KR20180067231A - Mask assembly and substrate supporting assembly - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a mask assembly and a substrate support assembly of a substrate processing apparatus. The present invention greatly improves control and reliability of aligning and a close operation of a substrate (S) and a mask (M) by providing a mask assembly, thereby greatly improving a yield of substrate processing. The mask assembly comprises: a rectangular support unit (372) to which the mask (M) is fixedly coupled; a clamping engagement unit (374) coupled at an edge of the support unit (372) with a mask clamping unit (100) in the direction perpendicular to the surface of the mask (M); and a connection unit (376) connecting the support unit (372) and the clamping engagement unit (374) between the support unit (372) and the clamping engagement unit (374).

Description

기판처리장치의 마스크조립체 및 기판지지조립체 {Mask assembly and substrate supporting assembly}Technical Field The present invention relates to a mask assembly and a substrate supporting assembly for a substrate processing apparatus,

본 발명은 마스크 및 기판을 밀착시켜 기판처리를 수행하는 기판처리장치의 마스크조립체 및 기판지지조립체에 관한 것이다.The present invention relates to a mask assembly and a substrate support assembly of a substrate processing apparatus for performing substrate processing by bringing a mask and a substrate in close contact with each other.

기판처리장치는 반도체 제조용 웨이퍼, LCD 제조용 기판, OLED 제조용 기판 등을 제조하기 위하여 증착공정, 식각공정 등을 수행하는 장치로서 기판처리의 종류, 조건 등에 따라서 다양하게 구성된다.The substrate processing apparatus is a device for performing a deposition process, an etching process, and the like in order to manufacture a wafer for semiconductor manufacturing, a substrate for LCD manufacturing, a substrate for manufacturing an OLED, and the like.

기판처리장치의 일 예로서, 증착기가 있으며, 증착기란, 기판의 표면에 CVD, PVD, 증발증착 등 박막을 형성하는 장치를 말한다.As an example of the substrate processing apparatus, there is an evaporator, and the evaporator is an apparatus for forming a thin film such as CVD, PVD, or evaporation on the surface of a substrate.

그리고 OLED 제조용 기판의 경우 증착물질의 증착에 있어 유기물, 무기물, 금속 등을 증발시켜 기판 표면에 박막을 형성하는 공정이 많이 사용되고 있다.In the case of a substrate for manufacturing an OLED, a process for forming a thin film on the surface of a substrate by evaporating organic substances, inorganic substances, metals, etc. is widely used for deposition of a deposition material.

증착물질을 증발시켜 박막을 형성하는 증착기는 증착용 기판이 로딩되는 증착챔버와, 증착챔버 내부에 설치되어 기판에 대하여 증착물질을 증발하도록 증착물질을 가열하여 증발시키는 소스를 포함하여, 증착물질이 증발되어 기판표면에 박막을 형성하는 기판처리를 수행한다.A deposition apparatus for forming a thin film by evaporating a deposition material includes a deposition chamber in which a deposition substrate is loaded, and a source disposed inside the deposition chamber for heating and evaporating the deposition material to evaporate the deposition material to the substrate, And the substrate is evaporated to form a thin film on the substrate surface.

또한 OLED 증착기에 사용되는 소스는 증착챔버 내부에 설치되어 기판에 대하여 증착물질을 증발하도록 증착물질을 가열하여 증발시키는 구성요소로서 그 증발방식에 따라서 한국공개특허 제10-20009-0015324호, 한국공개특허 제10-2004-0110718호 등 다양한 구조가 가능하다.In addition, the source used in the OLED deposition apparatus is a component installed in the deposition chamber to heat and vaporize the deposition material so as to evaporate the deposition material on the substrate. According to the evaporation method, Korean Patent Publication No. 10-20009-0015324, Patent No. 10-2004-0110718, and the like.

한편 OLED 증착기는 도 1에 볼 수 있듯이 소정의 패턴을 가지는 양극, 음극, 유기막 등은 기판(S)에 마스크(M)를 밀착결합시켜 형성된다.1, an anode, a cathode, an organic layer, and the like having a predetermined pattern are formed by closely bonding a mask M to a substrate S.

여기서 기판(S) 및 마스크(M)의 밀착과정에서 과도한 힘이 작용하는 경우 금속 등의 견고한 재질을 가지는 마스크에 과도한 압력에 의하여 기판이 파손되는 문제점이 있다.Here, when an excessive force acts on the substrate S and the mask M, there is a problem that the substrate is damaged by excessive pressure on a mask having a rigid material such as a metal.

또한 기판(S)을 지지한 상태에서 이동될 때 진동이 기판(S)에 전달되어 기판에 균열 등의 형성의 원인으로 작용하거나 정전척 상의 기판위치가 미세하게 이동되는 문제점이 있다.Also, when the substrate S is moved while being supported, the vibration is transmitted to the substrate S to cause cracks or the like on the substrate, or the position of the substrate on the electrostatic chuck may be finely moved.

본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위하여, 기판 및 마스크 밀착시 마스크 및 기판에 과도한 압력이 작용하는 것을 방지하고 외부 진동이 마스크에 전달되는 것을 방지할 수 있는 기판처리장치의 마스크조립체를 제공하는 것을 제1목적으로 한다.The present invention provides a mask assembly for a substrate processing apparatus capable of preventing excessive pressure from being applied to a mask and a substrate when the substrate and a mask are closely contacted and preventing external vibration from being transmitted to the mask, 1 Purpose.

그리고 본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위하여, 기판 및 마스크 밀착시 마스크 및 기판에 과도한 압력이 작용하는 것을 방지하고 외부 진동이 기판에 전달되는 것을 방지할 수 있는 기판처리장치의 기판지지조립체를 제공하는 것을 제2목적으로 한다.The present invention also provides a substrate support assembly for a substrate processing apparatus capable of preventing excessive pressure from being applied to a mask and a substrate and preventing external vibration from being transmitted to the substrate when the substrate and the mask are closely contacted As a second object.

상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명에 따른 마스크조립체는 외부와 격리된 공정환경을 제공하는 공정챔버(10), 상기 공정챔버(10)에 설치되어 평면형상이 직사각형으로 이루어진 마스크(M)와 결합된 마스크조립체(370), 상기 마스크조립체(370)를 클램핑하는 마스크클램핑부(100), 상기 마스크클램핑부(100)에 결합되어 상기 마스크(M)를 기판(S)에 대해 이동시켜 기판(S) 및 마스크(M)를 서로 밀착시키는 밀착구동부를 포함하는 기판처리장치의 마스크조립체(370)에 있어서, 상기 마스크(M)가 고정결합되는 직사각형 지지부(372), 상기 지지부(372)의 가장자리에서 상기 마스크클램핑부(100)가 상기 마스크(M)의 표면과 수직을 이루는 방향으로 결합되는 클램핑결합부(374), 상기 지지부(372)와 상기 클램핑결합부(374) 사이에서 상기 지지부(372) 및 상기 클램핑결합부(374)를 연결하는 연결부(376)를 포함함을 특징으로 한다.In order to solve the above problems, a mask assembly according to the present invention includes a process chamber 10 for providing a process environment isolated from the outside, a mask M attached to the process chamber 10 and having a rectangular planar shape, A mask clamping unit 100 for clamping the mask assembly 370 and a mask clamping unit 100 coupled to the mask clamping unit 100 to move the mask M relative to the substrate S, And a contact driving part for bringing the mask M into close contact with each other, the mask assembly 370 includes a rectangular support part 372 to which the mask M is fixedly coupled, A clamping engaging portion 374 coupled to the mask clamping portion 100 in a direction perpendicular to the surface of the mask M and a support portion 372 between the support portion 372 and the clamping engaging portion 374. [ And the clamping engagement portion 374, And a connecting portion 376 connecting the connecting portion 370 and the connecting portion 376.

상기 지지부(372)는 상기 마스크(M)가 상하로 노출될 수 있도록 관통개구(372a)가 형성될 수 있다.The supporting portion 372 may be formed with a through-hole 372a so that the mask M can be exposed upward and downward.

상기 클램핑결합부(374)는 상기 지지부(372)의 직사각형 각 꼭지점들에 대응되어 형성될 수 있다.The clamping engagement portion 374 may be formed corresponding to the rectangular vertices of the support portion 372.

상기 클램핑결합부(374)는 상기 지지부(372)의 직사각형 각 꼭지점들에 대응되어 형성됨으로써 지지부(372) 및 이에 결합되는 마스크(M)를 안정되게 지지할 수 있다.The clamping coupling portion 374 is formed to correspond to the rectangular angular points of the support portion 372 to stably support the support portion 372 and the mask M coupled thereto.

상기 클램핑결합부(374)는 상기 지지부(372)의 직사각형의 각 변 중 적어도 하나의 변에 추가로 형성될 수 있다.The clamping engagement portion 374 may be formed on at least one side of each of the rectangular sides of the support portion 372.

이로써 상기 클램핑결합부(374)는 지지부(372) 및 이에 결합되는 마스크(M)를 더 안정되게 지지할 수 있다.The clamping engagement portion 374 can more stably support the support portion 372 and the mask M coupled thereto.

상기 마스크조립체는 상기 복수의 클램핑결합부들(374)와 상기 복수의 클램핑결합부들(374)에 대응되어 형성되는 상기 복수의 연결부들(376)과 함께 평면형상이 직사각형을 이루도록 상기 클램핑결합부들(374) 및 상기 연결부들(376) 및 인접한 상기 클램핑결합부들(374) 및 상기 연결부들(376) 사이를 공간을 복개하는 실드부재(378)를 더 포함할 수 있다.The mask assembly includes a plurality of clamping engaging portions 374 and a plurality of coupling portions 376 formed corresponding to the plurality of clamping engaging portions 374 so that the clamping engaging portions 374 And a shield member 378 covering the space between the connection portions 376 and the adjacent clamping engagement portions 374 and the connection portions 376. [

이로써 상기 클램핑결합부들(374) 및 상기 연결부들(376) 및 인접한 상기 클램핑결합부들(374) 및 상기 연결부들(376) 사이를 공간을 통하여 파티클, 이물질 등이 마스크조립체를 기준으로 반대편으로 흘러가는 것을 방지할 수 있다.As a result, particles, foreign matter, and the like are flowed through the space between the clamping couplings 374 and the coupling portions 376 and the adjacent clamping coupling portions 374 and the coupling portions 376, Can be prevented.

상기와 같은 구성을 가지는 마스크조립체에 결합되는 상기 마스크(M)는 여러가지 구조를 가질 수 있으며 패턴화된 기판처리의 수행을 위하여 소정 패턴으로 형성된 다수의 개구들(352a)이 형성된 마스크시트(352), 상기 마스크시트(352)가 고정결합되는 마스크프레임(351)을 포함할 수 있다.The mask M coupled to the mask assembly having the above-described structure may have a mask sheet 352 having a plurality of openings 352a formed in a predetermined pattern for carrying out the patterned substrate processing, And a mask frame 351 to which the mask sheet 352 is fixedly coupled.

