KR20190009609A - 화상 형성 장치 및 그 화상 형성 장치의 동작 방법 - Google Patents

화상 형성 장치 및 그 화상 형성 장치의 동작 방법 Download PDF

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Abstract

일 실시예에 따른 화상 형성 장치는, 정착기, 입력되는 교류 전원에 대해서, 파형수 제어(wave number control)와 위상 제어(phase control)를 수행하여 정착기에 전력을 공급하는 정착 구동 장치(fuser driver), 정착 구동 장치를 제어하기 위한 프로그램을 저장하는 메모리 및 메모리에 저장된 프로그램을 실행함으로써, 파형수 제어와 위상 제어를 번갈아가며 수행하도록 정착 구동 장치를 제어하는 프로세서를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

화상 형성 장치 및 그 화상 형성 장치의 동작 방법{AN IMAGE FORMING APPARATUS AND OPERATION METHOD THEREOF}
화상 형성 장치 및 그 화상 형성 장치의 동작 방법에 관한 것이다.
화상 형성 장치에서 인쇄 매체에 화상을 형성하는 과정은 다음과 같다. 먼저, 감광체를 노광하여 정전 잠상(electrostatic latent image)을 형성하고 토너를 공급하면, 감광체의 표면에 대전된 토너 입자가 정전 잠상의 형태에 따라 분포한다. 그 후, 감광체 표면의 토너 입자들을 인쇄 매체로 전사하고, 인쇄 매체에 전사된 토너 입자들을 가열 및/또는 가압하여 인쇄 매체에 정착시킴으로써 인쇄 매체에 화상을 형성할 수 있다.
이러한 과정을 수행하기 위하여, 화상 형성 장치는 인쇄 매체에 전사된 토너 입자들을 가열 및/또는 가압하여 정착시키는 정착기(fuser)를 포함한다. 정착기는 할로겐 램프와 같은 발열체를 이용하여 열을 발생시킬 수 있다. 인쇄 품질을 높이기 위해서 정착기는 일정한 열을 발생시켜야 하므로, 안정적인 전원 공급이 필요하다.
최근 화상 형성 장치는 성능 향상을 위하여 발열체에 높은 전력을 공급하는 경우가 많다. 이때, 발열체의 온도를 빠르게 제어할 경우, 발열체로 입력되는 공급 전력의 변화가 커지게 되며 플리커(flicker) 특성이 나빠진다는 문제가 있다.
일 실시예는 플리커 개선을 위한 화상 형성 장치 및 그 화상 형성 장치의 동작 방법을 제공한다.
일 실시예에 따른 화상 형성 장치는, 정착기, 입력되는 교류 전원에 대해서, 파형수 제어(wave number control)와 위상 제어(phase control)를 수행하여 정착기에 전력을 공급하는 정착 구동 장치(fuser driver), 정착 구동 장치를 제어하기 위한 프로그램을 저장하는 메모리 및 메모리에 저장된 프로그램을 실행함으로써, 파형수 제어와 위상 제어를 번갈아가며 수행하도록 정착 구동 장치를 제어하는 프로세서를 포함하는 것을 특징으로 한다.
일 실시예에 따른 화상 형성 장치의 동작 방법은, 교류 전원을 입력 받는 단계 및 입력되는 교류 전원에 대해서 파형수 제어와 위상 제어를 번갈아가며 수행하여 정착기에 전력을 공급하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
일 실시예에 따른 컴퓨터로 판독 가능한 비일시적 기록 매체는, 화상 형성 장치의 동작 방법을 구현하기 위한 프로그램이 기록된 것을 특징으로 한다.
도 1은 일 실시예에 따른 화상 형성 장치의 구성을 도시한 도면이다.
도 2는 일 실시예에 따른 인쇄부를 나타내는 도면이다.
도 3은 다른 일 실시예에 따른 화상 형성 장치의 구성을 도시한 도면이다.
도 4는 일 실시예에 따라 설정된 듀티에 따라 제어 방식을 결정하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 설정된 듀티에 따라 파형수 제어와 위상 제어를 수행하는 방법을 나타내는 도면이다.
도 6은 2 개의 발열체를 포함하는 정착기를 나타내는 도면이다.
도 7은 2 개의 발열체를 갖는 정착기를 포함하는 화상 형성 장치에서 듀티 테이블을 나타내는 도면이다.
도 8은 2 개의 발열체를 갖는 정착기를 포함하는 화상 형성 장치에서 설정된 듀티에 따라 파형수 제어와 위상 제어를 수행하는 방법을 나타내는 도면이다.
도 9는 일 실시예에 따른 웜업 모드에서 파형수 제어와 위상 제어를 수행하는 방법을 나타내는 도면이다.
도 10은 2 개의 발열체를 갖는 정착기를 포함하는 화상 형성 장치의 웜업 모드에서 파형수 제어와 위상 제어를 수행하는 방법을 나타내는 도면이다.
도 11은 일 실시예에 따른 화상 형성 장치의 동작 방법을 나타내는 순서도이다.
이하에서는 도면을 참조하여 다양한 실시예들을 상세히 설명한다. 이하에서 설명되는 실시예들은 여러 가지 상이한 형태로 변형되어 실시될 수도 있다. 실시예들의 특징을 보다 명확히 설명하기 위하여 이하의 실시예들이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 널리 알려져 있는 사항들에 관해서 자세한 설명은 생략한다.
한편, 본 명세서에서 어떤 구성이 다른 구성과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 '직접적으로 연결'되어 있는 경우뿐 아니라, '그 중간에 다른 구성을 사이에 두고 연결'되어 있는 경우도 포함한다. 또한, 어떤 구성이 다른 구성을 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한, 그 외 다른 구성을 제외하는 것이 아니라 다른 구성들 더 포함할 수도 있다는 것을 의미한다.
본 명세서에서 "화상 형성 작업(image forming job)"이란 화상의 형성 또는 화상 파일의 생성/저장/전송 등과 같이 화상과 관련된 다양한 작업들(e.g. 인쇄, 스캔 또는 팩스)을 의미할 수 있으며, "작업(job)"이란 화상 형성 작업을 의미할 뿐 아니라, 화상 형성 작업의 수행을 위해서 필요한 일련의 프로세스들을 모두 포함하는 의미일 수 있다.
