 4B is a side view showing a state in which the clamping unit is operated to separate the first chamber member and the second chamber member in FIG. 4A. FIG.
5A and 5B are partial cross-sectional views showing a working process of the clamping portion as a part of a cross section in the V-V direction in FIG. 4A.

이하 본 발명에 따른 기판처리장치에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a substrate processing apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 따른 기판처리장치는 도 1 내지 도 5b에 도시된 바와 같이, 제1챔버부재(110)와, 수평방향 이동에 의하여 제1챔버부재(110)와 탈착가능하게 결합되며 제1챔버부재(110)와 결합되어 밀폐된 처리공간(S)을 형성하는 제2챔버부재(120)를 포함하는 진공챔버(100)와; 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120) 중 적어도 어느 하나를 수평이동시켜 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)를 결합시키거나 분리하는 챔버착탈부를 포함한다.1 to 5B, a substrate processing apparatus according to the present invention includes a first chamber member 110, a second chamber member 110 coupled detachably with the first chamber member 110 by a horizontal movement, A vacuum chamber 100 including a second chamber member 120 coupled to the first chamber member 110 to form a closed process space S; And a chamber detachable unit for horizontally moving at least one of the first chamber member 110 and the second chamber member 120 to couple or separate the first chamber member 110 and the second chamber member 120. [

여기서 기판처리의 대상인 기판(10)은 액정표시소자 (Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이소자(Plasma Display Panel), 유기발광소자 (Organic Light Emitting Diodes) 등 기판처리면에 증착물의 증발에 의하여 박막을 형성할 수 있는 부재이면 어떠한 대상도 가능하다.Here, the substrate 10, which is an object of the substrate processing, forms a thin film by evaporation of a deposition material on a substrate-processed surface such as a liquid crystal display, a plasma display panel, and an organic light emitting diode Any object can be made as long as it can be done.

그리고 상기 기판(10)은 진공챔버(100) 내로 직접 이송되거나 도 1에 도시된 바와 같이, 기판트레이(20)에 안착되어 이송될 수 있다.And the substrate 10 may be transported directly into the vacuum chamber 100 or may be transported in the substrate tray 20, as shown in FIG.

한편 상기 기판(10)은 그 이송 및 공정시에 기판처리면이 지면에 대하여 수직을 이루거나 경사를 이루는 등 다양한 형태로 이송 및 공정이 이루어질 수 있다.Meanwhile, the substrate 10 can be transported and processed in various forms such as the substrate processing surface being perpendicular or inclined with respect to the paper surface during its transport and processing.

그리고 상기 기판트레이(20)는 기판(10)의 기판처리면에 소정의 패턴으로 증착되도록 패턴화된 개구부가 형성된 마스크(미도시)가 설치될 수 있다.The substrate tray 20 may be provided with a mask (not shown) having openings patterned to be deposited on the substrate-processed surface of the substrate 10 in a predetermined pattern.

상기 진공챔버(100)는 기판처리의 수행을 위한 처리공간(S)을 형성할 수 있는 구성이면 어떠한 구성도 가능하다. 여기서 상기 진공챔버(100)는 기판처리 수행을 위한 진공압의 형성 및 배기를 위하여 진공펌프(미도시)와 연결된 배기관(미도시)과 연결되는 배기구(미도시)가 형성될 수 있다.The vacuum chamber 100 may have any structure as long as it can form a processing space S for performing substrate processing. Here, the vacuum chamber 100 may be formed with an exhaust port (not shown) connected to an exhaust pipe (not shown) connected to a vacuum pump (not shown) for forming a vacuum pressure for performing substrate processing and exhausting the vacuum chamber.

그리고 상기 진공챔버(100)는 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)가 서로 탈착가능하게 결합되어 처리공간(S)을 형성하는 구성으로서, 진공챔버(100)의 분할방식에 따라서 다양한 형상 및 구조를 가질 수 있다. The vacuum chamber 100 has a structure in which the first chamber member 110 and the second chamber member 120 are detachably coupled to each other to form a process space S, Therefore, it can have various shapes and structures.

일 예로서, 기판(10)이 지면에 대하여 수직 또는 경사를 이루어 이송되는 경우 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)는 지면에 대하여 실질적으로 수직을 이루어, 즉 지면에 대하여 수직방향으로 진공챔버(100)를 분할하여 형성될 수 있다.The first chamber member 110 and the second chamber member 120 may be substantially perpendicular to the paper surface, that is, perpendicular to the paper surface (e.g., perpendicular to the paper surface) The vacuum chamber 100 may be divided into two chambers.

구체적으로 상기 진공챔버(100)는 실질적으로 직육면체 형상을 이룰 수 있으며, 지면에 대하여 수직을 이루거나 경사를 이루어 분할되어 형성된 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)로 구성될 있다.Specifically, the vacuum chamber 100 may have a substantially rectangular parallelepiped shape. The vacuum chamber 100 may include a first chamber member 110 and a second chamber member 120 formed to be perpendicular to the ground surface or divided into slopes .

