KR20200033890A - 진공 챔버를 위한 열 처리 장치, 가요성 기판 상에 재료를 증착하기 위한 증착 장치, 진공 챔버에서 가요성 기판을 열 처리하는 방법, 및 가요성 기판을 프로세싱하기 위한 방법 - Google Patents

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파비오 피에랄리시
게르하르트 슈타이니거
호르스트 알트
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어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
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Abstract

본 개시내용은 진공 챔버(101)에서 사용하기 위한 열 처리 장치(100)를 제공한다. 열 처리 장치(100)는 종 방향으로 가요성 기판(10)에 장력을 가하도록 구성된 운송 어레인지먼트를 포함하며, 여기서, 운송 어레인지먼트는 드럼(110), 및 가요성 기판(10)을 120 ℃ 내지 180 ℃의 제1 온도로 가열하기 위해 드럼(110)을 가열하도록 구성된 가열 디바이스를 포함한다.

Description

진공 챔버를 위한 열 처리 장치, 가요성 기판 상에 재료를 증착하기 위한 증착 장치, 진공 챔버에서 가요성 기판을 열 처리하는 방법, 및 가요성 기판을 프로세싱하기 위한 방법
[0001] 본 개시내용의 실시예들은 진공 챔버에서 사용하기 위한 열 처리 장치, 가요성 기판 상에 재료를 증착하기 위한 증착 장치, 진공 챔버에서 가요성 기판을 열 처리하는 방법, 및 가요성 기판을 프로세싱하기 위한 방법에 관한 것이다. 본 개시내용의 실시예들은 특히, 박막 프로세싱 장치들, 예컨대, 가요성 기판을 프로세싱하기 위한 장치에 관한 것으로, 더 구체적으로, 롤-투-롤(R2R) 시스템들에 관한 것이다.
[0002] 가요성 기판들, 이를테면 플라스틱 막들 또는 포일(foil)들의 프로세싱은 패키징 산업, 반도체 산업, 및 다른 산업들에서 이용될 수 있다. 프로세싱은 하나 이상의 코팅 재료들, 이를테면 금속들, 반도체 재료들, 및 유전체 재료들을 이용한 가요성 기판의 코팅을 포함할 수 있다. 프로세싱 양상들을 수행하는 프로세싱 장치들은 가요성 기판의 운송을 위해 시스템에 커플링된 코팅 드럼을 포함할 수 있다. 그러한 롤-투-롤 시스템들은 높은 처리량을 제공할 수 있다.
[0003] 가요성 기판의 제조 프로세스는 횡 방향(TD; transverse direction)의 내부 응력 및 와인딩 경도(winding hardness) 차이들과 같은, 기계적 특성들의 불-균일성을 초래할 수 있다. 더욱이, 더 높은 온도들에서 가요성 기판의 기계적 특성들에 상당한 변화가 있을 수 있다. 예컨대, PET 막들의 탄성 계수는 특정 온도 초과에서 급격하게 감소될 수 있고, 막 강도의 결과적인 감소는 막 취급에 악영향을 미친다. 이들 요인들은, 화학 기상 증착(CVD)에서 필연적인 열 부하들과 같은 더 높은 프로세스 열 부하들에서 와인딩(winding) 성능(예컨대, 웨이브(wave)들, 주름(wrinkle) 형성)에 큰 영향을 미친다.
[0004] 상기된 바를 고려하면, 본 기술분야의 문제들 중 적어도 일부를 극복하는, 새로운, 진공 챔버에서 사용하기 위한 열 처리 장치들, 가요성 기판 상에 재료를 증착하기 위한 증착 장치들, 진공 챔버에서 가요성 기판을 열 처리하는 방법들, 및 가요성 기판을 프로세싱하기 위한 방법들이 유익하다. 구체적으로, 가요성 기판을 안정화(stabilize)시킬 수 있는 장치들 및 방법들이 유익하다.
[0005] 상기된 바를 고려하면, 진공 챔버에서 사용하기 위한 열 처리 장치, 가요성 기판 상에 재료를 증착하기 위한 증착 장치, 진공 챔버에서 가요성 기판을 열 처리하는 방법, 및 가요성 기판을 프로세싱하기 위한 방법이 제공된다. 본 개시내용의 추가적인 양상들, 이익들, 및 특징들은 청구항들, 상세한 설명, 및 첨부 도면들로부터 명백하다.
[0006] 본 개시내용의 양상에 따르면, 진공 챔버에서 사용하기 위한 열 처리 장치가 제공된다. 장치는 종 방향(longitudinal direction)으로 가요성 기판에 장력을 가하도록 구성된 운송 어레인지먼트를 포함하며, 여기서, 운송 어레인지먼트는 드럼, 및 가요성 기판을 120 ℃ 내지 180 ℃의 제1 온도로 가열하기 위해 드럼을 가열하도록 구성된 가열 디바이스를 포함한다.
[0007] 본 개시내용의 추가적인 양상에 따르면, 진공 챔버에서 사용하기 위한 열 처리 장치가 제공된다. 장치는, 종 방향으로 가요성 기판에 장력을 가하도록 구성된 운송 어레인지먼트, 및 가요성 기판을 120 ℃ 내지 180 ℃의 제1 온도로 가열하도록 구성된 드럼을 갖는 가열 디바이스를 포함한다.
[0008] 본 개시내용의 다른 양상에 따르면, 가요성 기판 상에 재료를 증착하기 위한 증착 장치가 제공된다. 장치는, 진공 챔버, 진공 챔버 내의 본 개시내용에 따른 열 처리 장치, 및 적어도 가요성 기판의 표면 상에 재료를 증착하기 위한 하나 이상의 증착 디바이스들을 포함하며, 구체적으로, 여기서, 가열 디바이스는 하나 이상의 증착 디바이스들 전에 포지셔닝된다.
[0009] 본 개시내용의 추가적인 양상에 따르면, 진공 챔버에서 가요성 기판을 열 처리하는 방법이 제공된다. 방법은, 가요성 기판을 운송하는 단계, 종 방향으로 가요성 기판에 장력을 가하는 단계, 및 드럼을 사용하여 가요성 기판을 120 ℃ 내지 180 ℃의 제1 온도로 가열하는 단계를 포함한다.
