KR20180116660A - Apparatus for Recycling Developer and Method for the same - Google Patents

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KR20180116660A
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Abstract

An objective of the present invention is to provide an apparatus and method for regenerating a developing solution, the apparatus and method which enable the photoresist in the waste developing solution to be efficiently removed even without a filter by removing the photoresist with a specific gravity difference between a developing solution in a waste developing solution and a photoresist. The apparatus of the present invention comprises: a waste developing solution supply means which supplies the waste developing solution collected after a development process; a regenerated developing solution generating means which generates a regenerated developing solution in which the photoresist is separated from the waste developing solution by receiving the waste developing solution from the waste developing solution supply means, and separating and removing the photoresist by using the specific gravity difference between the developing solution in the waste developing solution and the photoresist; and a regenerated developing solution supply means which supplies the regenerated developing solution to the development process. Further, the method of the present invention comprises: a waste developing solution supply step of enabling the waste developing solution supply means to supply the waste developing solution collected after the development process to the regenerated developing solution generating means; a regenerated developing solution generating step of enabling a regenerated developing solution generating means to generate the regenerated developing solution in which the photoresist is removed from the waste developing solution by separating and removing the photoresist with the specific gravity difference between the developing solution in the supplied waste developing solution and the photoresist; and a regenerated developing solution supply step of enabling a regenerated developing solution supply means to supply the regenerated developing solution to the development process.

Description

현상액 재생 장치 및 방법{Apparatus for Recycling Developer and Method for the same}Apparatus for Recycling Developer and Method for the same

본 발명은 현상액 재생 장치 및 방법에 관한 것으로 더욱 상세하게는, LCD 제조공정, 반도체 제조공정 등의 현상공정 후 회수된 현상폐액을 재생하되 현상폐액 내의 현상액과 포토레지스트의 비중의 차이를 이용해 상기 포토레지스트를 분리 제거하는 것을 특징으로 하는 현상액 재생 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a developer regeneration apparatus and method, and more particularly, to a developer regeneration apparatus and method for regenerating a recovered developer waste solution after a developing process such as an LCD manufacturing process, a semiconductor manufacturing process, etc., And the resist is separated and removed.

포토레지스트(photoresist)는 빛을 조사하면 화학 변화를 일으키는 수지로서 자외선영역에서 가시광선영역의 파장까지의 빛에 반응하여 용해, 응고의 변화를 일으킨다. 포토레지스트는 TFT(Thin Film Transistor)-LCD IC, LSI 등의 생산에 반드시 필요한 재료 중 하나이다.Photoresist is a resin that causes a chemical change when light is irradiated. It reacts with light from the ultraviolet region to the wavelength in the visible region, and causes a change in dissolution and coagulation. Photoresist is one of the materials that is indispensable for the production of TFT (Thin Film Transistor) -LCD IC, LSI and so on.

포토레지스트는 빛이 닿은 부분만 고분자가 불용화하여 포토레지스트가 남는 감광성 수지인 네가티브(negative)형 포토레지스트, 빛이 닿은 부분만 고분자가 가용화하여 포토레지스트가 사라지는 감광성 수지인 포지티브(positive)형 포토레지스트로 구분된다. 네가티브형 포토레지스트로는 방향족 비스아지드(bis-azide), 메타크릴산 에스텔(methacrylic acid ester), 계피산 에스텔 등이 있고, 포지티브형 포토레지스트로는 폴리메타크릴산 메틸, 나프트키논디아지드, 폴리브텐-1-슬폰 등이 있다. 실제 생산라인에서는 포지티브형이 주류인데, 포지티브형과 네거티브형의 사용비율은 대략적으로 7:3 정도이다.The photoresist is a negative type photoresist, which is a photosensitive resin in which a polymer is insolubilized only by light, and a photoresist is left, a positive type photoresist, which is a photosensitive resin in which a polymer is solubilized by a solubilized polymer, And resist. Examples of the negative-type photoresist include aromatic bisazides, methacrylic acid esters, and cinnamic acid esters. Examples of positive-type photoresists include polymethyl methacrylate, naphthoquinone diazide, Polybutene-1-sulfone, and the like. In the actual production line, the positive type is mainstream, and the use ratio of the positive type and the negative type is about 7: 3.

포토리소그래피(photolithography)공정에서 웨이퍼(wafer)에 포토레지스트를 칠하고, 노광(露光)장치로 IC의 회로 패턴을 형성하고, 현상공정에서 약품으로 현상하면 빛이 닿은 부분 또는 닿지 않은 부분만 포토레지스트가 남게 된다. 현상액으로는 수산화 테트라메틸 암모늄 즉, TMAH(Tetramethylammonium hydroxide) 등이 사용되는데, 현상공정이 진행됨에 따라 현상액에는 포토레지스트가 용해되게 된다. 현상액은 유독성 화학물질이므로 그 처리 시에 비용 및 안전상의 문제가 발생한다. 따라서 현상공정에 사용된 현상폐액을 재생하여 사용하는 것이 필요하다.In a photolithography process, a photoresist is coated on a wafer, a circuit pattern of an IC is formed by an exposure device, and when developing with a chemical in a developing process, . As the developing solution, tetramethylammonium hydroxide (TMAH), or the like, is used. As the developing process proceeds, the photoresist is dissolved in the developing solution. The developer is a toxic chemical, which causes cost and safety problems during its processing. Therefore, it is necessary to regenerate and use the developing waste liquid used in the developing process.

포지티브형 현상폐액의 재생은 등록특허 10-1266956 등에 나타난 바와 같이 나노필터를 이용하여 포토레지스트를 제거하는 방식이 널리 사용되고 있다. 통상적으로 나노필터는 수㎚ 정도의 입자나 고분자를 제거할 수 있는데, 포지티브형 포토레지스트는 분자량이 2,000~4,000 정도여서 나노필터에 걸리게 되고, 초순수와 TMAH는 분자량이 200 이하이므로 나노필터를 통과하게 된다. 이와 같은 포지티브형 현상폐액의 재생방식은 효율이 높아 90% 정도의 만족 수준을 보인다.Regeneration of the positive type developing waste solution is widely used, for example, as shown in Japanese Patent No. 10-1266956, in which a photoresist is removed using a nanofilter. In general, nanofilters can remove particles and polymers of about several nanometers. Positive photoresists have a molecular weight of about 2,000 to 4,000 and are caught by a nanofilter. Ultrapure water and TMAH have a molecular weight of 200 or less. do. The efficiency of the regenerating method of the positive type developing waste solution is high and the satisfaction level is about 90%.

이와 비교하여 네거티브형 현상폐액에 포함되어 있는 포토레지스트는 통상적으로 분자량이 10,000~500,000 정도로 크고, 현상공정 이후 쉽게 응고되는 특성이 있어, 나노필터를 이용한 제거방식을 사용할 경우 나노필터의 폐색이 매우 쉽게 발생하게 되어 효율성 측면에서 문제가 있다. 따라서 종래에는 네거티브형 현상폐액의 재생이 어려움이 있었으며, 현상공정에 일정 기간 사용된 현상폐액을 전량 폐기하고 새로운 현상액을 사용하는 경우가 많은 실정이었다.In contrast, the photoresist contained in the negative development wastewater typically has a molecular weight of about 10,000 to 500,000, and is easily solidified after the development process. When using the nanofilter removal method, clogging of the nanofilter is very easy There is a problem in terms of efficiency. Therefore, conventionally, it has been difficult to regenerate negative type developing waste liquid, and in many cases, a new developing liquid is used by discarding all the waste liquid used for a certain period of time in the developing process.

등록특허 10-1266956가 이와 같은 문제를 해결하고자 메시필터어레이(mesh filter array)를 이용하여 포토레지스트를 필터링하되, 메시필터어레이의 세척이 필요하다고 판단되는 경우에는 메시필터어레이에 부착되는 포토레지스트를 신너와 초순수를 이용하여 크리닝하고, 초순수를 이용한 역세척 및 현상액 충전 등의 과정을 수행하는 엘씨디 제조 공정의 포토아크릴 현상액 재생 시스템을 제시하고 있다.To address this problem, the patent discloses a method of filtering a photoresist using a mesh filter array, wherein when it is determined that cleaning of the mesh filter array is necessary, Cleaning system using thinner and ultrapure water, backwashing using ultrapure water, and filling the developer, and the like.

그러나 이와 같이 메시필터어레이를 지속 사용하여 현상폐액을 재생하는 방식은 신너와 같은 전용 유기 세정제 및 초순수 세척에 따른 폐수발생이 불가피하여 환경처리비용 면에서 문제가 있다. 또한, 메시필터어레이를 주기적으로 크리닝 및 역세척 해주어도 부착된 포토레지스트가 완전히 제거되기는 어려우므로 추가적인 유지보수 작업이 필요하고, 그 과정에서 유해 화학물질의 누출 등의 위험이 있다. 더 나아가, 메시필터어레이의 크리닝 및 역세척 필요성에 대한 판단 기준이 메시필터어레이의 전.후단 압력센서에 의해 측정되는 차압 외엔 존재하지 않아 현상액 재생의 품질 저하의 문제가 발생하는 경우가 많다.However, such a method of continuously using the mesh filter array to regenerate the waste water has a problem in terms of environmental treatment costs because it is inevitable to generate wastewater by a dedicated organic cleaning agent such as thinner and ultra-pure water cleaning. Further, even if the mesh filter array is periodically cleaned and backwashed, it is difficult for the attached photoresist to be completely removed, so that additional maintenance work is required, and there is a risk of leakage of toxic chemicals in the process. Furthermore, there are many cases in which the criteria for judging the necessity of cleaning and backwashing of the mesh filter array are not different from the pressure difference measured by the front-end and back-end pressure sensors of the mesh filter array.

그 결과 종래 재생장치의 네거티브형 현상폐액 재생효율은 50~70％ 정도에 그치고 있으며, 유기 전용 세정제 사용과 초순수 세정수 사용으로 전체적인 효율이 떨어짐에 따라, TFT-LCD 제조 등에 있어 상용화되지 못하고 있는 실정이다.As a result, the efficiency of regenerating the negative type developing waste solution of the conventional regenerating apparatus is only about 50 to 70%. As the efficiency of organic pure cleaning agent is reduced and the efficiency of ultrapure water is lowered, it is not commercialized in TFT- to be.

공개특허 특2003-0035814 "현상액 재생장치", 2003. 05. 09.Open Patent Publication 2003-0035814 "Developer regeneration device ", 2003. 05. 09. 등록특허 10-1266956 "엘씨디 제조 공정의 포토아크릴 현상액 재생 시스템", 2013. 05. 30.Registered Patent No. 10-1266956 "PhotoAcryl Developer < RTI ID = 0.0 > Recycling System < / RTI >

본 발명은 전술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로,SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems of the prior art,

본 발명의 목적은, 현상폐액 내의 현상액과 포토레지스트의 비중의 차이를 이용하여 포토레지스트를 제거함으로써 필터가 없이도 현상폐액 내의 포토레지스트를 효율적으로 제거할 수 있게 해주는 현상액 재생 장치 및 방법을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a developer regeneration apparatus and method which can remove photoresist in a developing waste solution without removing a filter by removing a photoresist using a difference in specific gravity between the developing solution and the photoresist in the developing waste solution .

