KR20190021408A - 개선된 경피 침투를 위한 화장용 기구 및 그 제조 방법 - Google Patents

개선된 경피 침투를 위한 화장용 기구 및 그 제조 방법 Download PDF

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Abstract

활성 성분을 피부 내에 전달하도록 구성된 화장용 기구를 제공하기 위한 시스템, 디바이스 및 방법, 그리고 그러한 화장용 기구를 제조하기 위한 방법이 개시된다. 일 구체예에서, 화장용 기구는 본체의 헤드부의 내부 또는 위에 위치하고, 활성 성분에 반자성을 유도하는 자기장을 발생시키도록 구성되어 있는 이방성 자기 소자를 포함한다. 일 구체예에서, 이방성 자기 소자는 허니컴 자기화 패턴을 갖는다.

Description

개선된 경피 침투를 위한 화장용 기구 및 그 제조 방법
본 개시는 개선된 경피 침투를 위한 화장용 기구 및 그러한 화장용 기구를 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.
스킨케어 조성물 등 몇몇 종류의 화장료 또는 의약 조성물은 손(보다 정확하게는, 손가락 또는 손바닥)에 의해, 또는 도포구를 이용하여 피부에 도포되는 것을 목적으로 한다. 조성물 내의 극성이 있는 친수성 활성 성분은 피부 내에 보다 깊이 경피 침투되는 것을 목적으로 한다.
그러나, 극성이 있는 친수성 활성 성분의 경피 침투는 각질층(stratum corneum; SC)의 배리어 특성에 의해 제한된다. 몇 가지의 화학적 및 물리적 침투 촉진 기법이 난침투성 분자의 경피 전달을 개선하기 위해 탐색되고 있다.
능동적 경피 침투를 위한 하나의 후보는 반자성이다. 반자성은 일반적으로 물, 대부분의 유기 소분자 등 대부분의 물질에서 나타난다. 반자성은 인가되는 외부 자기장과 반대의 방향으로 자기장을 유도하고, 따라서 인가되는 외부 자기장에 의해 반발되는 물질의 특성이다. 이는 본질적으로 반자성인 유기 소분자에 대해 유망한 비침습적 경피 전달이다.
반자성을 실시하기 위한 하나의 방법은 교호의 자기 극성을 갖는 이방성 자기 어레이를 사용하는 것이다. 기본적으로, 이는 같은 표면상에 주기적 자기 패턴을 형성하는 N(북)극 및 S(남)극을 필요로 한다. 그리고, 이 이방성 자기력이 어레이로부터 표면상으로 비극성 배향의 자기력을 발생시키고, 이는 전체적으로 능동적 전달을 위한 반자성 반발장을 형성한다.
예를 들면, WO2009/135246호에는 교호의 자기 극성을 갖는 봉 형상의 선형 자성체 쌍의 이방성 자기 어레이가 개시되어 있다. 절연체는 자성체의 인접하는 쌍 사이에 배치된다. 이 문헌의 어레이는 선형 자기화 패턴을 초래한다.
보다 강한 자기력이 일반적으로 표적 물질(즉, 활성 성분)을 이용하여 보다 강한 반발력을 발생시키는 것으로 이해할 수 있다. 따라서, 종래의 선형 자기화 패턴과 비교하여 경피 침투의 개선을 위해 보다 강한 자기력을 초래하는, 보다 효과적인 이방성 자기화 패턴을 제공할 필요성이 있다.
일 양태에서는, 본 개시는 한정된 영역 내에 효율적인 자기화 패턴을 제공함으로써 활성 성분의 경피 침투를 개선하기 위한 화장용 기구에 있어서, 보다 강한 이방성 자기력을 실현하기 위한 기술 및 방법론을 과제로 한다.
상기 과제는 활성 성분을 피부 내에 전달하기 위한 화장용 기구로서, 핸들부 및 핸들부에서 연장되는 헤드부를 포함하는 본체와, 본체 헤드부의 내부 또는 위에 위치하는 이방성 자기 소자로서, 자기장을 발생시키고 활성 성분에 반자성을 유도하도록 구성된 이방성 자기 소자를 구비하고, 이방성 자기 소자가 허니컴 자기화 패턴을 갖는 화장용 기구에 의해 달성된다.