또한, "화상 형성 장치"란 프린터(printer), 스캐너(scanner), 팩스기(fax machine), 복합기(multi-function printer, MFP) 또는 디스플레이 장치 등과 같이 화상 형성 작업을 수행할 수 있는 모든 장치들을 의미할 수 있다.
또한, "인쇄 데이터"란 프린터에서 인쇄 가능한 포맷으로 변환된 데이터를 의미할 수 있다.
또한, "스캔 파일"이란 스캐너에서 화상을 스캔하여 생성한 파일을 의미할 수 있다.
또한, "사용자"란 화상 형성 장치를 이용하여, 또는 화상 형성 장치와 유무선으로 연결된 디바이스를 이용하여 화상 형성 작업과 관련된 조작을 수행하는 사람을 의미할 수 있다. 또한, "관리자"란 화상 형성 장치의 모든 기능 및 시스템에 접근할 수 있는 권한을 갖는 사람을 의미할 수 있다. "관리자"와 "사용자"는 동일한 사람일 수도 있다.
도 1은 일 실시예에 따른 화상 형성 장치의 구성을 도시한 도면이다.
도 1을 참조하면, 일 실시예에 따른 화상 형성 장치(100)는, 입출력부(110), 프로세서(120), 통신부(130), 메모리(140) 및 화상 형성 작업부(150)를 포함할 수 있다. 또한, 도시되지는 않았으나, 화상 형성 장치(100)는 각 구성들에 전원을 공급하기 위한 전원부를 더 포함할 수도 있다.
입출력부(110)는 사용자로부터 화상 형성 작업의 수행을 위한 입력 등을 수신하기 위한 입력부와, 화상 형성 작업의 수행 결과 또는 화상 형성 장치(100)의 상태 등의 정보를 표시하기 위한 출력부를 포함할 수 있다. 예를 들어, 입출력부(110)는 사용자 입력을 수신하는 조작 패널(operation panel) 및 화면을 표시하는 디스플레이 패널(display panel) 등을 포함할 수 있다.
구체적으로, 입력부는, 예를 들어, 키보드, 물리 버튼, 터치 스크린, 카메라 또는 마이크 등과 같이 다양한 형태의 사용자 입력을 수신할 수 있는 장치들을 포함할 수 있다. 또한, 출력부는, 예를 들어, 디스플레이 패널 또는 스피커 등을 포함할 수 있다. 다만, 이에 한정되지 않고 입출력부(110)는 다양한 입출력을 지원하는 장치를 포함할 수 있다.
프로세서(120)는 화상 형성 장치(100)의 전체적인 동작을 제어하며, CPU 등과 같은 프로세서를 포함할 수 있다. 프로세서(120)는 입출력부(110)를 통해 수신한 사용자 입력에 대응되는 동작을 수행하도록 화상 형성 장치(100)에 포함된 다른 구성들을 제어할 수 있다.
예를 들어, 프로세서(120)는 메모리(140)에 저장된 프로그램을 실행시키거나, 메모리(140)에 저장된 파일을 읽어오거나, 새로운 파일을 메모리(140)에 저장할 수도 있다.
통신부(130)는 다른 디바이스 또는 네트워크와 유무선 통신을 수행할 수 있다. 이를 위해, 통신부(130)는 다양한 유무선 통신 방법 중 적어도 하나를 지원하는 통신 모듈을 포함할 수 있다. 예를 들어, 통신 모듈은 칩셋(chipset)의 형태일 수도 있고, 또는 통신에 필요한 정보를 포함하는 스티커/바코드(e.g. NFC tag를 포함하는 스티커)등일 수도 있다.
무선 통신은, 예를 들어, Wi-Fi(Wireless Fidelity), Wi-Fi Direct, 블루투스(Bluetooth), UWB(Ultra Wide Band) 또는 NFC(Near Field Communication) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 유선 통신은, 예를 들어, USB 또는 Wired LAN (Ethernet) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
통신부(130)는 화상 형성 장치(100)의 외부에 위치한 외부 장치와 연결되어 신호 또는 데이터를 송수신할 수 있다. 도 2를 참조하면, 화상 형성 장치(100)는 통신부(130)를 통해 외부 장치(200)와 연결되어 있다. 통신부(130)는 외부 장치(200)로부터 수신된 신호 또는 데이터를 프로세서(120)로 전달하거나, 또는 프로세서(120)에서 발생된 신호 또는 데이터를 외부 장치(200)로 전송할 수 있다. 예를 들어, 통신부(130)가 외부 장치(200)로부터 인쇄 명령 신호 및 인쇄 데이터를 수신하면, 프로세서(120)는 수신된 인쇄 데이터를 인쇄부(151)를 통해 출력할 수 있다.
메모리(140)에는 어플리케이션과 같은 프로그램 및 파일 등과 같은 다양한 종류의 데이터가 설치 및 저장될 수 있다. 프로세서(120)는 메모리(140)에 저장된 데이터에 접근하여 이를 이용하거나, 또는 새로운 데이터를 메모리(140)에 저장할 수도 있다. 또한, 프로세서(120)는 메모리(140)에 설치된 프로그램을 실행할 수도 있다. 또한, 프로세서(120)는 통신부(130)를 통해 외부로부터 수신한 어플리케이션을, 메모리(140)에 설치할 수도 있다.
화상 형성 작업부(150)는 인쇄, 스캔 또는 팩스 등의 화상 형성 작업을 수행할 수 있다.
도 1을 참조하면, 화상 형성 작업부(150)는 인쇄부(151), 스캔부(152) 및 팩스부(153)를 포함하는 것으로 도시되었는데, 필요에 따라서 이들 중 일부 구성만을 포함하거나, 또는 다른 종류의 화상 형성 작업 수행을 위한 구성을 더 포함할 수도 있다.
