KR102610008B1 - 마스크 및 이를 이용한 표시 패널의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 마스크는 베이스 시트 및 돌출부를 포함한다. 베이스 시트 는 대상 기판이 안착되는 제1 면, 제1 면과 마주하는 제2 면 및 개구부를 정의하는 내측면을 포함한다. 돌출부는 베이스 시트의 내측면에서 개구부 측으로 연장되고 단차면을 포함한다. 단차면과 대상 기판 사이의 간격은 제1 면과 대상 기판 사이의 간격보다 크다. 적어도 하나의 돌출부가 베이스 시트의 제2 영역에 제공되지 않음으로써, 섀도우 영역을 감소시키고 표시 패널을 제작하는데 있어 섀도우 영역에 대한 마진 확보에 자유도를 향상시킬 수 있다.

Description

마스크 및 이를 이용한 표시 패널의 제조 방법{MASK AND METHOD OF MANUFACTURING DISPLAY PANEL USING THE SAME}
본 발명은 마스크 및 표시 패널 제조 방법에 관한 것으로, 상세하게는 공정 수율 및 증착 정밀도가 향상된 마스크 및 상기 마스크를 이용한 표시 패널 제조 방법에 관한 것이다.
표시 패널은 복수의 화소들을 포함한다. 화소들 각각은 트랜지스터와 같은 구동 소자 및 유기발광 다이오드와 같은 표시 소자를 포함한다. 표시 소자는 기판 상에 전극과 복수의 유기층 및 무기층을 적층하여 형성될 수 있다.
표시 소자에 포함되는 전극과 복수의 유기층 및 무기층 등은 증착 공정을 통해 소정의 영역에 형성되는 증착 패턴일 수 있다. 증착 패턴은 소정의 영역에 개구부가 정의된 마스크를 이용하여 형성될 수 있다.
본 발명은 증착 공정에 대한 증착 정밀도를 향상시킬 수 있는 마스크 및 이를 이용한 표시 패널 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 마스크는 대상 기판이 안착되는 제1 면, 상기 제1 면과 마주하는 제2 면, 및 상기 제1 면과 상기 제2 면을 관통하는 개구부를 정의하는 내측면을 포함하는 베이스 시트 및 상기 베이스 시트의 제1 영역에서, 상기 베이스 시트의 상기 내측면으로부터 상기 개구부 측으로 연장되고, 단차면을 포함하는 적어도 하나의 돌출부를 포함하고, 상기 단차면과 상기 대상 기판 사이의 간격은 상기 제1 면과 상기 대상 기판 사이의 간격보다 크고, 상기 적어도 하나의 돌출부는 상기 베이스 시트의 제2 영역에 제공되지 않는다.
상기 돌출부는 상기 제2 영역과 인접하고 상기 내측면으로부터 연장된 제1 및 제2 경계면을 포함한다.
상기 제1 및 제2 경계면의 형상은 서로 상이하다.
상기 돌출부는 복수 개로 제공되고, 상기 돌출부에 대응되는 경계면은 복수 개로 제공된다.
상기 내측면은 제1 내지 제4 모서리부를 포함하고, 상기 제1 및 제2 경계면 중 적어도 하나는 상기 제1 내지 제4 모서리부 중 적어도 하나에 위치한다.
상기 제1 내지 4 모서리부는 소정의 곡률을 포함한다.
상기 돌출부는 상기 제1 내지 제4 모서리부 중 적어도 하나로부터 돌출된다.
상기 제1 내지 제4 모서리부 중 적어도 하나는 상기 제2 영역에 포함된다.
상기 내측면은 제1 내지 제4 내측면을 포함하고, 상기 제1 및 상기 제3 내측면은 제1 방향과 평행하고, 상기 제2 및 상기 제4 내측면은 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향과 평행하다.
상기 제1 내측면은 상기 제3 내측면과 상기 제2 방향으로 이격되고, 상기 돌출부는 상기 제1 내측면 또는 상기 제3 내측면으로부터 돌출된다.
상기 돌출부는 인접한 상기 제2 내측면 또는 상기 제4 내측면으로부터 돌출되어 분리되지 않고 일체로 형성된다.
상기 돌출부는 인접한 상기 제2 내측면의 일부 및 상기 제4 내측면의 일부로부터 돌출되어 분리되지 않고 일체로 형성된다.
상기 돌출부는 복수 개로 제공되고, 상기 제2 내측면은 상기 제4 내측면과 상기 제1 방향으로 이격되고, 상기 돌출부는 각각 상기 제2 내측면 및 상기 제4 내측면으로부터 돌출된 다.
상기 돌출부는 각각 상기 제2 내측면의 일부 및 상기 제2 내측면의 일부에 대응되는 상기 제4 내측면의 일부로부터 돌출된다.
상기 제1 및 제2 경계면 중 적어도 하나는 상기 제1 내지 제4 내측면 중 적어도 하나와 인접한다.
상기 내측면은 상기 제2 영역에서 상기 상면에 연결되고, 상기 상면에 수직한 수직면 및 상기 수직면과 상기 하면을 연결하고, 상기 개구부와 멀어지는 방향으로 기울어진 경사면을 갖는다.
상기 베이스 시트는 복수 개의 개구부를 포함하고 상기 복수 개의 개구부의 평면상 형상은 서로 동일하다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 패널의 제조 방법은 베이스층 상에 배치된 회로층을 형성하는 단계 및 상기 회로층 상에 배치되고, 공통층을 포함하는 소자층을 형성하는 단계를 포함하고 상기 소자층을 형성하는 단계는 마스크를 사용해 상기 공통층을 형성하는 단계를 포함하고 상기 공통층은 제1 단면 구조를 갖는 제1 단부 및 상기 제1 단부와 상이한 제2 단면 구조를 갖는 제2 단부를 포함하고 상기 마스크는 대상 기판이 안착하는 제1 면, 상기 제1 면과 마주하는 제2 면, 및 상기 제1 면과 상기 제2 면을 관통하는 개구부를 정의하는 내측면을 포함하는 베이스 시트 및 상기 공통층의 상기 제1 단부와 대응하는 상기 베이스 시트의 적어도 하나의 제1 영역에서, 상기 베이스 시트의 상기 내측면으로부터 상기 개구부 측으로 연장되고, 제1 면으로부터 단차를 가진 단차면을 포함하는 적어도 하나의 돌출부를 포함하고 상기 적어도 하나의 돌출부는 상기 공통층의 상기 제2 단부와 대응하는 상기 베이스 시트의 제2 영역에 제공되지 않는다.
상기 표시 패널은 상기 베이스층은 표시 영역 및 비표시 영역을 포함하고 상기 표시 영역에 제1 방향을 따라 배열되고, 각각이 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 연장된 복수의 데이터 라인들 및 상기 비표시 영역에 배치되는 데이터 구동부에 연결되는 연결 라인들과 상기 복수의 데이터 라인들을 전기적으로 연결시키는 복수의 연결 패턴들을 포함하고 상기 복수의 연결 패턴들은 각각이 상기 복수의 데이터 라인들 중 어느 하나에 연결되고 상기 제1 방향을 따라 연장된 제1 라인 및 상기 제1 라인에 연결되고 상기 제2 방향을 따라 연장된 제2 라인을 포함한다.
상기 제1 라인들과 상기 데이터 라인들 사이의 컨택부들은 상기 표시 영역에 배치된다.
본 발명의 실시예에 따르면, 대상 기판의 찍힘을 방지하기 위해 마스크의 개구부 측으로 돌출된 돌출부로 인하여 대상 기판에 섀도우 영역이 형성되는 문제점을 해결하기 위해 일부 영역에서 돌출부를 제거함으로써, 섀도우 영역으로 인해 대상 기판에 데드 스페이스가 증가하는 것을 방지할 수 있다.
또한, 상기한 마스크를 이용하여 표시 패널을 제작하는데 있어 섀도우 영역에 대한 마진 확보에 자유도를 향상시킬 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 나타낸 사시도이다.
도 2a는 도 1의 Ⅰ-Ⅰ'선에 대응하여 절단한 마스크의 단면도이다.
도 2b는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크의 단면도이다.
도 2c는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크의 단면도이다.
도 3은 도 1의 Ⅱ-Ⅱ'선에 대응하여 절단한 마스크의 단면도이다.
도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따라 도 1에 표시된 AA 영역을 확대한 확대도이다.
도 4b는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크의 일부분을 확대한 확대도이다.
도 5a는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크의 일부분을 확대한 확대도이다.
도 5b는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크의 일부분을 확대한 확대도이다.
도 6a는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크의 일부분을 확대한 확대도이다.
도 6b는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크의 일부분을 확대한 확대도이다.
도 7a는 도 6b의 BB 영역에서 돌출부를 확대하여 나타낸 확대 사시도이다.
도 7b는 도 6b의 CC 영역에서 돌출부를 확대하여 나타낸 확대 사시도이다.
도 8a는 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치의 사시도이다.
도 8b는 본 발명의 일 실시예에 따른 전자 장치의 분해 사시도이다.
도 9a는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 패널을 나타낸 평면도이다.
도 9b는 도 9a의 Ⅲ-Ⅲ' 선에 대응하여 절단한 표시 패널의 단면도이다.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 패널의 평면도이다.
도 11a 내지 도 11e는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 패널의 제조 과정을 나타낸 공정도들이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
본 명세서에서, 어떤 구성요소(또는 영역, 층, 부분 등)가 다른 구성요소 "상에 있다", "연결 된다", 또는 "결합된다"고 언급되는 경우에 그것은 다른 구성요소 상에 직접 배치/연결/결합될 수 있거나 또는 그들 사이에 제3의 구성요소가 배치될 수도 있다는 것을 의미한다.
동일한 도면부호는 동일한 구성요소를 지칭한다. 또한, 도면들에 있어서, 구성요소들의 두께, 비율, 및 치수는 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장된 것이다.
"및/또는"은 연관된 구성들이 정의할 수 있는 하나 이상의 조합을 모두 포함한다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
또한, "아래에", "하측에", "위에", "상측에" 등의 용어는 도면에 도시된 구성들의 연관관계를 설명하기 위해 사용된다. 상기 용어들은 상대적인 개념으로, 도면에 표시된 방향을 기준으로 설명된다.
다르게 정의되지 않는 한, 본 명세서에서 사용된 모든 용어 (기술 용어 및 과학 용어 포함)는 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 갖는다. 또한, 일반적으로 사용되는 사전에서 정의된 용어와 같은 용어는 관련 기술의 맥락에서 의미와 일치하는 의미를 갖는 것으로 해석되어야 하고, 이상적인 또는 지나치게 형식적인 의미로 해석되지 않는 한, 명시적으로 여기에서 정의된다.
"포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 나타낸 사시도이다. 도 2a는 도 1의 Ⅰ-Ⅰ'선에 대응하여 절단한 마스크의 단면도이고 도 2b는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크의 단면도이다. 도 2c는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크의 단면도이다. 도 3은 도 1의 Ⅱ-Ⅱ'선에 대응하여 절단한 마스크의 단면도이다.
도 1 및 도 2a를 참조하면, 마스크(MS)는 개구부(OP)가 정의된 베이스 시트(MS-BS) 및 돌출부(PF)를 포함할 수 있다. 베이스 시트(MS-BS)는 대상 기판(SUB, 도 2c 참조)이 안착되는 상면(MS-US, 이하 제1 면으로 지칭함), 제1 면(MS-US)과 서로 마주하는 하면(MS-DS, 이하 제2 면으로 지칭함) 및 개구부(OP)를 정의하는 내측면(BIS)을 포함한다.
마스크(MS)는 베이스 시트(MS-BS)의 내측면(BIS)으로부터 개구부(OP) 측으로 돌출된 돌출부(PF)를 포함할 수 있다. 돌출부(PF)는 내측면(BIS)의 전체 영역에 형성되는 것이 아니고, 내측면(BIS)의 일부 영역에 형성될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따라 베이스 시트(MS-BS)는 평면 상에서 볼 때 서로 이격된 복수 개의 개구부(OP)를 포함할 수 있다. 복수 개의 개구부(OP)는 제1 방향(DR1)과 제2 방향(DR2)이 정의하는 평면 상에서 정렬될 수 있다. 도 1에서는 제1 방향(DR1)을 따라 배열된 5 개의 개구부(OP)와 제2 방향(DR2)을 따라 배열된 2 개의 개구부(OP)가 정의된 마스크(MS)를 나타내고 있다. 하지만, 이는 예시적인 것으로 개구부(OP)의 개수는 도시된 것에 한정되지 않는다. 복수 개의 개구부(OP)는 제1 방향(DR1) 및 제2 방향(DR2) 중 어느 하나의 방향을 따라 일정한 간격을 갖도록 배열될 수 있다. 공통층을 형성하는 재료가 복수 개의 개구부(OP) 각각을 통해 대상 기판(SUB, 도 2c 참조)에 증착될 수 있다.
