KR20200054869A - Inspection apparatus and inspection method - Google Patents

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신에츠 엔지니어링 가부시키가이샤
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Abstract

According to the present invention, a plurality of separated semiconductor light emitting elements are inspected in a lump right before mounting to sort out semiconductor light emitting elements having a defect in light emission. An inspection apparatus, which optically inspects a plurality of semiconductor light emitting elements separately arranged on an insulation film body, includes: a first plate including a first electrode; a second plate including a second electrode provided by inserting the semiconductor light emitting elements and the insulation film body between the first electrode and the second electrode; a driving power source electrically connected to the first and second electrodes; and an optical machine observing the light emission of the semiconductor light emitting elements from one of the first and second plates. Between the first and second electrodes, a plurality of individually separated light emission circuit parts, in which a capacitor made of an insulation film body is connected in series to each of the semiconductor light emitting elements, are placed. In the light emission circuit parts, the semiconductor light emitting elements emit light by generating an induced current when a current flows from the driving power source to the semiconductor light emitting elements in a forward direction.

Description

검사 장치 및 검사 방법{INSPECTION APPARATUS AND INSPECTION METHOD}Inspection device and inspection method {INSPECTION APPARATUS AND INSPECTION METHOD}

본 발명은, 발광 다이오드(LED) 등으로 이루어지는 복수의 반도체 발광 소자를 기능적(광학적)으로 검사하기 위하여 이용되는 검사 장치, 및, 검사 장치를 이용한 검사 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an inspection device used to functionally (optically) inspect a plurality of semiconductor light emitting devices made of a light emitting diode (LED) or the like, and an inspection method using the inspection device.

상세하게는, 복수의 반도체 발광 소자가 실장되기 전의 시점에서, 배열 형성된 복수의 발광 소자를 분리 상태에서 발광 검사하기 위한 검사 장치 및 검사 방법에 관한 것이다.More specifically, the present invention relates to an inspection apparatus and an inspection method for inspecting light emission in a separated state of a plurality of light-emitting elements arrayed at a time before the plurality of semiconductor light-emitting elements are mounted.

종래, 이 종류의 검사 장치 및 검사 방법으로서, 지지 기판(support substrate)에 형성된 복수의 LED 디바이스(LED devices)의 p-n 접합한 발광부와 대향하도록, 상측의 전극(electrode)을 갖는 필드 플레이트(field plate)가 배치되고, 복수의 LED 디바이스의 하측의 전극으로서 공통 전극(common electrode)이 전기적으로 어스 접지되며, 외부의 전압원(voltage source)으로부터 상측 전극으로 인가함으로써, 복수의 LED 디바이스가 발광하고, 그 발광 휘도를 관찰로 측정하는 것이 있다(예를 들면, 특허문헌 1 참조).Conventionally, as this type of inspection apparatus and inspection method, a field plate having an upper electrode to face a pn-bonded light emitting part of a plurality of LED devices formed on a support substrate plate) is disposed, the common electrode is electrically grounded as the lower electrode of the plurality of LED devices, and a plurality of LED devices emit light by applying the voltage from an external voltage source to the upper electrode, It is possible to measure the luminescence luminance by observation (for example, see Patent Document 1).

복수의 LED 디바이스는, 트렌치(trench)에서 하프 컷되지만, 트렌치가 하측 전극이 되는 공통 콘택트층(common contact layer)을 관통하고 있지 않고, 지지 기판 상에 미분리 상태로 되어 있다([0048], Figure 3A, 3B 등).Although the plurality of LED devices are half cut in the trench, the trench does not penetrate the common contact layer serving as the lower electrode, and is in an unseparated state on the support substrate ([0048], Figure 3A, 3B, etc.).

즉, 복수의 LED 디바이스는, 지지 기판과 미분리 상태로 발광 테스트되고, 발광의 측정에 의하여 그 기능을 평가하고 있다.That is, a plurality of LED devices are tested for light emission in an unseparated state from the supporting substrate, and their functions are evaluated by measuring light emission.

특허문헌 1: 국제 공개공보 제2018/112267호Patent Document 1: International Publication No. 2018/112267

그런데, 반도체 발광 소자 중에서도 LED칩은, 비용 저감을 위하여 소형화되고, 소형화한 LED칩을 고속·고정밀도로 실장하기 위한 방법이 행해지고 있다. 특히 LED 디스플레이에 이용되는 LED는, 마이크로 LED라고 불리는 사이즈가 50μm×50μm 이하인 LED칩이며, 확실하게 발광하는 분단 상태의 LED칩을 수μm의 정밀도로 고속으로 전사하여 실장할 것이 요구되고 있다.By the way, among semiconductor light emitting elements, the LED chip is downsized for cost reduction, and a method for mounting the downsized LED chip with high speed and high precision has been performed. In particular, the LED used for the LED display is an LED chip having a size of 50 μm × 50 μm or less called a micro LED, and it is required to transfer and mount the LED chip in a divided state that reliably emits light with high precision of several μm.

그러나, 특허문헌 1에서는, 복수의 LED 디바이스가 미분리 상태에서 발광 테스트되기 때문에, 각 LED 디바이스를 실장하는 다이본딩 공정에 있어서는, 미분리 상태로는 취급할 수 없고, 실장 전에는 다이싱 등에 의하여 복수의 LED 디바이스를 개개로 분리할 필요가 있었다.However, in Patent Document 1, since a plurality of LED devices are tested for light emission in an unseparated state, in the die bonding process of mounting each LED device, it cannot be handled in an unseparated state, and a plurality of dicing may be performed before mounting. It was necessary to separate the LED devices of the individual.

이와 같은 경우에는, 만일 복수의 LED 디바이스가 지지 기판과 미분리 상태에서 발광 테스트에 의하여 "기능에 문제 없음"이라고 평가되어도, 그 후의 분리 공정 등에 의하여 새로운 불량이 발생할 가능성은 부정할 수 없고, 실장 직전에 발광을 확인할 수 없기 때문에 신뢰성이 뒤떨어지는 문제가 있었다.In such a case, even if a plurality of LED devices are evaluated as "no problem in function" by a light emission test in a state where they are not separated from the supporting substrate, the possibility that new defects may occur due to subsequent separation processes or the like is undeniable, and mounting There was a problem in that reliability was poor because light emission could not be confirmed immediately before.

이와 같은 상황 하에서, 분리된 복수의 LED 디바이스를 실장 전에 검사하여 발광 불량인 LED 디바이스가 선별 가능한 검사 장치나 검사 방법이 요망되고 있다.Under such a situation, an inspection apparatus or an inspection method capable of screening a plurality of separated LED devices prior to mounting to select LED devices having poor light emission is desired.

또, 발광 테스트에 의한 LED 디바이스의 대미지를 방지하기 위해서는, 전기적 접촉을 피한 저전압 환경에서의 검사가 요구되고 있다.In addition, in order to prevent damage to the LED device by the light emission test, inspection in a low voltage environment avoiding electrical contact is required.

이와 같은 과제를 해결하기 위하여 본 발명에 관한 검사 장치는, 절연막체에 분리 배열된 복수의 반도체 발광 소자를 광학적으로 검사하는 검사 장치로서, 제1 전극을 갖는 제1 플레이트와, 상기 제1 전극과의 사이에 상기 복수의 반도체 발광 소자 및 상기 절연막체를 끼워 대향하도록 마련된 제2 전극을 갖는 제2 플레이트와, 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극에 대하여 전기적으로 접속되는 구동 전원과, 상기 제1 플레이트 또는 상기 제2 플레이트 중 어느 한쪽의 측에서 상기 복수의 반도체 발광 소자의 발광을 관찰하는 광학 기계를 구비하고, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극의 사이에는, 상기 복수의 반도체 발광 소자의 각각에 상기 절연막체로 이루어지는 커패시터가 직렬 접속되는 개개로 분리된 복수의 발광 회로부가 배치되며, 상기 복수의 발광 회로부는, 상기 구동 전원으로부터 상기 복수의 반도체 발광 소자로 순방향의 전류가 흐를 때에 유도 전류를 발생시켜 상기 복수의 반도체 발광 소자가 발광하는 것을 특징으로 한다.In order to solve this problem, the inspection device according to the present invention is an inspection device for optically inspecting a plurality of semiconductor light-emitting elements arranged separately on an insulating film, the first plate having a first electrode, and the first electrode. A second plate having a second electrode provided to sandwich the plurality of semiconductor light emitting elements and the insulating film between them, a driving power source electrically connected to the first electrode and the second electrode, and the first electrode And an optical machine for observing light emission of the plurality of semiconductor light emitting elements on either side of the plate or the second plate, and between the first electrode and the second electrode, each of the plurality of semiconductor light emitting elements A plurality of light-emitting circuit parts separated by a series of capacitors made of the insulating film are disposed in the plurality of light-emitting circuits. Is, by generating an induced current from the driving power source when a forward current flows to the plurality of semiconductor light-emitting device is characterized in that the plurality of the semiconductor light emitting element emits light.

또, 이와 같은 과제를 해결하기 위하여 본 발명에 관한 검사 방법은, 절연막체에 분리 배열된 복수의 반도체 발광 소자를 광학적으로 검사하는 검사 방법으로서, 제1 플레이트의 제1 전극과 제2 플레이트의 제2 전극의 사이에, 상기 복수의 반도체 발광 소자의 각각에 상기 절연막체로 이루어지는 커패시터가 직렬 접속되는 개개로 분리된 복수의 발광 회로부를 형성하는 세트 공정과, 구동 전원의 전압을 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극으로부터 상기 복수의 발광 회로부로 부여하는 공급 공정과, 상기 복수의 발광 회로부에 대한 전압의 공급에 의하여 발광하는 상기 복수의 반도체 발광 소자를 상기 제1 플레이트 또는 상기 제2 플레이트 중 어느 한쪽의 측에서 광학 기계로 관찰하는 관찰 공정을 포함하고, 상기 관찰 공정에서는, 상기 구동 전원으로부터 상기 복수의 반도체 발광 소자로 순방향의 전류가 흐를 때에 유도 전류를 발생시켜 상기 복수의 반도체 발광 소자가 발광하는 것을 특징으로 한다.In addition, in order to solve such a problem, the inspection method according to the present invention is an inspection method for optically inspecting a plurality of semiconductor light-emitting elements separately arranged in an insulating film, wherein the first electrode and the second plate are formed. Between two electrodes, a set process of forming a plurality of individually separated light-emitting circuit parts in which capacitors made of the insulating film are connected in series to each of the plurality of semiconductor light-emitting elements, and the voltage of the driving power supply to the first electrode and the A supply process applied from the second electrode to the plurality of light-emitting circuit units, and the plurality of semiconductor light-emitting elements that emit light by supplying voltage to the plurality of light-emitting circuit units, either of the first plate or the second plate. And an observation process for observing with an optical machine at the side, and in the observation process, from the driving power source It is characterized in that the plurality of semiconductor light emitting elements emit light by generating an induced current when a current in the forward direction flows through the plurality of semiconductor light emitting elements.

도 1은 본 발명의 실시형태에 관한 검사 장치 및 검사 방법의 전체 구성을 나타내는 설명도이며, (a)가 인가 공정 및 검사 공정의 일부 절결 정면도, (b)가 동일한 횡단 평면도이다.
도 2는 본 발명의 실시형태에 관한 검사 장치 및 검사 방법의 변형예를 나타내는 설명도이며, (a)~(c)가 인가 공정 및 검사 공정의 일부 절결 정면도이다.
도 3은 본 발명의 실시형태에 관한 검사 장치 및 검사 방법의 변형예를 나타내는 설명도이며, 인가 공정 및 검사 공정의 일부 절결 정면도이다.
도 4는 본 발명의 실시형태에 관한 검사 장치 및 검사 방법의 변형예를 나타내는 설명도이며, 인가 공정 및 검사 공정의 일부 절결 정면도이다.
도 5는 본 발명의 실시형태에 관한 검사 장치 및 검사 방법의 변형예를 나타내는 설명도이며, (a)가 광학 기계 및 구동부의 구체예를 나타내는 일부 절결 축소 정면도, (b)가 동일한 축소 횡단 평면도이다.
도 6은 본 발명의 실시형태에 관한 검사 장치 및 검사 방법의 변형예를 나타내는 설명도이며, 복수의 반도체 발광 소자를 반송 가능하게 한 경우의 부분적인 일부 절결 정면도이다.
도 7은 동회로도이며, (a)가 도 1~도 5에 대응하는 등가 회로, (b)가 변형 예의 등가 회로이다.
1 is an explanatory view showing the overall configuration of an inspection apparatus and an inspection method according to an embodiment of the present invention, (a) is a partially cut-away front view of an application process and an inspection process, and (b) is the same cross-sectional plan view.
2 is an explanatory view showing a modification of the inspection apparatus and inspection method according to the embodiment of the present invention, wherein (a) to (c) are partially cut front views of the application process and the inspection process.
3 is an explanatory view showing a modification of the inspection apparatus and inspection method according to the embodiment of the present invention, and is a partially cut-away front view of an application process and an inspection process.
4 is an explanatory view showing a modification of the inspection apparatus and inspection method according to the embodiment of the present invention, and is a partially cut-away front view of an application process and an inspection process.
5 is an explanatory view showing a modification of the inspection apparatus and inspection method according to the embodiment of the present invention, wherein (a) is a partial cut-away front view showing a specific example of an optical machine and a driving part, and (b) is the same reduced crossing It is a top view.
6 is an explanatory view showing a modification of the inspection apparatus and inspection method according to the embodiment of the present invention, and is a partially cut-away front view when a plurality of semiconductor light emitting elements are transportable.
7 is a circuit diagram, (a) is an equivalent circuit corresponding to FIGS. 1 to 5, and (b) is an equivalent circuit of a modified example.

