KR20170100427A - 표시 장치와 그 제조 방법 및 제조 장치 - Google Patents

표시 장치와 그 제조 방법 및 제조 장치 Download PDF

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Abstract

휘점 결함에 기인한 표시 품위의 저하를 억제할 수 있는 표시 장치와 그 제조 방법 및 제조 장치를 제공한다.
표시 장치에는, 제1 유리 기판(GB1) 및 제2 유리 기판(GB2) 중 적어도 한쪽의 내부에 있어서, 표시면측에서 봐서 휘점 결함부(133)를 덮는 감광부(1)를 가지고 있다. 감광부는, 제1 유리 기판 및 제2 유리 기판과 색이 상이한 착색층(2)과, 복수의 보이드를 포함하는 보이드층(3)을 포함하고 있다.

Description

표시 장치와 그 제조 방법 및 제조 장치{DISPLAY DEVICE, AND METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING THE SAME}
본 발명은, 표시 장치와 그 제조 방법 및 제조 장치에 관한 것이다.
각종 표시 장치 중, 예를 들면 액정 표시 장치는, 화소 전극과 공통 전극 사이에 발생하는 전계를, 한 쌍의 기판에 협지되는 액정층에 인가하여 액정을 구동시킴으로써, 화소 전극과 공통 전극 사이의 영역을 투과하는 광의 양을 조정하여 화상 표시를 행한다.
종래, 예를 들면 액정 표시 장치에 있어서, 화소의 표시 휘도가 원하는 휘도보다 높아지는, 소위, 휘점 결함(화소 결함이라고도 한다.)의 문제가 알려져 있다. 휘점 결함은, 예를 들면, 액정 표시 장치의 제조 공정에 있어서 한 쌍의 기판 간에 이물이 혼입되어, 이 이물에 의해, 액정의 배향이 흐트러지거나, 화소 전극과 공통 전극이 단락함으로써 생긴다.
상기 휘점 결함을 수정하는 방법이, 예를 들면 특허 문헌 1에 개시되어 있다. 특허 문헌 1의 방법에서는, 유리 기판 내부에 레이저광을 조사하고, 평면적으로 봐서, 휘점 결함이 생기는 영역을 덮도록 착색층을 형성시켜, 광의 투과량을 감소시키고 있다.
일본국 특허공개 2015-175857호 공보
그러나, 종래와 같이 착색층 만으로는, 착색이 불충분해지는 경우가 있어, 휘점 결함의 불량이 충분히 수정되어 있지 않은 경우가 있었다.
본 발명은, 상기 실정을 감안하여 이루어진 것이며, 휘점 결함에 기인한 표시 품위의 저하를 억제한 표시 장치와 그 제조 방법 및 제조 장치를 제공하는 것에 있다.
상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 하나의 양태에 관련된 표시 장치는,
제1 유리 기판과,
상기 제1 유리 기판과 대향하여 표시면측에 위치하는 제2 유리 기판을 구비하는 표시 장치로서,
상기 제1 유리 기판 및 상기 제2 유리 기판 중 적어도 한쪽의 내부에 있어서, 상기 표시면측에서 봐서 휘점 결함부를 덮는 감광부를 가지며,
상기 감광부는,
상기 제1 유리 기판 및 상기 제2 유리 기판과 색이 상이한 착색층과,
복수의 보이드를 포함하는 보이드층을 포함한다.
본 발명의 상기 양태에 의하면, 휘점 결함에 기인한 표시 품위의 저하를 억제할 수 있다.
도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 관련된 액정 표시 장치의 전체 구성을 나타내는 도면이다.
도 2는 도 1의 액정 표시 장치의 표시 패널의 일부의 구성을 나타내는 평면도이다.
도 3은 도 2의 A1-A2선으로 절단한 절단부의 단면도이다.
도 4는 도 1의 액정 표시 장치에서의 휘점 결함의 일례를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 5는 제1 실시 형태에 관련된 액정 표시 장치에 있어서, 감광부를 가지는 화소의 구성을 나타내는 단면도이다.
도 6은 유리 기판 내부에 있어서의 비가교 산소 홀 센터 형성의 모식도이다.
도 7은 다광자 흡수의 모식도이다.
도 8은 초단(超短) 펄스 레이저광을 유리 기판의 내부에 집광시킬 때의 에너지 밀도에 있어서의 가공 현상을 나타내는 도면이다.
도 9는 도 1의 액정 표시 장치에서의 감광부의 가공 원리를 나타내는 모식도이다.
도 10은 가공 후의 레이저광이 보이드에 의해 산란되는 모습의 모식도이다.
도 11은 제1 실시 형태의 제1 변형예에 관련된 액정 표시 장치에 있어서, 감광부를 가지는 화소의 다른 구성을 나타내는 단면도이다.
도 12a는 제2 실시 형태에 관련된 액정 표시 장치에 있어서, 휘점 결함의 수정 방법을 나타내는 플로우도이다.
도 12b는 휘점 결함의 수정 방법을 실시할 수 있는 표시 장치의 제조 장치의 블럭도이다.
도 13은 제2 실시 형태의 변형예에 관련된 액정 표시 장치에 있어서, 휘점 결함의 수정 방법을 나타내는 플로우도이다.
도 14는 제2 실시 형태에 관련된 액정 표시 장치의 제조 장치의 구성을 나타내는 모식도이다.
도 15는 그 외의 변형예에 관련된 액정 표시 장치의 제조 장치의 구성을 나타내는 모식도이다.
이하, 본 발명의 실시의 형태에 대해서, 도면을 참조하면서 설명한다.
이하의 실시 형태에서는, 액정 표시 장치를 예로 들지만, 본 발명에 관련된 표시 장치는, 액정 표시 장치에 한정되는 것이 아니며, 예를 들면 유기 EL 표시 장치 또는 플라즈마 디스플레이 패널 등이어도 된다.
(제1 실시 형태)
도 1은, 본 발명의 제1 실시 형태에 관련된 액정 표시 장치(LCD)의 전체 구성을 나타내는 평면도이다.
액정 표시 장치(LCD)는, 화상을 표시하는 표시 패널(DP)과, 표시 패널(DP)을 구동하는 표시 패널용 구동 회로(데이터선 구동 회로(30), 게이트선 구동 회로(31))와, 표시 패널용 구동 회로를 제어하는 제어 회로(도시하지 않음)와, 표시 패널(DP)에 배면측으로부터 광을 조사하는 백 라이트광을 조사하는 백 라이트(134)를 포함하고 있다.
도 2는, 표시 패널(DP)의 일부의 구성을 나타내는 평면도이다. 도 3은, 도 2의 A1-A2선으로 절단한 절단부의 단면도이다. 또한, 도 2 및 도 3에서는, 1개의 화소(P)를 나타내고 있다.
표시 패널(DP)은, 배면측에 배치되는 박막 트랜지스터 기판(SUB1)(이하, TFT 기판(SUB1)이라고 한다.)(제1 기판)과, 표시면측에 배치되며, TFT 기판(SUB1)에 대향하는 컬러 필터 기판(SUB2)(이하, CF 기판(SUB2)이라고 한다.)(제2 기판)과, TFT 기판(SUB1) 및 CF 기판(SUB2)의 사이에 협지되는 액정층(LC)을 포함하고 있다.