본 발명의 다른 목적은, 필터의 세척을 위한 세정제, 초순수 등의 사용이 필요없어 환경오염 및 환경처리비용이 발생하지 않게 해주는 현상액 재생 장치 및 방법을 제공하는 것이다.It is another object of the present invention to provide a developer regeneration apparatus and method that does not require the use of a cleaning agent, ultra pure water, or the like for cleaning the filter, thereby avoiding environmental pollution and environmental treatment costs.

본 발명의 또 다른 목적은, 주기적인 유지보수가 요구되지 않아 유지보수 과정에서의 현상폐액의 누출 등으로 인한 안전사고를 미연에 방지할 수 있게 해주는 현상액 재생 장치 및 방법을 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide a developer regeneration apparatus and method that prevent a safety accident due to leak of a developing waste solution during a maintenance process without requiring periodic maintenance.

본 발명의 또 다른 목적은, 현상폐액 내의 현상액과 포토레지스트의 비중의 차이를 이용하여 포토레지스트를 제거하되 현상폐액의 온도를 하강시키는 전처리를 통해 분리 효율이 향상될 수 있게 해주는 현상액 재생 장치 및 방법을 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide a developer regeneration apparatus and method which can improve the separation efficiency by removing the photoresist using the difference in specific gravity between the developer in the development waste solution and the photoresist, .

본 발명의 또 다른 목적은, 현상폐액에서 포토레지스트를 제거하여 생성된 현상재생액을 가열하는 후처리를 통해 현상공정에서의 현상재생액 사용조건이 만족될 수 있게 해주는 현상액 재생 장치 및 방법을 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide a developer regeneration apparatus and method for allowing a developer regeneration liquid usage condition in a developing process to be satisfied through post treatment for heating a developer regeneration liquid produced by removing photoresist from a developing waste liquid .

본 발명의 또 다른 목적은, 현상폐액에서 포토레지스트를 제거하여 현상재생액을 생성하되 현상재생액의 탁도 관리를 통해 현상공정에 품질이 우수한 현상재생액이 공급될 수 있게 해주는 현상액 재생 장치 및 방법을 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide a developer regeneration apparatus and a developer regeneration apparatus which can remove a photoresist from a developing waste liquid to generate a developer regeneration liquid and to supply a developer regeneration liquid having a high quality to a developing process through turbidity management of the regeneration regeneration liquid .

본 발명의 또 다른 목적은, 사전에 설정된 흡광도를 만족할 때까지 현상폐액에서 포토레지스트를 분리제거하는 과정을 반복하도록 구성되어 현상공정에 품질이 우수한 현상재생액이 공급될 수 있게 해주는 현상액 재생 장치 및 방법을 제공하는 것이다.It is still another object of the present invention to provide a developer regeneration apparatus and a developer regeneration apparatus which are configured to repeat the process of separating and removing the photoresist from the developing waste solution until the predetermined absorbance is satisfied, Method.

본 발명은 앞서 본 목적을 달성하기 위해서 다음과 같은 구성을 가진 실시예에 의해서 구현된다.In order to achieve the above object, the present invention is implemented by the following embodiments.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 본 발명의 현상액 재생 장치는, 현상공정 후 회수된 현상폐액을 공급하는 현상폐액 공급수단과, 상기 현상폐액 공급수단으로부터 상기 현상폐액을 공급받아 상기 현상폐액 내의 현상액과 포토레지스트의 비중의 차이를 이용해 상기 포토레지스트를 분리 제거하여 상기 현상폐액에서 상기 포토레지스트가 분리된 현상재생액을 생성하는 현상재생액 생성수단과, 현상공정에 상기 현상재생액을 공급하는 현상재생액 공급수단을 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the developer regeneration apparatus of the present invention comprises: a development waste liquid supply means for supplying a development waste liquid recovered after a development process; a developing liquid supply means for supplying the development waste liquid from the development waste liquid supply means, A developing regenerant producing means for separating and removing the photoresist using a difference in the specific gravity of the photoresist to generate a developing regenerated solution in which the photoresist is separated from the developing waste solution; And regenerant supply means.

본 발명의 다른 일 실시예에 따르면, 본 발명의 현상액 재생 장치는, 상기 현상폐액 공급수단은 상기 현상폐액의 온도를 하강시키는 냉각수단을 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the developer regeneration apparatus of the present invention, the development waste liquid supply means includes a cooling means for lowering the temperature of the development waste liquid.

본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 본 발명의 현상액 재생 장치는, 상기 현상재생액 공급수단은 상기 현상재생액의 온도를 상승시키는 가열수단을 포함하는 것을 특징으로 한다.According to still another embodiment of the present invention, the developer regeneration apparatus of the present invention is characterized in that the regeneration regeneration liquid supply means includes a heating means for raising the temperature of the regeneration regeneration liquid.

본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 본 발명의 현상액 재생 장치는, 상기 현상재생액 생성수단은 상기 현상폐액을 선회 흐름으로 만들고, 상기 포토레지스트에 원심력을 작용시킴으로써 상기 포토레지스트를 분리 제거하는 사이클론을 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the developer regeneration apparatus of the present invention, the development regenerant solution generation means may make the development waste liquid a swirling flow, and centrifugal force acts on the photoresist to separate and remove the photoresist And a cyclone.

본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 본 발명의 현상액 재생 장치는, 상기 현상폐액 공급수단은 상기 현상폐액의 공급압력을 생성하기 위한 제1가압수단을 포함하는 것을 특징으로 한다.According to still another embodiment of the present invention, in the developer regeneration apparatus of the present invention, the development waste liquid supply means includes first pressurizing means for generating a supply pressure of the development waste liquid.

본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 본 발명의 현상액 재생 장치는, 상기 현상재생액 생성수단은 상기 사이클론에서 제거된 포토레지스트를 수거하는 폐액탱크를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the developer regeneration apparatus of the present invention, the developer regeneration liquid generating means further includes a waste liquid tank for collecting the photoresist removed from the cyclone.

본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 본 발명의 현상액 재생 장치는, 상기 현상재생액 공급수단은 상기 현상재생액의 공급압력을 생성하기 위한 제2가압수단을 포함하는 것을 특징으로 한다.According to still another embodiment of the present invention, the developer regeneration apparatus of the present invention is characterized in that the developer regeneration liquid supply means includes a second pressurization means for generating a supply pressure of the developer regeneration liquid.

본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 본 발명의 현상액 재생 장치는, 상기 현상재생액 생성수단이 생성한 현상재생액의 포토레지스트 농도가 사전에 설정된 기준에 미달할 경우 상기 현상재생액을 상기 현상폐액 공급수단에 현상폐액으로 재유입시켜주는 현상재생액 재순환수단을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the developer regeneration apparatus of the present invention, when the photoresist concentration of the developer regeneration liquid generated by the developer regeneration liquid generation means is lower than a preset reference, Further comprising: a recycle liquid recycling means for re-introducing the recycle liquid to the waste liquid supply means as a waste liquid.

본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 본 발명의 현상액 재생 장치는, 상기 현상재생액 재순환수단은, 상기 현상재생액의 탁도를 측정하는 탁도 측정수단과, 상기 탁도 측정수단의 측정 결과가 사전에 설정된 기준에 미달할 경우 상기 현상재생액을 상기 현상폐액 공급수단에 현상폐액으로 재유입되도록 해주는 재순환라인을 포함하는 것을 특징으로 한다.According to still another embodiment of the present invention, in the developer regeneration apparatus of the present invention, the developer / regeneration liquid recirculation means includes: turbidity measurement means for measuring turbidity of the developer / regeneration liquid; And a recirculation line for allowing the developing regenerant solution to be re-introduced to the developing waste liquid supply means as the developing waste liquid when the reference value is not met.

본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 본 발명의 현상액 재생 방법은, 현상폐액 공급수단이 현상공정 후 회수된 현상폐액을 현상재생액 생성수단에 공급하는 현상폐액 공급단계와, 상기 현상재생액 생성수단이 공급된 현상폐액 내의 현상액과 포토레지스트의 비중의 차이를 이용해 상기 포토레지스트를 분리 제거하여 상기 현상폐액에서 상기 포토레지스트가 제거된 현상재생액을 생성하는 현상재생액 생성단계와, 현상재생액 공급수단이 생성된 현상재생액을 현상공정에 공급하는 현상재생액 공급단계를 포함한다.According to another embodiment of the present invention, there is provided a method of regenerating a developer according to the present invention, comprising: a development waste liquid supply step of supplying a development waste liquid recovered after a development process to a developer regeneration liquid generation means; A developing regeneration liquid generating step of separating and removing the photoresist using the difference in specific gravity between the developing liquid and the photoresist in the developing waste liquid supplied with the generating means to generate the developing regeneration liquid from which the photoresist is removed from the developing waste liquid, And a developing regeneration liquid supplying step of supplying the developing regeneration liquid to which the liquid supplying means is generated to the developing process.

본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 본 발명의 현상액 재생 방법은, 상기 현상폐액 공급단계는 냉각수단이 상기 현상폐액의 온도를 하강시키는 냉각단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to still another embodiment of the present invention, in the method for regenerating a developer according to the present invention, the developing waste liquid supplying step includes a cooling step in which the cooling means lowers the temperature of the developing waste liquid.

본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 본 발명의 현상액 재생 방법은, 상기 현상재생액 공급단계는 가열수단이 상기 현상재생액의 온도를 상승시키는 가열단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the developer regeneration method of the present invention, the above described regeneration regeneration solution supply step includes a heating step in which the heating means raises the temperature of the regeneration regeneration solution.

본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 본 발명의 현상액 재생 방법은, 상기 현상재생액 생성단계는 사이클론이 상기 현상폐액을 선회 흐름으로 만들고, 상기 포토레지스트에 원심력을 작용시킴으로써 상기 포토레지스트를 분리 제거하는 포토레지스트 분리단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to still another embodiment of the present invention, in the developer regeneration method of the present invention, in the step of generating the regenerating regenerant solution, the cyclone makes the developing waste solution a swirling flow, separates the photoresist by applying centrifugal force to the photoresist And removing the photoresist from the photoresist.

본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 본 발명의 현상액 재생 방법은, 상기 현상폐액 공급단계는 제1가압수단이 상기 현상폐액의 압력을 상승시키는 제1공급압력 생성단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to still another embodiment of the present invention, in the developer recovery method of the present invention, the development waste liquid supply step includes a first supply pressure generation step in which the first pressurization means raises the pressure of the development waste liquid do.

