KR20200000172A - 뷰포트 실드 장치가 구비된 진공챔버 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반도체 또는 디스플레이 제조공정에 이용되는 진공챔버에 관한 것으로, 본 발명에 따르면, 챔버벽과 챔버도어를 구비하여 외부로부터 격리되는 내부공간을 형성하며, 외부에서 상기 내부공간을 파악할 수 있도록 뷰포트가 상기 챔버벽 또는 상기 챔버도어에 마련된 진공챔버로서, 상기 뷰포트가 상기 내부공간 내에서 비산되는 이물질에 의해 오염되는 것을 억제하기 위하여 상기 뷰포트의 적어도 일부분을 가려주는 뷰포트 실드 장치가 구비되어 있으므로 진공챔버에 마련된 뷰포트가 이물질 등에 의해 오염되는 것을 억제 또는 예방할 수 있으며, 나아가 안전사고의 발생을 예방할 수 있는 기술이 개시된다.

Description

뷰포트 실드 장치가 구비된 진공챔버{Vacuum Chambe Including View Port Shield Apparatus}
본 발명은 반도체 또는 디스플레이 제조공정에 이용되는 진공챔버에 관한 것으로, 보다 상세하게는 진공챔버에 마련된 뷰포트의 오염을 억제하기 위한 뷰포트 실드 장치가 구비된 진공챔버에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 디바이스나 디스플레이 제조공정에는 증착공정 등 다양한 공정이 포함되며 이러한 공정의 수행은 진공챔버 내에서 이루어진다.
진공챔버에는 챔버의 내부 상태에 대한 확인 예를 들어 건식 식각이나 증착의 수행을 위한 플라즈마가 제대로 형성되었는지 여부의 확인이나, 공정 중인 웨이퍼가 안정된 상태를 유지하고 있는지에 관한 확인 등과 같이 공정진행상태와 챔버관리를 위해 진공챔버의 내부를 관찰할 수 있도록 투시창 또는 뷰포트(view port)가 설치된다.
진공챔버 내에서 제조공정이 진행되는 동안에 증착물질이나 기타 비산되는 물질이 투시창 또는 뷰포트에 부착됨으로써 뷰포트가 오염되기도 한다.
이처럼 뷰포트가 오염되면 진공챔버 내부의 현황을 정확히 파악하기가 어려우므로 제조공정관리가 곤란해지는 문제점이 발생하게 된다.
따라서, 뷰포트가 오염되는 것을 억제 또는 예방할 수 있는 기술이 요구되고 있었다.
대한민국 공개특허 10-2007-0002730 대한민국 공개특허 10-2016-0032976
본 발명의 목적은 상기한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 뷰포트가 마련된 진공챔버에서 뷰포트가 오염되는 것을 억제 또는 예방할 수 있는, 뷰포트 실드 장치가 구비된 진공챔버를 제공함에 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시 예에 따른 뷰포트 실드 장치가 구비된 진공챔버는, 챔버벽과 챔버도어를 구비하여 외부로부터 격리되는 내부공간을 형성하며, 외부에서 상기 내부공간을 파악할 수 있도록 뷰포트가 상기 챔버벽 또는 상기 챔버도어에 마련된 진공챔버로서, 상기 뷰포트가 상기 내부공간 내에서 비산되는 이물질에 의해 오염되는 것을 억제하기 위하여 상기 뷰포트의 적어도 일부분을 가려주는 뷰포트 실드 장치가 구비된 것을 하나의 특징으로 할 수도 있다.