이때 상기 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120) 중 적어도 어느 하나는 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 처리공간(S)을 밀봉하기 위하여 서로 면접하는 부분에서 각각 폐곡선을 이루는 한 쌍의 오링(210, 220)이 설치될 수 있다.At least one of the first chamber member 110 and the second chamber member 120 may have a closed curve at a portion where the process chamber S is sealed to seal the process space S as shown in FIGS. A pair of O-rings 210 and 220 may be installed.

그리고 상기 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120) 중 어느 하나에는 제1 및 제2챔버부재(110, 120)들이 서로 결합된 상태에서 한 쌍의 오링(210, 220) 사이에 하나 이상의 요홈부(230)가 형성되고, 요홈부(230)는 대기압보다는 낮고 상기 처리공간(S) 내의 압력보다는 크거나 같은 중간압력이 형성되도록 진공펌프와 연결된다.The first chamber member 110 and the second chamber member 120 are connected to each other through a pair of O-rings 210 and 220 in a state where the first and second chamber members 110 and 120 are coupled to each other. At least one recessed groove 230 is formed and the recessed groove 230 is connected to the vacuum pump so that an intermediate pressure lower than the atmospheric pressure and equal to or greater than the pressure in the process space S is formed.

그리고 상기 요홈부(230)는 오링(210, 220)을 따라서 폐곡선을 이루어 형성되며, 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120) 중 어느 하나에 형성되어 외부에 설치된 진공연결관(250)과 연결되는 연결유로(240)가 형성될 수 있다.The recessed groove 230 is formed in a closed curve along the O-rings 210 and 220 and is formed in any one of the first chamber member 110 and the second chamber member 120, 250 may be formed.

특히 상기 한 쌍의 오링(210, 220)들 중 적어도 어느 하나가 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120) 중 어느 하나에 설치된 경우 동일한 챔버부재에 설치되거나, 다른 챔버부재에 설치되는 등 다양한 형태로 설치될 수 있다.In particular, when at least one of the pair of O-rings 210 and 220 is installed in any one of the first chamber member 110 and the second chamber member 120, it may be installed in the same chamber member, And the like.

즉, 상기 요홈부(230) 및 한 쌍의 오링(210, 220)들은 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120) 중 어느 하나에 모두 설치되거나, 일부가 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120) 중 어느 하나에 설치되고 나머지가 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120) 중 나머지 하나에 설치될 수 있다.That is, the recessed portion 230 and the pair of o-rings 210 and 220 may be installed in any one of the first chamber member 110 and the second chamber member 120, And the second chamber member 120 and the remainder may be installed in the other one of the first chamber member 110 and the second chamber member 120.

상기와 같이 한 쌍의 오링(210, 220) 및 중간압력을 형성하는 요홈부(230)에 의하여 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)의 밀폐결합을 안정적으로 유지할 수 있다.The sealing engagement of the first chamber member 110 and the second chamber member 120 can be stably maintained by the pair of O-rings 210 and 220 and the recessed groove 230 forming the intermediate pressure.

특히 상기 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)가 수평방향으로 결합되므로 설치오차 등으로 인하여 결합부분에서 진공압의 누설이 발생될 수 있으나 상기와 같은 한 쌍의 오링(210, 220) 및 중간압력을 형성하는 요홈부(230)에 의하여 안정적으로 처리공간(S)을 밀봉할 수 있게 된다.Particularly, since the first chamber member 110 and the second chamber member 120 are coupled horizontally, leakage of vacuum pressure may occur at the coupling portion due to an installation error or the like. However, the pair of o-rings 210, 220 and the recessed trenches 230 forming the intermediate pressure can seal the processing space S stably.

한편 상기 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)가 수평방향으로 결합됨에 따라서 결합부분에서 진공압의 누설이 발생될 수 있는 문제점을 상기와 한 쌍의 오링(210, 220) 및 중간압력을 형성하는 요홈부(230)에 의하여 확보가 어려운 경우가 있다. Meanwhile, when the first chamber member 110 and the second chamber member 120 are horizontally coupled to each other, a problem of leakage of vacuum pressure may occur in the coupling portion. It may be difficult to secure it by the recessed portion 230 forming the intermediate pressure.

특히 대형기판의 처리를 위한 챔버의 크기도 같이 증가하게 되어 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)의 자중이 크게 증가하여 기계적 오차 등으로 인한 진공압의 누설을 보다 견고하게 방지할 필요가 있다.Particularly, the size of the chamber for processing a large substrate also increases, so that the self weight of the first chamber member 110 and the second chamber member 120 is greatly increased, and the leakage of the vacuum pressure due to mechanical errors or the like is more firmly prevented Needs to be.

