CN110541144A - 掩模框架、掩模板以及掩模结构 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种掩模框架、掩模板及掩模结构，掩模框架包括：主框体，围合形成蒸镀区域；支撑组件，设于所述主框体并至少部分位于所述蒸镀区域内，所述支撑组件包括支撑面及限位部，所述支撑面用于支撑所述掩模板，所述限位部形成于至少部分所述支撑面上，并在平行于所述掩模板中蒸镀面的平面内限制所述掩模板的移动。如此，当磁板产生的磁场与基板的压力作用于掩模结构时，在限位部的限位作用下，掩模板难以在平行于蒸镀面的平面内相对掩模框架移动，从而避免掩模板因移动受到损伤，提高蒸镀效果。

Description

掩模框架、掩模板以及掩模结构

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种掩模框架、掩模板以及掩模结构。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)又称为有机电激光显示或有机发光半导体。OLED具有驱动电压低、主动发光、视角宽、效率高、响应速度快、易实现全彩色大面积壁挂式显示和柔性显示的许多特点而逐渐取代液晶显示器(Liquid CrystalDisplay，LCD)显示。

在OLED制造技术中，真空蒸镀用的掩模板是至关重要的部件，掩模板可以控制有机材料沉积在基板上的位置。掩模板主要包括通用金属掩模板(Common Metal Mask，CMM)及精密金属掩模板(Fine Metal Mask，FMM)，其中精密金属掩模板用于使有机发光材料被蒸镀至基板的指定位置。现有的精密金属掩模板通常呈条状结构，每条精密金属掩模板分别支撑在掩模框架上，掩模框架设有遮挡条，遮挡条用于遮挡相邻两条精密金属掩模板之间的间隙，从而阻挡发光有机材料通过相邻两条精密金属掩模板之间的间隙蒸镀至基板上。

发明人在研究中发现，在蒸镀过程中，遮挡条与精密金属掩模板容易产生相对移动，导致遮挡条的遮挡与支撑效果减弱，甚至产生挤压导致精密金属掩模板的边缘变形受损，进而影响像素位置精度。

发明内容

基于此，本发明提供了一种掩模框架、掩模板以及掩模结构，以解决遮挡条与精密金属掩模板容易产生相对移动的问题，提高了显示面板像素位置精度。

根据本申请的一个方面，提供一种掩模框架，用于支撑掩模板，所述掩模框架包括：

主框体，围合形成蒸镀区域；及

支撑组件，设于所述主框体并至少部分位于所述蒸镀区域内，所述支撑组件包括支撑面及限位部，所述支撑面用于支撑所述掩模板，所述限位部形成于至少部分所述支撑面上，并在平行于所述掩模板中蒸镀面的平面内限制所述掩模板的移动。

如此，当磁板产生的磁场与基板的压力作用于掩模结构时，在限位部的限位作用下，掩模板难以在平行于蒸镀面的平面内相对掩模框架移动，从而避免掩模板因移动受到损伤，提高蒸镀效果。

在一实施例中，所述支撑组件包括遮挡条和支撑条，所述遮挡条与所述支撑条相交设置于所述主框体上；

所述遮挡条与所述支撑条均包括用于支撑所述掩模板的所述支撑面，所述遮挡条与所述支撑条中至少一者的所述支撑面上形成有所述限位部。

在一实施例中，多条所述遮挡条沿第一方向间隔排布，多条所述支撑条沿相交于所述第一方向的第二方向间隔排布，所述限位部在所述第一方向上限制所述掩模板的移动。

在一实施例中，所述限位部包括第一限位部和/或第二限位部；

其中，所述第一限位部靠近所述掩模板的边缘与所述掩模板在所述遮挡条上的正投影的边缘重合；

所述第二限位部位于所述掩模板在所述遮挡条和/或所述支撑条上的正投影范围内。

在一实施例中，所述第一限位部为凸设于所述遮挡条中所述支撑面上的限位凸起；所述第二限位部为自所述遮挡条和/或所述支撑条中所述支撑面向外凸出的限位凸起或自所述遮挡条和/或所述支撑条中所述支撑面向内凹陷的限位槽。

优选地，至少部分所述限位槽的内壁覆盖有粘接层。

根据本申请的另一方面，提供一种掩模板，所述掩模板可支撑于上述实施例所述的掩模框架上，所述掩模板支撑于所述支撑组件的所述支撑面，且所述掩模板在平行于所述掩模板中蒸镀面的平面内被所述限位部限制移动。

