KR20190053556A - 폐가스 처리 장치에서 nf3의 제거 방법 - Google Patents

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    • Y02C20/10—Capture or disposal of greenhouse gases of nitrous oxide (N2O)

Abstract

본 발명에 따른 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법은, 촉매를 준비하고, 폐가스 처리 장치에 촉매를 장착하고, 폐가스 처리 장치에 폐가스를 주입시키고, 폐가스 처리 장치에서 폐가스로부터 분해된 가스를 생성시키고, 폐가스 처리 장치에서 분해된 폐가스를 산화시켜 정화된 가스와 산화된 가스를 생성시키고, 폐가스 처리 장치에서 산화된 가스를 제거시키고, 폐가스 처리 장치로부터 정화된 가스를 외부에 배출시키는 것을 포함한다.

Description

폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법{METHOD OF REMOVING NITROGEN TRIFLUORIDE(NF3) IN WASTE GAS-DISPOSING APPARATUS}
본 발명은 산업 시설물로부터 과불화물(Perfluoro Compounds; PFCs)을 함유하는 폐가스를 대기에 배출시키기 전 폐가스를 화학적으로 처리하여 정화된 가스를 생성시킨 후 정화된 가스를 대기에 배출시켜 환경 오염을 줄일 수 있는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 과불화물(Perfluoro Compounds; PFCs) 가스는 반도체 제조 공장 또는 디스플레이 제조 공장에서 반도체 소자 또는 디스플레이 소자에 적용되는 식각 공정, 증착 공정 및 세정 공정을 통해서 생성되는 부산물이다. 상기 과불화물 가스는 배출 총량 기준으로 이산화탄소에 비해 적지만 지구온난화지수(Global Warming Potential; GWP)가 크고 대기중 체류 시간이 길어 지구 온난화에 큰 영향을 미치기 때문에 세계적으로 감축 대상 항목에 속한다.
여기서, 상기 과불화물 가스는 사불화탄소(CF4), 헥사플루오로에탄(C2F6), 옥타플루오로프로판(C3F8) 또는 육불화황(SF6)을 함유한다. 상기 사불화탄소, 헥사플루오로에탄, 옥타플루오로프로판 또는 육불화황은 2600년 이상의 대기중 체류 시간을 갖는다. 한편, 상기 과불화물 가스의 제거는 한국등록특허공보 제10-0654922호에서 발명의 명칭인 '반도체 제조공정으로부터 발생하는 배가스 처리장치 및 방법'에 종래기술로 개시되었다.
상기 종래기술에서, 상기 배가스 처리장치는 흡착제에 과불화물 가스를 흡착시켜 제거하거나 촉매에 과불화물 가스를 접촉시켜 분해하도록 구성된다. 그러나, 상기 배가스 처리장치는 흡착제를 지나 촉매에 접촉되는 과불화물 가스 중 삼불화 질소(NF3)에서 촉매에 의해 분해된 생성물인 질소 산화물(NOX)에 대해 충분한 제거기능을 갖지 못한다. 상기 질소 산화물의 배출 허용량은 현재 국내 환경보전법의 시행규칙에 의해 규제받고 있다.
한국등록특허공보 제10-0654922호
본 발명은, 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 과불화물 중 삼불화질소(NF3) 가스(이후로, 폐가스로 지칭됨)를 촉매와 반응시켜 질소(N2)가스와 질소산화물(NOX) 가스를 만들고 질소산화물 가스를 내부에서 제거시키고 질소가스를 외부에 배출시키는데 적합한 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명에 따른 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법은, 촉매를 준비하고, 폐가스 처리 장치에 상기 촉매를 장착하고, 상기 폐가스 처리 장치에 폐가스를 주입시키고, 상기 폐가스 처리 장치에서 상기 폐가스로부터 분해된 가스를 생성시키고, 상기 폐가스 처리 장치에서 상기 분해된 폐가스를 산화시켜 정화된 가스와 산화된 가스를 생성시키고, 상기 폐가스 처리 장치에서 상기 산화된 가스를 제거시키고, 상기 폐가스 처리 장치로부터 상기 정화된 가스를 외부에 배출시키는 것을 포함하고, 상기 촉매는 모노리스 형상으로 구현되기 위해 허니컴 형태의 지지체에 부착된 촉매 기능 물질로 이루어지거나 상기 지지체의 부재 상태에서 알갱이 형(pellet type) 또는 다공 형(perforated type)의 촉매 기능 물질로 이루어지고, 상기 촉매 기능 물질은 알루미나(Al2O3)의 표면 상에 갈륨(Ga), 아연(Zn)과 주석(Sn) 중 적어도 하나를 포함하고, 상기 폐가스는 삼불화질소(NF3)를 포함하고, 상기 폐가스 처리 장치에 상기 폐가스 3500ppm 주입시, 상기 폐가스 처리 장치는 적어도 하나의 반응기에 상기 폐가스를 수용하여 상기 반응기의 작동 온도 600℃ ~ 800℃ 에서 상기 촉매와 상기 폐가스를 접촉시킨 후 상기 분해된 가스에서 아산화질소(N2O)와 일산화질소(NO)와 이산화질소(NO2)를 함유하는 질소 산화물(NOx) 가스를 700ppm 이하로 갖는 것을 특징으로 한다.
상기 촉매를 준비하는 것은, 분말 형태의 알루미나 수화물(Al2OOH)을 준비하고, 상기 알루미나 수화물을 촉진제 첨가 수용액에 혼합하여 제1 혼합물을 형성하고, 상기 제1 혼합물에 인산 또는 질산을 추가하여 제2 혼합물을 형성하고, 상기 제2 혼합물에 600℃ ~ 800℃의 열처리를 적용하여 상기 촉매 기능 물질을 분말 형태로 형성하고, 상기 촉매 기능 물질을 함유하는 촉매 액을 형성한 후, 상기 지지체에 상기 촉매 액을 코팅시키거나, 상기 촉매 기능 물질을 압출 성형한 후, 상기 촉매 기능 물질을 알갱이 형상 또는 다공성 형상으로 형상화시키는 것을 포함할 수 있다.