상기 마스크조립체(370)는 자력에 의하여 이송이 가능하도록 상기 공정챔버(10)에 설치된 제1자력이송부와의 상호 자력반응에 의하여 이동되는 제2자력이송부가 설치된 메인프레임(379)을 포함할 수 있다.The mask assembly 370 includes a main frame 379 provided with a second magnetic force transmitting part that is moved by a mutual magnetic force reaction with the transmitting part provided in the process chamber 10 so as to be conveyed by a magnetic force can do.

이와 같은 구성에 의하여 마스크조립체(370)는 공정챔버(10) 등에 안정적으로 이송될 수 있다.With such a configuration, the mask assembly 370 can be stably transferred to the process chamber 10 or the like.

상기 지지부(372), 상기 클램핑결합부(374) 및 상기 연결부(376)는 일체로 형성될 수 있다.The support portion 372, the clamping coupling portion 374, and the connection portion 376 may be integrally formed.

그리고 상기 마스크(M)에 외력이 가해질 때 상기 마스크(M)의 표면에 수직인 방향으로 탄성변형에 의하여 미세 이동이 가능하도록 상기 연결부(376)의 강성은 상기 지지부(372) 및 상기 클램핑결합부(374)의 강성보다 작게 구성될 수 있다.The rigidity of the connection portion 376 is determined by the elasticity of the support portion 372 and the clamping engagement portion 372 so that fine movement of the connection portion 376 can be achieved by elastic deformation in a direction perpendicular to the surface of the mask M when an external force is applied to the mask M. [ (374).

상기 마스크(M)에 외력이 가해질 때 상기 마스크(M)의 표면에 수직인 방향으로 탄성변형에 의하여 미세 이동이 가능한 추가 예로서, 상기 연결부(376)는 적어도 하나 이상의 슬릿(376)이 형성될 수 있다.As an example in which the mask M can be finely moved by elastic deformation in a direction perpendicular to the surface of the mask M when an external force is applied to the mask M, at least one slit 376 is formed in the connection portion 376 .

상기 마스크(M)에 외력이 가해질 때 상기 마스크(M)의 표면에 수직인 방향으로 탄성변형에 의하여 미세 이동이 가능한 추가 예로서, 상기 연결부(376)의 두께는 상기 지지부(372) 및 상기 클램핑결합부(374)의 두께보다 얇게 형성될 수 있다.As a further example in which the mask M can be finely moved by elastic deformation in a direction perpendicular to the surface of the mask M when an external force is applied to the mask M, the thickness of the connecting portion 376 is determined by the thickness of the support portion 372 and the clamping May be formed to be thinner than the thickness of the engaging portion (374).

한편 상기 기판(S) 및 상기 마스크(M)는 상기 공정챔버(10) 내에 수평으로 또는 수직으로 이송되어 수직상태로 고정될 수 있다.Meanwhile, the substrate S and the mask M may be horizontally or vertically transferred in the process chamber 10 and fixed in a vertical state.

그리고 상기 마스크조립체(370)는 Ti 합금 및 CFRP(Carbon Fiber Reinforced Plastic) 중 적어도 어느 하나의 재질로 이루어지는 등 다양한 재질로 제조될 수 있다.The mask assembly 370 may be made of a variety of materials such as a Ti alloy and at least one of CFRP (Carbon Fiber Reinforced Plastic).

본 발명의 다른 측면에 따르면, 본 발명에 따른 기판지지조립체는 외부와 격리된 공정환경을 제공하는 공정챔버(10), 상기 공정챔버(10)에 설치되어 평면형상이 직사각형으로 이루어지며 기판(S)을 지지하는 기판지지조립체(360), 상기 기판지지조립체(360)를 클램핑하는 기판클램핑부(200), 상기 기판클램핑부(200)에 결합되어 기판(S)을 마스크(S)에 대해 이동시켜 기판(S) 및 마스크(M)를 서로 밀착시키는 밀착구동부를 포함하는 기판처리장치의 기판지지조립체(360)에 있어서, 상기 기판(S)을 지지하는 기판지지부(340)가 고정결합되는 직사각형 지지부(372), 상기 지지부(372)의 가장자리에서 상기 기판클램핑부(200)가 상기 기판지지부(340)의 표면과 수직을 이루는 방향으로 결합되는 클램핑결합부(374), 상기 지지부(372)와 상기 클램핑결합부(374) 사이에서 상기 지지부(372) 및 상기 클램핑결합부(374)를 연결하는 연결부(376)를 포함함을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, a substrate support assembly according to the present invention includes a process chamber 10 for providing a process environment isolated from the outside, A substrate clamping unit 200 for clamping the substrate support assembly 360, a substrate holder 360 coupled to the substrate clamping unit 200 to move the substrate S relative to the mask S, And a contact driving part for bringing the substrate S and the mask M into close contact with each other. The substrate supporting assembly 360 includes a rectangular supporting part 340 for supporting the substrate S, A clamping engaging portion 374 coupled to the substrate clamping portion 200 in a direction perpendicular to a surface of the substrate supporting portion 340 at an edge of the supporting portion 372, Between the clamping engagement portions 374, 372 and is characterized in that it comprises a connecting portion 376 for connecting the clamping engaging portion (374).

상기 지지부(372)는 상기 기판지지부(340)가 상하로 노출될 수 있도록 관통개구(372a)가 형성될 수 있다The supporting portion 372 may be formed with a through opening 372a so that the substrate supporting portion 340 can be exposed upward and downward

상기 클램핑결합부(374)는 상기 지지부(372)의 직사각형 각 꼭지점들에 대응되어 형성될 수 있다.The clamping engagement portion 374 may be formed corresponding to the rectangular vertices of the support portion 372.

상기 클램핑결합부(374)는 상기 지지부(372)의 직사각형 각 꼭지점들에 대응되어 형성됨으로써 지지부(372) 및 이에 결합되는 기판지지부(360)를 안정되게 지지할 수 있다.The clamping coupling portion 374 is formed to correspond to the rectangular angular points of the support portion 372 to stably support the support portion 372 and the substrate supporting portion 360 coupled thereto.

상기 클램핑결합부(374)는 상기 지지부(372)의 직사각형의 각 변 중 적어도 하나의 변에 추가로 형성될 수 있다.The clamping engagement portion 374 may be formed on at least one side of each of the rectangular sides of the support portion 372.

이로써 상기 클램핑결합부(374)는 지지부(372) 및 이에 결합되는 기판지지부(360)를 더 안정되게 지지할 수 있다.So that the clamping engagement portion 374 can more stably support the support portion 372 and the substrate support portion 360 coupled thereto.

상기 기판지지조립체는 상기 복수의 클램핑결합부들(374)와 상기 복수의 클램핑결합부들(374)에 대응되어 형성되는 상기 복수의 연결부들(376)과 함께 평면형상이 직사각형을 이루도록 상기 클램핑결합부들(374) 및 상기 연결부들(376) 및 인접한 상기 클램핑결합부들(374) 및 상기 연결부들(376) 사이를 공간을 복개하는 실드부재(378)를 더 포함할 수 있다.The substrate support assembly includes a plurality of clamping engaging portions 374 and a plurality of coupling portions 376 formed to correspond to the plurality of clamping engaging portions 374, And a shield member 378 covering the spaces between the connection portions 376 and the adjacent clamping engagement portions 374 and the connection portions 376. [

상기와 같은 구성을 가지는 기판지지조립체에 결합되는 기판지지부(340)는 정전척을 포함할 수 있다.The substrate support 340 coupled to the substrate support assembly having the above-described structure may include an electrostatic chuck.

상기 기판지지조립체(360)는 자력에 의하여 이송이 가능하도록 상기 공정챔버(10)에 설치된 제1자력이송부와의 상호 자력반응에 의하여 이동되는 제2자력이송부가 설치된 메인프레임(379)을 포함할 수 있다.The substrate support assembly 360 includes a main frame 379 provided with a second magnetic force transmitting part, which is moved by mutual magnetic force reaction with the transmission part, installed in the process chamber 10 so as to be transported by a magnetic force .

이와 같은 구성에 의하여 기판지지조립체(360)는 공정챔버(10) 등에 안정적으로 이송될 수 있다.With such a configuration, the substrate support assembly 360 can be stably transported to the process chamber 10 or the like.

상기 지지부(372), 상기 클램핑결합부(374) 및 상기 연결부(376)는 일체로 형성될 수 있다.The support portion 372, the clamping coupling portion 374, and the connection portion 376 may be integrally formed.

그리고 상기 기판지지부(340)에 외력이 가해질 때 상기 기판지지부(340)의 표면에 수직인 방향으로 탄성변형에 의하여 미세 이동이 가능하도록 상기 연결부(376)의 강성은 상기 지지부(372) 및 상기 클램핑결합부(374)의 강성보다 작게 구성될 수 있다.The rigidity of the connection portion 376 is adjusted by the support portion 372 and the clamping portion 372 so that fine movement of the substrate support portion 340 can be achieved by elastic deformation in a direction perpendicular to the surface of the substrate support portion 340 when an external force is applied to the substrate support portion 340. [ May be configured to be smaller than the rigidity of the engaging portion (374).

상기 기판지지부(340)에 외력이 가해질 때 상기 기판지지부(340)의 표면에 수직인 방향으로 탄성변형에 의하여 미세 이동이 가능한 추가 예로서, 상기 연결부(376)는 적어도 하나 이상의 슬릿(376)이 형성될 수 있다.As a further example, when the external force is applied to the substrate support part 340, the connection part 376 can be finely moved by elastic deformation in a direction perpendicular to the surface of the substrate support part 340. The connection part 376 includes at least one slit 376 .

상기 기판지지부(340)에 외력이 가해질 때 상기 기판지지부(340)의 표면에 수직인 방향으로 탄성변형에 의하여 미세 이동이 가능한 추가 예로서, 상기 연결부(376)의 두께는 상기 지지부(372) 및 상기 클램핑결합부(374)의 두께보다 얇게 형성될 수 있다.As a further example, the thickness of the connection portion 376 may be smaller than the thickness of the support portions 372 and 370 when the external force is applied to the substrate support portion 340, And may be formed to be thinner than the thickness of the clamping engagement portion 374.

상기 기판(S) 및 상기 마스크(M)는 상기 공정챔버(10) 내에 수평으로 또는 수직으로 이송되어 수직상태로 고정될 수 있다.The substrate S and the mask M may be horizontally or vertically transferred in the process chamber 10 and fixed in a vertical state.

한편 상기 기판지지조립체(360)는 Ti 합금 및 CFRP(Carbon Fiber Reinforced Plastic) 중 적어도 어느 하나의 재질로 이루어지는 등 다양한 재질로 제조될 수 있다.Meanwhile, the substrate support assembly 360 may be made of various materials such as a Ti alloy and at least one of CFRP (Carbon Fiber Reinforced Plastic).

