CN108754419A - 掩膜组件及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本申请提供一种掩膜组件及其制造方法，其包括异型条状掩膜体，异型条状掩膜体包括异型遮挡片和支撑条，异型遮挡片和支撑条之间形成一间隔第二掩膜板和异型遮挡片接触的间隔空间。本申请通过异型条状掩膜体的间隔空间的设置，避免了第二掩膜板和第一掩膜板的异型条状掩膜体存在非线性接触的情况，提高了玻璃基板和第二掩膜板贴合的均匀性。

Description

掩膜组件及其制造方法

技术领域

本申请涉及一种显示技术领域，特别涉及一种掩膜组件及其制造方法。

背景技术

随着信息社会的发展，有机电激发光二极管(OLED)由于同时具备自发光，不需背光源、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于挠曲性面板、使用温度范围广、构造及制程较简单等优异之特性，被认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。

目前OLED工艺中的蒸镀工艺段，主要用FMM(精密掩膜板)作为遮罩模具，限制蒸镀材料到确定的位置上，进而完成R&G&B像素的蒸镀，在通电的情况下，进行自主发光。

在蒸镀工艺中使用的掩膜组件包括框架、设置在框架上的带圆角开口的CMM(一般掩膜板遮罩)和设置在CMM上的具有方形蒸镀区的FMM，二者进行匹配，通过CMM的遮挡作用，进而达到利用方形FMM生产圆角显示基板的目的。

因为整个CMM焊接在框架上时，而FMM层叠设置在CMM上，使得FMM的蒸镀区和CMM的圆角开口贴合，由于FMM和圆角开口的接触为非线性接触，因此圆角开口会出现应力释放不均的情况，导致双层掩膜板和玻璃基板接触时容易出现贴合不均，蒸镀之后，玻璃基板的相应区域产生亮度不均的情况，甚至出现圆角的边缘对应的FMM区域被损伤的情况。

发明内容

本申请实施例提供一种掩膜组件及其制造方法；以解决现有的掩膜组件在和玻璃基板接触时，容易出现贴合不均，蒸镀之后，显示基板的相应区域产生亮度不均的情况，甚至出现圆角的边缘对应的FMM区域被损伤的情况的技术问题。

本申请实施例提供一种掩膜组件，其包括框架、固定设置在所述框架上的第一掩膜板和叠设在所述第一掩膜板上的第二掩膜板，所述第一掩膜板包括均固定连接于所述框架的至少两条异型条状掩膜体和至少两条遮挡体，所述异型条状掩膜体和所述遮挡体交叉排布形成对应于所述第二掩膜板蒸镀区的至少一个异型开口区，所述异型开口区的正投影位于对应的所述蒸镀区内；

所述异型条状掩膜体包括：

异型遮挡片，用于围成所述异型开口区；以及

支撑条，与所述异型遮挡片的延伸方向一致且固定设置在所述异型遮挡片上，用于和所述第二掩膜板接触贴合；

其中所述异型遮挡片和所述支撑条之间形成一间隔所述第二掩膜板和所述异型遮挡片接触的间隔空间。

在本申请的掩膜组件中，所述间隔空间的高度为所述异型遮挡片和所述支撑条厚度之和的50％-60％。

在本申请的掩膜组件中，所述异型遮挡片包括：

固定部，用于和所述支撑条固定连接；以及

凸出结构部，自所述固定部的边缘向外延伸，所述凸出结构部的边缘用于形成所述异型开口区；

所述凸出结构部位于所述异型条状掩膜体和所述遮挡体的交叉处，所述遮挡体设置在所述凸出结构部背向所述支撑条的一面上，以遮挡相邻两条所述异型遮挡片之间的间隙。

在本申请的掩膜组件中，所述凸出结构部和所述遮挡体焊接固定。

在本申请的掩膜组件中，所述异型开口区为圆角矩形，所述蒸镀区为矩形，所述第二掩膜板还包括围设在所述蒸镀区周围的缓冲区；

所述凸出结构部包括相互平行的两条底边和分别与所述两条底边相连的两条圆弧边，所述两条圆弧边在所述第二掩膜板上的正投影位于所述蒸镀区内，所述两条底边在所述第二掩膜板的正投影位于所述缓冲区内。