이하, 본 발명의 실시형태를 도면에 근거하여 상세히 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described in detail based on drawing.

본 발명의 실시형태에 관한 검사 장치(A)는, 도 1~도 7에 나타내는 바와 같이, 배열 형성된 복수의 반도체 발광 소자(E)를 실장하기 전에, 복수의 반도체 발광 소자(E)를 개개로 분리된 배열 상태에서 기능적(광학적)으로 검사하고, 광학적으로 불량인 발광 소자(E)의 실장을 미연에 방지하기 위하여 이용되는 광학 특성 측정 장치이다.As shown in FIGS. 1 to 7, the inspection device A according to the embodiment of the present invention, before mounting a plurality of arrayed semiconductor light emitting devices E, individually, the plurality of semiconductor light emitting devices E It is an optical property measurement device that is used to inspect functionally (optical) in a separated array state and to prevent the optically defective mounting of the light emitting element E.

상세하게 설명하면, 본 발명의 실시형태에 관한 검사 장치(A)는, 제1 전극(1a)을 갖는 제1 플레이트(1)와, 제2 전극(2a)을 갖는 제2 플레이트(2)와, 제1 전극(1a) 및 제2 전극(2a)에 전기적으로 접속하기 위하여 마련되는 구동 전원(3)과, 제1 플레이트(1) 또는 제2 플레이트(2)의 일방측으로부터 복수의 반도체 발광 소자(E)의 발광을 관찰하기 위하여 마련되는 광학 기계(4)를 주요한 구성요소로서 구비하고 있다.In detail, the inspection device A according to the embodiment of the present invention includes a first plate 1 having a first electrode 1a and a second plate 2 having a second electrode 2a. , A plurality of semiconductor light-emitting from one side of the driving plate 3 and the first plate 1 or the second plate 2 provided to electrically connect to the first electrode 1a and the second electrode 2a The optical machine 4 provided for observing the light emission of the element E is provided as a main component.

또한, 제1 전극(1a) 또는 제2 전극(2a) 중 어느 한쪽의 표면 혹은 양쪽 모두의 표면에 마련되는 유전층(5)과, 제1 플레이트(1)나 제2 플레이트(2)를 상대적으로 이동시키기 위하여 마련되는 구동부(6)와, 구동 전원(3) 및 구동부(6)를 작동 제어하기 위하여 마련되는 제어부(7)를 구비하는 것이 바람직하다.Further, the dielectric layer 5 provided on either or both surfaces of the first electrode 1a or the second electrode 2a and the first plate 1 or the second plate 2 are relatively It is preferable to have a driving unit 6 provided for moving, and a control unit 7 provided for operating control of the driving power supply 3 and the driving unit 6.

또한, 제1 플레이트(1)와 제2 플레이트(2)는, 통상 상하 방향으로 대향하도록 마련된다. 도시예에서는, 하방에 제1 플레이트(1)가 배치되고, 제2 플레이트(2)가 상방에 배치되어 있다. 여기에서, 제1 플레이트(1)와 제2 플레이트(2)가 대향하는 방향을 이하 "Z 방향"이라고 한다. Z 방향과 교차하는 제1 플레이트(1)나 제2 플레이트(2)를 따른 방향을 이하 "XY 방향"이라고 한다.In addition, the 1st plate 1 and the 2nd plate 2 are provided so that it may oppose normally up and down. In the example of illustration, the 1st plate 1 is arrange | positioned below, and the 2nd plate 2 is arrange | positioned above. Here, the direction in which the first plate 1 and the second plate 2 face each other is hereinafter referred to as "Z direction". The direction along the first plate 1 or the second plate 2 intersecting the Z direction is hereinafter referred to as "XY direction".

복수의 반도체 발광 소자(E)는, 도 1의 (a), (b) 등에 나타나는 바와 같이, 각각이 평활한 대략 직사각형(직사각형 및 정사각형을 포함하는 각이 직각인 사변형)의 박판상으로 형성된 발광 다이오드(LED)나 레이저 다이오드(LD) 등의 반도체 다이오드이다. 이 반도체 다이오드로서는, 적(Red), 녹(Green), 청(Blue)의 칩 LED도 포함된다.The plurality of semiconductor light emitting elements E are light-emitting diodes formed in a thin plate shape of approximately rectangular (rectangular quadrangles including squares and squares), each of which is smooth, as shown in Figs. 1 (a) and 1 (b). It is a semiconductor diode such as (LED) or laser diode (LD). Red, green, and blue chip LEDs are also included as the semiconductor diode.

복수의 반도체 발광 소자(E)의 구체예로서는, 주로 마이크로 LED라고 불리는 50μm×50μm 이하, 상세하게는 30μm×30μm 이하, 더 상세하게는 평방 수십μm의 LED칩이나 LD칩 등을 들 수 있다.Specific examples of the plurality of semiconductor light emitting devices E include 50 μm × 50 μm or less, referred to as micro LEDs, specifically 30 μm × 30 μm or less, and more specifically, LED chips or LD chips of several tens of square μm.

또 복수의 반도체 발광 소자(E)의 다른 예로서는, 예를 들면 미니 LED라고 불리는 평방 100μm 전후의 LED칩이나 평방 200~300μm 등의 일반적인 LED칩이나, LD칩 등의 일반적인 사이즈의 반도체 다이오드를 포함하는 것도 가능하다.Further, as another example of the plurality of semiconductor light emitting devices E, for example, a LED chip having a size of around 100 μm square or so called a mini LED, a general LED chip such as 200 to 300 μm square, or a semiconductor diode of a general size such as an LD chip is included. It is also possible.

일반적인 칩 취급에 있어서 복수의 반도체 발광 소자(E)는, 실리콘 등의 재료로 이루어지는 소자 형성용 기판이나 웨이퍼에, XY 방향으로 소정의 주기로 배열 형성되고, 그 표면 측 또는 이면 측에 발광부(E1)를 각각 갖고 있다. 배열 형성된 복수의 반도체 발광 소자(E)는, 다이싱 등의 분단 공정에 의하여 배열 상태를 유지하도록 각각 분리되고, 이 배열 상태를 유지한 채 후술하는 절연막체(F)에 전사되어 실장 공정으로 이행한다.In general chip handling, a plurality of semiconductor light emitting elements E are arranged on a substrate or wafer for element formation made of a material such as silicon in a predetermined cycle in the XY direction, and the light emitting portion E1 is formed on the front side or the back side. ). The plurality of arrayed semiconductor light emitting elements E are each separated to maintain the arrangement state by a dividing process such as dicing, and transferred to the insulating film F described later while moving to the mounting process while maintaining the arrangement state. do.

특히 복수의 반도체 발광 소자(E)로서는, 개개로 분리 배열된 복수의 반도체 발광 소자(E)가, 후술하는 절연막체(F)에 가고정된 막부착 칩(EF)을 이용하고 있다.In particular, as the plurality of semiconductor light-emitting elements E, the plurality of semiconductor light-emitting elements E individually arranged and used is a film-attached chip EF temporarily fixed to the insulating film F described later.

또한, 도시예에서는 설명을 위하여, 복수의 반도체 발광 소자(E)의 배열로서, 직사각형의 반도체 발광 소자(E)를 모두 동일한 사이즈로 설정하고 있다. 또 그 외의 예로서, 도시하지 않지만, 복수의 반도체 발광 소자(E)의 배열을 도시예 이외로 변경하는 것도 가능하다.In addition, in the illustrated example, for the purpose of explanation, all of the rectangular semiconductor light emitting elements E are set to the same size as the arrangement of the plurality of semiconductor light emitting elements E. Moreover, although not shown as another example, it is also possible to change the arrangement | positioning of the some semiconductor light emitting element E other than an example of illustration.

절연막체(F)는, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리프로필렌(PP), 폴리 염화 바이닐(PVC) 등의 투명 또는 불투명한 절연 재료(비유전율이 3정도)이고 필름상 또는 시트상으로 형성되며, 절연 재료로 이루어지는 다이싱 테이프 등을 이용하는 것도 가능하다.The insulating film F is a transparent or opaque insulating material such as polyethylene terephthalate (PET), polypropylene (PP), polyvinyl chloride (PVC) (with a relative dielectric constant of about 3), and is formed in a film or sheet form. , It is also possible to use a dicing tape or the like made of an insulating material.

또한 절연막체(F)는, 복수의 반도체 발광 소자(E)에 있어서 발광부(E1)가 배치되는 표면 측이나 또는 이면 측 중 어느 한쪽이나, 혹은 표면 측 및 이면 측의 양쪽 모두에 대하여 점착 등에 의하여 착탈 가능하게 가고정됨으로써, 막부착 칩(EF)이 구성된다.In addition, the insulating film F adheres to either the front side or the back side of the plurality of semiconductor light-emitting elements E where the light-emitting section E1 is disposed, or both to the surface side and the back side. By temporarily fixing by being detachable by this, the film-attached chip EF is constructed.

즉, 절연막체(F)로서는, 복수의 반도체 발광 소자(E)에 있어서 발광부(E1)가 배치된 표면 측에 가고정되는 투명한 발광 측 절연막체(F1)나, 복수의 반도체 발광 소자(E)에 있어서 발광부(E1)의 반대 측이 되는 이면 측에 가고정되는 투명이나 불투명의 이측 절연막체(F2)가 있다.That is, as the insulating film F, the transparent light emitting side insulating film F1 temporarily fixed to the surface side where the light emitting portion E1 is disposed in the plurality of semiconductor light emitting devices E, or the plurality of semiconductor light emitting devices E In), there is a transparent or opaque double-side insulating film F2 temporarily fixed to the back side that is the opposite side of the light-emitting portion E1.

개개로 분리된 복수의 반도체 발광 소자(E)는, 발광 측 절연막체(F1)나 이측 절연막체(F2)에 의하여 이산하지 않고 유지되며, 발광 측 절연막체(F1)나 이측 절연막체(F2)를 박리함으로써, 복수의 반도체 발광 소자(E)의 발광부(E1)나 이면이 노출되어 취출 가능하게 됨과 동시에 실장도 가능하게 된다.The plurality of individually separated semiconductor light emitting elements E is maintained without being separated by the light emitting side insulating film F1 or the back insulating film F2, and the light emitting side insulating film F1 or the double insulating film F2 is maintained. By peeling off, the light emitting portion E1 or the back surface of the plurality of semiconductor light emitting elements E is exposed and can be taken out, and mounting is also possible.

제1 플레이트(1) 및 제2 플레이트(2)는, 도 1의 (a), (b), 도 2의 (a), (b), (c) 및 도 3 등에 나타나는 바와 같이, 석영이나 경질 합성 수지 등의 투명 또는 불투명의 강성 재료로 판상에 형성된 정반(定盤)으로 이루어진다. 제1 플레이트(1)에 있어서 제2 플레이트(2)와 대향하는 면에는, 제1 전극(1a)이 형성되고, 제2 플레이트(2)에 있어서 제1 플레이트(1)와 대향하는 면에는, 제2 전극(2a)이 형성된다.The first plate 1 and the second plate 2 are quartz, as shown in Figs. 1 (a), (b), 2 (a), (b), (c) and 3, etc. It consists of a platen formed on a plate with a rigid or transparent opaque material such as a hard synthetic resin. The first electrode 1a is formed on a surface of the first plate 1 that faces the second plate 2, and on a surface of the second plate 2 that faces the first plate 1, The second electrode 2a is formed.

제1 전극(1a) 및 제2 전극(2a)에 대해서도 제1 플레이트(1)나 제2 플레이트(2)와 동일하게 투명 또는 불투명의 재료로 적층 형성되어 있다.The first electrode 1a and the second electrode 2a are also laminated with a transparent or opaque material in the same manner as the first plate 1 or the second plate 2.

