KR20170091124A - 피지 생성에 연관된 상태들을 처리하기 위한 디바이스 - Google Patents
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Abstract
피지 생성에 연관된 상태들을 처리하기 위한 디바이스는, 사이클링 기계적 변형을, 두피의 영역에, 캐릭터에, 그리고 피지를 변위시키는데 충분한 지속기간 동안 적용하도록 구성되는 엔드 이펙터를 포함한다.
Description
일 양태에서, 본 개시물은, 무엇보다도, 피지 생성에 연관된 상태들을 처리하기 위한 기술들 및 수법들에 관한 것이다.
일 양태에서, 본 개시물은, 무엇보다도, 엔드 이펙터 (end effector) 를 포함하는 화장용 마사징 디바이스에 관한 것이다. 일 실시형태에서, 엔드 이펙터는 베이스 부품과, 베이스 부품에 대해 중앙에 위치되는 처리 부재를 포함한다. 일 실시형태에서 처리 부재는 두피를 마사지하도록 구성되는 복수의 마사징 엘리먼트들을 포함한다. 일 실시형태에서, 마사징 엘리먼트들의 각각은 확대된 둥근 헤드 (15b) 가 자신의 말단 단부에 제공된 스템을 포함한다. 일 실시형태에서, 화장용 마사징 디바이스는 회전 축에 대하여 음향 주파수로 적어도 하나의 마사징 엘리먼트를 각지게 발진시키는 핸드피스를 포함한다.
일 양태에서, 본 개시물은, 무엇보다도, 피지 생성에 연관된 상태를 처리하기 위한 비치료적 화장 방법에 관한 것이다. 일 실시형태에서, 그 방법은 두피의 영역에 사이클링 기계적 변형을, 캐릭터의 사이클링 기계적 변형을, 그리고 피지를 변위시키는데 충분한 지속기간 동안 적용하는 단계를 포함한다. 일 양태에서, 본 개시물은, 무엇보다도, 피지 생성에 연관된 상태를 처리하기 위한 비치료적 화장 방법에 관한 것이다. 일 실시형태에서, 그 방법은 두피의 영역에 사이클링 기계적 변형을 적용하는 것에 대해 동시에 또는 순차적으로 화장품 조성물을 두피의 영역에 자동으로 전달하는 단계를 포함한다.
일 양태에서, 본 개시물은, 무엇보다도, 두피 및/또는 모발을 처리하기 위한 키트를 위한 것이다.
특히 본 발명은 청구범위에서 정의된다.
도 1은 본 발명의 예시적인 실시형태에 따른 엔드 이펙터를 수용하도록 구성되는 핸드피스의 등각투상도이며,
도 2는 본 발명의 예시적인 실시형태에 따른 엔드 이펙터의 등각투상도이며,
도 3은 도 2의 엔드 이펙터의 축방향 단면도이며,
도 4는 하나의 실시형태에 따른 피지 생성에 연관된 상태를 처리하기 위한 비치료적 화장 방법의 흐름도를 도시한다.
도 2는 본 발명의 예시적인 실시형태에 따른 엔드 이펙터의 등각투상도이며,
도 3은 도 2의 엔드 이펙터의 축방향 단면도이며,
도 4는 하나의 실시형태에 따른 피지 생성에 연관된 상태를 처리하기 위한 비치료적 화장 방법의 흐름도를 도시한다.
다음의 상세한 설명에서, 본원의 부분을 형성하는 첨부 도면들이 참조된다. 도면들에서, 유사한 기호들은 문맥에서 달리 지시되지 않는 한 보통 유사한 컴포넌트들을 식별한다. 상세한 설명, 도면들, 및 청구항들에서 설명되는 예시적인 실시형태들은 제한하는 의미는 아니다. 여기서 제시된 주제의 정신 또는 범위로부터 벗어나는 일 없이, 다른 실시형태들이 활용될 수도 있고, 다른 변경들이 만들어질 수도 있다.
기름샘들이, 피지라 불리는, 지질들, 지방 생성 세포들의 조직파편 (debris) 등으로 이루어진 지성의 또는 왁스 같은 혼합물을 분비하는 피부에서의 미세한 외분비샘들이다. 피지는 포유류의 피부 및 모발을 번들거리게 하고 방수처리하고, 이물질들에 대한 방벽으로서 역할을 한다. 하지만 일부 경우들에서 기름샘들은 피지를 과잉생산하여 기름기 있거나 기름진 모발, 막힌 모근들, 비듬, 탈모 등을 초래한다.
두피를 세척하는 것과 모발을 솔질하는 것은, 먼지, 비듬, 및 과도한 피지를 제거하는 것을 포함하는 반복 행위들이다. 비듬은 일반적으로 피지 생성에 연결되어 있다. 지금까지, 비듬을 제거하는 것은 이러한 비듬을 일으키는 말라세지아 종 (Malassezia species) 의 효모균들을 박피하는 것에 의해 또는 방지하는 것에 의해 수행되어 왔다. 과다 지루 (hyper seborrhea) 는 샴푸들 또는 로션들로 처리될 수 있다. 피지는 모발 재성장을 위한 액티브 화합물들의 침투 및 활동에 영향을 미친다고 여겨진다. 일 실시형태에서, 모발 및 두피를 세척하는 것은 액티브 화합물들의 더 나은 침투를 허용한다. 두피 및 모발을 세척하거나 또는 마사지하는 도구들의 예들은, 예를 들어, WO 2008/054089 A, US 6 283 930 B, JP 2005-046190 A, JP 2006-034941 A, RU 2 186 514 C, WO 92/18086 A, CN 201044658 Y, EP 0 446 495 A, JP 11070019 A, FR 2 729 075 A, 및 JP 2002-078761 A에서 발견될 수 있다.
유아지방관, 또는 소아습진을 처리하기 위한 키트들의 예들은, 예를 들어, 미국 특허 번호 6 043 202 B에서 발견될 수 있다. 모발 성장을 자극하는 샴푸 또는 로션과 같은 액체를 포함하기에 적합한 저장소를 포함하는 두피 마사징 디바이스의 예들이 미국 특허 공개번호 2009/0182249에서 발견될 수 있다. 두피 마사징 디바이스들의 예들은, 예를 들어, EP 1 972 317 A, EP 1 964 537 A, 및 EP 2 080 500 A에서 발견될 수 있다. 두피와 접촉하는 발진 운동으로 구동되는 스파이크들에 의하여 두피에 조성물을 도포하는 것 및 마사지를 수행하는 것을 포함하는 두피를 처리하는 방법들 및 디바이스들의 예들이 WO 2012/137167에서 발견될 수 있다. 그럼에도 불구하고, 탈모에 대해 효과적인 그리고/또는 비듬을 제거하는 것과 같이, 두피 및/또는 모발에 대해 추가의 이익을 제공하는 방법이 대한 필요는 존재한다. 따라서, 일 양태에서, 본 개시물은, 무엇보다도, 피지 생성에 연관된 하나 이상의 상태들을 개선하기 위한 기술들 및 수법들에 관한 것이다. 일 실시형태에서, 탈모의 방지를 위한 및/또는 두피의 처리를 위한 기술들 및 수법들은, 두피의 영역에 실질적으로 수직인 회전 축에 대하여 두피와 각지게 접촉하여 음향 주파수에서 발진하는 적어도 하나의 마사징 엘리먼트에 의해 유도된 표피상 전단력들에 두피의 영역을 제시하는 것을 포함한다.
도 1은, 예를 들어, 피지 생성에 연관된 상태를 처리하는 것과 같은 하나 이상의 수법들 또는 기술들이 구현될 수 있는 핸드피스 (30) 를 도시한다. 일 실시형태에서, 핸드피스 (30) 는 도 2 및 도 3에서 도시된 바와 같은 엔드 이펙터 컴포넌트 (10) 를 수용하도록 구성된다. 예를 들어, 일 실시형태에서, 핸드피스 (30) 는 전기 모터 (도시되지 않음) 와 그 모터를 적절한 주파수로 구동시키는 전자 회로를 하우징하는 케이싱 (31) 을 포함한다. 일 실시형태에서, 모터는 엔드 이펙터 컴포넌트 (10) 를 변위, 발진, 회전, 진동 등으로 구동하기 위한 허브 (32) 에 기계적으로 커플링된다. 일 실시형태에서, 허브 (32) 는, 아래에서 자세하게 된 바와 같이, 토크를 엔드 이펙터 컴포넌트 (10) 에 전달하도록 적응된 개구부들 (38) 을 포함한다.