마스크(MS)는 마스크 프레임을 더 포함한다. 일 실시예의 마스크(MS)는 대상 기판(SUB, 도 2c 참조)의 피증착면 상에 동일 물질을 포함하는 공통층을 형성하는데 사용될 수 있다. 대상 기판(SUB, 도 2c 참조)에는 복수 개의 개구부(OP)에 대응하여 복수 개의 표시 셀이 정의될 수 있다. 일 실시예에 따른 마스크(MS)는 박막으로 제공되는 공통층을 형성하는데 사용되는 박막 공정용 오픈 마스크에 해당할 수 있다. 박막 공정용 오픈 마스크는 대상 기판(SUB, 도 2c 참조)의 표시 셀에 동일한 재질의 박막층을 전체적으로 형성하기 위해 사용되는 마스크일 수 있다.
마스크(MS)는 철(Fe) 및 니켈(Ni) 중 적어도 하나를 포함하는 금속 재료로 형성될 수 있다. 예를 들어, 마스크(MS)는 철과 니켈의 합금을 포함할 수 있다. 마스크(MS)는 스테인레스스틸(SUS) 또는 인바(Invar) 등을 포함하여 제조될 수 있다. 마스크(MS)는 마스크(MS)를 지지하는 마스크 프레임과 동일한 재료로 형성될 수 있다. 하지만 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다.
마스크(MS)는 5 ppm/℃이하의 열팽창 계수를 가질 수 있다. 또한, 마스크 프레임도 마스크(MS)와 유사한 수준의 열팽창 계수를 가질 수 있다. 이에 따라, 증착 공정에서의 마스크(MS)의 열변형을 최소화하여 대상 기판(SUB)에 대한 증착 품질을 개선할 수 있다.
일 실시예에 따른 마스크(MS)는 제1 방향(DR1) 및 제2 방향(DR2)을 따라 연장된 판(plate) 형상을 가질 수 있다. 일 실시예에서 마스크(MS)는 제1 방향(DR1) 및 제2 방향(DR2)이 정의하는 평면 상에서 볼 때 사각형의 형상을 가질 수 있다. 하지만 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, 대상 기판(SUB, 도 2c 참조)의 형상 또는 마스크(MS)를 지지하는 마스크 프레임의 형상 등에 따라 다른 형태로 변형되어 제공될 수 있다.
개구부(OP)는 평면 상에서 볼 때 모서리가 둥근 사각형 형상을 가질 수 있다. 하지만, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며 개구부(OP)의 평면상 형상은 오픈 영역(MC)로 정의될 수 있으며 대상 기판(SUB, 도 2c 참조)에 증착되는 공통층의 형상에 따라 다양한 형태를 갖도록 변형될 수 있다.
도 2a를 참조하면, 돌출부(PF, 도 1 참조)는 제1 내측면(BIS1)으로부터 개구부(OP) 측으로 돌출된 제1 돌출부(PF1)을 포함할 수 있다. 마스크(MS)에서 돌출부(PF)가 형성된 영역은 제1 영역(A1)으로 정의되고, 돌출부(PF)가 형성되지 않은 영역은 제2 영역(A2)으로 정의된다. 제1 영역(A1)에서 제1 돌출부(PF1)는 제1 내측면(BIS1)으로부터 돌출될 수 있다. 제1 돌출부(PF1)는 제2 면(MS-DS)과 연결되지만, 제1 면(MS-US)과 연결되지 않을 수 있다. 내측면(BIS)은 제1 영역(A1)에 위치하고 제1 면(MS-US)과 제1 돌출부(PF1)를 연결하는 제1 내측면(BIS1) 및 제2 영역(A2)에 위치하고 제1 면(MS-US)과 제2 면(MS-DS)을 연결하는 제2 내측면(BIS2)을 포함할 수 있다. 개구부(OP)는 제1 내측면(BIS1) 및 제2 내측면(BIS2)에 의해 정의될 수 있다.
마스크(MS)는 오픈 영역(MC) 및 마스킹 영역(MSA)을 포함할 수 있다. 오픈 영역(MC)은 마스킹 영역(MSA)보다 내측에 정의될 수 있다. 오픈 영역(MC)은 하나의 표시 셀에 대응하는 영역일 수 있다. 일 실시예의 마스크(MS)에서 오픈 영역(MC)은 증착 재료가 제공되는 대상 기판(SUB, 도 2c 참조)의 증착 영역에 대응할 수 있다. 오픈 영역(MC)의 형상을 따라 증착 재료가 대상 기판(SUB) 상에 제공될 수 있다. 오픈 영역(MC)은 베이스 시트(MS-BS)의 제2 면(MS-DS)에 의해 정의되고, 개구부(OP)를 제3 방향(DR3)으로 봤을 때의 형상과 동일할 수 있다.
제1 돌출부(PF1)는 제1 면(MS-US) 및 제2 면(MS-DS)과 평행한 단차면(STS)을 포함할 수 있다. 단차면(STS)은 제1 면(MS-US)보다 제2 면(MS-DS)에 인접하여 배치될 수 있다. 따라서, 단차면(STS)은 대상 기판(SUB)이 제1 면(MS-US)에 안착되는 경우 대상 기판(SUB)과 이격되어 형성될 수 있고, 단차면(STS)과 대상 기판(SUB) 사이의 간격은 제1 간격(L1)으로 정의될 수 있다. 대상 기판(SUB)이 제1 면(MS-US)과 소정 이격되어 배치될 시에, 대상 기판(SUB)과 단차면(STS) 사이의 간격은 대상 기판(SUB)과 제1 면(MS-US)과의 간격보다 클 수 있다. 즉 대상 기판(SUB)과 단차면(STS) 사이의 간격은 대상 기판(SUB)과 제1 면(MS-US)과의 간격보다 제1 간격(L1)만큼 클 수 있다.
마스크(MS) 상에 대상 기판(SUB)이 안착될 시에 대상 기판(SUB)과 베이스 시트(MS-BS)가 접촉됨에 따라, 접촉되는 부분에 포함된 회로 또는 배선 등에 찍힘 현상이 발생할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크(MS)가 제1 면(MS-US)보다 높이가 낮은 단차면(STS)을 가진 돌출부(PF, 도 1 참조)를 포함함에 따라, 단차면(STS)에 해당하는 면적만큼 대상 기판(SUB)과 마스크(MS)가 맞닿지 않고 이격되므로, 단차면(STS)에 마주하는 대상 기판(SUB) 의 부분에서 회로 및 배선 등이 마스크에 찍히는 현상을 방지할 수 있다.
일 실시예에서 베이스 시트(MS-BS)의 두께(Th)는 20㎛ 이상 200㎛ 이하일 수 있다. 베이스 시트(MS-BS)의 두께(Th)는 제1 면(MS-US)과 제2 면(MS-DS) 사이의 간격으로 정의될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 돌출부(PF)는 베이스 시트 (MS-BS)의 두께보다 작은 두께를 갖는다. 돌출부(PF)의 단차면(STS)의 폭이 증가할수록 베이스 시트(MS-BS)와 대상 기판(SUB, 도 2c 참조)이 맞닿지 않는 부분이 늘어나게 되고, 그 결과 대상 기판(SUB, 도 2c 참조)에서 찍힘 현상이 방지되는 부분이 넓게 확보될 수 있다.
도 2b를 참조하면, 내측면(BISa)은 제1 영역(A1)에 위치하는 제1 내측면(BIS1a) 및 제2 영역(A2)에 위치하는 제2 내측면(BIS2a)을 포함할 수 있다. 제2 내측면(BIS2a)은 수직면(AS) 및 경사면(IS)을 포함할 수 있다. 수직면(AS)은 제1 면(MS-US)으로부터 연장되고, 제1 면(MS-US)에 수직한 면일 수 있다. 경사면(IS)은 수직면(AS)과 제2 면(MS-DS)을 연결하고 개구부(OP)와 멀어지는 방향으로 기울어진 면일 수 있다. 오픈 영역(MC)은 베이스 시트(MS-BS)가 평면 상에서 관통되어 형성되는 영역이기 때문에, 도 2b와 비교하였을 때, 경사면(IS)을 더 포함하더라도, 도 2b의 오픈 영역(MC)은 도 2a의 오픈 영역(MC)과 동일할 수 있다.
제2 면(MS-DS)이 제1 방향(DR)과 반대되는 방향으로 연장된 가상의 면과 경사면(IS) 사이의 각도(Θ, 즉 경사각)는 30도 이상 70도 이하일 수 있다. 예를 들어, 경사각(Θ은 40도 내지 60도일 수 있다. 일 실시예에서, 경사각(Θ을 30도 이상 70도 이하로 하여 마스크(MS) 크기에 대한 증착 영역의 면적의 비율을 증가시키고, 증착 영역에서의 섀도우 영역의 형성을 최소화할 수 있다. 하지만 경사면(IS)의 경사각(Θ은 이에 한정되지 않고 90도 이하에서 다양하게 형성될 수 있다.
도 2b 및 도 2c를 참조하면, 증착원으로부터 증착 물질들이 방출되면 일정 각도로 마스크(MS)의 오픈 영역(MC)을 통과하여 대상 기판(SUB) 상에 증착된다. 증착 물질들은 대상 기판(SUB) 상에 증착되어 유기 발광 소자(OLED, Organic Light-Emitting Diode) 등의 공통층(CML, 도 11e 참조)을 형성할 수 있다.
증착면(DS)은 대상 기판(SUB) 상에 증착 물질이 증착되는 면에 해당할 수 있다. 증착면(DS)은 오픈 영역(MC)과 중첩하고, 증착 물질이 공통층(CML, 도 11e 참조)을 형성할 수 있을 정도로 충분하게 증착되지 않은 섀도우 영역(SDA) 및 증착 물질이 공통층(CML, 도 11e 참조)을 형성할 수 있을 정도로 충분하게 증착된 증착 영역(DPA)을 포함할 수 있다. 증착 과정에서, 증착 물질은 마스크(MS)의 돌출부(PF) 및 경사면(IS)에 의해 블로킹(Blocking)될 수 있다. 이로 인해, 오픈 영역(MC)과 중첩하는 대상 기판(SUB) 상에는 마스크(MS)의 제1 및 2 영역(A1, A2)과 인접한 곳에 증착 물질이 충분하게 증착되지 않은 섀도우 영역(SDA)이 형성될 수 있다. 섀도우 영역(SDA)으로 인해서 증착 영역(DPA)의 면적(또는 폭)은 일반적으로 오픈 영역(MC)의 면적(또는 폭)보다 작다. 섀도우 영역(SDA)은 공통층이 정상적으로 증착되지 않아 발광 소자가 형성되지 못하는 데드 스페이스를 형성할 수 있다. 대상 기판(SUB)에서 공통층이 정상적으로 형성되는 유효 영역의 축소를 야기하고, 유효 영역이 축소된 만큼 비유효 영역이 확장되어 데드 스페이스가 증가할 수 있다.
섀도우 영역(SDA)은 제1 섀도우 영역(SDA1) 및 제2 섀도우 영역(SDA2)을 포함할 수 있다. 제1 섀도우 영역(SDA1)은 제1 영역(A1)에 대응하여 형성될 수 있다. 돌출부(PF)의 두께는 베이스 시트(MS-BS)의 두께(Th)보다 작을 수 있다. 제1 섀도우 영역(SDA1)은 돌출부(PF)의 돌출된 길이(PFL) 및 단차면(STS)과 제1 면(MS-US) 사이의 간격(L1)(또는 단차면(STS)과 대상 기판(SUB)과의 간격)에 따라 결정될 수 있다. 섀도우 영역(SDA)은 증착물이 대상 기판(SUB)의 증착면에 입사하는 각도에 따라 발생하기 때문에, 돌출부(PF)의 돌출된 길이(PFL)가 길수록, 그리고 단차면(STS)과 제1 면(MS-US) 사이의 간격(L1)이 클수록 제1 섀도우 영역(SDA1)은 넓게 생긴다. 따라서, 베이스 시트(MS-BS)의 내측면(BISa)이 모두 돌출부(PF)를 포함할 시에, 섀도우 영역(SDA)의 면적이 커지고, 이에 따라 대상 기판(SUB)에서 데드 스페이스가 증가할 수 있다.
제2 섀도우 영역(SDA1)은 제2 영역(A2)에 대응하여 형성될 수 있다. 제2 영역(A2)에는 돌출부(PF)가 형성되지 않을 수 있다. 경사면(IS)이 없는 경우 마스크(MS)의 제2 면(MS-DS)의 모서리부에 의해 증착 물질이 블로킹(Blocking)될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 제2 영역(A2)에는 수직면(AS)으로부터 개구부(OP)와 멀어지는 방향으로 기울어진 경사면(IS)이 위치할 수 있고, 경사면(IS)에 의해 블로킹(Blocking)되는 증착 물질을 감소시킬 수 있다. 구체적으로, 경사면(IS)이 형성되면 제2 섀도우 영역(SDA2)의 면적은 경사면(IS)이 없는 경우(즉, 도 2a에 해당)에 형성되는 제2 섀도우 영역(SDA2)의 면적보다 작을 수 있다.