여기서, 상기 뷰포트 실드 장치는, 상기 뷰포트를 커버(cover)할 수 있도록 상기 뷰포트의 일측에 배치되는 실드패널; 및 상기 실드패널의 일부분에 결합되어 상기 실드패널을 지지하는 샤프트;를 포함하되, 상기 뷰포트가 마련된 상기 챔버벽 또는 상기 챔버도어에 상기 샤프트의 적어도 일부분이 장착되어 지지되며, 상기 샤프트의 길이방향 중심축을 중심으로 상기 샤프트가 회전됨에 따라 상기 실드패널이 상기 뷰포트를 가려주거나 개방시켜줄 수 있는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
나아가, 상기 뷰포트 실드 장치는, 외부로부터 상기 샤프트를 회전시키는 힘을 전달할 수 있도록 상기 챔버벽 또는 상기 챔버도어의 외측에 배치되되, 상기 샤프트의 끝단에 결합되는 제1조인트블록; 및 상기 제1조인트블록과 결합될 수 있으며, 외부에서 상기 샤프트를 회전시킬 수 있도록 조작바가 마련된 제2조인트블록; 을 더 포함하는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
나아가, 상기 제2조인트블록은 상기 제1조인트블록과 선택적으로 결합되거나 분리될 수 있는 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
나아가, 상기 제1조인트블록에서 상기 제2조인트블록과 결합되는 면에는 볼록하게 돌출된 결합철(凸)이 형성되어 있고, 상기 제2조인트블록에서 상기 제1조인트블록과 결합되는 면에는 상기 결합철(凸)의 형상에 대응하여 상기 결합철(凸)이 삽입될 수 있는 결합요(凹)홈이 형성된 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
나아가, 상기 제2조인트블록에서 상기 제1조인트블록과 결합되는 면에는 볼록하게 돌출된 결합철(凸)이 형성되어 있고, 상기 제1조인트블록에서 상기 제2조인트블록과 결합되는 면에는 상기 결합철(凸)의 형상에 대응하여 상기 결합철(凸)이 삽입될 수 있는 결합요(凹)홈이 형성된 것을 또 하나의 특징으로 할 수도 있다.
본 발명에 따른 뷰포트 실드 장치가 구비된 진공챔버는, 진공챔버 내부에서 발생되는 이물질에 의하여 뷰포트가 오염되는 것을 억제할 수 있으며, 조작바의 온도가 고온으로 됨으로써 야기될 수도 있는 안전사고의 발생을 억제 또는 예방할 수 있는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 뷰포트 실드 장치가 구비된 진공챔버에서 뷰포트 실드 장치 부분을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 뷰포트 실드 장치가 구비된 진공챔버에서 뷰포트 및 뷰포트 실드 장치 부분을 개략적으로 나타낸 사시도면이다.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 뷰포트 실드 장치가 구비된 진공챔버에서 뷰포트 및 뷰포트 실드 장치 부분을 개략적으로 나타낸 측단면도이다.
도 4 내지 도 6은 본 발명의 실시 예에 따른 뷰포트 실드 장치가 구비된 진공챔버에서 제1조인트블록 및 제2조인트블록 부분을 개략적으로 나타낸 도면이다.
이하에서는 본 발명에 대하여 보다 구체적으로 이해할 수 있도록 첨부된 도면을 참조한 바람직한 실시 예를 들어 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 뷰포트 실드 장치가 구비된 진공챔버에서 뷰포트 실드 장치 부분을 개략적으로 나타낸 도면이고, 도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 뷰포트 실드 장치가 구비된 진공챔버에서 뷰포트 및 뷰포트 실드 장치 부분을 개략적으로 나타낸 사시도면이며, 도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 뷰포트 실드 장치가 구비된 진공챔버에서 뷰포트 및 뷰포트 실드 장치 부분을 개략적으로 나타낸 측단면도이고, 도 4 내지 도 6은 본 발명의 실시 예에 따른 뷰포트 실드 장치가 구비된 진공챔버에서 제1조인트블록 및 제2조인트블록 부분을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 1 내지 도 6에서 참조되는 바와 같이 본 발명의 실시 예에 따른 뷰포트 실드 장치가 구비된 진공챔버는, 챔버벽과 챔버도어를 구비하여 외부로부터 격리되는 내부공간을 형성하며, 외부에서 내부공간을 파악할 수 있도록 뷰포트가 챔버벽 또는 챔버도어에 마련된 진공챔버로서 뷰포트가 내부공간 내에서 비산되는 이물질에 의해 오염되는 것을 억제하기 위하여 뷰포트의 적어도 일부분을 가려주는 뷰포트 실드 장치가 구비되어 있다.
여기서 뷰포트(400)는 진공챔버 내부의 현황을 외부에서 사용자 등이 관찰하고 관리할 수 있도록 마련된 창(window)으로서, 진공챔버의 챔버도어(300) 또는 챔버벽(미도시)에 마련되며 기본적으로 쿼츠(quartz)와 같은 재질로 이루어진 뷰포트글라스(410) 및 뷰포트글라스(410)가 챔버도어(300) 또는 챔버벽에 고정될 수 있도록 지지하는 뷰포트프레임(420)으로 이루어져 있다.
그리고, 이러한 뷰포트(400)의 뷰포트글라스(410)에 이물질이 부착되어 오염되는 문제가 발생되지 않도록 뷰포트 실드 장치가 뷰포트(400)를 엄폐시켜주며 필요시에만 뷰포트(400)를 진공챔버 내부공간을 향해 개방시켜줄 수 있다.