인쇄부(151)는 전자 사진 방식, 잉크젯 방식, 열전사 방식 및 감열 방식 등 다양한 인쇄 방식에 의하여 기록 매체에 화상을 형성할 수 있다. 일 실시예에서, 인쇄부(151)는 노광, 현상, 전사, 및 정착 과정을 포함하는 일련의 프로세스에 의하여 기록 매체에 화상을 인쇄할 수 있다. 도 2를 참조하여 보다 구체적으로 설명하도록 한다.
도 2는 일 실시예에 따른 인쇄부(151)를 나타내는 도면이다.
도 2를 참조하면, 인쇄부(151)는 감광체(1511), 대전기(1512), 노광기(1513), 현상기(1514), 전사기(1515), 및 정착기(1516)를 구비할 수 있다. 인쇄부(151)는 기록 매체(P)를 공급하는 급지수단(미도시)을 더 구비할 수 있다. 감광체(1511)에는 정전잠상이 형성된다. 감광체는 그 형태에 따라서 감광드럼, 감광벨트 등으로 지칭될 수 있다. 대전기(1512)는 감광체(1511)의 표면을 균일한 전위로 대전시킨다. 대전기(1512)는 코로나 대전기, 대전 롤러, 대전 브러쉬 등의 형태로 구현될 수 있다. 노광기(1513)는 인쇄할 화상 정보에 따라 감광체(1511)의 표면 전위를 변화시킴으로써 감광체(1511)의 표면에 정전잠상을 형성시킨다. 일 예로서, 노광기(1513)는 인쇄할 화상 정보에 따라 변조된 광을 감광체(1511)에 조사함으로써 정전잠상을 형성할 수 있다. 이러한 형태의 노광기(1513)는 광주사기 등으로 지칭될 수 있다. 현상기(1514)는 그 내부에 현상제를 수용하며, 정전잠상에 현상제를 공급하여 정전잠상을 가시적인 화상으로 현상시킨다. 현상기(1514)는 현상제를 정전잠상으로 공급하는 현상 롤러(1517)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 현상제는 현상 롤러(1517)와 감광체(1511) 사이에 형성되는 현상 전계에 의하여 현상 롤러(1517)로부터 감광체(1511)에 형성된 정전잠상으로 공급될 수 있다. 감광체(1511)에 형성된 가시적인 화상은 전사기(1515)에 의하여 기록 매체(P)로 전사된다. 전사기(1515)는 예를 들어, 정전 전사 방식에 의하여 가시적인 화상을 기록 매체로 전사시킬 수 있다. 가시적인 화상은 기록 매체(P)에 정전 인력에 의하여 부착된다. 정착기(1516)는 기록 매체(P) 상의 가시적인 화상에 열 및/또는 압력을 가하여 가시적인 화상을 기록 매체(P)에 정착시킨다. 이와 같은 일련의 과정에 의하여 인쇄 작업이 완료된다. 또한, 도 2에는 도시되지 않았지만, 인쇄부(151)는 정착기(1516)를 구동하기 위한 정착 구동 장치를 포함할 수 있다.
스캔부(152)는 원고에 광을 조사하고, 반사되는 광을 수광하여 원고에 기록된 화상을 읽어들일 수 있다. 원고로부터 화상을 읽어들이는 이미지 센서로서, 예를 들어 CCD (Charge Coupled Device), CIS(contact type image sensor) 등이 채용될 수 있다. 스캔부(152)는 원고가 고정된 위치에 위치되고, 이미지 센서가 이동되면서 화상을 읽어들이는 플랫베드(flatbed) 구조, 이미지 센서가 고정된 위치에 위치되고 원고가 이송되는 원고 이송(document feed) 구조과, 이들의 복합 구조를 가질 수 있다.
팩스부(153)의 경우, 화상을 스캔하기 위한 구성은 스캔부(152)와 공유할 수 있고, 수신한 파일을 인쇄하기 위한 구성은 인쇄부(151)와 공유할 수 있으며, 스캔 파일을 목적지로 전송하거나, 외부로부터 파일을 수신할 수 있다.
도 3은 다른 일 실시예에 따른 화상 형성 장치를 나타내는 도면이다.
도 3을 참조하면, 일 실시예에 따른 화상 형성 장치(300)는, 메모리(310), 정착기(320), 정착 구동 장치(330) 및 프로세서(340)를 포함할 수 있다. 도 3의 화상 형성 장치(300)는, 도 1의 화상 형성 장치(100)와 동일한 장치일 수 있으며, 메모리(310) 및 프로세서(340) 역시 도 1의 메모리(140) 및 프로세서(120)와 동일한 구성일 수 있다. 또한, 정착기(320)는 도 2의 정착기(1516)와 동일한 구성일 수 있다. 따라서, 중복되는 내용은 간단히 설명하도록 한다.
메모리(310)는 어플리케이션과 같은 프로그램 및 파일 등과 같은 다양한 종류의 데이터가 설치 및 저장될 수 있다. 일 실시예에서, 메모리(310)는 정착 구동 장치(330)를 제어하기 위한 프로그램을 저장할 수 있다. 이때, 정착 구동 장치(330)를 제어하기 위한 프로그램은 메모리(310)에 설치될 수도 있다. 프로세서(340)는 메모리(310)에 저장된 정착 구동 장치(330)를 제어하기 위한 프로그램을 실행할 수 있다.
정착기(320)는 기록 매체에 전사된 화상에 열 및/또는 압력을 가하여 화상을 기록 매체에 정착시킨다. 일 실시예에서, 정착기(320)는 정착 구동 장치(330)로부터 전력을 공급받을 수 있다.
정착 구동 장치(330)는 정착기(320)를 구동하기 위하여 전력을 공급한다. 일 실시예에서, 정착 구동 장치(330)는 입력되는 교류 전원에 대해서, 파형수 제어(wave number control)와 위상 제어(phase control)를 수행하여 정착기(320)에 전력을 공급할 수 있다.