도 1 및 도 3을 참조하면, 내측면(BIS)은 서로 마주보는 제3 내측면(BIS3) 및 제4 내측면(BIS4)을 포함할 수 있다. 돌출부(PF)는 제3 내측면(BIS3)으로부터 개구부(OP)측으로 돌출된 제2 돌출부(PF2) 및 제4 내측면(BIS4)으로부터 개구부(OP)측으로 돌출된 제3 돌출부(PF3)를 포함한다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 제2 돌출부(PF2) 및 제3 돌출부(PF3)의 크기 및 형상은 서로 같을 수 있다. 하지만 이에 한정되지 않고, 제2 돌출부(PF2) 및 제3 돌출부(PF3)의 크기 및 형상은 서로 상이할 수 있다. 구체적으로, 제2 돌출부(PF2)가 포함하는 제1 단차면(STS1)의 폭은 제3 돌출부(PF3)가 포함하는 제3 단차면(STS3)의 폭과 상이할 수 있다. 또한, 제2 돌출부(PF2)의 제1 두께(Th1)은 제3 돌출부(PF3)의 제2 두께(Th2)와 서로 상이할 수 있다.
도1, 도 2a 및 도 3을 참조하면 제1 돌출부(PF1), 제2 돌출부(PF2) 및 제3 돌출부(PF3)는 분리되지 않고 일체로 형성될 수 있다. 하지만 이에 제한되지 않고, 제1 돌출부(PF1), 제2 돌출부(PF2) 및 제3 돌출부(PF3)는 분리되어 형성되고 그 모양 및 크기가 상이할 수 있다.
마스크(MS) 상에 대상 기판(SUB)이 안착될 시에 대상 기판(SUB)과 베이스 시트(MS-BS)가 접촉됨에 따라, 접촉되는 부분에 배치된 회로 또는 배선 등에 찍힘 현상이 발생할 수 있다. 도 3에 도시된 마스크(MS)는 도 2a 및 도 2b와 비교하였을 때 제3 내측면(BIS3) 및 제4 내측면(BIS4)으로부터 제1 돌출부(PF1) 및 제2 돌출부(PF2)가 형성됨에 따라, 제1 및 제2 단차면(STS1, STS2)에 해당하는 면적만큼 대상 기판(SUB)과 마스크(MS)가 맞닿지 않고, 이격되므로, 제1 및 제2 단차면(STS1, STS2)에 마주하는 대상 기판(SUB)의 부분에서 회로 및 배선 등이 마스크에 찍히는 현상을 방지할 수 있다.
도 1, 도 2a 및 도 3을 참조하면, 베이스 시트(MS-BS)의 내측면(BIS)은 4개의 내측면, 즉 제1 내지 제4 내측면(BIS1, BIS2, BIS3, BIS4)을 포함할 수 있고, 그 중 하나의 내측면(즉, 제2 내측면(BIS2))에 돌출부(PF)가 형성되지 않는 것으로 도시되어 있다. 하지만 이에 한정되지 않으며, 돌출부(PF)가 제공되는 위치는 다양하게 변형될 수 있다. 이에 대한 자세한 사항은 도 4a 내지 6b에서 후술한다.
도 4a 내지 6b는 본 발명의 일 실시예에 따라 도 1에 표시된 AA 영역을 확대한 확대도들이다. 도 7a 및 7b는 도 6b의 내측면에서 돌출부의 경계면을 확대한 확대도들이다.
도 4a를 참조하면, 내측면(BISb)은 제1, 2, 3 및 4 내측면(BIS1b, BIS2b, BIS3b, BIS4b)을 포함할 수 있다. 제1 내측면(BLS1b)은 제1 방향(DR1)과 평행하게 형성되고, 제3 내측면(BLS3b)은 제1 내측면(BLS1b)과 제1 방향(DR1)과 교차하는 제2 방향(DR2)에서 이격되고, 제1 방향(DR1)과 평행하게 형성된다. 제2 내측면(BLS2b)은 제2 방향(DR2)과 평행하게 형성되고, 제4 내측면(BLS4b)은 제2 내측면(BLS2b)과 제1 방향(DR1)에서 이격되고, 제2 방향(DR2)과 평행하게 형성된다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 돌출부(PFa)는 제2 돌출부(PF2a), 제3 돌출부(PF3a) 및 제4 돌출부(PF4a)를 포함할 수 있다. 제2 돌출부(PF2a)는 제2 내측면(BLS2b)으로부터 돌출되어 형성될 수 있고 제3 돌출부(PF3a)는 제3 내측면(BLS3b)으로부터 돌출되어 형성될 수 있고 제4 돌출부(PF4a)는 제4 내측면(BLS4b)으로부터 돌출되어 형성될 수 있다. 제2 돌출부(PF2a), 제3 돌출부(PF3a) 및 제4 돌출부(PF4a)는 제2, 3 및 4 내측면(BIS2b, BIS3b, BIS4b)으로부터 돌출되고, 제2 돌출부(PF2a), 제3 돌출부(PF3a) 및 제4 돌출부(PF4a)는 서로 분리되지 않고 일체로 형성될 수 있다.
제2 돌출부(PF2a), 제3 돌출부(PF3a), 제4 돌출부(PF4a) 및 제1 내측면(BLS1b)은 오픈 영역(MC)을 정의할 수 있다. 제2, 3 및 4 내측면(BIS2b, BIS3b, BIS4b)으로부터 제2 돌출부(PF2a), 제3 돌출부(PF3a), 제4 돌출부(PF4a)가 형성되고, 제1 내측면(BLS1b)에는 돌출부가 형성되지 않음에 따라, 오픈 영역(MC)의 크기는 제1, 2, 3 및 4 내측면(BIS1b, BIS2b, BIS3b, BIS4b)으로부터 모두 돌출부가 형성된 마스크의 오픈 영역(MC)의 크기보다 크게 형성될 수 있다.
도 2c 및 도 4a를 참조하면, 제1, 2, 3 및 4 내측면(BIS1b, BIS2b, BIS3b, BIS4b)에 인접해서 증착 물질이 충분하게 증착되지 않은 섀도우 영역(SDA)이 형성될 수 있다. 제1 내측면(BLS1b)에 인접한 섀도우 영역(즉, 제2 섀도우 영역(SDAS2)에 대응)은 제2 돌출부(PF2a), 제3 돌출부(PF3a), 제4 돌출부(PF4a)에 인접하여 형성된 섀도우 영역(즉, 제1 섀도우 영역(SDA1)에 대응)보다 작게 형성될 수 있다. 이에 따라, 제1 내측면(BLS1b)에 인접해서, 대상 기판(SUB)에 데드 스페이스가 크게 형성되는 것을 방지할 수 있다. 즉, 대상 기판(SUB)에서 데드 스페이스의 폭을 줄이고자 하는 부분에 대응해서, 마스크(MS)의 내측면(BLSb)에 부분적으로 돌출부(PF)를 형성하지 않음으로써, 대상 기판(SUB)에 형성되는 데드 스페이스를 원하는 형태로 제어할 수 있다.
내측면(BISb)은 제1, 2, 3 및 4 모서리부(C1, C2, C3, C4)를 더 포함할 수 있다. 제1 모서리부(C1)은 제1 내측면(BLS1b)과 제2 내측면(BLS2b) 사이에 형성되고, 제2 모서리부(C2)은 제2 내측면(BLS2b)과 제3 내측면(BLS3b) 사이에 형성되고, 제3 모서리부(C3)은 제3 내측면(BLS3b)과 제4 내측면(BLS4b) 사이에 형성되고, 제4 모서리부(C4)은 제4 내측면(BLS4b)과 제1 내측면(BLS1b) 사이에 형성될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면 제1, 2, 3 및 4 모서리부(C1, C2, C3, C4)는 소정의 곡률을 포함할 수 있다. 제1, 2, 3 및 4 모서리부(C1, C2, C3, C4)가 소정의 곡률을 포함함에 따라, 제1, 2, 3 및 4 모서리부(C1, C2, C3, C4) 각각은 곡면의 형상을 가질 수 있다. 도시된 바와 같이, 돌출부(PFa)는 제1, 2, 3 및 4 모서리부(C1, C2, C3, C4)의 곡면으로부터 돌출될 수 있다. 하지만 이에 한정되지 않고, 돌출부(PFa)는 제1, 2, 3 및 4 모서리부(C1, C2, C3, C4) 중 하나의 곡면으로부터만 돌출될 수 있다.
돌출부(PFa)는 경계면(BS)를 포함할 수 있다. 돌출부(PFa)의 경계면(BS)은 제1 및 제2 경계면(BS1, BS2)을 포함할 수 있다. 제1 및 제2 경계면(BS1, BS2)은 돌출부(PFa)가 형성되지 않은 제2 영역(A2, 도 2a 참조)과 인접하고 제1 내측면(BLS1b)으로부터 연장된 면일 수 있다. 제1 내측면(BLS1b)으로 갈수록 제1 내측면(BLS1b)과의 거리가 감소하도록 기울어진 형상을 가질 수 있다. 도 2a 및 도 4a를 참조하면 경계면(BS)은 돌출부(PFa)의 단차면(STS, 도 2a 참조)으로부터 제3 방향(DR3, 도 2a 참조)으로 연장된 내측면일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 경계면(BS1)은 제1 모서리부(C1)에 위치하고, 제2 경계면(BS2)은 제4 모서리부(C4)에 위치할 수 있다. 하지만 이에 한정되지 않고, 제1 및 제2 경계면(BS1, BS2) 중 적어도 하나는 제1, 2, 3, 4 모서리부(C1, C2, C3, C4) 중 적어도 어느 하나에 위치할 수 있다. 도 4a에서 제1 및 제2 경계면(BS1, BS2)이 곡면으로 도시되었으나, 이에 한정되지 않으며 이에 대한 자세한 사항은 도 7a 및 7b에서 후술하기로 한다.
도 4b를 참조하면, 돌출부(PFb)는 제1 돌출부(PF1b), 제3 돌출부(PF3b) 및 제4 돌출부(PF4b)를 포함할 수 있다. 제1 돌출부(PF1b)는 제1 내측면(BLS1b)으로부터 돌출되어 형성될 수 있고 제3 돌출부(PF3b)는 제3 내측면(BLS3b)으로부터 돌출되어 형성될 수 있고 제4 돌출부(PF4b)는 제4 내측면(BLS4b)으로부터 돌출되어 형성될 수 있다. 제1 돌출부(PF1b), 제3 돌출부(PF3b) 및 제4 돌출부(PF4b)는 제1, 3 및 4 내측면(BIS1b, BIS3b, BIS4b)으로부터 돌출되고, 제1 돌출부(PF1b), 제3 돌출부(PF3b) 및 제4 돌출부(PF4b)는 서로 분리되지 않고 일체로 형성될 수 있다.
제1 돌출부(PF1b), 제3 돌출부(PF3b), 제4 돌출부(PF4b) 및 제2 내측면(BLS2b)은 오픈 영역(MC)을 정의할 수 있다. 도 2a 및 도 4b를 참조하면, 제1, 3 및 4 내측면(BIS1b, BIS3b, BIS4b)으로부터 제1 돌출부(PF1b), 제3 돌출부(PF3b), 제4 돌출부(PF4b)가 형성되고, 제2 내측면(BLS2b)에는 돌출부가 형성되지 않음에 따라, 도 4b에 도시된 오픈 영역(MC)의 크기는 제1, 2, 3 및 4 내측면(BIS1b, BIS2b, BIS3b, BIS4b)으로부터 돌출부가 형성된 마스크(MS)의 오픈 영역(MC)의 크기보다 크게 형성될 수 있다.
도 2c 및 도 4b를 참조하면, 제1, 2, 3 및 4 내측면(BIS1b, BIS2b, BIS3b, BIS4b)으로부터 증착 물질이 충분하게 증착되지 않은 섀도우 영역(SDA)이 형성될 수 있다. 제2 내측면(BLS2b) 으로부터 형성된 섀도우 영역(즉, 제2 섀도우 영역(SDA2)에 대응)은 제1 돌출부(PF1b), 제3 돌출부(PF3b), 제4 돌출부(PF4b) 로부터 형성된 섀도우 영역(즉, 제1 섀도우 영역(SDA1)에 대응)보다 작게 형성될 수 있다. 이에 따라, 제2 내측면(BLS2b)에서는 제1, 3 및 4 내측면(BIS1b, BIS3b, BIS4b)과 비교하였을 때, 섀도우 영역이 감소한 만큼 증착 영역(DPA)의 면적이 늘어남으로써, 데드 스페이스를 줄일 수 있기 때문에 제2 내측면(BLS2b) 주변에서 충분한 증착 영역(DPA)을 확보할 수 있다.