[0010] 본 개시내용의 더 추가적인 양상에 따르면, 가요성 기판을 프로세싱하기 위한 방법이 제공된다. 방법은, 가요성 기판을 운송하는 단계, 종 방향으로 가요성 기판에 장력을 가하는 단계, 드럼을 사용하여 가요성 기판을 120 내지 180 ℃의 제1 온도로 가열하는 단계, 및 적어도 가요성 기판의 표면 상에 재료를 증착하는 단계를 포함한다.
[0011] 실시예들은 또한, 개시되는 방법들을 수행하기 위한 장치들에 관한 것이고, 그리고 각각의 설명되는 방법 양상을 수행하기 위한 장치 부분들을 포함한다. 이들 방법 양상들은 하드웨어 컴포넌트들에 의해, 적절한 소프트웨어에 의해 프로그래밍된 컴퓨터에 의해, 이들 둘의 임의의 조합에 의해, 또는 임의의 다른 방식으로 수행될 수 있다. 게다가, 본 개시내용에 따른 실시예들은 또한, 설명되는 장치를 동작시키기 위한 방법들에 관한 것이다. 설명되는 장치를 동작시키기 위한 방법들은 장치의 모든 각각의 기능을 수행하기 위한 방법 양상들을 포함한다.
[0012] 본 개시내용의 상기 열거된 특징들이 상세히 이해될 수 있는 방식으로, 앞서 간략히 요약된 본 개시내용의 보다 구체적인 설명이 실시예들을 참조로 하여 이루어질 수 있다. 첨부 도면들은 본 개시내용의 실시예들에 관한 것이고, 아래에서 설명된다.
도 1은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른, 진공 챔버에서 사용하기 위한 열 처리 장치의 개략적인 단면도를 도시한다.
도 2는 본원에서 설명되는 추가적인 실시예들에 따른, 진공 챔버에서 사용하기 위한 열 처리 장치의 개략적인 단면도를 도시한다.
도 3은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른, 진공 챔버에서 가요성 기판을 열 처리하는 방법의 흐름도를 도시한다.
도 4a 및 도 4b는 가요성 기판의 수축을 예시한다.
도 5는 본원에서 설명되는 실시예들에 따른, 가요성 기판 상에 재료를 증착하기 위한 증착 장치의 개략적인 단면도를 도시한다.
도 6은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른, 가요성 기판을 프로세싱하기 위한 방법의 흐름도를 도시한다.
[0013] 이제, 본 개시내용의 다양한 실시예들이 상세히 참조될 것이고, 그 다양한 실시예들의 하나 이상의 예들이 도면들에 예시된다. 도면들의 아래의 설명 내에서, 동일한 참조 번호들은 동일한 컴포넌트들을 나타낸다. 일반적으로, 개별적인 실시예들에 대한 차이들만이 설명된다. 각각의 예는 본 개시내용의 설명으로서 제공되고, 본 개시내용의 제한으로서 의도되지 않는다. 추가로, 일 실시예의 부분으로서 예시 또는 설명되는 특징들은 더 추가적인 실시예를 생성하기 위해 다른 실시예들과 함께 또는 다른 실시예들에 대해 사용될 수 있다. 본 설명이 그러한 변형들 및 변화들을 포함하는 것으로 의도된다.
[0014] 가요성 기판, 이를테면 PET 막의 제조 프로세스는 머신 방향(MD; machine direction) 및/또는 횡 방향(TD)의 내부 응력 및 와인딩 경도 차이들과 같은, 기계적 특성들의 불-균일성을 초래할 수 있다. 더욱이, 더 높은 온도들에서 가요성 기판의 기계적 특성들에 상당한 변화가 있을 수 있다. 예컨대, PET 막들의 탄성 계수는 특정 온도 초과에서 급격하게 감소될 수 있고, 막 강도의 결과적인 감소는 막 취급에 악영향을 미친다. 이들 요인들은, 화학 기상 증착(CVD)에 필연적인 열 부하들과 같은 더 높은 프로세스 열 부하들에서 와인딩 성능(예컨대, 웨이브들, 주름 형성)에 큰 영향을 미친다.
[0015] 본 개시내용은 진공 하에서 가열식 와인딩을 통해 열 안정화를 제공하여, 가요성 기판, 이를테면 PET 막 또는 포일들이 특히 횡 방향에서 완화될 수 있게 한다. 안정화 프로세스는 가요성 기판에서 기계적 불-균일성들을 감소시킨다. 횡 방향의 와인딩 경도 불-균일성들이 제거될 수 있고, 웨이브들 및 주름들의 형성이 감소 또는 심지어 방지될 수 있다.
[0016] 도 1은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른, 진공 챔버(101)를 위한 열 처리 장치(100)의 개략적인 단면도를 도시한다.
[0017] 장치(100)는 종 방향으로 가요성 기판(10)에 장력을 가하도록 구성된 운송 어레인지먼트를 포함하며, 여기서, 운송 어레인지먼트는 드럼(110), 및 120 내지 180 ℃의 제1 온도로 가요성 기판(10)을 가열하기 위해 드럼(110)을 가열하도록 구성된 가열 디바이스를 포함한다. 장치(100)는 진공 챔버(101)에 제공될 수 있다. 일부 구현들에서, 장치(100)는 진공 챔버(101)를 포함할 수 있다. 구체적으로, 드럼(110)은 진공 챔버(101) 내부에 제공될 수 있고, 그에 따라, 열 처리가 진공에서 수행될 수 있다.
[0018] 드럼(110)은 가열가능 또는 가열식 드럼이다. 가열 디바이스는 드럼(110)을 가열하도록 구성되고, 그리고 특히, 드럼(110)의 지지 표면을 가열하도록 구성될 수 있다. 가열 디바이스는 드럼(100)에 통합될 수 있거나, 또는 개별적으로 제공될 수 있다. 예컨대, 가열 디바이스는, 복사 가열기, 저항성 가열기, 및 이들의 조합을 포함하는 그룹으로부터 선택될 수 있다. 드럼은 가요성 기판(10)과 접촉함으로써 가요성 기판을 가열할 수 있다.
[0019] 장력 및 진공 하의 가열식 와인딩을 통한 열 안정화는 가요성 기판(10)이, 예컨대 횡 방향(TD)에서 완화될 수 있게 한다. 횡 방향은 종 방향 및/또는 머시닝 방향(MD)에 본질적으로 수직일 수 있다. 가요성 기판(10)의 종 방향은, 운송 어레인지먼트에 의해 제공되는 운송 방향을 따라 정의될 수 있거나 또는 그 운송 방향에 평행하게 정의될 수 있고, 그리고/또는 머신 방향(MD)을 따라 정의될 수 있거나 또는 그 머신 방향(MD)에 평행하게 정의될 수 있다. 종 방향은 가요성 기판의 길이 연장을 따를 수 있다. 횡 방향(TD), 머시닝 방향(MD), 및 종 방향은 가요성 기판(10)의 표면, 이를테면 상부 표면 또는 하부 표면의 평면에서 정의될 수 있다. 운송 어레인지먼트는 가요성 기판(10)에 장력을 가하도록 구성될 수 있다.