상기 촉진제 첨가 수용액은 촉진제로서 갈륨(Ga), 아연(Zn) 또는 주석(Sn)을 포함할 수 있다.
상기 제1 혼합물은 상기 알루미나 수화물 100 중량부에 대해 촉진제 0.5 ~ 10 중량부를 혼합하여 형성될 수 있다.
상기 제2 혼합물은 pH 1.5 ~ 3.0을 가질 수 있다.
상기 촉매 기능 물질은 알루미나(Al2O3)의 표면 상에 갈륨(Ga), 아연(Zn) 또는 주석(Sn)를 포함할 수 있다.
상기 지지체는 다공성 코디얼라이트 또는 알루미늄 축열체를 포함할 수 있다.
상기 촉매 액은 물 100 중량부에 대해 상기 촉매 기능 물질 15~40 중량부를 혼합하여 형성될 수 있다.
상기 촉매는 다공성 코디얼라이트의 구멍 개수 50~400(/ Cell)에서 상기 다공성 코디얼라이트에 상기 촉매 액의 코팅 무게 100~250(g/L)로 코팅되어 형성되는 때 상기 지지체에 대한 상기 촉매 기능 물질의 부착성 95(%)를 유지할 수 있다.
상기 촉매를 준비하는 것은, 분말 형태의 알루미나 수화물(Al2OOH)을 준비하고, 상기 알루미나 수화물을 제1 촉진제 첨가 수용액에 혼합하여 제1 혼합물을 형성하고, 상기 제1 혼합물에 인산 또는 질산을 추가하여 제2 혼합물을 형성하고, 상기 제2 혼합물에 600℃ ~ 800℃의 제1 열처리를 적용하여 예비 촉매 기능 물질을 분말 형태로 형성하고, 상기 예비 촉매 기능 물질을 제2 촉진제 첨가 수용액에 혼합하여 제3 혼합물을 형성하고, 상기 제3 혼합물에 600℃ ~ 800℃의 제2 열처리를 적용하여 촉매 기능 물질을 분말 형태로 형성하고, 상기 촉매 기능 물질을 함유하는 촉매 액을 형성한 후, 상기 지지체에 상기 촉매 액을 코팅시키거나, 상기 촉매 기능 물질을 압출 성형한 후, 상기 촉매 기능 물질을 알갱이 형상 또는 다공성 형상으로 형상화시키는 것을 포함할 수 있다.
상기 제1 촉진제 첨가 수용액이 제1 촉진제로서 갈륨(Ga), 아연(Zn) 또는 주석(Sn)을 포함하고, 상기 제2 촉진제 첨가 수용액은 제2 촉진제로서, 상기 제1 촉진제와 다른 원소를 가지도록, 갈륨(Ga), 아연(Zn) 또는 주석(Sn)을 포함할 수 있다.
상기 제1 혼합물은 상기 알루미나 수화물 100 중량부에 대해 제1 촉진제 0.5 ~ 10 중량부를 혼합하여 형성될 수 있다.
상기 제2 혼합물은 pH 1.5 ~ 3.0을 가질 수 있다.
상기 제3 혼합물은 상기 예비 촉매 기능 물질 100 중량부에 대해 제2 촉진제 0.1 ~ 1.0 중량부를 혼합하여 형성되고, 상기 예비 촉매 기능 물질은 상기 알루미나의 상기 표면 상에 제1 촉진제로서 갈륨, 아연 또는 주석을 포함하고, 상기 제2 촉진제는, 상기 제1 촉진제와 다른 원소를 가지도록, 갈륨, 아연 또는 주석을 포함할 수 있다.
상기 촉매 기능 물질은 알루미나(Al2O3)의 표면 상에 갈륨(Ga), 아연(Zn)과 주석(Sn) 중 두 개를 포함할 수 있다.
상기 지지체는 다공성 코디얼라이트 또는 알루미늄 축열체를 포함할 수 있다.
상기 촉매 액은 물 100 중량부에 대해 상기 촉매 기능 물질 15~40 중량부를 혼합하여 형성될 수 있다.
상기 촉매는 다공성 코디얼라이트의 구멍 개수 50~400(/ Cell)에서 상기 다공성 코디얼라이트에 상기 촉매 액의 코팅 무게 100~250(g/L)로 코팅되어 형성되는 때 상기 지지체에 대한 상기 촉매 기능 물질의 부착성 95(%)를 유지할 수 있다.
상기 폐가스 처리 장치는 전 처리부, 축열 촉매산화 처리부, 후 처리부와 배기부를 포함하고, 상기 전 처리부는 상기 폐가스를 공급받고, 상기 축열 촉매산화 처리부는 상기 폐가스로부터 상기 분해된 가스와 상기 정화된 가스와 상기 산화된 가스를 생성하고, 상기 후 처리부는 상기 산화된 가스를 제거하고, 상기 배기부는 상기 산화된 가스를 외부에 배출시키는 것을 포함하고, 상기 폐가스는 수분 8%를 함유하고 공간 속도 2000/hr-1를 가지고, 상기 분해된 가스는 상기 폐가스 중 상기 수분을 이용하여 상기 정화된 가스와 상기 산화된 가스로 분해될 수 있다.
상기 전 처리부는, 스크러버 기구를 포함하면서, 상기 폐가스의 공급 경로를 따라 볼 때, 물을 이용하여 상기 폐가스와 함께 인입되는 부식성 가스(불산(HF) 또는 염산(HCl))을 제거하고, 상기 폐가스의 배출 경로를 따라 볼 때, 상기 폐가스를 상기 축열 촉매산화 처리부에 전달할 수 있다.
상기 축열 촉매산화 처리부는, 상기 폐가스의 공급 경로를 따라 볼 때, 상기 반응기 상에 위치되는 연소기와 축열체와 상기 촉매를 통해 상기 촉매에 상기 폐가스를 접촉시켜 상기 분해된 가스를 생성하며, 상기 분해된 가스의 배출 경로를 따라 볼 때, 상기 반응기 아래에 위치되는 오존(O3) 발생기를 통해 상기 수분으로부터 오존을 생성시킨 후 상기 분해된 가스에 상기 오존을 부가하여 상기 분해된 가스로부터 상기 정화된 가스와 상기 산화된 가스를 생성시키면서 상기 정화된 가스와 상기 산화된 가스를 상기 후 처리부에 전달할 수 있다.