일 양태에서는, 허니컴 자기화 패턴은 복수의 육각형 자기화 존을 어레이 형상으로 포함할 수 있고, 각 육각형 자기화 존은 N극 또는 S극을 갖는다.
일 양태에서는, 이방성 자기 소자는 네오디뮴 고무 자석을 포함할 수 있다.
일 양태에서는, 이방성 자기 소자는 약 50가우스(G) 내지 약 1500가우스 사이, 바람직하게는 약 100가우스 내지 약 300가우스 사이의 자속 밀도를 가질 수 있다.
일 양태에서는, 본체의 헤드부는 본체의 헤드부 내부의 이방성 자기 소자를 커버하기 위한 커버를 포함할 수 있다.
일 양태에서는, 본 개시는 또한 활성 성분을 피부 내에 전달하기 위한 방법으로서, 허니컴 자기화 패턴을 갖는 이방성 자기 소자를 통해 자기장을 발생시키는 단계와, 활성 성분에 반자성을 유도하는 단계를 포함하는 방법에 관한 것이다.
일 양태에서는, 허니컴 자기화 패턴을 갖는 이방성 자기 소자를 통해 자기장을 발생시키는 단계는, 허니컴 자기화 패턴이 복수의 육각형 자기화 존을 어레이 형상으로 포함하고 각 육각형 자기화 존이 N극 또는 S극을 갖도록 이방성 자기 소자를 자기화시키는 것을 포함한다.
일 양태에서는, 복수의 육각형 자기화 존은 육각형 자기화 코어의 어레이를 갖는 자화기에 의해 자기화된다.
일 양태에서는, 허니컴 자기화 패턴을 갖는 이방성 자기 소자를 통해 자기장을 발생시키는 단계는, 네오디뮴 고무 자석으로 형성된 이방성 자기 소자를 통해 자기장을 발생시키는 것을 포함한다.
일 양태에서는, 허니컴 자기화 패턴을 갖는 이방성 자기 소자를 통해 자기장을 발생시키는 단계는, 이방성 자기 소자를 커버하기 위한 커버를 포함하는 이방성 자기 소자를 통해 자기장을 발생시키는 것을 포함한다.
일 양태에서는, 본 개시는 또한 활성 성분을 피부 내에 전달하기 위한 화장용 기구를 제조하기 위한 방법으로서, 핸들부 및 핸들부에서 연장되는 헤드부를 구비하는 본체를 제공하는 단계와, 자기장을 발생시키고 활성 성분에 반자성을 유도하도록 구성된 이방성 자기 소자로서, 허니컴 자기화 패턴을 갖는 이방성 자기 소자를 제공하는 단계와, 이방성 자기 소자를 본체의 헤드부에 부착하는 단계를 포함하는 방법에 관한 것이다.
일 양태에서는, 이방성 자기 소자를 제공하는 단계는, 허니컴 자기화 패턴이 복수의 육각형 자기화 존을 어레이 형상으로 포함하고 각 육각형 자기화 존이 N극 또는 S극을 갖도록 이방성 자기 소자를 자기화시키는 것을 포함한다.
일 양태에서는, 복수의 육각형 자기화 존은 육각형 자기화 코어의 어레이를 갖는 자화기에 의해 자기화된다.
일 양태에서는, 이방성 자기 소자를 제공하는 단계는, 이방성 자기 소자를 네오디뮴 고무 자석으로 형성하는 것을 포함한다.
일 양태에서는, 본 방법은 추가로 이방성 자기 소자를 커버하기 위한 커버를 제공하는 것을 포함한다.
본 발명의 다른 목적, 양태, 이점 및 특징은 첨부한 도면과 함께 비한정적인 구체예의 이하의 상세한 설명을 읽으면 명확해진다.
도 1은 허니컴 자기화 패턴과 함께 일 구체예에 따른 화장용 기구를 나타내는 개략 사시도이다.
도 2는 특징적 치수와 함께 도 1의 화장용 기구의 개략 상면도 및 측면도를 나타낸다.
도 3은 일 구체예에 따른 이방성 자기 소자가 갖는 허니컴 자기화 패턴의 개략도이다.
도 4는 자기화 코어의 어레이를 갖는 자화기의 개략 측면도이다.