파형수 제어는 정착기(320)에 공급하는 교류 전원의 반 주기의 정수배로 제어 주기를 설정하고, 교류 전원의 반 주기를 기준으로 교류 전원의 on-off를 제어하는 방식이다. 위상 제어는 정착기(320)에 공급하는 교류 전원의 위상각을 조절하여 교류 전원의 on-off를 제어하는 방식이다. 일 실시예에서, 정착 구동 장치(330)는 프로세서(340)의 제어에 따라 교류 전원의 반 주기를 기준으로 파형수 제어와 위상 제어를 번갈아가며 수행할 수 있다.
프로세서(340)는 화상 형성 장치(300)의 전체적인 동작을 제어한다. 일 실시예에서, 프로세서(340)는 메모리(310)에 저장된 정착 구동 장치(330)를 제어하기 위한 프로그램을 실행함으로써, 정착 구동 장치(330)를 제어할 수 있다. 프로세서(340)는 파형수 제어와 위상 제어를 번갈아가며 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어할 수 있다. 이때, 프로세서(340)는 교류 전원의 반 주기를 기준으로 파형수 제어와 위상 제어를 번갈아가며 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어할 수 있다.
프로세서(340)는 제어 주기와 듀티를 설정하고, 설정한 제어 주기 및 듀티에 따라 파형수 제어 및 위상 제어를 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어할 수 있다. 일 실시예에서, 프로세서(340)는 교류 전원의 반 주기의 짝수배로 제어 주기를 설정할 수 있다. 다시 말해, 제어 주기는 교류 전원의 한 주기의 정수배가 될 수도 있다. 일 실시예에 따르면, 프로세서(340)가 교류 전원의 반 주기의 짝수배로 제어 주기를 설정함으로써, 교류 전원의 반 주기를 기준으로 파형수 제어와 위상 제어를 번갈아가며 수행하는 경우, 동일한 횟수의 파형수 제어와 위상 제어가 수행될 수 있다.
도 3에 도시하지는 않았지만, 화상 형성 장치(300)는 정착기(320)의 온도를 측정하는 온도 센서를 더 포함할 수 있다. 온도 센서는 정착기(320)에 포함된 정착 부재의 온도를 측정할 수 있다. 일 실시예에서, 프로세서(340)는 온도 센서에서 측정한 정착기(320)의 온도에 따라 정착기(320)의 목표 온도를 설정하고, 설정된 목표 온도에 따라 제어 주기 및 듀티를 설정할 수 있다.
또한, 도 3에 도시하지는 않았지만, 화상 형성 장치(300)는 교류 전원이 전압이 0V가 되는 제로크로스 지점을 검출하는 제로크로스 검출기(zero cross detector)를 더 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 프로세서(340)는 제로크로스 검출기에서 검출한 제로크로스 지점을 기초로 정착 구동 장치(330)를 제어할 수 있다. 즉, 프로세서(340)는 제로크로스 지점을 기초로 하여 입력되는 교류 전원의 반 주기를 판단할 수 있다.
프로세서(340)는 제로크로스 검출기에서 검출한 제로크로스 지점을 기준으로 하여, 교류 전원의 선행 또는 후행하는 반 주기에 대해 파형수 제어를 수행하고, 파형수 제어를 수행하지 않는 나머지 후행 또는 선행하는 반 주기에 대해 위상 제어를 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어할 수 있다. 즉, 프로세서(340)는 제로크로스 지점을 기준으로, 파형수 제어와 위상 제어를 번갈아가며 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어할 수 있다.
프로세서(340)는 설정된 듀티에 따라 제어 방식을 결정할 수 있다. 일 실시예에서, 프로세서(340)는 설정된 듀티가 0% 초과 50% 미만인 경우에는 위상 제어를 수행하고, 설정된 듀티가 50%인 경우에는 파형수 제어를 수행하며, 설정된 50% 초과 100% 이하인 경우에는 파형수 제어 및 위상 제어를 번갈아가며 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어할 수 있다. 도 4 및 도 5를 참조하여 설명하도록 한다.
도 4는 일 실시예에 따라 설정된 듀티에 따라 제어 방식을 결정하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 4를 참조하면, 프로세서(340)는 측정한 정착기(320)의 온도에 따라 정착기(320)의 목표 온도를 설정하고, 설정된 온도에 따라 정착기(320)를 제어하기 위한 제어 주기를 설정하여, 제어 주기 레지스터(410)에 저장한다. 일 실시예에서, 프로세서(340)는 교류 전원의 반 주기의 짝수배로 제어 주기를 설정할 수 있다. 도 4에서는 제어 주기를 2로 설정하여, 교류 전원의 반 주기의 2배, 즉 교류 전원의 한 주기를 제어 주기로 설정하였다. 도 4에서는 제어 주기를 레지스터에 저장하는 것으로 설명하였으나, 제어 주기는 메모리(310)에 저장될 수도 있다.
프로세서(340)는 제어 주기를 설정한 후, 설정된 제어 주기에 따라 듀티 테이블(420)을 생성한다. 보다 구체적으로, 프로세서(340)는 제어 주기 수만큼 듀티 테이블(420)을 생성한다. 도 4에서는 제어 주기를 2로 설정하였으므로, 2 개의 반 주기에 대한 데이터를 입력할 수 있도록 듀티 테이블(420)을 생성한다. 그 후, 프로세서(340)는 설정된 듀티를 듀티 테이블(420)에 입력한다. 도 4를 참조하면, 프로세서(340)는 제1 상(421)에서는 위상 제어를 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어하고, 제2 상(422)에서는 파형수 제어를 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어하도록 듀티 테이블(420)을 생성한다. 이는 일 예에 불과하며, 위상 제어를 먼저 수행하고, 그 후, 파형수 제어를 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어하는 것도 가능하다.