在本申请的掩膜组件中，所述支撑条位于所述固定部的中心线上。

在本申请的掩膜组件中，所述支撑条和所述异型遮挡片为一体成型结构或所述支撑条焊接在所述异型遮挡片上。

在本申请的掩膜组件中，所述框架上设置有对向设置的第一放置槽和对向设置的第二放置槽，所述异型条状掩膜体固定连接于所述第一放置槽，所述遮挡体固定连接于所述第二放置槽；所述第一放置槽的深度小于所述第二放置槽的深度。

本申请还涉及一种制造上述的掩膜组件的方法，所述制造掩膜组件的方法的步骤包括：

提供框架；

在所述框架上设置所述第一掩膜板，所述第一掩膜板包括至少两条异型条状掩膜体和至少两条遮挡体，所述异型条状掩膜体和所述遮挡体形成对应于所述第二掩膜板蒸镀区的至少一个异型开口区；

在所述第一掩膜板上设置所述第二掩膜板，所述异型开口区的正投影位于对应的所述蒸镀区内。

在本申请的制作掩膜组件的方法中，所述在所述框架上设置所述第一掩膜板的步骤包括：

通过刻蚀工艺将所述异型条状掩膜体一体成型，所述异型条状掩膜体包括所述异型遮挡片和设置在所述异型遮挡片上的所述支撑条，所述异型遮挡片和所述支撑条之间形成一间隔所述第二掩膜板和所述异型遮挡片接触的间隔空间；

将所述遮挡体固定在所述框架上；

将所述异型条状掩膜体以与所述遮挡体交叉排布的方式固定在所述框架上，所述异型遮挡片包括用于和所述支撑条固定连接的固定部和自所述固定部的边缘向外延伸的凸出结构部，所述凸出结构部的边缘用于形成所述异型开口区，所述凸出结构部位于所述异型条状掩膜体和所述遮挡体的交叉处；

将所述异型遮挡片和所述遮挡体进行焊接。

相较于现有技术的掩膜组件，本申请的掩膜组件通过异型条状掩膜体的间隔空间的设置，一方面使得第二掩膜板跟支撑条进行直接线性接触，避免了和第一掩膜板存在非线性接触的情况，进而提高了玻璃基板在和第二掩膜板贴合的均匀性；进一步的，通过仅有的支撑条的接触设置，使得第一掩膜板缩小了和第二掩膜板的接触面积，进一步提高了玻璃基板和第二掩膜板贴合的均匀性和展开性；

另一方面，由于异型开口区的边缘有可能会产生拉伸后的微凸形态，因此这样的设置避免了异型遮挡片对第二掩膜板的损伤；解决了现有的掩膜组件在和玻璃基板接触时，容易出现贴合不均，蒸镀之后，显示基板的相应区域产生亮度不均的情况，甚至出现圆角的边缘被损伤的情况的技术问题。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面对实施例中所需要使用的附图作简单的介绍。下面描述中的附图仅为本申请的部分实施例，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获取其他的附图。

图1为本申请的掩膜组件的实施例的俯视结构示意图；

图2为图1中沿AA线的截面图；

图3为本申请的掩膜组件的实施例的第二掩膜板的结构示意图；

图4为本申请的掩膜组件的实施例的第一掩膜板的结构示意图；

图5为本申请的掩膜组件的实施例的异型遮挡片的结构示意图；

图6为本申请的制作掩膜组件的方法的实施例的流程图。

具体实施方式

请参照附图中的图式，其中相同的组件符号代表相同的组件。以下的说明是基于所例示的本申请具体实施例，其不应被视为限制本申请未在此详述的其它具体实施例。

请参照图1、图2和图4，图1为本申请的掩膜组件的实施例的俯视结构示意图；图2为图1中沿AA线的截面图。本申请实施例的掩膜组件包括框架10、固定设置在框架10上的第一掩膜板20和叠设在第一掩膜板20上的第二掩膜板30。