본 발명의 제1측면에 따르면, 마스크가 고정결합되는 마스크조립체를 마스크가 고정결합되는 지지부, 마스크조립체를 크램핑하는 클램핑부, 지지부 및 클램핑부를 연결하는 연결부로 구성함으로써 전체 중량을 최소화할 수 있다.According to the first aspect of the present invention, the overall weight can be minimized by constituting the mask assembly to which the mask is fixedly coupled, the support portion to which the mask is fixedly coupled, the clamping portion to clamp the mask assembly, the support portion and the connection portion to connect the clamping portion .

상기 마스크조립체는 전체 중량이 최소화됨에 따라서 기판 및 마스크 밀착시 마스크 및 기판에 과도한 압력이 작용하는 것을 방지하고 외부 진동이 마스크에 전달되는 것을 방지할 수 있다.As the total weight of the mask assembly is minimized, it is possible to prevent excessive pressure from being applied to the mask and the substrate when the substrate and the mask are closely contacted, and to prevent external vibration from being transmitted to the mask.

또한 클램핑부, 지지부 및 연결부를 일체로 형성하고 연결부가 탄성변형이 가능하도록 구성함으로써 기판 및 마스크 밀착시 마스크 및 기판에 과도한 압력이 작용하는 것을 방지하고 외부 진동이 마스크에 전달되는 것을 방지할 수 있다.Further, since the clamping portion, the supporting portion, and the connecting portion are integrally formed and the connecting portion is elastically deformable, it is possible to prevent excessive pressure from being applied to the mask and the substrate when the substrate and the mask are closely contacted, .

본 발명의 제2측면에 따르면, 기판을 지지하는 기판지지부(정전척)가 고정결합되는 기판지지조립체를 기판지지부가 고정결합되는 지지부, 기판지지조립체를 크램핑하는 클램핑부, 지지부 및 클램핑부를 연결하는 연결부로 구성함으로써 전체 중량을 최소화할 수 있다.According to a second aspect of the present invention, there is provided a substrate supporting assembly in which a substrate supporting part (electrostatic chuck) for supporting a substrate is fixedly coupled to a supporting part to which a substrate supporting part is fixedly coupled, a clamping part for clamping a substrate supporting assembly, The total weight can be minimized.

상기 기판지지조립체는 전체 중량이 최소화됨에 따라서 기판 및 마스크 밀착시 마스크 및 기판에 과도한 압력이 작용하는 것을 방지하고 외부 진동이 마스크에 전달되는 것을 방지할 수 있다.As the total weight of the substrate support assembly is minimized, it is possible to prevent excessive pressure from being applied to the mask and the substrate when the substrate and the mask are closely contacted, and to prevent external vibration from being transmitted to the mask.

또한 클램핑부, 지지부 및 연결부를 일체로 형성하고 연결부가 탄성변형이 가능하도록 구성함으로써 기판 및 마스크 밀착시 마스크 및 기판에 과도한 압력이 작용하는 것을 방지하고 외부 진동이 마스크에 전달되는 것을 방지할 수 있다.Further, since the clamping portion, the supporting portion, and the connecting portion are integrally formed and the connecting portion is elastically deformable, it is possible to prevent excessive pressure from being applied to the mask and the substrate when the substrate and the mask are closely contacted, .

도 1은 종래의 기판처리장치의 일예로서 OLED 증착기의 일예를 보여주는 단면도,
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리장치의 일부 구성을 보여주는 단면도,
도 3은 도 2의 기판처리장치에 사용되는 마스크조립체의 일 실시예를 보여주는 평면도,
도 4는 도 2의 기판처리장치에 사용되는 기판지지조립체의 일 실시예를 보여주는 평면도,
도 5는 도 4에 도시된 기판지지조립체를 분해한 도시한 단면도,
도 6은 도 3에 도시된 마스크조립체, 또는 도 4에 도시된 기판지지조립체의 구성 일부를 보여주는 평면도,
도 7은 도 6에서 점선으로 표시된 부분의 일 실시예를 도시한 일부 평면도,
도 8은 도 6에서 -Ⅱ방향의 단면도이다.1 is a sectional view showing an example of an OLED evaporator as an example of a conventional substrate processing apparatus,
2 is a cross-sectional view showing a part of the structure of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention,
FIG. 3 is a plan view showing an embodiment of a mask assembly used in the substrate processing apparatus of FIG. 2,
4 is a plan view showing an embodiment of a substrate support assembly for use in the substrate processing apparatus of FIG. 2,
5 is an exploded perspective view of the substrate support assembly shown in FIG. 4,
Figure 6 is a top view of a portion of the mask assembly shown in Figure 3, or the substrate support assembly shown in Figure 4,
FIG. 7 is a partial plan view showing an embodiment of a portion indicated by a dotted line in FIG. 6;
8 is a cross-sectional view in the -II direction in Fig.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대하여 설명한다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판처리장치의 일부 구성을 보여주는 단면도, 도 3은 도 2의 기판처리장치에 사용되는 마스크조립체의 일 실시예를 보여주는 평면도, 도 4는 도 2의 기판처리장치에 사용되는 기판지지조립체의 일 실시예를 보여주는 평면도, 도 5는 도 4에 도시된 기판지지조립체를 분해한 도시한 단면도, 도 6은 도 3에 도시된 마스크조립체, 도 4에 도시된 기판지지조립체의 구성 일부를 보여주는 평면도, 도 7은 도 6에서 점선으로 표시된 부분의 일 실시예를 도시한 일부 평면도, 도 8은 도 6에서 -Ⅱ방향의 단면도이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. 3 is a plan view showing an embodiment of a mask assembly used in the substrate processing apparatus of FIG. 2. FIG. 4 is a cross-sectional view of a substrate processing apparatus of FIG. 2, 5 is a cross-sectional view of an embodiment of the substrate support assembly shown in Fig. 4, Fig. 6 is a cross-sectional view of the mask assembly shown in Fig. 3, FIG. 7 is a partial plan view showing an embodiment of a portion indicated by a dotted line in FIG. 6, and FIG. 8 is a sectional view in the -II direction in FIG.

본 발명에 따른 기판처리장치는 기판(S) 및 마스크(M)가 각각 공정챔버(10)에 이송되어 기판(S) 및 마스크(M)의 이송 및 밀착 후 기판처리를 수행하는 장치로서 증착물질의 증발에 의한 증착기, 원자층 증착 공정을 수행하는 증착기 등 기판처리시 마스크(M)의 사용 및 기판(S) 및 마스크(M)의 얼라인이 필요한 장치이면 모두 적용이 가능하다.The substrate processing apparatus according to the present invention is an apparatus for carrying out substrate processing after the substrate S and the mask M are respectively transferred to the process chamber 10 and transferred and adhered to the substrate S and the mask M, The evaporation of the substrate S, and the evaporation of the mask M during the processing of the substrate, such as a deposition apparatus for performing the atomic layer deposition process.

본 발명에 따른 기판처리장치는 외부와 격리된 공정환경을 제공하는 공정챔버(10), 기판(S) 및 마스크(M)를 서로 밀착시키는 밀착구동부를 포함한다.The substrate processing apparatus according to the present invention includes a process chamber 10 for providing a process environment isolated from the outside, a substrate S, and an adhesion driving unit for bringing the mask M into close contact with each other.

이와 같은 구성을 가지는 기판처리장치는 기판(S) 및 마스크(M)를 공정챔버(10) 내에 개별적으로 이송하고, 이송된 기판(S) 및 마스크(M)을 공정챔버(10) 내부에 고정하고, 고정된 기판(S) 및 마스크(M)의 상대이동에 의하여 얼라인을 수행하고, 얼라인된 기판(S) 및 마스크(M)을 서로 밀착시킨 후에 기판처리공정을 수행할 수 있다.The substrate processing apparatus having such a configuration independently transfers the substrate S and the mask M into the process chamber 10 and fixes the transferred substrate S and the mask M inside the process chamber 10 The substrate S and the mask M are aligned with each other, and the alignment process is performed after aligning the aligned substrate S and the mask M with each other.

기판(S) 및 마스크(M)는 공정챔버(10) 내에 지면에 대해 수직으로 이송되어 수직상태로 고정될 수 있다.The substrate S and the mask M can be vertically transported and fixed in the process chamber 10 perpendicular to the paper surface.

반대로, 기판(S) 및 마스크(M)는 공정챔버(10) 내에 지면에 대해 평행하게 이송되어 수평상태로 고정될 수 있음은 물론이다.Conversely, it goes without saying that the substrate S and the mask M may be transported parallel to the ground in the process chamber 10 and fixed in a horizontal state.

기판(S)의 이송에 있어서, 기판(S)은 기판캐리어(320)에 의하여 고정된 상태로 이송됨이 바람직하다.In transferring the substrate S, it is preferable that the substrate S is transferred in a fixed state by the substrate carrier 320. [

이러한 기판처리장치는 마스크(M)의 고정 또는 이송, 기판(S)의 지지 또는 이송을 위하여 마스크조립체(370) 및 기판지지조립체(360)를 포함할 수 있다.Such a substrate processing apparatus may include a mask assembly 370 and a substrate support assembly 360 for holding or transporting the mask M, supporting or transporting the substrate S. [

#즉, 제1실시예에 따른 기판처리장치는 외부와 격리된 공정환경을 제공하는 공정챔버(10), 공정챔버(10)에 설치되어 평면형상이 직사각형으로 이루어진 마스크(M)와 결합된 마스크조립체(370), 마스크조립체(370)를 클램핑하는 마스크클램핑부(100), 마스크클램핑부(100)에 결합되어 마스크(M)를 기판(S)에 대해 이동시켜 기판(S) 및 마스크(M)를 서로 밀착시키는 밀착구동부를 포함할 수 있다.That is, the substrate processing apparatus according to the first embodiment comprises a process chamber 10 for providing a process environment isolated from the outside, a mask (not shown) combined with a mask M having a rectangular planar shape and installed in the process chamber 10, A mask clamping unit 100 for clamping the mask assembly 370 and a mask clamping unit 100 coupled to the mask clamping unit 100 to move the mask M relative to the substrate S, ) To each other.

마스크조립체(370)는 마스크(M)가 고정결합되는 구성요소로서, 일 실시예 따르면, 도 3, 도 6 내지 도 8에 도시된 바와 같이, 마스크(M)가 고정결합되는 직사각형 지지부(372), 지지부(372)의 가장자리에서 마스크클램핑부(100)가 마스크(M)의 표면과 수직을 이루는 방향으로 결합되는 클램핑결합부(374), 지지부(372)와 클램핑결합부(374) 사이에서 지지부(372) 및 클램핑결합부(374)를 연결하는 연결부(376)를 포함함을 특징으로 한다.The mask assembly 370 is a component to which the mask M is fixedly coupled. According to one embodiment, as shown in Figs. 3, 6 to 8, a rectangular support 372 to which the mask M is fixedly coupled, A clamping engaging portion 374 coupled at the edge of the supporting portion 372 in the direction perpendicular to the surface of the mask M, and a clamping engaging portion 374 interposed between the supporting portion 372 and the clamping engaging portion 374. [ And a connecting portion 376 connecting the clamping portion 372 and the clamping coupling portion 374.

