KR20200009659A - 배기 가스 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판 처리 장치 등에서 배출되는 배기 가스를 정화할 수 있는 배기 가스 처리 장치에 관한 것으로서, 챔버와 연결되어 배기 가스를 정화하는 배기 가스 정화부; 및 상기 배기 가스 정화부에서 발생되는 이물질들을 포집하는 이물질 포집부;를 포함하고, 상기 이물질 포집부는, 상기 배기 가스 정화부와 연통되게 설치되고, 상기 이물질을 1차로 수용하는 제 1 수용부; 상기 제 1 수용부와 연통되게 설치되고, 상기 제 1 수용부에 수용된 상기 이물질을 외부로 배출시킬 수 있도록 상기 이물질을 2차로 수용하는 제 2 수용부; 및 상기 제 1 수용부와 상기 제 2 수용부 사이에 설치되는 제 1 차단 장치;를 포함할 수 있다.

Description

배기 가스 처리 장치{Processing apparatus of exhaust gas}
본 발명은 배기 가스 처리 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 기판 처리 장치 등에서 배출되는 배기 가스를 처리할 수 있는 배기 가스 처리 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 제조공정은 프로세스 챔버 내에 배치된 기판 또는 글래스에 박막을 증착하거나, 증착된 박막을 식각하는 공정을 반복적으로 수행한다. 이 때, 공정을 위해 프로세스 챔버 내부에는 공정 종류에 따라 실란, 아르신 및 염화 붕소 등의 유해 가스와 수소 등의 반응용 가스가 공급되고, 공정이 진행되는 동안 프로세스 챔버 내부에는 각종 발화성 가스와 부식성 이물질 및 유독 성분을 함유한 유해가스 등이 발생될 수 있다.
또한, 공급된 반응용 가스가 반응이 되지 않고 남아 있기도 한다. 이렇게 공정이 완료된 후 공정 챔버 내에 잔류하는 배기 가스는 진공 펌프 등을 통해 외부로 배기될 수 있다.
이러한, 배기 가스에 포함된 유해 성분들은 유독성, 부식성, 산화성이 강하여 대기로 여과 없이 배출될 경우, 인체와 환경은 물론 생산설비 자체에도 많은 문제점을 일으킬 우려가 있다.
이에 배기 가스를 대기로 배출시키기 전에 배기 가스에 포함된 유해한 성분을 정화시킬 필요가 있다.
이를 해결하고자 하는 종래의 기술로는, 대한민국 등록특허 제10-1275870에 개시된 바와 같이, 리모트 플라즈마 발생 장치를 이용하여 배기 가스의 유해 성분을 정화시키는 기술들이 개발된 바 있다.
그러나, 이러한 종래의 배기 가스 정화 장치들은, 유해한 성분을 정화하는 과정에서 발생되는 파티클 등의 이물질을 충분히 제거하기 어려워서 이러한 이물질들이 펌프에 악영향을 주는 등 많은 문제점들이 있었다.