도 5a를 참조하면, 돌출부(PFc)는 제1 돌출부(PF1c) 및 제2 돌출부(PF2c)를 포함할 수 있다. 제1 돌출부(PF1c)는 제1 내측면(BLS1b)으로부터 돌출되어 형성될 수 있고 제2 돌출부(PF2c)는 제2 내측면(BLS2b)으로부터 돌출되어 형성될 수 있다. 제1 돌출부(PF1c) 및 제2 돌출부(PF2c)는 분리되지 않고 서로 일체로 형성될 수 있다. 하지만 본 발명은 이에 한정되지 않고, 돌출부(PFc)는 제2 내측면(BLS2b) 및 제3 내측면(BLS3b)으로부터 돌출되어 형성되거나, 제3 내측면(BLS3b) 및 제4 내측면(BLS4b)으로부터 돌출되어 형성되거나, 제1 내측면(BLS1b) 및 제4 내측면(BLS4b)으로부터 돌출되어 형성될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면 제3 내측면(BLS3b), 제4 내측면(BLS4b) 및 제3 모서리부(C3)에는 돌출부(PFc)가 제공되지 않는다. 이에 따라, 제3 내측면(BLS3b), 제4 내측면(BLS4b) 및 제3 모서리부(C3)가 제2 영역(도 2a 참조)에 포함될 수 있다. 하지만 이에 한정되지 않고, 돌출부(PF2c)가 형성되는 위치에 따라, 제1, 2, 3 및 4 모서리부(C1, C2, C3, C4) 중 어느 하나가 제2 영역(A2, 도 2a 참조)에 포함될 수 있다.
도 5a의 돌출부(PFc)는 2개의 내측면(즉, 제1 및 2 내측면(BIS1b, BIS4b))으로부터 돌출되므로, 도 4a 및 4b와 같이 3개의 내측면에 돌출부(PFa, PFb)가 형성되는 구조에 비해, 마스크에서 돌출부(PFc)가 형성되는 제1 영역(A1, 도 2a 참조)의 비율이 감소할 수 있다. 이에 따라, 마스크(MS) 상에 대상 기판(SUB, 도 2c 참조)이 안착될 시에 찍힘 현상이 발생할 확률이 증가할 수 있다. 그러나, 찍힘 현상이 발생할 확률이 적은 조건에서는 마스크에서 제1 영역(A1)이 차지하는 비율을 감소시킴으로써, 대상 기판(SUB)에서 데드 스페이스를 더욱 효과적으로 줄일 수 있는 장점을 가질 수 있다.
도 5b를 참조하면, 돌출부(PFd)는 제1 돌출부(PF1d) 및 제3 돌출부(PF3d)를 포함할 수 있다. 제1 돌출부(PF1d)는 제1 내측면(BLS1b)으로부터 돌출되어 형성될 수 있고 제3 돌출부(PF3d)는 제3 내측면(BLS3b)으로부터 돌출되어 형성될 수 있다. 하지만 본 발명은 이에 한정되지 않고, 돌출부(PFd)는 제2 내측면(BLS2b) 및 제4 내측면(BLS4b)으로부터 돌출되어 형성될 수 있다.
제1 돌출부(PF1d) 및 제3 돌출부(PF3d)는 일체로 형성되지 않고 돌출부(PFd)가 제공되는 복수 개의 제1 영역(A1 도 2a 참조)을 제공할 수 있다. 제1 돌출부(PF1d)는 제1 및 제4 경계면(BS1a, BS4a)을 포함할 수 있고 제3 돌출부(PF3d)는 제2 및 제3 경계면(BS2a, BS3a)을 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 경계면(BS1a)은 제1 모서리부(C1)에 위치하고, 제2 경계면(BS2a)은 제2 모서리부(C2)에 위치하고, 제3 경계면(BS3a)은 제3 모서리부(C3)에 위치하고, 제4 경계면(BS4a)은 제4 모서리부(C4)에 위치할 수 있다. 하지만 이에 한정되지 않고, 제1, 2, 3 및 제4 경계면(BS1a, BS2a, BS3a, BS4a) 중 일부만 제1, 2, 3, 4 모서리부(C1, C2, C3, C4)에 위치하거나, 제1, 2, 3, 4 모서리부(C1, C2, C3, C4)에 제1, 2, 3 및 제4 경계면(BS1a, BS2a, BS3a, BS4a) 중 2면 이상이 위치할 수 있다.
도시된 바와 같이 마주보는 2개의 내측면(즉, 제2 및 4 내측면(BIS2b, BIS4b))에 돌출부(PFd)가 형성되지 않음에 따라, 대상 기판(SUB)의 좌, 우 또는 상, 하 부분에서 데드 스페이스를 더 줄일 수 있기 때문에 마진 확보에 있어 더 자유로울 수 있다.
도 6a를 참조하면, 돌출부(PFe)는 제2 돌출부(PF2e), 제3 돌출부(PF3e) 및 제4 돌출부(PF4e)를 포함할 수 있다. 제2 돌출부(PF2e)는 제2 내측면(BLS2b)으로부터 돌출되고, 제3 돌출부(PF3e)는 제3 내측면(BLS3b)으로부터 돌출되며, 제4 돌출부(PF4e)는 제4 내측면(BLS4b)으로부터 돌출된다. 제3 내측면(BLS3b)으로부터 돌출된 제3 돌출부(PF3e)는 인접한 제2 내측면(BLS2b)으로부터 돌출된 제2 돌출부(PF2e) 및 인접한 제4 내측면(BLS4b)으로부터 돌출된 제4 돌출부(PF4e)까지 연장되어 분리되지 않고 일체로 형성될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제2 돌출부(PF2e)는 제2 내측면(BLS2b)의 일부로부터 돌출되고, 제4 돌출부(PF4e)는 제4 내측면(BLS4b)의 일부로부터 돌출될 수 있다. 제2 돌출부(PF2e) 및 제4 돌출부(PF4e)는 제2 방향(DR2) 상에서 대략 제2 내측면(BLS2b)의 절반 부분 및 제4 내측면(BLS4b)의 절반 부분으로부터 각각 연장될 수 있다. 즉, 제2 돌출부(PF2e) 및 제4 돌출부(PF4e)의 제2 방향(DR2) 상에서의 길이는 서로 동일할 수 있다. 그러나, 이에 한정되지 않고, 제2 돌출부(PF2e) 및 제4 돌출부(PF4e)가 연장된 길이는 서로 상이할 수 있다.
돌출부(PFe)는 제1 및 제2 경계면(BS1b, BS2b)을 포함할 수 있다. 제2 돌출부(PF2e) 및 제4 돌출부(PF4e)가 제2 내측면(BLS2b) 및 제4 내측면(BLS4b)의 대략 절반 부분에 각각 제공됨에 따라, 제1 경계면(BS1b)은 제2 내측면(BLS2b)의 나머지 절반 부분에 연결될 수 있고, 제2 경계면(BS2b)은 제4 내측면(BLS4b) 의 나머지 절반 부분에 연결될 수 있다. 하지만 이에 한정되지 않고, 돌출부(PFe)의 길이는 자유롭게 정해지고, 돌출부(PFe)의 길이에 따라 제1 및 제2 경계면(BS1b, BS2b)의 위치가 정해질 수 있다.
도 6b를 참조하면, 돌출부(PFf)는 제2 돌출부(PF2f) 및 제4 돌출부(PF4f)를 포함할 수 있다. 제2 돌출부(PF2f)는 제2 내측면(BLS2b)으로부터 돌출되고 제4 돌출부(PF4f)는 제4 내측면(BLS4b)으로부터 돌출될 수 있다. 제2 돌출부(PF2f)는 제2 모서리부(C2)로부터 제2 내측면(BLS2b) 절반 부분까지 연장된다. 제4 돌출부(PF4f)는 제3 모서리부(C3)로부터 제4 내측면(BLS4b) 절반 부분까지 연장된다. 제2 돌출부(PF2f) 및 제4 돌출부(PF4f)는 제2 방향(DR2) 상에서 대략 제2 내측면(BLS2b)의 절반 및 제4 내측면(BLS4b)의 절반 길이만큼 각각 연장될 수 있다. 즉, 제2 방향(DR2) 상에서 제2 돌출부(PF2f) 및 제4 돌출부(PF4f)의 길이는 서로 동일할 수 있다. 그러나 이에 한정되지 않고, 제2 방향(DR2) 상에서 제2 돌출부(PF2f) 및 제4 돌출부(PF4f)의 길이는 서로 상이할 수 있다.
제2 돌출부(PF2f) 및 제4 돌출부(PF4f)는 제2 및 4 내측면(BIS2b, BIS4b)으로부터 돌출되어 제2 돌출부(PF2f) 및 제4 돌출부(PF4f)가 일체로 형성되지 않고 돌출부(PFf)가 제공되는 복수 개의 제1 영역(A1 도 2a 참조)을 제공할 수 있다. 이에 따라, 제2 돌출부(PF2f)는 제1 및 제2 경계면(BS1c, BS2c, 도 7a 참조)을 포함하고 제4 돌출부(PF4f)는 제3 및 제4 경계면(BS3c, BS4c)을 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 제1 경계면(BS1c)은 제2 모서리부(C2)에 위치하고, 제2 경계면(BS2c)은 제2 내측면(BLS2b)에 위치하고, 제3 경계면(BS3c)은 제3 모서리부(C3)에 위치하고, 제4 경계면(BS4c)은 제4 내측면(BLS4b)에 위치할 수 있다.
도 7a를 참조하면, 제2 돌출부(PF2f)는 제2 내측면(BLS2b) 및 제2 모서리부(C2)로부터 돌출되어 형성될 수 있다. 제2 돌출부(PF2f)는 개구부(OP)와 인접한 서브 내측면(PFS) 및 제1 경계면(BS1c)을 포함할 수 있다. 서브 내측면(PFS)은 개구부(OP)측을 향하여 개구부(OP)와 인접하게 형성되고, 개구부(OP)를 정의하는 면일 수 있다. 서브 내측면(PFS)은 제2 방향(DR2)으로 연장된 면일 수 있다.
제1 경계면(BS1c)은 서브 내측면(PFS)과 제3 내측면(BLS3b)을 연결하는 면일 수 있다. 제1 경계면(BS1c)은 제1 및 제2 방향(DR1, DR2)에 대해 기울어질 수 있다. 제1 경계면(BS1c)은 소정의 곡률을 갖는 제2 모서리부(C2)에 위치할 수 있다. 제1 경계면(BS1c)이 제2 모서리부(C2)에 위치함에 따라, 제1 경계면(BS1c)은 제2 모서리부(C2)와 같이 소정의 곡률을 갖는 곡면일 수 있다. 하지만 이에 제한되지 않고, 제1 경계면(BS1c)은 제3 내측면(BLS3b)을 향해 일정한 경사각을 가진 평면의 형상을 가질 수 있다. 제2 모서리부(C2)가 곡률을 포함하지 않는 경우, 서브 내측면(PFS)은 제2 방향(DR2)으로 연장되어 제3 내측면(BIS3b)과 직접적으로 맞닿기 때문에 제1 경계면(BS1c)이 생략될 수 있다.
제2 모서리부(C2)에 위치하는 제1 경계면(BS1c)의 형상, 곡률 및 경사각 등을 조절함에 따라, 제2 모서리부(C2)에 대응해서 대상 기판(SUB, 도 2c 참조)에 형성되는 데드 스페이스의 폭을 조절할 수 있다.
도 7b를 참조하면, 제2 돌출부(PF2f)는 제2 내측면(BLS2b)으로부터 돌출되어 제2 내측면(BLS2b)의 일부까지 연장되어 형성될 수 있다. 제2 돌출부(PF2f)는 개구부(OP)와 인접한 서브 내측면(PFS) 및 제2 경계면(BS2c)을 포함할 수 있다. 제2 경계면(BS2c)은 서브 내측면(PFS)과 제2 내측면(BLS2b)을 연결하는 면일 수 있다. 즉 제2 경계면(BS2c)은 제2 내측면(BLS2b)에 인접하여 위치할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 제2 경계면(BS2c)은 제1 방향(DR1)으로 평행하게 형성된 직사각형 형태의 평면 형상을 가질 수 있다. 하지만 이에 제한되지 않고, 제2 경계면(BS2c)은 제2 내측면(BLS2b)을 향해 일정한 경사각을 가진 평면 또는 소정의 곡률을 가진 곡면의 형상을 가질 수 있다.
도시하지 않았지만, 제3 경계면(BS3c, 도 6b 참조)은 제1 경계면(BS1c, 도 6b 참조)과 동일한 형상을 가질 수 있고 제4 경계면(BS4c)은 제2 경계면(BS2c)과 동일한 형상을 가질 수 있다. 하지만 이에 한정되지 않고, 제1, 2, 3 및 4 경계면(BS1c, BS2c, BS3c, BS4c)은 서로 그 형상이 같거나 상이할 수 있다.
도 8a는 일 실시예에 따른 전자 장치의 사시도이다. 도 8b는 일 실시예에 따른 전자 장치의 분해 사시도이다.
전자 장치(ED)는 전기적 신호에 따라 활성화되며 영상을 표시하는 장치일 수 있다. 예를 들어, 전자 장치(ED)는 텔레비전, 외부 광고판 등과 같은 대형 장치를 비롯하여, 모니터, 휴대 전화, 태블릿, 컴퓨터, 네비게이션, 게임기 등과 같은 중소형 장치일 수 있다. 한편, 전자 장치(ED)의 실시예들은 예시적인 것으로, 본 발명의 개념에 벗어나지 않는 이상 어느 하나에 한정되지 않는다. 본 실시예에서 전자 장치(ED)의 일 예로 휴대 전화를 도시하였다.