[0020] 본 개시내용 전체에 걸쳐 사용되는 바와 같은 "진공"이라는 용어는, 예컨대 10 mbar 미만의 진공 압력을 갖는 기술적 진공의 의미로 이해될 수 있다. 하나 이상의 진공 펌프들, 이를테면 터보 펌프들 및/또는 크라이오-펌프(cryo-pump)들이 진공의 생성을 위해 진공 챔버에 연결될 수 있다. 본 개시내용 전체에 걸쳐 사용되는 바와 같은 "장력"이라는 용어는 가요성 기판에 가해지는 "견인력(pulling force)"의 의미로 이해될 수 있다. 구체적으로, "장력"은 "압축"의 반대이다. 본원에서 사용되는 바와 같은 "가요성 기판"이라는 용어는 가요성 기판들, 이를테면 막, 웹, 또는 포일을 포함할 것이다. 본원에서 설명되는 실시예들 내에서 사용되는 바와 같은 가요성 기판은 그 가요성 기판이 휘어질 수 있는 것을 특징으로 할 수 있다는 것이 여기서 유의된다.
[0021] 드럼(110)은 회전 축(105)을 중심으로 회전가능할 수 있다. 드럼(110)은 가요성 기판(10)을 지지하도록 구성된 지지 표면을 갖는다. 구체적으로, 드럼(110)은 진공 챔버(101)에서 열 처리 동안 가요성 기판(10)을 지지하도록 구성된다. "지지 표면"이라는 용어는 가요성 기판(10)을 지지하기 위해 가요성 기판(10)과 접촉하도록 구성된 표면을 지칭한다. 장치(100)는, 지지 표면과 접촉하는 가요성 기판(10)의 접촉 부분(또는 접촉 영역 또는 접촉 경로)의 종 방향 길이가 적어도 1 m, 구체적으로는 적어도 2 m, 그리고 더 구체적으로는 적어도 2.5 m가 되도록 구성될 수 있다. 예컨대, 접촉 부분의 길이는 1 m 내지 3 m의 범위, 구체적으로는 1.5 m 내지 2.5 m의 범위일 수 있고, 그리고 더 구체적으로는 약 2 m일 수 있다.
[0022] 지지 표면은 드럼(110)의 원주 표면, 이를테면 외측 원주 표면에 의해 제공될 수 있다. 일부 구현들에서, 드럼(110)은 실질적으로 원통형일 수 있으며, 여기서, 지지 표면은 실질적인 원통형 드럼의 원주 표면에 의해 제공될 수 있다. 지지 표면은 회전 축(105)에 대하여 대칭적일 수 있다. 예컨대, 지지 표면은 회전 축(105)을 중심으로 실질적으로 회전 대칭적일 수 있다. 드럼(110)은 또한, "기판 지지부"로서 지칭될 수 있다.
[0023] 운송 어레인지먼트는, 가요성 기판(10)이 전방 또는 후방으로 이동되도록, 회전 축(105)을 중심으로 드럼(110)을 회전시키도록 구성될 수 있다. 예컨대, 드럼(110)은 제1 방향, 및 제1 방향과 반대인 제2 방향으로 회전가능하다. 드럼(110)은 제1 방향으로의 드럼(110)의 회전 동안 가요성 기판(10)을 제1 온도로 가열하도록 구성될 수 있다. 제1 방향이 시계 방향일 수 있고, 제2 방향은 반시계 방향일 수 있거나, 또는 제1 방향이 반시계 방향일 수 있고, 제2 방향은 시계 방향일 수 있다. 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 드럼(110)은 제2 방향으로의 드럼(110)의 회전 동안 가요성 기판(10)을 제1 온도보다 더 낮은 제2 온도로 가열하도록 구성된다. 예컨대, 제2 온도는 50 내지 90 ℃의 범위일 수 있다.
[0024] 드럼(110), 그리고 특히 지지 표면은 회전 축(105)에 평행한 방향의 폭을 가질 수 있다. 폭은 드럼(110)의 주변부들, 그리고 특히 지지 표면의 주변부들 사이에서 정의될 수 있다. 폭은 적어도 300 mm, 구체적으로는 적어도 1 m, 그리고 더 구체적으로는 적어도 3 m일 수 있다. 예컨대, 폭은 300 mm 내지 5 m의 범위일 수 있고, 그리고 더 구체적으로는 400 mm 내지 4.5 m의 범위일 수 있다. 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 드럼(110)의 직경은 적어도 300 mm, 구체적으로는 적어도 0.5 m, 그리고 더 구체적으로는 적어도 1 m이다. 특히, 드럼(110)의 직경은 적어도 0.5 m일 수 있다. 직경은 300 mm 내지 3 m의 범위, 구체적으로는 400 mm 내지 2 m의 범위, 그리고 더 구체적으로는 400 mm 내지 1.8 m의 범위일 수 있다.
[0025] 도 2는 본원에서 설명되는 추가적인 실시예들에 따른, 진공 챔버를 위한 열 처리 장치의 개략적인 단면도를 도시한다.
[0026] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 운송 어레인지먼트는 제1 롤러(120) 및 제2 롤러(130)를 포함한다. 제1 롤러(120), 드럼(110), 및 제2 롤러(130)는 가요성 기판(10)의 운송 경로를 따라 순차적으로 배열될 수 있다. 제1 롤러(120)는 제1 회전 축(122)을 중심으로 회전가능할 수 있다. 마찬가지로, 제2 롤러(130)는 제2 회전 축(132)을 중심으로 회전가능할 수 있다. 드럼(110)의 회전 축(105), 제1 롤러(120)의 제1 회전 축(122), 및 제2 롤러(130)의 제2 회전 축(132)은 실질적으로 평행할 수 있다. "실질적으로 평행한"이라는 용어는 회전 축들의 실질적으로 평행한 배향에 관련되고, 여기서, 정확히 평행한 배향으로부터의 수 도, 예컨대 최대 5° 또는 심지어 최대 10°의 편차가 여전히, "실질적으로 평행한" 것으로 간주된다. 드럼(110)의 회전 축(105), 제1 롤러(120)의 제1 회전 축(122), 및 제2 롤러(130)의 제2 회전 축(132)은 실질적인 수평 회전 축들일 수 있다.
