KR20200001086A - 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치 - Google Patents

반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20200001086A
KR20200001086A KR1020180073599A KR20180073599A KR20200001086A KR 20200001086 A KR20200001086 A KR 20200001086A KR 1020180073599 A KR1020180073599 A KR 1020180073599A KR 20180073599 A KR20180073599 A KR 20180073599A KR 20200001086 A KR20200001086 A KR 20200001086A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
scattering
weight
meth
hollow inorganic
particle size
Prior art date
Application number
KR1020180073599A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102194998B1 (ko
Inventor
변진석
이정규
이진영
서광석
장영래
Original Assignee
주식회사 엘지화학
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 엘지화학 filed Critical 주식회사 엘지화학
Priority to KR1020180073599A priority Critical patent/KR102194998B1/ko
Priority to US16/649,904 priority patent/US11624857B2/en
Priority to PCT/KR2019/007398 priority patent/WO2020004860A1/ko
Priority to EP19826403.8A priority patent/EP3660547B1/en
Priority to CN201980004319.2A priority patent/CN111065939B/zh
Priority to JP2020512876A priority patent/JP6925692B2/ja
Publication of KR20200001086A publication Critical patent/KR20200001086A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102194998B1 publication Critical patent/KR102194998B1/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K7/00—Use of ingredients characterised by shape
    • C08K7/22—Expanded, porous or hollow particles
    • C08K7/24—Expanded, porous or hollow particles inorganic
    • C08K7/26—Silicon- containing compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F265/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00
    • C08F265/04—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00 on to polymers of esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F265/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00
    • C08F265/04—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00 on to polymers of esters
    • C08F265/06—Polymerisation of acrylate or methacrylate esters on to polymers thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F292/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to inorganic materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/042—Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/0427—Coating with only one layer of a composition containing a polymer binder
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/046—Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K7/00—Use of ingredients characterised by shape
    • C08K7/22—Expanded, porous or hollow particles
    • C08K7/24—Expanded, porous or hollow particles inorganic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
    • C08L33/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
    • C09D4/06—Organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond in combination with a macromolecular compound other than an unsaturated polymer of groups C09D159/00 - C09D187/00
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0205—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
    • G02B5/0236—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place within the volume of the element
    • G02B5/0242—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place within the volume of the element by means of dispersed particles
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
    • G02B5/3041—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2301/00—Characterised by the use of cellulose, modified cellulose or cellulose derivatives
    • C08J2301/08—Cellulose derivatives
    • C08J2301/10—Esters of organic acids
    • C08J2301/12—Cellulose acetate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2333/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2333/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
    • C08J2333/06—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing only carbon, hydrogen, and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C08J2333/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2367/00—Characterised by the use of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Derivatives of such polymers
    • C08J2367/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2433/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2433/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2433/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
    • C08J2433/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters
    • C08J2433/06—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers esters of esters containing only carbon, hydrogen, and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C08J2433/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K2201/00—Specific properties of additives
    • C08K2201/002—Physical properties
    • C08K2201/005—Additives being defined by their particle size in general
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K2201/00—Specific properties of additives
    • C08K2201/011—Nanostructured additives
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K2201/00—Specific properties of additives
    • C08K2201/014—Additives containing two or more different additives of the same subgroup in C08K
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34—Silicon-containing compounds
    • C08K3/36—Silica

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

본 발명은 높은 내마모성 및 내스크래치성 등의 기계적 물성과 우수한 광학 특성을 갖는 저굴절층과 하드코팅층을 포함한 반사 방지 필름과 이를 포함한 편광판 및 디스플레이 장치에 관한 것이다.

Description

반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치{ANTI-REFLECTIVE FILM, POLARIZING PLATE, AND DISPLAY APPARATUS}
본 발명은 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치에 관한 것이다.
일반적으로 PDP, LCD 등의 평판 디스플레이 장치에는 외부로부터 입사되는 빛의 반사를 최소화하기 위한 반사 방지 필름이 장착된다. 빛의 반사를 최소화하기 위한 방법으로는 수지에 무기 미립자 등의 필러를 분산시켜 기재 필름 상에 코팅하고 요철을 부여하는 방법(anti-glare: AG 코팅); 기재 필름 상에 굴절율이 다른 다수의 층을 형성시켜 빛의 간섭을 이용하는 방법(anti-reflection: AR 코팅) 또는 이들을 혼용하는 방법 등이 있다.
그 중, 상기 AG 코팅의 경우 반사되는 빛의 절대량은 일반적인 하드 코팅과 동등한 수준이지만, 요철을 통한 빛의 산란을 이용해 눈에 들어오는 빛의 양을 줄임으로써 저반사 효과를 얻을 수 있다. 그러나, 상기 AG 코팅은 표면 요철로 인해 화면의 선명도가 떨어지기 때문에, 최근에는 AR 코팅에 대한 많은 연구가 이루어지고 있다.
상기 AR 코팅을 이용한 필름으로는 기재 필름 상에 하드 코팅층(고굴절율층), 저반사 코팅층 등이 적층된 다층 구조인 것이 상용화되고 있다. 그러나, 기존의 AR 코팅을 이용한 필름은 외부에서의 문지름이나 마찰 등에 의해 손상 또는 변형된 부분에서 반사율이 상승하여 시인성이 떨어지는 단점이 있다. 이에 따라, 외부의 영향으로 인해 일부 표면이 손상 또는 변형되더라도 반사율이 상승하지 않는 반사 방지 필름을 얻기 위해 많은 연구가 이루어지고 있다.
본 발명은 높은 내마모성 및 내스크래치성 등의 기계적 물성과 우수한 광학 특성을 가지면서도, 외부의 문지름이나 마찰 등에 의해 손상 또는 변형된 부분의 반사율 상승을 효과적으로 억제하는 반사 방지 필름을 제공하기 위한 것이다.
또한, 본 발명은 상기 반사 방지 필름을 포함하는 편광판을 제공하기 위한 것이다.
또한, 본 발명은 상기 반사 방지 필름을 포함하며 높은 화면의 선명도를 제공하는 디스플레이 장치를 제공하기 위한 것이다.
본 명세서에서는, 하드 코팅층; 및 유기 고분자 수지, 및 상기 유기 고분자 수지에 분산되고 상이한 입경을 갖는 2종 이상의 중공형 무기 입자를 포함하는 저굴절층을 포함하고, 상기 상이한 입경을 갖는 2종 이상의 중공형 무기 입자는, 입경 범위가 35nm 내지 61nm인 중공형 무기 입자 1종과, 입경 범위가 64nm 내지 100nm인 중공형 무기 입자 1종을 포함하고, X선 조사에 의한 소각 산란에서 정의되는 산란 벡터에 대한 산란 강도의 log값의 그래프에서, 0.128 내지 0.209 ㎚-1의 산란 벡터(qmax)에서 1개 이상의 피크를 나타내는 반사 방지 필름이 제공된다.
또한, 본 명세서에서는, 상기 반사 방지 필름을 포함하는 편광판이 제공된다.
또한, 본 명세서에서는, 상기 반사 방지 필름을 포함하는 디스플레이 장치가 제공될 수 있다.
이하 발명의 구체적인 구현예에 따른 반사 방지 필름 및 이를 포함하는 디스플레이 장치에 관하여 보다 상세하게 설명하기로 한다.
본 명세서에서, 저굴절층은 낮은 굴절률을 갖는 층을 의미할 수 있으며, 예를 들면, 550nm의 파장에서 약 1.2 내지 1.6의 굴절률을 나타내는 층을 의미할 수 있다.
또한, 중공형 무기 입자라 함은 무기 입자의 표면 및/또는 내부에 빈 공간이 존재하는 형태의 입자를 의미한다.
또한, (메트)아크릴레이트[(Meth)acrylate]는 아크릴레이트(acrylate) 및 메타크릴레이트(Methacrylate) 양쪽 모두를 포함하는 의미이다.
또한, (공)중합체는 공중합체(co-polymer) 및 단독 중합체(homo-polymer) 양쪽 모두를 포함하는 의미이다.
또한, 함불소 화합물은 화합물 중 적어도 1개 이상의 불소 원소가 포함된 화합물을 의미한다.
또한, 광중합성 화합물은 빛의 조사에 의해, 예를 들어 가시 광선 또는 자외선의 조사에 의해 중합된 고분자 화합물을 통칭한다.
발명의 일 구현예에 따르면, 하드 코팅층; 및 유기 고분자 수지, 및 상기 유기 고분자 수지에 분산되고 상이한 입경을 갖는 2종 이상의 중공형 무기 입자를 포함하는 저굴절층을 포함하고, 상기 상이한 입경을 갖는 2종 이상의 중공형 무기 입자는, 입경 범위가 35nm 내지 61nm인 중공형 무기 입자 1종과, 입경 범위가 64nm 내지 100nm인 중공형 무기 입자 1종을 포함하고, X선 조사에 의한 소각 산란에서 정의되는 산란 벡터에 대한 산란 강도의 log값의 그래프에서, 0.128 내지 0.209 ㎚-1의 산란 벡터(qmax)에서 1개 이상의 피크를 나타내는 반사 방지 필름이 제공될 수 있다.
이에, 본 발명자들은 반사 방지 필름에 관한 연구를 진행하여, 상이한 입경을 갖는 2종 이상의 중공형 무기 입자를 포함하는 저굴절층을 포함하고, X선 조사에 의한 소각 산란에서 정의되는 산란 벡터에 대한 산란 강도의 log값의 그래프에서, 0.128 내지 0.209 ㎚-1의 산란 벡터(qmax)에서 1개 이상의 피크를 나타내는 조건을 만족하는 반사 방지 필름은 외부의 문지름이나 마찰 등에 의해 손상 또는 변형된 부분의 반사율 상승을 효과적으로 억제할 수 있을 뿐만 아니라, 높은 내마모성 및 내스크래치성 등의 기계적 물성과 우수한 광학 특성을 갖는다. 이에 따라, 이를 디스플레이 장치에 사용하는 경우, 영상의 품질 저하 없이 장치 외부에서 입사되는 빛에 의한 눈부심 현상을 현저하게 개선할 수 있으며, 외부 충격 혹은 자극 등으로부터 장치 표면을 효과적으로 보호할 수 있다.