TFT 기판(SUB1)에는, 열방향으로 연장되는 복수의 데이터선(DL)과, 행방향으로 연장되는 복수의 게이트선(GL)이 형성되며, 복수의 데이터선(DL)과 복수의 게이트선(GL) 각각의 교차부 근방에 박막 트랜지스터(TFT)가 형성되어 있다. 또, 서로 이웃하는 2개의 데이터선(DL)과 서로 이웃하는 2개의 게이트선(GL)에 의해 둘러싸이는 직사각형 영역이, 1개의 화소(P)로서 규정된다. 화소(P)는, TFT 기판(SUB1)에 있어서, 매트릭스 형상으로 복수 배치되어 있다.
화소(P)에는, 주석 첨가 산화 인듐(ITO) 등의 투명(투광성) 도전막으로 이루어지는 화소 전극(PIT)(표시용 전극)이 형성되어 있다. 도 2에 나타내는 바와 같이, 화소 전극(PIT)은, 개구부(32)(예를 들면 슬릿)를 가지며, 스트라이프 형상으로 형성되어 있다. 박막 트랜지스터(TFT)는, 게이트 절연막(GSN)(도 3 참조) 상에, 비정질 실리콘(aSi)으로 이루어지는 반도체층(SEM)이 형성되며, 반도체층(SEM) 상에 드레인 전극(DM) 및 소스 전극(SM)이 형성되어 있다(도 2 참조). 드레인 전극(DM)은, 데이터선(DL)에 전기적으로 접속되어 있다. 소스 전극(SM)과 화소 전극(PIT)은, 컨택트홀(CONT)을 통하여 서로 전기적으로 접속되어 있다.
화소(P)를 구성하는 각 부의 적층 구조는, 도 3의 구성에 한정되는 것이 아니며, 주지의 구성을 적용할 수 있다. 예를 들면 도 3에 나타내는 구성에서는, TFT 기판(SUB1)에 있어서, 제1 유리 기판(GB1) 상에 게이트선(GL)(도 2 참조)이 형성되며, 게이트선(GL)을 덮도록 게이트 절연막(GSN)이 형성되어 있다. 또, 게이트 절연막(GSN) 상에 데이터선(DL)이 형성되며, 데이터선(DL)을 덮도록 절연막(PAS)이 형성되어 있다. 또, 절연막(PAS) 상에 공통 전극(CIT)(표시용 전극)이 형성되며, 공통 전극(CIT)을 덮도록 상층 절연막(UPAS)이 형성되어 있다. 또한, 상층 절연막(UPAS) 상에 화소 전극(PIT)이 형성되며, 화소 전극(PIT)을 덮도록 배향막(AF)이 형성되어 있다. 제1 유리 기판(GB1)의 배면측에는, 편광판(POL1)(제1 편광판)이 형성되어 있다.
또, CF 기판(SUB2)에 있어서, 제2 유리 기판(GB2)(도 3의 제2 유리 기판(GB2)의 하면측) 상에 블랙 매트릭스(BM)(차광부) 및 컬러 필터(CF)(예를 들면, 적색부, 녹색부, 청색부)(광투과부)가 형성되며, 이들을 덮도록 오버코트층(OC)이 형성되어 있다. 제2 유리 기판(GB2)의 표시면측에는, 편광판(POL2)(제2 편광판)이 형성되어 있다. 따라서, 제2 유리 기판(GB2)은, 제1 유리 기판(GB1)과 대향하여 표시면측에 위치하고 있음과 함께, 액정층(LC)은, 제1 유리 기판(GB1)과 제2 유리 기판(GB2) 사이에 배치되어 있다.
도 3에 나타내는 구성에 의하면, 액정 표시 장치(LCD)는, 이른바 IPS(In Plane Switching) 방식의 구성을 가지고 있지만, 제1 실시 형태에 관련된 액정 표시 장치(LCD)는 이것에 한정되지 않는다.
다음에, 액정 표시 장치(LCD)의 구동 방법을 간단하게 설명한다. 게이트선 구동 회로(31)로부터 출력된 주사용의 게이트 전압이 게이트선(GL)에 공급되며, 데이터선 구동 회로(30)로부터 출력된 영상용의 데이터 전압이 데이터선(DL)에 공급된다. 게이트선(GL)에 게이트 온 전압이 공급되면, 박막 트랜지스터(TFT)의 반도체층(SEM)이 저저항이 되어, 데이터선(DL)에 공급된 데이터 전압이, 소스 전극(SM)을 통하여 화소 전극(PIT)에 공급된다. 또, 공통 전극 구동 회로(도시하지 않음)로부터 출력된 공통 전압이, 공통 전극(CIT)에 공급된다. 이것에 의해, 화소 전극(PIT)과 공통 전극(CIT) 사이에 전계(구동용 전계)가 발생하며, 그 전계에 의해 액정층(LC)이 구동되어, 화상이 표시된다.
여기서, 액정 표시 장치(LCD)는, 그 제조 공정에 있어서, 화소의 표시 휘도가 원하는 휘도보다 높아지는 휘점 결함(화소 결함)이 생기는 경우가 있다. 도 4에는, 화소(P)가 휘점 결함부(133)가 되는 경우의 일례를 나타내고 있다. 도 4에서는, 액정 표시 장치(LCD)의 제조 공정에 있어서, TFT 기판(SUB1)과 CF 기판(SUB2) 사이에 유기물이나 또는 금속 등의 이물(33)이 혼입된 경우를 예시하고 있다. 도 4에 나타내는 화소(P)에서는, 이물(혼입물)(33)에 의해 액정의 배향이 흐트러짐으로써, 백 라이트광(34)의 광누락이 생겨 휘점 결함이 있는 휘점 결함부(133)가 된다.
제1 실시 형태에 관련된 액정 표시 장치(LCD)에서는, 상기 휘점 결함을 억제하기 위한 구성을 가지고 있다. 구체적으로는, 도 5에 나타내는 바와 같이, CF 기판(SUB2)의 제2 유리 기판(GB2)의 내부에, 백 라이트광(34)의 투과량을 감소시키는 감광부(1)가 형성되어 있다. 감광부(1)는, 평면적으로 배열되어 있으며, 제2 유리 기판(GB2)의 표시면측에서 보았을 때에, 이물(33)에 의한 휘점 결함부(133)를 덮어 가리도록 형성되어 있다. 즉, 제1 유리 기판(GB1) 및 제2 유리 기판(GB2) 중 적어도 한쪽의 내부에 있어서, 표시면측에서 봐서 휘점 결함부(133)를 덮는 감광부(10)를 배치하고 있다. 감광부(1)는, 제1 유리 기판(GB1) 및 제2 유리 기판(GB2)의 각각과 색이 상이한 착색층(2)과, 착색층(2) 아래의 복수의, 즉 다수의 보이드가 형성된 보이드층(3)을 포함한다. 착색층(2)은, 비가교 산소 홀 센터로 이루어진다.