이때, 파형수 제어를 수행하는 제2 상(422)에는 듀티를 100%로 설정하고, 위상 제어를 수행하는 제1 상(421)에는 0~100% 범위 내에서 듀티(A)를 설정할 수 있다. 일 실시예에 따르면, 프로세서(340)는 반 주기를 기준으로 위상 제어 및/또는 파형수 제어를 수행하게 된다. 따라서, 파형수 제어를 수행하는 제2 상(422)에 듀티를 100%로 설정하더라도, 반 주기만큼만 파형수 제어가 ON 되는 것인 바, 전체 제어 주기를 기준으로는 듀티가 50%로 설정되는 것이다. 마찬가지로, 위상 제어의 경우에도 위상 제어를 수행하는 제1 상(421)에 듀티(A)를 설정하더라도 전체 제어 주기를 기준으로는 듀티(A)의 절반으로 듀티가 설정되는 것이다.
프로세서(340)는 다음과 같이 위상 제어 듀티(A)를 설정할 수 있다.
1) 전체 제어 주기를 기준으로 듀티가 0 ~ 50% 인 경우: 위상 제어 듀티(A) = 설정된 듀티 x 2
2) 전체 제어 주기를 기준으로 듀티가 50% 인 경우: 위상 제어 듀티(A) = 0(위상 제어 수행하지 않음)
3) 전체 제어 주기를 기준으로 듀티가 50 ~ 100% 인 경우: 위상 제어 듀티(A) = (설정된 듀티 - 50) x 2
도 4를 참조하면, 프로세서(340)는 전체 제어 주기를 기준으로 듀티가 0% 초과 50% 미만인 경우, 제1 상(421)을 ON 시키고, 제2 상(422)은 OFF 시킨다. 즉, 프로세서(340)는 위상 제어만을 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어한다. 프로세서(340)는 전체 제어 주기를 기준으로 듀티가 50% 인 경우, 제1 상(421)을 OFF 시키고, 제2 상(422)을 ON 시킨다. 즉, 프로세서(340)는 파형수 제어만을 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어한다. 프로세서(340)는 전체 제어 주기를 기준으로 듀티가 50% 초과 100% 이하인 경우인 경우, 제1 상(421)과 제2 상(422)을 모두 ON 시킨다. 즉, 프로세서(340)는 파형수 제어 및 위상 제어를 번갈아가며 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어한다.
이후, 프로세서(340)는 정착 구동 장치(330)를 제어하여 설정된 듀티의 범위에 따른 위상 제어와 파형수 제어 설정을 듀티 레지스터(430)에 저장한다.
도 5는 설정된 듀티에 따라 파형수 제어와 위상 제어를 수행하는 방법을 나타내는 도면이다.
도 5를 참조하면, 프로세서(340)는 입력되는 교류 전원의 선행하는 반 주기에서는 위상 제어를 수행하고, 후행하는 반 주기에서는 파형수 제어를 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어한다. 다만, 이는 일 예에 불과하며, 선행하는 반 주기에서 파형수 제어를 수행하고, 후행하는 반 주기에서 위상 제어를 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어할 수도 있다.
도 5를 참조하면, 프로세서(340)는 전체 제어 주기를 기준으로 듀티가 0% 초과 50% 미만인 경우(510), 선행하는 반 주기에서 위상 제어만을 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어한다. 프로세서(340)는 전체 제어 주기를 기준으로 듀티가 50% 인 경우(520), 후행하는 반 주기에서 파형수 제어를 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어한다. 프로세서(340)는 전체 제어 주기를 기준으로 듀티가 50% 초과 100% 이하인 경우인 경우(530), 선행하는 반 주기에서는 파형수 제어를 수행하고, 후행하는 반 주기에서는 위상 제어를 수행하여 결과적으로 위상 제어와 파형수 제어를 번갈아가며 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어한다.
정착 구동 장치(330)는 프로세서(340)의 중지 명령이 없는 경우, 제어 주기에 따른 동작을 반복하여 수행할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 위상 제어와 파형수 제어를 번갈아가며 수행함으로써, 시간에 따른 전류의 변화량을 최소화하여 플리커 특성을 개선할 수 있다.
도 6은 2 개의 발열체를 포함하는 정착기를 나타내는 도면이다.
도 6에서 정착기(320)는 도 3의 정착기(320)와 동일한 구성일 수 있다. 발열체(heater)는 정착기(320)가 기록 매체에 전사된 화상에 열 및/또는 압력을 가하여 화상을 기록 매체에 정착시키기 위하여 필요한 열을 발생시키는 구성요소이다. 일 실시예에서, 정착기(320)는 정착 부재의 서로 다른 영역을 가열하는 복수 개의 발열체를 포함할 수 있다.
도 6을 참조하면, 정착기(320)는 정착 부재의 제1 영역을 가열하는 제1 발열체(610)와 제2 영역을 가열하는 제2 발열체(620)를 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 프로세서(340)는, 제1 발열체(610)에 대해서 파형수 제어와 위상 제어를 번갈아가며 수행하고, 제2 발열체(620)에 대해서는 제1 발열체(610)와 반대의 순서로 위상 제어와 파형수 제어를 번갈아가며 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어할 수 있다. 일 예로, 프로세서(340)는, 제1 발열체(610)와 제2 발열체(620)에 위상이 180° 차이나는 전력을 공급하도록 정착 구동 장치(330)를 제어할 수 있다.
도 7은 2 개의 발열체를 갖는 정착기를 포함하는 화상 형성 장치에서 듀티 테이블을 나타내는 도면이다.
도 7을 참조하면, 제어 주기는 2로 설정되었으므로, 2 개의 반 주기에 대한 데이터를 입력할 수 있도록 듀티 테이블(420)을 생성한다. 도 7에서는 복수의 제어 주기에서 파형수 제어와 위상 제어를 수행하는 방법을 도시하고 있다.
듀티 테이블(710)을 살펴보면, 제1 발열체(610)는 제1 상에서 파형수 제어를 수행하고, 제2 상에서 위상 제어를 수행한다. 이와 달리, 제2 발열체(620)는 제1 상에서 위상 제어를 수행하고, 제2 상에서 파형수 제어를 수행한다. 따라서, 제1 발열체(610)와 제2 발열체(620)는 동일한 제어 타이밍에 동일한 제어 방식을 사용하지 않게 된다. 듀티 테이블(720)을 살펴보면, 제1 발열체(610)는 제1 상에서 위상 제어를 수행하고, 제2 상에서 파형수 제어를 수행한다. 이와 달리, 제2 발열체(620)는 제1 상에서 파형수 제어를 수행하고, 제2 상에서 위상 제어를 수행한다.