상기 촉매 기능 물질이 알루미나의 표면 상에 갈륨, 아연 또는 주석을 포함하는 때, 상기 축열 촉매산화 처리부가 상기 반응기의 작동 온도를 600℃ ~ 800℃로 유지시키는 동안, 상기 분해된 가스는, 상기 반응기의 작동 온도 600℃, 700℃ 또는 800℃에서, 질소 산화물 가스 700ppm 과 질소 가스 2800ppm을 가질 수 있다.
상기 촉매 기능 물질이 알루미나의 표면 상에 갈륨, 아연과 주석 중 두 개를 포함하는 때, 상기 축열 촉매산화 처리부가 상기 반응기의 작동 온도를 600℃ ~ 800℃로 유지시키는 동안, 상기 분해된 가스는, 상기 반응기의 작동 온도 600℃, 700℃ 또는 800℃에서, 질소 산화물 가스 350ppm, 280ppm 또는 175ppm 과 질소 가스 3150ppm, 3220ppm 또는 3325ppm 을 가질 수 있다.
상기 산화된 가스는 상기 분해된 가스 중 상기 일산화 질소와 상기 이산화 질소와 상기 아산화 질소에 상기 오존을 적용하여 생성된 질산염(NO3)으로 이루어질 수 있다.
상기 후 처리부는, 스크러버 기구를 포함하면서, 상기 정화된 가스와 상기 산화된 가스의 공급 경로를 따라 볼 때, 물을 이용하여 상기 산화된 가스와 함께 인입되는 먼지를 제거하며, 상기 정화된 가스의 배출 경로를 따라 볼 때, 상기 정화된 가스를 상기 배기부로 전달할 수 있다.
상기 배기부는 상기 정화된 가스를 상기 외부에 배출시킬 수 있다.
본 발명은, 폐가스 처리 장치의 반응기에서 지지체의 존재 상태에서 알루미나의 표면에 갈륨(Ga), 아연(Zn)과 주석(Sn) 중 적어도 하나를 포함하여 지지체에 촉매 기능 물질의 부착성을 증진시킨 촉매를 구비하거나, 폐가스 처리 장치의 반응기에서 지지체의 존재 상태 또는 부재 상태에서 알루미나의 표면에 갈륨(Ga), 아연(Zn)과 주석(Sn) 중 적어도 하나를 포함하여 활성도와 열적 내구성을 증진시킨 촉매를 구비하므로, 폐가스 처리 장치의 작동 동안, 폐가스로부터 질소 산화물보다 질소 가스를 더 많이 생성시켜 질소 산화물의 제거 작업을 최소화할 수 있다.
본 발명은, 폐가스 처리 장치에 폐가스(NF3 가스)를 주입시키고, 폐가스 처리 장치의 반응기에서 지지체의 존재 상태 또는 지지체의 부재 상태에서 알루미나의 표면에 갈륨(Ga), 아연(Zn)과 주석(Sn) 중 적어도 하나를 포함하는 촉매에 폐가스를 접촉시켜 폐가스로부터 질소(N2)가스와 질소 산화물(NOX) 가스를 만들고, 폐가스 처리 장치의 반응기 아래에서 질소 산화물 가스에 오존(O3)을 반응시켜 질산염(NO3) 가스를 만들고, 폐가스 처리 장치에서 질산염 가스를 물과 함께 제거시키고, 폐가스 처리 장치로부터 인체에 무해한 질소가스 만을 대기로 배출시킬 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법을 설명해주는 개략도이다.
도 2는 도 1의 NF3의 제거 방법을 수행하는 폐가스 처리 장치를 보여주는 개략도이다.
도 3은 도 1의 폐가스 처리 장치에 촉매를 장착하기 전 촉매의 물리적 특성을 보여주는 표이다.
도 4는 도 1의 폐가스 처리 장치에 촉매를 장착 후 촉매에 대한 화학적 성질을 보여주는 표이다.
후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시 예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시 예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시 예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시 예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시 예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭하며, 길이 및 면적, 두께 등과 그 형태는 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다.
이하에서는, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 하기 위하여, 본 발명의 바람직한 실시 예들에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명에 따른 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법을 설명해주는 개략도이고, 도 2는 도 1의 NF3의 제거 방법을 수행하는 폐가스 처리 장치를 보여주는 개략도이다.
또한, 도 3은 도 1의 폐가스 처리 장치에 촉매를 장착하기 전 촉매의 물리적 특성을 보여주는 표이고, 도 4는 도 1의 폐가스 처리 장치에 촉매를 장착 후 촉매에 대한 화학적 성질을 보여주는 표이다.
도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 발명에 따른 폐가스 처리 장치(도 2의 160)에서 NF3의 제거 방법은, 우선적으로, 도 1에 도시된 바와 같이, 촉매를 준비하는 것(S10)을 포함한다. 상기 촉매를 준비하는 것(S10)은, 본 발명의 일 실시예에 따라, 분말 형태의 알루미나 수화물(Al2OOH)을 준비하고, 알루미나 수화물을 촉진제 첨가 수용액에 혼합하여 제1 혼합물을 형성하고, 제1 혼합물에 인산 또는 질산을 추가하여 제2 혼합물을 형성하고, 제2 혼합물에 600℃~800℃의 열처리를 적용하여 촉매 기능 물질을 분말 형태로 형성하고, 촉매 기능 물질을 함유하는 촉매 액을 형성한 후, 지지체에 촉매 액을 코팅시키거나, 촉매 기능 물질을 압출 성형한 후, 촉매 기능 물질을 알갱이 형상 또는 다공성 형상으로 형상화시키는 것을 포함한다.