도 6은, 제2 유리 기판(GB2)의 내부에 있어서의 비가교 산소 홀 센터 형성의 모식도이다. 도 7은, 다광자 흡수의 모식도이다. 도 8은 초단 펄스 레이저광을 유리 기판에 내부 집광시킬 때의 에너지 밀도에 있어서의 가공 현상을 나타내는 도이다. 도 9는 감광부(1)의 가공 원리를 나타내는 모식도이다. 도 10은, 가공 후의 레이저광이 보이드에 의해 산란되는 모습을 나타내는 집광점 근방의 확대도이다.
도 6에 나타내는 바와 같이, 유리 기판(GB)의 내부에 있는 비가교 산소에 자외선 또는 감마선(100)을 조사하면, 전자가 1개 방출되어, 비가교 산소 홀 센터를 형성한다. 이 비가교 산소 홀 센터는, 자외역부터 가시역에 흡수를 가지며, 적갈색을 나타낸다. 통상, 이 비가교 산소 홀 센터는, 자외선이나 또는 감마선 등의 단파장의 광선을 조사함으로써 형성되지만, 다광자 흡수로 불리는 현상을 이용함으로써, 보다 긴 파장의 광선 조사로도 형성 가능하다. 도 7의 (a)에 나타내는 바와 같이, 단파장의 광선이 가지는 에너지는 커, 광자 1개의 흡수로 비가교 산소는 전자를 1개 방출하여, 비가교 산소 홀 센터를 형성한다. 한편, 긴 파장의 광선이 가지는 에너지는 작아, 광자 1개로는 전자를 방출하는데 충분한 에너지를 부여할 수 없다. 그러나, 펨토초 레이저광과 같은 초단 펄스 레이저광의 경우, 전기장 강도가 매우 강하기 때문에, 집광 영역에 있어서, 복수의 광자가 동시에 흡수되는 경우가 있다. 이것을 다광자 흡수라고 부르며(도 7의 (b) 참조), 다광자 흡수에 의해 비가교 산소는 전자를 방출하는데 충분한 에너지(기저 상태에서 여기 상태에 이르기까지의 에너지)를 얻을 수 있어, 비가교 산소 홀 센터를 형성한다. 집광 영역의 에너지 밀도를 공간적으로 더 크게 하면, 굴절률 변화, 또는 공공 형성, 또는 크랙 형성과 같은 현상을 일으킬 수 있다. 초단 펄스 레이저광(4)을 유리 기판(GB)의 내부에 고집광 렌즈를 사용하여 집광시킬 때, 초단 펄스 레이저광(4)의 펄스 에너지를 적당한 값으로 하면, 초점(F)에 있어서 직경 1nm 이상 50μm 이하의 미소한 공공 형성이 일어난다(도 8의 공공 형성을 참조). 초단 펄스 레이저광(4)과 유리 기판(GB)의 위치를 유리 기판(GB)의 면방향으로 상대적으로 이동시킴으로써, 도 9에 나타내는 바와 같이, 유리 기판(GB)의 내부에서 면방향으로 초점(F)이 이동하면서 초단 펄스 레이저광(4)이 유리 기판(GB)에 조사되므로, 직경 1nm 이상 50μm 이하의 미소한 공공이 면방향으로 다수 형성되어, 보이드층(3)이 형성된다. 이 때, 유리 기판(GB)의, 초점(F)보다 표면에 가까운 곳에서는, 공공이 형성될 정도로 에너지 밀도는 높지 않지만, 비가교 산소 홀 센터가 형성되기에는 충분한 에너지를 가지는 영역이 존재한다. 초단 펄스 레이저광(4)과 유리 기판(GB)의 위치를 면방향으로 상대적으로 이동시킴으로써, 이 영역이 유리 기판(GB)의 내부에서 면방향으로 확대되어, 착색층(2)이 형성된다. 이 착색층(2)과 보이드층(3)으로 구성되는 감광부(1)에 대해, 유리 기판(GB)의 이면으로부터 조사한 백 라이트광(34)은, 우선, 보이드층(3)에 의해 미세하게 산란된다. 그리고, 산란되면서 투과되어 온 광을 착색층(2)이 흡수함으로써 감광되고, 감광된 광이 유리 기판(GB)의 표면으로 나오므로, 휘점 결함에 기인한 표시 품위의 저하를 억제할 수 있다. 또, 초단 펄스 레이저광(4)과 유리 기판(GB)의 위치를 면방향으로 상대적으로 이동시킬 때, 초단 펄스 레이저광(4)은, 초점(F)에서 집광된 후, 가공에 사용되지 않은 광이 퍼지면서 유리 기판(GB)을 통과하여, 그 앞에 있는 컬러 필터(CF), 또는, 액정층(LC)에 조사된다. 초점(F)으로부터 유리 기판(GB)의 이면까지의 거리가 짧을 때, 광이 충분히 퍼져 에너지 밀도가 낮아지기 전에 컬러 필터(CF) 또는 액정층(LC)에 조사되게 되어, 컬러 필터(CF) 또는 액정층(LC)에 데미지를 줄 우려가 있다. 그러나, 그 때까지의 조사로 형성된 보이드층(3)에 의해, 도 10에 나타내는 바와 같이, 가공에 사용되지 않은 광은, 미세하게 산란되어, 에너지 밀도를 낮춘다. 이것에 의해, 유리 기판(GB)을 통과한 광이 컬러 필터(CF) 또는 액정층(LC)에 조사되어도, 컬러 필터(CF) 또는 액정층(LC)에 주는 데미지는 작다. 초단 펄스 레이저광(4)은, 유리 기판(GB)의 내부에서 다광자 흡수를 일으킬 수 있는 펄스폭, 파장, 및 펄스 에너지일 필요가 있어, 파장이 100 이상 10000nm 이하, 펄스폭이 1fs 이상~100ps 이하, 펄스 에너지가 1μJ 이상 20μJ 이하인 것이 바람직하다. 또, 고집광 렌즈는 NA(개구수)가 0.3 이상 0.6 이하인 것이 바람직하고, 수차 보정 기능을 가진 것이면 더욱 좋다. 이 조건의 레이저광(4)을 유리 기판(GB)에 조사함으로써, 초점(F)의 위치에서 도 9와 같은 다수의 공공을 포함하는 보이드층(3)이 형성되고, 초점(F)의 위치보다 유리 기판(GB)의 표면에 가까운 위치에 착색층(2)이 형성된다.
제1 실시 형태에 의하면, 제1 유리 기판(GB1) 및 제2 유리 기판(GB2) 중 적어도 한쪽의 내부에 있어서, 표시면측에서 봐서 휘점 결함부(133)를 덮는 감광부(1)를 가지며, 또한, 감광부(1)는, 제1 유리 기판(GB1) 및 제2 유리 기판(GB2)과는 색이 상이한 착색층(2)과, 복수의 보이드를 포함하는 보이드층(3)으로 구성되어 있다. 이와 같이 구성함으로써, 컬러 필터(CF) 및 액정층(LC)에 주는 데미지를 억제하여, 휘점 결함에 기인한 표시 품위의 저하를 억제할 수 있다.