즉, 제1 발열체(610)와 제2 발열체(620)는 동일한 상에서 서로 다른 제어 방식을 수행하면 되는 것이지, 특정 상에서 특정한 제어 방식을 사용해야 되는 것은 아니다.
도 8은 2 개의 발열체를 갖는 정착기를 포함하는 화상 형성 장치에서 설정된 듀티에 따라 파형수 제어와 위상 제어를 수행하는 방법을 나타내는 도면이다.
도 8을 참조하면, 프로세서(340)는 제1 발열체(610)에 대해서 입력되는 교류 전원의 선행하는 반 주기에서는 위상 제어를 수행하고, 후행하는 반 주기에서는 파형수 제어를 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어한다. 또한, 프로세서(340)는 제2 발열체(620)에 대해서 입력되는 교류 전원의 선행하는 반 주기에서 파형수 제어를 수행하고, 후행하는 반 주기에서 위상 제어를 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어한다. 도 7에서 살펴보았듯이, 이는 일 예에 불과하며, 제1 발열체(610)에 대해서 선행하는 반 주기에서 파형수 제어를 수행하고, 후행하는 반 주기에서 위상 제어를 수행하며, 제2 발열체(620)에 대해서는 그 반대 순서로 제어를 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어할 수도 있다.
도 8를 참조하면, 프로세서(340)는 전체 제어 주기를 기준으로 듀티가 0% 초과 50% 미만인 경우(810), 제1 발열체(610)와 제2 발열체(620)가 위상 제어만을 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어한다. 프로세서(340)는 전체 제어 주기를 기준으로 듀티가 50% 인 경우(820), 제1 발열체(610)와 제2 발열체(620)가 파형수 제어만을 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어한다. 프로세서(340)는 전체 제어 주기를 기준으로 듀티가 50% 초과 100% 이하인 경우인 경우(530), 제1 발열체(610)와 제2 발열체(620)가 위상 제어와 파형수 제어를 번갈아가며 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어한다.
일 실시예에 따르면, 2 개의 발열체에 입력되는 AC 전류의 합, 즉 정착기(320)로 입력되는 총 AC 전류의 파형이 시간의 변화에 따라 일정한 형태를 보이게 되며, 이는 입력 전류값의 변화가 없음을 의미한다. 따라서, 시간에 따른 전류의 변화량이 최소화되어 플리커 특성을 개선할 수 있다.
도 9는 일 실시예에 따른 웜업 모드에서 파형수 제어와 위상 제어를 수행하는 방법을 나타내는 도면이다.
화상 형성 장치(300)는 일정 시간 동안 사용자 입력이 없는 경우, 대기 모드로 진입할 수 있다. 화상 형성 장치(300)가 대기 모드에서 사용자 입력을 수신하면 다시 활성 모드로 돌아가게 된다. 이때, 화상 형성 장치(300)는 급격한 동작을 방지하기 위하여 동작을 준비하는 웜업 모드를 수행하게 된다. 일 실시예에서, 프로세서(340)는 웜업(warm-up) 모드에서 제어 주기를 인쇄 구간에서의 제어 주기보다 더 길게 설정할 수 있다.
프로세서(340)는 웜업 모드에서 위상 제어 및 파형수 제어, 또는 파형수 제어 및 위상 제어를 순차적으로 수행하고, 그 후, 파형수 제어와 위상 제어를 번갈아가며 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어할 수 있다.
도 9를 참조하면, 화상 형성 장치(300)는 대기 모드(910)에서 사용자 입력을 수신한다. 사용자 입력을 수신하는 경우, 프로세서(340)는 위상 제어(920) 또는 파형수 제어(930)를 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어할 수 있다. 도 9에서는 위상 제어(920)를 먼저 수행하는 것으로 도시하였으나, 이는 일 예에 불과하고, 파형수 제어(930)를 먼저 수행하는 것도 가능하다. 그 후, 프로세서(340)는 파형수 제어와 위상 제어를 번갈아가며 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 웜업 모드에서, 시간에 따른 전류의 변화량이 최소화되어 플리커 특성을 개선할 수 있다.
도 10은 2 개의 발열체를 갖는 정착기를 포함하는 화상 형성 장치의 웜업 모드에서 파형수 제어와 위상 제어를 수행하는 방법을 나타내는 도면이다.
도 10을 참조하면, 도 9를 참조하면, 화상 형성 장치(300)는 대기 모드(1010)에서 사용자 입력을 수신한다. 사용자 입력을 수신하는 경우, 프로세서(340)는 제1 발열체(610) 또는 제2 발열체(620) 중 하나의 발열체에 대하여 파형수 제어를 수행(1020)하도록 정착 구동 장치(330)를 제어할 수 있다.
그 후, 프로세서(340)는 나머지 발열체에 대해서 동일하게 파형수 제어를 수행(1030)하도록 정착 구동 장치(330)를 제어할 수 있다. 동시에 2 개의 발열체에 전력을 공급하는 것보다 순차적으로 전력을 공급하는 것이 전류의 변화량을 줄일 수 있어 플리커 특성을 개선할 수 있다. 나아가, 프로세서(340)는 제1 발열체(610) 또는 제2 발열체(620) 중 하나의 발열체에 대하여 위상 제어를 수행(1040)한 후, 다른 하나의 발열체에 대해서도 위상 제어를 수행(1050)할 수 있다.
이때, 프로세서(340)는 제1 발열체(610)와 제2 발열체(620)에 대해서 동일한 상에서 서로 다른 제어 방식을 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어할 수 있다.
도 10에서는 프로세서(340)가 각 발열체에 대해 파형수 제어를 먼저 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어하는 것으로 도시하였으나, 이는 일 예에 불과하며, 위상 제어를 먼저 수행하도록 정착 구동 장치(330)를 제어할 수도 있다.
지금까지는 화상 형성 장치의 구성 요소에 대해서 설명하였다. 아래에서는 화상 형성 장치의 동작 방법에 대해서 설명하도록 한다. 이때, 중복되는 내용은 간략히 설명하도록 한다.
도 11은 일 실시예에 따른 화상 형성 장치의 동작 방법을 나타내는 순서도이다.
1110 단계에서, 화상 형성 장치(300)는 교류 전원을 입력 받는다.
그 후, 1120 단계에서 화상 형성 장치(300)는 입력되는 교류 전원에 대해서 파형수 제어와 위상 제어를 번갈아가며 수행하여 정착기에 전력을 공급받을 수 있다. 일 실시예에서, 화상 형성 장치(300)는 제어 주기와 듀티를 설정하고, 설정한 제어 주기 및 듀티에 따라 파형수 제어 및 위상 제어를 수행할 수 있다. 화상 형성 장치(300)는 교류 전원의 반 주기의 짝수배로 제어 주기를 설정하고, 교류 전원의 반 주기를 기준으로 파형수 제어와 위상 제어를 번갈아가며 수행할 수 있다. 또한, 화상 형성 장치(300)는 정착기의 온도를 측정하고 측정한 정착기의 온도에 따라 상기 정착기의 목표 온도를 설정하며, 목표 온도에 따라 제어 주기 및 듀티를 설정할 수도 있다. 나아가, 화상 형성 장치(300)는 교류 전원이 전압이 0V가 되는 제로크로스 지점을 검출하고, 검출한 제로크로스 지점을 기초로 파형수 제어 및 위상 제어를 수행할 수 있다. 이때, 화상 형성 장치(300)는 제로크로스 지점을 기준으로 하여, 교류 전원의 선행 또는 후행하는 반 주기에 대해 파형수 제어를 수행하고, 파형수 제어를 수행하지 않는 나머지 후행 또는 선행하는 반 주기에 대해 위상 제어를 수행할 수 있다.
화상 형성 장치(300)는 설정된 듀티가 0% 초과 50% 미만인 경우에는 위상 제어를 수행하고, 설정된 듀티가 50%인 경우에는 파형수 제어를 수행하며, 설정된 50% 초과 100% 이하인 경우에는 파형수 제어 및 위상 제어를 번갈아가며 수행할 수 있다.
화상 형성 장치(300)는 제1 발열체(610)와 제2 발열체(620)를 포함하며, 제1 발열체(610)에 대해서 파형수 제어와 위상 제어를 번갈아가며 수행하고, 제2 발열체(620)에 대해서는 제1 발열체(610)와 반대의 순서로 위상 제어와 파형수 제어를 번갈아가며 수행할 수 있다. 또한, 화상 형성 장치(300)는 위상 제어 및 파형수 제어, 또는 파형수 제어 및 위상 제어를 순차적으로 수행하고, 그 후, 파형수 제어와 위상 제어를 번갈아가며 수행하는 웜업 모드를 수행할 수 있다. 이때, 화상 형성 장치(300)는 웜업 모드에서 제어 주기를 인쇄 구간에서의 제어 주기보다 더 길게 설정할 수 있다.
한편, 상술된 실시예들은 컴퓨터에 의하여 실행 가능한 명령어 및 데이터를 저장하는 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록 매체의 형태로 구현될 수 있다. 상기 명령어 및 데이터 중 적어도 하나는 프로그램 코드의 형태로 저장될 수 있으며, 프로세서에 의해 실행되었을 때, 소정의 프로그램 모듈을 생성하여 소정의 동작을 수행할 수 있다.
컴퓨터로 읽을 수 있는 기록 매체란, 예를 들어 하드디스크 등과 같은 마그네틱 저장매체, CD 및 DVD 등과 같은 광학적 판독매체 등을 의미할 수 있으며, 네트워크를 통해 접근 가능한 서버에 포함되는 메모리를 의미할 수도 있다. 예를 들어, 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록 매체는 화상 형성 장치(100)의 메모리(140) 및 입출력부(110)의 메모리(114) 중 적어도 하나가 될 수도 있으며, 또는, 화상 형성 장치(100)와 네트워크를 통하여 연결된 외부 장치에 포함되는 메모리가 될 수도 있다.
이상과 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
300: 화상 형성 장치
310: 메모리
320: 정착기
330: 정착 구동 장치
340: 프로세서

Claims (20)

  1. 정착기(fuser);
    입력되는 교류 전원에 대해서, 파형수 제어(wave number control)와 위상 제어(phase control)를 수행하여 상기 정착기에 전력을 공급하는 정착 구동 장치(fuser driver);
    상기 정착 구동 장치를 제어하기 위한 프로그램을 저장하는 메모리; 및
    상기 메모리에 저장된 프로그램을 실행함으로써, 상기 파형수 제어와 상기 위상 제어를 번갈아가며 수행하도록 상기 정착 구동 장치를 제어하는 프로세서를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 프로세서는,
    제어 주기와 듀티를 설정하고, 상기 설정한 제어 주기 및 듀티에 따라 상기 파형수 제어 및 상기 위상 제어를 수행하도록 상기 정착 구동 장치를 제어하는 프로세서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 프로세서는,
    상기 설정된 듀티가 0% 초과 50% 미만인 경우에는 상기 위상 제어를 수행하고, 상기 설정된 듀티가 50%인 경우에는 상기 파형수 제어를 수행하며, 상기 설정된 50% 초과 100% 이하인 경우에는 상기 파형수 제어 및 상기 위상 제어를 번갈아가며 수행하도록 상기 정착 구동 장치를 제어하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 프로세서는,
    상기 교류 전원의 반 주기의 짝수배로 상기 제어 주기를 설정하고, 상기 교류 전원의 반 주기를 기준으로 상기 파형수 제어와 상기 위상 제어를 번갈아가며 수행하도록 상기 정착 구동 장치를 제어하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 정착기의 온도를 측정하는 온도 센서를 더 포함하고,
    상기 프로세서는,
    상기 온도 센서에서 측정한 상기 정착기의 온도에 따라 상기 정착기의 목표 온도를 설정하고, 상기 목표 온도에 따라 상기 제어 주기 및 상기 듀티를 설정하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 교류 전원이 전압이 0V가 되는 제로크로스 지점을 검출하는 제로크로스 검출기(zero cross detector)를 더 포함하고,
    상기 프로세서는,
    상기 제로크로스 검출기에서 검출한 상기 제로크로스 지점을 기초로 상기 정착 구동 장치를 제어하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 프로세서는,
    상기 제로크로스 지점을 기준으로 하여, 상기 교류 전원의 선행 또는 후행하는 반 주기에 대해 상기 파형수 제어를 수행하고, 상기 파형수 제어를 수행하지 않는 나머지 후행 또는 선행하는 반 주기에 대해 상기 위상 제어를 수행하도록 상기 정착 구동 장치를 제어하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 정착기는,
    제1 발열체(heater)와 제2 발열체를 포함하고,
    상기 프로세서는,
    상기 제1 발열체에 대해서 상기 파형수 제어와 상기 위상 제어를 번갈아가며 수행하고, 상기 제2 발열체에 대해서는 상기 제1 발열체와 반대의 순서로 상기 위상 제어와 상기 파형수 제어를 번갈아가며 수행하도록 상기 정착 구동 장치를 제어하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 프로세서는,
    웜업(warm-up) 모드에서 상기 위상 제어 및 상기 파형수 제어, 또는 상기 파형수 제어 및 상기 위상 제어를 순차적으로 수행하고, 그 후, 상기 파형수 제어와 상기 위상 제어를 번갈아가며 수행하도록 상기 정착 구동 장치를 제어하는 프로세서를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 프로세서는,
    웜업(warm-up) 모드에서 제어 주기를 인쇄 구간에서의 제어 주기보다 더 길게 설정하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.