본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 본 발명의 현상액 재생 방법은, 상기 현상재생액 생성단계는, 상기 포토레지스트 분리단계 후에, 상기 사이클론이 상기 현상폐액에서 상기 포토레지스트가 분리 제거된 현상재생액을 배출하는 현상재생액 배출단계와, 폐액탱크가 상기 사이클론에서 제거된 포토레지스트를 수거하는 폐액 수거단계를 더 포함하되, 상기 현상재생액 배출단계와 상기 폐액 수거단계는 동시에 진행되는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, in the developing solution regeneration method of the present invention, the regenerated regenerant solution generating step includes a step of, after the photoresist separating step, And a waste liquid collecting step of collecting the photoresist removed from the cyclone by the waste liquid tank, wherein the developing regenerant discharging step and the waste liquid collecting step are simultaneously performed do.

본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 본 발명의 현상액 재생 방법은, 상기 현상재생액 공급단계는 제2가압수단이 상기 현상재생액의 압력을 상승시키는 제2공급압력 생성단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to still another embodiment of the present invention, in the developer regeneration method of the present invention, the second regeneration liquid supply step includes a second supply pressure generation step in which the second pressurization means elevates the pressure of the regeneration regeneration liquid .

본 발명의 또 다른 일 실시예에 따르면, 본 발명의 현상액 재생 방법은, 상기 현상재생액 생성단계와 상기 현상재생액 공급단계 사이에, 상기 현상재생액의 탁도를 측정하여 사전에 설정된 기준에 미달할 경우 상기 현상폐액 공급단계로 되돌아가 상기 현상재생액을 상기 현상폐액으로 공급하고, 사전에 설정된 기준을 만족할 경우 상기 현상재생액 공급단계가 진행되도록 해주는 현상재생액 탁도 측정단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another embodiment of the present invention, there is provided a method for regenerating a developer according to the present invention, comprising the steps of: measuring the turbidity of the developing regenerating solution between the developing regenerating solution generating step and the developing regenerating solution supplying step, , And returns to the development waste liquid supplying step to supply the developing regenerant solution to the developing waste liquid and to cause the developing regenerant solution supplying step to proceed when the preset reference is satisfied .

본 발명은 전술한 구성을 통해 다음과 같은 효과를 가진다.The present invention has the following effects through the above-described configuration.

본 발명은 현상폐액 내의 현상액과 포토레지스트의 비중의 차이를 이용하여 포토레지스트를 제거함으로써 필터가 없이도 현상폐액 내의 포토레지스트를 효율적으로 제거할 수 있게 해주는 현상액 재생 장치 및 방법을 제공하는 효과가 있다.The present invention provides an apparatus and a method for regenerating a developer, which enables removal of the photoresist in the development waste solution without a filter by removing the photoresist using the difference in specific gravity between the developer and the photoresist in the development waste solution.

본 발명은 필터의 세척을 위한 세정제, 초순수 등의 사용이 필요없어 환경오염 및 환경처리비용이 발생하지 않게 해주는 현상액 재생 장치 및 방법을 제공하는 효과를 가진다.The present invention has the effect of providing a developer regeneration apparatus and method that does not require the use of a cleaning agent, ultra pure water, or the like for cleaning the filter, thereby avoiding environmental pollution and environmental treatment costs.

본 발명은 주기적인 유지보수가 요구되지 않아 유지보수 과정에서의 현상폐액의 누출 등으로 인한 안전사고를 미연에 방지할 수 있게 해주는 현상액 재생 장치 및 방법을 제공하는 효과를 발휘한다.The present invention provides an effect of providing a developer regeneration device and method that prevent a safety accident due to leak of a developing waste solution during a maintenance process because periodic maintenance is not required.

본 발명은 현상폐액 내의 현상액과 포토레지스트의 비중의 차이를 이용하여 포토레지스트를 제거하되 현상폐액의 온도를 하강시키는 전처리를 통해 분리 효율이 향상될 수 있게 해주는 현상액 재생 장치 및 방법을 제공하는 효과를 도모한다.The present invention provides a developer regeneration apparatus and method that can improve the separation efficiency by removing the photoresist and reducing the temperature of the developing waste solution by using the difference in specific gravity between the developing solution and the photoresist in the developing waste solution .

본 발명은 현상폐액에서 포토레지스트를 제거하여 생성된 현상재생액을 가열하는 후처리를 통해 현상공정에서의 현상재생액 사용조건이 만족될 수 있게 해주는 현상액 재생 장치 및 방법을 제공하는 효과를 나타낸다.INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention provides an effect of providing a developer regeneration apparatus and a method for allowing a developer regeneration liquid usage condition in a developing process to be satisfied through a post-treatment for heating a developer regeneration liquid produced by removing photoresist from a developing waste liquid.

본 발명은 현상폐액에서 포토레지스트를 제거하여 현상재생액을 생성하되 현상재생액의 탁도 관리를 통해 현상공정에 품질이 우수한 현상재생액이 공급될 수 있게 해주는 현상액 재생 장치 및 방법을 제공하는 효과를 보여준다.The present invention provides an effect of providing a developer regeneration apparatus and method which can remove a photoresist from a developing waste liquid to generate a developing regeneration liquid, and to supply a developing regeneration liquid having excellent quality to the developing process through turbidity management of the regeneration regeneration liquid Show.

본 발명은 사전에 설정된 흡광도를 만족할 때까지 현상폐액에서 포토레지스트를 분리제거하는 과정을 반복하도록 구성되어 현상공정에 품질이 우수한 현상재생액이 공급될 수 있게 해주는 현상액 재생 장치 및 방법을 제공하는 효과를 보유한다.The present invention provides a developer regeneration apparatus and method which are configured to repeat the process of separating and removing the photoresist from the developing waste solution until a predetermined absorbance is satisfied so that the developer regeneration liquid having an excellent quality can be supplied to the developing process Lt; / RTI >

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 현상액 재생 장치의 블록 구성도
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 현상액 재생 방법의 순서도
도 3은 현상폐액 공급단계의 일 실시예의 순서도
도 4는 현상재생액 생성단계의 일 실시예의 순서도
도 5는 현상재생액 공급단계의 일 실시예의 순서도1 is a block diagram of a developer recovery apparatus according to an embodiment of the present invention;
2 is a flowchart of a developer regeneration method according to an embodiment of the present invention
3 is a flow chart of one embodiment of the development waste liquid supply step
4 is a flow chart of one embodiment of the developing regenerating solution generating step
5 is a flow chart of one embodiment of the developer regeneration liquid supply step

이하에서는 본 발명에 따른 현상액 재생 장치 및 방법을 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 특별한 정의가 없는 한 본 명세서의 모든 용어는 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 기술자가 이해하는 당해 용어의 일반적 의미와 동일하고 만약 본 명세서에 사용된 용어의 의미와 충돌하는 경우에는 본 명세서에 사용된 정의에 따른다. 또한, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 공지 기능 및 구성에 대해 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, a developer regeneration apparatus and method according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Unless defined otherwise, all terms used herein have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs and, if conflict with the meaning of the terms used herein, It follows the definition used in the specification. Further, the detailed description of known functions and configurations that may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention will be omitted.

도 1에는 본 발명의 일 실시예에 따른 현상액 재생 장치의 블록 구성도가 도시되어 있다.1 is a block diagram of a developer regeneration apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 현상액 재생 장치는 현상폐액 공급수단(1), 현상재생액 생성수단(3), 현상재생액 공급수단(5) 및 현상재생액 재순환수단(7)을 포함하고 있다.1, the developer regeneration apparatus of the present invention includes a developing waste liquid supply means 1, a developer regeneration liquid generation means 3, a developing regeneration liquid supply means 5, and a developing regeneration liquid recirculation means 7 have.

상기 현상폐액 공급수단(1)은 현상공정 후 회수된 현상폐액을 공급하는 역할을 수행한다. 상기 현상폐액 공급수단(1)은 현상폐액을 상기 현상재생액 생성수단(3)으로 공급한다. 상기 현상폐액 공급수단(1)은 현상폐액 회수탱크(11), 제1가압수단(12), 냉각수단(13), 제1온도계(14) 및 제1압력계(15)를 포함할 수 있다.The development waste liquid supply means 1 serves to supply the recovered development waste liquid after the development process. The developing waste liquid supplying means (1) supplies the developing waste liquid to the developing / regenerating liquid generating means (3). The developing waste liquid supplying means 1 may include a developing waste liquid collecting tank 11, a first pressing means 12, a cooling means 13, a first thermometer 14 and a first pressure gauge 15.

상기 현상폐액 회수탱크(11)는 현상공정에 사용된 현상폐액을 회수라인(L1)을 통하여 현상기로부터 회수하여 저장하는 부분이다. 상기 현상폐액은 현상공정에서 현상기에 투입되어 사용된 현상액을 의미한다. 현상액으로는 일정 농도(예를 들면, 2.38wt%)의 TMAH 수용액이 일반적으로 사용되며, 현상폐액에는 포토레지스트 성분이 포함되어 있다.The developing waste liquid collecting tank 11 is a part for collecting and storing the developing waste liquid used in the developing process from the developing device through the collecting line L1. The developing waste liquid refers to a developing liquid which is used by being charged into the developing unit in the developing process. As the developing solution, a certain concentration (for example, 2.38 wt%) of TMAH aqueous solution is generally used, and the developing waste solution contains a photoresist component.

본 발명의 현상액 재생 장치는 네거티브형의 포토레지스트가 포함되어 있는 현상폐액을 주된 대상으로 하는데, 이 가운데 대표적인 네거티브형 포토레지스트인 포토아크릴(또는 포토레지스트용 아크릴레이트 수지)의 일반적인 조성은 불포화 카르본산 20~50wt%, 방향족 단량체 20~40wt%, 에톡시화 패티알콜의 메타 아크릴릭에스테르, 이소트리데실 메타아크릴레이트, 스테릴 메타아크릴레이트, 이소데실 메타아크릴레이트, 에틸헥실 메타아크릴레이트, 에틸트리글리콜 메타아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜 메타아크릴레이트 및 부틸 다이글리콜 메타아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선택되는 저유리전이온도 부여 능력이 있는 단량체 3~15wt%, 아크릴 단량체 10~30wt%를 중합하여 제조되며, 유리전이온도가 150 ℃ 이하인 동시에 중량평균 분자량이 10,000~500,000이다. 이와 같은 포토레지스트는 현상폐액 내에 작은 입자 상태로 존재하게 되는데, 그 크기가 온도 23℃일 때 2㎛ 이상이다. 상기 포토레지스트의 비중은 1.1~1.5로서, 상기 현상폐액 내의 현상액의 비중에 비하여 상대적으로 크다.The developer recovery apparatus of the present invention is mainly directed to a development waste solution containing a negative type photoresist. Typical compositions of the photoresist (or photoresist acrylate resin), which is a typical negative type photoresist, include unsaturated carboxylic acid 20 to 50 wt% of an aromatic monomer, 20 to 40 wt% of an aromatic monomer, methacrylic ester of ethoxylated polyhydric alcohol, isotridecyl methacrylate, stearyl methacrylate, isodecyl methacrylate, ethylhexyl methacrylate, Acrylate, methoxypolyethylene glycol methacrylate, and butyl diglycol methacrylate, which is obtained by polymerizing 3 to 15 wt% of a monomer having a low glass transition temperature-imparting ability and 10 to 30 wt% of an acrylic monomer And has a glass transition temperature of 150 DEG C or less, Molecular weight is 10,000 to 500,000. Such photoresist is present in a small particle state in the developing waste solution, and its size is 2 탆 or more when the temperature is 23 캜. The specific gravity of the photoresist is 1.1 to 1.5, which is relatively larger than the specific gravity of the developer in the development waste solution.