[0027] 제1 롤러(120)는 제1 방향, 그리고 선택적으로는 제2 방향으로 회전가능할 수 있으며, 제2 롤러(130)는 제1 방향, 그리고 선택적으로는 제2 방향으로 회전가능할 수 있다. 드럼(110), 제1 롤러(120), 및 제2 롤러(130)는 동일한 방향, 이를테면 제1 방향 또는 제2 방향으로 본질적으로 동기적으로 회전할 수 있다. 운송 어레인지먼트는, 가요성 기판(10)에 장력이 가해지도록, 드럼(110), 제1 롤러(120), 및 제2 롤러(130) 중 적어도 하나의 회전을 제어하도록 구성될 수 있다. 특히, 운송 어레인지먼트는 가요성 기판(10)의 운송 및/또는 열 처리 동안 가요성 기판(10)에 장력을 제공하도록 구성될 수 있다.
[0028] 일부 구현들에서, 제1 롤러(120) 및 제2 롤러(130)는, 와인딩 롤러, 언와인딩 롤러, 및 이들의 조합을 포함하는 그룹으로부터 선택될 수 있다. 예컨대, 드럼(110)이 제1 방향으로 회전할 때, 제1 롤러(120)는 언와인딩 롤러이고, 제2 롤러(130)는 와인딩 롤러이다. 마찬가지로, 드럼(110)이 제2 방향으로 회전할 때, 제1 롤러(120)는 와인딩 롤러일 수 있고, 제2 롤러(130)는 언와인딩 롤러일 수 있다.
[0029] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 장치는 제1 방향 및 제2 방향으로 드럼(110)(그리고 선택적으로는 제1 롤러(120) 및/또는 제2 롤러(130))을 순차적으로 회전시키도록 구성될 수 있다. 예컨대, 장치는 전방 방향으로의 가요성 기판(10)의 운송을 위해 제1 방향으로 드럼(110)을 회전시킨 후에, 후방 방향으로의 가요성 기판(10)의 운송을 위해 제2 방향으로 드럼(110)을 회전시키도록 구성될 수 있다. 도 2에 예시된 바와 같이, 전방 방향으로의 가요성 기판(10)의 운송 동안, 제1 롤러(120)는 언와인딩 롤러로서 작용할 수 있고, 제2 롤러(130)는 와인딩 롤러로서 작용할 수 있다. 후방 방향으로의 가요성 기판(10)의 운송 동안, 제1 롤러(120)는 와인딩 롤러로서 작용할 수 있고, 제2 롤러(130)는 언와인딩 롤러로서 작용할 수 있다.
[0030] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 장치, 그리고 특히 드럼(110)은 가요성 기판(10)을 제1 온도보다 더 낮은 제2 온도로 가열하도록 구성된다. 예컨대, 장치는 가요성 기판(10)을 먼저 제1 온도로 가열한 후에 제2 온도로 가열하도록 구성된다. 제1 온도는 120 ℃ 내지 180 ℃의 범위, 구체적으로는 130 ℃ 내지 170 ℃의 범위, 그리고 더 구체적으로는 140 ℃ 내지 160 ℃의 범위이다. 예컨대, 제1 온도는 약 150 ℃일 수 있다. 일부 구현들에서, 제2 온도는 40 ℃ 내지 100 ℃의 범위, 구체적으로는 50 ℃ 내지 90 ℃의 범위, 그리고 더 구체적으로는 60 ℃ 내지 80 ℃의 범위이다. 예컨대, 제2 온도는 약 70 ℃일 수 있다.
[0031] 장치, 그리고 특히 드럼(110)은 가요성 기판(10)을 제1 방향으로의 회전 동안 제1 온도로 가열하고, 제2 방향으로의 회전 동안 제2 온도로 가열하도록 구성될 수 있다. 2개의 상이한 온도들에서의 열 처리는 열-처리된 가요성 기판의 치수 안정성을 더 개선할 수 있다.
[0032] 장치는 종 방향으로 가요성 기판(10)에 장력을 가하도록 구성된다. 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 장력은 제1 롤러(120)와 드럼(110) 사이에서 가요성 기판(10)에 제공되는 제1 장력, 및 제2 롤러(130)와 드럼(110) 사이에서 가요성 기판(10)에 제공되는 제2 장력을 포함할 수 있다. 일부 구현들에서, 제1 장력과 제2 장력은 본질적으로 동일할 수 있다. 추가적인 구현들에서, 제1 장력과 제2 장력은 상이할 수 있다. 가요성 기판(10)은 드럼(110)과 기계적으로 접촉하고(즉, 지지 표면과 가요성 기판(10) 사이에 마찰력이 존재함), 그에 따라, 제1 장력과 제2 장력은 상이할 수 있다.
[0033] 일부 실시예들에 따르면, 언와인딩 롤러로서 작용하는 롤러와 드럼(110) 사이의 장력은 와인딩 롤러로서 작용하는 롤러와 드럼(110) 사이의 장력보다 더 클 수 있다. 일부 구현들에서, 언와인딩 롤러로서 작용하는 롤러와 드럼(110) 사이의 장력은 와인딩 롤러로서 작용하는 롤러와 드럼(110) 사이의 장력보다 적어도 1%, 구체적으로는 적어도 5%, 구체적으로는 적어도 10%, 그리고 더 구체적으로는 적어도 15%만큼 더 클 수 있다. 도 2의 예에서, 제1 롤러(120)는 언와인딩 롤러로서 작용하고, 제2 롤러(130)는 와인딩 롤러로서 작용한다. 제1 롤러(120)와 드럼(110) 사이의 제1 장력은 드럼(110)과 제2 롤러(130) 사이의 제2 장력보다 더 클 수 있다. 예컨대, 제1 장력은 약 750 N일 수 있고, 제2 장력은 약 730 N일 수 있다. 그러나, 본 개시내용은 이에 제한되지 않으며, 와인딩 롤러로서 작용하는 롤러와 드럼(110) 사이의 장력이 언와인딩 롤러로서 작용하는 롤러와 드럼(110) 사이의 장력보다 더 클 수 있다. 일부 구현들에서, 와인딩 롤러로서 작용하는 롤러와 드럼(110) 사이의 장력은 언와인딩 롤러로서 작용하는 롤러와 드럼(110) 사이의 장력보다 적어도 1%, 구체적으로는 적어도 5%, 구체적으로는 적어도 10%, 그리고 더 구체적으로는 적어도 15%만큼 더 클 수 있다.