본 발명의 사상은, 이러한 문제점들을 해결하기 위한 것으로서, 배기 가스 정화부와 이물질 포집부를 일체화하여 기밀성과 배기 가스 정화 능력을 향상시키고, 이물질 포집부는 제 1 수용부와 제 2 수용부를 구비하여 제 2 수용부에서 이물질을 제거하는 동안에도 제 1 수용부에서 연속적인 배기 가스 정화 동작이 가능하며, 이물질의 외부 배출을 용이하게 할 수 있고, 토로이달 형태의 리모트 플라즈마 발생 장치를 적용하여 제품의 성능을 향상시킬 수 있으며, 이물질 적층으로 인한 절연 부재의 쇼트를 방지할 수 있게 하는 배기 가스 처리 장치를 제공함에 있다. 그러나 이러한 과제는 예시적인 것으로서, 이에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 사상에 따른 배기 가스 처리 장치는, 챔버와 연결되어 배기 가스를 정화하는 배기 가스 정화부; 및 상기 배기 가스 정화부에서 발생되는 이물질들을 포집하는 이물질 포집부;를 포함하고, 상기 이물질 포집부는, 상기 배기 가스 정화부와 연통되게 설치되고, 상기 이물질을 1차로 수용하는 제 1 수용부; 상기 제 1 수용부와 연통되게 설치되고, 상기 제 1 수용부에 수용된 상기 이물질을 외부로 배출시킬 수 있도록 상기 이물질을 2차로 수용하는 제 2 수용부; 및 상기 제 1 수용부와 상기 제 2 수용부 사이에 설치되는 제 1 차단 장치;를 포함할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 이물질 포집부는, 상기 제 2 수용부는 상기 제 1 수용부의 일측에 설치되고, 배기 펌프는 상기 제 1 수용부의 타측에 설치되는 수평 배치식 몸체; 및 상기 제 2 수용부에 설치되는 제 2 차단 장치;를 더 포함하고, 상기 제 1 차단 장치 및 상기 제 2 차단 장치는, 이물질 수거용 트레이를 통과시킬 수 있는 수직형 게이트 밸브일 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 이물질 포집부는, 상기 제 2 수용부는 상기 제 1 수용부의 하측에 설치되고, 배기 펌프는 상기 제 1 수용부의 일측에 설치되는 수직 배치식 몸체;를 더 포함하고, 상기 제 1 차단 장치는, 상기 이물질을 낙하시킬 수 있는 수평형 게이트 밸브일 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 이물질 포집부는, 상기 제 2 수용부는 상기 제 1 수용부의 측하방에 설치되고, 배기 펌프는 상기 제 1 수용부의 일측에 설치되는 경사 배치식 몸체;를 더 포함하고, 상기 제 1 차단 장치는, 상기 이물질을 낙하시킬 수 있는 경사형 게이트 밸브일 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 경사형 게이트 밸브는, 상기 경사 배치식 몸체의 경사 저면에 형성된 주연부와 맞물리는 맞물림부가 형성되는 홀더형 도어;를 포함할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 배기 가스 정화부는, 플라즈마가 발생되고, 상기 이물질 포집부의 적어도 일부와 일체로 형성되는 반응 본체; 및 상기 반응 본체에 결합되어 일차 권선에 의해 상기 반응 본체로 플라즈마 발생을 위한 유도기전력을 형성하는 마그네틱 코어;를 포함할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 마그네틱 코어는 상기 반응 본체의 일부를 감싸는 형상으로 형성될 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 반응 본체는 중공형 형상이고, 환형의 플라즈마 방전 루프가 좌측 및 우측 또는 상측 및 하측에 각각 형성되도록 분기된 분기관이 형성될 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 분기관은, 상기 반응 본체의 상부에 형성되는 제 1 분기부; 상기 반응 본체의 하부에 형성되고, 상기 제 1 분기부와 외통 결합되는 제 2 분기부; 상기 제 1 분기부와 상기 제 2 분기부 사이에 형성되는 실링 부재; 및 상기 제 1 분기부와 상기 제 2 분기부 사이에 형성되고, 상기 실링 부재의 하방에 형성되며, 상기 배기 가스의 흐름으로부터 보호될 수 있도록 상기 제 1 분기부의 말단 높이 보다 높은 위치에 설치되는 절연 부재;를 포함할 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 배기 가스 정화부는, 상측에 제 1 배기 가스 정화부가 형성되고, 하부에 제 2 배기 가스 정화부가 형성되는 상하 다단형 배기 가스 정화부일 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 상기 배기 가스 정화부는, 좌측에 제 1 배기 가스 정화부가 형성되고, 우측에 제 2 배기 가스 정화부가 형성되는 좌우 다단형 배기 가스 정화부일 수 있다.