도 1은 일 구체예에 따른 화장용 기구(100)을 나타내는 개략 사시도이다. 도 2는 화장용 기구(100)의 개략 상면도 및 개략 측면도를 나타낸다. 화장용 기구(100)는 가늘고 긴 본체(10) 및 이방성 자기 소자(20)를 포함한다.
본체(10)는 핸들부(11) 및 핸들부(11)에서 연장되는 헤드부(12)를 구비한다.
핸들부(11)는 손가락 및/또는 손바닥으로 화장용 기구(100)를 잡기 위한 임의의 적절한 형상을 가진다. 예를 들면, 도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같이, 핸들부(11)는 둥근 봉 형상을 가질 수 있다.
헤드부(12)는 핸들부(11)에서 연장되고, 실질적으로 평탄한 표면을 갖는다. 도 1 및 도 2에 나타내는 일 구체예에서는, 헤드부(12)는 실질적으로 평탄한 표면을 형성하도록 핸들부(11)에서 비틀어서 연장될 수 있다. 헤드부(12)의 실질적으로 평탄한 표면은 전체적으로 계란형 또는 타원형 형상을 가질 수 있다. 헤드부(12)의 가장자리는 둥글 수 있다.
일 구체예에서는, 헤드부(12)는 헤드부(12) 내부의 이방성 자기 소자(20)를 커버하고 둘러싸기 위한 커버를 포함할 수 있다. 이 구체예에서는, 커버는 헤드부(12)의 실질적으로 평탄한 표면을 형성하도록 헤드부(12)의 일부를 형성한다. 다시 말하면, 이방성 자기 소자(20)는 헤드부(12) 내부에 위치한다. 그러나, 이하에서 추가로 설명하는 바와 같이, 커버를 생략할 수 있다.
헤드부(12)는 그 실질적으로 평탄한 표면과 피부를 접촉시키는 것을 목적으로 하고 있다. 또한, 헤드부(12)는 조성물 용기에서 조성물을 적시고, 이를 피부에 도포하고, 반자성 효과로 인해 조성물 내의 활성 성분을 피부 내에 침투시키기 위해 피부를 마사지하도록 구성될 수 있다. 다시 말하면, 이러한 헤드부(12)를 포함하는 화장용 기구(100)는 압설자, 도포구 및 마사지기로서의 역할을 할 수 있다.
특징적 치수와 함께 화장용 기구(100)의 개략 상면도 및 측면도를 나타내는 도 2를 참조하면, 본체(10)는 길이 L을 갖는다. 본체(10)의 길이 L은 도포(얼굴로의 도포, 또는 신체로의 도포 등)에 따라 약 50mm 내지 약 100mm 사이(예를 들면, 80mm)일 수 있다. 이에 따라, 핸들부(11)는 주폭 W1(즉, 핸들부(11)의 최대폭) 및 주두께 T1(즉, 핸들부(11)의 최대 두께)을 갖는다. 헤드부(12)는 주폭 W2(즉, 헤드부(12)의 최대폭) 및 주두께 T2(즉, 헤드부(12)의 최대 두께)를 갖는다. 헤드부(12)가 타원형의 평탄한 표면을 갖는 경우, 헤드부(12)의 주폭 W2는 타원의 단축에 대응할 수 있다. 핸들부(11)에 관하여, 주폭 W1은 약 3mm 내지 약 6mm 사이(예를 들면, 4.8mm)일 수 있고, 주두께 T1은 약 6mm 내지 약 12mm 사이(예를 들면, 9.2mm)일 수 있다. 헤드부(12)에 관하여, 주폭 W2는 약 8mm 내지 약 16mm 사이(예를 들면, 13mm)일 수 있고, 주두께 T2는 약 3mm 내지 약 8mm 사이(예를 들면, 5.3mm)일 수 있다. 하지만, 핸들부(11) 및 헤드부(12)를 포함하는 본체(10)는 임의의 적절한 치수를 제한없이 가질 수 있다.
일 구체예에서는, 핸들부(11) 및 헤드부(12)는 사출 성형 등의 성형에 의해 일체적으로 형성될 수 있다. 다른 구체예에서는, 핸들부(11) 및 헤드부(12)는 성형에 의해 각각 형성되고, 이어서, 예를 들면 접착제에 의해 함께 연결될 수 있다.