[0034] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 장치, 그리고 특히 운송 어레인지먼트는, 200 N 내지 900 N의 범위, 구체적으로는 400 N 내지 900 N의 범위, 그리고 더 구체적으로는 700 N 내지 800 N의 범위의 장력, 이를테면 제1 장력 및/또는 제2 장력을 가요성 기판(10)에 가하도록 구성된다.
[0035] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 장치, 그리고 특히 운송 어레인지먼트는, 0.1 내지 5 m/min, 구체적으로는 0.1 내지 2 m/min, 그리고 구체적으로는 0.2 내지 1 m/min의 속도로, 가요성 기판(10)을 운송하도록 구성된다. 일부 구현들에서, 운송 어레인지먼트는, 0.1 m/min 내지 5m/min의 속도로 가요성 기판을 운송하기 위해, 드럼(110), 제1 롤러(120), 및 제2 롤러(130) 중 적어도 하나를 회전시키도록 구성될 수 있다.
[0036] 일부 실시예들에서, 운송 어레인지먼트는, 드럼(110), 제1 롤러(120), 및 제2 롤러(130)의 회전 방향에 기초하여, 가요성 기판(10)을 운송하도록 구성될 수 있다. 예컨대, 운송 어레인지먼트는, 드럼(110), 제1 롤러(120), 및 제2 롤러(130)가 제1 방향으로 회전할 때, 가요성 기판(10)을 제1 속도로 운송하고, 드럼(110), 제1 롤러(120), 및 제2 롤러(130)가 제2 방향으로 회전할 때, 가요성 기판(10)을 제2 속도로 운송하도록 구성될 수 있다. 다른 예들에서, 운송 어레인지먼트는, 드럼(110), 제1 롤러(120), 및 제2 롤러(130)가 제2 방향으로 회전할 때, 가요성 기판을 제1 속도로 운송하고, 드럼(110), 제1 롤러(120), 및 제2 롤러(130)가 제1 방향으로 회전할 때, 가요성 기판을 제2 속도로 운송하도록 구성될 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 제1 속도 및/또는 제2 속도는 0.1 내지 5 m/min의 범위, 구체적으로는 0.1 내지 2 m/min의 범위, 그리고 더 구체적으로는 0.2 내지 1 m/min의 범위일 수 있다.
[0037] 제1 속도와 제2 속도는 본질적으로 동일할 수 있거나 또는 상이할 수 있다. 예컨대, 제1 속도는 제2 속도보다 더 작을 수 있다. 구체적으로, 더 낮은 제1 속도는 가요성 기판(10)이 제1 온도로 가열될 때 사용될 수 있으며, 높은 제2 속도는 제1 온도보다 더 낮은 제2 온도로 가요성 기판(10)이 가열될 때 사용될 수 있다. 예컨대, 제1 속도는 약 0.2 m/min일 수 있고, 제1 온도는 약 150 ℃일 수 있고, 이 때, 언와인더/리와인더 장력들이 각각 750/730 N이다. 그러한 장력 값들은 125 μm 두께의 1270 mm-폭 PET 롤에 대해 특히 유익할 수 있다(상이한 두께들/폭들은 상이한 장력들을 가질 수 있음). 제2 속도는 약 1 m/min일 수 있고, 제2 온도는 약 70 ℃일 수 있고, 이 때, 언와인더/리와인더 장력들이 각각 750/730 N이다.
[0038] 도 3은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른, 진공 챔버에서 가요성 기판을 열 처리하는 방법(300)의 흐름도를 도시한다. 방법(300)은 도 1 및 도 2에 대하여 예시된 장치를 활용할 수 있고, 그 장치의 특징들을 구현할 수 있다.
[0039] 방법(300)은, 블록(310)에서, 가요성 기판을 운송하는 단계를 포함하고, 블록(320)에서, 종 방향으로 가요성 기판에 장력을 가하는 단계를 포함하며, 블록(330)에서, 드럼에 의해 가요성 기판을 120 ℃ 내지 180 ℃의 제1 온도로 가열하는 단계를 포함한다. 가요성 기판은 제1 방향, 그리고 선택적으로는 제1 방향과 반대인 제2 방향으로 드럼을 회전시킴으로써 운송될 수 있다.
[0040] 일부 실시예들에 따르면, 가요성 기판은, 제1 방향으로의 회전 동안 제1 온도로 가열되고, 제2 방향으로의 회전 동안 제1 온도보다 더 낮은 제2 온도로 가열된다. 제1 온도는 120 내지 180 ℃의 범위, 구체적으로는 130 내지 170 ℃의 범위, 그리고 더 구체적으로는 140 내지 160 ℃의 범위이다. 예컨대, 제1 온도는 약 150 ℃일 수 있다. 일부 구현들에서, 제2 온도는 40 ℃ 내지 100 ℃의 범위, 구체적으로는 50 ℃ 내지 90 ℃의 범위, 그리고 더 구체적으로는 60 ℃ 내지 80 ℃의 범위이다. 예컨대, 제2 온도는 약 70 ℃일 수 있다.
[0041] 일부 구현들에서, 200 N 내지 900 N의 장력이 종 방향으로 가요성 기판에 가해진다. 도 2에 대하여 설명된 바와 같이, 언와인딩 롤러로서 작용하는 롤러와 드럼 사이의 장력은 와인딩 롤러로서 작용하는 롤러와 드럼(110) 사이의 장력보다 더 클 수 있다.
[0042] 일부 실시예들에 따르면, 가요성 기판은 0.1 내지 5 m/min의 속도로 운송된다. 예컨대, 가요성 기판은, 제1 방향으로의 드럼의 회전 동안 제1 속도로 운송되고, 제2 방향으로의 드럼의 회전 동안 제1 속도보다 더 낮은 제2 속도로 운송된다. 제1 속도와 제2 속도는 본질적으로 동일할 수 있거나 또는 상이할 수 있다. 예컨대, 제1 속도는 제2 속도보다 더 작을 수 있다.
[0043] 본원에서 설명되는 실시예들에 따르면, 진공 챔버에서 가요성 기판을 열 처리하는 방법은, 컴퓨터 프로그램들, 소프트웨어, 컴퓨터 소프트웨어 제품들, 및 상관된 제어기들을 사용하여 실시될 수 있는데, 그 상관된 제어기들은 CPU, 메모리, 사용자 인터페이스, 및 본 개시내용에 따른 장치들의 대응하는 컴포넌트들과 통신하는 입력 및 출력 디바이스들을 가질 수 있다.