따라서 상기 기판처리장치는 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)에 각각 설치되고 서로 결합되어 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)가 수평방향으로 밀착시키는 제1클램핑부(310) 및 제2클램핑부(320)를 더 포함할 수 있다.Accordingly, the substrate processing apparatus is installed in the first chamber member 110 and the second chamber member 120 and is coupled to each other so that the first chamber member 110 and the second chamber member 120 are in close contact with each other in the horizontal direction 1 clamping unit 310 and a second clamping unit 320. [0031]

이때 상기 제1클램핑부(310) 및 제2클램핑부(320)의 설치를 위하여 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)는 서로 결합되는 부분에서 수평방향 좌우측으로 서로 면접하는 플렌지부(111, 121)가 연장형성되고, 제1클램핑부(310) 및 제2클램핑부(320)는 각각 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)에 설치될 수 있다.The first chamber member 110 and the second chamber member 120 are coupled to each other at right and left sides in the horizontal direction at the portions where the first chamber member 110 and the second chamber member 120 are coupled to each other for installing the first clamping unit 310 and the second clamping unit 320. [ The first clamping part 310 and the second clamping part 320 may be installed in the first chamber member 110 and the second chamber member 120, respectively.

상기 제1클램핑부(310) 및 제2클램핑부(320)는 서로 결합되어 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)가 수평방향으로 밀착시키는 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.The first clamping part 310 and the second clamping part 320 are coupled to each other to allow the first chamber member 110 and the second chamber member 120 to closely contact each other in the horizontal direction.

일예로서, 상기 제1클램핑부(310)는 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)의 플렌지부(111, 121)들을 관통하여 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)의 결합방향으로 선형이동되는 록킹부재(311)와, 록킹부재(311)를 결합방향으로 선형이동시키는 선형구동부(312)를 포함한다.The first clamping part 310 may extend through the first chamber member 110 and the flange parts 111 and 121 of the second chamber member 120 to form the first chamber member 110 and the second chamber member 120. [ A locking member 311 linearly moved in the direction of engagement of the locking member 311 and a linear driving unit 312 linearly moving the locking member 311 in the coupling direction.

상기 록킹부재(311)는 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)의 플렌지부(111, 121)들을 관통하여 설치되어 후술하는 제2클램핑부재(321)에 클램핑되거나 해제되며 선형이동이 가능한 구성으로서 다양한 구성이 가능하다. 여기서 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)의 플렌지부(111, 121)는 록킹부재(311)의 관통이 가능하도록 관통공(111a, 121a) 또는 관통홈이 형성된다.The locking member 311 is installed through the flange portions 111 and 121 of the first chamber member 110 and the second chamber member 120 so as to be clamped or released to the second clamping member 321, Various configurations are possible as a movable configuration. The first chamber member 110 and the flange portions 111 and 121 of the second chamber member 120 are formed with through holes 111a and 121a or through holes to allow the locking member 311 to pass therethrough.

상기 선형구동부(312)는 록킹부재(311)를 선형이동시키기 위한 구성으로서 다양한 구성이 가능하며, 제1챔버부재(110)의 플렌지부(111)에 직접 또는 브라켓(313)에 의하여 결합된다.The linear driving unit 312 may be configured to linearly move the locking member 311 and may be connected to the flange 111 of the first chamber member 110 directly or by the bracket 313.

상기 제2클램핑부(320)는 록킹부재(311)가 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)이 플렌지부(111, 121)들을 관통하여 돌출되었을 때 록킹부재(311)를 클램핑하는 클램핑부재(321)와, 클램핑부재(321)를 이동시켜 록킹부재(311)를 클램핑하거나 클램핑을 해제하는 클램핑구동부(322)를 포함한다.The second clamping unit 320 may be configured such that when the first chamber member 110 and the second chamber member 120 protrude through the flange portions 111 and 121, A clamping member 321 for clamping the clamping member 321 and a clamping driving unit 322 for clamping or releasing the clamping member 311 by moving the clamping member 321. [

상기 클램핑부재(321)는 록킹부재(311)에 따라서 다양한 구성이 가능하다.The clamping member 321 may have a variety of configurations according to the locking member 311.

일예로서, 도 4a 내지 도 5b에 도시된 바와 같이, 록킹부재(311)가 그 끝단부분에 외경방향으로 돌출된 환형의 돌출부(311a)가 형성되었을 때, 클램핑부재(321)는 전진하여 돌출부(311a)가 걸림되어 클램핑되고, 후진하여 돌출부(311a)와의 걸림이 해제, 즉 클램핑이 해제되도록 그 끝단이 'U'자 형상을 이룰 수 있다.4A to 5B, when an annular protrusion 311a protruding in the outer diameter direction is formed at the end portion of the locking member 311, the clamping member 321 is advanced to move the protrusion 311a are clamped and clamped, and the ends thereof can be formed into a U-shape so that the clamping is released, that is, the clamping is released, with the projecting portion 311a.

여기서 상기 클램핑부재(321)는 록킹부재(311)의 돌출부(311a)가 안착되도록 안착부(321a)가 형성되는 등 다양한 형상이 가능하다.Here, the clamping member 321 may have various shapes such as a seating portion 321a formed so that the protrusion 311a of the locking member 311 is seated.

상기 클램핑구동부(322)는 클램핑부재(321)를 이동시켜 록킹부재(311)를 클램핑하거나 클램핑을 해제하는 구성으로서, 록킹부재(311) 및 클램핑부재(321)의 결합관계에 따라서 다양한 구성이 가능하다.The clamping driving unit 322 is configured to move the clamping member 321 to clamp or unlock the locking member 311. The clamping driving unit 322 can have various configurations according to the coupling relationship between the locking member 311 and the clamping member 321 Do.