본체(10)(즉, 핸들부(11), 헤드부(12) 및 커버)는 수지 등의 임의의 적절한 비자성 재료로 형성될 수 있다. 수지의 비한정적인 예시로서, 스티렌아크릴로니트릴(SAN) 수지, 아크릴로니트릴부타디엔스티렌(ABS) 수지, 폴리프로필렌(PP) 수지, 폴리에스테르 수지, 엘라스토머 수지, 폴리염화비닐을 들 수 있다. 또한, 알루미늄이나 비자성 스테인리스 강 등의 비자성 금속 재료를 본체(10)의 재료로 사용할 수 있다.
본체(10)는, 표면 마감이 이방성 자기 소자(20)로부터의 자기력에 영향을 미치지 않는 것이면, 비자성 재료의 피복 또는 도금(무전해 도금 등)을 이용하여 심미적 및/또는 보호 목적을 위해 추가로 표면 마감을 할 수 있다.
일 구체예에서는, 이방성 자기 소자(20)를 헤드부(12) 내부에 배치한다. 이 때문에, 위에서 설명한 바와 같이, 헤드부(12)의 일부로서의 커버가 헤드부(12) 내부의 이방성 자기 소자(20)를 커버하고 둘러쌀 수 있다. 대안적으로, 이방성 자기 소자(20)는 커버 없이 헤드부(12) 상에 위치할 수 있다. 이 대안에서는, 이방성 자기 소자(20)는 피부에 직접 접촉하는 것을 목적으로 하여 대응하는 실질적으로 평탄한 표면을 가질 수 있다.
이방성 자기 소자(20)는 0.1mm 내지 2mm 사이(예를 들면, 0.5mm)의 두께를 가질 수 있다.
일 구체예에서는, 이방성 자기 소자(20)는 페라이트 고무 자석, 희토류 고무 자석 등의 당해 기술 분야에서 알려져 있는 고무 자석(본드 자석으로서도 알려져 있다)을 포함할 수 있다. 희토류 고무 자석으로서 네오디뮴(NdFeB) 고무 자석, 사마륨코발트(SmCo) 고무 자석을 들 수 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 바람직하게는, 고무 자석은 보다 강한 자기력을 위해 네오디뮴 고무 자석일 수 있다. 고무 자석은 일반적으로 자석 미립자(페라이트 또는 네오디뮴 자석 미립자 등), 고무 재료(또는 수지 재료)(니트릴 고무, 실리콘 고무 등) 및 적절한 첨가제(가소제, 윤활제, 가교제, 노화 방지제 등)를 포함한다. 자석 미립자는 고무 재료 내에 균일하게 분산된다. 고무 재료 내의 자석 미립자의 체적 백분율은 전체 혼합물에 대해 약 10체적% 내지 약 80체적%의 사이, 바람직하게는 약 60체적% 내지 약 80체적%의 사이 등 임의의 적절한 범위 내이다. 자석 미립자의 크기(즉, 입자 직경)는 당해 기술 분야에 알려진 바와 같이, 약 0.5㎛ 내지 약 3.0㎛ 사이일 수 있다.
고무 자석은 당해 기술 분야에서 알려져 있는 임의의 방법에 의해 형성될 수 있다. 예를 들면, 고무 자석은 다음과 같이 형성될 수 있다: 자석 미립자를 고무 재료 및 첨가제와 균일하게 혼합하여 결과물인 혼합물을 얻고; 그 혼합물을 압연하여 고무 자석 시트를 형성한다. 외부 자기장이 압연 공정 중에 인가되는 경우, 자석 미립자는 결과물인 고무 자석 시트가 시트의 두께 방향을 따르는(즉, 시트의 주표면에 수직인 방향을 따르는) 자기이방성 등의 자기이방성을 갖도록 정렬될 수 있다. 이어서, 고무 자석 시트는 이방성 자기 소자(20)를 형성하도록 원하는 형상으로 절단될 수 있다.