  11. 교류 전원을 입력 받는 단계; 및
    상기 입력되는 교류 전원에 대해서 파형수 제어와 위상 제어를 번갈아가며 수행하여 정착기에 전력을 공급하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치의 동작 방법.
  12. 제11항에 있어서,
    제어 주기와 듀티를 설정하는 단계를 더 포함하고,
    상기 입력되는 교류 전원에 대해서 파형수 제어와 위상 제어를 번갈아가며 수행하여 정착기에 전력을 공급하는 단계는,
    상기 설정한 제어 주기 및 듀티에 따라 상기 파형수 제어 및 상기 위상 제어를 수행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치의 동작 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 입력되는 교류 전원에 대해서 파형수 제어와 위상 제어를 번갈아가며 수행하여 정착기에 전력을 공급하는 단계는,
    상기 설정된 듀티가 0% 초과 50% 미만인 경우에는 상기 위상 제어를 수행하고, 상기 설정된 듀티가 50%인 경우에는 상기 파형수 제어를 수행하며, 상기 설정된 50% 초과 100% 이하인 경우에는 상기 파형수 제어 및 상기 위상 제어를 번갈아가며 수행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치의 동작 방법.
  14. 제12항에 있어서,
    상기 제어 주기와 듀티를 설정하는 단계는,
    상기 교류 전원의 반 주기의 짝수배로 상기 제어 주기를 설정하는 단계를 포함하고,
    상기 입력되는 교류 전원에 대해서 파형수 제어와 위상 제어를 번갈아가며 수행하여 정착기에 전력을 공급하는 단계는,
    상기 교류 전원의 반 주기를 기준으로 상기 파형수 제어와 상기 위상 제어를 번갈아가며 수행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치의 동작 방법.
  15. 제12항에 있어서,
    상기 정착기의 온도를 측정하는 단계를 더 포함하고,
    상기 제어 주기와 듀티를 설정하는 단계는,
    상기 측정한 정착기의 온도에 따라 상기 정착기의 목표 온도를 설정하는 단계; 및
    상기 목표 온도에 따라 상기 제어 주기 및 상기 듀티를 설정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치의 동작 방법.
  16. 제11항에 있어서,
    상기 교류 전원이 전압이 0V가 되는 제로크로스 지점을 검출하는 단계를 더 포함하고,
    상기 입력되는 교류 전원에 대해서 파형수 제어와 위상 제어를 번갈아가며 수행하여 정착기에 전력을 공급하는 단계는,
    상기 검출한 제로크로스 지점을 기초로 상기 파형수 제어 및 상기 위상 제어를 수행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치의 동작 방법.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 입력되는 교류 전원에 대해서 파형수 제어와 위상 제어를 번갈아가며 수행하여 정착기에 전력을 공급하는 단계는,
    상기 제로크로스 지점을 기준으로 하여, 상기 교류 전원의 선행 또는 후행하는 반 주기에 대해 상기 파형수 제어를 수행하고, 상기 파형수 제어를 수행하지 않는 나머지 후행 또는 선행하는 반 주기에 대해 상기 위상 제어를 수행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치의 동작 방법.
  18. 제11항에 있어서,
    상기 입력되는 교류 전원에 대해서 파형수 제어와 위상 제어를 번갈아가며 수행하여 정착기에 전력을 공급하는 단계는,
    제1 발열체에 대해서 상기 파형수 제어와 상기 위상 제어를 번갈아가며 수행하고, 제2 발열체에 대해서는 상기 제1 발열체와 반대의 순서로 상기 위상 제어와 상기 파형수 제어를 번갈아가며 수행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치의 동작 방법.
  19. 제11항에 있어서,
    상기 위상 제어 및 상기 파형수 제어, 또는 상기 파형수 제어 및 상기 위상 제어를 순차적으로 수행하고, 그 후, 상기 파형수 제어와 상기 위상 제어를 번갈아가며 수행하는 웜업 모드를 수행하는 단계를 더 포함하고,
    상기 웜업 모드에서 제어 주기는 인쇄 구간에서의 제어 주기보다 더 길게 설정되는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치의 동작 방법.
  20. 제11항 내지 제19항 중 어느 한 항의 화상 형성 장치의 동작 방법을 구현하기 위한 프로그램이 기록된 컴퓨터로 판독 가능한 비일시적 기록 매체.
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