일 실시형태에서, 핸드피스 (30) 는 기름샘 장애 (disorder) 에 연관된 상태를 처리하도록 구성된다. 기름샘 장애들의 비제한적 예들은, 여드름, 피부건조증, 면포들, 땀띠, 지루, 지방종, 지성 피부 등을 포함한다. 일 실시형태에서, 핸드피스 (30) 는 지성 피부를 완화하도록 구성된다. 일 실시형태에서, 핸드피스 (30) 는 피지 생성에 연관된 상태를 개선하도록 구성된다.
일 실시형태에서, 엔드 이펙터 컴포넌트 (10) 는 도 2에 도시된 바와 같이 베이스 부품 (11) 이 케이싱 (31) 에 착탈식으로 부착되도록 핸드피스 (30) 상에 장착되게 적응된 고정 (fixation) 수단이 제공된 베이스 부품 (11) 을 포함한다.
일 실시형태에서, 엔드 이펙터 컴포넌트 (10) 는, 핸드피스 (30) 의 핀들 (33) 이 핀 그루브들 (도시되지 않음) 의 진입점에 있도록 핸드피스 (30) 의 개구부 (34) 내에 베이스 부품 (11) 이 위치되는 것을 허용하도록 구성되는 핀 그루브들이 제공된 장착 스커트 (12) 를 포함한다. 각각의 핀 그루브의 단부에는, 대응하는 핀 (33) 상에 스냅 고정되는 노치가 있다.
일 실시형태에서, 엔드 이펙터 컴포넌트 (10) 는 베이스 부품 (11) 에 대해 중앙에 위치되는 처리 부재 (13) 를 포함한다.
일 실시형태에서, 엔드 이펙터 컴포넌트 (10) 는 핸드피스 (30) 에 착탈식으로 부착된다. 일 실시형태에서, 이펙터 컴포넌트 (10) 는 조립체 상에서 대응하는 베이오넷 커플링 구조체, 마찰 결합 (friction fit) 커플링 구조체, 스냅핏 (snap fit) 커플링 구조체, 또는 나사식 커플링 구조체에 커플링하도록 적응된 하나 이상의 구조들을 갖는 베이오넷 커플링 구조체, 마찰 결합 커플링 구조체, 스냅핏 커플링 구조체, 또는 나사식 커플링 구조체 중 적어도 하나를 통해 핸드피스 (30) 에 착탈식으로 부착된다. 일 실시형태에서, 이펙터 컴포넌트 (10) 는 베이오넷 커플링, 마찰 결합 커플링, 스냅핏 커플링, 또는 나사식 커플링에 의해 핸드피스 (30) 에 착탈식으로 부착하도록 구성된다.
일 실시형태에서, 처리 부재 (13) 는 축 (X) 에 대해 베이스 부품 (11) 내에 회전식으로 장착되는 바디 (17) 를 포함한다.
일 실시형태에서, 복수의 마사징 엘리먼트들 (15) 이 바디 (17) 상에 장착된다. 일 실시형태에서, 각각의 엘리먼트 (15) 는, 원통, 원뿔, 평면, 포물선, 규칙 또는 불규칙 형태들을 비제한적으로 포함하는, 다양한 형상들, 구성들, 또는 기하구조들을 취할 수 있다. 일 실시형태에서, 각각의 엘리먼트 (15) 는 확대된 둥근 헤드 (15b) 가 자신의 말단 단부에 제공된 스템 (15a) 으로 이루어진다. 일 실시형태에서, 헤드 (15b) 는 원통, 원뿔, 평면, 포물선, 규칙 또는 불규칙 형태들을 비제한적으로 포함하는, 다양한 형상들, 구성들, 또는 기하구조들을 취할 수 있다. 일 실시형태에서, 헤드 (15b) 는 구형 형상으로 만들어진다.
도 3에서 도시된 바와 같이, 일 실시형태에서, 바디 (17) 는 바디 (17) 를 베이스 부품 (11) 내 축상에서 유지하는 스냅 레그들 (18) 과 허브 (32) 의 대응하는 개구부들 (38) 과 맞물리도록 구성되는 구동 레그들 (19) 을 포함한다. 스냅 레그들 (18) 의 예들은, 예를 들어, 미국 특허 번호 7 386 906 (이는 참조로 본 명세서에 통합됨) 에서 발견될 수 있다. 일 실시형태에서, 각각의 스냅 레그들 (18) 은 장착 스커트 (12) 에 동축적으로 연장하는 안내 스커트 (40) 의 하부 단부에 스냅 고정하도록 구성되는 그리고 더 작은 직경의 하나 이상의 스냅부 (41) 를 포함한다. 일 실시형태에서, 엔드 이펙터 컴포넌트 (10) 는 120° 간격으로 이격되고 원주 방향으로 교번하는 세 개의 구동 레그들 (19) 및 세 개의 스냅 레그들 (18) 을 포함한다. 예컨대, 미국 특허 번호 7 386 906 (이는 참조로 본 명세서에 포함됨) 를 참조한다.
일 실시형태에서, 엔드 이펙터 컴포넌트 (10) 의 일부를 형성하는 복수의 엘리먼트들 (15) 이, 예를 들어, 1차원, 2차원, 또는 3차원 어레이들, 동심 기하 형상들을 포함하는 하나 이상의 패턴들, 직사각형들, 정사각형들, 원들, 삼각형들, 다각형들을 포함하는 하나 이상의 패턴들, 임의의 규칙적 또는 불규칙적 형상들을 포함하는 하나 이상의 패턴들 등, 또는 그것들의 임의의 조합을 비제한적으로 포함하는 다양한 형태들, 구성들, 및 기하학적 패턴들을 취할 수 있다. 일 실시형태에서, 엘리먼트들 (15) 의 수는 약 3부터 약 30까지의 범위이다. 일 실시형태에서, 엘리먼트들 (15) 의 수는 약 5부터 약 25까지의 범위이다. 일 실시형태에서, 모든 엘리먼트들 (15) 은 축 (X) 에 실질적으로 평행하게 도시된 바와 같이 연장한다.
일 실시형태에서, 엘리먼트들 (15) 은 도시된 바와 같이 실질적으로 동일한 길이 (L) 를 갖는다. 일 실시형태에서, 각각의 엘리먼트 (15) 의 길이는 약 5 밀리미터부터 약 50 밀리미터까지의 범위이다. 일 실시형태에서, 각각의 엘리먼트 (15) 의 길이는 약 8 밀리미터부터 약 22 밀리미터까지의 범위이다. 일 실시형태에서, 각각의 엘리먼트 (15) 의 길이는 약 35 밀리미터부터 약 45 밀리미터까지의 범위이다. 일 실시형태에서, 확대된 헤드 (15b) 의 지름 (d) 은 약 20 밀리미터부터 약 50 밀리미터까지의 범위이다. 일 실시형태에서, 확대된 헤드 (15b) 의 지름 (d) 은 약 25 밀리미터부터 약 40 밀리미터까지의 범위이다.
일 실시형태에서, 스템 (15) 의 단면이 원형, 다각형, 원뿔형, 규칙 또는 불규칙 형태들 등을 포함하는 다양한 형상들, 구성들, 또는 기하구조들을 취할 수 있다.
일 실시형태에서, 엘리먼트들 (15) 중 하나 이상의 엘리먼트가 바디 (17) 의 발진 동안 구부러지도록 구성되는 재료들로부터 형성, 제조, 제작 등이 된다. 일 실시형태에서, 엘리먼트들 (15), 바디 (17), 또는 베이스 부품 (11) 의 각각이, 동일한 또는 상이한 재료들로 이루어진다.