구체적으로, 반사 방지 필름이 X선 조사에 의한 소각 산란에서 정의되는 산란 벡터에 대한 산란 강도의 log값의 그래프에서, 0.128 내지 0.209 ㎚-1의 산란 벡터(qmax)에서 1개 이상의 산란 강도의 log값 피크를 나타낼 수 있는지 여부는 상기 반사 방지 필름의 내부 구조, 예를 들어 반사 방지 필름의 저굴절층에 포함되는 상이한 입경을 가지는 2종 이상의 중공형 무기 입자들 간의 평균적 거리에 관계될 수 있다.
X선 조사에 의한 소각 산란에서 정의되는 산란 벡터에 대한 산란 강도의 log값의 그래프에서, 0.128 내지 0.209 ㎚-1의 산란 벡터(qmax)에서 1개 이상의 피크를 나타내는 조건을 만족하는 반사 방지 필름은 외부의 문지름이나 마찰 등에 의해 손상 또는 변형된 부분의 반사율 상승을 효과적으로 억제하여 마찰 손상에 의한 반사율 상승이 0.2% 이하로 낮을 수 있다.
예를 들어, 상기 X선 조사에 의한 소각 산란에서 정의되는 산란 벡터에 대한 산란 강도의 log값의 그래프에서 0.128 ㎚-1 미만의 산란 벡터에서 피크를 나타내는 경우, 상기 반사 방지 필름에 포함되는 중공형 무기 입자들 간의 거리가 너무 멀어지는 등의 이유로 상기 반사 방지 필름의 굴절율이 높아지거나, 외부의 문지름이나 마찰 등에 의해 손상 또는 변형된 부분의 반사율이 크게 높아질 수 있다.
한편, 상기 X선 조사에 의한 소각 산란에서 정의되는 산란 벡터에 대한 산란 강도의 log값의 그래프에서 0.209 ㎚-1 초과의 산란 벡터에서 피크가 최초로 나타내는 경우, 상기 반사 방지 필름에 포함되는 중공형 무기 입자들 간의 거리가 너무 작게 되어, 상기 반사 방지 필름의 내마모성 및 내스크래치성 등의 기계적 물성이 저하되고, 외부의 문지름이나 마찰 등에 의해 손상 또는 변형된 부분의 반사율이 크게 높아질 수 있다.
상기 피크(peak)는 'X선 조사에 의한 소각 산란에서 정의되는 산란 벡터에 대한 산란 강도의 log값의 그래프'에서 상기 산란 강도의 log값이 위로 볼록하게 나타나는 극값이다. 이러한 극값 또는 변곡점은 상기 반사 방지 필름에 포함되는 유기 또는 무기 입자들의 배열에 의하여 산란이 극대화되는 지점일 수 있다.
상술한 바와 같이, 상기 구현예의 반사 방지 필름은 X선 조사에 의한 소각 산란에서 정의되는 산란 벡터에 대한 산란 강도의 log값의 그래프에서, 0.128 내지 0.209㎚-1의 산란 벡터(qmax)에서 1개 이상의 피크를 나타낼 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 구현예의 반사 방지 필름에 대한 X선 조사에 의한 소각 산란에서 정의되는 산란 벡터에 대한 산란 강도의 log값의 그래프에서 상기 0.128 내지 0.209 ㎚-1의 산란 벡터(qmax)의 범위는 상기 산란 벡터에 대한 산란 강도의 log값의 피크가 최초로 나타나는 지점일 수 있다.
상기 X선 조사에 의한 소각 산란에서 정의되는 산란 벡터는 하기 일반식 1로 정의된다.
[일반식 1]
q = 4π sinθ / λ
상기 일반식 1에서, q는 산란 벡터이고, θ는 산란 각도의 1/2값이며, λ는 조사된 X선의 파장이다.
구체적으로, 상기 X선 조사에 의한 소각 산란은 투과 모드 또는 스침각 X-선 소각 산란을 의미하며, 예를 들어 1cm*1cm (가로*세로)의 크기의 반사 방지 필름에 대하여 0.63 Å 내지 1.54 Å 의 파장의 X선을 4m의 거리에서 조사하여 측정할 수 있다.
예를 들어, X선 소각 산란분석(SAXS, Small Angle X-ray Scattering)은 포항가속기 4C 빔라인에서 시료에 X선을 투과시켜 산란벡터(q)에 따른 산란 강도를 측정하여 이루어질 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 소각 산란 측정은 검출기(Detector)와 약 4m 떨어진 위치에 시료를 놓고 X선을 입사하여 측정할 수 있으며, 수직 크기가 0.023 mm이고 수평 크기가 0.3 mm인 X선을 이용하고, 검출기로는 2D mar CCD를 이용할 수 있다. 또한, 산란되어 나오는 2D 회절 패턴을 이미지로 얻고, 이를 표준 시료(Standard Sample)를 통해 얻어진 시료와 검출기 사이의 거리(sample-to-detector distance)를 이용하여 교정(calibration)하고, circular average를 통하여 산란 벡터(q)에 따른 산란 강도를 환산할 수 있다.
한편, 상기 반사 방지 필름에 대한 X선 조사에 의한 소각 산란에서 정의되는 산란 벡터에 대한 산란 강도의 log값의 그래프에서, 0.128 내지 0.209 ㎚-1의 산란 벡터(qmax)에서 1개 이상의 피크를 나타내는 조건으로는, 상이한 입경 범위를 갖는 2종의 중공형 무기 입자를 7:3 내지 3:7의 중량비로 사용하는 것이나, 이로써 한정되는 것은 아니다.
이러한 조건이 달성되는 경우, 구체적으로, 상대적으로 입경이 큰 중공형 무기 입자들 사이에 상대적으로 입경이 작은 중공형 무기 입자가 배치되어 중공형 무기 입자의 배열이 이상적이 되어 무기 입자들 간의 평균적 거리를 가깝게 제어할 수 있다. 이로 인해, 상기 반사 방지 필름에 대한 X선 조사에 의한 소각 산란에서 정의되는 산란 벡터에 대한 산란 강도의 log값의 그래프에서, 0.128 내지 0.209 ㎚-1의 산란 벡터(qmax)에서 1개 이상의 피크를 나타내는 조건을 만족함에 따라, 외부의 문지름이나 마찰 등에 의해 손상 또는 변형된 부분의 반사율 상승을 효과적으로 억제하는 효과가 있다.
상기 구현예에 따른 상이한 입경을 갖는 2종 이상의 중공형 무기 입자는, 35nm 내지 61nm, 40 내지 60nm, 또는 45 내지 60nm의 입경 범위를 갖는 중공형 무기 입자 1종과, 64nm 내지 100nm, 65nm 내지 95nm, 또는 65nm 내지 90nm의 입경 범위를 갖는 중공형 무기 입자 1종을 포함할 수 있다. 상기 중공형 무기 입자의 입경 범위는 투과전자현미경(Transmission Electron Microscope, TEM)으로 측정될 수 있다. 상기 중공형 무기 입자의 입경이 35nm 미만이면 저굴절층의 굴절률이 높아져 반사율이 높아질 수 있고, 100nm 초과하면 저굴절층의 강도가 약해져서 내스크래치성이 저하될 수 있다.
상기 35nm 내지 61nm의 입경 범위를 갖는 중공형 무기 입자 1종과 64nm 내지 100nm의 입경 범위를 갖는 중공형 무기 입자 1종 간의 중량비는 7:3 내지 3:7, 6:4 내지 4:6, 또는 6.5:4.5 내지 5:5일 수 있다. 상기 중량비 범위를 만족하지 않으면, 중공형 무기 입자의 배열이 흐트러지게 되어 상기 산란 벡터에 대한 특성을 달성할 수 없으며, 이로 인해 외부의 문지름이나 마찰로 인하여 저굴절층의 평균 반사율이 상승할 수 있다.
상기 35nm 내지 61nm의 입경 범위를 갖는 중공형 무기 입자 1종과, 상기 64nm 내지 100nm의 입경 범위를 갖는 중공형 무기 입자 1종 간의 입경 차이는 3nm 내지 65nm, 5nm 내지 45nm, 또는 8nm 내지 30nm일 수 있다. 상기 입경 차이가 지나치게 작거나 크면 저굴절층이 외부의 문지름이나 마찰 등에 의해 손상 또는 변형된 부분의 반사율이 상승할 수 있다.
상기 입경 범위가 35nm 내지 61nm인 중공형 무기 입자 1종과, 입경 범위가 64nm 내지 100nm인 중공형 무기 입자 1종은 입경의 비율이 1:1.05 내지 2.85, 1:1.1 내지 2.25 또는 1:1.15 내지 2.0일 수 있다. 상기 비율을 만족하지 않는 경우 저굴절층이 외부의 문지름이나 마찰 등에 의해 손상 또는 변형된 부분의 반사율이 상승할 수 있다.
한편, 상기 중공형 무기 입자 각각은 표면에 (메트)아크릴레이트기, 에폭사이드기, 비닐기(Vinyl) 및 싸이올기(Thiol)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 반응성 작용기를 함유할 수 있다. 상기 중공형 무기 입자 각각이 표면에 상술한 반응성 작용기를 함유함에 따라서, 저굴절층은 보다 높은 가교도를 가질 수 있으며, 이에 따라 외부의 문지름이나 마찰 등에 의해 손상 또는 변형된 부분의 반사율 상승을 효과적으로 억제할 수 있고, 나아가 보다 향상된 내스크래치성 및 방오성을 확보할 수 있다.
상기 중공형 무기 입자는 그 표면이 함불소 화합물로 코팅될 수 있다. 상기 중공형 무기 입자의 표면이 함불소 화합물로 코팅되면 표면 에너지를 보다 낮출 수 있으며, 이에 따라 상기 저굴절층의 내구성이나 내스크래치성을 보다 높일 수 있다. 상기 중공형 무기 입자의 표면에 함불소 화합물을 코팅하는 방법으로 통상적으로 알려진 입자 코팅 방법이나 중합 방법 등을 큰 제한 없이 사용할 수 있으며, 예를 들어, 상기 중공형 무기 입자 및 함불소 화합물을 물과 촉매의 존재 하에서 졸-겔 반응 시켜서 가수 분해 및 축합 반응을 통하여 상기 중공형 무기 입자의 표면에 함불소 화합물을 결합시킬 수 있다.