在一实施例中，所述限位部包括第一限位部，且所述第一限位部为凸设于所述遮挡条中所述支撑面上的限位凸起，所述掩模板的边缘与所述第一限位部边缘抵接；和/或

所述限位部包括第二限位部，且所述第二限位部为自所述支撑面向外凸出的限位凸起或自所述支撑面向内凹陷的限位槽，所述掩模板包括与所述第二限位部互补的配合部，所述配合部为自所述蒸镀面向内凹陷的配合槽或自所述蒸镀面向外凸出的配合凸起。

优选地，所述配合槽的内壁覆盖有粘接层。

根据本申请的另一方面，提供一种掩模结构，包括如上述实施例所述的掩模框架及如上述实施例所述的掩模板，所述掩模板支撑于所述支撑面，且所述掩模板在平行于所述掩模板中蒸镀面的平面内被所述限位部限制移动。

附图说明

图1为本发明一实施方式的掩模框架的结构示意图；

图2为本发明另一实施方式的一实施例的掩模结构的截面示意图；

图3为本发明又一实施方式的一实施例的掩模结构的截面示意图；

图4为图3所示实施方式的一实施例的掩模结构的截面示意图；

图5为图3所示实施方式的一实施例的掩模结构的截面示意图；

图6为本发明又一实施方式的一实施例的掩模结构的截面示意图；

图7为图6所示实施方式的一实施例的掩模结构的截面示意图；

图8为图6所示实施方式的一实施例的掩模结构的截面示意图；

图9为本发明又一实施方式的一实施例的掩模结构的截面示意图；

图10为图9所示实施方式的一实施例的掩膜结构的截面示意图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

在使用本文中描述的“包括”、“具有”、和“包含”的情况下，除非使用了明确的限定用语，例如“仅”、“由……组成”等，否则还可以添加另一部件。除非相反地提及，否则单数形式的术语可以包括复数形式，并不能理解为其数量为一个。

还应当理解的是，在解释元件时，尽管没有明确描述，但元件解释为包括误差范围，该误差范围应当由本领域技术人员所确定的特定值可接受的偏差范围内。例如，“大约”、“近似”或“基本上”可以意味着一个或多个标准偏差内，在此不作限定。

此外，在说明书中，短语“平面示意图”是指当从上方观察目标部分时的附图，短语“截面示意图”是指从侧面观察通过竖直地切割目标部分截取的剖面时的附图。

此外，附图并不是1：1的比例绘制，并且各元件的相对尺寸在附图中仅以示例地绘制，而不一定按照真实比例绘制。

正如背景技术中所述，为了将有机发光材料蒸镀至显示面板的基板的指定位置，通常设置掩模结构界定蒸镀区域。掩模结构被放置于蒸镀设备的承载台上，掩模结构的上方设置有待沉积有机发光材料的基板，蒸镀设备的加热真空腔中放置有机材料蒸镀源。当对有机材料蒸镀源加热时，受热升华的有机材料穿过掩模结构沉积于基板上的特定位置，从而形成预设图案。而为了使基板与掩模结构之间贴合良好，通常在基板远离掩模结构的一侧设置磁板等可产生磁场的结构。当磁板靠近掩模结构时，掩模结构受到磁场的吸附作用向上托举基板，从而保证掩模结构与基板之间良好贴合，进而提高蒸镀图案的精度。

然而发明人在研究中发现，由于磁场作用与基板的压力，掩模结构中的掩模板与用于支撑掩模板的掩模框架之间很容易产生相对移动，导致掩模框架对掩模板的遮挡与支撑效果减弱，甚至对掩模板产生挤压而导致掩模板的边缘变形甚至受损，从而影响蒸镀效果，降低了基板上蒸镀形成的图案的像素位置精度，形成过大阴影并产生边缘云纹。

如图1及图2所示，基于上述原因，本发明的一实施方式提供了一种掩模结构100，掩模结构100包括掩模框架20及承载于掩模框架20上的掩模板40，掩模框架20包括主框体21及设于主框体21的支撑组件23，支撑组件23包括遮挡条232和支撑条234。