이러한 뷰포트 실드 장치는 실드패널(110) 및 샤프트(120)를 포함하며, 더욱 바람직하게는 제1조인트블록(210) 및 제2조인트블록(230)을 더 포함한다.
실드패널(110)은 뷰포트(400)의 적어도 일부분을 챔버 내측에서 커버(cover)할 수 있도록 뷰포트(400)의 일측에 배치된다. 실드패널(110)은 뷰포트(400)의 뷰포트글라스(410)을 완전히 가려줄 수 있을 만큼의 크기 또는 표면적을 갖는 것이 바람직하다.
그리고, 샤프트(120)는 실드패널(110)의 일부분에 결합되며, 실드패널(110)을 지지한다. 바람직하게는 도면에 도시된 바와 같이 실드패널(110)의 한 변에 결합된다.
이처럼 실드패널(110) 및 샤프트(120)를 포함하는 뷰포트 실드장치는, 뷰포트(400)가 마련된 챔버벽 또는 챔버도어(300) 측에 샤프트(120)의 적어도 일부분이 장착되어 지지되며, 샤프트(120)의 길이방향 중심축을 중심으로 샤프트(120)가 회전됨에 따라 실드패널(110)이 뷰포트(400)를 가려주거나 개방시켜준다.
여기서, 뷰포트(400)가 마련된 챔버벽 또는 챔버도어(300) 측에 샤프트(120)의 적어도 일부분이 장착되어 지지된다는 것은 샤프트(120)가 뷰포트(400)의 뷰포트프레임(420)에 회전가능하게 장착되거나 챔버벽 또는 챔버도어(300)에 샤프트(120)가 장착되어 실드패널(110)이 뷰포트글라스(410)을 가려줄 수 있는 형태 모두를 의미한다.
참고로, 도 3에서 미설명된 도면부호 310은 챔버 내 내부공간에서 상측을 외부와 구분시켜주는 챔버지붕을 나타낸다.
제1조인트블록(210)은 외부로부터 샤프트(120)를 회전시키는 힘을 전달할 수 있도록 챔버벽 또는 챔버도어(300)의 외측에 배치되되, 샤프트(120)의 끝단에 결합된다. 이처럼 샤프트(120)의 끝단에 결합된 제1조인트블록(210)은 제2조인트블록(230)과 선택적으로 결합 또는 분리될 수 있는 것이 바람직하며, 도면에서 참조되는 바와 같이 챔버 외부에 노출된다.
제2조인트블록(230)은 제1조인트블록(210)과 결합될 수 있으며, 외부에서 샤프트(120)를 회전시킬 수 있도록 조작바(250)가 제2조인트블록(230)에 마련되어 있는 것이 바람직하다.
그리고, 이러한 제2조인트블록(230)은 앞서 언급한 바와 같이 제1조인트블록(210)과 선택적으로 결합되거나 분리될 수 있는 것이 바람직하다.
제2조인트블록(230)이 제1조인트블록(210)과 선택적으로 결합되거나 분리될 수 있으면 뷰포트 실드 장치를 조작해야할 때에만 선택적으로 결합시켜서 실드패널(110)이 뷰포트글라스(410)이 개방되도록 열어젖히거나 엄폐되도록 닫는 조작을 할 수 있으며, 조작 후에는 다시 제2조인트블록(230)을 제1조인트블록(210)으로부터 분리시킬 수 있다. 제2조인트블록(230)이 제1조인트블록(210)과 분리되어 있으면 공정상의 조건에 의하여 챔버가 고온으로 가열됨에 따라 뷰포트 실드 장치도 가열될 수 있으며, 가열된 뷰포트 실드 장치에 고정적으로 결합된 손잡이를 사용자가 손으로 잡게 되면 화상을 입을 수 있는 문제가 있다.
따라서, 실드패널(110)을 조작해야하 하는 경우 이외에는 제1조인트블록(210)과 제2조인트블록(230)이 분리되어 있도록 할 수 있으므로 제2조인트블록(230)과 조작바(250)의 온도가 상승되는 것을 방지할 수 있다. 따라서 뷰포트 실드 장치를 조작하고자 할 때 화상을 입을 수 있는 안전사고의 발생이 억제 또는 예방될 수 있으므로 바람직하다.
이와 같이 제1조인트블록(210)과 제2조인트블록(230)이 상호간에 선택적으로 결합 또는 분리될 수 있도록 제1조인트블록(210)과 제2조인트블록(230)에는 결합철(凸)(220)과 결합철(凸)(220)이 삽입될 수 있는 결합요(凹)홈(240)이 마련되어 있는 것이 바람직하다.
예를 들어, 도 4에서 참조되는 바와 같이 제1조인트블록(210)에서 제2조인트블록(230)과 결합되는 면에는 볼록하게 돌출된 결합철(凸)(220)이 형성되어 있고, 제2조인트블록(230)에서 제1조인트블록(210)과 결합되는 면에는 결합철(凸)(220)의 형상에 대응하여 결합철(凸)(220)이 삽입될 수 있는 결합요(凹)홈(240)이 형성된 것도 바람직하다.
또는 도 5에서 참조되는 바와 같이 제2조인트블록(230)에서 제1조인트블록(210)과 결합되는 면에는 볼록하게 돌출된 결합철(凸)(220)이 형성되어 있고, 제1조인트블록(210)에서 제2조인트블록(230)과 결합되는 면에는 결합철(凸)(220)의 형상에 대응하여 결합철(凸)(220)이 삽입될 수 있는 결합요(凹)홈(240)이 형성된 것 또한 바람직하다.
그리고, 제1조인트블록(210) 또는 제2조인트블록(230)에 형성되는 결합철(凸)의 측면이 테이퍼(taper)지게 형성되되, 결합철(凸)(220)의 횡단면이 원형이 아닌 다각형으로 된 다각형뿔의 형태로 형성된 것이 바람직하다. 도면에서는 횡단면이 8각형인 8각뿔의 형태를 예시적으로 도시하였다.
이처럼 결합철(凸)(220)의 횡단면이 다각형인 형태로서 측면이 테이퍼지게 형성되면, 도 4에서 참조되는 바와 같이 조작바(250)이 지향하는 방향이 조작자의 편의에 따라 어떤 방향이 되더라도 제2조인트블록(230)을 제1조인트블록(210)에 결합시키는 것이 용이해질 수 있다.
다시 말해서, 결합철(凸)(220)이 결합요(凹)홈(240)에 삽입될 때 제1조인트블록(210)과 제2조인트블록(230) 사이의 결합이 정확하게 이루어질 수 있게 자리잡을 수 있으며, 아울러 제1조인트블록(210)과 제2조인트블록(230)이 결합철(凸)(220) 및 결합요(凹)홈(240)을 통해 서로 맞물려 있으므로 헛돌거나 미끄러짐없이 조작바(250)를 이용하여 샤프트(120)를 임의의 각도로 회전시켜줄 수 있으므로 바람직하다.
그리고서, 더욱 바람직하게는 결합철(凸)의 끝단이 예리 또는 뾰족하지 않고 둥글고 뭉툭하게 형성된 것이 더욱 바람직하다.
결합철(凸)(220)의 끝단이 뭉툭하게 형성되면 찔려서 다치게되는 안전사고의 발생을 예방할 수 있으며, 아울러 제1조인트블록(210)과 제2조인트블록(230)을 결합시킬 때 결합철(凸)(220)이 결합요(凹)홈(240)에 원만하게 삽입되어 자리잡는데에도 도움이 될 수 있다.
이와 같이 본 발명의 실시 예에 따른 뷰포트 실드 장치가 구비된 진공챔버는 뷰포트가 오염되는 것을 억제할 수 있으며, 뷰포트 실드 장치를 취급하는 과정에서 안전사고가 발생되는 것을 억제 또는 예방할 수 있다는 장점도 있다.
이상에서 설명된 바와 같이, 본 발명에 대한 구체적인 설명은 첨부된 도면을 참조한 실시 예들에 의해서 이루어졌지만, 상술한 실시 예들은 본 발명의 바람직한 실시 예를 들어 설명하였을 뿐이기 때문에, 본 발명이 상기의 실시 예에만 국한되는 것으로 이해되어져서는 아니되며, 본 발명의 권리범위는 후술하는 청구범위 및 그 등가개념으로 이해되어져야 할 것이다.