第一掩膜板20包括均固定连接于框架10的至少两条异型条状掩膜体21和至少两条遮挡体22，异型条状掩膜体21和遮挡体22交叉排布形成对应于第二掩膜板30蒸镀区3a的至少一个异型开口区2a，异型开口区2a的正投影位于对应的蒸镀区3a内；其中本申请以本实施例的异型条状掩膜体21和遮挡体22均设置有两条的数量为示例进行说明，但在实际应用中，并非限于此。

在本实施例中，异型条状掩膜体21包括用于围成异型开口区2a的异型遮挡片211、与异型遮挡片211的延伸方向一致且固定设置在异型遮挡片211上的支撑条212，支撑条212用于和第二掩膜板30接触贴合；

其中异型遮挡片211和支撑条212之间形成一间隔第二掩膜板30和异型遮挡片211接触的间隔空间c。

本实施例的掩膜组件通过异型条状掩膜体21的间隔空间c的设置起到避免第二掩膜板30和异型遮挡片211接触的目的。这样的设置，当进行玻璃基板压合时，间隔空间c的设置，缓冲了第二掩膜板30因受压产生形变向异型遮挡片211下压，从而避免了第二掩膜板30对异型遮挡片211的压力，进而避免了异型遮挡片211的非线性边缘对第二掩膜板30的反作用，保护了第二掩膜板30。

同时，间隔空间c的设置使得第二掩膜板30和支撑条212进行直接线性接触，避免了和第一掩膜板20存在非线性接触的情况，进而提高了玻璃基板在和第二掩膜板30贴合的均匀性。

可以理解的是，第二掩膜板30贴合在第一掩膜板20上，第二掩膜板30仅和支撑条212进行贴合接触，避免了第二掩膜板30和异型遮挡片211进行非线性接触。当玻璃基板压合在第二掩膜板30上时，玻璃基板和第二掩膜板30贴合，虽然在压合的过程中，第二掩膜板30向间隔空间c发生形变，因此间隔空间c起到避免第二掩膜板30和异型遮挡片211接触的效果。

在本实施例的掩膜组件中，间隔空间c的高度为异型遮挡片211和支撑条212厚度之和的50％-60％。可以理解的是，间隔空间c的高度主要取决于玻璃基板和第二掩膜板30进行压合时的压力、以及第一掩膜板20的承受力，而第一掩膜板20的承受力主要取决于第一掩膜板20的厚度。也就是说压力越大需要的间隔空间c的高度就越大；第一掩膜板20的厚度越大，其承受力就越大。

当然在玻璃基板在进行压合的过程中，由于玻璃基板本身的硬性特点，导致基板下压的区域是有一定形变范围的，因此并非第一掩膜板20的厚度越大越好，而是只要间隔空间c的高度满足该范围即可。

在现有技术中，第一掩膜板20(50-100微米)的厚度是大于第二掩膜板30(25-35微米)的厚度，因此第一掩膜板20的承受力大于第二掩膜板30，且形变程度远小于第二掩膜板30。因此在常规压合的压力下，间隔空间c的高度为异型遮挡片211和支撑条212厚度之和的50％-60％时，可避免第二掩膜板30和异型遮挡片211的接触。当然，间隔空间c的高度并不限于此，其根据具体情况而定。

另一方面，由于异型开口区2a的非线性边缘的原因，使得异型开口区2a有可能会产生拉伸后的微凸形态，因此间隔空间c的设置避免了异型遮挡片211对第二掩膜板30的损伤；另外，由于遮挡体22和异型遮挡片211的凸出结构部2112焊接，产生焊点，因此间隔空间c的设置，避免了凸起的焊点影响第二掩膜板30。