상기 현상폐액 회수탱크(11)에는 내부의 현상폐액 저장량을 측정하는 레벨게이지(111)가 포함될 수 있으며, 그 측정결과를 기초로 현상액 재생 장치의 전체적인 제어가 수행될 수도 있다.The developing waste-liquid recovery tank 11 may include a level gauge 111 for measuring the amount of stored developing waste liquid therein, and overall control of the developer regeneration apparatus may be performed based on the measurement result.

상기 제1가압수단(12)은 상기 현상폐액의 공급압력을 생성하는 역할을 수행한다. 상기 현상폐액은 현상폐액 공급관(L2)를 통해 상기 현상재생액 생성수단(3)으로 이송되는데, 후술하는 바와 같이 상기 현상재생액 생성수단(3)에 포함된 사이클론(31)에 투입될 때 일정 수준 이상의 투입압력이 필요하다. 상기 제1가압수단(12)은 이를 위하여 상기 현상폐액의 압력을 일정 수준의 투입압력까지 높여주는 역할을 수행한다. 상기 제1가압수단(12)은 펌프일 수 있으며, 펌프 사용 시 펌프압력은 0.1~0.35㎫로 가동되는 것이 바람직하다.The first pressurizing means (12) serves to generate a supply pressure of the development waste liquid. The developing waste liquid is transferred to the developing and regenerating liquid producing means 3 through the developing waste liquid supply pipe L2. When the developing waste liquid is introduced into the cyclone 31 included in the developing and regenerating liquid generating means 3 A higher input pressure is required. The first pressurizing means 12 serves to increase the pressure of the development waste liquid to a certain level of the input pressure. The first pressurizing means 12 may be a pump, and when the pump is used, the pump pressure is preferably operated at 0.1 to 0.35 MPa.

상기 냉각수단(13)은 상기 현상폐액의 온도를 하강시키는 부분으로 열교환기 등으로 구현될 수 있다. 상기 현상폐액 회수탱크(11) 내의 현상폐액의 온도는 23℃ 정도인데, 상기 냉각수단(13)은 상기 현상폐액의 온도를 5~20℃로 낮추어 준다. 상기 냉각수단(13)을 통해 상기 현상폐액의 온도를 낮추어주는 이유는 상기 현상폐액 내의 포토레지스트의 비중을 높여줌으로써 상기 현상재생액 생성수단(3)에서 포토레지스트의 분리가 더욱 효율적으로 이루어질 수 있게 해주기 위함이다. 상기 냉각수단(13)에 의하여 상기 현상폐액의 온도가 5~20℃가 될 경우 상기 현상폐액 내의 포토레지스트의 비중은 1.3~2.0으로 상승하게 된다.The cooling unit 13 is a part for lowering the temperature of the development waste liquid, and may be implemented by a heat exchanger or the like. The temperature of the development waste liquid in the development waste liquid recovery tank 11 is about 23 占 폚, and the cooling means 13 lowers the temperature of the development waste liquid to 5 to 20 占 폚. The reason why the temperature of the development waste solution is lowered through the cooling means 13 is to increase the specific gravity of the photoresist in the development waste solution so that the photoresist can be more effectively separated from the developer recovery solution generation means 3 For example. The specific gravity of the photoresist in the development waste liquid is increased to 1.3 to 2.0 when the temperature of the development waste liquid becomes 5-20 占 폚 by the cooling means 13.

상기 제1온도계(14)는 상기 냉각수단(13)을 통과한 현상폐액의 온도를 측정하기 위한 것이다. 도 1에 도시되어 있지는 않지만 상기 냉각수단(13)을 통과한 현상폐액의 온도가 설정된 기준보다 높은 경우 상기 현상폐액의 온도를 설정된 온도까지 낮추기 위하여 상기 현상폐액을 상기 현상폐액 회수탱크(11)로 다시 보내줌으로써 상기 냉각수단(13)을 다시 거치도록 해주는 현상폐액 회송라인을 추가적으로 구성하는 것도 가능하다.The first thermometer 14 is for measuring the temperature of the developing waste liquid which has passed through the cooling means 13. Although not shown in FIG. 1, when the temperature of the developing waste liquid passing through the cooling means 13 is higher than a preset reference, the developing waste liquid is supplied to the developing waste liquid recovery tank 11 It is possible to additionally constitute a developing waste liquid returning line for allowing the cooling means (13) to pass through again.

상기 제1압력계(15)는 후술할 현상재생액 생성수단(3)의 사이클론(31)에 투입되는 현상폐액이 상기 사이클론(31)의 투입압력 조건을 만족하는지 측정하기 위한 구성이다. 상기 제1압력계(15)가 측정한 결과에 근거하여 상기 제1가압수단(12)의 출력을 높이거나 낮출 수 있다.The first pressure gauge 15 is a structure for measuring whether or not the developing waste liquid to be introduced into the cyclone 31 of the developing and regenerating liquid generating means 3 to be described later satisfies the input pressure condition of the cyclone 31. The output of the first pressing means 12 can be raised or lowered based on the measurement result of the first pressure gauge 15.

상기 현상재생액 생성수단(3)은 상기 현상폐액 공급수단(1)으로부터 상기 현상폐액을 공급받아 상기 현상폐액 내의 현상액과 포토레지스트의 비중의 차이를 이용해 상기 포토레지스트를 분리 제거하여 상기 현상폐액에서 상기 포토레지스트가 분리된 현상재생액을 생성하는 역할을 수행한다. 상기 현상재생액 생성수단(3)은 사이클론(31), 폐액탱크(32) 및 폐액펌프(33)를 포함할 수 있다.The developer regeneration liquid generating means 3 receives the development waste liquid from the development waste liquid supply means 1 and separates and removes the photoresist using the difference in specific gravity between the developer in the development waste liquid and the photoresist, And the photoresist serves to generate the separated developing regenerant solution. The developer regeneration liquid generating means 3 may include a cyclone 31, a waste liquid tank 32 and a waste liquid pump 33.

상기 사이클론(31)은 상기 현상폐액을 선회 흐름으로 만들고, 상기 포토레지스트에 원심력을 작용시킴으로써 상기 포토레지스트가 분리 제거되도록 하는 장치이다. 상기 사이클론(31)은 투입된 현상폐액에 원심력을 가하여, 비중이 큰 포토레지스트는 분리되어 하방으로 배출되도록 하고, 상기 포토레지스트 보다 비중이 작은 현상액은 상승하여 배출되도록 해준다. 즉, 필터의 사용없이 현상폐액 내의 현상액과 포토레지스트 간의 비중의 차이를 이용하여 현상폐액 내에서 포토레지스트를 분리하여 제거함으로써 상기 현상폐액에서 상기 포토레지스트가 제거된 현상재생액을 생성하여 준다. 이때, 상기 사이클론(31) 전단의 냉각수단(13)에 의해 비중의 차이는 더욱 커져서 분리효율이 더욱 높아지게 된다.The cyclone 31 is a device for making the development waste liquid into a swirling flow and separating and removing the photoresist by applying a centrifugal force to the photoresist. The cyclone 31 applies a centrifugal force to the charged developing liquid so that the photoresist having a large specific gravity is separated and discharged downward, and a developer having a specific gravity smaller than that of the photoresist is lifted up and discharged. That is, the photoresist is separated and removed in the developing waste solution by using the difference in specific gravity between the developing solution in the developing waste solution and the photoresist without using a filter, thereby generating the developing regenerating solution in which the photoresist is removed from the developing solution. At this time, the difference in specific gravity is further increased by the cooling means 13 at the front end of the cyclone 31, so that the separation efficiency is further increased.

상기 사이클론(31)은 현상폐액에서 포토레지스트를 분리하기 위하여 종래 사용되었던 나노필터나 메쉬필터어레이 등과 달리 분리된 포토레지스트가 필터면에 부착됨으로써 폐색을 유발하여 여과 성능을 저하시키는 일이 없으므로 세척이나 정기적인 유지보수를 수행할 필요가 없다. 따라서 세척을 위한 세정제, 초순수 등의 사용이 요구되지 않으므로 환경오염이나 생산비용의 상승 문제가 없으며, 유지보수 과정에서의 유해 화학물질로 인한 안전사고의 발생도 미연에 방지하여 준다.Unlike the nanofilter or mesh filter array conventionally used for separating the photoresist from the developing waste solution, the cyclone 31 does not deteriorate the filtration performance by causing the separated photoresist to adhere to the filter surface to cause clogging, There is no need to perform routine maintenance. Therefore, since there is no need to use a cleaning agent or ultra pure water for cleaning, there is no problem of increase in environmental pollution or production cost, and prevention of safety accidents due to harmful chemical substances during maintenance can be prevented.

상기 폐액탱크(32)는 상기 사이클론(31)에서 제거된 포토레지스트를 수거하여 저장하는 부분이다. 상기 폐액탱크(32)는 상기 사이클론(31)의 하부에 배치되는 것이 바람직하며, 상기 폐액탱크(32)에는 포토레지스트가 농축된 현상폐액이 저장되게 된다.The waste tank 32 is a part for collecting and storing the photoresist removed from the cyclone 31. The waste tank 32 is preferably disposed at a lower portion of the cyclone 31, and the waste liquid in which the photoresist is concentrated is stored in the waste tank 32.

상기 폐액펌프(33)는 상기 폐액탱크(32) 내에 포토레지스트가 농축된 현상폐액이 일정량 이상으로 저장된 경우 이를 외부로 배출시켜주는 역할을 수행한다. 즉, 상기 폐액펌프(33)는 상기 배출관(L3)에 배출압을 제공한다.The waste liquid pump 33 discharges the waste liquid in which the photoresist is concentrated in the waste liquid tank 32 when the waste liquid is stored in a predetermined amount or more. That is, the waste liquid pump 33 provides the discharge pressure to the discharge pipe L3.