상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 일부 실시예들에 따르면, 배기 가스 정화부와 이물질 포집부를 일체화하여 기밀성과 배기 가스 정화 능력을 향상시키고, 이물질 포집부는 제 1 수용부와 제 2 수용부를 구비하여 제 2 수용부에서 이물질을 제거하는 동안에도 제 1 수용부에서 연속적인 배기 가스 정화 동작이 가능하며, 이물질의 외부 배출을 용이하게 할 수 있고, 토로이달 형태의 리모트 플라즈마 발생 장치를 적용하여 제품의 성능을 향상시킬 수 있으며, 이물질 적층으로 인한 절연 부재의 쇼트를 방지할 수 있는 효과를 갖는 것이다. 물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
도 1은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 배기 가스 처리 장치를 나타내는 단면도이다.
도 2 도 1의 배기 가스 처리 장치의 제 1 차단 장치를 나타내는 확대 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일부 다른 실시예들에 따른 배기 가스 처리 장치를 나타내는 단면도이다.
도 4는 도 1의 배기 가스 처리 장치의 A부분을 확대하여 나타내는 확대 단면도이다.
도 5는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배기 가스 처리 장치를 나타내는 단면도이다.
도 6은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배기 가스 처리 장치를 나타내는 단면도이다.
도 7은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배기 가스 처리 장치를 나타내는 단면도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 여러 실시예들을 상세히 설명하기로 한다.
본 발명의 실시예들은 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 하기 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 오히려 이들 실시예들은 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하고, 당업자에게 본 발명의 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다. 또한, 도면에서 각 층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장된 것이다.
본 명세서에서 사용된 용어는 특정 실시예를 설명하기 위하여 사용되며, 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 단수 형태는 문맥상 다른 경우를 분명히 지적하는 것이 아니라면, 복수의 형태를 포함할 수 있다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 경우 "포함한다(comprise)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급한 형상들, 숫자, 단계, 동작, 부재, 요소 및/또는 이들 그룹의 존재를 특정하는 것이며, 하나 이상의 다른 형상, 숫자, 동작, 부재, 요소 및/또는 그룹들의 존재 또는 부가를 배제하는 것이 아니다.
이하, 본 발명의 실시예들은 본 발명의 이상적인 실시예들을 개략적으로 도시하는 도면들을 참조하여 설명한다. 도면들에 있어서, 예를 들면, 제조 기술 및/또는 공차(tolerance)에 따라, 도시된 형상의 변형들이 예상될 수 있다. 따라서, 본 발명 사상의 실시예는 본 명세서에 도시된 영역의 특정 형상에 제한된 것으로 해석되어서는 아니 되며, 예를 들면 제조상 초래되는 형상의 변화를 포함하여야 한다.
이하, 본 발명의 여러 실시예들에 따른 배기 가스 처리 장치(100~500)들을 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 일부 실시예들에 따른 배기 가스 처리 장치(100)를 나타내는 단면도이고, 도 2는 도 1의 배기 가스 처리 장치(100)의 제 1 차단 장치(26)를 나타내는 확대 단면도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 배기 가스 처리 장치(100)는, 크게 배기 가스 정화부(10) 및 이물질 포집부(20)를 포함할 수 있다.
여기서, 상기 배기 가스 정화부(10)는, 챔버(1)의 배기 가스 배출구(1a)와 연결되어 배기 가스에 플라즈마 에너지나 정화 가스 등을 인가함으로써 배기 가스의 유해한 성분들을 연소시키거나 정화시킬 수 있는 구조체일 수 있다.
여기서, 이러한 상기 챔버(1)는 예를 들어, 포토레지스트를 제거하는 애싱(ashing) 챔버일 수 있고, 절연막을 증착시키도록 구성된 CVD(Chemical Vapor Deposition) 챔버일 수 있고, 인터커넥트 구조들을 형성하기 위해 절연막에 애퍼쳐(aperture)들이나 개구들을 에칭하도록 구성된 에칭 챔버일 수 있다. 또는 장벽(barrier) 막을 증착시키도록 구성된 PVD 챔버일 수 있으며, 금속막을 증착시키도록 구성된 PVD 챔버일 수 있다.