而支撑条212的设置，使得第一掩膜板20缩小了和第二掩膜板30的接触面积，进一步提高了玻璃基板和第二掩膜板30贴合的均匀性和展开性。

可以理解的是，在现有技术中，第一掩膜板设置在框架上时，由于重力的作用，第一掩膜板的重点区域会下垂，从而在截面方向上形成一个微形弧面，因此当第二掩膜板整体贴合在第一掩膜板整个面上时为非平面的贴合，从而导致玻璃基板贴合在第一掩膜板上时，出现不均匀贴合现象。因此本实施例通过缩小第二掩膜板30和第一掩膜板20的贴合面积，即第二掩膜板30和第一掩膜板20的支撑条212进行贴合，避免和更多的微弧形面接触，促使第二掩膜基板30和第一掩膜板20之间的贴合为均匀的矩形贴合形态；进而提高了玻璃基板和第二掩膜板30贴合的均匀性。

在本实施例的掩膜组件中，请参照图5，异型遮挡片211包括用于和支撑条212固定连接的固定部2111和自固定部2111的边缘向外延伸的凸出结构部2112，凸出结构部2112的边缘用于形成异型开口区2a；

凸出结构部2112位于异型条状掩膜体21和遮挡体22的交叉处，遮挡体22设置在凸出结构部2112背向支撑条212的一面上，以遮挡相邻两条异型遮挡片211之间的间隙。其中，遮挡体22和异型遮挡片211围成异型开口区2a。

进一步的，凸出结构部2112和遮挡体22焊接固定。将凸出结构部2112和遮挡体22进行焊接，加固了凸出结构部2112，当玻璃基板在和第二掩膜板30贴合的过程中，防止凸出结构部2112可能翘起，对第二掩膜板30的有效区域产生损伤。

在本实施例的掩膜组件中，支撑条212位于固定部2111的中心线上。确保第二掩膜板30和第一掩膜体20进行贴合时，二者形成均匀规则的矩形接触形态。

在本实施例的掩膜组件中，支撑条212和异型遮挡片211为一体成型结构或支撑条212焊接在异型遮挡片211上。其中，支撑条212和异型遮挡片211通过刻蚀工艺一体成型，增加了结构的稳定性和高精密程度，进而起到保护第二掩膜板30的效果。

另外，支撑条212也可以是焊接在异型遮挡片211上。而异型遮挡片211通过刻蚀工艺形成。

请参照图3和图4，在本实施例的掩膜组件中，异型开口区2a为圆角矩形，蒸镀区3a为矩形，第二掩膜板30还包括围设在蒸镀区3a周围的缓冲区3b；

当然，在实际应用中，异型开口区2a的形状和蒸镀区3a的形状可以是其他的形状，比如椭圆、多边形、圆形和跑道形。本实施例采用该形状可以制造出圆角的玻璃基板。

在实际应用中，用于形成异型开口区2a的异型遮挡片211的凸出结构部2112的结构可以是多种，本申请以以下一种为例进行说明，详细过程如下：

凸出结构部2112包括相互平行的两条底边和分别与两条底边相连的两条圆弧边21a，两条圆弧边21a在第二掩膜板30上的正投影位于蒸镀区3a内，两条底边在第二掩膜板30的正投影位于缓冲区3b内。

在本实施例的掩膜组件中，框架10上设置有对向设置的第一放置槽和对向设置的第二放置槽，异型条状掩膜体21固定连接于第一放置槽，遮挡体22固定连接于第二放置槽；第一放置槽的深度小于第二放置槽的深度。

第一放置槽和第二放置槽的设置，使得第一掩膜板20的支撑条212的顶面和框架10的顶面位于同一平面，方便第二掩膜板30的贴合。也就是说，第一放置槽和第二放置槽的设置，避免了异型条状掩膜体21和遮挡体22交叠的区域出现隆起，从而影响与第二掩膜板30的贴合。

另外，可选的，第一掩膜板20可以为金属屏蔽片掩膜板，第二掩膜板30为精细金属掩膜板。

请参照图6，本申请还涉及一种制造上述的掩膜组件的方法，所述制造掩膜组件的方法的步骤包括：

S1、提供框架；

S2、在所述框架上设置所述第一掩膜板，所述第一掩膜板包括至少两条异型条状掩膜体和至少两条遮挡体，所述异型条状掩膜体和所述遮挡体形成对应于所述第二掩膜板蒸镀区的至少一个异型开口区；