제1 플레이트(1)의 제1 전극(1a)과 제2 플레이트(2)의 제2 전극(2a)은, 제1 전극(1a) 및 제2 전극(2a)의 사이에 막부착 칩(EF)(복수의 반도체 발광 소자(E)와 절연막체(F))을 끼우도록 대향하여 배치됨과 함께, 후술하는 구동 전원(3)이 전기적으로 접속된다.The first electrode 1a of the first plate 1 and the second electrode 2a of the second plate 2 are between the first electrode 1a and the second electrode 2a. ) (A plurality of semiconductor light emitting elements E and an insulating film F) are arranged to face each other, and the driving power source 3 described later is electrically connected.

이로써, 제1 전극(1a)과 제2 전극(2a)의 사이에는, 복수의 반도체 발광 소자(E)의 각각에 절연막체(F)로 이루어지는 커패시터가 직렬 접속되는 개개로 분리된 복수의 발광 회로부(C)가 배치된다.As a result, between the first electrode 1a and the second electrode 2a, a plurality of light-emitting circuit units, each of which is individually separated, in which a capacitor made of an insulating film F is connected in series to each of the plurality of semiconductor light-emitting elements E, (C) is placed.

또한 제1 플레이트(1)와 제2 플레이트(2)는, 도 4 및 도 5 (a), (b)에 나타나는 바와 같이, 제1 플레이트(1) 또는 제2 플레이트(2) 중 어느 한쪽의 면적을 다른 쪽보다 작은 면적으로 형성하는 것도 가능하다. 이 경우에는, 제1 플레이트(1) 또는 제2 플레이트(2)의 한쪽에 대하여 다른 쪽이나, 혹은 제1 플레이트(1) 및 제2 플레이트(2)의 양쪽 모두를, 제1 플레이트(1) 및 제2 플레이트(2)의 대향 방향(Z 방향)과 교차하는 방향(XY 방향)으로 상대적으로 이동 가능하게 지지하는 것이 바람직하다.In addition, as shown in FIGS. 4 and 5 (a) and (b) of the first plate 1 and the second plate 2, either the first plate 1 or the second plate 2 is It is also possible to form an area with a smaller area than the other side. In this case, the other side of the first plate 1 or the second plate 2, or both of the first plate 1 and the second plate 2, the first plate 1 and It is preferable to support the second plate 2 so as to be relatively movable in a direction crossing the opposite direction (Z direction) (XY direction).

또 제1 플레이트(1) 또는 제2 플레이트(2) 중 어느 한쪽에는, 반입된 막부착 칩(EF)이 제1 전극(1a)이나 제2 전극(2a)과 접촉함으로써, 이동 불능이고 또한 착탈 가능하게 유지하기 위한 유지 척(도시하지 않음)을 마련하는 것이 바람직하다. 유지 척의 구체예로서는, 진공 흡착 척이나 점착 척이나 클로 등의 기계적인 파지 기구를 구비한 척 또는, 이들의 병용을 들 수 있다.Further, either the first plate 1 or the second plate 2 is immobilized and detachable by bringing the film-attached chip EF into contact with the first electrode 1a or the second electrode 2a. It is desirable to provide a holding chuck (not shown) for holding as much as possible. Specific examples of the holding chuck include a vacuum adsorption chuck, a chuck equipped with a mechanical gripping mechanism such as an adhesive chuck or a claw, or a combination thereof.

구동 전원(3)은, 교류 전압원이나 직류 전압원으로 이루어지고, 구동 전원(3)으로부터 제1 전극(1a) 및 제2 전극(2a)을 통하여 복수의 발광 회로부(C)에 교류(AC) 전압이나 직류(DC) 전압이 부여된다.The driving power source 3 is composed of an AC voltage source or a DC voltage source, and an AC voltage is applied from the driving power source 3 to the plurality of light emitting circuits C through the first electrode 1a and the second electrode 2a. Or DC (DC) voltage.

구동 전원(3)이 되는 교류 전압원으로부터 복수의 발광 회로부(C)에 교류 전압을 인가한 경우에는, 복수의 반도체 발광 소자(E)가 되는 반도체 다이오드가 갖는 정류 작용에 의하여, 복수의 반도체 발광 소자(E)에 대하여 전류가 순방향으로 흘러 발광부(E1)를 발광시킨다.When an AC voltage is applied from the AC voltage source serving as the driving power source 3 to the plurality of light emitting circuits C, a plurality of semiconductor light emitting elements are formed by the rectifying action of the semiconductor diodes serving as the plurality of semiconductor light emitting elements E. With respect to (E), a current flows in the forward direction to emit the light emitting portion E1.

광학 기계(4)는, 제1 플레이트(1)(제1 전극(1a)) 또는 제2 플레이트(2)(제2 전극(2a)) 중 어느 한쪽의 측으로부터 복수의 반도체 발광 소자(E)의 발광의 휘도를 관찰하는 검사 카메라 등으로 이루어진다.The optical machine 4 has a plurality of semiconductor light emitting elements E from either side of the first plate 1 (first electrode 1a) or second plate 2 (second electrode 2a). It consists of an inspection camera or the like to observe the luminance of the light emission.

즉, 복수의 반도체 발광 소자(E)의 각각에 절연막체(F)로 이루어지는 커패시터를 직렬 접속한 개개로 분리되는 복수의 발광 회로부(C)와, 광학 기계(4)의 사이에 배치된 제1 플레이트(1)(제1 전극(1a)) 또는 제2 플레이트(2)(제2 전극(2a)) 중 한쪽의 측은 투명 재료로 형성되고, 다른 한쪽의 측은 불투명 재료로 형성해도 된다.That is, a plurality of light emitting circuit parts C, which are individually separated by connecting a capacitor made of an insulating film F to each of the plurality of semiconductor light emitting elements E in series, and the first optical device 4 are disposed. One side of the plate 1 (first electrode 1a) or the second plate 2 (second electrode 2a) may be formed of a transparent material, and the other side may be formed of an opaque material.

광학 기계(4)의 검사 카메라로서 복수의 반도체 발광 소자(E)가 가시광을 발광하는 경우는, 가시광의 CCD 카메라 등을 이용하는 것이 바람직하다. 복수의 반도체 발광 소자(E)가 적외광을 발광하는 경우는, 적외선 카메라를 이용하여, 복수의 반도체 발광 소자(E)에 대한 검사 에어리어의 시야에 맞추어 소정의 해상도에 알맞도록 배치하는 것이 바람직하다.When a plurality of semiconductor light emitting elements E emit visible light as the inspection camera of the optical machine 4, it is preferable to use a visible light CCD camera or the like. In the case where the plurality of semiconductor light emitting elements E emit infrared light, it is preferable that the infrared camera is used to arrange the semiconductor light emitting elements E so as to be suitable for a predetermined resolution in accordance with the field of view of the inspection area. .

검사 카메라의 배치는, 고해상도의 고정 카메라(41)를 이용하거나, 또는 제1 플레이트(1) 또는 제2 플레이트(2)의 이동에 맞추어 이동 가능한 이동 카메라(42)를 이용하거나, 혹은 고정 카메라(41) 및 이동 카메라(42)를 병용한다. 특히 복수의 반도체 발광 소자(E)가 마이크로 LED와 같은 미소 사이즈로 다수 배열 형성되는 경우에는, 이동 카메라(42)를 이용하는 것이 바람직하다. 이로써, 복수의 반도체 발광 소자(E)에 대한 검사 에어리어가 제한되기 때문에, 저해상도의 카메라여도 관찰 해상도를 충분히 확보하는 것이 가능하게 된다.The placement of the inspection camera uses a high-resolution fixed camera 41, or a movable camera 42 movable in accordance with the movement of the first plate 1 or the second plate 2, or a fixed camera ( 41) and the mobile camera 42 are used together. In particular, in the case where a plurality of semiconductor light emitting elements E are formed in a plurality of micro sized arrays such as micro LEDs, it is preferable to use the mobile camera 42. Thereby, since the inspection area for the plurality of semiconductor light emitting elements E is limited, it is possible to sufficiently secure the observation resolution even with a low-resolution camera.

고정 카메라(41)나 이동 카메라(42) 등에 의하여 얻어진 복수의 반도체 발광 소자(E)의 평균 휘도 데이터는, 검사 배치(batch)마다의 평균 휘도 데이터를 각 반도체 발광 소자(E)의 위치와 관련지음으로써, 후속 공정에 있어서 참조 가능한 데이터베이스로서 작성할 수 있다.The average luminance data of the plurality of semiconductor light emitting elements E obtained by the fixed camera 41, the mobile camera 42, or the like relates the average luminance data for each inspection batch to the position of each semiconductor light emitting element E. By making it, it can be created as a database that can be referred to in a subsequent process.

상세하게 설명하면, 고정 카메라(41)나 이동 카메라(42) 등에 의한 검사 데이터로서는, 발광 상태에 있는 복수의 반도체 발광 소자(E)를 1매의 화상 데이터로서 계측해 두고, 각 반도체 발광 소자(E)의 면적에 상당하는 복수 개의 화소 데이터로부터 각 반도체 발광 소자(E)의 휘도 평균값을 구하는 등 하여, 각 반도체 발광 소자(E)의 발광의 유무와, 대표 발광 휘도를 정량 데이터로서, 검사 배치(batch)마다의 휘도 데이터베이스를 작성한다. 또 구동 전원(3)으로부터의 인가 전압을 변동시켰을 때의 발광에 의하여, 각 반도체 발광 소자(E)의 발광 최저 전압과 휘도 편차를 맞추어 계측 가능하게 된다.In detail, as inspection data by the fixed camera 41, the mobile camera 42, or the like, a plurality of semiconductor light emitting elements E in a light emitting state are measured as one image data, and each semiconductor light emitting element ( E. The luminance average value of each semiconductor light emitting element E is obtained from a plurality of pixel data corresponding to the area of E), and the presence or absence of light emission of each semiconductor light emitting element E and the representative light emission luminance are determined as quantitative data. A luminance database for each (batch) is created. Further, by emitting light when the applied voltage from the driving power supply 3 is varied, it is possible to measure and match the luminance difference between the lowest light emission voltage of each semiconductor light emitting element E and the luminance.

특히 복수의 반도체 발광 소자(E)가 RGB칩 LED인 경우에는, 검사 카메라로서, RGB칩 LED에 대한 해상도를 충분히 확보한 컬러 카메라가 이용되어, RGB 삼색의 휘도 성분을 각각의 색조로서 데이터베이스화하는 것이 바람직하다.In particular, when the plurality of semiconductor light emitting elements E are RGB chip LEDs, a color camera that sufficiently secures the resolution of the RGB chip LEDs is used as an inspection camera, and the luminance components of the RGB tricolors are databased as respective shades. It is preferred.

또, 이들 칩 발광 휘도의 데이터베이스는, 검사 배치(batch)마다에 있어서의 복수의 반도체 발광 소자(E)의 위치와 데이터와의 링크를 행할 수 있다. 이 경우에는, 다음 공정이 되는 다이 본더 등에 의한 각 반도체 발광 소자(E)의 실장 공정에 있어서, 각 반도체 발광 소자(E)의 취출 직전에 대상 칩의 선별 기준으로 이용 가능하게 된다.In addition, the database of these chip emission luminances can link the positions and data of the plurality of semiconductor light emitting elements E in each inspection batch. In this case, in the mounting process of each semiconductor light emitting element E by a die bonder or the like, which becomes the next step, it can be used as a selection criterion for the target chip immediately before taking out each semiconductor light emitting element E.

발광 테스트에 따른 더 정확한 검사를 행하려면, 도 5 (a), (b)에 나타나는 바와 같이, 본 발명의 실시형태에 관한 검사 장치(A)를 검사기(B)의 암실(D)에 구비하고, 외광이 들어가지 않는 상태에서 발광 테스트를 행하는 것이 바람직하다.To perform a more accurate inspection according to the luminescence test, as shown in Figs. 5 (a) and (b), the inspection device (A) according to the embodiment of the present invention is provided in the dark room (D) of the inspection device (B) , It is preferable to perform a light emission test in a state where no external light enters.

암실(D)에서 발광 테스트를 행하는 이유는, 복수의 반도체 발광 소자(E)에 대하여 각 반도체 발광 소자(E)의 발광 주파수 미만의 외광이 입광하면, 각 반도체 발광 소자(E)의 내부 전하에 여기 현상이 일어남으로써, 정확한 발광 상태를 관찰하는 것이 곤란하게 되기 때문이다.The reason for performing the light emission test in the dark room D is that when external light less than the light emission frequency of each semiconductor light emitting element E is incident on the plurality of semiconductor light emitting elements E, the internal charge of each semiconductor light emitting element E is applied. This is because the excitation phenomenon occurs, making it difficult to observe an accurate light emission state.