그리고 상기 크램핑구동부(322)는 제2챔버부재(120)의 플렌지부(122)에 직접 결합되거나 브라켓(323)에 설치될 수 있다.The cramping operation part 322 may be directly coupled to the flange part 122 of the second chamber member 120 or may be installed in the bracket 323.

상기와 같은 구성을 가지는 제1클램핑부(310) 및 제2클램핑부(320)의 구성에 의하여 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)가 견고하게 결합될 수 있다.The first chamber member 110 and the second chamber member 120 may be firmly coupled to each other by the first clamping unit 310 and the second clamping unit 320 having the above-described structure.

특히 상기 제1클램핑부(320)의 선형구동부(322)는 도 4a 및 도 5a에 도시된 바와 같이, 클램핑부재(321)가 록킹부재(311)를 클램핑하였을 때 록킹부재(311)를 미리 설정된 힘으로 클램핑력을 가할 수 있다.The linear driving unit 322 of the first clamping unit 320 may be configured such that when the clamping member 321 clamps the locking member 311 as shown in Figures 4A and 5A, The clamping force can be applied by force.

상기 제1클램핑부(320)의 선형구동부(322)가 록킹부재(311)를 미리 설정된 힘으로 인력을 가하게 되면, 록킹부재(311)와 결합된 클램핑부재(321)에 대하여도 인력이 작용하고 이는 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)의 플렌지부(111, 121)에 각각 결합된 제1클램핑부(310) 및 제2클램핑부(320) 사이에 인력으로서 작용하여 결과적으로 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120) 사이의 결합력으로서 작용하여 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)를 견고하게 결합된 상태를 유지할 수 있게 된다.When the linear driving unit 322 of the first clamping unit 320 applies a force to the locking member 311 with a predetermined force, a force acts also on the clamping member 321 coupled with the locking member 311 This acts as attraction between the first clamping portion 310 and the second clamping portion 320 coupled to the flange portions 111 and 121 of the first chamber member 110 and the second chamber member 120, The first chamber member 110 and the second chamber member 120 can act as a coupling force between the first chamber member 110 and the second chamber member 120 to maintain the first chamber member 110 and the second chamber member 120 in a firmly coupled state.

한편 상기와 같은 구성을 가지는 제1클램핑부(310) 및 제2클램핑부(320)는 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)의 결합시 록킹부재(311) 및 클램핑부재(321)의 클램핑에 의하여 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)를 견고하게 결합된 상태를 유지한다.The first clamping unit 310 and the second clamping unit 320 having the above-described structure are configured to have the same structure as the first chamber member 110 and the second chamber member 120 when the locking member 311 and the clamping member The first chamber member 110 and the second chamber member 120 are firmly coupled to each other by the clamping of the first and second chamber members 321 and 321.

그리고 상기 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)가 분리될 때에는 도 4a및 도 5b에 도시된 바와 같이, 제1클램핑부(310) 및 제2클램핑부(320)의 록킹부재(311) 및 클램핑부재(321)의 클램핑을 해제하여 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)의 수평방향으로의 상대이동을 가능케 하여 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)가 분리된다.When the first chamber member 110 and the second chamber member 120 are separated from each other, as shown in FIGS. 4A and 5B, the first and second clamping members 310, The clamping member 311 and the clamping member 321 are unclamped to allow relative movement of the first chamber member 110 and the second chamber member 120 in the horizontal direction so that the first chamber member 110 and the second chamber member 120 The member 120 is separated.

한편 상기 제1클램핑부(310) 및 제2클램핑부(320)의 구성은 서로 대체될 수 있으며, 설치 위치는 진공챔버(100)의 측면, 즉 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)의 결합방향을 기준으로 상측에 2개 하측에 2개가 설치되는 등 필요에 따라 적소에 적당한 수로 설치될 수 있다.The first clamping part 310 and the second clamping part 320 may be replaced with each other. The mounting position may be a side surface of the vacuum chamber 100, that is, a side surface of the first chamber member 110, Two on the upper side and two on the lower side with respect to the direction of connection of the main body 120, and may be installed in any suitable number as appropriate.

한편 상기 제1챔버부재(110)는 제2챔버부재(120)와 수평방향의 상대이동에 의하여 서로 탈착가능하게 결합되거나, 지지프레임(241) 등에 위치가 고정되어 설치되며 후술하는 제2챔버부재(120)에 형합되는 공간이 형성된다.Meanwhile, the first chamber member 110 may be detachably coupled to the second chamber member 120 due to a relative movement in the horizontal direction, or may be fixed to the support frame 241, (Not shown).

그리고 상기 제1챔버부재(110)가 고정되어 설치되는 경우 진공챔버(100)의 구성에 있어서, 기판(10)의 원활한 도입 및 배출을 위하여 기판(10)이 입출되는 하나 이상의 게이트(119)가 형성됨이 바람직하다.When the first chamber member 110 is fixed and installed in the vacuum chamber 100, at least one gate 119 through which the substrate 10 enters and leaves for smooth introduction and discharge of the substrate 10 .