도 1 및 도 3을 참조하면, 이방성 자기 소자(20)는 허니컴 이방성 자기화 패턴을 나타낸다. 허니컴 이방성 자기화 패턴은 복수의 정육각형 자기화 존을 어레이 형상으로 포함한다. 각 육각형 자기화 존의 크기(전형적으로는, 정육각형 한 변의 길이)는 약 1mm 내지 약 10mm 사이(예를 들면, 3mm)일 수 있다. 정육각형 한 변의 길이가 약 3mm인 경우, 정육각형의 표면적은 약 23.4mm2이다. 각 육각형 자기화 존은 자기 소자(20)의 주표면에 수직인 방향으로 N(북)극 또는 S(남)극을 갖는다.
일 구체예에서는, N극 및 S극은 육각형 자기화 존의 각 열 내에서 교대로 된다. 여기서, "열"이라는 용어는 그 변이 서로 인접하고 있는 복수의 육각형 자기화 존을 의미한다. 이 구체예에서는, 각 열 내 2개의 인접하는 육각형 자기화 존은 쌍극자 쌍을 형성한다.
다른 구체예에서는, 육각형 존의 하나의 열 내의 모든 육각형 존은 같은 극성을 갖고, 2개의 인접하는 열 내의 육각형 존은 반대의 극성을 갖는다.
그러나, 각 육각형 존은 이방성 자기력을 향상시키기 위해, N극 또는 S극을 독립적으로 가질 수 있다. 당연히, 자기력은 중앙에 원형 반경을 형성하지만, 이 원형 패턴은 존 사이에 많은 빈 공간을 형성한다. 반면에, 허니콤 패턴은 더욱 강한 이방성 자기력을 발생시키기 위해, 존 사이에 보다 작은 간격을 형성한다.
이방성 자기 소자(20)의 상기 구성으로 인해, 이방성 자기 소자(20)는 약 50 가우스(G) 내지 약 1500가우스 사이, 바람직하게는 약 100 내지 약 300가우스(G) 사이, 또는 그 이상(약 500G 이상 등)의 보다 높은 자속 밀도를 가질 수 있다.
이방성 자기 소자(20)는 자화기에 의해 자기화된다. 허니컴 자기화 패턴을 형성하기 위해, 자화기는 육각형 자기화 코어를 갖는다. 자화기를 이용하여, 스탬프로 찍는 것과 같이 육각형 존을 하나씩 자기화시킬 수 있다.
대안적으로, 모든 육각형 자기화 존을 도 4에 나타내는 주문 제작한 자화기에 의해 동시에 자기화시킬 수 있다. 도 4의 자화기는 독립적으로 제어할 수 있는 육각형 자기화 코어의 어레이를 갖는다. 이 자화기를 이용하면, 각 육각형 자기화 존을 원하는 극성을 갖도록 자기화시킬 수 있다.
사용시, 사용자는 앞서 설명한 바와 같이, 화장품 용기에서 화장료 조성물을 적시고, 그 조성물을 피부에 도포하고, 피부를 마사지하도록 화장용 기구(100)를 이용할 수 있다. 화장용 기구(100)를 이용하여 마사지하는 동안에 이방성 자기 소자(20)로부터의 자기력은 조성물의 활성 성분에 반자성을 유도하고, 이는 활성 성분의 경피 침투를 촉진한다.
화장용 기구(100)를 이하와 같이 제조할 수 있다.
제1 단계에서, 핸들부(11) 및 헤드부(12)를 포함하는 본체(10)를 제공한다. 헤드부(12)는 실질적으로 평탄한 표면을 갖도록 형성된다. 본체(10)는 수지 재료의 사출 성형에 의해 형성될 수 있다. 핸들부(11) 및 헤드부(12)는 일체로, 또는 각각 형성될 수 있다. 후자의 경우, 핸들부(11) 및 헤드부(12)는 예를 들면, 접착제를 이용하여 함께 연결된다.
제2 단계에서, 이방성 자기 소자(20)를 제공한다. 이방성 자기 소자(20)는 페라이트 고무 자석이나 네오디뮴 고무 자석 등의 고무 자석으로 형성될 수 있다. 이방성 자기 소자(20)는 복수의 정육각형 자기화 존을 포함하는 허니컴 자기화 패턴을 갖도록 자화기에 의해 자기화된다. 이방성 자기 소자(20)는 하나의 육각형 자기화 코어를 갖는 자화기를 이용하거나, 또는 육각형 자기화 코어의 어레이를 갖는 주문 제작한 자화기를 이용하여 자기화될 수 있다.