상기 촉진제 첨가 수용액은 촉진제로서 갈륨(Ga), 아연(Zn) 또는 주석(Sn)을 포함한다. 상기 제1 혼합물은 알루미나 수화물 100 중량부에 대해 촉진제 0.5 ~ 10 중량부를 혼합하여 형성된다. 여기서, 상기 촉진제가 0.5 중량부 미만으로 사용될 때, 상기 촉진제는 삼불화질소(NF3) 가스(이하, ‘폐가스’로 지칭함) 분해에 대한 촉매(도 2의 130)의 역할을 저하시킨다. 상기 촉진제가 10 중량부보다 더 크게 사용될 때, 상기 촉진제는 급격한 분산도 저하로 인하여 알루미나 수화물의 표면을 덮어 촉매(130)의 역할을 저하시킨다.
상기 제2 혼합물은 pH 1.5 ~ 3.0을 갖는다. 상기 제2 혼합물이 pH 1.5 ~ 3.0 의 범위를 벗어나는 때, 상기 제2 혼합물은 뭉치거나 녹아서 촉진제를 산화물 형태가 아닌 메탈릭 형태로 유지시켜 촉진제로써 역할을 하지 못하게 한다. 상기 열처리가 온도 600℃ 미만에서 수행될 때, 촉매 기능 물질은 수분을 포함하는 베마이트(boehmite) 형태를 가지기 때문에 촉매(130)에 활성을 주지 못한다. 상기 열처리가 온도 800℃ 보다 더 큰 온도에서 수행될 때, 상기 촉매 기능 물질은 알파(α) 형태를 가지기 때문에 촉매(130)에 활성을 주지 못한다.
상기 촉매 기능 물질은 알루미나(Al2O3)의 표면 상에 갈륨(Ga), 아연(Zn) 또는 주석(Sn)를 포함한다. 상기 지지체는 다공성 코디얼라이트 또는 알루미늄 축열체를 포함한다. 상기 지지체는 허니컴 형태의 다공성 코디얼라이트 또는 허니컴 형태의 알루미늄 축열체를 포함한다. 상기 촉매 액은 물 100 중량부에 대해 촉매 기능 물질 15~40 중량부를 혼합하여 형성된다. 상기 촉매 기능 물질이 15 중량부 미만으로 사용될 때, 상기 촉매 액은 높은 점도로 인해 지지체에 양호하게 코팅될 수 없다. 또한, 상기 촉매 기능 물질이 40 중량부보다 더 크게 사용될 때, 상기 촉매액은 낮은 점도로 인해 지지체에 역시 양호하게 코팅될 수 없다.
이와 유사하게, 본 발명의 다른 실시예에 따라, 상기 촉매를 준비하는 것(S10)은, 분말 형태의 알루미나 수화물(Al2OOH)을 준비하고, 알루미나 수화물을 제1 촉진제 첨가 수용액에 혼합하여 제1 혼합물을 형성하고, 제1 혼합물에 인산 또는 질산을 추가하여 제2 혼합물을 형성하고, 제2 혼합물에 600℃~800℃의 제1 열처리를 적용하여 예비 촉매 기능 물질을 분말 형태로 형성하고, 예비 촉매 기능 물질을 제2 촉진제 첨가 수용액에 혼합하여 제3 혼합물을 형성하고, 제3 혼합물에 600℃~800℃의 제2 열처리를 적용하여 촉매 기능 물질을 분말 형태로 형성하고, 촉매 기능 물질을 함유하는 촉매 액을 형성한 후, 지지체에 촉매 액을 코팅시키거나, 촉매 기능 물질을 압출 성형한 후, 촉매 기능 물질을 알갱이 형상 또는 다공성 형상으로 형상화시키는 것을 포함한다.
상기 제1 촉진제 첨가 수용액이 제1 촉진제로서 갈륨(Ga), 아연(Zn) 또는 주석(Sn)을 포함한다. 상기 제2 촉진제 첨가 수용액은 제2 촉진제로서, 제1 촉진제와 다른 원소를 가지도록, 갈륨(Ga), 아연(Zn) 또는 주석(Sn)을 포함한다. 상기 제1 혼합물은 알루미나 수화물 100 중량부에 대해 제1 촉진제 0.5 ~ 10 중량부를 혼합하여 형성된다. 상기 제1 촉진제는 0.5 ~ 10 중량부 범위를 벗어나는 때 본 발명의 일 실시예의 촉진제와 동일한 역효과를 나타낸다. 상기 제2 혼합물은 pH 1.5 ~ 3.0을 갖는다. 상기 제2 혼합물은 pH 1.5 ~ 3.0 범위를 벗어나는 때 본 발명의 일 실시예의 제2 혼합물과 동일한 역효과를 나타낸다.
상기 예비 촉매 기능 물질은 알루미나의 표면 상에 제1 촉진제로서 갈륨, 아연 또는 주석을 포함한다. 상기 제1 열처리가 600℃~800℃ 온도 범위를 벗어나는 때, 상기 예비 촉매 기능 물질은 본 발명의 일 실시예에 따른 촉매 기능 물질과 동일한 역 효과를 나타낸다. 상기 제3 혼합물은 예비 촉매 기능 물질 100 중량부에 대해 제2 촉진제 0.1 ~ 1.0 중량부를 혼합하여 형성된다. 상기 제2 촉진제가 0.1 중량부 미만으로 사용될 때, 상기 촉매 기능 물질은 제2 촉진제의 역할(성능 향상과 안정화)을 나타내지 못한다. 또한, 상기 제2 촉진제가 1.0 중량부보다 더 크게 사용될 때, 상기 촉매 기능 물질은 제2 촉진제 1.0 중량부 이상에서 제2 촉진제의 역할을 동일하게 나타내므로 제2 촉진제를 1.0 중량부 이상으로 함유할 필요가 없다.