또한, 이러한 상기 챔버(1)는 웨이퍼 등의 기판(W)이 안착된 기판 지지대 등이 설치되고, 도시하지 않았지만, 플라즈마 공급부로부터 플라즈마를 공급받는 공급구 등이 설치될 수 있다.
한편, 더욱 구체적으로 예를 들면, 상기 배기 가스 정화부(10)는, 토로이달 형태, 즉 변압기 결합 형태의 리모트 플라즈마 발생 장치(RPG, remote plasma generator)를 이용할 수 있다.
즉, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 배기 가스 정화부(10)는, 플라즈마가 발생되고, 상기 이물질 포집부(20)의 적어도 일부와 일체로 형성되는 반응 본체(11) 및 상기 반응 본체(11)에 결합되어 일차 권선(13)에 의해 상기 반응 본체(11)로 플라즈마 발생을 위한 유도기전력을 형성하는 마그네틱 코어(12)를 포함할 수 있다. 여기서, 상기 마그네틱 코어(12)는 상기 반응 본체(11)의 일부를 감싸는 형상으로 형성될 수 있다.
또한, 예컨대, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 반응 본체(11)의 하부는 상기 이물질 포집부(20)의 상부와 일체로 형성되는 것으로서, 중간에 별도의 배기 가스 공급관이 불필요한 구조일 수 있다. 즉, 이를 통해서 부품의 개수를 줄이고, 기밀이 용이하며, 제작 및 설치를 용이하게 할 수 있다.
또한, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 반응 본체(11)는 중공형 형상이고, 환형의 플라즈마 방전 루프가 좌측 및 우측 또는 상측 및 하측에 각각 형성되도록 분기된 분기관이 형성될 수 있다.
이러한, 상기 분기관은, 점화 기전력이 형성될 수 있도록 크게 2개의 부분으로 나누어질 수 있는 것으로서, 예컨대, 상기 반응 본체(11)의 상부에 형성되는 제 1 분기부(11-1)와, 상기 반응 본체(11)의 하부에 형성되고, 상기 제 1 분기부(11-1)와 외통 결합되는 제 2 분기부(11-2)로 나누어질 수 있다.
또한, 상기 분기관은, 상기 제 1 분기부(11-1)과 상기 제 2 분기부(11-2) 사이의 기밀을 유지하고, 전기적으로 서로 절연될 수 있도록, 상기 제 1 분기부(11-1)와 상기 제 2 분기부(11-2) 사이에 형성되는 실링 부재(14) 및 상기 제 1 분기부(11-1)와 상기 제 2 분기부(11-2) 사이에 형성되고, 상기 실링 부재(14)의 하방에 형성되는 절연 부재(15)를 포함할 수 있다.
여기서, 후술될 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 절연 부재(15)는, 상기 배기 가스의 흐름(F)으로부터 보호될 수 있도록 상기 제 1 분기부(11-1)의 말단 높이(H1) 보다 높은 위치(H2)에 설치될 수 있다.
즉, 상기 배기 가스의 흐름(F)이 전체적으로 하방을 향하기 때문에 예를 들어서, 상기 배기 가스에 포함된 파티클 등의 이물질들이 상기 제 1 분기부(11-1)의 말단 높이(H1) 보다 높은 위치(H2)의 상기 절연 부재(15)까지 도달되기 어려워서 이물질의 적층 현상이 발생되는 것을 줄일 수 있고, 이로 인하여, 이물질 적층으로 인한 쇼트 현상을 방지할 수 있다.
한편, 도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 배기 가스 처리 장치(100)는, 상기 이물질(P)이 제거된 상기 배기 가스를 외부로 배출시키는 배기 펌프(30)를 더 포함할 수 있다.
따라서, 상술된 상기 배기 가스 정화부(10)와 상기 이물질 포집부(20)를 통해서 이물질(P)들이 제거된 정화된 가스는 상기 배기 펌프(30)에 악영향을 주지 않고 상기 배기 펌프(30)의 수명을 연장시킬 수 있다.