主框体21大致呈矩形的中空框架结构，从而围合形成大致呈矩形的蒸镀区域。主框体21的宽度方向(即蒸镀区域的宽度方向)为第一方向，主框体21的长度方向(即蒸镀区域的长度方向)为第二方向，主框体21的高度方向为第三方向，第一方向、第二方向以及第三方向相互相交并垂直。可以理解，主框体21的形状不限于此，第一方向与第二方向不限于蒸镀区域的长度或宽度方向，第一方向、第二方向以及第三方向也可仅相交而不垂直。

支撑组件23包括多条遮挡条232和多条支撑条234。其中，多条遮挡条232沿第一方向间隔排布，每条遮挡条232均沿第二方向延伸，且每条遮挡条232在第二方向上的两端分别通过焊接等方式固定于主框体21的长度方向的两端。多条支撑条234沿第二方向间隔排布，每条支撑条234均沿第一方向延伸，每条支撑条234在第一方向上的两端分别通过焊接等方式固定于主框体21的宽度方向的两端。如此，多条支撑条234与多条遮挡条232相交，将主框体21界定形成的蒸镀区域划分为多个矩阵排列的子蒸镀区域。可以理解，支撑条234与遮挡条232的数量及排列方式不限，可根据需要设置。

多条掩模板40支撑于掩模框架20上并沿第一方向间隔排布，且每条掩模板40均沿第二方向延伸，每条掩模板40在第二方向上的两端分别固定于主框体21的宽度方向的两端。

每条掩模板40均包括蒸镀面41和背向蒸镀面41的玻璃面43，每条掩模板40均设有多个蒸镀区及环绕蒸镀区外的遮挡区，且多个蒸镀区沿第二方向间隔排布，每个蒸镀区分别对应掩模框架20的一个子蒸镀区域。每个蒸镀区内阵列分布有多个贯穿蒸镀面41和玻璃面43的蒸镀开口，每个蒸镀开口均与对应的子蒸镀区域连通。

如此，当掩模板40支撑于掩膜框架20上时，掩模板40的蒸镀面41朝向掩膜框架20，玻璃面43背向掩膜框架20而朝向基板，每条掩模板40上位于相邻两个蒸镀区之间的遮挡区分别支撑于支撑条234上，每条掩模板40的第一方向上的两侧的遮挡区分别支撑于相邻两条遮挡条232上。

因此，遮挡条232与支撑条234共同支撑掩模板40并维持掩模板40的形状。在蒸镀过程中，蒸镀材料依次穿过掩膜框架20形成的子蒸镀区域与掩模板40上的蒸镀开口后沉积在基板上，从而使基板上形成与蒸镀开口对应的图案。与此同时，遮挡条232可遮挡相邻两条掩膜板40之间在第二方向上的间隙，从而有效避免有机发光材料穿过相邻两条掩模板40之间的间隙到达基板。

请继续参阅图1及图2，为了解决掩模框架20与掩模板40之间存在相对移动的问题，在本申请中，支撑组件21包括支撑面及限位部，支撑面用于在第三方向上支撑掩模板40，限位部形成于至少部分支撑面上，并在平行于掩模板40中蒸镀面41的平面内限制掩模板40的移动。

如此，当磁板产生的磁场与基板的压力作用于掩模结构100时，在限位部的限位作用下，掩模板40难以在平行于蒸镀面41的平面内相对掩模框架20移动，从而避免掩模板40因移动受到损伤，提高蒸镀效果。

进一步地，遮挡条232与支撑条234均包括用于支撑掩模板40的支撑面，掩模板40同时支撑于遮挡条232与支撑条234两者的支撑面上。遮挡条232与支撑条234中至少一者的支撑面上形成有限位部，且限位部在第一方向上限制掩模板40的移动，从而有效避免掩模板40在第一方向上的两侧产生变形或受损。

具体地，如图2及图3所示，限位部包括第一限位部236和/或第二限位部238。其中，第一限位部236靠近掩模板40的边缘与掩模板40在遮挡条232上的正投影的边缘重合。第二限位部238位于掩模板40在遮挡条232和/或支撑条234上的正投影范围内，掩模板40的蒸镀面41设有与第二限位部238互补的配合部412。

如此，第一限位部236用于在第一方向上抵持掩模板40的边缘，从而阻挡掩模板40沿第一方向移动。第二限位部238用于与掩模板40上的配合部412相互匹配，从而将掩模板40固定于支撑面上。