상기 중공형 무기 입자의 구체적인 예로는 중공 실리카 입자를 들 수 있다. 상기 중공 실리카는 유기 용매에 보다 용이하게 분산되기 위해서 표면에 치환된 소정의 작용기를 포함할 수 있다. 상기 중공 실리카 입자 표면에 치환 가능한 유기 작용기의 예가 크게 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 (메트)아크릴레이트기, 비닐기, 히드록시기, 아민기, 알릴기(allyl), 에폭시기, 히드록시기, 이소시아네이트기, 아민기 또는 불소 등이 상기 중공 실리카 표면에 치환될 수 있다.
한편, 상기 저굴절층에 포함되는 유기 고분자 수지는, 광중합성 화합물의 (공)중합체 및 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물 간의 가교 (공)중합체를 포함할 수 있다.
상기 광중합성 화합물의 (공)중합체는 저굴절층의 바인더 수지의 기재를 형성할 수 있으며, 구체적으로, 상기 광중합성 화합물은 (메트)아크릴레이트 또는 비닐기를 포함하는 단량체 또는 올리고머를 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 광중합성 화합물은 (메트)아크릴레이트 또는 비닐기를 1 이상, 또는 2 이상, 또는 3 이상 포함하는 단량체 또는 올리고머를 포함할 수 있다.
상기 (메트)아크릴레이트를 포함한 단량체 또는 올리고머의 구체적인 예로는, 펜타에리스리톨 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리스리톨 헵타(메트)아크릴레이트, 트릴렌 디이소시아네이트, 자일렌 디이소시아네이트, 헥사메틸렌 디이소시아네이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 폴리에톡시 트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸롤프로판트리메타크릴레이트, 에틸렌글리콜 디메타크릴레이트, 부탄디올 디메타크릴레이트, 헥사에틸 메타크릴레이트, 부틸 메타크릴레이트 또는 이들의 2종 이상의 혼합물이나, 또는 우레탄 변성 아크릴레이트 올리고머, 에폭사이드 아크릴레이트 올리고머, 에테르아크릴레이트 올리고머, 덴드리틱 아크릴레이트 올리고머, 또는 이들의 2종 이상의 혼합물을 들 수 있다. 이때 상기 올리고머의 중량평균분자량은 1,000 내지 10,000일 수 있다. 한편, 상기 비닐기를 포함하는 단량체 또는 올리고머의 구체적인 예로는, 디비닐벤젠, 스티렌 또는 파라메틸스티렌을 들 수 있다.
구체적으로, 상기 광중합성 화합물의 (공)중합체는 2 내지 4관능성 (메트)아크릴레이트계 모노머 및 5 내지 6관능성 (메트)아크릴레이트계 모노머를 포함하는 다관능성 (메트)아크릴레이트계 모노머의 공중합체를 포함할 수 있다.
상기 2 내지 4관능성 (메트)아크릴레이트계 모노머는 중심에 펜타에리트리톨 구조를 가질 수 있으며, 그 종류는 이로써 한정하는 것은 아니나, 예를 들어, 펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트 또는 이들의 혼합물일 수 있다. 구체적으로, 중심에 펜타에리트리톨 구조를 상기 2 내지 4관능성 (메트)아크릴레이트계 모노머는 하기 화학식 1일 수 있다.
[화학식 1]
Figure pat00001
상기 화학식 1에서,
R1 내지 R4는 히드록시기; (메타)아크릴레이트기; 또는 치환 또는 비치환된 C1-40 알콕시기이고, 단, 이들 중 적어도 하나 이상이 (메타)아크릴레이트기이다.
한편, 상기 5 내지 6관능성 (메트)아크릴레이트계 모노머는 중심에 디펜타에리트리톨 구조를 가질 수 있으며, 그 종류는 이로써 한정하는 것은 아니나, 예를 들어, 디펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트 또는 이들의 혼합물일 수 있다. 구체적으로, 중심에 디펜타에리트리톨 구조를 갖는 상기 5 내지 6관능성 (메트)아크릴레이트계 모노머는 하기 화학식 2일 수 있다.
[화학식 2]
Figure pat00002
상기 화학식 2에서,
R11 내지 R16은 히드록시기; (메타)아크릴레이트기; 또는 치환 또는 비치환된 C1-40 알콕시기이고, 단, 이들 중 적어도 하나 이상이 (메타)아크릴레이트기이다.
상기 화학식 1 및 2에 따르면, 상기 펜타에리트리톨 구조를 갖는 2 내지 4관능성 (메트)아크릴레이트계 모노머는 디펜타에리트리톨 구조를 갖는 5 내지 6관능성 (메트)아크릴레이트계 모노머에 비해 대략 2배의 중량평균분자량 및 부피를 가지므로, 상기 공중합체에서 중량평균분자량 및 부피가 상대적으로 큰 (메타)아크릴레이트와 중량평균분자량 및 부피가 상대적으로 작은 (메타)아크릴레이트가 단위 부피 내에서 채우기 밀도(packing density)를 최대화할 수 있으므로 가교도가 높아질 수 있을 뿐만 아니라 자유부피(free volume)를 최소화할 수 있다.
또한, 상기 2 내지 4관능성 (메트)아크릴레이트계 모노머와 5 내지 6관능성 (메트)아크릴레이트계 모노머가 9:1 내지 6:4, 8.5:1.5 내지 6.5:3.5, 또는 8:2 내지 7:3의 중량비로 가교 중합됨으로 인해, 공중합체의 가교도가 최대로 높아지고 이를 포함하는 저굴절층의 자유 부피(free volume)가 최소화될 수 있다. 이로 인해, 저굴절층에 외부의 문지름이나 마찰이 가해진 부분의 반사율 상승이 방지될 수 있다.
상기 2 내지 4 관능성 (메타)아크릴레이트 및 5 내지 6 관능성 (메타)아크릴레이트가 9:1 내지 6:4의 중량비로 가교 중합된 공중합체는 125nm3 부피 내에서의 자유 부피가 420 Å3 이하일 수 있다. 상기 공중합체의 125nm3 부피 내에서의 자유 부피가 420 Å3 초과일 경우, 외부의 문지름이나 마찰 등에 의해 손상 또는 변형된 부분의 반사율 상승을 막을 수 없다.
또한, 상기 공중합체를 포함하는 저굴절층의 가교도는 85% 이상, 85 내지 99%, 90 내지 99%, 또는 95 내지 99%일 수 있다. 상기 가교 밀도가 85% 미만이면 상기 저굴절층이 외부의 문지름이나 마찰 등에 의해 손상 또는 변형된 부분의 반사율이 상승할 수 있다.
한편, 상기 저굴절층에는 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물로부터 유래한 부분이 포함될 수 있다.
상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물에는 1 이상의 광반응성 작용기가 포함 또는 치환될 수 있으며, 상기 광반응성 작용기는 빛의 조사에 의하여, 예를 들어 가시 광선 또는 자외선의 조사에 의하여 중합 반응에 참여할 수 있는 작용기를 의미한다. 상기 광반응성 작용기는 빛의 조사에 의하여 중합 반응에 참여할 수 있는 것으로 알려진 다양한 작용기를 포함할 수 있으며, 이의 구체적인 예로는 (메트)아크릴레이트기, 에폭사이드기, 비닐기(Vinyl) 또는 싸이올기(Thiol)를 들 수 있다.
상기 저굴절층의 유기 고분자 수지에 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물이 포함됨에 따라 보다 낮은 반사율 및 향상된 투광율을 가질 수 있고 아울러 외부의 문지름이나 마찰 등에 의해 손상 또는 변형된 부분의 반사율 상승을 효과적으로 억제할 수 있다.
상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물 각각은 2,000 내지 200,000, 또는 5,000 내지 100,000의 중량평균분자량(GPC법에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량)을 가질 수 있다. 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물의 중량평균분자량이 너무 작으면, 상기 광경화성 코팅 조성물에서 함불소 화합물들이 표면에 균일하고 효과적으로 배열하지 못하고 최종 제조되는 저굴절층의 내부에 위치하게 되는데, 이에 따라 상기 저굴절층의 표면이 갖는 방오성이 저하되고 상기 저굴절층의 가교 밀도가 낮아져서 전체적인 강도나 내크스래치성 등의 기계적 물성이 저하될 수 있다. 또한, 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물의 중량평균분자량이 너무 높으면, 상기 광경화성 코팅 조성물에서 다른 성분들과의 상용성이 낮아질 수 있고, 이에 따라 최종 제조되는 저굴절층의 헤이즈가 높아지거나 광투과도가 낮아질 수 있으며, 상기 저굴절층의 강도 또한 저하될 수 있다.
상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물은 1 내지 60중량%, 2 내지 50중량%, 또는 3 내지 40중량%의 불소를 포함할 수 있다. 상기 불소의 함량이 1중량% 미만이면 상기 저굴절층의 표면으로 불소 성분이 충분히 배열하지 못하여 표면 슬립성이 떨어질 수 있으며, 60중량%를 초과하면 상기 저굴절층의 내스크래치 특성이 저하되거나 외부 마찰에 의한 반사율 상승이 발생할 수 있다.
상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물은 규소 또는 규소 화합물을 더 포함할 수 있다. 즉, 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물은 선택적으로 내부에 규소 또는 규소 화합물을 함유할 수 있고, 구체적으로 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물 중 규소의 함량은 0.1 내지 20중량%, 0.5 내지 18중량%, 또는 1 내지 15중량%일 수 있다. 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물에 포함되는 규소는 상기 저굴절층에 헤이즈(haze)가 발생하는 것을 방지하여 투명도를 높이는 역할을 할 수 있다. 한편, 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물 중 규소의 함량이 너무 커지면, 상기 저굴절층이 갖는 내알칼리성이 저하될 수 있다.