S3、在所述第一掩膜板上设置所述第二掩膜板，所述异型开口区的正投影位于对应的所述蒸镀区内。

进一步的，所述S2、在所述框架上设置所述第一掩膜板的步骤包括：

S21、通过刻蚀工艺将所述异型条状掩膜体一体成型，所述异型条状掩膜体包括所述异型遮挡片和设置在所述异型遮挡片上的所述支撑条，所述异型遮挡片和所述支撑条之间形成一间隔所述第二掩膜板和所述异型遮挡片接触的间隔空间；

S22、将所述遮挡体固定在所述框架上；

S23、将所述异型条状掩膜体以与所述遮挡体交叉排布的方式固定在所述框架上，所述异型遮挡片包括用于和所述支撑条固定连接的固定部和自所述固定部的边缘向外延伸的凸出结构部，所述凸出结构部的边缘用于形成所述异型开口区，所述凸出结构部位于所述异型条状掩膜体和所述遮挡体的交叉处；

S24、将所述异型遮挡片和所述遮挡体进行焊接。

通过，异型条状掩膜体21的间隔空间c的设置起到避免第二掩膜板30和异型遮挡片211接触的目的。这样的设置，当进行玻璃基板压合时，间隔空间c的设置，缓冲了第二掩膜板30因受压产生形变向异型遮挡片211下压，从而避免了第二掩膜板30对异型遮挡片211的压力，进而避免了异型遮挡片211的非线性边缘对第二掩膜板30的反作用，保护了第二掩膜板30。

同时，间隔空间c的设置使得第二掩膜板30和支撑条212进行直接线性接触，避免了和第一掩膜板20存在非线性接触的情况，进而提高了玻璃基板在和第二掩膜板30贴合的均匀性。

关于上述实施例中的方法，其中涉及到的掩膜组件的各个结构已经在装置侧的实施例中进行了详细的阐述，此处将不再赘述。

相较于现有技术的掩膜组件，本申请的掩膜组件通过异型条状掩膜体的间隔空间的设置，一方面使得第二掩膜板跟支撑条进行直接线性接触，避免了和第一掩膜板存在非线性接触的情况，进而提高了玻璃基板在和第二掩膜板贴合的均匀性；进一步的，通过仅有的支撑条的接触设置，使得第一掩膜板缩小了和第二掩膜板的接触面积，进一步提高了玻璃基板和第二掩膜板贴合的均匀性；

另一方面，由于异型开口区的边缘有可能会产生拉伸后的微凸形态，因此这样的设置避免了异型遮挡片对第二掩膜板的损伤；解决了现有的掩膜组件在和玻璃基板接触时，容易出现贴合不均，蒸镀之后，显示基板的相应区域产生亮度不均的情况，甚至出现圆角的边缘对应FMM的区域被损伤的情况的技术问题。

本申请尽管已经相对于一个或多个实现方式示出并描述了本公开，但是本领域技术人员基于对本说明书和附图的阅读和理解将会想到等价变型和修改。本公开包括所有这样的修改和变型，并且仅由所附权利要求的范围限制。此外，尽管本公开的特定特征已经相对于若干实现方式中的仅一个被公开，但是这种特征可以与如可以对给定或特定应用而言是期望和有利的其他实现方式的一个或多个其他特征组合。而且，就术语“包括”、“具有”、“含有”或其变形被用在具体实施方式或权利要求中而言，这样的术语旨在以与术语“包含”相似的方式包括。