如图2所示，具体在一些实施例中，第一限位部236为凸设于遮挡条234中支撑面上的限位凸起，且第一限位部236垂直于第二方向的截面的形状为矩形。如此，当掩模板40支撑于相邻两条遮挡条232上时，掩模板40在第一方向上的两侧边缘分别抵持于两条遮挡条232的两个第一限位部236，从而限位于两个第一限位部236之间，无法在第一方向上移动。可以理解，第一限位部236的形状不限，可根据需要设置。

如图3及图9所示，具体在一些实施中，第二限位部238为自遮挡条232和/或支撑条234中支撑面向外凸出的限位凸起。相应的，掩模板20上的配合部412为自蒸镀面41向内凹陷的配合槽。如此，第二限位部238与配合部412相互匹配嵌合，限制掩模板40的移动，避免掩模板40从支撑组件23脱出。

进一步地，形成第二限位部238的限位凸起垂直于第二方向上的截面形状为可梯形、三角形、矩形或半圆形，且各个截面在第二方向上的尺寸自支撑面向远离支撑面的方向逐渐减小。相应的，形成配合部412的配合槽在垂直于第二方向上的截面形状也对应为梯形、三角形、矩形或半圆形，且各个截面在第二方向上的尺寸自蒸镀面41向远离玻璃面43的方向逐渐减小。如此，限位凸起可轻易地嵌入配合槽内而不会损坏掩模板40。可以理解，形成第二限位部238的限位凸起与形成配合部412的配合槽的形状不限，可根据需要设置为各种规则或不规则形状。

在一些实施例中，形成第二限位部238的限位槽的内壁还覆盖有粘接层(图未示)。粘接层由耐高温的粘性材料形成，从而使配合部412难以从第二限位部238中脱出，进一步提高了掩模板40与掩模框架20的连接稳定性。

具体在一实施例中，粘接层由牌号为DZ5012或DZ5010等主要成份为无机硅铝酸盐的高温无机胶形成，固化后的高温无机胶具有较高的强度及较高的耐热温度(可达到1730℃)，且具有良好的高温绝缘性、耐油、耐酸碱等性能，从而可稳定连接掩模板40与掩膜框架20。可以理解，形成粘接层的材料不限于此，上述材料可替换为其它单一或复合材料。

如图4及图10所示，具体在一些实施例中，第二限位部238为自遮挡条232和/或支撑条234中支撑面向内凹陷的限位槽。相应的，掩模板40上的配合部412为自蒸镀面41向外凸起的配合凸起。如此，第二限位部238与配合部412相互匹配嵌合，从而限制掩模板40的移动。

进一步地，形成第二限位部238的限位槽在垂直于第二方向上的截面形状可为梯形、三角形、矩形或半圆形，且各个截面在第二方向上的尺寸自支撑面向远离支撑面的方向逐渐减小。相应的，形成配合部412的配合凸起在垂直于第二方向上的截面形状也对应为梯形、三角形、矩形或半圆形，且各个截面在第二方向上的尺寸自蒸镀面41向远离玻璃面43的方向逐渐减小。如此，配合凸起可轻易地嵌入限位槽内而不会损坏遮挡条232。可以理解，形成第二限位部238的限位槽与形成配合部412的配合凸起的形状不限，可根据需要设置为各种规则或不规则形状。

在一些实施例中，形成配合部412的配合槽的内壁还覆盖有粘接层(图未示)。粘接层由耐高温的粘性材料形成，从而使第二限位部238难以从配合部412中脱出，进一步提高了掩模板40与掩模框架20的连接稳定性。

具体在一实施例中，粘接层由牌号为DZ5012或DZ5010等主要成份为无机硅铝酸盐的高温无机胶形成，固化后的高温无机胶具有较高的强度及较高的耐热温度(可达到1730℃)，且具有良好的高温绝缘性、耐油、耐酸碱等性能，从而可稳定连接掩模板40与掩膜框架20。可以理解，形成粘接层的材料不限于此，上述材料可替换为其它单一或复合材料。

可以理解，设置于遮挡条232的第一限位部236和/或第二限位部238的数量及排布方式可根据需要设置，且每个第一限位部236与每个第二限位部238的具体形状也均可根据需要设置。设置于支撑条234的第二限位部238的数量及排布方式可根据需要设置，且每个第二限位部238的具体形状也均可根据需要设置。相应的，设置于掩模板40的配合部412的数量、排布方式以及形状均与第二限位部238对应设置。