상기 제2 촉진제는, 제1 촉진제와 다른 원소를 가지도록, 갈륨, 아연 또는 주석을 포함한다. 상기 제2 열처리가 600℃~800℃ 온도 범위를 벗어나는 때, 상기 촉매 기능 물질은 제1 열처리의 온도 범위를 벗어난 예비 촉매 기능 물질의 역 효과와 동일한 역 효과를 나타낸다. 상기 촉매 기능 물질은 알루미나(Al2O3)의 표면 상에 갈륨(Ga), 아연(Zn)과 주석(Sn) 중 두 개를 포함한다. 상기 지지체는 허니컴 형태의 다공성 코디얼라이트 또는 허니컴 형태의 알루미늄 축열체를 포함한다. 상기 촉매 액은 물 100 중량부에 대해 촉매 기능 물질 15~40 중량부를 혼합하여 형성된다. 상기 촉매 기능 물질이 15 중량부 미만으로 사용될 때, 상기 촉매 액은 높은 점도로 인해 지지체에 양호하게 코팅될 수 없다. 또한, 상기 촉매 기능 물질이 40 중량부보다 더 크게 사용될 때, 상기 촉매액은 낮은 점도로 인해 지지체에 역시 양호하게 코팅될 수 없다.
다음으로, 도 3의 표에서, 제1, 제2 또는 제3 제조예는 본 발명의 일 실시예에 따른 촉매 기능 물질(Ga(Zn 또는 Sn)_Al2O3)을 지칭하고, 제4, 제5 또는 제6 제조예는 본 발명의 다른 실시예에 따른 촉매 기능 물질(Ga(Zn 또는 Sn)_Al2O3_Ga(Zn 또는 Sn)의 일부 만을 도시함)을 지칭한다. 본 발명의 일 실시예 또는 다른 실시예에 따른 촉매(130)를 구현하기 위해, 상기 허니컴 형태의 지지체가 가로(150mm) X 세로(150mm) X 높이(150mm) 에서 3.375L 의 부피로 준비될 수 있다. 또한, 도 3의 표에서, 셀(Cell)은 허니컴 형태의 지지체에서 가로(150mm) X 세로(150mm) 에 형성된 구멍의 개수를 지칭한다. 상기 구멍의 개수는, 바람직하게, 50 ~ 400(/cell) 범위를 가질 수 있다.
여기서, 150g/L’은 지지체 1L 당 촉매 액 150g 을 코팅한다는 조건이다. 상기 촉매 액은, 바람직하게, 100 ~ 250(g/ Cell) 범위에서 지지체에 코팅될 수 있다. 전체적으로, 상기 허니컴 형태의 지지체는 506.25g 의 촉매 액을 사용하여 코팅된다. 이를 통해, 상기 허니컴 형태의 지지체는 촉매 액을 통해 촉매 기능 물질과 함께 모노리스 형상을 유지할 수 있다. 상기 허니컴 형태의 지지체가 촉매 액에 의해 코팅된 후, 도 3의 표에서, 부착성은 부착성 측정장비의 air knife 도구를 사용하여 공기 유속을 0.1m/s ~ 10m/s 로 유지시키면서 허니컴 형태의 지지체에 공기를 마찰시켜 지지체로부터 촉매 기능 물질의 박리 정도를 확인시켜 준다.
상기 문구와 도 3을 고려할 때, 본 발명의 일 실시예 또는 다른 실시예에 따른 촉매(130)는, 지지체의 구멍 개수 50 ~ 400(/ Cell)에서 촉매 액의 코팅 무게 100~250(g/L), 예를 들면, 구멍 개수 50(/ Cell)에서 촉매 액의 코팅 무게 150(g/L)로 코팅되어 형성되는 때 지지체에 대한 촉매 기능 물질의 부착성 95(%)를 유지한다. 즉, 상기 촉매(130)는, 모노리스 형상으로 구현되기 위해 지지체와 촉매 기능 물질을 사용하는 때, 지지체에서 알루미나의 표면 상에 갈륨, 아연 또는 주석의 증착 원소에 관계없이 종래 기술에 이용되는 비교 제조예 1 또는 2 관련한 기존 촉매(Al2O3 또는 Ga_TiO2 를 포함)와 동일한 부착성을 보여 코팅 신뢰성을 갖는다. 일반적으로, 상기 부착성은 90% 이상이면 지지체에 대한 촉매 기능 물질의 코팅 신뢰성을 주는 것으로 당업자에게 공지되어 있다.
상기 촉매 액의 코팅 무게가 100(g/L) 미만일 때, 상기 촉매(130)는 허니컴 형태의 지지체에서 촉매 기능 물질의 우수한 부착성을 갖지만 촉매 액량의 부족에 기인하여 촉매의 역할을 전혀 하지 못한다. 상기 촉매 액의 코팅 무게가 250(g/L) 보다 더 클 때, 상기 촉매(130)는 허니컴 형태의 지지체에 과량의 촉매 액을 코팅시켜 두꺼운 촉매 기능 물질층에 의해 열악한 부착성을 갖는다. 한편, 상기 촉매(130)는 지지체를 사용하지 않고 촉매 기능 물질(Ga(Zn 또는 Sn)/Al2O3, 또는 Ga(Zn 또는 Sn)/Al2O3_Ga(Zn 또는 Sn))을 압출 성형시켜 알갱이 형(pellet type) 또는 다공 형(perforated type)의 촉매 기능 물질로 이루어질 수 있다.
다음으로, 도 1 내지 도 3에서, 상기 NF3의 제거 방법은, 폐가스 처리 장치(160)에 촉매(130)를 장착하고(S20), 폐가스 처리 장치(160)에 폐가스(NF3 가스)를 주입시키고(S30), 폐가스 처리 장치(160)에서 폐가스로부터 분해된 가스를 생성시키고(S50), 폐가스 처리 장치(160)에서 분해된 가스를 산화시켜 정화된 가스와 산화된 가스를 생성시키고(S70), 폐가스 처리 장치(160)에서 산화된 가스를 제거시키고(S80), 폐가스 처리 장치(160)로부터 정화된 가스를 외부에 배출시키는 것(S90)을 포함한다. 여기서, 상기 촉매(130)는 지지체와 촉매 기능 물질을 포함하거나 지지체의 사용 없이 압출 성형된 촉매 기능 물질 만을 포함할 수 있다. 상기 촉매 기능 물질은 Ga(Zn 또는 Sn)/Al2O3, 또는 Ga(Zn 또는 Sn)/Al2O3_Ga(Zn 또는 Sn)을 포함할 수 있다.