(제1 변형예)
도 11은, 제1 실시 형태의 제1 변형예에 관련된 액정 표시 장치(LCD)에 있어서, 상기 휘점 결함을 억제하기 위한 다른 구성을 나타낸다. 또한, 도 11에는, 간편을 위해, 이하의 제2 변형예 및 제3 변형예도 존재하는 예를 예시하고 있지만, 이것에 한정되는 것이 아니며, 제1 실시 형태에 더하여, 제1 변형예~제3 변형예 중 어느 1개 만이 존재해도 되고, 이들 중 임의의 조합이어도 되는 것은 말할 필요도 없다.
감광부(1)를 형성할 때, 가공 조건에 따라서는 착색층(2)(제1 착색층)과 보이드층(3) 사이에 극간이 생긴다. 이 극간에 조사된 광의 에너지 밀도는, 착색층(2)을 형성하는 것보다도 높고, 보이드층(3)을 형성하기에는 낮기 때문에, 도 8에 있는 바와 같이, 유리 기판(GB)의 굴절률(1.4~1.6)이 최대 0.02 증가한 굴절률 변화층(5)(제1 굴절률 변화층)이 형성되어 있다. 즉, 감광부(1)는, 제1 착색층(2)과 보이드층(3) 사이에, 제1 유리 기판(GB1) 및 제2 유리 기판(GB2)보다 큰 굴절률을 나타내는 굴절률 변화층(5)을 더 포함한다. 이 굴절률 변화층(5)에 의해, 휘점 결함에 의한 광을 보다 고정밀도로 차폐할 수 있기 때문에, 표시 장치의 표시 품위의 저하를 보다 방지할 수 있다.
(제2 변형예)
다음에, 제1 실시 형태의 제2 변형예를 이하에 설명한다. 초점(F)(보이드층(3))보다 깊은 위치(제1 유리 기판(GB1)측)에도, 착색층(2a)(제2 착색층)이 형성되도록 해도 된다. 이 때, 보이드층(3)은, 제1 착색층(2)과 제2 착색층(2a) 사이에 위치하고 있다. 제2 착색층(2a)은, 제1 유리 기판(GB1) 및 제2 유리 기판(GB2)의 각각과 색이 상이하이다. 이것은, 초점(F)에서 보이드층(3)을 형성한 후의 투과광의 에너지 밀도가 충분히 크기 때문에, 비가교 산소 홀 센터 형성에 의한 착색을 일으킨 결과, 제2 착색층(2a)을 형성할 수 있다. 단, 제2 착색층(2a)의 착색 농도는 에너지 밀도에 의존하기 때문에, 투과광에 의해 형성된 제2 착색층(2a)은, 입사광에 의해 형성된 제1 착색층(2)보다, 착색 농도가 낮다. 이와 같이 형성된 제2 착색층(2a)에 의해, 감광부(1)의 감광 능력이 보다 향상된다.
(제3 변형예)
다음에, 제1 실시 형태의 제3 변형예를 이하에 설명한다. 감광부(1)는, 보이드층(3)과 제2 착색층(2a) 사이에 위치하며 초점(F)에서 보이드층(3)을 형성한 후의 투과광에 의해 형성되며, 제1 유리 기판(GB1) 또는 제2 유리 기판(GB2)보다 큰 굴절률을 나타내는 제2 굴절률 변화층(5a)을 더 포함하도록 해도 된다. 이 경우, 굴절률의 증가량은 에너지 밀도에 의존하기 때문에, 투과광에 의해 형성된 제2 굴절률 변화층(5a)은, 입사광에 의해 형성된 굴절률 변화층(5)보다 굴절률은 작다. 제1 굴절률 변화층(5)과 제1 유리 기판(GB1) 및 제2 유리 기판(GB2)의 굴절률의 차는 최대 0.015 정도이다. 제2 굴절률 변화층(5a)은, 이물(33)에 보다 가까운 위치에 형성되어 있다. 이 때문에, 이물(33)의 영향으로 경사 방향으로 백 라이트광(34)이 퍼진 경우에도, 제2 굴절률 변화층(5a)에서 굴절시켜, 백 라이트광(34)의 퍼짐 각도를 작게 할 수 있다. 그것에 의해, 백 라이트광(34)의 퍼짐이 억제되어, 제2 굴절률 변화층(5a)이 형성되어 있지 않은 경우보다, 보이드층(3)에 입사하는 백 라이트광(34)이 증가한다. 그러므로, 감광부(1)의 감광 능력이 향상된다.
여기서, 제2 변형예에 관련된 제2 착색층(2a)은, 파장이 200nm 이상 9000nm 이하, 펄스폭이 2fs 이상~90ps 이하, 펄스 에너지가 2μJ 이상 18μJ 이하의 레이저광을 이용하여 형성한다. 레이저광을 집광하는 렌즈의 NA는, 0.35 이상 0.55 이하이다.
제3 변형예에 관련된 제2 굴절률 변화층(5a)은, 파장이 300nm 이상 8000nm 이하, 펄스폭이 3fs 이상~80ps 이하, 펄스 에너지가 3μJ 이상 17μJ 이하의 레이저광을 이용하여 형성한다. 레이저광을 집광하는 렌즈의 NA는, 0.4 이상 0.5 이하이다.
(제4 변형예)
다음에, 제1 실시 형태의 제4 변형예를 이하에 설명한다. 펄스 에너지를 1μJ 이상 4μJ 이하로 낮추고 레이저광을 조사하면, 초점(F)에서 보이드층(3)은 형성되지만, 초점(F)보다 유리 기판(GB)의 표면에 가까운 위치에는, 착색층(2)이 형성되지 않거나, 또는, 육안으로 인식할 수 없을 만큼의 ž‹은 착색이 된다. 즉, 보이드층(3) 만이 단독으로 형성된다. 보이드층(3)이 단독으로 존재해도, 백 라이트광(34)을 산란시키는 효과는 있지만, 감광하는 효과는 없다. 이 상태로, 펄스 에너지를 3μJ 이상 13μJ로 올려, 단독의 보이드층(3)보다 유리 기판(GB)의 표면에 가까운 위치에 집광하도록 레이저광을 조사하여, 상술의 실시 형태 및 변형예에 관련된 감광부(1)를 형성한다. 이 때, 초점(F)에서 집광되며, 그 근방에서 착색 또는 보이드 형성과 같은 반응이 일어난다. 이 반응에 사용되지 않은 에너지는, 퍼지면서 유리 기판(GB)의 이면을 향해 조사되지만, 그 사이에 단독 보이드층(3)이 존재하기 때문에, 레이저광은 보이드층(3)의 다수의 보이드에 의해 산란되어, 에너지 밀도가 저하된다. 이것에 의해, 유리 기판(GB)의 이면에 가까운 위치에 있는 컬러 필터(CF) 및 액정층(LC)으로의 데미지가 억제된다. 가공 후는, 보이드층(3)과 착색층(2)으로 이루어지는 감광부(1)가, 단독 보이드층보다 유리 기판(GB)의 표면에 가까운 위치에 형성된다.