제3 단계에서, 이방성 자기 소자(20)를 본체(10)의 헤드부(12)에 부착한다. 임의의 적절한 접착제나 양면 접착 테이프를 부착을 위해 사용할 수 있다.
임의로, 커버가 본체(10)의 헤드부(12) 내부의 이방성 자기 소자(20)를 커버하고 둘러싸기 위해 추가로 제공될 수 있다. 커버의 재료는 본체의 재료와 동일하거나 상이할 수 있고, 이는 이방성 자기 소자(20)로부터의 자기력에 영향을 미치지 않는다.
실시예
본 발명을 비한정적 예시에 의해 보다 상세히 설명한다.
실시예 1
실시예 1에 따른 이방성 자기 소자를 네오디뮴 고무 자석으로부터 제작했다. 이방성 자기 소자는 0.5mm의 두께를 가졌다. 이방성 자기 소자는 복수의 정육각형 자기화 존을 어레이 형상으로 포함하는 허니컴 자기화 패턴을 나타내도록 자기화되었다.
비교예 1
비교예 1에 따른 이방성 자기 소자는 이방성 자기 소자가 소자의 세로 방향을 따라 복수의 선형 자기화 존을 포함하는 선형 자기화 패턴을 나타내도록 자기화된 것을 제외하고, 실시예 1과 같은 방법으로 제작했다.
이하의 표 1은 실시예 1(허니컴 자기화 패턴) 및 비교예 1(선형 자기화 패턴)의 상세한 파라미터를 나타낸다.
Figure pct00001
표 1에 나타낸 바와 같이, 실시예 1의 자기화된 실면적은 비교예 1보다 3.75배 컸다. 반자성 반발력은 기본적으로 자기장의 강도에 비례하므로, 실시예 1은 경피 침투를 개선하고 있는 것으로 생각된다.
비교예 1과 비교하여, 실시예 1에 따른 경피 침투의 개선을 입증하기 위해, 프란츠 셀(정적 확산 셀) 시험을 수행하여, 생체 외 돼지 피부 상에서 ER2947(L'OREAL사의 디펩타이드) 잔류량을 평가했다. 프란츠 셀은 1.7cm2의 도포 면적 및 4mL의 셀 수용체 용적을 갖고 있었다. 수용체액은 pH 7.4를 갖는 인산 완충 생리 식염수(PBS)였다. 수용체액은 시험중 교반하였다. 돼지 피부는 공여체 구획과 1.7cm2의 상술한 도포 면적을 갖는 수용체 구획 사이에 배치되었다. 돼지 피부의 온도는 32±1 섭씨도(℃)로 유지하였다. 1%의 ER2947(공여체 화합물로서)를 포함하는 조성물을 돼지 피부에 5mg/cm2로 국소적으로 도포하였다. 실시예 1 및 비교예 1의 이방성 자기 소자는 각각 돼지 피부의 위쪽에 현가하였다. 화합물 도포 16시간 후, 돼지 피부를 취출하고, 이어서 각질층(SC)을 박리했다. 이어서 돼지 피부의 각질층(SC) 내 ER2947의 잔류량을 LC/MS/MS(액체 크로마토그래피/질량 분광 분석/질량 분광 분석)를 이용하여 분석하였다. 대조를 위해, 자기 소자를 갖지 않는 프란츠 셀 시험도 같은 조건에서 수행했다.
이하의 표 2는 돼지 피부의 각질층(SC) 내 ER2947의 잔류량을 나타낸다.
Figure pct00002
표 2에 나타낸 바와 같이, 실시예 1은 자석이 없는 결과와 비교하여 219% 증가한 침투 유효성을 나타낸다. 또한, 표 2는 육각형 자기화 패턴이 선형 자기화 패턴과 비교하여, 보다 효율적인 경피 침투를 초래하는 것도 나타낸다.
상기 구체예는 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명의 기술적 해결책을 단지 기술하는 것을 목적으로 하고 있음을 유의해야 한다. 본 발명은 상기 구체예를 참조하여 상세히 설명되고 있지만, 통상의 기술자는 상술한 구체예에 기재되어 있는 기술적 해결책에 대한 변경을 할 수 있고, 또는 그 기술적 특징의 일부 또는 전부에 대해서 등가의 치환을 할 수 있다고 이해되어야 한다.