지지부(372)는 직사각형 형상을 가지며 마스크(M)가 고정결합되는 구성요소로서 다양한 구조를 가질 수 있다.The support portion 372 has a rectangular shape and may have various structures as a component in which the mask M is fixedly coupled.

지지부(372)는 마스크(M)의 결합구조에 따라서 다양한 구성이 가능하며 마스크(M)가 상하로 노출될 수 있도록 관통개구(372a)가 형성될 수 있다.The supporting portion 372 can have various structures according to the coupling structure of the mask M and a through opening 372a can be formed so that the mask M can be exposed up and down.

구체적인 실시예에 따르면 지지부(372)는 마스크(M)의 직사각형 형상에 대응되어 전체 형상이 직사각형 고리 형상을 가질 수 있다.According to a specific embodiment, the support portion 372 may correspond to a rectangular shape of the mask M, and the entire shape may have a rectangular ring shape.

그리고 지지부(372)는 용접, 볼팅 등 다양한 고정결합수단에 의하여 마스크(M)가 결합될 수 있다.The supporting portion 372 may be coupled to the mask M by various fixing means such as welding, bolting, or the like.

이를 위하여 지지부(372)에 형성된 관통개구(372a)는 도 8에 도시된 바와 같이, 단차를 가질 수 있다.For this purpose, the through-hole 372a formed in the support portion 372 may have a step as shown in FIG.

클램핑결합부(374)는 지지부(372)의 가장자리에서 마스크클램핑부(100)가 마스크(M)의 표면과 수직을 이루는 방향으로 결합되는 구성요소로서 다양한 구조를 가질 수 있다.The clamping engagement portion 374 may have a variety of structures as a component that is coupled to the mask clamping portion 100 at the edge of the support portion 372 in a direction perpendicular to the surface of the mask M. [

클램핑결합부(374)는 지지부(372)의 직사각형 각 꼭지점들에 대응되어 형성될 수 있다.The clamping engagement portion 374 may be formed corresponding to the rectangular angular points of the support portion 372.

클램핑결합부(374)는 지지부(372)의 직사각형 각 꼭지점들에 대응되어 형성됨으로써 지지부(372) 및 이에 결합되는 마스크(M)를 안정되게 지지할 수 있다.The clamping engagement portion 374 is formed corresponding to the rectangular angular points of the support portion 372 to stably support the support portion 372 and the mask M coupled thereto.

클램핑결합부(374)는 지지부(372)의 직사각형의 각 변 중 적어도 하나의 변에 추가로 형성될 수 있다.The clamping engagement portion 374 may be additionally formed on at least one side of each side of the rectangular portion of the support portion 372. [

이로써 클램핑결합부(374)는 지지부(372) 및 이에 결합되는 마스크(M)를 더 안정되게 지지할 수 있다.As a result, the clamping engagement portion 374 can more stably support the support portion 372 and the mask M coupled thereto.

한편 클램핑결합부(374)는 연결부(376)와 함께 지지부(372)로부터 가장자리 외측으로 돌출된 형상을 가질 수 있다.On the other hand, the clamping engagement portion 374 may have a shape protruding from the support portion 372 together with the connection portion 376 to the outside of the edge.

다른 측면에서 보면 클램핑결합부(374) 및 연결부(376)의 형성에 의하여 마스크조립체(370)의 평면 형상 중 가장자리 일부가 절개된 절개부(378a)가 형성된 형상을 가질 수 있다.In other respects, the mask 370 may have a cut-out portion 378a formed by cutting a part of the edge of the mask assembly 370 by forming the clamping engagement portion 374 and the connection portion 376.

여기서 클램핑결합부(374)는 지지부(372)의 가장자리에서 마스크클램핑부(100)가 마스크(M)의 표면과 수직을 이루는 방향으로 결합되는 실시예로 설명하였으나 마스크클램핑부(100)와의 결합구조 없이 뒤에서 설명하는 메인프레임(379)과만 결합되는 구조로도 이루어질 수 있다.The clamping portion 374 is coupled to the mask clamping portion 100 in the direction perpendicular to the surface of the mask M at the edge of the support portion 372. However, But only with the main frame 379, which will be described later.

마스크조립체(370)는 복수의 클램핑결합부들(374)와 복수의 클램핑결합부들(374)에 대응되어 형성되는 복수의 연결부들(376)과 함께 평면형상이 직사각형을 이루도록 클램핑결합부들(374) 및 연결부들(376) 및 인접한 클램핑결합부들(374) 및 연결부들(376) 사이를 공간을 복개하는 실드부재(378)를 더 포함할 수 있다.The mask assembly 370 includes a plurality of clamping engaging portions 374 and a plurality of connecting portions 376 formed corresponding to the plurality of clamping engaging portions 374 so that the clamping engaging portions 374 and And may further include a shield member 378 for covering the space between the connection portions 376 and the adjacent clamping engagement portions 374 and the connection portions 376.

실드부재(378)는 클램핑결합부들(374) 및 연결부들(376) 및 인접한 클램핑결합부들(374) 및 연결부들(376) 사이를 공간, 즉 절개부(378a)를 복개하는 구성요소로서 다양한 구조가 가능하다.The shielding member 378 may be configured as a component to cover the space, i.e., the cutout 378a, between the clamping engagement portions 374 and the connection portions 376 and the adjacent clamping engagement portions 374 and the connection portions 376, Is possible.

일 실시예에 따르면, 실드부재(378)는 구조적 강도를 요하지 않은바 경량재질의 사용이 바람직하며, 세라믹, 금속재질 등 다양한 재질에 의하여 형성될 수 있다.According to one embodiment, the shield member 378 does not require structural strength, and a lightweight material is preferably used, and the shield member 378 may be formed of various materials such as ceramics, metal, and the like.

이로써 클램핑결합부들(374) 및 연결부들(376) 및 인접한 클램핑결합부들(374) 및 연결부들(376) 사이를 공간을 통하여 파티클, 이물질 등이 마스크조립체를 기준으로 반대편으로 흘러가는 것을 방지할 수 있다.This prevents particles, foreign matter, and the like from flowing to the opposite side of the mask assembly from the clamping engagement portions 374 and the connection portions 376 and between the adjacent clamping engagement portions 374 and the connection portions 376 through the space have.

상기와 같은 구성을 가지는 마스크조립체(370)에 결합되는 마스크(M)는 여러가지 구조를 가질 수 있으며 패턴화된 기판처리의 수행을 위하여 소정 패턴으로 형성된 다수의 개구들(352a)이 형성된 마스크시트(352), 마스크시트(352)가 고정결합되는 마스크프레임(351)을 포함할 수 있다.The mask M coupled to the mask assembly 370 having the above-described structure may have various structures, and may be a mask sheet having a plurality of openings 352a formed in a predetermined pattern for performing patterned substrate processing 352, and a mask frame 351 to which the mask sheet 352 is fixedly coupled.

마스크시트(352)는 기판처리에 따라서 기판(S)에 형성되는 픽셀 단위의 개구들(352a)이 형성된 FMM(Fine metal mask), 기판(S) 상에 소정 영역만큼 개구된 개구들(352a)이 형성된 Open Mask, 소위 CMM 등이 될 수 있다.The mask sheet 352 has a fine metal mask (FMM) formed with openings 352a in the unit of a pixel formed in the substrate S according to the substrate processing, openings 352a opened by a predetermined area on the substrate S, The so-called CMM, or the like.

마스크조립체(370)는 공정챔버(10) 등에서 타 부재에 의하여 지지되도록 메인프레임(379)을 포함할 수 있다.The mask assembly 370 may include a main frame 379 to be supported by other members, such as in the process chamber 10.

메인프레임(379)은 공정챔버(10) 등에서 타 부재에 의하여 지지되도록 마스크조립체(370)에 결합되는 구성요소로서 공정챔버(10) 내에서의 지지방식, 이송방식 등에 따라서 다양한 구조가 가능하다.The main frame 379 is a component that is coupled to the mask assembly 370 to be supported by other members in the process chamber 10 or the like. The main frame 379 may have various structures depending on a support system, a transfer system, and the like in the process chamber 10.

메인프레임(379)은 직사각형 마스크조립체(370)의 대향되는 한 쌍의 변들에 각각 클램핑결합부(374)에 결합될 수 있다.The main frame 379 may be coupled to the clamping engagement portions 374 at respective opposite sides of the rectangular mask assembly 370.

또한 메임프레임(379)는 마스크조립체(370)가 자력에 의하여 이송이 가능하도록 공정챔버(10)에 설치된 제1자력이송부와의 상호 자력반응에 의하여 이동되는 제2자력이송부가 설치될 수 있다.In addition, the main frame 379 may be provided with a second magnetic force, which is moved by the mutual magnetic force reaction between the first magnetic force installed in the process chamber 10 and the transmission unit, so that the mask assembly 370 can be transferred by the magnetic force have.

일 실시예에 따르면 제1자력이송부는 전기인가에 의하여 자기력을 발생시키는 복수의 전자석으로 구성되고, 제2자력이송부는 전자석의 자기력에 의하여 이송되는 영구자석으로 구성되는 등 마스크조립체(370)의 이송방식에 따라서 다양한 구조가 가능하다.According to one embodiment, the first magnetic force transmission part is constituted by a plurality of electromagnets which generate magnetic force by the application of electric power, and the second magnetic force transmission part is constituted by a permanent magnet which is carried by the magnetic force of the electromagnet, Various structures are possible according to the transporting method of the substrate.

이와 같은 구성에 의하여 마스크조립체(370)는 공정챔버(10) 등에 안정적으로 이송될 수 있다.With such a configuration, the mask assembly 370 can be stably transferred to the process chamber 10 or the like.

연결부(376)는 지지부(372)와 클램핑결합부(374) 사이에서 지지부(372) 및 클램핑결합부(374)를 연결하는 구성요소로서 다양한 구조를 가질 수 있다.The connection portion 376 may have various structures as a component for connecting the support portion 372 and the clamping engagement portion 374 between the support portion 372 and the clamping engagement portion 374. [

특히 지지부(372), 클램핑결합부(374) 및 연결부(376)는 일체로 형성될 수 있다.In particular, the support portion 372, the clamping engagement portion 374, and the connection portion 376 may be integrally formed.