구체적으로, 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물은 i) 하나 이상의 광반응성 작용기가 치환되고, 적어도 하나의 탄소에 1 이상의 불소가 치환된 지방족 화합물 또는 지방족 고리 화합물; ii) 1 이상의 광반응성 작용기로 치환되고, 적어도 하나의 수소가 불소로 치환되고, 하나 이상의 탄소가 규소로 치환된 헤테로(hetero) 지방족 화합물 또는 헤테로(hetero)지방족 고리 화합물; iii) 하나 이상의 광반응성 작용기가 치환되고, 적어도 하나의 실리콘에 1이상의 불소가 치환된 폴리디알킬실록산계 고분자(예를 들어, 폴리디메틸실록산계 고분자); iv) 1 이상의 광반응성 작용기로 치환되고 적어도 하나의 수소가 불소로 치환된 폴리에테르 화합물, 또는 상기 i) 내지 iv) 중 2 이상의 혼합물 또는 이들의 공중합체를 들 수 있다.
상기 저굴절층은 상기 광중합성 화합물의 (공)중합체 100중량부에 대하여 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물 1 내지 300중량부, 10 내지 250중량부, 또는 20 내지 200중량부를 포함할 수 있다. 상기 광중합성 화합물의 (공)중합체 대비 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물의 함량이 20 중량부 미만이면 상기 저굴절층의 표면 슬립성이 저하될 수 있으며, 300 중량부 초과하면 내스크래치 특성이 저하되거나 외부의 문지름이나 마찰 등에 의해 손상 또는 변형된 부분의 반사율이 상승할 수 있다.
한편, 상기 저굴절층의 구체적인 예로는, 2 내지 4 관능성 (메트)아크릴레이트계 모노머 및 5 내지 6 관능성 (메트)아크릴레이트계 모노머를 포함하는 다관능성 (메트)아크릴레이트계 모노머의 공중합체를 포함한 유기 고분자 수지; 및 상기 유기 고분자 수지에 분산되고, 상이한 입경을 갖는 2종 이상의 중공형 무기 입자를 포함할 수 있다.
또한, 상술한 저굴절층은 광중합성 화합물, 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물, 상이한 입경을 갖는 2종 이상의 중공형 무기 입자 및 광개시제를 포함한 광경화성 코팅 조성물로부터 제조될 수 있다. 구체적으로, 상기 광경화성 코팅 조성물을 소정의 기재 상에 도포하고 도포된 결과물을 광중합 함으로서 얻어질 수 있다. 상기 기재의 구체적인 종류나 두께는 크게 한정되는 것은 아니며, 하드 코팅층 또는 반사 방지 필름의 제조에 사용되는 것으로 알려진 기재를 큰 제한 없이 사용할 수 있다.
한편, 상기 광경화성 코팅 조성물을 도포하는데 통상적으로 사용되는 방법 및 장치를 별 다른 제한 없이 사용할 수 있으며, 예를 들어, 메이어바(Meyer bar)등의 바 코팅법, 그라비아 코팅법, 2 roll reverse 코팅법, vacuum slot die 코팅법 등을 사용할 수 있다.
상기 광경화성 코팅 조성물을 광중합시키는 단계에서는 300 내지 800nm 파장의 자외선 또는 가시광선을 조사할 수 있고, 조사시 노광량은 100 내지 4,000 mJ/㎠ 일 수 있다. 노광 시간도 특별히 한정되는 것이 아니고, 사용되는 노광 장치, 조사 광선의 파장 또는 노광량에 따라 적절히 변화시킬 수 있다. 또한, 상기 광중합성 코팅 조성물을 광중합 시키는 단계에서는 질소 대기 조건을 적용하기 위하여 질소 퍼징 등을 할 수 있다.
상기 저굴절층은 상기 광중합성 화합물의 (공)중합체 100중량부 대비 상기 상이한 입경을 갖는 2종 이상의 중공형 무기 입자를 30 내지 500 중량부, 50 내지 450 중량부, 또는 60 내지 400 중량부로 포함할 수 있다. 상기 2종 이상의 중공형 무기 입자의 함량이 30 중량부 미만이면 저굴절층의 반사율이 높아질 수 있고, 500 중량부를 초과하면 유기 고분자 수지의 함량 저하로 인하여 내스크래치성이 저하되거나 외부의 문지름이나 마찰 등에 의해 손상 또는 변형된 부분의 반사율이 상승할 수 있다.
한편, 상기 하드 코팅층은 통상적으로 알려진 하드 코팅층을 큰 제한 없이 사용할 수 있다.
상기 하드 코팅층의 일 예로서, 광경화성 수지를 포함하는 바인더 수지; 및 상기 바인더 수지에 분산된 유기 또는 무기 미립자를 포함하는 하드 코팅층을 들 수 있다.
상기 하드 코팅층에 포함되는 광경화형 수지는 자외선 등의 광이 조사되면 중합 반응을 일으킬 수 있는 광경화형 화합물의 중합체로서, 당업계에서 통상적인 것일 수 있다. 구체적으로, 상기 광경화성 수지는 우레탄 아크릴레이트 올리고머, 에폭사이드 아크릴레이트 올리고머, 폴리에스터 아크릴레이트, 및 폴리에테르 아크릴레이트로 이루어진 반응성 아크릴레이트 올리고머 군; 및 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 하이드록시 펜타아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 트리메틸렌 프로필 트리아크릴레이트, 프로폭시레이티드 글리세롤 트리아크릴레이트, 트리메틸프로판 에톡시 트리아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 프로폭시레이티드 글리세로 트리아크릴레이트, 트리프로필렌 글리콜 디아크릴레이트, 및 에틸렌글리콜 디아크릴레이트로 이루어진 다관능성 아크릴레이트 단량체 군에서 선택되는 1 종 이상을 포함할 수 있다.
상기 유기 또는 무기 미립자는 입경의 구체적으로 한정되는 것은 아니나, 예들 들어 유기 미립자는 1 내지 10㎛의 입경을 가질 수 있으며, 상기 무기 입자는 1㎚ 내지 500㎚, 또는 1㎚ 내지 300㎚의 입경을 가질 수 있다. 상기 유기 또는 무기 미립자는 입경은 부피 평균 입경으로 정의될 수 있다.
또한, 상기 하드 코팅층에 포함되는 유기 또는 무기 미립자의 구체적인 예가 한정되는 것은 아니나, 예를 들어 상기 유기 또는 무기 미립자는 아크릴계 수지, 스티렌계 수지, 에폭사이드 수지 및 나일론 수지로 이루어진 유기 미립자이거나 산화규소, 이산화티탄, 산화인듐, 산화주석, 산화지르코늄 및 산화아연으로 이루어진 무기 미립자일 수 있다.
상기 하드 코팅층의 바인더 수지는 중량평균분자량 10,000 이상의 고분자량 (공)중합체를 더 포함할 수 있다.
상기 고분자량 (공)중합체는 셀룰로스계 폴리머, 아크릴계 폴리머, 스티렌계 폴리머, 에폭사이드계 폴리머, 나일론계 폴리머, 우레탄계 폴리머, 및 폴리올레핀계 폴리머로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.
한편, 상기 하드 코팅층의 또 다른 일 예로서, 광경화성 수지의 유기 고분자 수지; 및 상기 유기 고분자 수지에 분산된 대전 방지제를 포함하는 하드 코팅층을 들 수 있다.
상기 대전 방지제는 4급 암모늄염 화합물; 피리디늄염; 1 내지 3개의 아미노기를 갖는 양이온성 화합물; 설폰산 염기, 황산 에스테르 염기, 인산 에스테르 염기, 포스폰산 염기 등의 음이온성 화합물; 아미노산계 또는 아미노 황산 에스테르계 화합물 등의 양성 화합물; 이미노 알코올계 화합물, 글리세린계 화합물, 폴리에틸렌 글리콜계 화합물 등의 비이온성 화합물; 주석 또는 티타늄 등을 포함한 금속 알콕사이드 화합물 등의 유기 금속 화합물; 상기 유기 금속 화합물의 아세틸아세토네이트 염 등의 금속 킬레이트 화합물; 이러한 화합물들의 2종 이상의 반응물 또는 고분자화물; 이러한 화합물들의 2종 이상의 혼합물일 수 있다. 여기서, 상기 4급 암모늄염 화합물은 분자 내에 1개 이상의 4급 암모늄염기를 가지는 화합물일 수 있으며, 저분자형 또는 고분자형을 제한 없이 사용할 수 있다.
또한, 상기 대전 방지제로는 도전성 고분자와 금속 산화물 미립자도 사용할 수 있다. 상기 도전성 고분자로는 방향족 공액계 폴리(파라페닐렌), 헤테로고리식 공액계의 폴리피롤, 폴리티오펜, 지방족 공액계의 폴리아세틸렌, 헤테로 원자를 함유한 공액예의 폴리아닐린, 혼합 형태 공액계의 폴리(페닐렌 비닐렌), 분자중에 복수의 공액 사슬을 갖는 공액계인 복쇄형 공액계 화합물, 공액 고분자 사슬을 포화 고분자에 그래프트 또는 블록 공중합시킨 도전성 복합체 등이 있다. 또한, 상기 금속 산화물 미립자로는 산화 아연, 산화 안티몬, 산화 주석, 산화 세륨, 인듐 주석 산화물, 산화 인듐, 산화 알루니뮴, 안티몬 도핑된 산화 주석, 알루미늄 도핑된 산화 아연 등을 들 수 있다.
상기 광중합성 수지의 유기 고분자 수지; 및 상기 유기 고분자 수지에 분산된 대전 방지제를 포함하는 하드 코팅층은 알콕시 실란계 올리고머 및 금속 알콕사이드계 올리고머로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물을 더 포함할 수 있다.
상기 알콕시 실란계 화합물은 당업계에서 통상적인 것일 수 있으나, 예를 들어 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라이소프로폭시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 메타크릴록시프로필트리메톡시실란, 글리시독시프로필 트리메톡시실란 및 글리시독시프로필 트리에톡시실란으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물일 수 있다.