상기 제1챔버부재(110)에 게이트(121)가 형성되는 이유는 게이트(121)의 개폐를 위한 게이트밸브(미도시)와, 진공챔버(100)에 결합된 가이드레일(미도시)이 위치가 고정되어 설치되는 것이 바람직한바 이와 연결되는 게이트(121) 또한 위치가 고정된 제1챔버부재(110)에 형성될 필요가 있기 때문이다.The reason why the gate 121 is formed in the first chamber member 110 is that a gate valve (not shown) for opening and closing the gate 121 and a guide rail (not shown) coupled to the vacuum chamber 100 It is preferable that the gate 121 connected thereto is also formed in the first chamber member 110 fixed in position.

아울러, 위치가 고정되어 설치된 상기 제1챔버부재(110)는 그 내부에 기판(10)의 이송을 위한 가이드레일(미도시)이 설치될 수 있다.In addition, a guide rail (not shown) for conveying the substrate 10 may be installed in the first chamber member 110 in which the first chamber member 110 is fixed.

상기와 같이 진공챔버(100)의 구성 중 위치가 고정된 제1챔버부재(110)는 기판(10)의 안정적인 이송 및 모듈과의 결합을 위하여 기판(10)의 입출을 위한 게이트(121), 기판(10) 이송을 위한 가이드레일 등이 설치됨이 바람직하다.The first chamber member 110 having the fixed position of the vacuum chamber 100 has a gate 121 for entering and exiting the substrate 10 for stable transfer of the substrate 10 and coupling with the module, A guide rail for transporting the substrate 10, and the like are preferably provided.

한편 상기 진공챔버(100)는 기판 및 마스크를 정렬하는 얼라이너장치(미도시)가 설치될 수 있다.Meanwhile, the vacuum chamber 100 may include an aligner device (not shown) for aligning the substrate and the mask.

상기 얼라이너장치는 기판 및 마스크를 정렬하는 정렬할 수 있는 구성이면 어떠한 구성도 가능하다.The aligner device can be configured as long as it can be arranged to align the substrate and the mask.

특히 상기 얼라이너장치는 기판 및 마스크 사이의 정밀한 이동을 통한 정렬을 요하므로 위치가 고정된 제1챔버부재(110)에 설치됨이 바람직하다.Particularly, the aligner apparatus is preferably installed in the first chamber member 110 fixed in position because it requires alignment through precise movement between the substrate and the mask.

상기 제2챔버부재(120)는 챔버착탈부에 의하여 수평이동하여 지지프레임(210) 상에 고정설치된 제1챔버부재(110)와 착탈결합되어 처리공간(S)을 형성하는 구성으로서 제1챔버부재(110)에 형합되는 공간이 형성된다.The second chamber member 120 is horizontally moved by the chamber detachment unit to be detachably coupled to the first chamber member 110 fixed on the support frame 210 to form a process space S, And a space formed in the member 110 is formed.

상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재는 실질적으로 직육면체 형상을 이루는 상기 진공챔버를 지면에 대하여 수직을 이루어 분할하여 형성되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.Wherein the first chamber member and the second chamber member are formed by dividing the vacuum chamber having a substantially rectangular parallelepiped shape perpendicularly to the paper surface.

한편 상기 진공챔버(100)에는 기판처리의 수행을 위한 기판처리모듈(190)이 설치되며 기판처리에 따라서 다양하게 구성될 수 있다.Meanwhile, the substrate processing module 190 for performing substrate processing may be installed in the vacuum chamber 100 and may be variously configured according to substrate processing.

일예로서, 상기 기판처리모듈(190)은 기판(10)에 박막을 형성하기 위하여 증착물을 증발시키는 증발원으로서, 기판처리의 수행을 위한 모듈로서, 증발에 의하여 기판처리면에 증착될 증착물질이 담긴 용기(미도시) 및 용기에서 증발된 증기가 처리공간(S)으로 분출되는 하나 이상의 분사구(미도시)를 포함할 수 있다.For example, the substrate processing module 190 is an evaporation source for evaporating evaporation material to form a thin film on the substrate 10, and is a module for performing a substrate processing. The evaporation source includes a deposition material to be evaporated (Not shown) in which the vapor (not shown) and the vapor evaporated in the vessel are ejected into the processing space S.

또 다른 예로서, 상기 기판처리모듈(190)은 기판(10)에 박막을 형성하기 위한 증착물로 이루어지는 스퍼터링소스타겟이 설치될 수 있다.As another example, the substrate processing module 190 may be provided with a sputtering source target made of a deposition material for forming a thin film on the substrate 10.

여기서 상기 기판처리모듈(190)은 기판(10)의 이송과는 무관한 구성이므로 위치가 고정된 제1챔버부재(110)보다는 수평이동되는 제2챔버부재(120)에 설치됨이 바람직하다.Since the substrate processing module 190 is independent of the transfer of the substrate 10, the substrate processing module 190 is installed in the second chamber member 120, which is horizontally moved, rather than the first chamber member 110 having a fixed position.