상기 현상재생액 공급수단(5)은 현상공정에 상기 현상재생액을 공급하는 역할을 수행한다. 도 1을 참조하면, 상기 현상재생액 생성수단(3)에 의해 생성된 현상재생액은 상기 현상폐액 회수탱크(11)로 회수되어, 상기 현상재생액 공급수단(5)에 의하여 현상재생액 공급라인(L4)를 통하여 현상공정을 수행하는 현상기로 공급되게 된다(이때, 상기 현상폐액 회수탱크(11)는 상기 현상폐액에서 포토레지스트를 제거하여 현상재생액을 생성하는 공정이 진행 중인 경우 상기 회수라인(L1)을 통한 새로운 현상폐액의 유입을 차단시키는 방식으로 운영될 수도 있고, 상기 현상폐액 회수탱크(11)의 내부 공간이 현상기로부터 유입된 현상폐액을 저장하는 공간과 상기 현상재생액을 저장하는 공간으로 구분되어 있음을 전제로 상기 현상폐액에서 포토레지스트를 제거하여 현상재생액을 생성하는 공정과 상기 회수라인(L1)을 통한 새로운 현상폐액의 유입이 동시에 진행되는 방식으로 운영될 수도 있다). 상기 현상재생액 공급수단(5)은 제2가압수단(51), 가열수단(52), 제2온도계(53) 및 제2압력계(54)를 포함할 수 있다.The developing regenerating solution supplying unit 5 serves to supply the developing solution regenerating solution to the developing process. 1, the developing regeneration liquid produced by the developing regeneration liquid producing means 3 is recovered to the developing waste liquid collecting tank 11, and the developing regeneration liquid supplying means 5 supplies the developing regeneration liquid The developing solution is supplied to the developing unit for performing the developing process through the line L4 (in this case, the developing waste solution collecting tank 11 is provided with the developing solution recovery tank 11 for removing the photoresist from the developing solution solution, And may be operated in such a manner as to block the inflow of new developing waste liquid through the line L1. The interior space of the developing waste liquid collecting tank 11 may be a space for storing the developing waste liquid, A step of removing the photoresist from the developing waste liquid to generate a developing regenerating liquid, and a step of supplying a new developing waste liquid through the collecting line (L1) Or may be operated in a manner that proceeds to. The developer regeneration liquid supply means 5 may include a second pressurizing means 51, a heating means 52, a second thermometer 53 and a second pressure gauge 54.

상기 제2가압수단(51)은 상기 현상재생액 공급라인(L4)을 통해 상기 현상재생액을 현상공정의 현상기로 공급하는 데에 필요한 공급압력을 생성하는 역할을 수행한다. 상기 제2가압수단(51)은 상기 제1가압수단(12)과 마찬가지로 펌프 등으로 구현될 수 있다.The second pressurizing unit 51 serves to generate a supply pressure necessary to supply the developer regenerating liquid to the developing unit of the developing process through the developing regenerant supply line L4. The second pressurizing means 51 may be implemented by a pump or the like as in the case of the first pressurizing means 12.

상기 가열수단(52)은 상기 현상재생액의 온도를 상승시키는 역할을 수행한다. 상기 가열수단(52)으로는 히터 등이 사용될 수 있다. 전술한 바와 같이 상기 사이클론(31)에서 상기 현상폐액 내의 포토레지스트를 효율적으로 분리 제거하기 위하여 상기 냉각수단(13)을 통해 상기 현상폐액의 온도를 5~20℃로 낮추어 주므로, 생성된 현상재생액의 온도는 현상공정에서 사용되는 온도보다 낮은 상태가 된다. 상기 가열수단(52)은 상기 현상재생액의 낮은 온도를 현상공정의 사용조건에 부합하도록 높여주는 역할을 수행한다.The heating means 52 serves to raise the temperature of the regenerating liquid. As the heating means 52, a heater or the like may be used. As described above, since the temperature of the development waste solution is lowered to 5 to 20 DEG C through the cooling means 13 in order to efficiently separate and remove the photoresist in the development waste solution in the cyclone 31, Is lower than the temperature used in the developing process. The heating means 52 serves to increase the low temperature of the developing and regenerating liquid to meet the use conditions of the developing process.

상기 제2온도계(53)는 상기 가열수단(52)을 통과한 현상재생액의 온도를 측정하기 위한 것이다. 즉, 상기 가열수단(52)을 통과한 현상재생액의 온도가 현상공정의 사용조건에 부합하는 온도를 가지는지 측정함으로써 그 측정값에 기초하여 상기 가열수단(52)의 제어가 이루어질 수 있게 해준다.The second thermometer 53 is for measuring the temperature of the developing regenerating solution which has passed through the heating means 52. That is, it is possible to control the heating means 52 on the basis of the measured value by measuring whether the temperature of the developing regenerating liquid passed through the heating means 52 has a temperature that matches the use conditions of the developing process .

도 1에 도시되어 있지는 않지만 상기 가열수단(52)을 통과한 현상재생의 온도가 설정된 기준보다 낮은 경우 상기 현상재생의 온도를 현상공정의 사용조건에 부합하는 온도까지 높이기 위하여 상기 현상재생액을 상기 가열수단(52)으로 회송시켜주는 현상재생액 회송라인을 추가적으로 구성하는 것도 가능하다.Although not shown in Fig. 1, when the temperature of the regeneration after passing through the heating means 52 is lower than the set reference, the regeneration regeneration liquid is preferably regenerated so as to raise the temperature of the regeneration regeneration to a temperature that matches the use conditions of the developing process It is also possible to additionally constitute a developing regenerant liquid reflux line which is returned to the heating means 52. [

상기 제2압력계(54)는 상기 현상재생액 공급라인(L4) 내의 현상재생액의 압력을 측정하는 역할을 수행한다. 상기 제2압력계(54)의 측정결과에 기초하여 상기 현상재생액이 현상공정에 투입되기에 적합한 압력조건을 가지는지 판단하고, 이에 기초하여 상기 제2가압수단(51)의 출력을 조절할 수 있다.The second pressure gage 54 serves to measure the pressure of the developing regenerating solution in the developing regenerating solution supplying line L4. Based on the measurement result of the second pressure gauge 54, whether or not the developer regeneration liquid has a pressure condition suitable for input to the developing process, and based on this, the output of the second pressure means 51 can be adjusted .

상기 현상재생액 재순환수단(7)은 상기 현상재생액 생성수단(3)이 생성한 현상재생액의 포토레지스트 농도가 사전에 설정된 기준에 미달할 경우 상기 현상재생액을 상기 현상폐액 공급수단(1)에 현상폐액으로 재유입시켜주는 역할을 수행한다. 상기 현상재생액 재순환수단(7)은 탁도 측정수단(71)과 재순환라인(72)을 포함할 수 있다.When the photoresist concentration of the developing regenerating solution generated by the developing solution regenerating means (3) is lower than a preset reference, the developing regenerating solution recirculating means (7) recovers the developing regenerating solution from the developing solution supplying means ) To the developing waste liquid. The developing and regenerating liquid recirculating means 7 may include turbidity measuring means 71 and a recirculation line 72.

상기 탁도 측정수단(71)은 상기 현상재생액의 포토레지스트의 함량을 파악하기 위하여 상기 현상재생액의 탁도를 측정하는 역할을 수행한다. 상기 탁도 측정수단(71)은 흡광도계일 수 있다. 상기 현상재생액 생성수단(3)에 의해 생성된 현상재생액에는 상기 사이클론(31)에서 완전히 분리 제거되지 못한 또는 원하는 기준의 포토레지스트 농도를 초과하는 포토레지스트가 포함되어 있을 수 있다. 상기 현상폐액의 상태나, 상기 현상재생액 생성수단(3)의 가동 조건 등의 영향으로 상기 현상재생액 내애 포토레지스트 여전히 다량 포함되어 있음에도 불구하고 이를 다시 현상공정의 현상기로 공급할 경우 현상공정의 품질저하를 야기하게 된다.The turbidity measuring means 71 serves to measure the turbidity of the developing regenerating solution in order to grasp the content of the photoresist of the developing regenerating solution. The turbidity measuring means 71 may be an absorbance meter. The developer regeneration liquid produced by the developer regeneration solution producing means 3 may contain photoresist which is not completely separated or removed from the cyclone 31 or exceeds the photoresist concentration of the desired reference. Even if a large amount of the photoresist is included in the development regenerant solution due to the influence of the state of the development waste solution and the operation condition of the development and regeneration solution generating means 3, Resulting in deterioration.

이와 같은 문제를 방지하기 위하여 상기 현상재생액 내의 포토레지스트 함량에 대한 일정한 기준을 사전에 세워두고, 이를 만족할 경우에만 현상공정에 공급하는 것이 바람직하다. 이때, 상기 탁도 측정수단(71)을 통해 상기 현상재생액의 포토레지스트의 함량이 사전에 설정된 기준을 만족하는지 여부를 확인할 수 있게 된다.In order to prevent such a problem, it is preferable that a certain criterion for the content of the photoresist in the developer regenerating solution is set in advance and supplied to the developing process only when it is satisfied. At this time, it is possible to confirm whether the content of the photoresist of the developing regenerating solution satisfies a preset reference through the turbidity measuring means 71.

구체적으로, 상기 포토레지스트가 포토아크릴인 경우 포토아크릴의 빛 투과율은 95%이상 되기 때문에, 기존 탁도 측정수단에서는 측정하지 못한 파장 대역에 대하여 포토아크릴 현상폐액 샘플 테스트를 통해 측정 가능한 파장의 범위를 찾아내어, 해당 파장 범위의 파장으로 탁도를 측정하여야 한다. 일례로, 텅스텐 램프와 자외선가시 스펙트로포토미터(UV-Visible spectro photometer)를 써서, 포토다이오드 어레이(photodiode array)로 빛을 검출하면서, TMAH 용액에 혼합된 포토아크릴의 200~ 800nm 파장 영역에 대한 투과도를 측정하면 210~220nm의 파장대 빛은 잘 투과하지 않음을 알 수 있다. 따라서 이러한 경우 흡광도계를 사용하여 210nm 내지 220nm 부근 파장의 빛의 흡광도를 측정함으로써 포토아크릴 현상폐액의 포토아크릴 탁도를 정확히 측정할 수 있게 된다.Specifically, when the photoresist is photoacrylic, the light transmittance of the photoacrylic is 95% or more. Therefore, the range of the wavelength that can be measured through the photoacid developing waste liquid sample test is found with respect to the wavelength band that can not be measured by the conventional turbidity measuring means The turbidity should be measured with the wavelength in the corresponding wavelength range. For example, using a tungsten lamp and a UV-Visible spectro photometer, light is detected by a photodiode array, and the transmittance of the photoacryl mixed with the TMAH solution to the wavelength range of 200 to 800 nm It can be seen that the light of the wavelength range of 210 to 220 nm is not well transmitted. Therefore, in this case, by measuring the absorbance of light having a wavelength in the vicinity of 210 nm to 220 nm using an absorbance meter, it is possible to accurately measure the photoacryl turbidity of the waste photoacid developing solution.

