KR20130088536A - Apparatus for flipping substrate - Google Patents

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KR20130088536A
KR20130088536A KR1020120009830A KR20120009830A KR20130088536A KR 20130088536 A KR20130088536 A KR 20130088536A KR 1020120009830 A KR1020120009830 A KR 1020120009830A KR 20120009830 A KR20120009830 A KR 20120009830A KR 20130088536 A KR20130088536 A KR 20130088536A
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Abstract

PURPOSE: A substrate reversal apparatus is provided to improve the reliability of a process for reversing a substrate by preventing damage to a first bellows pipe. CONSTITUTION: A rotary frame (120) is rotatably installed by being supported to a main chamber. A fixing grip member (140) is rotated with the rotary frame and supports an edge unit of one side of the substrate. An elevating grip member (150) is elevation-capably installed and supports the edge unit of the other side of the substrate and prevents fall of the substrate when the substrate interposed between the fixing grip member. An actuator has a plunger elevating the elevating grip member by performing straight line motion. One side of the bellows pipe is engaged with the elevating grip member, the other side is engaged with the actuator and surrounds the plunger and is expanded and contracted along the straight line motion of the plunger.

Description

기판 반전 장치 {APPARATUS FOR FLIPPING SUBSTRATE}Board Inverter {APPARATUS FOR FLIPPING SUBSTRATE}

본 발명은 기판을 반전시키는 공정의 신뢰성을 향상시킬 수 있음과 동시에 원가를 절감할 수 있는 기판 반전 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate reversing apparatus that can improve the reliability of the process of reversing the substrate and at the same time reduce the cost.

오늘날, 평판표시장치(Flat Panel Display Device)에 대한 수요가 점점 증가하고 있으며, 이에 따라 LCD(Liquid Crystal Display) 패널, PDP(Plasma Display Panel), FED(Field Emission Display) 패널, OLED(Organic Light Emitting Diodes) 패널 및 VFD(Vacuum Fluorescent Display) 패널 등에 대한 연구개발이 활발히 진행중이다.Today, the demand for flat panel display devices is increasing. As a result, liquid crystal display (LCD) panels, plasma display panels (PDPs), field emission display (FED) panels, and organic light emitting (OLED) panels Research and development of Diodes (V Diodes) panels and VFD (Vacuum Fluorescent Display) panels is in progress.

LCD 패널에 대하여 설명한다.The LCD panel will be described.

LCD 패널은 액정의 굴절률의 이방성을 이용하여 화면에 정보를 표시하는 장치로서, 상부기판, 하부기판 및 상기 상부기판과 상기 하부기판 사이에 형성된 액정층을 포함한다.An LCD panel is a device for displaying information on a screen by using the anisotropy of the refractive index of the liquid crystal, and includes an upper substrate, a lower substrate, and a liquid crystal layer formed between the upper substrate and the lower substrate.

상기 하부기판은 구동소자 어레이 기판이고, 상기 하부기판에는 복수의 화소가 형성되어 있으며, 각각의 상기 화소에는 박막 트랜지스터 등과 같은 구동소자가 형성되어 있다. 상기 상부기판은 컬러필터 기판으로서 실제 컬러를 구현하기 위한 컬러 필터층이 형성되어 있다.The lower substrate is a driving element array substrate, and a plurality of pixels are formed on the lower substrate, and a driving element such as a thin film transistor is formed on each of the pixels. The upper substrate is a color filter substrate is formed with a color filter layer for real color.

상기 상부기판 및 상기 하부기판에는 각각 화소전극 및 공통전극이 형성되어 있고, 상기 액정층의 액정분자를 배향하기 위한 배향막이 도포되어 있다. A pixel electrode and a common electrode are formed on the upper substrate and the lower substrate, respectively, and an alignment film for aligning liquid crystal molecules of the liquid crystal layer is coated.

상기와 같은 LCD 패널은 상기 상부기판과 상기 하부기판에 구동소자 어레이 공정, 컬러필터 공정 및 셀 공정 등을 적절하게 수행하고, 상기 상부기판과 상기 하부기판을 합착한다. 따라서, LCD 패널의 공정상 LCD 패널을 반전시키는 것이 반드시 필요하다.The LCD panel as described above appropriately performs a driving element array process, a color filter process, a cell process, and the like on the upper substrate and the lower substrate, and attaches the upper substrate and the lower substrate. Therefore, it is necessary to invert the LCD panel in the process of the LCD panel.

LCD 패널 등과 같은 기판을 반전시키는 종래의 기판 반전 장치는 진공상태의 챔버에 지지되어 회전가능하게 설치된 회전프레임, 상기 회전프레임의 일측에 고정된 고정 그립(Grip)부재, 상기 회전프레임의 타측에 승강가능하게 설치되어 상기 고정 그립부재와 대향하는 승강 그립부재 및 상기 승강 그립부재를 승강시키는 벨로즈관을 포함한다.Conventional substrate reversing apparatus for inverting a substrate such as an LCD panel is a rotating frame rotatably supported by a vacuum chamber, a fixed grip member fixed to one side of the rotating frame, elevating to the other side of the rotating frame And a bellows pipe which is installed to be capable of elevating the elevating grip member facing the fixed grip member and elevating the elevating grip member.

상기 벨로즈관의 일측은 상기 승강 그립부재에 연결되고 타측은 공기탱크와 연통된다. 그리하여, 상기 벨로즈관은 공기가 공급되면 팽창하면서 상기 승강 그립부재를 상승시키고, 공기가 배출되면 수축하면서 상기 승강 그립부재를 하강시킨다.One side of the bellows pipe is connected to the lifting grip member and the other side is in communication with the air tank. Thus, the bellows pipe raises the lifting grip member while expanding when air is supplied, and lowers the lifting grip member while contracting when air is discharged.

기판이 로봇의 아암에 지지되어 상기 고정 그립부재와 상기 승강 그립부재 사이에 위치되면, 상기 벨로즈관의 팽창에 의하여 상기 승강 그립부재가 승강한다. 그러면, 기판은 상기 고정 그립부재와 상기 승강 그립부재 사이에 개재되어 지지되며, 이러한 상태에서 상기 회전프레임이 회전하여 기판을 반전시킨다.When the substrate is supported by the arm of the robot and positioned between the fixed grip member and the lift grip member, the lift grip member is lifted by the expansion of the bellows pipe. Then, the substrate is interposed between the fixed grip member and the lifting grip member to be supported. In this state, the rotating frame rotates to invert the substrate.

상기와 같은 종래의 기판 반전 장치는 상기 벨로즈관이 진공상태의 챔버에 설치되므로, 상기 벨로즈관에는 외측에서 내측으로 챔버의 압력이 작용한다. 그러므로, 상기 벨로즈관을 팽창시키기 위해서는 상기 벨로즈관의 내부로 유입되는 공기의 압력이 상기 챔버의 압력 보다 커야 한다.In the conventional substrate reversing apparatus as described above, since the bellows pipe is installed in the chamber in a vacuum state, the pressure of the chamber acts on the bellows pipe from the outside to the inside. Therefore, in order to expand the bellows pipe, the pressure of the air flowing into the bellows pipe must be greater than the pressure of the chamber.

이로 인해, 상기 벨로즈관의 내부에는 고압이 작용하므로 상기 벨로즈관은 쉽게 손상된다. 따라서, 기판 반전 공정의 신뢰성이 저하되는 단점이 있고, 상기 벨로즈관의 유지보수에 많은 시간과 비용이 소요되어 원가가 상승하는 단점이 있다.Thus, the bellows pipe is easily damaged because a high pressure is applied to the inside of the bellows pipe. Therefore, there is a disadvantage in that the reliability of the substrate reversal process is lowered, and the cost of the bellows tube is increased due to a lot of time and cost.

기판 반전 장치와 관련한 선행기술은 한국공개특허공보 10-2005-0097115호 등에 개시되어 있다.Prior art related to a substrate reversal apparatus is disclosed in Korean Patent Laid-Open No. 10-2005-0097115.

본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점들을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 벨로즈관이 손상되는 것을 방지하여, 기판을 반전시키는 공정의 신뢰성을 향상시킬 수 있음과 동시에, 원가를 절감할 수 있는 기판 반전 장치를 제공함에 있다.The present invention has been made to solve the problems of the prior art as described above, the object of the present invention is to prevent the bellows tube from being damaged, to improve the reliability of the process of reversing the substrate, and at the same time reduce the cost It is to provide a substrate reversing apparatus that can be saved.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 반전 장치는, 진공상태의 메인 챔버; 상기 메인 챔버에 지지되어 회전가능하게 설치된 회전프레임; 상기 회전프레임의 일측에 설치되어 상기 회전프레임과 함께 회전하며, 상기 기판의 일면 테두리부측을 지지하는 고정 그립(Grip)부재; 상기 회전프레임의 타측에 설치되어 상기 회전프레임과 함께 회전하고, 승강가능하게 설치되어 상기 기판의 타면 테두리부측을 지지하며, 상기 고정 그립부재와 작용하여 상기 고정 그립부재와의 사이에 개재된 상기 기판이 상기 회전프레임의 회전에 의하여 반전될 때, 낙하하는 것을 방지하는 승강 그립부재; 일측이 상기 승강 그립부재측에 결합되어 직선운동하면서 상기 승강 그립부재를 승강시키는 플런저(Plunger)를 가지는 액추레이터; 일측은 상기 승강 그립부재에 결합되고 타측은 상기 액추레이터에 결합되어 상기 플런저를 감싸며, 상기 플런저의 직선운동에 따라 신축(伸縮)되는 제 1 벨로즈관을 포함한다.The substrate reversing apparatus according to the present invention for achieving the above object, the main chamber in a vacuum state; A rotating frame rotatably supported by the main chamber; A fixed grip member installed at one side of the rotating frame to rotate together with the rotating frame and supporting one side edge portion of the substrate; The substrate is installed on the other side of the rotating frame and rotates together with the rotating frame, and is provided to be elevated to support the other side edge portion of the substrate, and the substrate is interposed between the fixed grip member and the fixed grip member. Lifting grip member for preventing the fall when the reversed by the rotation of the rotary frame; An actuator having one side coupled to the elevating grip member and having a plunger for elevating the elevating grip member while linearly moving; One side is coupled to the lifting grip member and the other side is coupled to the actuator to surround the plunger, and includes a first bellows tube that is stretched in accordance with the linear movement of the plunger.

본 발명에 따른 기판 반전 장치는, 액추레이터에 의하여 승강 그립부재가 승강한다. 그러므로, 액추레이터의 플런저를 감싸서 보호하는 제 1 벨로즈관을 팽창시키기 위하여 제 1 벨로즈관의 내부에 고압의 공기를 유입시킬 필요가 없다. 즉, 제 1 벨로즈관의 내부를 대기압 상태로 유지하여도 무방하므로, 제 1 벨로즈관에는 상대적으로 작은 압력이 작용한다. 따라서, 제 1 벨로즈관이 손상되는 것이 방지되므로, 기판을 반전시키기 위한 공정의 신뢰성이 향상된다.In the substrate reversing apparatus according to the present invention, the lifting grip member is lifted by the actuator. Therefore, it is not necessary to introduce high pressure air into the first bellows pipe in order to expand the first bellows pipe surrounding and protecting the plunger of the actuator. That is, since the inside of the first bellows pipe may be kept at atmospheric pressure, a relatively small pressure acts on the first bellows pipe. Therefore, damage to the first bellows tube is prevented, thereby improving the reliability of the process for inverting the substrate.

그리고, 플런저는 제 1 벨로즈관에 의하여 감싸여서 보호되므로, 액추레이터를 비진공용으로 사용하여도 무방하다. 따라서, 원가가 절감되는 효과가 있다.Since the plunger is wrapped and protected by the first bellows tube, the actuator may be used for non-vacuum. Therefore, the cost is reduced.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반전 장치의 외관을 보인 사시도.
도 2는 도 1에 도시된 기판 반전 장치의 메인 챔버의 내부 구성을 보인 사시도.
도 3은 도 2에 도시된 회전프레임이 회전된 상태를 보인 사시도.
도 4는 도 2의 "A"부 확대도.
도 5a 및 도 5b는 도 3의 "B-B"선 개략 단면도.
도 6은 도 2의 "C"부 확대도.
도 7은 도 2의 "D-D"선 개략 단면도.
1 is a perspective view showing the appearance of a substrate reversing apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a perspective view showing an internal configuration of a main chamber of the substrate reversing apparatus shown in FIG. 1. FIG.
Figure 3 is a perspective view showing a state in which the rotating frame shown in FIG.
4 is an enlarged view of a portion “A” of FIG. 2.
5A and 5B are schematic cross-sectional views taken along line “BB” of FIG. 3.
6 is an enlarged view of a portion “C” of FIG. 2.
FIG. 7 is a schematic sectional view taken along a line “DD” of FIG. 2.

후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭하며, 길이 및 면적, 두께 등과 그 형태는 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다.DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The following detailed description of the invention refers to the accompanying drawings that show, by way of illustration, specific embodiments in which the invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable those skilled in the art to practice the invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are different, but need not be mutually exclusive. For example, certain features, structures, and characteristics described herein may be implemented in other embodiments without departing from the spirit and scope of the invention in connection with an embodiment. It is also to be understood that the position or arrangement of the individual components within each disclosed embodiment may be varied without departing from the spirit and scope of the invention. The following detailed description is, therefore, not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention is to be limited only by the appended claims, along with the full scope of equivalents to which such claims are entitled, if properly explained. In the drawings, like reference numerals refer to the same or similar functions throughout the several views, and length and area, thickness, and the like may be exaggerated for convenience.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반전 장치를 상세히 설명한다.Hereinafter, a substrate inversion apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 반전 장치의 외관을 보인 사시도이다.1 is a perspective view showing the appearance of a substrate reversing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도시된 바와 같이, 제조 공정상 상부기판과 하부기판의 반전이 필요한 LCD(Liquid Crystal Display) 등과 같은 기판을 반전시키기 위한 본 실시예에 따른 기판 반전 장치는 진공상태의 메인 챔버(110)를 포함한다.As shown in the drawing, the substrate reversing apparatus according to the present embodiment for reversing a substrate such as an LCD (Liquid Crystal Display) that requires inversion of the upper substrate and the lower substrate in the manufacturing process includes a main chamber 110 in a vacuum state. .

메인 챔버(110)의 전면에는 기판(50)이 투입되는 투입구(111)가 형성되고, 후면에는 기판(50)이 배출되는 배출구(미도시)가 형성된다. 기판(50)은 로봇의 아암(60)에 지지되어, 투입구(111)를 통하여 메인 챔버(110)에 투입된 후, 반전된다. 그리고, 반전된 기판(50)은 다른 로봇의 아암(미도시)에 지지되어 상기 배출구를 통하여 메인 챔버(110)의 외부로 배출된 후, 필요한 공정을 위한 장치로 이송된다.An inlet 111 through which the substrate 50 is inserted is formed on the front surface of the main chamber 110, and an outlet (not shown) through which the substrate 50 is discharged is formed on the rear surface of the main chamber 110. The substrate 50 is supported by the arm 60 of the robot, is introduced into the main chamber 110 through the inlet 111, and then reversed. The inverted substrate 50 is supported by an arm (not shown) of another robot and discharged to the outside of the main chamber 110 through the discharge port, and then transferred to an apparatus for a necessary process.

메인 챔버(110)에는 기판(50)을 반전시키기 위한 구성 요소들이 설치되는데, 이를 도 1 내지 도 4를 참조하여 설명한다. 도 2는 도 1에 도시된 기판 반전 장치의 메인 챔버의 내부 구성을 보인 사시도이고, 도 3은 도 2에 도시된 회전프레임이 회전된 상태를 보인 사시도이며, 도 4는 도 2의 "A"부 확대도이다.Components for inverting the substrate 50 are installed in the main chamber 110, which will be described with reference to FIGS. 1 to 4. 2 is a perspective view showing an internal configuration of the main chamber of the substrate reversing apparatus shown in FIG. 1, FIG. 3 is a perspective view showing a state in which the rotating frame shown in FIG. 2 is rotated, and FIG. 4 is "A" of FIG. Wealth enlarged view.

도시된 바와 같이, 메인 챔버(110)에는 회전프레임(120)이 지지되어 회전가능하게 설치된다. 이때, 회전프레임(120)은 투입구(111)측에서 상기 배출구측을 향하여 대략 180°정회전한 다음, 상기 배출구측에서 투입구(111)측을 향하여 대략 180°역회전하여 최초의 상태로 복귀된다.As shown, the main frame 110 is rotatably installed to support the rotating frame 120. At this time, the rotation frame 120 is rotated approximately 180 ° forward from the inlet 111 side toward the outlet side, and then rotated back approximately 180 ° toward the inlet 111 side from the outlet side to return to the original state. .

회전프레임(120)은 메인 챔버(110)의 좌측면 및 우측면에 각각 설치된 모터(131, 135)의 구동에 의하여 회전한다.The rotating frame 120 rotates by driving the motors 131 and 135 installed on the left and right sides of the main chamber 110, respectively.

회전프레임(120)의 상측 부위에는 고정 그립(Grip)부재(140)가 설치되며, 고정 그립부재(140)는 회전프레임(120)에 고정되어 회전프레임(120)과 함께 회전한다. 고정 그립부재(140)는 투입구(111) 및 상기 배출구를 사이에 두고 상호 대향하는 한쌍으로 마련되며, 판 형상으로 형성된다. 즉, 고정 그립부재(140)의 일단부측 및 타단부측은 투입구(111)측 및 상기 배출구측을 각각 향한다. 그리하여, 고정 그립부재(140)는 기판(50)의 상면 좌측 테두리부측 및 상면 우측 테두리부측을 각각 지지한다.A fixed grip member 140 is installed at an upper portion of the rotating frame 120, and the fixed grip member 140 is fixed to the rotating frame 120 to rotate together with the rotating frame 120. The fixed grip member 140 is provided in pairs facing each other with the inlet 111 and the outlet interposed therebetween, and are formed in a plate shape. That is, one end side and the other end side of the fixed grip member 140 faces the inlet 111 side and the outlet side, respectively. Thus, the fixed grip member 140 supports the upper left edge portion and the upper right edge portion of the substrate 50, respectively.

회전프레임(120)의 하측 부위에는 승강 그립부재(150)가 설치된다. 승강 그립부재(150)는 회전프레임(120)에 승강가능하게 설치되어 고정 그립부재(140)와 가까워지고 멀어지는 형태로 운동함과 동시에 회전프레임(120)과 함께 회전한다.The lifting grip member 150 is installed at a lower portion of the rotating frame 120. The lifting grip member 150 is installed on the rotating frame 120 so that the lifting grip member 150 can move upward and away from the fixed grip member 140 and rotate together with the rotating frame 120.

승강 그립부재(150)도 투입구(111) 및 상기 배출구를 사이에 두고 상호 대향하는 한쌍으로 마련되고, 판 형상으로 형성되며, 고정 그립부재(140)와 각각 대향한다. 즉, 승강 그립부재(150)의 일단부측 및 타단부측은 투입구(111)측 및 상기 배출구측을 각각 향한다. 그리하여, 승강 그립부재(150)는 승강하면서 기판(50)의 하면 좌측 테두리부측 및 하면 우측 테두리부측을 각각 지지한다.The elevating grip member 150 is also provided in pairs facing each other with the inlet 111 and the outlet interposed therebetween, formed in a plate shape, and facing the fixed grip member 140, respectively. That is, one end side and the other end side of the lifting grip member 150 face the inlet 111 side and the outlet side, respectively. Thus, the lifting grip member 150 supports the lower left edge portion and the lower right edge portion, respectively, of the substrate 50 while raising and lowering.

고정 그립부재(140)와 승강 그립부재(150)에 의하여 기판(50)이 지지되는 구조를 설명한다.A structure in which the substrate 50 is supported by the fixed grip member 140 and the lifting grip member 150 will be described.

기판(50)은 로봇의 아암(60)에 지지되어 투입구(111)를 통하여 메인 챔버(110)로 투입된다. 그리고, 투입구(111)를 통하여 메인 챔버(110)로 투입된 기판(50)은 고정 그립부재(140)와 승강 그립부재(150) 사이에 위치된다. 그러면, 승강 그립부재(150)가 상승하면서 기판(50)을 상승시키고, 기판(50)은 고정 그립부재(140)와 승강 그립부재(150) 사이에 개재되어 지지된다. 이러한 상태에서, 회전프레임(120)이 정방향으로 180°회전하면, 기판(50)은 상면과 하면의 위치가 반전된다.The substrate 50 is supported by the arm 60 of the robot and is introduced into the main chamber 110 through the inlet 111. In addition, the substrate 50 introduced into the main chamber 110 through the inlet 111 is positioned between the fixed grip member 140 and the lifting grip member 150. Then, the lifting grip member 150 is raised to raise the substrate 50, and the substrate 50 is interposed between the fixed grip member 140 and the lifting grip member 150 to be supported. In this state, when the rotation frame 120 rotates 180 ° in the forward direction, the position of the upper and lower surfaces of the substrate 50 is reversed.

기판(50)이 고정 그립부재(140)와 승강 그립부재(150)에 의하여 지지된 상태에서 회전되므로, 기판(50)은 하측으로 낙하하지 않고 반전된다.Since the substrate 50 is rotated while being supported by the fixed grip member 140 and the lifting grip member 150, the substrate 50 is reversed without falling downward.

승강 그립부재(150)가 상승하여야 고정 그립부재(140)와 승강 그립부재(150)의 작용에 의하여 기판(50)이 지지되나, 도 2 및 도 3에는 설명의 편의를 위하여 승강 그립부재(150)가 하강된 상태에서 고정 그립부재(140)에 기판(50)이 지지된 것을 도시하여 보인다.The lifting grip member 150 is raised to support the substrate 50 by the action of the fixed grip member 140 and the lifting grip member 150, but the lifting grip member 150 is shown in FIGS. 2 and 3 for convenience of description. It is shown that the substrate 50 is supported by the fixed grip member 140 in the lowered state.

한쌍의 승강 그립부재(150)의 양단부측에는 승강 그립부재(150)와 수직을 이루는 지지판(153)이 각각 연장 형성되고, 지지판(153)에는 계단면(階段面)(153a)이 형성된다. 계단면(153a)에는 투입구(111)측을 향하는 기판(50)의 테두리부측 및 상기 배출구측을 향하는 기판(50)의 테두리부측이 각각 탑재됨과 동시에 걸려서 지지된다. 더 구체적으로 설명하면, 계단면(153a)의 수평면(153aa)에는 기판(50)의 하면 테두리부측이 탑재 지지되고, 수직면(153ab)에는 기판(50)의 측면이 걸려서 지지된다.On both ends of the pair of lifting grip members 150, support plates 153 perpendicular to the lifting grip members 150 extend, respectively, and support plates 153 are formed with stepped surfaces 153a. On the stepped surface 153a, the edge portion side of the substrate 50 facing the inlet 111 side and the edge portion side of the substrate 50 facing the discharge port side are mounted and supported. More specifically, the lower edge portion of the substrate 50 is mounted on the horizontal surface 153aa of the step surface 153a, and the side surface of the substrate 50 is supported on the vertical surface 153ab.

전술한 바와 같이, 회전프레임(120)은 투입구(111)측에서 상기 배출구측을 향하여 정회전되고, 상기 배출구측에서 투입구(111)측을 향하여 역회전된다. 그러므로, 고정 그립부재(140)와 승강 그립부재(150)로 기판(50)을 지지하여 회전프레임(120)을 정역회전시켜도, 투입구(111)측 및 상기 배출구측을 향하는 기판(50)의 측면이 계단면(153a)의 수직면(153ab)에 각각 걸려서 지지되므로, 기판(50)이 하측으로 낙하되는 것이 완전하게 방지된다.As described above, the rotating frame 120 is rotated forward from the inlet 111 side toward the outlet side, and reversely rotated from the outlet side toward the inlet 111 side. Therefore, even when the rotating frame 120 is rotated forward and backward by supporting the substrate 50 by the fixed grip member 140 and the lifting grip member 150, the side surface of the substrate 50 facing the inlet 111 side and the outlet side. Since the vertical surface 153ab of this step surface 153a is supported by each, it is completely prevented that the board | substrate 50 falls to the lower side.

회전프레임(120)이 회전하면, 투입구(111)측을 향하는 승강 그립부재(150)의 일단부측에 형성된 지지판(153)이 상기 배출구측을 향하고, 상기 배출구측을 향하는 승강 그립부재(150)의 타단부측에 형성된 지지판(153)이 투입구(111)측을 향한다. 즉, 회전프레임(120)이 회전하면, 승강 그립부재(150)의 양단부측에 각각 형성된 지지판(153)의 위치가 반전된다.When the rotating frame 120 rotates, the support plate 153 formed on one end of the lifting grip member 150 facing the inlet 111 faces the outlet side, and the lifting grip member 150 faces the outlet side. The support plate 153 formed on the other end side faces the inlet 111 side. That is, when the rotating frame 120 rotates, the positions of the support plates 153 respectively formed on both end portions of the lifting grip member 150 are reversed.

본 실시예에 따른 기판 반전 장치는 고정 그립부재(140)가 하측에 설치되고, 승강 그립부재(150)가 상측에 설치될 수 있음은 당연하다.In the substrate reversing apparatus according to the present embodiment, the fixed grip member 140 may be installed at the lower side, and the lifting grip member 150 may be installed at the upper side.

승강 그립부재(150)를 승강시키는 승강수단에 대하여, 도 2, 도 3, 도 5a 및 도 5b를 참조하여 설명한다. 도 5a 및 도 5b는 도 3의 "B-B"선 개략 단면도이다.Lifting means for raising and lowering the lifting grip member 150 will be described with reference to FIGS. 2, 3, 5A, and 5B. 5A and 5B are schematic cross-sectional views taken along line “B-B” of FIG. 3.

도 2는 승강 그립부재(150)가 하강된 최초의 상태를 보이고, 도 3은 승강 그립부재(150)가 하강한 상태에서 회전프레임(120)의 회전에 의하여 승강 그립부재(150)가 반전되어 고정 그립부재(140)의 상측에 위치된 상태를 보인다.2 shows an initial state in which the elevating grip member 150 is lowered, and FIG. 3 shows that the elevating grip member 150 is inverted by the rotation of the rotating frame 120 while the elevating grip member 150 is lowered. It shows a state located on the upper side of the fixed grip member 140.

도 5a 및 도 5b는 도 3의 “B-B”선 단면도 이므로, 도 5a에서 승강 그립부재(150)가 상측에 위치되어 있으나 이는 승강 그립부재(150)가 하강한 상태이고, 도 5b에서 승강 그립부재(150)가 하측에 위치되어 있으나 이는 승강 그립부재(150)가 상승한 상태이다. 따라서, 도 5a 및 도 5b를 설명함에 있어서, 승강 그립부재(150)가 상측에 위치된 것을 하강한 상태라 하고, 하측에 위치된 것을 상승한 상태라 한다. 또한, 다른 구성요소들에 대한 설명을 함에 있어서, 하측을 향하는 부위를 상부측 이라 하고, 상측을 향하는 부위를 하부측이라 한다.5A and 5B are cross-sectional views taken along the line “BB” of FIG. 3, the lift grip member 150 is positioned upward in FIG. 5A, but the lift grip member 150 is lowered, and the lift grip member 150 is in FIG. 5B. 150 is located below, but the lifting grip member 150 is raised. Therefore, in the description of FIGS. 5A and 5B, the lifting grip member 150 is located in the lowered state, and the lower lifting grip member 150 is in the raised state. In addition, in the description of other components, the portion facing downward is referred to as the upper side, and the portion facing upward is referred to as the lower side.

그리고, 도 5a는 승강 그립부재(150)의 하강에 의하여 제 1 벨로즈관(165)이 수축된 상태를 보이고, 도 5b는 승강 그립부재(150)의 상승에 의하여 제 1 벨로즈관(165)이 팽창된 상태를 보인다.5A illustrates a state in which the first bellows pipe 165 is contracted by the lowering of the lifting grip member 150, and FIG. 5B is a first bellows pipe 165 due to the lifting of the lifting grip member 150. ) Shows an expanded state.

도시된 바와 같이, 승강 그립부재(150)에는 그립 액추레이터용 챔버(161)가 설치되고, 그립 액추레이터용 챔버(161)에는 액추레이터(미도시)가 설치되며, 상기 액추레이터는 직선운동하는 플런저(Plunger)(161a)를 포함한다. 이때, 상기 액추레이터의 외측으로 노출된 플런저(161a)의 단부측에는 승강 그립부재(150)측이 연결되고, 승강 그립부재(150)는 플런저(161a)가 직선운동함에 따라 승강한다.As shown, the grip actuator 150 is provided with a grip actuator chamber 161, the grip actuator chamber 161 is provided with an actuator (not shown), the actuator is a linear movement Plunger 161a. At this time, the lifting grip member 150 is connected to the end side of the plunger 161a exposed to the outside of the actuator, and the lifting grip member 150 is lifted as the plunger 161a moves linearly.

상기 액추레이터와 승강 그립부재(150) 사이에는 신축(伸縮)되는 제 1 벨로즈관(165)이 설치된다. 상세히 설명하면, 제 1 벨로즈관(165)은 플런저(161a)를 감싸는 형태로 설치되며, 상부측은 승강 그립부재(150)에 결합되고 하부측은 상기 액추레이터에 결합된다. 그리고, 제 1 벨로즈관(165)의 내부에 위치된 플런저(161a)의 단부측은 제 1 벨로즈관(165)의 내부 상면측과 결합된다. 따라서, 승강 그립부재(150)를 승강시키기 위하여 플런저(161a)가 직선운동하면, 제 1 벨로즈관(165)은 플런저(161a)에 의하여 신축된다.Between the actuator and the lifting grip member 150, a first bellows pipe 165 is installed. In detail, the first bellows pipe 165 is installed to surround the plunger 161a, and the upper side is coupled to the lifting grip member 150, and the lower side is coupled to the actuator. Then, the end side of the plunger 161a located inside the first bellows pipe 165 is engaged with the inner upper surface side of the first bellows pipe 165. Therefore, when the plunger 161a moves linearly to elevate the lifting grip member 150, the first bellows pipe 165 is stretched by the plunger 161a.

이때, 플런저(161a)의 상단부측과 제 1 벨로즈관(165)의 내부 상면은 일체로 형성될 수 있다.At this time, the upper end side of the plunger 161a and the inner upper surface of the first bellows pipe 165 may be integrally formed.

본 실시예에 따른 기판 반전 장치는 상기 액추레이터에 의하여 승강 그립부재(150)가 승강한다. 그러므로, 제 1 벨로즈관(165)의 외부에 작용하는 진공상태의 압력 보다 더 큰 압력을 제 1 벨로즈관(165)의 내부에 작용시켜, 제 1 벨로즈관(165)을 팽창시킬 필요가 없다. 즉, 제 1 벨로즈관(165)의 내부를 대기압 상태로 유지하여도 무방하기 때문에, 제 1 벨로즈관(165)에는 상대적으로 작은 압력이 작용하므로, 제 1 벨로즈관(165)이 손상되는 것이 방지된다.In the substrate reversing apparatus according to the present embodiment, the lifting grip member 150 is lifted by the actuator. Therefore, a pressure greater than the pressure in the vacuum state acting on the outside of the first bellows pipe 165 needs to be applied to the inside of the first bellows pipe 165 to expand the first bellows pipe 165. There is no. That is, since the inside of the first bellows pipe 165 may be maintained at atmospheric pressure, relatively small pressure acts on the first bellows pipe 165, so that the first bellows pipe 165 is damaged. Is prevented.

그리고, 플런저(161a)는 제 1 벨로즈관(165)에 의하여 감싸여서 보호되므로, 상기 액추레이터를 비진공용으로 사용하여도 무방하다.Since the plunger 161a is wrapped and protected by the first bellows pipe 165, the plunger 161a may be used for non-vacuum.

승강 그립부재(150)가 상승하여 기판(50)의 하면 테두리부측을 지지할 때, 승강 그립부재(150)에서 기판(50)에 작용하는 하중이 소정 이상이면, 기판(50)이 손상될 수 있다. 이를 방지하기 위하여 본 실시예에 따른 승강 그립부재(150)에는 지지패드(171)가 설치된다. 지지패드(171)의 구조에 대하여 도 2, 도 3 및 도 6을 참조하여 설명한다. 도 6은 도 2의 "C"부 확대도이다.When the lifting grip member 150 is lifted to support the lower edge of the substrate 50, if the load applied to the substrate 50 by the lifting grip member 150 is more than a predetermined value, the substrate 50 may be damaged. have. In order to prevent this, the lifting grip member 150 according to the present embodiment is provided with a support pad 171. The structure of the support pad 171 will be described with reference to FIGS. 2, 3, and 6. 6 is an enlarged view of a portion “C” of FIG. 2.

도시된 바와 같이, 지지패드(171)는 PEEK(Polyetherethereketone) 재질로 형성되어 승강 그립부재(150)에 승강가능하게 설치된다. PEEK는 고성능 Polymer 재질로서, 충격 및 마모에 강한 열가소성수지이다. 그리고, 지지패드(171)와 승강 그립부재(150) 사이에는 지지패드(171)를 기판(50)측으로 탄성 지지하는 탄성부재(175)가 설치된다.As shown, the support pad 171 is formed of a polyetherethereketone (PEEK) material is installed to be elevated on the lifting grip member 150. PEEK is a high-performance polymer material, a thermoplastic resin resistant to impact and abrasion. In addition, an elastic member 175 is provided between the support pad 171 and the lifting grip member 150 to elastically support the support pad 171 toward the substrate 50.

승강 그립부재(150)가 상승하면 지지패드(171)가 기판(50)에 접촉하여 기판(50)을 지지한다. 그런데, 지지패드(171)가 기판(50)에 접촉된 상태에서, 승강 그립부재(150)가 더 상승할 수도 있다.When the lifting grip member 150 is raised, the support pad 171 contacts the substrate 50 to support the substrate 50. However, the lifting grip member 150 may be further raised while the support pad 171 is in contact with the substrate 50.

본 실시예에 따른 기판 반전 장치는 지지패드(171)가 기판(50)에 접촉한 상태에서 승강 그립부재(150)가 더 상승하여도, 지지패드(171)는 상승하지 않고 승강 그립부재(150)만 상승한다. 그러면, 지지패드(171)와 승강 그립부재(150)에 의하여 탄성부재(175)가 압축되고, 탄성부재(175)의 탄성력에 의하여 지지패드(171)는 더 견고하게 기판(50)을 지지한다. 그러므로, 기판(50)이 손상되는 것이 방지된다.In the substrate reversing apparatus according to the present embodiment, even when the lifting grip member 150 is further raised while the support pad 171 is in contact with the substrate 50, the support pad 171 does not rise but the lifting grip member 150 is raised. ) Only rises. Then, the elastic member 175 is compressed by the support pad 171 and the lifting grip member 150, and the support pad 171 supports the substrate 50 more firmly by the elastic force of the elastic member 175. . Therefore, the substrate 50 is prevented from being damaged.

기판(50)이 상측에 위치된 고정 그립부재(140)와 하측에 위치된 승강 그립부재(150) 사이에 개재되면, 승강 그립부재(150)가 상승하여 기판(50)을 지지한다. 고정 그립부재(140)와 승강 그립부재(150)에 의하여 기판(50)이 지지되면 기판(50)은 반전되어, 도 5b에 도시된 바와 같이, 고정 그립부재(140)에 탑재 지지된 상태가 된다. 기판(50)이 고정 그립부재(140)에 탑재 지지된 상태가 되면, 승강 그립부재(150)가 하강하여 도 5a에 도시된 상태가 된다. 그 다음, 다른 상기 로봇의 아암이 기판(50)을 지지하여 필요한 공정을 수행하기 위한 곳으로 기판(50)을 이송할 수 있다.When the substrate 50 is interposed between the fixed grip member 140 positioned above and the lifting grip member 150 positioned below, the lifting grip member 150 rises to support the substrate 50. When the substrate 50 is supported by the fixed grip member 140 and the lifting grip member 150, the substrate 50 is inverted, and as shown in FIG. 5B, the state of being mounted and supported on the fixed grip member 140 is do. When the substrate 50 is mounted and supported on the fixed grip member 140, the lifting grip member 150 descends to a state illustrated in FIG. 5A. Then, the arm of another robot can support the substrate 50 and transfer the substrate 50 to a place for performing the necessary process.

이때, 기판(50)이 고정 그립부재(140)의 정해진 위치에 위치되어야, 기판(50)이 다른 상기 로봇의 아암의 정해진 위치에 위치되어 지지되며, 필요한 공정을 수행하기 위한 장치의 정해진 위치에 위치된다.At this time, the substrate 50 should be positioned at the fixed position of the fixed grip member 140, so that the substrate 50 is positioned and supported at the predetermined position of the arm of the other robot, and at the predetermined position of the apparatus for performing the necessary process. Is located.

이를 위하여, 본 실시예에 따른 기판 반전 장치에는 고정 그립부재(140)에 지지된 기판(50)을 정해진 위치로 정렬하기 위한 얼라인(Align)수단이 마련된다. 상기 얼라인수단에 대하여 도 2, 도 3 및 도 7을 참조하여 설명한다. 도 7은 도 2의 "D-D"선 개략 단면도이다.To this end, the substrate reversing apparatus according to the present embodiment is provided with alignment means for aligning the substrate 50 supported by the fixed grip member 140 to a predetermined position. The alignment means will be described with reference to FIGS. 2, 3 and 7. 7 is a schematic cross-sectional view taken along a line "D-D" in FIG.

도시된 바와 같이, 기판(50)의 모서리부와 대응되는 고정 그립부재(140)의 부위에는 얼라인 액추레이터용 챔버(180)가 각각 설치된다. 예를 들어, 얼라인 액추레이터용 챔버(180)는 4개가 설치된다.As illustrated, the alignment actuator chambers 180 are installed at portions of the fixed grip member 140 corresponding to the edges of the substrate 50, respectively. For example, four alignment chambers 180 are installed.

상기 얼라인수단은 얼라인 액추레이터용 챔버(180)의 내부에 설치되며, 실린더(181), 제 2 벨로즈관(183), 지지브라켓(185), 지지바(187) 및 탄성부재(189)를 포함한다.The alignment means is installed in the alignment actuator chamber 180, the cylinder 181, the second bellows pipe 183, the support bracket 185, the support bar 187 and the elastic member 189 ).

실린더(181)는 얼라인 액추레이터용 챔버(180)의 내부에 설치되며 직선운동하는 피스톤(181a)을 가진다. 제 2 벨로즈관(183)은 얼라인 액추레이터용 챔버(180)의 내부에 설치되며, 일측은 피스톤(181a)의 단부측과 연결되고 타측은 얼라인 액추레이터용 챔버(180)에 관통 설치된다. 그리하여, 피스톤(181a)이 직선운동함에 따라 제 2 벨로즈관(183)은 신축한다.The cylinder 181 is installed inside the alignment actuator chamber 180 and has a piston 181a which linearly moves. The second bellows tube 183 is installed in the alignment actuator chamber 180, one side is connected to the end side of the piston 181a and the other side is penetrated and installed in the alignment actuator chamber 180. do. Thus, the second bellows tube 183 expands and contracts as the piston 181a linearly moves.

지지브라켓(185)은 얼라인 액추레이터용 챔버(180)의 외측으로 노출된 제 2 벨로즈관(183)의 타측 부위에 결합되며 피스톤(181a)에 의하여 제 2 벨로즈관(183)이 신축함에 따라 직선운동한다. 지지바(187)는 지지브라켓(185)에 결합되며 지지브라켓(185)과 함께 운동하면서 기판(50)의 모서리부측을 지지한다.The support bracket 185 is coupled to the other side of the second bellows pipe 183 exposed to the outside of the alignment actuator chamber 180 and the second bellows pipe 183 is stretched by the piston 181a. Linear motion. The support bar 187 is coupled to the support bracket 185 and supports the edge portion side of the substrate 50 while moving together with the support bracket 185.

그리고, 지지브라켓(187)에는 캡(188)이 설치되고, 지지브라켓(187)과 캡(188) 사이에는 피스톤(181a)을 상사점으로 운동시키기 위한 실린더(181)의 압력이 제거되었을 때, 벨로즈관(183)을 최초의 상태로 복귀시키는 탄성부재(189)가 개재된다.When the cap 188 is installed on the support bracket 187, and the pressure of the cylinder 181 for moving the piston 181a to the top dead center is removed between the support bracket 187 and the cap 188. An elastic member 189 for returning the bellows tube 183 to an initial state is interposed.

이때, 각 얼라인 액추레이터용 챔버(180)의 내부에는 상기 얼라인수단이 가령 각각 2 개씩 설치된다. 따라서, 상기 얼라인수단은 총 8 개가 설치된다. 이때, 각각의 얼라인 액추레이터용 챔버(180)에 설치된 2 개의 상기 얼라인수단 중, 어느 하나 및 다른 하나의 상기 얼라인수단은, 기판(50)의 모서리를 기준으로, 기판(50)의 일측면 및 타측면을 각각 지지하여 기판(50)을 이동시킨다. 따라서, 기판(50)이 고정 그립부재(140)의 정해진 위치에 위치되는 것이다.In this case, two alignment means are provided in each of the alignment actuator chambers 180. Therefore, a total of eight alignment means are provided. At this time, one of the two alignment means provided in each of the alignment actuator chambers 180 and the other one of the alignment means, based on the edge of the substrate 50, of the substrate 50 The substrate 50 is moved by supporting one side and the other side, respectively. Therefore, the substrate 50 is positioned at the fixed position of the fixed grip member 140.

기판(50)의 사이즈가 작을 경우 얼라인을 하지 않을 수도 있다. 도 1의 미설명 부호 114는 케이블 또는 공기 공급용 튜브 등이 통과하는 연통공이다.If the size of the substrate 50 is small, it may not be aligned. Reference numeral 114 in FIG. 1 denotes a communication hole through which a cable or an air supply tube passes.

상기와 같이 기술된 본 발명의 실시예들에 대한 도면은 자세한 윤곽 라인을 생략한 것으로서, 본 발명의 기술사상에 속하는 부분을 쉽게 알 수 있도록 개략적으로 도시한 것이다. 또한, 상기 실시예들은 본 발명의 기술사상을 한정하는 기준이 될 수 없으며, 본 발명의 청구범위에 포함된 기술사항을 이해하기 위한 참조적인 사항에 불과하다.The above-described embodiments of the present invention have been described in detail with reference to the accompanying drawings, in which detailed contour lines are omitted. It should be noted that the above-described embodiments are not intended to limit the technical spirit of the present invention and are merely a reference for understanding the technical scope of the present invention.

110: 메인 챔버
120: 회전프레임
140: 고정 그립부재
150: 승강 그립부재
161: 그립 액추레이터용 챔버
165: 제 1 벨로즈관
110: main chamber
120: rotating frame
140: fixed grip member
150: lifting grip member
161: chamber for grip actuator
165: first bellows tube

Claims (12)