상기 챔버착탈부는 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)의 수평방향으로의 상대이동을 구동하기 위한 구성으로서, 제1챔버부재(110) 및 제2챔버부재(120)의 이동태양에 따라서 다양한 구성이 가능하다.The chamber detachable portion is configured to drive the relative movement of the first chamber member 110 and the second chamber member 120 in the horizontal direction and is configured to move the first chamber member 110 and the second chamber member 120 Various configurations are possible depending on the sun.

일예로서, 상기 챔버착탈부는 제2챔버부재(120)의 선형수평이동을 가이드하는 가이드부(242)와, 제2챔버부재(242)가 가이드부(242)를 따라서 선형수평이동을 구동하는 선형구동부(미도시)를 포함할 수 있다.The chamber detachment portion includes a guide portion 242 for guiding the linear horizontal movement of the second chamber member 120 and a second chamber member 242 for guiding the linear horizontal movement of the second chamber member 120. [ And may include a driving unit (not shown).

상기 가이드부(242)는 제2챔버부재(120)의 선형수평이동을 가이드하기 위한 구성으로서 가이드레일 등 다양한 구성이 가능하다.The guide part 242 may have a variety of configurations such as guide rails for guiding the linear horizontal movement of the second chamber member 120.

상기 선형구동부는 제2챔버부재(120)를 가이드부(242)를 따라서 선형이동을 구동하기 위한 구성으로서 다양한 구성이 가능하다.The linear driving unit may have various configurations as a configuration for driving linear movement of the second chamber member 120 along the guide unit 242.

한편 상기 제2챔버부재(120)는 가이드부(242)를 따라서 선형이동하는 가이드블록(243)에 지지되어 설치될 수 있다.Meanwhile, the second chamber member 120 may be supported by a guide block 243 linearly moving along the guide part 242.

그리고 상기 가이드부(242) 및 제1챔버부재(110)는 지지프레임(241)에 지지되어 설치될 수 있다.The guide part 242 and the first chamber member 110 may be supported by the support frame 241. [

또한 본 실시예에서는 제1챔버부재(110)의 위치가 고정된 예를 들어 설명하였으나 제1챔버부재(110) 또는 수평이동될 수 있음은 물론이다.In addition, it is needless to say that the first chamber member 110 may be horizontally moved though the position of the first chamber member 110 is fixed in this embodiment.

이상은 본 발명에 의해 구현될 수 있는 바람직한 실시예의 일부에 관하여 설명한 것에 불과하므로, 주지된 바와 같이 본 발명의 범위는 위의 실시예에 한정되어 해석되어서는 안 될 것이며, 위에서 설명된 본 발명의 기술적 사상과 그 근본을 함께 하는 기술적 사상은 모두 본 발명의 범위에 포함된다고 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention as defined in the appended claims. It is to be understood that both the technical idea and the technical spirit of the invention are included in the scope of the present invention.

10 : 기판 20 : 기판트레이
100 : 진공챔버
110 : 제1챔버부재 120 : 제2챔버부재
210, 220 : 오링
310 : 제1클램핑부 320 : 제2클램핑부10: substrate 20: substrate tray
100: Vacuum chamber
110: first chamber member 120: second chamber member
210, 220: O-ring
310: first clamping part 320: second clamping part

Claims (19)