여기서, 상기 폐가스 처리 장치(160)는 전 처리부(P1), 축열 촉매산화 처리부(P2), 후 처리부(P3)와 배기부(P4)를 포함한다. 상기 폐가스 처리 장치(160)의 작동 동안, 상기 전 처리부(P1)는 폐가스를 공급받는다. 여기서, 상기 폐가스는 수분 8%를 함유하고 공간 속도 2000/hr-1를 갖는다. 상기 공간 속도는 폐가스의 유량(부피(m3)/시간(hr))을 촉매(130)의 용적(부피(m3))으로 나누어 표시된다. 따라서, 상기 폐가스의 공간 속도가 클수록, 상기 폐가스의 통과 속도는 빠르고, 상기 촉매(130)의 용적은 상대적으로 작게 된다. 좀 더 상세하게는, 상기 전 처리부(P1)는, 스크러버 기구를 포함하면서, 폐가스의 공급 경로를 따라 볼 때, 물을 이용하여 폐가스와 함께 인입되는 부식성 가스(불산(HF) 또는 염산(HCl))을 제거하고, 폐가스의 배출 경로를 따라 볼 때, 폐가스를 축열 촉매산화 처리부(P2)에 전달한다.
상기 축열 촉매산화 처리부(P2)는 폐 가스를 수용하는 적어도 하나의 반응기(110)를 가지며, 반응기(110)의 작동 온도를 600℃~ 800℃로 유지시켜 가동된다. 상기 축열 촉매산화 처리부(P2)는 촉매(130)에 폐가스를 접촉시킨 후 폐가스로부터 분해된 가스를 생성시킨다. 좀 더 상세하게는, 상기 축열 촉매산화 처리부(P2)는, 폐가스의 공급 경로를 따라 볼 때, 반응기(110) 상에 위치되는 축열체(120)와 촉매(130)와 연소기(140)를 통해 촉매(130)에 폐가스를 접촉시켜 폐가스로부터 분해된 가스를 생성한다. 상기 폐가스는 삼불화질소(NF3)를 포함하지만, 상기 분해된 가스는 질소(N2)와 일산화질소(NO)와 이산화질소(NO2)와 아산화질소(N2O)를 포함한다. 상기 일산화질소(NO)와 이산화질소(NO2)와 아산화질소(N2O)는 질소 산화물(NOX)을 이룬다.
상기 축열 촉매산화 처리부(P2)가 반응기(110)의 작동 온도를 600℃ ~ 800℃ 로 유지시키는 동안, 도 4에서, 본 발명의 일 실시예의 촉매(130)에 따르면, 상기 촉매 기능 물질이 알루미나의 표면 상에 갈륨, 아연 또는 주석을 포함하는 때, 상기 축열 촉매산화 처리부(P2)에 폐가스를 3500ppm 주입시, 상기 촉매(130)는 지지체의 존재 또는 부재와 관계없이 촉매 기능 물질(Ga/Al2O3)을 이용하여 폐가스 전환률(NF3 conversion) 100%와 삼불화질소로부터 질소 전환률(N2 conversion) 80%를 가지고, 폐가스를 분해하여 질소 산화물 가스 700ppm과 질소 가스 2800ppm을 생성시킨다.
이와 유사하게, 상기 축열 촉매산화 처리부(P2)가 반응기(110)의 작동 온도를 600℃ ~ 800℃ 로 유지시키는 동안, 도 4에서, 본 발명의 다른 실시예의 촉매(130)에 따르면, 상기 촉매 기능 물질이 알루미나의 표면 상에 갈륨, 아연과 주석 중 두 개를 포함하는 때, 상기 축열 촉매산화 처리부(P2)에 폐가스를 3500ppm 주입시, 상기 촉매(130)는 지지체의 존재 또는 부재와 관계없이 촉매 기능 물질(Ga/Al2O3_Zn)을 이용하여 폐가스 전환률 100%와 삼불화질소로부터 질소 전환률(N2 conversion) 92% 이상을 가지고, 폐가스를 분해하여 질소 산화물 가스 350ppm, 280ppm 또는 175ppm(@ 600℃, 700℃ 또는 800℃)과 질소 가스 3150ppm, 3220ppm 또는 3325ppm(@ 600℃, 700℃ 또는 800℃)을 생성시킨다.
이에 반해서, 상기 축열 촉매산화 처리부(P2)가 반응기(110)의 작동 온도를 600℃ ~800℃ 로 유지시키는 동안, 도 4에서, 종래 기술의 기존 촉매에 따르면, 촉매 기능 물질이 알루미나를 포함하는 때, 상기 축열 촉매산화 처리부(P2)에 폐가스를 3500ppm 주입시, 기존 촉매는 지지체의 존재 또는 부재와 관계없이 촉매 기능 물질(Al2O3)을 이용하여 폐가스 전환률 100% 이하와 삼불화질소로부터 질소 전환률(N2 conversion) 40% 이하를 가지고, 폐가스를 분해하여 질소 산화물 가스 2275ppm, 2275ppm 또는 2100ppm(@ 600℃, 700℃ 또는 800℃)을 생성시킨다. 따라서, 종래 기술에 따른 기존 촉매는 전반적으로 폐가스 전환율과 질소 전환율의 관점에서 본 발명의 일 실시예 또는 다른 실시예에 따른 촉매(130)보다 더 낮게 갖는다.
계속해서, 상기 축열 촉매산화 처리부(P2)는, 분해된 가스의 배출 경로를 따라 볼 때, 반응기(110) 아래에 위치되는 오존(O3) 발생기(150)를 통해 폐가스에서 유래된 수분으로부터 오존을 생성시킨 후 분해된 가스에 오존을 부가하여 분해된 가스로부터 정화된 가스와 산화된 가스를 생성시키면서 정화된 가스와 산화된 가스를 후 처리부(P3)에 전달한다. 여기서, 상기 산화된 가스는 분해된 가스 중 일산화 질소와 이산화 질소와 아산화 질소에 오존을 적용하여 생성된 질산염(NO3)으로 이루어진다.