일 실시형태에서, 엘리먼트들 (15) 중 하나 이상은, 폴리머들, 플라스틱들, 나일론들, 폴리프로필렌, 천연 섬유들, 나무, 강철 등, 또는 복합재들, 혼합물들, 또는 그 적층판들을 포함하는 하나 이상의 재료들을 포함한다. 일 실시형태에서, 엘리먼트들 (15) 중 하나 이상은, 엘리먼트들 (15) 의 스템 (15a) 을 형성하는 재료와는 상이한 재료를 포함하는 헤드 (15b) 를 포함한다. 일 실시형태에서, 엘리먼트들 (15) 중 하나 이상은 하나 이상의 에폭시 재료들로부터 형성된 헤드 (15b) 를 포함한다. 일 실시형태에서, 엘리먼트들 (15) 중 하나 이상은 약 83 Shore D의 경도를 포함하는 헤드 (15b) 를 포함한다. 일 실시형태에서, 엘리먼트들 (15) 중 하나 이상은 ASTM D638 (인장 특성들에 대한 표준 테스트 방법) 에 기초한 약 100 (KPSI) 부터 약 550 kpsi까지의 범위인 인장 탄성률을 포함하는 헤드 (15b) 를 포함한다. 일 실시형태에서, 엘리먼트들 (15) 중 하나 이상은 ASTM 표준 D638에 기초한 약 230 kpsi (평방인치당 킬로파운드 힘) 로부터 약 550 kpsi까지의 범위인 인장 탄성률을 포함하는 헤드 (15b) 를 포함한다. 일 실시형태에서, 엘리먼트들 (15) 중 하나 이상은 ASTM 표준 D638에 기초한 약 104 (kpsi) 의 범위인 인장 탄성률을 포함하는 헤드 (15b) 를 포함한다.
일 실시형태에서, 핸드피스 (30) 와 엔드 이펙터 컴포넌트 (10) 는, 금속들, 세라믹들, 폴리머들, 복합 재료들 등으로부터 제조되는 하나 이상의 구조적 엘리먼트들을 포함한다. 일 실시형태에서, 핸드피스 (30) 와 엔드 이펙터 컴포넌트 (10) 는, 고분자 재료들부터 제조되는 하나 이상의 구조적 엘리먼트들을 포함한다. 고분자 재료들의 비제한적 예들은 폴리염화비닐, 폴리에스테르, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌, 또는 폴리올레핀, 또는 호모폴리머들 또는 그것의 코폴리머들을 포함하였다. 일 실시형태에서, 핸드피스 (30) 와 엔드 이펙터 컴포넌트 (10) 는, 폴리프로필렌으로 제조된 하나 이상의 구조적 엘리먼트들을 포함한다. 도시된 실시형태에서, 엘리먼트들 (15) 은 단일 조각으로 그리고 바디 (17) 와는 동일한 재료로 몰딩된다. 실시형태에서, 엘리먼트들은 바디 (17) 와는 상이한 재료로 이루어진다. 일 실시형태에서, 베이스 부품 (11) 은 폴리프로필렌과 같은 비교적 강성의 플라스틱 재료로 몰딩된다.
도시된 실시형태에서, 복수의 엘리먼트들 (15) 은 축 (X) 을 기준으로 대칭적인 구성으로 배열된다. 일 실시형태에서, 엘리먼트 (15) 가 축 (X) 상에서 중앙에 위치될 수도 있고 모든 다른 엘리먼트들은 평행한 행들의 적어도 두 개의 세트들을 따라 배열될 수도 있으며, 각각의 행 세트는 다른 세트에 수직이다. 일 실시형태에서, 각각의 행 세트는 도시된 예에서는, 행당 엘리먼트들의 수가 3에서 4로 그리고 그 다음에 5로 증가하고, 그 후 4로 그 다음에 다시 3으로 감소하는 5 개의 행들로 이루어진다.
일 실시형태에서, 핸드피스 (30) 는 엔드 이펙터의 액티브 부분을 축 (X) 에 대해 각지게 음향 주파수들에서 발진시키는데 적합한 임의의 종류일 수도 있다. 핸드피스 (30) 의 예들은, 예를 들어, 미국 특허 번호 7,386,906에서 발견될 수 있다. 일 실시형태에서, 케이싱 (31) 은 동작 중 사용자에 의해 잡히는 핸들을 정의한다.
일 실시형태에서, 동작 중, 사용자가 핸드피스 (30) 를 ON 으로 스위칭하는 경우, 허브 (32) 는 변위, 발진, 회전, 진동 등을 하고, 바디 (17) 를 변위, 발진, 회전, 진동 등으로 구동한다. 일 실시형태에서, 동작 중, 바디 (17) 는 축 (X) 에 대해 음속으로 발진하고 사용자는 엘리먼트들 (15) 의 선단을 두피와 접촉하게 한다.
일 실시형태에서, 동작 중, 바디 (17) 는 약 60 Hz부터 약 200 Hz까지의 범위의 주파수에서 발진한다. 일 실시형태에서, 동작 중, 바디 (17) 는 60 Hz부터 약 90 Hz까지의 범위의 주파수에서 발진한다. 일 실시형태에서, 동작 중, 바디 (17) 는 약 70 Hz의 주파수에서 발진한다.
일 실시형태에서, 동작 중, 움직임의 각도 크기는 중립 포지션에 대하여 약 3°부터 약 18°까지의 범위이며, 따라서 축 (X) 에 대하여 6°와 36° 사이의 총 크기에 달한다. 일 실시형태에서, 동작 중, 움직임의 각도 크기는 중립 포지션에 대하여 약 3°부터 약 6°까지의 범위이며, 따라서 축 (X) 에 대하여 6°와 12° 사이의 총 크기에 달한다.
일 실시형태에서, 핸드피스 (30) 에 의해 유도되는 변위, 발진, 회전, 진동 등, 및 그것들의 조합들은, 약 100 미크론 내지 약 300 미크론의 범위에서 두피의 표면에 수직인 방향에서 두피의 지역 상에 국부적으로 적용된 기계적 변형을 유도할 수도 있다.
일 실시형태에서, 핸드피스 (30) 에 의해 구동되는 엔드 이펙터 컴포넌트 (10) 에 의해 적용되는 변위, 발진, 회전, 진동 등, 및 그것들의 조합들은, 두피의 영역에 사이클링 기계적 변형을 적용하는 것을 초래한다. 일 실시형태에서, 사이클링 기계적 변형을 두피의 영역에 적용하는 것은 캐릭터의 발진을 약 100 미크론 내지 약 300 미크론의 범위에서 두피의 표면에 수직인 방향에서 두피 상의 지역의 변위를 유도하기에 충분한 지속기간 동안 적용하는 것을 포함한다.
일 실시형태에서, 핸드피스 (30) 에 의해 유도된 진동들은 순수한 회전 진동들이며, 즉, 핸드피스는 축 (X) 의 방향에서 엔드 이펙터 컴포넌트 (10) 를 진동시키도록 구성되지 않는다. 그럼에도 불구하고, 일 실시형태에서, 발진 모션은 100~300 미크론의 범위에서 두피의 표면에 수직인 방향으로 두피의 변위를 국부적으로 유도할 수도 있다.
일 실시형태에서, 동작 중 엔드 이펙터 (10) 가 핸드피스 상에 이미 존재하지 않는다면 사용자가 핸드피스 (30) 에 대해 엔드 이펙터 컴포넌트 (10) 를 고정시킨다.
일 실시형태에서, 사용자가 핸드피스 (30) 를 스위치 온하는 경우, 허브 (32) 는 회전 움직임으로 변위, 발진, 회전, 진동 등으로 하고, 바디 (17) 를 변위, 발진, 회전, 진동 등으로 구동시킨다.
일 실시형태에서, 바디 (17) 는 축 (X) 에 대해 음파적 변위, 발진, 회전, 진동 또는 그것들의 조합들로 발진하고 사용자는 엘리먼트들 (15) 의 선단을 두피에 실질적으로 수직인 축 (X) 의 방항에서 두피와 접촉하게 한다. 일 실시형태에서, 바디 (17) 는 축 (X) 에 대해 음향 발진으로 발진하고 사용자는 두피에 실질적으로 수직인 축 (X) 의 방향에서 엘리먼트들 (15) 의 선단을 두피와 접촉하게 한다. 일 실시형태에서, 바디 (17) 는 축 (X) 에 대해 음향 진동으로 발진하고 사용자는 두피에 실질적으로 수직인 축 (X) 의 방향에서 엘리먼트들 (15) 의 선단을 두피와 접촉하게 한다.
