KR20190015591A - 증착용 메탈 마스크, 증착용 메탈 마스크의 제조 방법, 및 표시 장치의 제조 방법 - Google Patents

Abstract

증착용 메탈 마스크는 복수의 마스크공을 포함하는 마스크 영역을 구비하고, 마스크 영역의 중앙 이외에 위치하는 각 마스크공의 접속부는, 마스크공의 전체 둘레에 걸쳐 마스크공의 내측을 향하여 돌출되는 형상을 갖고, 마스크 영역의 중앙 부근의 부분인 제 1 부분과, 마스크 영역의 단부 부근의 부분인 제 2 부분으로 구성된다. 제 1 부분과 마스크 영역의 이면 사이의 거리가, 제 1 스텝 하이이고, 단부 영역에서의 제 1 스텝 하이가 중앙 영역에서의 제 1 스텝 하이보다 작다.

Description

증착용 메탈 마스크, 증착용 메탈 마스크의 제조 방법, 및 표시 장치의 제조 방법

본 발명은 증착용 메탈 마스크, 증착용 메탈 마스크의 제조 방법, 및 표시 장치의 제조 방법에 관한 것이다.

증착용 메탈 마스크는, 표면과 이면을 구비하고, 이면은 기판 등의 증착 대상과 접하는 면이고, 표면은 이면과는 반대측의 면이다. 표면에서 이면까지를 관통하는 마스크공은, 표면에 있어서의 개구인 대개구를 포함하는 대공 (大孔) 과, 이면에 있어서의 개구인 소개구를 포함하는 소공 (小孔) 을 구비하고 있다. 마스크공을 구획하는 내주면은, 대공과 소공의 접속부에 있어서, 마스크공의 내측으로 돌출된 형상을 가지고 있다. 증착용 메탈 마스크를 사용한 성막에서는, 증착 물질이, 대개구로부터 소개구를 향하여 마스크공을 지나, 증착 대상에 퇴적된다. 이로써, 소개구의 위치나 형상에 따른 증착 패턴이 증착 대상에 형성된다 (예를 들어, 특허문헌 1 참조).

일본 공개특허공보 2014-148744호

그런데, 증착 장치에서는, 복수의 마스크공에 대해 1 개의 증착원이 사용된다. 예를 들어, 증착 장치는, 1 개의 증착원을 구비하고, 복수의 마스크공 중의 중앙에 위치하는 마스크공과, 1 개의 증착원이 서로 대향하도록, 증착용 메탈 마스크는 배치된다. 혹은, 증착 장치는, 복수의 증착원을 구비하고, 1 개의 마스크 영역에 포함되는 서로 상이한 마스크공군 중에서 중앙에 위치하는 마스크공과, 1 개의 증착원이 서로 대향하도록, 증착용 메탈 마스크는 배치된다. 혹은, 증착 장치는, 복수의 증착원을 구비하고, 1 개의 마스크 영역에 포함되는 복수의 마스크공 중의 중앙에 위치하는 마스크공과, 1 개의 증착원이 서로 대향하도록, 또한 다른 1 개의 마스크 영역에 포함되는 복수의 마스크공 중의 중앙에 위치하는 마스크공과, 다른 1 개의 증착원이 서로 대향하도록, 증착용 메탈 마스크는 배치된다.

상기 서술한 구성에 있어서는, 1 개의 증착원으로부터 중앙에 위치하는 마스크공을 향한 방향과, 1 개의 증착원으로부터 다른 마스크공을 향한 방향이 서로 상이하다. 또한, 증착원으로부터 방출되는 증착 물질의 양은, 통상, 증착원과 대향하는 위치에 있어서 가장 크고, 또한, 상기 서술한 방향의 범위 내에 있어서 편차를 갖는다. 그 때문에, 마스크공을 지나는 증착 물질의 양이, 증착용 메탈 마스크 내에 있어서 편차를 갖고, 이로써, 마스크공마다 형성되는 증착 패턴의 막두께가, 증착용 메탈 마스크 내에 있어서 편차를 갖는다.

본 발명은, 마스크공마다 형성되는 증착 패턴에 있어서의 막두께의 균일성을 증착용 메탈 마스크 내에 있어서 향상시키는 것을 가능하게 한 증착용 메탈 마스크, 증착용 메탈 마스크의 제조 방법, 및 표시 장치의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

상기 과제를 해결하기 위한 증착용 메탈 마스크는, 복수의 마스크공을 포함하는 마스크 영역을 구비한다. 상기 마스크 영역은 중앙 영역과 단부 영역을 구비하고, 상기 중앙 영역은, 상기 마스크 영역의 중앙을 포함하고, 또한 증착원과 대향하기 위한 복수의 상기 마스크공을 포함하고, 상기 단부 영역은, 상기 중앙 영역보다 상기 마스크 영역의 단부측에 위치하고, 또한 상기 중앙 영역에 포함되는 상기 마스크공과는 상이한 복수의 상기 마스크공을 포함한다. 상기 마스크 영역은, 상기 각 마스크공의 대개구를 포함하는 표면과, 상기 각 마스크공의 소개구를 포함하는 이면을 구비한다. 상기 각 마스크공은, 상기 대개구를 포함하고, 상기 소개구를 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 갖는 대공과, 상기 소개구를 포함하고, 상기 대개구를 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 갖는 소공과, 상기 대공과 상기 소공을 접속하는 접속부를 포함한다. 상기 마스크 영역의 중앙 이외에 위치하는 상기 각 접속부는, 상기 마스크공의 전체 둘레에 걸쳐 상기 마스크공의 내측을 향하여 돌출되는 형상을 갖고, 또한 상기 마스크 영역의 중앙 부근의 부분인 제 1 부분과, 상기 마스크 영역의 단부 부근의 부분인 제 2 부분으로 구성된다. 상기 제 1 부분과 상기 이면 사이의 거리가, 제 1 스텝 하이이고, 상기 단부 영역에서의 상기 제 1 스텝 하이가, 상기 중앙 영역에서의 상기 제 1 스텝 하이보다 작다.

상기 과제를 해결하기 위한 증착용 메탈 마스크의 제조 방법은, 복수의 마스크공을 포함하는 마스크 영역을 구비하는 증착용 메탈 마스크의 제조 방법이다. 상기 마스크 영역은 중앙 영역과 단부 영역을 구비하고, 상기 중앙 영역은, 상기 마스크 영역의 중앙을 포함하고, 또한 증착원과 대향하기 위한 복수의 상기 마스크공을 포함하고, 상기 단부 영역은, 상기 중앙 영역보다 상기 마스크 영역의 단부측에 위치하고, 또한 상기 중앙 영역에 포함되는 상기 마스크공과는 상이한 복수의 상기 마스크공을 포함한다. 상기 제조 방법은, 메탈 마스크용 기재의 이면으로부터 표면을 향하여, 상기 각 마스크공에 고유의 소공으로서, 상기 이면에 개구되는 소개구를 포함함과 함께 상기 표면을 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 갖는 상기 소공을 형성하는 것과, 상기 메탈 마스크용 기재의 상기 표면으로부터 상기 이면을 향하여, 상기 각 마스크공에 고유의 대공으로서, 상기 표면에 개구되는 대개구를 포함함과 함께 상기 이면을 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 갖는 상기 대공을 형성하고, 그에 따라, 상기 소공과 상기 대공이 접속하는 접속부를 형성하는 것을 포함한다. 상기 접속부를 형성하는 것은, 상기 마스크공의 전체 둘레에 걸쳐 상기 마스크공의 내측을 향하여 돌출되는 형상을 갖고, 또한 상기 마스크 영역의 중앙 부근의 부분인 제 1 부분과, 상기 마스크 영역의 단부 부근의 부분인 제 2 부분으로 구성되는 상기 각 접속부를, 상기 마스크 영역의 상기 중앙 이외에 형성하는 것을 포함한다. 상기 제 1 부분과 상기 이면 사이의 거리가, 제 1 스텝 하이이고, 상기 단부 영역에 형성되는 상기 접속부의 상기 제 1 스텝 하이가, 상기 중앙 영역에 형성되는 상기 접속부의 상기 제 1 스텝 하이보다 작다.

상기 과제를 해결하기 위한 표시 장치의 제조 방법은, 복수의 마스크공을 포함하는 마스크 영역을 구비하는 증착용 메탈 마스크로서, 상기 마스크 영역이, 중앙 영역과 단부 영역을 구비하고, 상기 중앙 영역은, 상기 마스크 영역의 중앙을 포함하고, 또한 증착원과 대향하기 위한 복수의 상기 마스크공을 포함하고, 상기 단부 영역은, 상기 중앙 영역보다 상기 마스크 영역의 단부측에 위치하고, 또한 상기 중앙 영역에 포함되는 상기 마스크공과는 상이한 복수의 상기 마스크공을 포함하는, 상기 증착용 메탈 마스크를 형성하는 것과, 상기 증착용 메탈 마스크를 사용하여 증착 대상에 상기 마스크공마다의 증착 패턴을 형성하는 것을 포함하는 표시 장치의 제조 방법이다. 상기 증착용 메탈 마스크를 형성하는 것은, 메탈 마스크용 기재의 이면으로부터 표면을 향하여, 상기 각 마스크공에 고유의 소공으로서, 상기 이면에 개구되는 소개구를 포함함과 함께 상기 표면을 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 갖는 상기 소공을 형성하는 것과, 상기 메탈 마스크용 기재의 상기 표면으로부터 상기 이면을 향하여, 상기 각 마스크공에 고유의 대공으로서, 상기 표면에 개구되는 대개구를 포함함과 함께 상기 이면을 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 갖는 상기 대공을 형성하고, 그에 따라, 상기 소공과 상기 대공이 접속하는 접속부를 형성하는 것을 포함한다. 상기 접속부를 형성하는 것은, 상기 마스크공의 전체 둘레에 걸쳐 상기 마스크공의 내측을 향하여 돌출되는 형상을 갖고, 또한 상기 마스크 영역의 중앙 부근의 부분인 제 1 부분과, 상기 마스크 영역의 단부 부근의 부분인 제 2 부분으로 구성되는 상기 각 접속부를 상기 마스크 영역의 상기 중앙 이외에 형성하는 것을 포함한다. 상기 제 1 부분과 상기 이면 사이의 거리가, 제 1 스텝 하이이고, 상기 단부 영역에 형성되는 상기 접속부의 상기 제 1 스텝 하이가, 상기 중앙 영역에 형성되는 상기 접속부의 상기 제 1 스텝 하이보다 작다.

상기 각 구성에 의하면, 증착용 메탈 마스크에 있어서, 1 개의 마스크 영역과 1 개의 증착원이 대향하는 경우이든, 복수의 마스크 영역에 대해 각각 다른 증착원이 대향하는 경우이든, 중앙 영역에 포함되는 마스크공의 제 1 부분은, 단부 영역에 포함되는 마스크공의 제 1 부분보다, 증착 물질이 지나는 것을 억제한다. 그 때문에, 마스크공마다 형성되는 증착 패턴의 막두께의 균일성을 증착용 메탈 마스크 내에 있어서 향상시킬 수 있다.

상기 과제를 해결하기 위한 증착용 메탈 마스크는, 증착용 메탈 마스크가 구비하는 복수의 마스크공 모두에 의해 1 개의 마스크 영역이 구성되고, 상기 마스크 영역은 중앙 영역과 단부 영역을 구비하고, 상기 단부 영역은, 상기 마스크 영역의 단부와, 복수의 상기 마스크공을 포함하고, 상기 중앙 영역은, 상기 단부 영역보다 상기 마스크 영역의 중앙측에 위치하고, 또한 상기 단부 영역에 포함되는 상기 마스크공과는 상이함과 함께, 증착원과 대향하기 위한 복수의 상기 마스크공을 포함한다. 상기 마스크 영역은, 상기 각 마스크공의 대개구를 포함하는 표면과, 상기 각 마스크공의 소개구를 포함하는 이면을 구비한다. 상기 각 마스크공은, 상기 대개구를 포함하고, 상기 소개구를 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 갖는 대공과, 상기 소개구를 포함하고, 상기 대개구를 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 갖는 소공과, 상기 대공과 상기 소공을 접속하는 접속부를 포함한다. 상기 마스크 영역의 중앙 이외에 위치하는 상기 각 접속부는, 상기 마스크공의 전체 둘레에 걸쳐 상기 마스크공의 내측을 향하여 돌출되는 형상을 갖고, 또한 상기 마스크 영역의 중앙 부근의 부분인 제 1 부분과, 상기 마스크 영역의 단부 부근의 부분인 제 2 부분으로 구성된다. 상기 제 1 부분과 상기 이면 사이의 거리가, 제 1 스텝 하이이고, 상기 단부 영역에서의 상기 제 1 스텝 하이가, 상기 중앙 영역에서의 상기 제 1 스텝 하이보다 작다.

상기 구성에 의하면, 마스크 영역과 대향하는 증착원이 1 개든 복수든, 마스크 영역의 단부를 포함하는 단부 영역에서의 제 1 스텝 하이가, 중앙 영역에서의 스텝 하이보다 작기 때문에, 중앙 영역에 포함되는 마스크공의 제 1 부분은, 단부 영역에 포함되는 마스크공의 제 1 부분보다, 증착 물질이 지나는 것을 억제한다. 그러므로, 마스크공마다 형성되는 증착 패턴의 막두께의 균일성을 증착용 메탈 마스크 내에 있어서 향상시킬 수 있다.

상기 증착용 메탈 마스크에 있어서, 상기 제 2 부분과 상기 이면 사이의 거리가, 제 2 스텝 하이이고, 상기 각 마스크공에 있어서, 상기 제 2 스텝 하이는, 상기 제 1 스텝 하이 이상이어도 된다.

상기 구성에 의하면, 제 1 스텝 하이가 작아져도, 제 2 스텝 하이가 제 1 스텝 하이 이상임으로써, 증착용 메탈 마스크의 강도가 낮아지는 것이 억제된다.