도 8a를 참조하면, 전자 장치(ED)는 평면 상에서 제1 방향(DR1)으로 연장된 단변들을 갖고, 제1 방향(DR1)과 교차하는 제2 방향(DR2)으로 연장된 장변들을 갖는 직사각형 형상일 수 있다. 그러나 이에 한정되지 않고, 전자 장치(ED)는 평면 상에서 원형, 다각형 등의 다양한 형상을 가질 수 있다.
일 실시예의 전자 장치(ED)는 플렉서블(flexible)한 특성을 포함할 수 있다. “플렉서블”이란 휘어질 수 있는 특성을 의미하며, 완전히 접히는 구조에서부터 수 나노미터 수준으로 휠 수 있는 구조까지 모두 포함할 수 있다. 예를 들어, 플렉서블 전자 장치(ED)는 커브드(curved) 장치 또는 폴더블(foldable) 장치를 포함할 수 있다. 그러나, 이에 한정되지 않고, 전자 장치(ED)는 리지드(rigid)한 특성을 포함한다.
전자 장치(ED)는 제1 방향(DR1) 및 제2 방향(DR2) 각각에 평행한 표시면에 제3 방향(DR3)을 향해 영상(IM)을 표시할 수 있다. 전자 장치(ED)에서 제공되는 영상(IM)은 동적인 영상은 물론 정지 영상을 포함할 수 있다. 도 8a는 영상(IM)의 일 예로 시계창 및 아이콘들이 도시하였다.
영상(IM)이 표시되는 표시면은 전자 장치(ED)의 전면(front surface)과 대응될 수 있으며, 이는 윈도우(WM)의 전면(FS)에 대응될 수 있다. 한편, 도 8a는 평면형의 표시면을 예시적으로 도시하였으나, 이에 한정되지 않고, 전자 장치(ED)의 표시면은 평면의 적어도 일 측으로부터 벤딩된 곡면을 포함할 수도 있다.
전자 장치(ED)를 구성하는 각 부재들의 전면(또는 상면)과 배면(또는 하면)은 제3 방향(DR3)에서 서로 대향(opposing)될 수 있고, 전면과 배면 각각의 법선 방향은 실질적으로 제3 방향(DR3)에 평행할 수 있다. 제3 방향(DR3)을 따라 정의되는 전면과 배면 사이의 이격 거리는 부재(또는 유닛)의 두께에 대응될 수 있다.
도 8a 및 도 8b를 참조하면, 전자 장치(ED)는 윈도우(WM), 표시 패널(DP) 및 케이스(EDC)를 포함할 수 있다. 윈도우(WM)는 케이스(EDC)와 결합하여 전자 장치(ED)의 외관을 구성할 수 있고, 전자 장치(ED)의 구성들을 수용할 수 있는 내부 공간을 제공할 수 있다.
윈도우(WM)는 표시 패널(DP) 상에 배치될 수 있다. 윈도우(WM)는 표시 패널(DP)의 형상에 대응하는 형상을 가질 수 있다. 윈도우(WM)는 표시 패널(DP)의 외측 전체를 커버할 수 있고, 외부 충격 및 스크래치로부터 표시 패널(DP)을 보호할 수 있다.
윈도우(WM)는 광학적으로 투명한 절연 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 윈도우(WM)는 유리 기판 또는 고분자 기판을 포함할 수 있다. 윈도우(WM)는 단층 또는 다층 구조를 가질 수 있다. 윈도우(WM)는 투명한 기판 상에 배치된 지문 방지층, 위상 제어층, 하드 코팅층과 같은 기능층들을 더 포함할 수 있다.
윈도우(WM)의 전면(FS)은 투과 영역(TA) 및 베젤 영역(BZA)을 포함할 수 있다. 윈도우(WM)의 투과 영역(TA)은 광학적으로 투명한 영역일 수 있다. 윈도우(WM)는 투과 영역(TA)을 통해 표시 패널(DP)이 제공하는 영상(IM)을 투과시킬 수 있고, 사용자는 해당 영상(IM)을 시인할 수 있다.
윈도우(WM)의 베젤 영역(BZA)은 소정의 컬러를 포함하는 물질이 인쇄된 영역으로 제공될 수 있다. 윈도우(WM)의 베젤 영역(BZA)은 베젤 영역(BZA)에 중첩하여 배치된 표시 패널(DP)의 일 구성이 외부에 시인되는 것을 방지할 수 있다.
베젤 영역(BZA)은 투과 영역(TA)에 인접할 수 있다. 투과 영역(TA)의 형상은 실질적으로 베젤 영역(BZA)에 의해 정의될 수 있다. 예를 들어, 베젤 영역(BZA)은 투과 영역(TA)의 외측에 배치되어, 투과 영역(TA)을 둘러쌀 수 있다. 다만, 이는 예시적으로 도시한 것이고, 베젤 영역(BZA)은 투과 영역(TA)의 일 측에만 인접하거나, 생략될 수 있다. 또한, 베젤 영역(BZA)은 전자 장치(ED)의 전면이 아닌 내측면에 배치될 수도 있다.
표시 패널(DP)은 윈도우(WM)와 케이스(EDC) 사이에 배치될 수 있다. 표시 패널(DP)은 전기적 신호에 대응하여 영상(IM)을 표시 할 수 있다. 일 실시예에 따른 표시 패널(DP)은 발광형 표시 패널일 수 있으나, 이에 특별히 제한되지 않는다. 예컨대, 표시 패널(DP)은 유기 발광 표시 패널, 무기 발광 표시 패널 또는 퀀텀닷(quantum dot) 발광 표시 패널일 수 있다. 유기 발광 표시 패널의 발광층은 유기 발광 물질을 포함할 수 있고, 무기 발광 표시 패널의 발광층은 무기 발광 물질을 포함할 수 있다. 퀀텀닷 발광 표시 패널의 발광층은 퀀텀닷 및 퀀텀로드 등을 포함할 수 있다. 이하, 표시 패널(DP)은 유기 발광 표시 패널로 설명된다.
전자 장치(ED)가 제공하는 영상(IM)은 표시 패널(DP)의 전면(IS)에 표시될 수 있다. 표시 패널(DP)의 전면(IS)은 표시 영역(DA) 및 비표시 영역(NDA)을 포함할 수 있다. 표시 영역(DA)은 전기적 신호에 따라 활성화되며 영상(IM)을 표시하는 영역일 수 있다. 일 실시예에 따르면, 표시 패널(DP)의 표시 영역(DA)은 윈도우(WM)의 투과영역(TA)에 대응될 수 있다.
한편, 본 명세서에서 "영역/부분과 영역/부분이 대응한다"는 것은 "서로 중첩한다"는 것을 의미하고 동일한 면적 및/또는 동일한 형상을 갖는 것으로 제한되지 않는다.
비표시 영역(NDA)은 표시 영역(DA)의 외측에 인접할 수 있다. 예를 들어, 비표시 영역(NDA)은 표시 영역(DA)을 에워쌀 수 있다. 그러나 이에 한정되지 않고, 비표시 영역(NDA)은 다양한 형상으로 정의될 수 있다.
비표시 영역(NDA)은 표시 영역(DA)에 배치된 소자들을 구동하기 위한 구동 회로나 구동 배선, 전기적 신호를 제공하는 각종 신호 라인들, 패드들 등이 배치되는 영역일 수 있다. 표시 패널(DP)의 비표시 영역(NDA)은 윈도우(WM)의 베젤 영역(BZA)에 대응될 수 있다. 비표시 영역(NDA)에 배치된 표시 패널(DP)의 구성들은 베젤 영역(BZA)에 의해 외부에 시인되는 것이 방지될 수 있다.
전자 장치(ED)는 표시 패널(DP)에 접속된 회로 기판(MB)을 포함할 수 있다. 회로 기판(MB)은 제1 방향(DR1)으로 연장된 표시 패널(DP)의 일 단에 연결될 수 있다. 회로 기판(MB)은 표시 패널(DP)에 제공되는 전기적 신호를 생성할 수 있다. 예를 들어, 회로 기판(MB)은 외부로부터 수신된 제어 신호들에 응답하여 표시 패널(DP)의 구동부에 제공되는 신호를 생성하는 타이밍 컨트롤러를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 예로, 표시 패널(DP)의 비표시 영역(NDA)의 적어도 일부는 벤딩될 수 있다. 회로 기판(MB)이 연결된 표시 패널(DP)의 일 부분은 회로 기판(MB)이 표시 패널(DP)의 배면을 향하도록 벤딩될 수 있다. 회로 기판(MB)은 평면 상에서 표시 패널(DP)의 배면에 중첩하도록 배치되어 조립될 수 있다. 그러나 이에 한정되지 않고, 표시 패널(DP)과 회로 기판(MB)은 표시 패널(DP) 및 회로 기판(MB)의 일 단들에 각각 연결되는 연성 회로 기판을 통해 연결될 수 있다.
케이스(EDC)는 표시 패널(DP) 아래 배치되어, 표시 패널(DP)을 수용할 수 있다. 케이스(EDC)는 상대적으로 높은 강성을 갖는 유리, 플라스틱 또는 금속 물질을 포함할 수 있다. 케이스(EDC)는 외부로부터 가해지는 충격을 흡수하거나, 표시 패널(DP)로 침투하는 이물질/수분 등을 방지하여 표시 패널(DP)을 보호할 수 있다.
한편, 일 실시예에 따른 전자 장치(ED)는 표시 패널(DP) 상에 배치되고, 외부에서 인가되는 외부 입력을 감지하는 입력 감지층을 더 포함할 수 있다. 입력 감지층은 외부에서 제공되는 힘, 압력, 온도, 광 등과 같은 다양한 형태의 외부 입력을 감지할 수 있다. 예를 들어, 입력 감지층은 전자 장치(ED)의 외부에서 제공되는 사용자의 신체나 펜에 의한 접촉 또는 전자 장치(ED)에 근접하게 인가되는 입력(예를 들어, 호버링) 등을 감지할 수 있다.
또한, 전자 장치(ED)는 표시 패널(DP)을 동작시키기 위한 다양한 기능성 모듈들을 포함하는 전자 모듈, 전자 장치(ED)에 필요한 전원을 공급하는 전원 공급 모듈을 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 전자 장치(ED)는 전자 모듈의 일 예로 카메라 모듈을 포함할 수 있다.
도 9a는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 패널을 나타낸 평면도이다. 도 9b는 도 9a의 Ⅲ-Ⅲ' 선에 대응하여 절단한 표시 패널의 단면도이다. 도 9a 및 도 9b에서 도시된 표시 패널(DP)는 복수의 발광 영역들(PXA-R, PXA-G, PXA-B)을 포함할 수 있다. 표시 패널(DP)는 서로 구분되는 제1 발광 영역(PXA-R), 제2 발광 영역(PXA-G), 및 제3 발광 영역(PXA-B)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1 발광 영역(PXA-R)은 적색광을 방출하는 적색 발광 영역이고, 제2 발광 영역(PXA-G)은 녹색광을 방출하는 녹색 발광 영역이며, 제3 발광 영역(PXA-B)은 청색광을 방출하는 청색 발광 영역일 수 있다. 제1 내지 제3 발광 영역들(PXA-R, PXA-G, PXA-B)은 제1 방향(DR1)과 제2 방향(DR2)이 정의하는 평면 상에서 볼 때 서로 중첩하지 않고 구분되며, 이웃하는 발광 영역들(PXA-R, PXA-G, PXA-B) 사이에는 비발광 영역(NPXA)이 배치될 수 있다.
도 9a 및 도 9b에 도시된 표시 패널(DP)의 일 실시예는 후술하는 일 실시예의 마스크를 이용하여 제조된 적어도 하나의 공통층을 포함할 수 있다. 예를 들어, 도 9a 및 도 9b에 도시된 표시 패널(DP)에 포함된 기능층들 중 복수의 발광 영역들(PXA-R, PXA-G, PXA-B) 전체와 중첩하도록 제공되는 공통층(CML, 도 11e 참조)은 후술하는 일 실시예의 마스크를 이용하여 제공될 수 있다.
도 9a에서 도시된 표시 패널(DP)에서는 발광 영역들(PXA-R, PXA-G, PXA-B)이 스트라이프 형태로 배열된 것을 도시하였다. 즉, 도 9a에 도시된 표시 패널(DP)에서 복수 개의 제1 발광 영역들(PXA-R), 복수 개의 제2 발광 영역들(PXA-G), 및 복수 개의 제3 발광 영역들(PXA-B)이 각각 제2 방향(DR2)을 따라 정렬될 수 있다. 또한, 제1 방향(DR1)을 따라 제1 발광 영역(PXA-R), 제2 발광 영역(PXA-G), 및 제3 발광 영역(PXA-B)의 순서로 번갈아 가며 배열될 수 있다.
한편, 발광 영역들(PXA-R, PXA-G, PXA-B)의 배열 형태는 도 9a에 도시된 것에 한정되지 않으며, 제1 발광 영역(PXA-R), 제2 발광 영역(PXA-G), 및 제3 발광 영역(PXA-B)이 배열되는 순서는 표시 패널(DP)에서 요구되는 표시 품질의 특성에 따라 다양하게 조합되어 제공될 수 있다. 예를 들어, 발광 영역들(PXA-R, PXA-G, PXA-B)의 배열 형태는 펜타일(PENTILE®배열 형태이거나, 다이아몬드 배열 형태를 가질 수 있다. 또한, 발광 영역들(PXA-R, PXA-G, PXA-B)의 배열 형태는 발광 영역들(PXA-R, PXA-G, PXA-B)의 면적, 평면 상의 형상 표시 패널(DP)에서 요구되는 표시 품질의 특성에 따라 다양하게 조정되거나 변형되어 제공될 수 있다.