(그 외의 변형예)
감광부(1)는, TFT 기판(SUB1)의 제1 유리 기판(GB1)에 형성되어 있어도 된다. 또, 감광부(1)는, 제1 유리 기판(GB1) 및 제2 유리 기판(GB2)의 양쪽에 형성되어 있어도 된다. 즉, 감광부(1)는, TFT 기판(SUB1)의 제1 유리 기판(GB1) 및 CF 기판(SUB2)의 제2 유리 기판(GB2) 중 적어도 어느 한쪽에 형성되어 있으면 된다.
제1 유리 기판(GB1)과 제2 유리 기판(GB2) 양쪽에 감광부(1)를 형성하면, 감광 능력을 향상시킬 수 있다. 이 경우, 양쪽에 감광부(1)를 형성하는 경우, 각각의 감광부(1)의 감광량은, 어느 한쪽의 유리 기판(GB)에만 형성시키는 경우보다, 작아도 된다. 그 때문에, 각 유리 기판에 조사하는 초단 펄스 레이저광(4)의 출력을 낮출 수 있어, 투과광에 의한 하층으로의 데미지가 발생하기 어려워진다.
또, 제1 유리 기판(GB1)과 제2 유리 기판(GB2) 양쪽 중 어느 한쪽의 유리 기판(GB)에만 감광부(1)를 형성하는 경우, 제2 유리 기판(GB2)에 감광부(1)를 형성하는 것이 바람직하다. 이물(33)에 의한 휘점 결함으로부터 조사되는 광은, 이물(33)보다 표시 화소측에서 차단하는 것이, 표시 품위를, 보다 향상시킬 수 있기 때문이다. 특히, 표시 장치가, 제1 유리 기판(GB1)과 제2 유리 기판(GB2) 사이에 위치하는 액정층(LC)을 가지며, 이 액정층(LC) 내에 이물(33)에 의한 휘점 결함부(133)가 포함되는 경우에 있어서, 제2 유리 기판(GB2)측에 감광부(1)를 형성하는 것이 좋다. 이물(33)에 의해 생긴 액정 분자의 배열 흐트러짐에 기인하는 광을 차단하기 위해서이다.
또, 제1 유리 기판(GB1)에 형성되는 감광부(1)의 제1 유리 기판(GB1)의 내부의 위치와, 제2 유리 기판(GB2)에 형성되는 감광부(1)의 제2 유리 기판(GB2)의 내부의 위치는, 동일해도 되고 상이해도 된다. 예를 들면, 감광부(1)는, 제1 유리 기판(GB1)의 내부의 백 라이트측에 형성되며, 감광부(1)는, 제2 유리 기판(GB2)의 내부의 액정층(LC)측에 형성되어 있어도 된다. 그러나, 가능한 한 이물(33)에 가까운 곳에 감광부(1)를 형성시키는 것이 바람직하다. 왜냐하면, 형성하는 감광부(1)의 면적이 동일한 경우, 이물(33)에 가까운 개소에 형성시키는 것이, 이물(33)에 의해 경사 방향으로 퍼진 광도 감광할 수 있기 때문이다.
상기 구성에 의하면, 휘점 결함부(133)가 되는 화소의 휘도를 낮게 할 수 있기 때문에, 휘점 결함(광누락)을 눈에 띄지 않게 할 수 있다. 이것에 의해, 휘점 결함에 기인한 표시 품위의 저하를 억제할 수 있음과 함께, 액정 표시 장치(LCD)의 제조 수율을 높일 수 있다.
(제2 실시 형태)
다음에, 본 발명의 제2 실시 형태로서, 제1 실시 형태에 관련된 액정 표시 장치(LCD)의 제조 방법에 대해서 설명한다. 상기 방법은, 제1 유리 기판(GB1)과, 상기 제1 유리 기판(GB1)과 대향하여 표시면측에 위치하는 제2 유리 기판(GB2)을 구비하는 표시 장치의 제조 방법에 대해서 설명한다. 이 표시 장치의 제조 방법은, 상기 표시 장치의 점등 검사를 행하여 상기 화소의 휘점 결함을 검출하는 검출 공정과, 상기 휘점 결함을 덮도록 상기 제1 또는 제2 유리 기판(GB1 또는 GB2)에 레이저광(4)을 조사하여, 착색층(2) 및 보이드층(3)을 형성하는 조사 공정을 가진다. 상기 조사 공정에서 조사되는 레이저광(4)은, 파장이 100nm 이상 또한 10000nm 이하, 펄스폭이 1펨토초 이상 100피코초 이하, 펄스 에너지가 1μJ 이상 20μJ 이하이며, 또한, NA가 0.3 이상 0.6 이하인 렌즈로 집광된다.
보다 상세하게는, 본 제조 방법은, TFT 기판(SUB1)의 제조 공정과, CF 기판(SUB2)의 제조 공정과, TFT 기판(SUB1) 및 CF 기판(SUB2)의 접합 공정과, 액정 주입 공정과, 표시 패널(DP)의 점등 검사 공정과, 휘점 결함 수정 공정을 포함하고 있다.
상기 각 공정 중, TFT 기판(SUB1)의 제조 공정, CF 기판(SUB2)의 제조 공정, TFT 기판(SUB1) 및 CF 기판(SUB2)의 접합 공정, 액정 주입 공정, 및 점등 검사 공정은, 주지의 방법을 적용할 수 있다.
예를 들면, TFT 기판(SUB1)의 제조 공정은, 제1 유리 기판(GB1) 상에, 게이트선(GL), 데이터선(DL), 화소 전극(PIT), 공통 전극(CIT), 각종 절연막, 및 편광판(POL1)을 형성하는 공정을 포함한다. TFT 기판(SUB1)에서 규정되는 화소(P)는, 적색에 대응하는 적색 화소(Pr), 녹색에 대응하는 녹색 화소(Pg), 및 청색에 대응하는 청색 화소(Pb)를 포함해도 된다. 또, CF 기판(SUB2)의 제조 공정은, 제2 유리 기판(GB2) 상에, 블랙 매트릭스(BM), 컬러 필터(CF), 및 편광판(POL2)을 형성하는 공정을 포함한다.
이하에서는, 본 제조 방법 중 점등 검사 공정 및 휘점 결함 수정 공정에 대해서 설명한다. 도 12a는, 휘점 결함의 수정 방법의 플로우도를 나타낸다. 도 12b는, 휘점 결함의 수정 방법을 실시할 수 있는 표시 장치의 제조 장치(95)의 블럭도를 나타낸다.
표시 장치의 제조 장치(95)는, 적어도, 표시 장치의 점등 검사를 행하여 화소의 휘점 결함을 검출하는 검사 장치(90)와, 휘점 결함 수정 장치(6)를 구비하고 있다. 제조 장치(95)는, 또한, 제어 장치(93)와 연산부(91)를 구비하고 있어도 된다. 제어 장치(93)는, 검사 장치(90)와 연산부(91)와 휘점 결함 수정 장치(6)를 각각 동작 제어한다. 연산부(91)는, 후술하는 바와 같이 소정의 연산을 행한다.