如图1及图2所示，本发明的一实施方式提供了一种掩模结构100。在该实施方式中，遮挡条232的支撑面上仅形成有第一限位部236，支撑组件23各处均未设置第二限位部238。

具体地，由于在第一方向上靠近主框体21的两条遮挡条232仅有一侧用于支撑掩模板40，因此在这两条遮挡条232上，第一限位部236位于遮挡条232在第一方向上靠近主框体21的一侧(即远离相邻遮挡条232的一侧)，因此第一限位部236远离主框体21一侧的支撑面可支撑掩模板40。而除了上述两条遮挡条232之外，其余的任意一条遮挡条232在第一方向上的两侧均用于支撑掩模板40，因此第一限位部236位于遮挡条232在第一方向上的中部，第一限位部236两侧的支撑面均可支撑掩模板40。

在一些实施例中，遮挡条232的支撑面由对遮挡条232的一侧表面进行半刻蚀形成，未刻蚀的区域则形成凸起的第一限位部236。可以理解，支撑面与第一限位部236也可采用其它工艺成型，在此不做限定。

进一步地在一些实施例中，第一限位部236沿第二方向自遮挡条232的一端延伸至另一端。如此，当掩模板40的两侧支撑于相邻两条遮挡条232上时，掩模板40在第一方向上的两侧边缘处抵持于第一限位部236，从而无法在第一方向上移动。可以理解，第一限位部236的具体构造不限于此，例如在另一些实施例中，每条遮挡条232上设有多个第一限位部236，多个第一限位部236沿第二方向间隔排布。

进一步地在一些实施例中，第一限位部236凸出支撑面的高度与掩模板40的厚度相同，从而使第一限位部236的上表面与掩模板40的玻璃面43齐平，因此第一限位部236可对掩模板40起到充分的限位作用。在另一些实施例中，第一限位部236凸出支撑面的高度也可小于掩模板40的厚度，因此遮挡条232半刻蚀的深度较小，从而避免遮挡条232的局部厚度过多减少而过多降低遮挡条232的结构强度。

如图1、图3-图5所示，本发明的一实施方式提供了一种掩模结构100。在该实施方式中，遮挡条232同时设有第一限位部236与第二限位部238，掩模板40的蒸镀面41则设有与遮挡条232上的第二限位部238匹配的配合部412。

具体地，在第一方向上靠近主框体21的两条遮挡条232上，遮挡条232的支撑面靠近主框体21的一侧设有第一限位部236，第二限位部238则设于第一限位部236远离主框体21一侧的支撑面。在其余遮挡条232上，遮挡条232的支撑面在第一方向上的中部设有第一限位部236，第一限位部236两侧的支撑面分别设有第二限位部238。相应的，掩模板40的蒸镀面41在第一方向上的两侧分别形成与第二限位部238配合的配合部412，第二限位部238与配合部412可相互嵌合以进一步限制沿掩模板40在第一方向上的移动。

如此，当掩模板40支撑于遮挡条232上时，掩模板40在第一方向上的两侧分别抵持于第一限位部236而难以在第一方向上移动。与此同时，遮挡条232的第二限位部238与掩模板40的配合部412相互匹配，从而进一步限制了掩模板40的移动，防止掩模板40从遮挡条232上脱离，使掩模板40在更加稳固地支撑于遮挡条232上，最终达到更好的避免掩模板40损伤的效果，进而达到优化蒸镀效果等目的。

在一些实施例中，遮挡条232的第一限位部236的任意一侧的支撑面均设有多组第二限位部238，多组第二限位部238沿第一方向依次排布。相应的，掩模板40支撑于遮挡条232的蒸镀面41两侧分别设有多组配合部412，任意一侧的多组配合部412沿第一方向依次排布以与多组第二限位部238配合。可以理解，第二限位部238与配合部412的组数不限于上述，相邻两组第二限位部238之间的距离及相邻两组第二限位部238之间的距离不限，可根据不同需要设置以满足不同要求。

进一步地在一些实施例中，遮挡条232的支撑面上的每组第二限位部238仅包括一个第二限位部238，该唯一的第二限位部238沿第二方向自遮挡条232的一端延伸至遮挡条232的另一端。相应的，掩模板40上的每组配合部412仅包括一个配合部412，该唯一的配合部412沿第二方向自掩模板40的一端延伸至掩模板40的另一端以与第二限位部238配合。如此，掩模板40在第二方向上的各个位置均与遮挡条232相互嵌合，具有较高的配合可靠性。