상기 증착용 메탈 마스크에 있어서, 상기 표면과 직교하는 단면에 있어서의 상기 대공의 내주면이 호상 (弧狀) 을 갖고, 상기 단면에 있어서의 상기 소공의 내주면이 호상을 가져도 된다. 상기 단면에 있어서, 상기 표면에 있어서의 법선 중, 상기 대개구의 중앙을 지나는 상기 법선이 대공 법선이고, 상기 소개구의 중앙을 지나는 상기 법선이 소공 법선이고, 상기 각 마스크공에 속하는 상기 대공 법선은, 동일한 상기 마스크공에 속하는 상기 소공 법선과 동일한 위치, 또는 동일한 상기 마스크공에 속하는 상기 소공 법선보다 상기 마스크 영역의 중앙 부근에 위치하고, 동일한 상기 마스크공에 속하는 상기 대공 법선과 상기 소공 법선간의 거리가, 법선간 거리이다. 상기 단부 영역에서의 상기 법선간 거리가, 상기 중앙 영역에서의 상기 법선간 거리보다 커도 된다.

상기 구성에 의하면, 소공에 대한 대공의 위치를 바꿀 뿐이고, 중앙 영역에서의 제 1 스텝 하이보다 단부 영역에서의 제 1 스텝 하이를 작게 할 수 있기 때문에, 증착용 메탈 마스크의 설계가 용이하다.

상기 증착용 메탈 마스크에 있어서, 상기 증착용 메탈 마스크는, 복수의 상기 단부 영역을 구비하고, 상기 각 단부 영역은, 상기 마스크공이 나열되는 방향을 따라 나열되고, 복수의 상기 단부 영역에 있어서, 상기 중앙 영역으로부터의 거리가 클수록, 상기 단부 영역에서의 상기 법선간 거리가 커도 된다.

상기 증착용 메탈 마스크에 있어서, 상기 증착용 메탈 마스크는, 복수의 상기 단부 영역을 구비하고, 상기 각 단부 영역은, 상기 마스크공이 나열되는 방향을 따라 나열되고, 복수의 상기 단부 영역에 있어서, 상기 중앙 영역으로부터의 거리가 큰 상기 단부 영역일수록, 상기 단부 영역에서의 상기 제 1 스텝 하이가 작아도 된다.

상기 각 구성에 의하면, 중앙 영역으로부터의 거리가 작은 단부 영역이 포함하는 마스크공의 제 1 부분일수록, 그 단부 영역보다 마스크 영역의 단부측에 위치하는 단부 영역이 포함하는 마스크공보다, 증착 재료가 지나는 것을 억제한다. 그 때문에, 마스크공마다 형성되는 증착 패턴의 막두께의 균일성을 증착용 메탈 마스크 내에 있어서 향상시킬 수 있다.

상기 증착용 메탈 마스크에 있어서, 상기 제 2 부분과 상기 이면 사이의 거리가 제 2 스텝 하이이고, 복수의 상기 단부 영역에 있어서, 상기 중앙 영역으로부터의 거리가 큰 상기 단부 영역일수록, 상기 단부 영역에서의 상기 제 2 스텝 하이가 커도 된다.

상기 구성에 의하면, 제 2 스텝 하이가, 중앙 영역으로부터의 거리가 큰 단부 영역일수록 커지기 때문에, 제 1 스텝 하이가 작아지는 것에 의한 각 단부 영역에 있어서의 강도의 저하를 제 2 스텝 하이에 의해 보충할 수 있다.

상기 증착용 메탈 마스크에 있어서, 상기 단부 영역은, 상기 마스크 영역의 상기 단부를 포함하는 영역이어도 된다.

상기 구성에 의하면, 단부 영역이, 증착원으로부터 방출된 증착 물질이 1 개의 마스크 영역 중에서 가장 도달하기 어려운 단부를 포함하기 때문에, 단부 영역에서의 제 1 스텝 하이를 중앙 영역에서의 제 1 스텝 하이보다 작게 하는 것에 의한 효과를 얻기 쉽다.

본 발명에 의하면, 마스크공마다 형성되는 증착 패턴에 있어서의 막두께의 균일성을 높일 수 있다.

도 1 은, 증착용 메탈 마스크의 일 실시형태에 있어서의 증착용 메탈 마스크의 평면 구조를 나타내는 평면도.
도 2 는, 일 실시형태에 있어서의 마스크 부재의 평면 구조를 나타내는 평면도.
도 3 은, 일 실시형태에 있어서의 마스크 부재의 평면 구조의 일부를 확대하여 나타내는 부분 확대 평면도.
도 4 는, 일 실시형태에 있어서의 중앙 영역의 단면 구조에 있어서의 일부를 확대하여 나타내는 부분 확대 단면도.
도 5 는, 일 실시형태에 있어서의 제 1 우측 영역의 단면 구조에 있어서의 일부를 확대하여 나타내는 부분 확대 단면도.
도 6 은, 일 실시형태에 있어서의 제 5 우측 영역의 단면 구조에 있어서의 일부를 확대하여 나타내는 부분 확대 단면도.
도 7 은, 증착용 메탈 마스크의 작용을 설명하기 위한 작용도.
도 8 은, 증착용 메탈 마스크의 작용을 설명하기 위한 작용도.
도 9 는, 증착용 메탈 마스크의 제조 방법의 일 실시형태에 있어서의 메탈 마스크용 기재에 레지스트층을 배치하는 공정을 나타내는 공정도.
도 10 은, 일 실시형태에 있어서의 레지스트 패턴을 형성하는 공정을 나타내는 공정도.
도 11 은, 일 실시형태에 있어서의 소공을 형성하는 공정을 나타내는 공정도.
도 12 는, 일 실시형태에 있어서의 이면 보호층을 형성하는 공정을 나타내는 공정도.
도 13 은, 일 실시형태에 있어서의 대공을 형성하는 공정을 나타내는 공정도.
도 14 는, 변형예에 있어서의 제 5 우측 영역의 단면 구조에 있어서의 일부를 확대하여 나타내는 부분 확대 단면도.

도 1 내지 도 13 을 참조하여, 증착용 메탈 마스크, 증착용 메탈 마스크의 제조 방법, 및 표시 장치의 제조 방법의 일 실시형태를 설명한다. 이하에서는, 증착용 메탈 마스크의 구성, 증착용 메탈 마스크의 작용, 증착용 메탈 마스크의 제조 방법, 표시 장치의 제조 방법, 및 실시예를 순서대로 설명한다.

[증착용 메탈 마스크의 구성]

도 1 이 나타내는 바와 같이, 마스크 장치 (10) 는, 메인 프레임 (20) 과, 복수의 증착용 메탈 마스크 (30) 를 구비하고 있다. 메인 프레임 (20) 은, 복수의 증착용 메탈 마스크 (30) 를 지지하는 프레임판상을 갖고, 증착을 실시하기 위한 증착 장치에 장착된다. 메인 프레임 (20) 은, 각 증착용 메탈 마스크 (30) 가 장착되는 부위의 거의 전체에 걸쳐, 메인 프레임 (20) 을 관통하는 메인 프레임공 (20H) 을 가지고 있다.

증착용 메탈 마스크 (30) 는, 서브 프레임 (31) 과, 예를 들어 금속제의 마스크 부재 (32) 를 구비하고 있다. 서브 프레임 (31) 은, 1 개의 마스크 부재 (32) 를 지지하는 프레임판상을 갖고, 메인 프레임 (20) 에 장착되어 있다. 각 서브 프레임 (31) 은, 마스크 부재 (32) 가 장착되는 부위의 거의 전체에 걸쳐, 서브 프레임 (31) 을 관통하는 서브 프레임공 (30H) 을 가지고 있다. 각 마스크 부재 (32) 는, 서브 프레임공 (30H) 의 주위에 용착이나 접착에 의해 고정되어 있다. 마스크 부재 (32) 가 갖는 평면 구조의 일례를, 도 2 를 참조하여 설명한다. 또한, 증착용 메탈 마스크 (30) 는, 마스크 부재 (32) 가 서브 프레임 (31) 에 고정된 구성에 한정되지 않고, 마스크 부재 (32) 에 상당하는 마스크부와, 마스크부의 주변에 위치하는 주변부를 구비하고, 마스크부와 주변부가 1 개의 금속판에 의해 일체로 형성되는 구성이어도 된다.

도 2 가 나타내는 바와 같이, 마스크 부재 (32) 는 마스크 영역 (32M) 을 포함하고, 마스크 영역 (32M) 은 복수의 마스크공을 포함하고 있다. 마스크 영역 (32M) 은, 중앙 영역 (32C) 과, 마스크공이 나열되는 방향을 따라 나열되는 복수의 단부 영역 (32E) 으로 구성되어 있다. 중앙 영역 (32C) 은, 마스크 영역 (32M) 의 중앙을 포함하고, 또한 증착원과 대향하기 위한 복수의 마스크공을 포함하고 있다. 각 단부 영역 (32E) 은, 중앙 영역 (32C) 보다 마스크 영역 (32M) 의 단부 (32ME) 측에 위치하고, 또한 중앙 영역 (32C) 이 포함하는 마스크공과는 상이한 복수의 마스크공을 포함하고 있다. 또한, 마스크 영역 (32M) 의 외주부인 가장자리부가 사각형상을 갖고, 마스크 영역 (32M) 에 있어서 서로 대향하는 1 쌍의 변의 중앙이 되는 위치가, 마스크 영역 (32M) 의 중앙이다.

마스크 영역 (32M) 에 있어서, 중앙 영역 (32C) 과 복수의 단부 영역 (32E) 이, 구획 방향을 따라 구획되어 있다. 마스크 영역 (32M) 에서는, 구획 방향을 따르는 중앙 영역 (32C) 으로부터의 거리가 큰 단부 영역 (32E) 일수록 증착원으로부터 떨어져 있다. 바꿔 말하면, 구획 방향을 따르는 중앙 영역 (32C) 으로부터의 거리가 큰 단부 영역 (32E) 일수록, 그 단부 영역 (32E) 과 증착원의 거리, 즉 구획 방향을 따르는 거리가 크다.

마스크 영역 (32M) 에는, 10 의 단부 영역 (32E) 이 구획되고, 마스크 영역 (32M) 에 있어서, 일방의 단부 (32ME) 로부터 세어 5 번째의 단부 영역 (32E) 과 6 번째의 단부 영역 (32E) 사이에, 중앙 영역 (32C) 이 위치하고 있다.

10 의 단부 영역 (32E) 중, 구획 방향에 있어서 중앙 영역 (32C) 보다 지면의 우측에 위치하는 5 개의 단부 영역 (32E) 이 우측 단부 영역이다. 우측 단부 영역인 각 단부 영역 (32E) 은, 중앙 영역 (32C) 으로부터의 거리가 작은 영역으로부터 순서대로, 제 1 우측 영역 (ER1), 제 2 우측 영역 (ER2), 제 3 우측 영역 (ER3), 제 4 우측 영역 (ER4), 제 5 우측 영역 (ER5) 이다.

10 의 단부 영역 (32E) 중, 구획 방향에 있어서 중앙 영역 (32C) 보다 지면의 좌측에 위치하는 5 개의 단부 영역 (32E) 이 좌측 단부 영역이다. 좌측 단부 영역인 각 단부 영역 (32E) 은, 중앙 영역 (32C) 으로부터의 거리가 작은 순서대로, 제 1 좌측 영역 (EL1), 제 2 좌측 영역 (EL2), 제 3 좌측 영역 (EL3), 제 4 좌측 영역 (EL4), 제 5 좌측 영역 (EL5) 이다.

마스크 영역 (32M) 에 있어서의 구획 방향을 따르는 폭이 제 1 폭 (W1) 이고, 중앙 영역 (32C) 및 복수의 단부 영역 (32E) 의 각각에 있어서의 구획 방향을 따르는 폭이 제 2 폭 (W2) 이다. 중앙 영역 (32C) 및 단부 영역 (32E) 에 있어서, 제 2 폭 (W2) 은 서로 동일하다. 또한, 중앙 영역 (32C) 및 단부 영역 (32E) 에는, 제 2 폭 (W2) 이 상이한 영역이 포함되어도 된다.

중앙 영역 (32C) 에 포함되는 모든 마스크공, 바꿔 말하면 중앙 영역 (32C) 의 전체는, 증착 장치가 구비하는 증착원과 대향한다. 또한, 중앙 영역 (32C) 에 포함되는 일부의 마스크공만이 증착원과 대향해도 된다.

한편, 각 단부 영역 (32E) 에 포함되는 복수의 마스크공, 바꿔 말하면 각 단부 영역 (32E) 은, 증착원과 대향하는 부분과, 증착원과 대향하지 않는 부분의 적어도 일방을 포함하고 있다. 즉, 1 개의 단부 영역 (32E) 이, 증착원과 대향하는 마스크공만을 포함해도 되고, 증착원과 대향하지 않는 마스크공만을 포함해도 되고, 증착원과 대향하는 마스크공과, 증착원과 대향하지 않는 마스크공의 양방을 포함해도 된다. 마스크 부재 (32) 가 갖는 평면 구조의 일례에 있어서의 일부를 확대한 구조를, 도 3 을 참조하여 설명한다.

도 3 이 나타내는 바와 같이, 마스크 영역 (32M) 은 복수의 마스크공 (32H) 을 포함하고, 마스크 영역 (32M) 중, 증착원과 대향하는 면과는 반대측의 면으로서, 증착 대상과 대향하는 면에 있어서, 복수의 마스크공 (32H) 은, 1 개의 방향을 따라 동일한 간격을 두고 나열되고, 또한 1 개의 방향과 직교하는 방향을 따라 동일한 간격을 두고 나열되어 있다. 즉, 마스크 영역 (32M) 에 있어서, 복수의 마스크공이 격자상으로 나열되고, 마스크 부재 (32) 는 격자상을 가지고 있다. 중앙 영역 (32C) 및 단부 영역 (32E) 의 각각은, 격자상으로 나열되는 복수의 마스크공 (32H) 을 포함하고 있다. 또한, 복수의 마스크공 (32H) 은, 마스크 영역 (32M) 에 있어서 지그재그상으로 나열되어 있어도 된다.