제1챔버부재와, 수평방향 이동에 의하여 상기 제1챔버부재와 탈착가능하게 결합되며 상기 제1챔버부재와 결합되어 상기 제1챔버부재와 함께 기판처리가 수행되는 밀폐된 처리공간을 형성하는 제2챔버부재를 포함하는 진공챔버와;
상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재 중 적어도 어느 하나를 수평이동시켜 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재를 결합시키거나 분리하는 챔버착탈부를 포함하며,
상기 진공챔버는 지면에 대하여 수직 또는 경사를 이루는 방향으로 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재로 분할되며,
상기 챔버착탈부는, 상기 수평이동만으로 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재를 밀착시켜 결합시키거나 분리하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.A first chamber member, a first chamber member, and a second chamber member, the first chamber member being removably coupled to the first chamber member by a horizontal movement and being coupled with the first chamber member to form a closed process space, A vacuum chamber including a two chamber member;
And a chamber detachable portion for horizontally moving at least one of the first chamber member and the second chamber member to couple or separate the first chamber member and the second chamber member,
Wherein the vacuum chamber is divided into the first chamber member and the second chamber member in a direction perpendicular or inclined with respect to the ground,
Wherein the chamber detachable unit is configured to tightly couple or separate the first chamber member and the second chamber member by only the horizontal movement. 청구항 1에 있어서,
상기 제1챔버부재는 위치가 고정되며,
상기 제2챔버부재는 상기 챔버착탈부에 의하여 수평이동되어 상기 제1챔버부재와 착탈되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method according to claim 1,
The first chamber member is fixed in position,
Wherein the second chamber member is horizontally moved by the chamber detachable portion to be detached from the first chamber member. 청구항 2에 있어서,
상기 챔버착탈부는
상기 제2챔버부재의 선형수평이동을 가이드하는 가이드부와, 상기 제2챔버부재가 상기 가이드부를 따라서 선형수평이동을 구동하는 선형구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 2,
The chamber detachable portion
A guide portion for guiding the linear horizontal movement of the second chamber member; and a linear driving portion for driving the linear movement of the second chamber member along the guide portion. 청구항 2에 있어서,
상기 제1챔버부재는 기판이 입출되는 게이트가 형성된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 2,
Wherein the first chamber member is formed with a gate through which the substrate enters and leaves. 청구항 2에 있어서,
상기 제1챔버부재는 기판의 이송을 위한 가이드레일이 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 2,
Wherein the first chamber member is provided with a guide rail for transferring the substrate. 청구항 2에 있어서,
상기 제1챔버부재는 기판 및 마스크를 정렬하는 얼라이너장치가 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 2,
Wherein the first chamber member is provided with an aligner device for aligning the substrate and the mask. 청구항 2에 있어서,
상기 제2챔버부재는 기판에 박막을 형성하기 위한 증착물을 증발시키는 증발원이 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 2,
Wherein the second chamber member is provided with an evaporation source for evaporating a deposition material for forming a thin film on the substrate. 청구항 2에 있어서,
상기 제2챔버부재는 기판에 박막을 형성하기 위한 증착물로 이루어지는 스퍼터링소스타겟이 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 2,
Wherein the second chamber member is provided with a sputtering source target made of a deposition material for forming a thin film on the substrate. 청구항 1 내지 청구항 8 중 어느 하나의 항에 있어서,
상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재 중 적어도 어느 하나는 서로 면접하는 부분에 상기 처리공간의 밀봉을 위하여 각각 폐곡선을 이루는 한 쌍의 오링들이 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method according to any one of claims 1 to 8,
Wherein at least one of the first chamber member and the second chamber member is provided with a pair of O-rings, each of which forms a closed curve for sealing the processing space. 제1챔버부재와, 수평방향 이동에 의하여 상기 제1챔버부재와 탈착가능하게 결합되며 상기 제1챔버부재와 결합되어 기판처리가 수행되는 밀폐된 처리공간을 형성하는 제2챔버부재를 포함하는 진공챔버와;
상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재 중 적어도 어느 하나를 수평이동시켜 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재를 결합시키거나 분리하는 챔버착탈부를 포함하며,
상기 진공챔버는 지면에 대하여 수직 또는 경사를 이루는 방향으로 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재로 분할되며,
상기 챔버착탈부는, 상기 수평이동만으로 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재를 밀착시켜 결합시키거나 분리하며,
상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재 중 적어도 어느 하나는 서로 면접하는 부분에 상기 처리공간의 밀봉을 위하여 각각 폐곡선을 이루는 한 쌍의 오링들이 설치되며,
상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재 중 적어도 어느 하나는 상기 제1 및 제2챔버부재들이 서로 결합된 상태에서 상기 한 쌍의 오링들 사이에 위치되는 하나 이상의 요홈부가 형성되고,
상기 요홈부 및 상기 한 쌍의 오링들은 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재 중 어느 하나에 함께 설치되거나, 상기 요홈부 및 상기 한 쌍의 오링들 중 적어도 어느 하나는 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재 중 어느 하나에 설치되고 나머지는 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재 중 다른 하나에 설치되며,
상기 요홈부는 대기압보다는 낮고 상기 처리공간 내의 압력보다는 크거나 같은 압력이 형성되도록 진공펌프와 연결된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.And a second chamber member coupled to the first chamber member by detachment from the first chamber member by horizontal movement and coupled with the first chamber member to form a closed process space in which substrate processing is performed, A chamber;
And a chamber detachable portion for horizontally moving at least one of the first chamber member and the second chamber member to couple or separate the first chamber member and the second chamber member,
Wherein the vacuum chamber is divided into the first chamber member and the second chamber member in a direction perpendicular or inclined with respect to the ground,
Wherein the chamber detachable portion is configured to closely adhere and separate or separate the first chamber member and the second chamber member by only the horizontal movement,
Wherein at least one of the first chamber member and the second chamber member is provided with a pair of O-rings, each of which forms a closed curve for sealing the processing space,
At least one of the first chamber member and the second chamber member is formed with at least one recessed portion positioned between the pair of O-rings in a state where the first and second chamber members are coupled to each other,
Wherein the recessed groove and the pair of O-rings are installed together in one of the first chamber member and the second chamber member, or at least one of the recessed groove and the pair of O- And the other of the first chamber member and the second chamber member is installed in one of the second chamber members and the other is installed in the other of the first chamber member and the second chamber member,