이러한 다양한 형태의 배열을 갖는 발광 영역들(PXA-R, PXA-G, PXA-B) 및 발광 영역들(PXA-R, PXA-G, PXA-B) 사이에 배치된 비발광 영역(NPXA) 전체에 중첩하도록 공통적으로 제공되는 공통층은 후술하는 일 실시예의 마스크를 이용하여 제조될 수 있다.
도 9b를 참조하면, 표시 패널(DP)은 베이스층(BS), 베이스층(BS) 상에 제공된 회로층(DP-CL), 표시 소자층(DP-ED) 및 표시 소자층(DP-ED) 상에 배치된 봉지층(TFE)을 포함할 수 있다. 표시 소자층(DP-ED)은 도시하지 않았지만, 제1, 2 및 3 발광 소자를 포함할 수 있다. 그러나 도 9b에서는 제2 발광 소자(ED-G, 이하 발광 소자라 칭한다)를 대표적으로 도시하였다. 도 9b에서는 반복적으로 배열되는 복수의 제2 발광 소자(ED-G) 중 제 2 방향(DR2) 상 양 끝단에 위치하는 2개의 제2 발광 소자(ED-G)만을 도시하였다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표시 패널(DP)은 표시 소자층(DP-ED)에 유기 전계 발광 소자를 포함하는 유기 전계 발광(Organic Electroluminescence) 표시 패널일 수 있다. 즉, 후술하는 일 실시예에 따른 마스크는 유기 전계 발광(Organic Electroluminescence) 표시 패널(DP)의 표시 소자층(DP-ED)의 공통층(CML) 중 일부를 형성할 때 사용될 수 있다.
일 실시예에서 회로층(DP-CL)은 베이스층(BS) 상에 배치되고, 회로층(DP-CL)은 복수의 트랜지스터들(미도시)을 포함할 수 있다. 트랜지스터들(미도시)은 각각 제어 전극, 입력 전극, 및 출력 전극을 포함할 수 있다. 또한, 회로층(DP-CL)은 복수의 절연층들을 포함할 수 있다.
봉지층(TFE)은 발광 소자들(ED-G)을 커버할 수 있다. 봉지층(TFE)은 표시 소자층(DP-ED)을 밀봉할 수 있다. 봉지층(TFE)은 박막 봉지층일 수 있다.
발광 소자들(ED-G) 각각은 제1 전극(EL1), 정공 수송층(HTL), 발광층(EML-G), 전자 수송층(ETL), 및 제2 전극(EL2)을 포함할 수 있다. 도 9b에서는 화소 정의막(PDL)에 정의된 개구 영역(OH) 내에 발광 소자들(ED-G)의 발광층(EML-G)이 배치되며, 정공 수송층(HTL), 전자 수송층(ETL) 및 제2 전극(EL2)은 발광 소자들(ED-G) 전체에서 공통층(CML)으로 제공될 수 있다. 표시 패널(DP)의 발광 소자들(ED-G)에서 공통층(CML)으로 제공되는 정공 수송층(HTL), 전자 수송층(ETL) 및 제2 전극(EL2) 중 적어도 하나는 후술하는 일 실시예의 마스크(MS, 도 11d 참조)를 이용하여 제공될 수 있다.
한편, 회로층(DP-CL)에 포함된 절연층들, 또는 발광 소자들(ED-G) 상에 배치된 봉지층(TFE) 중 일부도 오픈 마스크(Open mask)로 지칭될 수 있는 후술하는 일 실시예의 마스크(MS, 도 11d 참조)를 이용하여 제공될 수 있다.
표시 패널(DP)은 표시 영역(DA) 및 비표시 영역(NDA)을 포함할 수 있다. 비표시 영역(NDA)은 공통층(CML)의 제1 단부(B1)가 위치하는 제1 단부 영역(BA1) 및 공통층(CML)의 제2 단부(B2)가 위치하는 제2 단부 영역(BA2)을 포함할 수 있다. 제1 단부 영역(BA1)은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크(MS)의 제1 영역(A1, 도 11d 참조)에 대응하는 부분을 포함할 수 있고, 제2 단부(BA2)는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크(MS)의 제2 영역(A2, 도 11d 참조)에 대응하는 부분을 포함할 수 있다.
제1 단부(B1) 및 제2 단부(B2)는 표시 영역(DA)에 형성되는 공통층(CML)처럼 증착과정을 거쳐 형성될 수 있다. 제1 단부(BA1)는 증착 물질이 돌출부(PF, 도 2c 참조)에 의해 블로킹(Blocking)되어 형성된 제1 섀도우 영역(SDA1, 도 2c 참조)에 대응할 수 있고, 제2 단부(BA2)는 증착 물질이 경사면(IS, 도 2c 참조)에 의해 블로킹(Blocking)되어 형성된 제2 섀도우 영역(SDA2, 도 2c 참조)에 대응할 수 있다. 제1 단부(B1)는 돌출부(PF, 도 2c 참조)에 의해 블로킹(Blocking)되어 증착되는 물질이 적어지기에 제1 단부(B1)의 끝단으로 갈수록 두께가 점차적으로 얇아지는 층 구조를 가질 수 있다. 제2 단부(B2)는 사면(IS, 도 2c 참조)에 의해 블로킹(Blocking)되어 증착되는 물질이 적어지기에 제2 단부(B2)의 끝단으로 갈수록 두께가 점차적으로 얇아지는 층 구조를 가질 수 있다. 제1 단부(B1)의 단면 구조(즉, 제1 단면 구조)는 제2 단부(B2)의 단면 구조(즉, 제2 단면 구조)는 제1 단부(B1)의 단면 구조와 상이할 수 있다. 구체적으로, 제2 단면 구조는 제1 단면 구조보다 경사가 더 급하고 제1 방향(DR1) 상 폭이 더 짧게 형성될 수 있다.
제1 및 제2 단부 영역(BA1, BA2)은 발광 소자(ED-G)가 충분하게 증착되지 않은 데드 스페이스를 형성할 수 있다. 제2 단부 영역(BA2)은 제1 단부 영역(BA1)에 비하여 작은 크기로 형성되므로, 제2 단부 영역(BA2)에서의 데드 스페이스가 감소될 수 있고, 그 결과 제2 단부 영역(BA2)에서 공정 마진을 확보하기 위해 비표시 영역(NDA)의 폭이 불필요하게 증가되는 것을 방지할 수 있다.
도 10은 일 실시예에 따른 표시 패널의 평면도이다. 도 10을 참조하면, 표시 패널(DP)은 복수의 화소들(PX), 화소들(PX)에 전기적으로 연결된 복수의 신호 라인들, 주사 구동부(SDV)(scan driver), 데이터 구동부(DDV)(data driver) 및 발광 구동부(EDV) (emission driver)를 포함할 수 있다.
화소들(PX)은 표시 영역(DA)에 배치될 수 있다. 화소들(PX) 각각은 화소(PX)에 인가되는 전기적 신호에 대응하여 광을 발광할 수 있다.
주사 구동부(SDV), 데이터 구동부(DDV) 및 발광 구동부(EDV) 각각은 표시 패널(DP)의 비표시 영역(NDA)에 배치될 수 있다. 주사 구동부(SDV) 및 발광 구동부(EDV)는 각각 표시 패널(DP)의 장변들에 인접하는 비표시 영역(NDA)에 배치될 수 있다.
데이터 구동부(DDV)는 표시 패널(DP)의 단변에 인접하는 비표시 영역(NDA)에 배치될 수 있다. 데이터 구동부(DDV)는 구동칩으로 정의되는 집적 회로(즉, 칩) 형태로 제공되어, 표시 패널(DP)의 비표시 영역(NDA)에 실장될 수 있다. 그러나 이에 한정되지 않고, 데이터 구동부(DDV)는 표시 패널(DP)에 연결되는 별도의 연성 회로 기판에 실장되어 표시 패널(DP)에 전기적으로 연결될 수도 있다.
복수의 신호 라인들은 주사 라인들(SL), 데이터 라인들(DL), 발광 라인들(EL), 제1 및 제2 제어 라인들(CSL1, CSL2), 연결 라인들(DCL) 및 전원 라인(미도시)을 포함할 수 있다. 화소들(PX) 각각은 주사 라인들(SL) 중 대응하는 주사 라인 및 데이터 라인들(DL) 중 대응하는 데이터 라인에 연결될 수 있다. 한편, 이에 한정되지 않고, 화소들(PX)의 화소 구동 회로의 구성에 따라 더 많은 종류의 신호 라인이 표시 패널(DP)에 구비될 수 있다.
도 10은 주사 라인들(SL) 중 하나의 주사 라인(SL)과 발광 라인들(EL) 중 하나의 발광 라인(EL)을 예시적으로 도시하였다. 주사 라인(SL)은 제1 방향(DR1)으로 연장되어 주사 구동부(SDV)에 연결될 수 있다. 주사 라인(SL)은 복수로 제공되어, 제2 방향(DR2)을 따라 배열될 수 있다. 발광 라인(EL)은 제1 방향(DR1)으로 연장되어 발광 구동부(EDV)에 연결될 수 있다. 발광 라인(EL)은 복수로 제공되어, 제2 방향(DR2)을 따라 배열될 수 있다. 별도로 도시하지 않았지만, 전원 라인은 비표시 영역(NDA)에 배치되어 도전 라인을 통해 화소들(PX)에 연결될 수 있다. 전원 라인은 화소들(PX)에 기준 전압을 제공할 수 있다.
데이터 라인들(DL)은 제2 방향(DR2)으로 연장되어 데이터 제1 방향(DR1)을 따라 배열될 수 있다. 데이터 라인들(DL)은 제1 그룹(G1), 제2 그룹(G2) 및 제3 그룹(G3)으로 구분될 수 있다.
표시 패널(DP)은 표시 영역(DA)에 배치된 복수의 연결 패턴들(CP1, CP-2, CP2n-1, CP2n)을 포함할 수 있다. 제1 그룹(G1)의 데이터 라인들(DL1, DL2, DL4n+m-1, DL4n+m) 각각은 복수의 연결 패턴들(CP1, CP2, CP2n-1, CP2n) 중 대응하는 연결 패턴에 연결될 수 있다. 제2 그룹(G2)의 데이터 라인들(DLn+1, DLn+2, DL3n+m-1, DL3n+m)은 평면 상에서 복수의 연결 패턴들(CP1, CP2, CP2n-1, CP2n) 중 적어도 하나와 중첩할 수 있다. 제3 그룹(G3)의 데이터 라인들(DL2n+1, DL2n+m)은 평면 상에서 복수의 연결 패턴들(CP1, CP2, CP2n-1, CP2n)에 비중첩할 수 있다. 여기서, n은 자연수이고, m은 0 또는 자연수 일 수 있다.
제1 그룹(G1)의 데이터 라인들(DL1, DL2, DL4n+m-1, DL4n+m)은 제2 방향(DR2)으로 연장된 표시 영역(DA)의 외측 경계들에 인접하게 배치될 수 있다. 제1 그룹(G1)의 데이터 라인들(DL1, DL2, DL4n+m-1, DL4n+m) 중 일부의 데이터 라인들(DL1, DL2)은 표시 영역(DA)의 좌측 경계로부터 표시 영역(DA)의 중심부를 향하는 제1 방향(DR1)을 따라 배열될 수 있다. 예를 들어, 좌측에 배열된 제1 그룹(G1)의 데이터 라인들(DL1, DL2)은 n개의 열로 배열될 수 있다. 도 10는 예시적으로 첫 번째 열 및 두 번째 열로 배열된 제1 그룹(G1)의 데이터 라인들(DL1, DL2)을 도시하였다.
제2 그룹(G2)의 데이터 라인들(DLn+1, DLn+2, DL3n+m-1, DL3n+m)은 제1 그룹(G1)의 데이터 라인들(DL1, DL2, DL4n+m-1, DL4n+m) 중 표시 영역(DA)의 중심부에 가장 인접하게 배치된 데이터 라인으로부터 표시 영역(DA)의 중심부를 향하는 제1 방향(DR1)을 따라 배열될 수 있다. 표시 영역(DA)의 좌측에 인접하게 배치된 제2 그룹(G2)의 데이터 라인들(DLn+1, DLn+2)은 제1 그룹(G1)의 n번째 열의 데이터 라인으로부터 제1 방향(DR1)을 따라 배열될 수 있다. 따라서, 좌측에 배치된 제1 그룹(G1)의 데이터 라인들(DL1, DL2)에 가장 인접하게 배열된 제2 그룹(G2)이 데이터 라인은 n+1번째 열의 데이터 라인일 수 있다. 좌측에 배치된 제2 그룹(G2)의 데이터 라인들(DLn+1, DLn+2)은 n+1번째 열부터 2n번째 열까지 배열된 데이터 라인들을 포함할 수 있고, 도 10은 예시적으로 n+1번째 열 및 n+2번째 열로 배열된 제2 그룹(G2)의 데이터 라인들(DLn+1, DLn+2)을 도시하였다.