이와 같은 외광에 의한 여기 현상은, 반대로 각 반도체 발광 소자(E)에 있어서의 발광의 광여기 보조에 의한 관찰 방법으로서 이용할 수 있다. 복수의 반도체 발광 소자(E)의 발광 주파수 미만의 단파장 광선을 발광하는 광원(도시하지 않음)을 암실(D)에 구비하고, 광원으로부터 복수의 반도체 발광 소자(E)의 발광부(E1)를 향하여 단파장 광선을 미약하게 정량씩 균등하게 조사하는 것이 바람직하다. 이로써, 발광에 필요하게 되는 최저 전압을 낮추는 것이 가능하게 된다. 이 때문에, 구동 전원(3)을 저전압으로 해도 각 반도체 발광 소자(E)의 발광을 관찰할 수 있다. 예를 들면 적색 LED에 대해서는, 단파장이 되는 청색이나 자외광을 미약하게 조사함으로써 실시할 수 있다.Conversely, such an excitation phenomenon due to external light can be used as a method of observing the light excitation of each semiconductor light emitting element E by assisting the excitation. The dark room D is provided with a light source (not shown) that emits short wavelength light less than the emission frequency of the plurality of semiconductor light emitting elements E, and the light emitting unit E1 of the plurality of semiconductor light emitting elements E is provided from the light source. It is desirable to irradiate the short-wavelength light evenly in small quantities in a uniform amount. This makes it possible to lower the minimum voltage required for light emission. For this reason, light emission of each semiconductor light emitting element E can be observed even if the driving power supply 3 is set to a low voltage. For example, the red LED can be carried out by irradiating weakly blue or ultraviolet light which becomes a short wavelength.

상세하게 설명하면, 복수의 반도체 발광 소자(E)에 있어서 발광을 관찰하는 검사 카메라의 관찰 시야에 대하여, 각 반도체 발광 소자(E)의 발광 주파수 미만의 단파장광으로 이루어지는 조명 장치(도시하지 않음)의 조사 영역을 일치시키는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 단파장 조명 장치를 고정 카메라(41)에 병설시키거나, 이동 카메라(42)에 병설시킨다.In detail, with respect to the observation field of view of the inspection camera for observing light emission in the plurality of semiconductor light emitting elements E, an illumination device made of short wavelength light less than the emission frequency of each semiconductor light emitting element E (not shown) It is desirable to match the irradiation area. Specifically, a short-wavelength lighting device is juxtaposed to the fixed camera 41 or to the mobile camera 42.

이와 같은 구성으로, 사전에 단파장 조명 장치의 조사에만 의한 카메라 시야 내의 관찰값의 암시 레벨을 계측해 두고, 검사 시에는, 카메라 관찰값으로부터 암시 레벨을 빼서 데이터를 보정한다. 또한, 각 반도체 발광 소자(E)에 대한 외광 조도가 너무 강하면, 포토 루미네선스 효과에 의한 광여기 발광이 발생하므로, 구동 전류에는 의존하지 않는 발광을 발생시키지 않도록 단파장 조명 장치의 조도 레벨을 사전에 조정해 두는 것이 바람직하다.With such a configuration, the suggestion level of the observation value in the camera field of view only by irradiation of the short-wavelength lighting device is measured in advance, and at the time of inspection, the data is corrected by subtracting the suggestion level from the camera observation value. In addition, if the external light intensity of each semiconductor light emitting element E is too strong, light excitation light emission due to the photoluminescence effect occurs, so that the illuminance level of the short-wavelength lighting device is preset so as not to generate light emission that does not depend on the driving current. It is desirable to adjust to.

또, 복수의 반도체 발광 소자(E)로서 RGB칩 LED의 발광 상태의 색조를 판별하는 경우에는, 컬러 카메라에 의하여 발광 상태를 관찰하여, RGB 성분마다의 관찰값으로 하면 된다. 관찰 시에 단파장 조명 장치를 병용하는 경우는, 사전에 단파장 조명 장치의 조사에만 의한 카메라 시야 내의 관찰값에 있어서의 RGB 성분의 색조의 암시 레벨을 계측해 두고, 검사 시에는, 카메라 관찰값으로부터 색조의 암시 레벨을 빼서 데이터를 보정하는 것이 바람직하다.In addition, when determining the color tone of the light emission state of the RGB chip LED as the plurality of semiconductor light emitting elements E, the light emission state is observed by a color camera, and an observation value for each RGB component may be used. When a short-wavelength lighting device is used together at the time of observation, the suggestive level of the color tone of the RGB component in the observation value in the camera's field of view only by irradiation of the short-wavelength lighting device is measured in advance. It is desirable to correct the data by subtracting the implicit level of.

제1 플레이트(1)의 제1 전극(1a) 또는 제2 플레이트(2)의 제2 전극(2a) 중 어느 한쪽이나, 혹은 제1 전극(1a) 및 제2 전극(2a)의 양쪽 모두에는, 유전층(5)을 제1 전극(1a)의 표면이나 제2 전극(2a)의 표면에 따라 마련하는 것이 바람직하다.Either the first electrode 1a of the first plate 1 or the second electrode 2a of the second plate 2, or both of the first electrode 1a and the second electrode 2a, , It is preferable to provide the dielectric layer 5 according to the surface of the first electrode 1a or the surface of the second electrode 2a.

즉, 유전층(5)으로서는, 복수의 반도체 발광 소자(E)에 있어서 발광부(E1)의 반대 측과 대향하도록 배치되는 불투명한 이측 유전층(5a)이나, 복수의 반도체 발광 소자(E)에 있어서 발광부(E1)와 대향하도록 배치되는 투명한 발광 측 유전층(5b)이 있다.That is, as the dielectric layer 5, in the plurality of semiconductor light emitting elements E, the opaque two-side dielectric layer 5a arranged to face the opposite side of the light emitting portion E1, or in the plurality of semiconductor light emitting elements E There is a transparent light emitting side dielectric layer 5b disposed to face the light emitting portion E1.

이측 유전층(5a)이나 발광 측 유전층(5b)은, 고비유전율의 유전 재료로 구성할 수 있고, 그 구체예로서는 비유전율이 80정도의 산화 타이타늄 등의 고유전 재료를 이용한다.The back dielectric layer 5a and the light emitting side dielectric layer 5b can be made of a dielectric material having a high relative dielectric constant, and as a specific example, a high dielectric material such as titanium oxide having a relative dielectric constant of about 80 is used.

제1 플레이트(1)의 제1 전극(1a)이나 제2 플레이트(2)의 제2 전극(2a)에 대한 유전층(5)의 형성 방법으로서는, 스퍼터 등에 의한 경질인 박막 형성 이외에, 자외선 조사나 가열에 의한 경화성을 갖는 액상의 연질 수지를 기재에 이용함으로써, 미리 미분말 상태의 고비유전 재료가 액 중 분산 배합된 연질 수지를 얇게 도포하여 경화시킨 연질막의 형성 방법이 있다.As a method of forming the dielectric layer 5 for the first electrode 1a of the first plate 1 or the second electrode 2a of the second plate 2, in addition to the formation of a hard thin film by sputtering or the like, ultraviolet irradiation or There is a method of forming a soft film in which a soft resin having a curable property by heating is used as a base material and cured by thinly applying a soft resin in which a fine non-dielectric material in a fine powder state is dispersed and mixed in a liquid.

특히 유전층(5)이 되는 연질막을 경화 후에도 유연성을 갖는 실리콘 수지 등으로 형성한 경우에는, 절연막체(F)나 반도체 발광 소자(E)의 표면 형상 또는 이면 형상의 요철이나 왜곡에 대한 변위 흡수성을 기대할 수 있다. 이로써, 유연성이 부족한 절연막체(F)나 반도체 발광 소자(E)의 표면 또는 이면에 대해서도 면 접촉성이 향상되고, 제1 전극(1a)과 제2 전극(2a)의 사이에 발생하는 정전 용량을 보다 안정화시킬 수 있다.Particularly, when the soft film serving as the dielectric layer 5 is formed of a silicone resin or the like having flexibility even after curing, displacement absorption against irregularities or distortion of the surface shape or the back side shape of the insulating film F or the semiconductor light emitting element E can be obtained. I can expect. Thereby, the surface contact property is improved also on the surface or the back surface of the insulating film F or the semiconductor light emitting element E, which lacks flexibility, and the electrostatic capacitance generated between the first electrode 1a and the second electrode 2a is improved. Can be more stabilized.

제1 플레이트(1)나 제2 플레이트(2)에는, 제1 전극(1a)과 제2 전극(2a)의 사이에 막부착 칩(EF)(복수의 반도체 발광 소자(E)와 절연막체(F))을 끼우기 때문에, 제1 플레이트(1) 또는 제2 플레이트(2) 중 어느 한쪽이나 혹은 제1 플레이트(1) 및 제2 플레이트(2)의 양쪽 모두를 상대적으로 이동시키는 구동부(6)를 마련하는 것이 바람직하다.On the first plate 1 or the second plate 2, a film-attached chip EF (a plurality of semiconductor light emitting elements E and an insulating film (between the first electrode 1a and the second electrode 2a)) F)), the driving part 6 for relatively moving either the first plate 1 or the second plate 2 or both of the first plate 1 and the second plate 2 It is desirable to provide.

구동부(6)는, 제1 플레이트(1) 또는 제2 플레이트(2) 중 어느 한쪽이나 혹은 제1 플레이트(1) 및 제2 플레이트(2)의 양쪽 모두와 연계하고, 승강이나 슬라이드 또는 반전 등에 의하여 왕복 이동시키는 액추에이터 등으로 구성되며, 후술하는 제어부(7)에 의하여 작동 제어하고 있다.The driving part 6 is connected to either the first plate 1 or the second plate 2 or both of the first plate 1 and the second plate 2, and moves up and down, slides, or reverses. It is composed of an actuator and the like to be reciprocated by, it is controlled by the control unit 7 to be described later.

구동부(6)에 의한 제1 플레이트(1)나 제2 플레이트(2)의 상대적인 이동 방향으로서는, 제1 플레이트(1) 및 제2 플레이트(2)의 대향 방향(Z 방향)뿐만 아니라, 필요에 따라서 대향 방향(Z 방향)과 교차하는 방향(XY 방향)도 포함된다.As a relative movement direction of the first plate 1 or the second plate 2 by the driving unit 6, as well as the opposite directions (Z direction) of the first plate 1 and the second plate 2, as necessary Therefore, the direction crossing the opposite direction (Z direction) (XY direction) is also included.

즉, 구동부(6)로서는, 적어도 제1 플레이트(1)나 제2 플레이트(2)를 Z 방향으로 상대적으로 이동시키는 승강용 구동부(61)나, 제1 플레이트(1)나 제2 플레이트(2)를 XY 방향으로 상대적으로 이동시키는 수평 이동용 구동부(62)가 있다.That is, as the drive unit 6, at least the first plate (1) or the second plate (2) in the Z direction for relatively moving the drive unit 61, the first plate (1) or the second plate (2) ) Has a driving unit 62 for horizontal movement that moves relative to the XY direction.

후술하는 제어부(7)에 의한 승강용 구동부(61)의 제어예로서는, 도 1의 (a) 등에 2점 쇄선으로 나타나는 막부착 칩(EF)의 반입 시와 반출 시에는, 제1 플레이트(1)와 제2 플레이트(2)를 Z 방향으로 상대적으로 이격 이동시킨다. 그 이외에는, 도 1의 (a) 등에 실선으로 나타나는 바와 같이, 제1 플레이트(1)와 제2 플레이트(2)를 Z 방향으로 상대적으로 접근 이동시키고, 제1 플레이트(1)의 제1 전극(1a) 및 제2 플레이트(2)의 제2 전극(2a)이 막부착 칩(EF)에 대하여, 직접적 또는 유전층(5)을 통하여 간접적으로 접촉하여 통전하도록 가압하고 있다.As a control example of the drive unit 61 for lifting by the control unit 7 to be described later, the first plate 1 is used when carrying in and taking out the film-attached chip EF, which is indicated by a two-dot chain line in FIG. And the second plate 2 are relatively spaced apart in the Z direction. Otherwise, as shown by a solid line in FIG. 1 (a), the first plate 1 and the second plate 2 are relatively moved in the Z direction, and the first electrode 1 of the first plate 1 ( 1a) and the second electrode 2a of the second plate 2 are pressed against the film-attached chip EF, either directly or indirectly through the dielectric layer 5 to energize it.

막부착 칩(EF)(복수의 반도체 발광 소자(E)와 절연막체(F)), 광학 기계(4), 유전층(5) 및 구동부(6)의 구체예를 도 1~도 6에 나타내고, 이들의 등가 회로를 도 7에 나타낸다.1 to 6 show specific examples of the film-attached chip EF (multiple semiconductor light-emitting elements E and the insulating film F), the optical machine 4, the dielectric layer 5 and the driver 6, 7 shows the equivalent circuit.