또한, 상기 금속 알콕사이드계 올리고머는 금속 알콕사이드계 화합물 및 물을 포함하는 조성물의 졸-겔 반응을 통해 제조할 수 있다. 상기 졸-겔 반응은 전술한 알콕시 실란계 올리고머의 제조 방법에 준하는 방법으로 수행할 수 있다. 다만, 상기 금속 알콕사이드계 화합물은 물과 급격하게 반응할 수 있으므로, 상기 금속 알콕사이드계 화합물을 유기용매에 희석한 후 물을 천천히 드로핑하는 방법으로 상기 졸-겔 반응을 수행할 수 있다. 이때, 반응 효율 등을 감안하여, 물에 대한 금속 알콕사이드 화합물의 몰비(금속이온 기준)는 3 내지 170인 범위 내에서 조절하는 것일 수 있다.
여기서, 상기 금속 알콕사이드계 화합물은 티타늄 테트라-이소프로폭사이드, 지르코늄 이소프로폭사이드 및 알루미늄 이소프로폭사이드로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물일 수 있다.
한편, 상기 반사 방지 필름은 상기 하드 코팅층의 다른 일면에 결합된 기재를 더 포함할 수 있다. 상기 기재는 광 투과도가 90% 이상이고, 헤이즈 1% 이하인 투명 필름일 수 있다. 또한, 상기 기재의 소재는 트리아세틸셀룰로오스, 사이클로올레핀중합체, 폴리아크릴레이트, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등일 수 있다. 또한, 상기 기재 필름의 두께는 생산성 등을 고려하여 10 내지 300㎛일 수 있으나, 이에 한정하는 것은 아니다.
또한, 상기 반사방지 필름은 상기 저굴절층과 하드 코팅층 사이에 추가적인 기능층이 더 포함될 수도 있다.
구체적으로, 상기 반사 방지 필름은 파장 400㎚ 내지 800㎚에서 측정되는 두께 방향의 리타데이션(Rth)이 3,000 ㎚ 이상, 또는 5,000 ㎚ 이상, 또는 5,000 ㎚ 내지 20,000 ㎚인 광투과성 기재를 기능층으로 더 포함할 수 있다.
이러한 광투과성 기재의 구체적인 예로는 일축 연신 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 또는 이축 연신 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 들 수 있다.
상기 반사 방지 필름이 상기 파장 400㎚ 내지 800㎚에서 측정되는 두께 방향의 리타데이션이 3,000 ㎚ 이상, 또는 5,000 ㎚ 이상, 또는 5,000 ㎚ 내지 20,000 ㎚인 광투과성 기재를 포함하는 경우, 3000nm 이하의 리타데이션을 사용할 경우에 비하여 가시광선의 간섭에 의한 레인보우 현상이 완화될 수 있다.
두께 방향의 리타데이션은 통상적으로 알려진 측정 방법 및 측정 장치를 통하여 확인할 수 있다. 예를 들어, 두께 방향의 리타데이션의 측정 장치로는 AXOMETRICS사제의 상품명 「엑소스캔(AxoScan) 등을 들 수 있다.
예를 들어, 두께 방향의 리타데이션의 측정 조건으로는, 상기 광투과성 기재 필름에 대하여, 굴절률(589nm)값을 상기 측정 장치에 입력한 후, 온도: 25℃, 습도: 40％의 조건 하, 파장 590nm의 광을 사용하여, 광투과성 기재 필름의 두께 방향의 리타데이션을 측정하고, 구해진 두께 방향의 리타데이션 측정값(측정 장치의 자동 측정(자동 계산)에 의한 측정값)에 기초하여, 필름의 두께 10㎛당 리타데이션 값으로 환산함으로써 구할 수 있다. 또한, 측정 시료의 광투과성 기재의 사이즈는, 측정기의 스테이지의 측광부(직경: 약 1cm)보다도 크면 되기 때문에, 특별히 제한되지 않지만, 세로: 76mm, 가로 52mm, 두께 13㎛의 크기로 할 수 있다.
또한, 두께 방향의 리타데이션의 측정에 이용하는 「상기 광투과성 기재의 굴절률(589nm)」의 값은, 리타데이션의 측정 대상이 되는 필름을 형성하는 광투과성 기재와 동일한 종류의 수지 필름을 포함하는 미연신 필름을 형성한 후, 이러한 미연신 필름을 측정 시료로서 사용하고(또한, 측정 대상이 되는 필름이 미연신 필름인 경우에는, 그 필름을 그대로 측정 시료로서 사용할 수 있음), 측정 장치로서 굴절률 측정 장치(가부시끼가이샤 아타고제의 상품명 「NAR-1T SOLID」)를 사용하며, 589nm의 광원을 사용하고, 23℃의 온도 조건에서, 측정 시료의 면 내 방향(두께 방향과는 수직인 방향)의 589nm의 광에 대한 굴절률을 측정하여 구할 수 있다.
발명의 다른 구현예에 따르면, 상기 반사 방지 필름을 포함하는 편광판이 제공될 수 있다. 상기 편광판은 편광막과 상기 편광막의 적어도 일면에 형성된 반사 방지 필름을 포함할 수 있다.
상기 편광막의 재료 및 제조방법은 특별히 한정하지 않으며, 당 기술분야에 알려져 있는 통상적인 재료 및 제조방법을 사용할 수 있다. 예를 들어, 상기 편광막은 폴리비닐알코올계 편광막일 수 있다.
상기 편광막과 반사방지 필름 사이에는 보호 필름이 구비될 수 있다. 상기 보호 필름의 예가 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 COP(cycloolefin polymer)계 필름, 아크릴계 필름, TAC(triacetylcellulose)계 필름, COC(cycloolefin copolymer)계 필름, PNB(polynorbornene)계 필름 및 PET(polyethylene terephtalate)계 필름 중 어느 하나 이상일 수 있다.
상기 보호필름은 상기 반사방지 필름의 제조시 단일 코팅층을 형성하기 위한 기재가 그대로 사용될 수도 있다. 상기 편광막과 상기 반사방지필름은 수계 접착제 또는 비수계 접착제 등의 접착제에 의하여 합지될 수 있다.
발명의 또 다른 구현예에 따르면, 상술한 반사 방지 필름을 포함하는 디스플레이 장치가 제공될 수 있다. 상기 디스플레이 장치의 구체적인 예가 한정되는 것은 아니며, 예를 들어 액정표시장치 (Liquid Crystal Display]), 플라즈마 디스플레이 장치, 유기발광 다이오드 장치(Organic Light Emitting Diodes) 등의 장치일 수 있다.
하나의 일 예로, 상기 디스플레이 장치는 서로 대향하는 1쌍의 편광판; 상기 1쌍의 편광판 사이에 순차적으로 적층된 박막트랜지스터, 컬러필터 및 액정셀; 및 백라이트 유닛을 포함하는 액정디스플레이 장치일 수 있다.
상기 디스플레이 장치에서 상기 반사 방지 필름은 디스플레이 패널의 관측자측 또는 백라이트측의 최외각 표면에 구비될 수 있다.
상기 반사 방지 필름을 포함하는 디스플레이 장치는, 1쌍의 편광판 중에서 상대적으로 백라이트 유닛과 거리가 먼 편광판의 일면에 반사 방지 필름이 위치할 수 있다.
또한, 상기 디스플레이 장치는 디스플레이 패널, 상기 패널의 적어도 일면에 구비된 편광막 및 상기 편광막의 패널과 접하는 반대측 면에 구비된 반사방지 필름을 포함할 수 있다.
본 발명에 따르면, 높은 내마모성 및 내스크래치성 등의 기계적 물성과 우수한 광학 특성을 가지면서도, 외부의 문지름이나 마찰 등에 의해 손상 또는 변형된 부분의 반사율 상승을 억제하는 반사 방지 필름과, 상기 반사 방지 필름을 포함한 편광판과, 상기 반사 방지 필름을 포함하는 디스플레이 장치를 제공할 수 있다.
발명을 하기의 실시예에서 보다 상세하게 설명한다. 단, 하기의 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기의 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다.
< 제조예1 내지 3: 하드코팅층의 제조>
제조예 1
펜타에리스리톨 트리아크릴레이트 30g, 고분자량 공중합체(BEAMSET 371, Arakawa사, 에폭시 아크릴레이트(중량평균분자량 40,000) 2.5g, 메틸에틸케톤 20g 및 레벨링제(Tego wet 270) 0.5g을 균일하게 혼합하게 혼합한 이후에 굴절률이 1.525인 아크릴-스티렌 공중합체 수지 미립자(부피 평균 입경: 2㎛, 제조사: Sekisui Plastic) 2g을 첨가하여 하드 코팅 조성물을 제조하였다.
이와 같이 얻어진 하드 코팅 조성물을 트리아세틸 셀룰로스 필름에 #10 mayer bar로 코팅하고 90℃에서 1분 건조하였다. 이러한 건조물에 150 mJ/㎠의 자외선을 조사하여 4㎛의 두께를 갖는 하드 코팅층을 제조하였다.
제조예 2
제조예1의 하드 코팅 조성물을 두께 80㎛, 리타데이션 10000nm인 PET필름에 #10 mayer bar로 코팅하고 60℃에서 1분 건조하였다. 이러한 건조물에 150 mJ/㎠의 자외선을 조사하여 4㎛의 두께를 갖는 하드 코팅층을 제조하였다.
제조예 3
KYOEISHA사 염타입의 대전 방지 하드 코팅액(고형분 50중량%, 제품명: LJD-1000)을 트리아세틸 셀룰로스 필름에 #10 mayer bar로 코팅하고 90℃에서 1분 건조 한 이후, 150 mJ/㎠의 자외선을 조사하여 약 5㎛의 두께를 갖는 하드 코팅층을 제조하였다.
< 실시예 1 내지 6: 반사방지 필름의 제조>
실시예 1
트리메틸올프로판 트리아크릴레이트(TMPTA) 100중량부에 대하여, 제1 중공형 실리카 나노 입자(동적 광산란법 측정 입경: 53.1nm) 40 중량부, 제 2 중공형 실리카 나노 입자 (동적 광산란법 측정 입경: 73.5nm) 78 중량부, 함불소 화합물(RS-90, DIC) 15중량부, 및 개시제 (Irgacure 127, Ciba사) 25중량부를, MIBK(methyl isobutyl ketone)용매에 고형분 농도 3.0 중량%가 되도록 희석하여 광경화성 코팅 조성물을 제조하였다.