综上所述，虽然本申请已以实施例揭露如上，实施例前的序号，如“第一”、“第二”等仅为描述方便而使用，对本申请各实施例的顺序不造成限制。并且，上述实施例并非用以限制本申请，本领域的普通技术人员，在不脱离本申请的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本申请的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种掩膜组件，包括框架、固定设置在所述框架上的第一掩膜板和叠设在所述第一掩膜板上的第二掩膜板，其特征在于，所述第一掩膜板包括均固定连接于所述框架的至少两条异型条状掩膜体和至少两条遮挡体，所述异型条状掩膜体和所述遮挡体交叉排布形成对应于所述第二掩膜板蒸镀区的至少一个异型开口区，所述异型开口区的正投影位于对应的所述蒸镀区内；

所述异型条状掩膜体包括：

异型遮挡片，用于围成所述异型开口区；以及

支撑条，与所述异型遮挡片的延伸方向一致且固定设置在所述异型遮挡片上，用于和所述第二掩膜板接触贴合；

其中所述异型遮挡片和所述支撑条之间形成一间隔所述第二掩膜板和所述异型遮挡片接触的间隔空间。

2.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述间隔空间的高度为所述异型遮挡片和所述支撑条厚度之和的50％-60％。

3.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述异型遮挡片包括：

固定部，用于和所述支撑条固定连接；以及

凸出结构部，自所述固定部的边缘向外延伸，所述凸出结构部的边缘用于形成所述异型开口区；

所述凸出结构部位于所述异型条状掩膜体和所述遮挡体的交叉处，所述遮挡体设置在所述凸出结构部背向所述支撑条的一面上，以遮挡相邻两条所述异型遮挡片之间的间隙。

4.根据权利要求3所述的掩膜组件，其特征在于，所述凸出结构部和所述遮挡体焊接固定。

5.根据权利要求3所述的掩膜组件，其特征在于，所述异型开口区为圆角矩形，所述蒸镀区为矩形，所述第二掩膜板还包括围设在所述蒸镀区周围的缓冲区；

所述凸出结构部包括相互平行的两条底边和分别与所述两条底边相连的两条圆弧边，所述两条圆弧边在所述第二掩膜板上的正投影位于所述蒸镀区内，所述两条底边在所述第二掩膜板的正投影位于所述缓冲区内。

6.根据权利要求3所述的掩膜组件，其特征在于，所述支撑条位于所述固定部的中心线上。

7.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述支撑条和所述异型遮挡片为一体成型结构或所述支撑条焊接在所述异型遮挡片上。

8.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述框架上设置有对向设置的第一放置槽和对向设置的第二放置槽，所述异型条状掩膜体固定连接于所述第一放置槽，所述遮挡体固定连接于所述第二放置槽；所述第一放置槽的深度小于所述第二放置槽的深度。

9.一种制造权利要求1-8任一项所述的掩膜组件的方法，其特征在于，所述制造掩膜组件的方法的步骤包括：

提供框架；

在所述框架上设置所述第一掩膜板，所述第一掩膜板包括至少两条异型条状掩膜体和至少两条遮挡体，所述异型条状掩膜体和所述遮挡体形成对应于所述第二掩膜板蒸镀区的至少一个异型开口区；

在所述第一掩膜板上设置所述第二掩膜板，所述异型开口区的正投影位于对应的所述蒸镀区内。

10.根据权利要求9所述的制造掩膜组件的方法，其特征在于，所述在所述框架上设置所述第一掩膜板的步骤包括：

通过刻蚀工艺将所述异型条状掩膜体一体成型，所述异型条状掩膜体包括所述异型遮挡片和设置在所述异型遮挡片上的所述支撑条，所述异型遮挡片和所述支撑条之间形成一间隔所述第二掩膜板和所述异型遮挡片接触的间隔空间；

将所述遮挡体固定在所述框架上；

将所述异型条状掩膜体以与所述遮挡体交叉排布的方式固定在所述框架上，所述异型遮挡片包括用于和所述支撑条固定连接的固定部和自所述固定部的边缘向外延伸的凸出结构部，所述凸出结构部的边缘用于形成所述异型开口区，所述凸出结构部位于所述异型条状掩膜体和所述遮挡体的交叉处；

将所述异型遮挡片和所述遮挡体进行焊接。