도 1의 (a), (b), 도 2의 (a), (b), (c) 및 도 4~도 6에 나타나는 예는, 복수의 반도체 발광 소자(E)에 있어서 발광부(E1)가 하향이 되도록 배치되고, 투명하게 형성된 제1 전극(1a)이나 제1 플레이트(1) 등을 투과하여, 발광부(E1)의 발광 상태가 광학 기계(4)에 의하여 제1 플레이트(1) 측으로부터 관찰되도록 구성하고 있다.Examples (a), (b) of FIG. 1, (a), (b), (c) of FIG. 2, and the examples shown in FIGS. 4 to 6 are light emitting units E1 in the plurality of semiconductor light emitting elements E. ) Is disposed so as to be downward, and through the transparently formed first electrode 1a or the first plate 1 and the like, the light emitting state of the light emitting part E1 is first plate 1 by the optical machine 4. ).

특히 도 1의 (a), (b), 도 2 (c) 및 도 4~도 6에 나타나는 예는, 제2 전극(2a)의 표면을 따라 이측 유전층(5a)이 형성되고, 도 1의 (a), (b) 및 도 4~도 6의 경우는, 이측 유전층(5a)을 이측 절연막체(F2)와 접촉시키는 점에서 상위하다. 도 2(c)의 경우는, 이측 유전층(5a)을 복수의 반도체 발광 소자(E)의 이면 측에 대하여 직접적으로 접촉시켜, 이측 절연막체(F2)가 없는 점에서 상위하다.In particular, in the examples shown in FIGS. 1 (a), 1 (b), 2 (c) and FIGS. 4-6, the second dielectric layer 5a is formed along the surface of the second electrode 2a, and In the case of (a), (b) and FIGS. 4 to 6, it differs in that the back dielectric layer 5a is brought into contact with the back insulating film F2. In the case of Fig. 2 (c), the back dielectric layer 5a is in direct contact with the back surface side of the plurality of semiconductor light emitting elements E, and differs in that there is no back insulating film F2.

도 2의 (a), (b)에 나타나는 예는, 제1 전극(1a)의 표면을 따라 발광 측 유전층(5b)이 형성되고, 도 2의 (a)의 경우는, 발광 측 유전층(5b)을 발광 측 절연막체(F1)와 접촉시키는 점에서 상위하다. 도 2의 (b)의 경우는, 발광 측 유전층(5b)을 복수의 반도체 발광 소자(E)에 있어서 발광부(E1)가 배치되는 표면 측에 대하여 직접적으로 접촉시켜, 발광 측 절연막체(F1)가 없는 점에서 상위하다.2 (a) and 2 (b), the light emitting side dielectric layer 5b is formed along the surface of the first electrode 1a, and in the case of FIG. 2 (a), the light emitting side dielectric layer 5b ) Is different in that it contacts the light-emitting side insulating film F1. In the case of Fig. 2B, the light emitting side dielectric layer 5b is brought into direct contact with the surface side where the light emitting portion E1 is disposed in the plurality of semiconductor light emitting elements E, so that the light emitting side insulating film F1 It is different from the absence of).

또한 도 1의 (a), (b), 도 2의 (a), (b), (c) 및 도 4에 나타나는 예는, 구동부(6)의 승강용 구동부(61)에 의하여 제2 플레이트(2)가 제1 플레이트(1)를 향하여 Z 방향으로 이동 제어되는 점에서 상위하다.In addition, the examples shown in FIGS. 1 (a), (b), 2 (a), (b), (c), and FIG. 4 show the second plate by the driving unit 61 for lifting of the driving unit 6. (2) differs in that the movement is controlled in the Z direction toward the first plate 1.

이와 반대로 도 3, 도 5의 (a), (b) 및 도 6에 나타나는 예는, 구동부(6)의 승강용 구동부(61)에 의하여 제1 플레이트(1)가 제2 플레이트(2)를 향하고 Z 방향으로 이동 제어되는 점에서 상위하다. 도 3의 경우는, 복수의 반도체 발광 소자(E)에 있어서 발광부(E1)가 상향이 되도록 배치되고, 투명한 발광 측 절연막체(F1)나 이측 유전층(5a)이나 제2 전극(2a)이나 제2 플레이트(2)를 투과하여, 발광부(E1)의 발광 상태가 광학 기계(4)에 의하여 제2 플레이트(2) 측으로부터 관찰되는 점에 있어서, 도 1의 (a), (b)의 경우와 상위하다.On the contrary, in the examples shown in FIGS. 3, 5 (a), (b), and 6, the first plate 1 is attached to the second plate 2 by the elevation driving portion 61 of the driving portion 6. It is different in that it is headed and controlled to move in the Z direction. In the case of FIG. 3, in the plurality of semiconductor light emitting elements E, the light emitting portion E1 is disposed so as to be upward, and the transparent light emitting side insulating film F1, the back side dielectric layer 5a, the second electrode 2a, or the like. 1 (a), (b) in FIG. 1 in that the second plate 2 is transmitted and the light emission state of the light emitting portion E1 is observed from the side of the second plate 2 by the optical machine 4 It is different from the case.

또, 그 외의 예로서 도시하지 않지만, 도 1의 (a), (b), 도 2의 (a), (b), (c) 및 도 4에 나타난 예에 있어서, 구동부(6)의 승강용 구동부(61)로 제1 플레이트(1)를 제2 플레이트(2)를 향하여 Z 방향으로 이동 제어시키는 것이나, 도 2의 (b), (c) 및 도 4에 나타난 예에 있어서, 발광부(E1)의 발광 상태를 광학 기계(4)로 제2 플레이트(2) 측에서 관찰시키는 등의 변경이 가능하다.In addition, although not shown as other examples, in the examples shown in FIGS. 1 (a), (b), 2 (a), (b), (c), and FIG. 4, the driving unit 6 moves up and down. In the example shown in (b), (c) and FIG. 2 of FIG. 2, the first plate 1 is moved and controlled in the Z direction toward the second plate 2 with the dragon driving unit 61. Changes such as observing the light emission state of (E1) from the second plate 2 side with the optical machine 4 are possible.

이에 더하여 도 4 및 도 5의 (a), (b)에 나타나는 예는, 제1 플레이트(1)의 면적보다 제2 플레이트(2)의 면적이 작게 형성되고, 제1 플레이트(1)에 대하여 제2 플레이트(2)를 구동부(6)의 수평 이동용 구동부(62)로 XY 방향으로 이동시키는 점에서 상위하다.In addition, in the examples shown in FIGS. 4 and 5 (a) and (b), the area of the second plate 2 is smaller than the area of the first plate 1, and the first plate 1 is It is different in that the second plate 2 is moved in the XY direction to the driving unit 62 for horizontal movement of the driving unit 6.

특히 도 5의 (a), (b)의 경우는, 검사기(B)의 암실(D)에 제1 플레이트(1) 및 제2 플레이트(2)나 광학 기계(4)가 수납 배치되고, 암실(D)에 있어서 제1 플레이트(1)의 지지 부재(11)를 제2 플레이트(2)를 향하여 Z 방향으로 승강시키는 승강용 구동부(61)와, 암실(D)에 있어서 제1 플레이트(1)의 지지 부재(11)에 대하여 제2 플레이트(2)를 XY 방향으로 이동시키는 수평 이동용 구동부(62)를 구비하고 있다.In particular, in the case of (a) and (b) of FIG. 5, the first plate 1 and the second plate 2 or the optical machine 4 are housed and arranged in the dark room D of the inspection machine B, and the dark room In (D), the elevating driving portion 61 for elevating the support member 11 of the first plate 1 toward the second plate 2 in the Z direction, and the first plate 1 in the darkroom D ) Is provided with a driving unit 62 for horizontal movement that moves the second plate 2 in the XY direction with respect to the supporting member 11.

암실(D)은, 검사기(B)의 내부에 외광으로부터 차광하여 형성되고, 암실(D)에 마련되는 승강용 구동부(61)로서는, 슬라이더나 직동 가이드 등의 액추에이터가 이용된다.The dark room D is formed by shading from external light inside the inspection machine B, and an actuator such as a slider or a linear guide is used as the drive unit 61 for lifting provided in the dark room D.

암실(D)에 마련되는 수평 이동용 구동부(62)로서는, XY스테이지 등의 액추에이터가 이용된다.As the driving unit 62 for horizontal movement provided in the dark room D, an actuator such as an XY stage is used.

암실(D)에 배치되는 광학 기계(4)가 고정 카메라(41)인 경우에는, 제1 플레이트(1)의 중심축의 연장선상이고 또한 광학 초점 위치에 고정 배치된다. 이동 카메라(42)인 경우에는, 제2 플레이트(2)의 중심축의 연장선상이고 또한 광학 초점 위치에 배치되며, 수평 이동용 구동부(62)에 의한 제2 플레이트(2)의 XY 방향으로의 이동과 동기하여 이동시키도록 지지된다.When the optical machine 4 arranged in the dark room D is a fixed camera 41, it is an extension of the central axis of the first plate 1 and is fixedly arranged at the optical focus position. In the case of the moving camera 42, it is an extension of the central axis of the second plate 2 and is arranged at the optical focus position, and is synchronized with the movement of the second plate 2 in the XY direction by the driving unit 62 for horizontal movement. It is supported to move.

또, 그 외의 예로서 도시하지 않지만, 검사 대상이 되는 복수의 반도체 발광 소자(E)가 LED인 경우는, LED의 발광 주파수부터 단파장의 발광을 행하는 광원을 구비하는 것도 가능하다. 이 경우에는, 암실(D)에 있어서의 이동 카메라(42)의 움직임에 추종하여 광원을 이동시키는 등 하여, 검사 대상 에어리어를 저조도로 균일하게 조사시키는 것이 바람직하다.Moreover, although not shown as another example, when a plurality of semiconductor light emitting elements E to be inspected are LEDs, it is also possible to provide a light source that emits short wavelength light from the emission frequency of the LEDs. In this case, it is preferable to uniformly irradiate the inspection target area with low light, such as by moving the light source following the movement of the moving camera 42 in the dark room D.

도 6에 나타나는 예는, 제1 전극(1a)과 제2 전극(2a)의 사이에 형성되는 공간에 대하여, 막부착 칩(EF)(복수의 반도체 발광 소자(E)와 절연막체(F))을 반송(반입 및 반출) 가능하게 하고 있다.The example shown in FIG. 6 is a film-attached chip EF (a plurality of semiconductor light emitting elements E and an insulating film F) for a space formed between the first electrode 1a and the second electrode 2a. ) Is allowed to be transported (carried in and taken out).

도 6의 경우는, 도 5의 (a)에 나타낸 지지 부재(11)에 대하여, 막부착 칩(EF)이 재치된 제1 플레이트(1)를 반송 가능하게 하고 있다. 상세하게 설명하면, 지지 부재(11)에 마련된 유지 척(도시하지 않음)에 의하여, 막부착 칩(EF) 및 제1 플레이트(1)를 지지 부재(11)에 대하여 이동 불능이고 또한 착탈 가능하게 유지하고 있다.In the case of Fig. 6, the first plate 1 on which the film-attached chip EF is placed is transportable to the support member 11 shown in Fig. 5A. In detail, by the holding chuck (not shown) provided on the support member 11, the membrane-attached chip EF and the first plate 1 are incapable of moving with respect to the support member 11 and are detachable. It is maintained.

또, 그 외의 예로서 도시하지 않지만, 도 1의 (a), 도 2의 (a), (b), (c), 도 3및 도 4에 나타난 예에 있어서, 막부착 칩(EF)이 재치된 제1 플레이트(1)를 반송 가능한 구조로 변경하는 것이나, 막부착 칩(EF)이 매달아 지지된 제2 플레이트(2)를 반송 가능한 구조로 변경하는 것도 가능하다.Further, although not shown as other examples, in the examples shown in FIGS. 1 (a), 2 (a), (b), (c), 3 and 4, the film-attached chip EF It is possible to change the mounted first plate 1 to a transportable structure, or it is also possible to change the second plate 2 supported by the membrane-attached chip EF to a transportable structure.

도 7의 (a)에 나타나는 등가 회로는, 도 1, 도 3~도 6에 나타난 예에 해당하고, 복수의 반도체 발광 소자(E)의 각각에 절연막체(F)로 이루어지는 커패시터를 직렬 접속한 개개로 분리되는 복수의 발광 회로부(C)에 대하여, 구동 전원(교류 전압원)(3)의 교류 전압이 제1 전극(1a) 및 제2 전극(2a)으로부터 유전층(5)을 통하여 부여된다. 교류 전압의 인가에 의하여 복수의 발광 회로부(C)에 유도 전류가 흐른다. 또 도 2의 (a)~(c)에 나타난 예에 해당하는 등가 회로는, 도 7의 (a)와 유사한 등가 회로가 되기 때문에 생략한다.The equivalent circuit shown in Fig. 7A corresponds to the example shown in Figs. 1 and 3 to 6, and a capacitor made of an insulating film F is connected in series to each of the plurality of semiconductor light emitting elements E in series. The AC voltages of the driving power supply (AC voltage source) 3 are applied to the plurality of individually separated light emitting circuit parts C through the dielectric layer 5 from the first electrode 1a and the second electrode 2a. An induced current flows in the plurality of light emitting circuits C by application of an alternating voltage. The equivalent circuit corresponding to the example shown in Figs. 2A to 2C is omitted because it becomes an equivalent circuit similar to Fig. 7A.