상기 제조예 1의 하드 코팅 필름 상에, 광경화성 코팅 조성물을 #4 mayer bar로 두께가 약 110 내지 120㎚가 되도록 코팅하고, 60℃에서 1분동안 건조 및 경화하여 반사 방지 필름을 제조하였다. 상기 경화 시에는 질소 퍼징 하에서 상기 건조된 코팅물에 252 mJ/㎠의 자외선을 조사하였다.
실시예 2
펜타에리트리톨 트리아크릴레이트(PETA)와 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트(DPHA)의 혼합 바인더 100중량부 (PETA:DPHA의 혼합비는 7:3)에 대하여, 제1 중공형 실리카 나노 입자(동적 광산란법 측정 입경: 50.2nm) 60 중량부, 제 2 중공형 실리카 나노 입자 (동적 광산란법 측정 입경: 71.7nm) 80 중량부, 함불소 화합물(RS-907, DIC) 32중량부, 및 개시제 (Irgacure 127, Ciba사) 29.3중량부를, MIBK(methyl isobutyl ketone)용매에 고형분 농도 3.3 중량%가 되도록 희석하여 광경화성 코팅 조성물을 제조하였다.
상기 제조예 1의 하드 코팅 필름 상에, 광경화성 코팅 조성물을 #4 mayer bar로 두께가 약 110 내지 120㎚가 되도록 코팅하고, 60℃에서 1분동안 건조 및 경화하여 반사 방지 필름을 제조하였다. 상기 경화 시에는 질소 퍼징 하에서 상기 건조된 코팅물에 252 mJ/㎠의 자외선을 조사하였다.
실시예 3
펜타에리트리톨 트리아크릴레이트(PETA)와 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트(DPHA)의 혼합 바인더 100중량부 (PETA:DPHA의 혼합비는 6:4)에 대하여, 제1 중공형 실리카 나노 입자(동적 광산란법 측정 입경: 43.3nm) 110 중량부, 제 2 중공형 실리카 나노 입자 (동적 광산란법 측정 입경: 68.7nm) 62 중량부, 솔리드형 실리카 나노 입자 (직경: 약 18nm) 147중량부, 불소계 화합물(RS-907, DIC) 17중량부, 개시제 (Irgacure 127, Ciba사) 14.6중량부를, MIBK(methyl isobutyl ketone)용매에 고형분 농도 2.8 중량%가 되도록 희석하여 광경화성 코팅 조성물을 제조하였다.
상기 제조예 1의 하드 코팅 필름 상에, 광경화성 코팅 조성물을 #4 mayer bar로 두께가 약 110 내지 120㎚가 되도록 코팅하고, 60℃에서 1분 동안 건조 및 경화하여 반사 방지 필름을 제조하였다. 상기 경화 시에는 질소 퍼징 하에서 상기 건조된 코팅물에 252 mJ/㎠의 자외선을 조사하였다.
실시예 4
TMPTA 100중량부에 대하여, 제1 중공형 실리카 나노 입자(동적 광산란법 측정 입경: 47.7 nm) 81.2 중량부, 제 2 중공형 실리카 나노 입자 (동적 광산란법 측정 입경: 78.9nm) 60.8 중량부, 솔리드형 실리카 나노 입자 (직경: 약 13nm) 115중량부, 불소계 화합물(RS-907, DIC) 10.1중량부, 개시제 (Irgacure 127, Ciba사) 8.4중량부를, MIBK(methyl isobutyl ketone)용매에 고형분 농도 3.2 중량%가 되도록 희석하여 광경화성 코팅 조성물을 제조하였다.
상기 제조예 2의 하드 코팅 필름 상에, 광경화성 코팅 조성물을 #4 mayer bar로 두께가 약 110 내지 120㎚가 되도록 코팅하고, 60℃에서 1분 동안 건조 및 경화하였다. 상기 경화 시에는 질소 퍼징 하에서 상기 건조된 코팅물에 252mJ/㎠의 자외선을 조사하였다.
실시예 5
PETA 100중량부에 대하여, 제1 중공형 실리카 나노 입자(동적 광산란법 측정 입경: 45.5 nm) 134.2 중량부, 제 2 중공형 실리카 나노 입자 (동적 광산란법 측정 입경: 82.1nm) 234.8 중량부, 솔리드형 실리카 나노 입자 (직경: 약 12nm) 67중량부, 불소계 화합물(RS-923, DIC) 115중량부, 개시제 (Irgacure 907, Ciba사) 31중량부를, MIBK(methyl isobutyl ketone)용매에 고형분 농도 2.9 중량%가 되도록 희석하여 광경화성 코팅 조성물을 제조하였다.
상기 제조예 3의 하드 코팅 필름 상에, 광경화성 코팅 조성물을 #4 mayer bar로 두께가 약 110 내지 120㎚가 되도록 코팅하고, 60℃에서 1분 동안 건조 및 경화하여 반사 방지 필름을 제조하였다. 상기 경화 시에는 질소 퍼징 하에서 상기 건조된 코팅물에 252 mJ/㎠의 자외선을 조사하였다.
실시예 6
펜타에리트리톨 트리아크릴레이트(PETA)와 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트(DPHA)의 혼합 바인더 100중량부 (PETA:DPHA의 혼합비는 5:5)에 대하여, 제1 중공형 실리카 나노 입자(동적 광산란법 측정 입경: 53.1 nm) 111 중량부, 제 2 중공형 실리카 나노 입자 (동적 광산란법 측정 입경: 77.2nm) 91 중량부, 솔리드형 실리카 나노 입자 (직경: 약 18nm) 55중량부, 불소계 화합물(RS-907, DIC) 85중량부, 개시제 (Irgacure 127, Ciba사) 17.1중량부를, MIBK(methyl isobutyl ketone)용매에 고형분 농도 3.0 중량%가 되도록 희석하여 광경화성 코팅 조성물을 제조하였다.
상기 제조예 3의 하드 코팅 필름 상에, 광경화성 코팅 조성물을 #4 mayer bar로 두께가 약 110 내지 120㎚가 되도록 코팅하고, 60℃에서 1분 동안 건조 및 경화하여 반사 방지 필름을 제조하였다. 상기 경화 시에는 질소 퍼징 하에서 상기 건조된 코팅물에 252 mJ/㎠의 자외선을 조사하였다.
< 비교예 1 내지 6: 반사방지 필름의 제조 >
비교예 1
제1 중공형 실리카 나노 입자(동적 광산란법 측정 입경: 53.1nm)와 제 2 중공형 실리카 나노 입자 (동적 광산란법 측정 입경: 73.5nm)를 혼합하여 사용하지 않고, 중공형 실리카 나노입자 (동적 광산란법 측정 입경: 44.1nm) 118중량부만을 사용하였다는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 반사 방지 필름을 제조하였다.
비교예 2
제1 중공형 실리카 나노 입자(동적 광산란법 측정 입경: 50.2nm)와 제 2 중공형 실리카 나노 입자 (동적 광산란법 측정 입경: 71.7nm)를 혼합하여 사용하지 않고, 중공형 실리카 나노입자 (동적 광산란법 측정 입경: 47.4nm) 140중량부만을 사용하였다는 것을 제외하고는 실시예 2와 동일한 방법으로 반사 방지 필름을 제조하였다.
비교예 3
제1 중공형 실리카 나노 입자(동적 광산란법 측정 입경: 43.3nm)와 제 2 중공형 실리카 나노 입자 (동적 광산란법 측정 입경: 68.7nm)를 혼합하여 사용하지 않고, 중공형 실리카 나노입자 (동적 광산란법 측정 입경: 49.1nm) 172중량부만을 사용하였다는 것을 제외하고는 실시예 3과 동일한 방법으로 반사 방지 필름을 제조하였다.
비교예 4
제1 중공형 실리카 나노 입자(동적 광산란법 측정 입경: 47.7nm)와 제 2 중공형 실리카 나노 입자 (동적 광산란법 측정 입경: 78.9nm)를 혼합하여 사용하지 않고, 중공형 실리카 나노입자 (동적 광산란법 측정 입경: 100.1nm) 172중량부만을 사용하였다는 것을 제외하고는 실시예 4와 동일한 방법으로 반사 방지 필름을 제조하였다.
비교예 5
제1 중공형 실리카 나노 입자(동적 광산란법 측정 입경: 45.5 nm) 134.2 중량부 및 제 2 중공형 실리카 나노 입자 (동적 광산란법 측정 입경: 82.1nm) 대신, 제1 중공형 실리카 나노 입자(동적 광산란법 측정 입경: 44.1 nm) 295.2 중량부 및 제 2 중공형 실리카 나노 입자 (동적 광산란법 측정 입경: 93.5nm) 73.8 중량부를 사용하였다는 것을 제외하고는 실시예 5와 동일한 방법으로 반사 방지 필름을 제조하였다.
비교예 6
제1 중공형 실리카 나노 입자(동적 광산란법 측정 입경: 53.1 nm) 111 중량부 및 제 2 중공형 실리카 나노 입자 (동적 광산란법 측정 입경: 77.2nm) 91 중량부 대신, 제1 중공형 실리카 나노 입자(동적 광산란법 측정 입경: 40.8 nm) 40.4 중량부 및 제 2 중공형 실리카 나노 입자 (동적 광산란법 측정 입경: 79.7nm) 161.6 중량부를 사용하였다는 것을 제외하고는 실시예 6과 동일한 방법으로 반사 방지 필름을 제조하였다.
평가
1. 중공형 무기 입자의 입경 범위 측정
실시예 및 비교예에서 얻어진 반사 방지 필름의 저굴절층에 포함된 중공형 무기 입자의 입경 범위를 투과전자현미경(Transmission Electron Microscope, TEM)를 이용해 측정하였다. 구체적으로, 상기 반사 방지 필름의 임의의 부분을 선정하여 25000배 배율의 투과전자현미경으로 사진을 촬영하고, 사진에서 확인되는 중공 입자의 입경을 측정하여 입경 범위를 2개의 그룹으로 나눈 후, 그 결과를 하기 표 1에 기재하였다.