그리고 마스크(M)에 외력이 가해질 때 마스크(M)의 표면에 수직인 방향으로 탄성변형에 의하여 미세 이동이 가능하도록 연결부(376)의 강성은 지지부(372) 및 클램핑결합부(374)의 강성보다 작게 구성될 수 있다.The rigidity of the connecting portion 376 is set so that the rigidity of the connecting portion 376 can be adjusted by the rigidity of the supporting portion 372 and the clamping engaging portion 374 so as to enable fine movement by elastic deformation in a direction perpendicular to the surface of the mask M when an external force is applied to the mask M. . ≪ / RTI >

또한 마스크(M)에 외력이 가해질 때 마스크(M)의 표면에 수직인 방향으로 탄성변형에 의하여 미세 이동이 가능한 추가 예로서, 도 7에 도시된 바와 같이, 연결부(376)는 적어도 하나 이상의 슬릿(376)이 형성될 수 있다.Further, as a further example in which fine movement by elastic deformation in the direction perpendicular to the surface of the mask M is possible when an external force is applied to the mask M, as shown in Fig. 7, the connecting portion 376 is provided with at least one slit (376) may be formed.

슬릿(376)은 슬릿(376)의 형성에 의하여 연결부(376)의 강성을 낮추어 지지부(372) 및 클램핑결합부(374)에 비하여 강성이 낮아져 상대적으로 탄성변형이 가능하게 하기 위하여 연결부(376)에 형성되는 구성요소로서 소정 탄성의 부가를 위하여 적절한 형상을 가질 수 있다.The slit 376 is formed in the slit 376 to reduce the rigidity of the coupling portion 376 and to reduce the rigidity of the coupling portion 372 and the clamping coupling portion 374 so that the coupling portion 376 can be relatively elastically deformed. It is possible to have an appropriate shape for the purpose of adding a certain elasticity.

이와 같이 슬릿(376)의 형성에 의하여 연결부(376)의 강성을 낮추어 지지부(372) 및 클램핑결합부(374)에 비하여 강성이 낮아져 상대적으로 탄성변형이 가능하게 됨으로써, 마스크(M)에 외력이 가해질 때 마스크(M)의 표면에 수직인 방향으로 탄성변형에 의하여 미세 이동이 가능하게 된다.By forming the slit 376, the rigidity of the connecting portion 376 is lowered and the rigidity is lowered compared with the supporting portion 372 and the clamping engaging portion 374, so that the elastic deformation can be relatively performed, Fine movement is possible by elastic deformation in the direction perpendicular to the surface of the mask M when applied.

또한 마스크(M)에 외력이 가해질 때 마스크(M)의 표면에 수직인 방향으로 탄성변형에 의하여 미세 이동이 가능한 추가 예로서, 연결부(376)의 두께는 지지부(372) 및 클램핑결합부(374)의 두께보다 얇게 형성될 수 있다.Further, as a further example in which fine movement by elastic deformation in the direction perpendicular to the surface of the mask M is possible when an external force is applied to the mask M, the thickness of the connection portion 376 is set such that the thickness of the support portion 372 and the clamping engagement portion 374 As shown in FIG.

이와 같이 연결부(376)의 두께가 지지부(372) 및 클램핑결합부(374)의 두께보다 얇게 형성됨으로써 지지부(372) 및 클램핑결합부(374)에 비하여 강성이 낮아져 상대적으로 탄성변형이 가능하게 됨으로써, 마스크(M)에 외력이 가해질 때 마스크(M)의 표면에 수직인 방향으로 탄성변형에 의하여 미세 이동이 가능하게 된다.Since the thickness of the connecting portion 376 is formed to be thinner than the thickness of the supporting portion 372 and the clamping engaging portion 374, the rigidity is lowered compared to the supporting portion 372 and the clamping engaging portion 374, , And when the external force is applied to the mask (M), fine movement is possible by elastic deformation in the direction perpendicular to the surface of the mask (M).

그리고 앞서 설명한 실시예들과 같이 지지부(372) 및 클램핑결합부(374)에 비하여 강성이 상대적으로 낮아져 연결부(376)가 탄성변형이 가능하게 되면 마스크(M)에 과도한 외력이 작용하는 것을 방지하는 한편 이송시 외부진동이 마스크(M)에 전달되는 것을 방지할 수 있다.In addition, as compared with the support portion 372 and the clamping engagement portion 374, when the rigidity is relatively lowered and the connection portion 376 can be elastically deformed as in the previously described embodiments, an excessive external force is prevented from acting on the mask M On the other hand, it is possible to prevent external vibration from being transmitted to the mask (M) during transportation.

한편 기판(S) 및 마스크(M)는 공정챔버(10) 내에 수평으로 또는 수직으로 이송되어 수직상태로 고정될 수 있다.Meanwhile, the substrate S and the mask M can be horizontally or vertically transferred in the process chamber 10 and fixed in a vertical state.

그리고 마스크조립체(370)는 Ti 합금 및 CFRP(Carbon Fiber Reinforced Plastic) 중 적어도 어느 하나의 재질로 이루어지는 등 다양한 재질로 제조될 수 있다.The mask assembly 370 may be made of a variety of materials such as a Ti alloy and / or carbon fiber reinforced plastic (CFRP).

마스크클램핑부(100)는 공정챔버(10)에 설치되어 마스크조립체(370)를 클램핑하는 구성요소로서 다양한 구조가 가능하다.The mask clamping part 100 is a component that is installed in the process chamber 10 and clamps the mask assembly 370, and can have various structures.

일 실시예에 따르면, 마스크클램핑부(100)는 선형이동에 의하여 마스크조립체(370)의 클램핑결합부들(374) 각각에 결합됨으로써 공정챔버(10)에 설치되어 마스크조립체(370)를 클램핑하도록 구성될 수 있다.According to one embodiment, the mask clamping portion 100 is configured to clamp the mask assembly 370 to the process chamber 10 by being coupled to each of the clamping engagement portions 374 of the mask assembly 370 by linear movement .

그리고 클램핑결합부들(374)에 대한 마스크클램핑부(100)의 클램핑방식은 클램핑 방식에 따라서 다양한 구조가 가능하다.The clamping mechanism of the mask clamping part 100 with respect to the clamping coupling parts 374 can have various structures according to the clamping method.

일 실시예에 따르면, 클램핑결합부들(374)은 홀(374a) 구조로 형성되고 마스크클램핑부(100)는 홀(374a) 구조의 클램핑결합부들(374)에 삽입되는 로드로 구성될 수 있다.According to one embodiment, the clamping engagement portions 374 may be formed in a hole 374a structure and the mask clamping portion 100 may be comprised of a rod inserted in clamping engagement portions 374 of a hole 374a structure.

그리고 홀(374a) 구조의 클램핑결합부들(374)에 삽입되는 로드의 끝단에는 한국 공개특허 제10-2016-0118151호의 구조를 가지는 등 다양한 구조가 가능하다.The end of the rod inserted into the clamping engagement portions 374 having the structure of the hole 374a may have various structures such as the structure of Korean Patent Laid-Open No. 10-2016-0118151.

그리고 마스크클램핑부(100)는 뒤에서 설명하는 밀착구동부와 개별 결합되어 선형이동이 가능하며, 마스크(M) 및 기판(S)을 얼라인 하기 위한 얼라인 수단이 개별 또는 인접한 마스크클램핑부(100)와 함께 결합될 수 있다.The mask clamping part 100 is linearly movable independently from the close contact driving part described later, and the aligning means for aligning the mask M and the substrate S are provided separately or adjacent to the mask clamping part 100, Lt; / RTI >

밀착구동부는 마스크클램핑부(100)에 결합되어 마스크(M)를 기판(S)에 대해 이동시켜 기판(S) 및 마스크(M)를 서로 밀착시키는 구성요소로서, 다양한 구조가 가능하다.The tightly driving part is a component that is coupled to the mask clamping part 100 to move the mask M relative to the substrate S to bring the substrate S and the mask M into close contact with each other.

일 실시예에 따르면 마스크클램핑부(100)에 결합되어 마스크클램핑부(100)에 클램핑된 마스크조립체(370)를 선형이동시키는 구성으로서 선형이동방식에 따라서 다양한 구조가 가능하다.According to an embodiment of the present invention, various structures are possible according to a linear movement method, in which the mask clamping unit 100 is coupled to the mask clamping unit 100 to linearly move the clamped mask assembly 370.

#제2실시예에 따른 기판처리장치는 외부와 격리된 공정환경을 제공하는 공정챔버(10), 공정챔버(10)에 설치되어 평면형상이 직사각형으로 이루어지며 기판(S)을 지지하는 기판지지조립체(360), 기판지지조립체(360)를 클램핑하는 기판클램핑부(200), 기판클램핑부(200)에 결합되어 기판(S)을 마스크(S)에 대해 이동시켜 기판(S) 및 마스크(M)를 서로 밀착시키는 밀착구동부를 포함할 수 있다.The substrate processing apparatus according to the second embodiment includes a process chamber 10 for providing a process environment isolated from the outside, a substrate support 10 for supporting the substrate S, A substrate clamping unit 200 for clamping the substrate support assembly 360 and an assembly 360. The substrate clamping unit 200 is coupled to the substrate clamping unit 200 to move the substrate S relative to the mask S, M may be in close contact with each other.

기판지지조립체(360)는 기판지지부(340)가 고정결합되는 구성요소로서, 일 실시예 따르면, 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 기판(S)을 지지하는 기판지지부(340)가 고정결합되는 직사각형 지지부(372), 지지부(372)의 가장자리에서 기판클램핑부(200)가 기판지지부(340)의 표면과 수직을 이루는 방향으로 결합되는 클램핑결합부(374), 지지부(372)와 클램핑결합부(374) 사이에서 지지부(372) 및 클램핑결합부(374)를 연결하는 연결부(376)를 포함함을 특징으로 한다.The substrate support assembly 360 is a component to which the substrate support 340 is fixedly coupled. According to one embodiment, as shown in FIGS. 4 and 5, the substrate support 340 supporting the substrate S is fixed A clamping engagement portion 374 in which the substrate clamping portion 200 is coupled to the edge of the support portion 372 in a direction perpendicular to the surface of the substrate support portion 340, a support portion 372, And a connection portion 376 connecting the support portion 372 and the clamping engagement portion 374 between the engagement portions 374. [

본 발명에 따른 기판지지조립체(360)는 앞서 설명한 마스크조립체(370)의 구성과 관련하여 마스크(M) 대신에 기판지지부(340)가 결합되는 것을 제외하고 나머지는 앞서 설명한 마스크조립체(370)의 구성과 거의 동일하거나 유사하다.The substrate support assembly 360 according to the present invention is similar to the mask assembly 370 described above except that the substrate support 340 is coupled in place of the mask M with respect to the configuration of the mask assembly 370 described above. The configuration is almost the same or similar.

즉, 지지부(372)는 직사각형 형상을 가지며 기판지지부(340)가 고정결합되는 구성요소로서 다양한 구조를 가질 수 있다.That is, the support portion 372 has a rectangular shape and may have various structures as a component to which the substrate support portion 340 is fixedly coupled.