[0044] 도 4a 및 도 4b는 가요성 기판의 수축을 예시한다. 우수한 특성들 및 더 낮은 비용으로 인해, 박막 진공 증착 프로세스들에서 폴리에스테르(PET) 막들이 기판들로서 사용될 수 있다. 더 높은 프로세싱 온도들에서의 치수 안정성이 유익한 진보된 애플리케이션들(예컨대, 플렉서블 전자기기, 광전지, 평판 디스플레이들 등)의 경우, PET 막들은 매우 낮은 막 장력들이 가해진 상태로 고온 오프라인 오븐을 통과할 때 열 안정화될 수 있다. 도 4a에 예시된 바와 같이, PET 막 프로세싱에서 유발된 스트레인(strain)들의 완화 후에, 머신 방향(MD)과 횡 방향(TD) 둘 모두에서 수축이 감소된다. PET 막이 특정 온도에서 수축되었으면, 그 온도에 도달된 이상, 사실상, 더 이상의 수축은 발생되지 않는다. 예시적인 PET 막의 경우, 열 안정화 프로세스 온도가 150 ℃일 때, 150 ℃에서의 공칭 수축률(nominal shrinkage)은 MD/TD에서 각각 0.1/0.02%이다.
[0045] 그러나, 원시 PET 막 제조 프로세스는 횡 방향의 내부 응력 및 와인딩 경도 차이들과 같은, 기계적 특성들의 불-균일성을 초래한다. 더욱이, 더 높은 온도들에서 PET 막들의 기계적 특성들에 변화가 있을 수 있다. 특히, PET 막의 탄성 계수는, 예컨대 110 ℃ 초과에서 급격하게 감소될 수 있고, 막 강도의 결과적인 감소는 막 취급에 악영향을 미친다. 이들 요인들의 조합은, 예컨대, 고품질 SiNx 배리어 막들의 화학 기상 증착(CVD)에서 필연적인 열 부하들(코팅 드럼 온도가 약 120 ℃일 수 있음)과 같은 더 높은 프로세스 열 부하들에서 와인딩 성능(예컨대, 웨이브들, 주름 형성)에 큰 영향을 미칠 수 있다.
[0046] 본 개시내용의 실시예들은 가요성 기판들, 이를테면 PET 막들을 추가로 안정화시킬 수 있다. 특히, 본 개시내용은 진공 하에서 가열식 와인딩을 통해 열 안정화를 제공하여, 가요성 기판들, 이를테면 PET 포일들이 횡 방향에서 완화될 수 있게 한다. 안정화 프로세스 후의 수축은 안정화 프로세스 전의 수축보다 더 클 수 있고, CVD 프로세스 동안의 열 팽창에 대응할 수 있다. 안정화 프로세스는 막의 기계적 불-균일성들을 감소시킴으로써, 횡 방향의 와인딩 경도 불-균일성들을 제거하고, 결과적으로, 웨이브들 및 주름 형성을 방지한다.
[0047] 125 μm의 두께 및 1270 mm의 폭을 갖는 예시적인 가요성 기판(즉, 1270 mm-폭 롤)이, 150 ℃의 드럼 온도, 0.2 m/min의 웹 속도, 및 750/730 N의 언와인더/리와인더 장력들로, 제1 프로세스 페이즈(언와인딩)를 사용하여 열 처리되었다. 70 ℃의 드럼 온도, 1.0 m/min의 웹 속도, 및 750/730 N의 언와인더/리와인더 장력들로 제2 프로세스 페이즈(리와인딩)가 수행되었다.
[0048] 120 ℃의 코팅 드럼 온도를 이용한 프로세스 시퀀스(와인딩/리와인딩 및 CVD 증착) 전에 그리고 후에 측정된 예시적인 가요성 기판의 웹 폭은 약 1270 mm의 초기 웹 폭 및 1266 mm의 최종 웹 폭을 가졌다. CVD 프로세스 후의 일정한 웹 수축(대략 0.3%)이 발견되었다(도 4b에 예시됨). 진공-열-안정화된 PET 기판들을 사용하여 주름이 없는 CVD-코팅된(SiNx) 배리어 막들이 형성될 수 있다.
[0049] 도 5는 본원에서 설명되는 실시예들에 따른, 가요성 기판(10) 상에 재료를 증착하기 위한 증착 장치(500), 이를테면 롤-투-롤 증착 장치의 개략도를 도시한다.
[0050] 증착 장치(500)는 진공 챔버, 진공 챔버 내의 본 개시내용에 따른 열 처리 장치, 및 적어도 가요성 기판(10)의 표면 상에 재료를 증착하기 위한 하나 이상의 증착 디바이스들(530)을 포함한다. 열 처리 장치 및 하나 이상의 증착 디바이스들(530)은 동일한 진공 챔버 또는 별개의 진공 챔버들에 제공될 수 있다. 예시적인 실시예에서, 드럼 및 하나 이상의 증착 디바이스들(530)은 동일한 진공 챔버, 이를테면 진공 증착 챔버에 제공될 수 있거나, 또는 별개의 진공 챔버들, 이를테면 진공 처리 챔버 및 진공 증착 챔버에 각각 제공될 수 있다. 일부 구현들에서, 열 처리 장치가 내부에 위치되어 있는 진공 챔버는 증착을 위해 구성되지 않는다. 가요성 기판(10)은 릴로부터 와인딩되고, 드럼 상에서 장력 하에 열 처리되고, 다시 와인딩되어, 증착 장치(500)의 진공 증착 챔버 내에 로딩될 준비가 될 수 있다.
[0051] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 일부 실시예들에 따르면, 증착 장치(500)는 회전 축(511)을 중심으로 회전가능한 코팅 드럼(510)을 포함한다. 일부 예들에서, 드럼은 다른 드럼으로서 제공될 수 있다. 가열 디바이스, 그리고 특히 드럼은, 예컨대 가요성 기판(10)의 운송 방향(예컨대, 기판 이동 방향(1))에 대하여, 하나 이상의 증착 디바이스들 및/또는 코팅 드럼(510) 전에 포지셔닝될 수 있다. 다른 예들에서, 코팅 드럼(510)은 드럼일 수 있다. 특히, 코팅 드럼(510)은 드럼으로서 작용할 수 있고, 열 처리를 수행하기 위해 하나 이상의 증착 디바이스들(530)은 스위치 오프된다.