110 : 실드패널 120 : 샤프트
210 : 제1조인트블록 220 : 결합철(凸)
230 : 제2조인트블록 240 : 결합요(凹)홈
250 : 조작바 300 : 챔버도어
400 : 뷰포트 410 : 뷰포트글라스
420 : 뷰포트프레임

Claims (6)

  1. 챔버벽과 챔버도어를 구비하여 외부로부터 격리되는 내부공간을 형성하며, 외부에서 상기 내부공간을 파악할 수 있도록 뷰포트가 상기 챔버벽 또는 상기 챔버도어에 마련된 진공챔버로서,
    상기 뷰포트가 상기 내부공간 내에서 비산되는 이물질에 의해 오염되는 것을 억제하기 위하여 상기 뷰포트의 적어도 일부분을 가려주는 뷰포트 실드 장치가 구비된 것을 특징으로 하는,
    뷰포트 실드 장치가 구비된 진공챔버.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 뷰포트 실드 장치는,
    상기 뷰포트를 커버(cover)할 수 있도록 상기 뷰포트의 일측에 배치되는 실드패널; 및
    상기 실드패널의 일부분에 결합되어 상기 실드패널을 지지하는 샤프트;를 포함하되,
    상기 뷰포트가 마련된 상기 챔버벽 또는 상기 챔버도어 측에 상기 샤프트의 적어도 일부분이 장착되어 지지되며,
    상기 샤프트의 길이방향 중심축을 중심으로 상기 샤프트가 회전됨에 따라 상기 실드패널이 상기 뷰포트를 가려주거나 개방시켜줄 수 있는 것을 특징으로 하는,
    뷰포트 실드 장치가 구비된 진공챔버.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 뷰포트 실드 장치는,
    외부로부터 상기 샤프트를 회전시키는 힘을 전달할 수 있도록 상기 챔버벽 또는 상기 챔버도어의 외측에 배치되되, 상기 샤프트의 끝단에 결합되는 제1조인트블록; 및
    상기 제1조인트블록과 결합될 수 있으며, 외부에서 상기 샤프트를 회전시킬 수 있도록 조작바가 마련된 제2조인트블록; 을 더 포함하는 것을 특징으로 하는,
    뷰포트 실드 장치가 구비된 진공챔버.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 제2조인트블록은 상기 제1조인트블록과 선택적으로 결합되거나 분리될 수 있는 것을 특징으로 하는,
    뷰포트 실드 장치가 구비된 진공챔버.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 제1조인트블록에서 상기 제2조인트블록과 결합되는 면에는 볼록하게 돌출된 결합철(凸)이 형성되어 있고,
    상기 제2조인트블록에서 상기 제1조인트블록과 결합되는 면에는 상기 결합철(凸)의 형상에 대응하여 상기 결합철(凸)이 삽입될 수 있는 결합요(凹)홈이 형성된 것을 특징으로 하는,
    뷰포트 실드 장치가 구비된 진공챔버.
  6. 제 4항에 있어서,
    상기 제2조인트블록에서 상기 제1조인트블록과 결합되는 면에는 볼록하게 돌출된 결합철(凸)이 형성되어 있고,
    상기 제1조인트블록에서 상기 제2조인트블록과 결합되는 면에는 상기 결합철(凸)의 형상에 대응하여 상기 결합철(凸)이 삽입될 수 있는 결합요(凹)홈이 형성된 것을 특징으로 하는,
    뷰포트 실드 장치가 구비된 진공챔버.
KR1020180072141A 2018-06-22 2018-06-22 뷰포트 실드 장치가 구비된 진공챔버 KR102567004B1 (ko)

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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0642958U (ja) * 1990-12-21 1994-06-07 石川島播磨重工業株式会社 薄膜形成装置
KR20060012862A (ko) * 2004-08-05 2006-02-09 (주)아이씨디 진공챔버용 도어 조립체
KR20070002730A (ko) 2005-06-30 2007-01-05 동부일렉트로닉스 주식회사 측면 뷰 포트를 구비한 로드락 챔버
KR20090047930A (ko) * 2007-11-09 2009-05-13 주식회사 동부하이텍 뷰 포트 쉴드
KR20090116900A (ko) * 2008-05-08 2009-11-12 주식회사 테스 반도체 제조용 챔버
KR20160032976A (ko) 2014-09-17 2016-03-25 (주)와이케이티 진공 챔버용 뷰포트 모듈

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0642958U (ja) * 1990-12-21 1994-06-07 石川島播磨重工業株式会社 薄膜形成装置
KR20060012862A (ko) * 2004-08-05 2006-02-09 (주)아이씨디 진공챔버용 도어 조립체
KR20070002730A (ko) 2005-06-30 2007-01-05 동부일렉트로닉스 주식회사 측면 뷰 포트를 구비한 로드락 챔버
KR20090047930A (ko) * 2007-11-09 2009-05-13 주식회사 동부하이텍 뷰 포트 쉴드
KR20090116900A (ko) * 2008-05-08 2009-11-12 주식회사 테스 반도체 제조용 챔버
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