Wherein the recess is connected to a vacuum pump such that a pressure lower than the atmospheric pressure and equal to or greater than the pressure in the processing space is formed. 청구항 10에 있어서,
상기 요홈부는 상기 오링을 따라서 폐곡선을 이루어 형성된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 10,
Wherein the concave portion is formed as a closed curve along the O-ring. 청구항 10에 있어서,
상기 요홈부는 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재 중 어느 하나에 형성되어 외부에 설치된 진공연결관과 연결되는 연결유로가 형성된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.The method of claim 10,
Wherein the recess is formed in one of the first chamber member and the second chamber member and is connected to a vacuum connection pipe provided on the outside. 제1챔버부재와, 수평방향 이동에 의하여 상기 제1챔버부재와 탈착가능하게 결합되며 상기 제1챔버부재와 결합되어 기판처리가 수행되는 밀폐된 처리공간을 형성하는 제2챔버부재를 포함하는 진공챔버와;
상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재 중 적어도 어느 하나를 수평이동시켜 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재를 결합시키거나 분리하는 챔버착탈부를 포함하며,
상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재에 각각 설치되고 서로 결합되어 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재가 수평방향으로 밀착시키는 제1클램핑부 및 제2클램핑부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.And a second chamber member coupled to the first chamber member by detachment from the first chamber member by horizontal movement and coupled with the first chamber member to form a closed process space in which substrate processing is performed, A chamber;
And a chamber detachable portion for horizontally moving at least one of the first chamber member and the second chamber member to couple or separate the first chamber member and the second chamber member,
And a first clamping unit and a second clamping unit installed in the first chamber member and the second chamber member and coupled to each other to closely contact the first chamber member and the second chamber member in a horizontal direction, . 청구항 13에 있어서,
상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재는 서로 결합되는 부분에서 수평방향 좌우측으로 연장형성되어 서로 면접하는 플렌지부를 포함하고,
상기 제1클램핑부 및 상기 제2클램핑부는 각각 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재에 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.14. The method of claim 13,
Wherein the first chamber member and the second chamber member include a flange portion extending horizontally laterally to face each other at a portion where the first chamber member and the second chamber member are coupled to each other,
Wherein the first clamping unit and the second clamping unit are installed in the first chamber member and the second chamber member, respectively. 청구항 14에 있어서,
상기 제1클램핑부 및 상기 제2클램핑부 중 어느 하나는
상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재의 플렌지부들을 관통하여 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재의 결합방향으로 선형이동되는 록킹부재와, 상기 록킹부재를 상기 결합방향으로 선형이동시키는 선형구동부를 포함하며,
상기 제1클램핑부 및 상기 제2클램핑부 중 나머지 하나는
상기 록킹부재가 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재의 플렌지부들을 관통하여 돌출되었을 때 상기 록킹부재를 클램핑하는 클램핑부재와, 상기 클램핑부재를 이동시켜 상기 록킹부재를 클램핑하거나 클램핑을 해제하는 클램핑구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.15. The method of claim 14,
Wherein one of the first clamping portion and the second clamping portion
A locking member that is linearly moved through the first chamber member and the flange portions of the second chamber member in the direction of engagement of the first chamber member and the second chamber member, and a locking member that linearly moves the locking member in the coupling direction And a linear driving unit,
And the other of the first clamping part and the second clamping part
A clamping member for clamping the locking member when the locking member protrudes through the flange portions of the first chamber member and the second chamber member; and a clamping member for moving the clamping member to clamp or unclamp the locking member And a clamping drive unit. 청구항 15에 있어서,
상기 선형구동부는 상기 클램핑부재가 상기 록킹부재를 클램핑하였을 때 상기 록킹부재를 미리 설정된 힘으로 인력을 가하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.16. The method of claim 15,
Wherein the linear driving unit applies a predetermined force to the locking member when the clamping member clamps the locking member. 청구항 15에 있어서,
상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재 중 적어도 어느 하나는 서로 면접하는 부분에 처리공간의 밀봉을 위하여 각각 폐곡선을 이루는 한 쌍의 오링들이 설치된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.16. The method of claim 15,
Wherein at least one of the first chamber member and the second chamber member is provided with a pair of O-rings, each of which forms a closed curve for sealing a processing space at a portion where the first chamber member and the second chamber member are in contact with each other. 청구항 17에 있어서,
상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재 중 적어도 어느 하나는 상기 제1 및 제2챔버부재들이 서로 결합된 상태에서 상기 한 쌍의 오링들 사이에 위치되는 하나 이상의 요홈부가 형성되고,
상기 요홈부 및 상기 한 쌍의 오링들은 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재 중 어느 하나에 함께 설치되거나, 상기 요홈부 및 상기 한 쌍의 오링들 중 적어도 어느 하나는 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재 중 어느 하나에 설치되고 나머지는 상기 제1챔버부재 및 상기 제2챔버부재 중 다른 하나에 설치되며,
상기 요홈부는 대기압보다는 낮고 상기 처리공간 내의 압력보다는 크거나 같은 압력이 형성되도록 진공펌프와 연결된 것을 특징으로 하는 기판처리장치.18. The method of claim 17,
At least one of the first chamber member and the second chamber member is formed with at least one recessed portion positioned between the pair of O-rings in a state where the first and second chamber members are coupled to each other,
Wherein the recessed groove and the pair of O-rings are installed together in one of the first chamber member and the second chamber member, or at least one of the recessed groove and the pair of O- And the other of the first chamber member and the second chamber member is installed in one of the second chamber members and the other is installed in the other of the first chamber member and the second chamber member,
Wherein the recess is connected to a vacuum pump such that a pressure lower than the atmospheric pressure and equal to or greater than the pressure in the processing space is formed. 삭제delete
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