[0052] 하나 이상의 증착 디바이스들(530), 그리고 선택적으로는 하나 이상의 추가적인 프로세싱 디바이스들(532), 이를테면 하나 이상의 에칭 툴들은 코팅 드럼(510)에 인접하게 포지셔닝될 수 있다. 증착 장치(500)는 적어도 3개의 챔버 부분들, 이를테면 제1 챔버 부분(502), 제2 챔버 부분(504), 및 제3 챔버 부분(506)을 포함할 수 있다. 제3 챔버 부분(506), 또는 제2 챔버 부분(504)과 제3 챔버 부분(506)의 조합은, 본 개시내용의 진공 챔버, 이를테면 진공 증착 챔버 및/또는 진공 처리 챔버로서 구성될 수 있다. 하나 이상의 증착 디바이스들(530) 및 하나 이상의 추가적인 프로세싱 디바이스들(532)은 제3 챔버 부분(506)에 제공될 수 있다.
[0053] 가요성 기판(10)은, 예컨대 와인딩 샤프트를 갖는 제1 롤(564) 상에 제공된다. 기판 이동 방향(1)에 의해 표시된 바와 같이, 가요성 기판(10)은 제1 롤(564)로부터 언와인딩된다. 제1 챔버 부분(502)과 제2 챔버 부분(504)의 분리를 위해, 분리 벽(508)이 제공된다. 분리 벽(508)에는 가요성 기판(10)이 통과하게 하기 위한 갭 슬루스(gap sluice)들(509)이 추가로 제공될 수 있다. 제2 챔버 부분(504)과 제3 챔버 부분(506) 사이의 진공 플랜지(505)에는, 하나 이상의 프로세싱 툴들, 이를테면 하나 이상의 증착 디바이스들(530) 및 하나 이상의 추가적인 프로세싱 디바이스들(532)을 수용(take up)하기 위한 개구들이 제공될 수 있다.
[0054] 가요성 기판(10)은 증착 영역들(또는 코팅 영역들)을 통해 이동되며, 그 증착 영역들은 코팅 드럼(510)에 제공되고, 하나 이상의 증착 디바이스들(530)의 포지션들에 대응한다. 동작 동안, 코팅 드럼(510)은 회전 축(511)을 중심으로 회전하고, 그에 따라, 가요성 기판(10)이 기판 이동 방향(1)으로 이동한다. 일부 실시예들에 따르면, 가요성 기판(10)은, 제1 롤(564)로부터 코팅 드럼(510)으로 그리고 코팅 드럼(510)으로부터, 예컨대 와인딩 샤프트를 갖는 제2 롤(565)로, 1개, 2개, 또는 그 초과의 롤러들을 통해 가이딩되며, 가요성 기판(10)의 프로세싱 후에, 그 제2 롤(565) 상에 가요성 기판(10)이 와인딩된다.
[0055] 일부 구현들에서, 제1 챔버 부분(502)은 인터리프(interleaf) 챔버 부분 유닛(501)과 기판 챔버 부분 유닛(503)으로 분리된다. 인터리프 롤들(566) 및 인터리프 롤러들(567)은 증착 장치(500)의 모듈식 엘리먼트로서 제공될 수 있다. 증착 장치(500)는 가요성 기판(10)을 가열하기 위해 예열 유닛(540)을 더 포함할 수 있다. 추가로, 부가적으로 또는 대안적으로, 제3 챔버 부분(506)에 진입하기 전에 가요성 기판(10)을 플라즈마로 처리하기 위해, 전-처리 플라즈마 소스(542), 예컨대 RF 플라즈마 소스가 제공될 수 있다.
[0056] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 조합될 수 있는 더 추가적인 실시예들에 따르면, 선택적으로, 기판 프로세싱의 결과를 평가하기 위한 광학 측정 유닛(544), 및/또는 가요성 기판(10) 상에 전하를 적응시키기 위한 하나 이상의 이온화 유닛들(546)이 제공될 수 있다.
[0057] 일부 구현들에서, 코팅 드럼(510)은, 예컨대 기판 프로세싱 동안, 코팅 드럼(510)의 지지 표면을 냉각시키도록 구성된 냉각 디바이스를 포함한다. 지지 표면의 냉각은, 예컨대 코팅 프로세스 동안의 가요성 기판(10)의 열 손상을 감소시킬 수 있다. 일부 실시예들에 따르면, 코팅 드럼(510)은 이중-벽 코팅 드럼일 수 있다. 이중-벽 코팅 드럼의 2개의 벽들 사이에 냉각 액체가 제공될 수 있다. 2개의 벽들은 내측 벽 및 외측 벽일 수 있으며, 여기서, 외측 벽은 지지 표면을 제공할 수 있다.
[0058] 도 6은 본원에서 설명되는 실시예들에 따른, 가요성 기판을 프로세싱하기 위한 방법(600)의 흐름도를 도시한다.
[0059] 가요성 기판을 프로세싱하기 위한 방법(600)은, 진공 챔버에서 가요성 기판을 열 처리하는 방법(300), 그리고 특히, 가요성 기판을 운송하는 단계, 종 방향으로 가요성 기판에 장력을 가하는 단계, 및 드럼에 의해 가요성 기판을 120 ℃ 내지 180 ℃의 제1 온도로 가열하는 단계를 포함한다(블록(610)). 가요성 기판을 프로세싱하기 위한 방법(600)은 적어도 가요성 기판의 표면 상에 재료를 증착하는 단계를 더 포함한다(블록(620)). 재료는, 예컨대 CVD 프로세스를 사용하여 증착될 수 있다. 일부 실시예들에서, 배리어 막, 이를테면 SiNx 막이 진공-열 안정화된 가요성 기판 상에 증착될 수 있다.
[0060] 일부 실시예들에 따르면, 방법(600)은, 진공 증착 챔버에 제공된 프로세싱 영역을 통해 가요성 기판을 이동시키기 위해, 회전 축을 중심으로 코팅 드럼을 회전시키는 단계를 더 포함한다. 일부 구현들에서, 방법(600)은 프로세싱 영역에서 가요성 기판을 프로세싱하는 단계를 포함한다. 가요성 기판을 프로세싱하는 단계는, 가요성 기판 상에 재료 층을 증착하는 단계와 에칭 프로세스를 수행하는 단계 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
[0061] 본원에서 설명되는 실시예들에 따르면, 가요성 기판을 프로세싱하기 위한 방법은, 컴퓨터 프로그램들, 소프트웨어, 컴퓨터 소프트웨어 제품들, 및 상관된 제어기들을 사용하여 실시될 수 있는데, 그 상관된 제어기들은 CPU, 메모리, 사용자 인터페이스, 및 본 개시내용에 따른 장치들의 대응하는 컴포넌트들과 통신하는 입력 및 출력 디바이스들을 가질 수 있다.