복수의 발광 회로부(C) 내의 유도 전류는, 복수의 반도체 발광 소자(반도체 다이오드)(E)가 갖는 정류 작용으로 전류가 순방향으로 흐른다. 상세하게 설명하면, 구동 전원(3)으로부터 복수의 발광 회로부(C)에 인가한 교류 전압이, 복수의 반도체 발광 소자(E)에서 반파 정류된다.The induced current in the plurality of light emitting circuits C flows in a forward direction due to the rectification action of the plurality of semiconductor light emitting elements (semiconductor diodes) E. In detail, the AC voltage applied from the driving power supply 3 to the plurality of light-emitting circuit portions C is half-wave rectified by the plurality of semiconductor light-emitting elements E.

이 때문에, 복수의 반도체 발광 소자(E)에 순방향의 전류가 흐를 때만, 유도 전류를 발생시켜 복수의 반도체 발광 소자(E)가 발광한다. 이 발광 상태를 광학 기계(4)로 관찰함으로써, 복수의 반도체 발광 소자(E)의 발광 상태에 근거하여 불량 여부의 선별이 가능하게 된다.For this reason, only when a current in a forward direction flows through the plurality of semiconductor light emitting elements E, the plurality of semiconductor light emitting elements E emit light by generating an induced current. By observing this light emission state with the optical machine 4, it is possible to select whether or not it is defective based on the light emission states of the plurality of semiconductor light emitting elements E.

도 7의 (a)의 경우는, 회로 중에 반도체 다이오드 보호용의 전류 제한 저항기(RL)가 직렬 접속되어 직렬 RC 회로를 구성하고 있다. 즉 역방향 내전압 범위 내의 교류 전압만이 복수의 반도체 발광 소자(E)에 부여된다. 이로써, 전류 제한 저항기(RL)에서 복수의 반도체 발광 소자(E)로 과대 전류가 흐르는 것을 제한하여 파괴가 방지된다.In the case of Fig. 7A, a current limiting resistor R L for semiconductor diode protection is connected in series in the circuit to constitute a series RC circuit. That is, only the AC voltage within the reverse withstand voltage range is applied to the plurality of semiconductor light emitting elements E. Thereby, excessive current flows from the current limiting resistor R L to the plurality of semiconductor light emitting elements E, thereby preventing destruction.

이 때, 반도체 발광 소자(E)의 발광에서 필요한 전류의 확보에는, 직렬 RC 회로의 임피던스의 대소가 중요하게 된다. 복수의 발광 회로부(C)의 임피던스는, 정전 용량이나 주파수에 의하여 변화한다. 이상적인 커패시터의 임피던스(Z)는, 주파수를 ω, 정전 용량을 C로 하면, 하기의 식으로 표현된다.At this time, in order to secure the current required for the light emission of the semiconductor light emitting element E, the magnitude of the impedance of the series RC circuit becomes important. The impedances of the plurality of light-emitting circuit units C vary depending on the capacitance and frequency. The impedance (Z) of an ideal capacitor is expressed by the following equation when the frequency is ω and the capacitance is C.

Z=1/jωCZ = 1 / jωC

즉, 임피던스(Z)와 주파수(ω)나 정전 용량(C)은, 반비례의 관계에 있기 때문에, 정전 용량(C)이 커지면 임피던스(Z)가 낮아지고, 주파수(ω)가 높아지면 임피던스(Z)가 낮아진다. 그러나, 반도체 발광 소자(E)의 발광에 있어서의 주파수(ω)의 응답 범위는, 한계가 있으므로 그다지 높게 할 수 없다. 임피던스(Z)가 높으면 구동에 고전압을 필요로 하지만, 고전압에 의한 발광 테스트는, 반도체 발광 소자(E)에 대미지의 리스크가 있기 때문에, 저전압이 유지 가능한 정전 용량(C)을 크게 취하는 것이 바람직하다.That is, since the impedance Z, the frequency ω, and the capacitance C are inversely related, the impedance Z decreases when the capacitance C increases, and the impedance Z increases when the frequency ω increases. Z) is lowered. However, the response range of the frequency ω in the light emission of the semiconductor light emitting element E is limited and cannot be made high. When the impedance Z is high, a high voltage is required for driving, but it is preferable to take a large capacitance C capable of maintaining a low voltage, since there is a risk of damage to the semiconductor light emitting element E in the light emission test by the high voltage. .

정전 용량(C)을 높이려면, 제1 전극(1a)과 제2 전극(2a)의 사이의 투영 면적(전극 면적)을 크게 취하는 것도 유효하지만, 전극 면적은 발광 테스트하는 반도체 발광 소자(E)의 수에 의존하기 때문에 한정적이다.To increase the electrostatic capacity C, it is also effective to take a large projected area (electrode area) between the first electrode 1a and the second electrode 2a, but the electrode area is a semiconductor light emitting device (E) for emitting test It is limited because it depends on the number of.

따라서, 제1 전극(1a)과 제2 전극(2a)의 사이의 유전율을 높이기 위하여, 고비유전율의 유전 재료로 이루어지는 유전층(5)을 추가하고 있다.Therefore, in order to increase the dielectric constant between the first electrode 1a and the second electrode 2a, a dielectric layer 5 made of a dielectric material having a high relative dielectric constant is added.

도 7의 (b)에 나타나는 등가 회로는, 복수의 반도체 발광 소자(E)의 발광 테스트에 있어서 파괴를 피하기 위하여 가능한 한 저전압으로 발광시키는 것을 목적으로 한 회로이다.The equivalent circuit shown in Fig. 7B is a circuit aimed at emitting light at a voltage as low as possible in order to avoid destruction in the light emission test of the plurality of semiconductor light emitting elements E.

구동 전원(교류 전압원)(3)으로부터 복수의 발광 회로부(C)에 부여되는 순방향의 반파 전류는, 도 7의 (a)의 경우와 동일하지만, 구동 전원(3)에 있어서 역방향의 전압(-E2)을 제한한다. 구동 전원(3)으로부터의 역내전압(逆耐電壓)(-E2)으로서 하한이 제한된 전압 파형을 복수의 반도체 발광 소자(E)에 부여함으로써, 저전압의 발광 테스트가 가능하게 된다.The forward half-wave current applied from the driving power supply (AC voltage source) 3 to the plurality of light-emitting circuit portions C is the same as in the case of Fig. 7A, but the voltage in the reverse direction (- E 2 ). By applying a voltage waveform having a lower limit as a reverse withstand voltage (-E 2 ) from the driving power supply 3 to the plurality of semiconductor light emitting devices E, a low voltage light emission test is enabled.

도 7의 (a), (b)에 나타나는 등가 회로에 있어서, 부호 C1은 유전층(5)에 의한 정전 용량, 부호 C2는 각 반도체 발광 소자(E)에 의한 정전 용량, 부호 C3은 절연막체(F)에 의한 정전 용량, 부호 C4는 분리한 복수의 반도체 발광 소자(E)의 사이에 배치된 간극(공기층)에 의한 정전 용량이다.In the equivalent circuits shown in Figs. 7A and 7B, reference numeral C 1 is the capacitance by the dielectric layer 5, symbol C 2 is the capacitance by each semiconductor light emitting element E, and symbol C 3 is The electrostatic capacity by the insulating film F, reference numeral C 4 is an electrostatic capacity by a gap (air layer) disposed between the separated plurality of semiconductor light emitting elements E.

또한, 도 7의 (a), (b)의 경우에는, 구동 전원(교류 전압원)(3)으로서 정현 파형만을 기재하고 있다. 교류 파형이면 도시하지 않지만 정현 파형에 대신하여 직사각형파나 삼각파나 사다리꼴파 등이어도 된다.7A and 7B, only the sinusoidal waveform is described as the driving power source (AC voltage source) 3. Although not shown in the AC waveform, a rectangular wave, a triangular wave, or a trapezoidal wave may be used instead of the sinusoidal waveform.

또, 유도 발광에 의한 반도체 발광 소자(E)의 제전(除電)의 용이함과 제전 관리에 따라 다르지만, 구동 전원(3)의 전압(-E2)을 제로 전위로 설정하면, 교류 전압원에 대신하여 직류 전압원을 이용하는 것도 가능하다.Moreover, although it differs depending on the ease of static elimination of the semiconductor light emitting element E by induction emission and the static electricity elimination management, if the voltage (-E 2 ) of the driving power source 3 is set to a zero potential, instead of an alternating voltage source It is also possible to use a DC voltage source.

제어부(7)는, 구동 전원(3)이나 구동부(6)뿐만이 아니라, 막부착 칩(EF)의 반입 기구나 반출 기구 등에도 전기적으로 접속하는 컨트롤러이다.The control unit 7 is a controller that electrically connects not only the driving power supply 3 or the driving unit 6 but also the carrying mechanism and the carrying mechanism of the film-attached chip EF.

제어부(7)가 되는 컨트롤러는, 그 제어 회로(도시하지 않음)에 미리 설정된 프로그램에 따라, 미리 설정된 타이밍에 차례차례 각각 작동 제어하고 있다.The controller, which becomes the control unit 7, is operated and controlled respectively at a preset timing in accordance with a program preset in the control circuit (not shown).

그리고, 제어부(7)의 제어 회로에 설정된 프로그램을, 검사 장치(A)에 의한 복수의 반도체 발광 소자(E)의 광학적인 검사 방법으로서 설명한다.Then, the program set in the control circuit of the control unit 7 will be described as an optical inspection method of the plurality of semiconductor light emitting elements E by the inspection device A.

본 발명의 실시형태에 관한 검사 방법은, 제1 플레이트(1)의 제1 전극(1a)과 제2 플레이트(2)의 제2 전극(2a)의 사이에 막부착 칩(EF)을 끼우도록 배치하는 세트 공정과, 구동 전원(3)으로부터 막부착 칩(EF)에 전압을 부여하는 공급 공정과, 막부착 칩(EF)의 발광 상태를 제1 플레이트(1)나 제2 플레이트(2) 중 어느 한쪽의 측에서 광학 기계(4)로 관찰하는 관찰 공정을 주요한 공정으로서 포함하고 있다.In the inspection method according to the embodiment of the present invention, the film-mounting chip EF is sandwiched between the first electrode 1a of the first plate 1 and the second electrode 2a of the second plate 2. The set process to be arranged, the supply process to apply a voltage to the film-mounted chip EF from the driving power supply 3, and the light emission state of the film-mounted chip EF are the first plate 1 or the second plate 2 The observation process observed by the optical machine 4 on either side is included as a main process.

또한, 세트 공정의 전에 막부착 칩(EF)을 반입하는 반입 공정과, 관찰 공정의 후에 검사가 종료된 막부착 칩(EF)을 반출하는 반출 공정을 포함하는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable to include the carrying-in process of carrying in the film-attached chip EF before the set process, and the carrying out process of carrying out the film-attached chip EF after the inspection is completed after the observation process.

세트 공정에서는, 반입된 막부착 칩(EF)을 제1 전극(1a)과 제2 전극(2a)의 사이의 소정 위치에 끼워 넣어 전기적으로 접속시킴으로써, 복수의 반도체 발광 소자(E)의 각각에 절연막체(F)로 이루어지는 커패시터가 직렬 접속되는 개개로 분리된 복수의 발광 회로부(C)가 형성된다.In the set process, each of the plurality of semiconductor light-emitting elements E is connected by electrically connecting the imported film-attached chip EF to a predetermined position between the first electrode 1a and the second electrode 2a. A plurality of light-emitting circuit portions C, which are individually separated in which capacitors made of the insulating film F are connected in series, are formed.

공급 공정에서는, 구동 전원(3)의 전압을 제1 전극(1a) 및 제2 전극(2a)으로부터 막부착 칩(EF)에 공급함으로써, 복수의 발광 회로부(C)에 교류 전압이 인가된다.In the supply step, an AC voltage is applied to the plurality of light-emitting circuit portions C by supplying the voltage of the driving power source 3 from the first electrode 1a and the second electrode 2a to the film-mounting chip EF.