마스크 부재 (32) 는, 철과 니켈의 합금을 주성분으로 하는 금속 시트인 메탈 마스크용 기재로 형성된다. 메탈 마스크용 기재의 형성 재료는, 30 질량％ 이상 45 질량％ 이하의 니켈을 포함하는 철니켈 합금인 것이 바람직하고, 그 중에서도, 36 질량％ 의 니켈과 64 질량％ 의 철을 합금을 주성분으로 하는 것, 즉 인바인 것이 보다 바람직하다. 마스크 부재 (32) 의 형성 재료가 인바인 경우에는, 마스크 부재 (32) 의 열팽창 계수는, 예를 들어 1.2 × 10^-6/℃ 정도이다.

이와 같은 열팽창 계수를 갖는 마스크 부재 (32) 이면, 마스크 부재 (32) 에 있어서의 열팽창의 정도와, 유리 기판에 있어서의 열팽창의 정도가 정합하기 때문에, 인바로 형성된 마스크 부재 (32) 는, 증착 대상의 일례로서 유리 기판을 사용하는 데에 있어서 바람직하다.

마스크 영역 (32M) 에 있어서의 중앙 영역 (32C) 이 갖는 단면 구조의 일례를, 도 4 를 참조하여 설명하고, 단부 영역 (32E) 이 갖는 단면 구조의 일례를, 도 5 및 도 6 을 참조하여 설명한다. 또한, 이하에서는, 단부 영역 (32E) 이 갖는 단면 구조의 일례로서, 제 1 우측 영역 (ER1) 이 갖는 단면 구조의 일례와, 제 5 우측 영역 (ER5) 이 갖는 단면 구조의 일례를 설명하고, 그 밖의 단부 영역 (32E) 이 갖는 단면 구조의 설명을 생략한다.

또, 도 4 내지 도 6 이 나타내는 단면 구조는 모두, 도 3 에 있어서의 I-I 선을 따르는 단면 구조, 바꿔 말하면 구획 방향으로 연장되는 선을 따르는 단면 구조이지만, 구획 방향에 있어서의 위치가 서로 상이하다.

도 4 가 나타내는 바와 같이, 마스크 영역 (32M) 은, 표면 (32F) 과, 표면 (32F) 과는 반대측의 면인 이면 (32R) 을 구비하고 있다. 표면 (32F) 은, 각 마스크공 (32H) 의 대개구 (32H1) 를 포함하고, 이면 (32R) 은, 각 마스크공 (32H) 의 소개구 (32H2) 를 포함하고 있다. 표면 (32F) 과 대향하는 평면에서 보았을 때, 대개구 (32H1) 가 구획하는 영역은, 소개구 (32H2) 가 구획하는 영역보다 크다.

각 마스크공 (32H) 은, 대공 (32HB), 소공 (32HS), 및 대공 (32HB) 과 소공 (32HS) 을 접속하는 접속부 (32HC) 를 포함하고 있다. 이 중, 대공 (32HB) 은 대개구 (32H1) 를 포함하고, 소개구 (32H2) 를 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 갖고, 소공 (32HS) 은 소개구 (32H2) 를 포함하고, 대개구 (32H1) 를 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 가지고 있다.

보다 상세하게는, 대공 (32HB) 은, 표면 (32F) 과 평행한 방향을 따르는 단면적이, 표면 (32F) 으로부터 이면 (32R) 을 향하여 단조 감소하는 형상을 갖고, 또한 표면 (32F) 과 직교하는 단면에 있어서, 대공 (32HB) 의 내주면 (HB1) 이 호상을 가지고 있다. 또, 소공 (32HS) 은, 표면 (32F) 과 평행한 방향을 따르는 단면적이, 이면 (32R) 으로부터 표면 (32F) 을 향하여 단조 감소하는 형상을 갖고, 또한 표면 (32F) 과 직교하는 단면에 있어서, 소공 (32HS) 의 내주면 (HS1) 이 호상을 가지고 있다.

즉, 대공 (32HB) 이 구획하는 영역의 크기는, 표면 (32F) 으로부터 이면 (32R) 을 향하여 단조 감소하고, 또한 소공 (32HS) 이 구획하는 영역의 크기는, 이면 (32R) 으로부터 표면 (32F) 을 향하여 단조 감소한다. 그 때문에, 마스크공 (32H) 이 구획하는 영역의 크기는, 접속부 (32HC) 에 있어서 가장 작아진다.

중앙 영역 (32C) 에 있어서, 각 접속부 (32HC) 는, 마스크공 (32H) 의 전체 둘레에 걸쳐 마스크공 (32H) 의 내측을 향하여 돌출되는 형상을 가지고 있다. 중앙 영역 (32C) 에 포함되는 복수의 마스크공 (32H) 중, 마스크 영역 (32M) 의 중앙 이외에 위치하는 마스크공 (32H) 의 접속부 (32HC) 는, 마스크 영역 (32M) 의 중앙 부근의 부분인 제 1 부분 (HC1) 과, 마스크 영역 (32M) 의 단부 부근의 부분인 제 2 부분 (HC2) 으로 구성되어 있다.

또한, 증착용 메탈 마스크 (30) 는, 마스크 영역 (32M) 의 중앙에 위치하는 접속부 (32HC) 를 포함하는 마스크공 (32H) 을 가져도 된다. 마스크 영역 (32M) 의 중앙에 위치하는 접속부 (32HC) 도, 다른 접속부 (32HC) 와 동일하게, 마스크공 (32H) 의 전체 둘레에 걸쳐 마스크공 (32H) 의 내측을 향하여 돌출되는 형상을 가지고 있다.

마스크공 (32H) 에 있어서, 제 1 부분 (HC1) 과 이면 (32R) 사이의 거리가, 제 1 스텝 하이 (SH1) 이고, 제 2 부분 (HC2) 과 이면 (32R) 사이의 거리가, 제 2 스텝 하이 (SH2) 이다. 중앙 영역 (32C) 에 위치하는 각 마스크공 (32H) 에 있어서, 제 1 스텝 하이 (SH1) 와 제 2 스텝 하이 (SH2) 는, 서로 거의 동일한 크기이다. 중앙 영역 (32C) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 및 제 2 스텝 하이 (SH2) 의 각각은, 예를 들어 3 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.

표면 (32F) 과 직교하는 단면에 있어서, 제 1 부분 (HC1) 의 돌출량, 즉, 제 1 부분 (HC1) 이 소개구 (32H2) 보다 내측으로 돌출된 양이 제 1 스텝 폭 (SW1) 이다. 표면 (32F) 과 직교하는 단면에 있어서, 제 2 부분 (HC2) 의 돌출량, 즉, 제 2 부분 (HC2) 이 소개구 (32H2) 보다 내측으로 돌출된 양이 제 2 스텝 폭 (SW2) 이다. 중앙 영역 (32C) 에 위치하는 각 마스크공 (32H) 에 있어서, 제 1 스텝 폭 (SW1) 과 제 2 스텝 폭 (SW2) 은, 서로 거의 동일한 크기이다. 중앙 영역 (32C) 에서의 제 1 스텝 폭 (SW1) 및 제 2 스텝 폭 (SW2) 의 각각은, 예를 들어, 1.5 ㎛ 이상 2.0 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.

표면 (32F) 과 직교하는 단면에 있어서, 표면 (32F) 에 있어서의 법선 중, 대개구 (32H1) 의 중앙을 지나는 법선이 대공 법선 (NB) 이고, 소개구 (32H2) 의 중앙을 지나는 법선이 소공 법선 (NS) 이다. 중앙 영역 (32C) 에 포함되는 각 마스크공 (32H) 에 있어서, 동일한 마스크공 (32H) 에 속하는 대공 법선 (NB) 의 위치와 소공 법선 (NS) 의 위치가 서로 거의 동일하다. 즉, 1 개의 마스크공 (32H) 에 있어서, 마스크공 (32H) 이 나열되는 방향을 따르는 대공 법선 (NB) 과 소공 법선 (NS) 사이의 거리가 법선간 거리 (ND) 이고, 중앙 영역 (32C) 에서의 법선간 거리 (ND) 가 제로이다.

도 5 가 나타내는 바와 같이, 제 1 우측 영역 (ER1) 에 포함되는 각 마스크공 (32H) 은, 중앙 영역 (32C) 에 포함되는 각 마스크공 (32H) 과 동일하게, 대공 (32HB), 소공 (32HS), 및 접속부 (32HC) 를 포함하고 있다. 대공 (32HB) 은, 소개구 (32H2) 를 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 갖고, 소공 (32HS) 은, 대개구 (32H1) 를 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 가지고 있다.

접속부 (32HC) 는, 중앙 영역 (32C) 에 포함되는 각 마스크공 (32H) 과 동일하게, 마스크공 (32H) 의 전체 둘레에 걸쳐 마스크공 (32H) 의 내측을 향하여 돌출되는 형상을 갖고, 제 1 부분 (HC1) 과 제 2 부분 (HC2) 으로 구성되어 있다. 제 1 우측 영역 (ER1) 에 있어서, 제 2 스텝 하이 (SH2) 는, 제 1 스텝 하이 (SH1) 보다 크다.

또, 제 1 우측 영역 (ER1) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 는, 중앙 영역 (32C) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 보다 작다. 제 1 우측 영역 (ER1) 에서의 제 2 스텝 하이 (SH2) 는, 중앙 영역 (32C) 에서의 제 2 스텝 하이 (SH2) 보다 크다.

제 1 우측 영역 (ER1) 에서의 제 1 스텝 폭 (SW1) 은, 중앙 영역 (32C) 에서의 제 1 스텝 폭 (SW1) 보다 작다. 또, 제 1 우측 영역 (ER1) 에서의 제 2 스텝 폭 (SW2) 은, 중앙 영역 (32C) 에서의 제 2 스텝 폭 (SW2) 보다 크다.

표면 (32F) 과 직교하는 단면에 있어서, 각 마스크공 (32H) 에 속하는 대공 법선 (NB) 은, 동일한 마스크공 (32H) 에 속하는 소공 법선 (NS) 보다 중앙 부근에 위치하고 있다. 제 1 우측 영역 (ER1) 에서의 법선간 거리 (ND) 는, 중앙 영역 (32C) 에서의 법선간 거리 (ND) 보다 크다.

도 6 이 나타내는 바와 같이, 제 5 우측 영역 (ER5) 에 포함되는 각 마스크공 (32H) 은, 중앙 영역 (32C) 에 포함되는 각 마스크공 (32H) 과 동일하게, 대공 (32HB), 소공 (32HS), 및 접속부 (32HC) 를 포함하고 있다. 대공 (32HB) 은, 소개구 (32H2) 를 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 갖고, 소공 (32HS) 은, 대개구 (32H1) 를 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 가지고 있다.

접속부 (32HC) 는, 중앙 영역 (32C) 에 포함되는 각 마스크공 (32H) 과 동일하게, 마스크공 (32H) 의 전체 둘레에 걸쳐 마스크공 (32H) 의 내측을 향하여 돌출되는 형상을 갖고, 제 1 부분 (HC1) 과 제 2 부분 (HC2) 으로 구성되어 있다. 제 5 우측 영역 (ER5) 에 있어서, 제 1 스텝 하이 (SH1) 는 제로이고, 제 2 스텝 하이 (SH2) 는 제 1 스텝 하이 (SH1) 보다 크다.

제 5 우측 영역 (ER5) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 는, 중앙 영역 (32C) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 보다 작고, 또한 제 1 우측 영역 (ER1) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 보다 작다. 이에 대해, 제 5 우측 영역 (ER5) 에서의 제 2 스텝 하이 (SH2) 는, 중앙 영역 (32C) 에서의 제 2 스텝 하이 (SH2) 보다 크고, 또한 제 1 우측 영역 (ER1) 에서의 제 2 스텝 하이 (SH2) 보다 크다.

제 5 우측 영역 (ER5) 에서의 제 1 스텝 폭 (SW1) 은 제로이고, 중앙 영역 (32C) 에서의 제 1 스텝 폭 (SW1) 보다 작고, 또한 제 1 우측 영역 (ER1) 에서의 제 1 스텝 폭 (SW1) 보다 작다. 이에 대해, 제 5 우측 영역 (ER5) 에서의 제 2 스텝 폭 (SW2) 은, 중앙 영역 (32C) 에서의 제 2 스텝 폭 (SW2) 보다 크고, 또한 제 1 우측 영역 (ER1) 에서의 제 2 스텝 폭 (SW2) 보다 크다.

표면 (32F) 과 직교하는 단면에 있어서, 각 마스크공 (32H) 에 속하는 대공 법선 (NB) 은, 동일한 마스크공 (32H) 에 속하는 소공 법선 (NS) 보다 중앙 부근에 위치하고, 또한 법선간 거리 (ND) 는, 중앙 영역 (32C) 에서의 법선간 거리 (ND), 및 제 1 우측 영역 (ER1) 에서의 법선간 거리 (ND) 의 쌍방보다 크다.

상기 서술한 바와 같이, 대공 (32HB) 이 소개구 (32H2) 를 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 갖고, 소공 (32HS) 이 대개구 (32H1) 를 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 갖고, 또한 대공 (32HB) 의 내주면 (HB1) 과 소공 (32HS) 의 내주면 (HS1) 의 쌍방이 호상을 가지고 있다. 그 때문에, 1 개의 마스크공 (32H) 에 고유의 소공 (32HS) 에 있어서의 소공 법선 (NS) 과, 동일한 마스크공 (32H) 에 고유의 대공 (32HB) 에 있어서의 대공 법선 (NB) 사이의 거리를 바꿈으로써, 각 마스크공 (32H) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 의 크기, 및 제 2 스텝 하이 (SH2) 의 크기를 바꿀 수 있다.

또한, 대공 법선 (NB) 과 소공 법선 (NS) 이 겹치지 않는 마스크공 (32H) 에서는, 제 1 스텝 하이 (SH1) 와 제 2 스텝 하이 (SH2) 중, 대공 법선 (NB) 으로부터의 거리가 작은 스텝 하이를, 대공 법선 (NB) 과 소공 법선 (NS) 이 일치하는 마스크공 (32H) 에서의 크기보다 작게 할 수 있다. 이에 대해, 대공 법선 (NB) 과 소공 법선 (NS) 이 겹치지 않는 마스크공 (32H) 에서는, 제 1 스텝 하이 (SH1) 와 제 2 스텝 하이 (SH2) 중, 대공 법선 (NB) 으로부터의 거리가 큰 스텝 하이를, 대공 법선 (NB) 과 소공 법선 (NS) 이 일치하는 마스크공 (32H) 에서의 크기보다 크게 할 수 있다.

그리고, 표면 (32F) 과 직교하는 단면에 있어서, 법선간 거리 (ND) 가, 소개구 (32H2) 의 폭에 있어서의 1/2 를 초과하지 않는 범위이면, 대공 법선 (NB) 과 소공 법선 (NS) 의 법선간 거리 (ND) 가 클수록, 대공 법선 (NB) 으로부터의 거리가 작은 스텝 하이를 작게 하고, 또한 대공 법선 (NB) 으로부터의 거리가 큰 스텝 하이를 크게 할 수 있다.

이러한 이유에서, 도 6 을 사용하여 앞서 설명한 마스크공 (32H) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 는, 도 5 를 사용하여 앞서 설명한 마스크공 (32H) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 보다 작아진다. 또, 도 6 을 사용하여 앞서 설명한 마스크공 (32H) 에서의 제 2 스텝 하이 (SH2) 는, 도 5 를 사용하여 앞서 설명한 마스크공 (32H) 에서의 제 2 스텝 하이 (SH2) 보다 커진다.

이러한 마스크 부재 (32) 에서는, 소공 (32HS) 에 대한 대공 (32HB) 의 위치를 바꿀 뿐이고, 중앙 영역 (32C) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 보다 단부 영역 (32E) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 를 작게 할 수 있기 때문에, 증착용 메탈 마스크 (30) 의 설계가 용이하다.

또, 제 1 스텝 폭 (SW1) 및 제 2 스텝 폭 (SW2) 에 대해서도, 제 1 스텝 하이 (SH1) 및 제 2 스텝 하이 (SH2) 와 동일하게, 법선간 거리 (ND) 가 클수록, 대공 법선 (NB) 으로부터의 거리가 작은 스텝 폭을 작게 하고, 또한 대공 법선 (NB) 으로부터의 거리가 큰 스텝 폭을 크게 할 수 있다.

또한, 도시되어 있지 않지만, 제 2 우측 영역 (ER2) 에서의 마스크공 (32H) 의 형상, 제 3 우측 영역 (ER3) 에서의 마스크공 (32H) 의 형상, 및 제 4 우측 영역 (ER4) 에서의 마스크공 (32H) 의 형상은, 대공, 소공, 및 접속부를 갖는 점에서, 중앙 영역 (32C) 에서의 마스크공 (32H) 의 형상에 거의 동일하다.

단, 각 우측 단부 영역에서의 마스크공 (32H) 의 형상은, 이하의 점에서, 중앙 영역 (32C) 에서의 마스크공 (32H) 의 형상과는 상이하다. 즉, 제 2 우측 영역 (ER2) 에서의 법선간 거리 (ND), 제 3 우측 영역 (ER3) 에서의 법선간 거리 (ND), 및 제 4 우측 영역 (ER4) 에서의 법선간 거리 (ND) 는, 중앙 영역 (32C) 에서의 법선간 거리 (ND) 보다 크고, 또한 제 5 우측 영역 (ER5) 에서의 법선간 거리 (ND) 보다 작다. 또한, 제 2 우측 영역 (ER2) 에서의 법선간 거리 (ND), 제 3 우측 영역 (ER3) 에서의 법선간 거리 (ND), 및 제 4 우측 영역 (ER4) 에서의 법선간 거리 (ND) 는, 이 순서로 커진다.

바꿔 말하면, 증착용 메탈 마스크 (30) 는, 마스크공 (32H) 이 나열되는 방향을 따라 나열되는 복수의 단부 영역 (32E) 을 구비하고 있다. 그리고, 복수의 단부 영역 (32E) 에 있어서, 중앙 영역 (32C) 으로부터의 거리가 클수록, 각 단부 영역 (32E) 에서의 법선간 거리 (ND) 가 크다.

이로써, 제 2 우측 영역 (ER2) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1), 제 3 우측 영역 (ER3) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1), 및 제 4 우측 영역 (ER4) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 는, 중앙 영역 (32C) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 보다 작아지고, 또한 제 5 우측 영역 (ER5) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 보다 커진다. 또한, 제 2 우측 영역 (ER2) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1), 제 3 우측 영역 (ER3) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1), 및 제 4 우측 영역 (ER4) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 는, 기재된 순서로 작아진다.

바꿔 말하면, 증착용 메탈 마스크 (30) 는, 마스크공 (32H) 이 나열되는 방향을 따라 나열되는 복수의 단부 영역 (32E) 을 구비하고 있다. 그리고, 복수의 단부 영역 (32E) 에 있어서, 중앙 영역 (32C) 으로부터의 거리가 큰 단부 영역 (32E) 일수록, 단부 영역 (32E) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 가 작다.

이로써, 중앙 영역 (32C) 으로부터의 거리가 작은 단부 영역 (32E) 이 포함하는 마스크공 (32H) 의 제 1 부분 (HC1) 일수록, 그 단부 영역 (32E) 보다 마스크 영역 (32M) 의 단부 (32ME) 측에 위치하는 단부 영역 (32E) 이 포함하는 마스크공 (32H) 보다, 증착 물질 (DM) 이 마스크공 (32H) 을 지나는 것을 억제한다. 그 때문에, 마스크공 (32H) 마다 형성되는 증착 패턴의 막두께의 균일성을 증착용 메탈 마스크 (30) 내에 있어서 향상시킬 수 있다.

또, 제 2 우측 영역 (ER2) 에서의 제 2 스텝 하이 (SH2), 제 3 우측 영역 (ER3) 에서의 제 2 스텝 하이 (SH2), 및 제 4 우측 영역 (ER4) 에서의 제 2 스텝 하이 (SH2) 는, 중앙 영역 (32C) 에서의 제 2 스텝 하이 (SH2) 보다 커지고, 또한 제 5 우측 영역 (ER5) 에서의 제 2 스텝 하이 (SH2) 보다 작아진다. 또한, 제 2 우측 영역 (ER2) 에서의 제 2 스텝 하이 (SH2), 제 3 우측 영역 (ER3) 에서의 제 2 스텝 하이 (SH2), 및 제 4 우측 영역 (ER4) 에서의 제 2 스텝 하이 (SH2) 는, 기재된 순서로 커진다.

바꿔 말하면, 증착용 메탈 마스크 (30) 에 있어서의 복수의 단부 영역 (32E) 에 있어서, 중앙 영역 (32C) 으로부터의 거리가 큰 단부 영역 (32E) 일수록, 단부 영역 (32E) 에서의 제 2 스텝 하이 (SH2) 가 크다.

상기 서술한 바와 같이, 중앙 영역 (32C) 으로부터의 거리가 큰 단부 영역 (32E) 일수록, 단부 영역 (32E) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 가 작아지기 때문에, 접속부 (32HC) 의 제 1 부분 (HC1) 에서는, 중앙 영역 (32C) 으로부터의 거리가 큰 단부 영역 (32E) 일수록, 제 1 부분 (HC1) 의 강도가 낮아진다. 이에 대해, 중앙 영역 (32C) 으로부터의 거리가 큰 단부 영역 (32E) 일수록, 단부 영역 (32E) 에서의 제 2 스텝 하이 (SH2) 가 커지기 때문에, 접속부 (32HC) 의 제 2 부분 (HC2) 에서는, 중앙 영역 (32C) 으로부터의 거리가 큰 단부 영역 (32E) 일수록, 제 2 부분 (HC2) 의 강도가 높아진다. 그 때문에, 각 단부 영역 (32E) 에 있어서, 제 1 부분 (HC1) 에서의 강도의 저하를 제 2 부분 (HC2) 의 강도에 의해 보충할 수 있다.

또한, 각 우측 단부 영역에서의 제 2 스텝 하이 (SH2) 는, 동일한 우측 단부 영역에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 보다 크다. 이와 같이, 마스크 부재 (32) 에서는, 제 1 스텝 하이 (SH1) 가 작아져도, 제 2 스텝 하이 (SH2) 가 제 1 스텝 하이 (SH1) 이상임으로써, 증착용 메탈 마스크 (30) 의 강도가 낮아지는 것이 억제된다.

또, 제 2 우측 영역 (ER2) 에서의 제 1 스텝 폭 (SW1), 제 3 우측 영역 (ER3) 에서의 제 1 스텝 폭 (SW1), 및 제 4 우측 영역 (ER4) 에서의 제 1 스텝 폭 (SW1) 은, 중앙 영역 (32C) 에서의 제 1 스텝 폭 (SW1) 보다 작아지고, 또한 제 5 우측 영역 (ER5) 에서의 제 1 스텝 폭 (SW1) 보다 커진다. 또한, 제 2 우측 영역 (ER2) 에서의 제 1 스텝 폭 (SW1), 제 3 우측 영역 (ER3) 에서의 제 1 스텝 폭 (SW1), 및 제 4 우측 영역 (ER4) 에서의 제 1 스텝 폭 (SW1) 은, 기재된 순서로 작아진다.

또, 제 2 우측 영역 (ER2) 에서의 제 2 스텝 폭 (SW2), 제 3 우측 영역 (ER3) 에서의 제 2 스텝 폭 (SW2), 및 제 4 우측 영역 (ER4) 에서의 제 2 스텝 폭 (SW2) 은, 중앙 영역 (32C) 에서의 제 2 스텝 폭 (SW2) 보다 커지고, 또한 제 5 우측 영역 (ER5) 에서의 제 2 스텝 폭 (SW2) 보다 작아진다. 또한, 제 2 우측 영역 (ER2) 에서의 제 2 스텝 폭 (SW2), 제 3 우측 영역 (ER3) 에서의 제 2 스텝 폭 (SW2), 및 제 4 우측 영역 (ER4) 에서의 제 2 스텝 폭 (SW2) 은 기재된 순서로 커진다.

또한, 마스크 부재 (32) 의 표면 (32F) 에 있어서의 법선으로서, 마스크 부재 (32) 의 중앙을 지나는 법선을 대칭축으로 하는 경우에, 상기 서술한 5 개의 좌측 단부 영역은, 5 개의 우측 단부 영역과 선대칭의 관계를 가지고 있다. 그 때문에, 좌측 단부 영역에 대한 상세한 설명을 생략한다.

[증착용 메탈 마스크의 작용]

도 7 및 도 8 을 참조하여, 증착용 메탈 마스크 (30) 의 작용을 설명한다. 또한, 도 8 에서는, 도시의 편의상, 증착용 메탈 마스크 (30) 가 구비하는 마스크 부재 (32) 만이 나타나고, 또, 마스크 부재 (32) 에 포함되는 마스크공 (32H) 의 크기가 과장되어 있다. 증착용 메탈 마스크 (30) 는, 예를 들어, 유기 EL 표시 장치가 구비하는 발광 소자를 구성하는 유기층을 형성하기 위해서 사용된다.

도 7 이 나타내는 바와 같이, 마스크 장치 (10) 를 사용한 성막이 실시될 때에는, 먼저, 마스크 부재 (32) 의 이면 (32R) 이 증착 대상 (S) 과 접하는 상태에서, 마스크 장치 (10) 가, 증착 장치가 구비하는 스테이지에 고정된다. 증착 장치는 1 개의 증착원 (ES) 을 구비하고, 마스크 장치 (10) 는, 마스크 영역 (32M) 의 중앙 영역 (32C) 에 포함되는 마스크공이 증착원 (ES) 과 대향하도록, 스테이지에 고정된다.

증착 장치에서는, 증착 장치에 있어서의 증착원 (ES) 의 위치가 고정되어 있는 한편, 증착원 (ES) 에 대한 스테이지의 위치가 바뀐다. 스테이지는, 예를 들어, 증착원 (ES) 의 중심을 지나, 또한 1 차원 방향을 따라 연장되는 직선 상을 따라 이동하는 것이 가능하고, 이로써, 각 마스크 부재 (32) 의 중앙 영역 (32C) 에 포함되는 마스크공 (32H) 이, 증착원 (ES) 과 대향할 수 있다.

그리고, 증착원 (ES) 이 증착 물질의 방출을 개시하고, 이어서, 스테이지가 1 차원 방향을 따라 이동함으로써, 1 차원 방향을 따라 이동하고 있는 증착 대상 (S) 에는, 마스크 부재 (32) 가 포함하는 마스크공 (32H) 을 지난 증착 물질이 도달한다. 이로써, 증착 대상 (S) 에는, 복수의 증착 패턴이 형성된다.

또한, 증착 장치는, 증착 장치에 있어서의 스테이지의 위치가 고정되는 한편, 스테이지에 대한 증착원 (ES) 의 위치가 바뀌는 구성이어도 된다. 이러한 구성에서는, 증착원 (ES) 이, 각 마스크 부재 (32) 에 있어서의 중앙 영역 (32C) 을 지나고, 또한 1 차원 방향을 따라 연장되는 직선 상을 따라 이동하는 것이 가능하면 된다.

도 8 이 나타내는 바와 같이, 각 마스크 부재 (32) 의 중앙 영역 (32C) 과 증착원 (ES) 이 대향하는 상태에서는, 증착원 (ES) 으로부터 방출된 증착 물질 (DM) 로서, 중앙 영역 (32C) 에 포함되는 마스크공 (32H) 을 향하여 비행하는 증착 물질 (DM) 의 비행 방향은, 마스크 부재 (32) 의 표면 (32F) 에 있어서의 법선 방향에 거의 따르는 방향이다.

이에 대해, 중앙 영역 (32C) 보다 마스크 영역 (32M) 의 단부 (32ME) 측을 향하여 비행하는 증착 물질 (DM) 의 비행 방향에서는, 마스크 영역 (32M) 의 중앙과 증착 물질 (DM) 이 비행하는 위치 사이의 거리가 클수록, 법선 방향에서의 어긋남이 커진다. 보다 상세하게는, 마스크 영역 (32M) 의 중앙과 증착 물질 (DM) 이 비행하는 위치 사이의 거리가 클수록, 증착 물질 (DM) 의 비행 방향과 법선 방향이 형성하는 각도가 커진다.

여기서, 증착원 (ES) 으로부터 방출되는 증착 물질 (DM) 의 양은, 통상, 증착원 (ES) 과 대향하는 위치에 있어서 가장 크고, 또한 증착 물질 (DM) 이 방출되는 범위에 있어서 편차를 가지고 있다. 또한, 법선 방향과 비행 방향이 형성하는 각도가 커킬수록, 증착원 (ES) 과 대향하는 마스크공과, 그 이외의 마스크공 사이에 있어서, 증착 물질 (DM) 의 양의 차가 커진다. 그 때문에, 마스크공 (32H) 마다 형성되는 증착 패턴의 막두께에 있어서의 마스크공 (32H) 사이에서의 편차를 억제하는 데에 있어서는, 증착 대상 (S) 중에서, 증착원 (ES) 과 대향하는 부위에 도달하는 증착 물질 (DM) 의 양을 줄이는 것이 바람직하다.

마스크공 (32H) 에서는, 소공 (32HS) 이 대개구 (32H1) 를 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 가지고 있기 때문에, 제 1 스텝 하이 (SH1) 및 제 2 스텝 하이 (SH2) 가 클수록, 접속부 (32HC) 가 마스크공 (32H) 의 내측을 향하여 돌출되는 양이 커진다. 이로써, 마스크 부재 (32) 의 표면 (32F) 을 향하여 비행하는 증착 물질 (DM) 로부터 증착 대상을 보았을 때, 마스크 부재 (32) 에 의해 불필요한 그늘이 되는 부분이 커진다. 바꿔 말하면, 마스크 부재 (32) 에 의한 섀도우 효과가 커진다. 그리고, 섀도우 효과가 커질수록, 증착 물질 (DM) 이 마스크공 (32H) 을 통과하는 것이, 접속부 (32HC) 에 의해 억제된다.

그 때문에, 증착용 메탈 마스크 (30) 가 구비하는 마스크 부재 (32) 에 의하면, 중앙 영역 (32C) 에 포함되는 마스크공 (32H) 의 제 1 부분 (HC1) 은, 단부 영역 (32E) 에 포함되는 마스크공 (32H) 의 제 1 부분 (HC1) 보다, 증착 물질 (DM) 이 지나는 것을 억제한다. 그러므로, 마스크공 (32H) 마다 형성되는 증착 패턴의 막두께의 균일성을 증착용 메탈 마스크 (30) 내에 있어서 향상시킬 수 있다.

바꿔 말하면, 마스크공 (32H) 마다 형성되는 증착 패턴의 막두께에 있어서의 마스크공 (32H) 사이에서의 편차를 억제하는 데에 있어서는, 법선 방향에 대한 어긋남이 보다 작은 비행 방향으로 마스크공 (32H) 을 향하여 비행하는 증착 물질 (DM) 에 마스크공 (32H) 을 통과시키는 것이 바람직하다.

상기 서술한 마스크 부재 (32) 에 의하면, 단부 영역 (32E) 에 포함되는 마스크공 (32H) 에는, 법선 방향에 대한 어긋남이 보다 작은 비행 방향으로 비행하는 증착 물질 (DM) 이 도달한다. 그 때문에, 마스크공 (32H) 마다 형성되는 증착 패턴의 막두께의 균일성을 증착용 메탈 마스크 (30) 내에 있어서 향상시킬 수 있다.

증착용 메탈 마스크 (30) 가, 증착 패턴의 일례로서 발광 소자를 구성하는 유기층을 형성하기 위해서 사용될 때에는, 유기층의 막두께에 있어서의 균일성을 증착용 메탈 마스크 (30) 내에 있어서 향상시킴으로써, 복수의 발광 소자에 있어서, 발광 소자가 발하는 광의 광량에 있어서의 균일성을 향상시킬 수 있다. 결과적으로, 표시 장치의 표시 품질을 향상시킬 수 있다.

이에 대해, 마스크공마다 형성되는 유기층의 막두께가, 증착용 메탈 마스크 내에 있어서 편차를 가지고 있으면, 표시 장치에서는, 복수의 발광 소자가 발하는 광의 광량에 있어서 편차가 생긴다.

이와 같이, 증착용 메탈 마스크 (30) 를 사용하여 형성되는 증착 패턴을 구비하는 표시 장치의 제조 방법은, 증착용 메탈 마스크 (30) 를 형성하는 것과, 증착용 메탈 마스크 (30) 를 사용하여 증착 대상 (S) 에 증착 패턴을 형성하는 것을 포함하고 있다.

[증착용 메탈 마스크의 제조 방법]

도 9 내지 도 13 을 참조하여, 증착용 메탈 마스크 (30) 의 제조 방법을 설명한다. 또한, 이하에서는, 증착용 메탈 마스크 (30) 의 제조 방법 중, 마스크 부재 (32) 를 형성하는 공정을 설명한다. 또, 도 9 내지 도 13 에서는, 도시의 편의상, 중앙 영역 (32C) 에 대응하는 부분에 1 개의 마스크공 (32H) 을 형성하는 공정과, 제 1 우측 영역 (ER1) 에 대응하는 부분에 1 개의 마스크공 (32H) 을 형성하는 공정이 나타나 있다.

증착용 메탈 마스크 (30) 의 제조 방법에서는, 중앙 영역 (32C) 과 단부 영역 (32E) 을 포함하는 마스크 부재 (32) 를 형성한다. 중앙 영역 (32C) 은, 상기 서술한 바와 같이, 복수의 마스크공 (32H) 을 포함하는 마스크 영역 (32M) 의 중앙을 포함하고, 또한 증착원과 대향하기 위한 복수의 마스크공 (32H) 을 포함하고 있다. 단부 영역 (32E) 은, 이것도 상기 서술한 바와 같이, 중앙 영역 (32C) 보다 마스크 영역 (32M) 의 단부 (32ME) 측에 위치하고, 또한 중앙 영역 (32C) 이 포함하는 마스크공 (32H) 과는 상이한 복수의 마스크공 (32H) 을 포함하고 있다.

도 9 가 나타내는 바와 같이, 마스크 부재 (32) 를 형성할 때에는, 먼저, 표면 (41F) 과 이면 (41R) 을 포함하는 메탈 마스크용 기재 (41) 를 준비한다. 메탈 마스크용 기재 (41) 의 두께는, 예를 들어 10 ㎛ 이상 50 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.

그리고, 메탈 마스크용 기재 (41) 의 표면 (41F) 에 제 1 레지스트층 (42) 을 배치하고, 또한 메탈 마스크용 기재 (41) 의 이면 (41R) 에 제 2 레지스트층 (43) 을 배치한다. 제 1 레지스트층 (42) 및 제 2 레지스트층 (43) 의 형성 재료는, 네거티브형 레지스트이지만, 포지티브형 레지스트이어도 된다.

또한, 각 면에 대한 레지스트층의 배치는, 드라이 필름 레지스트를 각 면에 첩부 (貼付) 함으로써 실시해도 되고, 레지스트 재료를 포함하는 도액을 각 면에 도포하고, 또한 도액을 건조시킴으로써 각 면에 레지스트층을 형성함으로써 실시해도 된다.

도 10 이 나타내는 바와 같이, 각 레지스트층 중, 관통공을 형성하는 부위 이외의 부분을 노광하고, 노광 후의 각 레지스트층을 현상한다. 이로써, 제 1 레지스트층 (42) 에 제 1 관통공 (42H) 을 형성하고, 또한 제 2 레지스트층 (43) 에 제 2 관통공 (43H) 을 형성한다. 바꿔 말하면, 제 1 레지스트층 (42) 을 패터닝하여, 제 1 레지스트 패턴 (42P) 을 형성하고, 제 2 레지스트층 (43) 을 패터닝하여, 제 2 레지스트 패턴 (43P) 을 형성한다.

이 때, 각 레지스트층에 있어서, 중앙 영역 (32C) 에 포함되는 마스크공 (32H) 을 형성하기 위한 부분에서는, 이하와 같이 각 레지스트층이 패터닝된다. 즉, 표면 (41F) 과 직교하는 단면에 있어서, 표면 (41F) 의 법선으로서, 제 1 관통공 (42H) 에 있어서의 개구의 중심을 지나는 제 1 법선 (N1) 과, 표면 (41F) 의 법선으로서, 제 2 관통공 (43H) 에 있어서의 개구의 중심을 지나는 제 2 법선 (N2) 이 일치하도록, 각 레지스트층이 패터닝된다.

한편, 각 레지스트층에 있어서, 제 1 우측 영역 (ER1) 에 포함되는 마스크공 (32H) 을 형성하기 위한 부분에서는, 메탈 마스크용 기재 (41) 에 있어서의 마스크 부재 (32) 에 대응하는 영역 중에서, 제 1 법선 (N1) 이 제 2 법선 (N2) 보다 중앙 부근에 위치하도록, 각 레지스트층이 패터닝된다.

각 레지스트층을 노광할 때에는, 각 레지스트층에 있어서 메탈 마스크용 기재 (41) 에 접하는 면과는 반대측의 면에, 관통공을 형성하는 부분 이외의 부분에 광을 도달시키도록 구성된 원판을 올린다. 또, 노광 후의 각 레지스트층을 현상할 때에는, 현상액으로서 예를 들어 탄산나트륨 수용액을 사용할 수 있다. 또한, 각 레지스트층의 형성 재료가 포지티브형 레지스트일 때에는, 각 레지스트층 중, 관통공을 형성하는 부분을 노광하면 된다.

도 11 이 나타내는 바와 같이, 메탈 마스크용 기재 (41) 의 이면 (41R) 으로부터 표면 (41F) 을 향하여, 이면 (41R) 에 개구되는 소개구 (41H2) 를 포함하고, 표면 (41F) 을 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 가짐과 함께, 각 마스크공 (32H) 에 고유의 소공 (41HS) 을 형성한다.

소공 (41HS) 을 형성하는 공정에서는, 제 2 레지스트 패턴 (43P) 을 마스크로 하여, 예를 들어 염화 제 2 철액을 사용하여, 메탈 마스크용 기재 (41) 를 이면 (41R) 으로부터 표면 (41F) 을 향하여 에칭한다. 이 때, 제 1 레지스트 패턴 (42P) 에는, 메탈 마스크용 기재 (41) 의 표면 (41F) 이 이면 (41R) 과 동시에 에칭되지 않게, 표면 보호층 (44) 을 형성한다. 표면 보호층 (44) 의 형성 재료는, 염화 제 2 철액에 의해 잘 에칭되지 않는 재료이면 된다.

도 12 가 나타내는 바와 같이, 메탈 마스크용 기재 (41) 의 이면 (41R) 에 위치하는 제 2 레지스트 패턴 (43P) 과, 제 1 레지스트 패턴 (42P) 에 접하는 표면 보호층 (44) 을 제거한다. 또, 메탈 마스크용 기재 (41) 의 이면 (41R) 에, 이면 (41R) 의 에칭을 방지하기 위한 이면 보호층 (45) 을 형성한다. 이면 보호층 (45) 의 형성 재료는, 염화 제 2 철액에 의해 잘 에칭되지 않는 재료이면 된다.

도 13 이 나타내는 바와 같이, 메탈 마스크용 기재 (41) 의 표면 (41F) 으로부터 이면 (41R) 을 향하여, 표면 (41F) 에 개구되는 대개구 (41H1) 를 포함하고, 이면 (41R) 을 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 가짐과 함께, 각 마스크공 (32H) 에 고유의 대공 (41HB) 을 형성한다. 이로써, 소공 (41HS) 과 대공 (41HB) 이 접속하는 접속부 (41HC) 를 형성한다. 또한, 메탈 마스크용 기재 (41) 의 소공 (41HS) 이 마스크 부재 (32) 의 소공 (32HS) 에 대응하고, 메탈 마스크용 기재 (41) 의 대공 (41HB) 이 마스크 부재 (32) 의 대공 (32HB) 에 대응하고, 메탈 마스크용 기재 (41) 의 접속부 (41HC) 가 마스크 부재 (32) 의 접속부 (32HC) 에 대응한다.

접속부 (41HC) 를 형성하는 것에서는, 마스크 영역 (32M) 의 중앙 이외에 위치하는 각 접속부 (41HC) 로서, 이하의 형상을 갖는 접속부 (41HC) 를 형성한다. 즉, 접속부 (41HC) 는, 마스크공 (32H) 의 전체 둘레에 걸쳐 마스크공 (32H) 의 내측을 향하여 돌출되는 형상을 갖고, 또한 마스크 영역 (32M) 의 중앙 부근의 부분인 제 1 부분 (HC1) 과, 마스크 영역 (32M) 의 단부 (32ME) 부근의 부분인 제 2 부분 (HC2) 으로 구성된다.

또, 제 1 부분 (HC1) 과 이면 (41R) 사이의 거리가, 제 1 스텝 하이 (SH1) 이고, 접속부 (41HC) 를 형성하는 것에서는, 단부 영역 (32E) 의 일례인 제 1 우측 영역 (ER1) 에서의 접속부 (41HC) 로서, 제 1 스텝 하이 (SH1) 가, 중앙 영역 (32C) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 보다 작은 접속부 (41HC) 를 형성한다.

접속부 (41HC) 를 형성하는 공정에서는, 제 1 레지스트 패턴 (42P) 을 마스크로 하여, 예를 들어 염화 제 2 철액을 사용하여 메탈 마스크용 기재 (41) 의 표면 (41F) 을 에칭한다. 이로써, 메탈 마스크용 기재 (41) 의 표면 (41F) 에, 제 1 레지스트 패턴 (42P) 의 제 1 관통공 (42H) 을 통하여, 이면 (41R) 을 향하여 패인 대공 (41HB) 을 형성한다.

상기 서술한 바와 같이, 각 레지스트층에 있어서, 중앙 영역 (32C) 에 포함되는 마스크공 (32H) 을 형성하기 위한 부분에서는, 제 1 법선 (N1) 과 제 2 법선 (N2) 이 일치한다. 한편, 제 1 우측 영역 (ER1) 에 포함되는 마스크공 (32H) 을 형성하기 위한 부분에서는, 메탈 마스크용 기재 (41) 에 있어서의 마스크 부재 (32) 에 대응하는 영역 중에서, 제 1 법선 (N1) 이 제 2 법선 (N2) 보다 중앙 부근에 위치하고 있다.

그 때문에, 중앙 영역 (32C) 에 포함되는 1 개의 마스크공 (32H) 에 고유의 대공 (41HB) 및 소공 (41HS) 에서는, 대공 법선 (NB) 과 소공 법선 (NS) 이 일치하도록, 대공 (41HB) 이 형성된다. 또한, 메탈 마스크용 기재 (41) 의 대공 (41HB) 에 있어서의 대공 법선 (NB) 은, 마스크 부재 (32) 의 대공 (32HB) 에 있어서의 대공 법선 (NB) 에 대응하고, 메탈 마스크용 기재 (41) 의 소공 (41HS) 에 있어서의 소공 법선 (NS) 은, 마스크 부재 (32) 의 소공 (32HS) 에 있어서의 소공 법선 (NS) 에 대응한다.

한편, 제 1 우측 영역 (ER1) 에 포함되는 1 개의 마스크공 (32H) 에 고유의 대공 (41HB) 및 소공 (41HS) 에서는, 메탈 마스크용 기재 (41) 중, 마스크 부재 (32) 에 대응하는 영역 중에서, 대공 법선 (NB) 이 소공 법선 (NS) 보다 중앙 부근에 위치하도록, 대공 (41HB) 이 형성된다.

이로써, 제 1 우측 영역 (ER1) 에 포함되는 마스크공 (32H) 으로서, 제 1 스텝 하이 (SH1) 가, 중앙 영역 (32C) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 보다 작은 마스크공 (32H) 을 형성할 수 있다. 또, 제 1 우측 영역 (ER1) 에 포함되는 마스크공 (32H) 으로서, 법선간 거리 (ND) 가, 제 1 레지스트 패턴 (42P) 에 있어서의 제 1 법선 (N1) 과 제 2 법선 (N2) 사이의 거리와 거의 동일한 마스크공 (32H) 을 형성할 수 있다.

그리고, 이면 보호층 (45) 과 제 1 레지스트 패턴 (42P) 을 메탈 마스크용 기재 (41) 로부터 제거함으로써, 상기 서술한 증착용 메탈 마스크 (30) 가 구비하는 마스크 부재 (32) 를 얻을 수 있다.

또한, 제 1 레지스트 패턴 (42P) 중, 제 1 우측 영역 (ER1) 이외의 우측 단부 영역에 포함되는 마스크공을 형성하기 위한 부분에서는, 각 우측 단부 영역에서의 법선간 거리 (ND) 에 따라, 제 1 레지스트 패턴 (42P) 에 있어서의 제 1 법선 (N1) 과, 제 2 레지스트 패턴 (43P) 에 있어서의 제 2 법선 (N2) 사이의 거리를 설정하면 된다. 또, 제 1 레지스트 패턴 (42P) 중, 각 좌측 단부 영역에 포함되는 마스크공을 형성하기 위한 부분에서는, 각 좌측 단부 영역에서의 법선간 거리 (ND) 에 따라, 제 1 레지스트 패턴 (42P) 에 있어서의 제 1 법선 (N1) 과, 제 2 레지스트 패턴 (43P) 에 있어서의 제 2 법선 (N2) 사이의 거리를 설정하면 된다.

[실시예]

[실시예 1]

형성 재료가 인바이고, 또한 30 ㎛ 의 두께를 갖는 메탈 마스크용 기재를 준비하고, 상기 서술한 제 1 폭 (W1) 이 440 ㎜ 이고, 또한 제 2 폭 (W2) 이 40 ㎜ 인 마스크 부재를 형성하였다. 마스크 부재에는, 복수의 마스크공을 형성하였다. 각 마스크공의 접속부에 있어서, 복수의 단부 영역이 구획되는 구획 방향에 있어서의 폭을 40 ㎛ 로 설정하고, 구획 방향과 직교하는 방향에 있어서의 폭을 50 ㎛ 로 설정하였다. 또, 마스크 부재에 있어서 복수의 마스크공을 정방 격자상으로 배치하고, 마스크공이 위치하는 피치, 즉 소공이 위치하는 피치를 80 ㎛ 로 설정하였다.

메탈 마스크용 기재에 복수의 마스크공을 형성하기 위한 제 1 레지스트 패턴 및 제 2 레지스트 패턴으로서, 이하와 같은 레지스트 패턴을 형성하였다. 즉, 제 2 레지스트 패턴으로서, 소공을 형성하기 위한 제 2 관통공이 일정한 간격으로 나열되는 레지스트 패턴을 형성하였다.

이에 대해, 제 1 레지스트 패턴으로서, 중앙 영역에 포함되는 마스크공을 형성하기 위한 부분, 및 각 단부 영역에 포함되는 마스크공을 형성하기 위한 부분에 있어서, 제 2 관통공에 대한 제 1 관통공의 위치가 서로 상이하도록, 제 1 관통공을 형성하였다. 보다 상세하게는, 중앙 영역에 포함되는 마스크공을 형성하기 위한 부분에는, 메탈 마스크용 기재의 표면과 직교하는 단면에 있어서, 상기 서술한 제 1 법선과 제 2 법선이 일치하도록, 제 1 관통공을 형성하였다.

또, 제 1 우측 영역 및 제 1 좌측 영역의 각각에 포함되는 마스크공을 형성하기 위한 부분에는, 제 1 법선과 제 2 법선 사이의 거리가 1 ㎛ 가 되도록, 제 1 관통공을 형성하였다. 제 2 우측 영역 및 제 2 좌측 영역의 각각에 포함되는 마스크공을 형성하기 위한 부분에는, 제 1 법선과 제 2 법선 사이의 거리가 2 ㎛ 가 되도록, 제 1 관통공을 형성하였다.

제 3 우측 영역 및 제 3 좌측 영역의 각각에 포함되는 마스크공을 형성하기 위한 부분에는, 제 1 법선과 제 2 법선 사이의 거리가 3 ㎛ 가 되도록, 제 1 관통공을 형성하였다. 제 4 우측 영역 및 제 4 좌측 영역의 각각에 포함되는 마스크공을 형성하기 위한 부분에는, 제 1 법선과 제 2 법선 사이의 거리가 4 ㎛ 가 되도록, 제 1 관통공을 형성하였다. 제 5 우측 영역 및 제 5 좌측 영역의 각각에 포함되는 마스크공을 형성하기 위한 부분에는, 제 1 법선과 제 2 법선 사이의 거리가 5 ㎛ 가 되도록, 제 1 관통공을 형성하였다. 이로써, 각 영역에는, 이하의 표 1 및 표 2 에 나타내는 치수를 갖는 마스크공이 형성된다.

표 1 이 나타내는 바와 같이, 중앙 영역 중, 마스크 영역의 중앙 이외의 부위에는, 법선간 거리가 0 ㎛ 이고, 제 1 스텝 하이가 2.7 ㎛ 이고, 제 2 스텝 하이가 2.7 ㎛ 인 마스크공이 형성되는 것이 관찰되었다. 제 1 우측 영역에는, 법선간 거리가 1 ㎛ 이고, 제 1 스텝 하이가 2.2 ㎛ 이고, 제 2 스텝 하이가 3.0 ㎛ 인 마스크공이 형성되는 것이 관찰되었다.

제 2 우측 영역에는, 법선간 거리가 2 ㎛ 이고, 제 1 스텝 하이가 1.7 ㎛ 이고, 제 2 스텝 하이가 3.3 ㎛ 인 마스크공이 형성되는 것이 관찰되었다. 제 3 우측 영역에는, 법선간 거리가 3 ㎛ 이고, 제 1 스텝 하이가 1.2 ㎛ 이고, 제 2 스텝 하이가 3.5 ㎛ 인 마스크공이 형성되는 것이 관찰되었다.

제 4 우측 영역에는, 법선간 거리가 4 ㎛ 이고, 제 1 스텝 하이가 0.7 ㎛ 이고, 제 2 스텝 하이가 3.8 ㎛ 인 마스크공이 형성되는 것이 관찰되었다. 제 5 우측 영역에는, 법선간 거리가 5 ㎛ 이고, 제 1 스텝 하이가 0.1 ㎛ 이고, 제 2 스텝 하이가 4.0 ㎛ 인 마스크공이 형성되는 것이 관찰되었다.

표 2 가 나타내는 바와 같이, 제 1 좌측 영역에는, 법선간 거리가 1 ㎛ 이고, 제 1 스텝 하이가 2.3 ㎛ 이고, 제 2 스텝 하이가 2.9 ㎛ 인 마스크공이 형성되는 것이 관찰되었다. 제 2 좌측 영역에는, 법선간 거리가 2 ㎛ 이고, 제 1 스텝 하이가 1.8 ㎛ 이고, 제 2 스텝 하이가 3.3 ㎛ 인 마스크공이 형성되는 것이 관찰되었다.

제 3 좌측 영역에는, 법선간 거리가 3 ㎛ 이고, 제 1 스텝 하이가 1.3 ㎛ 이고, 제 2 스텝 하이가 3.6 ㎛ 인 마스크공이 형성되는 것이 관찰되었다. 제 4 좌측 영역에는, 법선간 거리가 4 ㎛ 이고, 제 1 스텝 하이가 0.7 ㎛ 이고, 제 2 스텝 하이가 3.8 ㎛ 인 마스크공이 형성되는 것이 관찰되었다. 제 5 좌측 영역에는, 법선간 거리가 5 ㎛ 이고, 제 1 스텝 하이가 0.1 ㎛ 이고, 제 2 스텝 하이가 4.0 ㎛ 인 마스크공이 형성되는 것이 관찰되었다.

즉, 마스크 부재의 표면과 직교하는 단면에 있어서, 마스크 부재의 중앙으로부터의 거리가 큰 단부 영역일수록 법선간 거리를 크게 함으로써, 마스크 부재의 중앙으로부터의 거리가 큰 단부 영역일수록 제 1 스텝 하이를 작게 할 수 있는 것이 관찰되었다.

그리고, 이러한 마스크 부재를 서브 프레임에 장착함으로써 증착용 메탈 마스크를 형성한 후, 증착용 메탈 마스크를 메인 프레임에 장착함으로써, 실시예 1 의 마스크 장치를 얻었다.

[비교예 1]

제 1 레지스트 패턴으로서, 대공을 형성하기 위한 제 1 관통공이 일정한 간격으로 나열되고, 또한 각 대공과 접속하는 1 개의 소공에 대한 대공의 위치가 일정한 제 1 레지스트 패턴을 형성한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 방법에 의해 비교예 1 의 마스크 장치를 형성하였다. 이로써, 마스크 부재로서, 각 마스크공에 있어서의 법선간 거리가 제로인 복수의 마스크공을 포함하는 마스크 부재를 얻었다.

[평가 결과]

실시예 1 의 마스크 장치를 증착 장치에 장착하고, 소정의 조건으로 복수의 증착 패턴을 형성하고, 또, 비교예 1 의 마스크 장치를 증착 장치에 장착하고, 실시예 1 을 사용했을 때와 동일한 조건으로 복수의 증착 패턴을 형성하였다.

실시예 1 의 마스크 장치를 사용하여 형성한 복수의 증착 패턴과, 비교예 1 의 마스크 장치를 사용하여 형성한 복수의 증착 패턴에 있어서, 복수의 증착 패턴 사이에서의 막두께의 편차를 산출하였다. 이로써, 실시예 1 의 마스크 장치를 사용하여 형성한 복수의 증착 패턴에서의 막두께의 편차는, 비교예 1 의 마스크 장치를 사용하여 형성한 복수의 증착 패턴에서의 막두께의 편차보다 작은 경향을 갖는 것이 관찰되었다.

이상 설명한 바와 같이, 증착용 메탈 마스크, 증착용 메탈 마스크의 제조 방법, 및 표시 장치의 제조 방법의 일 실시형태에 의하면, 이하에 열거하는 효과를 얻을 수 있다.

(1) 중앙 영역 (32C) 에 포함되는 마스크공 (32H) 의 제 1 부분 (HC1) 은, 단부 영역 (32E) 에 포함되는 마스크공 (32H) 의 제 1 부분 (HC1) 보다, 증착 물질 (DM) 이 지나는 것을 억제한다. 그 때문에, 마스크공 (32H) 마다 형성되는 증착 패턴의 막두께의 균일성을 증착용 메탈 마스크 (30) 내에 있어서 향상시킬 수 있다.

(2) 제 1 스텝 하이 (SH1) 가 작아져도, 제 2 스텝 하이 (SH2) 가 제 1 스텝 하이 (SH1) 이상임으로써, 증착용 메탈 마스크 (30) 의 강도가 낮아지는 것이 억제된다.

(3) 소공 (32HS) 에 대한 대공 (32HB) 의 위치를 바꿀 뿐이고, 중앙 영역 (32C) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 보다 단부 영역 (32E) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 를 작게 할 수 있기 때문에, 증착용 메탈 마스크 (30) 의 설계가 용이하다.

(4) 중앙 영역 (32C) 으로부터의 거리가 작은 단부 영역 (32E) 이 포함하는 마스크공 (32H) 의 제 1 부분 (HC1) 일수록, 그 단부 영역 (32E) 보다 마스크 영역 (32M) 의 단부측에 위치하는 단부 영역 (32E) 이 포함하는 마스크공 (32H) 보다, 증착 물질 (DM) 이 지나는 것을 억제한다. 그 때문에, 마스크공 (32H) 마다 형성되는 증착 패턴의 막두께의 균일성을 증착용 메탈 마스크 (30) 내에 있어서 향상시킬 수 있다.

(5) 중앙 영역 (32C) 으로부터의 거리가 큰 단부 영역 (32E) 일수록, 단부 영역 (32E) 에서의 제 2 스텝 하이 (SH2) 가 커지기 때문에, 각 단부 영역 (32E) 에 있어서, 제 1 부분 (HC1) 에서의 강도의 저하를 제 2 부분 (HC2) 의 강도에 의해 보충할 수 있다.

또한, 상기 서술한 실시형태는, 이하와 같이 적절히 변경하여 실시할 수도 있다.

·복수의 단부 영역 (32E) 에 있어서의 제 5 우측 영역 (ER5) 에서는, 마스크 영역 (32M) 의 단부 (32ME) 를 포함하는 영역에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 는, 제로가 아니어도 된다. 이러한 구성이어도, 중앙 영역 (32C) 으로부터의 거리가 큰 단부 영역 (32E) 일수록, 그 단부 영역 (32E) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 가 작으면, 상기 서술한 (4) 와 동등한 효과를 얻을 수 있다.

·중앙 영역 (32C) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 와 제 2 스텝 하이 (SH2) 는 서로 상이한 크기이어도 된다. 이러한 구성이어도, 중앙 영역 (32C) 으로부터의 거리가 큰 단부 영역 (32E) 일수록, 그 단부 영역 (32E) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 가 작으면, 상기 서술한 (4) 와 동등한 효과를 얻을 수 있다. 또, 단부 영역 (32E) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 가 중앙 영역 (32C) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 보다 작으면, 상기 서술한 (1) 과 동등한 효과를 얻을 수 있다.

·각 영역에서의 제 1 스텝 폭 (SW1) 및 제 2 스텝 폭 (SW2) 의 각각은, 상기 서술한 실시형태에서 예시한 크기에 한정되지 않고, 각 영역에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 및 제 2 스텝 하이 (SH2) 의 크기에 따라 정해지는 크기이면 된다.

·마스크 영역 (32M) 에 있어서, 마스크 영역 (32M) 의 단부 (32ME) 를 포함하는 영역만이 단부 영역 (32E) 이어도 되고, 마스크 영역 (32M) 에는, 중앙 영역 (32C) 과 단부 영역 (32E) 사이에 끼워지는 영역으로서, 중앙 영역 (32C) 과 단부 영역 (32E) 중 어느 것도 아닌 영역이 포함되어도 된다. 이 경우에는, 단부 영역 (32E) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 는, 중앙 영역 (32C) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 보다 작은 한편, 중앙 영역 (32C) 과 단부 영역 (32E) 사이의 영역에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 는, 중앙 영역 (32C) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 보다 작지 않아도 된다.

이러한 구성에 의하면, 이하에 기재된 효과를 얻을 수 있다.

(6) 단부 영역 (32E) 이, 증착원 (ES) 으로부터 방출된 증착 물질 (DM) 이 1 개의 마스크 영역 (32M) 중에서 가장 도달하기 어려운 단부 (32ME) 를 포함하기 때문에, 단부 영역 (32E) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 를 중앙 영역 (32C) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 보다 작게 하는 것에 의한 효과를 얻기 쉽다.

·마스크 영역 (32M) 이 복수의 단부 영역 (32E) 을 구비하는 구성은, 마스크 영역 (32M) 의 중앙으로부터의 거리가 큰 단부 영역 (32E) 일수록, 제 1 스텝 하이 (SH1) 가 작은 구성이 아니어도 된다. 예를 들어, 마스크 영역 (32M) 의 중앙으로부터의 거리가 큰 단부 영역 (32E) 일수록, 제 1 스텝 하이 (SH1) 가 큰 구성이어도 된다. 또 예를 들어, 마스크 영역 (32M) 의 중앙 부근에 있어서의 단부 영역 (32E) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 가, 단부 (32ME) 부근에 있어서의 단부 영역 (32E) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 보다 커도 된다.

이들 구성이어도, 각 단부 영역 (32E) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 가, 중앙 영역 (32C) 에서의 제 1 스텝 하이보다 작으면, 상기 서술한 (1) 과 동등한 효과를 얻을 수 있다.

·마스크 영역 (32M) 은, 10 의 단부 영역 (32E) 을 구비하는 구성에 한정되지 않고, 적어도 1 개의 단부 영역 (32E) 을 구비하는 구성이면 된다. 또, 마스크 영역 (32M) 에 있어서, 중앙 영역 (32C) 의 우측에 위치하는 단부 영역 (32E) 의 수와, 중앙 영역 (32C) 의 좌측에 위치하는 단부 영역 (32E) 의 수가 서로 상이해도 된다.

·복수의 단부 영역 (32E) 에 있어서, 각 단부 영역 (32E) 에서의 법선간 거리 (ND) 가 서로 동일해도 되고, 복수의 단부 영역 (32E) 에 있어서, 마스크 부재 (32) 의 중앙으로부터의 거리가 클수록, 법선간 거리 (ND) 가 작아도 된다. 이러한 구성이어도, 단부 영역 (32E) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 가, 중앙 영역 (32C) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 보다 작으면, 상기 서술한 (1) 과 동등한 효과를 얻을 수 있다.

·대공 (32HB) 이 소개구 (32H2) 를 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 가지고 있으면, 대공 (32HB) 의 내주면 (HB1) 은 호상이 아니어도 된다. 또, 소공 (32HS) 이 대개구 (32H1) 를 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 가지고 있으면, 소공 (32HS) 의 내주면 (HS1) 은 호상이 아니어도 된다. 이 경우에는, 대공 (32HB) 의 내주면 (HB1) 과 소공 (32HS) 의 내주면 (HS1) 의 양방이 호상이 아니어도 되고, 어느 일방이 호상이 아니어도 된다.

·각 단부 영역 (32E) 에 있어서, 제 2 스텝 하이 (SH2) 와 제 1 스텝 하이 (SH1) 가 서로 동일해도 된다. 또, 중앙 영역 (32C) 및 각 단부 영역 (32E) 에 있어서, 제 2 스텝 하이 (SH2) 는 제 1 스텝 하이 (SH1) 보다 작아도 된다. 이러한 구성이어도, 단부 영역 (32E) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 가 중앙 영역 (32C) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 보다 작으면, 상기 서술한 (1) 과 동등한 효과를 얻을 수 있다.

·메탈 마스크용 기재 (41) 의 형성 재료, 나아가서는, 마스크 부재 (32) 의 형성 재료는, 철과 니켈의 합금으로서, 또한 첨가물로서 크롬을 포함해도 된다. 혹은, 메탈 마스크용 기재 (41) 의 형성 재료, 및 마스크 부재 (32) 의 형성 재료는, 철과 니켈의 합금 이외의 합금, 혹은 금속이어도 된다.

·메탈 마스크용 기재 (41) 는, 모재의 압연에 의해 얻어진 금속 시트이어도 되고, 전해에 의해 형성된 금속 시트이어도 된다.

·마스크 부재 (32) 를 형성하기 위한 메탈 마스크용 기재 (41) 는, 단일 금속제의 층에 더하여, 수지제의 층을 구비하고, 금속제의 층과 수지제의 층이 적층된 구성이어도 된다. 혹은, 메탈 마스크용 기재 (41) 는, 2 개의 금속제의 층과 수지제의 층을 구비하고, 수지제의 층이 2 개의 금속제의 층에 의해 사이에 끼워진 구성을 가져도 된다.

이러한 구성이어도, 각 마스크공이, 소개구를 향하여 끝이 가늘어지는 대공, 대개구를 향하여 끝이 가늘어지는 소개구, 대공과 소공이 접속하는 접속부를 포함하고, 또한 단부 영역에서의 제 1 스텝 하이가, 중앙 영역에서의 제 1 스텝 하이보다 작으면 된다. 이러한 구성이면, 상기 서술한 (1) 과 동등한 효과를 얻을 수 있다. 또한, 메탈 마스크용 기재 중, 수지제의 층은, 예를 들어 레이저 광선을 조사함으로써 에칭할 수 있다.

·마스크 부재 (32) 는, 마스크 영역 (32M) 에 더하여, 마스크공이 형성되어 있지 않은 영역인 비마스크 영역을 포함해도 된다. 예를 들어, 마스크 부재 (32) 는, 복수의 마스크공 (32H) 이 나열되는 방향에 있어서, 2 개의 단부에 있어서의 쌍방에 비마스크 영역을 1 개씩 가져도 된다.

·증착 장치가 복수의 증착원 (ES) 을 구비하고, 1 개의 증착용 메탈 마스크 (30) 가 복수의 증착원 (ES) 과 대향하는 구성에서는, 1 개의 마스크 부재 (32) 가 복수의 마스크 영역 (32M) 을 포함해도 된다. 이러한 구성에서는, 각 마스크 영역 (32M) 이 중앙 영역 (32C) 과 단부 영역 (32E) 을 가지고 있으면 된다. 그리고, 각 마스크 영역 (32M) 에 있어서, 단부 영역 (32E) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 가 중앙 영역 (32C) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 보다 작으면, 상기 서술한 (1) 과 동등한 효과를 마스크 영역 (32M) 마다 얻을 수 있다.

또한, 1 개의 증착용 메탈 마스크 (30) 가 복수의 마스크 영역 (32M) 을 포함하는 구성에 있어서도, 각 마스크 영역 (32M) 이 복수의 단부 영역 (32E) 을 가져도 되고, 각 마스크 영역 (32M) 의 단부 (32ME) 를 포함하는 영역으로서 단부 영역 (32E) 을 구비해도 된다.

·증착용 메탈 마스크가 구비하는 복수의 마스크공 모두에 의해 1 개의 마스크 영역 (32M) 이 구성되고, 또한 단부 영역 (32E) 및 중앙 영역 (32C) 이 각각 이하의 구성이어도 된다. 즉, 단부 영역 (32E) 은, 마스크 영역 (32M) 의 단부 (32ME) 를 포함하고, 또한 복수의 마스크공 (32H) 을 포함한다. 한편, 중앙 영역 (32C) 은, 단부 영역 (32E) 보다 마스크 영역 (32M) 의 중앙측에 위치하고, 또한 단부 영역 (32E) 에 포함되는 마스크공 (32H) 과는 상이함과 함께, 증착원 (ES) 과 대향하기 위한 복수의 마스크공 (32H) 을 포함한다.

이러한 구성에서는, 증착 장치가 1 개의 증착원 (ES) 만을 구비하는 구성이면, 증착용 메탈 마스크 (30) 가 1 개의 증착원 (ES) 만과 대향한다. 이에 대해, 증착 장치가 복수의 증착원 (ES) 을 구비하는 구성이면, 증착용 메탈 마스크 (30) 가, 복수의 증착원 (ES) 과 대향하도록, 증착 장치에 배치되어도 된다. 증착용 메탈 마스크 (30) 가 1 개의 증착원 (ES) 만과 대향할 때, 마스크 영역 (32M) 은 1 개의 중앙 영역 (32C) 을 구비하는 한편, 증착용 메탈 마스크 (30) 가 복수의 증착원 (ES) 과 대향할 때, 마스크 영역 (32M) 은 복수의 중앙 영역 (32C) 을 구비하고 있다.

어느 경우에도, 단부 영역 (32E) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 가 중앙 영역 (32C) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 보다 작으면, 이하에 기재된 효과를 얻을 수 있다.

(7) 마스크 영역 (32M) 과 대향하는 증착원 (ES) 이 1 개든 복수든, 마스크 영역 (32M) 의 단부 (32ME) 를 포함하는 단부 영역 (32E) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 가, 중앙 영역 (32C) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 보다 작다. 그 때문에, 중앙 영역 (32C) 에 포함되는 마스크공 (32H) 의 제 1 부분 (HC1) 은, 단부 영역 (32E) 에 포함되는 마스크공 (32H) 의 제 1 부분 (HC1) 보다, 증착 물질 (DM) 이 지나는 것을 억제한다. 그러므로, 마스크공 (32H) 마다 형성되는 증착 패턴의 막두께의 균일성을 증착용 메탈 마스크 (30) 내에 있어서 향상시킬 수 있다.

·1 개의 증착용 메탈 마스크 (30) 는, 복수의 마스크 부재 (32) 를 구비해도 된다. 이러한 구성에서는, 서브 프레임 (31) 은, 마스크 부재 (32) 와 동수의 서브 프레임공 (30H) 을 가지고 있으면 된다. 이 때, 증착 장치가 1 개의 증착원을 구비하는 구성이면, 복수의 마스크 부재 (32) 가 1 개의 마스크 영역 (32M) 을 구성하고 있다. 또, 증착 장치가 복수의 증착원을 구비하고, 또한 증착용 메탈 마스크가, 복수의 증착원에 대해 1 개의 마스크 영역 (32M) 을 갖는 구성이면, 복수의 마스크 부재 (32) 가 1 개의 마스크 영역 (32M) 을 구성하고 있다.

이에 대해, 증착 장치가 복수의 증착원을 구비하고, 또한 증착용 메탈 마스크가, 1 개의 증착원마다 1 개의 마스크 영역을 갖는 구성이면, 각 마스크 부재 (32) 가 1 개의 마스크 영역을 구성해도 되고, 각 마스크 부재 (32) 가 복수의 마스크 영역을 구성해도 된다. 혹은, 1 개의 마스크 영역 (32M) 이 복수의 마스크 부재 (32) 에 걸쳐도 된다.

·도 14 가 나타내는 바와 같이, 각 마스크공 (32H) 에 있어서의 대공 (32HB) 과, 마스크공 (32H) 이 나열되는 방향에 있어서 서로 이웃하는 마스크공 (32H) 의 대공 (32HB) 은, 대개구 (32H1) 에 있어서 서로 연결되어 있어도 된다. 이러한 구성이어도, 각 마스크공 (32H) 이, 소개구 (32H2) 를 향하여 끝이 가늘어지는 대공 (32HB), 대개구 (32H1) 를 향하여 끝이 가늘어지는 소공 (32HS), 대공 (32HB) 과 소공 (32HS) 이 접속하는 접속부 (32HC) 를 포함하고, 또한 단부 영역 (32E) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 가, 중앙 영역 (32C) 에서의 제 1 스텝 하이 (SH1) 보다 작으면 된다. 이러한 구성이면, 상기 서술한 (1) 과 동등한 효과를 얻을 수 있다.

또한, 도 14 에는, 마스크 영역 (32M) 중, 제 5 우측 영역 (ER5) 의 단면 구조를 나타내고 있지만, 마스크 영역 (32M) 에 있어서의 다른 영역, 즉, 중앙 영역 (32C) 및 다른 단부 영역 (32E) 에 있어서도, 제 5 우측 영역 (ER5) 과 동일하게, 서로 이웃하는 대공 (32HB) 이, 대개구 (32H1) 에 있어서 서로 연결되어 있어도 된다.

10…마스크 장치
20…메인 프레임
20H…메인 프레임공
30…증착용 메탈 마스크
30H…서브 프레임공
31…서브 프레임
32…마스크 부재
32C…중앙 영역
32E…단부 영역
32F, 41F…표면
32H…마스크공
32H1, 41H1…대개구
32H2, 41H2…소개구
32HB, 41HB…대공
32HC, 41HC…접속부
32HS, 41HS…소공
32M…마스크 영역
32ME…단부
32R, 41R…이면
41…메탈 마스크용 기재
42…제 1 레지스트층
42H…제 1 관통공
42P…제 1 레지스트 패턴
43…제 2 레지스트층
43H…제 2 관통공
43P…제 2 레지스트 패턴
44…표면 보호층
45…이면 보호층
DM…증착 물질
EL1…제 1 좌측 영역
EL2…제 2 좌측 영역
EL3…제 3 좌측 영역
EL4…제 4 좌측 영역
EL5…제 5 좌측 영역
ER1…제 1 우측 영역
ER2…제 2 우측 영역
ER3…제 3 우측 영역
ER4…제 4 우측 영역
ER5…제 5 우측 영역
ES…증착원
HB1, HS1…내주면
HC1…제 1 부분
HC2…제 2 부분
N1…제 1 법선
N2…제 2 법선
NB…대공 법선
ND…법선간 거리
NS…소공 법선
S…증착 대상
SH1…제 1 스텝 하이
SH2…제 2 스텝 하이
SW1…제 1 스텝 폭
SW2…제 2 스텝 폭

Claims (10)

1. 복수의 마스크공을 포함하는 마스크 영역을 구비하고,
   상기 마스크 영역은 중앙 영역과 단부 영역을 구비하고,
   상기 중앙 영역은, 상기 마스크 영역의 중앙을 포함하고, 또한 증착원과 대향하기 위한 복수의 상기 마스크공을 포함하고,
   상기 단부 영역은, 상기 중앙 영역보다 상기 마스크 영역의 단부측에 위치하고, 또한 상기 중앙 영역에 포함되는 상기 마스크공과는 상이한 복수의 상기 마스크공을 포함하고,
   상기 마스크 영역은,
   상기 각 마스크공의 대개구를 포함하는 표면과,
   상기 각 마스크공의 소개구를 포함하는 이면을 구비하고,
   상기 각 마스크공은,
   상기 대개구를 포함하고, 상기 소개구를 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 갖는 대공과,
   상기 소개구를 포함하고, 상기 대개구를 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 갖는 소공과,
   상기 대공과 상기 소공을 접속하는 접속부를 포함하고,
   상기 마스크 영역의 중앙 이외에 위치하는 상기 각 접속부는,
   상기 마스크공의 전체 둘레에 걸쳐 상기 마스크공의 내측을 향하여 돌출되는 형상을 갖고, 또한 상기 마스크 영역의 중앙 부근의 부분인 제 1 부분과, 상기 마스크 영역의 단부 부근의 부분인 제 2 부분으로 구성되고,
   상기 제 1 부분과 상기 이면 사이의 거리가, 제 1 스텝 하이이고, 상기 단부 영역에서의 상기 제 1 스텝 하이가, 상기 중앙 영역에서의 상기 제 1 스텝 하이보다 작은, 증착용 메탈 마스크.
2. 증착용 메탈 마스크가 구비하는 복수의 마스크공 모두에 의해 1 개의 마스크 영역이 구성되고,
   상기 마스크 영역은 중앙 영역과 단부 영역을 구비하고,
   상기 단부 영역은, 상기 마스크 영역의 단부와, 복수의 상기 마스크공을 포함하고,
   상기 중앙 영역은, 상기 단부 영역보다 상기 마스크 영역의 중앙측에 위치하고, 또한 상기 단부 영역에 포함되는 상기 마스크공과는 상이함과 함께, 증착원과 대향하기 위한 복수의 상기 마스크공을 포함하고,
   상기 마스크 영역은,
   상기 각 마스크공의 대개구를 포함하는 표면과,
   상기 각 마스크공의 소개구를 포함하는 이면을 구비하고,
   상기 각 마스크공은,
   상기 대개구를 포함하고, 상기 소개구를 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 갖는 대공과,
   상기 소개구를 포함하고, 상기 대개구를 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 갖는 소공과,
   상기 대공과 상기 소공을 접속하는 접속부를 포함하고,
   상기 마스크 영역의 중앙 이외에 위치하는 상기 각 접속부는,
   상기 마스크공의 전체 둘레에 걸쳐 상기 마스크공의 내측을 향하여 돌출되는 형상을 갖고, 또한 상기 마스크 영역의 중앙 부근의 부분인 제 1 부분과, 상기 마스크 영역의 단부 부근의 부분인 제 2 부분으로 구성되고,
   상기 제 1 부분과 상기 이면 사이의 거리가, 제 1 스텝 하이이고, 상기 단부 영역에서의 상기 제 1 스텝 하이가, 상기 중앙 영역에서의 상기 제 1 스텝 하이보다 작은, 증착용 메탈 마스크.
3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
   상기 제 2 부분과 상기 이면 사이의 거리가, 제 2 스텝 하이이고,
   상기 각 마스크공에 있어서, 상기 제 2 스텝 하이는, 상기 제 1 스텝 하이 이상인, 증착용 메탈 마스크.
4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 표면과 직교하는 단면에 있어서의 상기 대공의 내주면이 호상을 갖고,
   상기 단면에 있어서의 상기 소공의 내주면이 호상을 갖고,
   상기 단면에 있어서, 상기 표면에 있어서의 법선 중, 상기 대개구의 중앙을 지나는 상기 법선이 대공 법선이고, 상기 소개구의 중앙을 지나는 상기 법선이 소공 법선이고,
   상기 각 마스크공에 속하는 상기 대공 법선은, 동일한 상기 마스크공에 속하는 상기 소공 법선과 동일한 위치, 또는 동일한 상기 마스크공에 속하는 상기 소공 법선보다 상기 마스크 영역의 중앙 부근에 위치하고, 동일한 상기 마스크공에 속하는 상기 대공 법선과 상기 소공 법선 사이의 거리가, 법선간 거리이고,
   상기 단부 영역에서의 상기 법선간 거리가, 상기 중앙 영역에서의 상기 법선간 거리보다 큰, 증착용 메탈 마스크.
5. 제 4 항에 있어서,
   상기 증착용 메탈 마스크는, 복수의 상기 단부 영역을 구비하고,
   상기 각 단부 영역은, 상기 마스크공이 나열되는 방향을 따라 나열되고,
   복수의 상기 단부 영역에 있어서, 상기 중앙 영역으로부터의 거리가 클수록, 상기 단부 영역에서의 상기 법선간 거리가 큰, 증착용 메탈 마스크.
6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
   상기 증착용 메탈 마스크는, 복수의 상기 단부 영역을 구비하고,
   상기 각 단부 영역은, 상기 마스크공이 나열되는 방향을 따라 나열되고,
   복수의 상기 단부 영역에 있어서, 상기 중앙 영역으로부터의 거리가 큰 상기 단부 영역일수록, 상기 단부 영역에서의 상기 제 1 스텝 하이가 작은, 증착용 메탈 마스크.
7. 제 6 항에 있어서,
   상기 제 2 부분과 상기 이면 사이의 거리가, 제 2 스텝 하이이고,
   복수의 상기 단부 영역에 있어서, 상기 중앙 영역으로부터의 거리가 큰 상기 단부 영역일수록, 상기 단부 영역에서의 상기 제 2 스텝 하이가 큰, 증착용 메탈 마스크.
8. 제 1 항에 있어서,
   상기 단부 영역은, 상기 마스크 영역의 상기 단부를 포함하는 영역인, 증착용 메탈 마스크.
9. 복수의 마스크공을 포함하는 마스크 영역을 구비하는 증착용 메탈 마스크의 제조 방법으로서, 상기 마스크 영역은 중앙 영역과 단부 영역을 구비하고, 상기 중앙 영역은, 상기 마스크 영역의 중앙을 포함하고, 또한 증착원과 대향하기 위한 복수의 상기 마스크공을 포함하고, 상기 단부 영역은, 상기 중앙 영역보다 상기 마스크 영역의 단부측에 위치하고, 또한 상기 중앙 영역에 포함되는 상기 마스크공과는 상이한 복수의 상기 마스크공을 포함하고, 상기 제조 방법은,
   메탈 마스크용 기재의 이면으로부터 표면을 향하여, 상기 각 마스크공에 고유의 소공으로서, 상기 이면에 개구되는 소개구를 포함함과 함께 상기 표면을 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 갖는 상기 소공을 형성하는 것과,
   상기 메탈 마스크용 기재의 상기 표면으로부터 상기 이면을 향하여, 상기 각 마스크공에 고유의 대공으로서, 상기 표면에 개구되는 대개구를 포함함과 함께 상기 이면을 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 갖는 상기 대공을 형성하고, 그에 따라, 상기 소공과 상기 대공이 접속하는 접속부를 형성하는 것을 포함하고,
   상기 접속부를 형성하는 것은, 상기 마스크공의 전체 둘레에 걸쳐 상기 마스크공의 내측을 향하여 돌출되는 형상을 갖고, 또한 상기 마스크 영역의 중앙 부근의 부분인 제 1 부분과, 상기 마스크 영역의 단부 부근의 부분인 제 2 부분으로 구성되는 각 접속부를, 상기 마스크 영역의 상기 중앙 이외에 형성하는 것을 포함하고,
   상기 제 1 부분과 상기 이면 사이의 거리가, 제 1 스텝 하이이고, 상기 단부 영역에 형성되는 상기 접속부의 상기 제 1 스텝 하이가, 상기 중앙 영역에 형성되는 상기 접속부의 상기 제 1 스텝 하이보다 작은, 증착용 메탈 마스크의 제조 방법.
10. 복수의 마스크공을 포함하는 마스크 영역을 구비하는 증착용 메탈 마스크로서, 상기 마스크 영역이, 중앙 영역과 단부 영역을 구비하고, 상기 중앙 영역은, 상기 마스크 영역의 중앙을 포함하고, 또한 증착원과 대향하기 위한 복수의 상기 마스크공을 포함하고, 상기 단부 영역은, 상기 중앙 영역보다 상기 마스크 영역의 단부측에 위치하고, 또한 상기 중앙 영역에 포함되는 상기 마스크공과는 상이한 복수의 상기 마스크공을 포함하는, 상기 마스크 영역을 구비하는 상기 증착용 메탈 마스크를 형성하는 것과,
    상기 증착용 메탈 마스크를 사용하여 증착 대상에 상기 마스크공마다의 증착 패턴을 형성하는 것을 포함하는 표시 장치의 제조 방법으로서,
    상기 증착용 메탈 마스크를 형성하는 것은,
    메탈 마스크용 기재의 이면으로부터 표면을 향하여, 상기 각 마스크공에 고유의 소공으로서, 상기 이면에 개구되는 소개구를 포함함과 함께 상기 표면을 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 갖는 상기 소공을 형성하는 것과,
    상기 메탈 마스크용 기재의 상기 표면으로부터 상기 이면을 향하여, 상기 각 마스크공에 고유의 대공으로서, 상기 표면에 개구되는 대개구를 포함함과 함께 상기 이면을 향하여 끝이 가늘어지는 형상을 갖는 상기 대공을 형성하고, 그에 따라, 상기 소공과 상기 대공이 접속하는 접속부를 형성하는 것을 포함하고,
    상기 접속부를 형성하는 것은, 상기 마스크공의 전체 둘레에 걸쳐 상기 마스크공의 내측을 향하여 돌출되는 형상을 갖고, 또한 상기 마스크 영역의 중앙 부근의 부분인 제 1 부분과, 상기 마스크 영역의 단부 부근의 부분인 제 2 부분으로 구성되는 각 접속부를, 상기 마스크 영역의 상기 중앙 이외에 형성하는 것을 포함하고,
    상기 제 1 부분과 상기 이면 사이의 거리가, 제 1 스텝 하이이고, 상기 단부 영역에 형성되는 상기 접속부의 상기 제 1 스텝 하이가, 상기 중앙 영역에 형성되는 상기 접속부의 상기 제 1 스텝 하이보다 작은, 표시 장치의 제조 방법.

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