제3 그룹(G3)의 데이터 라인들(DL2n+1, DL2n+m)은 표시 영역(DA)의 중심부에 대응되는 영역에 배치될 수 있다. 제3 그룹(G3)의 데이터 라인들(DL2n+1, DL2n+m)은 좌측 및 우측에 배치된 제2 그룹(G2)의 데이터 라인들(DLn+1, DLn+2, DL3n+m-1, DL3n+m) 사이에 배치되며, 제1 방향(DR1)을 따라 배열될 수 있다. 제3 그룹(G3)의 데이터 라인들(DL2n+1, DL2n+m) 중 가장 좌측에 배치된 데이터 라인(DL2n+1)은 제2 그룹(G2)에 포함된 2n번째 열의 데이터 라인과 제1 방향(DR1)으로 인접하게 배치된 2n+1번째 열의 데이터 라인(DL2n+1)일 수 있다. 제3 그룹(G3)의 데이터 라인들(DL2n+1, DL2n+m)은 m개의 열로 배열될 수 있다.
제3 그룹(G3)의 데이터 라인들(DL2n+1, DL2n+m)은 표시 영역(DA)의 중심부에 대응되는 영역에 배치될 수 있다. 제3 그룹(G3)의 데이터 라인들(DL2n+1, DL2n+m)은 좌측 및 우측에 배치된 제2 그룹(G2)의 데이터 라인들(DLn+1, DLn+2, DL3n+m-1, DL3n+m) 사이에 배치되며, 제1 방향(DR1)을 따라 배열될 수 있다. 제3 그룹(G3)의 데이터 라인들(DL2n+1, DL2n+m) 중 가장 좌측에 배치된 데이터 라인(DL2n+1)은 제2 그룹(G2)에 포함된 2n번째 열의 데이터 라인과 제1 방향(DR1)으로 인접하게 배치된 2n+1번째 열의 데이터 라인(DL2n+1)일 수 있다. 제3 그룹(G3)의 데이터 라인들(DL2n+1, DL2n+m)은 m개의 열로 배열될 수 있다.
표시 영역(DA)의 우측에 배치된 제2 그룹(G2)의 데이터 라인들(DL3n+m-1, DL3n+m)은 제3 그룹(G3)의 데이터 라인들(DL2n+1, DL2n+m) 중 가장 우측에 배치된 데이터 라인(DL2n+m)으로부터 제1 방향(DR1)을 따라 배열될 수 있다. 우측에 배치된 제2 그룹(G2)의 데이터 라인들(DL3n+m-1, DL3n+m) 중 제3 그룹(G3)의 데이터 라인들(DL2n+1, DL2n+m)에 가장 인접하게 배치된 데이터 라인은 2n+m+1번째 열의 데이터 라인일 수 있다. 우측에 배치된 제2 그룹(G2)의 데이터 라인들(DL3n+m-1, DL3n+m)은 은 2n+m+1번째 열부터 3n+m번째 열까지 배열된 데이터 라인들을 포함할 수 있고, 도 10은 우측에 배치된 제2 그룹(G2)의 데이터 라인들 중 예시적으로 3n+m-1번째 열 및 3n+m번째 열로 배열된 데이터 라인들(DL3n+m-1, DL3n+m)을 도시하였다.
표시 영역(DA)의 우측에 배치된 제1 그룹(G1)의 데이터 라인들(DL4n+m-1, DL4n+m)은 표시 영역(DA)의 우측에 배치된 제2 그룹(G2)의 데이터 라인들(DL3n+m-1, DL3n+m) 중 가장 우측에 배치된 3n+m번째 열의 데이터 라인으로부터 제1 방향(DR1)을 따라 배열될 수 있다. 우측에 배치된 제1 그룹(G1)의 데이터 라인들(DL4n+m-1, DL4n+m) 중 제2 그룹(G2)의 데이터 라인에 가장 인접하게 배치된 데이터 라인은 3n+m+1번째 열의 데이터 라인일 수 있다. 우측에 배치된 제1 그룹(G1)의 데이터 라인들(DL4n+m-1, DL4n+m)은 3n+m+1번째 열부터 4n+m번째 열까지 배열된 데이터 라인들을 포함할 수 있고, 도 10은 우측에 배치된 제1 그룹(G1)의 데이터 라인들 중 예시적으로 4n+m-1번째 열 및 4n+m번째 열로 배열된 데이터 라인들(DL4n+m-1, DL4n+m)을 도시하였다.
표시 영역(DA)의 좌측에 배치된 제1 그룹(G1) 및 제2 그룹(G2)의 데이터 라인들은 표시 영역(DA)의 우측에 배치된 제1 그룹(G1) 및 제2 그룹(G2)의 데이터 라인들과 제3 그룹(G3)의 데이터 라인들을 사이에 두고 대칭 형태로 배열될 수 있다. 일 실시예에서, 제1 그룹(G1)의 데이터 라인들(DL1, DL2, DL4n+m-1, DL4n+m)의 수와 제2 그룹(G2)의 데이터 라인들(DLn+1, DLn+2, DL3n+m-1, DL3n+m)의 수는 서로 동일할 수 있다. 본 명세서에서는 각각이 2n개의 열로 배열된 데이터 라인들을 포함하는 제1 그룹(G1) 및 제2 그룹(G2)을 기준으로 설명하였다. 그러나 각 그룹들에 포함되는 데이터 라인들의 수는 이에 한정되지 않고 다르게 설계될 수 있다.
한편, 일 실시예에서 제3 그룹(G3)의 데이터 라인들(DL2n+1, DL2n+m)은 생략될 수 있다. 제3 그룹(G3)의 데이터 라인들(DL2n+1, DL2n+m)이 생략되는 경우는 m이 0인 것에 대응될 수 있다. 이 경우, 데이터 라인들(DL)은 제1 그룹(G1) 및 제2 그룹(G2)으로 구분될 수 있다. 따라서 일 실시예에서, 제1 그룹(G1)의 데이터 라인들은 표시 영역(DA)의 좌측 및 우측 경계로부터 표시 영역(DA)의 중심부를 향하는 방향을 따라 배열되며, 표시 영역(DA)의 좌측에 배치된 제1 그룹(G1)의 데이터 라인들과 표시 영역(DA)의 우측에 배치된 제1 그룹(G1)의 데이터 라인들은 제2 그룹(G2)의 데이터 라인들을 사이에 두고 이격될 수 있다.
연결 라인들(DCL)은 비표시 영역(NDA)에 배치되며 제2 방향(DR2)을 따라 연장될 수 있다. 연결 라인들(DCL)은 데이트 구동부(DDV)와 표시 영역(DA) 사이의 영역에 배치될 수 있다. 연결 라인들(DCL)의 일 단은 비표시 영역(NDA)을 경유하여 데이터 구동부(DDV)에 연결될 수 있다. 연결 라인들(DCL)은 각각 데이터 라인들(DL) 중 대응하는 데이터 라인(DL)을 데이터 구동부(DDV)에 전기적으로 연결시킬 수 있다.
제1 그룹(G1)의 데이터 라인들(DL1, DL2, DL4n+m-1, DL4n+m)은 데이터 라인들 각각에 대응하여 연결된 연결 패턴(CP1, CP2, CP2n-1, CP2n)을 경유하여 연결 라인들(DCL)에 전기적으로 연결될 수 있다. 제2 그룹(G2)의 데이터 라인들(DLn+1, DLn+2, DL3n+m-1, DL3n+m) 및 제3 그룹(G3)의 데이터 라인들(DL2n+1, DL2n+m) 각각은 연결 라인들(DCL) 중 대응하는 연결 라인(DCL)에 직접적으로 연결될 수 있다.
복수의 연결 패턴들(CP1, CP2, CP2n-1, CP2n) 각각은 대응하여 연결된 제1 그룹(G1)의 데이터 라인들(DL1, DL2, DL4n+m-1, DL4n+m)을 연결 라인들(DCL) 및 데이터 구동부(DDV)에 전기적으로 연결시킬 수 있다. 복수의 연결 패턴들(CP1, CP2, CP2n-1, CP2n)이 표시 영역(DA)을 경유하여 배치됨으로써, 표시 영역(DA)의 좌측 및 우측 경계에 인접하게 배치된 제1 그룹(G1)의 데이터 라인들(DL1, DL2, DL4n+m-1, DL4n+m)을 데이터 구동부(DDV)에 연결시키기 위해 요구되는 배선 배치 영역의 면적은 감소될 수 있다. 즉, 복수의 연결 패턴들(CP1, CP2, CP2n-1, CP2n) 각각은 제1 방향(DR1)을 따라 연장되는 제1 라인 및 제2 방향(DR2)을 따라 연장되는 제2 라인을 포함할 수 있다. 제1 라인들(L1-1~L1-2n)과 데이터 라인들(DL1~DL4n+m)은 각각 표시 영역(DA) 상에서 연결될 수 있다. 제1 라인들(L1-1~L1-2n)과 데이터 라인들(DL1~DL4n+m)이 각각 연결되는 지점들을 컨택부(CT1~CT2n)들로 정의할 수 있고, 컨택부(CT1~CT2n)들은 표시 영역(DA) 상에 배치될 수 있다. 컨택부(CT1~CT2n)들이 표시 영역(DA) 상에 배치됨에 따라 표시 영역(DA)과 데이터 구동부(DDV) 사이의 영역에 대응되는 하부의 비표시 영역(NDA)의 면적이 감소될 수 있고, 이에 따라, 표시 패널(DP)의 데드 스페이스의 면적이 감소될 수 있다.
패드들(PD)은 비표시 영역(NDA)의 하단에 인접하게 배치되고, 제1 방향(DR1)을 따라 배열될 수 있다. 패드들(PD)은 데이터 구동부(DDV) 보다 표시 패널(DP)의 하단에 더 인접하게 배치될 수 있다. 패드들(PD)은 회로 기판(MB, 도 8b 참조)에 연결되는 부분일 수 있다. 패드들(PD)은 각각 데이터 라인들(DL), 제1 제어 라인(CSL1) 및 제2 제어 라인(CSL2)에 전기적으로 연결될 수 있다. 별도로 도시하지 않았지만, 표시 패널(DP)의 전원 라인은 패드들(PD) 중 대응하는 패드(PD)에 전기적으로 연결될 수 있다.
제1 제어 라인(CSL1)은 주사 구동부(SDV)에 연결될 수 있다. 제2 제어 라인(CSL2)은 발광 구동부(EDV)에 연결될 수 있다.
주사 구동부(SDV)는 주사 제어 신호에 응답하여 복수의 주사 신호들을 생성할 수 있다. 주사 신호들은 주사 라인들(SL)을 통해 화소들(PX)에 인가될 수 있다. 데이터 구동부(DDV)는 데이터 제어 신호에 응답하여 영상 신호들에 대응하는 복수의 데이터 전압들을 생성할 수 있다. 데이터 전압들은 데이터 라인들(DL)을 통해 화소들(PX)에 인가될 수 있다. 발광 구동부(EDV)는 발광 제어 신호에 응답하여 복수의 발광 신호들을 생성할 수 있다. 발광 신호들은 발광 라인들(EL)을 통해 화소들(PX)에 인가될 수 있다.
화소들(PX)은 주사 신호들에 응답하여 데이터 전압들을 제공받을 수 있다. 화소들(PX)은 발광 신호들에 응답하여 데이터 전압들에 대응하는 휘도의 광을 발광함으로써 영상을 표시할 수 있다. 화소들(PX)의 발광 시간은 발광 신호들에 의해 제어될 수 있다. 따라서, 표시 패널(DP)은 화소들(PX)에 의해 표시 영역(DA)을 통해 영상을 출력할 수 있다.
도 11a 내지 도 11e는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 패널의 제조 과정을 나타낸 공정도들이다.
도 11a 및 도 11b를 참조하면, 베이스층(BL) 상에 배치된 회로층(DP_CL)이 형성될 수 있다. 회로층(DP_CL)은 도시되지 않았으나 화소 구동 회로들 및 센서 구동 회로를 포함할 수 있다. 회로층(DP_CL) 상에는 소자층(DP_ED, 도 9b 참조)이 형성될 수 있다.
도 11c는 소자층(DP_ED, 도 9b 참조)에 포함된 제1 전극(EL1), 화소 정의막(PDL), 정공 수송층(HTL) 및 발광층(EML-G)을 형성하는 단계를 도시하였다. 회로층(DP_CL) 상에 제1 전극(EL1)을 형성하고, 화소 정의막(PDL)을 형성한다. 화소 정의막(PDL)을 형성하는 단계는 도시되지 않았으나, 예비 절연층을 형성하고 포토리소그라피 공정 등을 통해 패터닝하는 단계를 포함할 수 있다. 예비 절연층은 유기 절연 물질을 포함할 수 있다. 그 이후에 정공 수송층(HTL) 및 발광층(EML-G)을 형성될 수 있다. 정공 수송층(HTL)은 발광 영역(PXA, 도 9a 참조)과 비발광 영역(NPXA, 도 9a 참조)에 공통으로 배치될 수 있다. 발광층(EML-G)은 개구 영역(OH)에 대응하도록 패턴 형태로 제공될 수 있다. 막 형태의 정공 수송층(HTL) 대비 발광층(EML-G)은 다른 방식으로 증착될 수 있다. 정공 수송층(HTL)은 오픈 마스크(즉, 도 1에 도시된 마스크)를 이용하여 복수 개의 화소(PX, 도 10 참조)들에 공통으로 형성될 수 있다. 발광층(EML-G)은 픽셀 단위의 마스크를 이용하여 개구 영역(OH)에 대응하도록 패턴 형태로 형성될 수 있다.