중공형 무기 입자 입경 범위(그룹1) 중공형 무기 입자 입경 범위(그룹2)
실시예1 46.3nm~60.8nm 66nm~81.3nm
실시예2 41.1nm~60.2nm 64.5nm~78.1nm
실시예3 37.3nm~50.1nm 64.5nm~73.5nm
실시예4 39.1nm~57.3nm 70.3nm~95.2nm
실시예5 35.3nm~55.8nm 66.3nm~98nm
실시예6 47.3nm~60.5nm 67.5nm~83.1nm
비교예1 36.2nm~51.9nm -
비교예2 30.6nm~62.1nm -
비교예3 31.8nm~65.3nm -
비교예4 - 83.1nm~120.3nm
비교예5 36.5nm~51.8nm 78.7nm~108.4nm
비교예6 32.8nm~48.1nm 70.1nm~89.5nm
상기 표 1에 따르면, 실시예의 중공형 무기 입자 입경 범위는, 그룹 1 및 그룹 2가 각각 35nm 내지 61nm 및 64nm 내지 100nm의 입경 범위를 만족함을 확인했다. 그러나, 비교예는 하나의 입경 범위를 갖는 종공형 무기 입자를 포함하거나, 상기 입경 범위를 만족하지 않음을 확인했다.
2. X선 조사에 의한 소각 산란에서 산란 벡터에 따른 산란 강도 측정
실시예 및 비교예 각각의 반사 방지 필름으로부터 얻어진 1cm*1cm (가로*세로)의 시편에 대하여 1.54 Å 의 파장의 X선을 4m의 거리에서 조사하여 산란 벡터 및 산란 강도를 측정했다.
구체적으로, 상기 산란 각도는 포항가속기 4C 빔라인에서 시료에 X선을 투과시켜 산란벡터(q)에 따른 산란 강도를 측정하였다. 보다 구체적으로, 상기 소각 산란 측정은 검출기(Detector)와 약 4m 떨어진 위치에 시료를 놓고 X선을 입사하여 측정하였고, 수직 크기가 0.023 mm이고 수평 크기가 0.3 mm인 X선을 이용하고, 검출기로는 2D mar CCD를 이용하였다. 그리고, 산란되어 나오는 2D 회절 패턴을 이미지로 얻고, 이를 표준 시료(Standard Sample)를 통해 얻어진 시료와 검출기 사이의 거리(sample-to-detector distance)를 이용하여 교정(calibration)하고, circular average를 통하여 산란 벡터(q)에 따른 산란 강도를 환산하였다.
[일반식 1]
q = 4π sinθ / λ
상기 일반식 1에서, q는 산란 벡터이고, θ는 산란 각도의 1/2값이며, λ는 조사된 X선의 파장이다.
그리고, 상기 측정 결과를 바탕으로 X선 조사에 의한 소각 산란에서 정의되는 산란 벡터에 대한 산란 강도의 log값의 그래프에서 최초의 피크가 나오는 산란 벡터의 값(qmax)을 구하고, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
3. 마찰 시험 전후의 반사율 측정
실시예 및 비교예에서 얻어진 반사 방지 필름의 하드 코팅층에서 저굴절층이 형성되지 않은 면에 광이 투과하지 못하도록 암색 처리하고, 마찰 시험 전후 시점에서 반사 방지 필름의 저굴절층의 평균 반사율을 측정하였다. 이때, 저굴절층의 표면을 문지르는 마찰 시험(Rubbing Test)은 #0000 등급의 스틸울에 500g 하중을 걸고 33rpm의 속도로 10회 왕복하는 방법으로 시행하였다.
구체적으로, 상기 마찰 시험 시행 전, 하드 코팅층과 저굴절층이 형성되지 않은 면에 광이 투과하지 못하도록 암색 처리하고, Solidspec 3700(UV-Vis 분광 광도계, 시마즈社)의 반사율(Reflectance) 모드를 이용하여 380 내지 780nm 파장 영역에서의 평균 반사율을 측정하고, 그 결과를 하기 표 1의 "R0"에 나타내었다. 이후, 상기 마찰 시험을 시행한 이후, 저굴절층에 대하여 R0을 측정한 방법과 동일하게 평균 반사율을 측정하고, 그 결과를 하기 표 1의 "R1"에 나타내었다. 또한, 상기 R0와 R1의 차를 계산하여, 마찰 시험 전후 반사율의 변화 정도를 하기 표 2의 "△R"에 나타내었다.
4. 색좌표값 (b * ) 측정
실시예 및 비교예에서 얻어진 반사 방지 필름의 하드 코팅층에서 저굴절층이 형성되지 않은 면에 광이 투과하지 못하도록 암색 처리하고, 마찰 시험 전후 시점에서 Solidspec 3700(UV-Vis 분광 광도계, 시마즈社)의 반사율 (Reflectance) 모드를 이용하여 반사율을 측정한 후 UV-2401PC Color Analysis 프로그램을 이용하여 저굴절층의 색좌표값(b * ) 을 측정하였다. 이때, 저굴절층의 표면을 문지르는 마찰 시험(Rubbing Test)은 #0000 등급의 스틸울에 500g 하중을 걸고 33rpm의 속도로 10회 왕복하는 방법으로 시행하였다.
구체적으로, 상기 마찰 시험 시행 전, 저굴절층의 색좌표값을 측정하고, 그 결과를 하기 표 1의 "b * 0"에 나타내었다. 이후, 상기 마찰 시험을 시행한 이후, 저굴절층에 대하여 b* 0을 측정한 방법과 동일하게 색좌표값을 측정하고, 그 결과를 하기 표 1의 "b* 1"에 나타내었다. 또한, 상기 b* 0와 b* 1의 차를 계산하여, 마찰 시험 전후 색좌표값의 변화 정도를 하기 표 2의 "△b*"에 나타내었다.
5. 내스크래치성 측정
실시예 및 비교예에서 얻어진 반사 방지 필름의 저굴절층에 대해 #0000 등급의 스틸울을 걸고 27rpm의 속도로 10회 왕복하며 문질렀다. 이후, 육안으로 관찰되는 1cm 이하의 스크래치 1개 이하가 관찰되는 최대 하중을 측정하고, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
6. 방오성 측정
실시예 및 비교예에서 얻어진 반사 방지 필름의 저굴절층에 검은색 유성펜으로 5㎝ 길이의 직선을 그리고, 무진천을 이용하여 문질렀을 때 지워지는 횟수를 확인하여 방오성을 측정하고, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
<측정 기준>
○: 지워지는 시점이 10회 이하
△: 지워지는 시점이 11회 내지 20회
X: 지워지는 시점이 20회 초과
qmax
(㎚-1)		 R0(%) R1(%) △R (%p) b* 0 b* 1 △b* 내스크래치성 (g) 방오성
실시예1 0.201 1.58 1.6 0.02 -3.28 -3.21 0.07 500 ○
실시예2 0.199 1.48 1.50 0.02 -3.87 -3.85 0.02 500 ○
실시예3 0.174 1.37 1.40 0.03 -4.01 -3.81 0.2 500 ○
실시예4 0.155 1.13 1.20 0.07 -3.92 -3.62 0.3 500 ○
실시예5 0.148 0.67 0.71 0.04 -2.98 -2.7 0.28 500 ○
실시예6 0.131 0.25 0.29 0.04 -4.87 -4.46 0.41 300 ○
비교예1 0.214 1.55 1.81 0.26 -3.33 -2.82 0.51 500 ○
비교예2 0.225 1.52 1.8 0.28 -2.11 -1.49 0.62 500 ○
비교예3 0.231 1.4 1.72 0.32 -1.98 -1.28 0.7 500 ○
비교예4 0.071 1.21 1.51 0.30 -3.76 -3.08 0.68 500 ○
비교예5 0.092 0.79 1.01 0.22 -4.71 -3.73 0.98 300 ○
비고예6 0.125 0.3 0.59 0.29 -4.42 -3.32 1.1 200 X
상기 표 2에 나타난 바와 같이, 실시예 1 내지 6의 반사 방지 필름에 대해 'X선 조사에 의한 소각 산란에서 산란 벡터에 따른 산란 강도 측정' 결과 0.128 내지 0.209 ㎚-1의 산란 벡터(qmax)에서 최초의 피크가 나타남을 확인했다. 반면, 비교예 1 내지 6의 반사 방지 필름에 대해 'X선 조사에 의한 소각 산란에서 산란 벡터에 따른 산란 강도 측정 결과 0.128 내지 0.209 ㎚-1의 범위를 벗어난 산란 벡터에서 최초의 피크가 나타남을 확인했다.
또한, 상기 산란 벡터의 수치 범위를 만족하는 실시예 1 내지 6의 반사 방지 필름은 마찰 시험 전후의 반사율 변화 정도(ΔR) 및 색좌표값 변화 정도(Δb*)가, 상기 수치 범위를 만족하지 않는 비교예 1 내지 6에 비해, 현저히 낮다는 점을 확인했다. 이로 인해, 실시예 1 내지 6의 반사 방지 필름은 외부의 문지름이나 마찰 등에 의해 손상 또는 변형된 부분의 반사율 상승을 효과적으로 억제할 수 있다는 점을 예측할 수 있다.