이러한 본 발명의 일부 실시예들에 따른 배기 가스 처리 장치(100)의 배기 가스 정화 과정을 설명하면, 상기 일차 권선(13)에 의해 상기 마그네틱 코어(12)에 유도기전력이 형성되면, 상기 반응 본체(11)에 환형의 플라즈마 방전 루프가 발생될 수 있다. 여기서, 상기 반응 본체(11)의 내부로 별도의 반응 가스가 공급될 수 있다.
이 때, 상기 챔버(1)의 상기 배기 가스 배출구(1a)를 통해 공정을 마친 상기 배기 가스가 상기 반응 본체(11)로 유입되면, 플라즈마 에너지를 인가받아 유해한 성분들이 산화 등의 반응으로 인해 연소되거나 정화될 수 있고, 이 과정에서 파티클 형태의 이물질들이 발생될 수 있다.
이러한, 상기 이물질들은 후술될 상기 이물질 포집부(20)에서 포집될 수 있다.
그러므로, 상기 배기 가스 정화부(10)와 상기 이물질 포집부(20)를 일체화하여 기밀성과 배기 가스 정화 능력을 향상시키고, 상기 이물질 포집부(20)는 상기 제 1 수용부(21)와 제 2 수용부(22)를 구비하여 상기 제 2 수용부(22)에서 이물질을 제거하는 동안에도 상기 제 1 수용부(21)에서 연속적인 배기 가스 정화 동작이 가능하며, 이물질의 외부 배출을 용이하게 할 수 있다.
또한, 상술된 상기 배기 가스 정화부(10)에 토로이달 형태의 리모트 플라즈마 발생 장치를 적용하여 제품의 성능을 향상시킬 수 있으며, 이물질 적층으로 인한 절연 부재의 쇼트를 방지할 수 있다.
또한, 예컨대, 도 1에 도시된 바와 같이, 상기 이물질 포집부(20)는, 상기 배기 가스 정화부(10)와 연통되게 설치되고, 상기 이물질(P)을 1차로 수용하는 제 1 수용부(21)와, 상기 제 1 수용부(21)와 연통되게 설치되고, 상기 제 1 수용부(21)에 수용된 상기 이물질(P)을 외부로 배출시킬 수 있도록 상기 이물질(P)을 2차로 수용하는 제 2 수용부(22) 및 상기 제 1 수용부(21)와 상기 제 2 수용부(22) 사이에 설치되는 제 1 차단 장치(26)를 포함할 수 있다.
여기서, 상기 제 2 수용부(22)는 상기 제 1 수용부(21)의 측하방에 설치되고, 상기 제 1 수용부(21)의 일측에 설치되는 경사 배치식 몸체(20-3)를 더 포함할 수 있다. 그리고, 상기 제 1 차단 장치(26)는, 상기 이물질(P)을 낙하시킬 수 있는 경사형 게이트 밸브일 수 있다.
더욱 구체적으로 예를 들면, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 경사형 게이트 밸브는, 상기 경사 배치식 몸체(20-3)의 경사 저면(C)에 형성된 주연부(M)와 맞물리는 맞물림부(N)가 형성되고, 선단에 실링 부재(S)가 형성되는 홀더형 도어(26-1)를 포함할 수 있다.
이 때, 상기 경사 배치식 몸체(20-3)와 상기 홀더형 도어(26-1) 사이에도 실링 부재(S)가 추가로 설치될 수 있고, 상기 경사 배치식 몸체(20-3)와 상기 홀더형 도어(26-1) 사이에 벨로우즈관(V)이 설치되어 기밀을 더욱 견고하게 유지할 수 있다.
따라서, 상기 배기 가스 정화부(10)에서 발생된 상기 이물질(P)들은 1차로 상기 제 1 수용부(21)의 상기 경사 저면(C) 상에 적층되어 상기 경사 저면(C)에 의해 상기 제 1 차단 장치(26) 방향으로 유도될 수 있다.
이어서, 상기 이물질(P)들이 충분히 적층되면, 상기 제 1 차단 장치(26)를 개방하여 상기 이물질(P)들을 낙하시켜서 제 2 수용부(22)로 이동시킬 수 있다.
이어서, 도시하진 않았지만, 별도의 게이트 밸브나 커버를 분해하여 상기 이물질(P)들을 외부로 배출시켜서 제거할 수 있다.
이 때, 상기 제 1 차단 장치(26)를 차단하여 이물질이 적층되는 과정을 장비의 중단없이 연속적으로 수행할 수 있다.
도 3은 본 발명의 일부 다른 실시예들에 따른 배기 가스 처리 장치(200)를 나타내는 단면도이고, 도 4는 도 1의 배기 가스 처리 장치(200)의 A부분을 확대하여 나타내는 확대 단면도이다.
먼저, 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 실시예들에 따른 배기 가스 처리 장치(200)의 이물질 포집부(20)는, 상술된 상기 배기 가스 정화부(10)와 일체화되어 상기 배기 가스 정화부(10)에서 발생되는 이물질(P)들을 포집하는 장치로서, 배기 가스로부터 이물질(P)을 분리하여 별도의 위치에 적층시키거나, 별도의 트레이(T) 내에 수용하여 이동시킬 수 있는 장치일 수 있다.
더욱 구체적으로 예를 들면, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 이물질 포집부(20)는, 상기 배기 가스 정화부(10)와 연통되게 설치되고, 상기 이물질(P)을 1차로 수용하는 제 1 수용부(21)와, 상기 제 1 수용부(21)와 연통되게 설치되고, 상기 제 1 수용부(21)에 수용된 상기 이물질(P)을 외부로 배출시킬 수 있도록 상기 이물질(P)을 2차로 수용하는 제 2 수용부(22) 및 상기 제 1 수용부(21)와 상기 제 2 수용부(22) 사이에 설치되는 제 1 차단 장치(23)를 포함할 수 있다.
또한, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 이물질 포집부(20)는, 상기 제 2 수용부(22)는 상기 제 1 수용부(21)의 일측에 설치되고, 배기 펌프(30)는 상기 제 1 수용부(21)의 타측에 설치되는 수평 배치식 몸체(20-1) 및 상기 제 2 수용부(22)에 설치되는 제 2 차단 장치(24)를 더 포함할 수 있다.
여기서, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 차단 장치(23) 및 상기 제 2 차단 장치(24)는, 이물질 수거용 트레이(T)를 통과시킬 수 있는 수직형 게이트 밸브일 수 있다.
따라서, 상기 배기 가스 정화부(10)에서 발생된 상기 이물질(P)들은 1차로 상기 제 1 수용부(21) 또는 상기 제 1 수용부(21)에 수용된 상기 트레이(T) 내부에 적층될 수 있다.
이어서, 상기 트레이(T) 내부에 상기 이물질(P)들이 충분히 적층되면, 상기 제 1 차단 장치(23)를 개방하여 상기 트레이(T)를 상기 제 2 수용부(22)로 수평 이동시키거나 교환시킬 수 있다. 이러한 수평 이동 과정은 별도의 이동 장치나 작업자의 수작업에 의해 수행될 수 있다.
이어서, 상기 제 2 차단 장치(24)를 개방하여 상기 트레이(T)를 외부로 배출시켜서 상기 이물질(P)을 제거할 수 있다.
이 때, 상기 제 1 차단 장치(23)를 차단하여 새로운 상기 트레이(T)에 이물질이 적층되는 과정을 장비의 중단 없이 연속적으로 수행할 수 있다.
도 5는 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배기 가스 처리 장치(300)를 나타내는 단면도이다.
도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 다른 실시예들에 따른 배기 가스 처리 장치(300)의 이물질 포집부(20)는, 상기 제 2 수용부(22)는 상기 제 1 수용부(21)의 하측에 설치되고, 배기 펌프(30)는 상기 제 1 수용부(21)의 일측에 설치되는 수직 배치식 몸체(20-2)를 더 포함하고, 상기 제 1 차단 장치(25)는, 상기 이물질을 낙하시킬 수 있는 수평형 게이트 밸브일 수 있다.
따라서, 상기 배기 가스 정화부(10)에서 발생된 상기 이물질(P)들은 1차로 상기 제 1 수용부(21)의 상기 제 1 차단 장치(25) 상에 적층될 수 있다.
이어서, 상기 이물질(P)들이 충분히 적층되면, 상기 제 1 차단 장치(25)를 개방하여 상기 이물질(P)들을 낙하시켜서 제 2 수용부(22)의 상기 트레이(T)의 내부로 이동시킬 수 있다.
이어서, 도시하진 않았지만, 별도의 게이트 밸브나 커버를 분해하여 상기 트레이(T)를 외부로 배출시켜서 상기 이물질(P)을 제거할 수 있다.
이 때, 상기 제 1 차단 장치(25)를 차단하여 이물질이 적층되는 과정을 장비의 중단없이 연속적으로 수행할 수 있다.
도 6은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배기 가스 처리 장치(400)를 나타내는 단면도이다.
도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배기 가스 처리 장치(400)의 배기 가스 정화부(10)는, 상측에 제 1 배기 가스 정화부(1010)가 형성되고, 하부에 제 2 배기 가스 정화부(1020)가 형성되는 상하 다단형 배기 가스 정화부(1000)일 수 있다.
따라서, 본 발명의 기술적 사상에 따르면, 상기 배기 가스 정화부(10)를 상하 다단으로 형성하여 배출되는 배기 가스의 양이 많거나 유해한 물질이 많거나 엄격해진 환경 조건에 충족시키기 위해서 정화 과정을 반복적으로 수행하기에 용이할 수 있다.
도 7은 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배기 가스 처리 장치(500)를 나타내는 단면도이다.
도 7에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일부 또 다른 실시예들에 따른 배기 가스 처리 장치(500)의 상기 가스 정화부(10)는, 좌측에 제 1 배기 가스 정화부(2010)가 형성되고, 우측에 제 2 배기 가스 정화부(2020)가 형성되는 좌우 다단형 배기 가스 정화부(2000)일 수 있다.
따라서, 본 발명의 기술적 사상에 따르면, 상기 배기 가스 정화부(10)를 좌우 다단으로 형성하여 배출되는 배기 가스의 양이 많거나 유해한 물질이 많거나 엄격해진 환경 조건에 충족시키기 위해서 정화 과정을 반복적으로 수행하기에 용이할 수 있다.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
1: 챔버
1a: 배기 가스 배출구
10: 배기 가스 정화부
11: 반응 본체
12: 마그네틱 코어
13: 일차 권선
11-1: 제 1 분기부
11-2: 제 2 분기부
14: 실링 부재
15: 절연 부재
20: 이물질 포집부
21: 제 1 수용부
22: 제 2 수용부
23, 25, 26: 제 1 차단 장치
24: 제 2 차단 장치
T: 이물질 수거용 트레이
20-1: 수평 배치식 몸체
20-2: 수직 배치식 몸체
20-3: 경사 배치식 몸체
C: 경사 저면
M: 주연부
N: 맞물림부
S: 실링 부재
26-1: 홀더형 도어
30: 배기 펌프
100: 배기 가스 처리 장치
1010, 2010: 제 1 배기 가스 정화부
1020, 2020: 제 2 배기 가스 정화부
1000: 상하 다단형 배기 가스 정화부
2000: 좌우 다단형 배기 가스 정화부

Claims (11)

  1. 챔버와 연결되어 배기 가스를 정화하는 배기 가스 정화부; 및
    상기 배기 가스 정화부에서 발생되는 이물질들을 포집하는 이물질 포집부;를 포함하고,
    상기 이물질 포집부는,
    상기 배기 가스 정화부와 연통되게 설치되고, 상기 이물질을 1차로 수용하는 제 1 수용부;
    상기 제 1 수용부와 연통되게 설치되고, 상기 제 1 수용부에 수용된 상기 이물질을 외부로 배출시킬 수 있도록 상기 이물질을 2차로 수용하는 제 2 수용부; 및
    상기 제 1 수용부와 상기 제 2 수용부 사이에 설치되는 제 1 차단 장치;