진공상태의 메인 챔버;
상기 메인 챔버에 지지되어 회전가능하게 설치된 회전프레임;
상기 회전프레임의 일측에 설치되어 상기 회전프레임과 함께 회전하며, 상기 기판의 일면 테두리부측을 지지하는 고정 그립(Grip)부재;
상기 회전프레임의 타측에 설치되어 상기 회전프레임과 함께 회전하고, 승강가능하게 설치되어 상기 기판의 타면 테두리부측을 지지하며, 상기 고정 그립부재와 작용하여 상기 고정 그립부재와의 사이에 개재된 상기 기판이 상기 회전프레임의 회전에 의하여 반전될 때, 낙하하는 것을 방지하는 승강 그립부재;
일측이 상기 승강 그립부재측에 결합되어 직선운동하면서 상기 승강 그립부재를 승강시키는 플런저(Plunger)를 가지는 액추레이터;
일측은 상기 승강 그립부재에 결합되고 타측은 상기 액추레이터에 결합되어 상기 플런저를 감싸며, 상기 플런저의 직선운동에 따라 신축(伸縮)되는 제 1 벨로즈관을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 반전 장치.
A main chamber in a vacuum state;
A rotating frame rotatably supported by the main chamber;
A fixed grip member installed at one side of the rotating frame to rotate together with the rotating frame and supporting one side edge portion of the substrate;
The substrate is installed on the other side of the rotating frame and rotates together with the rotating frame, and is provided to be elevated to support the other side edge portion of the substrate, and the substrate is interposed between the fixed grip member and the fixed grip member. Lifting grip member for preventing the fall when the reversed by the rotation of the rotary frame;
An actuator having one side coupled to the elevating grip member and having a plunger for elevating the elevating grip member while linearly moving;
One side is coupled to the lifting grip member and the other side is coupled to the actuator to wrap the plunger, the substrate reversing apparatus comprising a first bellows tube (expanded) in accordance with the linear movement of the plunger.
제1항에 있어서,
상기 액추레이터는 비(非)진공용인 것을 특징으로 하는 기판 반전 장치.
The method of claim 1,
And said actuator is for non-vacuum.
제1항에 있어서,
상기 플런저의 일측과 상기 제 1 벨로즈관의 일측은 일체로 형성된 것을 특징으로 하는 기판 반전 장치.
The method of claim 1,
One side of the plunger and one side of the first bellows tube is integrally formed, characterized in that the substrate.
제1항에 있어서,
상기 승강 그립부재에는 상기 기판과 접촉하여 상기 기판을 지지하는 지지패드가 승강가능하게 설치된 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 반전 장치.
The method of claim 1,
And the support grip for lifting and lowering the lifting grip member in contact with the substrate to support the substrate.
제4항에 있어서,
상기 지지패드와 상기 승강 그립부재 사이에는 상기 지지패드를 상기 기판측으로 탄성 지지하는 탄성부재가 설치된 것을 특징으로 하는 기판 반전 장치.
5. The method of claim 4,
And an elastic member for elastically supporting the support pad toward the substrate side between the support pad and the lifting grip member.
제1항에 있어서,
상기 고정 그립부재는 상호 대향하는 한쌍으로 마련되고, 판 형상으로 형성되어 상기 기판의 일면 테두리부측을 각각 지지하고,
상기 승강 그립부재는 상기 대향하는 한쌍으로 마련되고, 판 형상으로 형성되어 상기 고정 그립부재와 각각 대향하며, 상기 기판의 타면 테두리부측을 각각 지지하고,
한쌍의 상기 승강 그립부재의 양단부측에는 상기 승강 그립부재와 수직을 이루는 지지판이 각각 연장 형성되며,
상기 지지판에는 상기 승강 그립부재에 지지된 상기 기판의 측면측이 탑재됨과 동시에 걸려서 지지되는 계단면(階段面)이 형성된 것을 특징으로 하는 기판 반전 장치.
The method of claim 1,
The fixed grip members are provided in pairs opposed to each other, are formed in a plate shape to support the one side edge portion of the substrate,
The lifting grip members are provided in a pair of opposing pairs, are formed in a plate shape to face the fixed grip members, respectively, and support the other side edge portion of the substrate,
On both ends of the pair of lifting grip members, support plates perpendicular to the lifting grip members are formed to extend, respectively.
And a stepped surface on which the side surface of the substrate supported by the elevating grip member is mounted and supported by the support plate.
제6항에 있어서,
상기 회전프레임은 상기 승강 그립부재의 일단부측 및 타단부측에 각각 형성된 상기 지지판의 위치가 반전되는 형태로 정역회전하는 것을 특징으로 하는 기판 반전 장치.
The method according to claim 6,
And the rotation frame is rotated forward and backward in a form in which the positions of the support plates respectively formed on one end side and the other end side of the lifting grip member are reversed.
제1항에 있어서,
상기 기판의 모서리부와 대응되는 상기 고정 그립부재의 부위에는 얼라인 액추레이터용 챔버가 각각 설치되고,
상기 얼라인 액추레이터용 챔버의 내부에는 반전되어 상기 고정 그립부재에 탑재 지지된 상기 기판이 정해진 위치에 위치되도록 정렬시키는 얼라인(Align)수단이 설치된 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 반전 장치.
The method of claim 1,
Alignment actuator chambers are respectively provided at portions of the fixed grip member corresponding to edge portions of the substrate,
And alignment means for inverting and aligning the substrate mounted on the fixed grip member to be positioned at a predetermined position in the alignment actuator chamber.
제8항에 있어서,
상기 얼라인수단은,
상기 얼라인 액추레이터용 챔버의 내부에 설치되고, 직선운동하는 피스톤을 가지는 실린더;
일측은 상기 피스톤과 연결되고 타측은 상기 얼라인 액추레이터용 챔버에 관통 설치되며, 상기 피스톤이 직선운동함에 따라 신축하는 제 2 벨로즈관;
상기 제 2 벨로즈관의 타측 부위에 결합되며, 상기 제 2 벨로즈관이 신축함에 따라 직선운동하는 지지브라켓;
상기 지지브라켓에 결합되며 상기 지지브라켓과 함께 운동하면서 상기 기판의 모서리부를 지지하여 기판을 이동시키는 지지바를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 반전 장치.
9. The method of claim 8,
The aligning means,
A cylinder installed in the alignment actuator chamber, the cylinder having a linearly moving piston;
A second bellows tube connected to the piston at one side thereof and installed at the other side through the chamber for the alignment actuator, the second bellows tube expanding and contracting as the piston moves linearly;
A support bracket coupled to the other side of the second bellows pipe and linearly moving as the second bellows pipe is stretched and contracted;
And a support bar coupled to the support bracket to move the substrate by supporting an edge of the substrate while moving with the support bracket.
제9항에 있어서,
상기 지지브라켓에는 캡이 설치되고, 상기 지지브라켓과 상기 캡 사이에는 상기 제 2 벨로즈관을 최초의 상태로 복귀시키는 탄성부재가 개재된 것을 특징으로 하는 기판 반전 장치.
10. The method of claim 9,
The support bracket is provided with a cap, the substrate reversing device, characterized in that between the support bracket and the cap is an elastic member for returning the second bellows tube to the initial state.
제10항에 있어서,
상기 얼라인 액추레이터용 챔버의 내부에는 상기 얼라인수단이 각각 2 개씩 설치되고, 상기 얼라인 액추레이터용 챔버의 내부에 설치된 각각의 2개의 상기 얼라인수단 중, 어느 하나의 상기 얼라인수단 및 다른 하나의 상기 얼라인수단은, 상기 기판의 모서리를 기준으로, 상기 기판의 일측면 및 타측면을 각각 지지하여 이동하는 것을 특징으로 하는 기판 반전 장치.
The method of claim 10,
Two of the alignment means are provided in the alignment actuator chamber, respectively, and each one of the two alignment means installed in the alignment actuator chamber. Another one of the alignment means, the substrate reversing apparatus, characterized in that for supporting the one side and the other side of the substrate to move relative to the edge of the substrate.
제1항 내지 제11항 중, 어느 한 항에 있어서,
상기 메인 챔버의 일측면에는 케이블 또는 공기 공급용 튜브가 통과하는 연통공이 형성된 것을 특징으로 하는 기판 반전 장치.
The method according to any one of claims 1 to 11,
One side of the main chamber substrate reversing apparatus characterized in that the communication hole through which the cable or the tube for supplying air passes.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200068935A (en) * 2018-12-06 2020-06-16 주식회사 선익시스템 Appratus for inverting substrate
CN112547793A (en) * 2020-12-24 2021-03-26 广东中烟工业有限责任公司 Pollute soil and administer device
KR20220053110A (en) * 2020-10-21 2022-04-29 아이엠에스(주) Substrate flip module and substrate process system having the same
US20230103481A1 (en) * 2021-10-04 2023-04-06 Applied Materials, Inc. Substrate flipping in vacuum for dual sided pvd sputtering

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101673016B1 (en) * 2013-08-27 2016-11-07 삼성디스플레이 주식회사 Thin film encapsulation manufacturing device and manufacturing method of display apparatus using the same
KR101970780B1 (en) * 2017-04-13 2019-04-22 삼성디스플레이 주식회사 Substrate processing system and control method of transferring substrate

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7349060B2 (en) * 2003-12-02 2008-03-25 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Loader and bonding apparatus for fabricating liquid crystal display device and loading method thereof
KR100617034B1 (en) * 2003-12-23 2006-08-30 엘지.필립스 엘시디 주식회사 bonding apparatus for liquid crystal display device and loading method using the same
KR20050097115A (en) * 2004-03-30 2005-10-07 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Over turing apparatus of substrate
KR100601269B1 (en) * 2004-11-26 2006-07-18 두산디앤디 주식회사 Substrate inversion device
KR20060058823A (en) * 2004-11-26 2006-06-01 삼성전자주식회사 Robot for transferring wafer with tilt function

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200068935A (en) * 2018-12-06 2020-06-16 주식회사 선익시스템 Appratus for inverting substrate
KR20220053110A (en) * 2020-10-21 2022-04-29 아이엠에스(주) Substrate flip module and substrate process system having the same
CN112547793A (en) * 2020-12-24 2021-03-26 广东中烟工业有限责任公司 Pollute soil and administer device
US20230103481A1 (en) * 2021-10-04 2023-04-06 Applied Materials, Inc. Substrate flipping in vacuum for dual sided pvd sputtering
WO2023059405A1 (en) * 2021-10-04 2023-04-13 Applied Materials, Inc. Substrate flipping in vacuum for dual sided pvd sputtering
US11881427B2 (en) * 2021-10-04 2024-01-23 Applied Materials, Inc. Substrate flipping in vacuum for dual sided PVD sputtering

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