100 화장용 기구
10 본체
11 핸들부
12 헤드부
20 이방성 자기 소자

Claims (15)

  1. 활성 성분을 피부 내에 전달하기 위한 화장용 기구로서,
    핸들부 및 상기 핸들부에서 연장되는 헤드부를 포함하는 본체와,
    상기 본체의 상기 헤드부의 내부 또는 위에 위치하는 이방성 자기 소자로서, 자기장을 발생시켜 상기 활성 성분에 반자성을 유도하도록 구성된 이방성 자기 소자를 구비하고,
    상기 이방성 자기 소자가 허니컴 자기화 패턴을 갖는 화장용 기구.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 허니컴 자기화 패턴이 복수의 육각형 자기화 존을 어레이 형상으로 포함하고, 각 육각형 자기화 존이 N극 또는 S극을 갖는 화장용 기구.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 이방성 자기 소자가 네오디뮴 고무 자석을 포함하는 화장용 기구.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 이방성 자기 소자가 약 50가우스(G) 내지 약 1500가우스 사이, 바람직하게는 100가우스 내지 300가우스 사이의 자속 밀도를 갖는 화장용 기구.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 본체의 상기 헤드부가 상기 본체의 상기 헤드부 내부의 상기 이방성 자기 소자를 커버하기 위한 커버를 포함하는 화장용 기구.
  6. 활성 성분을 피부 내에 전달하기 위한 방법으로서,
    허니컴 자기화 패턴을 갖는 이방성 자기 소자를 통해 자기장을 발생시키는 단계와,
    상기 활성 성분에 반자성을 유도하는 단계를 포함하는 방법.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 허니컴 자기화 패턴을 갖는 이방성 자기 소자를 통해 자기장을 발생시키는 단계가, 상기 허니컴 자기화 패턴이 복수의 육각형 자기화 존을 어레이 형상으로 포함하고 각 육각형 자기화 존이 N극 또는 S극을 갖도록 상기 이방성 자기 소자를 자기화시키는 것을 포함하는 방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 복수의 육각형 자기화 존이 육각형 자기화 코어의 어레이를 갖는 자화기에 의해 자기화되는 방법.
  9. 제 6 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 허니컴 자기화 패턴을 갖는 이방성 자기 소자를 통해 자기장을 발생시키는 단계가, 네오디뮴 고무 자석으로 형성된 이방성 자기 소자를 통해 상기 자기장을 발생시키는 것을 포함하는 방법.
  10. 제 6 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 허니컴 자기화 패턴을 갖는 이방성 자기 소자를 통해 자기장을 발생시키는 단계가, 상기 이방성 자기 소자를 커버하기 위한 커버를 포함하는 이방성 자기 소자를 통해 상기 자기장을 발생시키는 것을 포함하는 방법.
  11. 활성 성분을 피부 내에 전달하기 위한 화장용 기구를 제조하기 위한 방법으로서,
    핸들부 및 상기 핸들부에서 연장되는 헤드부를 구비하는 본체를 제공하는 단계와,
    자기장을 발생시켜 상기 활성 성분에 반자성을 유도하도록 구성된 이방성 자기 소자로서, 허니컴 자기화 패턴을 갖는 이방성 자기 소자를 제공하는 단계와,
    상기 이방성 자기 소자를 상기 본체의 상기 헤드부에 부착하는 단계를 포함하는 방법.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 이방성 자기 소자를 제공하는 단계가, 상기 허니컴 자기화 패턴이 복수의 육각형 자기화 존을 어레이 형상으로 포함하고 각 육각형 자기화 존이 N극 또는 S극을 갖도록 상기 이방성 자기 소자를 자기화시키는 것을 포함하는 방법.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 복수의 육각형 자기화 존이 육각형 자기화 코어의 어레이를 갖는 자화기에 의해 자기화되는 방법.
  14. 제 11 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 이방성 자기 소자를 제공하는 단계가, 상기 이방성 자기 소자를 네오디뮴 고무 자석으로 형성하는 것을 포함하는 방법.
  15. 제 11 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 이방성 자기 소자를 커버하기 위한 커버를 제공하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
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