    를 포함하는, 배기 가스 처리 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 이물질 포집부는,
    상기 제 2 수용부는 상기 제 1 수용부의 일측에 설치되고, 배기 펌프는 상기 제 1 수용부의 타측에 설치되는 수평 배치식 몸체; 및
    상기 제 2 수용부에 설치되는 제 2 차단 장치;를 더 포함하고,
    상기 제 1 차단 장치 및 상기 제 2 차단 장치는, 이물질 수거용 트레이를 통과시킬 수 있는 수직형 게이트 밸브인, 배기 가스 처리 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 이물질 포집부는,
    상기 제 2 수용부는 상기 제 1 수용부의 하측에 설치되고, 배기 펌프는 상기 제 1 수용부의 일측에 설치되는 수직 배치식 몸체;를 더 포함하고,
    상기 제 1 차단 장치는, 상기 이물질을 낙하시킬 수 있는 수평형 게이트 밸브인, 배기 가스 처리 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 이물질 포집부는,
    상기 제 2 수용부는 상기 제 1 수용부의 측하방에 설치되고, 배기 펌프는 상기 제 1 수용부의 일측에 설치되는 경사 배치식 몸체;를 더 포함하고,
    상기 제 1 차단 장치는, 상기 이물질을 낙하시킬 수 있는 경사형 게이트 밸브인, 배기 가스 처리 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 경사형 게이트 밸브는,
    상기 경사 배치식 몸체의 경사 저면에 형성된 주연부와 맞물리는 맞물림부가 형성되는 홀더형 도어;를 포함하는, 배기 가스 처리 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 배기 가스 정화부는,
    플라즈마가 발생되고, 상기 이물질 포집부의 적어도 일부와 일체로 형성되는 반응 본체; 및
    상기 반응 본체에 결합되어 일차 권선에 의해 상기 반응 본체로 플라즈마 발생을 위한 유도기전력을 형성하는 마그네틱 코어;
    를 포함하는, 배기 가스 처리 장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 마그네틱 코어는 상기 반응 본체의 일부를 감싸는 형상으로 형성되는, 배기 가스 처리 장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 반응 본체는 중공형 형상이고, 환형의 플라즈마 방전 루프가 좌측 및 우측 또는 상측 및 하측에 각각 형성되도록 분기된 분기관이 형성되는, 배기 가스 처리 장치.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 분기관은,
    상기 반응 본체의 상부에 형성되는 제 1 분기부;
    상기 반응 본체의 하부에 형성되고, 상기 제 1 분기부와 외통 결합되는 제 2 분기부;
    상기 제 1 분기부와 상기 제 2 분기부 사이에 형성되는 실링 부재; 및
    상기 제 1 분기부와 상기 제 2 분기부 사이에 형성되고, 상기 실링 부재의 하방에 형성되며, 상기 배기 가스의 흐름으로부터 보호될 수 있도록 상기 제 1 분기부의 말단 높이 보다 높은 위치에 설치되는 절연 부재;
    를 포함하는, 배기 가스 처리 장치.
  10. 제 8 항에 있어서,
    상기 배기 가스 정화부는,
    상측에 제 1 배기 가스 정화부가 형성되고, 하부에 제 2 배기 가스 정화부가 형성되는 상하 다단형 배기 가스 정화부인, 배기 가스 처리 장치.
  11. 제 8 항에 있어서,
    상기 배기 가스 정화부는,
    좌측에 제 1 배기 가스 정화부가 형성되고, 우측에 제 2 배기 가스 정화부가 형성되는 좌우 다단형 배기 가스 정화부인, 배기 가스 처리 장치.
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