상기 후 처리부(P3)는 산화된 가스를 제거시킨다. 좀 더 상세하게는, 상기 후 처리부(P3)는, 스크러버 기구를 포함하면서, 정화된 가스와 산화된 가스의 공급 경로를 따라 볼 때, 물을 이용하여 산화된 가스와 함께 인입되는 먼지를 제거하며, 정화된 가스의 배출 경로를 따라 볼 때, 정화된 가스를 배기부(P4)로 전달한다. 상기 배기부(P4)는 정화된 가스를 외부에 배출시킨다. 좀 더 상세하게는, 상기 배기구(P4)는 송풍 팬을 통해 정화된 가스로서 질소(N2) 가스를 외부(또는 대기)에 배출시킨다.
S10, S20, S30, S50, S70, S80, S90; 단계

Claims (26)

  1. 촉매를 준비하고,
    폐가스 처리 장치에 상기 촉매를 장착하고,
    상기 폐가스 처리 장치에 폐가스를 주입시키고,
    상기 폐가스 처리 장치에서 상기 폐가스로부터 분해된 가스를 생성시키고,
    상기 폐가스 처리 장치에서 상기 분해된 폐가스를 산화시켜 정화된 가스와 산화된 가스를 생성시키고,
    상기 폐가스 처리 장치에서 상기 산화된 가스를 제거시키고,
    상기 폐가스 처리 장치로부터 상기 정화된 가스를 외부에 배출시키는 것을 포함하고,
    상기 촉매는 모노리스 형상으로 구현되기 위해 허니컴 형태의 지지체에 부착된 촉매 기능 물질로 이루어지거나 상기 지지체의 부재 상태에서 알갱이 형(pellet type) 또는 다공 형(perforated type)의 촉매 기능 물질로 이루어지고,
    상기 촉매 기능 물질은 알루미나(Al2O3)의 표면 상에 갈륨(Ga), 아연(Zn)과 주석(Sn) 중 적어도 하나를 포함하고,
    상기 폐가스는 삼불화질소(NF3)를 포함하고,
    상기 폐가스 처리 장치에 상기 폐가스 3500ppm 주입시, 상기 폐가스 처리 장치는 적어도 하나의 반응기에 상기 폐가스를 수용하여 상기 반응기의 작동 온도 600℃ ~ 800℃ 에서 상기 촉매와 상기 폐가스를 접촉시킨 후 상기 분해된 가스에서 아산화질소(N2O)와 일산화질소(NO)와 이산화질소(NO2)를 함유하는 질소 산화물(NOx) 가스를 700ppm 이하로 갖는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 촉매를 준비하는 것은,
    분말 형태의 알루미나 수화물(Al2OOH)을 준비하고,
    상기 알루미나 수화물을 촉진제 첨가 수용액에 혼합하여 제1 혼합물을 형성하고,
    상기 제1 혼합물에 인산 또는 질산을 추가하여 제2 혼합물을 형성하고,
    상기 제2 혼합물에 600℃ ~ 800℃의 열처리를 적용하여 상기 촉매 기능 물질을 분말 형태로 형성하고,
    상기 촉매 기능 물질을 함유하는 촉매 액을 형성한 후, 상기 지지체에 상기 촉매 액을 코팅시키거나, 상기 촉매 기능 물질을 압출 성형한 후, 상기 촉매 기능 물질을 알갱이 형상 또는 다공성 형상으로 형상화시키는 것을 포함하는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 촉진제 첨가 수용액은 촉진제로서 갈륨(Ga), 아연(Zn) 또는 주석(Sn)을 포함하는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법.
  4. 제2 항에 있어서,
    상기 제1 혼합물은 상기 알루미나 수화물 100 중량부에 대해 촉진제 0.5 ~ 10 중량부를 혼합하여 형성되는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법.
  5. 제2 항에 있어서,
    상기 제2 혼합물은 pH 1.5 ~ 3.0을 가지는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법.
  6. 제2 항에 있어서,
    상기 촉매 기능 물질은 알루미나(Al2O3)의 표면 상에 갈륨(Ga), 아연(Zn) 또는 주석(Sn)를 포함하는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법.
  7. 제2 항에 있어서,
    상기 지지체는 다공성 코디얼라이트 또는 알루미늄 축열체를 포함하는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법.
  8. 제2 항에 있어서,
    상기 촉매 액은 물 100 중량부에 대해 상기 촉매 기능 물질 15~40 중량부를 혼합하여 형성되는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법.
  9. 제2 항에 있어서,
    상기 촉매는 다공성 코디얼라이트의 구멍 개수 50~400(/ Cell)에서 상기 다공성 코디얼라이트에 상기 촉매 액의 코팅 무게 100~250(g/L)로 코팅되어 형성되는 때 상기 지지체에 대한 상기 촉매 기능 물질의 부착성 95(%)를 유지하는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법.
  10. 제1 항에 있어서,
    상기 촉매를 준비하는 것은,
    분말 형태의 알루미나 수화물(Al2OOH)을 준비하고,
    상기 알루미나 수화물을 제1 촉진제 첨가 수용액에 혼합하여 제1 혼합물을 형성하고,
    상기 제1 혼합물에 인산 또는 질산을 추가하여 제2 혼합물을 형성하고,
    상기 제2 혼합물에 600℃ ~ 800℃의 제1 열처리를 적용하여 예비 촉매 기능 물질을 분말 형태로 형성하고,
    상기 예비 촉매 기능 물질을 제2 촉진제 첨가 수용액에 혼합하여 제3 혼합물을 형성하고,
    상기 제3 혼합물에 600℃ ~ 800℃의 제2 열처리를 적용하여 촉매 기능 물질을 분말 형태로 형성하고,
    상기 촉매 기능 물질을 함유하는 촉매 액을 형성한 후, 상기 지지체에 상기 촉매 액을 코팅시키거나, 상기 촉매 기능 물질을 압출 성형한 후, 상기 촉매 기능 물질을 알갱이 형상 또는 다공성 형상으로 형상화시키는 것을 포함하는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법.
  11. 제10 항에 있어서,
    상기 제1 촉진제 첨가 수용액이 제1 촉진제로서 갈륨(Ga), 아연(Zn) 또는 주석(Sn)을 포함하고,
    상기 제2 촉진제 첨가 수용액은 제2 촉진제로서, 상기 제1 촉진제와 다른 원소를 가지도록, 갈륨(Ga), 아연(Zn) 또는 주석(Sn)을 포함하는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법.