일 실시형태에서, 엘리먼트들 (15) 의 둥근 확대된 단부들은 두피와 접촉하여 진동하고 전단력들을 두피에 가한다.
일 실시형태에서, 디바이스로 수행되는 마시지 액션에는 화장품 조성물의 도포가 뒤따른다. 변형예에서, 조성물은 마사지가 일어나기 전에 도포된다. 이러한 경우에, 조성물은 마사지 액션 동안 엘리먼트들 (15) 과 피부 사이의 마찰을 줄이는 윤활제로서 역할을 할 수도 있다.
일 실시형태에서, 디바이스는 조성물을 적용하도록 또한 구성될 수도 있고 조성물 어플리케이터를 피딩하는 저장소를 포함할 수도 있다.
다양한 양태들 및 실시형태들이 본 명세서에 개시되어 있지만, 다른 양태들 및 실시형태들이 예상된다. 본원에서 개시된 다양한 양태들 및 실시형태들은 다음의 청구항들에 의해 나타내어진 진정한 범위 및 정신을 예시할 목적이고 제한하려는 의도는 아니다. 예를 들어, 일 실시형태에서, 엔드 이펙터는 단일 발진 액티브 부품을 포함하는, 정적 베이스 부품이 없는 다른 것에 의해 대체될 수도 있다. 일 실시형태에서, 엔드 이펙터는 진동기 엔드 이펙터와 상이하게 조립되는 베이스 부품을 포함할 수도 있다. 일 실시형태에서, 엔드 이펙터 컴포넌트 (10) 의 핸드피스 (30) 에의 부착은 임의의 다른 기계적 접속에 의해 성취될 수 있다. 바람직하게는, 엔드 이펙터 컴포넌트 (10) 는 핸드피스 상에 착탈식으로 장착되어, 사용자가 엔드 이펙터 컴포넌트 (10) 를 예를 들어 청소를 위해 분리하는 것 및/또는 핸드피스 (30) 를 상이한 부착물들과 함께 사용하는 것을 허용한다.
일 실시형태에서, 핸드피스는 발진 움직임이 전자적으로가 아니라 기계적으로 생성되도록 구성될 수도 있다. 일 실시형태에서, 처리 엘리먼트들 (15) 의 수 및 배열은 본 발명의 범위로부터 벗어남 없이 가변할 수도 있다. 예를 들어, 일 실시형태에서, 엘리먼트들은 동심원들을 따라 배열될 수도 있다. 일 실시형태에서, 엘리먼트들은 그것들의 선단들에 의해 정의된 포락선 표면이 두피를 향하여 오목하고 헤드의 곡률에 적응되도록 모두 동일한 높이가 아닐 수도 있다. 일 실시형태에서, 다양한 컴포넌트들이 두피를 처리하기 위한 키트를 형성하도록 조성물과 함께 패킹될 수도 있다.
본 발명은 추가로는,
베이스 부품, 및
상기 베이스 부품에 대해 중앙에 위치된 처리 부재로서, 상기 처리 부재는 두피를 마사지하도록 구성되는 복수의 마사징 엘리먼트들을 갖고, 마사징 엘리먼트들의 각각은 확대된 둥근 헤드가 자신의 말단 단부에 제공된 스템을 갖는, 상기 처리 부재
를 포함하는 엔드 이펙터; 및
적어도 하나의 마사징 엘리먼트를 회전 축에 대하여 음향 주파수에서 각지게 발진시키는 핸드피스를 포함하는 화장용 마사징 디바이스 위한 것이다.
일 실시형태에서, 그 디바이스와 함께 사용되는 화장품 조성물이 예를 들어 적어도 하나의 수상 (aqueous phase) 및/또는 적어도 하나의 지방상 (fatty phase) 을 포함하는 생리학적으로 허용 가능한 매질을 포함한다. 그 조성물은 표면활성제들, 충전제들, 젤화제들, 점증제들 (thickening agents), 에멀션화제들, 필름 형성제들, 폴리머들, 방부제들, 실리콘 엘라스토머, 안료들, 진주광택제들 (nacres), 항 자유라디칼제들, 방충제들, 살균제들, 격리제들 (sequestrants), 산화방지제들, UV 햇빛차단제들, 향수들, 보습제들, 완화제들, pH 조절제들 및 그것들의 혼합물들로부터 선택된 적어도 하나의 화합물을 또한 포함할 수도 있다.
일 실시형태에서, 화장품 조성물이 항지루제들, 탈모방지제들, 비듬방지제들로부터 선택된 적어도 하나의 액티브 성분을 포함한다. 일 실시형태에서, 화장품 조성물이 진정제들 또는 자극방지제들, 박피제들, 보습제들, 또는 그것들의 조합들 또는 혼합물들을 포함한다.
일 실시형태에서, 화장품 조성물이 적어도 하나의 수상 및/또는 적어도 하나의 지방상을 포함하는 생리학적으로 허용 가능한 매질을 포함할 수도 있다. 화장품 조성물은 표면활성제들, 충전제들, 젤화제들, 점증제들, 에멀션화제들, 필름 형성제들, 폴리머들, 방부제들, 실리콘 엘라스토머, 안료들, 진주광택제들, 항 자유라디칼제들, 방충제들, 살균제들, 격리제들, 산화방지제들, UV 햇빛차단제들, 향수들, 보습제들, 완화제들, pH 조절제들 및 그것들의 혼합물들로부터 선택된 적어도 하나의 화합물을 또한 포함할 수도 있다.
본 발명은 또한, 본 발명에 따른 방법을 수행하기 위한 화장 디바이스의 사용에 관한 것이다.
본 발명은 또한, 본 발명에 따른 디바이스와 바람직하게는 동일한 패키지 내에 포함되는, 두피 상에 도포하기 위한 화장품 조성물을 포함하는 키트에 관한 것이다.
도 4는 피지 생성에 연관된 상태를 처리하기 위한 비치료적 화장 방법 (400) 을 도시한다.
410에서, 방법 (400) 은 두피의 영역에 사이클링 기계적 변형을, 캐릭터의 사이클링 기계적 변형을, 그리고 피지를 변위시키는데 충분한 지속기간 동안 적용하는 단계를 포함한다.
412에서, 두피의 영역에 사이클링 기계적 변형을 적용하는 단계는 캐릭터의 발진을 피지를 변위시키는데 충분한 지속기간 동안 적용하는 단계를 포함한다.
414에서, 두피의 영역에 사이클링 기계적 변형을 적용하는 단계는, 상기 두피의 영역에 실질적으로 수직인 회전 축 (X) 에 대하여 두피와 각지게 접촉하여 음향 주파수에서 발진하는 복수의 마사징 엘리먼트들 (15) 에 의해 유도된 표피상 전단력들을 두피의 영역에 제시하는 단계를 포함한다.
416에서, 두피의 영역에 사이클링 기계적 변형을 적용하는 단계는 두피의 영역과 각지게 접촉하여 발진하도록 복수의 마사징 엘리먼트들 (15) 을 작동시키는 단계를 포함한다.
418에서, 두피의 영역에 사이클링 기계적 변형을 적용하는 단계는 약 60 헤르츠부터 약 200 헤르츠까지, 바람직하게는 약 70 헤르츠부터 약 80 헤르츠까지의 범위인 피크 방출 음향 주파수를 갖는 사이클링 기계적 변형을 적용하는 단계를 포함한다. 일 실시형태에서, 두피의 영역에 사이클링 기계적 변형을 적용하는 단계는 약 70 Hz의 피크 방출 음향 주파수를 갖는 사이클링 기계적 변형을 적용하는 단계를 포함한다.