도 11d 및 11e를 참조하면, 발광층(EML-G) 및 정공 수송층(HTL) 상에 공통층(CML)을 형성할 수 있다. 공통층(CML)은 전자 수송층(ETL) 및 제2 전극(EL2)을 포함할 수 있다. 하지만 이에 한정되지 않고, 공통층(CML)은 정공 수송층(HTL)을 포함할 수 있다. 도시하지 않았지만, 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크(MS)를 사용하여 증착 과정을 거쳐 공통층(CML)을 형성할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 마스크(MS)는 개구부(OP)가 정의된 베이스 시트(MS-BS) 및 돌출부(PF)를 포함할 수 있다. 베이스 시트(MS-BS)는 대상 기판(SUB)이 안착되는 제1 면(MS-US), 제1 면(MS-US)과 서로 마주하는 제2 면(MS-DS) 및 개구부(OP) 방향으로 형성된 내측면(BIS)을 포함하고, 내측면(BIS)에 의해 개구부(OP)가 정의된다. 돌출부(PF)는 내측면(BIS)의 전체 영역에 형성되는 것이 아니고, 베이스 시트(MS-BS)의 내측면(BIS)의 일부 영역에 형성될 수 있다. 돌출부(PF)가 형성된 영역은 제1 영역(A1)으로 정의되고, 돌출부(PF)가 형성되지 않은 영역은 제2 영역(A2)으로 정의된다.
공통층(CML)은 마스크(MS)의 증착 공정을 통해 형성될 수 있다. 공통층(CML)은 마스크(MSK)의 오픈 영역(MC)에 대응되어 형성될 수 있다. 보다 구체적으로는 마스크(MSK)의 오픈 영역(MC)에 대응되는 영역 외에도, 증착 물질이 충분하게 증착되지 않은 섀도우 영역(SDA, 도 2c 참조)이 형성될 수 있다. 증착 패턴(ECP)의 섀도우 영역(SDA)이 넓게 형성될 경우, 증착 영역 외(예를 들어, 데드 스페이스 등의 표시 패널에 포함되는 패드부)에 섀도우 영역(SDA)이 형성되어 표시 패널에 불량이 발생할 수 있다.
공통층(CML)은 제1 단부(B1) 및 제2 단부(B2)를 포함할 수 있다. 제1 단부(B1)는 돌출부(PF)가 형성된 영역은 제1 영역(A1)에 대응하여 형성되고, 제2 단부(B2) 돌출부(PF)가 형성되지 않은 영역은 제2 영역(A2)에 의해 형성될 수 있다.
제1 단부(B1)는 돌출부(PF)가 형성된 제1 영역(A1)에 의해 증착 공정이 이루어지기에 제1 섀도우 영역(SDA1, 도 2c 참조)이 넓게 형성될 수 있다. 따라서, 넓은 데드 스페이스를 형성할 수 있다. 하지만 앞서 설명한 바와 같이, 단차면(STS)에 대응되는 표시 패널(DP)에 포함되는 회로부 등에 찍힘 현상을 방지할 수 있다.
제2 단부(B2)는 돌출부(PF)가 형성되지 않은 제2 영역(A2)에 의해 증착 공정이 이루어지기에 제2 섀도우 영역(SDA2, 도 2c 참조)이 좁게 형성될 수 있다. 따라서, 제1 단부(B1)에 비하여 데드 스페이스가 감소될 수 있다. 도 10을 참조하면, 컨택부(CT1~CT2n)들이 표시 영역(DA) 상에 배치됨에 따라 표시 영역(DA)과 데이터 구동부(DDV) 사이의 영역에 대응되는 하부의 비표시 영역(NDA)의 면적이 감소될 수 있고, 이에 따라, 표시 패널(DP)의 데드 스페이스의 면적이 감소될 수 있다. 이와 대응하여 표시 패널(DP)의 표시 영역(DA)의 제2 방향(DR)과 반대 방향에 제2 단부(B2)가 배치됨으로써 데드 스페이스가 감소된 표시 패널(DP)를 제공할 수 있다.
표시 패널(DP)은 표시 영역(DA) 및 비표시 영역(NDA)을 포함할 수 있다. 비표시 영역(NDA)은 공통층(CML)의 제1 단부(B1)가 위치하는 제1 단부 영역(BA1) 및 공통층(CML)의 제2 단부(B2)가 위치하는 제2 단부 영역(BA2)을 포함할 수 있다.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술 분야에 통상의 지식을 갖는 자라면, 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허청구범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.
MS: 마스크 S-BS: 베이스 시트
PF: 돌출부 OP: 개구부
BIS: 내측면 A1: 제1 영역
A2: 제2 영역 STS: 단차면
BS: 경계면 C1, C2, C3, C4: 제1 내지 제4 모서리부
BIS: 내측면 AS: 수직면
IS: 경사면 DP: 표시 패널
CML: 공통층 DL: 데이터 라인들
CT1~CT2n: 컨택부 B1, B2: 제1 및 제2 단부

Claims (20)

  1. 제1 단면 구조를 갖는 제1 단부 및 상기 제1 단부와 상이한 제2 단면 구조를 갖는 제2 단부를 포함하고, 복수의 발광 영역들 전체와 중첩하는 공통층을 형성하는 마스크에 있어서,
    대상 기판이 안착되는 제1 면, 상기 제1 면과 마주하는 제2 면, 및 상기 제1 면과 상기 제2 면을 관통하는 개구부를 정의하는 내측면을 포함하는 베이스 시트; 및
    상기 제1 단부와 대응하는 상기 베이스 시트의 제1 영역에서, 상기 베이스 시트의 상기 내측면으로부터 상기 개구부 측으로 연장되고, 단차면을 포함하는 적어도 하나의 돌출부를 포함하고,
    상기 단차면과 상기 대상 기판 사이의 간격은 상기 제1 면과 상기 대상 기판 사이의 간격보다 크고,
    상기 적어도 하나의 돌출부는 상기 제2 단부와 대응하는 상기 베이스 시트의 제2 영역에 제공되지 않는 마스크.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 돌출부는 상기 제2 영역과 인접하고 상기 내측면으로부터 연장된 제1 및 제2 경계면을 포함하는 마스크.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 경계면의 형상은 서로 상이한 마스크.
  4. 제2 항에 있어서,
    상기 돌출부는 복수 개로 제공되고,
    상기 돌출부에 대응되는 경계면은 복수 개로 제공되는 마스크.
  5. 제2 항에 있어서,
    상기 내측면은 제1 내지 제4 모서리부를 포함하고,
    상기 제1 및 제2 경계면 중 적어도 하나는 상기 제1 내지 제4 모서리부 중 적어도 하나에 위치하는 마스크.
  6. 제5 항에 있어서,
    상기 제1 내지 4 모서리부는 소정의 곡률을 포함하는 마스크.
  7. 제6 항에 있어서,
    상기 돌출부는 상기 제1 내지 제4 모서리부 중 적어도 하나로부터 돌출된 마스크.
  8. 제6 항에 있어서,
    상기 제1 내지 제4 모서리부 중 적어도 하나는 상기 제2 영역에 포함되는 마스크.
  9. 제2 항에 있어서,
    상기 내측면은 제1 내지 제4 내측면을 포함하고,
    상기 제1 및 상기 제3 내측면은 제1 방향과 평행하고,
    상기 제2 및 상기 제4 내측면은 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향과 평행한 마스크.
  10. 제9 항에 있어서,
    상기 제1 내측면은 상기 제3 내측면과 상기 제2 방향으로 이격되고,
    상기 돌출부는 상기 제1 내측면 또는 상기 제3 내측면으로부터 돌출된 마스크.
  11. 제10 항에 있어서,
    상기 돌출부는 인접한 상기 제2 내측면 또는 상기 제4 내측면으로부터 돌출되어 분리되지 않고 일체로 형성된 마스크.
  12. 제10 항에 있어서,
    상기 돌출부는 인접한 상기 제2 내측면의 일부 및 상기 제4 내측면의 일부로부터 돌출되어 분리되지 않고 일체로 형성된 마스크.
  13. 제9 항에 있어서,
    상기 돌출부는 복수 개로 제공되고,
    상기 제2 내측면은 상기 제4 내측면과 상기 제1 방향으로 이격되고,
    상기 돌출부는 각각 상기 제2 내측면 및 상기 제4 내측면으로부터 돌출된 마스크.
  14. 제13 항에 있어서,
    상기 돌출부는 각각 상기 제2 내측면의 일부 및 상기 제2 내측면의 일부에 대응되는 상기 제4 내측면의 일부로부터 돌출된 마스크.
  15. 제9 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 경계면 중 적어도 하나는 상기 제1 내지 제4 내측면 중 적어도 하나와 인접한 마스크.
  16. 제1 항에 있어서,
    상기 내측면은,
    상기 제2 영역에서 상면에 연결되고, 상기 상면에 수직한 수직면; 및
    상기 수직면과 하면을 연결하고, 상기 개구부와 멀어지는 방향으로 기울어진 경사면을 갖는 마스크.
  17. 제1 항에 있어서,
    상기 베이스 시트는 복수 개의 개구부를 포함하고,
    상기 복수 개의 개구부의 평면상 형상은 서로 동일한 마스크.
  18. 베이스층 상에 배치된 회로층을 형성하는 단계; 및
    상기 회로층 상에 배치되고, 복수의 발광 영역들 전체와 중첩하는 공통층을 포함하는 소자층을 형성하는 단계를 포함하고,
    상기 소자층을 형성하는 단계는,
    마스크를 사용해 상기 공통층을 형성하는 단계를 포함하고,
    상기 공통층은 제1 단면 구조를 갖는 제1 단부 및 상기 제1 단부와 상이한 제2 단면 구조를 갖는 제2 단부를 포함하고,
    상기 마스크는
    대상 기판이 안착하는 제1 면, 상기 제1 면과 마주하는 제2 면, 및 상기 제1 면과 상기 제2 면을 관통하는 개구부를 정의하는 내측면을 포함하는 베이스 시트; 및
    상기 공통층의 상기 제1 단부와 대응하는 상기 베이스 시트의 적어도 하나의 제1 영역에서, 상기 베이스 시트의 상기 내측면으로부터 상기 개구부 측으로 연장되고, 제1 면으로부터 단차를 가진 단차면을 포함하는 적어도 하나의 돌출부를 포함하고,
    상기 적어도 하나의 돌출부는 상기 공통층의 상기 제2 단부와 대응하는 상기 베이스 시트의 제2 영역에 제공되지 않는 표시 패널의 제조 방법.
  19. 제18 항에 있어서,
    상기 베이스층은 표시 영역 및 비표시 영역을 포함하고,
    상기 표시 영역에 제1 방향을 따라 배열되고, 각각이 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 연장된 복수의 데이터 라인들; 및
    상기 비표시 영역에 배치되는 데이터 구동부에 연결되는 연결 라인들과 상기 복수의 데이터 라인들을 전기적으로 연결시키는 복수의 연결 패턴들을 포함하고,
    상기 복수의 연결 패턴들은 각각이 상기 복수의 데이터 라인들 중 어느 하나에 연결되고 상기 제1 방향을 따라 연장된 제1 라인 및 상기 제1 라인에 연결되고 상기 제2 방향을 따라 연장된 제2 라인을 포함하는 표시 패널의 제조 방법.
  20. 제19 항에 있어서,
    상기 제1 라인들과 상기 데이터 라인들 사이의 컨택부들은 상기 표시 영역에 배치되는 표시 패널의 제조 방법.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006059599A (ja) * 2004-08-18 2006-03-02 Toyota Industries Corp エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
KR20150111022A (ko) * 2014-03-24 2015-10-05 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR20160129639A (ko) * 2015-04-30 2016-11-09 엘지이노텍 주식회사 증착용마스크
KR20190015591A (ko) * 2016-08-05 2019-02-13 도판 인사츠 가부시키가이샤 증착용 메탈 마스크, 증착용 메탈 마스크의 제조 방법, 및 표시 장치의 제조 방법

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006059599A (ja) * 2004-08-18 2006-03-02 Toyota Industries Corp エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
KR20150111022A (ko) * 2014-03-24 2015-10-05 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR20160129639A (ko) * 2015-04-30 2016-11-09 엘지이노텍 주식회사 증착용마스크
KR20190015591A (ko) * 2016-08-05 2019-02-13 도판 인사츠 가부시키가이샤 증착용 메탈 마스크, 증착용 메탈 마스크의 제조 방법, 및 표시 장치의 제조 방법

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