[0062] 본 개시내용은 진공 하에서 가열식 와인딩을 통해 열 안정화를 제공하여, 가요성 기판, 이를테면 PET 막 또는 포일이 특히 횡 방향에서 완화될 수 있게 한다. 안정화 프로세스는 기계적 불-균일성들을 감소시킨다. 횡 방향의 와인딩 경도 불-균일성들이 제거될 수 있고, 웨이브들 및 주름들의 형성이 감소 또는 심지어 방지될 수 있다.
[0063] 전술한 바가 본 개시내용의 실시예들에 관한 것이지만, 본 개시내용의 다른 및 추가적인 실시예들이 본 개시내용의 기본적인 범위로부터 벗어나지 않으면서 고안될 수 있고, 본 개시내용의 범위는 다음의 청구항들에 의해 결정된다.

Claims (15)

  1. 진공 챔버에서 사용하기 위한 열 처리 장치로서,
    종 방향(longitudinal direction)으로 가요성 기판에 장력을 가하도록 구성된 운송 어레인지먼트(arrangement) ― 상기 운송 어레인지먼트는 드럼을 포함함 ―; 및
    상기 가요성 기판을 120 ℃ 내지 180 ℃의 제1 온도로 가열하기 위해 상기 드럼을 가열하도록 구성된 가열 디바이스
    를 포함하는,
    진공 챔버에서 사용하기 위한 열 처리 장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 드럼은 제1 방향, 및 상기 제1 방향과 반대인 제2 방향으로 회전가능하고, 그리고 상기 제1 방향으로의 회전 동안, 상기 가요성 기판을 상기 제1 온도로 가열하도록 구성되는,
    진공 챔버에서 사용하기 위한 열 처리 장치.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 드럼은 상기 제2 방향으로의 회전 동안, 상기 가요성 기판을 40 ℃ 내지 100 ℃의 제2 온도로 가열하도록 구성되는,
    진공 챔버에서 사용하기 위한 열 처리 장치.
  4. 제1 항 내지 제3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 운송 어레인지먼트는 제1 롤러 및 제2 롤러를 포함하며,
    상기 제1 롤러, 상기 드럼, 및 상기 제2 롤러는 상기 가요성 기판의 운송 경로를 따라 순차적으로 배열되는,
    진공 챔버에서 사용하기 위한 열 처리 장치.
  5. 제4 항에 있어서,
    상기 드럼이 상기 제1 방향으로 회전할 때, 상기 제1 롤러는 언와인딩 롤러(unwinding roller)이고, 상기 제2 롤러는 와인딩 롤러(winding roller)이며,
    상기 드럼이 상기 제2 방향으로 회전할 때, 상기 제1 롤러는 와인딩 롤러이고, 상기 제2 롤러는 언와인딩 롤러인,
    진공 챔버에서 사용하기 위한 열 처리 장치.
  6. 제1 항 내지 제5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 운송 어레인지먼트는 상기 가요성 기판에 200 내지 900 N의 장력을 가하도록 구성되는,
    진공 챔버에서 사용하기 위한 열 처리 장치.
  7. 제1 항 내지 제6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 운송 어레인지먼트는 0.1 내지 5 m/min의 속도로 상기 가요성 기판을 운송하도록 구성되는,
    진공 챔버에서 사용하기 위한 열 처리 장치.
  8. 가요성 기판 상에 재료를 증착하기 위한 증착 장치로서,
    진공 챔버;
    상기 진공 챔버 내의 제1 항 내지 제7 항 중 어느 한 항에 기재된 열 처리 장치; 및
    적어도 상기 가요성 기판의 표면 상에 재료를 증착하기 위한 하나 이상의 증착 디바이스들
    을 포함하며,
    상기 가열 디바이스는 상기 하나 이상의 증착 디바이스들 전에 포지셔닝되는,
    가요성 기판 상에 재료를 증착하기 위한 증착 장치.
  9. 진공 챔버에서 가요성 기판을 열 처리하는 방법으로서,
    상기 가요성 기판을 운송하는 단계;
    종 방향으로 상기 가요성 기판에 장력을 가하는 단계; 및
    드럼을 사용하여 상기 가요성 기판을 120 ℃ 내지 180 ℃의 제1 온도로 가열하는 단계
    를 포함하는,
    방법.
  10. 가요성 기판을 프로세싱하기 위한 방법으로서,
    상기 가요성 기판을 운송하는 단계;
    종 방향으로 상기 가요성 기판에 장력을 가하는 단계;
    드럼을 사용하여 상기 가요성 기판을 120 ℃ 내지 180 ℃의 제1 온도로 가열하는 단계; 및
    적어도 상기 가요성 기판의 표면 상에 재료를 증착하는 단계
    를 포함하는,
    방법.
  11. 제9 항 또는 제10 항에 있어서,
    상기 가요성 기판을 운송하는 단계는,
    상기 드럼을 제1 방향으로 회전시킨 후에, 상기 제1 방향과 반대인 제2 방향으로 회전시킴으로써, 상기 가요성 기판을 운송하는 단계를 포함하는,
    방법.
  12. 제11 항에 있어서,
    상기 가요성 기판은, 상기 제1 방향으로의 회전 동안, 상기 제1 온도로 가열되고, 상기 제2 방향으로의 회전 동안, 상기 제1 온도보다 더 낮은 제2 온도로 가열되는,
    방법.
  13. 제10 항 내지 제12 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 가요성 기판은 0.1 내지 5 m/min의 속도로 운송되는,
    방법.
  14. 제10 항 내지 제13 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 가요성 기판은, 상기 제1 방향으로의 상기 드럼의 회전 동안, 제1 속도로 운송되고, 상기 제2 방향으로의 상기 드럼의 회전 동안, 상기 제1 속도보다 더 낮은 제2 속도로 운송되는,
    방법.
  15. 제10 항 내지 제14 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 종 방향으로 200 N 내지 900 N의 장력이 상기 가요성 기판에 가해지는,
    방법.
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