관찰 공정에서는, 복수의 발광 회로부(C)로 교류 전압의 인가에 따라 발광한 복수의 반도체 발광 소자(E)를, 제1 플레이트(1) 및 제1 전극(1a)이나 제2 플레이트(2) 및 제2 전극(2a) 중 어느 한쪽의 측으로부터 광학 기계(4)의 관찰에 의하여, 복수의 반도체 발광 소자(E)의 발광 상태에 근거하여, 발광 양호한 반도체 발광 소자(E)와 발광 불량인 반도체 발광 소자(E)로 선별하고 있다.In the observation process, the plurality of semiconductor light emitting elements E that emit light in response to the application of an alternating voltage to the plurality of light emitting circuits C, include a first plate 1 and a first electrode 1a or a second plate 2. And a semiconductor light emitting element E having good light emission and poor light emission based on the light emission states of the plurality of semiconductor light emitting elements E by observation of the optical machine 4 from either side of the second electrode 2a. It is selected as a semiconductor light emitting element (E).

복수의 반도체 발광 소자(E)에 있어서의 발광 상태에 근거한 선별 방법으로서는, 발광의 유무에 의한 불량 여부의 판별이나, 휘도 편차에 의한 선별이나, 색조의 선별 등의 미리 설정된 기준에 의하여 행하는 것이 바람직하다.As a screening method based on the light emission state in the plurality of semiconductor light emitting elements E, it is preferable to perform it according to predetermined criteria such as discrimination of defects due to presence or absence of light emission, screening by luminance variation, screening of color tone, and the like. Do.

이와 같은 본 발명의 실시형태에 관한 검사 장치(A) 및 검사 방법에 의하면, 구동 전원(3)의 교류 전압을 제1 전극(1a) 및 제2 전극(2a)으로부터, 복수의 반도체 발광 소자(E)의 각각에 절연막체(F)로 이루어지는 커패시터가 직렬 접속되는 개개로 분리된 복수의 발광 회로부(C)로 부여함으로써, 복수의 반도체 발광 소자(반도체 다이오드)(E)의 정류 작용으로 전류가 순방향으로 흐른다.According to the inspection device A and the inspection method according to the embodiment of the present invention, the AC voltage of the driving power source 3 is supplied from the first electrode 1a and the second electrode 2a to a plurality of semiconductor light emitting elements ( By providing a plurality of individually separated light emitting circuit parts C in which capacitors made of an insulating film F are connected in series to each of E), current is generated by rectification of a plurality of semiconductor light emitting elements (semiconductor diodes) E. Flows in the forward direction.

이 때문에, 복수의 반도체 발광 소자(E)에 순방향의 전류가 흐를 때에, 유도 전류를 발생시켜 양호한 반도체 발광 소자(E)가 발광한다. 이와 같은 복수의 반도체 발광 소자(E)의 발광 상태를 광학 기계(4)로 관찰함으로써, 복수의 반도체 발광 소자(E)의 발광 상태가 각각 광학적으로 검사되고, 발광 상태에 근거한 불량 여부의 선별이 가능하게 된다.For this reason, when a forward current flows through the plurality of semiconductor light emitting elements E, an induced current is generated and the good semiconductor light emitting element E emits light. By observing the light-emitting states of the plurality of semiconductor light-emitting elements E with the optical machine 4, the light-emitting states of the plurality of semiconductor light-emitting elements E are each optically inspected, and selection of defects based on the light-emitting state is performed. It becomes possible.

따라서, 분리된 복수의 반도체 발광 소자(E)를 실장 직전에 일괄 검사하여 발광 불량인 반도체 발광 소자(E)를 선별할 수 있다.Therefore, a plurality of separated semiconductor light emitting devices E can be collectively inspected immediately before mounting to select the semiconductor light emitting devices E having poor light emission.

그 결과, 복수의 LED 디바이스가 하프 컷된 미분리 상태에서 발광 테스트하는 종래의 것에 비하여, 복수의 반도체 발광 소자(E)로부터 절연막체(F)를 박리하는 것만으로 복수의 반도체 발광 소자(E)가 분리되기 때문에, 검사된 복수의 반도체 발광 소자(E)를 실장 전에 분리할 필요가 없으며, 이 분리 공정에 의한 새로운 불량의 발생을 방지할 수 있어 신뢰성이 뛰어나고, 또한 취급이 용이하다.As a result, a plurality of semiconductor light emitting elements E can be removed only by peeling the insulating film F from the plurality of semiconductor light emitting elements E, compared to the conventional one in which the plurality of LED devices are tested for light emission in a half-cut unseparated state. Since they are separated, it is not necessary to separate the plurality of inspected semiconductor light emitting elements E before mounting, and it is possible to prevent the occurrence of new defects due to this separation process, which is excellent in reliability and easy to handle.

특히 복수의 반도체 발광 소자(E)가 마이크로 LED여도 실장을 용이하게 행할 수 있는 작업성이 뛰어나고 편리성의 향상이 도모된다.In particular, even when the plurality of semiconductor light emitting elements E are micro LEDs, workability that can be easily carried out is excellent and convenience is improved.

이로써, 기능적(광학적)으로 불량인 반도체 발광 소자(E)의 실장을 미연에 방지할 수 있어, 수율의 향상이 도모된다.Thereby, the mounting of the semiconductor light emitting element E which is functionally (optically) defective can be prevented beforehand, and the yield can be improved.

특히, 제1 전극(1a) 또는 제2 전극(2a) 중 어느 한쪽의 표면이나 혹은 양쪽 모두의 표면에 마련되는 유전층(5)을 구비하고, 유전층(5)이 고비유전율의 재료로 이루어지는 것이 바람직하다.In particular, it is preferable that the dielectric layer 5 is provided on either or both surfaces of the first electrode 1a or the second electrode 2a, and the dielectric layer 5 is made of a material having a high relative dielectric constant. Do.

이 경우에는, 구동 전원(3)의 교류 전압이 제1 전극(1a) 및 제2 전극(2a)으로부터 유전층(5)을 통하여 복수의 발광 회로부(C)에 부여됨으로써, 고비유전율의 유전층(5)에서 제1 전극(1a)과 제2 전극(2a)의 사이의 정전 용량이 커진다.In this case, the alternating voltage of the driving power source 3 is applied to the plurality of light-emitting circuit portions C through the dielectric layer 5 from the first electrode 1a and the second electrode 2a, so that the high dielectric constant dielectric layer 5 ), The capacitance between the first electrode 1a and the second electrode 2a increases.

정전 용량과 임피던스는 반비례의 관계에 있기 때문에, 제1 전극(1a)과 제2 전극(2a)의 사이의 임피던스가 작아져 전류가 흐르기 쉬워진다.Since the capacitance and the impedance are inversely related, the impedance between the first electrode 1a and the second electrode 2a decreases, and current flows easily.

따라서, 복수의 반도체 발광 소자(E)를 저전압으로 발광시킬 수 있다.Therefore, the plurality of semiconductor light emitting elements E can emit light at a low voltage.

그 결과, 고전압에 의한 본의 아닌 반도체 발광 소자(E)의 파괴를 방지할 수 있는 것과 동시에 단락(쇼트)의 위험성을 경감시킬 수 있다. 이로써 장치 측의 내전압과 누설 대책도 할 수 있다.As a result, it is possible to prevent the intrinsic destruction of the semiconductor light emitting element E due to high voltage and at the same time reduce the risk of short circuit (short). With this, the withstand voltage and leakage countermeasures on the device side can also be taken.

또한, 도 4 및 도 5의 (a), (b)에 나타나는 바와 같이, 제1 플레이트(1) 또는 제2 플레이트(2)의 한쪽이 다른 쪽보다 작은 면적으로 형성되고, 제1 플레이트(1) 또는 제2 플레이트(2)의 한쪽에 대하여 다른 쪽을 제1 플레이트(1) 및 제2 플레이트(2)의 대향 방향(Z 방향)과 교차하는 방향(XY 방향)으로 이동 가능하게 지지하는 것이 바람직하다.In addition, as shown in FIGS. 4 and 5 (a) and (b), one of the first plate 1 or the second plate 2 is formed with a smaller area than the other, and the first plate 1 ) Or to support the other side with respect to one side of the second plate 2 so as to be movable in a direction crossing the opposite direction (Z direction) of the first plate 1 and the second plate 2 (XY direction). desirable.

이 경우에는, 제1 전극(1a)과 제2 전극(2a)의 사이에 복수의 발광 회로부(C)가, 제1 플레이트(1) 또는 제2 플레이트(2) 중 큰 쪽(제1 플레이트(1))에 대하여 작은 쪽(제2 플레이트(2))의 접촉 면적과 동일 사이즈로 형성된다.In this case, the plurality of light-emitting circuit portions C between the first electrode 1a and the second electrode 2a is the larger of the first plate 1 or the second plate 2 (the first plate ( 1)) is formed in the same size as the contact area of the smaller side (second plate 2).

큰 쪽(제1 플레이트(1))에 대하여 작은 쪽(제2 플레이트(2))을, 양자의 대향 방향(Z 방향)과 교차하는 방향(XY 방향)으로 이동시키고, 또한 구동 전원(3)으로부터 복수의 발광 회로부(C)에 교류 전압을 부여함으로써, 큰 쪽(제1 플레이트(1))의 전체 영역이 복수로 분할되고, 분할 영역 단위에서 복수의 반도체 발광 소자(E)의 발광 상태가 검사 가능하게 된다.The smaller side (the second plate 2) is moved with respect to the larger side (the first plate 1) in the direction (XY direction) that intersects the opposite direction (Z direction), and the driving power source 3 is also provided. By applying an alternating voltage to the plurality of light-emitting circuit portions C, the entire area of the larger one (first plate 1) is divided into a plurality, and the light-emitting states of the plurality of semiconductor light-emitting elements E are divided in units of the divided areas. Inspection becomes possible.

따라서, 절연막체(F)에 분리 배열된 복수의 반도체 발광 소자(E)를 적절한 수의 분할 영역마다 검사할 수 있다.Therefore, a plurality of semiconductor light emitting elements E arranged separately in the insulating film F can be inspected for each appropriate number of divided regions.

그 결과, 다수의 반도체 발광 소자(E)가 배열된 대형의 막부착 칩(EF)을 검사할 때에 유효하다.As a result, it is effective when inspecting a large-sized film-attached chip EF in which a number of semiconductor light-emitting elements E are arranged.

또, 검사기(B)의 외광으로부터 차광된 암실(D)에 검사 장치(A)를 배치하는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable to arrange | position the inspection apparatus A in the dark room D shielded from the external light of the inspection machine B.

이 경우에는, 암실(D)에서 복수의 반도체 발광 소자(E)의 발광 테스트를 행함으로써, 각 반도체 발광 소자(E)의 발광 주파수 미만의 외광이 차광되고, 각 반도체 발광 소자(E)의 내부 전하에 여기 현상이 일어나지 않는 상태에서 발광 테스트가 행해진다.In this case, by performing a light emission test of the plurality of semiconductor light emitting elements E in the dark room D, external light below the emission frequency of each semiconductor light emitting element E is shielded, and the interior of each semiconductor light emitting element E The luminescence test is performed in a state in which no excitation phenomenon occurs in the electric charge.

따라서, 구동 전원(3)에 대한 복수의 반도체 발광 소자(E)의 정확한 발광을 관찰할 수 있다.Therefore, it is possible to observe the accurate light emission of the plurality of semiconductor light emitting elements E with respect to the driving power source 3.

그 결과, 발광 불량인 반도체 발광 소자(E)를 보다 정확하게 선별할 수 있어, 신뢰성의 추가적인 향상이 도모된다.As a result, the semiconductor light emitting element E having poor light emission can be more accurately selected, and further improvement in reliability is achieved.

특히, 암실(D)에는, 복수의 반도체 발광 소자(E)의 발광 주파수 미만의 단파장 광선을 발광하는 광원이 구비되고, 광원으로부터 복수의 반도체 발광 소자(E)의 발광부(E1)를 향하여 단파장 광선을 균등하게 조사하는 것이 바람직하다.In particular, the dark room D is provided with a light source that emits short-wavelength light beams less than the emission frequency of the plurality of semiconductor light-emitting elements E, and is short-wavelength from the light source toward the light-emitting section E1 of the plurality of semiconductor light-emitting elements E. It is desirable to irradiate the light beam evenly.

이 경우에는, 복수의 반도체 발광 소자(E)의 발광부(E1)의 발광에 필요하게 되는 최저 전압을 낮추는 것이 가능하게 된다.In this case, it is possible to lower the minimum voltage required for the light emission of the light emitting units E1 of the plurality of semiconductor light emitting elements E.

따라서, 구동 전원(3)을 저전압으로 해도 복수의 반도체 발광 소자(E)의 발광을 관찰할 수 있다.Therefore, even when the driving power supply 3 is at a low voltage, light emission of the plurality of semiconductor light emitting elements E can be observed.

그 결과, 저전압화에 의하여 복수의 반도체 발광 소자(E)의 파괴를 더 방지할 수 있다.As a result, destruction of the plurality of semiconductor light emitting elements E can be further prevented by lowering the voltage.