420에서, 두피의 영역에 사이클링 기계적 변형을 적용하는 단계는 중립 포지션을 기준으로 약 3°부터 약 18°까지, 바람직하게는 약 7°부터 약 11°까지의 범위인 회전 축에 대한 발진 운동의 각도 크기를 갖는 사이클링 기계적 변형을 적용하는 단계를 포함한다.
422에서, 두피의 영역에 사이클링 기계적 변형을 적용하는 단계는 캐릭터의 발진을 두피의 표면에 평행하여 약 300 미크론 내지 약 500 미크론의 범위에서 두피의 국부 변위를 유도하기에 충분한 지속기간 동안 적용하는 단계를 포함한다.
424에서, 두피의 영역에 사이클링 기계적 변형을 적용하는 단계는 캐릭터의 발진을 약 100 미크론 내지 약 300 미크론의 범위에서 두피의 표면에 수직인 방향에서 두피 상의 지역의 변위를 유도하기에 충분한 지속기간 동안 적용하는 단계를 포함한다.
426에서, 두피의 영역에 사이클링 기계적 변형을 적용하는 단계는 적어도 2 내지 6 주 동안 1 분과 5 분 사이의 시간 간격들에서 처리를 제공하는 단계를 포함한다.
428에서, 두피의 영역에 사이클링 기계적 변형을, 캐릭터의 사이클링 기계적 변형을, 그리고 피지를 변위시키는데 충분한 지속기간 동안 적용하는 단계는, 두피의 영역에 기계적 변형을 전달하기 위해 핸드피스 (30) 상에 착탈식으로 끼워맞춤된 엔드 이펙터 (10) 의 일부를 형성하는 복수의 마사징 엘리먼트의 작동을 포함한다.
430에서, 방법 (400) 은 두피의 영역에 사이클링 기계적 변형을 적용하는 것에 대해 동시에 또는 순차적으로 화장품 조성물을 두피의 영역에 자동으로 전달하는 단계를 포함한다.
440에서, 방법 (400) 은 두피의 영역에 사이클링 기계적 변형을 적용하는 것에 대해 동시에 또는 순차적으로 적어도 하나의 항지루제를 포함하는 화장품 조성물을 두피의 영역에 자동으로 전달하는 단계를 포함한다.
항지루제들의 비제한적 예들은 기름샘들의 활동을 제어할 수 있는 화합물들을 포함한다. 항지루제들의 추가의 비제한적 예들은, 레티노산; 과산화벤조일; 황; 비타민 B6 (또는 피리독신); 염화셀레늄; 시펜넬 (sea fennel); 공급자 Seppic로부터의 Sepicontrol A5 TEA®와 같은, 시나몬, 차, 및 옥타노일글리신 추출물들의 혼합물들; 상품명 Sepicontrol A5® 하에서 공급자 SEPPIC에 의해 특히 판매되는, 시나몬, 사르코신, 및 옥타노일글리신의 혼합물; 글루콘산아연, 아연 피롤리돈카르복실산아연 (또는 피돌산아연), 락트산아연, 아스파르트산아연, 카르복실산아연, 살리실산아연, 시스테인산아연과 같은 아연 염들; 구리 유도체들과 특히 Solabia에 의한 Cuivridone®와 같은 피돌산구리; 모두가 예를 들어 공급자 MARUZEN에 의해 판매되는 종들인 아르니카 몬타나, 신코나 숙시루브라, 유게니아 카리오필라타, 휴물러스 루풀루스, 히페리쿰 페르포라툼, 멘타 피페리타, 로스마리누스 오피시날리스, 살비아 오피시날리스, 및 티무스 불가리스의 식물들의 추출물들; 공급자 Silab에 의해 상품명 Sebonormine® 하에서 판매되는 것과 같은 메도스위트 (스피라에아 우라마리아) 의 추출물들; 공급자 Biotechmarine에 의해 상품명 Phlorogine® 하에 판매되는 것과 같은 라미나리아 사카리나 (kelp) 의 추출물들; 공급자 Solabia에 의해 상품명 Sebustop® 하에서 판매되는 것과 같은 시나몬 (시나모뮴 카시아) 수피 (bark), 생강 (진기베르 오피시날리스) 뿌리줄기들, 및 버넷 (산구이소르바 오피시날리스 / 포테리움 오피시날레) 뿌리들의 추출물들의 혼합물들; 공급자 Lucas Meyer에 의해 상품명 Linumine® 하에서 판매되는 것과 같은 아마씨 추출물들; 공급자 Maruzen에 의해 상품명 Phellodendron extract BG 또는 공급자 Ichimaru Pharcos에 의해 Oubaku liquid B 하에서 판매되는 것들과 같은 황벽 추출물들; 공급자 Pentapharm에 의해 상품명 Regu SEB® 하에서 판매되는 것과 같은 아르간 오일의, 세레노아 세루라타 (쏘 팔메토) 추출물의, 및 참깨 씨앗 추출물의 혼합물들; 공급자 Green tech에 의해 상품명 Seborilys® 하에서 판매되는 것과 같은, 분홍바늘꽃, 테르미날리아 체불라, 한련화 및 생물학적 이용가능 아연 (미세조류) 의 추출물들의 혼합물들; 공급자 Euromed에 의한 상품명 피게움 아프리아눔 스테롤 지질 (sterolic lipid) 추출물 하에서 판매되는 것과 같은 피게움 아프리아눔의 추출물들; 공급자 Actives International에 의해 상품명 Viapure Sabal 하에서 판매되는 것들, 또는 공급자 Euromed에 의해 판매되는 것들과 같은 세레노아 세루라타의 추출물들; 공급자 Rahn에 의해 상품명 Seboclear® 하에서 판매되는 것과 같은 플랜테인, 베르베리스 아퀴폴리움, 및 살리실산나트륨의 추출물들의 혼합물들; 공급자 Maruzen에 의해 상품명 Clove extract 분말 하에서 판매되는 것과 같은 정향 (clove) 추출물; Laboratoires Serobiologiques에 의해 상품명 Lipofructyl® 하에서 판매되는 것과 같은 아르간 오일; 공급자 Sederma에 의해 상품명 Normaseb® 하에서 판매되는 것과 같은 유단백질 여과액들 (lactic protein filtrates); 공급자 Biotechmarine에 의해 상품명 Laminarghane® 하에서 판매되는 것과 같은, 조류 (alga) 라미나리아의 추출물들; 공급자 Codif에 의해 상품명 Phycosaccharide AC 하에서 판매되는 것과 같은 조류 라미나리아 디기타타의 올리고당류들; 공급자 Sabinsa에 의해 상품명 Policasonol® 하에서 판매되는 것과 같은 감자당의 추출물들; 공급자 Ichthyol에 의해 상품명 Ichtyol Pale® 하에서 판매되는 것과 같은 술폰화된 편암 오일 (sulfonated schist oil); 공급자 Libiol에 의해 상품명 Cytobiol® 하에서 판매되는 것과 같은 메도스위트 (스피라에아 울마리아) 추출물들; 공급자 Sederma에 의해 상품명 Sebosoft® 하에서 판매되는 것과 같은 특히 폴리아크릴산나트륨 겔 형태로 판매되는 세바신산; 공급자 Arch Chemical에 의해 상품명 Biopol Beta 하에서 판매되는 것과 같은, 곤약 튜브로부터 추출된 및 알킬 술폰산염 연쇄들로 개질된 (modified) 글루코만난들; 공급자 Bioland에 의해 상품명 Sophora 분말 또는 고삼 (Sophora) 추출물 하에서 판매되는 것과 같은, 소포라 안구스티포리아의 추출물들; 공급자 Alban Muller에 의해 상품명 Red bark HS 하에서 판매되는 것과 같은, 신코나 숙시루브라 수피의 추출물들; 공급자 Alban Muller에 의해 상품명 Panama wood HS 하에서 판매되는 것과 같은 퀼라자 사포나리아의 추출물들; 공급자 Seppic에 의해 상품명 Lipacide UG OR, Lipacide C8G 하에서 판매되는 것과 같은, 운데실린 연쇄 상에 또는 옥타노일 연쇄 상에 그래프트된 (grafted) 글리신; 공급자 Sederma에 의해 상품명 AC.Net 하에서 겔 형태로 판매되는 것과 같은 올레아놀산 및 노르디히드로구아이아레트산 혼합물; 프탈이미도과산화헥사노익산; 공급자 Sasol에 의해 상품명 COSMACOL® ECI 하에서 판매되는 것과 같은 (C12-C13)트리알킬 시트르산염; 공급자 Sasol에 의해 상품명 COSMACOL® ECL 하에서 판매되는 것과 같은 (C14-C15)트리알킬 시트르산염; 공급자 Vincience에 의해 상품명 Acnacidol® BG 하에서 판매되는 것과 같은 10-히드록시데칸산과, 특히 10-히드록시데칸산, 세바스산, 및 1,10-데칸디올의 혼합물들; COGNIS에 의한 ASEBIOL LS와 같은 효모 단백질 가수분해물들 (비타민들과 혼합됨); 그리고 그것들의 혼합물들을 포함한다.