먼저, 점등 검사 공정에서는, 검사 장치(90)에 의해, 휘점 결함을 검출한다. 예를 들면, 검사 장치(90)는, 표시 패널(DP)을 전체 점등 또는 1라인마다 점등시켜, 각 화소의 휘도를 측정한다(단계 S001).
다음에, 검사 장치(90)는, 역치를 넘는 휘도가 측정된 화소를 휘점 결함부(133)(화소 결함부)로서 검출한다(단계 S002). 검사 장치(90)는, 휘점 결함부(133)로서 검출한 화소의 위치 정보를, 후술하는 휘점 결함 수정 장치(6)에 출력한다. 휘점 결함부(133)의 검출은, 작업자에 의한 육안으로 행해도 된다. 휘점 결함부(133)가 검출되면, 휘점 결함 수정 공정(단계 S030)으로 이행한다. 휘점 결함부(133)가 검출되지 않을 때는, 이 플로우를 종료한다.
도 14에는, 휘점 결함 수정 공정(단계 S030)을 행하기 위한 휘점 결함 수정 장치(6)의 개략 구성을 나타내고 있다. 휘점 결함 수정 장치(6)는, 초단 펄스 레이저 발진 기구(7)와, 고집광 렌즈(8) 등의 광학계를 포함하고 있다.
제2 실시 형태에서는, 일례로서, 초단 펄스 레이저 발진 기구(7)로서, 1552nm의 레이저광의 파장 및 펄스폭 800fs의 레이저광을 이용하고 있다.
휘점 결함 수정 공정(단계 S030)은, 단계 S003~단계 S006의 공정을 포함한다.
휘점 결함 수정 공정(단계 S030)에서는, 먼저, 휘점 결함 수정 장치(6)가, 검사 장치(90)로부터, 휘점 결함의 화소의 위치 정보 및 형상 정보(예를 들면, 위치, 크기, 형상)를 취득한다(단계 S003).
다음에, 취득한 형상 정보로부터, 연산부(91)에 있어서, 초단 펄스 레이저광(4)을 조사하여 형성하는 감광부(1)의 형상 및 위치 정보(예를 들면, 위치, 크기, 형상)를 연산한다(단계 S004).
다음에, 제어 장치(93)로의 제어 하에, 연산부(91)로 연산하여 취득한 감광부(1)의 위치 정보에 근거하여, 휘점 결함 수정 장치(6)의 고집광 렌즈(8) 등의 광학계를 위치 맞춤한다.
다음에, 제어 장치(93)로의 제어 하에, 휘점 결함 수정 장치(6)는, 초단 펄스 레이저광(4)의 초점(F)의 위치가, 제2 유리 기판(GB2)의 내부의 원하는 위치에 맞도록 조정한다. 초점(F)의 위치는, 예를 들면, 휘점 결함의 원인이 되는 이물의 크기, 또는, 측정된 휘도값에 근거하여 조정된다. 예를 들면, 도 14에 나타내는 바와 같이, 제2 유리 기판(GB2)의 내부에 있어서, 이물(33)의 근방측에 초단 펄스 레이저광(4)의 초점(F)이 맞도록 조정한다.
다음에, 제어 장치(93)로의 제어 하에, 휘점 결함 수정 장치(6)는, 초단 펄스 레이저 발진 기구(7)로부터 초단 펄스 레이저광(4)을 출사시킨다. 이것에 의해, 초단 펄스 레이저 발진 기구(7)로부터 출사된 초단 펄스 레이저광(4)은, 고집광 렌즈(8)에 의해, 제2 유리 기판(GB2)의 내부의 초점(F)에 집광되어 조사된다.
다음에, 제어 장치(93)로의 제어 하에, 초단 펄스 레이저광(4)의 조사 위치를, 이동 장치(92)에 의해 이동시키면서, 초단 펄스 레이저광(4)을 연속적으로 조사함으로써, 감광부(1)를 형성하고(단계 S005), 휘점 결함 수정 공정(단계 S030)을 완료한다(단계 S006).
상기 실시 형태에 관련된 제조 방법 또는 제조 장치에 의하면, 기존의 검사 장치를 이용하여 검사를 할 수 있음과 함께, 결함이 있던 것만 수정 공정에 보내므로, 전체의 공정 택트에 영향을 주지 않는다는 이점이 있다.
(변형예)
도 13은, 제2 실시 형태의 변형예로서, 휘점 결함의 다른 수정 방법의 플로우도를 나타낸다.
먼저, 검사 장치(90)에 있어서, 표시 장치를 점등시켜(단계 S007), 휘점 결함을 검출한다(단계 S008). 검사 장치(90)는, 단계 S002와 마찬가지로, 역치를 넘는 휘도가 측정된 화소를 휘점 결함부(133)(화소 결함부)로서 검출한다. 검사 장치는, 휘점 결함부(133)로서 검출한 화소의 위치 정보를 휘점 결함 수정 장치(6)에 출력한다. 휘점 결함부(133)의 검출은, 작업자에 의한 육안으로 행해도 된다. 휘점 결함부(133)가 검출되면, 휘점 결함 수정 공정(단계 S040)으로 이행한다. 휘점 결함부(133)가 검출되지 않을 때는, 이 플로우를 종료한다.
휘점 결함 수정 공정(단계 S040)은, 단계 S009~단계 S013을 포함한다.
휘점 결함 수정 공정(단계 S040)에서는, 우선, 휘점 결함 수정 장치(6)가, 검사 장치로부터, 휘점 결함의 화소의 위치 정보 및 형상 정보(예를 들면, 위치, 크기, 형상)를 취득한다(단계 S009).
다음에, 취득한 형상 정보로부터, 연산부(91)에 있어서, 초단 펄스 레이저광(4)을 조사하여 형성하는 감광부(1)의 형상 및 위치 정보(예를 들면, 위치, 크기, 형상)를 연산한다(단계 S010).
다음에, 제어 장치(93)로의 제어 하에, 연산부(91)로 연산하여 취득한 감광부(1)의 위치 정보에 근거하여, 휘점 결함 수정 장치(6)의 고집광 렌즈(8) 등의 광학계를 위치 맞춤한다.
다음에, 제어 장치(93)로의 제어 하에, 휘점 결함 수정 장치(6)는, 초단 펄스 레이저광(4)의 초점(F)의 위치가, 제2 유리 기판(GB2)의 내부의 원하는 위치에 맞도록 조정한다. 초점(F)의 위치는, 예를 들면, 휘점 결함의 원인이 되는 이물의 크기, 또는, 측정된 휘도값에 근거하여 조정된다. 예를 들면, 도 14에 나타내는 바와 같이, 제2 유리 기판(GB2)의 내부에 있어서, 이물(33)의 근방측에 고에너지 빔인 초단 펄스 레이저광(4)의 초점(F)이 맞도록 조정한다.
다음에, 제어 장치(93)로의 제어 하에, 휘점 결함 수정 장치(6)는, 초단 펄스 레이저 발진 기구(7)로부터 초단 펄스 레이저광(4)을 출사시킨다. 이것에 의해, 초단 펄스 레이저 발진 기구(7)로부터 출사된 초단 펄스 레이저광(4)은, 고집광 렌즈(8)에 의해, 제2 유리 기판(GB2)의 내부의 초점(F)에 집광되어 조사된다.
다음에, 제어 장치(93)로의 제어 하에, 초단 펄스 레이저광(4)의 조사 위치를, 이동 장치(92)에 의해 이동시키면서, 초단 펄스 레이저광(4)을 연속적으로 조사함으로써, 감광부(1)를 형성한다(단계 S011).
감광부(1)를 형성한 후에, 제어 장치(93)로의 제어 하에, 재차, 점등 검사를 행하여(단계 S012), 휘점 결함이 소실되어 있는 것을 확인하고, 휘점 결함 수정 공정(단계 S040)을 완료한다(단계 S013).
제어 장치(93)로의 제어 하에, 2번째 이후의 점등 검사 공정에 있어서 휘점 결함이 검출된 경우에는, 단계 S009로 되돌아와, 재차, 휘점 결함 수정을 행한다(단계 S009에서 단계 S011). 2번째 이후의 휘점 결함 수정에 있어서, 1회째에 형성한 감광부(1)와 형상 또는 크기가 상이해도 된다.
이와 같이, 제2 실시 형태 또는 그 변형예의 휘점 결함 수정 공정(단계 S030 또는 S040)에서는, 유리 기판(GB)에 초점을 맞추어 고에너지 빔을 조사함으로써, 유리 재료를 착색시키고 있기 때문에, 유리 기판 자체의 형상 변화는 일어나지 않는다. 예를 들면, 유리 기판(GB)의 내부 또는 표면이 파괴되어 외형이 변화하는 일은 없다. 그 때문에, 예를 들면 TFT 기판(SUB1) 및 CF 기판(SUB2)에 편광판(POL1, POL2)을 형성한 상태로, 즉, 표시 패널(DP)의 완성 후에, 상기 휘점 결함 수정 공정(단계 S030 또는 S040)을 실행할 수 있다. 또, 감광부(1)는, 유리 기판(GB)과 동일 재료로 이루어지기 때문에, 굴절률이 변화하는 일도 없다.
이 변형예에 의하면, 수정 후에 재차 검사함으로써, 수정이 충분히 이루어지고 있는지, 착색에 의해 흑점 불량화되지 않는지를 확인할 수 있다.
(그 외의 변형예)
또한, 휘점 결함 수정 공정(단계 S030 또는 S040)에서는, 휘점 결함이 되는 휘점 결함부(133)에 대응하는 화소의 색에 따라, 초단 펄스 레이저광(4)의 강도를 조정하여 조사해도 된다. 이것에 의해, 감광부(1)는, 휘점 결함부(133)에 대응하는 화소의 색에 따라 광의 투과율이 상이하도록 형성된다. 예를 들면, 녹색 화소에 대응하는 휘점 결함부(133)를 덮는 감광부(1)는, 그 감광부(1)의 광의 투과율이, 다른 색 화소(예를 들면, 적색 화소, 청색 화소)에 대응하는 휘점 결함부(133)를 덮는 감광부(1)의 광의 투과율보다 낮아지도록, 형성되어 있어도 된다.
상기의 설명에서는, TFT 기판(SUB1)과 CF 기판(SUB2) 사이에 이물(33)이 혼입된 경우의 휘점 결함을 나타내고 있지만, 휘점 결함의 원인은 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 박막 트랜지스터(TFT)의 문제에 의한 광누락, 또는, 기판 사이에 배치되는 스페이서에 기인한 광누락 등이 일어날 수 있다. 제2 실시 형태 또는 그 변형예에 관련된 휘점 결함 수정 방법은, 이러한 휘점 결함에도 적용할 수 있다.
또, 휘점 결함이 생길 수 있는 이물(33)의 혼입 위치는, TFT 기판(SUB1)과 CF 기판(SUB2) 사이에 한정되지 않는다. 예를 들면, 제1 유리 기판(GB1)과 편광판(POL1) 사이에 이물이 혼입된 경우도 휘점 결함이 생길 수 있다. 이 경우는, 감광부(1)가, 제1 유리 기판(GB1)의 내부에 있어서의 이물의 근방에 형성되어 있어도 된다. 또, 제2 유리 기판(GB2)과 편광판(POL2) 사이에 이물이 혼입된 경우도 휘점 결함이 생길 수 있다. 이 경우는 감광부(1)가, 제2 유리 기판(GB2)의 내부에 있어서의 이물의 근방에 형성되어 있어도 된다. 이와 같이, 이물은, 표시 패널(DP)의 불특정의 위치에 혼입될 수 있다. 그 때문에, 예를 들면, 도 15에 나타내는 바와 같이, 1장의 표시 패널(DP)에 있어서, 휘점 결함을 일으키게 하는 이물(1001, 1000)이, 제1 유리 기판(GB1) 및 편광판(POL1)의 사이(제1 위치)와, 제2 유리 기판(GB2) 및 편광판(POL2)의 사이(제2 위치)에 혼입된 경우, 제1 감광부(1)가, 제1 위치의 이물(1000)에 대응하고, 제1 유리 기판(GB1)의 내부에 있어서의 이물(1000)의 근방에 형성되며, 제2 감광부(1a)가, 제2 위치의 이물(1001)에 대응하고, 제2 유리 기판(GB2)의 내부에 있어서의 이물(1001)의 근방에 형성되어 있어도 된다. 또한, 이 경우에, 휘점 결함 수정 공정의 작업 효율을 고려하여, 제1 감광부(1) 및 제2 감광부(1a) 양쪽이, 제2 유리 기판(GB2)의 표시면측에 형성되어 있어도 된다. 또, 제1 감광부(1)과, 제2 감광부(1a)는, 서로 투과율이 상이하도록 형성되어 있어도 된다. 구체적으로는, 도 15에 나타내는 위치에, 제2 감광부(1a)를 배치한다. 이 경우, 화소(P) 내에 있어서, 도 15 중, 제2 유리 기판(GB2)과 편광판(POL2) 계면의 오른쪽측에 이물(1000)이 존재하고, 제1 유리 기판(GB1)과 편광판(POL1)의 계면의 왼쪽측에 이물(1001)이 존재하며, 이물(1000) 및 이물(1001)은, 모두 이물(33)과 비교해서 작다. 이들 이물(1000, 1001)에 의한 휘점 결함을 수정하기 위해, 도 15에 나타내는 바와 같이, 이물(1000)의 액정층(LC)측에 제1 감광부(1), 이물(1001)의 액정층(LC)측에 제2 감광부(1a)를 설치한다. 이것에 의해, 휘점 결함의 수정을 보다 효율적으로 행할 수 있다.
이상, 본 발명의 복수의 실시 형태에 대해서 설명했지만, 본 발명은 상기 각 실시 형태에 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위 내에서 상기 각 실시 형태로부터 당업자가 적당히 변경한 형태도 본 발명의 기술적 범위에 포함된다.
또, 상기 다양한 실시 형태 또는 변형예 중 임의의 실시 형태 또는 변형예를 적당히 조합함으로써, 각각이 가지는 효과를 나타내도록 할 수 있다. 또, 실시 형태들의 조합 또는 실시예들의 조합 또는 실시 형태와 실시예의 조합이 가능함과 함께, 상이한 실시 형태 또는 실시예 중의 특징들의 조합도 가능하다.
본 발명의 상기 양태에 관련된 표시 장치와 그 제조 방법 및 제조 장치는, 휘점 결함에 기인한 표시 품위의 저하를 억제할 수 있으며, 특히 표시 장치를 내장하는 액정 디스플레이 또는 유기 EL 플랫 패널 디스플레이에 유용하고, 고휘도·고정밀·화질 균일성이 요구되는 디스플레이의 표시 장치와 그 제조 방법 및 제조 장치 등, 및 표시 장치를 가지는 전기 기기 또는 장치에 폭넓게 이용할 수 있다.
AF: 배향막 BM: 블랙 매트릭스
CF: 컬러 필터 CIT: 공통 전극
CONT: 컨택트홀 DL: 데이터선
DM: 드레인 전극 DP: 표시 패널
GB, GB1, GB2: 유리 기판 GSN: 절연막
GL: 게이트선 LC: 액정층
LCD: 액정 표시 장치 OC: 오버코트층
PAS: 절연막 PIT: 화소 전극
POL1, POL2: 편광판 SEM: 반도체층
SM: 소스 전극 SUB1: TFT 기판
SUB2: CF 기판 UPAS: 절연막
1, 1a: 감광부 2: 착색층
3: 보이드층 4: 초단 펄스 레이저광
5: 굴절률 변화층 6: 휘점 결함 수정 장치
7: 초단 펄스 레이저 발진 기구 8: 고집광 렌즈
32: 개구부 33, 1000, 1001: 이물
34: 백 라이트광 90: 검사 장치
91: 연산부 92: 이동 장치
93: 제어 장치 95: 표시 장치의 제조 장치
100: 자외선 또는 감마선 133: 휘점 결함부
134: 백 라이트 F: 초점

Claims (9)

  1. 제1 유리 기판과,
    상기 제1 유리 기판과 대향하여 표시면측에 위치하는 제2 유리 기판을 구비하는 표시 장치로서,
    상기 제1 유리 기판 및 상기 제2 유리 기판 중 적어도 한쪽의 내부에 있어서, 상기 표시면측에서 봐서 휘점 결함부를 덮는 감광부를 가지며,
    상기 감광부는,
    상기 제1 유리 기판 및 상기 제2 유리 기판과 색이 상이한 착색층과,
    복수의 보이드를 포함하는 보이드층을 포함하는, 표시 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 감광부는, 상기 착색층과 상기 보이드층 사이에, 상기 제1 유리 기판 및 상기 제2 유리 기판보다 큰 굴절률을 나타내는 굴절률 변화층을 더 포함하는, 표시 장치.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 착색층은 제1 착색층이며,
    상기 감광부는, 상기 제1 유리 기판 및 상기 제2 유리 기판과 색이 상이한 제2 착색층을 더 포함하고,
    상기 보이드층은, 상기 제1 착색층과 상기 제2 착색층 사이에 위치하는, 표시 장치.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 제2 착색층의 착색 농도는 상기 제1 착색층의 착색 농도보다 낮은, 표시 장치.
  5. 청구항 2에 있어서,
    상기 굴절률 변화층은 제1 굴절률 변화층이며,
    상기 착색층은 제1 착색층이며,
    상기 감광부는, 상기 제1 유리 기판 및 상기 제2 유리 기판과 색이 상이한 제2 착색층을 더 포함하고,
    상기 감광부는, 상기 보이드층과 상기 제2 착색층 사이에 위치하며, 상기 제1 유리 기판 또는 상기 제2 유리 기판보다 큰 굴절률을 나타내는 제2 굴절률 변화층을 더 포함하는, 표시 장치.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 제2 굴절률 변화층의 굴절률은 상기 제1 굴절률 변화층의 굴절률보다 작은, 표시 장치.
  7. 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 유리 기판과 상기 제2 유리 기판 사이에 위치하며 상기 휘점 결함부를 포함하는 액정층을 더 가지고,
    상기 감광부는, 상기 제2 유리 기판 내에 형성되어 있는, 표시 장치.
  8. 제1 유리 기판과, 상기 제1 유리 기판과 대향하여 표시면측에 위치하는 제2 유리 기판을 구비하는 표시 장치의 제조 방법으로서,
    상기 표시 장치의 점등 검사를 행하여 화소의 휘점 결함부를 검출하는 검출 공정과,
    상기 휘점 결함부를 덮도록 상기 제1 또는 제2 유리 기판에 레이저광을 조사하여, 상기 제1 유리 기판 및 상기 제2 유리 기판 중 적어도 한쪽의 내부에 있어서, 상기 표시면측에서 봐서 상기 휘점 결함부를 덮는 착색층 및 보이드층을 형성하는 조사 공정을 가지며,
    상기 조사 공정에서 조사되는 상기 레이저광은, 파장이 100nm 이상 또한 10000nm 이하, 펄스폭이 1펨토초 이상 100피코초 이하, 펄스 에너지가 1μJ 이상 20μJ 이하이며, 또한, NA가 0.3 이상 0.6 이하인 렌즈로 집광되는, 표시 장치의 제조 방법.
  9. 제1 유리 기판과, 상기 제1 유리 기판과 대향하여 표시면측에 위치하는 제2 유리 기판을 구비하는 표시 장치의 제조 장치로서,
    상기 표시 장치의 점등 검사를 행하여 화소의 휘점 결함부를 검출하는 검사 장치와,
    상기 제1 유리 기판 및 상기 제2 유리 기판 중 적어도 한쪽의 내부에 초점의 위치를 조정하여, 광학계를 통하여 초단(超短) 펄스 레이저광을 출사시키는 초단 펄스 레이저 발진 기구를 가지는 휘점 결함 수정 장치를 구비하고,
    상기 초단 펄스 레이저 발진 기구에서 출사되는 상기 초단 펄스 레이저광은, 파장이 100nm 이상 또한 10000nm 이하, 펄스폭이 1펨토초 이상 100피코초 이하, 펄스 에너지가 1μJ 이상 20μJ 이하이며, 또한, NA가 0.3 이상 0.6 이하의 렌즈로 집광되며,
    상기 초단 펄스 레이저 발진 기구는, 상기 제1 유리 기판 및 상기 제2 유리 기판 중 적어도 한쪽의 내부의 상기 초점의 위치에, 상기 광학계를 통하여 상기 초단 펄스 레이저광을 출사시켜, 상기 검사 장치로 검출된 상기 휘점 결함부를 덮도록, 상기 제1 유리 기판 및 상기 제2 유리 기판 중 적어도 한쪽의 내부에, 상기 표시면측에서 봐서 상기 휘점 결함부를 덮는 착색층 및 보이드층을 형성하는, 표시 장치의 제조 장치.
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