상기 재순환라인(72)은 상기 흡광도계의 측정 결과가 사전에 설정된 기준에 미달할 경우 상기 현상재생액을 상기 현상폐액 공급수단(1)에 현상폐액으로 재유입되도록 해주는 역할을 수행한다.The recycle line 72 plays a role of causing the developing regenerant liquid to be reintroduced into the developing waste liquid feeding means 1 when the measured result of the absorbance meter falls below a preset reference.

도 1을 참조하면, 상기 현상재생액 생성수단(3)에 의해 생성된 현상재생액은 상기 현상폐액 회수탱크(11)로 회수된다. 회수된 현상재생액은 상기 현상재생액 공급수단(5)에 의하여 현상재생액 공급라인(L4)을 통하여 현상공정을 수행하는 현상기로 공급되거나 혹은 상기 현상재생액 생성수단(3)으로 다시 공급될 수 있게 되어 있다. 따라서 도 1의 실시예에서 상기 재순환라인(72)은 상기 탁도 측정수단의 측정 결과가 사전에 설정된 기준에 미달할 경우 상기 현상재생액을 상기 현상폐액 공급수단(1)에 현상폐액으로 재유입되도록 해주는 역할뿐만 아니라 상기 탁도 측정수단의 측정 결과가 사전에 설정된 기준을 만족할 경우 상기 현상재생액을 상기 현상재생액 공급수단(5)에 공급하는 역할도 동시에 수행하게 되어 있다.Referring to FIG. 1, the developing regeneration liquid produced by the developing regeneration liquid producing means 3 is recovered to the developing waste liquid collecting tank 11. The recovered developer recovery liquid is supplied to the developing apparatus for performing the developing process through the developing / regenerating liquid supply line L4 by the developing / regenerating liquid supplying means 5 or supplied again to the developing / regenerating liquid generating means 3 It is possible. Therefore, in the embodiment of FIG. 1, when the measurement result of the turbidity measuring means is lower than a predetermined reference, the recycle line 72 is set so that the recycled liquid can be reintroduced into the developing waste liquid feeding means 1 Regeneration liquid supply means (5) when the measurement result of the turbidity measurement means satisfies a preset reference.

그러나 상기 현상재생액이 상기 현상폐액 회수탱크(11)로 회수되지 않도록 구성된 실시예 즉, 상기 현상재생액의 회수가 별도의 공간에서 이루어지는 실시예에서는 상기 재순환라인(72)이 상기 탁도 측정수단의 측정 결과가 사전에 설정된 기준에 미달할 경우 상기 현상재생액을 상기 현상폐액 공급수단(1)에 현상폐액으로 재유입되도록 해주는 역할만을 수행하는 형태로 구성될 수도 있다.However, in the embodiment in which the regenerated regenerant solution is not recovered to the developing waste solution collection tank 11, that is, in the embodiment where the recovery of the regenerated regenerant solution is performed in a separate space, the recycling line 72 And may be configured to perform only the function of causing the developing regenerant solution to be reintroduced into the developing waste solution supply means 1 when the measurement result is lower than a predetermined reference value.

도 2에는 본 발명의 일 실시예에 따른 현상액 재생 방법의 순서도가 도시되어 있다.FIG. 2 is a flowchart of a method for regenerating a developer according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 현상액 재생 방법은 현상폐액 공급단계(S1), 현상재생액 생성단계(S3), 현상재생액 탁도 측정단계(S5) 및 현상재생액 공급단계(S7)를 포함하고 있다. 상기 현상액 재생 방법은 위에서 살펴본 바와 같은 본 발명에 따른 현상액 재생 장치를 통해 수행될 수 있다.Referring to FIG. 2, a method of regenerating a developer according to an exemplary embodiment of the present invention includes the steps of supplying a developing waste solution (S1), a regenerating regenerant solution generating step (S3), a regenerating regenerating solution turbidity measuring step (S5) (S7). The developer regeneration method may be performed through the developer regeneration apparatus according to the present invention as described above.

상기 현상폐액 공급단계(S1)는 현상폐액 공급수단이 현상공정 후 회수된 현상폐액을 상기 현상재생액 생성수단(3)에 공급하는 단계이다. 도 3에는 상기 현상폐액 공급단계(S1)의 일 실시예의 순서도가 도시되어 있는데, 이를 참조하면, 상기 현상폐액 공급단계(S1)는 제1공급압력 생성단계(S11) 및 냉각단계(S13)를 포함하고 있다.The developing waste liquid supplying step (S1) is a step of supplying the developing waste liquid, which has been collected after the developing process, to the developing / regenerating liquid generating means (3). FIG. 3 is a flowchart of one embodiment of the development waste liquid supply step S1. Referring to FIG. 3, the development waste liquid supply step S1 includes a first supply pressure generation step S11 and a cooling step S13 .

상기 제1공급압력 생성단계(S11)는 상기 제1가압수단(12)이 상기 현상폐액의 압력을 상승시키는 단계이다. 상기 현상폐액은 현상폐액 공급관(L2)를 통해 상기 현상재생액 생성수단(3)으로 이송되는데, 전술한 바와 같이 상기 현상재생액 생성수단(3)에 포함된 사이클론(31)에 투입될 때 일정 수준 이상의 압력이 필요하다. 상기 제1공급압력 생성단계(S11)를 통해 상기 현상폐액의 압력은 상기 사이클론(31)에 투입되는 데에 있어 적정한 압력으로 상승하게 된다. 상기 제1가압수단(12)은 전술한 바와 같이 펌프일 수 있으며, 펌프 사용 시 펌프압력은 0.1~0.35㎫로 가동되는 것이 바람직하다.The first supply pressure generating step S11 is a step in which the first pressurizing means 12 raises the pressure of the developing waste liquid. The developing waste liquid is transferred to the developing and regenerating liquid producing means 3 through the developing waste liquid supply pipe L2. When the developing waste liquid is supplied to the cyclone 31 included in the developing and regenerating liquid generating means 3 as described above, Or more. Through the first supply pressure generating step S11, the pressure of the developing waste liquid is raised to a proper pressure to be inputted into the cyclone 31. [ The first pressurizing means 12 may be a pump as described above, and when the pump is used, the pump pressure is preferably operated at 0.1 to 0.35 MPa.

상기 냉각단계(S13)는 상기 냉각수단(13)이 상기 현상폐액의 온도를 하강시키는 단계이다. 본 발명의 현상액 재생 방법은 네거티브형의 포토레지스트가 포함되어 있는 현상폐액을 주된 대상으로 하는데, 네거티브형 포토레지스트인 포토아크릴(또는 포토레지스트용 아크릴레이트 수지)의 일반적인 조성 및 특성은 위에서 살펴본 바와 같다. 상기 냉각단계(S11)는 전술한 바와 같이 상기 현상폐액의 온도를 5~20℃로 낮추어 주는 방식으로 수행될 수 있다. 일반적으로 상기 현상폐액 회수탱크(11) 내의 현상폐액의 온도는 23℃ 정도이며 그 속에 포함된 포토레지스트의 비중은 1.1~1.5 정도이다. 상기 냉각단계(S11)를 통해 상기 현상폐액의 온도가 5~20℃로 낮아질 경우 상기 현상폐액 내의 포토레지스트의 비중은 1.3~2.0으로 상승하게 되고, 그 결과 상대적 비중의 차이가 커져 상기 현상재생액 생성수단(3)에서 상기 포토레지스트의 분리가 더욱 효율적으로 이루어질 수 있게 된다.The cooling step (S13) is a step in which the cooling means (13) lowers the temperature of the development waste liquid. The developer recycling method of the present invention is mainly directed to a developing waste solution containing a negative type photoresist. The general composition and characteristics of the negative type photoresist, photoacryl (or photoresist acrylate resin) . The cooling step S11 may be performed by lowering the temperature of the development waste solution to 5 to 20 占 폚 as described above. In general, the temperature of the developing waste liquid in the developing waste liquid collecting tank 11 is about 23 占 폚, and the specific gravity of the photoresist contained therein is about 1.1 to 1.5. When the temperature of the development waste solution is lowered to 5 to 20 캜 through the cooling step S11, the specific gravity of the photoresist in the development waste solution is increased to 1.3 to 2.0, resulting in a larger difference in relative specific gravity, So that the photoresist can be more efficiently separated from the generating means 3.

상기 냉각단계(S13)는 상기 현상폐액의 온도가 설정된 온도까지 낮아진 상태에서 다음 단계가 진행되도록 상기 현상폐액의 온도가 설정된 온도까지 낮아지지 않은 경우 상기 현상폐액을 상기 냉각수단(13)으로 재투입하여 반복적인 냉각이 이루어지도록 해주는 방식으로 진행되는 것이 바람직하다. 즉, 상기 냉각단계(S13)는 상기 현상폐액이 설정된 온도까지 낮아질 때까지 반복적으로 진행될 수 있다.In the cooling step S13, if the temperature of the development waste solution is not lowered to the set temperature so that the next step is performed in a state where the temperature of the development waste solution is lowered to the set temperature, the development waste solution is returned to the cooling means 13 So that the cooling is repeatedly performed. That is, the cooling step S13 may be repeatedly performed until the development waste liquid is lowered to the set temperature.

상기 현상재생액 생성단계(S3)는 상기 현상재생액 생성수단(3)이 공급된 현상폐액 내의 현상액과 포토레지스트의 비중의 차이를 이용해 상기 포토레지스트를 분리 제거함으로써 상기 현상폐액에서 상기 포토레지스트가 제거된 현상재생액을 생성하는 단계이다. 도 4에는 상기 현상재생액 생성단계(S3)의 일 실시예의 순서도가 도시되어 있는데, 이를 참조하면, 상기 현상재생액 생성단계(S3)는 포토레지스트 분리단계(S31), 현상재생액 배출단계(S33) 및 폐액 수거단계(S35)를 포함하여 수행될 수 있다.In the developing regeneration liquid generating step (S3), the photoresist is separated and removed by using the difference between the specific gravity of the developer in the developing waste solution supplied to the developing regenerating solution generating means (3) and the photoresist, And generating the removed phenomenon regeneration solution. FIG. 4 is a flow chart of one embodiment of the developing regeneration solution generating step S3. Referring to FIG. 4, the developing regeneration solution generating step S3 includes a photoresist separating step S31, S33) and a waste liquid collecting step (S35).