可以理解，第二限位部238在垂直于第二方向上的截面的形状与尺寸可处处相等也可不等，相应的，配合部412在垂直于第二方向上的截面的形状与尺寸可处处相等也可不等。具体在一实施例中，位于蒸镀区在第一方向的两侧的遮挡区内的配合部412的截面尺寸小于其它区域的配合部412的截面尺寸，从而为掩模板40上的其它结构提供了更大的设置空间，减小了掩模板40的结构设计的难度。

在另一些实施例中，遮挡条232的支撑面上的每组第二限位部238均包括多个第二限位部238，每组第二限位部238中的多个第二限位部238在第二方向上自遮挡条232的一端至另一端依次排布，每相邻两个第二限位部238之间的距离不限，每个限位部238的形状可以相同也可不同。相应的，掩模板40上的每组配合部412均包括多个配合部412，每组配合部412的多个配合部412沿第二方向自掩模板40的一端至另一端依次排布以与第二限位部238配合。如此，在实现了遮挡条232与掩模板40相互嵌合固定的同时，避免了过多影响掩模板40或掩模板40的强度。而且，在掩模板40上间隔设置的配合部412之间的距离可根据需要灵活设置，因此为掩模板40上的其它结构提供了更大的设置空间，减小了掩模板40的结构设计的难度。

如图3所示，具体在一些实施例中，每条遮挡条232上的所有第二限位部238均为自支撑面向外凸出的限位凸起，每条掩模板40上的所有配合部412均为自蒸镀面41向内凹陷的配合槽。

如图4所示，具体在一些实施例中，每条遮挡条232上的所有第二限位部238均为自支撑面向内凹陷的限位槽，每条掩模板40上的所有配合部412均为自蒸镀面41向外凸出的配合凸起。

如图5所示，具体在一些实施例中，遮挡条232上的部分第二限位部238为自支撑面向内凹陷的限位槽，另一部分第二限位部238为自支撑面向外凸出的限位凸起。掩模板40上的部分配合部412为自蒸镀面41向外凸出的配合凸起，另一部分配合部412为自蒸镀面41向内凹陷的配合槽。

如图1及图6-图8所示，本发明的一实施方式提供了一种掩模结构100。在该实施方式中，遮挡条232上的限位部并未包括第一限位部236而仅包括第二限位部238，掩模板40的蒸镀面41设有与第二限位部236互补的配合部412。

进一步地，由于在第一方向上靠近主框体21的其中两条遮挡条232仅有一侧用于支撑掩模板40，因此在这两条遮挡条232上，第二限位部238设于遮挡条232在第一方向上远离主框体21的一侧(即靠近相邻遮挡条232的一侧)以与掩模板40配合。而除了上述两条遮挡条232之外，其余的任意一条遮挡条232在第一方向上的两侧均用于支撑掩模板40，因此掩模板40在第一方向上的两侧均设有第一限位部236。相应的，掩模板40的蒸镀面41在第一方向上的两侧分别形成与第二限位部238配合的配合部412，第二限位部238与配合部412可相互嵌合以进一步限制沿掩模板40在第一方向上的移动。

如此，每条掩模板40在第一方向上的两侧分别支撑于相邻两条遮挡条232的支撑面，掩模板40的两侧的配合部412分别与相邻两条遮挡条232的第二限位部238相互匹配，从而限制了掩模板40的移动。当磁板产生的磁场与基板的压力作用于掩模结构100时，掩模板40与掩模框架20也难以在第一方向上相对移动，从而避免掩模板40因移动受到损伤，提高蒸镀效果。

可以理解，遮挡条232上的第二限位部238及掩模板40上的配合部412的形状、数量及排布方式可参见前述实施方式中的第二限位部238及配合部412的形状、数量及排布方式，故不在此进行赘述。

如图1及图9-图10所示，本发明的一实施方式提供了一种掩模结构100。在该实施方式中，支撑条234的支撑面上形成有第二限位部238，掩模板40支撑于支撑条234上的蒸镀面41设有与第二限位部238互补的配合部412。