또한, 전시의 실시형태에서는, 제1 전극(1a)이나 제2 전극(2a)에 유전층(5)(이측 유전층(5a), 발광 측 유전층(5b))을 마련한 경우만을 설명했지만, 이에 한정되지 않고, 유전층(5)이 없어도 된다. 유전층(5)에 대신하여 절연성의 확보를 위하여, 막부착 칩(EF)과 제1 전극(1a)이나 제2 전극(2a)의 사이에 공기층을 개재시켜 비접촉으로 하는 것도 가능하다.In addition, in the embodiment of the exhibition, only the case where the dielectric layer 5 (the two-side dielectric layer 5a, the light-emitting side dielectric layer 5b) is provided on the first electrode 1a or the second electrode 2a has been described, but is not limited to this. Without, the dielectric layer 5 may be omitted. Instead of the dielectric layer 5, in order to secure insulation, it is also possible to make it non-contact by interposing an air layer between the film-attached chip EF and the first electrode 1a or the second electrode 2a.

또 도 4에 나타난 예에서는, 제1 플레이트(1)보다 제2 플레이트(2)를 작은 면적으로 형성하고, 제1 플레이트(1)에 대하여 제2 플레이트(2)를 수평 이동용 구동부(62)에서 XY 방향으로 이동시켰지만, 이에 한정되지 않으며, 제2 플레이트(2)보다 제1 플레이트(1)를 작은 면적으로 형성하고, 제2 플레이트(2)에 대하여 제1 플레이트(1)를 수평 이동용 구동부(62)에서 XY 방향으로 이동시키는 것이나, 제1 플레이트(1) 및 제2 플레이트(2)의 양쪽 모두를 수평 이동용 구동부(62)에서 XY 방향으로 상대적으로 이동시켜도 된다.In addition, in the example shown in FIG. 4, the second plate 2 is formed with a smaller area than the first plate 1, and the second plate 2 is moved from the driving unit 62 for horizontal movement relative to the first plate 1. Although it is moved in the XY direction, it is not limited thereto, and the first plate 1 is formed with a smaller area than the second plate 2, and the first plate 1 is driven horizontally with respect to the second plate 2. 62), or both of the first plate 1 and the second plate 2 may be moved relative to the XY direction by the driving unit 62 for horizontal movement.

A 검사 장치 1 제1 플레이트
1a 제1 전극 2 제2 플레이트
2a 제2 전극 3 구동 전원
4 광학 기계 5 유전층
C 발광 회로부 E 반도체 발광 소자
E1 발광부 F 절연막체
B 검사기 D 암실
A Inspection device 1 First plate
1a 1st electrode 2 2nd plate
2a 2nd electrode 3 driving power
4 Optical machine 5 Dielectric layer
C Light-emitting circuit part E Semiconductor light-emitting element
E1 light emitting part F insulating film
B Checker D Darkroom

Claims (6)

절연막체에 분리 배열된 복수의 반도체 발광 소자를 광학적으로 검사하는 검사 장치로서,
제1 전극을 갖는 제1 플레이트와,
상기 제1 전극과의 사이에 상기 복수의 반도체 발광 소자 및 상기 절연막체를 끼워 대향하도록 마련된 제2 전극을 갖는 제2 플레이트와,
상기 제1 전극 및 상기 제2 전극에 대하여 전기적으로 접속되는 구동 전원과,
상기 제1 플레이트 또는 상기 제2 플레이트 중 어느 한쪽의 측에서 상기 복수의 반도체 발광 소자의 발광을 관찰하는 광학 기계를 구비하고,
상기 제1 전극과 상기 제2 전극의 사이에는, 상기 복수의 반도체 발광 소자의 각각에 상기 절연막체로 이루어지는 커패시터가 직렬 접속되는 개개로 분리된 복수의 발광 회로부가 배치되며,
상기 복수의 발광 회로부는, 상기 구동 전원으로부터 상기 복수의 반도체 발광 소자로 순방향의 전류가 흐를 때에 유도 전류를 발생시켜 상기 복수의 반도체 발광 소자가 발광하는 것을 특징으로 하는 검사 장치.
An inspection device for optically inspecting a plurality of semiconductor light emitting elements arranged separately in an insulating film,
A first plate having a first electrode,
A second plate having a second electrode provided so as to face the plurality of semiconductor light emitting elements and the insulating layer between the first electrode and
A driving power source electrically connected to the first electrode and the second electrode;
And an optical machine for observing light emission of the plurality of semiconductor light emitting elements from either side of the first plate or the second plate,
Between the first electrode and the second electrode, a plurality of individually separated light emitting circuit parts are disposed in which capacitors made of the insulating film are connected in series to each of the plurality of semiconductor light emitting elements,
The plurality of light-emitting circuit units, an inspection device characterized in that the plurality of semiconductor light-emitting elements emit light by generating an induced current when a forward current flows from the driving power source to the plurality of semiconductor light-emitting elements.
청구항 1에 있어서,
상기 제1 전극 또는 상기 제2 전극 중 어느 한쪽의 표면이나 혹은 양쪽 모두의 표면에 마련되는 유전층을 구비하고, 상기 유전층이 고비유전율의 재료로 이루어지는 것을 특징으로 하는 검사 장치.
The method according to claim 1,
And a dielectric layer provided on one or both surfaces of the first electrode or the second electrode, wherein the dielectric layer is made of a material having a high relative dielectric constant.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 제1 플레이트 또는 상기 제2 플레이트 중 어느 한쪽의 면적이 다른 쪽보다 작은 면적으로 형성되고, 상기 제1 플레이트 또는 상기 제2 플레이트의 한쪽에 대하여 다른 쪽이나 혹은 양쪽 모두를, 상기 제1 플레이트 및 상기 제2 플레이트의 대향 방향과 교차하는 방향으로 상대적으로 이동 가능하게 지지하는 것을 특징으로 하는 검사 장치.
The method according to claim 1 or claim 2,
The area of either the first plate or the second plate is formed with a smaller area than the other, and the other side or both sides of the first plate or the second plate, the first plate and the An inspection device characterized in that the second plate is relatively movably supported in a direction intersecting the opposite direction of the plate.
청구항 1 또는 청구항 2에 기재된 검사 장치를 구비한 검사기로서,
상기 검사기의 외광으로부터 차광된 암실에 상기 검사 장치를 배치하는 것을 특징으로 하는 검사기.
A tester equipped with the inspection device according to claim 1 or 2,
An inspection machine, characterized in that the inspection device is arranged in a dark room shielded from external light of the inspection machine.
청구항 4에 있어서,
상기 암실에는, 상기 복수의 반도체 발광 소자의 발광 주파수 미만의 단파장 광선을 발광하는 광원이 구비되고, 상기 광원으로부터 상기 복수의 반도체 발광 소자의 발광부를 향하여 상기 단파장 광선이 균등하게 조사되는 것을 특징으로 하는 검사기.
The method according to claim 4,
The dark room is provided with a light source that emits short-wavelength light rays less than the emission frequency of the plurality of semiconductor light-emitting elements, and the short-wavelength light beam is uniformly irradiated from the light source toward the light-emitting portions of the plurality of semiconductor light-emitting elements. Checker.
절연막체에 분리 배열된 복수의 반도체 발광 소자를 광학적으로 검사하는 검사 방법으로서,
제1 플레이트의 제1 전극과 제2 플레이트의 제2 전극의 사이에, 상기 복수의 반도체 발광 소자의 각각에 상기 절연막체로 이루어지는 커패시터가 직렬 접속되는 개개로 분리된 복수의 발광 회로부를 형성하는 세트 공정과,
구동 전원의 전압을 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극으로부터 상기 복수의 발광 회로부로 부여하는 공급 공정과,
상기 복수의 발광 회로부에 대한 전압의 공급에 의하여 발광하는 상기 복수의 반도체 발광 소자를 상기 제1 플레이트 또는 상기 제2 플레이트 중 어느 한쪽의 측에서 광학 기계로 관찰하는 관찰 공정을 포함하고,
상기 관찰 공정에서는, 상기 구동 전원으로부터 상기 복수의 반도체 발광 소자로 순방향의 전류가 흐를 때에 유도 전류를 발생시켜 상기 복수의 반도체 발광 소자가 발광하는 것을 특징으로 하는 검사 방법.
An inspection method for optically inspecting a plurality of semiconductor light-emitting elements arranged separately in an insulating film,
A set step of forming a plurality of individually separated light-emitting circuit portions in which a capacitor made of the insulating film is serially connected to each of the plurality of semiconductor light-emitting elements between the first electrode of the first plate and the second electrode of the second plate. and,
A supply step of applying a voltage of a driving power source from the first electrode and the second electrode to the plurality of light-emitting circuit parts
And an observation process of observing the plurality of semiconductor light emitting elements that emit light by supplying a voltage to the plurality of light emitting circuit units by an optical machine on either side of the first plate or the second plate,
In the observation step, an inspection current is generated when a current in a forward direction flows from the driving power source to the plurality of semiconductor light emitting elements, and the inspection method is characterized in that the plurality of semiconductor light emitting elements emit light.
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112331578A (en) * 2020-11-06 2021-02-05 业成科技(成都)有限公司 Method and device for detecting light-emitting element, and substrate
CN115602661A (en) * 2021-07-08 2023-01-13 重庆康佳光电技术研究院有限公司(Cn) Detection device and detection method of light-emitting element

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009511898A (en) * 2005-10-11 2009-03-19 オルボテック リミテッド Electrical inspection of transistor arrays by photoconductivity.
KR20110139812A (en) * 2010-06-24 2011-12-30 서울옵토디바이스주식회사 Esd tester for light emitting diode chip and method of selecting good light emitting diode chip
JP2013093496A (en) * 2011-10-27 2013-05-16 Panasonic Corp Inspection apparatus for resin light emission and inspection method for resin light emission
KR20150021838A (en) * 2013-08-21 2015-03-03 삼성전자주식회사 Led driving apparatus and lighting apparatus
KR20160056167A (en) * 2014-11-11 2016-05-19 삼성전자주식회사 Method of manufacturing a light emitting device, apparatus for inspection of a light emitting module, and method of making a decision on whether a light emitting module meets a quality requirement
KR20160105333A (en) * 2015-02-27 2016-09-06 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 Power storage device, light-emitting device, and electronic device
KR20160124718A (en) * 2016-10-14 2016-10-28 서울바이오시스 주식회사 Light emitting diode array on wafer level and method of forming the same
JP2017504956A (en) * 2013-11-21 2017-02-09 オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングOsram Opto Semiconductors GmbH Method for detecting optical properties of optoelectronic semiconductor materials and apparatus for carrying out the method
KR20170032405A (en) * 2014-08-26 2017-03-22 오스람 오엘이디 게엠베하 Method for identifying a short circuit in a first light emitting diode element, and optoelectronic subassembly
WO2018112267A1 (en) 2016-12-16 2018-06-21 Tesoro Scientific, Inc. Light emitting diode (led) test apparatus and method of manufacture
US20180259570A1 (en) * 2017-01-23 2018-09-13 Tesoro Scientific, Inc. Light emitting diode (led) test apparatus and method of manufacture

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009511898A (en) * 2005-10-11 2009-03-19 オルボテック リミテッド Electrical inspection of transistor arrays by photoconductivity.
KR20110139812A (en) * 2010-06-24 2011-12-30 서울옵토디바이스주식회사 Esd tester for light emitting diode chip and method of selecting good light emitting diode chip
JP2013093496A (en) * 2011-10-27 2013-05-16 Panasonic Corp Inspection apparatus for resin light emission and inspection method for resin light emission
KR20150021838A (en) * 2013-08-21 2015-03-03 삼성전자주식회사 Led driving apparatus and lighting apparatus
JP2017504956A (en) * 2013-11-21 2017-02-09 オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングOsram Opto Semiconductors GmbH Method for detecting optical properties of optoelectronic semiconductor materials and apparatus for carrying out the method
KR20170032405A (en) * 2014-08-26 2017-03-22 오스람 오엘이디 게엠베하 Method for identifying a short circuit in a first light emitting diode element, and optoelectronic subassembly
KR20160056167A (en) * 2014-11-11 2016-05-19 삼성전자주식회사 Method of manufacturing a light emitting device, apparatus for inspection of a light emitting module, and method of making a decision on whether a light emitting module meets a quality requirement
KR20160105333A (en) * 2015-02-27 2016-09-06 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 Power storage device, light-emitting device, and electronic device
KR20160124718A (en) * 2016-10-14 2016-10-28 서울바이오시스 주식회사 Light emitting diode array on wafer level and method of forming the same
WO2018112267A1 (en) 2016-12-16 2018-06-21 Tesoro Scientific, Inc. Light emitting diode (led) test apparatus and method of manufacture
US20180259570A1 (en) * 2017-01-23 2018-09-13 Tesoro Scientific, Inc. Light emitting diode (led) test apparatus and method of manufacture

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