450에서, 방법 (400) 은 두피의 영역에 사이클링 기계적 변형을 적용하는 것에 대해 동시에 또는 순차적으로 적어도 하나의 비듬방지제를 포함하는 화장품 조성물을 두피의 영역에 자동으로 전달하는 단계를 포함한다.
비듬방지제들의 비제한적 예들은 비듬의 출현을 방지할 수 있는, 그것의 양을 줄일 수 있는, 그리고/또는 그것을 완전히 사라지게 할 수 있는 화합물들을 포함한다. 비듬방지제들의 추가의 비제한적 예들은 1-히드록시-4-메틸-2-피리돈, 1-히드록시-6-메틸피리돈, 1-히드록시-4,6-디메틸-2-피리돈, 1-히드록시-4-메틸-6- (2,4,4-트리메틸펜틸)-2-피리돈, 1-히드록시-4-메틸-6-시클로헥실-2-피리돈, 1-히드록시-4-메틸-6-(메틸-시클로헥실) 2-피리돈, 1-히드록시-4-메틸-6-(2-비시클로[2,2,1]헵틸)-2-피리돈, 1-히드록시-4-메틸-6(4-메틸페닐)-2-피리돈, 1-히드록시-4-메틸-6[1-[4-니트로페녹시]-부틸]-2-피리돈, 1-히드록시-4-메틸-6-(4-시아노페녹시메틸-2-피리돈), 1-히드록시-4-메틸-6-(페닐술포닐메틸)-2-피리돈, 1-히드록시-4-메틸-6-(4-브로모벤질)-2-피리돈과 같은 1-히드록시-2-피리돈의 유도체들 및 그것들의 염들을 포함하며; 1-히드록시-2-피리돈의 바람직한 유도체에 의해, HOECHST에 의해 상품명 옥토피록스 하에서 판매되는 조성물인 (1-히드록시-4-메틸-6-(2,4,4-트리메틸펜틸)-2-피리돈, 모노에탄올아민 염; 피리딘티온 염들, 특히 칼슘, 마그네슘, 바륨, 스트론튬, 아연, 카드뮴, 주석, 및 지르코늄 염들이 언급될 수도 있다. 아연 피리딘티온 염이 특히 바람직하다. 아연 피리딘티온 염은 특히 OLIN에 의해 상품명 zinc omadine 하에서으로 판매됨; 다음 화학식의 트리할로게노 카르바미드:
여기서 Z는 염소와 같은 할로겐 원자 또는 CF3와 같은 C1-C4 트리할로게노알킬 기를 나타냄; 다음의 화학식에 의해 표현되는 트리클로산:
클림바졸, 케토코나졸, 클로트리마졸, 에코나졸, 이소코나졸, 및 미코나졸 같은 아졸 화합물들; 암포테리신 B 또는 니스타틴과 같은 항진균 폴리머들; 황화셀레늄들, 특히 x가 범위 1 내지 7에 놓이는 화학식 SxSe8 -x의 것들; 그것의 다양한 형태들의 염들, 황화카듀뮴, 알란토인, 석탄 또는 나무 타르들, 및 그것들의 유도체들, 특히 주니퍼 타르 오일, 운데실렌산, 푸마르산, 테르비나핀과 같은 알릴아민들; 및 엘라그산.
460에서, 방법 (400) 은 두피의 영역에 사이클링 기계적 변형을 적용하는 것에 대해 동시에 또는 순차적으로 적어도 하나의 탈모방지제를 포함하는 화장품 조성물을 두피의 영역에 자동으로 전달하는 단계를 포함한다. 탈모방지제들의 비제한적 예들은, 특히 토코페릴 니코티네이트, 벤질 니코티네이트, 및 메틸 니코티네이트 또는 헥실 니코티네이트와 같은 C1-C6 알킬 니코티네이트들을 포함하는, 니코틴산 에스테르들과 같은혈관확장제들을 포함한다. 탈모방지제들의 추가의 비제한적 예들은 아미넥실 또는 Mex (2,4 디아미노 피리미딘 3N 옥사이드); 출원 EP 1 688 128에서 설명된 바와 같은, 글루코스에 의한 비타민 F의 부분 또는 전체 에스테르화에 의해 획득된 O-아실 유도체들; 및 그것들의 혼합물들을 포함한다.
470에서, 방법 (400) 은 두피의 영역에 사이클링 기계적 변형을 적용하는 것에 대해 동시에 또는 순차적으로 적어도 하나의 자극방지제/진정제를 포함하는 화장품 조성물을 두피의 영역에 자동으로 전달하는 단계를 포함한다. 자극방지제/진정제들의 비제한적 예들은 항염증제들; α-비사보롤; 벤지다민; 살리실산을 포함한다. 자극방지제/진정제들의 추가의 비제한적 예들은 스트론튬 염들; β-글리세르리텐산; 글리시리진산; 아줄렌; 정유들; 그리고 캐모마일, 귀리, 알로에 베라, 버베나, 틸리아, 및 감초의 추출물들을 포함한다.
480에서, 방법 (400) 은 두피의 영역에 사이클링 기계적 변형을 적용하는 것에 대해 동시에 또는 순차적으로 적어도 하나의 박피제를 포함하는 화장품 조성물을 두피의 영역에 자동으로 전달하는 단계를 포함한다. 박피제들의 비제한적 예들은 연마 고체 입자들을 포함한다. 박피제들의 추가의 비제한적 예들은 모발의 경도 이상인 경도를 갖는 연마 고체 입자들을 포함한다. 예를 들어, 연마 고체 입자들은 모스눈금 (Mohs scale) 으로 3 이상인, 또는 4 이상인, 예컨대, 모스눈금으로 5 이상인 경도를 가질 수도 있다. 박피제들의 추가의 비제한적 예들은, 천연 재료들로부터, 특히 미네랄 또는 채소류 (vegetable origin) 의, 또는 합성 물질들로부터 선택된 고체 입자들을 포함한다. 박피제들의 추가의 비제한적 예들은, 무기 및/또는 금속 입자들 이를테면: 체심입방 형태의 붕소 질화물 (Borazon®); 알루미노규산염; 지르콘; 에헤드와 같은 알루미늄의 혼합된 산화물들; 산화 아연; 알루미나들 또는 강옥과 같은 알루미늄 산화물들; 티타늄 산화물; 티타늄 산화물 코팅된 운모; 탄화물들, 특히 탄화 규소 (carborundum); 또는 다른 금속 산화물들; 금속들과, 철구 (iron shot), 강구 (steel shot), 및 특히 펄라이트와 같은 금속 합금들; 유리, 석영, 또는 모래와 같은 규산염들; 탄산 칼슘 (예컨대, 보라-보라 (Bora-Bora) 모래 또는 로제 드 브히뉼르 (Rose de Brignoles) 모래) 또는 탄산마그네슘; 염화나트륨; 부석; 비정질 실리콘; 다이아몬드; 세라믹들; 유기 입자들 이를테면: 과일씨들 (fruit stones), 특히 살구씨들, 예컨대, Scrubami® apricot; 목재 셀룰로오스, 예컨대, 분쇄된 대나무 줄기; 코코넛 껍질, 예컨대, 코코넛 박피크림; 폴리아미드들, 특히 나일론-6; 설탕; 폴리에틸렌들; 폴리프로필렌들; 및 유기 및 무기 화합물들에 연관된 혼합된 입자들과, 위의 화합물들에 코팅된 입자들을 포함한다.
그 고체 입자들은 편평한, 구형, 기다란, 다면형, 또는 불규칙인 형상으로 될 수도 있다. 예로서, 고체 입자들은 부석 분말 입자들, 다이아몬드 분말, 분말형 과일씨들, 분말형 코코넛 껍질들, 마이크로비드들, 예컨대, 알루미나, 유리, 또는 폴리아미드, 특히 나일론-6, 또는 섬유들, 특히 폴리아미드 섬유들, 또는 목재 셀룰로오스의 하드 섬유들의 마이크로비드들로부터 도출될 수도 있다.
490에서, 방법 (400) 은 두피의 영역에 사이클링 기계적 변형을 적용하는 것에 대해 동시에 또는 순차적으로 적어도 하나의 보습제를 포함하는 화장품 조성물을 두피의 영역에 자동으로 전달하는 단계를 포함한다. 보습제들의 비제한적 예들은 우레아; 히드록시에틸우레아와 같은 우레아의 유도체들; 글리세린과 같은 폴리올들; 프로필렌 글리콜; 소르비톨; 및 폴리에틸렌 글리콜들을 포함한다.
일 실시형태에서, 화장품 조성물은 하나 이상의 활성제들을 포함한다. 예를 들어, 일 실시형태에서, 화장품 조성물은 적어도 하나의 비듬방지제와 적어도 하나의 항지루제를 포함한다. 일 실시형태에서, 화장품 조성물은 하나 이상의 비듬방지제들을 포함한다. 일 실시형태에서, 화장품 조성물은 모발에 대한 화장품 분야에서 일반적인 다른 화합물들 이를테면: 비타민들과 판테놀을 포함하는 프로-비타민들; 햇빛차단제들; 유색 또는 무색 무기 또는 유기 안료들; 마피 (pearling) 및 불투명화 제들; 격리 (sequestrating) 제들; 가소제들; 가용화제들; 산화방지제들; 히드록시산들; 프래그런스들 (fragrances); 비이온, 음이온, 양이온 또는 양쪽성 (amphoteric) 표면활성제들; 비이온, 음이온, 양이온, 또는 양쪽성 폴리머들; 에탄올 또는 이소프로판올과 같은 짧은 체인 알카놀들; 산성화작용제들; 알칼리화작용제들 (alkalinizing agents); 비-실리콘 고체 지방들; 비-실리콘 오일들; 실리콘들; 및 방부제들을 포함한다.
일 실시형태에서, 조성물이 수성 또는 무수성이다. 일 실시형태에서, 조성물이 분말들, 액체들, 젤들, 로션들, 크림들, 및 비-분말 고체들을 포함하는 임의의 형태를 취할 수 있다. 일 실시형태에서, 조성물이 에어로졸 또는 펌프 플라스크를 통해 두피에 분무된다.
예들
다음의 예들이 탈체 처리되고 (복부성형술) 약 10 일 동안 살아있는 인간 피부에 대해 시험관내에서 수행되었다.
마사지는 그 인간 두피에 대해 수행되지 않고 따라서 디바이스가 위에서 개시된 디바이스 대신 사용될 수도 있다. 그러나, 이 예는 일부 특정 표시자들에 대한 실시형태에 따른 마시지의 일부 액션을 예시한다.
마사지는 0 Hz부터 300 Hz까지의 특정 주파수들 및 0°부터 12°까지의 변위에서 피부에 기계적 변형을 부드럽게 유도하는 디바이스로 하루에 2번 1 분간 10 일 동안 수행된다.
이 실험 디바이스는 브러쉬가 회전 축에 대하여 음향 주파수에서 발진 운동을 수행할 때 실시형태에 따른 일부 특징들에 따라 피부에 마시지를 수행하는 것이 적절하다.
디바이스 처리는 피부 표면에 하루에 2 번 (1 분간) 10 또는 11 일 동안 적용되었다.
연구는 두 개의 제공부위들에 대해 그 결과들을 확인하기 위해 2번 수행되었다.
마사지는 40~60~90~120 및 176Hz의 주파수에서 수행되었다.
형태학적 변화들이 양 연구들에서 상이한 상태들 간에 관찰되지 않았음을 보여주어, 마사지 처리는 피부의 자연적 구조를 변경시키지 않음이 나타내는 모든 샘플들의 헤마톡실린/에오신/사프란 염색 (Haematoxylin/Eosin/Safran staining, HES) 이 이루어진다.
에피형광 (epifluorescence) 현미경을 사용한 면역라벨링 및 분석이 피부의 샘플들에 대해 수행되었다.
예 1:
TGK1
(
트랜스글루타미나제
1) 에 대한 영향 및
필라그린
표지자들
말단 분화 (terminal differentiation) 는 비듬 문제들에 의해 영향을 받은 사람들에서 크게 줄어들었으며: 비듬의 문제는 높은 피지 생성으로 연결되며 말단 분화에서의 감소와 상관되는 피부 장벽을 손상시킨다 (GA Turner 등, 국제화장품과학저널, 2012).
표지자
TGK1 (트랜스글루타미나제 1, 수분 손실 및 감염원들에 대해 방어하는 기계적 장벽으로서 역할을 하는 표피 각화세포 외피의 형성에서 기능을 하는 촉매 막-결합성 효소) 이 말기 분화의 표지자이다.
측정
형광 세기 레벨에 대한 TGK1 표지자의 측정들은 면역염색에 의해 수행되었고 Histolab 프로그램에 의해 정량화되었고, 마지막으로 통계 분석이 정량화 결과에 대해 수행되었다.
일 실시형태에 따라 40~60~90~120~176 Hz에서 피부를 마사지한 후 획득된 형광 세기 (niv.cm2) 측정값들은 비교 테스트로서 TGK1 표지자에 대해 동일한 미처리된 피부에서 수행되었다.
그 결과들은 다음과 같으며: 본 발명에 따른 마사지로, TGK1 표지자의 양은 그 대조 (control) 와 비교하여 60~90 및 176 Hz에서 2배를 초과하였다.
표지자
단말 분화에 중요한 다른 단백질인 필라그린 (스트라툼 그래뉼로스로부터 스트라툼 코르네움 으로의 분자들의 통과에 관여함).
형광 세기 레벨에 대한 필라그린 표지자의 측정들은 면역염색에 의해 수행되었고 Histolab 프로그램에 의해 정량화되었고, 마지막으로 통계 분석이 정량화 결과에 대해 수행되었다.
일 실시형태에 따라 40~60~90~120~176 Hz에서 피부를 마사지한 후 획득된 형광 세기 (niv.cm2) 측정값들은 비교 테스트로서 필라그린 표지자에 대해 동일한 미처리된 피부에서 수행되었다.
그 결과들은 다음과 같으며: 본 발명에 따른 마사지로, 필라그린 표지자의 양은 그 대조와 비교하여 40~60 및 120 Hz에서 2배를 초과하였다. 더 작은 증가가 90 Hz에서 관찰되었다.
이들 결과들은 일 실시형태에 따른 마사지가 비듬에 대항하는 것을 돕는다는 것을 보여준다.
예 2: CD44
표지자에
대한 영향
표지자
탈모증은 코카서스인 남자들 및 여자들에서 두피 모낭사이 (interfollicular) 에서 표지자 CD44 (히알루론산 수용체) 의 감소된 표현과 상관되는 것으로 알려져 있다 (Pierard - Franchimont 등. 2013).
성형수술들로부터 인간 피부에 대한 마사지가 위에서 설명된 실험 디바이스로 40~60~90~120 및 176 Hz에서 수행되었다.
측정
형광 세기 레벨에 대한 CD44 표지자의 측정들은 면역염색에 의해 수행되었고 Histolab 프로그램에 의해 정량화되었고, 마지막으로 통계 분석이 정량화 결과에 대해 수행되었다.
본 발명에 따른 마사지의 5 또는 10 일 후, CD44 표지자의 양은 대조 (처리되지 않은 피부) 와 비교하여 60~90 및 176 Hz에서 그 대조에 대해 2 배였다.
이는 일 실시형태에 따른 마사지가 탈모를 줄이는 것을 돕는다는 것을 증명한다.
Claims (20)
- 피지 생성에 연관된 상태를 처리하기 위한 비치료적 화장 방법으로서,
두피의 영역에 사이클링 기계적 변형을, 캐릭터의 상기 사이클링 기계적 변형을, 그리고 피지를 변위시키는데 충분한 지속기간 동안 적용하는 단계를 포함하는, 피지 생성에 연관된 상태를 처리하기 위한 비치료적 화장 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 두피의 영역에 상기 사이클링 기계적 변형을 적용하는 것에 대해 동시에 또는 순차적으로 화장품 조성물을 상기 두피의 영역에 자동으로 전달하는 단계를 더 포함하는, 피지 생성에 연관된 상태를 처리하기 위한 비치료적 화장 방법. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 두피의 영역에 상기 사이클링 기계적 변형을 적용하는 것에 대해 동시에 또는 순차적으로 적어도 하나의 항지루제를 포함하는 화장품 조성물을 상기 두피의 영역에 자동으로 전달하는 단계를 더 포함하는, 피지 생성에 연관된 상태를 처리하기 위한 비치료적 화장 방법. - 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 두피의 영역에 상기 사이클링 기계적 변형을 적용하는 것에 대해 동시에 또는 순차적으로 적어도 하나의 비듬방지제를 포함하는 화장품 조성물을 상기 두피의 영역에 자동으로 전달하는 단계를 더 포함하는, 피지 생성에 연관된 상태를 처리하기 위한 비치료적 화장 방법. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 두피의 영역에 상기 사이클링 기계적 변형을 적용하는 것에 대해 동시에 또는 순차적으로 적어도 하나의 탈모방지제를 포함하는 화장품 조성물을 상기 두피의 영역에 자동으로 전달하는 단계를 더 포함하는, 피지 생성에 연관된 상태를 처리하기 위한 비치료적 화장 방법. - 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 두피의 영역에 상기 사이클링 기계적 변형을 적용하는 것에 대해 동시에 또는 순차적으로 적어도 하나의 자극방지제/진정제를 포함하는 화장품 조성물을 상기 두피의 영역에 자동으로 전달하는 단계를 더 포함하는, 피지 생성에 연관된 상태를 처리하기 위한 비치료적 화장 방법. - 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 두피의 영역에 상기 사이클링 기계적 변형을 적용하는 것에 대해 동시에 또는 순차적으로 적어도 하나의 박피제를 포함하는 화장품 조성물을 상기 두피의 영역에 자동으로 전달하는 단계를 더 포함하는, 피지 생성에 연관된 상태를 처리하기 위한 비치료적 화장 방법. - 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 두피의 영역에 상기 사이클링 기계적 변형을 적용하는 것에 대해 동시에 또는 순차적으로 적어도 하나의 보습제를 포함하는 화장품 조성물을 상기 두피의 영역에 자동으로 전달하는 단계를 더 포함하는, 피지 생성에 연관된 상태를 처리하기 위한 비치료적 화장 방법. - 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 두피의 영역에 상기 사이클링 기계적 변형을 적용하는 것은, 캐릭터의 발진을 피지를 변위시키는데 충분한 지속기간 동안 적용하는 단계를 포함하는, 피지 생성에 연관된 상태를 처리하기 위한 비치료적 화장 방법. - 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 두피의 영역에 상기 사이클링 기계적 변형을 적용하는 것은, 상기 두피의 영역에 실질적으로 수직인 회전 축 (X) 에 대하여 상기 두피와 각지게 접촉하여 음향 주파수에서 발진하는 복수의 마사징 엘리먼트들 (15) 에 의해 유도된 표피상 전단력들을 상기 두피의 영역에 제시하는 단계를 포함하는, 피지 생성에 연관된 상태를 처리하기 위한 비치료적 화장 방법. - 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 두피의 영역에 상기 사이클링 기계적 변형을 적용하는 것은, 상기 두피의 영역과 각지게 접촉하여 발진하도록 복수의 마사징 엘리먼트들 (15) 을 작동시키는 단계를 포함하는, 피지 생성에 연관된 상태를 처리하기 위한 비치료적 화장 방법. - 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 두피의 영역에 상기 사이클링 기계적 변형을 적용하는 것은, 약 60 헤르츠부터 약 200 헤르츠까지, 바람직하게는 약 70 헤르츠부터 약 80 헤르츠까지, 더 바람직하게는 약 70 헤르츠의 범위인 피크 방출 음향 주파수를 갖는 사이클링 기계적 변형을 적용하는 단계를 포함하는, 피지 생성에 연관된 상태를 처리하기 위한 비치료적 화장 방법. - 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 두피의 영역에 상기 사이클링 기계적 변형을 적용하는 것은, 중립 포지션을 기준으로 약 3°부터 약 18°까지, 바람직하게는 약 7°부터 약 11°까지 범위인 회전 축에 대한 발진 운동의 각도 크기를 갖는 사이클링 기계적 변형을 적용하는 단계를 포함하는, 피지 생성에 연관된 상태를 처리하기 위한 비치료적 화장 방법. - 제 1 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 두피의 영역에 상기 사이클링 기계적 변형을 적용하는 것은, 캐릭터의 발진을 상기 두피의 표면에 평행하여 약 300 미크론 내지 약 500 미크론의 범위에서 상기 두피의 국부 변위를 유도하기에 충분한 지속기간 동안 적용하는 단계를 포함하는, 피지 생성에 연관된 상태를 처리하기 위한 비치료적 화장 방법. - 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 두피의 영역에 상기 사이클링 기계적 변형을 적용하는 것은, 캐릭터의 발진을 약 100 미크론 내지 약 300 미크론의 범위에서 상기 두피의 표면에 수직인 방향에서 두피 상의 지역의 변위를 유도하기에 충분한 지속기간 동안 적용하는 것을 포함하는, 피지 생성에 연관된 상태를 처리하기 위한 비치료적 화장 방법. - 제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 두피의 영역에 상기 사이클링 기계적 변형을 적용하는 것은, 적어도 2 내지 6 주 동안 1 분과 5 분 사이의 시간 간격들로 처리를 제공하는 단계를 포함하는, 피지 생성에 연관된 상태를 처리하기 위한 비치료적 화장 방법. - 제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 두피의 영역에 사이클링 기계적 변형을, 캐릭터의 상기 사이클링 기계적 변형을, 그리고 피지를 변위시키는데 충분한 지속기간 동안 적용하는 단계는, 상기 두피의 영역에 기계적 변형을 전달하기 위해 핸드피스 (30) 상에 착탈식으로 끼워맞춤된 엔드 이펙터 (10) 의 일부를 형성하는 복수의 마사징 엘리먼트의 작동을 포함하는, 피지 생성에 연관된 상태를 처리하기 위한 비치료적 화장 방법. - 베이스 부품 (11), 및
상기 베이스 부품 (11) 에 대해 중앙에 위치된 처리 부재 (13) 로서, 상기 처리 부재 (13) 는 두피를 마사지하도록 구성되는 복수의 마사징 엘리먼트들 (15) 을 갖고, 상기 마사징 엘리먼트들 (15) 의 각각은 확대된 둥근 헤드 (15b) 가 자신의 말단 단부에 제공된 스템 (15a) 을 갖는, 상기 처리 부재
를 포함하는, 엔드 이펙터 (10); 및
적어도 하나의 마사징 엘리먼트 (15) 를 회전 축 (X) 에 대하여 음파 주파수에서 각지게 발진시키는 핸드피스 (30) 를 포함하는, 화장용 마사징 디바이스. - 제 1 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 기재된 피지 생성에 연관된 상태를 처리하기 위한 비치료적 화장 방법을 수행하기 위한 제 18 항에 기재된 화장용 마사징 디바이스의 사용.
- 바람직하게는 동일한 패키지에 포함되는, 제 18 항에 기재된 화장용 마사징 디바이스 및 두피에 적용하기 위한 화장품 조성물을 포함하는 키트.
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