  12. 제10 항에 있어서,
    상기 제1 혼합물은 상기 알루미나 수화물 100 중량부에 대해 제1 촉진제 0.5 ~ 10 중량부를 혼합하여 형성되는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법.
  13. 제10 항에 있어서,
    상기 제2 혼합물은 pH 1.5 ~ 3.0을 가지는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법.
  14. 제10 항에 있어서,
    상기 제3 혼합물은 상기 예비 촉매 기능 물질 100 중량부에 대해 제2 촉진제 0.1 ~ 1.0 중량부를 혼합하여 형성되고,
    상기 예비 촉매 기능 물질은 상기 알루미나의 상기 표면 상에 제1 촉진제로서 갈륨, 아연 또는 주석을 포함하고,
    상기 제2 촉진제는, 상기 제1 촉진제와 다른 원소를 가지도록, 갈륨, 아연 또는 주석을 포함하는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법.
  15. 제10 항에 있어서,
    상기 촉매 기능 물질은 알루미나(Al2O3)의 표면 상에 갈륨(Ga), 아연(Zn)과 주석(Sn) 중 두 개를 포함하는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법.
  16. 제10 항에 있어서,
    상기 지지체는 다공성 코디얼라이트 또는 알루미늄 축열체를 포함하는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법.
  17. 제10 항에 있어서,
    상기 촉매 액은 물 100 중량부에 대해 상기 촉매 기능 물질 15~40 중량부를 혼합하여 형성되는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법.
  18. 제10 항에 있어서,
    상기 촉매는 다공성 코디얼라이트의 구멍 개수 50~400(/ Cell)에서 상기 다공성 코디얼라이트에 상기 촉매 액의 코팅 무게 100~250(g/L)로 코팅되어 형성되는 때 상기 지지체에 대한 상기 촉매 기능 물질의 부착성 95(%)를 유지하는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법.
  19. 제1 항에 있어서,
    상기 폐가스 처리 장치는 전 처리부, 축열 촉매산화 처리부, 후 처리부와 배기부를 포함하고,
    상기 전 처리부는 상기 폐가스를 공급받고,
    상기 축열 촉매산화 처리부는 상기 폐가스로부터 상기 분해된 가스와 상기 정화된 가스와 상기 산화된 가스를 생성하고,
    상기 후 처리부는 상기 산화된 가스를 제거하고,
    상기 배기부는 상기 산화된 가스를 외부에 배출시키는 것을 포함하고,
    상기 폐가스는 수분 8%를 함유하고 공간 속도 2000/hr-1를 가지고,
    상기 분해된 가스는 상기 폐가스 중 상기 수분을 이용하여 상기 정화된 가스와 상기 산화된 가스로 분해되는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법.
  20. 제19 항에 있어서,
    상기 전 처리부는, 스크러버 기구를 포함하면서,
    상기 폐가스의 공급 경로를 따라 볼 때, 물을 이용하여 상기 폐가스와 함께 인입되는 부식성 가스(불산(HF) 또는 염산(HCl))을 제거하고,
    상기 폐가스의 배출 경로를 따라 볼 때, 상기 폐가스를 상기 축열 촉매산화 처리부에 전달하는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법.
  21. 제19 항에 있어서,
    상기 축열 촉매산화 처리부는,
    상기 폐가스의 공급 경로를 따라 볼 때, 상기 반응기 상에 위치되는 연소기와 축열체와 상기 촉매를 통해 상기 촉매에 상기 폐가스를 접촉시켜 상기 분해된 가스를 생성하며,
    상기 분해된 가스의 배출 경로를 따라 볼 때, 상기 반응기 아래에 위치되는 오존(O3) 발생기를 통해 상기 수분으로부터 오존을 생성시킨 후 상기 분해된 가스에 상기 오존을 부가하여 상기 분해된 가스로부터 상기 정화된 가스와 상기 산화된 가스를 생성시키면서 상기 정화된 가스와 상기 산화된 가스를 상기 후 처리부에 전달하는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법.
  22. 제21 항에 있어서,
    상기 촉매 기능 물질이 알루미나의 표면 상에 갈륨, 아연 또는 주석을 포함하는 때,
    상기 축열 촉매산화 처리부가 상기 반응기의 작동 온도를 600℃ ~ 800℃로 유지시키는 동안,
    상기 분해된 가스는, 상기 반응기의 작동 온도 600℃, 700℃ 또는 800℃에서, 질소 산화물 가스 700ppm 과 질소 가스 2800ppm 을 갖는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법.
  23. 제21 항에 있어서,
    상기 촉매 기능 물질이 알루미나의 표면 상에 갈륨, 아연과 주석 중 두 개를 포함하는 때,
    상기 축열 촉매산화 처리부가 상기 반응기의 작동 온도를 600℃ ~ 800℃로 유지시키는 동안,
    상기 분해된 가스는, 상기 반응기의 작동 온도 600℃, 700℃ 또는 800℃에서, 질소 산화물 가스 350ppm, 280ppm 또는 175ppm 과 질소 가스 3150ppm, 3220ppm 또는 3325ppm 을 갖는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법.
  24. 제21 항에 있어서,
    상기 산화된 가스는 상기 분해된 가스 중 상기 일산화 질소와 상기 이산화 질소와 상기 아산화 질소에 상기 오존을 적용하여 생성된 질산염(NO3)으로 이루어지는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법.
  25. 제19 항에 있어서,
    상기 후 처리부는, 스크러버 기구를 포함하면서,
    상기 정화된 가스와 상기 산화된 가스의 공급 경로를 따라 볼 때, 물을 이용하여 상기 산화된 가스와 함께 인입되는 먼지를 제거하며,
    상기 정화된 가스의 배출 경로를 따라 볼 때, 상기 정화된 가스를 상기 배기부로 전달하는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법.
  26. 제19 항에 있어서,
    상기 배기부는 상기 정화된 가스를 상기 외부에 배출시키는 폐가스 처리 장치에서 NF3의 제거 방법.
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