지지부(372)는 기판지지부(340)의 결합구조에 따라서 기판지지부(340)가 상하로 노출될 수 있도록 관통개구(372a)가 형성될 수 있다.The support portion 372 may be formed with a through opening 372a so that the substrate support portion 340 can be exposed upward and downward according to the coupling structure of the substrate support portion 340. [

구체적인 실시예에 따르면 지지부(372)는 기판지지부(340)의 직사각형 형상에 대응되어 전체 형상이 직사각형 고리 형상을 가질 수 있다.According to a specific embodiment, the support portion 372 may correspond to a rectangular shape of the substrate support portion 340, and the entire shape may have a rectangular ring shape.

그리고 지지부(372)는 용접, 볼팅 등 다양한 고정결합수단에 의하여 마스크(M)가 결합될 수 있다.The supporting portion 372 may be coupled to the mask M by various fixing means such as welding, bolting, or the like.

이를 위하여 지지부(372)에 형성된 관통개구(372a)는 도 8에 도시된 바와 같이, 단차를 가질 수 있다.For this purpose, the through-hole 372a formed in the support portion 372 may have a step as shown in FIG.

클램핑결합부(374)는 지지부(372)의 가장자리에서 기판클램핑부(200)가 기판지지부(340)의 표면과 수직을 이루는 방향으로 결합되는 구성요소로서 다양한 구조를 가질 수 있다.The clamping engagement portion 374 may have a variety of structures as a component in which the substrate clamping portion 200 is coupled to the edge of the support portion 372 in a direction perpendicular to the surface of the substrate support portion 340.

클램핑결합부(374)는 지지부(372)의 직사각형 각 꼭지점들에 대응되어 형성될 수 있다.The clamping engagement portion 374 may be formed corresponding to the rectangular angular points of the support portion 372.

클램핑결합부(374)는 지지부(372)의 직사각형 각 꼭지점들에 대응되어 형성됨으로써 지지부(372) 및 이에 결합되는 기판지지부(360)를 안정되게 지지할 수 있다.The clamping engagement portion 374 is formed corresponding to the rectangular angular points of the support portion 372 to stably support the support portion 372 and the substrate supporting portion 360 coupled thereto.

클램핑결합부(374)는 지지부(372)의 직사각형의 각 변 중 적어도 하나의 변에 추가로 형성될 수 있다.The clamping engagement portion 374 may be additionally formed on at least one side of each side of the rectangular portion of the support portion 372. [

이로써 클램핑결합부(374)는 지지부(372) 및 이에 결합되는 기판지지부(360)를 더 안정되게 지지할 수 있다.This allows the clamping engagement portion 374 to more stably support the support portion 372 and the substrate support portion 360 coupled thereto.

한편 클램핑결합부(374)는 연결부(376)와 함께 지지부(372)로부터 가장자리 외측으로 돌출된 형상을 가질 수 있다.On the other hand, the clamping engagement portion 374 may have a shape protruding from the support portion 372 together with the connection portion 376 to the outside of the edge.

다른 측면에서 보면 클램핑결합부(374) 및 연결부(376)의 형성에 의하여 기판지지조립체(360)의 평면 형상 중 가장자리 일부가 절개된 절개부(378a)가 형성된 형상을 가질 수 있다.In another aspect, the substrate support assembly 360 may have a cut-out portion 378a formed by cutting the edge of the substrate support assembly 360 by forming the clamping engagement portion 374 and the connection portion 376.

여기서 클램핑결합부(374)는 지지부(372)의 가장자리에서 기판클램핑부(200)가 기판지지부(340)의 표면과 수직을 이루는 방향으로 결합되는 실시예로 설명하였으나 기판클램핑부(200)와의 결합구조 없이 뒤에서 설명하는 메인프레임(379)과만 결합되는 구조로도 이루어질 수 있다.The clamping portion 374 is coupled to the substrate clamping portion 200 in a direction perpendicular to the surface of the substrate supporting portion 340 at the edge of the supporting portion 372. However, But may be structured to be coupled only to the main frame 379 described later without a structure.

기판지지조립체(360)는 복수의 클램핑결합부들(374)와 복수의 클램핑결합부들(374)에 대응되어 형성되는 복수의 연결부들(376)과 함께 평면형상이 직사각형을 이루도록 클램핑결합부들(374) 및 연결부들(376) 및 인접한 클램핑결합부들(374) 및 연결부들(376) 사이를 공간을 복개하는 실드부재(378)를 더 포함할 수 있다.The substrate support assembly 360 includes a plurality of clamping engaging portions 374 and a plurality of connecting portions 376 formed corresponding to the plurality of clamping engaging portions 374 and clamping engaging portions 374 so that the planar shape is rectangular. And a shield member 378 for covering the space between the connecting portions 376 and the adjacent clamping engaging portions 374 and the connecting portions 376. [

실드부재(378)는 클램핑결합부들(374) 및 연결부들(376) 및 인접한 클램핑결합부들(374) 및 연결부들(376) 사이를 공간, 즉 절개부(378a)를 복개하는 구성요소로서 다양한 구조가 가능하다.The shielding member 378 may be configured as a component to cover the space, or cutout 378a, between the clamping engagement portions 374 and the connection portions 376 and the adjacent clamping engagement portions 374 and the connection portions 376, Is possible.

일 실시예에 따르면, 실드부재(378)는 구조적 강도를 요하지 않은바 경량재질의 사용이 바람직하며, 세라믹, 금속재질 등 다양한 재질에 의하여 형성될 수 있다.According to one embodiment, the shield member 378 does not require structural strength, and a lightweight material is preferably used, and the shield member 378 may be formed of various materials such as ceramics, metal, and the like.

이로써 클램핑결합부들(374) 및 연결부들(376) 및 인접한 클램핑결합부들(374) 및 연결부들(376) 사이를 공간을 통하여 파티클, 이물질 등이 마스크조립체를 기준으로 반대편으로 흘러가는 것을 방지할 수 있다.This prevents particles, foreign matter, and the like from flowing to the opposite side of the mask assembly from the clamping engagement portions 374 and the connection portions 376 and between the adjacent clamping engagement portions 374 and the connection portions 376 through the space have.

상기와 같은 구성을 가지는 기판지지조립체(360)에 결합되는 기판지지부(340)는 정전척을 포함할 수 있다.The substrate support 340 coupled to the substrate support assembly 360 having the above configuration may include an electrostatic chuck.

정전척은 기판지지조립체(360)가 기판(S)을 이송할 때 전자기력에 의하여 흡착고정하는 구성요소로서 기판지지조립체(360)에 설치된 DC전원공급부로부터 또는 외부 DC전원으로부터 전원을 공급받아 전자기력을 발생시키는 구성요소이다.The electrostatic chuck is an element for attracting and securing the substrate S by the electromagnetic force when the substrate S is transported from the DC power supply installed in the substrate support assembly 360 or by receiving power from the external DC power supply .

정전척에 대한 DC전원공급을 위하여 배터리(도시하지 않음)가 클램핑결합부들(374) 및 연결부들(376) 및 인접한 클램핑결합부들(374) 및 연결부들(376) 사이에 설치될 수 있다.A battery (not shown) may be installed between the clamping couplings 374 and the coupling portions 376 and between the adjacent clamping couplings 374 and the coupling portions 376 for DC power supply to the electrostatic chuck.

기판지지조립체(360)는 공정챔버(10) 등에서 타 부재에 의하여 지지되도록 메인프레임(379)을 포함할 수 있다.The substrate support assembly 360 may include a main frame 379 to be supported by other members, such as in the process chamber 10.

메인프레임(379)은 공정챔버(10) 등에서 타 부재에 의하여 지지되도록 기판지지조립체(360)에 결합되는 구성요소로서 공정챔버(10) 내에서의 지지방식, 이송방식 등에 따라서 다양한 구조가 가능하다.The main frame 379 is a component that is coupled to the substrate support assembly 360 to be supported by other members in the process chamber 10 or the like and may have a variety of structures depending on the support system, .

메인프레임(379)은 직사각형 기판지지조립체(360)의 대향되는 한 쌍의 변들에 각각 클램핑결합부(374)에 결합될 수 있다.The main frame 379 may be coupled to the clamping engagement portions 374 at respective opposite sides of the rectangular substrate support assembly 360.

또한 메임프레임(379)는 기판지지조립체(360)가 자력에 의하여 이송이 가능하도록 공정챔버(10)에 설치된 제1자력이송부와의 상호 자력반응에 의하여 이동되는 제2자력이송부가 설치될 수 있다.In addition, the main frame 379 is provided with a second magnetic force transmitting portion, which is moved by mutual magnetic force reaction with the first magnetic force, which is installed in the process chamber 10 so that the substrate supporting assembly 360 can be transported by the magnetic force .

일 실시예에 따르면 제1자력이송부는 전기인가에 의하여 자기력을 발생시키는 복수의 전자석으로 구성되고, 제2자력이송부는 전자석의 자기력에 의하여 이송되는 영구자석으로 구성되는 등 기판지지조립체(360)의 이송방식에 따라서 다양한 구조가 가능하다.According to one embodiment, the first magnetic force is composed of a plurality of electromagnets that generate magnetic force by applying electric power, and the second magnetic force is composed of permanent magnets that are transmitted by the magnetic force of the electromagnets. ), It is possible to have various structures.

이와 같은 구성에 의하여 기판지지조립체(360)는 공정챔버(10) 등에 안정적으로 이송될 수 있다.With such a configuration, the substrate support assembly 360 can be stably transported to the process chamber 10 or the like.

연결부(376)는 지지부(372)와 클램핑결합부(374) 사이에서 지지부(372) 및 클램핑결합부(374)를 연결하는 구성요소로서 다양한 구조를 가질 수 있다.The connection portion 376 may have various structures as a component for connecting the support portion 372 and the clamping engagement portion 374 between the support portion 372 and the clamping engagement portion 374. [

특히 지지부(372), 클램핑결합부(374) 및 연결부(376)는 일체로 형성될 수 있다.In particular, the support portion 372, the clamping engagement portion 374, and the connection portion 376 may be integrally formed.

그리고 기판지지부(340)에 외력이 가해질 때 기판지지부(340)의 표면에 수직인 방향으로 탄성변형에 의하여 미세 이동이 가능하도록 연결부(376)의 강성은 지지부(372) 및 클램핑결합부(374)의 강성보다 작게 구성될 수 있다.The rigidity of the connection portion 376 is adjusted by the support portion 372 and the clamping engagement portion 374 so that the substrate 371 can be finely moved by elastic deformation in a direction perpendicular to the surface of the substrate support portion 340 when an external force is applied to the substrate support portion 340. [ As shown in Fig.

기판지지부(340)에 외력이 가해질 때 기판지지부(340)의 표면에 수직인 방향으로 탄성변형에 의하여 미세 이동이 가능한 추가 예로서, 연결부(376)는 적어도 하나 이상의 슬릿(376)이 형성될 수 있다.As a further example in which the substrate support 340 can be finely moved by elastic deformation in a direction perpendicular to the surface of the substrate support 340 when an external force is applied, the connection 376 may be formed with at least one slit 376 have.