상기 포토레지스트 분리단계(S31)는 상기 사이클론(31)이 상기 현상폐액을 선회 흐름으로 만들고, 상기 포토레지스트에 원심력을 작용시킴으로써 상기 포토레지스트를 분리 제거하는 단계이다. 상기 포토레지스트 분리단계(S31)에서 상기 사이클론(31)은 투입된 현상폐액에 원심력을 가하여, 비중이 큰 포토레지스트는 분리되어 하방으로 배출되도록 하고, 상기 포토레지스트 보다 비중이 가벼운 현상액은 상승하여 배출되도록 만들어준다. 즉, 필터의 사용없이 비중의 차이를 이용하여 현상폐액 내에서 포토레지스트를 분리하여 제거할 수 있게 해준다.The photoresist separation step S31 is a step of separating and removing the photoresist by causing the cyclone 31 to make the developing effluent a swirling flow and applying a centrifugal force to the photoresist. In the photoresist separating step S31, the cyclone 31 applies a centrifugal force to the charged developing liquid so that the photoresist having a large specific gravity is separated and discharged downward, and the developer having a specific gravity smaller than that of the photoresist is lifted up to be discharged It makes it. That is, the photoresist can be separated and removed in the developing waste solution using the difference in specific gravity without using the filter.

상기 현상재생액 배출단계(S33)는 상기 사이클론(31)이 상기 현상폐액에서 상기 포토레지스트가 분리 제거된 현상재생액을 배출하는 단계이다. 전술한 바와 같이 상기 사이클론(31)에서 상기 포토레지스트의 분리가 이루어지면 상기 현상폐액에서 상기 포토레지스트가 분리된 현상재생액이 생성되고 상기 현상재생액은 비중이 낮아 상기 사이클론(31)의 상부로 배출되게 된다.The developing regenerating solution discharging step (S33) is a step in which the cyclone (31) discharges the developing solution regenerated in which the photoresist is separated and removed from the developing solution. As described above, when the photoresist is separated from the cyclone 31, a developing regenerated solution in which the photoresist is separated from the developing solution is generated and the developing regenerant has a low specific gravity, .

상기 폐액 수거단계(S35)는 상기 폐액탱크(32)가 상기 사이클론(31)에서 제거된 포토레지스트를 수거하는 단계이다. 상기 폐액 수거단계(S35)는 상기 현상재생액 배출단계(S33)와 동시에 진행될 수 있다. 상기 현상폐액에서 상대적으로 큰 비중을 가지는 포토레지스트는 상기 사이클론(31)에서 분리 제거되어 하방으로 배출되게 되는데, 상기 폐액 수거단계(S35)를 통해 상기 폐액탱크(32)에는 포토레지스트가 농축된 현상폐액이 저장되게 된다.The waste liquid collecting step (S35) is a step of collecting the photoresist removed from the cyclone (31) by the waste liquid tank (32). The waste solution collection step (S35) may be carried out simultaneously with the development / regeneration solution discharge step (S33). The photoresist having a relatively large specific gravity in the development waste liquid is separated and removed from the cyclone 31 and discharged downward. In the waste liquid tank 32 through the waste liquid collection step S35, The waste liquid is stored.

상기 폐액 수거단계(S35)에서 상기 폐액탱크(32)에 저장된 포토레지스트가 농축된 현상폐액은 상기 폐액펌프(33)가 제공하는 배출압에 의해 상기 배출관(L3)을 통해 외부로 배출될 수 있다.The developing waste liquid in which the photoresist stored in the waste liquid tank 32 in the waste liquid collecting step S35 is condensed can be discharged to the outside through the discharge pipe L3 by the discharge pressure provided by the waste liquid pump 33 .

상기 현상재생액 탁도 측정단계(S5)는 상기 현상재생액의 탁도를 측정하여 사전에 설정된 기준에 미달할 경우 상기 현상폐액 공급단계(S1)로 되돌아가 상기 현상재생액을 상기 현상폐액으로 공급하고, 사전에 설정된 기준을 만족할 경우 상기 현상재생액 공급단계(S7)가 진행되도록 해주는 단계이다.The turbidity measurement step S5 of measuring the turbidity of the development regenerating solution measures the turbidity of the development regenerating solution and returns to the development waste solution supply step S1 when the turbidity of the development solution regenerate solution is lower than a predetermined reference value to supply the development solution to the development solution , And proceeds to the developing regenerant solution supply step (S7) when the predetermined criteria are satisfied.

상기 현상재생액 탁도 측정단계(S5)는 상기 현상재생액 재순환수단(7)에 의해 수행될 수 있다. 즉, 상기 탁도 측정수단(71)이 상기 현상재생액의 탁도를 측정하고, 측정된 탁도가 사전에 설정된 기준에 미달할 경우 상기 재순환라인(72)을 통해 상기 현상재생액을 상기 현상폐액 공급수단(1)에 현상폐액으로 재유입시켜주는 방식으로 수행될 수 있다.The developing and regenerating liquid turbidity measuring step S5 may be performed by the developing and regenerating liquid recirculating means 7. That is, the turbidity measuring means 71 measures the turbidity of the developing regenerant solution, and when the measured turbidity is below a preset reference, the developing regenerant solution is supplied to the developing solution supply means To the developing solution (1).

상기 현상재생액 생성단계(S3)에서 생성된 현상재생액에는 상기 사이클론(31)에서 완전히 분리 제거되지 못한 포토레지스트가 포함되어 있을 수 있다. 상기 현상폐액의 상태나, 상기 현상재생액 생성수단(3)의 가동 조건 등의 영향으로 상기 현상재생액 내애 포토레지스트 여전히 다량 포함되어 있음에도 불구하고 이를 다시 현상공정의 현상기로 공급할 경우 현상공정의 품질저하를 야기하게 된다. 그러나 위에서 설명한 바와 같이 상기 현상재생액의 탁도 기준을 설정하여 두고, 이를 근거로 상기 현상재생액 내의 포토레지스트의 함량을 판단하고, 현상공정으로의 공급여부를 결정함으로써 현상재생액 및 현상공정의 품질을 일정 수준 이상으로 유지할 수 있게 된다.The developing regeneration liquid generated in the developing regeneration liquid generating step (S3) may include a photoresist which is not completely separated and removed from the cyclone 31. Even if a large amount of the photoresist is included in the development regenerant solution due to the influence of the state of the development waste solution and the operation condition of the development and regeneration solution generating means 3, Resulting in deterioration. However, as described above, the turbidity standard of the developing regenerating solution is set, the content of the photoresist in the developing regenerating solution is determined based on the reference, and whether or not the supply of the photoresist to the developing process is determined, Can be maintained at a certain level or more.

상기 현상재생액 공급단계(S7)는 상기 현상재생액 공급수단(5)이 생성된 현상재생액을 현상공정에 공급하는 단계이다. 도 5에는 상기 현상재생액 공급단계(S7)의 일 실시예의 순서도가 도시되어 있는데, 이를 참조하면, 상기 현상재생액 공급단계(S7)는 제2공급압력 생성단계(S71) 및 가열단계(S73)를 포함하여 수행될 수 있다.The developing regenerating solution supplying step (S7) is a step of supplying the developing solution regenerating solution to the developing process. 5 is a flow chart of one embodiment of the regenerating liquid regeneration step S7. Referring to FIG. 5, the regeneration regeneration liquid supplying step S7 includes a second supply pressure generating step S71 and a heating step S73 ). ≪ / RTI >

상기 제2공급압력 생성단계(S71)는 상기 제2가압수단(51)이 상기 현상재생액의 압력을 상승시키는 단계이다. 구체적으로 상기 제2공급압력 생성단계(S71)는 상기 현상재생액을 현상공정의 현상기로 공급하는 데 필요한 공급압력을 생성하는 단계이다.In the second supply pressure generating step S71, the second pressurizing means 51 raises the pressure of the regenerating liquid. Specifically, the second supply pressure generating step (S71) is a step of generating a supply pressure necessary to supply the developer regenerating solution to the developing device of the developing process.

상기 가열단계(S73)는 상기 가열수단(52)이 상기 현상재생액의 온도를 상승시키는 단계이다. 전술한 바와 같이 상기 현상폐액은 상기 냉각단계(S13)를 거치며 상기 현상폐액 내의 포토레지스트의 비중을 높이기 위하여 그 온도가 5~20℃로 낮추어진 상태이므로, 생성된 현상재생액의 온도는 현상공정에서 사용되는 온도보다 낮은 상태이다. 상기 가열단계(S73)를 통해 이와 같은 현상재생액의 온도가 현상공정의 사용조건에 부합되도록 높아지게 된다.In the heating step S73, the heating means 52 raises the temperature of the regenerating liquid. As described above, since the temperature of the development waste solution is lowered to 5 to 20 占 폚 in order to increase the specific gravity of the photoresist in the development waste solution through the cooling step S13, Is lower than the temperature used in Fig. Through the heating step (S73), the temperature of the developer regenerating solution is increased to meet the use conditions of the developing process.

이상에서, 출원인은 본 발명의 다양한 실시예들을 설명하였지만, 이와 같은 실시예들은 본 발명의 기술적 사상을 구현하는 일 실시예일 뿐이며, 본 발명의 기술적 사상을 구현하는 한 어떠한 변경예 또는 수정예도 본 발명의 범위에 속하는 것으로 해석되어야 한다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, Should be interpreted as falling within the scope of.