Claims (14)

  1. 하드 코팅층; 및
    유기 고분자 수지, 및 상기 유기 고분자 수지에 분산되고 상이한 입경을 갖는 2종 이상의 중공형 무기 입자를 포함하는 저굴절층을 포함하고,
    상기 상이한 입경을 갖는 2종 이상의 중공형 무기 입자는, 입경 범위가 35nm 내지 61nm인 중공형 무기 입자 1종과, 입경 범위가 64nm 내지 100nm인 중공형 무기 입자 1종을 포함하고,
    X선 조사에 의한 소각 산란에서 정의되는 산란 벡터에 대한 산란 강도의 log값의 그래프에서, 0.128 내지 0.209 ㎚-1의 산란 벡터(qmax)에서 1개 이상의 피크를 나타내는 반사 방지 필름.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 X선 조사에 의한 소각 산란은 1cm*1cm (가로*세로)의 크기의 반사 방지 필름에 대하여 0.63 내지 1.54Å의 파장의 X선을 4m의 거리에서 조사하여 측정하는 반사 방지 필름.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 산란 벡터는 하기 일반식 1로 정의되는, 반사 방지 필름:
    [일반식 1]
    q = 4π sinθ / λ
    상기 일반식 1에서, q는 산란 벡터이고, θ는 산란 각도의 1/2값이며, λ는 조사된 X선의 파장이다.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 입경 범위가 35nm 내지 61nm인 중공형 무기 입자 및 입경 범위가 64nm 내지 100nm인 중공형 무기 입자는 입경 비율이 1:1.05 내지 2.85인 반사 방지 필름.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 입경 범위가 35nm 내지 61nm인 중공형 무기 입자 및 입경 범위가 64nm 내지 100nm인 중공형 무기 입자는 중량비가 7:3 내지 3:7인 반사 방지 필름.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 저굴절층에 포함되는 유기 고분자 수지는, 광중합성 화합물의 (공)중합체 및 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물 간의 가교 (공)중합체를 포함하는 반사 방지 필름.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 저굴절층은 상기 광중합성 화합물의 (공)중합체 100중량부 대비 상기 상이한 입경을 갖는 2종 이상의 중공형 무기 입자를 30 내지 500 중량부로 포함하는 반사 방지 필름.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 광중합성 화합물의 (공)중합체는, 2 내지 4관능성 (메트)아크릴레이트계 모노머 및 5 내지 6관능성 (메트)아크릴레이트계 모노머를 포함하는 다관능성 (메트)아크릴레이트계 모노머의 공중합체를 포함하는 반사 방지 필름.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 2 내지 4관능성 (메트)아크릴레이트계 모노머 및 5 내지 6관능성 (메트)아크릴레이트계 모노머는 중량비가 9:1 내지 6:4인 반사 방지 필름.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 저굴절층은, 2 내지 4 관능성 (메트)아크릴레이트계 모노머 및 5 내지 6 관능성 (메트)아크릴레이트계 모노머를 포함하는 다관능성 (메트)아크릴레이트계 모노머의 공중합체를 포함한 유기 고분자 수지; 및
    상기 유기 고분자 수지에 분산되고, 상이한 입경을 갖는 2종 이상의 중공형 무기 입자를 포함하는 반사 방지 필름.
  11. 제6항에 있어서,
    상기 유기 고분자 수지는 상기 광중합성 화합물의 (공)중합체 100중량부에 대하여 상기 광반응성 작용기를 포함한 함불소 화합물을 1 내지 300중량부로 포함하는 반사 방지 필름.
  12. 제1항에 있어서,
    파장 400㎚ 내지 800㎚에서 측정되는 두께 방향의 리타데이션(Rth)이 3,000 ㎚ 이상인 광투과성 기재를 더 포함하는 반사 방지 필름.
  13. 제1항에 따른 반사 방지 필름 및 편광막을 포함하는 편광판.
  14. 제1항에 따른 반사 방지 필름을 포함하는 디스플레이 장치.
KR1020180073599A 2018-06-26 2018-06-26 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치 KR102194998B1 (ko)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180073599A KR102194998B1 (ko) 2018-06-26 2018-06-26 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
US16/649,904 US11624857B2 (en) 2018-06-26 2019-06-19 Anti-reflective film, polarizing plate, and display apparatus
PCT/KR2019/007398 WO2020004860A1 (ko) 2018-06-26 2019-06-19 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
EP19826403.8A EP3660547B1 (en) 2018-06-26 2019-06-19 Anti-reflective film, polarizing plate, and display device
CN201980004319.2A CN111065939B (zh) 2018-06-26 2019-06-19 抗反射膜、偏光板和显示装置
JP2020512876A JP6925692B2 (ja) 2018-06-26 2019-06-19 反射防止フィルム、偏光板およびディスプレイ装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180073599A KR102194998B1 (ko) 2018-06-26 2018-06-26 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200001086A true KR20200001086A (ko) 2020-01-06
KR102194998B1 KR102194998B1 (ko) 2020-12-24

Family

ID=68985261

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180073599A KR102194998B1 (ko) 2018-06-26 2018-06-26 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치

Country Status (6)

Country Link
US (1) US11624857B2 (ko)
EP (1) EP3660547B1 (ko)
JP (1) JP6925692B2 (ko)
KR (1) KR102194998B1 (ko)
CN (1) CN111065939B (ko)
WO (1) WO2020004860A1 (ko)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102280262B1 (ko) * 2018-05-18 2021-07-21 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
JPWO2022163492A1 (ko) * 2021-01-28 2022-08-04
CN114236650B (zh) * 2022-01-20 2023-05-05 森思泰克河北科技有限公司 雷达外壳减反结构的设计方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005274696A (ja) * 2004-03-23 2005-10-06 Konica Minolta Opto Inc 反射防止フィルム、偏光板及び表示装置
KR20080004469A (ko) * 2005-05-19 2008-01-09 가부시끼가이샤 도꾸야마 미립자상 실리카
KR20170106920A (ko) * 2016-03-14 2017-09-22 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4914585B2 (ja) * 2004-08-12 2012-04-11 富士フイルム株式会社 反射防止フィルム、偏光板、及びそれを用いた画像表示装置
WO2006016542A1 (en) * 2004-08-12 2006-02-16 Fujifilm Corporation Antireflection film, polarizing plate and image display utilizing the same
KR100624308B1 (ko) 2004-10-11 2006-09-19 제일모직주식회사 반사방지 필름의 고굴절층 코팅용 조성물
JP2007241661A (ja) * 2006-03-08 2007-09-20 Canon Inc 画像形成装置およびその制御方法
JP5526468B2 (ja) 2006-09-29 2014-06-18 大日本印刷株式会社 反射防止積層体
JP5757673B2 (ja) 2007-07-31 2015-07-29 日揮触媒化成株式会社 透明被膜付基材および透明被膜形成用塗料
JP5186848B2 (ja) 2007-09-10 2013-04-24 住友ベークライト株式会社 複合体組成物、及びこれを架橋させてなる成形硬化物
JP2009086360A (ja) * 2007-09-28 2009-04-23 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止フィルム
JP5114438B2 (ja) * 2008-02-13 2013-01-09 富士フイルム株式会社 光学フィルム、その製造方法、偏光板および画像表示装置
JP2010085894A (ja) 2008-10-02 2010-04-15 Konica Minolta Opto Inc 反射防止層用組成物、反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置
KR20100121281A (ko) * 2009-05-08 2010-11-17 동우 화인켐 주식회사 고경도 하드코팅 필름, 이를 포함하는 편광판 및 표시 장치
JP2011248036A (ja) 2010-05-26 2011-12-08 Sumitomo Chemical Co Ltd 反射防止フィルム
KR101871135B1 (ko) 2011-04-26 2018-06-25 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 반사 방지 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
JP6371032B2 (ja) 2012-08-01 2018-08-08 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 反射防止ハードコートおよび反射防止物品
US9250371B2 (en) * 2012-11-06 2016-02-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Polarizing film, anti-reflective film and display device including the same
JP2015108733A (ja) * 2013-12-05 2015-06-11 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド 樹脂膜及び樹脂膜の製造方法
JP6661286B2 (ja) * 2014-06-30 2020-03-11 三星電子株式会社Ｓａｍｓｕｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． 樹脂膜、光学部材および偏光部材
KR101659161B1 (ko) * 2014-09-03 2016-09-23 삼성에스디아이 주식회사 편광판 및 이를 포함하는 액정표시장치
US10338276B2 (en) * 2014-09-12 2019-07-02 Fujifilm Corporation Antireflective film, polarizing plate, cover glass, image display device, and method of manufacturing antireflective film
CN107003562B (zh) 2014-11-25 2021-07-23 东洋纺株式会社 液晶显示装置和偏光板
JP6723705B2 (ja) * 2015-08-31 2020-07-15 キヤノン株式会社 光学部材および撮像機器
KR20170049383A (ko) 2015-10-27 2017-05-10 삼성전자주식회사 폴리머막, 이를 채용한 광학 부재, 편광 부재 및 표시 장치
KR102016710B1 (ko) * 2016-01-07 2019-09-02 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름
WO2017155338A1 (ko) 2016-03-09 2017-09-14 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름
JP6789593B2 (ja) * 2016-03-09 2020-11-25 エルジー・ケム・リミテッド 反射防止フィルム
US10222510B2 (en) 2016-03-09 2019-03-05 Lg Chem, Ltd Anti-reflective film
KR102267594B1 (ko) 2018-01-24 2021-06-18 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
KR20190097639A (ko) * 2018-02-12 2019-08-21 삼성에스디아이 주식회사 반사방지필름, 이를 포함하는 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치
KR102196429B1 (ko) * 2018-03-16 2020-12-29 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
TWI754178B (zh) * 2018-10-17 2022-02-01 南韓商Ｌｇ化學股份有限公司 抗反射膜、偏光板、及顯示設備
KR102371580B1 (ko) * 2019-05-28 2022-03-07 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005274696A (ja) * 2004-03-23 2005-10-06 Konica Minolta Opto Inc 反射防止フィルム、偏光板及び表示装置
KR20080004469A (ko) * 2005-05-19 2008-01-09 가부시끼가이샤 도꾸야마 미립자상 실리카
KR20170106920A (ko) * 2016-03-14 2017-09-22 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름

Also Published As

Publication number Publication date
JP6925692B2 (ja) 2021-08-25
CN111065939B (zh) 2022-03-04
EP3660547B1 (en) 2023-09-06
US20200309996A1 (en) 2020-10-01
JP2020532765A (ja) 2020-11-12
KR102194998B1 (ko) 2020-12-24
EP3660547A1 (en) 2020-06-03
WO2020004860A1 (ko) 2020-01-02
EP3660547A4 (en) 2021-03-03
US11624857B2 (en) 2023-04-11
CN111065939A (zh) 2020-04-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102196429B1 (ko) 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
KR102267594B1 (ko) 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
KR102280262B1 (ko) 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
TWI734223B (zh) 抗反射膜、偏光板及顯示設備
KR20200136839A (ko) 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
KR102194998B1 (ko) 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
KR102257923B1 (ko) 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
KR102337211B1 (ko) 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
KR102235481B1 (ko) 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
KR102281759B1 (ko) 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치
KR20200038815A (ko) 반사 방지 필름, 편광판 및 디스플레이 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant