CN114381687B - 掩模框架、掩模板以及掩模结构 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种掩模框架、掩模板以及掩模结构，主框体，围合形成蒸镀区域；及遮挡条，设于主框体并至少部分位于蒸镀区域内；其中，遮挡条具有支撑面、限位面以及连接面，支撑面和限位面在第一方向上间隔设置，连接面连接于支撑面和限位面之间，支撑面、限位面以及连接面共同界定形成限位槽，限位槽用于限制掩模板移动。上述掩模框架，当磁板产生的磁场与基板的压力作用于掩模板时，在限位槽的限位作用下，掩模板无法在平行于蒸镀面的平面内相对掩模框架产生过大的偏移，从而避免因掩模板的移动导致蒸镀形成的显示面板发生混色不良现象，进而提高了显示面板的良品率。

Description

掩模框架、掩模板以及掩模结构

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种掩模框架、掩模板以及掩模结构。

背景技术

在显示器件制造技术中，真空蒸镀用的掩模板是至关重要的部件，掩模板可以控制有机材料沉积在基板上的位置。掩模板主要包括通用金属掩模板(Common Metal Mask，CMM)及精密金属掩模板(Fine Metal Mask，FMM)，其中精密金属掩模板用于使有机发光材料被蒸镀至基板的指定位置。

发明人在研究中发现，在蒸镀过程中，精密金属掩模板容易因为受到挤压产生流动而造成镂空部相对基板发生偏移，进而造成显示面板在显示时发生混色不良，从而降低了显示面板的生产良品率。

发明内容

基于此，本发明提供了一种掩模框架、掩模板以及掩模结构，以解决遮挡条与掩模板容易产生相对移动的问题，避免了显示面板出现混色不良现象。

根据本申请的一个方面，提供一种掩模框架，用于在垂直于蒸镀面的第一方向上支撑掩模板，所述掩模框架包括：

主框体，围合形成蒸镀区域；及

遮挡条，设于所述主框体并至少部分位于所述蒸镀区域内；

其中，所述遮挡条具有支撑面、限位面以及连接面，所述支撑面和所述限位面在所述第一方向上间隔设置，所述连接面连接于所述支撑面和所述限位面之间，所述支撑面、所述限位面以及所述连接面共同界定形成限位槽，所述限位槽用于限制所述掩模板移动。

在其中一个实施例中，所述遮挡条包括：

第一遮挡部；

第二遮挡部，在所述第一方向上间隔设置于所述第一遮挡部的一侧；以及

支撑部，连接于所述第一遮挡部和所述第二遮挡部之间；

其中，所述第一遮挡部朝向所述第二遮挡部的一侧形成所述支撑面，所述支撑面用于在所述第一方向上支撑所述掩模板，所述第二遮挡部朝向所述第一遮挡部的一侧形成所述限位面，所述支撑部的侧面形成所述连接面。在其中一个实施例中，多条所述遮挡条沿垂直于所述第一方向的第二方向间隔排布，所述支撑部位于所述遮挡条在所述第二方向上的中间位置，所述支撑部在所述第二方向上的相对两侧分别形成一个所述连接面。

在其中一个实施例中，所述支撑面和所述限位面分别垂直于所述第一方向。

在其中一个实施例中，所述限位槽在所述第一方向上的口径自靠近所述连接面的一侧至远离所述连接面的一侧逐渐增大。

在其中一个实施例中，所述支撑面垂直于所述第一方向，所述限位面相对所述支撑面的距离自靠近所述连接面的一侧至远离所述连接面的一侧逐渐增大；或

所述支撑面自靠近所述连接面的一侧至远离所述连接面的一侧朝远离所述限位面的方向倾斜延伸，所述限位面自靠近所述连接面的一侧至远离所述连接面的一侧朝远离所述支撑面的方向倾斜延伸。

在其中一个实施例中，所述遮挡条还包括形成于所述支撑面上的限制部，所述限制部为自所述支撑面向外凸出的限位凸起或自所述支撑面向内凹陷的限制槽。

根据本申请的一个方面，提供一种掩模板，所述掩模板可支撑于上述的掩模框架上，所述掩模板与所述遮挡条相邻设置且两者的延伸方向相同；

所述掩模板靠近所述遮挡条的端部限位于所述限位槽内并支撑于所述支撑面上，所述掩模板被所述限位槽限制移动。

在其中一个实施例中，所述限位槽在所述第一方向上的口径自靠近所述连接面的一侧至远离所述连接面的一侧逐渐增大；

所述掩模板伸入所述限位槽的端部在所述第一方向上的厚度自靠近所述连接面的一侧至远离所述连接面的一侧逐渐增大。

在其中一个实施例中，所述遮挡条包括形成于所述支撑面上的限制部，所述限制部为自所述支撑面向外凸出的限位凸起或自所述支撑面向内凹陷的限制槽；

所述掩模板包括与所述限制部互补的配合部，所述配合部为自所述掩模板接触所述支撑面的一侧表面向内凹陷的配合槽或向外凸出的配合凸起。

根据本申请的一个方面，提供一种掩模结构，包括上述的掩模框架及掩模板，所述掩模板的端部限位于所述限位槽内，且所述掩模板被所述限位槽限制移动。

上述掩模框架，当磁板产生的磁场与基板的压力作用于掩模板时，在限位槽的限位作用下，掩模板无法在平行于蒸镀面的平面内相对掩模框架产生过大的偏移，从而避免因掩模板的移动导致蒸镀形成的显示器件发生混色不良现象，进而提高了显示器件的良品率。

附图说明

图1为本发明一实施例的掩模结构的俯视图；

图2为图1所示掩模结构的遮挡条的A-A向剖视图；

图3为本发明的第一实施例的遮挡条与掩模板垂直于遮挡条的延伸方向的截面示意图；

图4为本发明的第二实施例的遮挡条与掩模板垂直于遮挡条的延伸方向的截面示意图；

图5为本发明的第三实施例的遮挡条与掩模板垂直于遮挡条的延伸方向的截面示意图；

图6为本发明的一实施例的遮挡条与掩模板垂直于遮挡条的延伸方向的截面示意图；

图7为本发明的另一实施例的遮挡条与掩模板垂直于遮挡条的延伸方向的截面示意图；

图8为本发明的又一实施例的遮挡条与掩模板垂直于遮挡条的延伸方向的截面示意图；

附图标号说明：

100、掩模结构；20、掩模框架；21、主框体；23、遮挡条；231、限位槽；232、第一遮挡部；2321、支撑面；234、第二遮挡部；2341、限位面；236、支撑部；2361、连接面；238、限制部；40、掩模板；41、蒸镀面；43、玻璃面；45、蒸镀区；47、遮挡区；49、配合部。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

在使用本文中描述的“包括”、“具有”、和“包含”的情况下，除非使用了明确的限定用语，例如“仅”、“由……组成”等，否则还可以添加另一部件。除非相反地提及，否则单数形式的术语可以包括复数形式，并不能理解为其数量为一个。

还应当理解的是，在解释元件时，尽管没有明确描述，但元件解释为包括误差范围，该误差范围应当由本领域技术人员所确定的特定值可接受的偏差范围内。例如，“大约”、“近似”或“基本上”可以意味着一个或多个标准偏差内，在此不作限定。

此外，在说明书中，短语“平面示意图”是指当从上方观察目标部分时的附图，短语“截面示意图”是指从侧面观察通过竖直地切割目标部分截取的剖面时的附图。

此外，附图并不是1：1的比例绘制，并且各元件的相对尺寸在附图中仅以示例地绘制，而不一定按照真实比例绘制。

正如背景技术中所述，为了将有机发光材料蒸镀至显示面板的基板的指定位置，通常设置掩模结构界定蒸镀区域。掩模结构被放置于蒸镀设备的承载台上，掩模结构的上方设置有待沉积有机发光材料的基板，蒸镀设备的加热真空腔中放置有机材料蒸镀源。当对有机材料蒸镀源加热时，受热升华的有机材料穿过掩模结构沉积于基板上的特定位置，从而形成预设图案。而为了使基板与掩模结构之间贴合良好，通常在基板远离掩模结构的一侧设置磁板等可产生磁场的结构。当磁板靠近掩模结构时，掩模结构受到磁场的吸附作用向上托举基板，从而保证掩模结构与基板之间良好贴合，进而提高蒸镀图案的精度。

然而发明人在研究中发现，由于磁场作用与基板的压力，掩模结构中的掩模板与用于支撑掩模板的掩模框架之间很容易产生相对移动，当掩模板与基板特定位置的偏移量超过一定值时，将影响基板上蒸镀形成的图案的像素位置精度，通过上一层掩模板和下一层掩模板蒸镀于基板上的有机发光材料在发光时就会发生颜色的互相干扰，进而导致显示器件在显示时发生混色不良，例如，在显示白色画面时，画面发青或发粉。

如图1所示，为了解决上述问题，本发明的一实施方式提供了一种掩模结构100，掩模结构100包括掩模框架20及承载于掩模框架20上的掩模板40，掩模框架20包括主框体21及至少一条设于主框体21的遮挡条23。

具体地，主框体21大致呈矩形的中空框架结构，从而围合形成大致呈矩形的蒸镀区域。在下列实施例中，主框体21的高度方向为第一方向，主框体21的宽度方向(即蒸镀区域的宽度方向)为第二方向，主框体21的长度方向(即蒸镀区域的长度方向)为第三方向，第一方向、第二方向以及第三方向相互相交并垂直。可以理解，主框体21的形状不限于此，第一方向与第二方向不限于蒸镀区域的长度或宽度方向，第一方向、第二方向以及第三方向也可仅相交而不垂直。

多条遮挡条23沿第二方向间隔排布，每条遮挡条23均沿第三方向延伸，且每条遮挡条23在第三方向上的两端分别搭接于主框体21的长度方向的两端表面，并通过焊接等方式固定。如此，多条遮挡条23将主框体21界定形成的蒸镀区域划分为多个矩阵排列的子蒸镀区域。可以理解，遮挡条23的数量及排列方式不限，可根据需要设置。

如图1及图3所示，多条掩模板40沿第一方向支撑于掩模框架20上并沿第二方向间隔排布，且每条掩模板40均沿第三方向延伸，每条掩模板40在第三方向上的两端分别固定于主框体21的长度方向的两端。每条掩模板40均包括在第一方向上相对设置的蒸镀面41和玻璃面43，每条掩模板40均具有多个蒸镀区45及环绕蒸镀区45外的遮挡区47，多个蒸镀区45沿第三方向间隔排布，每条掩模板40上的所有蒸镀区45均对应掩模框架20的一个子蒸镀区域。每个蒸镀区45内阵列分布有多个贯穿蒸镀面41和玻璃面43的蒸镀开口，每个蒸镀开口均与对应的子蒸镀区域连通。

当掩模板40沿第一方向支撑于掩模框架20上时，掩模板40的蒸镀面41朝向掩模框架20，玻璃面43背向掩模框架20而朝向基板，每条掩模板40在第二方向上的两侧的遮挡区47分别支撑于相邻两条遮挡条23上。在蒸镀过程中，蒸镀材料依次穿过掩模框架20形成的子蒸镀区域与掩模板40上的蒸镀开口后沉积在基板上，从而使基板上形成与蒸镀开口对应的图案。与此同时，遮挡条23可遮挡相邻两条掩模板40之间在第二方向上的间隙，从而有效避免有机发光材料穿过相邻两条掩模板40之间的间隙到达基板。

请参阅图2及图3，为了解决掩模框架20与掩模板40之间存在较大偏移的问题，在本申请中，遮挡条23具有支撑面2321、限位面2341以及连接面2361，支撑面2321和限位面2341在第一方向上间隔设置连接面2361连接于支撑面2321和限位面2341之间，支撑面2321、限位面2341以及连接面2361共同界定形成限位槽231，掩模板40在第二方向上的两侧靠近遮挡条23的端部限位于限位槽231内，限位槽231用于限制掩模板40移动。

作为一较佳的实施方式，当掩模板40的一侧端部限位于限位槽231内时，掩模板40的蒸镀面41支撑于支撑面2321上，掩模板40的玻璃面43与限位面2341之间的间隙优选为10μm，掩模板40的端部与连接面2361之间的间隙小于0.25μm。如此，限位槽231可在对掩模板40起到一定的限位作用，避免掩模板40相对掩模框架20发生较大偏移的同时，为掩模板40留下一定的移动空间以防止掩模板40卡死损坏。

如此，当磁板产生的磁场与基板的压力作用于掩模结构100时，在限位槽231的限位作用下，掩模板40无法在平行于蒸镀面41的平面内相对掩模框架20产生较大的偏移，从而避免因掩模板40的移动导致蒸镀形成的显示面板发生混色不良现象，进而提高了显示面板的良品率。

具体地，如图2所示，遮挡条23包括第一遮挡部232、第二遮挡部234以及支撑部236。第一遮挡部232呈沿第三方向延伸的长条状结构，第二遮挡部234也呈沿第三方向延伸的长条状结构，且第二遮挡部234在第一方向上间隔设置于第一遮挡部232的一侧。支撑部236呈沿第三方向延伸的长条状结构，支撑部236连接于第一遮挡部232和第二遮挡部234之间。支撑部236在第二方向上的宽度小于第一遮挡部232和第二遮挡部234在第二方向上的宽度，且支撑部236在第二方向上位于第一遮挡部232和第二遮挡部234的中间位置。

如此，支撑部236在第二方向上的两侧分别形成两个限位槽231，第一遮挡部232朝向第一遮挡部232的一侧形成被支撑部236分隔的两个支撑面2321，第二遮挡部234朝向第一遮挡部232的一侧形成被支撑部236分隔的两个限位面2341，支撑部236在第二方向上的相对两侧的垂直于第二方向的侧面分别形成两个连接面2361，每个连接面2361均连接于一个支撑面2321和一个限位面2341之间。因此，一条遮挡条23形成有两个沿第三方向延伸的限位槽231，从而可同时限位两条掩模板40。

如图3所示，当掩模板40限位于相邻两条遮挡条23上时，掩模板40在第二方向上的两侧端部分别支撑于两条遮挡条23的其中一个支撑面2321上，限位面2341位于掩模板40上方并与掩模板40之间间隙设置，从而防止掩模板40滑出，并对掩模板40进行一定的遮挡。

请参阅图3，在本申请的第一实施例中，第一遮挡部232垂直于第三方向的横截面呈矩形，第二遮挡部234垂直于第三方向的横截面也呈矩形，支撑面2321和限位面2341分别垂直于第一方向。作为一较佳的实施方式，第一遮挡部232在第一方向上的厚度为30μm，第二遮挡部234在第一方向上的厚度为30μm，支撑面2321和限位面2341在第一方向上的距离为30μm-50μm。可以理解，第一遮挡部232和第二遮挡部234以及支撑面2321和限位面2341在第一方向上的距离的具体尺寸不限，可根据需要设置以满足不同要求。

在其他一些实施例中，限位槽231在第一方向上的口径自靠近连接面2361的一侧至远离连接面2361的一侧逐渐增大，从而在掩模板40的使用过程中，当部分掩模板40出现张网异常或者损坏需要对破损的掩模结构100进行再加工时，可在不破坏第二遮挡部234的基础上，通过限位槽231自内向外逐渐增大的开口将新的掩模板40放置于限位槽231中。

请参阅图4，在本申请的第二实施例中，第一遮挡部232垂直于第三方向的横截面呈矩形，支撑面2321垂直于第一方向。第二遮挡部234垂直于第三方向的横截面呈倒置的等腰梯形，限位面2341相对支撑面2321的距离自靠近连接面2361的一侧至远离连接面2361的一侧逐渐增大。如此，在掩模板40的使用过程中，当部分掩模板40出现张网异常或者损坏需要对破损的掩模结构100进行再加工时，可在不破坏第二遮挡部234的基础上，通过一定的倾斜角度将新的掩模板40放置于限位槽231中。

作为一较佳的实施方式，第一遮挡部232在第一方向上的厚度为30μm，第二遮挡部234在第一方向上的最大厚度为30μm，支撑面2321和限位面2341在第一方向上的最小距离为30μm-50μm，限位面2341与支撑面2321之间所呈的夹角优选为45°。可以理解，第一遮挡部232和第二遮挡部234以及支撑面2321和限位面2341在第一方向上的距离的具体尺寸不限，可根据需要设置以满足不同要求。

如图5所示，在本申请的第三实施例中，第一遮挡部232垂直于第三方向的横截面呈等腰梯形，支撑面2321自靠近连接面2361的一侧至远离连接面2361的一侧朝远离限位面2341的方向倾斜延伸。第二遮挡部234垂直于第三方向的横截面呈倒置的等腰梯形，限位面2341自靠近连接面2361的一侧至远离连接面2361的一侧朝远离支撑面2321的方向倾斜延伸，支撑面2321与支撑面2321之间的距离自靠近连接面2361的一侧至远离连接面2361的一侧逐渐增大。

相应的，掩模板40伸入限位槽231的端部在第一方向上的厚度自靠近连接面2361的一侧至远离连接面2361的一侧逐渐增大。具体地，在掩模板40限位于限位槽231内的端部的部分中，蒸镀面41朝向支撑面2321且蒸镀面41的延伸方向与支撑面2321的延伸方向相同，玻璃面43朝向限位面2341且玻璃面43的延伸方向与限位面2341的延伸方向相同。如此，掩模板40的蒸镀面41可与支撑面2321紧密贴合，同时掩模板40可在一定的范围内在第二方向上移动，从而防止掩模板40直接卡死导致损坏。

如此，在掩模板40的使用过程中，当部分掩模板40出现张网异常或者损坏需要对破损的掩模结构100进行再加工时，可在不破坏第二遮挡部234的基础上，通过一定的倾斜角度将新的掩模板40放置于限位槽231中。

作为一较佳的实施方式，第一遮挡部232在第一方向上的厚度最大为30μm，第二遮挡部234在第一方向上的厚度最大为30μm，支撑面2321和限位面2341在第一方向上的最小距离为30μm-50μm，支撑面2321与垂直于第一方向的平面之间所呈的夹角优选为45°，限位面2341与垂直于第一方向的平面之间所呈的夹角优选为45°。可以理解，第一遮挡部232和第二遮挡部234以及支撑面2321和限位面2341在第一方向上的距离的具体尺寸不限，可根据需要设置以满足不同要求。

请参阅图6至图8，在一些实施例中，遮挡条23还包括形成于支撑面2321上的限制部238，限制部238为自支撑面2321向外凸出的限位凸起或自支撑面2321向内凹陷的限制槽。掩模板40的蒸镀面41包括与限制部238互补的配合部49，配合部49为自掩模板40接触支撑面2321的一侧表面向内凹陷的配合槽或向外凸出的配合凸起。如此，限制部238与配合部49相互匹配嵌合，从而进一步限制掩模板40的移动，避免掩模板40从限位槽231中脱出。

具体地，在一些实施例中，限制部238为自支撑面2321向外凸出的限位凸起，限位凸起垂直于第三方向上的截面形状为梯形、三角形、矩形或半圆形，且各个截面在第三方向上的尺寸自支撑面2321向远离支撑面2321的方向逐渐减小。相应的，配合部49为自掩模板40接触支撑面2321的一侧表面向内凹陷的配合槽，配合槽在垂直于第三方向上的截面形状也对应为梯形、三角形、矩形或半圆形，且各个截面在第三方向上的尺寸自蒸镀面41向远离玻璃面43的方向逐渐减小。如此，限位凸起可轻易地嵌入配合槽内而不会损坏掩模板40。可以理解，形成限制部238的限位凸起与形成配合部49的配合槽的形状不限，可根据需要设置为各种规则或不规则形状。

具体地，在另一些实施例中，限制部238为自支撑面2321向内凹陷的限制槽，限制槽在垂直于第三方向上的截面形状可为梯形、三角形、矩形或半圆形，且各个截面在第三方向上的尺寸自支撑面2321向远离支撑面2321的方向逐渐减小。相应的，配合部49为自掩模板40接触支撑面2321的一侧表面向外凸出的配合凸起，配合凸起在垂直于第二方向上的截面形状也对应为梯形、三角形、矩形或半圆形，且各个截面在第二方向上的尺寸自蒸镀面41向远离玻璃面43的方向逐渐减小。如此，配合凸起可轻易地嵌入限位槽231内而不会损坏遮挡条23。可以理解，形成限制部238的限制槽与形成配合部49的配合凸起的形状不限，可根据需要设置为各种规则或不规则形状。

在一些实施例中，在上述遮挡条23中，第一遮挡部232与支撑部236一体成型设置，遮挡条23的形成方式如下：

首先，将一体设置的第一遮挡部232与支撑部236张网于主框体21上，然后将掩模板40张网于主框体21上，并且掩模板40端部支撑于第一遮挡部232的支撑面2321上。

之后，将第二遮挡部234张网于主框体21上并与支撑部236贴合，从而形成完整的遮挡条23，第一遮挡部232与第二遮挡部234之间形成限位槽231以防止掩模板40出现较大偏移。

其中，“张网”是指通过张网机拉伸掩膜板或遮挡条23，将掩模板40或遮挡条23的两端分别焊接于主框体21上。

上述掩模框架20、掩模板40以及掩模结构100，遮挡条23上开设由用于限位掩模板40的限位槽231，从而使掩模板40稳定地支撑于掩模框架20上。在磁场及基板的作用下，两者难以产生大范围的相对移动与挤压现象，从而避免了掩模板40出现褶皱甚至受到损伤，优化了蒸镀效果，保证了基板上蒸镀形成的图案的像素位置精度，进而提高了设有该基板的显示面板的显示效果。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种掩模框架，用于在垂直于蒸镀面的第一方向上支撑掩模板，其特征在于，所述掩模框架包括：

主框体，围合形成蒸镀区域；及

遮挡条，设于所述主框体并至少部分位于所述蒸镀区域内；

其中，所述遮挡条包括第一遮挡部、第二遮挡部以及支撑部，所述第二遮挡部在所述第一方向上间隔设置于所述第一遮挡部的一侧，所述支撑部连接于所述第一遮挡部和所述第二遮挡部之间，所述第一遮挡部朝向所述第二遮挡部的一侧形成支撑面，所述支撑面用于在所述第一方向上支撑所述掩模板，所述第二遮挡部朝向所述第一遮挡部的一侧形成限位面，所述支撑部的侧面形成连接面，所述支撑面和所述限位面在所述第一方向上间隔设置，所述连接面连接于所述支撑面和所述限位面之间，所述支撑面、所述限位面以及所述连接面共同界定形成限位槽，所述限位槽用于限制所述掩模板移动。

2.根据权利要求1所述的掩模框架，其特征在于，多条所述遮挡条沿垂直于所述第一方向的第二方向间隔排布，所述支撑部位于所述遮挡条在所述第二方向上的中间位置，所述支撑部在所述第二方向上的相对两侧分别形成一个所述连接面。

3.根据权利要求1所述的掩模框架，其特征在于，所述支撑面和所述限位面分别垂直于所述第一方向。

4.根据权利要求1所述的掩模框架，其特征在于，所述限位槽在所述第一方向上的口径自靠近所述连接面的一侧至远离所述连接面的一侧逐渐增大。

5.根据权利要求4所述的掩模框架，其特征在于，所述支撑面垂直于所述第一方向，所述限位面相对所述支撑面的距离自靠近所述连接面的一侧至远离所述连接面的一侧逐渐增大；或

所述支撑面自靠近所述连接面的一侧至远离所述连接面的一侧朝远离所述限位面的方向倾斜延伸，所述限位面自靠近所述连接面的一侧至远离所述连接面的一侧朝远离所述支撑面的方向倾斜延伸。

6.根据权利要求1至5任意一项所述的掩模框架，其特征在于，所述遮挡条还包括形成于所述支撑面上的限制部，所述限制部为自所述支撑面向外凸出的限位凸起或自所述支撑面向内凹陷的限制槽。

7.一种掩模板，其特征在于，所述掩模板可支撑于如权利要求1至6任意一项所述的掩模框架上，所述掩模板与所述遮挡条相邻设置且两者的延伸方向相同；

所述掩模板靠近所述遮挡条的端部限位于所述限位槽内并支撑于所述支撑面上，所述掩模板被所述限位槽限制移动。

8.根据权利要求7所述的掩模板，其特征在于，所述限位槽在所述第一方向上的口径自靠近所述连接面的一侧至远离所述连接面的一侧逐渐增大；

所述掩模板伸入所述限位槽的端部在所述第一方向上的厚度自靠近所述连接面的一侧至远离所述连接面的一侧逐渐增大。

9.根据权利要求7所述的掩模板，其特征在于，所述遮挡条包括形成于所述支撑面上的限制部，所述限制部为自所述支撑面向外凸出的限位凸起或自所述支撑面向内凹陷的限制槽；

所述掩模板包括与所述限制部互补的配合部，所述配合部为自所述掩模板接触所述支撑面的一侧表面向内凹陷的配合槽或向外凸出的配合凸起。

10.一种掩模结构，其特征在于，包括如权利要求1至6任意一项所述的掩模框架及如权利要求7至9任意一项所述的掩模板，其特征在于，所述掩模板的端部限位于所述限位槽内，且所述掩模板被所述限位槽限制移动。