具体地，支撑条234上包括多组沿第二方向间隔设置的第二限位部238，每组第二限位部238分别对应于掩模板40的相邻两个蒸镀区之间的遮挡区，每组第二限位部238包括一个或多个限位部234，一组中的多个限位部234可沿第一方向依次排列，也可以第一方向为横向、第二方向为纵向呈矩阵排列。相应的，掩模板40上每相邻两个蒸镀区之间的遮挡区内均设有一组配合部412，每组配合部312包括一个或多个配合部234，一组中的多个配合部23可沿第一方向依次排列，也可以第一方向为横向、第二方向为纵向呈矩阵排列。

进一步地，在该实施方式的实施例中，遮挡条232上可不设置限位部，也可设置第一限位部236和/或第二限位部238。当遮挡条232上设有第一限位部236和/或第二限位部238时，第一限位部236和/或第二限位部238的排布方式可参照前述实施方式，故不在此赘述。

上述掩模框架20、掩模板40以及掩模结构100，由于掩模框架20通过设置于支撑组件23上的限位部限位掩模板40，使掩模板40稳定地支撑于掩模框架20上，因此在磁场及基板的作用下，两者难以产生相对移动与挤压现象，从而避免了掩模板40出现褶皱甚至受到损伤，优化了蒸镀效果，保证了基板上蒸镀形成的图案的像素位置精度，进而提高了设有该基板的显示面板的显示效果。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种掩模框架，用于支撑掩模板，其特征在于，所述掩模框架包括：

主框体，围合形成蒸镀区域；及

支撑组件，设于所述主框体并至少部分位于所述蒸镀区域内，所述支撑组件包括支撑面及限位部，所述支撑面用于支撑所述掩模板，所述限位部形成于至少部分所述支撑面上，并在平行于所述掩模板中蒸镀面的平面内限制所述掩模板的移动。

2.根据权利要求1所述的掩模框架，其特征在于，所述支撑组件包括遮挡条和支撑条，所述遮挡条与所述支撑条相交设置于所述主框体上；

所述遮挡条与所述支撑条均包括用于支撑所述掩模板的所述支撑面，所述遮挡条与所述支撑条中至少一者的所述支撑面上形成有所述限位部。

3.根据权利要求1所述的掩模框架，其特征在于，多条所述遮挡条沿第一方向间隔排布，多条所述支撑条沿相交于所述第一方向的第二方向间隔排布，所述限位部在所述第一方向上限制所述掩模板的移动。

4.根据权利要求1至3任意一项所述的掩模框架，其特征在于，所述限位部包括第一限位部和/或第二限位部；

其中，所述第一限位部靠近所述掩模板的边缘与所述掩模板在所述遮挡条上的正投影的边缘重合；

所述第二限位部位于所述掩模板在所述遮挡条和/或所述支撑条上的正投影范围内。

5.根据权利要求4所述的掩模框架，其特征在于，所述第一限位部为凸设于所述遮挡条中所述支撑面上的限位凸起；所述第二限位部为自所述遮挡条和/或所述支撑条中所述支撑面向外凸出的限位凸起或自所述遮挡条和/或所述支撑条中所述支撑面向内凹陷的限位槽。

6.根据权利要求5所述的掩模框架，其特征在于，至少部分所述限位槽的内壁覆盖有粘接层。

7.一种掩模板，所述掩模板可支撑于如权利要求1至6任意一项所述的掩模框架上，其特征在于，所述掩模板支撑于所述支撑组件的所述支撑面，且所述掩模板在平行于所述掩模板中蒸镀面的平面内被所述限位部限制移动。

8.根据权利要求7所述的掩模板，其特征在于，所述限位部包括第一限位部，且所述第一限位部为凸设于所述遮挡条中所述支撑面上的限位凸起，所述掩模板的边缘与所述第一限位部边缘抵接；和/或

所述限位部包括第二限位部，且所述第二限位部为自所述支撑面向外凸出的限位凸起或自所述支撑面向内凹陷的限位槽，所述掩模板包括与所述第二限位部互补的配合部，所述配合部为自所述蒸镀面向内凹陷的配合槽或自所述蒸镀面向外凸出的配合凸起。

9.根据权利要求8所述的掩模板，其特征在于，所述配合槽的内壁覆盖有粘接层。

10.一种掩模结构，其特征在于，包括如权利要求1至6任意一项所述的掩模框架及如权利要求7至9任意一项所述的掩模板，其特征在于，所述掩模板支撑于所述支撑面，且所述掩模板在平行于所述掩模板中蒸镀面的平面内被所述限位部限制移动。