슬릿(376)은 슬릿(376)의 형성에 의하여 연결부(376)의 강성을 낮추어 지지부(372) 및 클램핑결합부(374)에 비하여 강성이 낮아져 상대적으로 탄성변형이 가능하게 하기 위하여 연결부(376)에 형성되는 구성요소로서 소정 탄성의 부가를 위하여 적절한 형상을 가질 수 있다.The slit 376 is formed in the slit 376 to reduce the rigidity of the coupling portion 376 and to reduce the rigidity of the coupling portion 372 and the clamping coupling portion 374 so that the coupling portion 376 can be relatively elastically deformed. It is possible to have an appropriate shape for the purpose of adding a certain elasticity.

이와 같이 슬릿(376)의 형성에 의하여 연결부(376)의 강성을 낮추어 지지부(372) 및 클램핑결합부(374)에 비하여 강성이 낮아져 상대적으로 탄성변형이 가능하게 됨으로써, 마스크(M)와의 밀착과정 등에서 기판지지부(340)에 외력이 가해질 때 기판지지부(340)의 표면에 수직인 방향으로 탄성변형에 의하여 미세 이동이 가능하게 된다.Since the rigidity of the connecting portion 376 is lowered by forming the slit 376 as described above, the rigidity is lowered compared to the supporting portion 372 and the clamping engaging portion 374, so that the elastic deformation can be relatively performed, When the external force is applied to the substrate supporting portion 340, the substrate can be finely moved by elastic deformation in a direction perpendicular to the surface of the substrate supporting portion 340. [

또한 기판지지부(340)에 외력이 가해질 때 기판지지부(340)의 표면에 수직인 방향으로 탄성변형에 의하여 미세 이동이 가능한 추가 예로서, 연결부(376)의 두께는 지지부(372) 및 클램핑결합부(374)의 두께보다 얇게 형성될 수 있다.As a further example, the thickness of the connecting portion 376 can be minimized by elastic deformation in the direction perpendicular to the surface of the substrate support portion 340 when an external force is applied to the substrate support portion 340, May be formed to be thinner than the thickness of the recess 374.

이와 같이 연결부(376)의 두께가 지지부(372) 및 클램핑결합부(374)의 두께보다 얇게 형성됨으로써 지지부(372) 및 클램핑결합부(374)에 비하여 강성이 낮아져 상대적으로 탄성변형이 가능하게 됨으로써, 마스크(M)와의 밀착과정 등에서 기판지지부(340)에 외력이 가해질 때 기판지지부(340)의 표면에 수직인 방향으로 탄성변형에 의하여 미세 이동이 가능하게 된다.Since the thickness of the connecting portion 376 is formed to be thinner than the thickness of the supporting portion 372 and the clamping engaging portion 374, the rigidity is lowered compared to the supporting portion 372 and the clamping engaging portion 374, When the external force is applied to the substrate supporting part 340 in the process of closely contacting the substrate supporting part 340 and the mask M, the substrate can be finely moved by elastic deformation in a direction perpendicular to the surface of the substrate supporting part 340.

한편 기판(S) 및 마스크(M)는 공정챔버(10) 내에 수평으로 또는 수직으로 이송되어 수직상태로 고정될 수 있다.Meanwhile, the substrate S and the mask M can be horizontally or vertically transferred in the process chamber 10 and fixed in a vertical state.

그리고 기판지지조립체(360)는 Ti 합금 및 CFRP(Carbon Fiber Reinforced Plastic) 중 적어도 어느 하나의 재질로 이루어지는 등 다양한 재질로 제조될 수 있다.The substrate support assembly 360 may be made of a variety of materials such as a Ti alloy and / or carbon fiber reinforced plastic (CFRP).

기판클램핑부(200)는 공정챔버(10)에 설치되어 기판지지조립체(360)를 클램핑하는 구성요소로서 다양한 구조가 가능하다.The substrate clamping portion 200 is a component that is installed in the process chamber 10 and clamps the substrate support assembly 360, and various structures are possible.

일 실시예에 따르면, 기판클램핑부(200)는 선형이동에 의하여 기판지지조립체(360)의 클램핑결합부들(374) 각각에 결합됨으로써 공정챔버(10)에 설치되어 기판지지조립체(360)를 클램핑하도록 구성될 수 있다.According to one embodiment, the substrate clamping portion 200 is coupled to each of the clamping engagements 374 of the substrate support assembly 360 by linear movement to be installed in the process chamber 10 to clamp the substrate support assembly 360 .

그리고 클램핑결합부들(374)에 대한 기판클램핑부(200)의 클램핑방식은 클램핑 방식에 따라서 다양한 구조가 가능하다.Further, the clamping method of the substrate clamping part 200 with respect to the clamping coupling parts 374 can be variously configured according to the clamping method.

일 실시예에 따르면, 클램핑결합부들(374)은 홀(374a) 구조로 형성되고 기판클램핑부(200)는 홀(374a) 구조의 클램핑결합부들(374)에 삽입되는 로드로 구성될 수 있다.According to one embodiment, the clamping engagement portions 374 may be formed in a hole 374a structure and the substrate clamping portion 200 may be composed of a rod inserted in the clamping engagement portions 374 of the hole 374a structure.

그리고 홀(374a) 구조의 클램핑결합부들(374)에 삽입되는 로드의 끝단에는 한국 공개특허 제10-2016-0118151호의 구조를 가지는 등 다양한 구조가 가능하다.The end of the rod inserted into the clamping engagement portions 374 having the structure of the hole 374a may have various structures such as the structure of Korean Patent Laid-Open No. 10-2016-0118151.

그리고 기판클램핑부(200)는 뒤에서 설명하는 밀착구동부와 개별 결합되어 선형이동이 가능하며, 마스크(M) 및 기판(S)을 얼라인 하기 위한 얼라인 수단이 개별 또는 인접한 기판클램핑부(200)와 함께 결합될 수 있다.The substrate clamping unit 200 can be linearly moved separately from the close contact driving unit described later, and the aligning means for aligning the mask M and the substrate S can be moved independently or adjacent to the substrate clamping unit 200, Lt; / RTI >

밀착구동부는 기판클램핑부(200)에 결합되어 기판(S)을 마스크(M)에 대해 상대 이동시켜 기판(S) 및 마스크(M)를 서로 밀착시키는 구성요소로서, 다양한 구조가 가능하다.The contact driving part is a component that is coupled to the substrate clamping part 200 to move the substrate S relative to the mask M to closely contact the substrate S and the mask M, and various structures are possible.

일 실시예에 따르면 기판클램핑부(200)에 결합되어 기판클램핑부(200)에 클램핑된 기판지지조립체(360)를 선형이동시키는 구성으로서 선형이동방식에 따라서 다양한 구조가 가능하다.According to one embodiment, various structures are possible according to a linear movement method in a configuration for linearly moving the substrate supporting assembly 360 clamped to the substrate clamping part 200 by clamping the substrate clamping part 200.

10... 공정챔버
M... 마스크
S... 기판
370... 마스크조립체
360... 기판지지조립체10 ... process chamber
M ... Mask
S ... substrate
370 ... mask assembly
360 ... substrate support assembly

Claims (26)