1: 현상폐액 공급수단
11: 현상폐액 회수탱크 12: 제1가압수단
13: 냉각수단 14: 제1온도계
15: 제1압력계
3: 현상재생액 생성수단
31: 사이클론 32: 폐액탱크
33: 폐액펌프
5: 현상재생액 공급수단
51: 제2가압수단 52: 가열수단
53: 제2온도계 54: 제2압력계
7: 현상재생액 재순환수단
71: 탁도 측정수단 72: 재순환라인1: Development waste liquid supply means
11: developing waste liquid collecting tank 12: first pressurizing means
13: cooling means 14: first thermometer
15: 1st pressure gauge
3: developing regenerating solution generating means
31: Cyclone 32: Waste liquid tank
33: Waste liquid pump
5: developing regenerant supply means
51: second pressing means 52: heating means
53: second thermometer 54: second pressure gauge
7: developing regenerating solution recirculating means
71: turbidity measuring means 72: recirculation line

Claims (17)

현상공정 후 회수된 현상폐액을 공급하는 현상폐액 공급수단과,
상기 현상폐액 공급수단으로부터 상기 현상폐액을 공급받아 상기 현상폐액 내의 현상액과 포토레지스트의 비중의 차이를 이용해 상기 포토레지스트를 분리 제거하여 상기 현상폐액에서 상기 포토레지스트가 분리된 현상재생액을 생성하는 현상재생액 생성수단과,
현상공정에 상기 현상재생액을 공급하는 현상재생액 공급수단을 포함하는 현상액 재생 장치.
A developing waste liquid supplying means for supplying the recovered developing waste liquid after the developing process,
The phenomenon that the photoresist is separated and removed by using the difference between the specific gravity of the developing solution in the developing waste solution and the photoresist supplied from the developing waste liquid supplying means to generate the developing regenerating solution in which the photoresist is separated from the developing waste liquid Regeneration liquid generating means,
And a developing regeneration liquid supply means for supplying the developing regeneration liquid to the developing process.
제1항에 있어서,
상기 현상폐액 공급수단은 상기 현상폐액의 온도를 하강시키는 냉각수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 현상액 재생 장치.
The method according to claim 1,
Wherein said development waste liquid supply means includes cooling means for lowering the temperature of said development waste liquid.
제2항에 있어서,
상기 현상재생액 공급수단은 상기 현상재생액의 온도를 상승시키는 가열수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 현상액 재생 장치.
3. The method of claim 2,
Wherein said developer regenerating solution supplying means includes heating means for raising the temperature of said developer regenerating solution.
제3항에 있어서,
상기 현상재생액 생성수단은 상기 현상폐액을 선회 흐름으로 만들고, 상기 포토레지스트에 원심력을 작용시킴으로써 상기 포토레지스트를 분리 제거하는 사이클론을 포함하는 것을 특징으로 하는 현상액 재생 장치.
The method of claim 3,
Wherein the developer regeneration liquid generating means includes a cyclone for separating and removing the photoresist by making the development waste liquid a swirling flow and applying centrifugal force to the photoresist.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 현상폐액 공급수단은 상기 현상폐액의 공급압력을 생성하기 위한 제1가압수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 현상액 재생 장치.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein said development waste liquid supply means includes first pressure means for generating a supply pressure of said development waste liquid.
제4항에 있어서,
상기 현상재생액 생성수단은 상기 사이클론에서 제거된 포토레지스트를 수거하는 폐액탱크를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 현상액 재생 장치.
5. The method of claim 4,
Wherein the developer regeneration liquid generating means further comprises a waste liquid tank for collecting the photoresist removed from the cyclone.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 현상재생액 공급수단은 상기 현상재생액의 공급압력을 생성하기 위한 제2가압수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 현상액 재생 장치.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein said developer regeneration liquid supply means includes second pressure means for generating a supply pressure of said developer regeneration liquid.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 현상재생액 생성수단이 생성한 현상재생액의 포토레지스트 농도가 사전에 설정된 기준에 미달할 경우 상기 현상재생액을 상기 현상폐액 공급수단에 현상폐액으로 재유입시켜주는 현상재생액 재순환수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 현상액 재생 장치.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
And a developer regeneration liquid recirculation means for causing the developer regeneration liquid to flow back to the development waste liquid as the development waste liquid when the photoresist concentration of the developer regeneration liquid generated by the development regeneration liquid generation means is lower than a predetermined reference And a developer supply unit for supplying developer to the developer supply unit.
제8항에 있어서,
상기 현상재생액 재순환수단은,
상기 현상재생액의 탁도를 측정하는 탁도 측정수단과,
상기 탁도 측정수단의 측정 결과가 사전에 설정된 기준에 미달할 경우 상기 현상재생액을 상기 현상폐액 공급수단에 현상폐액으로 재유입되도록 해주는 재순환라인을 포함하는 것을 특징으로 하는 현상액 재생 장치.
9. The method of claim 8,
The recycle /
Turbidity measuring means for measuring the turbidity of the developing regenerating solution;
And a recirculation line for allowing the developer regeneration liquid to be reintroduced into the development waste liquid to the development waste liquid supply means when the measurement result of the turbidity measurement means is lower than a preset reference.
현상폐액 공급수단이 현상공정 후 회수된 현상폐액을 현상재생액 생성수단에 공급하는 현상폐액 공급단계와,
상기 현상재생액 생성수단이 공급된 현상폐액 내의 현상액과 포토레지스트의 비중의 차이를 이용해 상기 포토레지스트를 분리 제거하여 상기 현상폐액에서 상기 포토레지스트가 제거된 현상재생액을 생성하는 현상재생액 생성단계와,
현상재생액 공급수단이 생성된 현상재생액을 현상공정에 공급하는 현상재생액 공급단계를 포함하는 현상액 재생 방법.
A developing waste liquid supplying step of supplying the developing waste liquid recovered after the developing process to the developing regeneration liquid generating means;
Wherein the developing regenerant solution producing means separates and removes the photoresist using the difference in specific gravity between the developing solution and the photoresist in the supplied developing solution to generate a developing regenerating solution from which the photoresist has been removed from the developing solution, Wow,
And a developing regeneration liquid supplying step of supplying the developing regeneration liquid to the developing process.
제10항에 있어서,
상기 현상폐액 공급단계는 냉각수단이 상기 현상폐액의 온도를 하강시키는 냉각단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 현상액 재생 방법.
11. The method of claim 10,
Wherein the developing waste solution supplying step includes a cooling step in which the cooling means lowers the temperature of the development waste solution.
제11항에 있어서,
상기 현상재생액 공급단계는 가열수단이 상기 현상재생액의 온도를 상승시키는 가열단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 현상액 재생 방법.
12. The method of claim 11,
Wherein the developer regeneration liquid supply step includes a heating step in which the heating means raises the temperature of the developer regeneration liquid.
제12항에 있어서,
상기 현상재생액 생성단계는 사이클론이 상기 현상폐액을 선회 흐름으로 만들고, 상기 포토레지스트에 원심력을 작용시킴으로써 상기 포토레지스트를 분리 제거하는 포토레지스트 분리단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 현상액 재생 방법.
13. The method of claim 12,
Wherein the developing regenerating liquid generating step includes a photoresist separating step of separating and removing the photoresist by making the developing waste liquid into a swirling flow by a cyclone and applying centrifugal force to the photoresist.
제10항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 현상폐액 공급단계는 제1가압수단이 상기 현상폐액의 압력을 상승시키는 제1공급압력 생성단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 현상액 재생 방법.
14. The method according to any one of claims 10 to 13,
Wherein the developing waste liquid supplying step includes a first supplying pressure generating step in which the first pressurizing means raises the pressure of the developing waste liquid.
제13항에 있어서,
상기 현상재생액 생성단계는, 상기 포토레지스트 분리단계 후에,
상기 사이클론이 상기 현상폐액에서 상기 포토레지스트가 분리 제거된 현상재생액을 배출하는 현상재생액 배출단계와,
폐액탱크가 상기 사이클론에서 제거된 포토레지스트를 수거하는 폐액 수거단계를 더 포함하되,
상기 현상재생액 배출단계와 상기 폐액 수거단계는 동시에 진행되는 것을 특징으로 하는 현상액 재생 장치.
14. The method of claim 13,
Wherein the developing regenerating solution generating step includes, after the photoresist separating step,
A developing regenerant liquid discharging step in which the cyclone discharges the developing regenerant solution from which the photoresist is separated and removed from the developing waste solution;
Further comprising a waste liquid collecting step in which the waste liquid tank collects the photoresist removed from the cyclone,
Wherein the developer regeneration liquid discharging step and the waste liquid collecting step are performed simultaneously.
제10항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 현상재생액 공급단계는 제2가압수단이 상기 현상재생액의 압력을 상승시키는 제2공급압력 생성단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 현상액 재생 방법.
14. The method according to any one of claims 10 to 13,
Wherein the developer regeneration liquid supplying step includes a second supply pressure generating step in which the second pressurizing means raises the pressure of the developer regeneration liquid.
제10항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 현상재생액 생성단계와 상기 현상재생액 공급단계 사이에,
상기 현상재생액의 탁도를 측정하여 사전에 설정된 기준에 미달할 경우 상기 현상폐액 공급단계로 되돌아가 상기 현상재생액을 상기 현상폐액으로 공급하고, 사전에 설정된 기준을 만족할 경우 상기 현상재생액 공급단계가 진행되도록 해주는 현상재생액 탁도 측정단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 현상액 재생 방법.
14. The method according to any one of claims 10 to 13,
Between the developing regeneration liquid generating step and the developing regeneration liquid supplying step,
The turbidity of the developing regenerating solution is measured to return to the developing solution supplying step to supply the developing regenerating solution to the developing solution when the predetermined reference is not met, Wherein the turbidity regeneration step further comprises the step of measuring the turbidity of the regenerated regeneration liquid.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019208837A1 (en) * 2018-04-23 2019-10-31 Cho Myung Kook Device and method for recycling developer
KR20210125239A (en) * 2020-04-08 2021-10-18 주식회사 에이치에스테크놀로지 System for removing photoresist and recycling filter and concentration control and method performing thereof
KR20210125237A (en) * 2020-04-08 2021-10-18 주식회사 에이치에스테크놀로지 System for removing photoresist and recycling filter and mixing and method performing thereof

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030035814A (en) 2001-07-26 2003-05-09 가부시키가이샤 케미테크 A developer regeneration apparatus
KR100613401B1 (en) * 2006-04-07 2006-08-17 주식회사 대원에프엔씨 Developing system for color filter
JP2006318997A (en) * 2005-05-10 2006-11-24 Pioneer Electronic Corp Pattern forming method and equipment, equipment for treating developer, and method for treating waste developer
KR20090094217A (en) * 2006-11-30 2009-09-04 미츠비시 가가쿠 엔지니어링 가부시키가이샤 Method for regulating concentration of developing solution, apparatus for preparing the developing solution, and developing solution
KR101266956B1 (en) 2011-11-25 2013-05-30 호산이엔지 주식회사 Recycling system of photoacrylic developer in lcd manufacturing process

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030035814A (en) 2001-07-26 2003-05-09 가부시키가이샤 케미테크 A developer regeneration apparatus
JP2006318997A (en) * 2005-05-10 2006-11-24 Pioneer Electronic Corp Pattern forming method and equipment, equipment for treating developer, and method for treating waste developer
KR100613401B1 (en) * 2006-04-07 2006-08-17 주식회사 대원에프엔씨 Developing system for color filter
KR20090094217A (en) * 2006-11-30 2009-09-04 미츠비시 가가쿠 엔지니어링 가부시키가이샤 Method for regulating concentration of developing solution, apparatus for preparing the developing solution, and developing solution
KR101266956B1 (en) 2011-11-25 2013-05-30 호산이엔지 주식회사 Recycling system of photoacrylic developer in lcd manufacturing process

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019208837A1 (en) * 2018-04-23 2019-10-31 Cho Myung Kook Device and method for recycling developer
KR20210125239A (en) * 2020-04-08 2021-10-18 주식회사 에이치에스테크놀로지 System for removing photoresist and recycling filter and concentration control and method performing thereof
KR20210125237A (en) * 2020-04-08 2021-10-18 주식회사 에이치에스테크놀로지 System for removing photoresist and recycling filter and mixing and method performing thereof

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