외부와 격리된 공정환경을 제공하는 공정챔버(10), 상기 공정챔버(10)에 설치되어 평면형상이 직사각형으로 이루어진 마스크(M)와 결합된 마스크조립체(370), 상기 마스크조립체(370)를 클램핑하는 마스크클램핑부(100), 상기 마스크클램핑부(100)에 결합되어 상기 마스크(M)를 기판(S)에 대해 이동시켜 기판(S) 및 마스크(M)를 서로 밀착시키는 밀착구동부를 포함하는 기판처리장치의 마스크조립체(370)에 있어서,
상기 마스크(M)가 고정결합되는 직사각형 지지부(372),
상기 지지부(372)의 가장자리에서 상기 마스크클램핑부(100)가 상기 마스크(M)의 표면과 수직을 이루는 방향으로 결합되는 클램핑결합부(374),
상기 지지부(372)와 상기 클램핑결합부(374) 사이에서 상기 지지부(372) 및 상기 클램핑결합부(374)를 연결하는 연결부(376)를 포함하는 마스크조립체.A mask assembly 370 coupled to a mask M having a rectangular planar shape and mounted to the process chamber 10, a mask assembly 370 coupled to the mask assembly 370, And a tightening driving unit coupled to the mask clamping unit 100 to move the mask M relative to the substrate S to bring the substrate S and the mask M into close contact with each other, In a mask assembly (370) of a substrate processing apparatus,
A rectangular supporting portion 372 to which the mask M is fixedly coupled,
A clamping engaging portion 374 coupled to the mask clamping portion 100 in a direction perpendicular to the surface of the mask M at an edge of the support portion 372,
And a connection portion (376) connecting the support portion (372) and the clamping engagement portion (374) between the support portion (372) and the clamping engagement portion (374). 제1항에 있어서,
상기 지지부(372)는 상기 마스크(M)가 상하로 노출될 수 있도록 관통개구(372a)가 형성되는 마스크조립체.The method according to claim 1,
Wherein the support portion (372) is formed with a through opening (372a) so that the mask (M) can be exposed up and down. 제1항에 있어서,
상기 클램핑결합부(374)는 상기 지지부(372)의 직사각형 각 꼭지점들에 대응되어 형성된 마스크조립체.The method according to claim 1,
Wherein the clamping engagement portion (374) corresponds to the rectangular angular points of the support portion (372). 제3항에 있어서,
상기 클램핑결합부(374)는 상기 지지부(372)의 직사각형의 각 변 중 적어도 하나의 변에 추가로 형성된 마스크조립체.The method of claim 3,
Wherein the clamping engagement portion (374) is additionally formed on at least one side of each of the rectangular sides of the support portion (372). 제3항 또는 제4항에 있어서,
상기 복수의 클램핑결합부들(374)와 상기 복수의 클램핑결합부들(374)에 대응되어 형성되는 상기 복수의 연결부들(376)과 함께 평면형상이 직사각형을 이루도록 상기 클램핑결합부들(374) 및 상기 연결부들(376) 및 인접한 상기 클램핑결합부들(374) 및 상기 연결부들(376) 사이를 공간을 복개하는 실드부재(378)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크조립체.The method according to claim 3 or 4,
The plurality of clamping engaging portions 374 and the plurality of connecting portions 376 formed corresponding to the plurality of clamping engaging portions 374 are formed to have a rectangular shape in plan view with the clamping engaging portions 374 and the connecting portions 376, Further comprising a shield member (378) for covering the space between the clamping joints (376) and the adjacent clamping joints (374) and the connection portions (376). 제1항에 있어서,
상기 마스크(M)는 패턴화된 기판처리의 수행을 위하여 소정 패턴으로 형성된 다수의 개구들(352a)이 형성된 마스크시트(352), 상기 마스크시트(352)가 고정결합되는 마스크프레임(351)을 포함하는 마스크조립체.The method according to claim 1,
The mask M includes a mask sheet 352 having a plurality of openings 352a formed in a predetermined pattern for performing patterned substrate processing, a mask frame 351 to which the mask sheet 352 is fixedly coupled ≪ / RTI > 제1항에 있어서,
상기 마스크조립체(370)는 자력에 의하여 이송이 가능하도록 상기 공정챔버(10)에 설치된 제1자력이송부와의 상호 자력반응에 의하여 이동되는 제2자력이송부가 설치된 메인프레임(379)을 포함하는 마스크조립체.The method according to claim 1,
The mask assembly 370 includes a main frame 379 provided with a second magnetic force transmitting part that is moved by a mutual magnetic force reaction with the transmitting part provided in the process chamber 10 so as to be conveyed by a magnetic force ≪ / RTI > 제1항에 있어서,
상기 지지부(372), 상기 클램핑결합부(374) 및 상기 연결부(376)는 일체로 형성되는 마스크조립체.The method according to claim 1,
Wherein the support portion (372), the clamping engagement portion (374), and the connection portion (376) are integrally formed. 제1항에 있어서,
상기 마스크(M)에 외력이 가해질 때 상기 마스크(M)의 표면에 수직인 방향으로 탄성변형에 의하여 미세 이동이 가능하도록 상기 연결부(376)의 강성은 상기 지지부(372) 및 상기 클램핑결합부(374)의 강성보다 작은 마스크조립체.The method according to claim 1,
The rigidity of the connection portion 376 is determined by the elasticity of the support portion 372 and the clamping engagement portion 372 so that the connection portion 376 can be finely moved by elastic deformation in a direction perpendicular to the surface of the mask M when an external force is applied to the mask M. [ 374). 제8항에 있어서,
상기 마스크(M)에 외력이 가해질 때 상기 마스크(M)의 표면에 수직인 방향으로 탄성변형에 의하여 미세 이동이 가능하도록 상기 연결부(376)는 적어도 하나 이상의 슬릿(376)이 형성된 마스크조립체.9. The method of claim 8,
At least one slit 376 is formed in the connection part 376 so that the connection part 376 can be finely moved by elastic deformation in a direction perpendicular to the surface of the mask M when an external force is applied to the mask M. [ 제8항에 있어서,
상기 마스크(M)에 외력이 가해질 때 상기 마스크(M)의 표면에 수직인 방향으로 탄성변형에 의하여 미세 이동이 가능하도록 상기 연결부(376)의 두께는 상기 지지부(372) 및 상기 클램핑결합부(374)의 두께보다 얇게 형성되는 마스크조립체.9. The method of claim 8,
The thickness of the connection portion 376 may be adjusted by the thickness of the support portion 372 and the clamping engagement portion 372 so that fine movement by elastic deformation in a direction perpendicular to the surface of the mask M is performed when an external force is applied to the mask M. [ 374). ≪ / RTI > 제1항에 있어서,
상기 기판(S) 및 상기 마스크(M)는 상기 공정챔버(10) 내에 수평으로 또는 수직으로 이송되어 수직상태로 고정되는 마스크조립체.The method according to claim 1,
Wherein the substrate (S) and the mask (M) are horizontally or vertically conveyed in the process chamber (10) to be fixed in a vertical state. 제1항에 있어서,
상기 마스크조립체(370)는 Ti 합금 및 CFRP(Carbon Fiber Reinforced Plastic) 중 적어도 어느 하나의 재질로 이루어지는 마스크조립체.The method according to claim 1,
The mask assembly 370 is made of at least one of a Ti alloy and a carbon fiber reinforced plastic (CFRP). 외부와 격리된 공정환경을 제공하는 공정챔버(10), 상기 공정챔버(10)에 설치되어 평면형상이 직사각형으로 이루어지며 기판(S)을 지지하는 기판지지조립체(360), 상기 기판지지조립체(360)를 클램핑하는 기판클램핑부(200), 상기 기판클램핑부(200)에 결합되어 기판(S)을 마스크(S)에 대해 이동시켜 기판(S) 및 마스크(M)를 서로 밀착시키는 밀착구동부를 포함하는 기판처리장치의 기판지지조립체(360)에 있어서,
상기 기판(S)을 지지하는 기판지지부(340)가 고정결합되는 직사각형 지지부(372),
상기 지지부(372)의 가장자리에서 상기 기판클램핑부(200)가 상기 기판지지부(340)의 표면과 수직을 이루는 방향으로 결합되는 클램핑결합부(374),
상기 지지부(372)와 상기 클램핑결합부(374) 사이에서 상기 지지부(372) 및 상기 클램핑결합부(374)를 연결하는 연결부(376)를 포함하는 기판지지조립체.A substrate support assembly 360 mounted on the process chamber 10 and having a rectangular shape and supporting the substrate S, a substrate support assembly 360 mounted on the substrate support assembly 360, A substrate clamping unit 200 for clamping the substrate S and the mask M by moving the substrate S relative to the mask S by being coupled to the substrate clamping unit 200, (360) of a substrate processing apparatus,
A rectangular supporting portion 372 to which the substrate supporting portion 340 for supporting the substrate S is fixedly coupled,
A clamping coupling portion 374 coupled to the substrate clamping portion 200 in a direction perpendicular to a surface of the substrate support portion 340 at an edge of the support portion 372,
And a connection portion (376) connecting the support portion (372) and the clamping engagement portion (374) between the support portion (372) and the clamping engagement portion (374). 제14항에 있어서,
상기 지지부(372)는 상기 기판지지부(340)가 상하로 노출될 수 있도록 관통개구(372a)가 형성되는 기판지지조립체.15. The method of claim 14,
Wherein the support portion (372) is formed with a through opening (372a) so that the substrate support portion (340) can be exposed up and down. 제14항에 있어서,
상기 클램핑결합부(374)는 상기 지지부(372)의 직사각형 각 꼭지점들에 대응되어 형성된 기판지지조립체.15. The method of claim 14,
Wherein the clamping engagement portion (374) corresponds to the rectangular angular points of the support portion (372). 제16항에 있어서,
상기 클램핑결합부(374)는 상기 지지부(372)의 직사각형의 각 변 중 적어도 하나의 변에 추가로 형성된 기판지지조립체.17. The method of claim 16,
Wherein the clamping engagement portion (374) is additionally formed on at least one side of each of the rectangular sides of the support portion (372). 제16항 또는 제17항에 있어서,
상기 복수의 클램핑결합부들(374)와 상기 복수의 클램핑결합부들(374)에 대응되어 형성되는 상기 복수의 연결부들(376)과 함께 평면형상이 직사각형을 이루도록 상기 클램핑결합부들(374) 및 상기 연결부들(376) 및 인접한 상기 클램핑결합부들(374) 및 상기 연결부들(376) 사이를 공간을 복개하는 실드부재(378)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판지지조립체.18. The method according to claim 16 or 17,
The plurality of clamping engaging portions 374 and the plurality of connecting portions 376 formed corresponding to the plurality of clamping engaging portions 374 are formed to have a rectangular shape in plan view with the clamping engaging portions 374 and the connecting portions 376, Further comprising a shield member (378) for covering the space between the clamping joints (376) and the adjacent clamping joints (374) and the connection portions (376). 제14항에 있어서,
상기 기판지지부(340)는 정전척을 포함하는 기판지지조립체.15. The method of claim 14,
The substrate support assembly (340) includes an electrostatic chuck. 제14항에 있어서,
상기 기판지지조립체(360)는 자력에 의하여 이송이 가능하도록 상기 공정챔버(10)에 설치된 제1자력이송부와의 상호 자력반응에 의하여 이동되는 제2자력이송부가 설치된 메인프레임(379)을 포함하는 기판지지조립체.15. The method of claim 14,
The substrate support assembly 360 includes a main frame 379 provided with a second magnetic force transmitting part, which is moved by mutual magnetic force reaction with the transmission part, installed in the process chamber 10 so as to be transported by a magnetic force ≪ / RTI > 제14항에 있어서,
상기 지지부(372), 상기 클램핑결합부(374) 및 상기 연결부(376)는 일체로 형성되는 기판지지조립체.15. The method of claim 14,
Wherein the support portion (372), the clamping engagement portion (374), and the connection portion (376) are integrally formed. 제14항에 있어서,
상기 기판지지부(340)에 외력이 가해질 때 상기 기판지지부(340)의 표면에 수직인 방향으로 탄성변형에 의하여 미세 이동이 가능하도록 상기 연결부(376)의 강성은 상기 지지부(372) 및 상기 클램핑결합부(374)의 강성보다 작은 기판지지조립체.15. The method of claim 14,
The rigidity of the connection portion 376 is determined by the elasticity of the support portion 372 and the clamping engagement portion 372 so that the rigidity of the connection portion 376 can be finely moved by elastic deformation in a direction perpendicular to the surface of the substrate support portion 340 when an external force is applied to the substrate support portion 340. [ (374). ≪ / RTI > 제21항에 있어서,
상기 기판지지부(340)에 외력이 가해질 때 상기 기판지지부(340)의 표면에 수직인 방향으로 탄성변형에 의하여 미세 이동이 가능하도록 상기 연결부(376)는 적어도 하나 이상의 슬릿(376)이 형성된 기판지지조립체.22. The method of claim 21,
When the external force is applied to the substrate support part 340, the connection part 376 may be formed by at least one slit 376 formed on the substrate support part 340 so that the substrate can be finely moved by elastic deformation in a direction perpendicular to the surface of the substrate support part 340. Assembly. 제21항에 있어서,
상기 기판지지부(340)에 외력이 가해질 때 상기 기판지지부(340)의 표면에 수직인 방향으로 탄성변형에 의하여 미세 이동이 가능하도록 상기 연결부(376)의 두께는 상기 지지부(372) 및 상기 클램핑결합부(374)의 두께보다 얇게 형성되는 기판지지조립체.22. The method of claim 21,
The thickness of the connection portion 376 may be determined by the thickness of the support portion 372 and the clamping engagement portion 372 so that the substrate can be finely moved by elastic deformation in a direction perpendicular to the surface of the substrate support portion 340 when an external force is applied to the substrate support portion 340. [ (374). ≪ / RTI > 제14항에 있어서,
상기 기판(S) 및 상기 마스크(M)는 상기 공정챔버(10) 내에 수평으로 또는 수직으로 이송되어 수직상태로 고정되는 기판지지조립체.15. The method of claim 14,
Wherein the substrate (S) and the mask (M) are horizontally or vertically conveyed in the process chamber (10) and fixed in a vertical position. 제14항에 있어서,
상기 기판지지조립체(360)는 Ti 합금 및 CFRP(Carbon Fiber Reinforced Plastic) 중 적어도 어느 하나의 재질로 이루어지는 기판지지조립체.15. The method of claim 14,
Wherein the substrate support assembly 360 is made of at least one of a Ti alloy and a Carbon Fiber Reinforced Plastic (CFRP).
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US20220006015A1 (en) * 2020-07-03 2022-01-06 Samsung Display Co., Ltd. Apparatus and method of manufacturing display apparatus

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